KR102396622B1 - 미용기기 - Google Patents

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KR102396622B1
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지상훈
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엘지전자 주식회사
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Abstract

미용기기는 제1헤드부와 제2헤드부가 서로 상이한 방향으로 돌출된 본체; 제1헤드부에 배치된 프론트 어셈블리; 제2헤드부에 배치된 리어 어셈블리; 및 본체의 외면에 프론트 어셈블리 및 리어 어셈블리와 이격되게 배치된 이온토포레시스 전극을 포함한다. 프론트 어셈블리는 이너 전극과, 이너 전극의 외측에 배치된 아우터 전극 및 이너 전극의 배면에 배치되어 초음파를 발생시키는 초음파 진동자를 포함한다. 리어 어셈블리는 열전 소자 및 열전 소자에 의해 냉각되는 쿨링 커버를 포함한다.

Description

미용기기{Beauty device}
본 발명은 미용기기에 관한 것이다.
일반적으로 화장품의 유효한 성분을 피부 속 깊이 침투시켜 영양을 공급하기 위해서는 피부에 도포된 화장품의 유효한 성분을 손으로 두드리거나 문지르는 화장 방법을 사용되고 있고, 최근에는 갈바닉 이온 도입 기능을 이용하거나 초음파 기능을 이용하거나 냉온 기능을 가진 마사지기가 사용되고 있다.
종래의 마사지기의 일 예는 대한민국 공개특허공보 KR 10-2017-0098577 A1(2017년08월30일 공개)에 개시된 복합 미용기기가 있다.
상기 복합 미용기기는 복수의 통기홀이 마련된 베이스 바디와, 상기 베이스 바디에 결합되는 상부 커버와, 상기 상부 커버에 탈착 가능하게 결합되며 사용자의 피부에 접촉되어 이온을 공급하는 헤드가 구비된 본체; 상기 본체에 결합되며 상기 헤드를 통해 온열이나 냉열을 피부로 방출하는 열전 소자부; 상기 베이스 바디에 마련되며, 상기 복수의 통기홀을 통해 외기를 유입하여 상기 열전 소자부의 열을 방열시키는 방열부; 상기 헤드에 마련되어 초음파를 발생시키는 초음파 발생부; 및 상기 상부 커버에 마련되어 상기 헤드를 진동시키는 진동부를 포함한다.
대한민국 공개특허공보 KR 10-2017-0098577 A1(2017년08월30일 공개)
본 발명은 3개의 전극을 이용하여 고주파, 미세전류, 초음파 및 갈바닉 전류를 최적의 순서로 효율적으로 공급하여 화장품의 흡수율 및 침투 깊이를 증대시킬 수 있고, 피부 탄력을 향상시킬 수 있는 미용기기를 제공하는데 있다.
본 실시 예에 따른 미용기기는 제1헤드부와 제2헤드부가 서로 상이한 방향으로 돌출된 본체; 제1헤드부에 배치된 프론트 어셈블리; 제2헤드부에 배치된 리어 어셈블리; 및 본체의 외면에 프론트 어셈블리 및 리어 어셈블리와 이격되게 배치된 이온토포레시스 전극을 포함한다.
프론트 어셈블리는 이너 전극과, 이너 전극의 외측에 배치된 아우터 전극 및 이너 전극의 배면에 배치되어 초음파를 발생시키는 초음파 진동자를 포함한다.
리어 어셈블리는 열전 소자 및 열전 소자에 의해 냉각되는 쿨링 커버를 포함한다.
케어 모드를 적어도 하나의 사이클을 실시하는 컨트롤러를 포함할 수 있다.
하나의 사이클은 아우터 전극에서 고주파가 출력되는 제1모드와, 제1모드 이후에 실시되고 이너 전극에서 초음파가 출력되고 아우터 전극에서 미세전류가 출력되는 제2모드와, 제2모드 이후에 실시되고, 아우터 전극에서 고주파가 출력되는 제3모드와, 제3모드 이후에 실시되고 이너 전극에서 초음파가 출력되고 아우터 전극에서 제2모드와 역위상의 미세전류가 출력되는 제4모드와, 제4모드 이후에 실시되고, 아우터 전극에서 고주파가 출력되는 제5모드 및 제5모드 이후에 실시되고 이너 전극에서 초음파 및 갈바닉 전류가 출력되는 제6모드를 포함할 수 있다.
프론트 어셈블리는 이너 전극과 아우터 전극 사이에 배치된 윈도우와, 윈도우 후방에서 상기 윈도우로 광을 조사하는 엘이디 및 엘이디가 설치된 엘이디 피시비를 포함할 수 있다.
프론트 어셈블리는 이너 전극 및 아우터 전극 각각이 접속된 헤드 피시비를 더 포함할 수 있다.
프론트 어셈블리는 헤드 피시비에 접속되고 서로 이격된 한 쌍의 아이 케어 모듈을 포함할 수 있다.
이너 전극은 이온토포레시스나 초음파나 고주파나 미세전류를 출력할 수 있다.
아우터 전극은 고주파나 미세전류가 출력할 수 있다.
리어 어셈블리는 쿨링 커버를 지지하고, 열전 소자가 배치되는 리어 커버와, 열전소자의 열을 방열하는 히트 싱크를 포함할 수 있다.
미용기기는 인텐시브 케어 모드를 입력하는 입력부와, 고주파 발생기 회로 및 미세전류 발생기 회로가 탑재되고 본체 내부에 제1헤드부와 제2헤드부 중 제1헤드부에 더 가깝게 배치된 메인 피시브를 포함할 수 있다.
미용기기는 쿨링 케어 모드를 입력하는 입력부가 배치되고 본체 내부에 제1헤드부와 제2헤드부 중 제2헤드부에 더 가깝게 배치된 서브 피시비를 포함할 수 있다.
서브 피비시에는 초음파 발생기 회로가 탑재될 수 있다.
이온토포레시스 전극은 서브 피시비에 접속될 수 있다.
본 실시 예에 따르면, 이너 전극과 아우터 전극과 이온토포레시스 전극과 초음파 진동자에 의해, 하나의 기기가 고주파, 초음파, 미세전류 및 갈바닉 전류를 공급할 수 있는 이점이 있다.
또한, 고주파, 초음파, 미세전류가 피부로 공급된 후, 갈바닉 전류가 공급되므로, 화장품이 침투율이 보다 향상될 수 있다.
또한, 고주파와 미세전류가 신속하게 교차 출력될 수 있어, 피부 탄력이 향상될 수 있다.
또한, 메인 피시비와 서브 피시비로 인해, 크기가 큰 하나의 피시비가 본체에 내장되는 경우 보다 본체를 컴택트화할 수 있고, 서비스가 용이하다.
또한, 인텐시브 케어 모드와 쿨링 케어 모드의 조작이 용이하고, 인텐시브 케어 모드와 쿨링 케어 모드의 오조작이 최소화될 수 있으며, 사용의 편의성을 향상시킨 미용기기를 제공하는데 있다.
도 1은 본 실시 예에 따른 미용기기의 사시도,
도 2는 본 실시 예에 따른 미용기기의 정면도,
도 3은 본 실시 예에 따른 미용기기의 배면도,
도 4은 본 실시 예에 따른 로어 하우징이 분리된 도
도 5는 본 실시 예의 메인 피시비와 서브 피시비가 도시된 도,
도 6는 본 실시 예에 따른 헤드 하우징이 분리된 도
도 7은 본 실시 예에 따른 프론트 어셈블리의 분해 사시도,
도 8은 본 실시 예에 따른 리어 어셈블리의 분해 사시도,
도 9은 본 실시 예에 따른 베이스가 도시된 도,
도 10는 본 실시 예에 따른 제어 블록도,
도 11는 본 실시 예에 따른 인텐시브 케어 모드의 순서가 도시된 도
도 12은 본 실시 예에 따른 미용기기에 의해 발생된 고주파, 미세전류, 초음파, 갈바닉 전류가 침투하는 깊이가 도시된 도이다.
이하에서는 본 발명의 구체적인 실시 예를 도면과 함께 상세히 설명하도록 한다.
도 1은 본 실시 예에 따른 미용기기의 사시도이고, 도 2는 본 실시 예에 따른 미용기기의 정면도이며, 도 3은 본 실시 예에 따른 미용기기의 배면도이고, 도 4은 본 실시 예에 따른 로어 하우징이 분리된 도이며, 도 5는 본 실시 예의 메인 피시비와 서브 피시비가 도시된 도이고, 도 6는 본 실시 예에 따른 헤드 하우징이 분리된 도이다.
미용기기는 도 1 내지 4에 도시된 바와 같이, 본체(1)와, 프론트 어셈블리(2)와, 리어 어셈블리(3)를 포함할 수 있다.
본체(1)는 손잡이부(11)와, 손잡이부(11)의 상부에서 돌출된 한 쌍의 헤드부(12)(13)을 포함할 수 있다.
손잡이부(11)는 상하 방향(Z)으로 길게 형성될 수 있다. 손잡이부(11)의 내부에는 메인 피시비(5), 서브 피시비(6), 배터리(8) 등의 수용되는 수용공간이 형성될 수 있다.
손잡이부(11)는 로어 하우징(14)에 의해 형성될 수 있고, 로어 하우징(14)의 내부에 수용공간이 형성될 수 있다. 로어 하우징(14)는 상하 방향(Z)으로 길고 내부에 수용공간이 형성된 중공체일 수 있다.
손잡이부(11)는 미용기기의 바닥면 외관을 형성하는 베이스(15)를 포함할 수 있다. 베이스(15)는 로어 하우징(14)의 하부와 결합될 수 있다. 베이스(15)는 로어 하우징(14)의 아래에서 로어 하우징(14)의 수용공간을 막을 수 있다.
손잡이부(11)는 메인 피시비(5) 및 서브 피시비(6)의 장착 및 지지를 위한 피시비 마운터(16)를 더 포함할 수 있다.
피비시 마운터(16)는 베이스(15)에 결합될 수 있고, 손잡이부(11)의 뼈대를 형성할 수 있다. 피비시 마운터(16)는 로어 하우징(14)의 내부에 배치될 수 있다.
피시비 마운터(16)는 상하 방향(Z)으로 길게 형성될 수 있다. 피시비 마운터(16)의 하부는 베이스(15)와 결합될 수 있고, 피시비 마운터(16)의 상부는 후술하는 헤드 하우징(17)에 결합될 수 있다.
피시비 마운터(16)는 베이스(15) 위에 복수개 배치될 수 있다.
복수개 피시비 마운터(16)는 좌우 방향으로 이격된 한 쌍의 피시비 마운터를 포함할 수 있고, 한 쌍의 피시비 마운터는 좌측 마운터와, 우측 마운터를 포함할 수 있다.
한 쌍의 헤드부(12)(13)를 구성하는 제1헤드부(12)와 제2헤드부(13)는 서로 상이한 방향으로 돌출될 수 있다.
제1헤드부(12)에는 프론트 어셈블리(2)가 배치일 수 있고, 제1헤드부(12)는프론트 어셈블리(2)가 결합되는 프론트 결합부일 수 있다.
제1헤드부(12)는 손잡이부(11)와 둔각의 경사각을 갖을 수 있다. 제1헤드부(12)는 손잡이부(11)의 상부에서 전방 상부를 향해 경사지게 돌출되는 것으로 정의될 수 있다. 제1헤드부(12)는 중공 형상일 수 있고, 손잡이부(11)와 내부에 연통될 수 있다.
제2헤드부(13)에는 리어 어셈블리(3)가 배치될 수 있고, 제2드부(13는 리어 어셈블리(3가 결합되는 리어 결합부일 수 있다.
제2헤드부(13)는 손잡이부(11) 및 제1헤드부(12)의 각각과 둔각의 경사각을 갖을 수 있다. 제2헤드부(13)는 중공 형상일 수 있다. 제2헤드부(13)는 손잡이부(11)의 상부에서 후방 상부를 향해 경사지게 돌출되는 것으로 정의될 수 있다. 제2헤드부(13)는 중공 형상일 수 있고, 손잡이부(11)와 내부에 연통될 수 있다.
제1헤드부(12)와 제2헤드부(13)는 헤드 하우징(17)에 의해 형성될 수 있다.
헤드 하우징(17)는 대략 'Y'자 형상으로 형성될 수 있고, 헤드 하우징(17)의 하부는 로어 하우징(14)과 함께 손잡이부(11)를 구성할 수 있으며, 헤드 하우징(17)의 상부는 두 갈래로 갈라져 제1헤드부(12)와 제2헤드부(13)을 구성할 수 있다.
헤드 하우징(17)는 중공 형상일 수 있다. 헤드 하우징(17)는 복수개의 사이드 하우징(18)(19)의 결합체로 구성될 수 있다. 복수개의 사이드 헤드 하우징는 좌측 헤드 하우징(18)과, 우측 헤드 하우징(19)을 포함할 수 있다.
헤드 하우징(17)의 내부에는 프론트 어셈블리(2)의 일부와 리어 어셈블리(3)의 일부가 수용되는 공간(S1, 도 6 참조)이 형성될 수 있다.
헤드 하우징(17)에는 후술하는 열전소자(31) 및 히트 싱크(34)의 열을 외부로 방열할 수 있는 통기 홀(17a)이 형성될 수 있다. 통기 홀(17a)은 좌측 헤드 하우징(18)과, 우측 헤드 하우징(19)에 각각 형성될 수 있다.
프론트 어셈블리(2)는 제1헤드부(12)에 배치될 수 있다. 프론트 어셈블리(2)는 일부가 공간(S1)에 수용되고, 나머지가 외부로 노출되게 배치될 수 있다.
리어 어셈블리(3)는 제2헤드부(13)에 배치될 수 있다. 리어 어셈블리(3)는 일부가 공간(S1)에 수용되고, 나머지가 외부로 노출되게 배치될 수 있다.
미용기기는 이온토포레시스 전극(4)을 포함할 수 있다.
이온토포레시스 전극(4)는 도 3에 도시된 바와 같이, 본체(1)의 외면에 배치될 수 있다. 이온토포레시스 전극(4)는 손잡이부(11)의 배면에 배치될 수 있다.
이온토포레시스 전극(4)은 프론트 어셈블리(2) 및 리어 어셈블리(3)와 이격되게 배치될 수 있다. 이온토포레시스 전극(4)는 로어 하우징(14)에 배치될 수 있고, 일면이 로어 하우징(14)에 외부로 노출되게 배치될 수 있다. 사용자가 손잡이부(11)을 잡았을 때, 사용자의 손은 이온토포레시스 전극(4)에 접촉될 수 있다.
이온토포레시스 전극(4)는 상하방향(Z)으로 길게 형성된 판체일 수 있다.
이온토포레시스 전극(4)는 도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이, 접속부(41)를 통해 메인 피시비(5)나 서버 피시비(6)에 접속될 수 있다.
메인 피시비(5)가 서버 피시비(6) 보다 클 경우, 이온토포레시스 전극(4)은 서브 피시비(6)에 접속되는 것이 바람직하다.
접속부(41)는 도 5에 도시된 바와 같이, 서브 피시비(6)와 이온토포레시스 전극(4) 사이에 배치된 접속편(42)을 포함할 수 잇다.
접속편(42)는 서브 피시비(6)의 배면에 돌출되게 배치될 수 있다.
접속부(41)는 접속편(42)에 배치된 스프링(43)을 포함할 수 있다. 스프링(43)는 접속편(42)에 눌릴 때 접속편(42)을 탄성 지지할 수 있고, 접속편(42)에 가해진 외력이 제거되면, 접속편(42)을 후방 방향으로 가압할 수 있다. 스프링(43)의 일 예는 적어도 1회 절곡된 판 스프링일 수 있다.
미용기기는 도 4 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 메인 피시비(5)와 서브 피시비(6)를 포함할 수 있다.
메인 피시비(5)에는 인텐시브 케어 모드를 입력하는 입력부가 배치될 수 있다.
메인 피시비(5)에 배치된 입력부는 인텐시브 케어 모드와 아이 케어 모드를 위한 복수개 스위치를 포함할 수 있다.
복수개 스위치는 메인 피시비(5)의 전면에 상하 방향으로 일렬로 이격되게 배치될 수 있다.
복수개 스위치는 인텐시브 케어 모드, 아이 케어 모드를 위한 전원 스위치와, 인텐시브 케어 모드와 아이 케어 모드를 선택하기 위한 모드 선택 스위치와, 케어 레벨(출력 세기)의 선택을 위한 레벨 스위치를 포함할 수 있다.
손잡이부(11)의 전면에는 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 전원 스위치를 스위칭시키는 전원 버튼(11A)과, 모드 선택 스위치를 스위칭시키는 모드 선택 버튼(11B)과, 레벨 스위치를 스위칭시키는 레벨 버튼(11C)이 배치될 수 있다.
메인 피시비(5)에는 고주파 발생기 회로 및 미세전류 발생기 회로가 탑재될 수 있다. 메인 피시비(5)에는 이온토포레시스 발생기 회로가 탑재될 수 있다.
메인 피시비(5)에는 전원단 회로, 배터리 충전회로, 메인 CPU 회로가 탑재될 수 있다.
메인 피시비(5)는 본체(1) 내부 특히, 로어 하우징(14) 내부에 배치될 수 있고, 메인 피시비(5)의 상부 중 일부는 헤드 하우징(17)으로 내삽될 수 있다.
메인 피시비(5)는 프론트 어셈블리(2)를 주로 제어할 수 있고, 프론트 어셈블리(2)와 리어 어셈블리(3) 중 프론트 어셈블리(2)에 더 근접하게 배치되는 것이 바람직하다.
메인 피시비(5)는 제1헤드부(12)와 제2헤드부(13) 중 제1헤드부(12)에 더 가깝게 배치될 수 있다.
서브 피시비(6)에는 쿨링 케어 모드를 입력하는 입력부(61)가 배치될 수 있다. 입력부(61)는 서브 피시비(6)의 배면에 배치된 텟 스위치 등의 쿨링 케어 전원 스위치일 수 있다.
서브 피시비(6)에는 쿨링 케어 모드의 강도를 조절할 수 있는 쿨링 케어 조절부(62)를 포함할 수 있다. 쿨링 케어 조절부(62)는 서브 피시비(6)의 배면에 배치되어, 쿨링 케어 레벨(온도)를 선택할 수 있는 텟 스위치 등의 레벨 선택 스위치일 수 있다.
손잡이부(11)의 배면에는 도 3에 도시된 바와 같이, 쿨링 케어 전원 스위치를 스위칭시키는 쿨링 모드 버튼(11D)과, 레벨 선택 스위치를 스위칭시키는 레벨 선택 버튼(11E)이 배치될 수 있다.
쿨링 모드 버튼(11D)과, 레벨 선택 버튼(11E)는 이온토포레시스 전극(4)와 상하 방향(Z)으로 이격되게 배치될 수 있고, 이온토포레시스 전극(4)의 높이 보다 높은 위치에 배치될 수 있다.
서브 피시비(6)에는 초음파 발생기 회로가 탑재될 수 있다.
서브 피시비(6)에는 이온토포레시스 연결 회로가 탑재될 수 있다.
서브 피시비(6)는 본체(1) 내부에 특히, 로어 하우징(14) 내부에 배치될 수 있고, 서브 피시비(6)의 상부 중 일부는 헤드 하우징(17)으로 내삽될 수 있다.
서브 피시비(6)는 메인 피시비(5) 보다 크기가 작을 수 있다. 서브 피시비(6)는 메인 피시비(5)와 나란하게 배치될 수 있다.
서브 피시비(6)는 메인 피시비(5)와 커넥터(7)로 연결될 수 있다.
커넥터(7)의 일 예는 보드 투 보드 커넥터일 수 있다.
커넥터(7)는 메인 피시비(5)와 서브 피시비(6)의 사이에 배치될 수 있고, 메인 피시비(5)와 서브 피시비(6)에 의해 보호될 수 있다.
커넥터(7)는 메인 피시비(5)의 배면과 서브 피시비(6)의 전면 사이에 배치될 수 있다.
커넥터(7)는 서브 피시비(6)의 하부와 메인 피시비(5)의 상부 또는 중앙부를 연결할 수 있다.
서브 피시비(6)는 사용자가 입력부(61)나 쿨링 케어 조절부(62)를 조작할 때, 리어 어셈블리(3)를 제어할 수 있고, 프론트 어셈블리(2)와 리어 어셈블리(3) 중 리어 어셈블리(3)에 근접하게 배치되는 것이 바람직하다.
서브 피시비(6)는 제1헤드부(12)와 제2헤드부(13) 중 제2헤드부(13)에 더 가깝게 배치될 수 있다.
본 실시예는 손잡이부(11)의 전면에 전원 버튼(11A)과, 모드 선택 버튼(11B)과, 레벨 버튼(11C)이 배치되고, 손잡이부(11)의 배면에 쿨링 모드 버튼(11D)과, 레벨 선택 버튼(11E)이 배치되며, 미용기기의 조작/입력을 위한 복수개 버튼(11A,11B,11C,11D,11E)이 손잡이부(11)의 전면과 배면에 분산 배치될 수 있다.
복수개 버튼(11A,11B,11C,11D,11E)이 손잡이부(11)의 전면과 배면에 분산 배치될 경우, 복수개 버튼(11A,11B,11C,11D,11E)은 서로 충분한 거리를 두고 이격될 수 있고, 복수개 버튼(11A,11B,11C,11D,11E) 중 어느 하나가 누를 때, 주변의 타 버튼이 눌러지는 것이 최소화될 수 있다.
프론트 어셈블리(2)를 조작하는 전원 버튼(11A)과, 모드 선택 버튼(11B)과, 레벨 버튼(11C)은 손잡이부(11)의 전면에 배치되고, 리어 어셈블리(3)를 조작하는 쿨링 모드 버튼(11D)과, 레벨 선택 버튼(11E)은 손잡이부(11)의 배면에 배치될 경우, 사용자는 프론트 어셈블리(2)나 리어 어셈블리(3)를 얼굴에 접촉시킬 때, 버튼을 혼동할 가능성이 낮다.
배터리(8)는 도 5에 도시된 바와 같이, 커넥터(7) 및 서브 피시비(6)의 아래에 위치될 수 있다. 배터리(8)는 전원 공급부로서, DC Power일 수 있고, 배터리와 전원 공급부에 대해서는 동일 부호를 사용하여 설명한다.
도 7은 본 실시 예에 따른 프론트 어셈블리의 분해 사시도이다.
프론트 어셈블리(2)는 미용기기의 대략 전방 상측에 위치하는 프론트 헤드일 수 있다.
프론트 어셈블리(2)는 이너 전극(21)과, 아우터 전극(22)와, 초음파 진동자(23)를 포함할 수 있다.
이너 전극(21)과 아우터 전극(22)는 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 외부로 노출되게 배치될 수 있다.
이너 전극(21)는 전체적으로 원판 형상으로 형성될 수 있다.
아우터 전극(22)는 전체적으로 링 형상으로 형성될 수 있고, 이너 전극(21)의 외측에 배치될 수 있다. 아우터 전극(22)는 이너 전극(21)을 둘러싸게 배치될 수 있다. 아우터 전극(22)의 내경은 이너 전극(21)의 직경 보다 클 수 있다. 이너 전극(21)과 아우터 전극(22)의 사이에는 링 형상의 틈이 형성될 수 있다.
사용자가 이너 전극(21)과 아우터 전극(22)를 피부 특히 얼굴에 갖다 대면, 이너 전극(21)과 아우터 전극(22)는 통전될 수 있다.
초음파 진동자(23)는 이너 전극(21)의 배면에 배치되어 초음파를 발생시킬 수 있다. 초음파 진동자(23)의 일 예는 대략 5.5mm의 트랜스듀서(Transducer)를 포함할 수 있다.
사용자가 피부에 이너 전극(21)을 접촉하고, 초음파 진동자(21)가 작동되면, 초음파 진동은 이너 전극(21)를 통해 출력될 수 있다.
이너 전극(21)와, 아우터 전극(22)와, 초음파 진동자(23)과, 이온토포레시스 전극(4, 도 3 내지 도 5 참조)는 다양한 조합으로 고주파, 미세전류, 초음파, 이온토포레시스를 출력할 수 있다.
미용기기의 일 예는 이너 전극(21)가 이온토포레시스나 초음파나 고주파나 미세전류를 출력할 수 있고, 아우터 전극(22)이 고주파나 미세전류가 출력할 수 있다.
이온토포레시스는 이너 전극(21)과, 이온토포레시스 전극(4)에 의해 출력될 수 있다.
이너 전극(21)은 - 극성을 띠고, 이온토포레시스 전극(4)은 이너 전극과 반대 극성인 - 극성을 띠며, 이너 전극(21)에서 음이온이 출력 될 수 있다.
이너 전극(21)에서 출력된 음이온은 화장품 중 음전하를 피부속으로 밀어 줄 수 있고, 화장품은 이너 전극(21)에서 출력된 음이온에 의해 보다 신속하게 피부로 침투될 수 있다.
초음파 진동자(23)의 온시, 초음파 진동자(23)에 의해 발생된 초음파 및 진동은 이너 전극(21)을 통해 출력될 수 있다.
이너 전극(21)을 통해 출력된 초음파 진동은 피부의 균열을 일으켜, 화장품의 침투를 도울 수 있다.
이너 전극(21)과 아우터 전극(22)은 고주파나, + 미세전류나, - 미세전류를 선택적으로 출력할 수 있다.
이너 전극(21)과 아우터 전극(22)에서 출력된 고주파는 피부에 심부열을 발생시킬 수 있고, 이너 전극(21)과 아우터 전극(22)에서 출력된 미세 전류를 피부를 자극할 수 있다.
이너 전극(21)과 아우터 전극(22)의 두 개의 전극(21,22) 사이는 통전되고 고주파 또는 미세 전류를 플로우를 형성한다.
프론트 어셈블리(2)는 윈도우(24), 엘이디(25) 및 엘이디 피시비(26)를 포함할 수 있다.
원도우(24)는 이너 전극(21)과 아우터 전극(22) 사이에 배치될 수 있다. 윈도우(24)는 링 형상일 수 있다. 원도우(24)는 이너 전극(21)과 아우터 전극(22) 사이의 틈을 막을 수 있다. 윈도우(24)는 외부로 노출되게 배치될 수 있다.
엘이디(25)는 윈도우(24) 후방에서 윈도우(24)로 광을 조사할 수 있다.
엘이디(25)는 엘이디 피시비(26)에 설치될 수 있고, 복수개 설치될 수 있다.
엘이디 피시비(26)는 복수개의 엘이디(25)를 제어 및 지지할 수 있다. 엘이디 피시비(26)는 링 형상으로 형성될 수 있다.
프론트 어셈블리(2)는 헤드 피시비(27)를 더 포함할 수 있다.
헤드 피시비(27)에는 이너 전극(21) 및 아우터 전극(22) 각각이 전기적으로 접속될 수 있다. 헤드 피시비(27)에는 엘이디 피시비(26)가 전기적으로 접속될 수 있다.
헤드 피시비(27)는 일종의 정크션(Junction) 피시비로서, 고주파 신호, 미세전류 신호를 아우터 전극(22)에 출력할 수 있고, LED 신호를 엘이디 피시비(26)에 출력할 수 있다.
프론트 어셈블리(2)는 이너 전극(21) 및 아우터 전극(22), 초음파 진동자(23), 윈도우(24) 및 엘이디 피시비(25)가 헤드 피시비(27)의 전방에 배치될 수 있다.
초음파 진동자(23)는 전후 방향으로 이너 전극(21)의 배면과 헤드 피시비(27)의 전면 사이에 배치될 수 있다.
프론트 어셈블리(2)는 한 쌍의 아이 케어 모듈(28)(29)을 더 포함할 수 있다.
한 쌍의 아이 케어 모듈(28)(29) 각각은 헤드 피시비(27)에 접속될 수 있고, 서로 이격될 수 있다. 한 쌍의 아이 케어 모듈(28)(29)는 좌우 방향(Y)으로 이격되게 헤드 피시비(27)에 접촉될 수 있다.
한 쌍의 아이 케어 모듈(28)(29)는 이너 전극(21) 및 아우터 전극(22)의 후방 상측에 위치될 수 있고, 한 쌍의 아이 케어 모듈(28)(29)의 각각의 크기는 이너 전극(21) 보다 작을 수 있다.
사용자는 한 쌍의 아이 케어 모듈(28)(29) 중 적어도 하나를 눈가나 코 옆으로 근접시킬 수 있고, 한 쌍의 아이 케어 모듈(28)(29)는 이너 전극(21)이나 아우터 전극(22)이 근접하기 쉽지 않은 부위를 집중 케어할 수 있다.
프론트 어셈블리(2)는 프론트 커버(30)을 포함할 수 있다.
프론트 커버(30)는 제1헤드부(12)에 결합될 수 있고, 프론트 커버(30)는 이너 전극(21), 아우터 전극(22), 초음파 진동자(23), 윈도우(24), 엘이디 피시비(26), 헤드 피시비(27) 및 한 쌍의 아이 케어 모듈(28)(29)를 지지할 수 있다.
프론트 커버(30)에는 헤드 피시비(27)가 장착될 수 있다.
프론트 커버(30)에는 헤드 피시비(27), 초음파 진동자(23)가 함께 수용되는 프론트 공간(S2)이 형성될 수 있다. 프론트 커버(30)에는 헤드 피시비(27)가 결합되는 헤드 피시비 결합부가 형성될 수 있다.
프론트 커버(30)의 상부에는 한 쌍의 아이 케어 모듈(28)(29)가 관통되는 관통부(30A,30B)가 형성될 수 있다.
관통부(30A)(30B)는 아이 케어 모듈(28)(29)의 개수가 동일하게 한 쌍 형성될 수 있고, 한 쌍의 관통부(30A)(30B)는 좌측의 아이 케어 모듈(28)이 관통되는 좌측 관통부와, 우측의 아이 케어 모듈(29)이 관통되는 우측 관통부를 포함할 수 있다.
프론트 커버(30)에는 상부로 돌출된 돌출부(30C)가 형성될 수 있고, 한 쌍의 관통부(30A)(30B)는 돌출부(30C)에 형성될 수 있다.
프론트 커버(30)는 복수개 부재로 이루어 질 수 있고, 도 7에 도시된 바와 같이, 프론트 공간(S2) 및 돌출부(30C)이 형성된 메인 커버(30D)와, 돌출부(30C)의 배면에 결합된 서버 커버(30E)를 포함할 수 있다.
사용자는 인텐시브 케어 모드시, 이너 전극(21) 및 아우터 전극(22)을 얼굴에 접촉할 수 있다.
사용자는 아아 케어 모드시, 아이 케어 모듈(28)(29)을 얼굴에 접촉할 수 있다.
도 8은 본 실시 예에 따른 리어 어셈블리의 분해 사시도이다.
리어 어셈블리(3)는 미용기기의 대략 후방 상측에 위치하는 리어 헤드일 수 있다.
리어 어셈블리(3)는 열전 소자(31)와, 열전 소자(31)에 의해 냉각되는 쿨링 커버(32)를 포함할 수 있다. 리어 어셈블리(3)는 리어 커버(33)와, 히트 싱크(34)를 포함할 수 있다.
열전 소자(31)는 쿨링 커버(32)의 전방에서 쿨링 커버(32)를 냉각할 수 있다. 열전 소자(31)의 배면은 쿨링 커버(32)에 면접촉될 수 있다.
쿨링 커버(32)는 리어 커버(33)에 결합될 수 있고, 외부로 노출되게 배치될 수 있다. 사용자는 쿨링 케어 모드시, 쿨링 커버(32)는 얼굴에 접촉할 수 있다.
쿨링 커버(32)는 열전 소자(31)가 접촉되는 원판부(32A)와, 원판부(32A)의 가장자리에서 전방 방향으로 돌출되고, 리어 커버(33)의 외둘레를 둘러싸는 테두리부(32B)를 포함할 수 있다.
쿨링 커버(32)에는 리어 커버(33)의 삽입부(33A)가 삽입되는 삽입공간(S3)이 형성될 수 있다.
리어 커버(33)는 제2헤드부(12)에 결합될 수 있다. 리어 커버(33)에는 열전 소자(31)가 배치될 수 있고, 리어 커버(33)는 쿨링 커버(33)를 지지할 수 있다.
리어 커버(33)는 후방에 삽입공간(S3)에 삽입된 삽입부(33A)가 형성될 수 있다. 리어 커버(33)는 전방에 제2헤드부(13)에 체결되는 체결부(33B)가 형성될 수 있다. 리어 커버(33)에는 열전 소자(31)가 수용되는 수용부(33C)가 형성될 수 있다.
히트 싱크(34)는 리어 커버(33)에 결합되어 열전 소자(31)를 방열할 수 있다. 히트 싱크(34)는 헤드 하우징(17)의 내부에 형성된 공간(S1)에 수용될 수 있다.
도 9은 본 실시 예에 따른 베이스가 도시된 도이다.
본체(1)에는 배터리(8)의 충전을 위한 충전 포트(10A)와, 미용기기의 사용시, 음성 안내를 위한 스피커 유닛(10B)가 배치될 수 있다.
충전 포트(10A) 및 스피커 유닛(10B)는 손잡이부(11) 내부에 배치될 수 있다. 충전 포트(10A) 및 스피커 유닛(10B)는 베이스(15)에 배치될 수 있다.
베이스(15)에는 충전 포트(10A)의 내부와 통하는 충전 홀(15A)이 형성될 수 있다. 베이스(15)에는 스피커 유닛(10B)을 둘러싸는 스피커 홀(15B)이 형성될 수 있다.
도 10는 본 실시 예에 따른 제어 블록도이다.
미용기기는 컨트롤러(9)를 포함할 수 있다.
컨트롤러(9)는 제어부(91)와, 제1출력부(97), 제2출력부(98), 제3출력부(99), 제4출력부(100) 및 출력 스위칭부(101)을 포함할 수 있다.
제어부(91)는 제1출력부(97), 제2출력부(98), 제3출력부(99), 제4출력부(100) 및 출력 스위칭부(101)와 신호선 또는 회로로 연결되어 제1출력부(97), 제2출력부(98), 제3출력부(99), 제4출력부(100) 및 출력 스위칭부(101)를 제어할 수 있다.
제어부(91)는 마이크로 컨트롤러(Micro controller)로서, 클락 제너레이션(92; Clock Generation), PWM 컨트롤러(93)와, 타이머(94; Timer)와, 모듈레이선(95: Modulation)와, 스위칭 컨트롤(96: Switching Control)를 포함할 수 있다.
제1출력부(97)는 초음파 생성기로서, 일 예로 초음파 AMP일 수 있다. 제1출력부(97)는 서브 피시비(6)에 탑재된 초음파 발생기 회로를 포함할 수 있다. 제1출력부(97)는 초음파 에너지(예를 들면, 350Khz)를 출력할 수 있다.
제2출력부(98)는 갈바닉 전류 생성기일 수 있다. 제2출력부(98)는 메인 피시비(6)에 탑재된 이온토포레시스 발생기 회로를 포함할 수 있다. 제2출력부(98)는 서브 피시비(6)에 탑재된 이온토포레시스 연결 회로를 포함할 수 있다. 제2출력부(98)는 갈바닉 전류(예를 들면, 1Khz)를 출력할 수 있다.
제3출력부(99)는 고주파 생성기로서, 일 예로 고주파 AMP일 수 있다. 제3출력부(99)는 메인 피시비(5)에 탑재된 고주파 발생기 회로를 포함할 수 있다. 제3출력부(99)는 교류 고주파 에너지(예를 들면, 1Mhz)를 출력할 수 있다.
제4출력부(100)는 미세전류 생성기로, 일 예로 미세전류 MOSFET 일 수 있다. 제4출력부(100)는 메인 피시비(5)에 탑재된 미세전류 발생기 회로를 포함할 수 있다. 제4출력부(100)는 미세전류(예를 들면, + 50Hz 또는 - 50Hz)를 출력할 수 있다.
출력 스위칭부(101)는 제1~4출력부(92)(93)(94)(95)의 출력을 고속 스위칭하여 출력을 제어할 수 있고, 체1출력부(97)의 출력을 초음파 진동자(23)으로 스위칭시킬 수 있다.
출력 스위칭부(101)는 제2~4출력부(92)(93)(94)(95)의 출력을 고속 스위칭하여 출력을 제어할 수 있고, 이너 전극(21)이나 아우터 전극(22)으로 스위칭시킬 수 있다.
도 11는 본 실시 예에 따른 인텐시브 케어 모드의 순서가 도시된 도이다.
컨트롤러(9)는 케어 모드를 적어도 하나의 사이클 실시할 수 있다.
여기서, 케어 모드는 인텐시브 케어 모드와, 아이 케어 모드와, 쿨링 케어 모드 중 인텐시브 케어 모드일 수 있다.
사용자는 전원 버튼(11A)를 조작하여 미용기기를 전원 온시킬 수 있고, 모드 선택 버튼(11B)를 조작하여 인텐시브 케어 모드를 선택할 수 있다. 그리고, 사용자는 레벨 버튼(11C)을 조작하여 인텐시브 케어 모드의 케어 레벨(출력 세기)를 선택할 수 있다.
하나의 사이클(Cycle)은 시간의 경과에 따라 순차적으로 실시되는 복수의 모드들의 조합으로 이루어지고, 총 6개 모드의 조합으로 구성될 수 있다.
하나의 사이클(Cycle)은 600Ms를 주기로 반복될 수 있고, 하나의 사이클은 200mS를 주기로 제1과정과 제2과정과 제3과정을 포함하는 3개의 과정을 순차적으로 실시할 수 있다.
제1과정과 제2과정은 고주파 출력 후, 초음파와 미세전류의 조합을 출력하는 것을 반복할 수 있다.
제1과정과 제2과정이 진행되는 동안 고주파와 미세전류는 신속하게 교차 출력되어 피부 탄력이 향상시킬 수 있다. 고주파를 출력한 후 긴 시간(예를 들어, 3분) 후, 미세전류를 출력하는게 아니라, 고주파와 미세전류를 200mS 내에서 신속하게 교차할 수 있다.
한편, 제3과정은 고주파 출력 후, 초음파와 이온토포레시브의 조합을 출력할 수 있다.
이하, 하나의 사이클에 대해 상세히 설명하면 다음과 같다.
하나의 사이클은 제1모드, 제2모드, 제3모드, 제4모드, 제5모드, 제6모드를 포함할 수 있다.
제1모드는 이너 전극(21)와 아우터 전극(22)에서 고주파가 출력되는 모드일 수 있다. 제1모드시, 프론트 어셈블리(2)는 심부열 발생을 위해 교류 고주파(예를 들면, 1MHz)를 120Ms 동안 출력할 수 있다.
제2모드는 제1모드 이후에 실시될 수 있다. 제2모드는 제1모드 종료 후, 10ms 후 개시될 수 있다.
제2모드는 이너 전극(21)에서 초음파(예를 들면, 350KHz)가 출력됨과 아울러 이너 전극(21)과 아우터 전극(22)에서 미세전류(예를 들면, 50Hz)가 출력되는 모드일 수 있다. 제2모드시, 타이트업을 위한 직류 미세전류를 60mS 동안 출력될 수 있고, 초음파 진동자(23)도 60mS 동안 초음파를 출력할 수 있다.
제3모드는 제2모드 이후에 실시될 수 있다. 제3모드는 제2모드 종료 후, 10ms 후 개시될 수 있다.
제3모드는 이너 전극(21)와 아우터 전극(22)에서 다시 고주파가 출력되는 모드일 수 있다. 제3모드시, 프론트 어셈블리(2)는 교류 고주파(예를 들면, 1MHz)를 120Ms 동안 출력할 수 있다.
제4모드는 제3모드 이후에 실시될 수 있고, 제4모드는 제3모드 종료 후, 10ms 후 개시될 수 있다.
제4모드는 이너 전극(21)에서 초음파(예를 들면, 350KHz)가 출력됨과 아울러 이너 전극(21)과 아우터 전극(22)에서 제2모드와 역위상의 미세전류가 출력되는 모드일 수 있다.
제4모드시, 미세전류(예를 들면, - 50Hz)는 60mS 동안 출력될 수 있고, 초음파 진동자(23)도 60mS 동안 초음파를 출력할 수 있다.
제5모드는 제4모드 이후에 실시될 수 있고, 제5모드는 제4모드 종료 후, 10ms 후 개시될 수 있다.
제5모드는 이너 전극(21)과 아우터 전극(22)에서 고주파가 다시 출력되는 모드일 수 있다. 제5모드시, 프론트 어셈블리(2)는 교류 고주파(예를 들면, 1MHz)를 120mS 동안 출력할 수 있다.
제6모드는 제5모드 이후에 실시될 수 있고, 제6모드는 제4모드 종료 후, 10ms 후 개시될 수 있다.
제 6 모드는 이너 전극(21)에서 초음파(예를 들면, 350KHz) 및 갈바닉 전류(1Khz)가 출력되는 모드일 수 있다.
제6모드시, 초음파 진동자(23)는 60mS 동안 초음파를 출력할 수 있고, 이너 전극(21)은 60mS 동안 갈바닉 전류(1Khz)을 출력할 수 있다.
도 12은 본 실시 예에 따른 미용기기에 의해 발생된 고주파, 미세전류, 초음파, 갈바닉 전류가 침투하는 깊이가 도시된 도이다.
미용기기의 사용시, 고주파는 피부 내부 내 심부열을 증가시킬 수 있고, 초음파 진동은 피부 속 Cavitation(조직 사이의 균열)을 생성하며, 미세 전류는 극성 변화에 따른 각질 임피던스를 감소시킴과 아울러 피부를 자극할 수 있고, 갈바닉 전류에 의한 이온토포레시스는 음전하 물질의 침투율을 향상시킬 수 있다.
제1모드 내지 제4모드가 실시되는 동안, 고주파 출력으로 인한 심부열은 각질과, 표피와, 진피와 피하 지방까지 침투되고, 초음파로 인한 진동은 갈질과 표피와 진피로 전달되며, + 미세전류와 - 미세전류는 각질과, 표피와, 진피로 침투된다.
제5모드 내지 제6모드가 실시되는 동안, 고주파 출력으로 인한 심부열은 각질과, 표피와, 진피와 피하 지방까지 침투되고, 초음파로 인한 진동은 갈질과 표피와 진피로 전달되며, 갈바닉 전류는 각질과 표피로 침투된다.
상기와 같이, 고주파, 초음파, 미세 전류에 의해, 피부의 심부열을 상승시키고, Cavitation을 생성하며, 피부를 자극한 후, 갈바닉 전류가 인가되면, 화장품 등에 포함된 음전화 물질은 침투율이 보다 향상될 수 있다.
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다.
따라서, 본 발명에 개시된 실시 예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시 예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
1: 본체 2: 프론트 어셈블리
3: 리어 어셈블리 4: 이온토포레시스 전극
11: 손잡이부 12: 제1헤드부
13: 제2헤드부 21: 이너 전극
22: 아우터 전극 23: 초음파 진동자
31: 열전 소자 32: 쿨링 커버

Claims (10)

  1. 제1헤드부와 제2헤드부가 서로 상이한 방향으로 돌출된 본체;
    상기 제1헤드부에 배치된 프론트 어셈블리;
    상기 제2헤드부에 배치된 리어 어셈블리; 및
    상기 본체의 외면에 상기 프론트 어셈블리 및 리어 어셈블리와 이격되게 배치된 이온토포레시스 전극을 포함하고,
    상기 프론트 어셈블리는
    이너 전극과,
    상기 이너 전극의 외측에 배치된 아우터 전극 및
    상기 이너 전극의 배면에 배치되어 초음파를 발생시키는 초음파 진동자를 포함하고,
    상기 리어 어셈블리는
    열전 소자 및
    상기 열전 소자에 의해 냉각되는 쿨링 커버를 포함하고,
    케어 모드를 적어도 하나의 사이클을 실시하는 컨트롤러를 포함하고,
    상기 하나의 사이클은
    상기 아우터 전극에서 고주파가 출력되는 제1모드와,
    상기 제1모드 이후에 실시되고 상기 이너 전극에서 초음파가 출력되고 상기 아우터 전극에서 미세전류가 출력되는 제2모드와,
    상기 제2모드 이후에 실시되고, 상기 아우터 전극에서 고주파가 출력되는 제3모드와,
    상기 제3모드 이후에 실시되고 상기 이너 전극에서 초음파가 출력되고 상기 아우터 전극에서 상기 제2모드와 역위상의 미세전류가 출력되는 제4모드와,
    상기 제4모드 이후에 실시되고, 상기 아우터 전극에서 고주파가 출력되는 제5모드 및
    상기 제5모드 이후에 실시되고 상기 이너 전극에서 초음파 및 갈바닉 전류가 출력되는 제6모드를 포함하는
    미용기기.
  2. 삭제
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 프론트 어셈블리는
    상기 이너 전극과 아우터 전극 사이에 배치된 윈도우
    상기 윈도우 후방에서 상기 윈도우로 광을 조사하는 엘이디 및
    상기 엘이디가 설치된 엘이디 피시비를 포함하는 미용기기.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 프론트 어셈블리는
    상기 이너 전극 및 아우터 전극 각각이 접속된 헤드 피시비를 더 포함하는 미용기기.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 프론트 어셈블리는
    상기 헤드 피시비에 접속되고 서로 이격된 한 쌍의 아이 케어 모듈을 포함하는 미용기기.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 아우터 전극은 고주파나 미세전류가 출력하고,
    상기 이너 전극은 이온토포레시스나 초음파나 고주파나 미세전류를 출력하는 미용기기.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 리어 어셈블리는
    상기 쿨링 커버를 지지하고, 열전 소자가 배치되는 리어 커버와,
    상기 열전소자의 열을 방열하는 히트 싱크를 포함하는 미용기기.
  8. 제 1 항에 있어서,
    인텐시브 케어 모드를 입력하는 입력부와, 고주파 발생기 회로 및 미세전류 발생기 회로가 탑재되고 상기 본체 내부에 제1헤드부와 제2헤드부 중 제1헤드부에 더 가깝게 배치된 메인 피시비와,
    쿨링 케어 모드를 입력하는 입력부가 배치되고 상기 본체 내부에 제1헤드부와 제2헤드부 중 제2헤드부에 더 가깝게 배치된 서브 피시비를 포함하는 미용기기.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 서브 피시비에는 초음파 발생기 회로가 탑재된 미용기기.
  10. 제 8 항에 있어서,
    상기 이온토포레시스 전극은 상기 서브 피시비에 접속된 미용기기.
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