KR102355179B1 - 이미징 렌즈 어셈블리 - Google Patents
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Abstract
멀티-요소 이미징 렌즈는 5개의 플라스틱 요소들, 및 임의적인 널-파워 또는 비교적 낮은 파워의 제6 플라스틱 요소로부터 형성될 수 있다. 렌즈는 선택된 플라스틱 재료들을 사용하여 열 초점 시프트를 감소시킬 수 있다. 렌즈에서, 음의 굴절력 요소들은, dn/dT로 약칭되는, 온도에 따른 비교적 큰 음의 굴절률 변화를 갖는 플라스틱 재료들로부터 형성될 수 있는 한편, 양의 굴절력 요소들은 비교적 작은 음의 dn/dT를 갖는 플라스틱 재료들로부터 형성될 수 있다. 개시된 바와 같이, 열 초점 시프트를 감소시키면, 보이스 코일과 같은 자동 초점 디바이스에 대한 필요성을 제거할 수 있다. 개시된 바와 같이, 열 초점 시프트를 감소시키면, 열 초점 시프트를 추가로 감소시키기 위한 하나 이상의 유리 요소들을 사용할 필요성을 또한 제거할 수 있는데, 이는 렌즈에 대한 비용을 감소시킬 수 있다.
Description
우선권
본 출원은 2017년 2월 7일자로 출원된 미국 가특허 출원 제62/455,983호의 우선권의 이익을 주장하고, 이 미국 가특허 출원의 우선권의 이익은 이로써 청구되며, 이 미국 가특허 출원은 그 전체가 본 명세서에 참조로 포함된다.
본 개시내용의 분야
본 개시내용은 이미징 렌즈 어셈블리에 관한 것이다.
적합한 광범위한 온도들에 걸쳐 초점을 유지하는 이미징 렌즈 어셈블리를 디자인 및 제조하는 것은 어렵다. 예를 들어, 특정 온도들에서, 렌즈 요소들의 굴절률의 열 변화는 이미징 렌즈 어셈블리의 초점 평면을 센서를 향해 또는 센서로부터 멀어지도록 병진시켜서, 센서 상에 흐릿한 이미지를 야기할 수 있다.
양의 총 굴절력(positive total refractive power)을 갖는 이미징 렌즈 어셈블리의 일 예에서, 이미징 렌즈 어셈블리는, 물체측으로부터 이미지측으로 순서대로: 총 굴절력의 51% 내지 68%의 음의 굴절력을 갖는 제1 렌즈 요소; 총 굴절력의 0% 내지 5%의 제로 또는 양의 굴절력을 갖는 제2 렌즈 요소; 총 굴절력의 75% 내지 110%의 양의 굴절력을 갖는 제3 렌즈 요소; 총 굴절력의 42% 내지 61%의 음의 굴절력을 갖는 제4 렌즈 요소; 총 굴절력의 91% 내지 112%의 양의 굴절력을 갖는 제5 렌즈 요소; 및 총 굴절력의 38% 내지 97%의 음의 굴절력을 갖는 제6 렌즈 요소를 포함할 수 있다.
양의 총 굴절력을 갖는 이미징 렌즈 어셈블리의 다른 예에서, 이미징 렌즈 어셈블리는, 물체측으로부터 이미지측으로 순서대로: 음의 굴절력을 가지며 50보다 더 큰 아베 수(Abbe number)를 갖는 재료로부터 형성되는 제1 렌즈 요소; 35 미만의 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는 제2 렌즈 요소; 양의 굴절력을 가지며 50보다 더 큰 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는 제3 렌즈 요소; 음의 굴절력을 가지며 27 미만의 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는 제4 렌즈 요소; 양의 굴절력을 가지며 50보다 더 큰 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는 제5 렌즈 요소; 및 음의 굴절력을 가지며 27 미만의 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는 제6 렌즈 요소를 포함할 수 있다.
양의 총 굴절력을 갖는 이미징 렌즈 어셈블리의 다른 예에서, 이미징 렌즈 어셈블리는, 물체측으로부터 이미지측으로 순서대로: 총 굴절력의 51% 내지 68%의 음의 굴절력을 갖는 제1 렌즈 요소; 총 굴절력의 75% 내지 110%의 양의 굴절력을 갖는 제2 렌즈 요소; 총 굴절력의 42% 내지 61%의 음의 굴절력을 갖는 제3 렌즈 요소; 총 굴절력의 91% 내지 112%의 양의 굴절력을 갖는 제4 렌즈 요소; 및 총 굴절력의 38% 내지 97%의 음의 굴절력을 갖는 제5 렌즈 요소를 포함할 수 있다.
양의 총 굴절력을 갖는 이미징 렌즈 어셈블리의 다른 예에서, 이미징 렌즈 어셈블리는, 물체측으로부터 이미지측으로 순서대로: 음의 굴절력을 가지며 50보다 더 큰 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는 제1 렌즈 요소; 양의 굴절력을 가지며 50보다 더 큰 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는 제2 렌즈 요소; 음의 굴절력을 가지며 27 미만의 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는 제3 렌즈 요소; 양의 굴절력을 가지며 50보다 더 큰 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는 제4 렌즈 요소; 및 음의 굴절력을 가지며 27 미만의 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는 제5 렌즈 요소를 포함할 수 있다.
도 1은 렌즈 표면들 상에 중첩되는 광선들의 예들을 갖는 일부 예들에 따른, 이미징 렌즈 어셈블리의 측단면도를 도시한다.
도 2는 광선들이 제거된 일부 예들에 따른, 도 1의 이미징 렌즈 어셈블리의 측단면도를 도시한다.
도 3은 일부 예들에 따른, 도 1 및 도 2의 이미징 렌즈 어셈블리에 대한, 각각의 렌즈 요소에 대한 3개의 적합한 범위들의 상대 파워 값(relative power value)들을 보여주는 표를 포함한다.
도 4 및 도 5는 일부 예들에 따른, 제1 샘플 이미징 렌즈 어셈블리 디자인의 규정(prescription)을 보여주는 표들을 포함한다.
도 6 및 도 7은 일부 예들에 따른, 제2 샘플 이미징 렌즈 어셈블리 디자인의 규정을 보여주는 표들을 포함한다.
도 8은 일부 예들에 따른, 이미징 렌즈 어셈블리를 포함하는 디바이스의 예를 도시한다.
대응하는 참조 문자들은 수 개의 도면들 전반에 걸쳐 대응하는 부분들을 표시한다. 도면들에서의 요소들은 반드시 일정한 비율로 그려진 것은 아니다. 도면들에 도시된 구성들은 단지 예들일 뿐이고, 본 발명의 범주를 어떠한 방식으로든 제한하는 것으로 해석되어서는 안 된다.
도 2는 광선들이 제거된 일부 예들에 따른, 도 1의 이미징 렌즈 어셈블리의 측단면도를 도시한다.
도 3은 일부 예들에 따른, 도 1 및 도 2의 이미징 렌즈 어셈블리에 대한, 각각의 렌즈 요소에 대한 3개의 적합한 범위들의 상대 파워 값(relative power value)들을 보여주는 표를 포함한다.
도 4 및 도 5는 일부 예들에 따른, 제1 샘플 이미징 렌즈 어셈블리 디자인의 규정(prescription)을 보여주는 표들을 포함한다.
도 6 및 도 7은 일부 예들에 따른, 제2 샘플 이미징 렌즈 어셈블리 디자인의 규정을 보여주는 표들을 포함한다.
도 8은 일부 예들에 따른, 이미징 렌즈 어셈블리를 포함하는 디바이스의 예를 도시한다.
대응하는 참조 문자들은 수 개의 도면들 전반에 걸쳐 대응하는 부분들을 표시한다. 도면들에서의 요소들은 반드시 일정한 비율로 그려진 것은 아니다. 도면들에 도시된 구성들은 단지 예들일 뿐이고, 본 발명의 범주를 어떠한 방식으로든 제한하는 것으로 해석되어서는 안 된다.
멀티-요소 이미징 렌즈는 5개의 플라스틱 요소들, 및 임의적인 널-파워(null-power) 또는 비교적 낮은 파워의 제6 플라스틱 요소로부터 형성될 수 있다. 렌즈는 선택된 플라스틱 재료들을 사용하여 열 초점 시프트를 감소시킬 수 있다. 렌즈에서, 음의 굴절력 요소들은, dn/dT로 약칭되는, 온도에 따른 비교적 큰(절대 크기) 음의 굴절률 변화를 갖는 플라스틱 재료들로부터 형성될 수 있는 한편, 양의 굴절력 요소들은 비교적 작은(절대 크기) 음의 dn/dT를 갖는 플라스틱 재료들로부터 형성될 수 있다. 개시된 바와 같이, 열 초점 시프트를 감소시키면, 보이스 코일과 같은 자동 초점 디바이스에 대한 필요성을 제거할 수 있다. 개시된 바와 같이, 열 초점 시프트를 감소시키면, 열 초점 시프트를 추가로 감소시키기 위한 하나 이상의 유리 요소들을 사용할 필요성을 또한 제거할 수 있는데, 이는 렌즈에 대한 비용을 감소시킬 수 있다.
다음의 논의에서, 재료의 아베 수(V-수(V-number)라고도 또한 알려짐)는 무차원 수량(dimensionless quantity) (nd - 1)/(nF - nC)로 정의된 바와 같이 정의되고, 여기서 nd는 587.6 nm의 파장(헬륨 d-라인)에서의 재료의 굴절률이고, nF는 486.1 nm의 파장(수소 F-라인)에서의 재료의 굴절률이며, nC는 656.3 nm의 파장(수소 C-라인)에서의 재료의 굴절률이다. 일반적으로, 재료의 아베 수가 높을수록, 재료의 분산이 낮아진다.
다음의 논의에서, 수량 dn/dT는 온도(T)와 관련하여 재료의 굴절률(n)의 변화를 나타내는 데 사용된다. 수량 dn/dT는 587.6 nm의 파장(헬륨 d-라인)에서 25 C의 온도에서 평가된다. dn/dT의 값이 높을수록, 온도에 따른 굴절률의 변화가 커진다. 다음의 논의에서, 수량 dn/dT의 사이즈가 언급될 때, 사이즈는 수량 dn/dT의 절대 크기의 사이즈에 대응하는 것으로 이해될 것이다. 비교적 큰 값들의 dn/dT는 비교적 작은 값들의 dn/dT보다 제로로부터 더 멀어진다. 부가적으로, 아베 수 및 dn/dT의 값들은 광학 재료의 배치(batch)마다 약간 변할 수 있다는 것이 이해될 것이다. 광학 재료 제조자들이 전형적으로 배치 간 변화들을 최소화시키려고 시도하지만, 일부 변화는 실제로 회피불가능하다. 본 명세서에서 논의되는 아베 수 및 dn/dT의 값들은, 재료 제조자들에 의해 특정되는 공개된 값들이다.
다음의 논의는 다양한 광학 플라스틱 재료들을 언급하는데, 이 모두는 상업적으로 입수가능하고, 이 모두는, 본 기술분야의 통상의 기술자에게 쉽게 알려져 있는, 잘 정의되어 있고 잘 문서화되어 있는 광학적 및 기계적 특성들을 갖는다. 본 명세서에서 논의되는 플라스틱 재료들은 하나 이상의 중합체 재료들, 및/또는 하나 이상의 플라스틱 재료들로 형성될 수 있다. 일부 예들에서, 본 명세서에서 논의되는 플라스틱 재료들은 유리 재료들을 배제하거나 그리고/또는 용융 실리카를 배제한다.
뒤따르는 논의에서, 다양한 광학 요소들은 제1 렌즈 요소, 제2 렌즈 요소 등으로 지칭된다. 넘버링 스킴(numbering scheme)은 단지 편의상, 그리고 넘버링된 요소들이 나타나는 순서를 특정하기 위해 제공될 뿐이라는 것이 이해될 것이다. 일부 예들에서, 넘버링된 요소들 사이에 하나 이상의 부가적인 광학 요소들이 임의적으로 나타날 수 있다. 예를 들어, 평면 스펙트럼 필터는 제1 렌즈 요소 앞에, 제1 렌즈 요소와 제2 렌즈 요소 사이에, 제2 렌즈 요소와 제3 렌즈 요소 사이에, 제5 렌즈 요소와 제6 렌즈 요소 사이에, 제6 렌즈 요소 뒤에 등으로 나타날 수 있다.
도 1은 렌즈 표면들 상에 중첩되는 시뮬레이팅된 광선들의 예들을 갖는 일부 예들에 따른, 이미징 렌즈 어셈블리(10)의 측단면도를 도시한다. 도 2는 광선들이 제거된 일부 예들에 따른, 도 1의 이미징 렌즈 어셈블리의 측단면도를 도시한다.
그러한 이미징 렌즈 어셈블리(10)는 모바일 폰과 같은 비교적 광각인 적용예에 적합하다. 도 1의 예는 이미징 렌즈 어셈블리(10)의 단지 일 예이고; 다른 적합한 이미징 렌즈 어셈블리들이 또한 사용될 수 있다.
이미징 렌즈 어셈블리(10)는 양의 총 굴절력을 가질 수 있다. 이미징 렌즈 어셈블리(10)는 원하는 초점 길이 또는 원하는 굴절력(전형적으로 1/초점 길이로서 표시됨)을 수용하기 위해 필요에 따라 사이즈가 스케일링될 수 있다. 아래의 논의를 위해, 각각의 렌즈 요소의 파워는 이미징 렌즈 어셈블리(10)의 총 굴절력에 의해 스케일링된다.
이미징 렌즈 어셈블리(10)는, 물체측으로부터 이미지측으로 순서대로, 제1 렌즈 요소(12), 임의적인 제2 렌즈 요소(14), 제3 렌즈 요소(16), 제4 렌즈 요소(18), 제5 렌즈 요소(20), 및 제6 렌즈 요소(22)를 포함할 수 있다. 청색 유리 흡수 필터(24)가 제6 렌즈 요소(22)와 이미지 평면(26) 사이에 포지셔닝될 수 있다. 도 2는 제3 렌즈 요소(16)의 물체측 표면에 포지셔닝되는 이미징 렌즈 어셈블리(10)의 구경 조리개(aperture stop)(28)를 도시한다.
각각의 렌즈 요소는, 물체 대면 표면 및 그 물체 대면 표면에 대향하는 이미지 대면 표면을 포함한다. 물체 대면 표면 및 이미지 대면 표면은 각각 곡률의 기본 반경을 갖도록 형상화될 수 있다. 2개의 표면들의 곡률의 반경들, 요소 재료의 굴절률, 및 표면들 사이의 정점 대 정점(vertex-to-vertex)(예를 들어, 축상(on-axis)) 두께는, 잘 알려져 있는 렌즈메이커의 식에 따라, 요소의 광 파워를 결정할 수 있다. 비구면 표면들의 경우, 각각의 표면은 수량 k로서 표기되는 원뿔 상수를 부가적으로 포함할 수 있는데, 이는 제로일 수도 있거나 또는 제로가 아닐 수도 있다. 비구면 표면들의 경우, 각각의 표면은 수량들 A4, A6, A8 등으로 표기되는 하나 이상의 비구면 계수들을 부가적으로 포함할 수 있는데, 이들 각각은 제로일 수도 있거나 또는 제로가 아닐 수도 있다. 구 표면들은, 제로의 원뿔 상수, 및 모두가 제로인 비구면 계수들을 포함한다.
렌즈 요소 표면들의 정밀한 형상들은 특정 범위들 내에서 변할 수 있다. 도 3은 일부 예들에 따른, 도 1 및 도 2의 이미징 렌즈 어셈블리에 대한, 각각의 렌즈 요소에 대한 3개의 적합한 범위들의 상대 파워 값들을 보여주는 표를 포함한다. 도 3의 표에서의 각각의 값은 렌즈 어셈블리의 총 파워에 의해 정규화된다.
일부 예들에서, 제1 렌즈 요소(12)는 총 굴절력의 51% 내지 68%의 음의 굴절력을 가질 수 있다. 일부 예들에서, 제1 렌즈 요소(12)는 총 굴절력의 60% 내지 68%의 음의 굴절력을 가질 수 있다. 일부 예들에서, 제1 렌즈 요소(12)는 총 굴절력의 60% 내지 65%의 음의 굴절력을 가질 수 있다. 일부 예들에서, 제1 렌즈 요소(12)는 50보다 더 큰 아베 수를 갖는 재료로부터 형성될 수 있다. 일부 예들에서, 제1 렌즈 요소(12)는 -99×10-6/℃ 미만의 dn/dT를 갖는 재료로부터 형성될 수 있다. 일부 예들에서, 제1 렌즈 요소(12)는 Zeonex 480R, Zeonex 330R, 또는 APL5014CL 중 하나로부터 형성될 수 있다. 일부 예들에서, 제1 렌즈 요소(12)는 Zeonex 480R로부터 형성될 수 있는데, 이는 56의 아베 수를 가지며, -106×10-6/℃의 dn/dT를 갖는다. 일부 예들에서, 제1 렌즈 요소(12)는, 전형적인 멀티-요소 이미징 렌즈 디자인들에 흔치 않은, Zeonex 480R과 같은, 높은 인덱스의 크라운 재료를 사용할 수 있다.
일부 예들에서, 임의적인 제2 렌즈 요소(14)는 총 굴절력의 0% 내지 5%의 제로 또는 양의 굴절력을 가질 수 있다. 일부 예들에서, 임의적인 제2 렌즈 요소(14)는 평면 요소처럼 제로 굴절력을 가질 수 있다. 일부 예들에서, 제2 렌즈 요소(14)는 35 미만의 아베 수를 갖는 재료로부터 형성될 수 있다. 일부 예들에서, 제2 렌즈 요소(14)는 OKP-A1, OKP1, Ultem PEI(폴리에테르이미드), 폴리스티렌, 또는 폴리카보네이트 중 하나로부터 형성될 수 있다. 일부 예들에서, 제2 렌즈 요소(14)는 OKP-A1로부터 형성될 수 있는데, 이는 22의 아베 수를 가지며, -133×10-6/℃의 dn/dT를 갖는다. 일부 예들에서, 제2 렌즈 요소(14)는, 비열화(athermalization), 구축된 성능, 또는 비용에 거의 영향을 미치지 않으면서, 측면 색수차 보정을 도입할 수 있다.
일부 예들에서, 제3 렌즈 요소(16)는 총 굴절력의 75% 내지 110%의 양의 굴절력을 가질 수 있다. 일부 예들에서, 제3 렌즈 요소(16)는 총 굴절력의 75% 내지 105%의 양의 굴절력을 가질 수 있다. 일부 예들에서, 제3 렌즈 요소(16)는 총 굴절력의 75% 내지 80%의 양의 굴절력을 가질 수 있다. 일부 예들에서, 제3 렌즈 요소(16)는 50보다 더 큰 아베 수를 갖는 재료로부터 형성될 수 있다. 일부 예들에서, 제3 렌즈 요소(16)는 -95×10-6/℃보다 더 큰 dn/dT를 갖는 재료를 갖는 재료로부터 형성될 수 있다. 일부 예들에서, 제3 렌즈 요소(16)는 Zeonex F52R로부터 형성될 수 있는데, 이는 56의 아베 수를 가지며, -93×10-6/℃의 dn/dT를 갖는다. 일부 예들에서, 제3 렌즈 요소(16)의 물체측 표면에 이미징 렌즈 어셈블리(10)의 구경 조리개(28)가 포지셔닝될 수 있다.
일부 예들에서, 제4 렌즈 요소(18)는 총 굴절력의 42% 내지 61%의 음의 굴절력을 가질 수 있다. 일부 예들에서, 제4 렌즈 요소(18)는 총 굴절력의 42% 내지 58%의 음의 굴절력을 가질 수 있다. 일부 예들에서, 제4 렌즈 요소(18)는 27 미만의 아베 수를 갖는 재료로부터 형성될 수 있다. 일부 예들에서, 제4 렌즈 요소(18)는 -118×10-6/℃ 미만의 dn/dT를 갖는 재료로부터 형성될 수 있다. 일부 예들에서, 제4 렌즈 요소(18)는 OKP4, OKP1, OKP-A1, OKP-A2, 또는 EP-8000 중 하나로부터 형성될 수 있다. 일부 예들에서, 제4 렌즈 요소(18)는 OKP4로부터 형성될 수 있는데, 이는 27의 아베 수를 가지며, -152×10-6/℃의 dn/dT를 갖는다.
일부 예들에서, 제5 렌즈 요소(20)는 총 굴절력의 91% 내지 112%의 양의 굴절력을 가질 수 있다. 일부 예들에서, 제5 렌즈 요소(20)는 총 굴절력의 91% 내지 101%의 양의 굴절력을 가질 수 있다. 일부 예들에서, 제5 렌즈 요소(20)는 총 굴절력의 99% 내지 100%의 양의 굴절력을 가질 수 있다. 일부 예들에서, 제5 렌즈 요소(20)는 50보다 더 큰 아베 수를 갖는 재료로부터 형성될 수 있다. 일부 예들에서, 제5 렌즈 요소(20)는 -95×10-6/℃보다 더 큰 dn/dT를 갖는 재료로부터 형성될 수 있다. 일부 예들에서, 제5 렌즈 요소(20)는 Zeonex F52R로부터 형성될 수 있는데, 이는 56의 아베 수를 가지며, -93×10-6/℃의 dn/dT를 갖는다.
일부 예들에서, 제6 렌즈 요소(22)는 총 굴절력의 38% 내지 97%의 음의 굴절력을 가질 수 있다. 일부 예들에서, 제6 렌즈 요소(22)는 총 굴절력의 38% 내지 61%의 음의 굴절력을 가질 수 있다. 일부 예들에서, 제6 렌즈 요소(22)는 총 굴절력의 38% 내지 44%의 음의 굴절력을 가질 수 있다. 일부 예들에서, 제6 렌즈 요소(22)는 27 미만의 아베 수를 갖는 재료로부터 형성될 수 있다. 일부 예들에서, 제6 렌즈 요소(22)는 -118×10-6/℃ 미만의 dn/dT를 갖는 재료로부터 형성될 수 있다. 일부 예들에서, 제6 렌즈 요소(22)는 OKP1, OKP4, OKP-A1, OKP-A2, EP-8000, 또는 Ultem PEI 중 하나로부터 형성될 수 있다. 일부 예들에서, 제6 렌즈 요소(22)는 OKP1로부터 형성될 수 있는데, 이는 22의 아베 수를 가지며, -138×10-6/℃의 dn/dT를 갖는다. 일부 예들에서, 제4 렌즈 요소(18) 및 제6 렌즈 요소(22)는 PEI 또는 EP-8000과 같은 낮은 아베 수의 플린트(flint)들일 수 있다. 제4 및 제6 렌즈 요소들에 대한 OKP 카탈로그에서의 큰 크기의 음의 dn/dT 재료들은 측면 색수차 보정을 손상시킬 수 있고, 그 결과, 전형적인 멀티-요소 이미징 렌즈들에는 사용되지 않는다. 그에 따라, 본 디자인에서 큰 크기의 음의 dn/dT 재료들을 사용하면, 비열화에 대한 예상치 못한 이익을 제공한다.
일부 예들에서, 디자인들은 플라스틱 스페이서들을 갖는 플라스틱 배럴에서의 모든 플라스틱 요소들을 사용할 수 있다. 플라스틱 요소들은 열 팽창의 비교적 큰 계수들을 갖는 경향이 있지만, 디자인은 음의 파워 공급된 렌즈 요소(negative-powered lens element)들에 대한 비교적 큰 음의 dn/dT 및 양의 파워 공급된 렌즈 요소들에 대한 비교적 작은 음의 dn/dT를 갖는 재료들을 선택함으로써, 열 초점 시프트를 감소 또는 최소화시킬 수 있다. 일부 예들에서, 플라스틱 옵틱(plastic optic)들은 59×10-6/℃ 내지 74×10-6/℃의 열 팽창의 계수들을 가질 수 있다. 실제로, 렌즈의 성능은, 인용된 범위 내의 값들에 대한, 플라스틱 옵틱들의 열 팽창에 비교적 둔감할 수 있다. 일부 예들에서, 스페이서들, 홀더, 및 렌즈 배럴은 모두 55×10-6/℃의 열 팽창의 계수들을 가질 수 있다. 실제로, 인용된 값보다 더 큰 값들은 렌즈의 비열화를 개선시킬 수 있고, 또한 사용될 수 있다.
도 4 및 도 5는 일부 예들에 따른, 제1 샘플 이미징 렌즈 어셈블리 디자인("디자인 1")의 규정을 보여주는 표들을 포함한다. 디자인 1은 임의적인 제2 요소를 생략한다. 디자인 1의 규정은 도 3에 도시된 범위들과 부합한다.
도 6 및 도 7은 일부 예들에 따른, 제2 샘플 이미징 렌즈 어셈블리 디자인("디자인 2")의 규정을 보여주는 표들을 포함한다. 디자인 2는 임의적인 제2 요소를 포함한다. 디자인 2의 규정은 도 3에 도시된 범위들과 부합한다.
디자인 2의 구성(도 6 및 도 7)을 평가하기 위해, 이미징 렌즈 어셈블리(10)는 1.57 mm의 유효 초점 길이, 또는, 동등하게, 0.637 mm-1의 총 굴절력을 갖도록 스케일링된다. 스케일링 후에, 이미징 렌즈 어셈블리(10)는 제1 렌즈 요소(12)의 물체측 표면에서부터 이미지 평면(26)까지 6.71 mm의 길이를 갖는다. 시야는 이미지 원에 대해 120 도인 대각선으로 115 도로 설정된다. 이 시야에서, 이미징 렌즈 어셈블리(10)의 f-수(f-number)는 2.4이다. 1.98 mm의 이미지 높이에서, 계산된 왜곡은 -20.4%이다. 다음의 단락들은 디자인 2의 렌즈의 시뮬레이팅된 성능을 요약한 것이다.
20 C의 온도에서, 76 사이클들/mm에서의 다색(예를 들어, 486.1 nm 내지 656.3 nm의 파장들을 사용함) 변조 전달 함수(Modulation Transfer Function)(MTF)는, 0 mm의 시상 이미지 높이(sagittal image height)에 대한 0.80의 값, 0.792 mm의 시상 이미지 높이에 대한 0.80의 값, 1.188 mm의 시상 이미지 높이에 대한 0.75의 값, 1.584 mm의 시상 이미지 높이에 대한 0.72의 값, 0 mm의 접선 이미지 높이(tangential image height)에 대한 0.80의 값, 0.792 mm의 접선 이미지 높이에 대한 0.79의 값, 1.188 mm의 접선 이미지 높이에 대한 0.66의 값, 및 1.584 mm의 접선 이미지 높이에 대한 0.70의 값을 갖는다.
40 C의 온도에서, 76 사이클들/mm에서의 다색 MTF는, 0 mm의 시상 이미지 높이에 대한 0.84의 값, 0.792 mm의 시상 이미지 높이에 대한 0.84의 값, 1.188 mm의 시상 이미지 높이에 대한 0.78의 값, 1.584 mm의 시상 이미지 높이에 대한 0.70의 값, 0 mm의 접선 이미지 높이에 대한 0.84의 값, 0.792 mm의 접선 이미지 높이에 대한 0.84의 값, 1.188 mm의 접선 이미지 높이에 대한 0.67의 값, 및 1.584 mm의 접선 이미지 높이에 대한 0.66의 값을 갖는다.
60 C의 온도에서, 76 사이클들/mm에서의 다색 MTF는, 0 mm의 시상 이미지 높이에 대한 0.80의 값, 0.792 mm의 시상 이미지 높이에 대한 0.80의 값, 1.188 mm의 시상 이미지 높이에 대한 0.75의 값, 1.584 mm의 시상 이미지 높이에 대한 0.65의 값, 0 mm의 접선 이미지 높이에 대한 0.80의 값, 0.792 mm의 접선 이미지 높이에 대한 0.69의 값, 1.188 mm의 접선 이미지 높이에 대한 0.60의 값, 및 1.584 mm의 접선 이미지 높이에 대한 0.56의 값을 갖는다.
20 C의 온도에서, 축상(예를 들어, 0 mm의 시상 이미지 높이 및 0 mm의 접선 이미지 높이) 다색 MTF는 약 -5 미크론들의 초점 시프트에서 0.84의 값으로 피크에 이르고, -30 미크론들과 +20 미크론들의 초점 시프트들에서 0.42로 떨어진다.
40 C의 온도에서, 축상 다색 MTF는 약 +2 미크론들의 초점 시프트에서 0.84의 값으로 피크에 이르고, -23 미크론들과 +27 미크론들의 초점 시프트들에서 0.42로 떨어진다.
60 C의 온도에서, 축상 다색 MTF는 약 +7 미크론들의 초점 시프트에서 0.84의 값으로 피크에 이르고, -18 미크론들과 +34 미크론들의 초점 시프트들에서 0.42로 떨어진다.
410 nm의 파장에서의 측면 컬러는, 0 미크론들로부터 약 8.0 미크론들의 최대 값으로 상승한 후에, 57.5 도의 최대 필드(field)에서 약 1.8 미크론들로 떨어진다. 486.1 nm의 파장에서의 측면 컬러는, 0 미크론들로부터 약 1.1 미크론들의 최대 값으로 상승한 후에, 57.5 도의 최대 필드에서 약 -1.8 미크론들로 떨어진다. 587.6 nm의 파장에서의 측면 컬러는 기준 레벨로 설정된다(예를 들어, 전체 필드에 걸쳐 0 미크론들을 유지한다). 656.3 nm의 파장에서의 측면 컬러는, 57.5 도의 최대 필드에서 0 미크론들로부터 약 1.5 미크론들의 최대 값으로 상승한다. 참고로, Airy 디스크 반경은 587.6 nm의 기준 파장에서 약 +/-2 미크론들이다.
주광선에 대한 입사각은 0 mm의 이미지 높이에서의 0 도로부터 1.98 mm의 이미지 높이에서의 +30 도로 상승한다. 하부 림 광선(lower rim ray)에 대한 입사각은 0 mm의 이미지 높이에서의 -12 도로부터 1.98 mm의 이미지 높이에서의 +22 도로 상승한다. 상부 림 광선에 대한 입사각은 0 mm의 이미지 높이에서의 +12 도로부터 1.98 mm의 이미지 높이에서의 +40 도로 상승한다.
486 nm의 파장에서의 필드 곡률은 시상 방향으로 57.5 도의 필드에서 축상의 0 미크론들로부터 약 -54 미크론들로 드롭되고, 접선 방향으로 필드에 걸쳐 약 -10 미크론들 내지 +10 미크론들에서 발진한다. 588 nm의 파장에서의 필드 곡률은 시상 방향으로 57.5 도의 필드에서 축상의 -14 미크론들로부터 약 -62 미크론들로 드롭되고, 접선 방향으로 필드에 걸쳐 약 -14 미크론들 내지 +31 미크론들에서 발진한다. 656 nm의 파장에서의 필드 곡률은 시상 방향으로 57.5 도의 필드에서 축상의 -17 미크론들로부터 약 -63 미크론들로 드롭되고, 접선 방향으로 필드에 걸쳐 약 -17 미크론들 내지 +41 미크론들에서 발진한다.
f-tan 왜곡은 57.5 도의 필드에서 축상의 0%로부터 약 -20%로 상승한다.
상대 조도는 57.5 도의 필드에서 축상의 1.0으로부터 약 0.58로 드롭된다.
디자인 페이즈(design phase)에서, 렌즈 규정들이 약간 변경되어, 열악한 구축된 성능에 의한 우수한 비열화에서부터, 우수한 구축된 성능에 의한 보다 열악한 비열화까지의 범위에 있을 수 있는 렌즈 디자인들의 연속체를 수용할 수 있다.
성능이 가장 잘 비열화되는 구성의 경우, 제1 내지 제6 렌즈 요소들의 재료들은 각각 Zeonex 480R, OKP1, Zeonex F52R, OKP4, Zeonex F52R, 및 OKP4일 수 있다. 이들 재료들의 경우, 25 C로부터 60 C로의 전체 열 시프트는 6.5 미크론들이다.
성능이 가장 잘 절충되는 구성의 경우, 제1 내지 제6 렌즈 요소들의 재료들은 각각 Zeonex 480R, OKP-A1, Zeonex F52R, OKP4, Zeonex F52R, 및 OKP-A1일 수 있다. 이들 재료들의 경우, 25 C로부터 60 C로의 전체 열 시프트는 8 미크론들이다.
성능이 가장 높은 수율로 된 구성의 경우, 제1 내지 제6 렌즈 요소들의 재료들은 각각 Zeonex 480R, OKP-A1, Zeonex F52R, OKP1, Zeonex F52R, 및 OKP4일 수 있다. 이들 재료들의 경우, 25 C로부터 60 C로의 전체 열 시프트는 11 미크론들이다.
임의적인 제2 요소가 제거된 성능이 가장 잘 절충되는 구성의 경우, 제1 및 제3 내지 제5 렌즈 요소들의 재료들은 각각 Zeonex 480R, Zeonex F52R, OKP4, Zeonex F52R, 및 OKP-A1 또는 OKP1일 수 있다. 이들 재료들의 경우, 25 C로부터 60 C로의 전체 열 시프트는 9 미크론들이다.
제2 요소가 파워 공급되는 구성의 경우, 제1 내지 제6 렌즈 요소들의 재료들은 각각 Zeonex 480R, PEI, Zeonex F52R, OKP4, Zeonex F52R, 및 OKP4일 수 있다.
감소된 사이즈의 센서를 사용할 수 있는 구성의 경우, 제1 내지 제6 렌즈 요소들의 재료들은 각각 Zeonex 480R, 폴리스티렌, Zeonex F52R, OKP4, Zeonex F52R, 및 OKP4일 수 있다.
비교를 위해, 이들 파라미터들을 이용하는 전형적인 플라스틱 디자인은 22 미크론들로부터 26 미크론들로의 전체 열 시프트를 가질 수 있고, 유리 몰딩된 옵틱을 갖는 전형적인 플라스틱 디자인은 16 미크론들의 열 시프트를 가질 수 있으며, 유리 몰딩된 옵틱을 갖는 잘 보정된 플라스틱 디자인은 4 미크론들의 열 시프트를 가질 수 있다.
도 8은 일부 예들에 따른, 도 1 및 도 2의 어셈블리(10)와 같은 이미징 렌즈 어셈블리를 포함하는 디바이스(800)의 예를 도시한다. 디바이스(800)는, 카메라, 독립형 카메라, 부가적인 피스(piece)의 장비와 통합된 카메라, 또는 다른 적합한 디바이스를 갖는 모바일 폰일 수 있다. 디바이스(800)는, 디바이스(800)의 컴포넌트들을 둘러싸는 하우징(812)을 포함할 수 있다. 디바이스(800)는, 플라스틱 스페이서들(802)을 갖는 플라스틱 배럴에 장착되는 렌즈 어셈블리(10)의 광학 요소들을 포함할 수 있다. 물체로부터의 광은 렌즈 어셈블리(10)를 통과한다. 센서(26)는 렌즈 어셈블리(10)로부터의 광을 검출할 수 있다. 센서(26)는 감지된 광을 전기 신호로 변환할 수 있다. 회로부(806)는, 전기 신호를, 센서(26)에서 이미지를 나타내는 데이터로 변환할 수 있다. 회로부(806)는 프로세서(808)를 포함할 수 있다. 회로부는 메모리(810)를 포함할 수 있다. 메모리(810)는, 프로세서(808)에 의해 실행될 때, 프로세서로 하여금 명령어들을 실행하게 하는 명령어들을 포함할 수 있다. 명령어들은 전기 신호의 프로세싱, 저장된 이미지들의 저장 및 액세싱 등을 포함할 수 있다.
본 발명은 예시적인 디자인들을 갖는 것으로서 설명되었지만, 본 발명은 본 개시내용의 사상 및 범주 내에서 추가로 수정될 수 있다. 그에 따라, 본 출원은 일반적인 원리들을 사용하여 본 발명의 임의의 변화들, 사용들, 또는 적응들을 커버하도록 의도된다. 추가로, 본 출원은, 본 발명이 속하는 기술분야에서의 알려져 있는 또는 통상적인 관례 내에서 발생하고 첨부된 청구범위의 제한들 내에 있는, 본 개시내용으로부터의 그러한 이탈들을 커버하도록 의도된다.
본 명세서에 개시된 디바이스를 추가로 예시하기 위해, 비제한적인 리스트의 예들이 아래에 제공된다. 다음의 비제한적인 예들 각각은 그 자체로 존재할 수 있거나, 또는 다른 예들 중 임의의 하나 이상과의 임의의 치환 또는 조합으로 조합될 수 있다.
예 1: 양의 총 굴절력을 갖는 이미징 렌즈 어셈블리로서, 이미징 렌즈 어셈블리는, 물체측으로부터 이미지측으로 순서대로: 총 굴절력의 51% 내지 68%의 음의 굴절력을 갖는 제1 렌즈 요소; 총 굴절력의 0% 내지 5%의 제로 또는 양의 굴절력을 갖는 제2 렌즈 요소; 총 굴절력의 75% 내지 110%의 양의 굴절력을 갖는 제3 렌즈 요소; 총 굴절력의 42% 내지 61%의 음의 굴절력을 갖는 제4 렌즈 요소; 총 굴절력의 91% 내지 112%의 양의 굴절력을 갖는 제5 렌즈 요소; 및 총 굴절력의 38% 내지 97%의 음의 굴절력을 갖는 제6 렌즈 요소를 포함하는, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 2: 예 1에 있어서, 제1, 제2, 제3, 제4, 제5, 및 제6 요소들은 플라스틱으로부터 형성되는, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 3: 예 1 및 예 2 중 어느 한 예에 있어서, 제1, 제2, 제3, 제4, 제5, 및 제6 요소들은 플라스틱 배럴에 장착되고 플라스틱 스페이서들에 의해 이격되는, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 4: 예 1 내지 예 3 중 어느 한 예에 있어서, 제1 렌즈 요소는 50보다 더 큰 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되고; 제2 렌즈 요소는 35 미만의 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되고; 제3 렌즈 요소는 50보다 더 큰 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되고; 제4 렌즈 요소는 27 미만의 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되고; 제5 렌즈 요소는 50보다 더 큰 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되고; 제6 렌즈 요소는 27 미만의 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 5: 예 1 내지 예 4 중 어느 한 예에 있어서, 제1 렌즈 요소는 -99×10-6/℃ 미만의 dn/dT를 갖는 재료로부터 형성되고; 제3 렌즈 요소는 -95×10-6/℃보다 더 큰 dn/dT를 갖는 재료로부터 형성되고; 제4 렌즈 요소는 -118×10-6/℃ 미만의 dn/dT를 갖는 재료로부터 형성되고; 제5 렌즈 요소는 -95×10-6/℃보다 더 큰 dn/dT를 갖는 재료로부터 형성되고; 제6 렌즈 요소는 -118×10-6/℃ 미만의 dn/dT를 갖는 재료로부터 형성되는, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 6: 예 1 내지 예 5 중 어느 한 예에 있어서, 제1 렌즈 요소는 Zeonex 480R로부터 형성되고, 56의 아베 수를 가지며, -106×10-6/℃의 dn/dT를 가지며; 제2 렌즈 요소는 OKP-A1로부터 형성되고, 22의 아베 수를 가지며, -133×10-6/℃의 dn/dT를 가지며; 제3 렌즈 요소는 Zeonex F52R로부터 형성되고, 56의 아베 수를 가지며, -93×10-6/℃의 dn/dT를 가지며; 제4 렌즈 요소는 OKP4로부터 형성되고, 27의 아베 수를 가지며, -152×10-6/℃의 dn/dT를 가지며; 제5 렌즈 요소는 Zeonex F52R로부터 형성되고, 56의 아베 수를 가지며, -93×10-6/℃의 dn/dT를 가지며; 제6 렌즈 요소는 OKP1로부터 형성되고, 22의 아베 수를 가지며, -138×10-6/℃의 dn/dT를 갖는, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 7: 예 1 내지 예 6 중 어느 한 예에 있어서, 제1, 제3, 제4, 제5, 및 제6 렌즈 요소들은 비구면인, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 8: 예 1 내지 예 7 중 어느 한 예에 있어서, 이미징 렌즈 어셈블리의 구경 조리개가 제3 렌즈 요소의 물체측 표면에 포지셔닝되는, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 9: 예 1 내지 예 8 중 어느 한 예에 있어서, 제6 렌즈 요소와 이미지 평면 사이에 포지셔닝되는 청색 유리 흡수 필터를 더 포함하는, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 10: 양의 총 굴절력을 갖는 이미징 렌즈 어셈블리로서, 이미징 렌즈 어셈블리는, 물체측으로부터 이미지측으로 순서대로: 음의 굴절력을 가지며 50보다 더 큰 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는 제1 렌즈 요소; 35 미만의 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는 제2 렌즈 요소; 양의 굴절력을 가지며 50보다 더 큰 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는 제3 렌즈 요소; 음의 굴절력을 가지며 27 미만의 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는 제4 렌즈 요소; 양의 굴절력을 가지며 50보다 더 큰 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는 제5 렌즈 요소; 및 음의 굴절력을 가지며 27 미만의 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는 제6 렌즈 요소를 포함하는, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 11: 예 10에 있어서, 제1, 제2, 제3, 제4, 제5, 및 제6 요소들은 플라스틱으로부터 형성되는, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 12: 예 10 및 예 11 중 어느 한 예에 있어서, 제1, 제2, 제3, 제4, 제5, 및 제6 요소들은 플라스틱 배럴에 장착되고 플라스틱 스페이서들에 의해 이격되는, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 13: 예 10 내지 예 12 중 어느 한 예에 있어서, 제1 렌즈 요소는 총 굴절력의 51% 내지 68%의 음의 굴절력을 가지며; 제2 렌즈 요소는 총 굴절력의 0% 내지 5%의 제로 또는 양의 굴절력을 가지며; 제3 렌즈 요소는 총 굴절력의 75% 내지 110%의 양의 굴절력을 가지며; 제4 렌즈 요소는 총 굴절력의 42% 내지 61%의 음의 굴절력을 가지며; 제5 렌즈 요소는 총 굴절력의 91% 내지 112%의 양의 굴절력을 가지며; 제6 렌즈 요소는 총 굴절력의 38% 내지 97%의 음의 굴절력을 갖는, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 14: 예 10 내지 예 13 중 어느 한 예에 있어서, 제1, 제3, 제4, 제5, 및 제6 렌즈 요소들은 비구면인, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 15: 예 10 내지 예 14 중 어느 한 예에 있어서, 이미징 렌즈 어셈블리의 구경 조리개가 제3 렌즈 요소의 물체측 표면에 포지셔닝되는, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 16: 예 10 내지 예 15 중 어느 한 예에 있어서, 제1 렌즈 요소는 -99×10-6/℃ 미만의 dn/dT를 갖는 재료로부터 형성되고; 제3 렌즈 요소는 -95×10-6/℃보다 더 큰 dn/dT를 갖는 재료로부터 형성되고; 제4 렌즈 요소는 -118×10-6/℃ 미만의 dn/dT를 갖는 재료로부터 형성되고; 제5 렌즈 요소는 -95×10-6/℃보다 더 큰 dn/dT를 갖는 재료로부터 형성되고; 제6 렌즈 요소는 -118×10-6/℃ 미만의 dn/dT를 갖는 재료로부터 형성되는, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 17: 예 10 내지 예 16 중 어느 한 예에 있어서, 제1 렌즈 요소는 Zeonex 480R로부터 형성되고, 56의 아베 수를 가지며, -106×10-6/℃의 dn/dT를 가지며; 제2 렌즈 요소는 OKP-A1로부터 형성되고, 22의 아베 수를 가지며, -133×10-6/℃의 dn/dT를 가지며; 제3 렌즈 요소는 Zeonex F52R로부터 형성되고, 56의 아베 수를 가지며, -93×10-6/℃의 dn/dT를 가지며; 제4 렌즈 요소는 OKP4로부터 형성되고, 27의 아베 수를 가지며, -152×10-6/℃의 dn/dT를 가지며; 제5 렌즈 요소는 Zeonex F52R로부터 형성되고, 56의 아베 수를 가지며, -93×10-6/℃의 dn/dT를 가지며; 제6 렌즈 요소는 OKP1로부터 형성되고, 22의 아베 수를 가지며, -138×10-6/℃의 dn/dT를 갖는, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 18: 예 10 내지 예 17 중 어느 한 예에 있어서, 제6 렌즈 요소와 이미지 평면 사이에 포지셔닝되는 청색 유리 흡수 필터를 더 포함하는, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 19: 양의 총 굴절력을 갖는 이미징 렌즈 어셈블리로서, 이미징 렌즈 어셈블리는, 물체측으로부터 이미지측으로 순서대로: 총 굴절력의 51% 내지 68%의 음의 굴절력을 갖는 제1 렌즈 요소; 총 굴절력의 75% 내지 110%의 양의 굴절력을 갖는 제2 렌즈 요소; 총 굴절력의 42% 내지 61%의 음의 굴절력을 갖는 제3 렌즈 요소; 총 굴절력의 91% 내지 112%의 양의 굴절력을 갖는 제4 렌즈 요소; 및 총 굴절력의 38% 내지 97%의 음의 굴절력을 갖는 제5 렌즈 요소를 포함하는, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 20: 예 19에 있어서, 제1, 제2, 제3, 제4, 및 제5 요소들은 플라스틱으로부터 형성되는, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 21: 예 19 및 예 20 중 어느 한 예에 있어서, 제1, 제2, 제3, 제4, 및 제5 요소들은 플라스틱 배럴에 장착되고 플라스틱 스페이서들에 의해 이격되는, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 22: 예 19 내지 예 21 중 어느 한 예에 있어서, 제1 렌즈 요소는 50보다 더 큰 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되고; 제2 렌즈 요소는 50보다 더 큰 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되고; 제3 렌즈 요소는 27 미만의 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되고; 제4 렌즈 요소는 50보다 더 큰 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되고; 제5 렌즈 요소는 27 미만의 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 23: 예 19 내지 예 22 중 어느 한 예에 있어서, 제1 렌즈 요소는 -99×10-6/℃ 미만의 dn/dT를 갖는 재료로부터 형성되고; 제2 렌즈 요소는 -95×10-6/℃보다 더 큰 dn/dT를 갖는 재료로부터 형성되고; 제3 렌즈 요소는 -118×10-6/℃ 미만의 dn/dT를 갖는 재료로부터 형성되고; 제4 렌즈 요소는 -95×10-6/℃보다 더 큰 dn/dT를 갖는 재료로부터 형성되고; 제5 렌즈 요소는 -118×10-6/℃ 미만의 dn/dT를 갖는 재료로부터 형성되는, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 24: 예 19 내지 예 23 중 어느 한 예에 있어서, 제1 렌즈 요소는 Zeonex 480R로부터 형성되고, 56의 아베 수를 가지며, -106×10-6/℃의 dn/dT를 가지며; 제2 렌즈 요소는 Zeonex F52R로부터 형성되고, 56의 아베 수를 가지며, -93×10-6/℃의 dn/dT를 가지며; 제3 렌즈 요소는 OKP4로부터 형성되고, 27의 아베 수를 가지며, -152×10-6/℃의 dn/dT를 가지며; 제4 렌즈 요소는 Zeonex F52R로부터 형성되고, 56의 아베 수를 가지며, -93×10-6/℃의 dn/dT를 가지며; 제5 렌즈 요소는 OKP1로부터 형성되고, 22의 아베 수를 가지며, -138×10-6/℃의 dn/dT를 갖는, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 25: 예 19 내지 예 24 중 어느 한 예에 있어서, 제1, 제2, 제3, 제4, 및 제5 렌즈 요소들은 비구면인, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 26: 예 19 내지 예 25 중 어느 한 예에 있어서, 이미징 렌즈 어셈블리의 구경 조리개가 제2 렌즈 요소의 물체측 표면에 포지셔닝되는, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 27: 예 19 내지 예 26 중 어느 한 예에 있어서, 제5 렌즈 요소와 이미지 평면 사이에 포지셔닝되는 청색 유리 흡수 필터를 더 포함하는, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 28: 양의 총 굴절력을 갖는 이미징 렌즈 어셈블리로서, 이미징 렌즈 어셈블리는, 물체측으로부터 이미지측으로 순서대로: 음의 굴절력을 가지며 50보다 더 큰 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는 제1 렌즈 요소; 양의 굴절력을 가지며 50보다 더 큰 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는 제2 렌즈 요소; 음의 굴절력을 가지며 27 미만의 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는 제3 렌즈 요소; 양의 굴절력을 가지며 50보다 더 큰 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는 제4 렌즈 요소; 및 음의 굴절력을 가지며 27 미만의 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는 제5 렌즈 요소를 포함하는, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 29: 예 28에 있어서, 제1, 제2, 제3, 제4, 및 제5 요소들은 플라스틱으로부터 형성되는, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 30: 예 28 및 예 29 중 어느 한 예에 있어서, 제1, 제2, 제3, 제4, 및 제5 요소들은 플라스틱 배럴에 장착되고 플라스틱 스페이서들에 의해 이격되는, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 31: 예 28 내지 예 30 중 어느 한 예에 있어서, 제1 렌즈 요소는 총 굴절력의 54% 내지 61%의 음의 굴절력을 가지며; 제2 렌즈 요소는 총 굴절력의 99% 내지 105%의 양의 굴절력을 가지며; 제3 렌즈 요소는 총 굴절력의 55% 내지 68%의 음의 굴절력을 가지며; 제4 렌즈 요소는 총 굴절력의 81% 내지 91%의 양의 굴절력을 가지며; 제5 렌즈 요소는 총 굴절력의 61% 내지 68%의 음의 굴절력을 갖는, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 32: 예 28 내지 예 31 중 어느 한 예에 있어서, 제1, 제3, 제4, 및 제5 렌즈 요소들은 비구면인, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 33: 예 28 내지 예 32 중 어느 한 예에 있어서, 이미징 렌즈 어셈블리의 구경 조리개가 제2 렌즈 요소의 물체측 표면에 포지셔닝되는, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 34: 예 28 내지 예 33 중 어느 한 예에 있어서, 제1 렌즈 요소는 -99×10-6/℃ 미만의 dn/dT를 갖는 재료로부터 형성되고; 제2 렌즈 요소는 -95×10-6/℃보다 더 큰 dn/dT를 갖는 재료로부터 형성되고; 제3 렌즈 요소는 -118×10-6/℃ 미만의 dn/dT를 갖는 재료로부터 형성되고; 제4 렌즈 요소는 -95×10-6/℃보다 더 큰 dn/dT를 갖는 재료로부터 형성되고; 제5 렌즈 요소는 -118×10-6/℃ 미만의 dn/dT를 갖는 재료로부터 형성되는, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 35: 예 28 내지 예 34 중 어느 한 예에 있어서, 제1 렌즈 요소는 Zeonex 480R로부터 형성되고, 56의 아베 수를 가지며, -106×10-6/℃의 dn/dT를 가지며; 제2 렌즈 요소는 Zeonex F52R로부터 형성되고, 56의 아베 수를 가지며, -93×10-6/℃의 dn/dT를 가지며; 제3 렌즈 요소는 OKP4로부터 형성되고, 27의 아베 수를 가지며, -152×10-6/℃의 dn/dT를 가지며; 제4 렌즈 요소는 Zeonex F52R로부터 형성되고, 56의 아베 수를 가지며, -93×10-6/℃의 dn/dT를 가지며; 제5 렌즈 요소는 OKP-A1로부터 형성되고, 22의 아베 수를 가지며, -138×10-6/℃의 dn/dT를 갖는, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 36: 예 28 내지 예 35 중 어느 한 예에 있어서, 제6 렌즈 요소와 이미지 평면 사이에 포지셔닝되는 청색 유리 흡수 필터를 더 포함하는, 이미징 렌즈 어셈블리.
예 37: 프로세서 및 메모리를 포함하는 모바일 디바이스로서, 메모리는, 프로세서에 의해 실행될 때, 프로세서로 하여금, 예 1 내지 예 36 중 어느 한 예의 이미징 렌즈 어셈블리에 의해 생성되는 디지털 이미지를 저장하게 하는 명령어들을 포함하는, 모바일 디바이스.
Claims (20)
- 양의 총 굴절력(positive total refractive power)을 갖는 이미징 렌즈 어셈블리로서,
상기 이미징 렌즈 어셈블리는, 물체측으로부터 이미지측으로 순서대로:
상기 총 굴절력의 51% 내지 68%의 음의 굴절력을 갖는 제1 렌즈 요소;
상기 총 굴절력의 0% 내지 5%의 제로 또는 양의 굴절력을 갖는 제2 렌즈 요소;
상기 총 굴절력의 75% 내지 110%의 양의 굴절력을 갖는 제3 렌즈 요소;
상기 총 굴절력의 42% 내지 61%의 음의 굴절력을 갖는 제4 렌즈 요소;
상기 총 굴절력의 91% 내지 112%의 양의 굴절력을 갖는 제5 렌즈 요소; 및
상기 총 굴절력의 38% 내지 97%의 음의 굴절력을 갖는 제6 렌즈 요소
를 포함하고,
상기 제1 렌즈 요소는 -106×10-6/℃와 -99×10-6/℃ 사이의 dn/dT를 갖는 재료로부터 형성되고;
상기 제3 렌즈 요소는 -95×10-6/℃와 -93×10-6/℃ 사이의 dn/dT를 갖는 재료로부터 형성되고;
상기 제4 렌즈 요소는 -152×10-6/℃와 -118×10-6/℃ 사이의 dn/dT를 갖는 재료로부터 형성되고;
상기 제5 렌즈 요소는 -95×10-6/℃와 -93×10-6/℃ 사이의 dn/dT를 갖는 재료로부터 형성되고;
상기 제6 렌즈 요소는 -138×10-6/℃와 -118×10-6/℃ 사이의 dn/dT를 갖는 재료로부터 형성되는, 이미징 렌즈 어셈블리. - 제1항에 있어서,
상기 제1, 제2, 제3, 제4, 제5, 및 제6 요소들은 플라스틱으로부터 형성되는, 이미징 렌즈 어셈블리. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 제1, 제2, 제3, 제4, 제5, 및 제6 요소들은 플라스틱 배럴에 장착되고 플라스틱 스페이서들에 의해 이격되는, 이미징 렌즈 어셈블리. - 삭제
- 삭제
- 양의 총 굴절력을 갖는 이미징 렌즈 어셈블리로서,
상기 이미징 렌즈 어셈블리는, 물체측으로부터 이미지측으로 순서대로:
상기 총 굴절력의 51% 내지 68%의 음의 굴절력을 갖는 제1 렌즈 요소;
상기 총 굴절력의 0% 내지 5%의 제로 또는 양의 굴절력을 갖는 제2 렌즈 요소;
상기 총 굴절력의 75% 내지 110%의 양의 굴절력을 갖는 제3 렌즈 요소;
상기 총 굴절력의 42% 내지 61%의 음의 굴절력을 갖는 제4 렌즈 요소;
상기 총 굴절력의 91% 내지 112%의 양의 굴절력을 갖는 제5 렌즈 요소; 및
상기 총 굴절력의 38% 내지 97%의 음의 굴절력을 갖는 제6 렌즈 요소
를 포함하고,
상기 제1 렌즈 요소는 Zeonex 480R로부터 형성되고, 56의 아베 수를 가지며, -106×10-6/℃의 dn/dT를 가지며;
상기 제2 렌즈 요소는 OKP-A1로부터 형성되고, 22의 아베 수를 가지며, -133×10-6/℃의 dn/dT를 가지며;
상기 제3 렌즈 요소는 Zeonex F52R로부터 형성되고, 56의 아베 수를 가지며, -93×10-6/℃의 dn/dT를 가지며;
상기 제4 렌즈 요소는 OKP4로부터 형성되고, 27의 아베 수를 가지며, -152×10-6/℃의 dn/dT를 가지며;
상기 제5 렌즈 요소는 Zeonex F52R로부터 형성되고, 56의 아베 수를 가지며, -93×10-6/℃의 dn/dT를 가지며;
상기 제6 렌즈 요소는 OKP1로부터 형성되고, 22의 아베 수를 가지며, -138×10-6/℃의 dn/dT를 갖는, 이미징 렌즈 어셈블리. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 제1, 제3, 제4, 제5, 및 제6 렌즈 요소들은 비구면인, 이미징 렌즈 어셈블리. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 이미징 렌즈 어셈블리의 구경 조리개(aperture stop)가 상기 제3 렌즈 요소의 물체측 표면에 포지셔닝되는, 이미징 렌즈 어셈블리. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 제6 렌즈 요소와 이미지 평면 사이에 포지셔닝되는 청색 유리 흡수 필터를 더 포함하는, 이미징 렌즈 어셈블리. - 프로세서 및 메모리를 포함하는 모바일 디바이스로서,
상기 메모리는, 상기 프로세서에 의해 실행될 때, 상기 프로세서로 하여금, 제1항 또는 제2항의 이미징 렌즈 어셈블리에 의해 생성되는 디지털 이미지를 저장하게 하는 명령어들을 포함하는, 모바일 디바이스. - 양의 총 굴절력을 갖는 이미징 렌즈 어셈블리로서,
상기 이미징 렌즈 어셈블리는, 물체측으로부터 이미지측으로 순서대로:
음의 굴절력을 가지며 50과 56 사이의 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는 제1 렌즈 요소;
22와 35 사이의 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는 제2 렌즈 요소;
양의 굴절력을 가지며 50과 56 사이의 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는 제3 렌즈 요소;
음의 굴절력을 가지며 27의 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는 제4 렌즈 요소;
양의 굴절력을 가지며 50과 56 사이의 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는 제5 렌즈 요소; 및
음의 굴절력을 가지며 22와 27 사이의 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는 제6 렌즈 요소
를 포함하고,
상기 제1 렌즈 요소는 -106×10-6/℃와 -99×10-6/℃ 사이의 dn/dT를 갖는 재료로부터 형성되고;
상기 제3 렌즈 요소는 -95×10-6/℃와 -93×10-6/℃ 사이의 dn/dT를 갖는 재료로부터 형성되고;
상기 제4 렌즈 요소는 -152×10-6/℃와 -118×10-6/℃ 사이의 dn/dT를 갖는 재료로부터 형성되고;
상기 제5 렌즈 요소는 -95×10-6/℃와 -93×10-6/℃ 사이의 dn/dT를 갖는 재료로부터 형성되고;
상기 제6 렌즈 요소는 -138×10-6/℃와 -118×10-6/℃ 사이의 dn/dT를 갖는 재료로부터 형성되는, 이미징 렌즈 어셈블리. - 제11항에 있어서,
상기 제1, 제2, 제3, 제4, 제5, 및 제6 요소들은 플라스틱으로부터 형성되는, 이미징 렌즈 어셈블리. - 제11항 또는 제12항에 있어서,
상기 제1, 제2, 제3, 제4, 제5, 및 제6 요소들은 플라스틱 배럴에 장착되고 플라스틱 스페이서들에 의해 이격되는, 이미징 렌즈 어셈블리. - 제11항 또는 제12항에 있어서,
상기 제1 렌즈 요소는 상기 총 굴절력의 51% 내지 68%의 음의 굴절력을 가지며;
상기 제2 렌즈 요소는 상기 총 굴절력의 0% 내지 5%의 제로 또는 양의 굴절력을 가지며;
상기 제3 렌즈 요소는 상기 총 굴절력의 75% 내지 110%의 양의 굴절력을 가지며;
상기 제4 렌즈 요소는 상기 총 굴절력의 42% 내지 61%의 음의 굴절력을 가지며;
상기 제5 렌즈 요소는 상기 총 굴절력의 91% 내지 112%의 양의 굴절력을 가지며;
상기 제6 렌즈 요소는 상기 총 굴절력의 38% 내지 97%의 음의 굴절력을 갖는, 이미징 렌즈 어셈블리. - 제11항 또는 제12항에 있어서,
상기 제1, 제3, 제4, 제5, 및 제6 렌즈 요소들은 비구면인, 이미징 렌즈 어셈블리. - 제11항 또는 제12항에 있어서,
상기 이미징 렌즈 어셈블리의 구경 조리개가 상기 제3 렌즈 요소의 물체측 표면에 포지셔닝되는, 이미징 렌즈 어셈블리. - 삭제
- 양의 총 굴절력을 갖는 이미징 렌즈 어셈블리로서,
상기 이미징 렌즈 어셈블리는, 물체측으로부터 이미지측으로 순서대로:
음의 굴절력을 가지며 50보다 더 큰 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는 제1 렌즈 요소;
35 미만의 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는 제2 렌즈 요소;
양의 굴절력을 가지며 50보다 더 큰 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는 제3 렌즈 요소;
음의 굴절력을 가지며 27 미만의 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는 제4 렌즈 요소;
양의 굴절력을 가지며 50보다 더 큰 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는 제5 렌즈 요소; 및
음의 굴절력을 가지며 27 미만의 아베 수를 갖는 재료로부터 형성되는 제6 렌즈 요소
를 포함하고,
상기 제1 렌즈 요소는 Zeonex 480R로부터 형성되고, 56의 아베 수를 가지며, -106×10-6/℃의 dn/dT를 가지며;
상기 제2 렌즈 요소는 OKP-A1로부터 형성되고, 22의 아베 수를 가지며, -133×10-6/℃의 dn/dT를 가지며;
상기 제3 렌즈 요소는 Zeonex F52R로부터 형성되고, 56의 아베 수를 가지며, -93×10-6/℃의 dn/dT를 가지며;
상기 제4 렌즈 요소는 OKP4로부터 형성되고, 27의 아베 수를 가지며, -152×10-6/℃의 dn/dT를 가지며;
상기 제5 렌즈 요소는 Zeonex F52R로부터 형성되고, 56의 아베 수를 가지며, -93×10-6/℃의 dn/dT를 가지며;
상기 제6 렌즈 요소는 OKP1로부터 형성되고, 22의 아베 수를 가지며, -138×10-6/℃의 dn/dT를 갖는, 이미징 렌즈 어셈블리. - 제11항 또는 제12항에 있어서,
상기 제6 렌즈 요소와 이미지 평면 사이에 포지셔닝되는 청색 유리 흡수 필터를 더 포함하는, 이미징 렌즈 어셈블리. - 프로세서 및 메모리를 포함하는 모바일 디바이스로서,
상기 메모리는, 상기 프로세서에 의해 실행될 때, 상기 프로세서로 하여금, 제11항 또는 제12항의 이미징 렌즈 어셈블리에 의해 생성되는 디지털 이미지를 저장하게 하는 명령어들을 포함하는, 모바일 디바이스.
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