KR102361011B1 - Method for manufacturing metal powder - Google Patents

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Abstract

금속 입자에 산화물을 균일하게 피복할 수 있어, 산화물의 응집체가 형성되는 것을 방지한다. 금속 분말의 제조 방법은, 금속 분말 및 배위자를 가지는 금속 착체를 포함하는 분산액과, 산 또는 알칼리를 포함하는 물을 혼합함으로써, 상기 금속 착체로부터 생성되는 산화물에 의해 상기 금속 분말의 표면의 적어도 일부를 피복한다.The oxide can be uniformly coated on the metal particles, preventing the formation of agglomerates of the oxide. In the method for producing a metal powder, by mixing a dispersion containing a metal powder and a metal complex having a ligand, and water containing an acid or an alkali, at least a part of the surface of the metal powder by an oxide generated from the metal complex to cover

Description

금속 분말의 제조 방법Method for manufacturing metal powder

본 발명의 일 양태는, 전자 부품 등에 사용되는 도전 페이스트 필러, 티탄재의 접합재, 또한 촉매 등의 각종 용도에 적절한 니켈, 구리, 또는 은 등의 금속 분말의 제조 방법에 관한 것으로, 특히 금속 분말을 산화물로 균일하게 피복함으로써 열처리에 대해서 적합한 금속 분말의 제조 방법에 관한 것이다. One aspect of the present invention relates to a method for producing a metal powder such as nickel, copper, or silver suitable for various uses such as a conductive paste filler used for electronic parts, a bonding material for titanium materials, and a catalyst, and in particular, an oxide of the metal powder It relates to a method for producing a metal powder suitable for heat treatment by uniformly coating with a

Ni, Cu, Ag 등의 도전성 금속 분말은 적층 세라믹 콘덴서의 내부 전극 형성용으로서 유용하다. 특히 니켈 분말은 그러한 용도로서 최근 주목받고 있다. 그 중에서 건식 제조 방법에 따라 제조한 니켈 초미분이 상기 용도로서 유망시되고 있다. 이러한 니켈 초미분에서는 콘덴서의 소형화 및 대용량화에 수반하여, 내부 전극의 박층화 및 저저항화 등의 요구로부터, 입경 1μm 이하는 물론, 입경 0.5μm 이하, 또한 입경 0.3μm 이하의 초미분이 요구되고 있다. Conductive metal powders, such as Ni, Cu, Ag, are useful for forming an internal electrode of a multilayer ceramic capacitor. In particular, nickel powder has recently attracted attention as such a use. Among them, the ultrafine nickel powder prepared according to the dry manufacturing method is promising for the above use. In such an ultrafine nickel powder, in accordance with the miniaturization and increase in capacity of the capacitor, the ultrafine powder having a particle diameter of 0.5 μm or less and 0.3 μm or less is required, as well as a particle diameter of 1 μm or less, due to the requirements such as thinning and low resistance of the internal electrode. .

적층 세라믹 콘덴서의 제조 공정에서는 유전체층을 결정화시키기 위하여 열처리를 행하는 공정이 있지만, 유전체층의 소결 온도가 니켈 분말의 소결 온도보다 높기 때문에 가열 처리는 니켈 분말에 대해서는 과도한 온도가 된다. 또한, 상술한 니켈 분말의 초미분화에 의해 니켈 분말의 소결 온도는 저하되는 경향이 있다. 열처리에 의해 니켈 분말이 소결되어 열수축이 일어나고, 그에 따라 내부 전극의 디라미네이션이나 크랙이 발생함으로써 적층 세라믹 콘덴서의 성능이 저하되는 것이 문제가 되고 있다. In the manufacturing process of a multilayer ceramic capacitor, although there is a process of performing heat treatment to crystallize the dielectric layer, since the sintering temperature of the dielectric layer is higher than the sintering temperature of the nickel powder, the heat treatment becomes an excessive temperature for the nickel powder. In addition, the sintering temperature of the nickel powder tends to decrease due to the ultrafine pulverization of the nickel powder described above. Nickel powder is sintered by heat treatment to cause thermal shrinkage, which causes delamination or cracks in the internal electrodes, thereby deteriorating the performance of the multilayer ceramic capacitor.

이와 같은 문제에 대해서는 금속 분말을 산화물 등에 의해 피복함으로써 금속 분말의 소결을 억제하는 방법을 고려할 수 있다. 일본 특허 공개 제2000-282102호 공보(특허문헌 1)에는 니켈 분말에 유전체를 혼합하는 방법이 기재되어 있다. For such a problem, a method of suppressing sintering of the metal powder by coating the metal powder with an oxide or the like can be considered. Japanese Patent Laid-Open No. 2000-282102 (Patent Document 1) describes a method of mixing a dielectric material with nickel powder.

또한, 일본 특허 공개 제1999-124602호 공보(특허문헌 2)에는, 금속염의 가수 분해에 의해 산화물이나 수산화물을 생기게 하여 액중에서 발생한 산화물을 금속 분말로 흡착시키는 것이 개시되어 있다. Further, Japanese Patent Laid-Open No. 1999-124602 (Patent Document 2) discloses that an oxide or a hydroxide is produced by hydrolysis of a metal salt, and the oxide generated in the liquid is adsorbed to the metal powder.

일본 공개 특허 공보 제2000-282102호(2000년 10월 10일 공개)Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2000-282102 (published on October 10, 2000) 일본 공개 특허 공보 제1999-124602호(1999년 5월 11일 공개)Japanese Laid-Open Patent Publication No. 1999-124602 (published on May 11, 1999)

그러나, 특허문헌 1에 기재된 방법은 유전체에 의해 금속 분말의 소결을 억제하는 방법이지만, 금속 분말의 미립화에 수반하여 금속 분말과 유전체의 혼합이 곤란하여 금속 분말과 유전체가 분리되는 문제가 있다. However, although the method described in Patent Document 1 is a method of suppressing sintering of metal powder by a dielectric, mixing of the metal powder and dielectric is difficult with atomization of the metal powder, and there is a problem in that the metal powder and the dielectric are separated.

또한, 특허문헌 2에 기재된 방법에서는 금속염의 가수 분해 속도가 빠르고 생성된 산화물이 응집체를 형성하기 때문에 금속 분말을 균일하게 피복할 수 없다는 문제가 있다. Moreover, in the method of patent document 2, since the hydrolysis rate of a metal salt is fast and the produced|generated oxide forms an aggregate, there exists a problem that a metal powder cannot be coat|covered uniformly.

따라서, 본 발명의 일 양태의 목적은, 금속 입자에 산화물을 균일하게 피복 할 수 있고, 산화물의 응집체가 형성되는 것을 방지할 수 있는 산화물 피복 금속 분말의 제조 방법을 제공하는 것이다. Accordingly, it is an object of one aspect of the present invention to provide a method for producing an oxide-coated metal powder capable of uniformly coating metal particles with an oxide and preventing the formation of agglomerates of the oxide.

본 발명자 들은 산화물에 의한 금속 입자의 피복에 대한 예의 검토 결과, 착화제에 의해 금속 알콕시드를 안정화하고, 산 또는 알칼리를 포함하는 물과 혼합함으로써 산화물의 표면 피복률을 높일 수 있고 산화물의 응집체가 발생하는 것을 방지할 수 있음을 발견하여, 본 발명의 일 양태를 완성하기에 이르렀다. As a result of intensive studies on the coating of metal particles with oxides, the present inventors have found that the surface coverage of oxides can be increased by stabilizing the metal alkoxide with a complexing agent and mixing with water containing an acid or alkali, and the oxide aggregates It has been found that it is possible to prevent this from occurring, resulting in completing one aspect of the present invention.

즉, 본 발명의 일 양태는 표면의 적어도 일부가 산화물로 피복된 금속 분말을 제조하는 제조 방법으로서,That is, an aspect of the present invention is a manufacturing method for producing a metal powder in which at least a portion of the surface is coated with an oxide,

금속 분말 및 식 1에 나타내어지는 배위자를 가지는 금속 착체를 포함하는 분산액과, 산 또는 알칼리를 포함하는 물을 혼합함으로써, 상기 금속 착체로부터 생성되는 산화물에 의해 상기 금속 분말의 표면의 적어도 일부를 피복하는 것을 특징으로 한다.At least a part of the surface of the metal powder is coated with an oxide generated from the metal complex by mixing a dispersion containing a metal powder and a metal complex having a ligand represented by Formula 1, and water containing an acid or alkali characterized in that

[화학식 1] [Formula 1]

Figure 112019111254794-pct00001
...(식 1)
Figure 112019111254794-pct00001
...(Equation 1)

(식 중, R1 및 R2는 각각 수소 원자 또는 탄소수 1~5의 탄화수소기를 나타내며, 서로 동일할 수 있고 다를 수도 있으며, 또한 R1과 R2는 서로 결합하여 고리를 형성할 수도 있다.) (Wherein, R 1 and R 2 each represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, and may be the same as or different from each other, and R 1 and R 2 may be bonded to each other to form a ring.)

본 발명의 일 양태에 의하면, 종래의 산화물 피복 금속 분말보다 균일한 피복이 가능한 점에서 내열성을 종래보다 높일 수 있음과 함께, 산화물의 응집체가 형성되는 것을 방지할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to one aspect|mode of this invention, heat resistance can be improved compared with the prior art at the point which can coat|cover more uniformly than the conventional oxide-coated metal powder, and it can prevent the formation of an aggregate of oxides.

도 1은 실시예 1에서 얻어진 SiO2 피복 니켈 분말의 STEM 사진 및 EDS 매핑상이다.
도 2는 실시예 2에서 얻어진 TiO2 피복 니켈 분말의 STEM 사진 및 EDS 매핑상이다.
도 3은 실시예 3에서 얻어진 ZrO2 피복 니켈 분말의 STEM 사진 및 EDS 매핑상이다.
도 4는 실시예 4에서 얻어진 Al2O3 피복 니켈 분말의 STEM 사진 및 EDS 매핑상이다.
도 5는 실시예 5에서 얻어진 La2O3 피복 니켈 분말의 STEM 사진 및 EDS 매핑상이다.
도 6은 비교예에서 얻어진 TiO2 피복 니켈 분말의 STEM 사진 및 EDS 매핑상이다.
1 is a STEM photograph and EDS mapping image of the SiO 2 coated nickel powder obtained in Example 1.
2 is a STEM photograph and EDS mapping image of the TiO 2 coated nickel powder obtained in Example 2.
3 is a STEM photograph and EDS mapping image of the ZrO 2 coated nickel powder obtained in Example 3.
4 is a STEM photograph and EDS mapping image of the Al 2 O 3 coated nickel powder obtained in Example 4.
5 is a STEM photograph and EDS mapping image of the La 2 O 3 coated nickel powder obtained in Example 5.
6 is a STEM photograph and EDS mapping image of the TiO 2 coated nickel powder obtained in Comparative Example.

<금속 분말의 제조 방법> <Method for producing metal powder>

본 실시 형태에 따른 금속 분말의 제조 방법에서는, 금속 분말의 분산액과 산 또는 알칼리를 포함하는 물을 혼합한다. 여기서, 금속 분말의 분산액은 금속 알콕시드 및 착화제를 포함하고 있다. 이에 따라, 금속 알콕시드, 및 이 금속 알콕시드와 착화제로부터 생성되는 금속 착체를 가수 분해함으로써 얻어진 산화물로 금속 입자의 표면의 적어도 일부를 피복한다. In the manufacturing method of the metal powder which concerns on this embodiment, the dispersion liquid of a metal powder and the water containing an acid or an alkali are mixed. Here, the dispersion of the metal powder contains a metal alkoxide and a complexing agent. Thereby, at least a part of the surface of a metal particle is coat|covered with the oxide obtained by hydrolyzing a metal alkoxide and the metal complex produced|generated from this metal alkoxide and a complexing agent.

(금속 분말) (metal powder)

금속 분말이란, 금속 입자의 집합체이며, 이 금속 입자를 구성하는 금속으로서는, 니켈, 구리, 은, 알루미늄, 티탄, 철, 코발트, 텅스텐 및 몰리브덴 등, 그리고 이들 금속의 합금을 들 수 있다. 이들 중에서도, 금속 입자를 구성하는 금속은, 니켈, 구리 및 은인 것이 보다 바람직하다. 이들 금속 분말은, 페이스트 필러, 티탄재의 복합재 또는 촉매 등의 각종 용도에 적합하게 사용되고, 예를 들면, 니켈, 구리 및 은 등은 페이스트 필러에 바람직하게 사용된다. 금속 입자의 평균 입경은 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 1μm 이하, 보다 바람직하게는 0.5μm 이하, 더욱 바람직하게는 0.3μm 이하, 더욱 바람직하게는 0.2μm 이하, 더욱 바람직하게는 0.1μm 이하이다. 이러한 평균 입경을 가지고 있는 금속 분말은, 예를 들면 기상 환원법 또는 액상 환원법에 따라 적합하게 제조할 수 있다. 이와 같이 평균 입경이 1μm 이하이면, 기상 환원법 또는 액상 환원법에 의해 제조된 금속 입자의 표면에 산화물을 균일하게 피복할 수 있는 것 또한 일 양태에 따른 제조 방법의 이점 중 하나이다. The metal powder is an aggregate of metal particles, and examples of the metal constituting the metal particles include nickel, copper, silver, aluminum, titanium, iron, cobalt, tungsten and molybdenum, and alloys of these metals. Among these, as for the metal which comprises metal particle|grains, it is more preferable that they are nickel, copper, and silver. These metal powders are suitably used for various uses, such as a paste filler, the composite material of a titanium material, or a catalyst, For example, nickel, copper, silver, etc. are used suitably for a paste filler. The average particle diameter of the metal particles is not particularly limited, but is preferably 1 µm or less, more preferably 0.5 µm or less, still more preferably 0.3 µm or less, still more preferably 0.2 µm or less, still more preferably 0.1 µm or less. The metal powder having such an average particle diameter can be suitably produced by, for example, a gas phase reduction method or a liquid phase reduction method. As such, when the average particle diameter is 1 μm or less, it is also possible to uniformly coat the oxide on the surface of the metal particles produced by the gas phase reduction method or the liquid phase reduction method, one of the advantages of the production method according to the embodiment.

또한, 본 양태에 따른 제조 방법에 의하면, 이러한 미소한 평균 입경을 가지는 금속 분말이라도 균일한 피막이 가능하고, 종래보다 금속 분말의 5% 수축 온도 및 소결 온도가 높은, 즉 내열성이 높은 금속 분말을 얻을 수 있다. 따라서, 상기 금속 분말을 적층 콘덴서의 내부 전극으로서 이용했을 때, 상기 적층 콘덴서를 소성하였을 때, 크랙 및 디라미네이션이 발생하는 것을 방지할 수 있다. 이러한 금속 분말은 균일한 피막이 가능하므로, 금속 분말이 연결되어 피막화됨에 따라 조대한 금속 분말이 발생함으로써 내부 전극이 합선되는 것을 막을 수 있다. 한편, 본 명세서에서는 산화물에서 입자의 표면이 피복된 금속 분말인 「산화물 피복 금속 분말」을, 편의상 간단히 「금속 분말」이라고 칭할 수 있다. In addition, according to the manufacturing method according to this aspect, a uniform coating is possible even with a metal powder having such a minute average particle diameter, and a metal powder having a 5% shrinkage temperature and a sintering temperature of the metal powder higher than before, that is, a metal powder having high heat resistance. can Accordingly, when the metal powder is used as an internal electrode of the multilayer capacitor, cracks and delamination can be prevented from occurring when the multilayer capacitor is fired. Since the metal powder can be coated uniformly, it is possible to prevent the internal electrode from short-circuiting due to the generation of coarse metal powder as the metal powder is connected and formed into a film. In addition, in this specification, "oxide-coated metal powder" which is a metal powder in which the surface of particle|grains was coat|covered with oxide can be simply called "metal powder" for convenience.

산화물로 피복되기 전의 금속 분말을 분산시키는 분산액에는 유기 용매가 포함되어 있을 수 있다. 유기 용매로서는, 금속 알콕시드 및 착화제를 용해시킬 수가 있는 것이면 무방하고, 예를 들면, 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 2-프로판올, 부탄올, 에틸렌글리콜 및 프로필렌글리콜 등의 알코올류; 디옥산, 테트라히드로푸란, 2-메톡시에탄올 및 디에틸렌글리콜 등의 에테르류; 및 톨루엔 및 크실렌 등의 방향족 등의 용매를 사용할 수 있다. 그 외, 유기 용매로는, 아세톤, 메틸에틸케톤 및 시클로헥산 등의 케톤류; 및 아세트산 에틸, 아세트산 이소프로필 및 아세트산 부틸 등의 에스테르류일 수 있다. 그 중에서도, 취급하기 용이한 점에서 유기 용매는 알코올류인 것이 보다 바람직하다. The dispersion for dispersing the metal powder before being coated with the oxide may contain an organic solvent. The organic solvent may be any solvent capable of dissolving the metal alkoxide and the complexing agent, and examples thereof include alcohols such as methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, butanol, ethylene glycol and propylene glycol; ethers such as dioxane, tetrahydrofuran, 2-methoxyethanol and diethylene glycol; and aromatic solvents such as toluene and xylene. In addition, as an organic solvent, Ketones, such as acetone, methyl ethyl ketone, and cyclohexane; and esters such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate. Especially, since it is easy to handle, it is more preferable that an organic solvent is alcohol.

(금속 알콕시드) (metal alkoxide)

분산액에는 금속 알콕시드가 포함되어 있다. 금속 알콕시드는 착화제에 의해 가수 분해되는 것을 억제하면서도 산화물을 생성하고, 이 산화물은 금속 입자의 표면을 피복한다. The dispersion contains a metal alkoxide. The metal alkoxide produces an oxide while inhibiting hydrolysis by the complexing agent, and this oxide coats the surface of the metal particle.

금속 알콕시드로서는, 예를 들면 이하에 나타내는 식 2의 금속 알콕시드를 바람직하게 사용할 수 있다. As a metal alkoxide, the metal alkoxide of Formula 2 shown below can be used preferably, for example.

M(OR3)P …(식 2) M(OR 3 ) P … (Equation 2)

(여기서, M은 Si, Ti, Zr, Al, La, Cr 및 Ba로 이루어지는 군에서 선택되는 하나의 금속이며, R3은 탄소수 1~4의 직쇄상 알킬기 및 탄소수 3~4의 분기 알킬기이며, p는 M의 종류에 따라 정해지며 2~4의 정수이다.) (Here, M is one metal selected from the group consisting of Si, Ti, Zr, Al, La, Cr and Ba, and R 3 is a linear alkyl group having 1 to 4 carbon atoms and a branched alkyl group having 3 to 4 carbon atoms, p is determined according to the type of M and is an integer from 2 to 4.)

상기 식 2에 나타내는 알콕시기에서, R3으로 나타내어져 있는 직쇄상 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, n-부틸기를 들 수 있다. 또한, 상기 식 2에 나타내는 알콕시기에서, 탄소수 3~4의 분기 알킬기로서는, 이소프로필기, 이소부틸기, t-부틸기를 들 수 있다. 금속 알콕시드는 1종류를 이용할 수 있으며, 2종류 이상의 것을 동시에 이용할 수도 있다. In the alkoxy group shown in Formula 2, examples of the linear alkyl group represented by R 3 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, and an n-butyl group. Moreover, in the alkoxy group shown in said Formula 2, an isopropyl group, an isobutyl group, and t-butyl group are mentioned as a C3-C4 branched alkyl group. One type of metal alkoxide can be used and two or more types of things can also be used simultaneously.

또한, 착화제와 함께 금속 착체를 형성하는 금속 알콕시드는, 가수 분해되어 산화물을 발생시키는 것이면 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 상기 금속 알콕시드의 일부는 올리고머로서 분산액에 포함되어 있을 수 있다. 또한, 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면, 적층 세라믹 콘덴서의 내부 전극으로서 금속 분말을 이용하는 경우, 콘덴서 내에 탄소 원자가 다량으로 잔존하는 것을 피하기 위해, 금속 알콕시드는 금속부에 결합하는 알킬기 및 알릴기 등의 유기기를 가지지 않는 것이 바람직하다. 금속 알콕시드는 1종류를 이용할 수 있으며, 2종류 이상의 것을 동시에 이용할 수도 있다. 이하, 금속 알콕시드에 포함되는 금속 원소(금속부(M))를 코팅 원소라고도 칭할 수 있다. 코팅 원소는 금속 분말과 동일한 종류의 금속일 수 있으며, 다른 종류의 금속일 수도 있다. In addition, the metal alkoxide forming the metal complex together with the complexing agent is not particularly limited as long as it is hydrolyzed to generate an oxide. For example, a part of the metal alkoxide may be included as an oligomer in the dispersion. Further, although not limited thereto, for example, in the case of using a metal powder as an internal electrode of a multilayer ceramic capacitor, in order to avoid a large amount of carbon atoms remaining in the capacitor, the metal alkoxide may contain an alkyl group and an allyl group bonded to the metal part. It is preferable not to have an organic group. One type of metal alkoxide can be used and two or more types of things can also be used simultaneously. Hereinafter, the metal element (metal part (M)) contained in the metal alkoxide may also be called a coating element. The coating element may be the same type of metal as the metal powder, or may be a different type of metal.

분산액에 배합되는 금속 알콕시드의 양은 유기 용매에 분산되어 있는 금속 분말의 양 및 이 금속 분말의 입도에 의해 적절하게 조정하면 되며, 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면, 분산액에 포함되는 금속 분말을 100중량%로 하여, 이 금속 분말에 대해서 0.5중량% 이상, 5중량% 이하의 양인 것이 바람직하다. 이에 따라, 산화물에 의한 금속 입자의 표면 피복률이 80% 이상, 100% 이하인 금속 분말을 적합하게 제조할 수 있다. The amount of the metal alkoxide to be blended in the dispersion may be appropriately adjusted depending on the amount of the metal powder dispersed in the organic solvent and the particle size of the metal powder. As weight%, it is preferable that it is an amount of 0.5 weight% or more and 5 weight% or less with respect to this metal powder. Accordingly, a metal powder having a surface coverage of 80% or more and 100% or less of the metal particles by the oxide can be suitably produced.

(착화제) (complexing agent)

착화제는 금속 알콕시드의 금속부와 금속 착체를 형성함으로써, 금속 알콕시드의 가수 분해 속도를 늦게 한다. 이에 따라, 금속 알콕시드 및 상기 금속 알콕시드로부터 생성되는 금속 착체에 의해 생성되는 산화물의 입자를 미세하게 만들 수 있다. 따라서, 산화물을 균일하게 금속 입자의 표면에 부착할 수 있다. A complexing agent slows the hydrolysis rate of a metal alkoxide by forming a metal complex with the metal part of a metal alkoxide. Accordingly, it is possible to make fine particles of the oxide generated by the metal alkoxide and the metal complex generated from the metal alkoxide. Therefore, the oxide can be uniformly attached to the surface of the metal particles.

착화제로서는, 금속 알콕시드의 금속부에 배위 가능한 것이면 무방하며, 전형적으로는 하기 식 1로 나타내어지는 β-디케톤을 사용할 수 있다. As the complexing agent, any one capable of coordinating to the metal moiety of the metal alkoxide may be used, and typically β-diketone represented by the following formula (1) can be used.

Figure 112019111254794-pct00002
Figure 112019111254794-pct00002

(식 중, R1 및 R2는 각각 수소 원자 또는 탄소수 1~5의 탄화수소기를 나타내며, 서로 동일할 수 있고 다를 수도 있으며, 또한 R1과 R2는 서로 결합하여 고리를 형성할 수도 있다.) (Wherein, R 1 and R 2 each represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, and may be the same as or different from each other, and R 1 and R 2 may be bonded to each other to form a ring.)

상기 식 1의 R1 및 R2로서 바람직한 기는, 예를 들면, 수소 원자, 탄소수 1~5의 직쇄상의 알킬기 및 탄소수 3~5의 분기 알킬기 등이다. R1 및 R2가 상기에 열거한 기이면, 금속 알콕시드의 가수 분해 속도를 바람직하게 늦출 수 있다. Preferred groups as R 1 and R 2 in Formula 1 are, for example, a hydrogen atom, a linear alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and a branched alkyl group having 3 to 5 carbon atoms. When R 1 and R 2 are the groups listed above, the rate of hydrolysis of the metal alkoxide can be preferably slowed down.

상기 R1 및 R2의 탄소수 1~5의 직쇄상 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, n-부틸기 및 n-펜틸기를 들 수 있다. Examples of the linear alkyl group having 1 to 5 carbon atoms for R 1 and R 2 include a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, n-butyl group and n-pentyl group.

또한, 상기 R1 및 R2의 탄소수 3~5의 분기 알킬기로서는, 이소프로필기, 이소부틸기, t-부틸기, 이소펜틸기 및 네오펜틸기 등을 들 수 있다. Examples of the branched alkyl group having 3 to 5 carbon atoms for R 1 and R 2 include isopropyl group, isobutyl group, t-butyl group, isopentyl group and neopentyl group.

상술한 착화제 중에서도, 가수 분해를 위해 첨가하는 물에 대한 용해성의 관점에서, R1 및 R2가 직쇄상 알킬기인 경우는 탄소수가 1~3, 분기 알킬기의 경우는 탄소수 3인 것이 바람직하고, 더 바람직하게는, 착화제는 아세틸아세톤이다. Among the above-mentioned complexing agents, from the viewpoint of solubility in water added for hydrolysis, when R 1 and R 2 are a linear alkyl group, it preferably has 1 to 3 carbon atoms, and in the case of a branched alkyl group, it preferably has 3 carbon atoms, More preferably, the complexing agent is acetylacetone.

금속 알콕시드와 착화제의 배합 비율을 변경함으로써 가수 분해 속도를 제어하는 것도 가능하다. 착화제의 첨가량은 한정되는 것은 아니지만, 첨가한 금속 알콕시드의 총 몰수에 대하여 1~3배 몰이 되도록 하는 것이 바람직하다. 착화제의 첨가량이 상기의 범위 내인 것에 의해, 금속 알콕시드의 가수 분해의 속도가 최적화된다. 따라서, 산화물의 성장이 급격하게 일어나지 않아, 산화물의 응집체가 형성되는 것이 억제된다. 이에 따라, 미세한 산화물이 형성되어 금속 입자를 피복함으로써, 금속 입자의 균일한 피복을 실현할 수 있다. It is also possible to control the hydrolysis rate by changing the mixing ratio of the metal alkoxide and the complexing agent. Although the addition amount of a complexing agent is not limited, It is preferable to make it 1 to 3 times mole with respect to the total number of moles of the added metal alkoxide. When the addition amount of a complexing agent exists in said range, the rate of hydrolysis of a metal alkoxide is optimized. Therefore, the growth of the oxide does not occur rapidly, and the formation of an agglomerate of the oxide is suppressed. Thereby, a fine oxide is formed and coat|covers a metal particle, and uniform coating|cover of a metal particle can be implement|achieved.

(금속 착체) (metal complex)

금속 착체는 가수 분해함에 따라 산화물을 형성하는 금속 착체로서, 보다 구체적으로, 금속 착체는, 예를 들면, 이하의 식 3 또는 식 4에 나타내는 구조를 취할 수 있다. A metal complex is a metal complex which forms an oxide upon hydrolysis, More specifically, the metal complex can take the structure shown, for example by Formula 3 or Formula 4 below.

M1(OR3)qXr …(식 3) M 1 (OR 3 ) q X r … (Equation 3)

(여기서, M1은, Si, Ti, Zr로 이루어지는 군에서 선택되는 하나의 금속이며, X는, 상기 식 1에 나타내는 배위자이며, q가 0일 때 r은 4이며, q가 2일 때 r은 2이다.) (Here, M 1 is one metal selected from the group consisting of Si, Ti, and Zr, X is a ligand shown in Formula 1 above, r is 4 when q is 0, and r when q is 2 is 2.)

M2XS …(식 4) M 2 X S … (Equation 4)

(여기서, M2는, Al, La, Cr 및 Ba로 이루어지는 군에서 선택되는 하나의 금속이며, X는 상기 식 1에 나타내는 배위자이며, s는 M2의 종류에 따라 정해지고, 2 또는 3이다.) (Here, M2 is one metal selected from the group consisting of Al, La, Cr, and Ba, X is a ligand shown in Formula 1 above, s is determined depending on the type of M2, and is 2 or 3. )

또한, 상기 식 3 또는 식 4에 나타낸 바와 같은 금속 착체는, 일례로서 금속 알콕시드의 금속부에 착화제가 배위함에 따라 접합하게 생성된다. 또한, 일 양태에 따른 제조 방법에서는, 상기 식 3 또는 식 4에 나타낸 바와 같은 금속 착체이면, 금속 알콕시드로부터 금속 착체를 생성하는 것 대신, 미리 다른 방법에 의해 제조된 상기 식 3 또는 식 4의 금속 착체를 분산액에 배합할 수도 있다. In addition, the metal complex as shown in Formula 3 or Formula 4 is formed to be bonded as a result of coordination of the complexing agent to the metal moiety of the metal alkoxide, for example. In addition, in the manufacturing method according to an aspect, if it is a metal complex as shown in Formula 3 or Formula 4 above, instead of generating a metal complex from a metal alkoxide, the above Formula 3 or Formula 4 prepared by another method in advance A metal complex can also be mix|blended with a dispersion liquid.

(산 또는 알칼리를 포함하는 물) (water containing acid or alkali)

금속 분말 및 금속 착체의 혼합 용액에 대해, 산 또는 알칼리를 포함하는 물을 혼합함으로써, 금속 화합물을 가수 분해하고 산화물을 생성시킨다. 물은 산 또는 알칼리에 의해 금속 분말의 표면 전하가, 금속 화합물의 가수 분해에 의해 생긴 산화물의 표면 전하와 반대가 되도록 pH가 조정된다. 이와 같이 pH를 조정한 물을, 이하 pH 조정수라고도 칭한다. 금속 분말 및 금속 착체의 분산액에 첨가하면, 산화물은 금속 분말과 표면 전하가 반대로 될 수 있고, 이에 따라, 산화물을 정전기적 인력에 의해 금속 분말에 균일하게 피복할 수 있다. By mixing water containing an acid or an alkali with the mixed solution of the metal powder and the metal complex, the metal compound is hydrolyzed to form an oxide. In water, the pH is adjusted so that the surface charge of the metal powder is opposite to the surface charge of the oxide generated by hydrolysis of the metal compound by acid or alkali. The water which adjusted pH in this way is also called pH-adjusted water hereafter. When added to a dispersion of a metal powder and a metal complex, the oxide can have a surface charge opposite to that of the metal powder, so that the oxide can be uniformly coated on the metal powder by electrostatic attraction.

분산액과 혼합하는 pH 조정수의 양으로는 금속 알콕시드 및 금속 착체를 완전히 가수 분해할 수 있는 양 이상이면 무방하다. 또한, 분산액과 pH 조정수의 혼합시 온도는 분산액과 pH 조정수의 혼합액의 응고점 이상이면 무방하며, 바람직하게는 0~25℃이다. The amount of the pH-adjusting water to be mixed with the dispersion may be greater than or equal to the amount capable of completely hydrolyzing the metal alkoxide and the metal complex. In addition, the temperature at the time of mixing the dispersion and the pH-adjusting water may be equal to or higher than the freezing point of the mixed solution of the dispersion and the pH-adjusting water, and is preferably 0 to 25°C.

금속 분말, 금속 알콕시드, 착화제로 이루어지는 분산액에 pH 조정수를 혼합하는 순서는, 분산액에 pH 조정수를 첨가하는 방법과 pH 조정수에 분산액을 첨가하하는 방법 둘 다 가능하지만, 분산액에 pH 조정수를 첨가하는 방법이 산화물에 의해 금속 입자를 보다 균일하게 피복할 수 있기 때문에 더욱 바람직하다. The order of mixing the pH-adjusting water to the dispersion consisting of the metal powder, the metal alkoxide, and the complexing agent is both a method of adding the pH-adjusting water to the dispersion and a method of adding the dispersion to the pH-adjusting water, but adding the pH-adjusting water to the dispersion The method is more preferable because it can coat the metal particles more uniformly with the oxide.

pH 조정수에서 pH를 제어하기 위하여 첨가되는 산 또는 알칼리는, pH를 조정할 수 있으면 어떠한 산 및 알칼리나 사용 가능하지만, 사용상의 간편함 및 경제성의 관점으로부터, 산을 사용하는 경우 염산 및 황산 등이 바람직하고, 알칼리를 사용하는 경우는 암모니아수 및 수산화 나트륨 등이 바람직하다. As the acid or alkali added to control the pH in the pH-adjusted water, any acid or alkali can be used as long as the pH can be adjusted. , When using an alkali, aqueous ammonia, sodium hydroxide, etc. are preferable.

얻어진 금속 분말은, 여과, 세정, 건조를 거쳐 제품으로 만들어 진다. 여과, 세정, 건조하는 방법으로서는 공지의 방법을 이용할 수 있으며, 예를 들면, 여과는 감압 여과나 가압 여과 등에 의해 행할 수 있고, 건조는 상자형 건조기나 기류 건조기 등을 이용할 수 있다. The obtained metal powder is made into a product through filtration, washing, and drying. As a method of filtration, washing|cleaning, and drying, a well-known method can be used, For example, filtration can be performed by reduced pressure filtration, pressure filtration, etc., and drying can use a box-type dryer, an airflow dryer, etc.

이하, 본 발명의 바람직한 실시 형태에 대해 상세히 설명한다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail.

<산화물 피복 니켈 분말의 제조예> <Production example of oxide-coated nickel powder>

이하, 산화물 피복 니켈 분말의 제조예를 기초로 상세하게 설명한다. 한편, 본 실시 형태에 따른 금속 분말의 제조 방법에 따라 피복될 수 있는 금속 분말은 니켈에 한정되지 않는다. Hereinafter, it demonstrates in detail based on the manufacturing example of oxide-coated nickel powder. Meanwhile, the metal powder that can be coated according to the method for manufacturing the metal powder according to the present embodiment is not limited to nickel.

우선, 니켈 분말을 유기 용제에 분산시켜 니켈 분말을 슬러리로 만든다. 니켈 분말은 액상 환원법이나 기상 환원법 등의 방법에서 얻어진 것을 사용할 수 있지만, 입도 분포의 균일성 등의 관점으로부터, 기상 환원법으로 얻어진 니켈 분말이 바람직하다. 한편, 니켈 분말은, 평균 입경이 0.03μm~1.0μm, 입도 분포의 CV값이 50% 이하일 수 있다. 한편, 니켈 분말의 평균 입경은 주사 전자 현미경에 의해 피복 전의 니켈 분말의 입자의 사진을 촬영하고, 그 사진으로부터 화상 해석 소프트웨어를 사용하여 니켈 분말 500개 이상의 입경을 측정하고, 얻어진 니켈 분말의 입도 분포로부터 그 개수 평균 입경을 산출한 것이다. 이때, 입경은 입자를 감싸는 최소 원의 직경이다. 또한, 입도 분포의 CV값은 입도 분포의 표준 편차/개수 평균 입경을 가리킨다. First, the nickel powder is dispersed in an organic solvent to make the nickel powder into a slurry. Although nickel powder obtained by methods, such as a liquid phase reduction method and a gas phase reduction method, can be used as nickel powder, From viewpoints, such as uniformity of particle size distribution, the nickel powder obtained by the gas phase reduction method is preferable. Meanwhile, the nickel powder may have an average particle diameter of 0.03 μm to 1.0 μm, and a CV value of a particle size distribution of 50% or less. On the other hand, the average particle diameter of the nickel powder is obtained by taking a photograph of the particles of the nickel powder before coating with a scanning electron microscope, and measuring the particle size of 500 or more nickel powders from the photograph using image analysis software, and the particle size distribution of the obtained nickel powder The number average particle diameter was calculated from . In this case, the particle diameter is the diameter of the minimum circle surrounding the particle. In addition, the CV value of a particle size distribution points out the standard deviation/number average particle diameter of a particle size distribution.

다음으로, 금속 알콕시드와 착화제를 용해한 용액을 금속 분말의 슬러리에 첨가한다. 이때 사용되는 금속 알콕시드는 상기에 나타낸 금속 알콕시드를 사용할 수 있다. 착화제로서는 금속 알콕시드의 금속부와 배위 가능한 것이면 무방하며, 예를 들면 상기 식 1에 나타내는 β-디케톤을 사용할 수 있다. 한편, pH 조정수와 혼합하기 전 단계에서, 예를 들면 분산액을 교반하여 금속 니켈 분말을 충분히 분산시켜 두는 것이 바람직하다. Next, a solution in which the metal alkoxide and the complexing agent are dissolved is added to the slurry of the metal powder. The metal alkoxide used in this case may be the metal alkoxide shown above. As the complexing agent, any one capable of coordinating with the metal moiety of the metal alkoxide may be used. For example, β-diketone represented by the above formula (1) can be used. On the other hand, in the step before mixing with the pH-adjusted water, for example, it is preferable to sufficiently disperse the metallic nickel powder by stirring the dispersion.

다음으로, 금속 분말, 금속 알콕시드, 착화제를 포함하는 분산액에, 금속 분말의 표면 전하와 금속 알콕시드로부터 생기는 산화물의 표면 전하가 반대가 되도록, 산 혹은 알칼리로 pH를 제어한 물을 한번에 첨가하고 교반하여, 금속 알콕시드를 가수 분해하고 산화물을 생성시킨다. Next, to the dispersion containing the metal powder, metal alkoxide, and complexing agent, water whose pH is controlled with acid or alkali is added at once so that the surface charge of the metal powder and the surface charge of the oxide generated from the metal alkoxide are opposite. and stirring to hydrolyze the metal alkoxide and form an oxide.

이때 첨가하는 물의 pH는, SiO2로 피복하는 경우는 pH 1.5~14, TiO2로 피복하는 경우는 pH 6~10, ZrO2로 피복하는 경우는 pH 9~10, Al2O3로 피복하는 경우는 pH 8~11, La2O3로 피복하는 경우는 pH 1.5~10이 바람직하다. pH가 각각의 경우에서 상기의 범위 내이면, 보다 균일하게 피복을 행할 수 있다. At this time, the pH of the water to be added is pH 1.5 to 14 when coated with SiO 2 , pH 6 to 10 when coated with TiO 2 , pH 9 to 10 when coated with ZrO 2 , Al 2 O 3 In the case of coating with pH 8-11, and La 2 O 3 , pH 1.5-10 is preferable. When the pH is within the above range in each case, the coating can be more uniformly performed.

생성된 산화물은 금속 분말과 표면 전하가 반대이기 때문에, 정전기적 인력에 의해 금속 입자의 표면에 흡착된다. 또한, 금속 알콕시드 및 금속 착체로부터 형성되는 산화물의 입자의 크기는 미소하며, 금속 입자의 표면에 균일하게 흡착된다. 물의 pH를 제어하기 위해서 첨가되는 산과 알칼리는, pH를 조정할 수 있으면 어떠한 산 및 알칼리나 사용할 수 있지만, 사용상의 간편함 및 경제성 등의 관점으로부터, 산은 염산 또는 황산 등, 알칼리는 암모니아수 또는 수산화나트륨 등이 바람직하다. The generated oxide is adsorbed to the surface of the metal particle by electrostatic attraction because the surface charge is opposite to that of the metal powder. In addition, the particle size of the oxide formed from the metal alkoxide and the metal complex is small, and is uniformly adsorbed on the surface of the metal particle. As the acid and alkali added to control the pH of water, any acid or alkali can be used as long as the pH can be adjusted. desirable.

얻어진 산화물 피복 금속 분말은, 여과, 세정, 건조를 거쳐 제품으로 만들어진다. The obtained oxide-coated metal powder is made into a product through filtration, washing, and drying.

본 발명은 상술한 각 실시 형태에 한정되지 않으며, 청구항에 나타낸 범위에서 여러 가지의 변경이 가능하고, 다른 실시 형태에 각각 개시된 기술적 수단을 적절히 조합하여 얻어지는 실시 형태 또한 본 발명의 기술적 범위에 포함된다. The present invention is not limited to each of the above-described embodiments, and various modifications are possible within the scope shown in the claims, and embodiments obtained by appropriately combining technical means disclosed in other embodiments are also included in the technical scope of the present invention. .

이하에 실시예를 나타내며, 본 발명의 실시의 형태에 대해 더욱 자세하게 설명한다. 물론, 본 발명은 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 세부에 대해서는 여러가지 양태가 가능함은 물론이다. Examples are shown below, and embodiments of the present invention will be described in more detail. Of course, the present invention is not limited to the following examples, and it goes without saying that various aspects are possible in detail.

실시예 Example

산화물 피복 금속 분말을 제조하였다. 이하, 상세히 설명한다. An oxide-coated metal powder was prepared. Hereinafter, it will be described in detail.

[평가 방법] [Assessment Methods]

본 발명의 일 양태에 의해 생성된 니켈 분말은 산화물 피막의 형상 및 두께, 화학 상태, 열수축률에 의해 품질을 평가하였다. 다음으로, 각각의 평가 방법에 대해 설명한다. The nickel powder produced by an aspect of the present invention was evaluated for quality by the shape and thickness of the oxide film, chemical state, and thermal shrinkage. Next, each evaluation method is demonstrated.

[평균 입경] [Average particle size]

금속 분말의 평균 입경은 주사형 전자 현미경(니혼덴시 주식회사제, 상품명 JSM-7800F)에 의해 금속 분말의 입자의 사진을 촬영하고, 그 사진으로부터 입자 약 1,000개의 입경을 화상 해석 소프트웨어(주식회사 마운테크제, 상품명 MacView 4.0)을 사용하여 구하고 그 평균값을 산출하였다. 한편, 입경은 입자를 감싸는 최소 원의 직경으로 하였다. The average particle diameter of the metal powder is obtained by taking a photograph of the particles of the metal powder with a scanning electron microscope (manufactured by Nippon Electronics Co., Ltd., trade name JSM-7800F), and from the photograph, the particle diameter of about 1,000 particles is calculated using image analysis software (Mountech Corporation). Article, trade name MacView 4.0) was used, and the average value was calculated. On the other hand, the particle diameter was set as the diameter of the minimum circle surrounding the particles.

[산화물 피막의 형상·피막 두께] [Shape of oxide film and film thickness]

얻어진 산화물 피복 니켈 분말을 카본 지지막에 뿌리고 주사형 투과 전자현미경(STEM)에 의해 니켈 분말의 사진을 100만~150만배 배율로 low power field 촬영을 행하였다. 또한, 주사형 투과 전자 현미경에 구비되어 있는 EDS(Energy Dispersive X-ray Spectrometry) 검출기에 의해 원소 매핑을 행하였다. The obtained oxide-coated nickel powder was sprinkled on a carbon supporting membrane, and a photo of the nickel powder was taken with a scanning transmission electron microscope (STEM) at a magnification of 1 million to 1.5 million times, and low power field imaging was performed. In addition, elemental mapping was performed by an EDS (Energy Dispersive X-ray Spectrometry) detector equipped with a scanning transmission electron microscope.

[화학 상태] [Chemical state]

얻어진 산화물 피막 니켈 분말을 인듐판(두께 0.5mm)에 고정하고, 광전자 분광 장치(써모피셔사이언티픽사제, k-alpha+)에 의해, 니켈 및 코팅 원소의 측정을 행하였다. The obtained oxide-film nickel powder was fixed to an indium plate (thickness 0.5 mm), and nickel and a coating element were measured with the photoelectron spectrometer (Thermo Fisher Scientific company make, k-alpha+).

[열수축률] [Heat Shrinkage Rate]

얻어진 산화물 피복 니켈 분말에 대하여 3wt%의 장뇌를 첨가한 후 아세톤에 의해 장뇌를 녹여, 아세톤이 증발할 때까지 휘저었다. 산화물 피복 니켈 분말과 장뇌의 혼합 분말을 φ5mm, 높이 2mm의 펠릿으로 가압 성형하였다. After adding camphor at 3 wt% to the obtained oxide-coated nickel powder, the camphor was dissolved with acetone and stirred until the acetone evaporated. The mixed powder of oxide-coated nickel powder and camphor was press-molded into pellets having a diameter of 5 mm and a height of 2 mm.

열수축률은 열기계적 분석 장치(TMA)로 측정하였다. 측정 조건은 온도 범위: 실온~1350℃, 승온 속도: 5℃/분, 분위기: 2% H2, 98% N2 300mL/분으로 하였다. 수축률이 5%가 되었을 때의 온도를 5% 수축 온도로 하였다. Thermal shrinkage was measured with a thermomechanical analysis apparatus (TMA). Measurement conditions were a temperature range: room temperature to 1350°C, a temperature increase rate: 5°C/min, and an atmosphere: 2% H 2 , 98% N 2 300 mL/min. The temperature when the shrinkage rate became 5% was set as the 5% shrinkage temperature.

[표면 피복률] [Surface Coverage]

STEM-EDS 매핑상에서, 금속 입자 둘레 위에서 원소가 검출되지 않은 영역의 호의 길이를 측정하여, 이하의 식으로 표면 피복률을 계산하였다. On the STEM-EDS mapping, the length of the arc of the region in which no element was detected on the periphery of the metal particle was measured, and the surface coverage was calculated by the following equation.

표면 피복률[%]=(L0-L1)/L0×100Surface coverage [%] = (L 0 -L 1 )/L 0 ×100

L0: 금속 입자의 둘레 길이 L 0 : perimeter of the metal particle

L1: 금속 입자의 둘레 위에서 원소가 검출되지 않은 영역의 호의 길이 L 1 : The arc length of the region where no element is detected on the perimeter of the metal particle.

[실시예 1] [Example 1]

우선, 금속 니켈 분말(평균 입경 100nm)을 일본 특허 공개 평10-219313호 공보에 기재된 방법에 준하여 제조하였다. 이 금속 니켈 분말에 에탄올을 첨가하여 10wt%의 슬러리로 만들었다. 한편, 이 슬러리와는 별도로, 상기 슬러리에 포함되는 금속 니켈 분말을 100중량%로 했을 때, 2중량%에 상당하는 양의 테트라에틸오르소실리케이트(이하, TEOS라고도 칭함.)를 에탄올에 녹였다. 또한, 착화제로서 아세틸아세톤을 Si 원소에 대하여 2배몰이 되도록 첨가하였다. 금속 니켈 분말 슬러리와 TEOS 및 아세틸아세톤의 에탄올 용액을 혼합하고 1시간 교반을 행하여, 니켈 분말을 포함하는 분산액 200mL를 조제하였다. 그 후, 암모니아수로 pH를 8~9로 조정한 물 100mL를 일시에 첨가하여 2시간 교반하였다. 그 후, 흡인 여과를 행하고 대기중에서 120℃로 1시간 건조를 행함으로써, 목적으로 하는 SiO2 피복 니켈 분말을 얻었다. 실시예 1에서 얻어진 니켈 분말의 STEM 사진 및 STEM-EDS 매핑상을 도 1에 나타낸다. 또한, 표면 피복률 및 5% 수축 온도를 표 1에 나타낸다. First, a metallic nickel powder (average particle diameter of 100 nm) was produced according to the method described in JP-A-10-219313. Ethanol was added to this metallic nickel powder to make a 10 wt% slurry. On the other hand, separately from this slurry, when the metallic nickel powder contained in the slurry was 100% by weight, tetraethylorthosilicate (hereinafter also referred to as TEOS) was dissolved in ethanol in an amount corresponding to 2% by weight. Further, as a complexing agent, acetylacetone was added so as to be twice the mole of the Si element. The metallic nickel powder slurry, TEOS, and the ethanol solution of acetylacetone were mixed, stirred for 1 hour, and 200 mL of dispersion liquids containing nickel powder were prepared. Then, 100 mL of water whose pH was adjusted to 8-9 with ammonia water was added at once, and it stirred for 2 hours. Then, the target SiO2 coating nickel powder was obtained by performing suction filtration and drying at 120 degreeC in air|atmosphere for 1 hour. The STEM photograph and STEM-EDS mapping image of the nickel powder obtained in Example 1 are shown in FIG. In addition, the surface coverage and 5% shrinkage temperature are shown in Table 1.

[실시예 2] [Example 2]

금속 알콕시드로서 티타늄테트라이소프로폭시드, 첨가량을 2wt%의 SiO2의 부피와 동일하게 한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 처리를 행하여, TiO2 피복 니켈 분말을 얻었다. 얻어진 니켈 분말의 STEM 사진 및 STEM-EDS 매핑상을 도 2에 나타낸다. 또한, 표면 피복률 및 5%수축 온도를 표 1에 나타낸다. Titanium tetraisopropoxide as a metal alkoxide, except having made the addition amount the same as the volume of 2 wt% SiO2, the same process as Example 1 was performed, and TiO2 - coated nickel powder was obtained. The STEM photograph and STEM-EDS mapping image of the obtained nickel powder are shown in FIG. In addition, the surface coverage and 5% shrinkage temperature are shown in Table 1.

[실시예 3] [Example 3]

금속 알콕시드로서 지르코늄테트라이소프로폭시드, 첨가량을 2wt%의 SiO2의 부피와 동일하게 한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 처리를 행하여, ZrO2 피복 니켈 분말을 얻었다. 얻어진 니켈 분말의 STEM 사진 및 STEM-EDS 매핑상을 도 3에 나타낸다. 또한, 표면 피복률 및 5% 수축 온도를 표 1에 나타낸다. The process similar to Example 1 was performed except having made zirconium tetraisopropoxide and the addition amount the same as the volume of 2 wt% SiO2 as a metal alkoxide, and ZrO2 - coated nickel powder was obtained. The STEM photograph and STEM-EDS mapping image of the obtained nickel powder are shown in FIG. In addition, the surface coverage and 5% shrinkage temperature are shown in Table 1.

[실시예 4] [Example 4]

금속 알콕시드로서 알루미늄트리-n-부톡시드, 첨가량을 2wt%의 SiO2의 부피와 동일하게 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 처리를 행하여, Al2O3 피복 니켈 분말을 얻었다. 얻어진 니켈 분말의 STEM 사진 및 STEM-EDS 매핑상을 도 4에 나타낸다. 또한, 표면 피복률 및 5% 수축 온도를 표 1에 나타낸다. Aluminum tri-n-butoxide as a metal alkoxide, except having made the addition amount equal to the volume of 2 wt% SiO2, it carried out similarly to Example 1 , and obtained Al2O3 coated nickel powder. The STEM photograph and STEM-EDS mapping image of the obtained nickel powder are shown in FIG. In addition, the surface coverage and 5% shrinkage temperature are shown in Table 1.

[실시예 5] [Example 5]

금속 알콕시드로서 란탄트리이소프로폭시드, 유기 용제로서 2-프로판올, 첨가량을 2wt%의 SiO2의 부피와 동일하게 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 처리를 행하여, La2O3 피복 니켈 분말을 얻었다. 얻어진 니켈 분말의 STEM 사진 및 STEM-EDS 매핑상을 도 5에 나타낸다. 또한, 표면 피복률 및 5%수축 온도를 표 1에 나타낸다. Lanthanum triisopropoxide as the metal alkoxide, 2-propanol as the organic solvent, and the addition amount being equal to the volume of 2 wt% SiO 2 by the same treatment as in Example 1, La 2 O 3 coated nickel powder got The STEM photograph and STEM-EDS mapping image of the obtained nickel powder are shown in FIG. In addition, the surface coverage and 5% shrinkage temperature are shown in Table 1.

[비교예] [Comparative example]

아세틸아세톤을 첨가하지 않은 것 이외에는 실시예 2와 동일한 처리를 행하여, TiO2 피막 니켈 분말을 얻었다. 얻어진 니켈 분말의 STEM 사진 및 STEM-EDS 매핑상을 도 6에 나타낸다. 또한, 표면 피복률 및 5%수축 온도를 표 1에 나타낸다. The same treatment as in Example 2 was performed except that acetylacetone was not added to obtain a TiO 2 coating nickel powder. The STEM photograph and STEM-EDS mapping image of the obtained nickel powder are shown in FIG. In addition, the surface coverage and 5% shrinkage temperature are shown in Table 1.

[참고예] [Reference example]

실시예 1과 마찬가지로 얻은 금속 니켈 분말을 코팅 원소로 피복하지 않고, 참고예로서 이용하였다. The metallic nickel powder obtained similarly to Example 1 was used as a reference example, without coat|covering with a coating element.

Figure 112019111254794-pct00003
Figure 112019111254794-pct00003

표 1에 의하면, 실시예 2에서는 비교예에 비해 표면 피복률이 좋은 결과를 나타내며, 착화제에 의해 피복률이 향상되어 있음을 알 수 있다. 또한, 각 실시예에서는 표면 피복률이 80% 이상이며, 도 1에서 알 수 있는 바와 같이, 비교예에 비해 균일하게 피복되어 있음을 알 수 있다. 참고예 및 비교예에 비해, 각 실시예에서는 5% 수축 온도가 고온화되어 있음을 알 수 있다. According to Table 1, it can be seen that in Example 2, the surface coverage was improved compared to the comparative example, and the coverage was improved by the complexing agent. In addition, in each Example, the surface coverage is 80% or more, and as can be seen from FIG. 1 , it can be seen that the coating is uniformly compared to the comparative example. Compared with the Reference Example and the Comparative Example, it can be seen that the 5% shrinkage temperature is increased in each Example.

본 발명은 적층 세라믹 콘덴서의 내부 전극으로서 이용할 수 있다. The present invention can be used as an internal electrode of a multilayer ceramic capacitor.

Claims (5)

표면의 적어도 일부가 산화물로 피복된 금속 분말을 제조하는 제조 방법으로서,
금속 분말 및 식 1에 나타내어지는 배위자를 가지는 금속 착체를 포함하는 분산액과, 산 또는 알칼리를 포함하는 물을 혼합함으로써, 상기 금속 착체로부터 생성되는 산화물에 의해 상기 금속 분말의 표면의 적어도 일부를 피복하는 것을 특징으로 하는 금속 분말의 제조 방법.
[화학식 1]
Figure 112019111254794-pct00004
...(식 1)
(식 중, R1 및 R2는 각각 수소 원자 또는 탄소수 1~5의 탄화수소기를 나타내며, 서로 동일할 수 있고 다를 수도 있으며, 또한 R1과 R2는 서로 결합하여 고리를 형성할 수도 있다.)
A method for producing a metal powder having at least a portion of its surface coated with an oxide, the method comprising:
At least a part of the surface of the metal powder is coated with an oxide generated from the metal complex by mixing a dispersion containing a metal powder and a metal complex having a ligand represented by Formula 1, and water containing an acid or alkali Method for producing a metal powder, characterized in that.
[Formula 1]
Figure 112019111254794-pct00004
...(Equation 1)
(Wherein, R 1 and R 2 each represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, and may be the same as or different from each other, and R 1 and R 2 may be bonded to each other to form a ring.)
제1항에 있어서,
상기 분산액이 금속 알콕시드를 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 분말의 제조 방법.
According to claim 1,
The method for producing a metal powder, characterized in that the dispersion contains a metal alkoxide.
제2항에 있어서,
상기 금속 착체를 상기 금속 알콕시드와 상기 배위자인 착화제를 혼합함으로써 생성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 분말의 제조 방법.
3. The method of claim 2,
and a step of producing the metal complex by mixing the metal alkoxide and the complexing agent serving as the ligand.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 배위자가 아세틸아세톤인 것을 특징으로 하는 금속 분말의 제조 방법.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The method for producing a metal powder, characterized in that the ligand is acetylacetone.
제1항에 있어서,
상기 산화물에 의한 표면 피복률이 80% 이상인 것을 특징으로 하는 금속 분말의 제조 방법.
According to claim 1,
A method for producing a metal powder, characterized in that the surface coverage by the oxide is 80% or more.
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