KR102338120B1 - 비대칭 배율 검사 시스템 및 조명 모듈 - Google Patents

비대칭 배율 검사 시스템 및 조명 모듈 Download PDF

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Abstract

제1 아나모픽 프리즘 및 제2 아나모픽 프리즘을 포함하는 한 쌍의 아나모픽 프리즘들 - 상기 한 쌍의 아나모픽 프리즘들은 (a) 제1 광학 축을 따라 전파하는 제1 복사 빔을 수신하고, (b) 상기 제1 복사 빔을 비대칭적으로 확대하여 상기 제1 광학 축에 평행한 제2 광학 축을 따라 전파하는 제2 복사 빔을 제공하도록 구성됨 -; 상기 제2 복사 빔을 수신하고 상기 제2 복사 빔의 횡방향 시프트를 수행하여 제3 복사 빔을 제공하도록 구성되는 직사각형 프리즘; 및 상기 제1 아나모픽 프리즘 및 상기 제2 아나모픽 프리즘 중 적어도 하나를 회전시킴으로써 상기 한 쌍의 아나모픽 프리즘들의 비대칭 배율을 변화시키도록 구성되는 회전 메커니즘을 포함하는 조명 모듈.

Description

비대칭 배율 검사 시스템 및 조명 모듈{ASYMMETRICAL MAGNIFICATION INSPECTION SYSTEM AND ILLUMINATION MODULE}
관련 출원에 대한 상호 참조
본 출원은 2017년 1월 23일자로 출원되고, 발명의 명칭이 "비대칭 배율 검사 시스템 및 조명 모듈(ASYMMETRICAL MAGNIFICATION INSPECTION SYSTEM AND ILLUMINATION MODULE)"인 미국 정규 출원 제15/412,879호의 이익을 주장하며, 이로써 그 전체가 본 명세서에서 인용에 의해 포함된다.
반도체 웨이퍼들과 같은 대상들을 검사하기 위한 소형의 조절 가능한 검사 시스템들 및 조명 모듈들을 제공할 필요성이 커지고 있다.
이 개요는 방법 및/또는 시스템들 및/또는 모듈들의 다양한 예들을 예시하는 것에 불과하다. 이는 청구항들의 범위를 제한하는 데 사용되어서는 안 된다.
본 발명을 더 잘 이해하기 위해 그리고 발명이 어떻게 실시될 수 있는지를 보여주기 위해, 이하에서는 순전히 예로서, 첨부 도면들이 참조될 것이고, 도면들에서 동일한 부호들은 전체에 걸쳐 대응하는 요소들 또는 섹션들을 지시한다.
이하에서는 도면들을 상세하게 구체적으로 참조하여, 도시된 상세들은 단지 예로서 그리고 본 발명의 바람직한 실시예들에 대한 예시적인 논의를 위한 것이고, 본 발명의 원리들 및 개념적 양태들에 대한 가장 유용하고 용이하게 이해되는 설명이라고 생각되는 것을 제공하기 위하여 제시된다는 점이 강조된다. 이와 관련하여, 본 발명의 기본적인 이해에 필요한 것보다 더 상세하게 본 발명의 구조적 상세를 보여주려고 시도하지는 않았으며, 도면들과 함께 취해지는 설명은 본 발명의 몇 가지 형태가 실제로 어떻게 구현될 수 있는지를 본 기술분야의 통상의 기술자들에게 명백하게 만든다. 첨부 도면들에서:
도 1은 수집 및 조명 수치 개구들의 예를 도시한다;
도 2는 수집 및 조명 수치 개구들의 예를 도시한다;
도 3은 웨지, 입력 복사 빔 및 출력 복사 빔의 예를 도시한다;
도 4는 조명 모듈의 부분의 예를 도시한다;
도 5는 조명 모듈의 부분의 예를 도시한다;
도 6은 검사 시스템의 예를 도시한다;
도 7은 검사 시스템의 예를 도시한다;
도 8은 방법의 예를 도시한다.
보통 더블 다크 필드 툴들(double dark field tools)에서는 수율을 가능한 한 많이 증가시키면서도, 감도를 유지하는 것이 바람직하다. 이를 행하기 위한 한 가지 방법은 타원형 조명 개구를 사용하는 것이고, 이제 스폿도 타원형이 될 것이지만, 스폿 크기로 인한 감도의 손실은 수집 면적의 증가에 의해 부분적으로 보상될 것이다.
타원형 스폿들은 X 방향 또는 Y 방향으로 조명 개구를 축소시킴으로써 획득될 수 있다.
캘리포니아 주 산타클라라의 Applied Materials, Inc.의 Uvision 툴과 같은 검사 시스템들에서는, X 방향은 acusto-optics 디바이스에 의해 스캔되므로 고정 데이터 레이트를 가지며, Y 방향은 동력화된 스테이지를 이동시킴으로써 스캔된다.
이러한 시나리오에서, 수율은 Y 방향으로 개구를 축소시키고, 스테이지 속도를 증가시킴으로써 증가될 수 있다.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 수율은 두 가지 방법으로 증가될 수 있다. 도 1에서, 충돌 복사 빔(43) 및 차단된 영역(48)은 동일한 Y 좌표에 있다(이들은 "나란히" 있다). 수집된 빔(44)은 차단된 영역(48) 외부에서 수집된다.
도 2에서, 충돌 복사 빔(45) 및 차단된 영역(49)은 동일한 X 좌표에 있다(이들은 "하나가 다른 하나의 위에" 있다). 수집된 빔(46)은 차단된 영역(49) 외부에서 수집된다.
도 2의 구성은 입자들의 검출에서 감도를 증가시키는 더 큰 축외 조명 각도들을 허용하기 때문에 더 양호할 수 있다.
충돌 복사 빔의 폭 대 길이 비를 변화시킴으로써 충돌 복사 빔의 형상을 제어할 필요가 있을 수 있다. 그 변화는, 예를 들어, 검사 시스템의 셋업 중, 검사 시스템의 수집 경로의 전체적인 배율을 변화시키는 경우, 검사 시스템의 조명 경로의 배율을 변화시키는 경우, 하나의 망원경을 다른 망원경으로 교체하는 경우 발생할 수 있다.
충돌 복사 빔의 형상은 조절 가능한 비대칭 배율을 갖는 조명 모듈을 사용하여 결정될 수 있다. 조명 모듈의 비대칭 배율은 (a) 조명 모듈을 나가는 복사 빔의 폭 대 길이 비와 (b) 조명 모듈에 들어가는 복사 빔의 폭 대 길이 비 사이의 비율이다.
아나모픽 프리즘들의 쌍, 평행 판(직사각형 프리즘) 및 복사 빔의 비대칭 배율을 조정하기 위해 아나모픽 프리즘들을 회전시키기 위한 회전 요소들을 포함할 수 있는 조명 모듈이 제공된다.
아나모픽 프리즘들의 쌍과 평행 판은 터릿(turret)의 임의의 망원경의 상류 측에 위치될 수 있다 - 그에 따라 기존의 망원경은 교체되지 않고 비대칭 배율은 시간 경과에 따라 쉽게 변경될 수 있다.
조명 모듈은 검사 시스템이 조명 모듈과 함께 또는 조명 모듈 없이 동작할 수 있다는 점에서 모듈식일 수 있다.
도 3을 참조하면, 입력 복사 빔(51)이 웨지(52)를 통과할 때 빔은 출력 복사 빔(53)을 제공하도록 기울어질 것이다. 그 기울기는(n-1)*α와 실질적으로 동일한 각도 θ만큼이고, 여기서 n은 웨지 재료의 굴절률이고, α는 웨지 표면들 사이의 각도이다.
출력 복사 빔(53)은 입력 복사 빔(51)에 대한 꺾임 각도(break angle)에 따라 해당 빔의 폭(Din)보다 작은 일 차원에서의 폭(Dout)을 갖는다: Dout = Din*sinus(β- θ)/sinβ.
빔의 폭의 변화는 빔의 길이에 영향을 미치지 않는다. 빔의 길이는 도 3의 평면에 수직인 평면에서 측정된다. 비대칭 배율을 도입함으로써, 조명 모듈은 원형 복사 빔을 타원형 복사 빔으로 변환할 수 있다.
도 4는 조명 모듈의 부분을 도시한다. 이 부분은 제1 아나모픽 프리즘(61) 및 제2 아나모픽 프리즘(62)을 포함한다.
도 4에서, 제1 아나모픽 프리즘(61)은 제1 AP(61)로 표시되고 제2 아나모픽 프리즘(62)은 제2 AP(62)로 표시된다.
도 4는 또한 대물 렌즈(20) 및 대물 렌즈(20)의 초점(11)을 도시한다. 초점(11)은 검사 대상 상에 "위치(fall)"할 수 있다.
제1 아나모픽 프리즘(61)은 (제1 광학 축(88)을 따라 전파하는) 제1 복사 빔(81)을 수신하고 제2 복사 빔(82)을 제2 아나모픽 프리즘(62)을 향해 출력한다. 제2 아나모픽 프리즘(62)은 제1 광학 축에 평행한 제2 광학 축(89)을 따라 전파하는 제3 복사 빔(83)을 출력한다.
제3 복사 빔(83)은 제1 복사 빔(81)보다 좁지만(도 4의 평면에서), 제1 복사 빔(81)과 동일한 길이를 갖는다(도 4의 평면에 수직인 평면 내에서).
비대칭 배율 값은 제3 복사 빔의 폭 대 길이 비를 제1 복사 빔의 폭 대 길이 비로 나눈 값일 수 있다.
도 5는 조명 모듈의 부분을 도시한다. 도 5에서 제1 아나모픽 프리즘(61)은 (도 4에 대해) 시계 방향으로 회전되었고 그에 따라 비대칭 배율의 변화를 초래하고 (도 4와 비교하여) 더 좁은 제3 복사 빔을 출력한다.
비대칭 배율은 또한 제1 아나모픽 프리즘의 재료 및 제2 아나모픽 프리즘의 재료에 의해 영향을 받을 수 있다.
도 6은 조명 모듈(91), 수집 광학계(92), 검출기(80), 이미지 프로세서(101), 제어기(100) 및 메모리 모듈(102)을 포함하는 검사 시스템(90) 및 대상(10)을 도시한다.
조명 모듈(91)은 (i) 제1 아나모픽 프리즘(61) 및 제2 아나모픽 프리즘(62)을 포함하는 아나모픽 프리즘들의 쌍, (ii) 제1 회전 유닛(RM)(71) 및 제2 회전 유닛(RM)(72)과 같은 회전 메커니즘, (iii) 직사각형 프리즘(63), (iv) 릴레이 유닛(64), (v) 도넛 형상의 거울(65)과 같은 빔 스플리팅 유닛, (vi) 망원경(66) 및 다른 망원경(66')과 같은 하나 이상의 망원경, 및 (vii) 대물 렌즈(20)를 포함할 수 있다.
도 6은 또한 다수의 망원경에 연결되고 하나의 망원경을 다른 망원경으로 교체하기 위해 이동될 수 있는 터릿(75)을 도시한다.
대물 렌즈 및 빔 스플리팅 유닛도 수집 광학계(92)에 속한다.
아나모픽 프리즘들의 쌍은 (a) 제1 광학 축을 따라 전파하는 제1 복사 빔을 수신하고, (b) 제1 복사 빔을 비대칭적으로 확대하여 제1 광학 축에 평행한 제2 광학 축을 따라 전파하는 제2 복사 빔을 제공하도록 구성된다.
직사각형 프리즘(63)은 제2 복사 빔을 수신하고 제2 복사 빔의 횡방향 시프트를 수행하여 제3 복사 빔을 제공하도록 구성된다.
회전 메커니즘은 제1 아나모픽 프리즘 및 제2 아나모픽 프리즘 중 적어도 하나를 회전시킴으로써 제1 복사 빔의 비대칭 배율을 변화시키도록 구성된다.
릴레이 유닛(64), 도넛 형상의 거울(65), 망원경(66) 및 대물 렌즈(20)(집합적으로 부가의 광학계(94)라고 함)는 제3 복사 빔(83)을 광학적으로 조작하여 대상(10)에 충돌하는 충돌 복사 빔(85)을 제공할 수 있다. 부가의 광학계는 다른 또는 더 적은 광학 컴포넌트들을 포함할 수 있다.
수집 광학계(92)는 반사된 복사 빔(86)을 수신하고 수집 광학계(92)를 통과시켜 검출기(80)에 의해 검출되는 검출 복사 빔(87)을 제공하도록 구성된다. 수집 광학계(92)는 대물 렌즈(20), 망원경(66) 및 도넛 형상의 거울(65)을 포함할 수 있다. 수집 광학계(92)는 다른 또는 더 적은 광학 컴포넌트들을 포함할 수 있다.
반사된 복사 빔(86)은 충돌 복사 빔(85)에 의한 대상의 조명의 결과로서 대상(10)으로부터 반사된다.
스캐너(60)는 도 6의 평면과 다른 평면 내에서 제1 복사 빔을 스캐닝하도록 구성된다. 예를 들면, 제1 복사 빔은 도 6의 평면에 수직인 평면 내에서 스캐닝될 수 있다.
조명 모듈은 동공 평면(78)에서의 제1 복사 빔의 스캐닝을 충돌 복사 빔(85)의 스캐닝으로 변환하도록 구성된다. 동공 평면(78)에서의 스캐닝은 망원경의 후초점면(back focal plane)(79)에서의 스캐닝으로 릴레이된다.
이미지 프로세서(101)는 대상(10)의 이미지들을 처리하도록 구성된다. 이미지들은 검출기에 의해 생성된 검출 신호들로부터 구성된다.
메모리 모듈(102)은 대상(10)의 이미지들, 검사 레시피들 및 그와 유사한 것을 저장하는데 사용될 수 있다.
제어기(100)는 검사 시스템(90)의 동작을 제어하도록 구성된다.
도 7은 대상(10) 및 검사 시스템(90)을 도시한다.
도 7의 검사 시스템은 도 6의 검사 시스템과 다음이 다르다:
a. 제1 회전 유닛(71)을 포함하지 않는다.
b. 제2 회전 유닛(72)을 포함하지 않는다.
c. 조명 모듈(91)과 검사 시스템의 구조 요소(210) 사이를 연결하는 연결 요소(200)를 도시한다.
연결 요소(200)는 구조 요소(210)에 조명 모듈을 연결하는 것을 가능하게 하고 구조 요소에 대해 조명 모듈을 연결 해제하는 것을 가능하게 한다. 구조 요소는 측벽, 로드, 하우징, 케이지, 및 그와 유사한 것일 수 있다.
검사 시스템(90)은 조명 모듈(91)과 함께 또는 조명 모듈 없이 동작할 수 있다. 조명 모듈은, 어떤 의미에서는, 검사 대상, 검사 레시피, 및 그와 유사한 것에 따라 추가되거나 제거될 수 있는 모듈식 모듈이다.
이전에 예시된 조명 모듈들 중 임의의 모듈도 모듈식 모듈로 간주될 수 있다.
도 8은 방법(110)의 예를 도시한다.
방법(110)은 초기화 단계(112)에 의해 시작될 수 있다.
초기화 단계(112)는 아나모픽 프리즘들의 쌍의 제1 아나모픽 프리즘 및 제2 아나모픽 프리즘 중 적어도 하나를 회전 메커니즘에 의해 회전시킴으로써 아나모픽 프리즘들의 쌍의 비대칭 배율을 설정하는 단계를 포함할 수 있다. 쌍이 원하는 비대칭 배율을 제공하도록 이미 설정된 경우, 제1 및 제2 아나모픽 프리즘들 중 어느 하나를 회전시킬 필요가 없다.
초기화 단계(112)에 이어서 제1 복사 빔을 스캐닝하는 단계(114)가 뒤따를 수 있다.
단계(114)에 이어서 제1 복사 빔으로, 아나모픽 프리즘들의 쌍을 조명하는 단계(116)가 뒤따를 수 있다. 제1 복사 빔은 제1 광학 축을 따라 전파한다.
단계(116)에 이어서 아나모픽 프리즘들의 쌍에 의해 제1 복사 빔을 비대칭적으로 확대하여 제1 광학 축에 평행한 제2 광학 축을 따라 전파하는 제2 복사 빔을 제공하는 단계(118)가 뒤따를 수 있다.
단계(118)에 이어서 직사각형 프리즘에 의해 제2 복사 빔을 횡방향으로 시프트시켜 제3 복사 빔을 제공하는 단계(120)가 뒤따를 수 있다.
단계(120)에 이어서 제3 복사 빔을 광학적으로 조작하여 대상에 충돌하는 충돌 복사 빔을 제공하는 단계(122)가 뒤따를 수 있다.
단계(122)에 이어서, 수집 광학계에 의해, 대상으로부터의 반사된 복사 빔을 수집하고 검출된 복사 빔을 검출기에 제공하는 단계(124)가 뒤따를 수 있다.
단계(124)에 이어서 검출기에 의해 검출 신호들을 생성하는 단계(126)가 뒤따를 수 있다. 검출 신호들은 검출된 복사 빔을 반영한다.
단계(126)에 이어서 검출 신호들로부터 대상의 하나 이상의 영역의 하나 이상의 이미지를 재구성하고 하나 이상의 이미지를 이미지 처리하는 단계(128)가 뒤따를 수 있다.
이미지 처리는 결함 검출 프로세스 동안, 검토 프로세스 동안 및/또는 계측 프로세스 동안 실행될 수 있다.
대상은 반도체 웨이퍼, 리소그래피 마스크, 태양 전지판, 또는 미시적 및 심지어 나노미터 구조 요소들을 포함하는 임의의 대상일 수 있다.
복사는 가시 광, 자외선, 극자외선, 심자외선, 근적외선, 및 그와 유사한 것일 수 있다.
다수의 예시적인 양태들 및 실시예들이 위에서 논의되었지만, 본 기술분야의 통상의 기술자들은 그것들의 특정한 수정들, 치환들, 부가들 및 하위 조합들을 인지할 것이다. 그러므로, 하기의 첨부된 청구항들 및 이후에 도입된 청구항들은 그것들의 진정한 취지 및 범위 내에 있는 그러한 모든 수정들, 치환들, 부가들 및 하위 조합들을 포함하도록 해석되는 것으로 의도한다.
본 발명이 특정 실시예들과 관련하여 설명되었지만, 많은 대안들, 수정들 및 변형들이 본 기술분야의 통상의 기술자들에게는 명백할 것임이 분명하다. 따라서, 첨부된 청구항들의 취지와 넓은 범위 내에 속하는 그러한 모든 대안들, 수정들 및 변형들을 포괄하는 것으로 의도된다.
명료함을 위해, 별개의 실시예들의 맥락에서 설명된 본 발명의 특정한 특징들은 단일 실시예에서 조합하여 제공될 수도 있다는 것이 이해된다. 반대로, 간결함을 위해, 단일 실시예의 맥락에서 설명된 본 발명의 다양한 특징들은 개별적으로 또는 임의의 적절한 하위 조합으로 제공될 수도 있다.
달리 정의되지 않는 한, 본 명세서에서 사용된 모든 기술적 및 과학적 용어들은 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 기술자가 통상적으로 이해하는 바와 동일한 의미를 갖는다. 본 명세서에 설명된 것들과 유사한 또는 등가의 방법들이 본 발명의 실시 또는 테스트에서 사용될 수 있지만, 적합한 방법들이 본 명세서에 설명되어 있다.
본 발명이 이상에서 특정하게 도시되고 설명된 것으로 제한되지 않는다는 점이 본 기술분야의 통상의 기술자들에 의해 이해될 것이다. 오히려 본 발명의 범위는 첨부된 청구항들에 의해 정의되고, 이상에서 설명된 다양한 특징들의 조합들과 하위 조합들 둘뿐만 아니라 전술한 설명을 읽음으로써 본 기술분야의 통상의 기술자들이 생각해낼, 그의 변형들 및 수정들도 포함한다. 본 발명의 바람직한 실시예들이 도시되고 설명되었지만, 다양한 대안들, 치환들, 및 등가물들이 사용될 수 있고, 본 발명은 청구항들 및 그의 등가물들에 의해서만 제한되어야 함을 이해해야 한다.

Claims (15)

  1. 광학 검사 시스템의 조명 모듈로서,
    제1 광학 축을 따라 전파하는 제1 복사 빔을 생성하도록 구성되는 소스;
    상기 제1 복사 빔을 스캔하도록 구성되는 스캐너;
    제1 아나모픽 프리즘 및 제2 아나모픽 프리즘을 포함하는 아나모픽 프리즘들의 쌍; - 상기 아나모픽 프리즘들의 쌍은 (a) 상기 스캐너로부터 상기 제1 복사 빔을 수신하고, (b) 상기 제1 복사 빔을 비대칭적으로 확대하여 상기 제1 광학 축에 평행한 제2 광학 축을 따라 전파하는 제2 복사 빔을 제공하도록 구성됨 -;
    상기 아나모픽 프리즘들의 쌍으로부터 상기 제2 복사 빔을 수신하고 상기 제2 복사 빔의 횡방향 시프트를 수행하여 제3 복사 빔을 제공하도록 구성되는 직사각형 프리즘;
    상기 제1 아나모픽 프리즘 및 상기 제2 아나모픽 프리즘 중 적어도 하나를 회전시킴으로써 상기 아나모픽 프리즘들의 쌍의 비대칭 배율을 변화시키도록 구성되는 회전 메커니즘; 및
    상기 직사각형 프리즘으로부터 상기 제3 복사 빔을 수신하고 상기 제3 복사 빔을 광학적으로 조작하여 대상에 충돌하는 충돌 복사 빔을 제공하기 위한 대물 렌즈로 상기 제3 복사 빔을 제공하도록 구성되는 망원경을 포함하고,
    상기 아나모픽 프리즘들의 쌍은 상기 제1 복사 빔과 상기 제2 복사 빔 사이에 횡방향 시프트를 도입하도록 구성되고; 상기 직사각형 프리즘에 의해 도입된 상기 횡방향 시프트는 상기 아나모픽 프리즘들에 의해 도입된 상기 횡방향 시프트를 보상하도록 구성되고,
    동공 평면에서의 상기 제1 복사 빔의 스캐닝은 상기 제1 복사 빔의 상기 스캐닝이 상기 충돌 복사 빔의 스캐닝으로 변환되도록 상기 망원경의 후초점면 상의 스캔으로 릴레이되는, 조명 모듈.
  2. 제1항에 있어서, 상기 회전 메커니즘은 상기 제1 아나모픽 프리즘을 회전시키기 위한 제1 회전 유닛 및 상기 제2 아나모픽 프리즘을 회전시키기 위한 제2 회전 유닛을 포함하는, 조명 모듈.
  3. 삭제
  4. 제1항에 있어서, 릴레이 렌즈 및 빔 스플리팅 광학계를 포함하는, 조명 모듈.
  5. 삭제
  6. 광학 검사 시스템으로서,
    검출기;
    수집 광학계;
    상기 검사 시스템의 구조 요소에 분리가능하게 연결되는 조명 모듈;
    터릿에 의해 유지되고 상기 조명 모듈과 대상 사이에 위치되는 다수의 망원경을 포함하고;
    상기 조명 모듈은:
    제1 광학 축을 따라 전파하는 제1 복사 빔을 생성하도록 구성되는 소스;
    상기 제1 복사 빔을 스캔하도록 구성되는 스캐너;
    제1 아나모픽 프리즘 및 제2 아나모픽 프리즘을 포함하는 아나모픽 프리즘들의 쌍; - 상기 아나모픽 프리즘들의 쌍은 (a) 상기 스캐너로부터 상기 제1 복사 빔을 수신하고, (b) 상기 제1 복사 빔을 비대칭적으로 확대하여 상기 제1 광학 축에 평행한 제2 광학 축을 따라 전파하는 제2 복사 빔을 제공하도록 구성됨 -;
    상기 아나모픽 프리즘들의 쌍으로부터 상기 제2 복사 빔을 수신하고 상기 제2 복사 빔의 횡방향 시프트를 수행하여 제3 복사 빔을 제공하도록 구성되는 직사각형 프리즘; 및
    상기 직사각형 프리즘으로부터 상기 제3 복사 빔을 수신하고 상기 제3 복사 빔을 광학적으로 조작하여 상기 대상에 충돌하는 충돌 복사 빔을 제공하기 위한 대물 렌즈로 상기 제3 복사 빔을 제공하도록 구성되는 망원경을 포함하고;
    상기 수집 광학계는 반사된 복사 빔을 상기 검출기를 향하여 유도하도록 구성되고; 상기 반사된 복사 빔은 상기 충돌 복사 빔에 의한 상기 대상의 조명의 결과로서 상기 대상으로부터 반사되고,
    동공 평면에서의 상기 제1 복사 빔의 스캐닝은 상기 제1 복사 빔의 스캐닝이 상기 충돌 복사 빔의 스캐닝으로 변환되도록 상기 망원경의 후초점면 상의 스캔으로 릴레이되는, 광학 검사 시스템.
  7. 제6항에 있어서, 상기 조명 모듈은 상기 제1 아나모픽 프리즘 및 상기 제2 아나모픽 프리즘 중 적어도 하나를 회전시킴으로써 상기 아나모픽 프리즘들의 쌍의 비대칭 배율을 변화시키도록 구성되는 회전 메커니즘을 포함하는, 광학 검사 시스템.
  8. 제7항에 있어서, 상기 회전 메커니즘은 상기 제1 아나모픽 프리즘을 회전시키기 위한 제1 회전 유닛 및 상기 제2 아나모픽 프리즘을 회전시키기 위한 제2 회전 유닛을 포함하는, 광학 검사 시스템.
  9. 삭제
  10. 제6항에 있어서, 상기 대상의 이미지들을 처리하도록 구성되는 이미지 프로세서를 포함하고; 상기 이미지들은 상기 검출기에 의해 생성된 검출 신호들로부터 구성되는, 광학 검사 시스템.
  11. 제6항에 있어서, 상기 아나모픽 프리즘들의 쌍은 상기 제1 복사 빔과 상기 제2 복사 빔 사이에 특정한 횡방향 시프트를 도입하도록 구성되고; 상기 직사각형 프리즘에 의해 도입된 상기 횡방향 시프트는 상기 특정한 횡방향 시프트를 보상하도록 구성되는, 광학 검사 시스템.
  12. 삭제
  13. 삭제
  14. 삭제
  15. 삭제
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