KR102362127B1 - Equipment for manufacturing flexible circuit board - Google Patents

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Abstract

본 발명은 연성인쇄회로기판 제조장치 및 연성인쇄회로기판에 관한 것으로써, 특히, 연성인쇄회로기판 증착시 비아홀의 상하부에 플라즈마 증착하는 장치가 상하부에 배치되어 장치가 컴팩트해지고, 공정 속도가 향상되고, 비아홀에 시드층 또는 금속층이 균일하게 형성될 수 있는 연성인쇄회로기판 제조장치 및 연성인쇄회로기판에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for manufacturing a flexible printed circuit board and to a flexible printed circuit board, and in particular, when depositing a flexible printed circuit board, plasma deposition apparatuses are disposed at upper and lower portions of via holes to make the apparatus compact, process speed is improved, , to an apparatus for manufacturing a flexible printed circuit board capable of uniformly forming a seed layer or a metal layer in a via hole, and a flexible printed circuit board.

Description

연성인쇄회로기판 제조장치{EQUIPMENT FOR MANUFACTURING FLEXIBLE CIRCUIT BOARD}Device for manufacturing flexible printed circuit boards {EQUIPMENT FOR MANUFACTURING FLEXIBLE CIRCUIT BOARD}

본 발명은 연성인쇄회로기판 제조장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for manufacturing a flexible printed circuit board.

일반적으로, 연성인쇄회로기판은 얇은 절연 필름에 회로패턴을 형성하여 유연하게 구부러질 수 있는 기판이며, 휴대용 전자기기 및 장착 사용 시 굴곡 및 유연성을 요구하는 자동화 기기 또는 디스플레이 제품 등에 많이 사용되고 있다.In general, a flexible printed circuit board is a board that can be flexibly bent by forming a circuit pattern on a thin insulating film, and is widely used in portable electronic devices and automation devices or display products that require bending and flexibility when mounted and used.

연성인쇄회로기판은 연성을 가지는 동박 적층 필름을 에칭하여 회로패턴을 형성하거나, 연성을 가지는 절연 필름에 도전성 페이스트 또는 도전성 잉크로 회로패턴을 인쇄하여 형성하고 있다.A flexible printed circuit board is formed by etching a flexible copper clad laminated film to form a circuit pattern, or by printing a circuit pattern on a flexible insulating film with conductive paste or conductive ink.

상기 연성인쇄회로기판은 회로패턴을 다른 연성인쇄회로기판 또는 배터리 등의 기기에 전기적으로 연결하기 위한 단자부를 구비한다. 상기 연성인쇄회로기판은 전기적 연결을 위해 두개의 단자부를 구비하며, 상기 두개의 단자부는 전기적 연결을 용이하게 하도록 서로 이웃하게 배치되는 것이 바람직하며, 이를 위해 두개의 단자부 중 적어도 어느 한 측은 절연필름에서 회로패턴이 형성된 면의 반대되는 면에 구비된다.The flexible printed circuit board includes a terminal for electrically connecting a circuit pattern to another flexible printed circuit board or a device such as a battery. The flexible printed circuit board has two terminal parts for electrical connection, and it is preferable that the two terminal parts are arranged adjacent to each other to facilitate electrical connection. It is provided on the surface opposite to the surface on which the circuit pattern is formed.

그리고, 절연필름에서 서로 다른 면에 형성된 회로패턴과 상기 단자부를 연결하기 위해 상기 절연필름에 비아홀을 형성하고, 도금을 통해 상기 비아홀 내에 도금층을 형성하여 상기 회로패턴과 상기 단자부를 연결하고 있다.
Then, a via hole is formed in the insulating film to connect the circuit pattern formed on different surfaces of the insulating film and the terminal part, and a plating layer is formed in the via hole through plating to connect the circuit pattern and the terminal part.

한국공개특허공보 제2006-0066971호에는 전도층을 형성하고, 전도층에 도금층을 형성한 것이 나타나 있으나, 회로 패턴 형성공정과 비아홀 벽면에 도금층을 형성하는 공정이 별도로 진행되어 공정이 복잡해지는 문제점이 있다.Korean Patent Application Laid-Open No. 2006-0066971 shows that a conductive layer is formed and a plating layer is formed on the conductive layer, but the process of forming a circuit pattern and forming a plating layer on the wall surface of the via hole are performed separately, thereby complicating the process. have.

또한, 한국등록특허공보 제1268101호에는 기판의 상부 및 하부를 순차적으로 플라즈마 코팅하는 장치가 나타나 있다. 이와 같이 기판을 수평하게 이동시키면서 상부 및 하부를 순차적으로 코팅할 경우 장치가 차지하는 공간이 커지게 되고 공정에 소요되는 시간도 길어지는 문제점이 있다.In addition, Korean Patent Publication No. 1268101 discloses an apparatus for sequentially plasma coating the upper and lower portions of a substrate. In this way, when the upper and lower portions are sequentially coated while moving the substrate horizontally, there is a problem in that the space occupied by the device increases and the time required for the process increases.

한국공개특허공보 제2006-0066971호Korean Patent Publication No. 2006-0066971 한국공개특허공보 제2006-0018511호Korean Patent Publication No. 2006-0018511 한국등록특허공보 제1268101호Korean Patent Publication No. 1268101

본 발명은 전술한 문제를 해결하기 위하여 안출된 것으로, 장치가 컴팩트해지고, 공정 속도가 향상되고, 비아홀에 시드층 또는 금속층이 균일하게 형성될 수 있는 연성인쇄회로기판 제조장치를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been devised to solve the above problems, and the purpose of the present invention is to provide an apparatus for manufacturing a flexible printed circuit board in which the apparatus becomes compact, the process speed is improved, and a seed layer or a metal layer can be uniformly formed in a via hole. have.

전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 의한 연성인쇄회로기판 제조장치는, 비아홀이 형성된 기재 상부 및 하부에 각각 배치되어 플라즈마를 발생시키는 복수개의 플라즈마 발생부를 포함하며, 적어도 하나의 플라즈마 발생부는 나머지 플라즈마 발생부 중 적어도 하나의 상부에 배치되어 양면 동시 또는 단면을 증착하는 것을 특징으로 한다.An apparatus for manufacturing a flexible printed circuit board according to an embodiment of the present invention for achieving the above object includes a plurality of plasma generating units respectively disposed above and below a substrate having via holes to generate plasma, and at least one plasma The generator is disposed on at least one of the remaining plasma generators to deposit both sides simultaneously or one-sided.

전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 실시예에 의한 연성인쇄회로기판 제조장치는, 비아홀이 형성된 기재에 상기 비아홀의 상하 및 상기 기재 상면에 시드층을 증착하는 제1공정부, 상기 시드층 상부에 감광층을 형성하고 상기 감광층에 음각패턴을 형성하는 제2공정부, 상기 비아홀 내부에 배치되는 상기 시드층의 상하 및 상기 음각패턴에 금속층을 형성하는 제3공정부를 포함하며, 상기 제1공정부 또는 상기 제3공정부는 상기 기재 상부 및 하부에 각각 배치되어 플라즈마를 발생시키는 복수개의 플라즈마 발생부를 포함하며, 적어도 하나의 플라즈마 발생부는 나머지 플라즈마 발생부 중 적어도 하나의 상부에 배치되는 것을 특징으로 하는 한다.A flexible printed circuit board manufacturing apparatus according to another embodiment of the present invention for achieving the above object includes a first process unit for depositing a seed layer on the upper and lower surfaces of the via hole and on the upper surface of the substrate in a substrate having via holes, the seed layer a second process part for forming a photosensitive layer on the photosensitive layer and forming an engraved pattern on the photosensitive layer; The first process part or the third process part includes a plurality of plasma generators respectively disposed above and below the substrate to generate plasma, and at least one plasma generator is disposed on at least one of the remaining plasma generators. to do with

전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 연성인쇄회로기판 제조장치는, 비아홀이 형성된 기재에 상기 비아홀의 상하에 시드층을 증착하는 제1공정부, 상기 비아홀 내부에 배치되는 상기 시드층의 상하에 금속층을 형성하는 제3공정부를 포함하며, 상기 제1공정부 또는 상기 제3공정부는 상기 기재 상부 및 하부에 각각 배치되어 플라즈마를 발생시키는 복수개의 플라즈마 발생부를 포함하며, 적어도 하나의 플라즈마 발생부는 나머지 플라즈마 발생부 중 적어도 하나의 상부에 배치되어 양면 또는 단면으로 진공 증착하는 것을 특징으로 한다.An apparatus for manufacturing a flexible printed circuit board according to another embodiment of the present invention for achieving the above object includes a first process unit for depositing a seed layer above and below the via hole on a substrate in which a via hole is formed, disposed inside the via hole a third process part for forming a metal layer above and below the seed layer; One plasma generating unit is disposed on at least one of the remaining plasma generating units and vacuum deposition is performed on both sides or one side.

여기서, 적어도 두개의 상기 플라즈마 발생부는 동일 수직선상에 배치되어 양면을 동시에 증착할 수 있다.Here, at least two of the plasma generating units may be disposed on the same vertical line to simultaneously deposit both surfaces.

또한, 상기 플라즈마 발생부는 상기 기재 상부에 배치되는 제1전극과, 상기 제1전극 하부에 가스를 공급하는 제1가스 공급부와, 상기 제1전극에 전력을 공급하는 제1전원부와, 상기 기재 하부에 배치되는 제2전극과, 상기 제2전극 상부에 가스를 공급하는 제2가스 공급부와, 상기 제2전극에 전력을 공급하는 제2전원부를 포함할 수 있다.In addition, the plasma generating unit includes a first electrode disposed on the substrate, a first gas supply unit supplying a gas to a lower portion of the first electrode, a first power supply unit supplying power to the first electrode, and a lower portion of the substrate It may include a second electrode disposed on the , a second gas supply unit for supplying gas to the upper portion of the second electrode, and a second power supply unit for supplying power to the second electrode.

또한, 상기 플라즈마 발생부는 상기 기재 상부에 배치되는 제1전극과, 상기 제1전극 하부에 가스를 공급하는 제1가스 공급부와, 상기 제1전극에 전력을 공급하는 제1전원부와, 상기 제1전극 하부에 배치되는 제2전극과, 상기 제2전극 하부에 가스를 공급하는 제2가스 공급부와, 상기 제2전극에 전력을 공급하는 제2전원부와, 상기 기재 하부에 배치되는 제3전극을 포함하며, 상기 제1전극을 통과한 기재의 상하부가 뒤바뀌도록 방향을 전환해주는 방향전환부를 포함하며, 상기 제2전극과 상기 제3전극은 상기 방향전환부보다 하류측에 배치되어, 상기 제2전극은 상기 기재 사이에 배치될 수 있다.In addition, the plasma generating unit includes a first electrode disposed on the substrate, a first gas supply unit supplying gas to a lower portion of the first electrode, a first power supply unit supplying power to the first electrode, and the first A second electrode disposed under the electrode, a second gas supply unit supplying gas to the lower portion of the second electrode, a second power supply unit supplying power to the second electrode, and a third electrode disposed under the base material Including, including a direction changing part for changing the direction so that the upper and lower parts of the substrate passing through the first electrode are reversed, wherein the second electrode and the third electrode are disposed on the downstream side of the direction changing part, The two electrodes may be disposed between the substrates.

이상에서 설명한 바와 같은 본 발명의 연성인쇄회로기판 제조장치에 따르면, 연성인쇄회로기판 증착시 비아홀의 상하부에 플라즈마 증착하는 장치가 상하부에 배치되어 장치가 컴팩트해지고, 공정 속도가 향상되고, 비아홀에 시드층 또는 금속층이 균일하게 형성될 수 있다.According to the flexible printed circuit board manufacturing apparatus of the present invention as described above, when the flexible printed circuit board is deposited, the plasma deposition apparatus is disposed at the upper and lower portions of the via hole, so that the apparatus becomes compact, the process speed is improved, and the via hole is seeded A layer or a metal layer may be uniformly formed.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 연성인쇄회로기판 제조공정도.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 연성인쇄회로기판 제조장치 개략도.
도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 제1공정부 및 제3공정부 개략도.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 제1공정부 및 제3공정부 개략도.
1 is a flowchart of a flexible printed circuit board manufacturing process according to a preferred embodiment of the present invention.
2 is a schematic diagram of an apparatus for manufacturing a flexible printed circuit board according to a preferred embodiment of the present invention;
3 is a schematic diagram of a first process unit and a third process unit according to a preferred embodiment of the present invention.
4 is a schematic diagram of a first process unit and a third process unit according to another embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 바람직한 일실시예를 첨부도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

참고적으로, 이하에서 설명될 본 발명의 구성들 중 종래기술과 동일한 구성에 대해서는 전술한 종래기술을 참조하기로 하고 별도의 상세한 설명은 생략한다.For reference, among the components of the present invention to be described below, for the same components as in the prior art, reference will be made to the above prior art, and a separate detailed description thereof will be omitted.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 실시예의 연성인쇄회로기판 제조공정은 기재(1)에 시드층(2)을 형성하는 단계(300)와, 비아홀(1a)이 형성된 기재(1)에 형성된 감광층(3)에 비아홀(1a) 상부 또는 하부에 배치되는 제1음각 패턴(4b)과, 상기 비아홀(1a)로부터 상기 제1음각 패턴(4b)보다 멀리 배치되는 제2음각 패턴(4a)을 형성하는 음각 패턴(4) 형성 단계(410)와, 상기 제1음각 패턴(4b)과 상기 제2음각 패턴(4a)과 비아홀(1a) 내부에 금속층(20)을 각각 형성하는 단계(420)를 포함하는 것을 특징으로 한다.As shown in FIG. 1 , the flexible printed circuit board manufacturing process of this embodiment includes a step 300 of forming a seed layer 2 on a substrate 1 , and photosensitive formed on a substrate 1 having via holes 1a formed therein. A first engraved pattern 4b disposed on or below the via hole 1a in the layer 3, and a second engraved pattern 4a disposed farther than the first engraved pattern 4b from the via hole 1a. A step 410 of forming an intaglio pattern 4 to form, a step of forming the metal layer 20 inside the first intaglio pattern 4b, the second intaglio pattern 4a, and the via hole 1a, respectively (420) It is characterized in that it includes.

연성인쇄회로기판의 기재(1)는, 연성을 가지는 절연 필름으로, 연성인쇄회로기판의 형상을 유지하기 위해 제공되는 매우 얇고 플렉서블하며 투명 또는 반투명의 절연필름을 사용한다. 상기 절연필름은 PET 필름 또는 PI 필름인 것을 일 예로 하며, PI필름은 두께가 얇고 유연하며 내열성, 내곡성이 우수하며 치수변경이 적고 열에 강하므로 열을 이용하는 타발된 금속박을 전사하는 경우 절연필름으로 적합하며, PET 필름은 가격이 상대적으로 상기 PI필름보더 저렴한 장점이 있다.The substrate 1 of the flexible printed circuit board is an insulating film having a ductility, and a very thin, flexible, transparent or translucent insulating film is used to maintain the shape of the flexible printed circuit board. The insulating film is a PET film or a PI film as an example, and the PI film is thin and flexible, has excellent heat resistance and bending resistance, has little dimensional change and is strong against heat. It is suitable, and the PET film has the advantage of being relatively cheaper than the PI film.

비아홀(1a)은 기재(1)의 양면에 형성되는 회로패턴을 연결하기 위해서 기재(1)에 상하방향으로 관통 형성된다.The via hole 1a is formed vertically through the substrate 1 in order to connect the circuit patterns formed on both surfaces of the substrate 1 .

비아홀(1a)은 기재(1)에 형성되는 회로패턴(1c)에서 비아홀(1a)이 형성될 위치 즉, 설계된 회로에서 기설정된 비아홀(1a)의 위치에 레이저 드릴링을 통해 형성된다.The via hole 1a is formed through laser drilling at a position where the via hole 1a is to be formed in the circuit pattern 1c formed on the substrate 1, that is, at a position of the via hole 1a preset in the designed circuit.

또한, 본 실시예에 따른 연성인쇄회로기판 제조 방법은, 시드층(2)을 형성하는 단계 이전에 증착 시 시드층(2)과 기재(1)와의 부착력을 증가시키기 위해 기재(1)의 상면 또는 하면과 같은 표면 또는 비아홀(1a) 벽면을 전처리하는 단계(200)를 더 포함한다.In addition, in the method for manufacturing a flexible printed circuit board according to the present embodiment, the upper surface of the substrate 1 in order to increase adhesion between the seed layer 2 and the substrate 1 during deposition before the step of forming the seed layer 2 . Alternatively, the method further includes a step 200 of pre-treating a surface such as a lower surface or a wall surface of the via hole 1a.

기재(1)는 연성을 가지는 합성 수지재로 금속 증착 시 증착된 시드층(2)과의 접착이 미흡할 수 있다. 기재(1)의 표면을 전처리하는 단계(200)는 기재(1)의 표면을 전처리하여 기재(1)와 기재(1)에 증착되는 시드층(2)의 부착력을 증대시킨다.The substrate 1 is a synthetic resin material having ductility, and adhesion with the seed layer 2 deposited during metal deposition may be insufficient. In the step 200 of pretreating the surface of the substrate 1 , the adhesion between the substrate 1 and the seed layer 2 deposited on the substrate 1 is increased by pretreating the surface of the substrate 1 .

기재(1)의 표면을 전처리하는 단계(200)는, 기재(1)의 표면을 기설정된 거칠기 이상으로 표면 가공하는 과정일 수도 있고, 기재(1)의 표면에 증착 효과를 높이는 프라이머(1b)를 도포하는 과정일 수도 있다.The step 200 of pretreating the surface of the substrate 1 may be a process of surface processing the surface of the substrate 1 to a predetermined roughness or more, and a primer 1b that increases the deposition effect on the surface of the substrate 1 It may be a process of applying

본 실시예에서, 기재(1)의 표면을 전처리하는 단계(200)는 기재(1)의 표면에 증착 효과 즉, 증착 시 부착력을 높이는 프라이머(1b)를 도포하는 과정인 것을 일 예로 한다.In the present embodiment, the step 200 of pretreating the surface of the substrate 1 is a process of applying a primer 1b to increase the deposition effect, that is, adhesion during deposition, on the surface of the substrate 1 as an example.

기재(1)의 표면을 전처리하는 단계는 비아홀(1a)을 형성하는 단계(100)의 이전에 이루어질 수도 있고, 비아홀(1a)을 형성하는 단계(100) 이후에 이루어질 수도 있다.The step of pretreating the surface of the substrate 1 may be performed before the step 100 of forming the via hole 1a or after the step 100 of forming the via hole 1a.

기재(1)의 표면을 전처리하는 단계(200)는 비아홀(1a)을 형성하는 단계(100) 이후에 이루어져 비아홀(1a)의 벽면에 프라이머(1b)가 도포되어 비아홀(1a)의 내주면에 증착되는 시드층(2)의 부착력을 향상시킬 수 있도록 하는 것이 바람직하다.The step 200 of pretreating the surface of the substrate 1 is performed after the step 100 of forming the via hole 1a, so that the primer 1b is applied to the wall surface of the via hole 1a and deposited on the inner circumferential surface of the via hole 1a. It is preferable to improve the adhesion of the seed layer 2 to be used.

시드층(2)을 형성하는 단계(300)는, 금속을 기설정된 두께 이하로 증착하여 시드층(2)을 형성한다.In the step 300 of forming the seed layer 2 , the seed layer 2 is formed by depositing a metal to a predetermined thickness or less.

시드층(2)은 비아홀(1a) 벽면과 기재(1)의 상면 또는 하면에 형성된다. 본 실시예에서는 비아홀(1a) 벽면과 기재(1)의 상면에 형성된다. 이와 다르게, 시드층(2)은 비아홀(1a) 벽면(비아홀(1a) 내부에 형성)과 기재(1)의 하면 또는 비아홀(1a) 벽면과 기재(1)의 상하면에 형성될 수 있다. 따라서, 시드층(2)은 비아홀(1a) 벽면에 형성되는 비아홀 시드층(2b)과 표면 시드층(2a)을 포함한다.The seed layer 2 is formed on the wall surface of the via hole 1a and the upper or lower surface of the substrate 1 . In this embodiment, the via hole 1a is formed on the wall surface and the upper surface of the substrate 1 . Alternatively, the seed layer 2 may be formed on the wall surface of the via hole 1a (formed inside the via hole 1a) and the lower surface of the substrate 1 or the wall surface of the via hole 1a and the upper and lower surfaces of the substrate 1 . Accordingly, the seed layer 2 includes a via hole seed layer 2b and a surface seed layer 2a formed on the wall surface of the via hole 1a.

비아홀(1a) 벽면에 형성되는 비아홀 시드층(2b)의 두께는 1nmm~19nmm로 형성될 수 있다.The thickness of the via hole seed layer 2b formed on the wall surface of the via hole 1a may be 1 nm to 19 nm.

시드층(2)을 형성하는 단계(300)는, 구리(Cu), 은(Ag), 금(Au), 니켈(Ni), 크롬(Cr), 텅스텐(W), 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al) 등의 금속 또는, 구리,은, 금, 니켈, 크롬, 텅스텐, 몰리브덴, 알루미늄 중 적어도 두개가 혼합된 합금을 기재(1)의 일면에 진공 증착하는 것을 일 예로 한다.In the step 300 of forming the seed layer 2, copper (Cu), silver (Ag), gold (Au), nickel (Ni), chromium (Cr), tungsten (W), molybdenum (Mo), aluminum As an example, vacuum deposition of a metal such as (Al) or an alloy in which at least two of copper, silver, gold, nickel, chromium, tungsten, molybdenum, and aluminum are mixed is performed on one surface of the substrate 1 .

음각 패턴(4) 형성 단계(410)는 표면 시드층(2a)의 표면에 형성되는 감광층(3)에 비아홀(1a) 상부 또는 하부에 배치되는 제1음각 패턴(4b)과 비아홀(1a)과 엇갈리게 배치되는 제2음각 패턴(4a)을 동시에 형성한다.In the engraved pattern 4 forming step 410, the first engraved pattern 4b and the via hole 1a are disposed above or below the via hole 1a in the photosensitive layer 3 formed on the surface of the surface seed layer 2a. and the second engraved pattern (4a) arranged to be alternately formed at the same time.

즉, 음각 패턴(4)은 비아홀(1a) 상부 또는 하부에 배치되어 비아홀(1a)에 연통되는 제1음각 패턴(4b)과, 비아홀(1a)의 상부 또는 하부의 좌측 또는 우측에 배치되어 비아홀(1a)로부터 제1음각 패턴(4b)보다 멀리 배치되는 제2음각 패턴(4a)을 포함한다. 즉, 제1음각 패턴(4b)은 비아홀(1a)과 상하방향으로 동축선상에 배치된다. 제1음각 패턴(4b)은 비아홀(1a)보다 넓은 폭을 갖도록 형성된다.That is, the engraved pattern 4 is disposed on the upper or lower side of the via hole 1a and is disposed on the left or right side of the first engraved pattern 4b communicating with the via hole 1a and the upper or lower portion of the via hole 1a to the left or right of the via hole. (1a) includes a second intaglio pattern (4a) disposed farther than the first intaglio pattern (4b). That is, the first engraved pattern 4b is disposed coaxially with the via hole 1a in the vertical direction. The first engraved pattern 4b is formed to have a wider width than the via hole 1a.

음각 패턴(4) 형성 단계(410)는 상세하게, 표면 시드층(2a)에 감광층(3)을 형성하는 과정(411), 음각 패턴(4)이 형성되는 부분을 커버하는 투광패턴(6a)을 구비하고, 투광패턴(6a)을 제외한 부분이 개방된 마스크(6)로 감광층(3)을 커버하는 과정(412); 및 마스크(6)로 커버된 감광층(3)을 노광하여 감광층(3)에 투광패턴(6a)을 제외한 부분을 경화시키고, 투광패턴(6a) 부분을 제거하여 음각 패턴(4)을 형성하는 과정(413)을 포함한다.The intaglio pattern 4 forming step 410 is, in detail, a process 411 of forming the photosensitive layer 3 on the surface seed layer 2a, and a light transmitting pattern 6a covering the portion where the intaglio pattern 4 is formed. ) and covering the photosensitive layer 3 with a mask 6 in which a portion except for the transmissive pattern 6a is opened ( 412 ); and exposing the photosensitive layer 3 covered with the mask 6 to light the photosensitive layer 3 except for the light transmitting pattern 6a, and removing the light transmitting pattern 6a to form an intaglio pattern 4 and a process 413 of

즉, 마스크(6)는 감광층(3)에 형성되는 음각 패턴(4)에 대응되는 부분을 커버하는 투광패턴(6a)을 포함하고, 투광패턴(6a)을 제외한 부분이 개방된 형태로 형성된다.That is, the mask 6 includes a transmissive pattern 6a covering a portion corresponding to the intaglio pattern 4 formed on the photosensitive layer 3 , and is formed in an open form except for the transmissive pattern 6a . do.

금속층(20)을 형성하는 단계(420)는 제1음각 패턴(4b)과 제2음각 패턴(4a) 및 비아홀(1a) 내부에 형성되는 비아홀 시드층(2b)에 각각 제1,2,3금속층(20b, 20a, 20c)을 형성한다.In the step 420 of forming the metal layer 20, the first engraved pattern 4b, the second engraved pattern 4a, and the via hole seed layer 2b formed in the via hole 1a are first, second, and third respectively. Metal layers 20b, 20a, and 20c are formed.

이와 같이 한번의 과정을 통해 제1,2,3금속층(20b, 20a, 20c)을 동시에 형성하여 제조공정이 단순해지고, 제1,2,3금속층(20b, 20a, 20c)의 거칠기도 동일하게 형성할 수 있다.In this way, the first, second, and third metal layers 20b, 20a, and 20c are simultaneously formed through a single process to simplify the manufacturing process, and the roughness of the first, second, and third metal layers 20b, 20a, and 20c is also the same. can be formed

금속층(20)은 음각 패턴(4) 등으로 노출된 시드층(2)의 표면에 증착된다.The metal layer 20 is deposited on the surface of the seed layer 2 exposed by the engraved pattern 4 or the like.

금속층(20)은 금(Au), 은(Ag) 또는 구리(Cu)인 것을 일 예로 한다. 금속층(20)은 이하 서술되는 회로 패턴(1c)의 저항을 낮추는 역할을 하고, 전체 저항을 낮게 조절할 수 있다. 또한, 금속층(20)은 두께를 조절함으로써 전기 회로의 저항값을 조절할 수 있다. The metal layer 20 may be made of gold (Au), silver (Ag), or copper (Cu) as an example. The metal layer 20 serves to lower the resistance of the circuit pattern 1c to be described below, and may adjust the overall resistance to be low. In addition, the metal layer 20 may adjust the resistance value of the electric circuit by adjusting the thickness.

금속층(20)을 형성하는 단계(420) 이후에, 감광층(3)을 제거하고, 시드층(2)을 에칭하여 시드층(2)에서 금속층(20)으로 커버된 부분을 제외한 부분을 제거하여 베이스 금속층(10a, 10b)을 형성할 수 있다.After the step 420 of forming the metal layer 20 , the photosensitive layer 3 is removed, and the seed layer 2 is etched to remove a portion of the seed layer 2 except for the portion covered with the metal layer 20 . Thus, the base metal layers 10a and 10b may be formed.

베이스 금속층(10a, 10b)을 형성하는 단계(500)는, 포토리소그래피(Photolithography)로 표면 시드층(2a)을 제1,2금속층(20b, 20a)과 동일한 형상으로 에칭하여 베이스 금속층(10a, 10b)을 형성하는 것을 일 예로 한다.In the step 500 of forming the base metal layers 10a and 10b, the surface seed layer 2a is etched in the same shape as the first and second metal layers 20b and 20a by photolithography to form the base metal layer 10a, Forming 10b) is taken as an example.

이로 인해, 기재(1)의 표면에는 회로 패턴(1c)이 형성되고, 비아홀(1a) 내부 및 기재(1)의 표면에는 비아홀 금속층(1d)이 형성된다.For this reason, the circuit pattern 1c is formed on the surface of the base material 1, and the via hole metal layer 1d is formed in the inside of the via hole 1a and the surface of the base material 1.

본 실시예에 따른 연성인쇄회로기판 제조 방법은, 회로패턴(1c)이 형성된 기재(1)의 표면을 코팅하여 보호층(30)을 형성하는 단계(600)를 더 포함하는 것이 바람직하다. 보호층(30)을 형성하는 단계(600)는 기재(1)의 일면에 PI또는 PAI를 도포한 후 건조 또는 가열 경화시켜 보호층(30)을 형성하는 것으로, 회로 패턴(1c)을 보호하고, 회로 패턴(1c)이 기재(1)로부터 박리되지 않도록 하며, 휨에 의해 회로 패턴(1c)의 형상이 변형되거나 박리되는 것을 방지하고, 휨이 반복되는 것에 대해 충분한 내구성을 확보할 수 있게 한다.
The method for manufacturing a flexible printed circuit board according to the present embodiment preferably further includes the step 600 of forming a protective layer 30 by coating the surface of the substrate 1 on which the circuit pattern 1c is formed. The step 600 of forming the protective layer 30 is to form the protective layer 30 by applying PI or PAI to one surface of the substrate 1 and then drying or heat curing to protect the circuit pattern 1c and , prevent the circuit pattern 1c from peeling from the base material 1, prevent deformation or peeling of the shape of the circuit pattern 1c due to bending, and ensure sufficient durability against repeated bending .

이하 서술되는 연성인쇄회로기판 제조장치는 전술한 연성인쇄회로기판 제조공정 중 시드층(2)을 형성하는 단계(300)와, 음각 패턴(4) 형성 단계(410)와, 금속층(20)을 형성하는 단계(420)를 연속적으로 수행한다. 이와 다르게, 연성인쇄회로기판 제조장치는 이전 공정 및 이후 공정도 수행할 수 있도록 추가적인 장치를 구비할 수도 있다.The apparatus for manufacturing a flexible printed circuit board to be described below includes a step 300 of forming the seed layer 2, a step 410 of forming an intaglio pattern 4, and a metal layer 20 in the above-described flexible printed circuit board manufacturing process. The forming step 420 is performed successively. Alternatively, the flexible printed circuit board manufacturing apparatus may include an additional device to perform the previous process and the subsequent process.

도 2에 도시된 바와 같이, 본 실시예의 연성인쇄회로기판 제조장치는, 비아홀(1a)이 형성된 기재(1)에 상기 비아홀(1a)의 상하 및 상기 기재(1) 상면에 시드층(2)을 증착하는 제1공정부(50,50'), 상기 시드층(2) 상부에 감광층(3)을 형성하고 상기 감광층(3)에 음각 패턴(4)을 형성하는 제2공정부(60), 상기 비아홀(1a) 내부에 배치되는 상기 시드층(2)의 상하 및 상기 음각 패턴(4)에 금속층(20)을 형성하는 제3공정부(70)를 포함하며, 상기 제1공정부(50,50') 또는 상기 제3공정부(70)는 상기 기재(1) 상부 및 하부에 각각 배치되어 플라즈마를 발생시키는 복수개의 플라즈마 발생부를 포함하며, 적어도 하나의 플라즈마 발생부는 나머지 플라즈마 발생부 중 적어도 하나의 상부에 배치되어 양면 동시 또는 단면을 증착하는 것을 특징으로 하는 한다.As shown in FIG. 2, in the apparatus for manufacturing a flexible printed circuit board of this embodiment, a seed layer (2) on the upper and lower surfaces of the via hole (1a) and the upper surface of the substrate (1) in the substrate (1) on which the via hole (1a) is formed. A first process part (50, 50') for depositing a second process part ( 60), a third process part 70 for forming a metal layer 20 on the upper and lower sides of the seed layer 2 and the intaglio pattern 4 disposed inside the via hole 1a, wherein the first hole The top portions 50 and 50 ′ or the third processing unit 70 include a plurality of plasma generating units respectively disposed on the upper and lower portions of the substrate 1 to generate plasma, and at least one plasma generating unit generates the remaining plasma. It is disposed on at least one of the parts and characterized in that both sides are deposited simultaneously or single-sided.

연성인쇄회로기판 제조장치는 기재(1)의 상하부 증착이 동시에 수행되는 챔버(1000) 및 롤투롤(roll to roll) 방식으로 챔버(1000) 내에서 기재(1)의 연속적인 이동이 이루어지도록 챔버(1000)의 양측에 대응되게 설치된 롤링부(40,80)를 포함한다. 롤링부(40,80)에는 비아홀(1a)이 형성된 기재(1)가 감겨져 있다. 롤링부(40,80)는 두개의 롤링부를 포함하며, 상류 측에 배치되는 롤링부(40)는 롤 피더(roll feeder) 역할을 하며, 하류 측에 배치되는 롤링부(80)는 리와인더(rewinder) 역할을 한다. 또한, 롤링부(40,80)에 감겨있는 기재(1)는 접지되도록 할 수 있다.The flexible printed circuit board manufacturing apparatus is a chamber 1000 in which upper and lower deposition of the substrate 1 is simultaneously performed and a chamber so that the substrate 1 is continuously moved in the chamber 1000 in a roll to roll method. It includes rolling parts 40 and 80 installed to correspond to both sides of 1000 . A substrate 1 having a via hole 1a formed thereon is wound around the rolling portions 40 and 80 . The rolling parts 40 and 80 include two rolling parts, the rolling part 40 disposed on the upstream side serves as a roll feeder, and the rolling part 80 disposed on the downstream side is a rewinder. ) plays a role. In addition, the substrate 1 wound around the rolling parts 40 and 80 may be grounded.

여기서, 롤링부(40,80)가 챔버(1000) 내부에 동일 수평선상에 배치될 경우, 제1,2,3공정부(50,60,70)를 경계 짓도록 격벽이 설치될 수 있다. 그러나 이에 한정되지 않고 다른 실시 예에서는, 격벽 없이 각 공정이 별도의 챔버를 구비할 수도 있다.Here, when the rolling parts 40 and 80 are disposed on the same horizontal line inside the chamber 1000 , partition walls may be installed to delimit the first, second, and third process parts 50 , 60 , and 70 . However, the present invention is not limited thereto, and in another embodiment, each process may include a separate chamber without a partition wall.

연성인쇄회로기판 제조장치는 제1,2,3공정부(50,60,70)를 통과하는 기재(1)를 평평하게 유지시키는 장력 조절부(91)를 포함한다. 장력 조절부(91)는 롤링부(40, 80)의 후단과 전단에 각각 배치되어 기재(1)가 평평하게 유지된 채 챔버(1000)내에서 이동되도록 한다.The flexible printed circuit board manufacturing apparatus includes a tension adjusting unit 91 for keeping the substrate 1 passing through the first, second, and third process units 50 , 60 , and 70 flat. The tension control unit 91 is disposed at the rear end and the front end of the rolling units 40 and 80, respectively, so that the substrate 1 is moved in the chamber 1000 while being kept flat.

제1공정부(50,50')는 비아홀(1a)이 형성된 기재(1)에 비아홀(1a) 벽면의 상하 및 기재(1) 상면에 시드층(2)을 증착한다.The first process units 50 and 50' deposit the seed layer 2 on the upper and lower surfaces of the wall surface of the via hole 1a and the upper surface of the substrate 1 on the substrate 1 in which the via hole 1a is formed.

이어서, 제2공정부(60)는 시드층(2) 상부에 감광층(3)을 형성하고 상기 감광층(3)에 음각 패턴(4)을 형성한다.Next, the second process unit 60 forms the photosensitive layer 3 on the seed layer 2 and forms the engraved pattern 4 on the photosensitive layer 3 .

이어서, 제3공정부(70)는 비아홀(1a) 내부에 배치되는 시드층(2)의 상하 및 음각 패턴(4)에 금속층(20)을 형성한다.Next, the third process unit 70 forms the metal layer 20 on the upper and lower sides of the seed layer 2 and the intaglio pattern 4 disposed inside the via hole 1a.

기재(1)의 상하부를 동시에 증착하는 제1공정부(50,50') 및/또는 제3공정부(70,70')는 상기 기재(1) 상부 및 하부에 각각 배치되어 플라즈마를 발생시키는 복수개의 플라즈마 발생부를 포함하며, 적어도 하나의 플라즈마 발생부는 나머지 플라즈마 발생부 중 적어도 하나의 상부에 동일 수직선상에 배치된다.The first processing units 50 and 50 ′ and/or the third processing units 70 and 70 ′ for simultaneously depositing the upper and lower portions of the substrate 1 are respectively disposed on the upper and lower portions of the substrate 1 to generate plasma. It includes a plurality of plasma generators, and at least one plasma generator is disposed on the same vertical line on at least one of the remaining plasma generators.

도 3에 도시된 바와 같이, 제1공정부(50,50') 및/또는 제3공정부(70,70')의 상기 플라즈마 발생부는 기재(1) 상부에 배치되는 제1전극(51)과, 제1전극(51) 하부에 가스를 공급하는 제1가스 공급부(54)와, 제1전극(51)에 전력을 공급하는 제1전원부(53)와, 기재(1) 하부에 배치되는 제2전극(52)과, 제2전극(52) 상부에 가스를 공급하는 제2가스 공급부(56)와, 제2전극(52)에 전력을 공급하는 제2전원부(55)를 포함할 수 있다.As shown in FIG. 3 , the plasma generating unit of the first processing units 50 and 50 ′ and/or the third processing units 70 and 70 ′ is a first electrode 51 disposed on the substrate 1 . and a first gas supply unit 54 for supplying gas to the lower portion of the first electrode 51 , a first power supply unit 53 for supplying electric power to the first electrode 51 , and a base material 1 disposed under the base 1 . It may include a second electrode 52 , a second gas supply unit 56 for supplying gas to the upper portion of the second electrode 52 , and a second power supply unit 55 for supplying power to the second electrode 52 . have.

제1,2전극(51,52)은 각각 수평하게 배치되며, 서로 마주보도록 배치된다. The first and second electrodes 51 and 52 are respectively horizontally disposed and disposed to face each other.

제1,2전극(51,52)에 가스 및 전원을 공급하게 되면 제1전극(51)과 기재(1) 상부 및 제2전극(52)과 기재(1) 하부 사이에는 플라즈마가 형성된다.When gas and power are supplied to the first and second electrodes 51 and 52 , plasma is formed between the first electrode 51 and the upper portion of the substrate 1 and the second electrode 52 and the lower portion of the substrate 1 .

기재(1)는 제1,2전극(51, 52)과 비접촉식으로 이동하여 기재(1)에 스크래치가 나지 않도록 할 수 있다. 이와 다르게, 기재(1)가 어느 하나의 전극에 접촉하여 이동할 수도 있다.The substrate 1 can be moved in a non-contact manner with the first and second electrodes 51 and 52 so that the substrate 1 is not scratched. Alternatively, the substrate 1 may move in contact with any one electrode.

제1전극(51)과 제2전극(52) 사이를 기재(1)가 지나가면서, 기재(1)의 상부는 기재(1)의 상부에 형성된 플라즈마에 의해 증착되고, 기재(1)의 하부는 기재(1)의 하부에 형성된 플라즈마에 의해 증착되어, 기재(1)의 상하부가 동시에 증착되게 된다.As the substrate 1 passes between the first electrode 51 and the second electrode 52 , the upper portion of the substrate 1 is deposited by plasma formed on the upper portion of the substrate 1 , and the lower portion of the substrate 1 . is deposited by plasma formed on the lower portion of the substrate 1 , so that the upper and lower portions of the substrate 1 are simultaneously deposited.

또한, 기재(1)의 상면 또는 하면에만 증착할 경우에는 제2전극(52) 또는 제1전극(51)에 가스 또는 전원 공급을 중단하도록 하여 양면이 아닌 한면만 증착되도록 제어부(미도시)는 제어할 수 있다.In addition, when depositing only on the upper or lower surface of the substrate 1, the control unit (not shown) is configured to stop supplying gas or power to the second electrode 52 or the first electrode 51 so that only one side is deposited, not both sides. can be controlled

제1,2전원부(53)는 RF전원으로 공급될 수 있다.The first and second power supply units 53 may be supplied with RF power.

또한, 챔버(1000)의 내부를 진공화하기 위한 진공펌프(57)가 구비될 수 있다.In addition, a vacuum pump 57 for evacuating the inside of the chamber 1000 may be provided.

전술한 바와 다르게, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 플라즈마 발생부는 기재(1) 상부에 배치되는 제1전극(51)과, 상기 제1전극(51) 하부에 가스를 공급하는 제1가스 공급부(54)와, 상기 제1전극(51)에 전력을 공급하는 제1전원부(53)와, 상기 제1전극(51) 하부에 배치되는 제2전극(52')과, 상기 제2전극(52') 하부에 가스를 공급하는 제2가스 공급부(56')와, 상기 제2전극(52')에 전력을 공급하는 제2전원부(55)와, 상기 기재(1) 하부에 배치되는 제3전극(58)을 포함하며, 상기 제1전극(51)을 통과한 기재(1)의 상하부가 뒤바뀌도록 방향을 전환해주는 방향전환부(59)를 포함하며, 상기 제2전극(52')과 상기 제3전극(58)은 상기 방향전환부(59)보다 하류측에 배치되어, 상기 제2전극(52')은 상기 기재(1) 사이에 배치될 수 있다.Unlike the above, as shown in FIG. 4 , the plasma generating unit includes a first electrode 51 disposed on the substrate 1 and a first gas supply unit supplying a gas to a lower portion of the first electrode 51 . 54, a first power supply unit 53 for supplying power to the first electrode 51, a second electrode 52' disposed under the first electrode 51, and the second electrode ( 52') a second gas supply unit 56' for supplying gas to the lower portion, a second power supply unit 55 for supplying electric power to the second electrode 52', and a second gas supply unit 55 for supplying electric power to the second electrode 52'; It includes three electrodes (58), and includes a direction changing part (59) for changing the direction so that the upper and lower parts of the substrate (1) passing through the first electrode (51) are reversed, and the second electrode (52') ) and the third electrode 58 may be disposed on a downstream side of the direction changing part 59 , and the second electrode 52 ′ may be disposed between the substrate 1 .

전술한 실시예에서와 동일한 구성에 대해서는 설명을 생략하기로 한다.A description of the same configuration as in the above-described embodiment will be omitted.

방향전환부(59)는 제1전극(51)의 하류측에 배치되는 롤러로 구비될 수 있다. 이러한 방향전환부(59)로 인해 상부가 증착된 기재(1)는 180도 회전되어 이송된다. 따라서, 기재(1)에서 먼저 증착된 부분은 아래를 향하게 되고, 증착되지 않은 부분은 위를 향하게 된다. The direction changing part 59 may be provided as a roller disposed on the downstream side of the first electrode 51 . The substrate 1 on which the upper portion is deposited due to the direction changer 59 is rotated 180 degrees and transferred. Accordingly, in the substrate 1, the first deposited portion faces downward, and the non-deposited portion faces upward.

제2전극(52')은 방향전환부(59)보다 하류에 배치되어, 기재(1)에서 증착되지 않은 부분에 증착이 되도록 할 수 있다.The second electrode 52 ′ may be disposed downstream of the direction change unit 59 , so that deposition may be performed on a non-deposited portion of the substrate 1 .

제2전극(52') 및 제3전극(58)은 수평하게 배치되어, 기재(1)와 평행하게 배치된다.The second electrode 52 ′ and the third electrode 58 are arranged horizontally and parallel to the substrate 1 .

제2전극(52')은 상면이 제1전극(51)에 대향되게 배치되고, 하면이 제3전극(58)에 대향되도록 배치된다. 즉, 제1전극(51) 아래에 제2전극(52')이 배치되고, 제2전극(52') 아래에 제3전극(58)이 배치된다. 제3전극(58)은 제2전극(52')에 대향된다. 또한, 각각의 전극 사이에는 기재(1)가 각각 배치된다. 따라서, 제1,2,3전극(51,52',58)이 모두 하나의 수직선상에 배치된다.The second electrode 52 ′ has an upper surface opposite to the first electrode 51 , and a lower surface opposite to the third electrode 58 . That is, the second electrode 52 ′ is disposed under the first electrode 51 , and the third electrode 58 is disposed under the second electrode 52 ′. The third electrode 58 faces the second electrode 52'. In addition, the substrate 1 is respectively disposed between the respective electrodes. Accordingly, the first, second, and third electrodes 51 , 52 ′ and 58 are all arranged on one vertical line.

제2가스 공급부(56')는 제2전극(52') 하부에 플라즈마가 생성되도록 제2전극(52')에 가스를 공급한다.The second gas supply unit 56' supplies gas to the second electrode 52' so that plasma is generated under the second electrode 52'.

제3전극(58)에는 RF 바이어스를 공급할 수 있다. RF 바이오스에 의한 쉬스(sheath) 영역으로 인해 접촉식 또는 비접촉식의 박막 증착이 거의 차이가 나지 않게 된다.An RF bias may be supplied to the third electrode 58 . Due to the sheath area by the RF bios, there is little difference between the contact or non-contact thin film deposition.

이와 같이 제조장치를 통해 기재(1)에 시드층(2)과 금속층(20)이 형성되면, 감광층(1)을 제거한다. 또한, 시드층(2)에서 금속층(20)으로 덮히지 않은 부분을 제거하면 베이스 금속층(10a, 10b)이 형성된다. 이러한 후속 과정은 별도의 장치 또는 공정부를 추가하여 형성할 수 있다.
When the seed layer 2 and the metal layer 20 are formed on the substrate 1 through the manufacturing apparatus as described above, the photosensitive layer 1 is removed. In addition, when a portion not covered with the metal layer 20 is removed from the seed layer 2 , the base metal layers 10a and 10b are formed. This subsequent process may be formed by adding a separate device or process unit.

전술한 바와 같은 연성인쇄회로기판 제조 장치로 제조된 연성인쇄회로기판은, 비아홀(1a)이 형성된 기재(1)와, 상기 비아홀(1a)의 벽면에 형성되는 베이스 금속층(10b)과, 상기 베이스 금속층(10b)에 형성되는 금속층(20)을 포함한다.The flexible printed circuit board manufactured by the apparatus for manufacturing the flexible printed circuit board as described above includes a substrate 1 having a via hole 1a formed therein, a base metal layer 10b formed on a wall surface of the via hole 1a, and the base and a metal layer 20 formed on the metal layer 10b.

기재(1)는 시트형상으로 형성되고, 기재(1)에는 상하방향으로 관통된 비아홀(1a)이 형성된다.The substrate 1 is formed in a sheet shape, and the via holes 1a penetrating in the vertical direction are formed in the substrate 1 .

베이스 금속층(10a, 10b)은 기재(1)의 상면 일부 및 비아홀(1a)의 벽면 상하부에 형성된다.The base metal layers 10a and 10b are formed on a portion of the upper surface of the substrate 1 and upper and lower portions of the wall surface of the via hole 1a.

비아홀(1a)의 벽면에 형성되는 베이스 금속층(10b)은 비아홀(1a)의 상하에 동일재질로 연속적으로 형성된다.The base metal layer 10b formed on the wall surface of the via hole 1a is continuously formed with the same material above and below the via hole 1a.

베이스 금속층(10a, 10b)은, 구리, 은, 금, 니켈, 크롬, 텅스텐, 몰리브덴, 알루미늄 등의 금속 또는, 구리, 은, 금, 니켈, 크롬, 텅스텐, 몰리브덴, 알루미늄 중 적어도 두개가 혼합된 합금인 것이 바람직하다.The base metal layers 10a and 10b may include a metal such as copper, silver, gold, nickel, chromium, tungsten, molybdenum, or aluminum, or a mixture of at least two of copper, silver, gold, nickel, chromium, tungsten, molybdenum, and aluminum. It is preferably an alloy.

베이스 금속층(10a, 10b)은 전술한 바와 같은 제조장치를 통해 형성되며, 검은색 계열의 색상을 가지는 것이 바람직하다.The base metal layers 10a and 10b are formed through the manufacturing apparatus as described above, and preferably have a black-based color.

베이스 금속층(10a, 10b)은 검은색 계열의 색상을 가져 빛반사 현상을 제거하고, 빛의 난반사를 줄이는 역할을 하여 시인성을 향상시킨다.The base metal layers 10a and 10b have a black color to remove light reflection and reduce diffuse reflection of light, thereby improving visibility.

금속층(20)은 베이스 금속층(10a, 10b)에 형성된다.The metal layer 20 is formed on the base metal layers 10a and 10b.

금속층(20)은 기재(1)의 상면 또는 하면과 같은 표면에 배치되는 제1,2금속층(20b, 20a)과, 비아홀(1a) 내부에 배치되는 제3금속층(20c)을 포함한다. 제1금속층(20b)은 비아홀(1a)의 상부 또는 하부에 배치되고, 제2금속층(20a)은 비아홀(1a)로부터 제1금속층(20b)보다 멀리 배치된다. 즉, 제1금속층(20b)은 제2금속층(20a)보다 비아홀(1a)에 근접하게 배치된다.The metal layer 20 includes first and second metal layers 20b and 20a disposed on the same surface as the top or bottom surface of the substrate 1 , and a third metal layer 20c disposed inside the via hole 1a . The first metal layer 20b is disposed above or below the via hole 1a, and the second metal layer 20a is disposed farther from the via hole 1a than the first metal layer 20b. That is, the first metal layer 20b is disposed closer to the via hole 1a than the second metal layer 20a.

베이스 금속층(10a, 10b)과 금속층(20)은 대응되게 형성된다.The base metal layers 10a and 10b and the metal layer 20 are formed to correspond to each other.

제3금속층(20c)은 비아홀(1a)의 벽면에 형성되는 베이스 금속층(10b)의 상하에 동일재질로 연속적으로 형성된다.The third metal layer 20c is continuously formed of the same material above and below the base metal layer 10b formed on the wall surface of the via hole 1a.

회로 패턴(1c)은 베이스 금속층(10a)과 베이스 금속층(10a) 표면에 형성되는 제2금속층(20a)을 포함한다.The circuit pattern 1c includes a base metal layer 10a and a second metal layer 20a formed on the surface of the base metal layer 10a.

비아홀 금속층(1d)은 베이스 금속층(10b)과 베이스 금속층(10b)에 형성되는 제1,3금속층(20b, 20c)을 포함한다.The via hole metal layer 1d includes a base metal layer 10b and first and third metal layers 20b and 20c formed on the base metal layer 10b.

금속층(20)은 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu) 중 어느 하나인 것을 일 예로한다.As an example, the metal layer 20 is made of any one of gold (Au), silver (Ag), and copper (Cu).

금속층(20)은 베이스 금속층(10a, 10b)의 저항값을 낮추는 역할을 하며, 도금되는 두께에 따라 베이스 금속층(10a)과 제2금속층(20a)으로 이루어지는 회로패턴(1c)의 저항값을 조절할 수 있다.The metal layer 20 serves to lower the resistance value of the base metal layers 10a and 10b, and adjusts the resistance value of the circuit pattern 1c including the base metal layer 10a and the second metal layer 20a according to the plated thickness. can

또한, 본 실시예에 따른 연성인쇄회로기판은, 기재(1)의 표면을 커버하는 보호층(30)을 더 포함하는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the flexible printed circuit board according to the present embodiment further includes a protective layer 30 covering the surface of the substrate 1 .

보호층(30)은 PI 또는 PAI를 도포하여 건조시킴으로서 코팅한 코팅층인 것을 일 예로 한다.As an example, the protective layer 30 is a coating layer coated by applying PI or PAI and drying it.

보호층(30)은 베이스 금속층(10a, 10b) 및 제1,2금속층(20b, 20a) 및 비아홀(1a)을 커버할 수 있는 면적으로 기재(1)의 표면에 코팅되어 회로패턴(1c)을 보호하고, 회로패턴(1c)이 기재(1)로부터 박리되지않도록 하며, 휨에 의해 회로패턴(1c)의 형상이 변형되거나 박리되는 것을 방지하고, 휨이 반복되는 것에 대해 충분한 내구성을 확보할 수 있게 한다.The protective layer 30 is coated on the surface of the base material 1 in an area that can cover the base metal layers 10a and 10b and the first and second metal layers 20b and 20a and the via hole 1a to form a circuit pattern 1c. to protect, prevent the circuit pattern 1c from peeling from the base material 1, prevent deformation or peeling of the shape of the circuit pattern 1c due to bending, and ensure sufficient durability against repeated bending. make it possible

회로 패턴(1c)은 연성인쇄회로기판의 설계 시 설계된 회로로, 안테나 일 수도 있고, 전자부품을 실장하는 회로일 수 있으며, 설계 시 기설정된 회로임을 밝혀둔다.The circuit pattern 1c is a circuit designed when designing a flexible printed circuit board, and may be an antenna or a circuit for mounting electronic components, and is a circuit preset at the time of design.

상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당기술분야의 당업자는 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 또는 변형하여 실시할 수 있다.As described above, although described with reference to preferred embodiments of the present invention, those skilled in the art can variously modify or modify the present invention without departing from the spirit and scope of the present invention as set forth in the claims below. can be carried out.

** 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 **
1 : 기재 2 : 시드층
3 : 감광층 4 : 음각 패턴
6 : 마스크
10a, 10b : 베이스 금속층 20 : 금속층
30 : 보호층
40, 80 : 롤링부 50, 50' : 제1공정부
51 : 제1전극 52, 52' : 제2전극
53 : 제1전원부 54 : 제1가스 공급부
55 : 제2전원부 56, 56' : 제2가스 공급부
57 : 진공펌프 58 : 제3전극
59 : 방향전환부
60 : 제2공정부 70, 70' : 제3공정부
91 : 장력 조절부
** DESCRIPTION OF SYMBOLS FOR MAJOR PARTS OF THE DRAWING **
1: base material 2: seed layer
3: photosensitive layer 4: engraved pattern
6: Mask
10a, 10b: base metal layer 20: metal layer
30: protective layer
40, 80: rolling part 50, 50': first process part
51: first electrode 52, 52': second electrode
53: first power supply unit 54: first gas supply unit
55: second power supply unit 56, 56': second gas supply unit
57: vacuum pump 58: third electrode
59: direction change unit
60: second process part 70, 70': third process part
91: tension control unit

Claims (6)

삭제delete 챔버의 양측에 설치된 롤링부; 및
상기 롤링부에 감겨진 비아홀이 형성된 기재가 연속해서 이동하도록 배치된 제1공정부, 제2공정부 및 제3공정부를 포함하고,
상기 제1공정부는 상기 비아홀의 벽면과 상기 기재의 표면에 시드층을 증착하며,
상기 제2공정부는 상기 시드층 상에 감광층을 형성하고, 상기 감광층에서 상기 비아홀 부분과 회로패턴이 형성될 부분을 제거하여 음각 패턴을 형성하며,
상기 제3공정부는 상기 음각 패턴에 의해 노출된 상기 시드층의 표면에 금속층을 증착하고,
상기 제1공정부 또는 상기 제3공정부는 상기 기재의 상부 및 하부에 각각 배치되어 플라즈마를 발생시키는 복수개의 플라즈마 발생부를 포함하며,
적어도 하나의 플라즈마 발생부는 나머지 플라즈마 발생부 중 적어도 하나의 상부에 배치되는 것을 특징으로 하는 연성인쇄회로기판 제조장치.
Rolling parts installed on both sides of the chamber; and
and a first process part, a second process part and a third process part arranged so that the substrate having the via hole wound around the rolling part moves continuously;
The first process part deposits a seed layer on the wall surface of the via hole and the surface of the substrate,
The second process unit forms a photosensitive layer on the seed layer, and removes the via hole portion and a portion where the circuit pattern is to be formed from the photosensitive layer to form an intaglio pattern,
The third process part deposits a metal layer on the surface of the seed layer exposed by the intaglio pattern,
The first processing unit or the third processing unit includes a plurality of plasma generating units respectively disposed on the upper and lower portions of the substrate to generate plasma,
At least one plasma generating unit is an apparatus for manufacturing a flexible printed circuit board, characterized in that it is disposed on at least one of the remaining plasma generating units.
삭제delete 제 2항에 있어서,
적어도 두개의 상기 플라즈마 발생부는 동일 수직선상에 배치되어 양면을 동시에 증착하는 것을 특징으로 하는 연성인쇄회로기판 제조장치.
3. The method of claim 2,
At least two of the plasma generating units are arranged on the same vertical line, the flexible printed circuit board manufacturing apparatus, characterized in that the deposition on both sides at the same time.
제 4항에 있어서,
상기 플라즈마 발생부는 상기 기재 상부에 배치되는 제1전극과, 상기 제1전극 하부에 가스를 공급하는 제1가스 공급부와, 상기 제1전극에 전력을 공급하는 제1전원부와, 상기 기재 하부에 배치되는 제2전극과, 상기 제2전극 상부에 가스를 공급하는 제2가스 공급부와, 상기 제2전극에 전력을 공급하는 제2전원부를 포함하는 것을 특징으로 하는 연성인쇄회로기판 제조장치.
5. The method of claim 4,
The plasma generator includes a first electrode disposed above the substrate, a first gas supply unit supplying gas to a lower portion of the first electrode, a first power supply unit supplying power to the first electrode, and a lower portion of the substrate An apparatus for manufacturing a flexible printed circuit board, comprising: a second electrode to be used; a second gas supply unit for supplying gas to the upper part of the second electrode;
제 4항에 있어서,
상기 플라즈마 발생부는 상기 기재 상부에 배치되는 제1전극과, 상기 제1전극 하부에 가스를 공급하는 제1가스 공급부와, 상기 제1전극에 전력을 공급하는 제1전원부와, 상기 제1전극 하부에 배치되는 제2전극과, 상기 제2전극 하부에 가스를 공급하는 제2가스 공급부와, 상기 제2전극에 전력을 공급하는 제2전원부와, 상기 기재 하부에 배치되는 제3전극을 포함하며,
상기 제1전극을 통과한 기재의 상하부가 뒤바뀌도록 방향을 전환해주는 방향전환부를 포함하며,
상기 제2전극과 상기 제3전극은 상기 방향전환부보다 하류측에 배치되어, 상기 제2전극은 상기 기재 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 연성인쇄회로기판 제조장치.
5. The method of claim 4,
The plasma generating unit includes a first electrode disposed on the substrate, a first gas supply unit supplying gas to a lower portion of the first electrode, a first power supply unit supplying power to the first electrode, and a lower portion of the first electrode A second electrode disposed on the, a second gas supply unit for supplying a gas to the lower portion of the second electrode, a second power supply unit for supplying power to the second electrode, and a third electrode disposed under the base material, ,
and a direction changing unit for changing the direction so that the upper and lower portions of the substrate passing through the first electrode are reversed,
The second electrode and the third electrode are disposed on a downstream side of the direction changing part, and the second electrode is disposed between the substrate.
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