KR102391973B1 - 기판 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

본 기재의 기판 처리 장치는 기판을 지지하고, 기판을 회전시키는 회전 유닛; 상기 회전 유닛으로 약액을 토출하는 약액 토출 유닛; 상기 회전 유닛에 인접하게 위치되고, 상기 회전 유닛에서 비산되는 약액을 회수하는 약액 회수 유닛; 및 상기 기판으로 레이저를 조사하고, 상기 기판을 가열하는 레이저 조사 유닛;;을 포함한다.

Description

기판 처리 장치{Substrate treatment apparatus}
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체를 제조하는데 사용될 수 있는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
반도체 소자가 고밀도, 고집적화, 고성능화됨에 따라 회로 패턴의 미세화의 필요성이 더욱 증가되고 있다. 예를 들어, 다양한 반도체 소자 중에서 메모리 소자인 3D 낸드 메모리(3D V-NAND flash memory)는 24단, 32단으로 회로를 적층하는 구조에서 최근에는 64단으로 회로를 적층하여 제조한다.
다단으로 적층되는 회로는 증착과 식각이 적절하게 실시되어야 설계에 맞게 제조될 수 있다. 따라서, 64단 이상의 3D 낸드 메모리를 제조하기 위해서는 우수한 식각 기술과 증착 기술이 필요할 수 있다.
한편, 반도체 소자를 제조하는 다양한 공정에서 식각 공정은 인산이 담긴 수용액에 기판을 침지 시켜서 진행하는 것이 일반적이다. 그러나, 종래의 식각 방법은 식각 균일성 및 식각량에 한계가 있으므로, 회로 패턴의 미세화를 충족시키기 어려울 수 있다. 따라서, 높은 식각량을 구현할 수 있는 기판 처리 장치에 대한 필요성이 요구되고 있다.
한국공개특허 제2014-0067892호
본 발명의 목적은 식각 성능이 향상될 수 있는 기판 처리 장치를 제공하고자 한다.
본 발명의 일 측면에 따른 기판 처리 장치는 기판을 지지하고, 기판을 회전시키는 회전 유닛; 상기 회전 유닛으로 약액을 토출하는 약액 토출 유닛; 상기 회전 유닛에 인접하게 위치되고, 상기 회전 유닛에서 비산되는 약액을 회수하는 약액 회수 유닛; 및 상기 기판으로 레이저를 조사하고, 상기 기판을 가열하는 레이저 조사 유닛;;을 포함한다.
한편, 상기 회전 유닛은, 상기 레이저 조사 유닛에서 조사되는 레이저가 투과될 수 있도록 투명한 소재로 이루어지고, 기판을 지지하는 지지 부재; 상기 지지 부재의 가장자리를 지지하고, 상기 지지 부재와 결합되며, 상하 방향으로 관통되는 회전 부재; 및 상기 회전 부재와 결합되고, 상기 회전 부재를 회전시키는 구동 부재;를 포함할 수 있다.
한편, 상기 회전 부재는 상기 레이저 조사 유닛에 인접한 부분으로부터 상기 지지 부재로 갈수록 내경이 증가할 수 있다.
한편, 상기 레이저 조사 유닛은 상기 회전 유닛의 아래에 위치되고, 상기 회전 유닛 상에 위치된 기판을 향하여 레이저를 조사할 수 있다.
한편, 상기 레이저 조사 유닛은, 레이저를 생성하는 레이저 생성 부재; 상기 레이저 생성 부재에서 생성된 레이저를 굴절시켜서 상기 기판에 조사하는 렌즈 부재; 상기 레이저 생성 부재와 상기 렌즈 부재를 연결하고, 상기 레이저 생성 부재에서 생성된 레이저를 상기 렌즈 부재로 전달하는 레이저 전달 부재; 및 상기 레이저 전달 부재와 상기 렌즈 부재 사이에 설치되고, 상기 레이저의 상태를 검사하는 레이저 검사 부재;를 포함할 수 있다.
한편, 상기 레이저 검사 부재는, 상기 레이저 생성 부재에서 생성된 레이저에서 일부의 레이저는 반사시키고, 나머지 레이저는 통과시키는 반사부; 상기 반사부에 결합되고, 상기 반사부를 통과하는 레이저를 촬영하여 이미지 데이터로 변환하는 촬상부; 및 상기 반사부에 결합되고, 상기 반사부에 입사되는 레이저의 강도를 감지하는 감지부;를 포함할 수 있다.
한편, 상기 렌즈 부재는, 레이저를 굴절시키는 복수의 렌즈; 및 상기 복수의 렌즈를 수용하고, 상기 복수의 렌즈의 상대 거리가 가변될 수 있게 하는 경통;을 포함할 수 있다.
한편, 상기 기판의 온도를 측정하는 온도 측정 부재; 및 상기 온도 측정 부재에서 측정된 기판의 온도를 기초로하여 상기 레이저 조사 유닛에서 생성되는 레이저의 출력을 제어하는 제어부;를 더 포함할 수 있다.
한편, 상기 회전 유닛과 결합되고, 상기 레이저 조사 유닛을 수용하는 하우징 부재; 및 상기 하우징 부재와 결합되고, 상기 하우징 부재를 승강시켜서 상기 회전 유닛이 상기 약액 회수 유닛에 대하여 상하방향으로 이동될 수 있게 하는 승강 유닛;을 더 포함할 수 있다.
한편, 상기 약액 토출 유닛에서 토출되는 약액은 인산 수용액일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는 기판으로 레이저를 조사하여 기판을 가열하는 레이저 조사 유닛을 포함한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는 원거리에서 레이저를 기판에 조사함으로써, 약액이 될 수 있는 인산의 식각량이 비약적으로 증가될 수 있다.
이에 따라, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치가 기판의 표면을 처리하는 과정에서, 기판의 온도 승온 및 하강이 신속하게 진행되어 기판의 온도를 정밀하게 제어할 수 있다. 그리고, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는 기판이 용이하게 흡수할 수 있는 파장의 레이저를 조사하여 광효율을 향상시킬 수도 있다.
그리고, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 사용하여 기판을 처리하는 과정에서, 기판과 함께 기판에 토출된 인산도 레이저 조사 유닛에 의하여 고온으로 가열될 수 있다. 이에 따라, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는 기판에 인산만 토출하는 종래의 기판 처리 장치와 비교하여 식각량(ER : Etching rate)을 현저하게 증가시킬 수 있으므로, 반도체 소자가 고밀도, 고집적화, 고성능화에 대응할 수 있는 우수한 식각 공정을 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 도시한 사시도이다.
도 2는 기판 처리 장치를 도시한 분해 사시도이다.
도 3은 기판 처리 장치를 도시한 단면도이다.
도 4는 기판 처리 장치에 포함된 레이저 조사 유닛을 발췌하여 도시한 도면이다.
도 5는 기판 처리 장치의 동작 상태를 도시한 도면이다.
도 6은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 도시한 단면도이다.
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예들에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예들에 한정되지 않는다.
본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙이도록 한다.
또한, 여러 실시예들에 있어서, 동일한 구성을 가지는 구성요소에 대해서는 동일한 부호를 사용하여 대표적인 실시예에서만 설명하고, 그 외의 다른 실시예에서는 대표적인 실시예와 다른 구성에 대해서만 설명하기로 한다.
명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐만 아니라, 다른 부재를 사이에 두고 "간접적으로 연결"된 것도 포함한다. 또한, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(100)는 회전 유닛(110), 약액 토출 유닛(120), 약액 회수 유닛(130) 및 레이저 조사 유닛(140)을 포함한다.
회전 유닛(110)은 기판(S)을 지지한다. 회전 유닛(110)은 기판(S)을 회전시킨다. 회전 유닛(110)은 위에서 바라볼 때 원형으로 이루어진 상부면을 포함할 수 있다. 기판(S)이 회전 유닛(110)의 상부면에 안착될 수 있다. 회전 유닛(110)의 상부면이 회전되면, 기판(S)도 회전될 수 있다. 약액이 기판(S)의 중심에 토출되면, 약액은 원심력에 의하여 기판(S)의 외곽까지 퍼질 수 있다.
이를 위한 회전 유닛(110)은 일례로, 지지 부재(113), 회전 부재(111) 및 구동 부재(112)를 포함할 수 있다.
지지 부재(113)는 기판(S)을 지지할 수 있다. 지지 부재(113)는 기판(S)보다 상대적으로 큰 크기일 수 있다. 예를 들어, 기판(S)이 원형의 웨이퍼인 경우, 지지 부재(113)는 웨이퍼의 직경보다 큰 직경으로 이루어질 수 있다.
지지 부재(113)는 투명한 소재로 이루어질 수 있다. 이에 따라, 상기 레이저 조사 유닛(140)에서 조사되는 레이저가 지지 부재(113)를 투과할 수 있다. 지지 부재(113)는 약액과 반응하지 않도록 내식성이 우수한 소재일 수 있다. 이를 위한 지지 부재(113)의 소재는 일례로, 석영 또는 유리일 수 있다.
회전 부재(111)는 상기 지지 부재(113)의 가장자리를 지지한다. 회전 부재(111)는 상기 지지 부재(113)와 결합되며, 상하 방향으로 관통될 수 있다.
이러한 회전 부재(111)는 상기 레이저 조사 유닛(140)에 인접한 부분으로부터 상기 지지 부재(113)로 갈수록 내경이 증가할 수 있다. 즉, 회전 부재(111)는 하단에서 상단으로 갈수록 내경이 증가되는 원통 형상일 수 있다. 이에 따라, 후술할 레이저 조사 유닛(140)에서 생성된 레이저(L, 도 5 참조)가 회전 부재(111)에 의해 간섭되지 않고 기판(S)까지 조사될 수 있다.
구동 부재(112)는 상기 회전 부재(111)와 결합되고, 상기 회전 부재(111)를 회전시킬 수 있다. 구동 부재(112)는 회전 부재(111)를 회전시킬 수 있는 것이면, 어느 것이든 사용될 수 있다.
약액 토출 유닛(120)은 상기 회전 유닛(110)으로 약액을 토출한다. 약액 토출 유닛(120)은 저장 탱크(미도시)에 저장된 약액을 펌핑하여 기판(S)에 토출할 수 있다.
약액은 다양한 목적으로 사용될 수 있고, 약액의 일례로 불산(HF), 황산(H3SO4), 질산(HNO3), 인산(H3PO4), 및 SC-1 용액(수산화암모늄(NH4OH), 과산화수소(H2O2) 및 물(H2O)의 혼합액) 등으로 이루어진 그룹에서 선택된 적어도 어느 하나일 수 있다. 여기서, 기판 처리 장치(100)가 기판(S)을 식각하는 식각 공정을 실시하는 경우, 상기 약액 토출 유닛(120)에서 토출되는 약액은 인산 수용액일 수 있다.
그리고, 세정에 사용되는 약액으로는 탈이온수(DIW)가 사용될 수 있고, 건조에 사용되는 가스로는 질소(N2), 이소프로필 알코올(IPA: IsoPropyl Aalcohol) 등이 사용될 수 있다.
약액 회수 유닛(130)은 상기 회전 유닛(110)에 인접하게 위치된다. 약액 회수 유닛(130)은 상기 회전 유닛(110)에서 비산되는 약액을 회수한다. 더욱 상세하게 설명하면, 약액 회수 유닛(130)은 상기 회전 유닛(110)의 둘레 전체를 감싸도록 설치되고, 회전 유닛(110)에서 비산되는 약액을 회수할 수 있다.
약액 회수 유닛(130)의 외부 형상은 일례로 상부의 일부분이 개구된 블럭 형상일 수 있다. 약액 회수 유닛(130)에서 개구된 상부는 기판(S)을 로딩 및 언로딩하기 위한 출입구로 이용될 수 있다.
이러한 약액 회수 유닛(130)은 공정에 사용된 약액들 중 서로 상이한 약액을 분리하고 회수한다. 이를 위한 약액 회수 유닛(130)은 다양한 종류의 약액이 각각 유입되는 복수의 유입구(131)를 포함할 수 있다.
복수의 유입구(131) 각각은 상하방향으로 나란하게 위치될 수 있다. 즉, 각각의 유입구(131)는 서로 상이한 높이에 위치될 수 있다.
기판(S)을 처리하는 과정에서, 다양한 종류의 약액들 각각은 약액 회수 유닛(130)의 특정 공간에 유입되어 저장될 수 있다. 예를 들어, 각각의 유입구(131)에 유입된 약액은 미도시된 회수 라인을 통하여 외부의 약액 재생부(미도시)로 제공되어 재사용될 수 있다. 약액 재생부는 사용된 약액의 농도 조절과 온도 조절, 그리고 오염 물질의 필터링 등을 수행하여 재사용이 가능하도록 약액을 재생시키는 장치일 수 있다.
기판(S)을 처리하는 과정에서 발생된 파티클 등에 의해 오염 물질이 약액 회수 유닛(130)에 생성되거나, 잔류하는 약액으로부터 퓸(Fume)과 같은 오염 물질이 생성될 수 있다. 이와 같은 오염 물질은 약액 재생부에 의해 재생되어, 이후, 공정에서 기판(S)이 오염되는 것이 방지될 수 있다.
약액 회수 유닛(130)과 전술한 약액 토출 유닛(120)은 일반적인 기판 처리 장치에 포함된 것일 수 있으므로, 이에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.
레이저 조사 유닛(140)은 상기 기판(S)으로 레이저를 조사하고, 상기 기판(S)을 가열한다.
상기 레이저 조사 유닛(140)은 상기 회전 유닛(110)의 아래에 위치될 수 있다. 레이저 조사 유닛(140)은 상기 회전 유닛(110) 상에 위치된 기판(S)을 향하여 레이저를 조사한다.
앞서 설명한 바와 같이 레이저 조사 유닛(140)에서 조사된 레이저는 회전 유닛(110)의 지지 부재(113)를 통과하여 기판(S)에 조사될 수 있다. 이에 따라 기판(S)은 레이저에 의해 특정 온도로 가열될 수 있다.
도 4를 참조하면, 레이저 조사 유닛(140)은 일례로, 레이저 생성 부재(141), 렌즈 부재(142), 레이저 전달 부재(143) 및 레이저 검사 부재(144)를 포함할 수 있다.
레이저 생성 부재(141)는 레이저를 생성할 수 있다. 레이저 생성 부재(141)는 기판이 용이하게 흡수할 수 있는 파장의 레이저를 기판에 조사할 수 있다. 이에 따라, 레이저 생성 부재(141)가 과도하게 강한 출력의 레이저를 기판에 조사하지 않더라도, 기판을 충분히 가열할 수 있다. 즉, 레이저 생성 부재(141)의 광효율을 향상시킬 수 있다.
렌즈 부재(142)는 상기 레이저 생성 부재(141)에서 생성된 레이저를 굴절시켜서 기판에 조사할 수 있다.
렌즈 부재(142)는 일례로, 복수의 렌즈(142a) 및 경통(142b)을 포함할 수 있다. 복수의 렌즈(142a)는 레이저를 굴절시킨다. 경통(142b)은 상기 복수의 렌즈(142a)를 수용하고, 상기 복수의 렌즈(142a)의 상대 거리가 가변될 수 있게 한다. 이에 따라, 레이저 생성 부재(141)에서 생성된 레이저가 렌즈 부재(142)를 통과하면서 굴절되고, 기판 전체에 균일하게 조사될 수 있다.
도면 상에는, 렌즈(142a)가 두 개인 것으로 도시하였으나, 이는 설명의 편의를 위해 도시한 것이며, 기판 처리 장치(100)의 설계에 따라서 렌즈(142a)의 개수 및 종류(볼록 렌즈, 오목 렌즈)은 다양하게 선택될 수 있다.
레이저 전달 부재(143)는 상기 레이저 생성 부재(141)와 상기 렌즈 부재(142)를 연결하고, 상기 레이저 생성 부재(141)에서 생성된 레이저를 상기 렌즈 부재(142)로 전달할 수 있다. 레이저 전달 부재(143)는 일례로 광섬유일 수 있다.
레이저 검사 부재(144)는 상기 레이저 전달 부재(143)와 상기 렌즈 부재(142) 사이에 설치되고, 상기 레이저의 상태를 검사할 수 있다.
상기 레이저 검사 부재(144)는 일례로, 반사부(145), 촬상부(146) 및 감지부(147)를 포함할 수 있다.
반사부(145)는 상기 레이저 생성 부재(141)에서 생성된 레이저에서 일부의 레이저는 반사시키고, 나머지 레이저는 통과시킬 수 있다. 이를 위한 반사부(145)는 일례로 45도 각도로 설치된 반사 미러(145a)를 포함할 수 있다. 반사 미러(145a)를 통과된 레이저는 촬상부(146)에 입사될 수 있다. 그리고, 반사 미러(145a)에서 반사된 레이저는 렌즈 부재(142)로 조사될 수 있다.
촬상부(146)는 상기 반사부(145)에 결합되고, 상기 반사부(145)를 통과하는 레이저를 촬영하여 이미지 데이터로 변환할 수 있다. 촬상부(146)는 설계에 맞는 레이저가 레이저 생성 부재(141)에서 출력되는지를 이미지 데이터를 분석하여 검사할 수 있다.
감지부(147)는 상기 반사부(145)에 결합되고, 상기 반사부(145)에 입사되는 레이저의 강도(출력)를 감지할 수 있다. 감지부(147)는 일례로 포토 디텍터(Photo detector)일 수 있다. 레이저의 출력이 과도하게 강한 경우, 기판이 급격하게 가열될 수 있다. 그리고, 레이저의 출력이 지나치게 약한 경우, 기판이 가열되기까지 오랜 시간이 소요될 수 있다. 감지부(147)는 레이저의 출력이 적정값인지를 판단할 수 있다.
한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(100)는 하우징 부재(150)와 승강 유닛(160)을 더 포함할 수 있다.
하우징 부재(150)는 상기 회전 유닛(110)과 결합되고, 상기 레이저 조사 유닛(140)을 수용한다. 하우징 부재(150)의 상측은 회전 유닛(110)의 하측에 결합될 수 있다.
예를 들어, 하우징 부재(150)의 상측은 회전 유닛(110)에 포함된 구동 부재(112)의 하측과 결합될 수 있다. 그리고, 하우징 부재(150)는 내부 공간을 포함할 수 있고, 레이저 조사 유닛(140)은 하우징 부재(150)의 내부 공간의 바닥면에 설치될 수 있다.
하우징 부재(150)는 회전 유닛(110)과 레이저 조사 유닛(140)이 후술할 승강 유닛(160)에 의해 한꺼번에 승강되도록 할 수 있다. 이는, 레이저 조사 유닛(140)과 회전 유닛(110)의 상대 위치가 변경되는 것을 방지하기 위함이다.
일반적으로 광학 장치에서는 광 정렬과정이 용이하지 않다. 즉, 레이저 조사 유닛(140)이 회전 유닛(110)에 대해 상대 위치(거리 또는 각도)가 변경되는 경우, 기판 전체에 레이저가 균일하게 조사되지 않고 일부분에만 조사될 수 있다.
그러나, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(100)는 하우징 부재(150)를 사용하여 회전 유닛(110)과 레이저 조사 유닛(140)의 상대위치가 가변되지 않게 한다. 따라서, 레이저 조사 유닛(140)이 최초 설치되는 과정에서 광정렬을 한번만 실시하면, 이후에는 광정렬 작업을 실시하지 않아도 될 수 있다.
그리고, 추가적으로 전술한 하우징 부재(150)는 먼지 같은 이물질이 레이저 조사 유닛(140)으로 유입되는 것을 방지할 수도 있다.
승강 유닛(160)은 상기 하우징 부재(150)와 결합되고, 하우징 부재(150)를 승강시킨다. 승강 유닛(160)은 상기 회전 유닛(110)이 상기 약액 회수 유닛(130)에 대하여 상하방향으로 이동될 수 있게 한다.
승강 유닛(160)은 하우징 부재(150)를 상승 또는 하강시켜서, 회전 유닛(110)에 포함된 지지 부재(113)를 약액 회수 유닛(130)의 어느 하나에 인접하도록 위치시킬 수 있다. 이에 따라, 약액이 약액 토출 유닛(120)으로부터 토출된 이후, 승강 유닛(160)은 다양한 종류의 약액이 상하방향으로 나란하게 위치된 복수의 유입구(131) 각각에 선택적으로 유입되도록 할 수 있다.
도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(100)는 기판(S)으로 레이저(L)를 조사하여 기판(S)을 가열하는 레이저 조사 유닛(140)을 포함한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(100)는 원거리에서 레이저(L)를 기판(S)에 조사함으로써, 약액이 될 수 있는 인산의 식각량이 비약적으로 증가될 수 있다.
이에 따라, 기판(S)의 표면을 처리하는 과정에서, 기판(S)의 온도 승온 및 하강이 신속하게 진행되어 기판(S)의 온도를 정밀하게 제어할 수 있다. 그리고, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(100)는 기판(S)이 용이하게 흡수할 수 있는 파장의 레이저(L)를 조사하여 광효율을 향상시킬 수도 있다.
그리고, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(100)는 기판(S)을 처리하는 과정에서, 기판(S)과 함께 기판(S)에 토출된 인산도 고온으로 가열할 수 있다. 이에 따라, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(100)는 기판(S)에 인산만 토출하는 종래의 기판 처리 장치와 비교하여 식각량(ER : Etching rate)을 증가시킬 수 있으므로, 반도체 소자가 고밀도, 고집적화, 고성능화에 대응하여 우수한 식각 공정을 제공할 수 있다.
도 6을 참조하면, 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(200)는 온도 측정 부재(170)와 제어부(180)를 더 포함할 수 있다.
온도 측정 부재(170)는 상기 기판(S)의 온도를 측정할 수 있다. 온도 측정 부재(170)는 레이저에 의해 가열되는 기판(S)의 온도를 실시간으로 측정할 수 있다. 온도 측정 부재(170)에서 획득한 온도 데이터는 제어부(180)로 전송될 수 있다.
제어부(180)는 상기 온도 측정 부재(170)에서 측정된 기판(S)의 온도를 기초로하여 상기 레이저 조사 유닛(140)에서 생성되는 레이저의 출력을 제어할 수 있다. 기판(S)의 온도가 기준치보다 낮은 경우, 레이저의 출력을 증가시킬 수 있다. 이와 반대로, 기판(S)의 온도가 기준치보다 높은 경우, 레이저의 출력을 감소시킬 수 있다.
즉, 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(200)는 전술한 실시예에 따른 기판 처리 장치(100, 도 1 참조)와 비교하여 기판(S)의 온도가 목표 온도에 빠르게 도달하도록 할 수 있을 뿐만 아니라, 기판(S)이 레이저에 의해 과열되는 것을 방지할 수 있다.
그리고, 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(200)는 제어부(180)와 온도 측정 부재(170)에 의하여 기판(S)의 온도가 기준치에 인접하게 유지될 수 있다.
이상에서 본 발명의 여러 실시예에 대하여 설명하였으나, 지금까지 참조한 도면과 기재된 발명의 상세한 설명은 단지 본 발명의 예시적인 것으로서, 이는 단지 본 발명을 설명하기 위한 목적에서 사용된 것이지 의미 한정이나 특허청구범위에 기재된 본 발명의 범위를 제한하기 위하여 사용된 것은 아니다. 그러므로 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.
100: 기판 처리 장치 110: 회전 유닛
111: 회전 부재 112: 구동 부재
113: 지지 부재 120: 약액 토출 유닛
130: 약액 회수 유닛 140: 레이저 조사 유닛
141: 레이저 생성 부재 142: 렌즈 부재
142a: 렌즈 142b: 경통
143: 레이저 전달 부재 144: 레이저 검사 부재
145: 반사부 146: 촬상부
147: 감지부 150: 하우징 부재
160: 승강 유닛 170: 온도 측정 부재
180: 제어부

Claims (10)

  1. 기판을 지지하고, 기판을 회전시키는 회전 유닛;
    상기 회전 유닛에 의하여 지지된 기판 상으로 약액을 토출하는 약액 토출 유닛;
    상기 회전 유닛에 인접하게 위치되고, 상기 회전 유닛에서 비산되는 약액을 회수하는 약액 회수 유닛; 및
    상기 회전 유닛의 아래에 위치되며, 상기 회전 유닛에 의하여 지지된 기판의 하면으로 레이저를 조사하여 상기 기판을 가열하는 레이저 조사 유닛;을 포함하며,
    상기 회전 유닛과 결합되고, 상기 레이저 조사 유닛을 수용하는 하우징 부재; 및
    상기 하우징 부재와 결합되고, 상기 하우징 부재를 승강시켜서 상기 회전 유닛이 상기 약액 회수 유닛에 대하여 상하방향으로 이동될 수 있게 하는 승강 유닛;을 더 포함하는 기판 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 회전 유닛은 상기 레이저 조사 유닛으로부터의 레이저가 투과 가능하게 구성된 기판 처리 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 회전 유닛은,
    상기 레이저 조사 유닛에서 조사되는 레이저가 투과될 수 있도록 투명한 소재로 이루어지고, 기판을 지지하는 지지 부재;
    상기 지지 부재의 가장자리를 지지하고, 상기 지지 부재와 결합되며, 상하 방향으로 관통되는 회전 부재; 및
    상기 회전 부재와 결합되고, 상기 회전 부재를 회전시키는 구동 부재;를 포함하는 기판 처리 장치.
  4. 제3항에 있어서,상기 회전 부재는 상기 레이저 조사 유닛에 인접한 부분으로부터 상기 지지 부재로 갈수록 내경이 증가하는 기판 처리 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 레이저 조사 유닛은,
    레이저를 생성하는 레이저 생성 부재;
    상기 레이저 생성 부재에서 생성된 레이저를 굴절시켜서 상기 기판에 조사하는 렌즈 부재;
    상기 레이저 생성 부재와 상기 렌즈 부재를 연결하고, 상기 레이저 생성 부재에서 생성된 레이저를 상기 렌즈 부재로 전달하는 레이저 전달 부재; 및
    상기 레이저 전달 부재와 상기 렌즈 부재 사이에 설치되고, 상기 레이저의 상태를 검사하는 레이저 검사 부재;를 포함하는 기판 처리 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 레이저 검사 부재는,
    상기 레이저 생성 부재에서 생성된 레이저에서 일부의 레이저는 반사시키고, 나머지 레이저는 통과시키는 반사부;
    상기 반사부에 결합되고, 상기 반사부를 통과하는 레이저를 촬영하여 이미지 데이터로 변환하는 촬상부; 및
    상기 반사부에 결합되고, 상기 반사부에 입사되는 레이저의 강도를 감지하는 감지부;를 포함하는 기판 처리 장치.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 렌즈 부재는,
    레이저를 굴절시키는 복수의 렌즈; 및
    상기 복수의 렌즈를 수용하고, 상기 복수의 렌즈의 상대 거리가 가변될 수 있게 하는 경통;을 포함하는 기판 처리 장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 기판의 온도를 측정하는 온도 측정 부재; 및
    상기 온도 측정 부재에서 측정된 기판의 온도를 기초로하여 상기 레이저 조사 유닛에서 생성되는 레이저의 출력을 제어하는 제어부;를 더 포함하는 기판 처리 장치.
  9. 삭제
  10. 제1항에 있어서,
    상기 약액 토출 유닛에서 토출되는 약액은 인산 수용액인 기판 처리 장치.
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