KR102330898B1 - Touch Panel and Preparing Method of Touch Panel - Google Patents

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마코토 아라이
테츄 이쉬바쉬
토모카쥬 슈다
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가부시키가이샤 아루박
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Abstract

표시 패널상에 배치되고, 조작면을 만져서 조작되는 정전 용량 방식의 터치 패널로서, 투명 기판, 상기 투명 기판의 상기 조작면의 이면 측에 X 방향으로 형성된 복수의 X 전극들과, 상기 X 방향과 직교하는 Y 방향으로 형성된 복수의 Y 전극들을 가진다. 상기 복수의 X 전극들과 상기 복수의 Y 전극이 상기 이면 측의 동일면에 형성된 복수의 투명 전극들, 상기 X 전극과 상기 Y 전극이 절연부를 통해 상호 교차하는 교차부에 인접한 상기 X 전극의 투명 전극 또는 인접한 상기 Y 전극의 투명 전극 중 하나를 입체적으로 접속는 점퍼선을 가진다. 상기 점퍼선은 상기 투명 전극에 접속하는 제 1 층과 상기 제 1 층에 적층된 제 2 층을 가진다. 상기 제 1 층이 제 1 금속 산화막으로 이루어지고, 상기 제 2 층이 제 2 금속 산화막으로 이루어진다. 상기 제 1 층의 굴절률이 상기 제 2 층의 굴절률보다 낮다.A capacitive touch panel disposed on a display panel and operated by touching an operation surface, a transparent substrate, a plurality of X electrodes formed on a rear surface of the operation surface of the transparent substrate in the X direction, It has a plurality of Y electrodes formed in an orthogonal Y direction. A plurality of transparent electrodes in which the plurality of X electrodes and the plurality of Y electrodes are formed on the same surface on the back side, and a transparent electrode of the X electrode adjacent to an intersection where the X electrode and the Y electrode cross each other through an insulating part Alternatively, it has a jumper wire that three-dimensionally connects one of the transparent electrodes of the adjacent Y electrode. The jumper wire has a first layer connected to the transparent electrode and a second layer laminated on the first layer. The first layer is made of a first metal oxide film, and the second layer is made of a second metal oxide film. The refractive index of the first layer is lower than the refractive index of the second layer.

Description

터치 패널 및 터치 패널 제조 방법 {Touch Panel and Preparing Method of Touch Panel}{Touch Panel and Preparing Method of Touch Panel}

본 발명은 커버 시트와 일체화하여 형성된 터치 패널 및 터치 패널의 제조 방법에 이용하기에 바람직한 기술에 관한 것이다.The present invention relates to a touch panel formed integrally with a cover sheet and to a technique preferred for use in a method of manufacturing the touch panel.

터치 패널은 표시 화면상의 투명한 면을 조작자가 손가락이나 펜으로 터치함으로써 접촉하는 위치를 검출하고 데이터 입력할 수 있는 입력 장치의 구성 요소가 되는 것으로서, 키 입력보다 직접적이고 직관적인 입력을 가능하게 한다. 따라서, 최근 휴대 전화기나 휴대 정보 단말기, 자동차 네비게이션 시스템을 비롯해 다양한 전자 기기의 작동부에 많이 사용되어 왔다.The touch panel is a component of an input device capable of detecting a contact position by an operator touching a transparent surface on a display screen with a finger or a pen and inputting data, and enables direct and intuitive input than a key input. Therefore, recently, it has been widely used in the operation unit of various electronic devices, including mobile phones, portable information terminals, and car navigation systems.

상기 터치 패널은 입력 장치로서, 액정 패널 등의 평면형 표시 장치의 표시 화면상에 맞붙여서 사용할 수 있다. 터치 패널의 검출 방식에는 저항식, 정전 용량식, 초음파식, 광학식 등 여러가지이고, 그 구조는 다양하다.The touch panel can be used as an input device by being pasted on the display screen of a flat display device such as a liquid crystal panel. There are various detection methods of the touch panel, such as a resistive type, a capacitive type, an ultrasonic type, an optical type, and the like, and the structure thereof is various.

정전 용량식 터치 패널은 표면형과 투영형으로 대별할 수 있다. 표면형은 2 개 이상의 접점을 동시에 검지하는 것은 곤란하다. 투영형은 2 개 이상의 접점을 동시에 검지하는 것이 가능하다. 투영형은, 정전 용량식 터치 패널용 전극판으로서, 투명 기판으로 제 1 투명 전극 패턴층, 제 1 절연층, 제 2 투명 전극 패턴층, 단자 전극이 되는 금속 전극 패턴층, 제 2 절연층 각각이 대개 이 순서로 형성되는 적층 구조를 가진다.The capacitive touch panel can be roughly divided into a surface type and a projection type. In the surface type, it is difficult to detect two or more contact points at the same time. The projection type can detect two or more contact points at the same time. The projection type is an electrode plate for a capacitive touch panel, which is a transparent substrate, a first transparent electrode pattern layer, a first insulating layer, a second transparent electrode pattern layer, a metal electrode pattern layer used as a terminal electrode, and a second insulating layer, respectively. It usually has a laminated structure formed in this order.

또한, 투영형 정전 용량식 터치 패널을 평면형 표시 장치의 표시 화면상에 겹쳐서 사용하는 형태는 터치 패널 독립형과는 별도로, 전체를 박형화할 수 있는 커버 글라스 일체형도 있다.In addition to the form in which the projected capacitive touch panel is superimposed on the display screen of the flat display device, there is a cover glass integrated type capable of reducing the overall thickness separately from the touch panel stand alone type.

즉, 터치 패널 독립형에는, 평면형 표시 장치의 표시면 측으로 에어 갭을 통해 독립형 터치 패널을 맞붙여, 추가적으로 그 전면에 액자 등의 가식 패턴을 가지고 표면을 보호하기 위해 커버 글라스(전면판)로 대표되는 투명 커버 시트를 설치한다 (일본국 특개 2012-084025 호 공보 참조).That is, in the independent touch panel, the independent touch panel is attached to the display surface of the flat display device through an air gap, and additionally, it has a decorative pattern such as a picture frame on its front surface to protect the surface, represented by a cover glass (front panel). Install the transparent cover sheet (refer to Japanese Patent Laid-Open No. 2012-084025).

한편, 커버 글라스 일체형에는 평면형 표시 장치의 표시면 측에 유사한 에어 갭을 통해 커버 글라스 일체형 터치 패널을 맞붙인다. 또한, 터치 패널을 구성하는 전극이나 단자, 배선 등의 패턴 방향은 패턴을 직접 지지하는 기판의 위치가 터치 패널 독립형과 커버 글라스 일체형에 반비례 관계이기 때문에, 시인(視認) 측에서 방향이 반대가 된다.On the other hand, the cover glass-integrated touch panel is attached to the cover glass-integrated touch panel through a similar air gap on the display surface side of the flat-type display device. In addition, the direction of the pattern such as electrodes, terminals, and wiring constituting the touch panel is inversely proportional to the position of the substrate directly supporting the pattern between the touch panel independent type and the cover glass integrated type, so the direction is opposite on the viewing side. .

투영형 정전 용량식 터치 패널의 전극 구조는 커버 글라스 일체형으로 대표되는 투명 커버 시트 일체형의 예에서 보여주는 투명 커버 시트의 동일 평면상에 2 차원 배치된 센서 전극인 복수의 투명 도전막 패턴과 투명 도전막 패턴 사이를 전기적으로 연결하는 점퍼부, 점퍼부에서 층간 전기적 단락을 방지하는 절연부, 센서 전극으로부터 배선을 이끌어 단자부에 이르는 배선부로 구성된다. 센서 전극에 ITO (인듐 주석 산화물) 등의 투명 도전막을 사용한다. 한편, 점퍼부에는 ITO보다 도전성 좋은 금속 재료를 사용한다 (일본국 특개 2013-020347 호 공보 참조).The electrode structure of the projected capacitive touch panel includes a plurality of transparent conductive film patterns and a transparent conductive film that are sensor electrodes that are two-dimensionally arranged on the same plane of the transparent cover sheet as shown in the example of the transparent cover sheet integrated type represented by the cover glass integrated type. It consists of a jumper part that electrically connects between patterns, an insulating part that prevents electrical short circuit between layers in the jumper part, and a wiring part that leads the wiring from the sensor electrode to the terminal part. A transparent conductive film such as ITO (indium tin oxide) is used for the sensor electrode. On the other hand, a metal material with better conductivity than ITO is used for the jumper (refer to Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-020347).

이러한 터치 패널에서는 동일 평면상에 규칙적으로 배치된 센서 전극을 입체적으로 연결하기 위한 절연부와 점퍼부의 구조가 불가결하지만, 이러한 표시 영역에 있는 조작 평면 영역내에 위치하고 있기 때문에, 이 부분의 반사율을 저감하고, 표시 장치의 가시성(Visibility)을 향상시키고자 하는 요구가 있었다. 일본국 특개 2013-020347 호 공보에서는 도 6에 나타낸 것과 같이, 투명 커버 시트(2)의 표면으로부터, 몰리브덴 막(71) / 알루미늄 막(81) / 몰리브덴 막(91)의 3 층 구성으로 이루어진 박막 적층 재료를 사용한 경우와 비교하여, 몰리브덴 산화막(7) / 알루미늄 막(8) / 몰리브덴 막(9)의 3 층으로 이루어진 경우에 반사율이 작은 것으로 나타난다.In such a touch panel, the structure of the insulating part and the jumper part for three-dimensionally connecting the sensor electrodes regularly arranged on the same plane is indispensable. , there has been a demand to improve the visibility of the display device. In Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-020347, as shown in Fig. 6, from the surface of the transparent cover sheet 2, a thin film composed of a three-layer structure of a molybdenum film 71 / an aluminum film 81 / a molybdenum film 91. Compared with the case where the laminate material is used, it appears that the reflectance is small in the case of three layers of molybdenum oxide film 7 / aluminum film 8 / molybdenum film 9 .

그러나, 일본국 특개 2013-020347 호 공보의 도 6에서 나타낸 것과 같이, 점퍼부를 몰리브덴 산화막(7) / 알루미늄 막(8) / 몰리브덴 막(9)의 3 층으로 한 경우에는 엄밀한 의미에서 가시광 영역의 전역에서 반사율이 작아지지 않는다. 특히 400 nm 부근에서의 반사율 증대는 반사 특성, 특히 표시 장치에 있는 터치 패널의 색감에 영향을 미치기 때문에, 이를 개선하여 가시광선 영역에서 거의 균일한 반사율을 실현하고자 하는 요구가 강하게 있었다.However, as shown in Fig. 6 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-020347, when the jumper part is made of three layers of molybdenum oxide film 7 / aluminum film 8 / molybdenum film 9, in a strict sense, The reflectance does not decrease all over the world. In particular, since the increase of the reflectance near 400 nm affects the reflective properties, especially the color of the touch panel in the display device, there has been a strong demand for improving this and realizing an almost uniform reflectance in the visible ray region.

또한, 가시광 영역의 전역에서 반사율을 10 % 이하로 하고자 하는 강한 요구가 존재하고 있다.In addition, there is a strong demand for the reflectance to be 10% or less in the entire visible light region.

본 발명은 상기의 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 이하의 목적을 달성하고자 한다:The present invention has been made in view of the above circumstances, and aims to achieve the following objects:

1. 가시광선 영역의 전역에서 반사율을 10 % 이하로 줄이는 것;1. Reduction of reflectance to less than 10% throughout the visible region;

2. 파장 의존성을 저감하고 가시광 영역의 전역에서 반사율을 균일하게 하는 것; 및2. Reducing the wavelength dependence and making the reflectance uniform throughout the visible region; and

3. 에칭 특성, 시트 저항값, 기질과의 밀착성에 대해 종래와 동일한 정도의 특성을 유지하는 것이다.3. Maintaining the same level of characteristics as in the past with respect to etching characteristics, sheet resistance, and adhesion to the substrate.

본 발명의 하나의 실시예에 따른 터치 패널은 표시 패널상에 배치되고, 조작면을 만져서 조작되는 정전 용량 방식의 터치 패널로서, 투명 기판, 상기 투명 기판의 상기 조작면의 이면 측에 X 방향으로 형성된 복수의 X 전극들과, 상기 X 방향에 직교하는 Y 방향으로 형성된 복수의 Y 전극들을 가지고 있다. 상기 복수의 X 전극들과 상기 복수의 Y 전극들이 상기 이면 측의 동일면에 형성된 복수의 투명 전극들, 상기 X 전극과 상기 Y 전극이 절연부를 통해 상호 교차하는 교차부에 인접한 상기 X 전극의 투명 전극 또는 인접한 상기 Y 전극의 투명 전극 중 하나를 입체적으로 연결하는 점퍼선을 가지고 있다. 상기 점퍼선은 상기 투명 전극에 접속하는 제 1 층과 상기 제 1 층에 적층된 제 2 층을 갖는다. 상기 제 1 층이 제 1 금속 산화막으로 이루어지고, 상기 제 2 층이 제 2 금속 산화막으로 이루어진다. 상기 제 1 층의 굴절률이 상기 제 2 층의 굴절률보다 낮다.A touch panel according to an embodiment of the present invention is a capacitive touch panel disposed on a display panel and operated by touching an operation surface, wherein the transparent substrate and the rear surface of the operation surface of the transparent substrate are directed in the X direction. It has a plurality of X electrodes formed and a plurality of Y electrodes formed in a Y direction orthogonal to the X direction. A plurality of transparent electrodes in which the plurality of X electrodes and the plurality of Y electrodes are formed on the same surface on the back side, and a transparent electrode of the X electrode adjacent to an intersection where the X electrode and the Y electrode cross each other through an insulating part Alternatively, it has a jumper wire that three-dimensionally connects one of the transparent electrodes of the adjacent Y electrode. The jumper wire has a first layer connected to the transparent electrode and a second layer laminated on the first layer. The first layer is made of a first metal oxide film, and the second layer is made of a second metal oxide film. The refractive index of the first layer is lower than the refractive index of the second layer.

상기 터치 패널에 의하면, 가시광 파장 전역에 대해 시인 측에서 볼 때 교차부의 반사율을 저감시킴과 동시에, 균일하게 억제하는 것이 가능하게 된다.According to the above-mentioned touch panel, it is possible to reduce the reflectance of the intersection portion as viewed from the viewer side with respect to the entire visible light wavelength and to uniformly suppress it.

상기 제 1 층의 산소 함유율이 상기 제 2 층 보다 높은 것이 바람직하다.It is preferable that the oxygen content of the first layer is higher than that of the second layer.

이 경우, 교차부에서 소망하는 반사율을 얻을 수 있다.In this case, a desired reflectance can be obtained at the intersection.

상기 제 1 층의 비저항이 상기 제 2 층 보다 높은 것이 바람직하다.It is preferable that the resistivity of the first layer is higher than that of the second layer.

이 경우, 교차부에서 소망하는 반사율을 얻을 수 있다.In this case, a desired reflectance can be obtained at the intersection.

상기 제 1 층과 상기 제 2 층이 동일한 금속 산화물인 것이 바람직하다.Preferably, the first layer and the second layer are the same metal oxide.

이 경우, 교차부에서 소망하는 반사율을 얻을 수 있다.In this case, a desired reflectance can be obtained at the intersection.

상기 제 1 층과 상기 제 2 층은 니오브(Nb)를 1 atm% 내지 15 atm%로 함유하는 몰리브덴 합금 산화물인 것이 바람직하다.Preferably, the first layer and the second layer are molybdenum alloy oxide containing niobium (Nb) in an amount of 1 atm% to 15 atm%.

이 경우 교차부에서 원하는 반사율을 얻을 수 있다.In this case, the desired reflectivity can be obtained at the intersection.

상기 제 1 및 제 2 금속 산화막의 복소 굴절률을 m = n-ik (n은 굴절률, k는 소쇠 계수)로 정의했을 때,When the complex refractive indices of the first and second metal oxide films are defined as m = n-ik (n is the refractive index, k is the extinction coefficient),

상기 제 1 층을 구성하는 상기 제 1 금속 산화막에 있어서,In the first metal oxide film constituting the first layer,

2.0 ≤ n1 ≤ 2.22.0 ≤ n1 ≤ 2.2

0.015 ≤ k1 ≤ 0.1이고, 0.015 ≤ k1 ≤ 0.1,

상기 제 2 층을 구성하는 상기 제 2 금속 산화막에 있어서,In the second metal oxide film constituting the second layer,

2.5 ≤ n2 ≤ 3.82.5 ≤ n2 ≤ 3.8

0.3 ≤ k2 ≤ 3.00.3 ≤ k2 ≤ 3.0

인 것이 바람직하다.It is preferable to be

상기 점퍼선은 상기 제 2 층에 적층된 제 3 금속막으로 이루어진 제 3 층을 가지는 것이 바람직하다.Preferably, the jumper wire has a third layer made of a third metal film laminated on the second layer.

상기 제 3 층이 알루미늄 또는 알루미늄 합금으로 이루어진 것이 바람직하다.Preferably, the third layer is made of aluminum or an aluminum alloy.

상기 점퍼선은 상기 제 3 층에 적층된 제 4 금속막으로 이루어진 제 4 층을 가지는 것이 바람직하다.The jumper wire preferably has a fourth layer made of a fourth metal film laminated on the third layer.

상기 제 4 층이 몰리브덴 또는 몰리브덴 합금으로 이루어질 수 있다.The fourth layer may be made of molybdenum or a molybdenum alloy.

상기 본 발명의 실시예에 따르면, 교차부를 상술한 바와 같이 구성함으로써, 가시광선 영역에서 거의 균일한 반사율을 실현하여 가시성을 향상시키는 것과 동시에, 가시광선 영역의 전역에서 반사율을 10% 이하로 하여 색감의 정확성을 담보할 수 있다.According to the embodiment of the present invention, by configuring the intersection as described above, almost uniform reflectance is realized in the visible ray region to improve visibility, and at the same time, the reflectance is set to 10% or less in the entire visible ray region to reduce the color tone. can guarantee the accuracy of

도 1은 본 발명의 하나의 실시예에 따른 터치 패널을 모식적으로 나타낸 평면도이다;
도 2는 본 발명의 하나의 실시예에 따른 터치 패널을 나타낸 단면도이다;
도 3은 본 발명의 하나의 실시예에 따른 터치 패널의 교차부 부근을 나타낸 확대 단면도이다;
도 4는 본 발명의 하나의 실시예에 따른 터치 패널 점퍼선에 있어서의 막 구성예 및 시트 저항 평가 및 반사율 평가를 나타낸 개념도이다;
도 5는 본 발명의 하나의 실시예에 따른 터치 패널에 대한 측정 결과를 나타낸 그래프이다;
도 6은 본 발명의 하나의 실시예에 따른 터치 패널에 대한 실험예를 나타낸 그래프이다;
도 7은 본 발명의 하나의 실시예에 따른 터치 패널에 대한 시뮬레이션 결과를 나타낸 그래프이다; 및
도 8은 본 발명의 하나의 실시예에 따른 터치 패널에 대한 시뮬레이션 결과를 나타낸 그래프이다.
1 is a plan view schematically showing a touch panel according to an embodiment of the present invention;
2 is a cross-sectional view showing a touch panel according to an embodiment of the present invention;
3 is an enlarged cross-sectional view showing the vicinity of an intersection of a touch panel according to an embodiment of the present invention;
4 is a conceptual diagram showing a film configuration example and sheet resistance evaluation and reflectance evaluation in a touch panel jumper wire according to an embodiment of the present invention;
5 is a graph showing measurement results for a touch panel according to an embodiment of the present invention;
6 is a graph showing an experimental example for a touch panel according to an embodiment of the present invention;
7 is a graph showing a simulation result for a touch panel according to an embodiment of the present invention; and
8 is a graph illustrating a simulation result for a touch panel according to an embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 하나의 실시예에 따른 터치 패널을 도면을 기준으로 설명한다.Hereinafter, a touch panel according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

도 1은 본 실시예에 따른 터치 패널을 모식적으로 나타낸 평면도이고, 도 2는 터치 패널을 나타낸 단면도, 도 3은 터치 패널의 교차부 부근을 나타낸 확대 단면도이다.Fig. 1 is a plan view schematically showing a touch panel according to the present embodiment, Fig. 2 is a cross-sectional view showing the touch panel, and Fig. 3 is an enlarged cross-sectional view showing the vicinity of an intersection of the touch panel.

본 실시예에 따른 터치 패널(10)은 도 1, 도 2에 나타낸 것과 같이, 액정이나 유기 EL 등의 표시 패널(2)상에 배치되고, 조작면(10A)을 만져서 조작되는 정전 용량 방식의 터치 패널로서, 투명 기판(11)과 투명 기판(11)의 조작면(10A)의 이면(11b) 측에 X 방향으로 형성된 복수의 X 전극들(12X)과 X 방향에 직교하는 Y 방향으로 형성된 복수의 Y 전극들(12Y)을 가진다.1 and 2, the touch panel 10 according to the present embodiment is disposed on a display panel 2 such as liquid crystal or organic EL, and is operated by touching the operation surface 10A. As a touch panel, the transparent substrate 11 and a plurality of X electrodes 12X formed in the X direction on the back surface 11b side of the operation surface 10A of the transparent substrate 11 and formed in the Y direction orthogonal to the X direction It has a plurality of Y electrodes 12Y.

본 실시 형태의 정전 용량 방식의 터치 패널은 도 1 내지 도 3에 나타낸 바와 같이, 투명 기판(11)의 시인 측과 반대가 되는 이면(11b)에서, 예를 들어 Y 방향으로 연장되고 Y 방향에 교차하는 X 방향으로 소정의 배열피치에 병설된 복수의 X 전극들, 이 복수의 X 전극들에 교차하고 X 방향으로 연장되는 Y 방향으로 소정의 배열피치에 병설된 복수의 Y 전극들을 가진다. 투명 기판(11)으로는, 예를 들어 글라스나 내열 투명 플라스틱 등의 투명 기판이 이용될 수 있다. 복수의 X 전극들(12X) 및 복수의 Y 전극들(12Y)은 높은 투과성을 갖는 재료, 예를 들면 ITO (Indium Tin Oxide) 등의 투명 도전 재료로 형성된다.As shown in Figs. 1 to 3, the capacitive touch panel of the present embodiment extends in the Y direction on the back surface 11b opposite to the viewing side of the transparent substrate 11 and extends in the Y direction, for example. It has a plurality of X electrodes juxtaposed at a predetermined arrangement pitch in an intersecting X direction, and a plurality of Y electrodes intersecting the plurality of X electrodes and arranged at a predetermined arrangement pitch in a Y direction extending in the X direction. As the transparent substrate 11 , a transparent substrate such as glass or heat-resistant transparent plastic may be used. The plurality of X electrodes 12X and the plurality of Y electrodes 12Y are formed of a material having high transmittance, for example, a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide).

복수의 X 전극들(12X)과 복수의 Y 전극들(12Y)은, 이면(11b) 측의 동일면에 형성된 복수의 투명 전극들(12), X 전극(12X)과 Y 전극(12Y)이 절연부(13)를 통해 상호 교차하는 교차부(14)에서 인접한 X 전극(12X) 또는 인접한 Y 전극(12Y)의 투명 전극(12) 중 하나를 입체적으로 연결하는 점퍼선(15)을 가진다.The plurality of X electrodes 12X and the plurality of Y electrodes 12Y are insulated from the plurality of transparent electrodes 12 formed on the same surface of the rear surface 11b side, the X electrode 12X and the Y electrode 12Y A jumper wire 15 is provided that three-dimensionally connects one of the transparent electrodes 12 of the adjacent X electrode 12X or the adjacent Y electrode 12Y at the intersection 14 that crosses each other through the portion 13 .

복수의 Y 전극들(12Y) 및 X 전극들(12X)이 배치된 영역이 유효 터치 영역(16)이며, 이 유효 터치 영역(16)의 주위의는 도 1에 나타낸 것과 같이 복수의 Y 전극들 각각과, 복수의 X 전극들 각각으로부터 배선을 종횡 방향의 주변부로 이끌어 단자(도시되지 않음)에 이르는 복수의 배선부(17)가 배치되어 있다.An area in which the plurality of Y electrodes 12Y and X electrodes 12X are disposed is an effective touch area 16, and the periphery of the effective touch area 16 is a plurality of Y electrodes as shown in FIG. and a plurality of wiring portions 17 from each of the plurality of X electrodes leading to a peripheral portion in the longitudinal and lateral directions leading to a terminal (not shown).

복수의 X 전극들 각각은, 세선부(12Xa)와 이 세선부(12Xa)의 폭 보다 넓은 폭의 패드부(12Xb)가, Y 방향에 교대로 복수 배치된 전극 패턴으로 형성되어 있다. 복수의 Y 전극들 각각은 세선부(12Ya)와 이 세선부(12Ya)의 폭 보다 넓은 폭의 패드부(12Yb)가, X 방향에 교대로 복수 배치된 전극 패턴으로 형성되어 있다.Each of the plurality of X electrodes is formed in an electrode pattern in which a thin wire portion 12Xa and a pad portion 12Xb having a width wider than the width of the thin wire portion 12Xa are alternately arranged in the Y direction. Each of the plurality of Y electrodes is formed in an electrode pattern in which a thin wire portion 12Ya and a pad portion 12Yb having a width wider than the width of the thin wire portion 12Ya are alternately arranged in the X direction.

평면적으로 볼 때, Y 전극(12Y)의 패드부(12Yb)는 인접한 2 개의 X 전극들(12X)의 세선부(12Xa) 사이에 배치되고, X 전극(12X) 패드부(12Xb)는 인접한 2 개의 Y 전극들(12Y)의 세선부(12Ya) 사이에 배치되어 있다.In a plan view, the pad portion 12Yb of the Y electrode 12Y is disposed between the thin wire portions 12Xa of two adjacent X electrodes 12X, and the pad portion 12Xb of the X electrode 12X is adjacent to two adjacent X electrodes 12X. It is disposed between the thin wire portions 12Ya of the Y electrodes 12Y.

또한 절연부(13)는 예를 들어, SiO, SiN, SiON 또는 수지로 이루어진 막으로 구성된다.Further, the insulating portion 13 is made of, for example, a film made of SiO, SiN, SiON, or a resin.

교차부(14)에서 Y 전극(12Y)의 세선부(12Ya)인 점퍼선(15)과 배선부(배선, 17)는 도 1 내지 도 3에 나타낸 것과 같이, 동일한 구성의 다층 구조로되어 투명 전극(12)과 절연부(13)의 계면에서 시인 측으로부터 볼 때의 반사율을 작게하여 반사 특성을 최적화함과 동시에 점퍼선(15) 및 배선부 (17)의 전도성을 크게 한다.In the intersection portion 14, the jumper wire 15 and the wiring portion (wiring) 17, which are the thin wire portions 12Ya of the Y electrode 12Y, have a multilayer structure having the same configuration as shown in Figs. At the interface between the electrode 12 and the insulating portion 13 , the reflectance when viewed from the viewer is reduced to optimize the reflection characteristics and increase the conductivity of the jumper wire 15 and the wiring portion 17 .

점퍼선(15)은 도 4와 같이 투명 기판(11) 측으로부터 순서대로 아래의 몰리브덴 - 니오브 산화물 적층막(제 1 층, M1), 위의 몰리브덴 - 니오브 산화물 적층막 (제 2 층, M2), 알루미늄 - 네오디뮴 막 (제 3 층, A3), 몰리브덴 - 니오브 막(제 4 층, M4)을 적층한 구조일 수 있다.The jumper line 15 is sequentially from the transparent substrate 11 side as shown in FIG. 4 , the lower molybdenum-niobium oxide laminate film (first layer, M1), and the upper molybdenum-niobium oxide laminate film (second layer, M2) , an aluminum-neodymium film (third layer, A3), and a molybdenum-niobium film (fourth layer, M4) may have a laminated structure.

제 1 층(M1) 및 제 2 층(M2)은, 예를 들어 몰리브덴으로 동일한 금속 산화물인 제 1 및 제 2 금속 산화막으로 이루어지고, 제 1 층(M1) 및 제 2 층(M2)가 니오브를 1 atm% 내지 15 atm% 함유한다. 제 1 층(M1) 및 제 2 층(M2)에 있어서, 제 1 층(M1)의 굴절률이 제 2 층(M2) 보다 낮아지는 것과 함께, 제 1 층(M1)의 산소 함유율은 제 2 층(M2)보다 높고, 제 1 층(M1)의 비저항은 제 2 층(M2) 보다 높아진다.The first layer M1 and the second layer M2 consist of first and second metal oxide films which are the same metal oxide, for example molybdenum, and the first layer M1 and the second layer M2 are made of niobium. 1 atm% to 15 atm%. In the first layer M1 and the second layer M2, the refractive index of the first layer M1 is lower than that of the second layer M2, and the oxygen content of the first layer M1 is lower than that of the second layer. (M2), and the resistivity of the first layer (M1) is higher than that of the second layer (M2).

제 1 층(M1) 및 제 2 층(M2)에 있어서는, 복소 굴절률을 m = n-ik (n은 굴절률, k는 소쇠 계수)로 정의했을 때, 제 1 층(M1)을 구성하는 제 1 금속 산화막에 있어서,In the first layer M1 and the second layer M2, when the complex refractive index is defined as m = n-ik (n is the refractive index, k is the extinction coefficient), the first layer constituting the first layer M1 In the metal oxide film,

2.0 ≤ n1 ≤ 2.22.0 ≤ n1 ≤ 2.2

0.015 ≤ k1 ≤ 0.10.015 ≤ k1 ≤ 0.1

제 2 층(M2)을 구성하는 제 2 금속 산화막에 있어서,In the second metal oxide film constituting the second layer (M2),

2.5 ≤ n2 ≤ 3.82.5 ≤ n2 ≤ 3.8

0.3 ≤ k2 ≤ 3.00.3 ≤ k2 ≤ 3.0

이다.am.

제 3 층(A3)은 알루미늄 또는 또는 네오디뮴(Nd)을 함유하는 알루미늄 합금으로 이루어질 수 있다.The third layer A3 may be made of aluminum or an aluminum alloy containing neodymium (Nd).

제 4 층(M4)이 제 1 층(M1) 및 제 2 층(M2)과 같은 금속인 막으로서, 몰리브덴 또는 몰리브덴 합금으로 이루어질 수 있다.The fourth layer M4 is a film made of the same metal as the first layer M1 and the second layer M2, and may be formed of molybdenum or a molybdenum alloy.

점퍼선(15)의 막 구성을 이와 같이 하여 빛의 간섭 효과에 의해 시인 측에서 볼 때의 반사율을 줄이는 것도 달성할 수 있다.By making the film configuration of the jumper wire 15 in this way, it is also possible to reduce the reflectance when viewed from the viewer side by the interference effect of light.

여기서, 각 막들(M1, M2, A3, M4)의 막 두께 등의 특성으로는, 하나의 예에서 다음과 같이 되도록 설정할 수 있다. 또한, 여기에서 적층된 점퍼선(15)의 전기 특성으로서는 시트 저항 Rs [Ω / □]을 나타낸다. 또한, 각층의 막 두께로 도 4에 기재된 값의 ±10%의 범위로 할 수 있다. 또한, 제 1 층(M1): 20nm 내지 40nm, 제 2 층(M2): 40nm 내지 50nm로 할 수 있다.Here, the characteristics such as the film thickness of each of the films M1, M2, A3, and M4 may be set as follows in one example. In addition, as an electrical characteristic of the jumper wire 15 laminated|stacked here, the sheet resistance Rs [Ω/□] is shown. Moreover, it can be set as the range of +/-10% of the value described in FIG. 4 with the film thickness of each layer. In addition, the first layer (M1): 20 nm to 40 nm, the second layer (M2): 40 nm to 50 nm.

도 4는 본 실시예에서 점퍼선(15)의 실제 막 구성예를 나타낸 것이고, 시트 저항 평가 및 반사율 평가를 나타내는 개념도이다.Fig. 4 shows an example of an actual film configuration of the jumper wire 15 in this embodiment, and is a conceptual diagram showing evaluation of sheet resistance and evaluation of reflectance.

Figure 112015005702194-pat00001
Figure 112015005702194-pat00001

또한, 본 실시예의 점퍼선(15)에서 사용하는 구체적인 막으로 아래의서 위로 몰리브덴 - 니오브 산화물 적층막들(M1, M2), 알루미늄 - 네오디뮴 막(도전막, A3), 몰리브덴 - 니오브 막(M4)이 표 1의 조성·두께에 한정되는 것은 아니지만, 금속 산화층들(M1, M2)과 보호 금속층(M4)은 공통된 금속을 기반으로 사용하는 것이 제조상 바람직하다.In addition, specific films used in the jumper wire 15 of this embodiment are molybdenum-niobium oxide stacked films (M1, M2), aluminum-neodymium film (conductive film, A3), molybdenum-niobium film (M4) from bottom to top. ) is not limited to the composition and thickness of Table 1, but it is preferable in terms of manufacturing that the metal oxide layers M1 and M2 and the protective metal layer M4 are based on a common metal.

본 실시예에서, 이러한 다층막 형성을 스퍼터링법으로 할 경우, 스퍼터 타겟을 몰리브덴 - 니오브, 알루미늄 - 네오디뮴의 2원으로 준비하여 산화막의 성막시에는, 소정량의 산소 가스와 아르곤 등의 불활성 가스를 도입하는 반응성 스퍼터링을 통해, 소스 전원을 증결하지 않고 가능하다.In this embodiment, when forming such a multilayer film by the sputtering method, a sputter target is prepared with a binary component of molybdenum-niobium and aluminum-neodymium, and a predetermined amount of oxygen gas and an inert gas such as argon are introduced when forming an oxide film. Through reactive sputtering, it is possible without increasing the source power.

도 5는 본 실시예에서 금속 산화막들(M1, M2)의 스퍼터 성막에서 산소 유량비의 변화에 대한 비저항 및 성막 속도 변화를 동시에 나타내는 그래프이다.5 is a graph simultaneously showing a change in resistivity and deposition rate with respect to a change in an oxygen flow rate in sputter deposition of the metal oxide films M1 and M2 in the present embodiment.

본 실시예의 점퍼선(15)에서는 도 5와 같이 위의 몰리브덴 - 니오브 산화물 적층막(M2)에 아래의 몰리브덴 - 니오브 산화물 적층막(M1)에 있어서 비저항이 커지도록 구성되어 있다. 구체적으로, 아래의 몰리브덴 - 니오브 산화물 적층막(M1)을 스퍼터링에 의해 성막할 때, 투명 기판(11) 측으로부터 아래의 몰리브덴 - 니오브 산화물 적층막(M1)을 소정 두께까지 성막한 후, 도 5에 나타낸 것과 같이 공급 산소 가스의 유량을 작게하여 성막 속도를 증가시키고, 위의 몰리브덴 - 니오브 산화물 적층막(M2)을 소정 두께까지 성막한다. 여기에서 공급하는 산소 가스 유량비에 역치 SO가 존재하며, 이 역치 SO를 경계로 성막되는 막의 비저항 및 성막 속도가 변화한다.In the jumper wire 15 of this embodiment, as shown in FIG. 5, the resistivity of the molybdenum-niobium oxide laminate film M2 below and the molybdenum-niobium oxide laminate film M1 below are configured to increase as shown in FIG. Specifically, when the lower molybdenum-niobium oxide laminate film M1 is formed by sputtering, the lower molybdenum-niobium oxide laminate film M1 is formed from the transparent substrate 11 side to a predetermined thickness, and then, FIG. 5 As shown in , the flow rate of the supplied oxygen gas is decreased to increase the deposition rate, and the above molybdenum-niobium oxide stacked film M2 is formed to a predetermined thickness. Threshold SO exists in the oxygen gas flow rate ratio supplied here, and the specific resistance of the film|membrane formed into a film and the film-forming speed|rate change with this threshold SO as a boundary.

* 역치 SO 보다 산소 가스 유량비가 작은 경우에는 성막 속도가 높고 비저항은 작다.* When the oxygen gas flow rate ratio is smaller than the threshold SO, the film formation rate is high and the specific resistance is small.

* 역치 SO 보다 산소 가스 유량비가 큰 경우에는 성막 속도가 낮고 비저항이 매우 크다.* When the oxygen gas flow rate ratio is larger than the threshold SO, the film formation rate is low and the specific resistance is very large.

구체적으로, 아래의 몰리브덴 - 니오브 산화 적층막(M1)의 성막에 있어서, 성막 조건 중 가스 유량은 아르곤 : 산소 유량을 200 : 120 (sccm)으로 하고, 이 상태에서 위의 몰리브덴 - 니오브 산화 적층막(M2)의 성막에 있어서는, 200 : 80 (sccm)으로 변화시키는 것이 바람직하다.Specifically, in the film formation of the molybdenum-niobium oxide laminate film M1 below, the gas flow rate among the film formation conditions is argon: oxygen flow rate of 200: 120 (sccm), and in this state, the molybdenum-niobium oxide laminate film above is formed in this state. In the film formation of (M2), it is preferable to change it to 200:80 (sccm).

또한, 본 실시예에서는, 아래의 몰리브덴 - 니오브 산화 적층막(제 1 층, M1)과 위의 몰리브덴 - 니오브 산화 적층막 (제 2 층, M2)의 비저항이 투명 전극(12)에 연결되는 쪽으로부터 알루미늄 - 네오디뮴 막(제 3 층, A3) 측으로 연속적으로 저하하도록 구성되어 있을 수 있고, 이 경우 두 개의 다른 비저항 값을 가지지 않아도, 비저항이 두께에 따라 연속적으로 변화하도록 구성 할 수도 있다.In addition, in this embodiment, the resistivity of the lower molybdenum-niobium oxide stacked film (first layer, M1) and the upper molybdenum-niobium oxide stacked film (second layer, M2) is connected to the transparent electrode 12 . It may be configured to continuously decrease from the aluminum-neodymium film (third layer, A3) side.

본 실시예의 터치 패널 제조 방법의 하나의 구체적인 예를 설명한다.One specific example of the touch panel manufacturing method of this embodiment will be described.

본 실시예의 터치 패널 제조 방법은 투명 기판(11)에 센서 도전막 패턴인 투명 전극(12)을 형성하는 공정, 절연부(13)를 형성하는 공정, 점퍼선(15)과 배선부(17)를 일괄하여 형성하는 공정을 가진다.The touch panel manufacturing method of this embodiment includes a process of forming a transparent electrode 12 , which is a sensor conductive film pattern, on a transparent substrate 11 , a process of forming an insulating part 13 , a jumper wire 15 and a wiring part 17 . It has a process of collectively forming.

또한, 본 실시예의 터치 패널 제조 방법은 점퍼선(15)과 배선부(17)를 일괄하여 형성하는 공정, 절연부(13)를 형성하는 공정, 투명 전극(12)을 형성하는 공정을, 이 순서대로 수행할 수 있다.In addition, the touch panel manufacturing method of this embodiment includes the steps of collectively forming the jumper wire 15 and the wiring portion 17, the step of forming the insulating portion 13, and the step of forming the transparent electrode 12, can be done in order.

또한, 터치 패널의 제조 방법의 다른 구체적인 예에서는, 배선부(17)를 패턴 형성하는 공정, 투명 전극(12)을 형성하는 공정, 절연부(13)를 형성하는 공정, 점퍼선(15)을 형성하는 공정을 가질 수 있다.Further, in another specific example of the manufacturing method of the touch panel, the step of pattern forming the wiring portion 17, the step of forming the transparent electrode 12, the step of forming the insulating portion 13, the jumper wire 15 is It may have a forming process.

또한, 이러한 방법은 최종 공정으로 투명 수지 등에 의해 전면적으로 균일한 보호막(13A)을 도포 형성할 수 있다.In addition, in this method, as a final process, a uniform protective film 13A can be formed over the entire surface by using a transparent resin or the like.

본 실시예의 터치 패널 제조 방법을 보다 구체적으로 설명하면, (a) 센서 전극인 투명 전극(12) 패턴을, 예를 들면 ITO 성막 후에, 이전 공정의 패턴 위치와 맞추는 것을 전제로, 포토 리소그래피법에 따른 포토 레지스트 패터닝을 수행하고, 그 후 에칭과 잔류 레지스트 제거를 거쳐 형성한다. 다음으로, (b) 절연부(13)를 형성하기 위한 감광성 수지 재료를 도포하고, 포토 리소그래피법에 의해 교차부(14)와 위치를 맞추어 패턴을 형성한다. 다음으로, (c) 점퍼선(15)과 배선부(17)를 구성하기 위하여 전술한 동일한 구성의 다층 성막을 수행하고, 포토 레지스트의 도포, 노광, 현상을 포함한 포토 리소그래피법, 그 후에 에칭, 및 잔류 레지스트 제거를 거쳐 일괄 형성할 수 있다.The touch panel manufacturing method of this embodiment will be described more specifically, (a) on the premise that the pattern of the transparent electrode 12, which is a sensor electrode, is aligned with the position of the pattern in the previous step after, for example, ITO film formation, in the photolithography method. A photoresist patterning process is performed according to the pattern, and thereafter, etching and residual resist removal are performed to form it. Next, (b) a photosensitive resin material for forming the insulating portion 13 is applied, and a pattern is formed in alignment with the intersection portion 14 by a photolithography method. Next, (c) performing multilayer film formation of the same configuration as described above to configure the jumper wire 15 and the wiring portion 17, a photolithography method including application of a photoresist, exposure, and development, followed by etching, And it can be collectively formed by removing the residual resist.

도 6은 본 발명의 하나의 실시예에 따른 터치 패널 다층막의 저반사율화의 효과를 종래예와 비교하기 위한 분광 반사율 측정 결과의 그래프이다.6 is a graph of spectral reflectance measurement results for comparing the effect of lowering the reflectance of the touch panel multilayer film according to an embodiment of the present invention with a conventional example.

분광 반사율의 측정은 시판 분광 광도계를 이용하여 가능하다. 측정은 도 4에 나타낸 것과 같이 광원(흑백 미터, L1)으로부터 분광된 조사광이 측정시료막에 조사되어 경면반사된 빛을 측정기 LS에서 수광하여 빛의 강도를 측정한다. 흑백 미터(L1)에서의 분광조사광의 파장을 연속적으로 변화시켜 분광 반사율을 측정한다.Measurement of spectral reflectance is possible using a commercially available spectrophotometer. As shown in FIG. 4, the irradiated light that is spectralized from the light source (monochrome meter, L1) is irradiated to the measurement sample film, and the specularly reflected light is received by the measuring device LS to measure the light intensity. The spectral reflectance is measured by continuously changing the wavelength of the spectral irradiation light from the monochrome meter L1.

여기서 측정의 레퍼런스를 절대 반사율이 알려진 소정의 막으로 한다. 즉, 이후 각 시료의 100%의 기준을 예를 들어 알루미늄 단층막으로 얻은 강도를 알려진 절대 반사율로 나눈 값으로 한다.Here, the reference of the measurement is a given film with known absolute reflectance. That is, the standard of 100% of each sample is set as a value obtained by dividing the intensity obtained with, for example, an aluminum monolayer by the known absolute reflectance.

다음으로, 도 4에 나타낸 것과 같이, 다층막의 예로는 투명 기판(글라스, 11)에 알루미늄 - 네오디뮴 막, 몰리브덴 - 니오브 막으로 이루어진 다층막을 성막하고, 투명 기판(11)의 성막면과 반대쪽 측면으로부터 알루미늄 - 네오디뮴 막, 몰리브덴 - 니오브 막으로 이루어진 다층막의 분광 반사율 측정을 수행한다. 이 결과를 도 6에 일점 쇄선으로 나타낸다.Next, as shown in FIG. 4 , as an example of the multilayer film, a multilayer film consisting of an aluminum-neodymium film and a molybdenum-niobium film is formed on a transparent substrate (glass 11), and from the side opposite to the film-forming surface of the transparent substrate 11 Spectral reflectance measurement of a multilayer film composed of an aluminum-neodymium film and a molybdenum-niobium film is performed. This result is shown by the dashed-dotted line in FIG.

다음으로, 투명 기판(11)에 몰리브덴 산화막, 알루미늄 막, 몰리브덴 막으로 이루어진 다층막을 마찬가지로 성막하여, 투명 기판(11)의 성막되어 있지 않은 측면에서 몰리브덴 산화막, 알루미늄 막, 몰리브덴 막으로 이루어진 다층막의 분광 반사율을 측정한다. 이 결과를 도 6에 점선으로 나타낸다.Next, a multilayer film composed of a molybdenum oxide film, an aluminum film, and a molybdenum film is similarly formed on the transparent substrate 11 , and the multilayer film consisting of a molybdenum oxide film, an aluminum film, and a molybdenum film is spectroscopy from the non-filmed side of the transparent substrate 11 . Measure the reflectance. This result is shown by a dotted line in FIG.

그리고, 본 발명의 하나의 실시예에 따른 터치 패널의 다층막의 예로서 투명 기판(11) 아래의 몰리브덴 - 니오브 산화 적층막(M1), 위의 몰리브덴 - 니오브 산화 적층막(M2), 알루미늄 - 네오디뮴 막(A3), 몰리브덴 - 니오브 막(M4)으로 이루어진 다층막을 성막하고, 투명 기판(11)의 성막되어 있지 않은 면으로부터 아래의 몰리브덴 - 니오브 산화 적층막(M1), 위의 몰리브덴 - 니오브 산화 적층막(M2), 알루미늄 - 네오디뮴 막(A3), 몰리브덴 - 니오브 막(M4)으로 이루어진 다층막의 분광 반사율을 측정한다. 이 결과를 도 6에 실선으로 나타낸다.And, as an example of the multilayer film of the touch panel according to an embodiment of the present invention, a molybdenum-niobium oxide laminate film (M1) under the transparent substrate 11, a molybdenum-niobium oxide laminate film (M2) above, aluminum-neodymium A multilayer film composed of a film A3 and a molybdenum-niobium film M4 is formed, and from the non-filmed side of the transparent substrate 11, a molybdenum-niobium oxide laminate film M1 below, and a molybdenum-niobium oxide laminate above The spectral reflectance of the multilayer film composed of the film (M2), the aluminum-neodymium film (A3), and the molybdenum-niobium film (M4) is measured. This result is shown by a solid line in FIG.

도 6에 나타낸 것과 같이, 본 실시예를 구성하는 다층막은 종래의 다층막과 비교하여, 측정 파장 380 nm 내지 780 nm가 되는 가시광 영역의 전역에서 반사율을 10% 이하로 억제하는 것과 동시에, 가시광선 영역의 전역에서 반사율을 거의 균일한 값으로 할 수 있다. 일본국 특개 2013-020347 호 공보에서는 파장 400 nm 미만의 자외선 영역의 측정 결과는, 본 측정 결과에 대해 정확한 값을 나타내지 않기 위하여 참조하지 않는다고 하고 있지만, 본 실시예에서는, 측정 파장 380 nm 내지 780 nm가 되는 가시광의 거의 전역에서 반사율을 5% 내지 8 %의 범위로 할 수 있었다.As shown in Fig. 6, the multilayer film constituting the present embodiment suppresses the reflectance to 10% or less in the entire visible light region where the measurement wavelength is 380 nm to 780 nm, compared with the conventional multilayer film, and at the same time, the visible light region It is possible to make the reflectance almost uniform over the entire area of . In Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-020347, measurement results in the ultraviolet region with a wavelength of less than 400 nm are not referred to in order not to show an accurate value for the measurement results. The reflectance was able to be in the range of 5% to 8% in almost the entire visible light range.

도 7, 도 8은 본 발명의 하나의 실시예에 따른 터치 패널의 다층막에서 소망하는 반사율을 실현하기 위한 제 1 층 및 제 2 층의 막 두께를 규정하기 위한 시뮬레이션 결과를 나타낸 CIELAB 색 공간 그래프이다.7 and 8 are CIELAB color space graphs showing simulation results for defining the film thicknesses of the first layer and the second layer for realizing a desired reflectivity in a multilayer film of a touch panel according to an embodiment of the present invention; .

550 nm에서의 반사율(R%): 6% 이하, 색도 좌표 a*: - 5 내지 5, b*: - 5 내지 5를 충족 막 두께 범위로, 제 1 층을 도 7에 나타낸 것과 같이, MoNbOx1 두께 범위: 20 nm 내지 40 nm (표준 조건: 35 nm), 제 2 층은 도 8에 나타낸 것과 같이, MoNbOx2 두께 범위: 40 nm 내지 50 nm (표준 조건: 45 nm)로 할 수 있다. 여기서 CIELAB 색 공간 (정확하게는 CIE1976L*a*b* 색 공간)은 L*, a*, b*의 세 축 중 L*가 명도를 나타내며 a*와 b*는 적녹, 청황 방향의 색을 나타내고 있다.Reflectance (R%) at 550 nm: 6% or less, chromaticity coordinates a*: - 5 to 5, b*: In a film thickness range that meets - 5 to 5, the first layer is MoNbOx1 as shown in Figure 7, Thickness range: 20 nm to 40 nm (standard condition: 35 nm), the second layer can be MoNbOx2 thickness range: 40 nm to 50 nm (standard condition: 45 nm), as shown in FIG. 8 . Here, in the CIELAB color space (CIE1976L*a*b* color space to be more precise), among the three axes L*, a*, and b*, L* represents the lightness, and a* and b* represent the colors in the red, green, and blue-yellow directions. .

이에 대해, 도 6에 나타낸 종래예에서는, L*: 35, a*: 0.54, b*: -13.5, (청색)이 있었다.On the other hand, in the conventional example shown in FIG. 6, there were L*: 35, a*: 0.54, b*: -13.5, (blue).

이 결과로부터, 색조가 종래예에서는 색도 좌표 a*: - 5 내지 5, b*: - 5 내지 5에서 벗어나 있었던 반면에, 본 발명의 하나의 실시예에 따른 터치 패널의 다층막에서는 색감이 변조되지 않았음을 알 수 있다.From this result, while the color tone deviates from the chromaticity coordinates a*: - 5 to 5, b*: - 5 to 5 in the conventional example, the color is not modulated in the multilayer film of the touch panel according to one embodiment of the present invention. It can be seen that it was not

다음으로, 본 발명의 하나의 실시예에 따른 터치 패널의 다층막을 종래의 다층막과 종합적으로 비교한 결과를 표 2에 나타낸다. 각 평가 항목별로 판정 기준에 대해 양부 판정을 ○ (OK) / × (NG)로 표에 나타낸다. 본 발명의 하나의 실시예에 따른 터치 패널의 다층막이 가시광선의 380 nm 내지 780 nm의 파장 영역 전역의 반사율에서 종래의 다층막보다 현저한 개선을 나타내는 한편, 에칭 시간, 시트 저항값, 기질과의 밀착성의 여러 항목에 관해서는, 동등하다는 것을 알 수 있다.Next, Table 2 shows the results of comprehensive comparison of the multilayer film of the touch panel according to an embodiment of the present invention with the conventional multilayer film. For each evaluation item, for each evaluation item, the judgment of good or bad is shown in the table by ○ (OK) / × (NG). While the multilayer film of the touch panel according to one embodiment of the present invention shows a significant improvement over the conventional multilayer film in reflectance across the wavelength region of 380 nm to 780 nm of visible light, etching time, sheet resistance, and adhesion to the substrate As for several items, it can be seen that they are equivalent.

Figure 112015005702194-pat00002
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상기 본 발명의 실시예에 의하면, 투명 기재와 다층 배선 패턴의 계면을 간단한 방법으로 저반사율화하는 것과 동시에, 가시광선 영역에서 반사율의 균일성을 향상하여, 시인 측에서의 배선 패턴에 대한 가시성을 줄일 수 있다. 같은 방책에 의해, 다른 전자 부품 등의 표시 성능에 관련된 특성 품질을 높이는 것이 용이할 것으로 생각된다. 예를 들어, 투명 도전막을 보다 저저항화 하기 위한 금속층을 포함하는 보조 배선 패턴의 가시성을 향상시킬 수 있다. 또한 일반적으로 표시 장치에 관련된 배선을 비롯해 전자 부품의 각종 배선 패턴에 금속층을 적용할 수 있는 범위를 확대할 수 있으며, 제품 설계의 자유도를 대폭 향상시킬 수 있다.According to the embodiment of the present invention, the interface between the transparent substrate and the multilayer wiring pattern can be made low in reflectance by a simple method, and at the same time, the uniformity of the reflectance in the visible ray region can be improved, thereby reducing the visibility of the wiring pattern from the viewer side. have. It is thought that it will be easy to improve the characteristic quality related to the display performance of another electronic component etc. by the same measure. For example, the visibility of the auxiliary wiring pattern including the metal layer for lowering the resistance of the transparent conductive layer may be improved. In addition, it is possible to expand the range of application of the metal layer to various wiring patterns of electronic components including wiring related to display devices in general, and it is possible to significantly improve the degree of freedom in product design.

10 ... 터치 패널
10A ... 조작면
11 ... 투명 기판
12 ... 투명 전극
12X ... X 전극
12Y ... Y 전극
12Xa, 12Ya ... 세선부
12Xb, 12Yb ... 패드부
13 ... 절연부
14 ... 교차부
15 ... 점퍼선
17 ... 배선부
M1 ... 아래의 몰리브덴 - 니오브 산화물 적층 막 (제 1 층)
M2 ... 위의 몰리브덴 - 니오브 산화물 적층 막 (제 2 층)
A3 ... 알루미늄 - 네오디뮴 막 (제 3 층)
M4 ... 몰리브덴 - 니오브 막 (제 4 층)
10 ... touch panel
10A ... operating surface
11 ... transparent substrate
12 ... transparent electrode
12X...X electrode
12Y ... Y electrode
12Xa, 12Ya ... fine wire
12Xb, 12Yb ... Pad part
13 ... insulation
14 ... intersection
15 ... jumper wire
17 ... wiring
Molybdenum-niobium oxide layered film under M1... (1st layer)
M2...Molybdenum-niobium oxide laminated film (2nd layer) above
A3...aluminum-neodymium film (3rd layer)
M4...Molybdenum-niobium film (4th layer)

Claims (10)

표시 패널상에 배치되고, 조작면을 만져서 조작되는 정전 용량 방식의 터치 패널로서,
투명 기판,
상기 투명 기판의 상기 조작면의 이면 측에 X 방향으로 형성된 복수의 X 전극들과, 상기 X 방향에 직교하는 Y 방향으로 형성된 복수의 Y 전극들을 가지고,
상기 복수의 X 전극들과 상기 복수의 Y 전극들이
상기 이면 측의 동일면에 형성된 복수의 투명 전극들,
상기 X 전극과 상기 Y 전극이 절연부를 통해 상호 교차하는 교차부에 인접한 상기 X 전극의 투명 전극 또는 인접한 상기 Y 전극의 투명 전극 중 어느 하나를 입체적으로 접속하는 점퍼선을 가지고,
상기 점퍼선은 상기 투명 전극에 접속하는 제 1 층과 상기 제 1 층에 적층된 제 2 층을 가지고,
상기 제 1 층이 제 1 금속 산화막으로 이루어지고, 상기 제 2 층이 제 2 금속 산화막으로 이루어지며,
상기 제 1 층의 굴절률이 상기 제 2 층의 굴절률보다 낮은 것을 특징으로 하는 터치 패널.
A capacitive touch panel disposed on a display panel and operated by touching an operation surface, comprising:
transparent substrate,
Having a plurality of X electrodes formed in the X direction on the back side of the operation surface of the transparent substrate and a plurality of Y electrodes formed in a Y direction orthogonal to the X direction,
The plurality of X electrodes and the plurality of Y electrodes are
A plurality of transparent electrodes formed on the same side of the back side,
and a jumper wire that three-dimensionally connects either the transparent electrode of the X electrode or the transparent electrode of the adjacent Y electrode adjacent to the intersection where the X electrode and the Y electrode cross each other through an insulating part,
The jumper wire has a first layer connected to the transparent electrode and a second layer laminated on the first layer,
The first layer consists of a first metal oxide film, the second layer consists of a second metal oxide film,
A touch panel, characterized in that the refractive index of the first layer is lower than the refractive index of the second layer.
제 1 항에 있어서, 상기 제 1 층의 산소 함유율이 상기 제 2 층 보다 높은 것을 특징으로 하는 터치 패널.The touch panel according to claim 1, wherein the oxygen content of the first layer is higher than that of the second layer. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 1 층의 비저항이 상기 제 2 층 보다 높은 것을 특징으로 하는 터치 패널.The touch panel according to claim 1 or 2, wherein the resistivity of the first layer is higher than that of the second layer. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 1 층과 상기 제 2 층이 동일한 종류의 금속의 산화물인 것을 특징으로 하는 터치 패널.The touch panel according to claim 1 or 2, wherein the first layer and the second layer are oxides of the same type of metal. 제 4 항에 있어서, 상기 제 1 층과 상기 제 2 층은 니오브(Nb)를 1 atm% 내지 15 atm%로 함유하는 몰리브덴 합금 산화물인 것을 특징으로 하는 터치 패널The touch panel according to claim 4, wherein the first layer and the second layer are molybdenum alloy oxide containing niobium (Nb) in an amount of 1 atm% to 15 atm%. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 제 1 및 제 2 금속 산화막의 복소 굴절률을 m = n-ik (n은 굴절률, k는 소쇠 계수)로 정의했을 때,
상기 제 1 층을 구성하는 상기 제 1 금속 산화막에 있어서,
2.0 ≤ n1 ≤ 2.2
0.015 ≤ k1 ≤ 0.1이고,
상기 제 2 층을 구성하는 상기 제 2 금속 산화막에 있어서,
2.5 ≤ n2 ≤ 3.8
0.3 ≤ k2 ≤ 3.0
인 것을 특징으로 하며, 상기 n1 및 k1 은 각각 제 1 금속 산화막의 굴절률 및 소쇠 계수를 의미하고, 상기 n2 및 k2 는 각각 제 2 금속 산화막의 굴절률 및 소쇠 계수를 의미하는, 터치 패널.
3. The method according to claim 1 or 2,
When the complex refractive indices of the first and second metal oxide films are defined as m = n-ik (n is refractive index, k is extinction coefficient),
In the first metal oxide film constituting the first layer,
2.0 ≤ n1 ≤ 2.2
0.015 ≤ k1 ≤ 0.1,
In the second metal oxide film constituting the second layer,
2.5 ≤ n2 ≤ 3.8
0.3 ≤ k2 ≤ 3.0
, wherein n1 and k1 are the refractive index and extinction coefficient of the first metal oxide film, respectively, and n2 and k2 are the refractive index and extinction coefficient of the second metal oxide film, respectively.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 점퍼선은 상기 제 2 층에 적층된 제 3 금속막으로 이루어진 제 3 층을 가지는 것을 특징으로 하는 터치 패널.The touch panel according to claim 1 or 2, wherein the jumper wire has a third layer made of a third metal film laminated on the second layer. 제 7 항에 있어서, 상기 제 3 층이 알루미늄 또는 알루미늄 합금으로 이루어진 것을 특징으로 하는 터치 패널.The touch panel according to claim 7, wherein the third layer is made of aluminum or an aluminum alloy. 제 7 항에 있어서, 상기 점퍼선은 상기 제 3 층에 적층된 제 4 금속막으로 이루어진 제 4 층을 가지는 것을 특징으로 하는 터치 패널.The touch panel according to claim 7, wherein the jumper wire has a fourth layer formed of a fourth metal film laminated on the third layer. 제 9 항에 있어서, 상기 제 4 층이 몰리브덴 또는 몰리브덴 합금으로 이루어진 것을 특징으로 하는 터치 패널.The touch panel according to claim 9, wherein the fourth layer is made of molybdenum or a molybdenum alloy.
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