KR102383081B1 - Apparatus of removing foreign material for wafer holder and method of removing the material - Google Patents

Apparatus of removing foreign material for wafer holder and method of removing the material Download PDF

Info

Publication number
KR102383081B1
KR102383081B1 KR1020200022690A KR20200022690A KR102383081B1 KR 102383081 B1 KR102383081 B1 KR 102383081B1 KR 1020200022690 A KR1020200022690 A KR 1020200022690A KR 20200022690 A KR20200022690 A KR 20200022690A KR 102383081 B1 KR102383081 B1 KR 102383081B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
wafer holder
cleaning
laser
recipe
foreign material
Prior art date
Application number
KR1020200022690A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20200105418A (en
Inventor
고현식
Original Assignee
고현식
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 고현식 filed Critical 고현식
Publication of KR20200105418A publication Critical patent/KR20200105418A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102383081B1 publication Critical patent/KR102383081B1/en

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02041—Cleaning
    • H01L21/02043—Cleaning before device manufacture, i.e. Begin-Of-Line process
    • H01L21/02046—Dry cleaning only

Abstract

인체에 유해한 약품을 사용하지 않고, 표면 손상을 일으키지 않으며, 이물질 제거가 충분하게 이루어지고, 웨이퍼 홀더의 상태에 따라 적절한 세정이 진행되는 웨이퍼 홀더의 이물질 세정장치 및 세정방법을 제시한다. 그 장치 및 방법은 세정 본체의 외측에 위치하고 레이저 발생기와 연결되며 레이저 발생기에서 발생한 레이저를 이용하여 웨이퍼 홀더의 이물질을 세정하는 레이저 세정부를 포함하고, 레이저 세정부는 레이저가 집속되는 집속부 및 웨이퍼 홀더를 촬영하는 검사 카메라를 포함하며, 웨이퍼 홀더는 인식표가 새겨져 있고 웨이퍼 홀더의 이력 및 이물질의 종류인 레시피는 검사 카메라가 촬영한 인식표에 의해 확인된다.Provided are a foreign material cleaning apparatus and cleaning method for a wafer holder that does not use chemicals harmful to the human body, does not cause surface damage, removes foreign substances sufficiently, and performs appropriate cleaning according to the state of the wafer holder. The apparatus and method include a laser cleaning unit located on the outside of a cleaning body, connected to a laser generator, and cleaning foreign substances in a wafer holder using a laser generated from the laser generator, wherein the laser cleaning unit includes a focusing unit on which the laser is focused and a wafer It includes an inspection camera for photographing the holder, the wafer holder is engraved with an identification tag, and the history of the wafer holder and the recipe, which is the type of foreign material, are confirmed by the identification tag photographed by the inspection camera.

Description

웨이퍼 홀더의 이물질 세정장치 및 그 세정방법{Apparatus of removing foreign material for wafer holder and method of removing the material}Apparatus of removing foreign material for wafer holder and method of removing the material

본 발명은 이물질 세정장치 및 세정방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 미세전자소자를 제조하기 위한 웨이퍼를 고정하는 웨이퍼 홀더의 표면에 존재하는 이물질을 제거하는 세정장치 및 세정방법에 관한 것이다.The present invention relates to a foreign material cleaning apparatus and a cleaning method, and more particularly, to a cleaning apparatus and a cleaning method for removing foreign materials present on a surface of a wafer holder that holds a wafer for manufacturing a microelectronic device.

메모리, 이미지 센서, LED 등과 같은 미세전자소자를 제조하기 위하여, 웨이퍼는 증착, 도금, 코팅, 식각 등의 다양한 공정에 투입된다. 상기 공정에 투입되는 웨이퍼는 웨이퍼 홀더에 탑재되고, 상기 웨이퍼는 접착용 필름에 부착되어 웨이퍼 홀더에 고정된다. 상기 웨이퍼 홀더는 재활용하기 위하여, 웨이퍼 홀더에 부착된 이물질을 세정한다. 상기 이물질은 상기 웨이퍼 홀더에 고착 또는 부착되어 있는 물질이고, 이를 제거하기 위하여 인체에 유해한 약품을 사용한다. 웨이퍼 홀더는 세정하여 평균 3회 정도 재활용되고 있으며, 상기 세정은 시간이 오래 걸리고 수작업으로 하기 때문에 품질이 일정하지 않다. 또한, 상기 세정에 의해 상기 웨이퍼 홀더 표면의 손상이 빈번히 발생하여, 성능미달인 경우 세정된 웨이퍼 홀더가 폐기되기도 한다.In order to manufacture microelectronic devices such as memories, image sensors, and LEDs, wafers are subjected to various processes such as deposition, plating, coating, and etching. The wafer inputted to the process is mounted on a wafer holder, and the wafer is attached to an adhesive film and fixed to the wafer holder. In order to recycle the wafer holder, foreign substances attached to the wafer holder are cleaned. The foreign material is a material that is fixed or attached to the wafer holder, and a chemical harmful to the human body is used to remove it. The wafer holder is cleaned and recycled about 3 times on average, and the cleaning takes a long time and quality is not constant because the cleaning is done manually. In addition, the surface of the wafer holder is frequently damaged by the cleaning, and the cleaned wafer holder may be discarded if the performance is insufficient.

도 1 및 도 2는 종래의 웨이퍼 홀더를 나타내는 도면이다. 종래의 웨이퍼 홀더는 크기와 모양이 다양하며, 서로 구별하기 위하여 적어도 하나 이상의 서로 다른 인식표(a, b)가 새겨져 있다. 또한, 웨이퍼 홀더는 공정, 용도, 고객의 요청 등에 의한 웨이퍼 홀더의 상태에 따라 이물질의 종류 및 색상, 인식표 등이 매우 다양하다. 한편, 상기 웨이퍼 홀더의 세정은 인체에 유해한 약품을 사용하지 않는 것이 바람직하다. 상기 세정은 표면 손상을 일으키지 않고 불완전한 이물질 제거로 인해 폐기되는 웨이퍼 홀더를 최대한으로 줄여야 한다. 상기 세정은 웨이퍼 홀더의 상태에 따라 적절한 방법으로 진행될 필요가 있다.1 and 2 are views showing a conventional wafer holder. Conventional wafer holders have various sizes and shapes, and at least one or more different identification tags (a, b) are engraved to distinguish them from each other. In addition, the type and color of the foreign material, the identification tag, etc. of the wafer holder are very diverse according to the state of the wafer holder according to the process, use, customer's request, and the like. On the other hand, it is preferable not to use chemicals harmful to the human body for cleaning the wafer holder. The cleaning should minimize the number of wasted wafer holders due to incomplete removal of foreign matter without causing surface damage. The cleaning needs to be performed in an appropriate manner depending on the state of the wafer holder.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 인체에 유해한 약품을 사용하지 않고, 표면 손상을 일으키지 않으며, 이물질 제거가 충분하게 이루어지고, 웨이퍼 홀더의 상태에 따라 적절한 세정이 진행되는 웨이퍼 홀더의 이물질 세정장치 및 세정방법을 제공하는 데 있다.The problem to be solved by the present invention is a foreign material cleaning device and cleaning device for a wafer holder that does not use chemicals harmful to the human body, does not cause surface damage, removes foreign substances sufficiently, and performs appropriate cleaning according to the state of the wafer holder to provide a way.

본 발명의 과제를 해결하기 위한 웨이퍼 홀더의 이물질 세정장치는 세정 본체 및 상기 세정 본체의 외측에 위치하고 레이저 발생기와 연결되며 상기 레이저 발생기에서 발생한 레이저를 이용하여 웨이퍼 홀더의 이물질을 세정하는 레이저 세정부를 포함한다. 이때, 상기 레이저 세정부는 상기 레이저가 집속되는 집속부 및 상기 웨이퍼 홀더를 촬영하는 검사 카메라를 포함한다. 또한, 상기 웨이퍼 홀더는 인식표가 새겨져 있고 상기 웨이퍼 홀더의 이력 및 이물질의 종류인 레시피는 상기 검사 카메라가 촬영한 상기 인식표에 의해 확인된다.A device for cleaning foreign substances in a wafer holder for solving the problems of the present invention includes a cleaning body and a laser cleaning unit located on the outside of the cleaning body and connected to a laser generator for cleaning foreign substances in the wafer holder using a laser generated from the laser generator include In this case, the laser cleaning unit includes a focusing unit on which the laser is focused and an inspection camera for photographing the wafer holder. In addition, the wafer holder is engraved with an identification tag, and the history of the wafer holder and the recipe that is the type of foreign material are confirmed by the identification tag photographed by the inspection camera.

본 발명의 장치에 있어서, 상기 웨이퍼 홀더의 이력은 상기 웨이퍼 홀더가 거친 공정, 상기 웨이퍼 홀더의 용도, 고객의 요청을 포함할 수 있다. 상기 레시피에는 상기 웨이퍼 홀더 또는 상기 이물질의 색상을 포함할 수 있다. 상기 레시피는 상기 세정 본체에 배치된 제어부에 저장되어 있고, 상기 레시피가 없는 경우를 대비하여 상기 웨이퍼 홀더의 도면 이미지가 상기 제어부에 저장된다. 상기 레시피 또는 상기 도면 이미지는 상기 레이저 세정부에서의 레이저 출력의 세기, 세정 속도 및 세정 영역을 결정하는 기준이 된다. 상기 레이저 세정부에 의해 세정되는 이물질은 고착성 이물질이다. In the apparatus of the present invention, the history of the wafer holder may include a process that the wafer holder has undergone, a use of the wafer holder, and a request from a customer. The recipe may include the color of the wafer holder or the foreign material. The recipe is stored in a control unit disposed in the cleaning body, and a drawing image of the wafer holder is stored in the control unit in case there is no recipe. The recipe or the drawing image serves as a criterion for determining the intensity of the laser output, the cleaning speed, and the cleaning area in the laser cleaning unit. The foreign material to be cleaned by the laser cleaning unit is a fixed foreign material.

본 발명의 바람직한 장치에 있어서, 상기 세정 본체에는 상기 세정 본체의 외측에 위치하는 드라이아이스 세정부와 연결되는 액체 이산화탄소 저장조가 설치될 수 있다. 상기 드라이아이스 세정부는 상기 웨이퍼 홀더에서의 부유성 이물질을 제거할 수 있다. 상기 웨이퍼 홀더는 회전 작업대에 의해 회전된다. 상기 회전 작업대는 잔존물질을 배기하기 위한 배기후드가 설치될 수 있다.In a preferred device of the present invention, the cleaning body may be provided with a liquid carbon dioxide storage tank connected to the dry ice cleaning unit located outside the cleaning body. The dry ice cleaning unit may remove floating foreign substances from the wafer holder. The wafer holder is rotated by a rotating workbench. The rotating workbench may be provided with an exhaust hood for evacuating residual materials.

본 발명의 과제를 해결하기 위한 웨이퍼 홀더의 이물질 세정방법은 먼저, 웨이퍼 홀더를 로딩한다. 그후, 상기 웨이퍼 홀더를 검사 카메라로 촬영하여 상기 웨이퍼 홀더에 새겨진 인식표를 확인한다. 상기 인식표가 확인되면 제어부에 저장된 레시피를 선택하고 상기 레시피가 존재하지 않으면 상기 웨이퍼 홀더의 도면 이미지를 상기 제어부로 업로드한다. 상기 레시피 또는 상기 도면 이미지 중의 어느 하나를 활용하여 레이저 세정부에 의해 상기 웨이퍼 홀더의 이물질을 제거한다.In a method for cleaning foreign substances in a wafer holder for solving the problems of the present invention, first, the wafer holder is loaded. Thereafter, the wafer holder is photographed with an inspection camera to check the identification tag engraved on the wafer holder. When the identification tag is confirmed, a recipe stored in the control unit is selected, and if the recipe does not exist, a drawing image of the wafer holder is uploaded to the control unit. Any one of the recipe or the drawing image is used to remove foreign substances from the wafer holder by a laser cleaning unit.

본 발명의 방법에 있어서, 상기 레이저 세정부로 상기 이물질을 제거하는 단계 이후에, 상기 웨이퍼 홀더를 회전하는 단계 및 드라이아이스 세정부에 의해 상기 웨이퍼 홀더의 이물질을 제거하는 단계를 더 포함할 수 있다. In the method of the present invention, after removing the foreign material by the laser cleaning unit, the method may further include rotating the wafer holder and removing the foreign material from the wafer holder by a dry ice cleaning unit. .

본 발명의 웨이퍼 홀더의 이물질 세정장치 및 세정방법에 의하면, 웨이퍼 홀더의 상태를 식별하고 레이저 세정을 포함하는 세정방식을 채용함으로써, 인체에 유해한 약품을 사용하지 않고, 표면 손상을 일으키지 않으며, 이물질 제거가 충분하게 이루어지고, 웨이퍼 홀더의 상태에 따라 적절한 세정이 진행된다.According to the apparatus and method for cleaning a foreign material of a wafer holder of the present invention, by identifying the state of the wafer holder and adopting a cleaning method including laser cleaning, it does not use chemicals harmful to the human body, does not cause surface damage, and removes foreign substances is sufficiently performed, and appropriate cleaning proceeds according to the state of the wafer holder.

도 1 및 도 2는 종래의 웨이퍼 홀더를 나타내는 도면이다
도 3은 본 발명에 의한 이물질 제1 세정장치를 설명하기 위한 개략적인 도면이다.
도 4는 본 발명에 의한 이물질 제1 세정장치에 의한 세정방법을 설명하기 위한 흐름도이다.
도 5는 본 발명에 의한 이물질 제2 세정장치를 설명하기 위한 개략적인 도면이다.
도 6은 본 발명에 의한 이물질 제2 세정장치에 의한 세정방법을 설명하기 위한 흐름도이다.1 and 2 are views showing a conventional wafer holder.
3 is a schematic view for explaining a first foreign material cleaning apparatus according to the present invention.
4 is a flowchart for explaining a cleaning method by the first cleaning device for foreign substances according to the present invention.
5 is a schematic view for explaining a second cleaning apparatus for foreign substances according to the present invention.
6 is a flowchart for explaining a cleaning method by the second cleaning device for foreign substances according to the present invention.

이하 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 다음에서 설명되는 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술되는 실시예에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 실시예는 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이다. 한편, 상부, 하부, 정면 등과 같이 위치를 지적하는 용어들은 도면에 나타낸 것과 관련될 뿐이다. 실제로, 세정장치는 임의의 선택적인 방향으로 사용될 수 있으며, 실제 사용할 때 공간적인 방향은 세정장치의 방향 및 회전에 따라 변한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The embodiments described below may be modified in various other forms, and the scope of the present invention is not limited to the embodiments described in detail below. The embodiments of the present invention are provided to more completely explain the present invention to those of ordinary skill in the art. On the other hand, terms indicating positions such as upper, lower, front, etc. are only related to those shown in the drawings. In practice, the cleaning device can be used in any optional orientation, and in actual use, the spatial orientation changes according to the orientation and rotation of the cleaning device.

본 발명의 실시예는 웨이퍼 홀더의 상태를 식별하고 레이저 세정을 포함하는 세정방식을 채용함으로써, 인체에 유해한 약품을 사용하지 않고, 표면 손상을 일으키지 않으며, 이물질 제거가 충분하게 이루어지고, 웨이퍼 홀더의 상태에 따라 적절하게 세정되는 이물질 세정장치 및 세정방법을 제시한다. 이를 위해, 웨이퍼 홀더의 상태를 식별하고 레이저를 포함하는 세정방식을 채용한 이물질 세정장치에 대하여 구체적으로 알아보고, 상기 세정장치에 의해 이물질이 제거되는 과정을 상세하게 설명하기로 한다. 웨이퍼 홀더는 메모리, 이미지 센서, LED 등과 같은 미세전자소자를 제조하기 위하여, 웨이퍼가 고정되는 부품이다. The embodiment of the present invention identifies the state of the wafer holder and adopts a cleaning method including laser cleaning, so that no chemical harmful to the human body is used, does not cause surface damage, and foreign substances are sufficiently removed, We present a foreign material cleaning device and cleaning method that are properly cleaned according to the condition. To this end, the state of the wafer holder is identified and the foreign material cleaning apparatus employing a cleaning method including a laser will be studied in detail, and the process of removing the foreign material by the cleaning apparatus will be described in detail. A wafer holder is a component to which a wafer is fixed in order to manufacture microelectronic devices such as memories, image sensors, and LEDs.

도 3은 본 발명의 실시예에 의한 웨이퍼 홀더 이물질 제1 세정장치(100)를 설명하기 위한 개략적인 도면이다. 다만, 엄밀한 의미의 도면을 표현한 것이 아니며, 설명의 편의를 위하여 도면에 나타나지 않은 구성요소가 있을 수 있다. 3 is a schematic view for explaining the first cleaning apparatus 100 of the wafer holder foreign material according to an embodiment of the present invention. However, the drawings are not expressed in a strict sense, and there may be components not shown in the drawings for convenience of description.

도 3에 의하면, 제1 세정장치(100)는 세정 본체(10), 레이저 세정부(20) 및 작업대(30)를 포함한다. 세정 본체(10)는 제어부(11) 및 레이저 발생기(12)를 포함한다. 제어부(11)는 터치스크린을 활용할 수 있고, 필요한 경우 키패드를 통하여 제어할 수 있다. 레이저 발생기(12)는 웨이퍼 홀더(WH)의 표면에 존재하는 고착성 이물질을 급속으로 가열하도록 다양한 파장의 레이저를 발생시킬 수 있다. 특히, 가시광선에서 근적외선 영역에 걸친 대략 350~1200nm 파장 범위와 20~100W 출력의 레이저를 사용하면, 웨이퍼 홀더(WH)와의 반응성이 작기 때문에 웨이퍼 홀더(WH)의 손상이 없이 이물질만을 순간적으로 가열시킬 수 있다. 상기 레이저는 광파이버(13)를 통하여 레이저 세정부(20)로 전송된다. 웨이퍼 홀더(WH)에는 서로 구별하기 위하여 인식표(ID)를 포함한다. 도면에서, 레이저 발생기(12)는 세정 본체(10)의 내측에 있는 경우를 표현하였으나, 경우에 따라 세정 본체(10)의 외측에 배치될 수 있다.Referring to FIG. 3 , the first cleaning apparatus 100 includes a cleaning body 10 , a laser cleaning unit 20 , and a work table 30 . The cleaning body 10 includes a control unit 11 and a laser generator 12 . The control unit 11 may utilize a touch screen and, if necessary, may control it through a keypad. The laser generator 12 may generate lasers of various wavelengths to rapidly heat the adherent foreign material present on the surface of the wafer holder WH. In particular, when using a laser with a wavelength of about 350 to 1200 nm and an output of 20 to 100 W from the visible to the near infrared region, the reactivity with the wafer holder (WH) is small, so only foreign substances are heated instantaneously without damage to the wafer holder (WH) can do it The laser is transmitted to the laser cleaning unit 20 through the optical fiber 13 . The wafer holder WH includes an identification tag ID to distinguish them from each other. In the drawings, the laser generator 12 is expressed in the case of being inside the cleaning body 10 , but in some cases, it may be disposed outside the cleaning body 10 .

레이저 세정부(20)는 스캐너(21), 집속부(22) 및 검사 카메라(23)를 포함한다. 레이저 세정부(20)는 예컨대 스테이지, 집진기, 배기후드 등을 부가적으로 구비할 수 있다. 스캐너(21)는 광파이버(13)로부터 레이저를 전송받아서, 집속부(22)로 조사한다. 필요한 경우, 스캐너(21) 대신에 광파이버(13)를 수용하고 상기 레이저를 통과시키는 구조물을 이용할 수도 있다. 스캐너(21)는 웨이퍼 홀더(WH)의 표면에 고착된 이물질을 빠르게 x-y 스캐닝 처리를 한다. 스캐너(21)는 고속레이저 출사를 위하여 2개의 미러를 사용한 갈바노(Galvano) 스캐너가 바람직하다. 스캐닝 속도가 늦을 경우, 단위 면적당 및 단위 시간당 많은 에너지가 방출되어 웨이퍼 홀더(WH)에 손상을 가할 수 있으므로, 최소 1000mm/sec 이상의 스캔속도를 확보하는 스캐너(21)가 좋다. The laser cleaning unit 20 includes a scanner 21 , a focusing unit 22 , and an inspection camera 23 . The laser cleaning unit 20 may additionally include, for example, a stage, a dust collector, an exhaust hood, and the like. The scanner 21 receives the laser beam from the optical fiber 13 and irradiates it to the focusing unit 22 . If necessary, a structure for accommodating the optical fiber 13 and passing the laser therethrough may be used instead of the scanner 21 . The scanner 21 performs a fast x-y scanning process of the foreign material adhering to the surface of the wafer holder WH. The scanner 21 is preferably a galvano scanner using two mirrors for high-speed laser emission. When the scanning speed is slow, a lot of energy is emitted per unit area and per unit time to damage the wafer holder WH, so the scanner 21 that secures a scan speed of at least 1000 mm/sec or more is preferable.

집속부(22)는 바람직하게는 렌즈로의 입사각의 변화에도 항상 일정한 초점거리 및 초점크기를 유지하는 f-θ 렌즈를 사용한다. 도시되지는 않았지만, 웨이퍼 홀더(WH)의 형상에 부합하도록, 웨이퍼 홀더(WH)의 회전, 틸팅, 왕복 등을 유도하는 작업대(30)를 구비할 수 있다. 작업대(30)는 웨이퍼 홀더(WH)가 탑재되는 스테이지(stage)일 수 있다. 필요한 경우, 고착성 이물질이 많거나 연기(fume) 등이 발생하면, 집진기를 통하여 제거할 수 있다. The focusing unit 22 preferably uses an f-θ lens that always maintains a constant focal length and focal size even when the angle of incidence to the lens is changed. Although not shown, the worktable 30 for inducing rotation, tilting, reciprocation, etc. of the wafer holder WH may be provided to conform to the shape of the wafer holder WH. The work table 30 may be a stage on which the wafer holder WH is mounted. If necessary, if there are many adherent foreign substances or smoke (fume) is generated, it can be removed through a dust collector.

검사 카메라(23)는 웨이퍼 홀더(WH)의 형상과 크기 및 인식표(ID)를 확인한다. 인식표(ID)를 확인하면, 웨이퍼 홀더(WH)가 거친 공정, 용도, 고객의 요청 등의 이력 및 이물질의 종류를 사전에 결정할 수 있다. 이와 같이, 웨이퍼 홀더(WH)의 이력 및 이물질의 종류를 레시피(recipe)라고 한다. 상기 레시피는 사전에 제어부(11)에 저장되어 있다. 검사 카메라(23)는 웨이퍼 홀더(WH)의 형상, 크기, 색상을 촬영하여 인식표(ID)에 의한 상기 레시피를 보다 명확하게 결정할 수 있다. 예컨대, 웨이퍼 홀더(WH)의 이력 및 이물질의 종류는 사전에 미리 알 수 있으나, 웨이퍼 홀더(WH)의 색상은 검사 카메라(23)에 의해 확인할 수 있다. The inspection camera 23 checks the shape and size of the wafer holder WH and the identification tag ID. By checking the identification tag (ID), it is possible to determine in advance the type of foreign material and the history of the process, use, customer's request, etc., roughed by the wafer holder (WH). As described above, the history of the wafer holder WH and the type of foreign material are referred to as a recipe. The recipe is stored in the control unit 11 in advance. The inspection camera 23 may more clearly determine the recipe by the identification tag ID by photographing the shape, size, and color of the wafer holder WH. For example, the history of the wafer holder WH and the type of foreign material may be known in advance, but the color of the wafer holder WH may be checked by the inspection camera 23 .

본 발명의 실시예에 의한 웨이퍼 홀더(W) 및 이물질의 색상은 상기 레시피에 중요한 요소이다. 인식표(ID)는 웨이퍼 홀더(W)가 거치는 대표적인 공정을 확인할 수 있으나, 실질적으로 인식표(ID)에 표시되지 않는 세부공정은 상기 색상으로 확인할 수 있다. 다시 말해, 상기 색상은 인식표(ID)에 의해 파악되지 않거나 인식표(ID)로 저장되지 않는 공정을 확인할 수 있다. 본 발명의 실시예는 인식표(ID)에 보조적으로 상기 색상을 활용한다. 검사 카메라(23)에 의해 확인된 추가 정보는 상기 레시피로 제어부(11)에 저장된다.The color of the wafer holder (W) and foreign substances according to an embodiment of the present invention is an important factor in the recipe. The identification tag ID can confirm a typical process that the wafer holder W goes through, but detailed processes that are not actually displayed on the identification tag ID can be identified by the color. In other words, it is possible to identify a process in which the color is not identified by the identification tag ID or is not stored as the identification tag ID. An embodiment of the present invention uses the color as an auxiliary to the identification tag (ID). The additional information identified by the inspection camera 23 is stored in the control unit 11 as the recipe.

제어부(11)에는 상기 레시피가 저장되어 있고, 상기 레시피가 없는 경우를 대비하여 웨이퍼 홀더(WH)의 도면 이미지, 예를 들어 CAD 파일이 저장되어 있다. 상기 레시피 및 도면 이미지는 제1 세정장치(100)에 의한 웨이퍼 홀더의 이물질을 제거하는 데에 활용된다. 구체적으로, 우선적으로는 상기 레시피를 활용하고, 상기 레시피가 없으면 도면 이미지를 활용한다. 상기 레시피 또는 도면 이미지가 확보되어 있으면, 레이저 세정부(20)는 웨이퍼 홀더(WH)의 이력 및 이물질의 종류가 사전에 저장되어 있으므로, 레이저 출력의 세기, 스캐너에 의한 세정 속도 및 세정 영역을 결정하는 기준이 된다. The control unit 11 stores the recipe, and a drawing image of the wafer holder WH, for example, a CAD file, is stored in case there is no recipe. The recipe and drawing images are used to remove foreign substances from the wafer holder by the first cleaning device 100 . Specifically, the recipe is preferentially used, and if there is no recipe, the drawing image is used. If the recipe or drawing image is secured, the laser cleaning unit 20 determines the intensity of the laser output, the cleaning speed by the scanner, and the cleaning area because the history of the wafer holder WH and the type of foreign material are stored in advance. become a criterion for

도 4는 본 발명의 실시예에 의한 웨이퍼 홀더 이물질 제1 세정장치(100)에 의한 제1 세정방법을 설명하기 위한 흐름도이다. 이때, 제1 세정장치(100)는 도 3을 참조하기로 한다.4 is a flowchart illustrating a first cleaning method by the wafer holder foreign material first cleaning apparatus 100 according to an embodiment of the present invention. In this case, the first cleaning apparatus 100 will be referred to in FIG. 3 .

도 4에 의하면, 제1 세정방법은 먼저, 웨이퍼 홀더(WH)를 작업대(30)에 로딩한다(S10). 그후, 검사 카메라(23)로 웨이퍼 홀더(WH)를 촬영하여 인식표(ID)를 확인한다(S12). 검사 카메라(23)은 인식표(ID)를 확인하는 것에 부가하여 색상을 확인한다. 인식표(ID) 및 선택적으로 색상이 확인되면, 제어부(11)에 저장된 레시피를 자동을 선택한다(S14). 레시피가 자동으로 선택되면, 레이저 세정작업을 진행한다(S18). 만일, 인식표(ID)를 확인했음에도 저장된 레시피가 없으면, 웨이퍼 홀더(WH)의 이미지를 제어부(11)로 업로드한다(S16). 이어서, 제어부(11)에 업로드된 이미지를 활용하여 레이저 세정작업을 진행한다(S18). Referring to FIG. 4 , in the first cleaning method, first, the wafer holder WH is loaded on the work table 30 ( S10 ). Thereafter, the wafer holder WH is photographed with the inspection camera 23 to confirm the identification tag ID (S12). The inspection camera 23 confirms the color in addition to confirming the identification tag (ID). When the identification tag (ID) and optionally the color are confirmed, the recipe stored in the control unit 11 is automatically selected (S14). When the recipe is automatically selected, the laser cleaning operation is performed (S18). If there is no stored recipe even after checking the identification tag ID, the image of the wafer holder WH is uploaded to the control unit 11 (S16). Next, a laser cleaning operation is performed using the image uploaded to the control unit 11 (S18).

이때, 레이저 세정작업은 상기 레시피 이외에도 검사 카메라(23)로 촬영된 이물질의 상태, 크기, 형상 등을 고려하여 레이저 출력의 세기, 스캐너의 세정 속도 및 세정 영역을 설정한다. 레시피 또는 도면 이미지를 활용하며, 세정영역이 특정되기 때문에 레이저에 의해 인식표(ID)가 지워지거나 흐려지는 것을 방지할 수 있다. 인식표(ID)는 미세전자소자를 제조하는 공정에 지워지거나 흐려지지 않아야 하므로, 레이저 세정을 보다 효과적으로 실시할 수 있다.In this case, the laser cleaning operation sets the intensity of the laser output, the cleaning speed of the scanner, and the cleaning area in consideration of the state, size, shape, etc. of the foreign material photographed with the inspection camera 23 in addition to the recipe. A recipe or drawing image is used, and since the cleaning area is specified, it is possible to prevent the identification tag (ID) from being erased or blurred by the laser. Since the identification tag (ID) should not be erased or blurred in the process of manufacturing the microelectronic device, laser cleaning can be performed more effectively.

도 5는 본 발명의 실시예에 의한 웨이퍼 홀더 이물질 제2 세정장치(200)를 설명하기 위한 개략적인 도면이다. 제2 세정장치(200)는 드라이아이스 세정부(50) 및 회전 작업대(40)를 제외하고, 제1 세정장치(100)와 동일하다. 이에 따라, 중복되는 부분에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.5 is a schematic view for explaining the second cleaning apparatus 200 of the wafer holder foreign material according to an embodiment of the present invention. The second cleaning apparatus 200 is the same as the first cleaning apparatus 100 , except for the dry ice cleaning unit 50 and the rotating work table 40 . Accordingly, detailed descriptions of overlapping parts will be omitted.

도 5에 의하면, 제2 세정장치(200)는 레이저 세정부(20) 및 드라이아이스 세정부(50)가 복합되어 있다. 레이저 세정부(20)는 제1 세정장치(100)와 동일하고, 드라이아이스 세정부(50)는 레이저 세정을 한 후에 잔존하는 부유성 이물질을 제거한다. 드라이아이스 세정부(50)는 액체 이산화탄소 저장조(51), 액체 이산화탄소 공급관(52) 및 드라이아이스 분사부(53)를 포함한다. 이때, 세정 본체(10)에 액체 이산화탄소 저장조(51)에 부가된 구조물을 세정 본체를 이룬다. 액체 이산화탄소 저장조(51)는 드라이아이스 분사부(53)에 액체 이산화탄소 공급관(52)에 의해 연결된다. 도시되지는 않았지만, 드라이아이스 입자를 캐리어하는 캐리어 가스를 공급하는 장치를 포함한다. 캐리어 가스를 공급하는 장치에 대해서는 공지된 바와 같으므로, 이에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다. Referring to FIG. 5 , the second cleaning device 200 is a combination of a laser cleaning unit 20 and a dry ice cleaning unit 50 . The laser cleaning unit 20 is the same as the first cleaning device 100 , and the dry ice cleaning unit 50 removes the remaining floating foreign matter after laser cleaning. The dry ice cleaning unit 50 includes a liquid carbon dioxide storage tank 51 , a liquid carbon dioxide supply pipe 52 , and a dry ice spraying unit 53 . At this time, the structure added to the liquid carbon dioxide storage tank 51 in the cleaning body 10 forms the cleaning body. The liquid carbon dioxide storage tank 51 is connected to the dry ice spray unit 53 by a liquid carbon dioxide supply pipe 52 . Although not shown, a device for supplying a carrier gas carrying dry ice particles is included. Since the device for supplying the carrier gas is known, a detailed description thereof will be omitted.

액체 이산화탄소 저장조(51)의 액체 이산화탄소는 드라이아이스 분사부(53)에서 드라이아이스 입자로 변환되어 웨이퍼 홀더(WH)를 세정한다. 드라이아이스 입자에 의한 세정은 비고착성인 부유성 이물질의 세정에 바람직하다. 드라이아이스 분사부(53)는 액화 이산화탄소를 단열팽창하여 드라이아이스 입자를 발생시키고, 드라이아이스 입자를 분사하여 각종 웨이퍼 홀더(WH)의 표면에 부착된 유기물, 산, 탄화수소, 금속박막, 미립자, 불순물 등의 비고착성인 부유성 이물질을 제거한다. 드라이아이스 분사부(53)는 공지된 방식을 모두 적용할 수 있다. 상기 부유성 이물질을 제거하기 위하여, 웨이퍼 홀더(WH)를 회전시키는 회전 작업대(40)를 포함하고, 회전 작업대(40)는 회전용 모터(41)에 의해 회전한다.The liquid carbon dioxide in the liquid carbon dioxide storage tank 51 is converted into dry ice particles in the dry ice spray unit 53 to clean the wafer holder WH. Cleaning with dry ice particles is preferable for cleaning of non-stick floating foreign matter. The dry ice spraying unit 53 adiabatically expands liquefied carbon dioxide to generate dry ice particles, and by spraying dry ice particles, organic substances, acids, hydrocarbons, metal thin films, fine particles, and impurities adhering to the surfaces of various wafer holders (WH). Removes non-stick floating foreign substances such as All known methods may be applied to the dry ice spraying unit 53 . In order to remove the floating foreign material, a rotating worktable 40 for rotating the wafer holder WH is included, and the rotating worktable 40 is rotated by a rotating motor 41 .

드라이아이스 세정부(50)는 웨이퍼 홀더(WH)의 비고착성인 부유성 물질을 세정한 후에 발생하는 드라이아이스, 이산화탄소 및 부유성 물질과 같은 잔존물질을 배기하기 위한 배기후드(54)가 장착된다. 배기후드(54)에서, 레이저 세정부(20)의 집속부(22) 및 드라이아이스 세정부(50)의 드라이아이스 분사부(53)로 웨이퍼 홀더(WH)를 세정하기 위하여 후드홀(55)이 뚫려 있다. 배기후드(54)에서 발생하는 잔존물질은 배기관(56)을 거쳐 진공펌프(57)에 의해 배출된다. The dry ice cleaning unit 50 is equipped with an exhaust hood 54 for evacuating residual substances such as dry ice, carbon dioxide, and floating substances generated after cleaning the non-stick floating substances of the wafer holder WH. . In the exhaust hood 54 , the hood hole 55 for cleaning the wafer holder WH with the focusing unit 22 of the laser cleaning unit 20 and the dry ice spraying unit 53 of the dry ice cleaning unit 50 . this is pierced The residual material generated in the exhaust hood 54 is discharged by the vacuum pump 57 through the exhaust pipe 56 .

도 6은 본 발명의 실시예에 의한 웨이퍼 홀더 이물질 제2 세정장치(200)에 의한 제2 세정방법을 설명하기 위한 흐름도이다. 이때, 제2 세정장치(200)는 도 5를 참조하기로 한다.6 is a flowchart illustrating a second cleaning method by the wafer holder foreign material second cleaning apparatus 200 according to an embodiment of the present invention. At this time, the second cleaning device 200 will be referred to with reference to FIG.

도 6에 의하면, 제2 세정방법은 먼저, 웨이퍼 홀더(WH)를 작업대(30)에 로딩한다(S10). 그후, 검사 카메라(23)로 웨이퍼 홀더(WH)를 촬영하여 인식표(ID)를 확인한다(S12). 검사 카메라(23)은 인식표(ID)를 확인하는 것에 부가하여 색상을 확인한다. 인식표(ID) 및 선택적으로 색상이 확인되면, 제어부(11)에 저장된 레시피를 자동을 선택한다(S14). 레시피가 자동으로 선택되면, 레이저 세정작업을 진행한다(S18). 만일, 인식표(ID)를 확인했음에도 저장된 레시피가 없으면, 웨이퍼 홀더(WH)의 이미지를 제어부(11)로 업로드한다(S16). 이어서, 제어부(11)에 업로드된 이미지를 활용하여 레이저 세정작업을 진행한다(S18). 이때, 레이저 세정작업은 상기 레시피 이외에도 검사 카메라(23)로 촬영된 이물질의 상태, 크기, 형상 등을 고려하여 레이저 출력의 세기, 스캐너의 세정 속도 및 세정 영역을 설정한다. Referring to FIG. 6 , in the second cleaning method, first, the wafer holder WH is loaded on the work table 30 ( S10 ). Thereafter, the wafer holder WH is photographed with the inspection camera 23 to confirm the identification tag ID (S12). The inspection camera 23 confirms the color in addition to confirming the identification tag (ID). When the identification tag (ID) and optionally the color are confirmed, the recipe stored in the control unit 11 is automatically selected (S14). When the recipe is automatically selected, the laser cleaning operation is performed (S18). If there is no stored recipe even after checking the identification tag ID, the image of the wafer holder WH is uploaded to the control unit 11 (S16). Next, a laser cleaning operation is performed using the image uploaded to the control unit 11 (S18). In this case, the laser cleaning operation sets the intensity of the laser output, the cleaning speed of the scanner, and the cleaning area in consideration of the state, size, shape, etc. of the foreign material photographed with the inspection camera 23 in addition to the recipe.

레이저 세정작업이 완료되면, 회전 작업대(40)를 회전시킨다(S20). 그후, 회전 작업대(40)를 회전시키면, 웨이퍼 홀더(WH) 전체는 드라이아이스 분사부(53)에 대면하게 된다. 만일, 회전하지 않으면, 드라이아이스 분사부(53)는 웨이퍼 홀더(WH)의 일부에 한정되어 대면한다. 회전 작업대(40)가 회전하면, 드라이아이스 세정을 실시한다(S22). 드라이아이스 세정을 하면, 비고착성인 부유성 이물질은 웨이퍼 홀더(WH)로부터 탈리된다. 이어서, 비고착성인 부유성 물질을 세정한 후에 발생하는 드라이아이스, 이산화탄소 및 부유성 물질과 같은 잔존물질을 배기후드(54), 배기관(56) 및 진공펌프(57)를 활용하여 외부로 배출한다(S24). When the laser cleaning operation is completed, the rotating worktable 40 is rotated (S20). After that, when the rotating worktable 40 is rotated, the entire wafer holder WH faces the dry ice spray unit 53 . If it does not rotate, the dry ice spraying unit 53 faces only a part of the wafer holder WH. When the rotating worktable 40 rotates, dry ice cleaning is performed (S22). When dry ice cleaning is performed, non-stick floating foreign matter is detached from the wafer holder WH. Subsequently, residual substances such as dry ice, carbon dioxide, and suspended substances generated after washing the non-stick floating substances are discharged to the outside by using the exhaust hood 54 , the exhaust pipe 56 , and the vacuum pump 57 . (S24).

본 발명의 실시예에 의한 제1 및 제2 세정장치(100, 200)는 웨이퍼 홀더(WH)의 레시피 또는 도면 이미지를 활용함으로써, 웨이퍼 홀더(WH)가 거친 공정, 용도, 고객의 요청 등의 이력 및 이물질의 종류를 사전에 결정된다. 사전에 결정된 이력 및 이물질의 종류를 활용하기 때문에, 웨이퍼 홀더(WH) 표면의 손상을 일으키지 않으며, 이물질 제거가 충분하게 이루어지고, 웨이퍼 홀더의 상태에 따라 적절한 세정이 진행된다. 또한, 레이저 또는 레이저와 드라이아이스의 조합으로 세정함으로써, 인체에 유해한 약품을 사용하지 않는다.The first and second cleaning devices 100 and 200 according to the embodiment of the present invention utilize the recipe or drawing image of the wafer holder WH, so that the wafer holder WH is subjected to rough processes, uses, customer requests, etc. The history and types of foreign substances are determined in advance. Since a predetermined history and types of foreign substances are used, the surface of the wafer holder WH is not damaged, the foreign substances are sufficiently removed, and proper cleaning is performed according to the state of the wafer holder. In addition, by cleaning with a laser or a combination of laser and dry ice, chemicals harmful to the human body are not used.

이상, 본 발명은 바람직한 실시예를 들어 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러 가지 변형이 가능하다. As mentioned above, although the present invention has been described in detail with reference to preferred embodiments, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications may be made by those skilled in the art within the scope of the technical spirit of the present invention. It is possible.

10; 세정 본체 11; 제어부
12; 레이저 발생기 13; 광파이버
20; 레이저 세정부 21; 스캐너
22; 집속부 23; 검사 카메라
30; 작업대 40; 회전 작업대
41; 회전용 모터 50; 드라이아이스 세정부
51; 액체 이산화탄소 저장조 52: 액체 이산화탄소 공급관
53; 드라이아이스 분사부 54; 배기후드
55; 후드홀 56; 배기관
57; 진공펌프 10; cleaning body 11; control
12; laser generator 13; optical fiber
20; laser cleaning unit 21; scanner
22; focusing unit 23; inspection camera
30; workbench 40; rotating workbench
41; rotary motor 50; dry ice cleaning unit
51; Liquid carbon dioxide storage tank 52: liquid carbon dioxide supply pipe
53; dry ice injection unit 54; exhaust hood
55; hood hole 56; vent pipe
57; vacuum pump

Claims (16)

세정 본체; 및
상기 세정 본체의 외측에 위치하고, 레이저 발생기와 연결되며, 상기 레이저 발생기에서 발생한 레이저를 이용하여 웨이퍼 홀더의 이물질을 세정하는 레이저 세정부를 포함하고,
상기 레이저 세정부는 상기 레이저가 집속되는 집속부 및 상기 웨이퍼 홀더를 촬영하는 검사 카메라를 포함하며,
상기 웨이퍼 홀더는 인식표가 새겨져 있고, 상기 웨이퍼 홀더의 이력 및 이물질의 종류인 레시피는 상기 검사 카메라가 촬영한 상기 인식표에 의해 확인되고,
상기 검사 카메라는 상기 웨이퍼 홀더의 색상을 확인하고, 상기 색상은 상기 인식표에 의해 확인되지 않거나 상기 인식표에 저장하지 않은 공정을 확인하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 홀더의 이물질 세정장치.cleaning body; and
It is located on the outside of the cleaning body, is connected to a laser generator, and includes a laser cleaning unit for cleaning foreign substances in the wafer holder using the laser generated from the laser generator,
The laser cleaning unit includes a focusing unit on which the laser is focused and an inspection camera for photographing the wafer holder,
The wafer holder is engraved with an identification tag, the history of the wafer holder and the recipe that is the type of foreign material are confirmed by the identification tag photographed by the inspection camera,
The inspection camera checks the color of the wafer holder, and the color is not confirmed by the identification tag or the foreign material cleaning apparatus of the wafer holder, characterized in that it confirms a process not stored in the identification tag. 제1항에 있어서, 상기 웨이퍼 홀더의 이력은 상기 웨이퍼 홀더가 거친 공정, 상기 웨이퍼 홀더의 용도, 고객의 요청을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 홀더의 이물질 세정장치.The apparatus of claim 1, wherein the history of the wafer holder includes a process that the wafer holder has undergone, a use of the wafer holder, and a request from a customer. 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 레시피는 상기 세정 본체에 배치된 제어부에 저장되어 있고, 상기 레시피가 없는 경우를 대비하여 상기 웨이퍼 홀더의 도면 이미지가 상기 제어부에 저장되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 홀더의 이물질 세정장치.According to claim 1, wherein the recipe is stored in the control unit disposed in the cleaning body, in preparation for a case in which the recipe does not exist, a drawing image of the wafer holder is stored in the control unit, cleaning foreign matter of the wafer holder, characterized in that Device. 제4항에 있어서, 상기 레시피 또는 상기 도면 이미지는 상기 레이저 세정부에서의 레이저 출력의 세기, 세정 속도 및 세정 영역을 결정하는 기준이 되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 홀더의 이물질 세정장치.[Claim 5] The apparatus of claim 4, wherein the recipe or the drawing image serves as a criterion for determining the laser output intensity, the cleaning speed, and the cleaning area in the laser cleaning unit. 제1항에 있어서, 상기 레이저 세정부에 의해 세정되는 이물질은 고착성 이물질인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 홀더의 이물질 세정장치.The apparatus of claim 1, wherein the foreign material to be cleaned by the laser cleaning unit is a fixed foreign material. 제1항에 있어서, 상기 세정 본체에는 상기 세정 본체의 외측에 위치하는 드라이아이스 세정부와 연결되는 액체 이산화탄소 저장조가 설치된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 홀더의 이물질 세정장치.The apparatus of claim 1, wherein a liquid carbon dioxide storage tank connected to a dry ice cleaning unit positioned outside the cleaning body is installed in the cleaning body. 제7항에 있어서, 상기 드라이아이스 세정부는 상기 웨이퍼 홀더에서의 부유성 이물질을 제거하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 홀더의 이물질 세정장치.The apparatus of claim 7 , wherein the dry ice cleaning unit removes floating foreign substances from the wafer holder. 제8항에 있어서, 상기 웨이퍼 홀더는 회전 작업대에 의해 회전되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 홀더의 이물질 세정장치.The apparatus of claim 8, wherein the wafer holder is rotated by a rotating work table. 제9항에 있어서, 상기 회전 작업대는 잔존물질을 배기하기 위한 배기후드가 설치되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 홀더의 이물질 세정장치.[10] The apparatus of claim 9, wherein the rotating worktable is provided with an exhaust hood for evacuating residual materials. 웨이퍼 홀더를 로딩하는 단계;
상기 웨이퍼 홀더를 검사 카메라로 촬영하여 상기 웨이퍼 홀더에 새겨진 인식표를 확인하는 단계;
상기 인식표가 확인되면 제어부에 저장된 레시피를 선택하고, 상기 레시피가 존재하지 않으면 상기 웨이퍼 홀더의 도면 이미지를 상기 제어부로 업로드하는 단계; 및
상기 레시피 또는 상기 도면 이미지 중의 어느 하나를 활용하여 레이저 세정부에 의해 상기 웨이퍼 홀더의 이물질을 제거하는 단계를 포함하고,
상기 검사 카메라는 상기 웨이퍼 홀더의 색상을 확인하고, 상기 색상은 상기 인식표에 의해 확인되지 않거나 상기 인식표에 저장하지 않은 공정을 확인하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 홀더의 이물질 세정방법.loading the wafer holder;
checking the identification tag engraved on the wafer holder by photographing the wafer holder with an inspection camera;
selecting a recipe stored in the control unit when the identification tag is confirmed, and uploading a drawing image of the wafer holder to the control unit if the recipe does not exist; and
Using any one of the recipe or the drawing image to remove foreign substances from the wafer holder by a laser cleaning unit,
The inspection camera checks the color of the wafer holder, and the color is not confirmed by the identification tag or the foreign material cleaning method of the wafer holder, characterized in that it confirms a process not stored in the identification tag. 삭제delete 제11항에 있어서, 상기 레시피 또는 상기 도면 이미지는 상기 레이저 세정부에서의 레이저 출력의 세기, 세정 속도 및 세정 영역을 결정하는 기준이 되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 홀더의 이물질 세정방법.The method of claim 11 , wherein the recipe or the drawing image serves as a criterion for determining the laser output intensity, cleaning speed, and cleaning area in the laser cleaning unit. 제11항에 있어서, 상기 레이저 세정부에 의해 세정되는 이물질은 고착성 이물질인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 홀더의 이물질 세정방법.The method of claim 11 , wherein the foreign material cleaned by the laser cleaning unit is a fixed foreign material. 제11항에 있어서, 상기 레이저 세정부로 상기 이물질을 제거하는 단계 이후에, 상기 웨이퍼 홀더를 회전하는 단계와, 드라이아이스 세정부에 의해 상기 웨이퍼 홀더의 이물질을 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 홀더의 이물질 세정방법.12. The method of claim 11, further comprising, after removing the foreign material by the laser cleaning unit, rotating the wafer holder, and removing the foreign material from the wafer holder by a dry ice cleaning unit. A method of cleaning foreign substances in a wafer holder using 제15항에 있어서, 상기 드라이아이스 세정부는 상기 웨이퍼 홀더에서의 부유성 이물질을 제거하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 홀더의 이물질 세정방법.
16. The method of claim 15, wherein the dry ice cleaning unit removes floating foreign substances from the wafer holder.
KR1020200022690A 2019-02-28 2020-02-25 Apparatus of removing foreign material for wafer holder and method of removing the material KR102383081B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20190023806 2019-02-28
KR1020190023806 2019-02-28

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20200105418A KR20200105418A (en) 2020-09-07
KR102383081B1 true KR102383081B1 (en) 2022-04-05

Family

ID=72472417

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200022690A KR102383081B1 (en) 2019-02-28 2020-02-25 Apparatus of removing foreign material for wafer holder and method of removing the material

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102383081B1 (en)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001340816A (en) * 2000-06-01 2001-12-11 Asahi Sunac Corp Washing apparatus

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100514396B1 (en) * 2003-04-26 2005-09-13 주식회사 한택 System for processing semiconductor substrate by using laser and method of the same

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001340816A (en) * 2000-06-01 2001-12-11 Asahi Sunac Corp Washing apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
KR20200105418A (en) 2020-09-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6829035B2 (en) Advanced mask cleaning and handling
US6949147B2 (en) In situ module for particle removal from solid-state surfaces
JP4916890B2 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
JP4791813B2 (en) Cutting equipment
US20160372317A1 (en) Device and method for cleaning backside or edge of wafer
US6566169B1 (en) Method and apparatus for local vectorial particle cleaning
US9613415B2 (en) Protective film detecting apparatus and protective film detecting method
CN107363413B (en) Method for processing sapphire wafer and laser processing device
KR102336955B1 (en) Wafer processing method
JP2007331106A (en) Polishing method for measuring station, polishing machine, and wafer, and optical measuring method for wafer
WO2018042743A1 (en) Substrate inspection device, substrate treatment device, substrate inspection method, and substrate treatment method
CN110730694B (en) Laser cleaning device and laser cleaning method
JP2022021071A (en) Opening method of semiconductor device package and opening device of semiconductor device package
KR102383081B1 (en) Apparatus of removing foreign material for wafer holder and method of removing the material
JP7202828B2 (en) Board inspection method, board inspection apparatus and recording medium
WO2018188497A1 (en) Display substrate foreign matter processing device and display substrate foreign matter processing method
US5837329A (en) Method for machining rollers and other objects using laser light and equipment for machining
JPH10282322A (en) Correcting method and device for partial defect of substrate as well as manufacture of color filter and device thereof
JP6229789B2 (en) Edge detection device
TWI803872B (en) Appratus for removing thin film and method for removing thin film
JP4408516B2 (en) Lens cleaning method and lens cleaning device
JP6785214B2 (en) Inspection equipment and inspection method
US20030048329A1 (en) Method and apparatus for cleaning inkjet cartridges
US20190381609A1 (en) Laser processing apparatus
JP2009258229A (en) Defect correction device, defect correction method, and pattern substrate manufacturing method

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant