KR102346328B1 - Planar Heater for Thermal Process of Substrate - Google Patents

Planar Heater for Thermal Process of Substrate Download PDF

Info

Publication number
KR102346328B1
KR102346328B1 KR1020200044381A KR20200044381A KR102346328B1 KR 102346328 B1 KR102346328 B1 KR 102346328B1 KR 1020200044381 A KR1020200044381 A KR 1020200044381A KR 20200044381 A KR20200044381 A KR 20200044381A KR 102346328 B1 KR102346328 B1 KR 102346328B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
support
groove
support groove
support block
block
Prior art date
Application number
KR1020200044381A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20210126459A (en
Inventor
김형준
김병국
이석우
이남천
한맹군
Original Assignee
주식회사 비아트론
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 비아트론 filed Critical 주식회사 비아트론
Priority to KR1020200044381A priority Critical patent/KR102346328B1/en
Publication of KR20210126459A publication Critical patent/KR20210126459A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102346328B1 publication Critical patent/KR102346328B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B3/00Ohmic-resistance heating
    • H05B3/68Heating arrangements specially adapted for cooking plates or analogous hot-plates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67098Apparatus for thermal treatment
    • H01L21/67103Apparatus for thermal treatment mainly by conduction
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B1/00Details of electric heating devices
    • H05B1/02Automatic switching arrangements specially adapted to apparatus ; Control of heating devices
    • H05B1/0202Switches
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B1/00Details of electric heating devices
    • H05B1/02Automatic switching arrangements specially adapted to apparatus ; Control of heating devices
    • H05B1/0227Applications
    • H05B1/023Industrial applications
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B3/00Ohmic-resistance heating
    • H05B3/02Details
    • H05B3/06Heater elements structurally combined with coupling elements or holders
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B3/00Ohmic-resistance heating
    • H05B3/20Heating elements having extended surface area substantially in a two-dimensional plane, e.g. plate-heater
    • H05B3/22Heating elements having extended surface area substantially in a two-dimensional plane, e.g. plate-heater non-flexible
    • H05B3/28Heating elements having extended surface area substantially in a two-dimensional plane, e.g. plate-heater non-flexible heating conductor embedded in insulating material
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B2203/00Aspects relating to Ohmic resistive heating covered by group H05B3/00
    • H05B2203/002Heaters using a particular layout for the resistive material or resistive elements
    • H05B2203/004Heaters using a particular layout for the resistive material or resistive elements using zigzag layout

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Resistance Heating (AREA)

Abstract

본 발명은 상판과, 하판과, 상기 상판과 하판 사이에 위치하며, 제 1 방향으로 소정 길이로 연장되면서 제 2 방향으로 이격되는 직선부와 상기 직선부의 양측에서 이웃하는 상기 직선부를 교대로 연결하는 절곡부를 구비하는 열선 및 상기 상판과 하판 사이에서 내측에 위치하며, 상기 열선의 양측에서 상기 절곡부를 지지하여 상기 열선을 상기 상판과 하판으로부터 이격시키는 지지 블록을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 열처리용 평판 히터를 개시한다.The present invention provides an upper plate, a lower plate, and a straight part positioned between the upper plate and the lower plate, extending for a predetermined length in the first direction and spaced apart in the second direction, and the linear parts adjacent to each other on both sides of the straight part. A heat wire having a bent part and a support block positioned inside between the upper and lower plates, supporting the bent part on both sides of the hot wire to separate the hot wire from the upper and lower plates, characterized in that it comprises a flat plate for heat treatment. Start the heater.

Description

기판 열처리용 평판 히터{Planar Heater for Thermal Process of Substrate}Planar Heater for Thermal Process of Substrate

본 발명은 평판 표시 장치의 제조 공정에서 대형 유리 기판을 안정적으로 지지하면서 가열하는 기판열처리용 평판 히터 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a flat panel heater device for heat treatment of a substrate for heating while stably supporting a large glass substrate in a manufacturing process of a flat panel display device.

OLED와 같은 평판 표시 장치는 대형 유리 기판을 사용하여 제조된다. 최근에는 유리 기판이 대형화됨에 따라 유리 기판의 열처리를 위한 평판 히터도 대형화되고 있다.A flat panel display device such as an OLED is manufactured using a large glass substrate. In recent years, as the size of the glass substrate is increased, the flat heater for heat treatment of the glass substrate is also increasing in size.

평판 히터가 대형화되면서 승온과 냉각을 포함하는 일련의 열처리 과정에서 평판 히터의 각종 부품이 열팽창 계수 차이에 의해 고온에서 열 변형되거나 파손될 수 있다. 예를 들면, 평판 히터는 일반적으로 열선이 어느 하나의 방향으로 이격되면서 배열되어 형성되는데, 열선은 가열과 냉각이 반복되면서 열 변형될 수 있다. 열선은 열 변형이 과도하게 되면서 인접한 열선과 서로 쇼트될 수 있다. 또한, 열선이 과도하게 변형되면 상부에 안착되는 유기 기판을 균일하게 가열하는데 문제가 될 수 있다.As the flat plate heater becomes larger, various parts of the flat heater may be thermally deformed or damaged at a high temperature due to a difference in thermal expansion coefficient in a series of heat treatment processes including temperature increase and cooling. For example, flat heaters are generally formed by arranging hot wires spaced apart in one direction, and the hot wires may be thermally deformed while heating and cooling are repeated. The hot wire may be short-circuited with an adjacent hot wire as thermal deformation becomes excessive. In addition, if the heating wire is excessively deformed, there may be a problem in uniformly heating the organic substrate seated thereon.

본 발명은 열선을 안정적으로 지지하며, 얇은 두께로 형성될 수 있는 기판 열처리용 평판 히터를 제공하는데 있다.An object of the present invention is to provide a flat plate heater for heat treatment of a substrate that stably supports a heating wire and can be formed in a thin thickness.

또한, 본 발명은 평판 표시 장치의 제조에 이용되는 유리 기판을 열처리하는 과정에서 열선의 변형과 이에 의한 단락을 방지할 수 있는 기판 열처리용 평판 히터를 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide a flat panel heater for heat treatment of a substrate capable of preventing deformation of a heating wire and a short circuit due to the deformation of a heating wire in the process of heat treatment of a glass substrate used for manufacturing a flat panel display device.

또한, 본 발명은 열선의 변형을 감소시켜 유리 기판을 균일하게 가열할 수 있는 기판 열처리용 평판히터를 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide a flat plate heater for substrate heat treatment capable of uniformly heating a glass substrate by reducing the deformation of the heating wire.

본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리용 평판 히터는 상판과, 하판과, 상기 상판과 하판 사이에 위치하며, 제 1 방향으로 소정 길이로 연장되면서 제 2 방향으로 이격되는 직선부와 상기 직선부의 양측에서 이웃하는 상기 직선부를 교대로 연결하는 절곡부를 구비하는 열선 및 상기 상판과 하판 사이에서 내측에 위치하며, 상기 열선의 양측에서 상기 절곡부를 지지하여 상기 열선을 상기 상판과 하판으로부터 이격시키는 지지 블록을 포함하는 것을 특징으로 한다.A flat plate heater for heat treatment of a substrate according to an embodiment of the present invention includes an upper plate, a lower plate, a straight part positioned between the upper plate and the lower plate, extending a predetermined length in a first direction, and spaced apart in a second direction, and the straight part A support block positioned inside between the heating wire and the upper plate and the lower plate having bent parts alternately connecting the adjacent straight parts on both sides, and supporting the bent part on both sides of the heating wire to separate the heating wire from the upper plate and the lower plate. It is characterized in that it includes.

또한, 상기 평판 히터는 복수 개의 제어 영역으로 구분되며, 상기 열선은 상기 제어 영역별로 독립적으로 제어될 수 있다. 또한, 상기 열선은 상기 제 1 방향으로 연장되면서 상기 제 2 방향으로 이격되는 복수 개의 직선부를 더 구비하며, 상기 절곡부는 인접하는 2개의 상기 직선부의 단부에 결합되며 상기 직선부의 양측에서 서로 엇갈리게 위치할 수 있다.In addition, the flat heater may be divided into a plurality of control regions, and the heating wire may be independently controlled for each control region. In addition, the heating wire further includes a plurality of straight parts spaced apart in the second direction while extending in the first direction, and the bent part is coupled to the ends of the two adjacent straight parts and is positioned to be staggered from each other on both sides of the straight part. can

또한, 상기 지지 블록은 상기 절곡부가 지지되는 제 1 단부 지지 홈 및 상기 제 1 단부 지지 홈에 결합되어 상기 절곡부를 지지하는 제 1 이탈 방지 수단을 포함하며, 상기 제 2 방향으로 배열되는 제 1 지지 블록을 포함할 수 있다. 이때, 상기 제 1 지지 블록은 상기 제 1 단부 지지 홈의 사이에 위치하는 제 1 내부 지지 홈 및 상기 제 2 방향으로 연장되는 제 1 열선 트렌치를 더 구비하며, 상기 제 1 단부 지지 홈 및 상기 제 1 내부 지지 홈은 상기 제 1 열선 트렌치를 기준으로 일측과 타측에 대칭으로 위치하며, 상기 제 1 단부 지지 홈은 상기 제 1 지지 블록의 전측과 후측에 위치하며, 상기 제 1 지지 블록의 일측 또는 타측 및 전측 또는 후측이 개방되어 형성되며, 상기 제 1 내부 지지 홈은 상기 제 1 지지 블록의 일측 또는 타측으로 개방되어 형성될 수 있다.In addition, the support block includes a first end support groove in which the bent portion is supported and a first separation preventing means coupled to the first end support groove to support the bent portion, and a first support arranged in the second direction. It may contain blocks. In this case, the first support block further includes a first inner support groove positioned between the first end support grooves and a first hot wire trench extending in the second direction, the first end support groove and the first end support groove 1 inner support groove is located symmetrically on one side and the other side with respect to the first hot wire trench, and the first end support groove is located on the front side and rear side of the first support block, one side of the first support block or The other side and the front side or the rear side may be opened, and the first internal support groove may be formed to be opened to one side or the other side of the first support block.

또한, 상기 제 1 이탈 방지 수단은 상기 제 1 단부 지지 홈의 바닥면에서 상부 방향으로 연장되는 제 1 이탈 방지 기둥 및 상기 제 1 이탈 방지 기둥의 상부에서 상기 제 1 지지 블록의 전측 또는 후측으로 연장되는 제 1 이탈 방지 바를 포함할 수 있다. 또한, 상기 제 1 이탈 방지 기둥은 상기 제 1 단부 지지 홈의 깊이보다 작은 높이와 상기 열선의 직경보다 큰 높이로 형성되며, 상기 제 1 이탈 방지 바는 상기 절곡부의 반경보다 큰 길이로 연장될 수 있다.In addition, the first separation preventing means includes a first separation preventing pillar extending upwardly from the bottom surface of the first end support groove, and extending from an upper portion of the first separation preventing pillar to the front or rear side of the first supporting block. It may include a first anti-separation bar. In addition, the first separation prevention pillar is formed to have a height smaller than the depth of the first end support groove and a height greater than the diameter of the hot wire, and the first departure prevention bar may extend to a length greater than the radius of the bent portion. have.

상기 지지 블록은 상기 상판과 하판 사이의 일측 모서리 영역과 타측 모서리 영역에 위치하며, 상기 절곡부가 지지되는 제 2 단부 지지 홈과, 상기 제 2 단부 지지 홈 사이에 위치하며 상기 절곡부가 지지되는 제 2 내부 지지 홈과, 상기 제 2 단부 지지 홈에 위치하며, 상기 절곡부를 지지하는 제 2 이탈 방지 수단 및 상기 제 2 방향으로 연장되는 제 2 튜브 트렌치를 구비하는 제 2 지지 블록을 더 포함하며, 상기 제 2 단부 지지 홈과 제 2 내부 지지 홈 및 상기 제 2 이탈 방지 수단은 상기 제 2 투브 트렌치를 기준으로 일측 또는 타측에만 형성될 수 있다.The support block is positioned in one corner region and the other corner region between the upper plate and the lower plate, a second end support groove in which the bent part is supported, and a second end support groove in which the bent part is supported and positioned between the second end support groove. Further comprising: an inner support groove; a second support block positioned in the second end support groove; The second end support groove, the second inner support groove, and the second separation preventing means may be formed only on one side or the other side with respect to the second tube trench.

또한, 상기 지지 블록은 상기 상판과 하판 사이의 전측 모서리 영역과 후측 모서리 영역에 위치하며, 전측 또는 후측에 위치하여 상기 절곡부가 지지되는 제 3 단부 지지 홈과, 상기 제 3 단부 지지 홈의 후측 또는 전측에 위치하며, 상기 절곡부가 지지되는 제 3 내부 지지 홈과, 상기 제 3 단부 지지 홈에 위치하며, 상기 절곡부를 지지하는 제 3 이탈 방지 수단과 상기 제 2 방향으로 연장되는 제 3 열선 트렌치 및 제 3 단부 지지 홈이 형성되는 측과 반대측에서 제 1 방향으로 연장되어 형성되는 제 3 튜브 트렌치를 구비하는 제 3 지지 블록을 포함할 수 있다.In addition, the support block is located in the front edge region and the rear edge region between the upper plate and the lower plate, a third end support groove positioned on the front or rear side to support the bent portion, and a rear side of the third end support groove or A third internal support groove positioned on the front side, in which the bent part is supported, a third separation preventing means positioned in the third end support groove and supporting the bent part, and a third hot wire trench extending in the second direction, and and a third support block having a third tube trench extending in the first direction from a side opposite to the side on which the third end support groove is formed.

또한, 기판 열처리용 평판 히터는 상기 제 2 방향으로 인접한 제어 영역들 사이에서 상기 제 1 지지 블록들 사이에 위치하며, 상기 제 1 지지 블록에서 상기 제 1 이탈 방지 수단 사이에 위치하는 중간 본체 판과, 상기 중간 본체 판의 하면에서 상기 제 1 방향으로 연장되면서 상기 제 2 방향으로 이격되어 열선이 수용되면서 지지되는 하부 연장 홈과 상기 하부 연장 홈의 연장 방향과 수직인 방향으로 전면에서 후면으로 관통되는 하부 관통 홀을 구비하는 하부 연장 바를 구비하는 중간 블록을 더 포함할 수 있다.In addition, the flat plate heater for substrate heat treatment is positioned between the first support blocks between the control regions adjacent in the second direction, and an intermediate body plate positioned between the first separation preventing means in the first support block; , a lower extension groove that extends in the first direction from the lower surface of the intermediate body plate and is spaced apart in the second direction to receive a heating wire and penetrates from the front to the rear in a direction perpendicular to the extension direction of the lower extension groove It may further include an intermediate block having a lower extension bar having a lower through hole.

또한, 상기 기판 열처리용 평판 히터는 직육면체 형상으로 형성되어 상기 상판과 하판 사이에서 4개의 코너에 각각 위치하며, 서로 대향하는 측면에서 내측으로 형성되는 튜브 고정 홈을 구비하는 코너 블록 및 상기 상판과 하판 사이에서 각 모서리를 따라 연장되며, 상기 튜브 고정 홈에 양 단부가 삽입되어 결합되는 지지 튜브를 더 포함할 수 있다.In addition, the flat plate heater for heat treatment of the substrate is formed in a rectangular parallelepiped shape, respectively positioned at four corners between the upper plate and the lower plate, and a corner block having tube fixing grooves formed inward from opposite sides of the upper and lower plates, and the upper and lower plates It may further include a support tube extending along each edge between the two ends are inserted into the tube fixing groove is coupled.

본 발명의 기판 열처리용 평판 히터는 열선의 절곡부를 지지하는 블록의 단부에 열선의 절곡부를 고정하는 이탈 방지 수단을 구비하여 열선의 변형과 이에 의한 단락을 감소시킬 수 있다.The flat panel heater for heat treatment of a substrate of the present invention includes a separation preventing means for fixing the bent portion of the hot wire to the end of the block supporting the bent portion of the hot wire, thereby reducing deformation of the hot wire and a short circuit.

또한, 본 발명의 기판 열처리용 평판 히터는 열선의 변형을 감소시켜 유리 기판을 균일하게 가열할 수 있다.In addition, the flat heater for substrate heat treatment of the present invention can reduce the deformation of the heating wire to uniformly heat the glass substrate.

또한, 본 발명의 기판 열처리용 평판 히터는 모서리 지지 수단에 의하여 모서리 부분이 지지되므로 얇은 두께로 형성되어도 변형이 감소될 수 있다.In addition, since the edge portion of the flat heater for heat treatment of a substrate of the present invention is supported by the edge support means, deformation can be reduced even when formed to a thin thickness.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리용 평판 히터의 평면도이다.
도 2는 도 1의 "A"에 대한 확대도이다.
도 3은 도 2의 B-B에 대한 수직 단면도이다.
도 4a는 도 1의 기판 열처리용 평판 히터를 구성하는 제 1 지지 블록의 평면도이다.
도 4b는 도 4a의 제 1 지지 블록의 정면도이다.
도 4c는 제 1 지지 블록과 열선의 결합 관계를 나타내는 사시도이다.
도 5a는 도 1의 기판 열처리용 평판 히터를 구성하는 제 2 지지 블록의 평면도이다.
도 5b는 도 5a의 제 2 지지 블록의 정면도이다.
도 5c는 제 2 지지 블록과 열선의 결합 관계를 나타내는 사시도이다.
도 6a는 도 1의 기판 열처리용 평판 히터를 구성하는 제 3 지지 블록의 평면도이다.
도 6b는 도 6a의 제 3 지지 블록의 정면도이다.
도 7a는 본 발명의 일 실시예에 기판 열처리용 평판 히터를 구성하는 중간 블록의 정면도이다.
도 7b는 도 7a의 C-C에 대한 수직 단면도이다.
도 8a는 본 발명의 일 실시예에 기판 열처리용 평판 히터를 구성하는 코너 블록과 세라믹 튜브가 결합된 상태의 평면도이다.
도 8b는 도 8a의 D-D에 대한 수직 단면도이다.
1 is a plan view of a flat plate heater for heat treatment of a substrate according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is an enlarged view of “A” of FIG. 1 .
FIG. 3 is a vertical cross-sectional view taken along line BB of FIG. 2 .
FIG. 4A is a plan view of a first support block constituting the flat heater for substrate heat treatment of FIG. 1 .
Fig. 4b is a front view of the first support block of Fig. 4a;
4C is a perspective view illustrating a coupling relationship between a first support block and a heating wire.
5A is a plan view of a second support block constituting the flat plate heater for heat treatment of the substrate of FIG. 1 .
Fig. 5b is a front view of the second support block of Fig. 5a;
5C is a perspective view illustrating a coupling relationship between a second support block and a heating wire.
6A is a plan view of a third support block constituting the flat heater for substrate heat treatment of FIG. 1 .
Fig. 6b is a front view of the third support block of Fig. 6a;
7A is a front view of an intermediate block constituting a flat plate heater for substrate heat treatment according to an embodiment of the present invention.
FIG. 7B is a vertical cross-sectional view taken along CC of FIG. 7A .
8A is a plan view of a state in which a corner block constituting a flat heater for substrate heat treatment and a ceramic tube are combined according to an embodiment of the present invention.
FIG. 8B is a vertical cross-sectional view taken along DD of FIG. 8A .

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

이하에서, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리용 평판 히터의 구조에 대하여 설명한다.Hereinafter, a structure of a flat plate heater for heat treatment of a substrate according to an embodiment of the present invention will be described.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리용 평판 히터의 평면도이다. 도 2는 도 1의 "A"에 대한 확대도이다. 도 3은 도 2의 B-B에 대한 수직 단면도이다. 도 4a는 도 1의 기판 열처리용 평판 히터를 구성하는 제 1 지지 블록의 평면도이다. 도 4b는 도 4a의 제 1 지지 블록의 정면도이다. 도 4c는 제 1 지지 블록과 열선의 결합 관계를 나타내는 사시도이다. 도 5a는 도 1의 기판 열처리용 평판 히터를 구성하는 제 2 지지 블록의 평면도이다. 도 5b는 도 5a의 제 2 지지 블록의 정면도이다. 도 5c는 제 2 지지 블록과 열선의 결합 관계를 나타내는 사시도이다. 도 6a는 도 1의 기판 열처리용 평판 히터를 구성하는 제 3 지지 블록의 평면도이다. 도 6b는 도 6a의 제 3 지지 블록의 정면도이다. 도 7a는 본 발명의 일 실시예에 기판 열처리용 평판 히터를 구성하는 중간 블록의 정면도이다. 도 7b는 도 7a의 C-C에 대한 수직 단면도이다. 도 8a는 본 발명의 일 실시예에 기판 열처리용 평판 히터를 구성하는 코너 블록과 세라믹 튜브가 결합된 상태의 평면도이다. 도 8b는 도 8a의 D-D에 대한 수직 단면도이다.1 is a plan view of a flat plate heater for heat treatment of a substrate according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is an enlarged view of “A” of FIG. 1 . FIG. 3 is a vertical cross-sectional view taken along line B-B of FIG. 2 . FIG. 4A is a plan view of a first support block constituting the flat heater for substrate heat treatment of FIG. 1 . Fig. 4b is a front view of the first support block of Fig. 4a; 4C is a perspective view illustrating a coupling relationship between a first support block and a heating wire. 5A is a plan view of a second support block constituting the flat plate heater for heat treatment of the substrate of FIG. 1 . Fig. 5b is a front view of the second support block of Fig. 5a; 5C is a perspective view illustrating a coupling relationship between a second support block and a heating wire. 6A is a plan view of a third support block constituting the flat heater for substrate heat treatment of FIG. 1 . Fig. 6b is a front view of the third support block of Fig. 6a; 7A is a front view of an intermediate block constituting a flat plate heater for substrate heat treatment according to an embodiment of the present invention. 7B is a vertical cross-sectional view taken along line C-C of FIG. 7A. 8A is a plan view of a state in which a corner block constituting a flat heater for substrate heat treatment and a ceramic tube are combined according to an embodiment of the present invention. Fig. 8B is a vertical cross-sectional view taken along line D-D of Fig. 8A.

본 발명에 따른 기판 열처리용 평판 히터(100)는, 도 1 내지 도 8b를 참조하면, 상판(110)과 하판(120)과 열선(130)과 제 1 지지 블록(140)과 제 2 지지 블록(150) 및 제 3 지지 블록(160)을 포함할 수 있다. 또한, 상기 기판 열처리용 평판 히터(100)는 중간 블록(170)과 코너 블록(180) 및 지지 튜브(190)를 더 포함할 수 있다.A flat heater 100 for heat treatment of a substrate according to the present invention, with reference to FIGS. 1 to 8B , an upper plate 110 , a lower plate 120 , a heating wire 130 , a first support block 140 , and a second support block 150 and a third support block 160 may be included. In addition, the flat heater 100 for heat treatment of the substrate may further include an intermediate block 170 , a corner block 180 , and a support tube 190 .

이하에서, 상기 제 1 지지 블록(140)과 제 2 지지 블록(150) 및 제 3 지지 블록(160)에 공통적인 구성을 설명하는 경우에 지지 블록으로 통칭하여 설명할 수 있다. 또한, 제 1 방향은 도 1의 x 방향을 의미하며, 제 2 방향은 제 1 방향에 수직인 y 방향을 의미한다. 한편, 도 1과 도 2에서는 구조를 명확하게 표현하기 위하여 상판(110)이 없는 상태를 기준으로 도시하였으며, 도 3은 도 2의 B-B에 대한 수직 단면도이지만 상판(110)과 하판(120)을 추가로 도시하였다.Hereinafter, when a configuration common to the first support block 140 , the second support block 150 , and the third support block 160 is described, they may be collectively referred to as a support block. In addition, the first direction refers to the x direction of FIG. 1 , and the second direction refers to the y direction perpendicular to the first direction. On the other hand, in FIGS. 1 and 2, the state without the upper plate 110 is shown based on the state without the upper plate 110 in order to clearly express the structure, and FIG. 3 is a vertical cross-sectional view taken along the BB of FIG. further shown.

상기 기판 열처리용 평판 히터(100)는 상판(110)과 하판(120) 사이에 열선(130)과 제 1 지지 블록(140)과 제 2 지지 블록(150) 및 제 3 지지 블록(160)이 배치될 수 있다. 또한, 상기 기판 열처리용 평판 히터(100)는 상판(110)과 하판(120) 사이에 중간 블록(170)과 코너 블록(180) 및 지지 튜브(190)가 더 배치될 수 있다. 상기 기판 열처리용 평판 히터(100)는 상판(110)의 상부에 안착되는 유리 기판과 같은 평판 기판을 가열할 수 있다.The flat heater 100 for heat treatment of the substrate includes a heating wire 130, a first support block 140, a second support block 150, and a third support block 160 between the upper plate 110 and the lower plate 120. can be placed. In addition, in the flat plate heater 100 for heat treatment of the substrate, an intermediate block 170 , a corner block 180 , and a support tube 190 may be further disposed between the upper plate 110 and the lower plate 120 . The flat plate heater 100 for heat treatment of the substrate may heat a flat substrate, such as a glass substrate, seated on the upper plate 110 .

상기 기판 열처리용 평판 히터(100)는 열선의 절곡부가 지지 블록에 의하여 지지될 수 있다. 또한, 상기 기판 열처리용 평판 히터(100)는 지지 블록에 구비되는 이탈 방지 수단에 의하여 열선이 지지 블록으로부터 이탈되는 것을 방지할 수 있다. 특히, 상기 기판 열처리용 평판 히터(100)는 이탈 방지 수단이 열선의 절곡부 상부를 지지하여 열선이 지지 블록으로부터 이탈되는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 상기 기판 열처리용 평판 히터(100)는 열선의 변형 또는 이탈에 의한 단락을 감소시킬 수 있다. 또한, 본 발명의 기판 열처리용 평판 히터(100)는 열선의 이탈에 의하여 발생될 수 있는 열선 배열의 불균일을 감소시켜 유리 기판을 균일하게 가열할 수 있다.In the flat plate heater 100 for heat treatment of the substrate, a bent portion of the heating wire may be supported by a support block. In addition, the flat heater 100 for heat treatment of the substrate may prevent the heating wire from being separated from the support block by a separation preventing means provided in the support block. In particular, in the flat plate heater 100 for heat treatment of the substrate, the separation preventing means supports the upper portion of the bent portion of the heating wire to prevent the heating wire from being separated from the support block. Accordingly, the flat heater 100 for heat treatment of the substrate may reduce a short circuit caused by deformation or separation of the heating wire. In addition, the flat heater 100 for heat treatment of a substrate according to the present invention can uniformly heat the glass substrate by reducing the non-uniformity of the arrangement of the hot wires that may be caused by the separation of the hot wires.

상기 기판 열처리용 평판 히터(100)는 열선을 보호하기 위한 쿼쯔 튜브와 같은 별도의 튜브를 구비하지 않으므로 전체적인 두께가 얇아질 수 있다. 또한, 상기 기판 열처리용 평판 히터(100)는 쿼쯔 튜브의 파손에 따른 파티클 발생이 방지된다. 또한, 상기 기판 열처리용 평판 히터(100)는 기존의 쿼쯔 튜브의 파손에 따른 수리, 교체와 같은 유지 보수 시간과 비용이 감소될 수 있다. 또한, 상기 기판 열처리용 평판 히터(100)는 열선이 상판(110)과 하판(120)과 지지 블록들 및 코너 블록(180)에 의하여 외부와 차폐되므로, 상판(110)과 하판(120) 사이의 영역에서 열선과 지지 블록들의 마찰에 따른 파티클이 공정 챔버의 내부로 유출되지 않는다.Since the flat heater 100 for heat treatment of the substrate does not include a separate tube such as a quartz tube for protecting the heating wire, the overall thickness may be reduced. In addition, in the flat heater 100 for heat treatment of the substrate, generation of particles due to the breakage of the quartz tube is prevented. In addition, in the flat heater 100 for heat treatment of the substrate, maintenance time and costs such as repair and replacement according to the breakage of the existing quartz tube can be reduced. In addition, in the flat heater 100 for heat treatment of the substrate, the heating wire is shielded from the outside by the upper plate 110 and the lower plate 120 , the support blocks and the corner block 180 , so that between the upper plate 110 and the lower plate 120 . In the region of , particles due to friction between the heating wire and the support blocks do not flow into the process chamber.

상기 기판 열처리용 평판 히터(100)는 복수 개의 제어 영역으로 구분되며, 예를 들면, 3개의 제어 영역(100a, 100b, 100c)으로 구분될 수 있다. 상기 제어 영역은 각각 서로 분리된 열선으로 형성될 수 있다. 즉, 상기 제어 영역은 각각 한 개의 열선으로 형성될 수 있다. 상기 제어 영역(100a, 100b, 100c)들은 독립적으로 제어될 수 있다. 따라서, 상기 기판 열처리용 평판 히터(100)는 3 개의 제어 영역(100a, 100b, 100c)에서 가열 온도 및 승온율이 독립적으로 제어될 수 있고, 이에 따라 다양한 열처리 프로파일을 구현할 수 있다. 상기 제어 영역(100a, 100b, 100c)은 기판 열처리용 평판 히터(100)의 면적과 열처리 챔버 내부에서의 배치 위치등에 따라 다양하게 구획될 수 있다.The flat heater 100 for heat treatment of the substrate is divided into a plurality of control regions, for example, it may be divided into three control regions 100a, 100b, and 100c. Each of the control regions may be formed of separate hot wires. That is, each of the control regions may be formed of one hot wire. The control regions 100a, 100b, and 100c may be independently controlled. Accordingly, in the flat plate heater 100 for heat treatment of the substrate, the heating temperature and the temperature increase rate can be independently controlled in the three control regions 100a, 100b, and 100c, and thus various heat treatment profiles can be implemented. The control regions 100a, 100b, and 100c may be divided in various ways according to an area of the flat plate heater 100 for heat treatment of a substrate and an arrangement position in the heat treatment chamber.

상기 상판(110)은 대략 평평한 판상으로 형성되며, 소정 두께로 형성될 수 있다. 상기 상판(110)은 열처리되는 평판 기판의 면적보다 넓은 면적으로 형성된다. 또한, 상기 상판(110)은 열처리 과정에서 물리적 충격이나 열 충격에 의하여 파손되지 않는 두께로 형성될 수 있다. 상기 상판(110)은 열전도율이 높고 열팽창 계수가 작은 세라믹 재질로 형성될 수 있다. 예를 들면, 상기 상판(110)은 유리, 네오 세라믹(Neoceramic), 알루미나(Al2O3), 실리콘 카바이드(SiC), 지르코니아(ZrO2), 실리콘옥사이드 또는 석영(쿼쯔, Quartz) 또는 이들의 혼합물로 형성될 수 있다.The upper plate 110 is formed in a substantially flat plate shape, and may be formed to a predetermined thickness. The upper plate 110 is formed to have a larger area than that of the flat substrate to be heat treated. In addition, the upper plate 110 may be formed to a thickness that is not damaged by physical shock or thermal shock during the heat treatment process. The upper plate 110 may be formed of a ceramic material having a high thermal conductivity and a small thermal expansion coefficient. For example, the top plate 110 is glass, neo-ceramic (Neoceramic), alumina (Al 2 O 3 ), silicon carbide (SiC), zirconia (ZrO 2 ), silicon oxide or quartz (quartz, Quartz) or these It can be formed as a mixture.

상기 하판(120)은 대략 평평한 판상으로 형성되며, 소정 두께로 형성될 수 있다. 상기 하판(120)은 열전도율이 높고 열팽창 계수가 작은 세라믹 재질로 형성될 수 있다. 또한, 상기 하판(120)은 상판(110)과 동일한 재질로 형성될 수 있다. 상기 하판(120)은 상판(110)과 동일한 형상과 면적으로 형성될 수 있다. 상기 하판(120)은 상판(110)의 하부에 이격되어 위치할 수 있다.The lower plate 120 is formed in a substantially flat plate shape, and may be formed to a predetermined thickness. The lower plate 120 may be formed of a ceramic material having a high thermal conductivity and a small thermal expansion coefficient. In addition, the lower plate 120 may be formed of the same material as the upper plate 110 . The lower plate 120 may be formed in the same shape and area as the upper plate 110 . The lower plate 120 may be spaced apart from the lower part of the upper plate 110 .

상기 열선(130)은 직선부(131) 및 절곡부(132)를 구비할 수 있다. 또한, 상기 열선은 연장부(133)를 더 포함할 수 있다. 상기 열선은 복수 개의 직선부(131)와 복수 개의 절곡부(132)를 구비하여 형성될 수 있다. 상기 직선부(131)는 제 1 방향을 따라 소정 길이로 연장되며 제 2 방향을 따라 이격되어 위치할 수 있다. 상기 절곡부(132)는 직선부(131)의 양측에서 서로 이웃하는 직선부(131)를 교대로 연결하는 형상으로 형성될 수 있다. 따라서, 상기 열선은 제 1 방향으로 소정 길이로 연장되면서 제 2 방향으로 지그재그 형상으로 절곡되어 형성될 수 있다. 상기 절곡부(132)는 소정의 반경과 각도를 갖는 호 형상 또는 소정 반경을 갖는 반원 형상으로 형성될 수 있다.The heating wire 130 may include a straight part 131 and a bent part 132 . In addition, the heating wire may further include an extension part 133 . The hot wire may be formed with a plurality of straight portions 131 and a plurality of bent portions 132 . The straight portion 131 may extend to a predetermined length in the first direction and may be spaced apart from each other in the second direction. The bent portions 132 may be formed in a shape to alternately connect the adjacent straight portions 131 on both sides of the straight portions 131 . Accordingly, the heating wire may be formed by being bent in a zigzag shape in the second direction while extending to a predetermined length in the first direction. The bent portion 132 may be formed in an arc shape having a predetermined radius and angle or a semicircular shape having a predetermined radius.

상기 연장부(133)는 직선부(131) 또는 절곡부(132)에서 연장되어 상판(110)과 하판(120)의 외측으로 연장될 수 있다. 상기 연장부(133)는 직선부(131) 또는 절곡부(132)와 연결되는 위치에 따라 다양한 길이와 형상으로 형성될 수 있다.The extension part 133 may extend from the straight part 131 or the bent part 132 to extend outside the upper plate 110 and the lower plate 120 . The extension part 133 may be formed in various lengths and shapes depending on a position connected to the straight part 131 or the bent part 132 .

상기 열선은 평판 히터의 제어 영역의 개수에 대응되는 개수로 형성될 수 있다. 예를 들면, 상기 기판이 3개의 제어 영역(100a, 100b, 100c)으로 구분되는 경우에 열선은 3개로 형성될 수 있다. 상기 열선은 각각의 제어 영역(100a, 100b, 100c) 별로 독립적으로 형성될 수 있다. 즉, 상기 열선은 각각의 제어 영역(100a, 100b, 100c)별로 별개로 형성될 수 있다. 또한, 상기 열선은 제어 영역별로 절곡부(132)와 직선부(131)가 모두 연결되어 하나의 선으로 형성될 수 있다. 상기 열선은 각각의 제어 영역(100a, 100b, 100c)에서 직선부(131)와 절곡부(132)가 모두 직렬로 연결될 수 있다. 또한, 상기 열선은 각각의 제어 영역(100a, 100b, 100c)의 면적과 평면 형상에 따라 직선부(131)와 절곡부(132)의 개수가 다르게 형성될 수 있다. 또한, 상기 열선은 1 개의 제어 영역(100a, 100b, 100c)에 적어도 2개가 위치할 수 있다. 상기 열선은 바람직하게는 제어 영역에 대응되는 평면 형상을 이루도록 상판(110)과 하판(120)의 사이에서 수평 방향으로 배열될 수 있다. 상기 열선은 각각의 제어 영역(100a, 100b, 100c)별로 독립적으로 제어될 수 있다. 상기 열선은 각각의 제어 영역(100a, 100b, 100c)별로 가열 온도 및 승온율이 독립적으로 제어될 수 있다.The number of the heating wires may be formed to correspond to the number of control regions of the flat heater. For example, when the substrate is divided into three control regions 100a, 100b, and 100c, three heating wires may be formed. The heating wire may be independently formed for each of the control regions 100a, 100b, and 100c. That is, the heating wire may be separately formed for each of the control regions 100a, 100b, and 100c. In addition, the heating wire may be formed as a single line by connecting both the bent part 132 and the straight part 131 for each control area. In each of the control regions 100a, 100b, and 100c of the heating wire, both the straight part 131 and the bent part 132 may be connected in series. In addition, the number of straight parts 131 and bent parts 132 may be different from each other according to the area and planar shape of each of the control regions 100a, 100b, and 100c. In addition, at least two of the heating wires may be located in one control area 100a, 100b, 100c. Preferably, the heating wire may be arranged in a horizontal direction between the upper plate 110 and the lower plate 120 to form a planar shape corresponding to the control area. The heating wire may be independently controlled for each control area 100a, 100b, 100c. In the heating wire, the heating temperature and the temperature increase rate may be independently controlled for each control region 100a, 100b, 100c.

상기 열선은 Fe-Cr-Al계의 전기 저항 발열체로서, 전열 저항 합금중에서 가장 높은 온도로 사용할 수 있다. 또한, 상기 열선은 NiCr 합금, 티타늄, 텅스텐 합금, 스테인레스 스틸, MoSi2 또는 이들의 혼합물로 형성될 수 있다.The heating wire is a Fe-Cr-Al-based electrical resistance heating element, and can be used at the highest temperature among heat transfer resistance alloys. In addition, the heating wire may be formed of a NiCr alloy, titanium, tungsten alloy, stainless steel, MoSi 2 or a mixture thereof.

상기 제 1 지지 블록(140)은, 도 4a 내지 도 4c를 참조하면, 제 1 지지 홈(141) 및 제 1 이탈 방지 수단(144)을 포함할 수 있다. 상기 제 1 지지 블록(140)은 제 1 열선 트렌치(147)를 더 포함할 수 있다.The first support block 140 may include a first support groove 141 and a first separation preventing means 144 with reference to FIGS. 4A to 4C . The first support block 140 may further include a first hot wire trench 147 .

상기 제 1 지지 블록(140)은 전체적으로 소정 폭과 두께와 길이를 갖는 블록 형상 또는 바 형상으로 형성될 수 있다. 상기 제 1 지지 블록(140)은 복수 개로 형성되며, 상판(110)과 하판(120)의 사이에서 내측 영역에 위치할 수 있다. 상기 제 1 지지 블록(140)은 상판(110)과 하판(120)의 모서리측 영역에 위치하지 않는다. 상기 제 1 지지 블록(140)은 제 2 방향을 따라 2열로 배열되는 열선의 절곡부(132)들 사이로 배열되면서 양측에 위치하는 열선의 절곡부(132)를 지지한다. 상기 제 1 지지 블록(140)은 제 2 방향을 따라 배치되어 제 1 지지 블록 라인(140a)을 형성한다. 상기 제 1 지지 블록 라인(140a)은 제 2 방향으로 연장되면서 제 1 방향으로 이격되는 복수 개로 형성될 수 있다. 상기 제 1 지지 블록 라인(140a)들 사이에는 열선이 배치되는 열선 배치 라인(140b)을 형성할 수 있다.The first support block 140 may be formed in a block shape or a bar shape having a predetermined width, thickness, and length as a whole. The first support block 140 is formed in plurality, and may be located in an inner region between the upper plate 110 and the lower plate 120 . The first support block 140 is not located in the corner region of the upper plate 110 and the lower plate 120 . The first support block 140 supports the bent portions 132 of the hot wire positioned on both sides while being arranged between the bent portions 132 of the hot wire arranged in two rows along the second direction. The first support block 140 is disposed along the second direction to form a first support block line 140a. The first support block lines 140a may be formed in plurality while extending in the second direction and spaced apart from each other in the first direction. A hot wire arrangement line 140b on which a hot wire is disposed may be formed between the first support block lines 140a.

상기 제 1 지지 블록(140)은 스테인리스 스틸, 인코넬, 코바합금, 텅스텐, 하스텔로이 및 티타늄으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 또는 이들의 혼합물로 형성될 수 있다. 또한, 상기 제 1 지지 블록(140)은 세라믹으로 형성될 수 있다. 상기 지지 블록(140)은 유리, 네오 세라믹(Neoceramic), 알루미나(Al2O3), 실리콘 카바이드(SiC), 지르코니아(ZrO2), 실리콘옥사이드 또는 석영(쿼쯔, Quartz) 또는 이들의 혼합물로 형성될 수 있다. 상기 제 1 지지 블록(140)은 상판(110) 및 하판(120)과 동일한 재질로 형성될 수 있다. 상기 제 1 지지 블록(140)은 상판(110) 및 하판(120)과 동일한 재질로 형성되는 경우에 이들 사이에는 열팽창 계수 차이가 존재하지 않을 수 있다. 따라서, 상기 제 1 지지 블록(140)과 상판(110) 및 하판(120)은 열팽창 계수의 차이에 의한 고온에서의 열 변형 및 파손 현상이 발생하지 않고, 이물 발생이 억제될 수 있다.The first support block 140 may be formed of one selected from the group consisting of stainless steel, Inconel, Kovar alloy, tungsten, Hastelloy, and titanium, or a mixture thereof. Also, the first support block 140 may be formed of ceramic. The support block 140 is formed of glass, neo-ceramic (Neoceramic), alumina (Al 2 O 3 ), silicon carbide (SiC), zirconia (ZrO 2 ), silicon oxide or quartz (quartz, Quartz) or a mixture thereof. can be The first support block 140 may be formed of the same material as the upper plate 110 and the lower plate 120 . When the first support block 140 is formed of the same material as the upper plate 110 and the lower plate 120 , there may be no difference in thermal expansion coefficient between them. Accordingly, the first support block 140 , the upper plate 110 , and the lower plate 120 do not undergo thermal deformation and damage at high temperatures due to the difference in thermal expansion coefficients, and the generation of foreign substances can be suppressed.

상기 제 1 지지 홈(141)은 제 1 지지 블록(140)의 상면에서 하부 방향으로 소정 깊이로 형성된다. 상기 제 1 지지 홈(141)은 열선의 직경보다 큰 깊이로 형성될 수 있다. 상기 제 1 지지 홈(141)은 평면 형상을 기준으로 열선의 절곡부(132)가 안착되어 수용되는데 필요한 형상으로 형성될 수 있다. 예를 들면, 상기 제 1 지지 홈(141)은 평면 형상을 기준으로 대략 사각 형상 또는 호 형상으로 형성될 수 있다. 또한, 상기 제 1 지지 홈(141)은 절곡부(132)의 반경에 대응되거나 반경의 2배 보다 큰 폭을 갖는 사각 형상으로 형성될 수 있다. 또한, 상기 제 1 지지 홈(141)은 절곡부(132)의 반경에 대응되거나 반경보다 큰 반경을 갖는 반원 형상 또는 호 형상으로 형성될 수 있다. 상기 제 1 지지 홈(141)은 열선의 절곡부(132)를 수용하여 지지하므로, 열선이 변형되어 인접한 열선과 접촉되는 것을 방지할 수 있다.The first support groove 141 is formed to a predetermined depth in a downward direction from the top surface of the first support block 140 . The first support groove 141 may be formed to a depth greater than a diameter of the heating wire. The first support groove 141 may be formed in a shape required to receive and seat the bent portion 132 of the hot wire based on a planar shape. For example, the first support groove 141 may be formed in a substantially rectangular shape or an arc shape based on a planar shape. In addition, the first support groove 141 may be formed in a rectangular shape corresponding to the radius of the bent portion 132 or having a width greater than twice the radius. Also, the first support groove 141 may be formed in a semicircular shape or an arc shape having a radius corresponding to or greater than the radius of the bent portion 132 . Since the first support groove 141 accommodates and supports the bent portion 132 of the hot wire, it is possible to prevent the hot wire from being deformed and coming into contact with the adjacent hot wire.

상기 제 1 지지 홈(141)은 제 1 지지 블록(140)의 제 2 방향을 따라 서로 이격되어 형성될 수 있다. 또한, 상기 제 1 지지 홈(141)은 제 1 지지 블록(140)의 제 2 방향의 중심선을 기준으로 제 1 방향을 따라 양측에 대칭으로 형성될 수 있다. 상기 제 1 지지 홈(141)은 제 1 방향을 따라 양측에 대칭으로 위치하면서 제 2 방향을 따라 서로 이격되어 형성될 수 있다. 상기 제 1 지지 홈(141)은 제 1 지지 블록(140)의 일측면 또는 타측면으로 개방되어 형성될 수 있다. 상기 제 1 지지 홈(141)은 개방되는 일측과 타측으로 열선이 유입되어 안착될 수 있다.The first support grooves 141 may be formed to be spaced apart from each other along the second direction of the first support block 140 . In addition, the first support groove 141 may be formed symmetrically on both sides along the first direction with respect to the center line of the second direction of the first support block 140 . The first support grooves 141 may be symmetrically positioned on both sides in the first direction and spaced apart from each other in the second direction. The first support groove 141 may be opened to one side or the other side of the first support block 140 . The first support groove 141 may be seated by introducing a hot wire into one side and the other side that are opened.

상기 제 1 지지 홈(141)은 제 1 단부 지지 홈(142) 및 제 1 내부 지지 홈(143)으로 구분될 수 있다. 상기 제 1 단부 지지 홈(142)은 제 1 지지 홈(141)중에서 제 2 방향으로 가장 전측과 후측에 위치하는 홈이며, 제 2 내부 지지 홈은 제 1 단부 지지 홈(142) 사이에 위치하는 홈이다. 상기 제 1 단부 지지 홈(142)은 제 1 지지 블록(140)의 일측면 또는 타측면으로 각각 개방되는 동시에 전측 또는 후측으로 개방되어 형성될 수 있다. 또한, 상기 제 1 단부 지지 홈(142)은 절곡부(132)의 반경에 대응되는 폭을 갖는 사각 형상으로 형성될 수 있다. 상기 제 1 단부 지지 홈(142)은 절곡부(132)의 반 정도가 안착되는 면적으로 형성될 수 있다.The first support groove 141 may be divided into a first end support groove 142 and a first internal support groove 143 . The first end support groove 142 is a groove positioned at the front and rear sides in the second direction among the first support grooves 141 , and the second inner support groove is located between the first end support grooves 142 . it is home The first end support groove 142 may be opened to one side or the other side of the first support block 140 , respectively, and may be formed to be opened to the front or rear side. In addition, the first end support groove 142 may be formed in a rectangular shape having a width corresponding to the radius of the bent portion 132 . The first end support groove 142 may have an area in which about half of the bent portion 132 is seated.

한편, 상기 제 1 내부 지지 홈(143)은 제 1 지지 블록(140)의 일측면 또는 타측면으로만 개방되어 형성될 수 있다. 상기 제 1 내부 지지 홈(143)은 절곡부(132)의 반경의 2배 보다 큰 폭을 갖는 사각 형상으로 형성될 수 있다. 상기 제 1 내부 지지 홈(143)은 절곡부(132)의 전체가 안착되는 면적으로 형성될 수 있다.On the other hand, the first internal support groove 143 may be formed to be opened to only one side or the other side of the first support block 140 . The first internal support groove 143 may be formed in a rectangular shape having a width greater than twice the radius of the bent portion 132 . The first internal support groove 143 may be formed as an area in which the entire bent portion 132 is seated.

상기 제 1 이탈 방지 수단(144)은 제 1 이탈 방지 기둥(145) 및 제 1 이탈 방지 바(146)를 포함할 수 있다. 상기 제 1 이탈 방지 수단(144)은 제 1 지지 홈(141)들 중에서 단부에 형성되는 제 1 단부 지지 홈(142)의 상면에 형성될 수 있다. 상기 제 1 이탈 방지 수단(144)은 제 1 단부 지지 홈(142)의 모서리에 형성될 수 있다. 상기 제 1 이탈 방지 수단(144)은 전측과 후측에 위치하는 제 1 단부 지지 홈(142)에 모두 형성될 수 있다. 상기 제 1 이탈 방지 수단(144)은 제 1 단부 지지 홈(142)에 안착되는 열선의 절곡부(132)를 지지하여 열선이 제 1 단부 지지 홈(142)에서 이탈되는 것을 방지할 수 있다.The first separation preventing means 144 may include a first separation preventing pillar 145 and a first separation preventing bar 146 . The first separation preventing means 144 may be formed on an upper surface of the first end support groove 142 formed at an end of the first support grooves 141 . The first separation preventing means 144 may be formed at a corner of the first end support groove 142 . The first separation preventing means 144 may be formed in both of the first end support grooves 142 positioned on the front and rear sides. The first separation preventing means 144 may support the bent portion 132 of the heating wire seated in the first end support groove 142 to prevent the heating wire from being separated from the first end support groove 142 .

상기 제 1 이탈 방지 기둥(145)은 소정 높이의 기둥으로 형성되며, 제 1 단부 지지 홈(142)의 바닥면에서 상부 방향으로 돌출되도록 결합될 수 있다. 상기 제 1 이탈 방지 기둥(145)은 바람직하게는 제 1 단부 지지 홈(142)의 모서리에 위치할 수 있다. 상기 제 1 이탈 방지 기둥(145)은 열선의 직경 또는 두께보다 큰 높이로 형성될 수 있다. 또한, 상기 제 1 이탈 방지 기둥(145)은 제 1 단부 지지 홈(142)의 깊이보다 작은 높이로 형성될 수 있다. 상기 제 1 이탈 방지 기둥(145)은 절곡부(132)의 중심 부분을 지지하여 절곡부(132)를 효과적으로 지지할 수 있다.The first separation preventing pillar 145 may be formed as a pillar having a predetermined height, and may be coupled to protrude upward from the bottom surface of the first end support groove 142 . The first separation preventing pillar 145 may be preferably located at a corner of the first end support groove 142 . The first separation preventing pillar 145 may be formed to have a height greater than a diameter or thickness of the heating wire. In addition, the first separation preventing pillar 145 may be formed to have a height smaller than the depth of the first end support groove 142 . The first separation preventing pillar 145 may support the central portion of the bent portion 132 to effectively support the bent portion 132 .

상기 제 1 이탈 방지 바(146)는 바 형상으로 형성되며, 제 1 이탈 방지 기둥(145)의 상부에 전측 또는 후측으로 연장되도록 결합될 수 있다. 즉, 상기 제 1 이탈 방지 바(146)는 제 1 이탈 방지 기둥(145)의 상부에서 제 1 내부 지지 홈(143)이 위치하는 방향과 반대 방향인 외측 방향으로 연장되도록 결합될 수 있다. 상기 제 1 이탈 방지 바(146)는 절곡부(132)의 반경보다 큰 길이로 연장될 수 있다. 상기 제 1 이탈 방지 바(146)는 제 1 이탈 방지 기둥(145)에 결합된 열선의 절곡부(132)가 이탈되는 것을 방지할 수 있다.The first separation prevention bar 146 may be formed in a bar shape and may be coupled to an upper portion of the first separation prevention pillar 145 to extend forward or rearward. That is, the first separation preventing bar 146 may be coupled to extend in an outward direction opposite to the direction in which the first internal support groove 143 is positioned from the upper portion of the first separation preventing pillar 145 . The first separation prevention bar 146 may extend to a length greater than a radius of the bent portion 132 . The first separation prevention bar 146 may prevent the bent portion 132 of the heating wire coupled to the first separation prevention pillar 145 from being separated.

상기 제 1 열선 트렌치(147)는 제 1 지지 블록(140)의 상면에서 제 2 방향으로 연장되어 형성될 수 있다. 상기 제 1 열선 트렌치(147)는 열선의 직경보다 큰 폭과 깊이로 형성될 수 있다. 상기 제 1 열선 트렌치(147)는 열선이 제 1 지지 블록(140)의 상면으로 돌출되지 않고 통과하는 경로를 제공할 수 있다. 상기 제 1 열선 트렌치(147)는 열선의 연장부(133)가 통과하는 경로를 제공할 수 있다. 따라서, 상기 제 1 지지 블록(140)은 열선의 연장부(133)가 외부로 인출되는 것과 관계 없이 상면에 안착되는 상판(110)을 안정적으로 지지할 수 있다.The first hot wire trench 147 may be formed to extend in the second direction from the upper surface of the first support block 140 . The first hot wire trench 147 may be formed to have a width and a depth greater than a diameter of the hot wire. The first hot wire trench 147 may provide a path through which the hot wire passes without protruding from the upper surface of the first support block 140 . The first hot wire trench 147 may provide a path through which the extension part 133 of the hot wire passes. Accordingly, the first support block 140 can stably support the upper plate 110 seated on the upper surface regardless of whether the extension part 133 of the heating wire is drawn out.

상기 제 2 지지 블록(150)은, 도 5a 내지 도 5c를 참조하면, 제 2 지지 홈(151) 및 제 2 이탈 방지 수단(154)을 포함할 수 있다. 상기 제 2 지지 블록(150)은 제 2 튜브 트렌치(157)를 더 포함할 수 있다.The second support block 150 may include a second support groove 151 and a second separation preventing means 154 with reference to FIGS. 5A to 5C . The second support block 150 may further include a second tube trench 157 .

상기 제 2 지지 블록(150)은 복수 개로 형성되며, 상판(110)과 하판(120) 사이의 일측 모서리와 타측 모서리 영역에서 제 2 방향을 따라 배열될 수 있다. 이때, 상기 제 2 지지 블록(150)은 제 2 지지 홈(151)이 내측을 향하도록 상판(110)과 하판(120) 사이의 모서리 영역에 위치할 수 있다. 상기 제 2 지지 블록(150)은 상판(110)과 하판(120) 사이의 모서리 영역을 차폐할 수 있다. 또한, 상기 제 2 지지 블록(150)은 인접한 제 2 튜브 트렌치(157)들끼리 접하게 되므로 제 2 지지 블록(150) 사이에 빈 공간이 형성되지 않을 수 있다. 따라서, 상기 열선에 의하여 형성되는 열이나 미세 입자가 제 2 지지 블록(150) 사이를 통하여 외부로 유출되는 것을 방지할 수 있다. 상기 제 2 지지 블록(150)은 제 1 지지 블록(140)과 대비하여 제 2 지지 홈(151)과 제 2 이탈 방지 수단(154)이 형성되는 위치에서 차이가 있으며, 다른 구성은 동일하게 형성될 수 있다.The second support block 150 is formed in plurality, and may be arranged in the second direction in the area of one corner and the other corner between the upper plate 110 and the lower plate 120 . In this case, the second support block 150 may be positioned in a corner region between the upper plate 110 and the lower plate 120 such that the second support groove 151 faces inward. The second support block 150 may shield a corner area between the upper plate 110 and the lower plate 120 . In addition, since the second support block 150 comes into contact with the adjacent second tube trenches 157 , an empty space may not be formed between the second support blocks 150 . Accordingly, it is possible to prevent the heat or fine particles formed by the heating wire from leaking to the outside through between the second support blocks 150 . The second support block 150 is different from the first support block 140 in the position where the second support groove 151 and the second separation preventing means 154 are formed, and other configurations are the same. can be

상기 제 2 지지 홈(151)은 제 1 지지 홈(141)과 동일한 형상으로 형성된다. 또한, 상기 제 2 지지 홈(151)은 제 2 단부 지지 홈(152) 및 제 2 내부 지지 홈(153)을 포함할 수 있다. 또한, 상기 제 2 단부 지지 홈(152)과 제 2 내부 지지 홈(153)은 각각 제 1 단부 지지 홈(142)과 제 1 내부 지지 홈(143)과 동일하게 형성될 수 있다. 또한, 상기 제 2 튜브 트렌치(157)는 제 1 열선 트렌치(147)와 동일하게 형성될 수 있다. 다만, 상기 제 2 지지 홈(151)은 제 2 지지 블록(150)의 일측 또는 타측에만 형성될 수 있다. 즉, 상기 제 2 지지 홈(151)은 제 2 튜브 트렌치(157)의 일측 또는 타측에만 형성될 수 있다. 상기 제 2 지지 블록(150)이 상판(110)과 하판(120) 사이에 설치될 때, 제 2 지지 홈(151)은 내부 영역을 향하여 위치하는 일측 또는 타측에 형성될 수 있다.The second support groove 151 is formed in the same shape as the first support groove 141 . In addition, the second support groove 151 may include a second end support groove 152 and a second inner support groove 153 . Also, the second end support groove 152 and the second inner support groove 153 may be formed in the same manner as the first end support groove 142 and the first inner support groove 143 , respectively. Also, the second tube trench 157 may be formed in the same manner as the first hot wire trench 147 . However, the second support groove 151 may be formed only on one side or the other side of the second support block 150 . That is, the second support groove 151 may be formed only on one side or the other side of the second tube trench 157 . When the second support block 150 is installed between the upper plate 110 and the lower plate 120 , the second support groove 151 may be formed on one side or the other side positioned toward the inner region.

상기 제 2 이탈 방지 수단(154)은 제 1 이탈 방지 수단(144)과 동일한 형상으로 형성될 수 있다. 상기 제 2 이탈 방지 수단(154)은 제 2 이탈 방지 기둥(155) 및 제 2 이탈 방지 바(156)를 포함할 수 있다. 또한, 상기 제 2 이탈 방지 기둥(155) 및 제 2 이탈 방지 바(156)는 제 1 이탈 방지 기둥(145) 및 제 1 이탈 방지 바(146)와 동일하게 형성될 수 있다. 다만, 상기 제 2 이탈 방지 수단(154)은 제 2 지지 홈(151)과 동일하게 제 2 지지 블록(150)의 일측 또는 타측에만 형성될 수 있다.The second separation preventing means 154 may be formed in the same shape as the first departure preventing means 144 . The second separation prevention means 154 may include a second separation prevention pillar 155 and a second separation prevention bar 156 . In addition, the second separation prevention pillar 155 and the second separation prevention bar 156 may be formed in the same manner as the first separation prevention pillar 145 and the first separation prevention bar 146 . However, the second separation preventing means 154 may be formed only on one side or the other side of the second support block 150 in the same way as the second support groove 151 .

상기 제 2 튜브 트렌치(157)는 제 2 지지 블록(150)의 상면에서 소정 폭과 깊이로 형성되고 길이 방향으로 전측과 후측으로 관통되도록 형성될 수 있다. 상기 제 2 지지 블록(150)이 상판(110)과 하판(120) 사이에 안착될 때, 인접하는 제 2 지지 블록(150)들의 제 2 튜브 트렌치(157)는 제 2 방향으로 서로 연결되도록 형성될 수 있다. 상기 제 2 튜브 트렌치(157)는 제 1 열선 트렌치(147)와 동일한 형상으로 형성될 수 있다. 다만, 상기 제 2 튜브 트렌치(157)는 지지 튜브(190)가 내부에 위치하므로, 제 1 열선 트렌치(147)보다 큰 폭으로 형성될 수 있다. 또한, 상기 제 2 지지 블록(150)은 제 2 튜브 트렌치(157)와 제 2 이탈 방지 바(156)의 단부가 동일 선상에 위치하도록 형성될 수 있다. 따라서, 상기 제 2 지지 블록(150)은 제 2 방향으로 연장될 때 서로 인접하는 제 2 이탈 방지 바(156)들이 서로 접할 때 제 2 튜브 트렌치(157)들도 접할 수 있다.The second tube trench 157 may be formed to have a predetermined width and depth on the upper surface of the second support block 150 , and may be formed to penetrate through the front and rear sides in the longitudinal direction. When the second support block 150 is seated between the upper plate 110 and the lower plate 120 , the second tube trenches 157 of the adjacent second support blocks 150 are formed to be connected to each other in the second direction. can be The second tube trench 157 may have the same shape as the first hot wire trench 147 . However, since the support tube 190 is located inside the second tube trench 157 , it may be formed to have a larger width than the first hot wire trench 147 . In addition, the second support block 150 may be formed so that the end of the second tube trench 157 and the second separation prevention bar 156 are positioned on the same line. Accordingly, when the second support block 150 extends in the second direction, the second tube trenches 157 may contact each other when the second separation prevention bars 156 adjacent to each other contact each other.

상기 제 2 튜브 트렌치(157)는 지지 튜브(190)가 삽입되어 지지되는 경로를 제공할 수 있다. 상기 제 2 튜브 트렌치(157)는 지지 튜브(190)를 제 2 지지 블록(150)의 상면으로 돌출되지 않고 수용할 수 있다.The second tube trench 157 may provide a path through which the support tube 190 is inserted and supported. The second tube trench 157 may accommodate the support tube 190 without protruding from the upper surface of the second support block 150 .

상기 제 3 지지 블록(160)은, 도 6a 내지 도 6b를 참조하면, 제 3 지지 홈(161)과 제 3 이탈 방지 수단(164)을 포함할 수 있다. 상기 제 3 지지 블록(160)은 제 3 열선 트렌치(167)와 제 3 튜브 트렌치(168) 및 제 3 관통 홀(169)을 더 포함할 수 있다.The third support block 160 may include a third support groove 161 and a third separation preventing means 164 with reference to FIGS. 6A to 6B . The third support block 160 may further include a third hot wire trench 167 , a third tube trench 168 , and a third through hole 169 .

상기 제 3 지지 블록(160)은 상판(110)과 하판(120) 사이의 전측 모서리와 후측 모서리 영역에서 제 2 방향으로 배열되는 제 1 지지 블록(140)의 전측과 후측에 접하여 배열될 수 있다. 즉, 상기 제 3 지지 블록(160)은 제 2 방향으로 복수 개가 서로 인접하여 배열되는 제 1 지지 블록(140)들 중에서 가장 전측 및 가장 후측에 위치하는 제 1 지지 블록(140)과 접하여 배열될 수 있다.The third support block 160 may be arranged in contact with the front and rear sides of the first support block 140 arranged in the second direction in the area of the front edge and the rear edge between the upper plate 110 and the lower plate 120 . . That is, the third support block 160 may be arranged in contact with the first support block 140 positioned at the frontmost and rearmost side among the first support blocks 140 arranged adjacent to each other in the second direction. can

상기 제 3 지지 블록(160)은 복수 개가 상판(110)과 하판(120) 사이의 모서리 영역에서 제 1 방향을 따라 서로 이격되도록 위치할 수 있다. 또한, 상기 제 3 지지 블록(160)은 제 3 열선 트렌치(167)가 제 2 방향을 따라 내측 영역을 향하도록 위치할 수 있다. 따라서, 상기 제 3 지지 블록(160)의 제 3 열선 트렌치(167)는 제 1 지지 블록(140)의 제 1 열선 트렌치(147)와 연결될 수 있다. 또한, 상기 제 3 지지 블록(160)의 제 3 단부 지지 홈은 제 1 지지 블록(140)의 제 1 단부 지지 홈(142)과 인접할 수 있다. 또한, 상기 제 3 지지 블록(160)은 제 3 튜브 트렌치(168)가 전측 모서리와 후측 모서리에서 복수 개가 제 1 방향으로 배열되도록 위치할 수 있다. 상기 제 3 지지 블록(160)은 상판(110)과 하판(120) 사이의 전측 모서리와 후측 모서리 영역에서 열선을 지지하면서 외부로 인출되는 열선이 관통하는 경로를 제공할 수 있다. 또한, 상기 제 3 지지 블록(160)은 전측 모서리와 후측 모서리를 지나가는 지지 튜브(190)를 지지할 수 있다.A plurality of the third support blocks 160 may be positioned to be spaced apart from each other in the first direction in a corner region between the upper plate 110 and the lower plate 120 . Also, the third support block 160 may be positioned such that the third hot ray trench 167 faces the inner region in the second direction. Accordingly, the third hot wire trench 167 of the third support block 160 may be connected to the first hot wire trench 147 of the first support block 140 . Also, the third end support groove of the third support block 160 may be adjacent to the first end support groove 142 of the first support block 140 . In addition, the third support block 160 may be positioned such that a plurality of third tube trenches 168 are arranged in the first direction at the front edge and the rear edge. The third support block 160 may provide a path through which the hot wire drawn out while supporting the hot wire in the front and rear edge areas between the upper plate 110 and the lower plate 120 . In addition, the third support block 160 may support the support tube 190 passing through the front edge and the rear edge.

상기 제 3 지지 홈(161)은 제 3 단부 지지 홈(162) 및 제 3 내부 지지 홈(163)을 포함할 수 있다. 상기 제 3 지지 홈(161)은 열선의 절곡부(132)를 지지할 수 있다. 상기 제 3 단부 지지 홈(162)과 제 3 내부 지지 홈(163)은 각각 제 1 단부 지지 홈(142)과 제 1 내부 지지 홈(143)과 동일한 형상으로 형성될 수 있다. 다만, 상기 제 3 단부 지지 홈(162)은 제 3 지지 블록(160)의 전측 또는 후측에만 형성될 수 있다. 즉, 상기 제 3 지지 블록(160)이 상판(110)과 하판(120) 사이에 설치될 때, 제 3 단부 지지 홈(162)은 내부 영역을 향하는 전측 또는 후측에 형성될 수 있다.The third support groove 161 may include a third end support groove 162 and a third internal support groove 163 . The third support groove 161 may support the bent portion 132 of the hot wire. The third end support groove 162 and the third inner support groove 163 may have the same shape as the first end support groove 142 and the first inner support groove 143 , respectively. However, the third end support groove 162 may be formed only on the front or rear side of the third support block 160 . That is, when the third support block 160 is installed between the upper plate 110 and the lower plate 120 , the third end support groove 162 may be formed on the front or rear side facing the inner region.

상기 제 3 이탈 방지 수단(164)은 제 1 이탈 방지 수단(144)과 동일하게 형성될 수 있다. 즉, 상기 제 3 이탈 방지 수단(164)은 제 3 이탈 방지 기둥(165) 및 제 3 이탈 방지 바(166)를 포함할 수 있다. 또한, 상기 제 3 이탈 방지 기둥(165) 와 제 3 이탈 방지 바(166)는 제 1 이탈 방지 기둥(145) 및 제 1 이탈 방지 바(146)과 동일 또는 유사하게 형성될 수 있다. 다만, 상기 제 3 이탈 방지 수단(164)은 제 3 단부 지지 홈(162)에만 형성될 수 있다. 상기 제 3 이탈 방지 수단(164)은 제 3 단부 지지 홈(162)과 마찬가지로 제 3 지지 블록(160)의 전측 또는 후측에만 형성될 수 있다.The third separation preventing means 164 may be formed in the same manner as the first departure preventing means 144 . That is, the third separation prevention means 164 may include a third separation prevention pillar 165 and a third separation prevention bar 166 . In addition, the third separation prevention pillar 165 and the third separation prevention bar 166 may be formed to be the same as or similar to the first separation prevention pillar 145 and the first separation prevention bar 146 . However, the third separation preventing means 164 may be formed only in the third end support groove 162 . The third separation preventing means 164 may be formed only on the front or rear side of the third support block 160 , like the third end support groove 162 .

상기 제 3 열선 트렌치(167)는 제 3 지지 블록(160)의 상면에서 소정 폭과 깊이로 형성되며, 길이 방향으로 전측 또는 후측으로 개방되도록 형성될 수 있다. 상기 제 2 지지 블록(150)이 상판(110)과 하판(120) 사이에 안착될 때, 내부 영역으로 관통되고, 외부 영역으로는 개방되지 않도록 형성될 수 있다. 상기 제 3 열선 트렌치(167)는 인접하는 제 1 지지 블록(140)들의 제 1 튜브 트렌치와 제 2 방향으로 서로 연결되도록 형성될 수 있다. 상기 제 3 열선 트렌치(167)는 제 1 튜브 트렌치에서 연장되는 열선이 관통하는 경로를 제공할 수 있다. 상기 제 3 열선 트렌치(167)는 열선이 제 3 지지 블록(160)의 상면으로 돌출되지 않고 통과하는 경로를 제공할 수 있다.The third hot wire trench 167 may be formed to have a predetermined width and depth on the upper surface of the third support block 160 , and may be formed to open forward or backward in the longitudinal direction. When the second support block 150 is seated between the upper plate 110 and the lower plate 120 , it may be formed so as to penetrate into the inner region and not open to the outer region. The third hot wire trench 167 may be formed to be connected to the first tube trench of the adjacent first support blocks 140 in the second direction. The third hot wire trench 167 may provide a path through which a hot wire extending from the first tube trench passes. The third hot wire trench 167 may provide a path through which the hot wire passes without protruding from the upper surface of the third support block 160 .

상기 제 3 튜브 트렌치(168)는 제 3 단부 지지 홈(162)이 형성되는 측과 반대측에서 폭 방향으로 연장되어 형성될 수 있다. 즉, 상기 제 3 지지 블록(160)이 상판(110)과 하판(120) 사이에 안착될 때, 제 3 튜브 트렌치(168)는 제 1 방향으로 개방되도록 형성될 수 있다. 상기 제 3 튜브 트렌치(168)는 제 3 지지 블록(160)의 일측과 타측으로 개방되어 형성될 수 있다. 상기 제 3 튜브 트렌치(168)는 평판 히터의 전측 모서리와 후측 모서리에 위치하는 지지 튜브(190)가 삽입되어 관통하는 경로를 제공한다. 상기 제 3 튜브 트렌치(168)는 제 3 열선 트렌치(167)와 관통될 수 있다. 즉, 상기 제 3 튜브 트렌치(168)는 제 3 지지 블록(160)의 전측 또는 후측에서 제 1 방향으로 연장되며, 제 3 열선 트렌치(167)는 제 2 방향으로 연장되며 전측 단부 또는 후측 단부가 제 3 튜브 트렌치(168)와 관통될 수 있다.The third tube trench 168 may be formed to extend in the width direction from the side opposite to the side where the third end support groove 162 is formed. That is, when the third support block 160 is seated between the upper plate 110 and the lower plate 120 , the third tube trench 168 may be formed to open in the first direction. The third tube trench 168 may be formed to be opened to one side and the other side of the third support block 160 . The third tube trench 168 provides a path through which the support tube 190 positioned at the front edge and the rear edge of the flat plate heater is inserted. The third tube trench 168 may pass through the third hot wire trench 167 . That is, the third tube trench 168 extends in the first direction from the front or rear side of the third support block 160 , and the third hot wire trench 167 extends in the second direction and has a front end or a rear end. It may penetrate with the third tube trench 168 .

상기 제 3 관통 홀(169)은 제 3 튜브 트렌치(168)에서 제 3 지지 블록(160)의 전측으로 관통되어 형성될 수 있다. 상기 제 3 관통 홀(169)은 제 3 열선 트렌치(167)를 통과한 열선이 전측 방향으로 관통하는 경로를 제공할 수 있다. 상기 제 3 관통 홀(169)을 관통한 열선은 상판(110)과 하판(120) 사이의 영역에서 외부 영역으로 연장될 수 있다.The third through hole 169 may be formed through the third tube trench 168 toward the front side of the third support block 160 . The third through hole 169 may provide a path through which the hot wire passing through the third hot wire trench 167 passes in the front direction. The hot wire passing through the third through hole 169 may extend from a region between the upper plate 110 and the lower plate 120 to an external region.

상기 중간 블록(170)은, 도 7a 내지 도 7b를 참조하면, 중간 본체 판(171)과 하부 연장 바(172) 및 상부 연장 바(175)를 포함할 수 있다. 상기 중간 블록(170)은 제 2 방향으로 인접한 제어 영역들(100a, 100b, 100c) 사이에서 제 1 지지 블록(140)들 사이에 위치할 수 있다. 예를 들면, 상기 중간 블록(170)은 제 1 제어 영역(100a)과 제 3 제어 영역(100c) 사이 및 제 2 영역(100b)과 제 3 영역(100c) 사이에 위치할 수 있다. 상기 중간 블록(170)은 어느 하나의 제어 영역에서 인접한 제어 영역과의 사이로 인출되는 열선 또는 하나의 제어 영역에서 인접하는 열선 배치 라인(140b)을 연결하는 열선을 안정적으로 지지할 수 있다. 상기 제어 영역들 사이에서 90도 방향으로 절곡되는 열선을 지지할 수 있다. 또한, 상기 중간 블록(170)은 인접하는 열선 배치 라인(140b)들 사이를 연결하는 열선은 90도로 절곡되는 부위에서 상하로 유동되면서 상판(110) 또는 하판(120)과 접촉될 수 있다. 또한, 상기 열선 배치 라인(140b)을 연결하는 열선은 열선 배치 라인(140b)의 위치하는 열선보다 상대적으로 길이가 길어서 상하로 유동되면서 상판(110) 또는 하판(120)과 접촉될 수 있다. 상기 중간 블록(170)은 이러한 열선을 안정적으로 지지하여 열선이 발열 과정에서 상판(110) 또는 하판(120)과 접촉되는 것을 감소시킬 수 있다. 7A to 7B , the intermediate block 170 may include an intermediate body plate 171 , a lower extension bar 172 , and an upper extension bar 175 . The intermediate block 170 may be positioned between the first support blocks 140 between the control regions 100a, 100b, and 100c adjacent in the second direction. For example, the intermediate block 170 may be located between the first control area 100a and the third control area 100c and between the second area 100b and the third area 100c. The intermediate block 170 may stably support a hot wire drawn out from one control area to an adjacent control area or a hot wire connecting an adjacent hot wire arrangement line 140b in one control area. A hot wire bent in a 90 degree direction between the control areas may be supported. Also, in the intermediate block 170 , the hot wire connecting between the adjacent hot wire arrangement lines 140b may be in contact with the upper plate 110 or the lower plate 120 while flowing up and down at a portion bent by 90 degrees. In addition, the hot wire connecting the hot wire arrangement line 140b has a relatively longer length than the hot wire positioned on the hot wire arrangement line 140b so that it may flow up and down and come into contact with the upper plate 110 or the lower plate 120 . The intermediate block 170 may stably support the heating wire to reduce the contact of the heating wire with the upper plate 110 or the lower plate 120 during the heating process.

상기 중간 본체 판(171)은 소정 폭과 길이를 갖는 판상으로 형성될 수 있다. 상기 중간 본체 판(171)은 제 1 지지 블록(140)에서 제 1 이탈 방지 수단(144) 사이의 거리에 대응되는 폭으로 형성될 수 있다. 상기 중간 본체 판(171)은 제어 영역 사이에 위치하는 제 1 지지 블록(140)들 사이에서 제 1 이탈 방지 수단(144) 사이에 위치할 수 있다. 즉, 상기 중간 본체 판(171)은 4개의 꼭지점이 각각 제 1 이탈 방지 수단(144)과 접촉하도록 위치할 수 있다.The intermediate body plate 171 may be formed in a plate shape having a predetermined width and length. The intermediate body plate 171 may have a width corresponding to the distance between the first support block 140 and the first separation preventing means 144 . The intermediate body plate 171 may be positioned between the first separation preventing means 144 between the first support blocks 140 positioned between the control regions. That is, the intermediate body plate 171 may be positioned such that the four vertices are in contact with the first separation preventing means 144 , respectively.

상기 하부 연장 바(172)는 중간 본체 판(171)의 하면에서 제 1 방향으로 연장되면서 제 2 방향으로 이격되도록 형성될 수 있다. 상기 하부 연장 바(172)는 적어도 2개로 형성되어 그 사이에 하부 연장 홈(173)을 형성할 수 있다. 상기 하부 연장 바(172)는 열선의 직경보다 큰 높이로 형성될 수 있다. 따라서, 상기 하부 연장 홈(173)에는 열선이 수용되면서 지지될 수 있다. The lower extension bar 172 may be formed to be spaced apart in the second direction while extending in the first direction from the lower surface of the intermediate body plate 171 . At least two lower extension bars 172 may be formed to form a lower extension groove 173 therebetween. The lower extension bar 172 may be formed to have a height greater than a diameter of the heating wire. Accordingly, the lower extension groove 173 may be supported while receiving the heating wire.

상기 하부 연장 바(172)는 하부 관통 홀(174)을 구비할 수 있다. 상기 하부 관통 홀(174)은 하부 연장 홈(173)의 연장 방향과 수직인 방향으로 전면에서 후면으로 관통되는 하부 관통 홀(174)을 구비할 수 있다. 상기 하부 연장 바(172)는 열선보다 직경 또는 폭이 넓은 호 또는 사각 형상으로 형성될 수 있다. 상기 하부 관통 홀(174)은 서로 이격되는 하부 연장 바(172)에 모두 형성되어 서로 연결되도록 형성될 수 있다. 상기 하부 관통 홀(174)은 하부 연장 홈(173)으로 연장된 열선이 90도 방향으로 절곡될 때 열선이 수용되어 연장되는 경로를 제공할 수 있다.The lower extension bar 172 may include a lower through hole 174 . The lower through-hole 174 may include a lower through-hole 174 penetrating from the front to the rear in a direction perpendicular to the extending direction of the lower extension groove 173 . The lower extension bar 172 may be formed in an arc or square shape having a diameter or a width wider than that of the hot wire. The lower through-holes 174 may be formed in all of the lower extension bars 172 spaced apart from each other to be connected to each other. The lower through-hole 174 may provide a path through which the heating wire extending into the lower extension groove 173 is accommodated and extended when the heating wire is bent in a 90 degree direction.

상기 상부 연장 바(175)는 중간 본체 판(171)의 상면에서 제 1 방향으로 연장되는바 형상으로 형성될 수 있다. 상기 상부 연장 바(175)는 중간 본체 판(171)의 전측에 인접하여 위치할 수 있다.The upper extension bar 175 may be formed in a bar shape extending in the first direction from the upper surface of the intermediate body plate 171 . The upper extension bar 175 may be located adjacent to the front side of the intermediate body plate 171 .

상기 상부 연장 바(175)는 상부 관통 홀(176)을 더 포함할 수 있다. 상기 상부 관통 홀(176)은 상부 연장 바(175)의 전면에서 후면으로 관통되는 홀 형상으로 형성될 수 있다. 상기 상부 관통 홀(176)은 열선의 직경보다 큰 폭과 높이로 형성될 수 있다. 상기 상부 관통 홀(176)은 하부 연장 홈(173)으로 연장된 열선이 90도 방향으로 절곡될 때 열선이 수용되어 연장되는 경로를 제공할 수 있다.The upper extension bar 175 may further include an upper through hole 176 . The upper through-hole 176 may be formed in the shape of a hole penetrating from the front to the rear of the upper extension bar 175 . The upper through-hole 176 may be formed to have a width and a height greater than a diameter of the hot wire. The upper through-hole 176 may provide a path through which the heating wire extending into the lower extension groove 173 is accommodated and extended when the heating wire is bent in a 90 degree direction.

상기 코너 블록(180)은, 도 8a 내지 도 8b를 참조하면, 튜브 고정 홈(181)을 포함할 수 있다. 상기 코너 블록(180)은 직육면체 형상으로 형성될 수 있다. 상기 코너 블록(180)은 볼트 결합 홀(182)을 더 포함할 수 있다. 상기 코너 블록(180)은 상판(110)과 하판(120) 사이에서 4개의 코너에 위치할 수 있다. 상기 코너 블록(180)은 4개의 모서리에 위치하는 4개의 지지 튜브(190)의 양단을 지지할 수 있다. 또한, 상기 코너 블록(180)은 상판(110)과 하판(120)의 코너를 지지할 수 있다. 상기 코너 블록(180)은 세라믹 재질로 형성될 수 있다.The corner block 180 may include a tube fixing groove 181 with reference to FIGS. 8A to 8B . The corner block 180 may be formed in a rectangular parallelepiped shape. The corner block 180 may further include a bolt coupling hole 182 . The corner block 180 may be positioned at four corners between the upper plate 110 and the lower plate 120 . The corner block 180 may support both ends of the four support tubes 190 positioned at the four corners. In addition, the corner block 180 may support the corners of the upper plate 110 and the lower plate 120 . The corner block 180 may be formed of a ceramic material.

상기 튜브 고정 홈(181)은 코너 블록(180)의 4개의 측면에서 90도 각도로 위치하는 2개의 측면에 위치할 수 있다. 상기 튜브 고정 홈(181)은 코너 블록(180)이 위치하는 4개의 코너에 위치할 때 서로 대향하는 측면에 형성될 수 있다. 따라서, 상기 튜브 고정 홈(181)은 모서리를 따라 위치하는 지지 튜브(190)의 단부와 결합될 수 있다. 상기 튜브 고정 홈(181)은 측면에서 내측 방향으로 소정 깊이로 형성될 수 있다. 또한, 상기 튜브 고정 홈(181)은 하면으로 관통되어 형성될 수 있다. 상기 튜브 고정 홈(181)은 삽입되는 지지 튜브(190)의 단부를 지지할 수 있다.The tube fixing groove 181 may be located on two sides of the corner block 180 at a 90 degree angle from the four sides. The tube fixing grooves 181 may be formed on side surfaces opposite to each other when the corner blocks 180 are positioned at the four corners. Accordingly, the tube fixing groove 181 may be coupled to the end of the support tube 190 positioned along the edge. The tube fixing groove 181 may be formed to a predetermined depth in an inward direction from the side. In addition, the tube fixing groove 181 may be formed to penetrate through the lower surface. The tube fixing groove 181 may support an end of the inserted support tube 190 .

상기 볼트 결합 홀(182)은 코너 블록(180)의 상면에서 하면으로 관통되어 형성될 수 있다. 상기 볼트 결합 홀(182)은 튜브 고정 홈(181)이 형성되지 않는 영역에 형성될 수 있다. 상기 볼트 결합 홀(182)은 코너 블록(180)을 상판(110) 또는 하판(120)과 결합시키는 볼트가 관통하는 경로를 제공할 수 있다.The bolt coupling hole 182 may be formed to penetrate from the upper surface to the lower surface of the corner block 180 . The bolt coupling hole 182 may be formed in a region where the tube fixing groove 181 is not formed. The bolt coupling hole 182 may provide a path through which a bolt coupling the corner block 180 with the upper plate 110 or the lower plate 120 passes.

상기 지지 튜브(190)는 튜브 형상으로 형성되며, 상판(110)과 하판(120) 사이에서 4개의 모서리 영역으로 연장되어 위치할 수 있다. 상기 지지 튜브(190)는 양 단부가 코너 블록(180)의 튜브 고정 홈(181)에 삽입되어 지지될 수 있다. 상기 지지 튜브(190)는 세라믹 재질로 형성될 수 있다. 상기 지지 튜브(190)는 평판 히터의 모서리를 지지하여 강도를 보강할 수 있다. 또한, 상기 지지 튜브(190)는 상판(110)과 하판(120) 사이의 공간을 모서리 부분에서 차단하여 열선과 지지 블록의 마찰등에 의하여 발생될 수 있는 파티클이 외부로 나오는 것을 방지할 수 있다.The support tube 190 is formed in a tube shape, and may be positioned to extend to four corner areas between the upper plate 110 and the lower plate 120 . Both ends of the support tube 190 may be supported by being inserted into the tube fixing grooves 181 of the corner block 180 . The support tube 190 may be formed of a ceramic material. The support tube 190 may reinforce the strength by supporting the edge of the flat heater. In addition, the support tube 190 blocks the space between the upper plate 110 and the lower plate 120 at the corners to prevent particles that may be generated due to friction between the hot wire and the support block from coming out.

이상에서 설명한 것은 본 발명에 따른 기판 열처리용 평판 히터를 실시하기 위한 하나의 실시예에 불과한 것으로서, 본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 않고, 이하의 청구범위에서 청구하는 바와 같이 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변경 실시가 가능한 범위까지 본 발명의 기술적 정신이 있다고 할 것이다.What has been described above is only one embodiment for implementing the flat plate heater for substrate heat treatment according to the present invention, and the present invention is not limited to the above-described embodiment, and as claimed in the claims below, the gist of the present invention Without departing from, it will be said that the technical spirit of the present invention exists to the extent that various modifications can be made by anyone with ordinary knowledge in the field to which the invention pertains.

100: 기판 열처리용 평판 히터
110: 상판 120: 하판
130: 히터 모듈 140: 제 1 지지 블록
140a: 제 1 지지 블록 라인 140b: 열선 배치 라인
141: 제 1 지지 홈 142: 제 1 단부 지지 홈
143: 제 1 내부 지지 홈 144: 제 1 이탈 방지 수단
145: 제 1 이탈 방지 기둥 146: 제 1 이탈 방지 바
147: 제 1 열선 트렌치 150: 제 2 지지 블록
151: 제 2 지지 홈 152: 제 2 단부 지지 홈
153: 제 2 내부 지지 홈 154: 제 2 이탈 방지 수단
155: 제 2 이탈 방지 기둥 156: 제 2 이탈 방지 바
157: 제 2 튜브 트렌치 160: 제 3 지지 블록
161: 제 3 지지 홈 162: 제 3 단부 지지 홈
163: 제 3 내부 지지 홈 164: 제 3 이탈 방지 수단
165: 제 3 이탈 방지 기둥 166: 제 3 이탈 방지 바
167: 제 3 열선 트렌치 168: 제 3 튜브 트렌치
169: 열선 관통 홀 170: 중간 블록
171: 중간 본체 판 172: 하부 연장 바
173: 하부 연장 홈 174: 하부 관통 홀
175: 상부 연장 바 176: 상부 관통 홀
180: 코너 블록 181: 튜브 고정 홈
182: 볼트 결합 홀 190: 지지 튜브
100: flat plate heater for substrate heat treatment
110: upper plate 120: lower plate
130: heater module 140: first support block
140a: first support block line 140b: hot wire arrangement line
141: first support groove 142: first end support groove
143: first internal support groove 144: first separation preventing means
145: first departure prevention column 146: first departure prevention bar
147: first hot wire trench 150: second support block
151: second support groove 152: second end support groove
153: second inner support groove 154: second separation preventing means
155: second departure prevention pillar 156: second departure prevention bar
157: second tube trench 160: third support block
161: third support groove 162: third end support groove
163: third inner support groove 164: third separation preventing means
165: a third anti-separation column 166: a third anti-separation bar
167: third hot wire trench 168: third tube trench
169: hot wire through hole 170: middle block
171: middle body plate 172: lower extension bar
173: lower extension groove 174: lower through hole
175: upper extension bar 176: upper through hole
180: corner block 181: tube fixing groove
182: bolted hole 190: support tube

Claims (11)

상판과,
하판과,
상기 상판과 하판 사이에 위치하며, 제 1 방향으로 소정 길이로 연장되면서 제 2 방향으로 이격되는 직선부와 상기 직선부의 양측에서 이웃하는 상기 직선부를 교대로 연결하는 절곡부를 구비하는 열선 및
상기 상판과 하판 사이에서 내측에 위치하며, 상기 열선의 양측에서 상기 절곡부를 지지하여 상기 열선을 상기 상판과 하판으로부터 이격시키는 지지 블록을 포함하며,
상기 지지 블록은 상기 절곡부가 지지되는 제 1 단부 지지 홈 및 상기 제 1 단부 지지 홈에 결합되어 상기 절곡부를 지지하는 제 1 이탈 방지 수단을 구비하고, 상기 제 2 방향으로 배열되는 제 1 지지 블록을 포함하며,
상기 제 1 이탈 방지 수단은 상기 제 1 단부 지지 홈의 바닥면에서 상부 방향으로 연장되는 제 1 이탈 방지 기둥 및 상기 제 1 이탈 방지 기둥의 상부에서 상기 제 1 단부 지지 홈이 위치하는 방향과 반대 방향인 외측 방향으로 연장되는 제 1 이탈 방지 바를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 열처리용 평판 히터.
plate and
bottom plate,
A hot wire positioned between the upper plate and the lower plate and having a straight part spaced apart in a second direction while extending for a predetermined length in a first direction and a bent part alternately connecting the linear parts adjacent to each other on both sides of the straight part; and
and a support block located inside between the upper and lower plates, and supporting the bent portions on both sides of the hot wires to space the hot wires from the upper and lower plates,
The support block includes a first end support groove in which the bent portion is supported, and a first separation preventing means coupled to the first end support groove to support the bent portion, and a first support block arranged in the second direction. includes,
The first separation preventing means includes a first separation preventing pillar extending upwardly from the bottom surface of the first end supporting groove and a direction opposite to a direction in which the first end supporting groove is located on the first separation preventing pillar A flat plate heater for heat treatment of a substrate, characterized in that it includes a first separation prevention bar extending in an outward direction.
제 1 항에 있어서,
상기 평판 히터는 복수 개의 제어 영역으로 구분되며, 상기 열선은 상기 제어 영역별로 독립적으로 제어되는 것을 특징으로 하는 기판 열처리용 평판 히터.
The method of claim 1,
The flat plate heater is divided into a plurality of control regions, and the heating wire is independently controlled for each control region.
제 2 항에 있어서,
상기 열선은 상기 제 1 방향으로 연장되면서 상기 제 2 방향으로 이격되는 복수 개의 직선부를 더 구비하며, 상기 절곡부는 인접하는 2개의 상기 직선부의 단부에 결합되며 상기 직선부의 양측에서 서로 엇갈리게 위치하는 것을 특징으로 하는 기판 열처리용 평판 히터.
3. The method of claim 2,
The heating wire further includes a plurality of straight parts extending in the first direction and spaced apart from each other in the second direction, wherein the bent parts are coupled to the ends of the two adjacent straight parts and are positioned to be staggered from each other on both sides of the straight part A flat plate heater for substrate heat treatment.
삭제delete 제 2 항에 있어서,
상기 제 1 지지 블록은 상기 제 1 단부 지지 홈의 사이에 위치하는 제 1 내부 지지 홈 및 상기 제 2 방향으로 연장되는 제 1 열선 트렌치를 더 구비하며,
상기 제 1 단부 지지 홈 및 상기 제 1 내부 지지 홈은 상기 제 1 열선 트렌치를 기준으로 일측과 타측에 대칭으로 위치하며,
상기 제 1 단부 지지 홈은 상기 제 1 지지 블록의 전측과 후측에 위치하며, 상기 제 1 지지 블록의 일측 또는 타측 및 전측 또는 후측이 개방되어 형성되며,
상기 제 1 내부 지지 홈은 상기 제 1 지지 블록의 일측 또는 타측으로 개방되어 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 열처리용 평판 히터.
3. The method of claim 2,
The first support block further includes a first inner support groove positioned between the first end support grooves and a first hot wire trench extending in the second direction,
The first end support groove and the first inner support groove are symmetrically positioned on one side and the other side with respect to the first hot wire trench,
The first end support groove is positioned on the front and rear sides of the first support block, and one or the other side and the front or rear side of the first support block are opened and formed,
The first internal support groove is a flat plate heater for heat treatment of a substrate, characterized in that it is formed to be opened to one side or the other side of the first support block.
삭제delete 제 2 항에 있어서,
상기 제 1 이탈 방지 기둥은 상기 제 1 단부 지지 홈의 깊이보다 작은 높이와 상기 열선의 직경보다 큰 높이로 형성되며,
상기 제 1 이탈 방지 바는 상기 절곡부의 반경보다 큰 길이로 연장되는 것을 특징으로 하는 기판 열처리용 평판 히터.
3. The method of claim 2,
The first separation prevention pillar is formed with a height smaller than the depth of the first end support groove and a height greater than the diameter of the heating wire,
The first separation preventing bar is a flat heater for substrate heat treatment, characterized in that the extended length greater than the radius of the bent portion.
제 2 항에 있어서,
상기 지지 블록은
상기 상판과 하판 사이의 일측 모서리 영역과 타측 모서리 영역에 위치하며, 상기 절곡부가 지지되는 제 2 단부 지지 홈과, 상기 제 2 단부 지지 홈 사이에 위치하며 상기 절곡부가 지지되는 제 2 내부 지지 홈과, 상기 제 2 단부 지지 홈에 위치하며, 상기 절곡부를 지지하는 제 2 이탈 방지 수단 및 상기 제 2 방향으로 연장되는 제 2 튜브 트렌치를 구비하는 제 2 지지 블록을 더 포함하며,
상기 제 2 단부 지지 홈과 제 2 내부 지지 홈 및 상기 제 2 이탈 방지 수단은 상기 제 2 튜브 트렌치를 기준으로 일측 또는 타측에만 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 열처리용 평판 히터.
3. The method of claim 2,
The support block is
A second end support groove positioned in one corner region and the other corner region between the upper plate and the lower plate in which the bent part is supported, and a second internal support groove positioned between the second end support groove and in which the bent part is supported; , Located in the second end support groove, and further comprising a second support block having a second separation preventing means for supporting the bent portion and a second tube trench extending in the second direction,
The second end support groove, the second inner support groove, and the second separation preventing means are formed only on one side or the other side with respect to the second tube trench. Flat plate heater for substrate heat treatment.
제 1 항에 있어서,
상기 지지 블록은
상기 상판과 하판 사이의 전측 모서리 영역과 후측 모서리 영역에 위치하며, 전측 또는 후측에 위치하여 상기 절곡부가 지지되는 제 3 단부 지지 홈과, 상기 제 3 단부 지지 홈의 후측 또는 전측에 위치하며, 상기 절곡부가 지지되는 제 3 내부 지지 홈과, 상기 제 3 단부 지지 홈에 위치하며, 상기 절곡부를 지지하는 제 3 이탈 방지 수단과 상기 제 2 방향으로 연장되는 제 3 열선 트렌치 및 제 3 단부 지지 홈이 형성되는 측과 반대측에서 제 1 방향으로 연장되어 형성되는 제 3 튜브 트렌치를 구비하는 제 3 지지 블록을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 열처리용 평판 히터.
The method of claim 1,
The support block is
It is located in the front edge region and the rear edge region between the upper plate and the lower plate, the third end support groove is located on the front or the rear side to support the bent part, and the third end support groove is located on the rear or front side, A third internal support groove in which the bent part is supported, a third separation preventing means positioned in the third end support groove and supporting the bent part, and a third hot wire trench and a third end support groove extending in the second direction are provided. A flat plate heater for substrate heat treatment, comprising a third support block having a third tube trench extending in the first direction from the side opposite to the formed side.
제 2 항에 있어서,
상기 제 2 방향으로 인접한 제어 영역들 사이에서 상기 제 1 지지 블록들 사이에 위치하며,
상기 제 1 지지 블록에서 상기 제 1 이탈 방지 수단 사이에 위치하는 중간 본체 판과, 상기 중간 본체 판의 하면에서 상기 제 1 방향으로 연장되면서 상기 제 2 방향으로 이격되어 열선이 수용되면서 지지되는 하부 연장 홈과 상기 하부 연장 홈의 연장 방향과 수직인 방향으로 전면에서 후면으로 관통되는 하부 관통 홀을 구비하는 하부 연장 바를 구비하는 중간 블록을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 열처리용 평판 히터.
3. The method of claim 2,
located between the first support blocks between control regions adjacent in the second direction;
An intermediate body plate positioned between the first separation preventing means in the first support block, and a lower extension extending in the first direction from a lower surface of the intermediate body plate and spaced apart in the second direction to accommodate the heating wire A flat plate heater for substrate heat treatment, further comprising: a middle block having a groove and a lower extension bar having a lower through hole penetrating from the front to the rear in a direction perpendicular to the extending direction of the lower extension groove.
제 2 항에 있어서,
직육면체 형상으로 형성되어 상기 상판과 하판 사이에서 4개의 코너에 각각 위치하며, 서로 대향하는 측면에서 내측으로 형성되는 튜브 고정 홈을 구비하는 코너 블록 및
상기 상판과 하판 사이에서 각 모서리를 따라 연장되며, 상기 튜브 고정 홈에 양 단부가 삽입되어 결합되는 지지 튜브를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 열처리용 평판 히터.
3. The method of claim 2,
A corner block formed in a rectangular parallelepiped shape and positioned at each of the four corners between the upper plate and the lower plate, the corner block having a tube fixing groove formed inward from opposite sides; and
and a support tube extending along each edge between the upper plate and the lower plate and having both ends inserted into the tube fixing groove and coupled thereto.
KR1020200044381A 2020-04-12 2020-04-12 Planar Heater for Thermal Process of Substrate KR102346328B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200044381A KR102346328B1 (en) 2020-04-12 2020-04-12 Planar Heater for Thermal Process of Substrate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200044381A KR102346328B1 (en) 2020-04-12 2020-04-12 Planar Heater for Thermal Process of Substrate

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20210126459A KR20210126459A (en) 2021-10-20
KR102346328B1 true KR102346328B1 (en) 2022-01-04

Family

ID=78268158

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200044381A KR102346328B1 (en) 2020-04-12 2020-04-12 Planar Heater for Thermal Process of Substrate

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102346328B1 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230148504A (en) 2022-04-18 2023-10-25 주식회사 한화 Plane heater for heat treatment of substrate
KR20240001440A (en) 2022-06-27 2024-01-03 주식회사 한화 Plane heater for heat treatment of substrate

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230151339A (en) * 2022-04-25 2023-11-01 주성엔지니어링(주) Substrate heating device and apparatus for processing substrate having the same

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015535068A (en) * 2012-11-16 2015-12-07 エルジー・ハウシス・リミテッド Floor heating system

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130128612A (en) * 2012-05-17 2013-11-27 (주)엠에스아이코리아 Ceramic heater using insulating tube
KR101874107B1 (en) * 2016-01-14 2018-07-09 주식회사 비아트론 Ceramic heater module for thermal process of substrate
KR20180076668A (en) * 2016-12-28 2018-07-06 이은숙 Floor heating plate for stable and Manufacturing method

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015535068A (en) * 2012-11-16 2015-12-07 エルジー・ハウシス・リミテッド Floor heating system

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230148504A (en) 2022-04-18 2023-10-25 주식회사 한화 Plane heater for heat treatment of substrate
KR20240001440A (en) 2022-06-27 2024-01-03 주식회사 한화 Plane heater for heat treatment of substrate

Also Published As

Publication number Publication date
KR20210126459A (en) 2021-10-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102346328B1 (en) Planar Heater for Thermal Process of Substrate
KR102280342B1 (en) Planar Heater for Thermal Process of Substrate
KR101139612B1 (en) Planar heater
US8323411B2 (en) Semiconductor workpiece apparatus
KR101874107B1 (en) Ceramic heater module for thermal process of substrate
JPS6038581A (en) Heat treatment furnace for ceramic material
JP7073586B2 (en) Reaction chambers and reactors for epitaxial reactors for semiconductor materials with non-uniform length cross sections
GB2167541A (en) Furnace for heat treatment of semiconductor substrates
US11147129B2 (en) Industrial heater
KR102272631B1 (en) thermoelectric module
US3302621A (en) Method of supporting horizontal heater tubes fired from both sides
KR101199128B1 (en) Heater assembly
KR101753683B1 (en) Prefabricated setter
JP4709862B2 (en) Large area substrate processing system susceptor / heater assembly
KR102523494B1 (en) Melters for Glass Forming Equipment
KR101333227B1 (en) Electrode connecting structure for ceramic heater.
US4630280A (en) Electrode arrangement
KR20160121050A (en) Single crystal grower having multiple crucibles
KR20240001440A (en) Plane heater for heat treatment of substrate
EP1634028A2 (en) Cooling and support systems for furnace roofs
KR102658726B1 (en) Heating device for semiconductor manufacturing equipment
KR102485866B1 (en) Apparatus for processing substrate
CN214457618U (en) Heating assembly at lower part of heating furnace in glass tempering furnace
JP4416521B2 (en) Heat treatment equipment
EP1083396B1 (en) Kiln for firing industrial articles

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant