KR102327466B1 - Method for manufacturing a flexible display device - Google Patents

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Abstract

본 명세서는 표시장치의 제조방법을 개시한다. 상기 방법은 다수 개의 단위 표시패널 영역이 배치된 지지 기판의 일 면에, 각 단위 패널의 절단 예정선들 사이의 영역을 광 비투과성 물질로 패터닝하는 단계; 플렉서블(flexible) 재질의 모 기판의 제1 면을 상기 지지 기판의 패터닝 면과 합착하는 단계; 상기 모 기판의 제2 면에, 상기 단위 표시패널 영역마다 컬러 필터 층을 적층하는 단계; 상기 단위 표시패널의 경계선을 따라 절단 예정선을 긋는(scribing) 단계; 상기 지지 기판의 전체 영역에 레이저 광을 조사하여, 상기 지지 기판과 상기 모 기판을 분리하는 단계를 포함한다.The present specification discloses a method of manufacturing a display device. The method includes: patterning, on one surface of a support substrate on which a plurality of unit display panel areas are disposed, an area between the cut lines of each unit panel with a light non-transmissive material; bonding a first surface of a mother substrate made of a flexible material to a patterning surface of the support substrate; stacking a color filter layer on the second surface of the mother substrate for each area of the unit display panel; scribing a cut line along a boundary line of the unit display panel; and separating the support substrate from the mother substrate by irradiating laser light to the entire area of the support substrate.

Description

플렉서블 표시장치의 제조 방법{METHOD FOR MANUFACTURING A FLEXIBLE DISPLAY DEVICE}Method for manufacturing a flexible display device {METHOD FOR MANUFACTURING A FLEXIBLE DISPLAY DEVICE}

본 발명은 플렉서블 표시장치 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a flexible display device and a method for manufacturing the same.

휴대전화, 테블릿PC, 노트북 등을 포함한 다양한 종류의 전자제품에는 평판표시장치(Flat Panel Display, FPD)가 이용되고 있다. 평판 표시장치의 구체적인 예로는 액정 표시장치(Liquid Crystal Display device, LCD), 유기발광 표시장치(Organic Emitting Display Device, OLED), 플라즈마 표시장치(Plasma Display Panel device, PDP), 양자점 표시장치(Quantum Dot Display Device), 전계방출 표시장치(Field Emission Display device, FED), 전기영동 표시장치(Electrophoretic Display Device, EPD) 등을 들 수 있는데, 이들은 공통적으로 화상을 구현하는 평판 표시패널을 필수적인 구성요소로 하는 바, 평판 표시패널은 고유의 발광 또는 편광 혹은 그 밖의 광학 물질층을 사이에 두고 한 쌍의 투명 절연기판을 대면 합착시킨 구성을 갖는다.Flat panel displays (FPDs) are used in various types of electronic products, including mobile phones, tablet PCs, and notebook computers. Specific examples of the flat panel display device include a liquid crystal display device (LCD), an organic light emitting display device (OLED), a plasma display panel device (PDP), and a quantum dot display device (Quantum Dot). display device), field emission display device (FED), electrophoretic display device (EPD), etc., which in common use a flat panel display panel that implements an image as an essential component. However, the flat panel display panel has a structure in which a pair of transparent insulating substrates face to face with each other with a unique light emitting or polarized light or other optical material layer interposed therebetween.

상기와 같은 평판 표시장치는 일반적으로 대규모 집적회로 등의 반도체 칩(chip)과 같이 취성기판 상에 다수 개를 매트릭스 모양으로 형성되어 기판을 각 소자 단위로 절단 분리하는 공정을 거쳐 제조된다.The flat panel display device as described above is generally manufactured through a process in which a plurality of pieces are formed in a matrix shape on a brittle substrate like a semiconductor chip such as a large-scale integrated circuit, and the substrate is cut and separated in units of devices.

글라스(glass), 실리콘(silicon), 세라믹(ceramic) 등의 취성기판의 절단분리에 사용되는 방법으로서는, 기판을 고속으로 회전하는 50~200㎛ 정도 두께의 다이아몬드 블레이드(diamond blade)에 의하여 절삭하고 기판에 절단용 홈을 형성하는 다이싱(dicing)과, 0.6~2㎜정도의 두께를 갖는 다이아몬드로 만든 스크라이빙 휠(scribing wheel)에 의하여 기판의 표면에 절단홈을 형성하여 기판의 두께 방향으로 크랙(crack)을 발생시키는 스크라이빙(scribing)의 2가지 방법이 대표적이다.As a method used for cutting and separating brittle substrates such as glass, silicon, ceramic, etc., the substrate is cut by a diamond blade with a thickness of about 50 to 200 μm rotating at high speed and The thickness direction of the substrate by dicing to form a cutting groove on the substrate and a scribing wheel made of diamond having a thickness of about 0.6 to 2 mm to form a cutting groove on the surface of the substrate Two methods of scribing that generate cracks with

먼저, 상기 다이싱은 매우 얇은 블레이드를 이용하는 것이기 때문에, 표면에 박막이나 볼록부가 형성된 기판을 절단하는 데에도 적합하다. 그런데 다이싱에 있어서는, 블레이드가 절삭하고 있는 영역에서 마찰열이 발생하고, 절삭은 이 영역에 냉각수를 공급하면서 이루어지기 때문에 금속 전극층 및 금속 단자 등의 금속 부분을 포함하고 있는 평판 표시장치에 있어서는 바람직한 방법이라고는 할 수 없다. 즉, 다이싱에 의한 경우에는, 다이싱을 한 후에 냉각수의 제거에 완전을 기하는 것이 실제로는 어렵고, 냉각수의 제거가 불완전하여 잔류수분이 있으면 평판 표시장치의 금속 부분에 부식이 발생할 우려가 있다. 또한, 다이싱은 스크라이빙에 비하여 절단시간이 길고 나아가서는 생산성이 좋지 않다는 문제도 있다.First, since the dicing uses a very thin blade, it is also suitable for cutting a substrate having a thin film or a convex portion formed on its surface. However, in dicing, frictional heat is generated in the area where the blade is being cut, and the cutting is performed while supplying cooling water to this area. It cannot be said that That is, in the case of dicing, it is actually difficult to completely remove the cooling water after dicing, and if there is residual water due to incomplete removal of the cooling water, corrosion may occur on the metal part of the flat panel display. . In addition, dicing has a problem in that the cutting time is longer than that of scribing, and furthermore, productivity is not good.

이에 대하여 스크라이빙은 냉각수가 일체 불필요하기 때문에 다이싱에 의한 경우보다 제품의 수율이 좋고, 또한 절단 시간이 다이싱에 비하여 짧기 때문에 생산성에 있어서 우수하다는 이점을 가지고 있다. 하지만 플렉서블 기판이 사용되는 공정에서는 애시(ash)나 잔류물 처리를 효과적으로 수행하기 위한 개선책이 필요하다.On the other hand, since scribing does not require any cooling water, the yield of the product is better than that of dicing, and since the cutting time is shorter than that of dicing, it has the advantage of being excellent in productivity. However, in a process in which a flexible substrate is used, improvement measures are needed to effectively perform ash or residue treatment.

본 명세서의 목적은, 플렉서블 표시장치 및 그 제조 방법을 제공하는 데 있다. 보다 구체적으로 본 명세서는 모 기판에서 단위 표시패널을 효과적으로 분리하기 위한 제조 방법을 제공하는 데 그 목적이 있다.An object of the present specification is to provide a flexible display device and a method of manufacturing the same. More specifically, an object of the present specification is to provide a manufacturing method for effectively separating a unit display panel from a mother substrate.

본 명세서의 일 실시예에 따라 표시장치의 제조 방법이 제공된다. 상기 방법은 상기 방법은 다수 개의 단위 표시패널 영역이 배치된 지지 기판의 일 면에, 각 단위 패널의 절단 예정선들 사이의 영역을 광 비투과성 물질로 패터닝하는 단계; 플렉서블(flexible) 재질의 모 기판의 제1 면을 상기 지지 기판의 패터닝 면과 합착하는 단계; 상기 모 기판의 제2 면에, 상기 단위 표시패널 영역마다 컬러 필터 층을 적층하는 단계; 상기 단위 표시패널의 경계선을 따라 절단 예정선을 긋는(scribing) 단계; 상기 지지 기판의 전체 영역에 레이저 광을 조사하여, 상기 지지 기판과 상기 모 기판을 분리하는 단계를 포함한다.According to an embodiment of the present specification, a method of manufacturing a display device is provided. The method may include: patterning, on one surface of a support substrate on which a plurality of unit display panel areas are disposed, an area between the cut lines of each unit panel with a light non-transmissive material; bonding a first surface of a mother substrate made of a flexible material to a patterning surface of the support substrate; stacking a color filter layer on the second surface of the mother substrate for each area of the unit display panel; scribing a cut line along a boundary line of the unit display panel; and separating the support substrate from the mother substrate by irradiating laser light to the entire area of the support substrate.

본 명세서의 실시예에 의하면 플렉서블 기판과 지지 기판의 분리 후 잔류물에 의한 패널 오염을 막을 수 있다. 또한 본 명세서의 실시예에 따르면 단위 표시패널 외부 영역을 제거하는 공정을 간소화할 수 있고, 이 과정에서 표시패널에 가해지는 충격을 최소화할 수 있다.According to the embodiment of the present specification, it is possible to prevent panel contamination by residues after separation of the flexible substrate and the support substrate. In addition, according to the exemplary embodiment of the present specification, the process of removing the outer region of the unit display panel may be simplified, and the impact applied to the display panel during this process may be minimized.

도 1은 종래 기술에 따른 유기발광 표시장치의 제조방법을 나타낸 도면이다.
도 2는 본 명세서의 실시예에 따른 유기발광 표시장치의 평면도이다.
도 3은 본 명세서의 일 실시예에 따른 기판의 일 예시도이다.
도 4는 도 3에서 도시한 기판의 일 부분을 확대한 도면이다.
도 5는 본 명세서의 일 실시예에 따른 절단 예정선을 나타낸 도면이다.
도 6은 본 명세서의 실시예에 따른 표시장치의 제조 방법을 나타낸 흐름도이다.
1 is a diagram illustrating a method of manufacturing an organic light emitting display device according to the related art.
2 is a plan view of an organic light emitting display device according to an exemplary embodiment of the present specification.
3 is an exemplary view of a substrate according to an embodiment of the present specification.
FIG. 4 is an enlarged view of a portion of the substrate shown in FIG. 3 .
5 is a view showing a line to be cut according to an embodiment of the present specification.
6 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a display device according to an exemplary embodiment of the present specification.

본 명세서의 실시예를 설명하는 데 있어서, 제1, 제2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질, 차례, 순서 또는 개수 등이 한정되지 않는다. 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 "연결", "결합" 또는 "접속"된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되거나 또는 접속될 수 있지만, 각 구성 요소 사이에 다른 구성 요소가 "개재"되거나, 각 구성 요소가 다른 구성 요소를 통해 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 소자 또는 층이 다른 소자 또는 층 "위(on)"로 지칭되는 것은 다른 소자 바로 위에 또는 중간에 다른 층 또는 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다. 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 도시된 것이며, 본 발명이 도시된 구성의 크기 및 두께에 한정되는 것은 아니다.In describing the embodiments of the present specification, terms such as first, second, A, B, (a), (b), etc. may be used. These terms are only for distinguishing the elements from other elements, and the essence, order, order, or number of the elements are not limited by the terms. When it is described that a component is “connected”, “coupled” or “connected” to another component, the component may be directly connected or connected to the other component, but other components may be interposed between each component. It will be understood that each component may be “interposed” or “connected”, “coupled” or “connected” through another component. Reference to a device or layer “on” another device or layer includes any intervening layer or other device directly on or in the middle of another device. The size and thickness of each component shown in the drawings are shown for convenience of description, and the present invention is not limited to the size and thickness of the illustrated component.

본 명세서의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 당업자에 의해 기술적으로 다양한 연동 및 구동될 수 있으며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시되거나 또는 연관 관계로 함께 실시될 수도 있다.Each feature of the various embodiments herein may be partially or wholly combined or combined with each other, and may be technically various interlocking and actuation by those skilled in the art, and each embodiment may be implemented independently of each other or together in a related relationship. may be carried out.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 명세서의 실시예에 대해 상세히 설명한다. Hereinafter, embodiments of the present specification will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 종래 기술에 따른 유기발광 표시장치의 제조방법을 나타낸 도면이다.1 is a diagram illustrating a method of manufacturing an organic light emitting display device according to the related art.

상기 유기발광 표시장치는 상부기판(100), 컬러필터층(200). 유기발광층(300), 하부기판(150), 유리기판(400) 등을 포함하여 구성될 수 있다.The organic light emitting display device includes an upper substrate 100 and a color filter layer 200 . It may be configured to include an organic light emitting layer 300 , a lower substrate 150 , a glass substrate 400 , and the like.

상기 상부기판(100) 및 하부기판(150)은, 표시장치 셀(cell)의 기계적 구조를 형성하기 위한 판이며, 플렉서블 표시장치의 경우, 연성이 뛰어난 플라스틱 필름 등의 소재로 만들어진다.The upper substrate 100 and the lower substrate 150 are plates for forming a mechanical structure of a cell of a display device, and in the case of a flexible display device, they are made of a material such as a plastic film having excellent ductility.

상기 컬러필터층(200)은 상기 유기발광층(300)에서 방출된 빛을 이용하여 색상을 표현한다.The color filter layer 200 expresses a color using the light emitted from the organic light emitting layer 300 .

상기 유기발광층(300)은, 박막트랜지스터(TFT)층과 전계발광층으로 구성될 수 있다. 상기 박막트랜지스터층은 상기 하부 기판(150) 상에 형성되며, 데이터 전압을 화소 전극에 공급하는 스위치 소자들이 배열된 계층이다. 상기 박막트랜지스터 층의 일 측에는 패드(Pad)부가 위치할 수 있다. 패드부는 패널과 구동 집적회로(Driver IC) 사이의 신호 연결을 위해 형성된 연결부이다. 상기 전계발광층은 전기 에너지의 자극에 의해 빛을 외부로 방출하는 계층이며, 유기발광 표시장치의 경우 전기 자극에 의해 빛을 외부로 방출하는 유기물(organic) 소자가 상기 전계발광 층에 위치한다.The organic light emitting layer 300 may include a thin film transistor (TFT) layer and an electroluminescent layer. The thin film transistor layer is formed on the lower substrate 150 and is a layer in which switch elements supplying a data voltage to the pixel electrode are arranged. A pad part may be positioned on one side of the thin film transistor layer. The pad part is a connection part formed for signal connection between the panel and the driver IC. The electroluminescent layer is a layer that emits light to the outside by stimulation of electrical energy, and in the case of an organic light emitting display device, an organic element emitting light to the outside by electrical stimulation is located in the electroluminescent layer.

상기 유리기판(400)은 상부기판(100) 및 하부기판(150)에 부착되어 공정 과정 중에 각 기판을 지지한다. 상부기판(100) 및 하부기판(150)은 유리기판(400)에 부착되어 운반된다.The glass substrate 400 is attached to the upper substrate 100 and the lower substrate 150 to support each substrate during the process. The upper substrate 100 and the lower substrate 150 are attached to the glass substrate 400 and transported.

상기 유기발광 표시장치는 이하의 과정을 통하여 제작될 수 있다.The organic light emitting display device may be manufactured through the following process.

(a) 상부기판(100)의 일 면에 컬러필터층(200)이 형성되고, 각 셀의 경계선이 그어진다(스크라이빙). 상기 상부기판(100)은 유기기판(400)에 부착된다.(a) A color filter layer 200 is formed on one surface of the upper substrate 100, and a boundary line of each cell is drawn (scribing). The upper substrate 100 is attached to the organic substrate 400 .

(b) 상부기판(100)과, 일 면에 유기발광층(300)이 형성된 하부기판(150)이 서로 합착된다.(b) The upper substrate 100 and the lower substrate 150 on which the organic light emitting layer 300 is formed are bonded to each other.

(c) 상부기판(100)에 부착된 유리기판(400)이 레이저로 제거된다.(c) The glass substrate 400 attached to the upper substrate 100 is removed with a laser.

(d) 상부기판(100)에서 각 셀의 경계선 사이 영역은, 수작업으로 물리적인 힘을 가함으로써 제거된다. 이후 상부기판(100)은 각 셀로 잘라지고, 셀 별로 이후 공정이 진행된다.(d) The area between the boundary lines of each cell in the upper substrate 100 is removed by manually applying a physical force. Thereafter, the upper substrate 100 is cut into cells, and subsequent processes are performed for each cell.

상기 방식의 공정은, (d) 단계에서 상부기판에 충격이 가해지거나, 또는 잔류 애쉬(ash)가 발생되어, 패널 제작 수율이 저하되기도 하였다. 따라서 이러한 문제점을 해결할 방안이 요청된다.In the process of the above method, an impact was applied to the upper substrate in step (d), or residual ash was generated, thereby lowering the panel manufacturing yield. Therefore, a method to solve these problems is requested.

도 2는 본 명세서의 실시예에 따른 유기발광 표시장치의 평면도이다.2 is a plan view of an organic light emitting display device according to an exemplary embodiment of the present specification.

본 명세서에 따른 유기발광 표시장치는, 하부기판(SUB)과 배리어 필름(BF)을 포함한다. 배리어 필름(BF)과 하부기판(SUB)은 면 봉지재(PSA)를 매개로하여 서로 합착되어 있다. 배리어 필름(BF)은 하부기판(SUB)에 형성된 표시 소자들을 보호하기 위한 필름 소재로 제작된다.The organic light emitting diode display according to the present specification includes a lower substrate SUB and a barrier film BF. The barrier film BF and the lower substrate SUB are bonded to each other via a cotton encapsulant PSA. The barrier film BF is made of a film material for protecting display elements formed on the lower substrate SUB.

유기발광 표시장치는 표시 영역(AA)과 비표시 영역(NA)으로 구분된다. 표시 영역(AA)은 표시장치가 표현하는 비디오 정보를 직접 표시하는 영역으로 표시장치의 중앙부에 배치된다. 비표시 영역(NA)은 표시 영역(AA)의 주변에 배치되며 표시 기능을 하지 않는 대신에, 필요한 소자들이 배치되는 영역이다. 표시 영역(AA)에는 유기발광 다이오드와 이를 구동하기 위한 박막트랜지스터들이 형성되어 있다. 비표시 영역(NA)에는 표시 기능을 수행하는 데 필요한, 게이트 구동소자(GIP), 정방소자(EIP), 그리고 데이터 구동소자(DIC)들이 배치된다. 게이트 구동소자(GIP) 및 정방소자(EIP)는 표시 영역(AA)의 박막트랜지스터와 동시에 형성될 수 있다. 한편, 데이터 구동소자(DIC)는 표시장치의 일 측변에 부착될 수 있다.The organic light emitting diode display is divided into a display area AA and a non-display area NA. The display area AA is an area for directly displaying video information expressed by the display device, and is disposed in the center of the display device. The non-display area NA is disposed around the display area AA and does not perform a display function, but is an area in which necessary elements are disposed. An organic light emitting diode and thin film transistors for driving the organic light emitting diode are formed in the display area AA. In the non-display area NA, a gate driving device GIP, a square device EIP, and a data driving device DIC necessary to perform a display function are disposed. The gate driving device GIP and the square device EIP may be simultaneously formed with the thin film transistor of the display area AA. Meanwhile, the data driving device DIC may be attached to one side of the display device.

표시 영역(AA) 및 그 주변에 배치된 구동소자들(GIP, EIP)을 둘러싸도록 기저배선(GND)이 배치된다. 기저배선(GND)은 데이터 구동소자(DIC)에서 분기될 수 있다.The ground line GND is disposed to surround the display area AA and the driving elements GIP and EIP disposed around the display area AA. The base line GND may be branched from the data driving device DIC.

데이터 구동부(DIC)는 하부기판(SUB)의 일 변, 예를 들어 상변에 배치된다. 특히, 데이터 구동부(DIC)는 직접 하부기판(SUB)에 부착될 수 있다. 게이트 구동부(GIP)는 하부기판(SUB)의 일 측변, 예를 들어 좌측변에 배치된다. 정방소자(EIP)는 하부기판(SUB)의 타측변, 예를 들어 우측변에 배치된다. 게이트 구동부(GIP)와 정방소자(EIP)들도 직접 회로소자로 제작되어 하부기판(SUB)에 부착될 수 있다. 또는, 좌측 및 우측의 비표시 영역(NA)의 폭을 좁히기 위해, 표시소자들은 비표시영역(NA)에 직접 형성될 수도 있다.The data driver DIC is disposed on one side, for example, an upper side of the lower substrate SUB. In particular, the data driver DIC may be directly attached to the lower substrate SUB. The gate driver GIP is disposed on one side, for example, a left side of the lower substrate SUB. The square element EIP is disposed on the other side of the lower substrate SUB, for example, on the right side. The gate driver GIP and the square element EIP may also be manufactured as a direct circuit element and attached to the lower substrate SUB. Alternatively, in order to narrow the width of the left and right non-display areas NA, the display elements may be directly formed in the non-display area NA.

도 3은 본 명세서의 일 실시예에 따른 기판의 일 예시도이다.3 is an exemplary view of a substrate according to an embodiment of the present specification.

상기 기판은 표시장치 셀(cell)의 단위 구조(단위 패널)를 형성하기 위한 판이며, 플렉서블 표시장치의 경우, 연성이 뛰어난 플라스틱 필름소재(예: 폴리이미드 등)로 만들어질 수 있다. 도 3에서는 셀, 즉 단위 표시패널(101)들이 동시에 다수 개 제작될 수 있는 모 기판(100)을 도시하고 있다. 상기 모 기판(100)에 컬러 필터 층이 적층됨으로써 표시장치의 상부 패널이 형성될 수 있다. 또한 상기 모 기판(100)은 지지 기판(예: 유리 기판)과 합착된 상태로 하부 패널 부착 공정에 제공될 수 있다. The substrate is a plate for forming a unit structure (unit panel) of a cell of a display device, and in the case of a flexible display device, it may be made of a plastic film material (eg, polyimide, etc.) having excellent ductility. 3 shows the mother substrate 100 on which a plurality of cells, ie, unit display panels 101, can be simultaneously manufactured. The upper panel of the display device may be formed by stacking the color filter layer on the mother substrate 100 . In addition, the mother substrate 100 may be provided in a lower panel attachment process in a state in which it is bonded to a support substrate (eg, a glass substrate).

한편, 표시 패널들의 절단 예정선(스크라이브 라인)들 사이의 영역(102)에는, 광 비투과성 물질이 패터닝(patterning)된다. 상기 물질은 일종의 실드 패턴(shield pattern)으로서, 상기 패터닝된 영역(102)은 모 기판 및 지지 기판에 레이저 광을 조사하여도 광에 의한 영향을 받지 않는다. 따라서, 상기 절단 예정선(스크라이브 라인)들 사이의 영역(102)은 광 조사 과정에서 지지 기판에 계속하여 부착되어 있고, 상기 영역(102)은 지지 기판과 모 기판(100)의 분리 공정에서 지지 기판과 함께 모 기판에서 탈락된다. 상기 패터닝은 지지 기판의 일 면(지지 기판과 모 기판이 접착하는 면)에 형성된다. 이때 상기 모 기판(100)은 상기 지지 기판의 패터닝된 면에 필름 형태로 코팅(coating)될 수 있다.Meanwhile, in the region 102 between the cut lines (scribe lines) of the display panels, a light non-transmissive material is patterned. The material is a kind of shield pattern, and the patterned region 102 is not affected by the light even when the laser light is irradiated to the mother substrate and the support substrate. Accordingly, the region 102 between the planned cutting lines (scribe lines) is continuously attached to the support substrate during the light irradiation process, and the region 102 is supported in the separation process of the support substrate and the parent substrate 100 . It is removed from the parent substrate together with the substrate. The patterning is formed on one surface of the support substrate (the surface on which the support substrate and the mother substrate are adhered). In this case, the mother substrate 100 may be coated in the form of a film on the patterned surface of the support substrate.

지지 기판과 모 기판이 합착된 후에 컬러 필터 층이 적층된다. 이때 컬러 필터 층은, 지지 기판과 모 기판(100)이 합착된 면(제1 면)의 반대 면(제2 면)에 적층된다. After the support substrate and the parent substrate are bonded, the color filter layer is laminated. In this case, the color filter layer is laminated on a surface (second surface) opposite to the surface (first surface) on which the support substrate and the mother substrate 100 are bonded.

이후 상기 단위 표시패널(101)의 경계를 따라 절단 예정선이 형성된다. 즉, 상기 단위 표시패널(101)에 형성된 컬러 필터 층의 외곽에 스크라이브 라인(scribe line)이 그려진다. 이때 상기 절단 예정선(스크라이브 라인)은 레이저(laser)로 그려질 수 있다. 이후 공정에서 상기 단위 표시패널(101)은 상기 절단 예정선을 따라 낱개로 분리된다.Thereafter, a line to be cut is formed along the boundary of the unit display panel 101 . That is, a scribe line is drawn outside the color filter layer formed on the unit display panel 101 . In this case, the cut line (scribe line) may be drawn with a laser. In a subsequent process, the unit display panel 101 is separated individually along the cut line.

위와 같은 과정을 포함하여 표시장치의 상부 패널(지지 기판, 모 기판 및 컬러 필터 층)이 완성되면, 상부 패널은 하부 패널과 합착된다. 상기 하부 패널에는 트랜지스터 층, 유기발광 층 등이 적층되어 있다.When the upper panel (support substrate, parent substrate, and color filter layer) of the display device is completed including the above process, the upper panel is bonded to the lower panel. A transistor layer, an organic light emitting layer, and the like are stacked on the lower panel.

상부 패널과 하부 패널의 합착이 완료되면, 상부 패널의 지지 기판은 제거된다. 지지 기판의 제거는, 레이저 광을 지지 기판의 전체 영역에 조사하는 과정을 통해 수행될 수 있다. 이때, 레이저 광의 영향으로 지지 기판과 모 기판의 계면은 수축/팽창이 생겨, 접착이 분리된다. 반면, 패터닝된 부분(102)은 레이저 광을 반사하거나 또는 흡수하기 때문에, 계면에 영향이 없어 지지 기판과 모 기판이 분리되지 않는다. 따라서, 상기 절단 예정선(스크라이브 라인)들 사이의 영역(102)은 광 조사 과정에서 지지 기판에 계속하여 부착되어 있고, 상기 영역(102)은 지지 기판과 모 기판(100)의 분리 공정에서 지지 기판과 함께 모 기판에서 탈락된다.When bonding of the upper panel and the lower panel is completed, the supporting substrate of the upper panel is removed. The removal of the support substrate may be performed through a process of irradiating laser light to the entire area of the support substrate. At this time, under the influence of laser light, shrinkage/expansion occurs at the interface between the support substrate and the parent substrate, and the adhesion is separated. On the other hand, since the patterned portion 102 reflects or absorbs laser light, there is no effect on the interface, so that the support substrate and the parent substrate are not separated. Accordingly, the region 102 between the cut lines (scribe lines) is continuously attached to the support substrate during the light irradiation process, and the region 102 is supported in the separation process of the support substrate and the parent substrate 100 . It is removed from the parent substrate together with the substrate.

도 4는 도 3에서 도시한 기판의 일 부분을 확대한 도면이다.FIG. 4 is an enlarged view of a portion of the substrate shown in FIG. 3 .

도 4의 (a)는 도 3의 (a) 부분이고, 도 4의 (b)는 도 3의 (b) 부분이다. 확대 도면을 보면 알 수 있듯이, 단위 패널의 외곽을 따라 절단 예정선(스크라이브 라인))이 그려지고, 그 바깥 영역은 레이저 실드로 패터닝된다. 상기 절단 예정선은 모 기판만큼의 깊이로 그어진다.FIG. 4(a) is a part of FIG. 3(a), and FIG. 4(b) is a part of FIG. 3(b). As can be seen from the enlarged drawing, a line to be cut (scribe line)) is drawn along the periphery of the unit panel, and the outer area is patterned with a laser shield. The cut line is drawn as deep as the parent substrate.

도 5는 본 명세서의 일 실시예에 따른 절단 예정선을 나타낸 도면이다.5 is a view showing a line to be cut according to an embodiment of the present specification.

절단 예정선은 사각형의 각 변을 따라 일직선으로 그어질 수도 있지만, 도 5와 같이 표시 패널 영역의 일 부에는 특정한 모양으로 그어질 수도 있다. 도 5와 같이 표시 패널 영역의 하변이 그어지는 이유는, 패널 하부의 양 측에만 특정 소자(예: IC)나 부품(예: 통전부)이 위치할 수 있기 때문이다. The line to be cut may be drawn in a straight line along each side of the rectangle, or may be drawn in a specific shape on a portion of the display panel area as shown in FIG. 5 . The reason why the lower side of the display panel area is drawn as shown in FIG. 5 is that a specific device (eg, an IC) or a component (eg, a conductive part) may be positioned only on both sides of the lower part of the panel.

도 6은 본 명세서의 실시예에 따른 표시장치의 제조 방법을 나타낸 흐름도이다. 6 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a display device according to an exemplary embodiment of the present specification.

상기 제조방법은 표시장치의 제조장비에 의해 실행될 수 있다. 또한 상기 표시장치는 도 2 내지 도 5에서 설명한 특징을 지닌다.The manufacturing method may be performed by manufacturing equipment of a display device. In addition, the display device has the characteristics described with reference to FIGS. 2 to 5 .

먼저, 다수 개의 단위 표시패널 영역이 배치된 지지 기판의 일 면에, 각 단위 패널의 절단 예정선들 사이의 영역을 광 비투과성 물질로 패터닝하는 단계(S610)가 수행된다. First, on one surface of the support substrate on which the plurality of unit display panel areas are disposed, the step of patterning the area between the cut lines of each unit panel with a light non-transmissive material ( S610 ) is performed.

다음으로, 플렉서블(flexible) 재질의 모 기판의 제1 면을 상기 지지 기판의 패터닝 면과 합착하는 단계(S620)가 수행된다. 상기 S620 단계는, 상기 패터닝된 지지 기판의 일 면에 플라스틱 필름을 코팅(coating)하는 단계를 포함할 수 있다. 이때 상기 모 기판의 재질은 폴리이미드(Polyimide)이고, 상기 지지 기판은 유리 기판일 수 있다.Next, bonding the first surface of the mother substrate made of a flexible material to the patterning surface of the support substrate ( S620 ) is performed. The step S620 may include coating a plastic film on one surface of the patterned support substrate. In this case, the material of the parent substrate may be polyimide, and the support substrate may be a glass substrate.

다음으로, 상기 모 기판의 제2 면에, 상기 단위 표시패널 영역마다 컬러 필터 층을 적층하는 단계(S630)가 수행된다.Next, laminating a color filter layer on the second surface of the mother substrate for each area of the unit display panel ( S630 ) is performed.

다음으로, 상기 단위 표시패널의 경계선을 따라 절단 예정선을 긋는(scribing) 단계(S640)가 수행된다. 상기 S640 단계는, 상기 컬러 필터 층이 형성된 영역의 외부 경계선을 따라 상기 모 기판의 깊이만큼 절단 예정선을 긋는 단계일 수 있다.Next, a step (S640) of scribing a cut line along the boundary line of the unit display panel is performed. The step S640 may be a step of drawing a cut line as much as the depth of the parent substrate along the outer boundary of the region where the color filter layer is formed.

이후에, 상기 지지 기판의 전체 영역에 레이저 광을 조사하여, 상기 지지 기판과 상기 모 기판을 분리하는 단계(S650)가 수행된다.Thereafter, a step (S650) of separating the support substrate and the mother substrate by irradiating laser light to the entire area of the support substrate is performed.

상기 S650 단계는, 상기 광 비투과성 물질이 패터닝 된 영역이 상기 지지 기판과 동시에 분리되는 단계를 포함할 수 있다. 즉, 상기 S650 단계에서, 상기 광 비투과성 물질이 패터닝 된 영역은 상기 지지 기판에 계속 부착되어 있는다.The step S650 may include separating the region where the light non-transmissive material is patterned from the support substrate at the same time. That is, in step S650, the region on which the light non-transmissive material is patterned is continuously attached to the support substrate.

이상에서의 설명 및 첨부된 도면은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 나타낸 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 구성의 결합, 분리, 치환 및 변경 등의 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The above description and the accompanying drawings are merely illustrative of the technical idea of the present invention, and those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains can combine the configuration within a range that does not depart from the essential characteristics of the present invention. , various modifications and variations such as separation, substitution and alteration will be possible. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical spirit of the present invention, but to explain, and the scope of the technical spirit of the present invention is not limited by these embodiments. The protection scope of the present invention should be construed by the following claims, and all technical ideas within the equivalent range should be construed as being included in the scope of the present invention.

Claims (6)

다수 개의 단위 표시패널 영역이 배치된 지지 기판의 일 면에, 각 단위 패널의 절단 예정선들 사이의 영역을 광 비투과성 물질로 패터닝하는 단계;
플렉서블(flexible) 재질로 이루어진 모 기판의 제1 면을 상기 지지 기판의 패터닝 면과 합착하는 단계;
상기 모 기판의 제2 면에, 상기 단위 표시패널 영역마다 컬러 필터 층을 적층하는 단계;
상기 단위 표시패널의 경계선을 따라 절단 예정선을 긋는(scribing) 단계;
상기 지지 기판의 전체 영역에 레이저 광을 조사하여, 상기 지지 기판과 상기 모 기판을 분리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조 방법.
patterning, on one surface of a support substrate on which a plurality of unit display panel areas are disposed, an area between the cut lines of each unit panel with a light non-transmissive material;
bonding a first surface of a mother substrate made of a flexible material to a patterning surface of the support substrate;
stacking a color filter layer on the second surface of the mother substrate for each area of the unit display panel;
scribing a cut line along a boundary line of the unit display panel;
and separating the support substrate from the mother substrate by irradiating laser light to the entire area of the support substrate.
제1 항에 있어서,
상기 모 기판을 상기 지지 기판의 일 면과 합착하는 단계는,
상기 패터닝된 지지 기판의 일 면에 상기 플렉서블 재질로 이루어진 모 기판이 플라스틱 필름 형태로 코팅(coating)되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조 방법.
According to claim 1,
The step of bonding the mother substrate to one surface of the support substrate comprises:
and coating the mother substrate made of the flexible material on one surface of the patterned support substrate in the form of a plastic film.
제1 항에 있어서,
상기 절단 예정선을 긋는 단계는,
상기 컬러 필터 층이 형성된 영역의 외부 경계선을 따라 상기 모 기판의 깊이만큼 절단 예정선을 긋는 단계인 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조 방법.
According to claim 1,
The step of drawing the cut line is,
and drawing a line to be cut as much as the depth of the parent substrate along an outer boundary of the region where the color filter layer is formed.
제1항에 있어서,
상기 모 기판의 재질은 폴리이미드(Polyimide)이고,
상기 지지 기판은 유리 기판인 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조 방법.
According to claim 1,
The material of the parent substrate is polyimide,
The support substrate is a method of manufacturing a display device, characterized in that the glass substrate.
제1항에 있어서,
상기 지지 기판과 상기 모 기판을 분리하는 단계에서,
상기 절단 예정선들 사이의 영역에 패터닝된 상기 광 비투과성 물질이 상기 지지 기판에 계속 부착되어 있는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조 방법.
According to claim 1,
In the step of separating the support substrate and the parent substrate,
The method of claim 1 , wherein the light non-transmissive material patterned in a region between the cut lines is continuously attached to the support substrate.
제1항에 있어서,
상기 지지 기판과 상기 모 기판을 분리하는 단계는,
상기 절단 예정선들 사이의 영역에 패터닝된 상기 광 비투과성 물질과 상기 지지 기판이 상기 모 기판으로부터 동시에 분리되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조 방법.
According to claim 1,
Separating the support substrate and the parent substrate comprises:
and separating the light non-transmissive material patterned in the region between the cut lines and the support substrate from the mother substrate at the same time.
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