KR102334553B1 - Flexible display device - Google Patents

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KR102334553B1 KR1020150114351A KR20150114351A KR102334553B1 KR 102334553 B1 KR102334553 B1 KR 102334553B1 KR 1020150114351 A KR1020150114351 A KR 1020150114351A KR 20150114351 A KR20150114351 A KR 20150114351A KR 102334553 B1 KR102334553 B1 KR 102334553B1
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최시혁
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엘지디스플레이 주식회사
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Abstract

본 실시예들은, 표시 영역 및 표시 영역에서 연장된 비표시 영역을 포함하는 플렉서블 기판, 플렉서블 기판의 일면의 표시 영역에 위치하는 표시패널 및 플렉서블 기판의 일면의 비표시 영역에 테이프로 이루어진 커버층을 포함하며, 플렉서블 기판의 비표시 영역의 적어도 일부 영역과 커버층은 벤딩 방향으로 구부러진 형상으로 벤딩된 플렉서블 표시장치를 제공한다. ,In the present embodiments, a flexible substrate including a display area and a non-display area extending from the display area, a display panel located in the display area of one surface of the flexible substrate, and a cover layer made of tape are formed in the non-display area of one surface of the flexible substrate. and wherein at least a portion of the non-display area of the flexible substrate and the cover layer are bent in a bending direction. ,

Figure R1020150114351
Figure R1020150114351

Description

플렉서블 표시장치{FLEXIBLE DISPLAY DEVICE}Flexible display device {FLEXIBLE DISPLAY DEVICE}

본 실시예들은 영상을 표시하는 플렉서블 표시장치에 관한 것이다. The present embodiments relate to a flexible display device that displays an image.

컴퓨터의 모니터나 TV, 핸드폰 등에 사용되는 표시장치에는 스스로 광을 발광하는 유기 발광 표시장치(Organic Light Emitting Display; OLED), 플라즈마 표시장치 (Plasma Display Panel; PDP) 등과 별도의 광원을 필요로 하는 액정 표시장치 (Liquid Crystal Display; LCD) 등이 있다.Liquid crystals that require a separate light source such as organic light emitting displays (OLEDs) and plasma display panels (PDPs) that emit light by themselves in display devices used in computer monitors, TVs, and cell phones There is a liquid crystal display (LCD) and the like.

또한, 최근에는 플렉서블(flexible) 소재인 플라스틱 등과 같이 유연성 있는 기판에 표시패널, 배선 등을 형성하여, 종이처럼 휘어져도 화상 표시가 가능하게 제조되는 플렉서블 표시장치가 차세대 표시장치로 주목 받고 있다.Also, in recent years, a flexible display device that is manufactured to display an image even if it is bent like paper by forming a display panel and wiring on a flexible substrate such as plastic, which is a flexible material, is attracting attention as a next-generation display device.

플렉서블 표시장치는 컴퓨터의 모니터 및 TV 뿐만 아니라 개인 휴대 기기까지 그 적용 범위가 다양해지고 있으며, 넓은 표시 면적을 가지면서도 감소된 부피 및 무게를 갖는 플렉서블 표시장치에 대한 연구가 진행되고 있다. The range of application of the flexible display device to not only a computer monitor and TV but also a personal portable device is diversifying, and research on a flexible display device having a reduced volume and weight while having a large display area is being conducted.

이러한 플렉서블 표시장치에서 다양한 원인 때문에 밴딩시 플렉서블 기판 또는 배선에 크랙(crack)이 발생하기도 한다. 이러한 플렉서블 기판 또는 배선에서 발생하는 크랙은 플렉서블 표시장치의 불량을 야기하기도 한다.In such a flexible display device, cracks may occur in the flexible substrate or wiring during bending due to various causes. Cracks occurring in such a flexible substrate or wiring may cause defects in the flexible display device.

본 실시예들의 목적은, 플렉서블 표시장치에서 밴딩시 플렉서블 기판 또는 배선에 크랙이 발생하는 것을 방지하는 것이다.An object of the present exemplary embodiments is to prevent cracks from occurring in a flexible substrate or wiring when bending in a flexible display device.

본 실시예들의 다른 목적은, 플렉서블 표시장치에서 불량을 야기하지 않는 것이다.Another object of the present exemplary embodiments is not to cause defects in the flexible display device.

일 실시예는, 표시 영역 및 표시 영역에서 연장된 비표시 영역을 포함하는 플렉서블 기판, 플렉서블 기판의 일면의 표시 영역에 위치하는 표시패널 및 플렉서블 기판의 일면의 비표시 영역에 테이프로 이루어진 커버층을 포함하며, 플렉서블 기판의 비표시 영역의 적어도 일부 영역과 커버층은 벤딩 방향으로 구부러진 형상으로 벤딩된 플렉서블 표시장치를 제공한다. ,In one embodiment, a flexible substrate including a display area and a non-display area extending from the display area, a display panel positioned in the display area of one surface of the flexible substrate, and a cover layer made of tape are formed in the non-display area of one surface of the flexible substrate. and wherein at least a portion of the non-display area of the flexible substrate and the cover layer are bent in a bending direction. ,

다른 실시예는, 표시 영역 및 표시 영역에서 연장된 비표시 영역을 포함하는 플렉서블 기판, 플렉서블 기판의 표시 영역에 위치하는 표시패널, 플렉서블 기판 상에 배치되는 배선 및 플렉서블 기판의 일면의 비표시 영역의 적어도 일부 영역에 위치하는 배선 상에 위치하며 상기 표시패널을 구성하는 층들 중 적어도 하나의 층과 동일한 적어도 하나의 층을 포함하는 커버층을 포함하며, 플렉서블 기판의 비표시 영역의 적어도 일부 영역과 커버층은 벤딩 방향으로 구부러진 형상으로 벤딩된 플렉서블 표시장치를 제공할 수 있다. Another embodiment provides a flexible substrate including a display area and a non-display area extending from the display area, a display panel positioned in the display area of the flexible substrate, wiring disposed on the flexible substrate, and a non-display area of one surface of the flexible substrate a cover layer positioned on a wiring positioned in at least a partial region and including at least one layer identical to at least one of the layers constituting the display panel; The layer may provide a flexible display device that is bent in a bent shape in a bending direction.

이상에서 설명한 바와 같은 본 실시예들에 의하면, 플렉서블 표시장치에서 밴딩시 플렉서블 기판 또는 배선에 크랙이 발생하는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다. According to the present exemplary embodiments as described above, it is possible to prevent cracks from occurring in the flexible substrate or wiring during bending in the flexible display device.

본 실시예들에 의하면, 플렉서블 표시장치에서 불량을 방지하거나 최소화할 수 있다.According to the present exemplary embodiments, defects in the flexible display device may be prevented or minimized.

도 1는 일 실시예에 따른 플렉서블 표시장치의 벤딩되지 않은 상태의 평면도이다.
도 2는 다른 실시예에 따른 플렉서블 표시장치의 벤딩된 상태의 단면도이다.
도 3은 도 2의 플렉서플 표시장치의 벤딩되지 않은 상태의 플렉서블 기판과 표시패널, 구동 집적회로 연결부재의 단면도이다.
도 4a 내지 도 4c는 도 2의 플렉서블 표시장치의 변형예들의 단면도들이다.
도 5는 도 2의 커버층을 제조하는 공정을 도시하고 있다.
도 6은 다른 실시예에 따른 플렉서블 표시장치의 단면도이다.
도 7은 도 6의 플렉서플 표시장치의 벤딩되지 않은 상태의 플렉서블 기판과 표시패널, 구동 집적회로 연결부재의 단면도이다.
도 8은 도 6의 플렉서블 기판의 비표시 영역의 적어도 일부 영역과 커버층 사이 중립면을 형성하는 것을 도시하고 있다.
도 9a 내지 도 9c는 도 6의 플렉서블 표시장치의 변형예들의 단면도들이다.
도 10은 또다른 실시예에 따른 플렉서블 표시장치의 벤딩되지 않은 상태의 플렉서블 기판과 표시패널, 구동 집적회로 연결부재의 단면도이다.
도 11a 및 도 11b, 도 12는 도 10의 플렉서블 표시장치의 변형예들의 단면도들이다.
1 is a plan view of an unbent state of a flexible display device according to an exemplary embodiment.
2 is a cross-sectional view of a bent state of a flexible display device according to another exemplary embodiment.
3 is a cross-sectional view of a flexible substrate, a display panel, and a driving integrated circuit connecting member of the flexible display device of FIG. 2 in an unbent state.
4A to 4C are cross-sectional views of modified examples of the flexible display device of FIG. 2 .
FIG. 5 illustrates a process for manufacturing the cover layer of FIG. 2 .
6 is a cross-sectional view of a flexible display device according to another exemplary embodiment.
7 is a cross-sectional view of a flexible substrate, a display panel, and a driving integrated circuit connecting member of the flexible display device of FIG. 6 in an unbent state.
FIG. 8 illustrates forming a neutral plane between at least a partial area of the non-display area of the flexible substrate of FIG. 6 and the cover layer.
9A to 9C are cross-sectional views of modified examples of the flexible display device of FIG. 6 .
10 is a cross-sectional view of a flexible substrate, a display panel, and a driving integrated circuit connecting member in an unbent state of the flexible display device according to another exemplary embodiment.
11A, 11B, and 12 are cross-sectional views of modified examples of the flexible display device of FIG. 10 .

이하, 본 발명의 일부 실시예들을 예시적인 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가질 수 있다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략할 수 있다.Hereinafter, some embodiments of the present invention will be described in detail with reference to exemplary drawings. In adding reference numerals to components of each drawing, the same components may have the same reference numerals as much as possible even though they are indicated in different drawings. In addition, in describing the present invention, if it is determined that a detailed description of a related known configuration or function may obscure the gist of the present invention, the detailed description may be omitted.

또한, 본 발명의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제 1, 제 2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질, 차례, 순서 또는 개수 등이 한정되지 않는다. 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 "연결", "결합" 또는 "접속"된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되거나 또는 접속될 수 있지만, 각 구성 요소 사이에 다른 구성 요소가 "개재"되거나, 각 구성 요소가 다른 구성 요소를 통해 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.In addition, in describing the components of the present invention, terms such as first, second, A, B, (a), (b), etc. may be used. These terms are only for distinguishing the elements from other elements, and the essence, order, order, or number of the elements are not limited by the terms. When it is described that a component is “connected”, “coupled” or “connected” to another component, the component may be directly connected or connected to the other component, but other components may be interposed between each component. It should be understood that each component may be “interposed” or “connected”, “coupled” or “connected” through another component.

본 명세서에서 플렉서블 (flexible) 표시장치는 연성이 부여된 표시장치를 의미하는 것으로서, 굽힘이 가능한(bendable) 표시장치, 롤링이 가능한 (rollable) 표시장치, 깨지지 않는 (unbreakable) 표시장치, 접힘이 가능한 (foldable) 표시장치 등과 동일한 의미로 사용될 수 있다. 본 명세서에서 플렉서블 유기 발광 표시장치는 다양한 플렉서블 표시장치 중 일 예이다.In the present specification, a flexible display device refers to a display device to which flexibility is imparted, and includes a bendable display device, a rollable display device, an unbreakable display device, and a foldable display device. (foldable) may be used in the same meaning as a display device. In the present specification, the flexible organic light emitting diode display is an example of various flexible display devices.

본 명세서에서 표시장치는 표시 영역과 비 표시 영역을 포함한다. 표시 영역은 영상 등이 표시되는 영역이며, 비표시 영역은 베젤 (bezel) 과 같이 영역이 표시되지 않는 영역이다.In the present specification, a display device includes a display area and a non-display area. The display area is an area in which an image is displayed, and the non-display area is an area in which no area is displayed, such as a bezel.

도 1는 일 실시예에 따른 플렉서블 표시장치의 벤딩되지 않은 상태의 평면도이다. 1 is a plan view of an unbent state of a flexible display device according to an exemplary embodiment.

도 1를 참조하면, 플렉서블 표시장치(100)는 플렉서블 기판(110), 배선(120) 및 표시패널(130)를 포함한다.Referring to FIG. 1 , the flexible display device 100 includes a flexible substrate 110 , a wiring 120 , and a display panel 130 .

플렉서블 기판(110)은 플렉서블 표시장치(100)의 여러 엘리먼트들을 지지하기 위한 기판으로서, 연성이 부여된 기판이다. 플렉서블 기판(110)은 연성 기판, 제1 연성 기판, 플렉서블 부재로도 지칭될 수 있으며, 플렉서블 기판(110)이 플라스틱으로 이루어지는 경우, 플라스틱 필름, 플라스틱 기판, 제1 연성 기판으로도 지칭될 수 있다. 플렉서블 기판(110)은 직육면체 형상으로 형성될 수 있으나, 이에 제한되지 않고 다양한 형상으로 형성될 수 있다.The flexible substrate 110 is a substrate for supporting various elements of the flexible display device 100 and is a substrate to which flexibility is imparted. The flexible substrate 110 may also be referred to as a flexible substrate, a first flexible substrate, or a flexible member. When the flexible substrate 110 is made of plastic, it may also be referred to as a plastic film, a plastic substrate, or a first flexible substrate. . The flexible substrate 110 may be formed in a rectangular parallelepiped shape, but is not limited thereto and may be formed in various shapes.

플렉서블 기판(110)은 연성의 물질로 이루어질 수 있으며, 예를 들어, 폴리에스터계 고분자, 실리콘계 고분자, 아크릴계 고분자, 폴리올레핀계 고분자, 및 이들의 공중합체로 이루어진 군에서 선택된 하나를 포함하는 필름 형태일 수 있다. 구체적으로, 플렉서블 기판(110)은 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET), 폴리부틸렌테레프탈레이트 (PBT), 폴리실란 (polysilane), 폴리실록산 (polysiloxane), 폴리실라잔 (polysilazane), 폴리카르보실란 (polycarbosilane), 폴리아크릴레이트 (polyacrylate), 폴리메타크릴레이트 (polymethacrylate), 폴리메틸아크릴레이트 (polymethylacrylate), 폴리메틸메타크릴레이트 (polymethylmetacrylate), 폴리에틸아크릴레이트 (polyethylacrylate), 폴리에틸메타크릴레이트 (polyethylmetacrylate), 사이클릭 올레핀 코폴리머 (COC), 사이클릭 올레핀 폴리머 (COP), 폴리에틸렌 (PE), 폴리프로필렌 (PP), 폴리이미드 (PI), 폴리메틸메타크릴레이트 (PMMA), 폴리스타이렌 (PS), 폴리아세탈 (POM), 폴리에테르에테르케톤 (PEEK), 폴리에스테르설폰 (PES), 폴리테트라플루오로에틸렌 (PTFE), 폴리비닐클로라이드 (PVC), 폴리카보네이트 (PC), 폴리비닐리덴플로라이드(PVDF), 퍼플루오로알킬 고분자 (PFA), 스타이렌아크릴나이트릴코폴리머 (SAN) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나를 포함할 수 있다. 몇몇 실시예에서, 플렉서블 표시장치(100)가 투명 플렉서블 표시장치로 구현되는 경우, 플렉서블 기판(110)은 투명한 연성의 물질로 이루어질 수 있다.The flexible substrate 110 may be made of a flexible material, for example, a polyester-based polymer, a silicone-based polymer, an acrylic polymer, a polyolefin-based polymer, and a film including one selected from the group consisting of copolymers thereof. can Specifically, the flexible substrate 110 is polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), polysilane (polysilane), polysiloxane (polysiloxane), polysilazane (polysilazane), polycarbosilane (polycarbosilane), Polyacrylate, polymethacrylate, polymethylacrylate, polymethylmethacrylate, polyethylacrylate, polyethylmethacrylate, between Click Olefin Copolymer (COC), Cyclic Olefin Polymer (COP), Polyethylene (PE), Polypropylene (PP), Polyimide (PI), Polymethylmethacrylate (PMMA), Polystyrene (PS), Polyacetal ( POM), polyether ether ketone (PEEK), polyester sulfone (PES), polytetrafluoroethylene (PTFE), polyvinyl chloride (PVC), polycarbonate (PC), polyvinylidene fluoride (PVDF), purple It may include one selected from the group consisting of fluoroalkyl polymer (PFA), styrene-acrylnitrile copolymer (SAN), and combinations thereof. In some embodiments, when the flexible display device 100 is implemented as a transparent flexible display device, the flexible substrate 110 may be made of a transparent and flexible material.

플렉서블 기판(110)은 표시 영역(DA)및 비표시 영역(NA)을 포함한다. 플렉서블 기판(110)의 표시 영역(DA)은 실제 화상을 표시하는 영역을 의미하고, 플렉서블 기판(110)의 비표시 영역(NA)은 화상이 표시되지 않는 영역을 의미한다.The flexible substrate 110 includes a display area DA and a non-display area NA. The display area DA of the flexible substrate 110 refers to an area that displays an actual image, and the non-display area NA of the flexible substrate 110 refers to an area where an image is not displayed.

플렉서블 기판(110)의 비표시 영역(NA)은 플렉서블 기판(110)의 표시 영역(DA)으로부터 연장하는 영역이다. 플렉서블 기판(110)의 비표시 영역(NA)은 플렉서블 기판(110)의 표시 영역(DA)의 하나의 변으로부터 연장한다. 예를 들어, 플렉서블 기판(110)의 표시 영역(DA)이 다각형 형상으로 형성되고, 플렉서블 기판(110)의 비표시 영역(NA)은 플렉서블 기판(110)의 표시 영역(DA)의 하나의 변으로부터 연장할 수 있다. 도 1에서는 설명의 편의를 위해 플렉서블 기판(110)의 비표시 영역(NA)이 플렉서블 기판(110)의 표시 영역(DA)의 하나의 변으로부터 연장하는 것을 도시하였으나, 이에 제한되지 않고, 플렉서블 기판(110)의 비표시 영역(NA)은 플렉서블 기판(110)의 표시 영역(DA)의 복수의 변으로부터 연장할 수 있다.The non-display area NA of the flexible substrate 110 is an area extending from the display area DA of the flexible substrate 110 . The non-display area NA of the flexible substrate 110 extends from one side of the display area DA of the flexible substrate 110 . For example, the display area DA of the flexible substrate 110 is formed in a polygonal shape, and the non-display area NA of the flexible substrate 110 is one side of the display area DA of the flexible substrate 110 . can be extended from 1 illustrates that the non-display area NA of the flexible substrate 110 extends from one side of the display area DA of the flexible substrate 110 for convenience of explanation, but the present invention is not limited thereto, and the flexible substrate is not limited thereto. The non-display area NA of 110 may extend from a plurality of sides of the display area DA of the flexible substrate 110 .

플렉서블 기판(110)의 비표시 영역(NA)은 플렉서블 기판(110)의 표시 영역(DA)의 주변 또는 엣지부에 위치하고, 화상을 표시하기 위한 다양한 회로들이 배치되므로, 주변 영역, 주변 회로 영역, 엣지 영역 또는 베젤 영역으로도 지칭될 수 있다.The non-display area NA of the flexible substrate 110 is located in the periphery or edge portion of the display area DA of the flexible substrate 110, and various circuits for displaying an image are disposed, so that the peripheral area, the peripheral circuit area, It may also be referred to as an edge area or a bezel area.

플렉서블 기판(110)의 표시 영역(DA)의 전체 영역 또는 일부 영역에는 표시패널(130)이 배치된다. 표시패널(130)은 실제 화상을 표시하기 위한 엘리먼트로서, 표시패널, 화상 표시패널로도 지칭될 수 있다. 표시패널(130)은 화상을 표시할 수 있는 구성이면 제한이 없으나, 본 명세서에서는 표시패널(130)이 유기 발광층을 통해 화상을 표시하는 유기 발광 소자 및 유기 발광 소자를 구동하는 박막 트랜지스터를 포함하는 유기발광표시패널일 수 있다. The display panel 130 is disposed in the entire or partial area of the display area DA of the flexible substrate 110 . The display panel 130 is an element for displaying an actual image, and may also be referred to as a display panel or an image display panel. The display panel 130 is not limited as long as it can display an image, but in the present specification, the display panel 130 includes an organic light emitting device that displays an image through an organic light emitting layer and a thin film transistor that drives the organic light emitting device. It may be an organic light emitting display panel.

박막 트랜지스터는 액티브층, 게이트 절연층, 게이트 전극, 게이트 전극 및 액티브층 상에 형성된 층간 절연막, 및 액티브층과 전기적으로 연결된 소스 전극 및 드레인 전극을 포함할 수 있다. 유기 발광 소자는 상기 소스 전극 및 상기 드레인 전극 중 하나와 전기적으로 연결된 제1전극, 상기 제1전극 상에 형성된 유기 발광층, 및 상기 유기 발광층 상에 형성된 제2전극을 포함할 수 있다. The thin film transistor may include an active layer, a gate insulating layer, a gate electrode, a gate electrode, an interlayer insulating film formed on the active layer, and a source electrode and a drain electrode electrically connected to the active layer. The organic light emitting device may include a first electrode electrically connected to one of the source electrode and the drain electrode, an organic light emitting layer formed on the first electrode, and a second electrode formed on the organic light emitting layer.

플렉서블 기판(110)의 비표시 영역(NA)에는 화상을 표시하지 않는 다양한 엘리먼트들이 배치될 수 있다.Various elements that do not display an image may be disposed in the non-display area NA of the flexible substrate 110 .

플렉서블 기판(110)의 비표시 영역(NA)에 배치되는 엘리먼트들로는 게이트 구동 집적회로 또는 데이터 구동 집적회로와 같은 다양한 구동 집적회로 및 구동 회로부 등이 포함될 수 있다. 여기서, 다양한 구동 집적회로 및 구동 회로부는 플렉서블 기판(110)에 GIP (Gate in Panel) 로 실장되거나, TCP (Tape Carrier Package) 또는 COF (Chip on Film)방식으로 플렉서블 기판(110)에 연결될 수 있다.Elements disposed in the non-display area NA of the flexible substrate 110 may include various driving integrated circuits such as a gate driving integrated circuit or a data driving integrated circuit, and a driving circuit unit. Here, various driving integrated circuits and driving circuit units are mounted on the flexible substrate 110 as a GIP (Gate in Panel), or connected to the flexible substrate 110 by a TCP (Tape Carrier Package) or COF (Chip on Film) method. .

플렉서블 기판(110) 상에는 배선(120)이 배치된다. 배선(120)은 플렉서블 기판(110)의 표시 영역(DA)에 형성되는 표시패널(130)과 플렉서블 기판(110)의 비표시 영역(NA)에 형성될 수 있는 구동 회로부 또는 게이트 구동 집적회로, 데이터 구동 집적회로를 전기적으로 연결하여 신호를 전달할 수 있다. The wiring 120 is disposed on the flexible substrate 110 . The wiring 120 includes a driving circuit unit or a gate driving integrated circuit that may be formed in the display panel 130 formed in the display area DA of the flexible substrate 110 and the non-display area NA of the flexible substrate 110; A signal may be transmitted by electrically connecting the data driving integrated circuit.

배선(120)은 도전성 물질로 형성되고, 플렉서블 기판(110)의 벤딩 시 크랙이 발생하는 것을 최소화하기 위해 연성이 우수한 도전성 물질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 배선(120)은 금 (Au), 은 (Ag), 알루미늄 (Al) 등과 같이 연성이 우수한 도전성 물질로 형성될 수 있다. 그러나, 배선(120)의 구성 물질은 이에 제한되지 않고, 표시패널(130) 제조 시 사용되는 다양한 도전성 물질 중 하나로 형성될 수 있으며, 구체적으로, 표시패널(130)제조 시 사용되는 다양한 물질 중 하나인 몰리브덴 (Mo), 크롬 (Cr), 티타늄 (Ti), 니켈 (Ni), 네오디뮴 (Nd), 구리(Cu), 및 은 (Ag) 과 마그네슘 (Mg) 의 합금 등으로도 형성될 수도 있다. 또한, 배선(120)은 상술한 바와 같은 다양한 도전성 물질을 포함하는 다층 구조로 형성될 수 있으며, 예를 들어, 티타늄 (Ti)/알루미늄 (Al)/티타늄 (Ti)의 3층 구조로 형성될 수 있으나 이에 제한되지는 않는다.The wiring 120 may be formed of a conductive material, and may be formed of a conductive material having excellent ductility to minimize cracks from occurring when the flexible substrate 110 is bent. For example, the wiring 120 may be formed of a conductive material having excellent ductility, such as gold (Au), silver (Ag), or aluminum (Al). However, the material of the wiring 120 is not limited thereto, and may be formed of one of various conductive materials used in manufacturing the display panel 130 , and specifically, one of various materials used in manufacturing the display panel 130 . Phosphorus molybdenum (Mo), chromium (Cr), titanium (Ti), nickel (Ni), neodymium (Nd), copper (Cu), and an alloy of silver (Ag) and magnesium (Mg) may also be formed. . In addition, the wiring 120 may be formed in a multi-layer structure including various conductive materials as described above, for example, to be formed in a three-layer structure of titanium (Ti)/aluminum (Al)/titanium (Ti). can, but is not limited thereto.

플렉서블 기판(110)의 비표시 영역(NA)의 적어도 일부 영역은 벤딩 방향으로 구부러진 형상으로 형성된다.At least a portion of the non-display area NA of the flexible substrate 110 is formed to be bent in a bending direction.

여기서, 벤딩 방향으로 구부러진 형상을 가지는 플렉서블 기판(110)의 비표시 영역(NA)의 적어도 일부 영역은 벤딩 영역으로 지칭될 수 있다. 플렉서블 기판(110)의 비표시 영역(NA)은 화상이 표시되는 표시되는 영역이 아니므로, 플렉서블 기판(110)의 상면에서 시인될 필요가 없으며, 플렉서블 기판(110)의 비표시영역 (NA)의 적어도 일부 영역을 벤딩할 수 있다. 도 1에서는 설명의 편의를 위해 플렉서블 기판(110)의 비표시 영역(NA) 전체가 벤딩 영역에 해당하는 것으로 도시하였으나, 이에 제한되지 않고, 플렉서블 기판(110)의 비표시 영역(NA) 중 일부 영역만이 벤딩 영역에 해당할 수도 있다. 도 1에서는 설명의 편의를 위해 플렉서블 기판(110)의 비표시 영역(NA)이 플렉서블 기판(110)의 표시 영역(DA)보다 조금 좁은 것으로 도시되었으나, 플렉서블 기판(110)의 비표시 영역(NA)은 플렉서블 기판(110)의 표시 영역(DA)보다 상당히 좁은 영역에 해당할 수 있다.Here, at least a portion of the non-display area NA of the flexible substrate 110 having a shape bent in the bending direction may be referred to as a bending area. Since the non-display area NA of the flexible substrate 110 is not an area in which an image is displayed, it is not necessary to be viewed from the upper surface of the flexible substrate 110 , and the non-display area NA of the flexible substrate 110 is not displayed. At least a partial area of . 1 illustrates that the entire non-display area NA of the flexible substrate 110 corresponds to the bending area for convenience of explanation, but the present invention is not limited thereto, and some of the non-display area NA of the flexible substrate 110 is not limited thereto. Only the region may correspond to the bending region. In FIG. 1 , for convenience of explanation, the non-display area NA of the flexible substrate 110 is shown to be slightly narrower than the display area DA of the flexible substrate 110 , but the non-display area NA of the flexible substrate 110 is shown. ) may correspond to a considerably narrower area than the display area DA of the flexible substrate 110 .

플렉서블 기판(110)의 비표시 영역(NA)의 적어도 일부 영역인 벤딩 영역은 벤딩 방향으로 구부러진 형상으로 형성된다. 도 1에서는 벤딩 방향이 플렉서블 기판(110)의 가로 방향이고, 플렉서블 기판(110)의 비표시 영역(NA)의 적어도 일부 영역인 벤딩 영역이 플렉서블 기판(110)의 가로 방향으로 벤딩되는 경우를 도시한다.At least a partial area of the non-display area NA of the flexible substrate 110 is bent in a bending direction. In FIG. 1 , the bending direction is the horizontal direction of the flexible substrate 110 , and the bending area that is at least a partial area of the non-display area NA of the flexible substrate 110 is bent in the horizontal direction of the flexible substrate 110 . do.

이하, 벤딩된 상태의 플렉서블 표시장치의 다양한 실시예들을 도면을 참조하여 설명한다. Hereinafter, various embodiments of the flexible display device in a bent state will be described with reference to the drawings.

도 2는 다른 실시예에 따른 플렉서블 표시장치의 벤딩된 상태의 단면도이다. 도 3은 도 2의 플렉서플 표시장치의 벤딩되지 않은 상태의 플렉서블 기판과 표시패널, 구동 집적회로 연결부재의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of a bent state of a flexible display device according to another exemplary embodiment. 3 is a cross-sectional view of a flexible substrate, a display panel, and a driving integrated circuit connecting member of the flexible display device of FIG. 2 in an unbent state.

도 2 및 도 3을 참조하며, 다른 실시예에 따른 플렉서블 표시장치(200)는 플렉서블 기판(210)의 비표시 영역(NA)의 적어도 일부 영역이 벤딩 방향으로 구부러진 형상으로 벤딩되어 있다. 2 and 3 , in the flexible display device 200 according to another exemplary embodiment, at least a partial area of the non-display area NA of the flexible substrate 210 is bent in a bending direction.

플렉서블 기판(210)의 일면(210a)의 표시 영역(DA)에는 표시패널(230)이 위치한다. The display panel 230 is positioned in the display area DA of one surface 210a of the flexible substrate 210 .

플렉서블 기판(210)의 일면(210a)의 비표시 영역(NA)에는 수분의 침투 및 크랙 방지를 위해 커버층(240)이 배치된다. 커버층(240)은 도 1을 참조하여 설명한 벤딩 영역에 배치된다. A cover layer 240 is disposed in the non-display area NA of one surface 210a of the flexible substrate 210 to prevent moisture from permeating and cracking. The cover layer 240 is disposed in the bending region described with reference to FIG. 1 .

플렉서블 기판(210)의 일면(210a)의 비표시 영역(NA)에는 구동 집적회로 연결부재(250)가 연결되어 있다. 구동 집적회로 연결부재(250) 상에는 게이트 구동 집적회로 또는 데이터 구동 집적회로와 같은 다양한 구동 집적회로 및 구동 회로부 등이 실장될 수 있다. 구동 집적회로 연결부재(250)는 TCP (tape carrier package) 또는 COF (chip on film) 중 적어도 하나일 수 있다.The driving integrated circuit connecting member 250 is connected to the non-display area NA of the one surface 210a of the flexible substrate 210 . Various driving integrated circuits such as gate driving integrated circuits or data driving integrated circuits and driving circuit units may be mounted on the driving integrated circuit connecting member 250 . The driving integrated circuit connecting member 250 may be at least one of a tape carrier package (TCP) and a chip on film (COF).

플렉서블 기판(210) 상에는 도 1에 도시한 배선(120)이 배치되나 설명의 단순화를 위해 미도시한다. The wiring 120 illustrated in FIG. 1 is disposed on the flexible substrate 210 , but is not illustrated for the sake of simplicity of description.

커버층(240)은 표시패널(230)과 구동 집적회로 연결부재(250) 사이에 위치하며 표시패널(230)의 일부(230a)와 구동 집적회로 연결부재(250)의 일부(250a)를 덮을 수 있다. The cover layer 240 is positioned between the display panel 230 and the driving integrated circuit connecting member 250 and covers the part 230a of the display panel 230 and the part 250a of the driving integrated circuit connecting member 250 . can

표시패널(230) 상에 편광판(232)이 위치할 수 있으나 이에 제한되지 않는다. 커버층(240)은 편광판(232)과 이격되어 있으나, 커버층(240)이 편광판(232)의 일부 상에 위치하거나 편광판(232)과 표시패널(230) 사이에 위치할 수도 있다.A polarizing plate 232 may be positioned on the display panel 230 , but is not limited thereto. The cover layer 240 is spaced apart from the polarizing plate 232 , but the cover layer 240 may be positioned on a portion of the polarizing plate 232 or between the polarizing plate 232 and the display panel 230 .

플렉서블 기판(210)의 비표시 영역(DA)의 적어도 일부 영역과 커버층(240)은 벤딩 방향으로 구부러진 형상으로 벤딩된다. At least a portion of the non-display area DA of the flexible substrate 210 and the cover layer 240 are bent in a bending direction.

플렉서블 기판(210)의 타면(210b)에는, 표시패널(230)에 대응하여 배치되는 제1백 플레이트(260a)와, 구동 집적회로 연결부재(250)에 대응하여 배치되고 플렉서블 기판(210)이 밴딩 방향으로 구부려진 형상으로 위치할 때 제1백 플레이트(260a)의 하부에 위치하는 제2백 플레이트(260b)가 배치될 수 있다. On the other surface 210b of the flexible substrate 210 , the first back plate 260a disposed to correspond to the display panel 230 and the flexible substrate 210 disposed to correspond to the driving integrated circuit connecting member 250 are provided. When positioned in a bent shape in the bending direction, the second back plate 260b positioned below the first back plate 260a may be disposed.

상하 방향으로 제1백 플레이트(260a)와 제2백 플레이트(260b) 사이에 플렉서블 기판(210)의 타면(210b)과 벤딩영역에서 접촉하여 플렉서블 기판(210)을 지지하는 지지부재(270)가 위치한다. 지지부재(270)의 헤드(270a)는 밴딩된 플렉서블 기판(210)의 반지름보다 작은 반지름으로 반원형상일 수 있다. 따라서, 지지부재(270)의 헤드(270a)는 플렉서블 기판(210)의 타면(210b)의 벤딩 영역과 면접촉한다. A support member 270 supporting the flexible substrate 210 in contact with the other surface 210b of the flexible substrate 210 in the bending area between the first back plate 260a and the second back plate 260b in the vertical direction is provided. Located. The head 270a of the support member 270 may have a semicircular shape with a radius smaller than the radius of the bent flexible substrate 210 . Accordingly, the head 270a of the support member 270 makes surface contact with the bending area of the other surface 210b of the flexible substrate 210 .

플렉서블 기판(210)이 벤딩 방향으로 벤딩되는 경우, 플렉서블 기판(210)은 인장력을 받는다. 플렉서블 기판(210)은 벤딩 방향과 동일한 방향으로 가장 큰 인장력을 받게 되고, 자체적으로 또는 외부 충격에 의해 크랙(crack)이 발생하거나 발생된 크랙이 표시패널(230) 방향으로 전파될 수 있다. 이러한 플렉서블 기판(210)의 크랙은 비표시 영역(NA)에 배치된 배선(미도시)의 단선을 일으킬 수도 있다. 커버층(240)을 적용하여, 벤딩시 배선(미도시)을 중립면에 위치시킴으로써 배선의 크랙 발생을 방지할 수 있다.When the flexible substrate 210 is bent in the bending direction, the flexible substrate 210 receives a tensile force. The flexible substrate 210 receives the greatest tensile force in the same direction as the bending direction, and cracks may be generated by itself or due to an external impact or the generated cracks may propagate in the direction of the display panel 230 . The crack of the flexible substrate 210 may cause disconnection of a wiring (not shown) disposed in the non-display area NA. By applying the cover layer 240 to position the wiring (not shown) on the neutral plane during bending, it is possible to prevent the occurrence of cracks in the wiring.

플렉서블 표시장치(200)에서 베젤 영역을 줄이기 위해 표시패널(230)의 벤딩이 필요하며 벤딩 영역에 수분의 침투 및 크랙을 방지하기 위해 커버층(240)을 형성하고, 지지부재(270)의 헤드(270)가 플렉서블 기판(210)의 타면(210b)의 벤딩 영역과 접촉하여 플렉서블 기판(210)의 벤딩 영역을 지지하여 크랙을 방지할 수 있는 효과가 있다. In the flexible display device 200 , bending of the display panel 230 is required to reduce the bezel area, and a cover layer 240 is formed in the bending area to prevent penetration of moisture and cracks, and the head of the support member 270 is The 270 contacts the bending area of the other surface 210b of the flexible substrate 210 to support the bending area of the flexible substrate 210 to prevent cracks.

그런데 전술한 다른 실시예에 따른 플렉서블 표시장치(200)에서 지지부재(270)의 안정성과 곡률신뢰성을 향상시키기 위해 도 4a 및 도 4b에 도시한 바와 같이 지지부재(270)의 헤드(270a)는 밴딩된 플렉서블 기판(210)의 반지름과 동일한 반지름을 갖는 반원형상으로, 지지부재(270)의 헤드(270a)가 플렉서블 기판(210)의 타면(210b)의 벤딩 영역과 전체적으로 면접촉하므로 지지부재(270)의 안정성과 곡률신뢰성을 향상시킬 수 있다. 따라서, 지지부재(270)가 플렉서블 기판(210)의 타면(210b)의 벤딩 영역을 전체적으로 배선 크랙을 방지하는 효과를 향상시킬 수 있다.However, in order to improve the stability and curvature reliability of the support member 270 in the flexible display device 200 according to the above-described other embodiment, as shown in FIGS. 4A and 4B , the head 270a of the support member 270 is In a semicircular shape having the same radius as the radius of the bent flexible substrate 210, the head 270a of the support member 270 is in full surface contact with the bending area of the other surface 210b of the flexible substrate 210, so the support member ( 270) can improve the stability and curvature reliability. Accordingly, the effect of preventing wiring cracks in the entire bending region of the other surface 210b of the flexible substrate 210 by the support member 270 may be improved.

또한 도 4c에 도시한 바와 같이 지지부재(270)에서 플렉서블 기판(210)의 타면(210b)의 벤딩 영역과 전체적으로 면접촉하는 헤드(270a)를 포함하지 않아 지지부재(270)와 충격에 의해 배선 크랙이 발생하는 것을 제거할 수 있다. In addition, as shown in FIG. 4C , the support member 270 does not include a head 270a that makes surface contact with the bending area of the other surface 210b of the flexible substrate 210 as a whole, so wiring by impact with the support member 270 is not included. Cracks can be eliminated.

커버층(240)은 다양한 재료를 다양한 공정을 통해 형성할 수 있다. 예를 들어 커버층(240)을 도 5에 도시한 바와 같이 레진, 예를 들어 유기레진(예: 아크릴 레진)을 제팅 공정(jetting process)으로 도포하여 형성할 수 있다. 플렉서블 기판(210) 상에 표시 영역(DA)과 비표시 영역(NA) 각각에 표시패널(230)과 배선(미도시)을 형성한다. 그후, 플렉서블 기판(210)에 구동 집적회로가 실장된 구동 집적회로 연결부재(250)를 연결한 상태에서 표시패널(230)의 일단(230a)과 구동 집적회로 연결부(250)의 일단(250a) 사이를 제팅 장치(jetting apparatus, 400)로 유기 레진(410)을 도포한 후 자외선(UV) 등으로 경화하여 커버층(240)을 형성할 수 있다. The cover layer 240 may be formed of various materials through various processes. For example, as shown in FIG. 5 , the cover layer 240 may be formed by applying a resin, for example, an organic resin (eg, acrylic resin) through a jetting process. A display panel 230 and a wiring (not shown) are formed in each of the display area DA and the non-display area NA on the flexible substrate 210 . Thereafter, one end 230a of the display panel 230 and one end 250a of the driving integrated circuit connection part 250 are connected to the flexible substrate 210 and the driving integrated circuit connecting member 250 on which the driving integrated circuit is mounted is connected. The cover layer 240 may be formed by coating the organic resin 410 with a jetting apparatus 400 therebetween and then curing with ultraviolet (UV) light or the like.

공정적인 측면에서, 제팅 공정으로 인하여 커버층(240)이 미도포되는 영역이 발생하여 오픈 불량이 발생할 수 있다. 제팅 장치(410)으로 예를 들어 유기레진을 도포하는 속도를 감소시키면 택타임(tact time)이 증가할 수 있다. 또한 제팅 공정 특성상 미세한 압출 조절불가로 도포 공차(예: ㅁ100um)가 크게 존재하므로 균일한 두께로 도포하는 것이 어려울 수 있다. 재료적인 측면에서, 커버층(240)의 재료로 아크릴 레진을 사용할 경우 아크릴 레진은 낮은 Tg(예: 60~100˚C)로 인하여 커버층(240)의 번트 불량이 발생할 수도 있다. In terms of process, an area to which the cover layer 240 is not applied may occur due to the jetting process, and thus an open defect may occur. If, for example, the speed of applying the organic resin to the jetting device 410 is reduced, the tact time may increase. In addition, due to the nature of the jetting process, it may be difficult to apply with a uniform thickness because there is a large application tolerance (eg, ㅁ100um) due to the impossibility of fine extrusion control. In terms of material, when an acrylic resin is used as the material of the cover layer 240 , a burnt defect of the cover layer 240 may occur due to the low Tg (eg, 60 to 100°C) of the acrylic resin.

커버층(240)의 재료로 아크릴 레진을 사용하고 플렉서블 기판(210)의 재료 폴리이미드를 사용한 경우 폴리이미드의 플렉서블 기판(210)의 Modulus 특성 값 차이로 인하여 플렉서블 기판(210)과 배선(미도시)의 크랙이 발생할 수 있다. Modulus 특성 값 차이를 두께로 보상할 수 있지만 제팅 공정으로 두께를 균일하게 하기 어려워 크랙 발생이 여전할 수 있다. When an acrylic resin is used as the material of the cover layer 240 and polyimide is used as the material of the flexible substrate 210, the flexible substrate 210 and the wiring (not shown) ) cracks may occur. The difference in modulus characteristic value can be compensated for with thickness, but cracks may still occur because it is difficult to make the thickness uniform through the jetting process.

이하에서 플렉서블 기판에서 제팅공정을 사용하지 않고 커버층을 형성한 실시예들을 도면을 참조하여 설명한다. Hereinafter, embodiments in which a cover layer is formed on a flexible substrate without using a jetting process will be described with reference to the drawings.

도 6은 다른 실시예에 따른 플렉서블 표시장치의 단면도이다. 도 7은 도 6의 플렉서플 표시장치의 벤딩되지 않은 상태의 플렉서블 기판과 표시패널, 구동 집적회로 연결부재의 단면도이다.6 is a cross-sectional view of a flexible display device according to another exemplary embodiment. 7 is a cross-sectional view of a flexible substrate, a display panel, and a driving integrated circuit connecting member of the flexible display device of FIG. 6 in an unbent state.

도 6 및 도 7을 참조하면, 다른 실시예에 따른 플렉서블 표시장치(610)는 표시 영역(DA) 및 표시 영역(DA)에서 연장된 비표시 영역(NA)을 포함하는 플렉서블 기판(610), 플렉서블 기판(610)의 표시 영역(DA)에 위치하는 표시패널(630), 플렉서블 기판(610)의 타면(610b)에 표시패널(630)에 대응하여 배치된 제1백 플레이트(660a) 및 플렉서블 기판(610)의 타면(610b)에 제1 백프레이트(660a)와 이격되어 위치하는 제2백 플레이트(660b)를 포함한다. 6 and 7 , a flexible display device 610 according to another exemplary embodiment includes a flexible substrate 610 including a display area DA and a non-display area NA extending from the display area DA; The display panel 630 positioned in the display area DA of the flexible substrate 610 , the first back plate 660a disposed in correspondence with the display panel 630 on the other surface 610b of the flexible substrate 610 and the flexible A second back plate 660b is provided on the other surface 610b of the substrate 610 to be spaced apart from the first backplate 660a.

다른 실시예에 따른 플렉서블 표시장치(610)는 상하 방향으로 제1백 플레이트(660a)와 제2백 플레이트(660b) 사이에 위치하며 플렉서블 기판(610)으로부터 이격된 지지부재(670)를 포함한다. 지지부재(670)의 헤드(670a)는 도 6에 도시한 바와 같이 몸체보다 크고 밴딩된 플렉서블 기판(610)의 반지름과 동일한 반지름을 갖는 반원형상으로, 지지부재(670)의 헤드(670a)가 플렉서블 기판(610)의 타면(610b)의 벤딩 영역과 전체적으로 면접촉하므로 지지부재(670)의 안정성과 곡률신뢰성을 향상시킬 수 있다. 이때 지지부재(670)의 헤드(670a)는 도 2 및 도 4b에 도시된 바와 동일한 형상을 가질 수 도 있다. 또한 지지부재(670)는 도 4c에 도시한 바와 같이 헤드(670a)를 포함하지 않을 수도 있다. The flexible display device 610 according to another exemplary embodiment includes a support member 670 positioned between the first back plate 660a and the second back plate 660b in the vertical direction and spaced apart from the flexible substrate 610 . . As shown in FIG. 6 , the head 670a of the support member 670 is larger than the body and has a semicircular shape having the same radius as the radius of the bent flexible substrate 610, and the head 670a of the support member 670 is Since the entire surface contact with the bending area of the other surface 610b of the flexible substrate 610, stability and curvature reliability of the support member 670 can be improved. In this case, the head 670a of the support member 670 may have the same shape as shown in FIGS. 2 and 4B . Also, the support member 670 may not include the head 670a as shown in FIG. 4C .

플렉서블 기판(610) 상에는 도 1에 도시한 바와 같이 배선(620)이 배치된다. 배선(620)은 플렉서블 기판(610)의 표시 영역(DA)에 형성되는 표시패널(630)과 플렉서블 기판(610)의 비표시 영역(NA)에 형성될 수 있는 구동 회로부 또는 게이트 구동 집적회로, 데이터 구동 집적회로를 전기적으로 연결하여 신호를 전달할 수 있다. A wiring 620 is disposed on the flexible substrate 610 as shown in FIG. 1 . The wiring 620 is a driving circuit unit or a gate driving integrated circuit that may be formed in the display panel 630 formed in the display area DA of the flexible substrate 610 and the non-display area NA of the flexible substrate 610, A signal may be transmitted by electrically connecting the data driving integrated circuit.

배선(620)은 도전성 물질로 형성되고, 플렉서블 기판(610)의 벤딩 시 크랙이 발생하는 것을 최소화하기 위해 연성이 우수한 도전성 물질로 형성될 수 있다. The wiring 620 may be formed of a conductive material, and may be formed of a conductive material having excellent ductility to minimize cracks from occurring when the flexible substrate 610 is bent.

플렉서블 기판(610)의 비표시 영역(NA)의 적어도 일부 영역은 벤딩 방향으로 구부러진 형상으로 위치할 수 있다. At least a portion of the non-display area NA of the flexible substrate 610 may be bent in a bending direction.

다른 실시예에 따른 플렉서블 표시장치(610)는 플렉서블 기판(610)의 일면(610a)의 비표시 영역(NA)에 배치되며 밴딩 방향으로 구부러진 형상으로 위치하는 커버층(640)을 포함한다. 커버층(640)도 플렉서블 기판(610)의 비표시 영역(NA)의 적어도 일부 영역과 동일하게 벤딩 방향으로 구부러진 형상으로 위치할 수 있다. The flexible display device 610 according to another embodiment includes a cover layer 640 that is disposed in the non-display area NA of one surface 610a of the flexible substrate 610 and is bent in a bending direction. The cover layer 640 may also be disposed in a bent shape in the bending direction in the same manner as at least a partial area of the non-display area NA of the flexible substrate 610 .

커버층(640)은 플렉서블 기판(610)의 일면(610a)의 비표시 영역(NA)에 테이프로 이루어져 있다. 테이프는 유기물질이 코팅되어 있다. 유기물질은 폴리에스터계 고분자, 실리콘계 고분자, 아크릴계 고분자, 폴리올레핀계 고분자, 및 이들의 공중합체로 이루어진 군에서 선택된 하나일 수 있다. The cover layer 640 is formed of a tape in the non-display area NA of one surface 610a of the flexible substrate 610 . The tape is coated with an organic material. The organic material may be one selected from the group consisting of polyester-based polymers, silicone-based polymers, acrylic polymers, polyolefin-based polymers, and copolymers thereof.

구체적으로 유기물질은 폴리에스터계 고분자, 실리콘계 고분자, 아크릴계 고분자, 폴리올레핀계 고분자, 및 이들의 공중합체로 이루어진 군에서 선택된 하나를 포함할 수 있다. 구체적으로, 유기물질은 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET), 폴리부틸렌테레프탈레이트 (PBT), 폴리실란 (polysilane), 폴리실록산 (polysiloxane), 폴리실라잔 (polysilazane), 폴리카르보실란 (polycarbosilane), 폴리아크릴레이트 (polyacrylate), 폴리메타크릴레이트 (polymethacrylate), 폴리메틸아크릴레이트 (polymethylacrylate), 폴리메틸메타크릴레이트 (polymethylmetacrylate), 폴리에틸아크릴레이트 (polyethylacrylate), 폴리에틸메타크릴레이트 (polyethylmetacrylate), 사이클릭 올레핀 코폴리머 (COC), 사이클릭 올레핀 폴리머 (COP), 폴리에틸렌 (PE), 폴리프로필렌 (PP), 폴리이미드 (PI), 폴리메틸메타크릴레이트 (PMMA), 폴리스타이렌 (PS), 폴리아세탈 (POM), 폴리에테르에테르케톤 (PEEK), 폴리에스테르설폰 (PES), 폴리테트라플루오로에틸렌 (PTFE), 폴리비닐클로라이드 (PVC), 폴리카보네이트 (PC), 폴리비닐리덴플로라이드(PVDF), 퍼플루오로알킬 고분자 (PFA), 스타이렌아크릴나이트릴코폴리머 (SAN) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나를 포함할 수 있다.Specifically, the organic material may include one selected from the group consisting of polyester-based polymers, silicone-based polymers, acrylic polymers, polyolefin-based polymers, and copolymers thereof. Specifically, the organic material is polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), polysilane (polysilane), polysiloxane (polysiloxane), polysilazane (polysilazane), polycarbosilane (polycarbosilane), polyacrylate (polyacrylate), polymethacrylate, polymethylacrylate, polymethylmethacrylate, polyethylacrylate, polyethylmethacrylate, cyclic olefin Polymer (COC), Cyclic Olefin Polymer (COP), Polyethylene (PE), Polypropylene (PP), Polyimide (PI), Polymethylmethacrylate (PMMA), Polystyrene (PS), Polyacetal (POM), Polyetheretherketone (PEEK), polyestersulfone (PES), polytetrafluoroethylene (PTFE), polyvinyl chloride (PVC), polycarbonate (PC), polyvinylidene fluoride (PVDF), perfluoroalkyl It may include one selected from the group consisting of polymer (PFA), styrene-acrylnitrile copolymer (SAN), and combinations thereof.

도 8에 도시한 바와 같이, 벤딩 방향으로 구부러진 형상으로 위치하는 플렉서블 기판(610)의 비표시 영역(NA)의 적어도 일부 영역과 커버층(640) 사이는 중립면에 위치할 수 있다. 구체적으로 플렉서블 기판(610))의 비표시 영역(NA)에 위치하는 배선(620)는 플렉서블 기판(610)과 커버층(640)에 의해 중립면을 형성할 수 있다. 플렉서블 기판(610)의 비표시 영역(DA)의 적어도 일부 영역과 커버층(640)은 벤딩 방향으로 구부러진 형상으로 벤딩될 때, 플렉서블 기판(610)의 비표시 영역(DA)의 적어도 일부 영역과 커버층(640)은 벤딩에 의해 변형률(strain)이 실질적으로 영(zero)이 되는 위치를 중립면이라고 한다.As shown in FIG. 8 , between at least a partial area of the non-display area NA of the flexible substrate 610 positioned in a bent shape in the bending direction and the cover layer 640 may be positioned on a neutral plane. Specifically, the wiring 620 positioned in the non-display area NA of the flexible substrate 610 may form a neutral plane by the flexible substrate 610 and the cover layer 640 . At least a partial area of the non-display area DA of the flexible substrate 610 and at least a partial area of the non-display area DA of the flexible substrate 610 when the cover layer 640 is bent in a bending direction In the cover layer 640 , a position at which strain becomes substantially zero due to bending is referred to as a neutral plane.

커버층(640)은 플렉서블 기판(610)과 동일한 재료로 이루어질 수 있으나 이에 제한되지 않는다. 예를 들어 커버층(640)이 폴리이미드인 경우 커버층(640)도 폴리이미드일 수 있으나 이에 제한되지 않는다.The cover layer 640 may be made of the same material as the flexible substrate 610 , but is not limited thereto. For example, when the cover layer 640 is polyimide, the cover layer 640 may also be polyimide, but is not limited thereto.

예를 들어 커버층(640)은 플렉서블 기판(610)과 동일한 재료로 구성될 경우 상대적으로 플렉서블 기판(610))의 비표시 영역(NA)에 위치하는 배선(620)이 플렉서블 기판(610)의 비표시 영역(DA)의 적어도 일부 영역과 커버층(640)에 의해 중립면을 형성하는데 유리할 수 있다. For example, when the cover layer 640 is made of the same material as the flexible substrate 610 , the wiring 620 positioned in the non-display area NA of the relatively flexible substrate 610) is the flexible substrate 610 . It may be advantageous to form a neutral plane by at least a partial area of the non-display area DA and the cover layer 640 .

커버층(640)은 플렉서블 기판(610)과 상이한 재료로 구성될 수도 있다. 이 경우 플렉서블 기판(610))의 비표시 영역(NA)에 위치하는 배선(620)이 플렉서블 기판(610)의 비표시 영역(DA)의 적어도 일부 영역과 커버층(640)에 의해 중립면을 형성하도록 플렉서블 기판(610)과 커버층(640)의 길이, 두께, 탄성율을 가질 수 있다. 예를 들어 커버층(640)의 두께가 플렉서블 기판(610)의 두께보다 크지만 커버층(640)의 탄성율을 플렉서블 기판(610)의 탄성율보다 낮아 플렉서블 기판(610))의 비표시 영역(NA)에 위치하는 배선(620)이 플렉서블 기판(610)의 비표시 영역(DA)의 적어도 일부 영역과 커버층(640)에 의해 중립면을 형성할 수 있다.The cover layer 640 may be made of a material different from that of the flexible substrate 610 . In this case, the wiring 620 positioned in the non-display area NA of the flexible substrate 610 forms a neutral plane by at least a partial area of the non-display area DA of the flexible substrate 610 and the cover layer 640 . The length, thickness, and modulus of elasticity of the flexible substrate 610 and the cover layer 640 may be formed to form the flexible substrate 610 . For example, although the thickness of the cover layer 640 is greater than the thickness of the flexible substrate 610, the elastic modulus of the cover layer 640 is lower than the elastic modulus of the flexible substrate 610, so the non-display area NA of the flexible substrate 610) ) may form a neutral plane by at least a partial area of the non-display area DA of the flexible substrate 610 and the cover layer 640 .

플렉서블 기판(610)의 비표시 영역(NA)에는 구동 집적회로 연결부재(650)가 연결되고, 커버층(640)은 표시패널(630)과 구동 집적회로 연결부재(650) 사이에 위치한다. 도 7에 도시한 바와 같이 커버층(640)은 표시패널(630)과 구동 집적회로 연결부재(650) 사이에 위치하며 표시패널(630)의 측면(630b)과 구동 집적회로 연결부재(650)의 측면(630b)과 접촉할 수 있다. 또한 도 9a 내지 도 9c에 도시한 바와 같이 커버층(640)은 표시패널(630)과 구동 집적회로 연결부재(650) 사이에 위치하며 표시패널(630)의 일부(630a)과 구동 집적회로 연결부재(650)의 일부(650a) 중 한쪽 또는 양쪽을 덮을 수 있다.The driving integrated circuit connecting member 650 is connected to the non-display area NA of the flexible substrate 610 , and the cover layer 640 is positioned between the display panel 630 and the driving integrated circuit connecting member 650 . As shown in FIG. 7 , the cover layer 640 is positioned between the display panel 630 and the driving integrated circuit connecting member 650 , and is positioned between the side surface 630b of the display panel 630 and the driving integrated circuit connecting member 650 . may be in contact with the side surface 630b of Also, as shown in FIGS. 9A to 9C , the cover layer 640 is positioned between the display panel 630 and the driving integrated circuit connecting member 650 and is connected to a part 630a of the display panel 630 and the driving integrated circuit. One or both of the portions 650a of the member 650 may be covered.

구동 집적회로 연결부재(650)는 전술한 바와 같이 TCP (tape carrier package) 또는 COF (chip on film) 중 적어도 하나일 수 있다. 표시패널(630) 상에 편광판(632)이 위치할 수 있으나 이에 제한되지 않는다. As described above, the driving integrated circuit connecting member 650 may be at least one of a tape carrier package (TCP) and a chip on film (COF). A polarizing plate 632 may be positioned on the display panel 630 , but is not limited thereto.

표시패널(630) 상에 편광판(632)이 위치할 수 있으나 이에 제한되지 않는다. 커버층(640)은 편광판(632)과 이격되어 있으나, 커버층(640)이 편광판(632)의 일부 상에 위치하거나 편광판(632)과 표시패널(630) 사이에 위치할 수도 있다. A polarizing plate 632 may be positioned on the display panel 630 , but is not limited thereto. Although the cover layer 640 is spaced apart from the polarizing plate 632 , the cover layer 640 may be positioned on a portion of the polarizing plate 632 or between the polarizing plate 632 and the display panel 630 .

도 10은 또다른 실시예에 따른 플렉서블 표시장치의 벤딩되지 않은 상태의 플렉서블 기판과 표시패널, 구동 집적회로 연결부재의 단면도이다.10 is a cross-sectional view of a flexible substrate, a display panel, and a driving integrated circuit connecting member in an unbent state of the flexible display device according to another exemplary embodiment.

도 10을 참조하면, 플렉서블 표시장치(1000)는 플렉서블 기판(1010), 배선(1020) 및 표시패널(1030)를 포함한다.Referring to FIG. 10 , the flexible display device 1000 includes a flexible substrate 1010 , a wiring 1020 , and a display panel 1030 .

플렉서블 기판(1010)은 플렉서블 표시장치(1000)의 여러 엘리먼트들을 지지하기 위한 기판으로서, 연성이 부여된 기판이다. 플렉서블 기판(1010)의 비표시 영역(NA)은 벤딩 영역을 포함한다. 도 10에서는 설명의 편의를 위해, 플렉서블 기판(1010)의 비표시 영역(NA)전체가 벤딩 영역에 해당하는 것으로 도시하였으나, 플렉서블 기판(1010)의 비표시 영역(NA)의 일부 영역만이 벤딩 영역에 해당할 수도 있다. 도 10에서는 설명의 편의를 위해 플렉서블 기판(1010)이 벤딩되지 않은 상태를 도시하였으나, 플렉서블 기판(1010)의 벤딩 영역인 비표시 영역(NA)은 도 10에 도시된 바와 같이 벤딩 방향으로 벤딩될 수 있다.The flexible substrate 1010 is a substrate for supporting various elements of the flexible display device 1000 , and is a substrate to which flexibility is imparted. The non-display area NA of the flexible substrate 1010 includes a bending area. In FIG. 10 , for convenience of explanation, the entire non-display area NA of the flexible substrate 1010 is illustrated as a bending area, but only a portion of the non-display area NA of the flexible substrate 1010 is bent. It may correspond to an area. Although FIG. 10 illustrates a state in which the flexible substrate 1010 is not bent for convenience of explanation, the non-display area NA, which is a bending area of the flexible substrate 1010, may be bent in the bending direction as shown in FIG. 10 . can

플렉서블 기판(1010) 상에는 배선(1020)이 형성된다. 배선(1020)은 필요에 따라서 제1 내지 제3패턴(1021, 1022, 1023)을 포함할 수 있으나 이에 제한되지 않는다. A wiring 1020 is formed on the flexible substrate 1010 . The wiring 1020 may include the first to third patterns 1021 , 1022 , and 1023 as necessary, but is not limited thereto.

배선(1020)은 플렉서블 기판(1010)의 표시 영역(DA)에 형성되는 표시패널(1030)와 플렉서블 기판(1010)의 비표시 영역(NA)에 형성될 수 있는 구동 회로부 또는 게이트 구동 집적회로, 데이터 구동 집적회로를 전기적으로 연결하여 신호를 전달할 수 있다. 배선(1020)은 도전성 물질로 형성되고, 플렉서블 기판(1010)의 벤딩 시 크랙이 발생하는 것을 최소화하기 위해 연성이 우수한 도전성 물질로 형성될 수 있다.The wiring 1020 includes a driving circuit unit or a gate driving integrated circuit that may be formed in the display panel 1030 formed in the display area DA of the flexible substrate 1010 and the non-display area NA of the flexible substrate 1010; A signal may be transmitted by electrically connecting the data driving integrated circuit. The wiring 1020 may be formed of a conductive material, and may be formed of a conductive material having excellent ductility to minimize cracks from occurring when the flexible substrate 1010 is bent.

플렉서블 기판(1010)의 표시 영역(DA)의 전영역 또는 일부 영역에는 표시패널(1030)이 배치된다. 표시패널(1030)은 실제 화상을 표시하기 위한 엘리먼트로서, 화상 표시부로도 지칭될 수 있다. The display panel 1030 is disposed on all or a part of the display area DA of the flexible substrate 1010 . The display panel 1030 is an element for displaying an actual image, and may also be referred to as an image display unit.

플렉서블 표시장치(1000)는 플렉서블 기판(1010)의 일면(1010a)의 비표시 영역(NA)의 적어도 일부 영역에 위치하는 배선(1020) 상에 위치하는 커버층(1040)을 포함한다. 커버층(1040)은 표시패널(1030)을 구성하는 층들 중 적어도 하나의 층과 동일한 층을 포함할 수 있다. 본 명세서에서 표시패널(1030)을 구성하는 층과 동일한 층이란 표시패널(1030)을 구성하는 층과 동일한 층 상에 동일물질로 형성된 것을 의미한다. 이때 표시패널(1030)을 구성하는 층과 동일한 층이란 표시패널(1030)을 구성하는 층과 동일한 두께 뿐만 아니라 상이한 두께를 포함한다. 커버층(1040)을 구성하는 층은 표시패널(1030)을 구성하는 층과 두께가 동일할 수도 있으나 상이할 수도 있다.The flexible display device 1000 includes a cover layer 1040 positioned on the wiring 1020 positioned in at least a partial region of the non-display area NA of the one surface 1010a of the flexible substrate 1010 . The cover layer 1040 may include the same layer as at least one of the layers constituting the display panel 1030 . In this specification, the same layer as the layer constituting the display panel 1030 means that it is formed of the same material on the same layer as the layer constituting the display panel 1030 . In this case, the same layer as the layer constituting the display panel 1030 includes not only the same thickness as the layer constituting the display panel 1030 but also a different thickness. The layers constituting the cover layer 1040 may have the same thickness as the layers constituting the display panel 1030 , but may be different.

공정적인 측면에서, 표시패널(1030)의 제조공정을 이용하여 커버층(1040)을 형성하므로 미도포되는 영역이 발생하여 오픈 불량이 발생하는 것을 방지할 수 있다. 또한 표시패널(1030)의 제조공정을 이용하여 커버층(1040)을 형성하므로 커버층(1040)을 균일한 두께로 도포할 수 있다. In terms of process, since the cover layer 1040 is formed using the manufacturing process of the display panel 1030 , it is possible to prevent an open defect from occurring due to an uncoated area. In addition, since the cover layer 1040 is formed using the manufacturing process of the display panel 1030 , the cover layer 1040 can be applied to a uniform thickness.

재료적인 측면에서, 커버층(1040)의 재료로 플렉서블 기판(210)의 재료와 동일 또는 유사한 특성, 예를 Modulus 특성 값을 가진 재료로 커버층(1040)을 형성하므로, 플렉서블 기판(1010)과 커버층(1040) 사이 배선(1020)의 크랙이 발생하는 것을 방지할 수 있다. In terms of material, since the cover layer 1040 is formed of a material having the same or similar properties as the material of the flexible substrate 210 as a material of the cover layer 1040, for example, a material having a modulus property value, the flexible substrate 1010 and It is possible to prevent cracks in the wiring 1020 between the cover layers 1040 from occurring.

예를 들어, 도 10에는 커버층(1040)이 후술하는 표시패널(1030)에 포함되는 유기 발광 소자(1050A) 및 박막 트랜지스터(1040A) 사이 박막 트랜지스터 상에 위치하는 오버 코팅층(1064)과 동일한 제1층(1064b)을 포함할 수 있다. For example, in FIG. 10 , the cover layer 1040 is made of the same material as the overcoat layer 1064 positioned on the thin film transistor between the organic light emitting device 1050A and the thin film transistor 1040A included in the display panel 1030 to be described later. A first layer 1064b may be included.

이때 커버층(1040)은 표시패널(1030)의 제조 공정 중 오버 코팅층(1064)을 제조하는 중에 오버 코팅층(1064)과 동일한 제1층(1064b)을 제조할 수 있다. 예를 들어 오버 코팅층(1064)을 형성하는데 사용하는 마스크(mask)의 개구부의 형상을 변경하여 오버 코팅층(1064)을 제조하는 공정과 동일한 공정으로 커버층(1040)을 형성할 수 있다.In this case, for the cover layer 1040 , the same first layer 1064b as the overcoat layer 1064 may be manufactured while the overcoat layer 1064 is manufactured during the manufacturing process of the display panel 1030 . For example, the cover layer 1040 may be formed in the same process as the process of manufacturing the overcoat layer 1064 by changing the shape of the opening of the mask used to form the overcoat layer 1064 .

도 11a에는 커버층(1040)이 표시패널(1030)에 포함되는 오버 코팅층(1064)와 뱅크층(1065)와 동일한 제1, 제2층(1064a, 1065a)을 포함하는 것을 도시하였다. 11A illustrates that the cover layer 1040 includes the overcoat layer 1064 included in the display panel 1030 and the same first and second layers 1064a and 1065a as the bank layer 1065 .

표시패널(1030)의 제조 공정 중 오버 코팅층(1064)과 뱅크층(1065)을 제조하는 중에 오버 코팅층(1064)과 뱅크층(1065)과 동일한 제1 및 제2층들(1064a, 1065a)로 커버층(1040)을 제조할 수 있다. 예를 들어 오버 코팅층(1064)과 뱅크층(1065)을 각각 형성하는데 사용하는 마스크(mask)의 개구부의 형상을 변경하여 코트층(1064)과 뱅크층(1065)을 각각 제조하는 공정과 동일한 공정으로 커버층(1040)을 형성할 수 있다.Cover with the same first and second layers 1064a and 1065a as the overcoating layer 1064 and the bank layer 1065 while the overcoating layer 1064 and the bank layer 1065 are manufactured during the manufacturing process of the display panel 1030 . Layer 1040 may be prepared. For example, the same process as the process of manufacturing the coat layer 1064 and the bank layer 1065, respectively, by changing the shape of the opening of the mask used to form the overcoat layer 1064 and the bank layer 1065, respectively. to form the cover layer 1040 .

도 11b에는 커버층(1040)이 표시패널(1030)에 포함되는 오버 코팅층(1064)와 뱅크층(1065), 표시패널(1030)의 기둥 역할을 하는 스페이서(1080)와 제1 내지 제3층들(1064a, 1065a, 1080a)을 포함하는 것을 도시하였다. 11B , an overcoat layer 1064 and a bank layer 1065 including a cover layer 1040 included in the display panel 1030 , a spacer 1080 serving as pillars of the display panel 1030 , and first to third layers (1064a, 1065a, 1080a) is shown.

표시패널(1030)의 제조 공정 중 오버 코팅층(1064)과 뱅크층(1065), 스페이서(1080)을 제조하는 중에 오버 코팅층(1064)과 뱅크층(1065), 스페이서(1080)와 동일한 제1 내지 제3층들(1064a, 1065a, 1080a)로 커버층(1040)을 제조할 수 있다. 예를 들어 오버 코팅층(1064)과 뱅크층(1065), 스페이서(1080)을 각각 형성하는데 사용하는 마스크(mask)의 개구부의 형상을 변경하여 코트층(1064)과 뱅크층(1065), 스페이서(1080)을 각각 제조하는 공정과 동일한 공정으로 커버층(1040)을 형성할 수 있다.During the manufacturing process of the display panel 1030 , the overcoat layer 1064 , the bank layer 1065 , and the spacer 1080 are manufactured during the manufacturing process of the overcoat layer 1064 , the bank layer 1065 , and the first to the same first to the spacers 1080 . The cover layer 1040 may be manufactured using the third layers 1064a, 1065a, and 1080a. For example, by changing the shape of the opening of the mask used to form the overcoat layer 1064, the bank layer 1065, and the spacer 1080, respectively, the coat layer 1064, the bank layer 1065, and the spacer ( The cover layer 1040 may be formed in the same process as the process of manufacturing 1080 , respectively.

이하에서 도 10 내지 도 12를 참조하여 표시패널(1030)의 구조와 커버층(1040)의 구조를 상세히 설명한다. 도 10 내지 도 12를 참조하여 커버층(1040)이 표시패널(1030)을 구성하는 층들 중 적어도 하나의 층과 동일한 층으로 표시패널(1030)의 일부 층들을 예시적으로 설명하나 표시패널(1030)의 다른 층들도 커버층(1040)에 포함될 수 있다. Hereinafter, the structure of the display panel 1030 and the structure of the cover layer 1040 will be described in detail with reference to FIGS. 10 to 12 . 10 to 12 , some layers of the display panel 1030 are exemplarily described as the cover layer 1040 is the same layer as at least one of the layers constituting the display panel 1030 . ) may also be included in the cover layer 1040 .

도 10을 참조하면, 표시패널(1030)은 유기 발광 소자(1050A) 및 박막 트랜지스터(1040A)를 포함한다. Referring to FIG. 10 , the display panel 1030 includes an organic light emitting device 1050A and a thin film transistor 1040A.

플렉서블 기판(1010) 상에는 버퍼층(1061)이 형성된다. 버퍼층(1061)은 플렉서블 기판(1010)을 통한 수분 또는 불순물의 침투를 방지하며, 플렉서블 기판(1010) 표면을 평탄화할 수 있다. 다만, 버퍼층(1061)은 반드시 필요한 구성은 아니며, 플렉서블 기판(1010)의 종류나 플렉서블 표시장치(1000)에서 사용되는 박막 트랜지스터(1040A)의 종류에 따라 채택될 수 있다. 도 10에 도시된 바와 같이 버퍼층(1061)이 사용되는 경우, 버퍼층(1061) 은 실리콘 산화막, 실리콘 질화막 또는 이들의 복층 등으로 형성될 수 있다.A buffer layer 1061 is formed on the flexible substrate 1010 . The buffer layer 1061 may prevent penetration of moisture or impurities through the flexible substrate 1010 and may planarize the surface of the flexible substrate 1010 . However, the buffer layer 1061 is not a necessary configuration, and may be adopted depending on the type of the flexible substrate 1010 or the type of the thin film transistor 1040A used in the flexible display device 1000 . When the buffer layer 1061 is used as shown in FIG. 10 , the buffer layer 1061 may be formed of a silicon oxide film, a silicon nitride film, or a multilayer thereof.

버퍼층(1061)을 구성하는 실리콘 산화막 및 실리콘 질화막 등은 금속에 비해 연성이 떨어진다. 따라서, 본 발명의 다른 실시예에 따른 플렉서블 표시장치에서는 플렉서블 기판(1010)의 비표시 영역(NA)의 연성을 확보하고자, 버퍼층(1061)이 플렉서블 기판(1010)의 표시 영역(DA)에만 형성될 수도 있다. 다만, 플렉서블 기판(1010)의 표시 영역(DA)에만 버퍼층(1061)을 형성하고, 플렉서블 기판(1010)의 비표시 영역(NA)에 버퍼층(1061)을 형성하지 않는 경우, 플렉서블 기판(1010)의 비표시 영역(NA)의 상부에 위치하는 엘리먼트가 플렉서블 기판(1010)의 비표시 영역(NA)의 하부로부터 침투하는 수분과 산소에 취약할 수 있다. 따라서, 플렉서블 기판(1010)의 비표시 영역(NA)에 형성된 버퍼층(1061)은 플렉서블 기판 (1010)의 표시 영역(DA)에 형성된 버퍼층(1061)보다 얇을 수 있고, 플렉서블 기판(1010)의 표시 영역(DA)및 비표시 영역(NA)에 동일한 두께의 버퍼층(1061)을 형성한 후, 플렉서블 기판(1010)의 비표시 영역(NA)에 형성된 버퍼층(1061)의 일부를 식각하는 방식으로 버퍼층(1061)을 형성할 수 있다.A silicon oxide film and a silicon nitride film constituting the buffer layer 1061 have inferior ductility compared to metal. Accordingly, in the flexible display device according to another exemplary embodiment of the present invention, in order to secure ductility of the non-display area NA of the flexible substrate 1010 , the buffer layer 1061 is formed only in the display area DA of the flexible substrate 1010 . it might be However, when the buffer layer 1061 is formed only in the display area DA of the flexible substrate 1010 and the buffer layer 1061 is not formed in the non-display area NA of the flexible substrate 1010, the flexible substrate 1010 An element positioned above the non-display area NA of , may be vulnerable to moisture and oxygen penetrating from a lower portion of the non-display area NA of the flexible substrate 1010 . Accordingly, the buffer layer 1061 formed in the non-display area NA of the flexible substrate 1010 may be thinner than the buffer layer 1061 formed in the display area DA of the flexible substrate 1010 , and the display of the flexible substrate 1010 is After forming the buffer layer 1061 of the same thickness in the area DA and the non-display area NA, a portion of the buffer layer 1061 formed in the non-display area NA of the flexible substrate 1010 is etched. (1061) can be formed.

또한, 버퍼층(1061)을 구성하는 실리콘 산화막은 금속보다는 연성이 떨어지지만, 실리콘 질화막에 비해서는 유연성이 우수하다. 따라서, 본 발명의 다른 실시예에 따른 플렉서블 표시장치에서는 플렉서블 기판(1010) 의 비표시 영역(NA)의 하부에서 침투하는 수분과 산소로부터 플렉서블 기판(1010)의 비표시 영역(NA) 의 상부에 위치하는 엘리먼트를 보호하기 위해, 버퍼층(1061)을 구성하는 물질 중 실리콘 산화막만을 플렉서블 기판(1010)의 비표시 영역(NA)에 형성할 수도 있다.In addition, the silicon oxide film constituting the buffer layer 1061 has lower ductility than the metal, but has excellent flexibility compared to the silicon nitride film. Accordingly, in the flexible display device according to another embodiment of the present invention, moisture and oxygen penetrate from the lower portion of the non-display area NA of the flexible substrate 1010 to the upper portion of the non-display area NA of the flexible substrate 1010 . In order to protect positioned elements, only a silicon oxide layer among materials constituting the buffer layer 1061 may be formed in the non-display area NA of the flexible substrate 1010 .

플렉서블 기판(1010)상에는 액티브층(1041)이 형성된다. 버퍼층(1061)이 형성되지 않는 경우, 액티브층(1041)은 플렉서블 기판(1010)상에 바로 형성될 수 있다. 액티브층(1041)은 채널이 형성되는 채널 영역, 및 소스 전극(1043) 및 드레인 전극(1044) 각각과 접촉하는 소스 영역 및 드레인 영역을 포함할 수 있다.An active layer 1041 is formed on the flexible substrate 1010 . When the buffer layer 1061 is not formed, the active layer 1041 may be directly formed on the flexible substrate 1010 . The active layer 1041 may include a channel region in which a channel is formed, and a source region and a drain region in contact with the source electrode 1043 and the drain electrode 1044 , respectively.

액티브층(1041)은 산화물 반도체를 포함할 수 있으나 이에 제한되지 않고 비정질 실리콘 또는 폴리 실리콘 등 무기 반도체를 포함할 수 있다. 액티브층(1041)에 포함되는 산화물 반도체의 구성 물질로서, 4원계 금속 산화물인 인듐 주석 갈륨 아연 산화물 (InSnGaZnO) 계 재료, 3원계 금속 산화물인 인듐 갈륨 아연 산화물 (InGaZnO) 계 재료, 인듐 주석 아연 산화물 (InSnZnO) 계 재료, 인듐 알루미늄 아연 산화물(InAlZnO) 계 재료, 주석 갈륨 아연 산화물 (SnGaZnO) 계 재료, 알루미늄 갈륨 아연 산화물 (AlGaZnO) 계재료, 주석 알루미늄 아연 산화물 (SnAlZnO) 계 재료, 10원계 금속 산화물인 인듐 아연 산화물 (InZnO) 계 재료, 주석 아연 산화물 (SnZnO) 계 재료, 알루미늄 아연 산화물 (AlZnO) 계 재료, 아연 마그네슘 산화물 (ZnMgO) 계재료, 주석 마그네슘 산화물 (SnMgO) 계 재료, 인듐 마그네슘 산화물 (InMgO) 계 재료, 인듐 갈륨 산화물(InGaO) 계 재료나, 인듐 산화물 (InO) 계 재료, 주석 산화물 (SnO) 계 재료, 아연 산화물 (ZnO) 계 재료 등이 사용될 수 있다. 상술한 각각의 산화물 반도체 재료에 포함되는 각각의 원소의 조성 비율은 특별히 한정되지 않고 다양하게 조정될 수 있다. 본 명세서에서는 설명의 편의를 위해 액티브층(1041)이 산화물 반도체를 포함하는 것으로 설명하나, 이에 제한되지 않는다.The active layer 1041 may include an oxide semiconductor, but is not limited thereto, and may include an inorganic semiconductor such as amorphous silicon or polysilicon. As a constituent material of the oxide semiconductor included in the active layer 1041 , a quaternary metal oxide indium tin gallium zinc oxide (InSnGaZnO)-based material, a ternary metal oxide indium gallium zinc oxide (InGaZnO)-based material, and indium tin zinc oxide (InSnZnO)-based material, indium aluminum zinc oxide (InAlZnO)-based material, tin gallium zinc oxide (SnGaZnO)-based material, aluminum gallium zinc oxide (AlGaZnO)-based material, tin aluminum zinc oxide (SnAlZnO)-based material, ten-membered metal oxide Indium zinc oxide (InZnO) based material, tin zinc oxide (SnZnO) based material, aluminum zinc oxide (AlZnO) based material, zinc magnesium oxide (ZnMgO) based material, tin magnesium oxide (SnMgO) based material, indium magnesium oxide ( InMgO)-based material, indium gallium oxide (InGaO)-based material, indium oxide (InO)-based material, tin oxide (SnO)-based material, zinc oxide (ZnO)-based material, or the like can be used. The composition ratio of each element included in each oxide semiconductor material described above is not particularly limited and may be variously adjusted. In the present specification, it is described that the active layer 1041 includes an oxide semiconductor for convenience of description, but is not limited thereto.

액티브층(1041) 상에는 게이트 절연층(1045)이 형성된다. 게이트 절연층(1045)은 액티브층(1041)과 게이트 전극(1042)을 절연시킨다. 게이트 절연층(1045)은 실리콘 산화막, 실리콘 질화막 또는 이들의 복층으로 형성될 수 있으나, 이에 제한되지 않고, 다양한 물질로 형성될 수 있다. 게이트 절연층(1045)은 액티브층(1041)을 포함하는 플렉서블 기판(1010)전면에 걸쳐 형성될 수 있으나, 게이트 절연층(1045)은 액티브층(1041)과 게이트 전극(1042)을 절연시키기만 하면 되므로, 액티브층(1041)상에만 형성될 수도 있으나, 플렉서블 기판(1010)의 전면에 걸쳐 형성될 수도 있고, 도 10에 도시된 바와 같이, 게이트 절연층(1045)은 플렉서블 기판(1010)의 표시 영역(DA)에만 형성될 수 있다. 이 경우, 게이트 절연층(1045)은 액티브층(1041)의 일부 영역을 개구시키는 컨택홀을 갖도록 형성될 수 있고, 컨택홀은 액티브층(1041)의 소스 영역 및 드레인 영역의 일부 영역을 개구시킬 수 있다.A gate insulating layer 1045 is formed on the active layer 1041 . The gate insulating layer 1045 insulates the active layer 1041 from the gate electrode 1042 . The gate insulating layer 1045 may be formed of a silicon oxide film, a silicon nitride film, or a multilayer thereof, but is not limited thereto, and may be formed of various materials. The gate insulating layer 1045 may be formed over the entire surface of the flexible substrate 1010 including the active layer 1041 , but the gate insulating layer 1045 only insulates the active layer 1041 and the gate electrode 1042 . Therefore, it may be formed only on the active layer 1041 , but may be formed over the entire surface of the flexible substrate 1010 , and as shown in FIG. 10 , the gate insulating layer 1045 is formed on the flexible substrate 1010 . It may be formed only in the display area DA. In this case, the gate insulating layer 1045 may be formed to have a contact hole opening a partial region of the active layer 1041 , and the contact hole may be formed to open a partial region of the source region and the drain region of the active layer 1041 . can

게이트 절연층(1045)을 구성하는 실리콘 산화막은 금속보다는 연성이 떨어지지만, 실리콘 질화막에 비해서는 연성이 우수하다. 따라서, 본 발명의 다른 실시예에 따른 플렉서블 표시장치에서는 플렉서블 기판(1010)의 비표시 영역(NA)의 하부에서 침투하는 수분과 산소로부터 플렉서블 기판(1010)의 비표시 영역(NA) 의 상부에 위치하는 엘리먼트를 보호하기 위해, 버퍼층(1061)을 구성하는 물질 중 실리콘 산화막만을 플렉서블 기판(1010)의 비표시 영역(NA)에 형성할 수도 있다.The silicon oxide film constituting the gate insulating layer 1045 has lower ductility than the metal, but superior ductility compared to the silicon nitride film. Accordingly, in the flexible display device according to another embodiment of the present invention, moisture and oxygen penetrate from the lower portion of the non-display area NA of the flexible substrate 1010 to the upper portion of the non-display area NA of the flexible substrate 1010 . In order to protect positioned elements, only a silicon oxide layer among materials constituting the buffer layer 1061 may be formed in the non-display area NA of the flexible substrate 1010 .

게이트 절연층(1045)상에는 게이트 전극(1042)이 형성된다. 게이트 전극(1042)은 액티브층(1041)과 적어도 일부가 중첩되고, 특히, 액티브층(1041)의 채널 영역과 중첩된다. A gate electrode 1042 is formed on the gate insulating layer 1045 . The gate electrode 1042 at least partially overlaps the active layer 1041 , in particular, the channel region of the active layer 1041 .

게이트 전극(1042)상에 층간 절연막(1046)이 형성된다. 층간 절연막 (1046)은 게이트 절연층(1045)과 동일한 물질로 형성될 수 있으며, 실리콘 산화막, 실리콘 질화막 또는 이들의 복층으로 형성될 수 있으나, 이에 제한되지 않고, 다양한 물질로 형성될 수 있다. 층간 절연막(1046)은 액티브층(1041)의 일부 영역을 개구시키는 컨택홀을 갖도록 형성될 수 있고, 컨택홀은 액티브층(1041)의 소스 영역 및 드레인 영역의 일부 영역을 개구시킬 수 있다. 층간 절연막(1046)은 도 10에 도시된 바와 같이 플렉서블 기판(1010)의 표시 영역(DA)에만 형성될 수 있으나, 버퍼층(1061)및 게이트 절연층(1045)과 동일하게 플렉서블 기판(1010)의 표시 영역 (DA) 및 비표시 영역(NA)모두에 형성될 수도 있고, 층간 절연막(1046)을 구성하는 물질 중 실리콘 산화막과 같이 연성이 우수한 물질만이 플렉서블 기판(1010)의 비표시 영역(NA)에 형성될 수도 있다.An interlayer insulating film 1046 is formed on the gate electrode 1042 . The interlayer insulating layer 1046 may be formed of the same material as the gate insulating layer 1045 , and may be formed of a silicon oxide layer, a silicon nitride layer, or a multilayer thereof, but is not limited thereto, and may be formed of various materials. The interlayer insulating layer 1046 may be formed to have a contact hole opening a partial region of the active layer 1041 , and the contact hole may open a partial region of a source region and a drain region of the active layer 1041 . The interlayer insulating layer 1046 may be formed only in the display area DA of the flexible substrate 1010 as shown in FIG. 10 , but similarly to the buffer layer 1061 and the gate insulating layer 1045 , It may be formed in both the display area DA and the non-display area NA, and among the materials constituting the interlayer insulating layer 1046 , only a material having excellent ductility such as a silicon oxide layer is the non-display area NA of the flexible substrate 1010 . ) may be formed.

층간 절연막(1046) 상에는 소스 전극(1043) 및 드레인 전극(1044) 이 형성된다. 소스 전극(1043) 및 드레인 전극(1044) 각각은 층간 절연막(1046)및/또는 게이트 절연층(1045)에 형성된 컨택홀을 통해 액티브층(1041)의 소스 영역 및 드레인 영역 각각과 전기적으로 연결될 수 있다. A source electrode 1043 and a drain electrode 1044 are formed on the interlayer insulating film 1046 . Each of the source electrode 1043 and the drain electrode 1044 may be electrically connected to each of the source region and the drain region of the active layer 1041 through a contact hole formed in the interlayer insulating layer 1046 and/or the gate insulating layer 1045 . have.

소스 전극(1043) 및 드레인 전극(1044) 상에 패시베이션막(1062)이 형성된다. 패시베이션막(1062) 은 소스 전극(1043) 또는 드레인 전극(1044)을 노출시키는 콘택홀을 갖도록 형성될 수 있다. 패시베이션막(1062)은 보호층으로서, 층간 절연막(1046) 및/또는 게이트 절연층(1045)과 동일한 물질로 형성될 수 있으며, 실리콘 산화막, 실리콘 질화막 등의 물질 중 하나로 구성된 단일층 또는 이들의 복수층으로 형성될 수 있으나, 이에 제한되지 않고, 다양한 물질로 형성될 수 있다. 도 10에서는 플렉서블 표시장치(1000)가 패시베이션막(1062)을 포함하는 것으로 도시하였으나, 패시베이션막(1062)은 반드시 필요한 구성은 아니므로, 패시베이션막(1062)을 생략하는 것 또한 가능하다. 패시베이션막(1062)은 도 10에 도시된 바와 같이 플렉서블 기판(1010)의 표시 영역(DA)및 비표시 영역(NA) 모두에 형성될 수 있고, 배선 (1020) 상에 형성되어, 배선(1020)을 외부로부터 보호할 수 있다.A passivation film 1062 is formed on the source electrode 1043 and the drain electrode 1044 . The passivation layer 1062 may be formed to have a contact hole exposing the source electrode 1043 or the drain electrode 1044 . The passivation film 1062 is a protective layer, and may be formed of the same material as the interlayer insulating film 1046 and/or the gate insulating layer 1045 , and a single layer or a plurality of materials such as a silicon oxide film and a silicon nitride film. It may be formed as a layer, but is not limited thereto, and may be formed of various materials. Although the flexible display 1000 is illustrated as including the passivation film 1062 in FIG. 10 , the passivation film 1062 is not a necessary configuration, so it is also possible to omit the passivation film 1062 . As shown in FIG. 10 , the passivation layer 1062 may be formed in both the display area DA and the non-display area NA of the flexible substrate 1010 , and is formed on the wiring 1020 and the wiring 1020 . ) can be protected from the outside.

소스 전극(1043) 및 드레인 전극(1044) 상에 오버 코팅층(1064)이 형성된다. 오버 코팅층(1064)은 평탄화막 또는 평탄화층 등으로도 지칭될 수 있다. 패시베이션막(1062)이 형성되는 경우, 오버 코팅층(1064)은 패시베이션막(1062) 상에 형성될 수 있다. 오버 코팅층(1064)은 플렉서블 기판(1010)의 상부를 평탄화시킨다. 또한, 오버 코팅층(1064)은 소스 전극(1043)또는 드레인 전극(1044)을 노출시키는 콘택홀을 갖도록 형성될 수 있다. An overcoat layer 1064 is formed on the source electrode 1043 and the drain electrode 1044 . The overcoat layer 1064 may also be referred to as a planarization layer or a planarization layer. When the passivation film 1062 is formed, the overcoat layer 1064 may be formed on the passivation film 1062 . The overcoat layer 1064 planarizes an upper portion of the flexible substrate 1010 . In addition, the overcoat layer 1064 may be formed to have a contact hole exposing the source electrode 1043 or the drain electrode 1044 .

오버 코팅층(1064)은 아크릴계 수지 (polyacrylates resin), 에폭시 수지 (epoxy resin), 페놀 수지(phenolic resin), 폴리아미드계 수지 (polyamides resin), 폴리이미드계 수지 (polyimides resin), 불포화 폴리에스테르계 수지 (unsaturated polyesters resin), 폴리페닐렌계 수지 (poly-phenylenethers resin), 폴리페닐렌설파이드계 수지 (poly-phenylenesulfides resin), 및 벤조사이클로부텐 (benzocyclobutene) 중 하나 이상의 물질로 형성될 수 있으나, 이에 제한되지 않고, 다양한 물질로 형성될 수 있다.The overcoating layer 1064 may include acrylic resin, epoxy resin, phenolic resin, polyamides resin, polyimides resin, unsaturated polyester resin (Unsaturated polyesters resin), polyphenylene resin (poly-phenylenethers resin), polyphenylene sulfides (poly-phenylenesulfides resin), and benzocyclobutene (benzocyclobutene) may be formed of at least one material, but is not limited thereto. and may be formed of various materials.

전술한 바와 같이 커버층(1040)은 오버 코팅층(1064)과 동일한 제1층(1064b)를 포함할 수 있다. 따라서, 제1층(1064b)는 오버 고팅층(1064)과 동일한 재료, 즉 아크릴계 수지 (polyacrylates resin), 에폭시 수지 (epoxy resin), 페놀 수지(phenolic resin), 폴리아미드계 수지 (polyamides resin), 폴리이미드계 수지 (polyimides resin), 불포화 폴리에스테르계 수지 (unsaturated polyesters resin), 폴리페닐렌계 수지 (poly-phenylenethers resin), 폴리페닐렌설파이드계 수지 (poly-phenylenesulfides resin), 및 벤조사이클로부텐 (benzocyclobutene) 중 하나 이상의 물질로 형성될 수 있으나, 이에 제한되지 않고, 다양한 물질로 형성될 수 있다.As described above, the cover layer 1040 may include the same first layer 1064b as the overcoat layer 1064 . Accordingly, the first layer 1064b is made of the same material as the over-gating layer 1064, that is, polyacrylates resin, epoxy resin, phenolic resin, polyamides resin, Polyimides resin, unsaturated polyesters resin, poly-phenyleneethers resin, poly-phenylenesulfides resin, and benzocyclobutene ) may be formed of one or more materials, but is not limited thereto, and may be formed of various materials.

이때 커버층(1040)은 표시패널(1030)의 제조 공정 중 오버 코팅층(1064)을 제조하는 중에 오버 코팅층(1064)과 동일한 재료(1064b)로 제조할 수 있다. 예를 들어 오버 코팅층(1064)을 형성하는데 사용하는 마스크(mask)의 개구부의 형상을 변경하여 오버 코팅층(1064)을 제조하는 공정과 동일한 공정으로 커버층(1040)을 형성할 수 있다.In this case, the cover layer 1040 may be made of the same material 1064b as the overcoat layer 1064 while the overcoat layer 1064 is manufactured during the manufacturing process of the display panel 1030 . For example, the cover layer 1040 may be formed in the same process as the process of manufacturing the overcoat layer 1064 by changing the shape of the opening of the mask used to form the overcoat layer 1064 .

박막 트랜지스터(1040A)는 앞서 설명한 바와 같이 형성된 액티브층 (1041), 게이트 절연층(1045), 게이트 전극(1042), 층간 절연막(1046), 소스 전극(1043) 및 드레인 전극(1044)을 포함한다. 박막 트랜지스터(1040A)는 플렉서블 기판(1010)상에서 표시 영역(DA)의 각각의 화소 영역 또는 각각의 서브 화소 영역 마다 형성될 수 있고, 각각의 화소 영역 또는 각각의 서브 화소 영역에 대한 독립 구동을 가능하게 할 수 있다. 박막 트랜지스터 (1040) 의 구성은 앞서 설명한 예에 한정되지 않고, 당업자가 용이하게 실시할 수 있는 공지된 구성으로 다양하게 변형 가능하다.The thin film transistor 1040A includes an active layer 1041 , a gate insulating layer 1045 , a gate electrode 1042 , an interlayer insulating film 1046 , a source electrode 1043 , and a drain electrode 1044 formed as described above. . The thin film transistor 1040A may be formed on the flexible substrate 1010 for each pixel area or each sub-pixel area of the display area DA, and enables independent driving of each pixel area or each sub-pixel area can do it The configuration of the thin film transistor 1040 is not limited to the example described above, and can be variously modified into a known configuration that can be easily implemented by those skilled in the art.

박막 트랜지스터(1040A)는 플렉서블 기판(1010)상에 형성되어 유기 발광 소자(1050A)의 유기 발광층(1054)을 발광시킬 수 있다. 일반적으로, 스캔 신호에 따라 입력된 데이터 신호의 영상 정보에 의해 유기 발광층(1054)을 발광시키기 위해, 스위칭 박막 트랜지스터와 구동 박막 트랜지스터가 사용된다.The thin film transistor 1040A may be formed on the flexible substrate 1010 to emit light from the organic light emitting layer 1054 of the organic light emitting device 1050A. In general, a switching thin film transistor and a driving thin film transistor are used to emit light from the organic light emitting layer 1054 according to image information of a data signal input according to a scan signal.

스위칭 박막 트랜지스터는 게이트 배선으로부터 스캔 신호가 인가되면, 데이터 배선으로부터의 데이터 신호를 구동 박막 트랜지스터의 게이트 전극으로 전달한다. 구동 박막 트랜지스터는 스위칭 박막 트랜지스터로부터 전달받은 데이터 신호에 의해 전원 배선을 통해 전달되는 전류를 제1전극으로 전달하며, 제1전극으로 전달되는 전류에 의해 해당 화소 또는 서브 화소의 유기 발광층의 발광을 제어한다.When a scan signal is applied from the gate line to the switching thin film transistor, the data signal from the data line is transferred to the gate electrode of the driving thin film transistor. The driving thin film transistor transmits a current transmitted through the power wiring to the first electrode by a data signal received from the switching thin film transistor, and controls the emission of the organic light emitting layer of the corresponding pixel or sub-pixel by the current transmitted to the first electrode do.

플렉서블 표시장치(1000)에는 플렉서블 표시장치(1000)의 비정상적인 구동을 방지하기 위해 설계되는 보상 회로용 박막 트랜지스터가 추가적으로 포함될 수 있다.The flexible display device 1000 may additionally include a thin film transistor for a compensation circuit designed to prevent abnormal driving of the flexible display device 1000 .

본 명세서에서는 설명의 편의를 위해 플렉서블 표시장치(1000)에 포함될 수 있는 다양한 박막 트랜지스터 중 구동 박막 트랜지스터(1040A)만을 도시하였다.In this specification, only the driving thin film transistor 1040A is illustrated among various thin film transistors that may be included in the flexible display device 1000 for convenience of description.

박막 트랜지스터는 박막 트랜지스터를 구성하는 엘리먼트들의 위치에 따라 인버티드 스태거드(invertedstaggered) 구조 및 코플래너 (coplanar) 구조로 분류할 수 있다. 인버티드 스태거드 구조의 박막 트랜지스는 액티브층을 기준으로 게이트 전극이 소스 전극 및 드레인 전극의 반대 편에 위치하는 구조를 갖는 박막 트랜지스터를 의미하고, 코플래너 구조의 박막 트랜지스터는 액티브층을 기준으로 게이트 전극이 소스 전극 및 드레인 전극과 같은 편에 위치하는 구조를 갖는 박막 트랜지스터를 의미한다. 본 명세서에서는 설명의 편의를 위해 코플래너 구조의 박막 트랜지스터(1040A)를 도시하였으나, 이에 제한되지 않고, 인버티드 스태거드 구조의 박막 트랜지스터도 사용될 수 있다.The thin film transistor may be classified into an inverted staggered structure and a coplanar structure according to positions of elements constituting the thin film transistor. The thin film transistor of the inverted staggered structure refers to a thin film transistor having a structure in which the gate electrode is positioned on opposite sides of the source electrode and the drain electrode with respect to the active layer, and the thin film transistor of the coplanar structure is based on the active layer This means a thin film transistor having a structure in which the gate electrode is positioned on the same side as the source electrode and the drain electrode. In the present specification, the thin film transistor 1040A having a coplanar structure is illustrated for convenience of description, but the present disclosure is not limited thereto, and a thin film transistor having an inverted staggered structure may also be used.

플렉서블 기판(1010)상에는 제1전극(1051), 유기 발광층(1054) 및 제2전극(1055)를 포함하는 유기 발광 소자(1050A)가 형성된다. 유기 발광 소자(1050A)는 제1전극 (1051)에서 공급되는 정공(hole)과 제2전극(1055)에서 공급되는 전자(electron)가 유기 발광층(1054)에서 결합되어 광이 발광되는 원리로 구동되어, 화상을 형성한다.An organic light emitting diode 1050A including a first electrode 1051 , an organic light emitting layer 1054 , and a second electrode 1055 is formed on the flexible substrate 1010 . The organic light emitting device 1050A is driven on the principle that a hole supplied from the first electrode 1051 and an electron supplied from the second electrode 1055 are combined in the organic light emitting layer 1054 to emit light. and form an image.

플렉서블 표시장치(1000)는 독립 구동 표시장치로서, 표시 영역(DA)의 각각의 서브 화소 영역별로 구동된다. 따라서, 상술한 박막 트랜지스터(1040A) 및 유기 발광 소자(1050A)는 표시 영역(DA)의 각각의 서브 화소 영역 별로 배치되어, 각각의 서브 화소 영역에 배치된 박막 트랜지스터(1040A)가 유기 발광 소자(1050A)를 독립 구동할 수 있다.The flexible display device 1000 is an independent driving display device and is driven for each sub-pixel area of the display area DA. Accordingly, the above-described thin film transistor 1040A and the organic light emitting device 1050A are disposed for each sub pixel area of the display area DA, and the thin film transistor 1040A disposed in each sub pixel area is the organic light emitting device ( 1050A) can be driven independently.

오버 코팅층(1064) 상에 제1전극(1051)이 형성된다. 제1전극(1051)은 양극, 화소 전극 또는 애노드로도 지칭될 수 있다. 제1전극(1051)는 표시 영역(DA)의 각각의 서브 화소 영역 별로 분리되어 형성될 수 있다.A first electrode 1051 is formed on the overcoat layer 1064 . The first electrode 1051 may also be referred to as an anode, a pixel electrode, or an anode. The first electrode 1051 may be formed separately for each sub-pixel area of the display area DA.

제1전극(1051)는 오버 코팅층(1064)에 형성된 콘택홀을 통해 박막 트랜지스터(1040A)의 소스 전극(1043)과 연결될 수 있다. 본 명세서에서는 박막 트랜지스터(1040A)가 N-type 박막 트랜지스터인 경우를 가정하여, 제1전극(1051)가 소스 전극(1043)과 연결되는 것으로 설명하였으나, 박막 트랜지스터(1040A)가 P-type 박막 트랜지스터인 경우에는 제1전극(1051)가 드레인 전극(1044)에 연결될 수도 있다. 제1전극(1051)는 직접 유기 발광층(1054)에 접하거나, 도전성 물질을 사이에 두고 유기 발광층(1054)과 접하여 전기적으로 연결될 수 있다.The first electrode 1051 may be connected to the source electrode 1043 of the thin film transistor 1040A through a contact hole formed in the overcoat layer 1064 . In this specification, it has been described that the first electrode 1051 is connected to the source electrode 1043 on the assumption that the thin film transistor 1040A is an N-type thin film transistor, but the thin film transistor 1040A is a P-type thin film transistor In the case of , the first electrode 1051 may be connected to the drain electrode 1044 . The first electrode 1051 may directly contact the organic emission layer 1054 or may be electrically connected to the organic emission layer 1054 with a conductive material interposed therebetween.

제1전극(1051) 및 오버 코팅층(1064) 상에는 뱅크층(1065)이 형성된다. 뱅크층 (1065)은 인접하는 서브 화소 영역 간을 구분하는 역할을 하여, 인접하는 서브 화소 영역 사이에 배치될 수도 있다. 또한, 뱅크층(1065)은 제1전극(1051)의 일부를 개구시키도록 형성될 수 있다. 뱅크층(1065)은 유기 절연 물질, 예를 들어, 폴리이미드, 포토아크릴(photo acryl), 벤조사이클로뷰텐(BCB) 중 어느 하나로 이루어질 수 있다. 뱅크층(1065)은 테이퍼(taper) 형상으로 형성될 수 있다. 뱅크층(1065)을 테이퍼 형상으로 형성하는 경우, 뱅크층(1065)은 포지티브 (positive) 타입의 포토레지스트를 사용하여 형성될 수 있다. 뱅크층(1065)은 인접하는 서브 화소 영역을 구분하기 위한 두께로 형성될 수 있다.A bank layer 1065 is formed on the first electrode 1051 and the overcoat layer 1064 . The bank layer 1065 may serve to distinguish between adjacent sub-pixel areas, and may be disposed between adjacent sub-pixel areas. Also, the bank layer 1065 may be formed to open a portion of the first electrode 1051 . The bank layer 1065 may be formed of any one of an organic insulating material, for example, polyimide, photo acryl, or benzocyclobutene (BCB). The bank layer 1065 may be formed in a tapered shape. When the bank layer 1065 is formed in a tapered shape, the bank layer 1065 may be formed using a positive type photoresist. The bank layer 1065 may be formed to a thickness for distinguishing adjacent sub-pixel regions.

도 11a에 도시한 바와 같이 커버층(1040)이 오버 코트층(1064)와 동일한 제1층(1064a)과 함께 뱅크층(1065)와 동일한 제2층(1064a, 1065a)을 포함할 수 있다. As shown in FIG. 11A , the cover layer 1040 may include the same first layer 1064a as the overcoat layer 1064 and the same second layers 1064a and 1065a as the bank layer 1065 .

표시패널(1030)의 제조 공정 중 뱅크층(1065)을 제조하는 중에 오버 코트층(1064)와 동일한 제1층(1064a) 상에 뱅크층(1065)과 동일한 제2층(1065a)을 형성하여 커버층(1040)을 제조할 수 있다. 예를 들어 오버 코트층(1064)을 형성하는데 사용하는 마스크(mask)의 개구부의 형상을 변경하여 제1층(1064a) 상에 제2층(1065a)을 형성할 수 있다. During the manufacturing process of the display panel 1030, the same second layer 1065a as the bank layer 1065 is formed on the same first layer 1064a as the overcoat layer 1064 while the bank layer 1065 is manufactured. A cover layer 1040 may be manufactured. For example, the second layer 1065a may be formed on the first layer 1064a by changing the shape of the opening of a mask used to form the overcoat layer 1064 .

플렉서블 유기 발광 표시 장치가 화상을 표시하는 방식으로 각 서브 화소 영역마다 적색, 녹색 및 청색 자체를 발광하는 유기 발광층을 형성하여 사용하는 방식과 백색을 발광하는 유기 발광층을 모든 서브 화소 영역에 형성함과 함께 컬러 필터를 사용하는 방식이 사용되고 있다. A method in which a flexible organic light emitting display displays an image by forming and using an organic light emitting layer emitting red, green, and blue itself in each sub pixel area, and forming an organic light emitting layer emitting white light in all sub pixel areas A method of using color filters together is being used.

도 10에서는 설명의 편의를 위해 각 서브 화소 영역마다 적색, 녹색 및 청색 자체를 발광하는 유기 발광층(1054)을 사용하는 방식의 플렉서블 표시장치(1000)를 도시하였으며, 각 서브 화소 영역의 유기 발광층(1054)이 연결되지 않는 것을 도시하였으나, 이에 제한되지 않는다.10 shows the flexible display device 1000 using an organic light emitting layer 1054 that emits red, green, and blue itself for each sub pixel area for convenience of explanation, and the organic light emitting layer ( 1054) is not connected, but is not limited thereto.

유기 발광층(1054) 상에는 제2전극(1055)가 형성된다. 제2전극 (1055) 는 음극, 공통 전극 또는 캐소드로도 지칭될 수 있다. 제2전극(1055)는 별도의 전압 배선(1020)에 연결되어 표시 영역(DA)의 모든 서브 화소 영역에 동일한 전압을 인가할 수 있다.A second electrode 1055 is formed on the organic emission layer 1054 . The second electrode 1055 may also be referred to as a cathode, a common electrode, or a cathode. The second electrode 1055 may be connected to a separate voltage line 1020 to apply the same voltage to all sub-pixel areas of the display area DA.

제2전극(1055)를 포함하는 유기 발광 소자(1050A) 상에는 유기 발광 소자(1050A)를 커버하는 밀봉 부재로서 봉지부(1070)가 형성된다. 봉지부 (1070)는 박막 트랜지스터(1040A)와 유기 발광 소자(1050A) 등과 같은 플렉서블 표시장치(1000) 내부 엘리먼트들을 외부로부터의 습기, 공기, 충격 등으로부터 보호할 수 있다. 봉지부(1070)는 플렉서블 표시장치(1000)의 표시 영역(DA)에 형성되어, 플렉서블 표시장치(1000) 내부 엘리먼트들을 보호할 수 있다.An encapsulation portion 1070 is formed on the organic light emitting diode 1050A including the second electrode 1055 as a sealing member covering the organic light emitting element 1050A. The encapsulation part 1070 may protect internal elements of the flexible display device 1000 , such as the thin film transistor 1040A and the organic light emitting diode 1050A, from external moisture, air, impact, and the like. The encapsulation unit 1070 may be formed in the display area DA of the flexible display device 1000 to protect internal elements of the flexible display device 1000 .

도 11b에 도시한 바와 같이 봉지층(1070) 상에는 표시패널(1030)의 기둥 역할을 하는 스페이서(1080)을 포함할 수 있으나 이에 제한되지 않는다. As shown in FIG. 11B , a spacer 1080 serving as a pillar of the display panel 1030 may be included on the encapsulation layer 1070 , but is not limited thereto.

도 11a에 도시한 바와 같이 커버층(1040)은 오버 코트층(1064)와 동일한 제1층(1064a) 및 뱅크층(1065)와 동일한 제2층(1064a, 1065a) 스페이서(1080)와 동일한 제3들(1080a)을 포함할 수 있다. As shown in FIG. 11A , the cover layer 1040 includes a first layer 1064a identical to the overcoat layer 1064 and second layers 1064a and 1065a identical to the bank layer 1065). 3s 1080a may be included.

표시패널(1030)의 제조 공정 중 스페이서(1080)를 제조하는 중에 오버 코트층(1064)와 동일한 제1층(1064a) 및 뱅크층(1065)과 동일한 제2층(1065a) 상에 스페이서(1080)와 동일한 제3(1080a)을 형성하여 커버층(1040)을 제조할 수 있다. 예를 들어 스페이서(1080)를 형성하는데 사용하는 마스크(mask)의 개구부의 형상을 변경하여 제1층(1064a) 및 제2층(1065a) 상에 제3층(1080a)을 형성할 수 있다. During the manufacturing process of the display panel 1030 , the spacer 1080 is formed on the same first layer 1064a as the overcoat layer 1064 and the second layer 1065a as the bank layer 1065 while the spacer 1080 is manufactured. ) and the same third 1080a may be formed to manufacture the cover layer 1040 . For example, the third layer 1080a may be formed on the first layer 1064a and the second layer 1065a by changing the shape of the opening of a mask used to form the spacer 1080 .

플렉서블 기판(1010) 상에는 패드부(1066)가 형성된다. 패드부 (1066)는 플렉서블 기판(1010)의 표시 영역(DA)에 형성될 수 있다. 도 10에서는 설명의 편의를 위해, 패드부(1066)가 플렉서블 기판(1010)의 표시 영역(DA)에서 게이트 절연층(1045) 상에 형성되는 것으로 도시하였으나, 이에 제한되지 않고, 패드부(1066)는 플렉서블 기판(1010) 상에 또는 버퍼층(1061) 상에 형성될 수도 있다.A pad part 1066 is formed on the flexible substrate 1010 . The pad part 1066 may be formed in the display area DA of the flexible substrate 1010 . In FIG. 10 , for convenience of explanation, the pad part 1066 is illustrated as being formed on the gate insulating layer 1045 in the display area DA of the flexible substrate 1010 , but the present invention is not limited thereto. ) may be formed on the flexible substrate 1010 or on the buffer layer 1061 .

도 10에 도시된 패드부(1066)는 게이트 배선(1020) 과 게이트 배선(1020)에 게이트 신호를 인가하는 게이트 구동 집적회로를 연결하기 위한 구성으로서, 게이트 전극(1042)과 동일 층상에서 동일 물질로 형성된다. 패드부 (1066)가 데이터 배선(1020)과 데이터 배선(1020)에 데이터 신호를 인가하는 데이터 구동 집적회로를 연결하기 위한 구성인 경우, 패드부(1066)는 소스 전극 (1043) 및 드레인 전극(1044)과 동일 층상에서 동일물질로 형성될 수 있다.The pad part 1066 shown in FIG. 10 is a configuration for connecting the gate wiring 1020 and a gate driving integrated circuit that applies a gate signal to the gate wiring 1020, and is formed of the same material as the gate electrode 1042 on the same layer. is formed with When the pad unit 1066 is configured to connect the data line 1020 and a data driving integrated circuit that applies a data signal to the data line 1020 , the pad unit 1066 includes a source electrode 1043 and a drain electrode ( 1044) and may be formed of the same material on the same layer.

배선(1020)은 플렉서블 기판(1010)의 표시 영역(DA)에 형성되는 패드부(1066)와 구동 회로부 또는 게이트 구동 집적회로, 데이터 구동 집적회로를 전기적으로 연결하여 신호를 전달할 수 있다. The wiring 1020 may transmit a signal by electrically connecting the pad part 1066 formed in the display area DA of the flexible substrate 1010 and the driving circuit part, the gate driving integrated circuit, or the data driving integrated circuit.

도 12에 도시한 바와 같이 커버층(1040)의 전부 또는 일부는 배선(1020)과 동일하게 패터닝될 수 있다. 다시 말해 커버층(1040)은 오버 코트층(1064)와 동일한 제1층(1064a) 및 뱅크층(1065)와 동일한 제2층(1064a, 1065a) 스페이서(1080)와 동일한 제3들(1080a)을 포함하되, 커버층(1040)에 포함되는 제1층 내지 제3층(1064a, 1065a, 1080a)이 배선(1020)과 동일하게 패터닝될 수 있다. 도 12에는 제1층 내지 제3층(1064a, 1065a, 1080a)이 배선(1020)과 동일하게 패터닝된 것으로 도시하였으나, 제1층 내지 제3층(1064a, 1065a, 1080a)의 일부 층만이 패터닝되고 다른 일부층은 커버층(1040)의 전면에 형성될 수도 있다. 12 , all or part of the cover layer 1040 may be patterned in the same manner as the wiring 1020 . In other words, the cover layer 1040 includes a first layer 1064a identical to the overcoat layer 1064 and second layers 1064a and 1065a identical to the bank layer 1065) and third layers 1080a identical to the spacer 1080. However, the first to third layers 1064a , 1065a , and 1080a included in the cover layer 1040 may be patterned in the same manner as the wiring 1020 . 12 shows that the first to third layers 1064a, 1065a, and 1080a are patterned in the same way as the wiring 1020, but only some layers of the first to third layers 1064a, 1065a, and 1080a are patterned. and another partial layer may be formed on the entire surface of the cover layer 1040 .

표시패널(1030)의 제조 공정 중 오버 코트층(1064) 및 뱅크층(1065), 스페이서(1080)를 각각 제조하는 중에 오버 코트층(1064) 및 뱅크층(1065), 스페이서(1080)를 형성하는데 사용하는 마스크(mask)의 개구부의 형상을 변경하여 제1층(1064a) 및 제2층(1065a), 제3층(1080a)이 배선(1020)과 동일하게 패터닝할 수 있다. During the manufacturing process of the display panel 1030 , the overcoat layer 1064 , the bank layer 1065 , and the spacer 1080 are formed while the overcoat layer 1064 , the bank layer 1065 , and the spacer 1080 are respectively manufactured. The first layer 1064a , the second layer 1065a , and the third layer 1080a may be patterned in the same manner as the wiring 1020 by changing the shape of the opening of the mask used to perform the pattern.

도 10에 도시한 플렉서브 표시장치(1000)는 벤딩된 상태에서 도 2 및 도 4a 내지 4c를 참조한 바와 같이 제1백 플레이트(260a) 및 제2백 플레이트(260b), 지지부재(270) 중 적어도 하나를 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않고 다양한 구조로 플렉서블 기판(1010)의 타면(1010a)의 지지구조를 구현할 수 있다.The flexible display device 1000 shown in FIG. 10 is in a bent state, among the first back plate 260a, the second back plate 260b, and the support member 270 as shown in FIGS. 2 and 4A to 4C . It may include at least one, but is not limited thereto, and the support structure of the other surface 1010a of the flexible substrate 1010 may be implemented in various structures.

전술한 실시예들에 의하면, 플렉서블 표시장치에서 밴딩시 플렉서블 기판 또는 배선에 크랙이 발생하는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다. According to the above-described embodiments, there is an effect of preventing cracks from occurring in the flexible substrate or wiring during bending in the flexible display device.

또한 전술한 본 실시예들에 의하면, 플렉서블 표시장치에서 불량을 방지하거나 최소화할 수 있다.Also, according to the above-described exemplary embodiments, it is possible to prevent or minimize defects in the flexible display device.

이상에서의 설명 및 첨부된 도면은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 나타낸 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 구성의 결합, 분리, 치환 및 변경 등의 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The above description and the accompanying drawings are merely illustrative of the technical spirit of the present invention, and those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains can combine configurations within a range that does not depart from the essential characteristics of the present invention. , various modifications and variations such as separation, substitution and alteration will be possible. Accordingly, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical spirit of the present invention, but to explain, and the scope of the technical spirit of the present invention is not limited by these embodiments. The protection scope of the present invention should be construed by the following claims, and all technical ideas within the scope equivalent thereto should be construed as being included in the scope of the present invention.

1000, 600, 1100: 플렉서블 표시장치
1010, 610, 1110: 플렉서블 기판
240, 640, 1140: 커버층
250, 650, 1150: 구동 집적회로 연결부재
260a, 660a, 1160a: 제1백 플레이트
260b, 660b, 1160b: 제2백 플레이트
1000, 600, 1100: flexible display device
1010, 610, 1110: flexible substrate
240, 640, 1140: cover layer
250, 650, 1150: a driving integrated circuit connecting member
260a, 660a, 1160a: first back plate
260b, 660b, 1160b: second back plate

Claims (13)

표시 영역, 및 상기 표시 영역에서 연장된 비표시 영역을 포함하는 플렉서블 기판;
상기 플렉서블 기판의 일면의 표시 영역에 위치하는 표시패널;
상기 플렉서블 기판의 일면의 비표시 영역에 테이프로 이루어진 커버층;
상기 플렉서블 기판의 일면의 비표시 영역에 위치하는 구동 집적회로 연결부재;
상기 플렉서블 기판의 타면에 위치하고 상기 표시패널에 대응하여 배치되는 제1백 플레이트;
상기 구동 집적회로 연결부재에 대응하여 배치되고 상기 플렉서블 기판이 벤딩 방향으로 구부려진 형상으로 위치할 때 상기 제1백 플레이트의 하부에 위치하는 제2백 플레이트; 및
상기 제1백 플레이트와 상기 제2백 플레이트 사이에 위치하는 지지부재를 포함하며,
상기 플렉서블 기판의 비표시 영역의 적어도 일부 영역과 상기 커버층은 벤딩 방향으로 구부러진 형상으로 벤딩되고,
상기 지지부재의 헤드는 벤딩된 상기 플렉서블 기판의 반지름과 동일한 반지름을 갖는 반원형상을 갖고,
상기 지지부재의 헤드는, 상기 플렉서블 기판의 타면의 벤딩 영역 전체와 면접촉하고, 상기 제1백 플레이트의 일측면 및 상기 제2백 플레이트의 일측면과 면접촉하는 플렉서블 표시장치.
a flexible substrate including a display area and a non-display area extending from the display area;
a display panel positioned in a display area of one surface of the flexible substrate;
a cover layer made of a tape on a non-display area of one surface of the flexible substrate;
a driving integrated circuit connecting member positioned in a non-display area of one surface of the flexible substrate;
a first back plate disposed on the other surface of the flexible substrate and disposed to correspond to the display panel;
a second back plate disposed to correspond to the driving integrated circuit connecting member and positioned below the first back plate when the flexible substrate is bent in a bending direction; and
a support member positioned between the first back plate and the second back plate;
At least a partial area of the non-display area of the flexible substrate and the cover layer are bent in a bent shape in a bending direction;
The head of the support member has a semicircular shape having the same radius as the radius of the bent flexible substrate,
The head of the support member is in surface contact with the entire bending area of the other surface of the flexible substrate, and is in surface contact with one side of the first back plate and one side of the second back plate.
제1항에 있어서,
상기 테이프는 유기물질이 코팅된 플렉서블 표시장치.
According to claim 1,
The tape is a flexible display device coated with an organic material.
제2항에 있어서,
상기 유기물질은 폴리에스터계 고분자, 실리콘계 고분자, 아크릴계 고분자, 폴리올레핀계 고분자, 및 이들의 공중합체로 이루어진 군에서 선택된 하나인 플렉서블 표시장치.
3. The method of claim 2,
The organic material is one selected from the group consisting of a polyester-based polymer, a silicone-based polymer, an acrylic polymer, a polyolefin-based polymer, and a copolymer thereof.
제1항에 있어서,
상기 플렉서블 기판과 상기 커버층은 동일한 재료로 이루어진 플렉서블 표시장치.
According to claim 1,
The flexible substrate and the cover layer are made of the same material.
제1항에 있어서,
상기 커버층은 상기 표시패널과 상기 구동 집적회로 연결부재 사이에 위치하며 상기 표시패널의 측면과 상기 구동 집적회로 연결부재의 측면과 접촉하는 플렉서블 표시장치.
According to claim 1,
The cover layer is positioned between the display panel and the driving integrated circuit connecting member and is in contact with a side surface of the display panel and a side surface of the driving integrated circuit connecting member.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 구동 집적회로 연결부재는 TCP (tape carrier package) 또는 COF (chip on film) 중 적어도 하나인 플렉서블 표시장치.
According to claim 1,
The driving integrated circuit connecting member is at least one of a tape carrier package (TCP) and a chip on film (COF) flexible display device.
삭제delete 표시 영역, 및 상기 표시 영역에서 연장된 비표시 영역을 포함하는 플렉서블 기판;
상기 플렉서블 기판의 표시 영역에 위치하는 표시패널;
상기 플렉서블 기판 상에 배치되는 배선; 및
상기 플렉서블 기판의 일면의 비표시 영역의 적어도 일부 영역에 위치하는 배선 상에 위치하며 상기 표시패널을 구성하는 층들 중 적어도 하나의 층과 동일한 적어도 하나의 층을 포함하는 커버층을 포함하며,
상기 플렉서블 기판의 비표시 영역의 적어도 일부 영역과 상기 커버층은 벤딩 방향으로 구부러진 형상으로 벤딩되고,
상기 표시패널은,
유기 발광층을 통해 화상을 표시하는 유기 발광 소자 및 상기 유기 발광 소자를 구동하는 박막 트랜지스터, 상기 유기 발광 소자와 상기 박막 트랜지스터 사이 상기 박막 트랜지스터 상에 위치하는 오버 코팅층을 포함하는 유기발광표시패널이며,
상기 유기 발광 소자는 상기 박막 트랜지스터의 소스 전극 및 드레인 전극 중 하나와 전기적으로 연결된 제1전극, 상기 제1전극을 개구하는 뱅크층, 상기 제1전극 상에 형성된 유기 발광층, 및 상기 유기 발광층 상에 형성된 제2전극을 포함하고,
상기 표시패널은 상기 제2전극 상에 위치하는 봉지층 및 상기 봉지층 상에 위치하고 상기 유기 발광 소자 상에서 기둥 역할을 하는 스페이서를 더 포함하며,
상기 커버층은 상기 오버 코팅층과 동일한 제1층, 상기 뱅크층과 동일한 제2층 및 상기 스페이서와 동일한 제3층을 포함하는 플렉서블 표시장치.
a flexible substrate including a display area and a non-display area extending from the display area;
a display panel positioned in a display area of the flexible substrate;
a wiring disposed on the flexible substrate; and
a cover layer positioned on a wiring positioned in at least a portion of a non-display area of one surface of the flexible substrate and including at least one layer identical to at least one of the layers constituting the display panel;
At least a partial area of the non-display area of the flexible substrate and the cover layer are bent in a bent shape in a bending direction;
The display panel is
An organic light emitting display panel comprising an organic light emitting device displaying an image through an organic light emitting layer, a thin film transistor driving the organic light emitting device, and an overcoat layer positioned on the thin film transistor between the organic light emitting device and the thin film transistor,
The organic light emitting device includes a first electrode electrically connected to one of a source electrode and a drain electrode of the thin film transistor, a bank layer opening the first electrode, an organic light emitting layer formed on the first electrode, and the organic light emitting layer. a second electrode formed therein;
The display panel further includes an encapsulation layer positioned on the second electrode and a spacer positioned on the encapsulation layer and serving as a pillar on the organic light emitting device;
and the cover layer includes a first layer identical to the overcoat layer, a second layer identical to the bank layer, and a third layer identical to the spacer layer.
표시 영역, 및 상기 표시 영역에서 연장된 비표시 영역을 포함하는 플렉서블 기판;
상기 플렉서블 기판의 표시 영역에 위치하는 표시패널;
상기 플렉서블 기판 상에 배치되는 배선;
상기 플렉서블 기판과 접촉하며 위치하는 버퍼층; 및
상기 플렉서블 기판의 일면의 비표시 영역의 적어도 일부 영역에 위치하는 배선 상에 위치하며 상기 표시패널을 구성하는 층들 중 적어도 하나의 층과 동일한 적어도 하나의 층을 포함하는 커버층을 포함하며,
상기 플렉서블 기판의 비표시 영역의 적어도 일부 영역과 상기 커버층은 벤딩 방향으로 구부러진 형상으로 벤딩되고,
벤딩 영역인 상기 비표시 영역에서 상기 버퍼층의 두께는, 상기 표시 영역에서 상기 버퍼층의 두께보다 얇은 플렉서블 표시장치.
a flexible substrate including a display area and a non-display area extending from the display area;
a display panel positioned in a display area of the flexible substrate;
a wiring disposed on the flexible substrate;
a buffer layer positioned in contact with the flexible substrate; and
a cover layer positioned on a wiring positioned in at least a portion of a non-display area of one surface of the flexible substrate and including at least one layer identical to at least one of the layers constituting the display panel;
At least a partial area of the non-display area of the flexible substrate and the cover layer are bent in a bent shape in a bending direction;
A thickness of the buffer layer in the non-display area that is a bending area is thinner than a thickness of the buffer layer in the display area.
삭제delete 삭제delete 제9항에 있어서,
상기 플렉서블 기판의 일면의 비표시 영역에는 구동 집적회로 연결부재가 연결되고,
상기 플렉서블 기판의 일면의 비표시 영역의 적어도 일부 영역에 위치하는 상기 배선은 상기 표시패널과 상기 구동 집적회로 연결부재 상에 위치하는 구동 집적회로와 전기적으로 연결하며,
상기 커버층의 일부는 상기 배선과 동일하게 패터닝된 플렉서블 표시장치.
10. The method of claim 9,
A driving integrated circuit connecting member is connected to a non-display area of one surface of the flexible substrate;
The wiring located in at least a portion of the non-display area of one surface of the flexible substrate electrically connects the display panel and the driving integrated circuit located on the driving integrated circuit connecting member,
A portion of the cover layer is patterned in the same manner as the wiring.
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