KR102323647B1 - Sealant for one-drop fill process, vertically conducting material, and liquid crystal display element - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 시일 브레이크나 액정 오염의 억제와 스프링 백에 의한 갭 불량의 억제를 양립할 수 있는 액정 적하 공법용 시일제를 제공하는 것을 목적으로 한다. 또, 본 발명은, 그 액정 적하 공법용 시일제를 사용하여 제조되는 상하 도통 재료 및 액정 표시 소자를 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명은, 액정 적하 공법에 의한 액정 표시 소자의 제조에 사용하는 액정 적하 공법용 시일제로서, 경화성 수지와, 중합 개시제 및/또는 열 경화제와, 유연 입자를 함유하고, 상기 유연 입자는 입도 분포에 있어서, 최빈 입자 직경이 중위 입자 직경의 1.07 배 이상인 액정 적하 공법용 시일제이다.An object of this invention is to provide the sealing compound for liquid crystal dropping methods compatible with suppression of a seal break and liquid-crystal contamination, and suppression of the gap defect by springback. Moreover, this invention aims at providing the vertical conduction material and liquid crystal display element manufactured using the sealing compound for liquid crystal dropping methods. This invention is a sealing compound for liquid crystal dropping methods used for manufacture of the liquid crystal display element by a liquid crystal dropping method, Comprising: Curable resin, a polymerization initiator and/or thermosetting agent, and flexible particle|grains are contained, The said flexible particle|grains are particle size distribution WHEREIN: It is the sealing compound for liquid crystal dropping methods whose mode particle diameter is 1.07 times or more of a median particle diameter.

Description

액정 적하 공법용 시일제, 상하 도통 재료 및 액정 표시 소자 {SEALANT FOR ONE-DROP FILL PROCESS, VERTICALLY CONDUCTING MATERIAL, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT}Sealant for liquid crystal dropping method, vertical conduction material, and liquid crystal display element {SEALANT FOR ONE-DROP FILL PROCESS, VERTICALLY CONDUCTING MATERIAL, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT}

본 발명은 시일 브레이크나 액정 오염의 억제와 스프링 백에 의한 갭 불량의 억제를 양립할 수 있는 액정 적하 공법용 시일제에 관한 것이다. 또, 본 발명은 그 액정 적하 공법용 시일제를 사용하여 제조되는 상하 도통 재료 및 액정 표시 소자에 관한 것이다.This invention relates to the sealing compound for liquid crystal dropping methods which are compatible with suppression of a seal break and liquid-crystal contamination, and suppression of the gap defect by springback. Moreover, this invention relates to the vertical conduction material and liquid crystal display element manufactured using the sealing compound for liquid crystal dropping methods.

최근 액정 표시 셀 등의 액정 표시 소자의 제조 방법은, 택트 타임 단축, 사용 액정량의 최적화와 같은 관점에서, 종래의 진공 주입 방식으로부터, 예를 들어 특허문헌 1, 특허문헌 2 에 개시되어 있는 바와 같은 광열 병용 경화형의 시일제를 사용한 적하 공법이라고 불리는 액정 적하 방식이 주류가 되고 있다.In recent years, the manufacturing method of liquid crystal display elements, such as a liquid crystal display cell, from a viewpoint, such as tact time shortening and optimization of the amount of liquid crystal used, from a conventional vacuum injection method, as disclosed by patent document 1 and patent document 2, for example. The liquid crystal dropping method called the dripping method using the sealing compound of the same light-heat combined use hardening type is becoming mainstream.

적하 공법에서는, 우선 2 장의 전극이 부착된 투명 기판의 일방에 디스펜서에 의해 장방 형상의 시일 패턴을 형성한다. 이어서, 시일제가 미경화인 상태로 액정의 미소적 (微小滴) 을 투명 기판의 테두리 내 전체면에 적하하고, 곧바로 타방의 투명 기판을 중첩하고, 시일부에 자외선 등의 광을 조사하여 가경화를 실시한다. 그 후, 액정 어닐시에 가열하여 본경화를 실시하고, 액정 표시 소자를 제작한다. 기판의 첩합 (貼合) 을 감압하에서 실시하도록 하면, 매우 높은 효율로 액정 표시 소자를 제조할 수 있다.In the dripping method, first, a rectangular seal pattern is formed with a dispenser in one side of the transparent substrate with an electrode of 2 sheets. Next, in a state in which the sealing compound is not cured, microdroplets of the liquid crystal are dripped onto the entire surface inside the frame of the transparent substrate, the other transparent substrate is immediately superimposed, and the sealing portion is irradiated with light such as ultraviolet rays to perform temporary curing. Conduct. Then, at the time of liquid crystal annealing, it heats and performs main hardening, and produces a liquid crystal display element. When bonding of a board|substrate is made to perform under reduced pressure, a liquid crystal display element can be manufactured with very high efficiency.

그런데, 휴대 전화, 휴대 게임기 등 각종 액정 패널이 부착된 모바일 기기가 보급되고 있는 현대에 있어서, 장치의 소형화는 가장 요구되고 있는 과제이다. 소형화의 수법으로서, 액정 표시부의 협액자화를 들 수 있으며, 예를 들어 시일부의 위치를 블랙 매트릭스 아래에 배치하는 것이 실시되고 있다 (이하, 「협액자 설계」라고도 한다).By the way, in the present age in which mobile devices equipped with various liquid crystal panels, such as a mobile phone and a portable game machine, are widespread, size reduction of an apparatus is the most requested|required subject. As a method of downsizing, narrow frame-ization of a liquid crystal display part is mentioned, for example, arrange|positioning the position of a sealing part under a black matrix is implemented (henceforth "narrow frame design").

그러나, 적하 공법으로 협액자 설계의 액정 표시 소자를 제조하면, 블랙 매트릭스에 의해 시일부에 광이 닿지 않는 지점이 존재하기 때문에, 충분히 광 조사되지 않아 경화가 진행되지 않는 광 경화성 수지의 부분이 발생하고, 미경화의 시일제가 액정과 접하기 때문에, 액정이 시일제에 들어가 시일 브레이크가 발생하여 액정이 누출되어 버리거나, 가경화 공정 후에 미경화의 광 경화성 수지가 용출되어 버려, 액정이 오염되는 경우가 있다는 문제가 있었다.However, when a liquid crystal display element of a narrow frame design is manufactured by a dripping method, since there is a point where light does not reach the seal part due to the black matrix, a portion of the photocurable resin that is not sufficiently irradiated with light and does not cure occurs. And, since the uncured sealing compound is in contact with the liquid crystal, the liquid crystal enters the sealing compound, a seal break occurs, the liquid crystal leaks, or the uncured photocurable resin is eluted after the provisional curing step, and the liquid crystal is contaminated There was a problem that there was

일본 공개특허공보 2001-133794호Japanese Patent Laid-Open No. 2001-133794 국제 공개 제02/092718호International Publication No. 02/092718

본 발명은 시일 브레이크나 액정 오염의 억제와 스프링 백에 의한 갭 불량의 억제를 양립할 수 있는 액정 적하 공법용 시일제를 제공하는 것을 목적으로 한다. 또, 본 발명은 그 액정 적하 공법용 시일제를 사용하여 제조되는 상하 도통 (導通) 재료 및 액정 표시 소자를 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of this invention is to provide the sealing compound for liquid crystal dropping methods compatible with suppression of a seal break and liquid-crystal contamination, and suppression of the gap defect by springback. Moreover, this invention aims at providing the vertical conduction material and liquid crystal display element which are manufactured using the sealing compound for liquid crystal dropping methods.

본 발명은 액정 적하 공법에 의한 액정 표시 소자의 제조에 사용하는 액정 적하 공법용 시일제로서, 경화성 수지와, 중합 개시제 및/또는 열 경화제와, 유연 입자를 함유하고, 상기 유연 입자는 입도 분포에 있어서, 최빈 입자 직경이 중위 (中位) 입자 직경의 1.07 배 이상인 액정 적하 공법용 시일제이다.The present invention is a sealing agent for a liquid crystal dropping method used for production of a liquid crystal display element by a liquid crystal dropping method, comprising a curable resin, a polymerization initiator and/or a thermosetting agent, and flexible particles, the flexible particles having a particle size distribution WHEREIN: It is the sealing compound for liquid crystal dropping methods 1.07 times or more of a median particle diameter of a mode particle diameter.

이하에 본 발명을 상세히 서술한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명자들은, 액정 적하 공법용 시일제에 유연 입자를 배합하고, 그 유연 입자를 다른 시일제 성분과 액정 사이의 장벽이 되도록 함으로써, 시일 브레이크나 액정 오염의 발생을 억제하는 것을 검토하였다.The present inventors examined suppressing generation|occurrence|production of a seal break and a liquid-crystal contamination by mix|blending flexible particle|grains with the sealing compound for liquid crystal dropping methods, and making the flexible particle|grain become a barrier between another sealing compound component and a liquid crystal.

그러나, 이와 같은 유연 입자를 배합했을 경우, 얻어지는 액정 표시 소자에 스프링 백에 의한 셀갭 불량이 발생하는 경우가 있었다.However, when such a flexible particle|grain was mix|blended, the cell gap defect by springback may generate|occur|produce in the liquid crystal display element obtained.

그래서 본 발명자들은 예의 검토한 결과, 입도 분포에 있어서, 최빈 입자 직경이 중위 입자 직경보다 특정 값 이상 큰 유연 입자를 배합함으로써, 시일 브레이크나 액정 오염의 억제와 스프링 백에 의한 갭 불량의 억제를 양립할 수 있는 액정 적하 공법용 시일제를 얻을 수 있는 것을 알아내어, 본 발명을 완성시키기에 이르렀다.Then, as a result of earnest examination, the present inventors achieve both suppression of seal break and liquid crystal contamination and suppression of gap defect by springback by mix|blending flexible particle whose mode particle diameter is larger than a specific value more than a median particle diameter in a particle size distribution as a result of earnest examination It found out that the sealing compound for liquid crystal dropping methods that can be done was obtained, and came to complete this invention.

본 발명의 액정 적하 공법용 시일제는, 액정 적하 공법에 의한 액정 표시 소자의 제조에 사용된다.The sealing compound for liquid crystal dropping methods of this invention is used for manufacture of the liquid crystal display element by a liquid crystal dropping method.

본 발명의 액정 적하 공법용 시일제는 유연 입자를 함유한다.The sealing compound for liquid crystal dropping methods of this invention contains a flexible particle|grain.

상기 유연 입자는, 액정 표시 소자를 제조할 때에, 다른 시일제 성분과 액정 사이의 장벽이 되어, 액정이 시일제에 들어가는 것 및 시일제가 액정으로 용출되는 것을 방지하는 역할을 갖는다. 또, 상기 유연 입자를 배합함으로써, 기판을 첩합한 후, 시일제가 경화될 때까지의 기판의 어긋남을 방지할 수 있다.When the said flexible particle|grain manufactures a liquid crystal display element, it becomes a barrier between another sealing compound component and a liquid crystal, and has a role which prevents that a liquid crystal enters a sealing compound and a sealing compound elutes to a liquid crystal. Moreover, after bonding a board|substrate by mix|blending the said flexible particle|grain, shift|offset|difference of a board|substrate until sealing compound hardens can be prevented.

상기 유연 입자는 입도 분포에 있어서, 최빈 입자 직경이 중위 입자 직경의 1.07 배 이상이다. 상기 유연 입자의 최빈 입자 직경이 중위 입자 직경의 1.07 배 이상임으로써, 시일 브레이크나 액정 오염의 억제와 스프링 백에 의한 셀갭 불량의 억제를 양립할 수 있다. 상기 유연 입자는 입도 분포에 있어서, 최빈 입자 직경이 중위 입자 직경의 1.07 배보다 큰 것이 바람직하고, 1.10 배보다 큰 것이 보다 바람직하다.The said flexible particle|grain is a particle size distribution. WHEREIN: A mode particle diameter is 1.07 times or more of a median particle diameter. When the mode particle diameter of the said flexible particle|grain is 1.07 times or more of a median particle diameter, suppression of a seal break and a liquid-crystal contamination, and suppression of the cell gap defect by springback are compatible. In particle size distribution, as for the said flexible particle|grain, it is preferable that a mode particle diameter is larger than 1.07 times of a median particle diameter, and it is more preferable that it is larger than 1.10 times.

또한, 본 명세서에 있어서, 상기 유연 입자에 있어서의 최빈 입자 직경, 중위 입자 직경, 최대 입자 직경, 최소 입자 직경 및 평균 입자 직경은, 쿨터식 입도 분포 측정 장치를 사용하여 입도 분포를 측정함으로써 얻어지는 값을 의미한다. 상기 쿨터식 분포 측정 장치로는 멀티사이저 4 (벡크만·쿨터사 제조) 등을 사용할 수 있으며, 구체적으로는 입자 0.1 g 을 메탄올 10 g 에 첨가하여 잘 섞이게 하고, 초음파 분산을 5 분간 실시하여 입자 분산액을 조제하고, 샘플 스탠드 내의 전해액 「ISOTON II」(벡크만·쿨터사 제조) 이 들어간 비커에, 얻어진 입자 분산액을 측정 장치의 표시 농도가 5 % 가 될 때까지 스포이드로 주입한다. 이 농도로 함으로써, 재현성이 있는 측정값을 얻을 수 있다. 측정은 2 회 실시하여, 산출된 값의 산술 평균값을 사용한다.In addition, in this specification, the mode particle diameter in the said flexible particle|grain, a median particle diameter, a largest particle diameter, a minimum particle diameter, and an average particle diameter are a value obtained by measuring a particle size distribution using a Coulter-type particle size distribution analyzer. means As the Coulter-type distribution measuring device, Multisizer 4 (manufactured by Beckman Coulter), etc. can be used, specifically, 0.1 g of particles are added to 10 g of methanol to mix well, and ultrasonic dispersion is performed for 5 minutes. A particle dispersion liquid is prepared, and the obtained particle dispersion liquid is injected into the beaker containing electrolyte solution "ISOTON II" (made by Beckman Coulter) in a sample stand with a dropper until the indicated concentration of a measuring apparatus becomes 5%. By setting it as this concentration, a measured value with reproducibility can be obtained. The measurement is performed twice, and the arithmetic mean of the calculated values is used.

상기 「최빈 입자 직경」은, 체적 빈도에 의한 입도 분포의 최대 빈도를 나타내는 입자 직경을 의미하고, 상기 쿨터식 입도 분포 측정 장치를 사용하여 측정된 입도 분포에 있어서, 데이터 처리용 컴퓨터 시스템 (벡크만·쿨터사 제조) 을 접속한 장치를 사용하여 산출할 수 있다. 측정 장치에 있어서, 애퍼처의 세공 직경을 50 ㎛ 로 하고, 측정 범위 1 ∼ 30 ㎛ 의 범위를 300 으로 분할하여, 체적 기준으로 그 빈도값을 산출하고, 최대 빈도를 나타내는 입자 직경을 산출할 수 있다.The "moderate particle diameter" means a particle diameter representing the maximum frequency of particle size distribution by volume frequency, and in the particle size distribution measured using the Coulter-type particle size distribution measuring apparatus, a data processing computer system (Beckman - It is computable using the apparatus which connected the Coulter company make). In the measuring apparatus, the pore diameter of the aperture is set to 50 μm, the range of the measurement range 1 to 30 μm is divided by 300, the frequency value is calculated on a volume basis, and the particle diameter showing the maximum frequency can be calculated. have.

상기 「중위 입자 직경」은, 체적 빈도에 의한 입도 분포에 있어서, 그 입자 직경보다 큰 입자의 체적이 전체 입자의 체적의 50 % 를 차지할 때의 입자 직경을 의미하고, 상기 쿨터식 입도 분포 측정 장치를 사용하여 측정된 입도 분포에 있어서, 데이터 처리용 컴퓨터 시스템 (벡크만·쿨터사 제조) 을 접속한 장치를 사용하여 산출할 수 있다. 측정 장치에 있어서, 애퍼처의 세공 직경을 50 ㎛ 로 하고, 측정 범위 1 ∼ 30 ㎛ 의 범위를 300 으로 분할하여, 체적 기준으로 그 빈도값을 산출하고, 체적 적분율이 작은 쪽으로부터 50 % 의 입자 직경을 중위 입자 직경으로서 산출할 수 있다.The "median particle diameter" means a particle diameter when the volume of particles larger than the particle diameter occupies 50% of the volume of all particles in the particle size distribution by volume frequency, and the Coulter-type particle size distribution measuring device In the particle size distribution measured using In the measuring apparatus, the pore diameter of the aperture is set to 50 µm, the range of the measurement range 1 to 30 µm is divided by 300, the frequency value is calculated on a volume basis, and the volume integral ratio is 50% from the smaller one. The particle diameter can be calculated as the median particle diameter.

상기 「최대 입자 직경」은, 상기 쿨터식 입도 분포 측정 장치를 사용하여 측정된 입도 분포에 있어서, 최빈 입자 직경으로부터 입자 직경이 커짐에 따라 연속해서 체적 빈도가 작아져, 그 입자가 검출되지 않게 되기 직전의 입자 직경을 최대 입자 직경으로 한다. 또한, 체적 빈도가 불연속으로 검출된 것은 응집 입자일 가능성이 높기 때문에, 최대 입자 직경으로부터는 제외한다.The "maximum particle diameter" is, in the particle size distribution measured using the Coulter-type particle size distribution analyzer, as the particle diameter increases from the mode particle diameter, the volume frequency decreases continuously, so that the particle is not detected. Let the previous particle diameter be the largest particle diameter. In addition, since it is highly likely that it is a flock|aggregate that the volume frequency was detected discontinuously, it excludes from the maximum particle diameter.

상기 「최소 입자 직경」은, 측정하는 샘플에 관계없이 일정하게, 사용하는 50 ㎛ 의 애퍼처에서의 검출 하한값인 1.05 ㎛ 로 한다.The "minimum particle diameter" is set to 1.05 µm, which is the lower limit of detection in the 50 µm aperture to be used, regardless of the sample to be measured.

상기 「평균 입자 직경」은, 상기 쿨터식 입도 분포 측정 장치를 사용하여 측정된 입도 분포에 있어서, 데이터 처리용 컴퓨터 시스템 (벡크만·쿨터사 제조) 을 접속한 장치를 사용하여 산출할 수 있다. 측정 장치에 있어서, 애퍼처의 세공 직경을 50 ㎛ 로 하고, 측정 범위 1 ∼ 30 ㎛ 의 범위를 300 으로 분할하여, 체적 기준으로 평균 입자 직경을 산출할 수 있다.The said "average particle diameter" is the particle size distribution measured using the said Coulter-type particle size distribution analyzer. WHEREIN: It is computable using the apparatus which connected the computer system for data processing (made by Beckman Coulter). Measurement apparatus WHEREIN: The pore diameter of an aperture shall be 50 micrometers, the range of 1-30 micrometers may be divided|segmented by 300, and an average particle diameter can be computed on a volume basis.

후술하는 「D90」은, 체적 빈도에 의한 입도 분포에 있어서, 그 입자 직경보다 큰 입자의 체적이 전체 입자의 체적의 10 % 를 차지할 때의 입자 직경을 의미하고, 상기 쿨터식 입도 분포 측정 장치를 사용하여 측정된 입도 분포에 있어서, 데이터 처리용 컴퓨터 시스템 (벡크만·쿨터사 제조) 을 접속한 장치를 사용하여 산출할 수 있다. 측정 장치에 있어서, 애퍼처의 세공 직경을 50 ㎛ 로 하고, 측정 범위 1 ∼ 30 ㎛ 의 범위를 300 으로 분할하여, 체적 적분율이 작은 쪽으로부터 90 % 의 입자 직경을 D90 으로서 산출할 수 있다."D90" to be described later means a particle diameter when the volume of particles larger than the particle diameter occupies 10% of the volume of all particles in the particle size distribution by volume frequency, and the Coulter-type particle size distribution measuring device is The particle size distribution measured using the WHEREIN: It is computable using the apparatus to which the computer system for data processing (made by Beckman Coulter) was connected. The measuring apparatus WHEREIN: The pore diameter of an aperture shall be 50 micrometers, the range of the measurement range 1-30 micrometers is divided|segmented by 300, The particle diameter of 90% from the one with a smaller volume integral ratio can be computed as D90.

상기 유연 입자는, 보다 효과적으로 시일 브레이크나 액정 오염의 억제와 스프링 백에 의한 셀갭 불량의 억제를 양립하기 위해, 입도 분포에 있어서, 누적 분포에서의 D90 이 중위 입자 직경의 1.40 배 미만인 것이 바람직하고, 1.35 배 미만인 것이 보다 바람직하다.In the flexible particle, in order to more effectively suppress seal break and liquid crystal contamination and suppress cell gap defects due to springback, in particle size distribution, it is preferable that D90 in the cumulative distribution is less than 1.40 times the median particle diameter, It is more preferable that it is less than 1.35 times.

상기 유연 입자는, 보다 효과적으로 시일 브레이크나 액정 오염의 억제와 스프링 백에 의한 셀갭 불량의 억제를 양립하는 관점에서, 입도 분포에 있어서, 최소 입자 직경으로부터 중위 입자 직경보다 2 ㎛ 작은 입자 직경까지의 체적 빈도의 비율을 W (%), 중위 입자 직경보다 2 ㎛ 큰 입자 직경으로부터 최대 입자 직경까지의 체적 빈도의 비율을 Z (%) 로 했을 때, W/Z≥1.1 인 것이 바람직하고, W/Z≥1.2 인 것이 보다 바람직하다.From the viewpoint of more effectively suppressing seal break and liquid crystal contamination and suppressing cell gap defects due to springback, the flexible particle is a particle size distribution from the smallest particle size to a particle size smaller than the median particle size by 2 µm. When the ratio of the frequency is W (%) and the ratio of the volume frequency from a particle diameter 2 µm larger than the median particle diameter to the maximum particle diameter is Z (%), it is preferable that W/Z≥1.1, and W/Z It is more preferable that ≥1.2.

상기 유연 입자는, 보다 효과적으로 시일 브레이크나 액정 오염의 억제와 스프링 백에 의한 셀갭 불량의 억제를 양립하는 관점에서, 입도 분포에 있어서, 중위 입자 직경보다 2 ㎛ 작은 입자 직경으로부터 중위 입자 직경까지의 체적 빈도의 비율을 X (%), 중위 입자 직경으로부터 중위 입자 직경보다 2 ㎛ 큰 입자 직경까지의 체적 빈도의 비율을 Y (%) 로 했을 때, X+Y≥60 인 것이 바람직하고, X+Y≥70 인 것이 보다 바람직하다.From the viewpoint of more effectively suppressing seal break and liquid crystal contamination and suppressing cell gap defects due to springback, the flexible particle is a particle size distribution from a particle size smaller than the median particle size by 2 µm to the median particle size. When the ratio of the frequency is X (%) and the ratio of the volume frequency from the median particle diameter to the particle diameter 2 µm larger than the median particle diameter is Y (%), it is preferable that X+Y≥60, and X+Y≥70 more preferably.

상기 유연 입자는, 보다 효과적으로 시일 브레이크나 액정 오염의 억제와 스프링 백에 의한 셀갭 불량의 억제를 양립하는 관점에서, 입도 분포에 있어서, 중위 입자 직경보다 2 ㎛ 큰 입자 직경으로부터 최대 입자 직경까지의 체적 빈도의 합계, 즉 상기 Z 가 전체의 10 % 미만이고, 또한 최소 입자 직경으로부터 중위 입자 직경보다 2 ㎛ 작은 입자 직경까지의 체적 빈도의 합계, 즉 상기 W 가 전체의 20 % 미만인 것이 바람직하다.From the viewpoint of more effectively suppressing seal break and liquid crystal contamination and suppression of cell gap defects due to springback, the flexible particles have a particle size distribution from a particle size larger than the median particle size by 2 μm to the maximum particle size. It is preferable that the sum of the frequencies, ie, the Z is less than 10% of the total, and the sum of the volume frequencies from the minimum particle diameter to a particle diameter 2 µm smaller than the median particle diameter, ie, the W is less than 20% of the total.

상기 유연 입자의 최빈 입자 직경을 중위 입자 직경의 1.07 배 이상으로 하는 방법으로는, 예를 들어 최빈 입자 직경이 중위 입자 직경의 1.07 배 미만인 유연 입자를 분급하는 방법이나, 입도 분포가 상이한 2 종 이상의 유연 입자를 혼합하는 방법 등을 들 수 있다.As a method of making the mode particle diameter of the said flexible particle 1.07 times or more of a median particle diameter, for example, a method of classifying flexible particles whose mode particle diameter is less than 1.07 times the median particle diameter, or two or more types from which a particle size distribution differs The method of mixing flexible particle|grains, etc. are mentioned.

상기 유연 입자를 분급하는 방법으로는, 예를 들어 습식 분급, 건식 분급 등의 방법을 들 수 있다. 그 중에서도 습식 분급이 바람직하고, 습식 체분급이 보다 바람직하다.As a method of classifying the said flexible particle|grain, methods, such as wet classification and dry classification, are mentioned, for example. Especially, wet classification is preferable and wet sieve classification is more preferable.

구체적으로는 예를 들어, 유연 입자를 적당한 분산매에 분산시킨 슬러리를, 메시가 균일하게 갖추어진 고정밀도 체 등을 사용하여 체질하는 방법이 바람직하게 사용된다.Specifically, for example, the method of sieving the slurry which disperse|distributed the flexible particle|grains in the suitable dispersion medium using the high-precision sieve etc. with which the mesh was uniformly equipped is used preferably.

상기 유연 입자는, 최대 입자 직경이 액정 표시 소자의 셀갭의 100 % 이상이고, 또한 5 ∼ 50 ㎛ 인 것이 바람직하다. 상기 유연 입자의 최대 입자 직경이 액정 표시 소자의 셀갭의 100 % 미만이거나 5 ㎛ 미만이거나 하면, 시일 브레이크나 액정 오염을 충분히 억제할 수 없게 되는 경우가 있다. 상기 유연 입자의 최대 입자 직경이 50 ㎛ 를 초과하면, 스프링 백을 일으켜, 얻어지는 액정 적하 공법용 시일제가 접착성이 열등한 것이 되거나, 얻어지는 액정 표시 소자에 갭 불량이 생기거나 하는 경우가 있다. 상기 유연 입자의 최대 입자 직경의 보다 바람직한 상한은 12 ㎛, 더욱 바람직한 상한은 15 ㎛ 이다.As for the said flexible particle|grain, it is preferable that a largest particle diameter is 100% or more of the cell gap of a liquid crystal display element, and it is 5-50 micrometers. When the largest particle diameter of the said flexible particle|grain is less than 100% of the cell gap of a liquid crystal display element, or it is less than 5 micrometers, it may become impossible to fully suppress a seal break and a liquid-crystal contamination. When the largest particle diameter of the said flexible particle|grain exceeds 50 micrometers, a springback may be raised, the sealing compound for liquid crystal dropping methods obtained will become inferior to adhesiveness, or a gap defect may arise in the liquid crystal display element obtained. A more preferable upper limit of the largest particle diameter of the said flexible particle|grain is 12 micrometers, and a more preferable upper limit is 15 micrometers.

또, 상기 유연 입자의 최대 입자 직경은, 셀갭의 2.6 배 이하인 것이 바람직하다. 상기 유연 입자의 최대 입자 직경이 셀갭의 2.6 배를 초과하면, 스프링 백을 일으켜, 얻어지는 액정 적하 공법용 시일제가 접착성이 열등한 것이 되거나, 얻어지는 액정 표시 소자에 갭 불량이 생기거나 하는 경우가 있다. 상기 유연 입자의 최대 입자 직경의 보다 바람직한 상한은 셀갭의 2.2 배, 더욱 바람직한 상한은 셀갭의 1.7 배이다.Moreover, it is preferable that the largest particle diameter of the said flexible particle|grain is 2.6 times or less of a cell gap. When the maximum particle diameter of the said flexible particle|grain exceeds 2.6 times of a cell gap, a springback may be raise|generated, the sealing compound for liquid crystal dropping methods obtained will become a thing inferior in adhesiveness, or a gap defect may arise in the liquid crystal display element obtained. A more preferable upper limit of the maximum particle diameter of the flexible particle is 2.2 times the cell gap, and a more preferable upper limit is 1.7 times the cell gap.

또한, 액정 표시 소자의 셀갭은, 표시 소자에 따라 상이하기 때문에 한정되지 않지만, 일반적인 액정 표시 소자의 셀갭은 2 ∼ 10 ㎛ 이다.In addition, since the cell gap of a liquid crystal display element changes with display elements, it is although it is not limited, The cell gap of a general liquid crystal display element is 2-10 micrometers.

상기 유연 입자는, 상기 쿨터식 분포 측정 장치에 의해 측정된 유연 입자의 입도 분포 중, 5 ㎛ 이상인 입자 직경의 입자의 함유 비율이 체적 빈도로 60 % 이상인 것이 바람직하다. 5 ㎛ 이상인 입자 직경의 입자의 함유 비율이 체적 빈도로 60 % 미만이면, 시일 브레이크나 액정 오염을 충분히 억제할 수 없게 되는 경우가 있다. 5 ㎛ 이상인 입자 직경의 입자의 함유 비율은, 80 % 이상인 것이 보다 바람직하다.As for the said flexible particle, it is preferable that the content rate of the particle|grains of a particle diameter of 5 micrometers or more in the particle size distribution of the flexible particle measured with the said Coulter-type distribution analyzer is 60 % or more by volume frequency. When the content rate of the particle|grains of 5 micrometers or more of particle diameter is less than 60 % by volume frequency, it may become impossible to fully suppress a seal break and a liquid-crystal contamination. As for the content rate of the particle|grains with a particle diameter of 5 micrometers or more, it is more preferable that it is 80 % or more.

상기 유연 입자는, 시일 브레이크나 액정 오염의 발생을 억제하는 효과를 보다 발휘하는 관점에서, 액정 표시 소자의 셀갭의 100 % 이상의 입자를, 유연 입자 전체 중에 있어서의 입도 분포의 70 % 이상 함유하는 것이 바람직하고, 액정 표시 소자의 셀갭의 100 % 이상의 입자만으로 구성되는 것이 보다 바람직하다.The said flexible particle|grains, from a viewpoint of exhibiting the effect which suppresses generation|occurrence|production of a seal break and liquid-crystal contamination more, contain 100% or more of particle|grains of the cell gap of a liquid crystal display element 70% or more of the particle size distribution in the whole flexible particle|grain It is preferable, and it is more preferable that it consists only of 100% or more of particle|grains of the cell gap of a liquid crystal display element.

상기 유연 입자의 평균 입자 직경의 바람직한 하한은 2 ㎛, 바람직한 상한은 15 ㎛ 이다. 상기 유연 입자의 평균 입자 직경이 2 ㎛ 미만이면, 시일 브레이크나 액정 오염의 발생을 충분히 억제할 수 없는 경우가 있다. 상기 유연 입자의 평균 입자 직경이 15 ㎛ 를 초과하면, 얻어지는 액정 적하 공법용 시일제가 접착성이 열등한 것이 되거나, 얻어지는 액정 표시 소자에 갭 불량이 생기거나 하는 경우가 있다. 상기 유연 입자의 평균 입자 직경의 보다 바람직한 하한은 4 ㎛, 보다 바람직한 상한은 12 ㎛, 더욱 바람직한 하한은 5 ㎛ 이다.The minimum with preferable average particle diameter of the said flexible particle|grain is 2 micrometers, and a preferable upper limit is 15 micrometers. When the average particle diameter of the said flexible particle|grain is less than 2 micrometers, generation|occurrence|production of a seal break or a liquid-crystal contamination may not fully be suppressed. When the average particle diameter of the said flexible particle|grain exceeds 15 micrometers, the sealing compound for liquid crystal dropping methods obtained may become a thing inferior in adhesiveness, or a gap defect may arise in the liquid crystal display element obtained. The minimum with a more preferable average particle diameter of the said flexible particle|grain is 4 micrometers, a more preferable upper limit is 12 micrometers, and a more preferable minimum is 5 micrometers.

상기 유연 입자의 입자 직경의 변동 계수 (이하, 「CV 값」이라고도 한다) 는, 30 % 이하인 것이 바람직하다. 상기 유연 입자의 입자 직경의 CV 값이 30 % 를 초과하면, 셀갭 불량을 일으키는 경우가 있다. 상기 유연 입자의 입자 직경의 CV 값은, 28 % 이하인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that the coefficient of variation (henceforth a "CV value") of the particle diameter of the said flexible particle|grain is 30 % or less. When CV value of the particle diameter of the said flexible particle|grain exceeds 30 %, a cell gap defect may be caused. As for CV value of the particle diameter of the said flexible particle|grain, it is more preferable that it is 28 % or less.

또한, 본 명세서에 있어서 입자 직경의 CV 값이란, 상기 쿨터식 입도 분포 측정 장치를 사용하여 측정된 입도 분포에 있어서, 하기 식에 의해 구해지는 수치를 가리킨다.In addition, in this specification, the CV value of a particle diameter refers to the numerical value calculated|required by the following formula in the particle size distribution measured using the said Coulter type particle size distribution measuring apparatus.

입자 직경의 CV 값 (%) = (입자 직경의 표준 편차/평균 입자 직경) × 100CV value of particle diameter (%) = (standard deviation of particle diameter/average particle diameter) x 100

상기 유연 입자는, 최대 입자 직경이나 평균 입자 직경이나 CV 값이 상기 서술한 범위 외의 것이라도, 상기 서술한 방법에 의해 분급함으로써, 최대 입자 직경이나 평균 입자 직경이나 CV 값을 상기 서술한 범위 내로 할 수 있다. 또, 입자 직경이 액정 표시 소자의 셀갭의 100 % 미만인 유연 입자는, 시일 브레이크나 액정 오염의 억제에 기여하지 않고, 시일제에 배합하면 틱소값을 상승시키는 경우가 있기 때문에, 분급에 의해 제거해 두는 것이 바람직하다.As for the said flexible particle|grain, even if a largest particle diameter, an average particle diameter, and a CV value are things outside the above-mentioned range, by classifying by the above-mentioned method, a largest particle diameter, an average particle diameter, and a CV value will be in the above-mentioned range. can In addition, since flexible particles having a particle diameter of less than 100% of the cell gap of the liquid crystal display element do not contribute to the suppression of seal break or liquid crystal contamination, and may increase the thixotropic value when blended with a sealing agent, it is removed by classification it is preferable

상기 유연 입자는, 부하를 부여할 때의 원점용 하중값으로부터 반전 하중값에 이를 때까지의 압축 변위를 L1 로 하고, 부하를 해방할 때의 반전 하중값으로부터 원점용 하중값에 이를 때까지의 제하 변위를 L2 로 했을 때, L2/L1 을 백분율로 나타낸 회복률이 80 % 이하인 것이 바람직하다. 상기 유연 입자의 회복률이 80 % 를 초과하면, 시일 브레이크나 액정 오염의 발생을 억제하는 효과가 충분히 발휘되지 않는 경우가 있다. 상기 유연 입자의 회복률의 보다 바람직한 상한은 70 %, 더욱 바람직한 상한은 60 % 이다.The flexible particles have a compression displacement from the origin load value when a load is applied to the reversal load value as L1, and from the reversal load value when the load is released to the origin load value. When unloading displacement is L2, it is preferable that the recovery factor which expressed L2/L1 as a percentage is 80 % or less. When the recovery rate of the said flexible particle|grain exceeds 80 %, the effect which suppresses generation|occurrence|production of a seal break and a liquid-crystal contamination may not fully be exhibited. A more preferable upper limit of the recovery rate of the said flexible particle|grain is 70 %, and a more preferable upper limit is 60 %.

또한, 상기 유연 입자의 회복률은, 미소 압축 시험기를 사용하여, 입자 1 개에 일정 부하 (1 g) 를 가하여, 그 부하를 제거한 후의 회복 거동을 해석함으로써 도출할 수 있다.In addition, the recovery rate of the said flexible particle|grain can be derived|led-out by applying a fixed load (1g) to one particle|grain using a micro compression tester, and analyzing the recovery|restoration behavior after removing the load.

상기 유연 입자는, 1 g 의 부하를 부여했을 때의 압축 변위를 L3 으로 하고, 입자 직경을 Dn 으로 했을 때, L3/Dn 을 백분율로 나타낸 1 g 변형이 30 % 이상인 것이 바람직하다. 상기 유연 입자의 1 g 변형이 30 % 미만이면, 시일 브레이크나 액정 오염의 발생을 억제하는 효과가 충분히 발휘되지 않는 경우가 있다. 상기 유연 입자의 1 g 변형의 보다 바람직한 하한은 40 % 이다.When the said flexible particle|grains make compressive displacement when a load of 1 g is applied to L3, and makes a particle diameter Dn, it is preferable that the 1 g deformation|transformation which showed L3/Dn as a percentage is 30 % or more. The effect which suppresses generation|occurrence|production of a seal break or liquid-crystal contamination as 1 g distortion of the said flexible particle|grain being less than 30 % may not fully be exhibited. The more preferable minimum of 1 g deformation|transformation of the said flexible particle|grain is 40 %.

또한, 상기 유연 입자의 1 g 변형은, 미소 압축 시험기를 사용하여, 입자 1 개에 1 g 의 부하를 가하여, 그 때의 변위량을 측정함으로써 도출할 수 있다.In addition, 1 g of deformation|transformation of the said flexible particle|grain can be derived|led-out by applying a load of 1 g to one particle|grain using a micro compression tester, and measuring the amount of displacement at that time.

상기 유연 입자는, 입자가 파괴된 시점의 압축 변위를 L4 로 하고, 입자 직경을 Dn 으로 했을 때, L4/Dn 을 백분율로 나타낸 파괴 변형이 50 % 이상인 것이 바람직하다. 상기 유연 입자의 파괴 변형이 50 % 미만이면, 시일 브레이크나 액정 오염의 발생을 억제하는 효과가 충분히 발휘되지 않는 경우가 있다. 상기 유연 입자의 파괴 변형의 보다 바람직한 하한은 60 % 이다.When the said flexible particle|grains make the compressive displacement at the time of particle|grains fracture|rupture L4 and particle diameter Dn, it is preferable that the breaking deformation which showed L4/Dn as a percentage is 50 % or more. The effect which suppresses generation|occurrence|production of a seal break or liquid-crystal contamination as the breaking strain of the said flexible particle|grain is less than 50 % may not fully be exhibited. The more preferable minimum of the fracture deformation|transformation of the said flexible particle|grain is 60 %.

또한, 상기 유연 입자의 파괴 변형은, 미소 압축 시험기를 사용하여, 입자 1 개에 부하를 가하여, 그 입자가 파괴되는 변위량을 측정함으로써 도출할 수 있다. 상기 압축 변위 L4 는, 부하 하중에 대하여 변위량이 불연속으로 커지는 시점을 입자가 파괴된 시점으로서 산출한다. 부하 하중을 크게 해도 변형되기만 할 뿐 파괴되지 않는 경우, 파괴 변형은 100 % 이상으로 생각한다.In addition, the breaking deformation of the said flexible particle|grain can be derived|led-out by applying a load to one particle|grain using a micro compression tester, and measuring the displacement amount by which the particle|grain breaks. The said compressive displacement L4 computes the time point at which the displacement amount discontinuously increases with respect to the applied load as the time point at which the particle|grains are broken. In the case where it only deforms and does not break even when the applied load is increased, the breaking deformation is considered to be 100% or more.

상기 유연 입자는, 유리 전이 온도의 바람직한 하한이 -200 ℃, 바람직한 상한이 40 ℃ 이다. 상기 유연 입자의 유리 전이 온도는, 낮을수록 시일 브레이크나 액정 오염성에 대해서는 양호하지만, -200 ℃ 미만이면 입자로서의 핸들링이 문제가 생기거나, 가열 도중에 시일제가 찌부러지기 쉬워져, 경화 도중의 시일제와 액정이 접촉하여 액정 오염이 생기거나 하는 경우가 있다. 상기 유연 입자의 유리 전이 온도가 40 ℃ 를 초과하면, 갭 불량이 발생하는 경우가 있다. 상기 유연 입자의 유리 전이 온도의 보다 바람직한 하한은 -150 ℃, 보다 바람직한 상한은 35 ℃ 이다.As for the said flexible particle|grain, a preferable minimum of a glass transition temperature is -200 degreeC, and a preferable upper limit is 40 degreeC. The lower the glass transition temperature of the flexible particles, the better the seal break and liquid crystal contamination properties, but if it is less than -200 ° C, there is a problem in handling as particles, or the sealing agent is easily crushed during heating, and the sealing agent during curing and Liquid crystal may come into contact and liquid crystal contamination may occur. When the glass transition temperature of the said flexible particle|grain exceeds 40 degreeC, a gap defect may generate|occur|produce. The minimum with a more preferable glass transition temperature of the said flexible particle|grain is -150 degreeC, and a more preferable upper limit is 35 degreeC.

또한, 상기 유연 입자의 유리 전이 온도는, JIS K 7121 의 「플라스틱스의 전이 온도 측정 방법」에 기초한 시차 주사 열량 측정 (DSC) 에 의해 측정되는 값을 나타낸다.In addition, the glass transition temperature of the said flexible particle|grain shows the value measured by differential scanning calorimetry (DSC) based on "the transition temperature measuring method of plastics" of JISK7121.

상기 유연 입자로는, 예를 들어 실리콘계 입자, 비닐계 입자, 우레탄계 입자, 불소계 입자, 니트릴계 입자 등을 들 수 있다. 그 중에서도 실리콘계 입자, 비닐계 입자가 바람직하다.As said flexible particle|grains, silicone type particle|grains, vinyl type particle|grains, urethane type particle|grains, fluorine type particle|grains, nitrile type particle|grains, etc. are mentioned, for example. Among them, silicon-based particles and vinyl-based particles are preferable.

상기 실리콘계 입자는, 수지에 대한 분산성의 관점에서 실리콘 고무 입자가 바람직하다.The silicone-based particles are preferably silicone rubber particles from the viewpoint of dispersibility in the resin.

상기 실리콘계 입자 중 시판되고 있는 것으로는, 예를 들어 KMP-594, KMP-597, KMP-598, KMP-600, KMP-601, KMP-602 (신에츠 화학 공업사 제조), 토레필 E-506S, EP-9215 (토오레·다우코닝사 제조) 등을 들 수 있으며, 이들을 분급이나 혼합 등에 의해 최빈 입자 직경이 중위 입자 직경의 1.07 배 이상이 되도록 조정하여 사용할 수 있다. 상기 실리콘계 입자는 단독으로 이용되어도 되고, 2 종 이상이 병용되어도 된다.Among the silicon-based particles, commercially available ones include, for example, KMP-594, KMP-597, KMP-598, KMP-600, KMP-601, KMP-602 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), Torefil E-506S, EP. -9215 (manufactured by Toray Dow Corning), etc., and these can be used by adjusting them so that the mode particle diameter is 1.07 times or more of the median particle diameter by classification, mixing, or the like. The said silicon-type particle|grains may be used independently and 2 or more types may be used together.

상기 비닐계 입자로는, (메트)아크릴 입자가 바람직하게 사용된다.As said vinyl-type particle|grains, (meth)acrylic particle|grains are used preferably.

상기 (메트)아크릴 입자는, 원료가 되는 단량체를 공지된 방법에 의해 중합시킴으로써 얻을 수 있다. 구체적으로는 예를 들어, 라디칼 중합 개시제의 존재하에서 단량체를 현탁 중합하는 방법, 라디칼 중합 개시제의 존재하에서 비가교의 종 입자에 단량체를 흡수시킴으로써 종 입자를 팽윤시켜 시드 중합하는 방법 등을 들 수 있다. 얻어진 입자의 최빈 입자 직경이 중위 입자 직경의 1.07 배 미만인 경우에는, 분급이나 혼합 등에 의해 최빈 입자 직경이 중위 입자 직경의 1.07 배 이상이 되도록 조정한다.The said (meth)acrylic particle|grains can be obtained by polymerizing the monomer used as a raw material by a well-known method. Specific examples include a method of suspension polymerization of a monomer in the presence of a radical polymerization initiator, a method of swelling the seed particles by absorbing the monomer into the non-crosslinked seed particles in the presence of a radical polymerization initiator, and seed polymerization, and the like. When the mode particle diameter of the obtained particle|grains is less than 1.07 times of a median particle diameter, it adjusts so that it may become 1.07 times or more of a median particle diameter by classification, mixing, etc.

또한, 본 명세서에 있어서 상기 「(메트)아크릴」이란, 아크릴 또는 메타크릴을 의미한다.In addition, in this specification, the said "(meth)acryl" means acryl or methacryl.

상기 (메트)아크릴 입자를 형성하기 위한 원료가 되는 단량체로는, 예를 들어 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트, 부틸(메트)아크릴레이트, 헥실(메트)아크릴레이트, 옥틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 라우릴(메트)아크릴레이트, 세틸(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트 등의 알킬(메트)아크릴레이트류나, 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 글리세롤(메트)아크릴레이트, 폴리옥시에틸렌(메트)아크릴레이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트 등의 산소 원자 함유 (메트)아크릴레이트류나, (메트)아크릴로니트릴 등의 니트릴 함유 단량체나, 트리플루오로메틸(메트)아크릴레이트, 펜타플루오로에틸(메트)아크릴레이트 등의 불소 함유 (메트)아크릴레이트류 등의 단관능 단량체를 들 수 있다. 그 중에서도 단독 중합체의 Tg 가 낮고, 1 g 하중을 가했을 때의 변형량을 크게 할 수 있는 점에서, 알킬(메트)아크릴레이트류가 바람직하다.As a monomer used as a raw material for forming the (meth)acrylic particles, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, hexyl ( Meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, cetyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) Alkyl (meth) acrylates such as acrylate and isobornyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, glycerol (meth) acrylate, polyoxyethylene (meth) acrylate, glycy Oxygen atom-containing (meth)acrylates such as dil (meth)acrylate, nitrile-containing monomers such as (meth)acrylonitrile, trifluoromethyl (meth)acrylate, pentafluoroethyl (meth)acrylate Monofunctional monomers, such as fluorine-containing (meth)acrylates, such as these, are mentioned. Among them, alkyl (meth)acrylates are preferable because the homopolymer has a low Tg and can increase the amount of deformation when a load of 1 g is applied.

또한, 본 명세서에 있어서 상기 「(메트)아크릴레이트」란, 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트를 의미한다.In addition, in this specification, the said "(meth)acrylate" means an acrylate or a methacrylate.

또, 가교 구조를 갖게 하기 위해, 테트라메틸올메탄테트라(메트)아크릴레이트, 테트라메틸올메탄트리(메트)아크릴레이트, 테트라메틸올메탄디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 글리세롤트리(메트)아크릴레이트, 글리세롤디(메트)아크릴레이트, (폴리)에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, (폴리)프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, (폴리)테트라메틸렌디(메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 이소시아누르산 골격 트리(메트)아크릴레이트 등의 다관능 단량체를 사용해도 된다. 그 중에서도 가교점간 분자량이 크고, 1 g 하중을 가했을 때의 변형량을 크게 할 수 있는 점에서, (폴리)에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, (폴리)프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, (폴리)테트라메틸렌디(메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트가 바람직하다.Moreover, in order to have a crosslinked structure, tetramethylol methane tetra (meth) acrylate, tetramethylol methane tri (meth) acrylate, tetramethylol methane di (meth) acrylate, trimethylol propane tri (meth) acryl Rate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, glycerol di (meth) acrylate, (poly) ethylene glycol di (meth) acrylic rate, (poly) propylene glycol di (meth) acrylate, (poly) tetramethylene di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate and polyfunctional monomers such as isocyanuric acid skeleton tri(meth)acrylate. Among them, (poly)ethylene glycol di(meth)acrylate, (poly)propylene glycol di(meth)acrylate, (poly) ethylene glycol di(meth)acrylate, (poly) ) Tetramethylene di(meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, and 1,6-hexanediol di(meth)acrylate are preferable.

상기 가교성 단량체의 사용량은, 단량체 전체에 있어서 바람직한 하한은 1 중량%, 바람직한 상한은 90 중량% 이다. 상기 가교성 단량체의 사용량이 1 중량% 이상임으로써, 내용제성이 향상되어, 다양한 시일제 원료와 혼련했을 때에 팽윤 등의 문제를 일으키지 않고 균일하게 분산되기 쉬워진다. 상기 가교성 단량체의 사용량이 90 중량% 이하임으로써, 회복률을 낮게 할 수 있어, 스프링 백 등의 문제가 잘 일어나지 않게 된다. 상기 가교성 단량체의 사용량의 보다 바람직한 하한은 3 중량%, 보다 바람직한 상한은 80 중량% 이다.As for the usage-amount of the said crosslinkable monomer, in the whole monomer, a preferable minimum is 1 weight%, and a preferable upper limit is 90 weight%. When the usage-amount of the said crosslinkable monomer is 1 weight% or more, solvent resistance improves and it becomes easy to disperse|distribute uniformly, without raising problems, such as swelling, when it kneads|mixed with various sealing compound raw materials. When the usage-amount of the said crosslinkable monomer is 90 weight% or less, a recovery rate can be made low, and problems, such as a springback, do not occur easily. The more preferable lower limit of the usage-amount of the said crosslinkable monomer is 3 weight%, and a more preferable upper limit is 80 weight%.

또한, 이들 아크릴계 단량체에 추가하여, 스티렌, α-메틸스티렌 등의 스티렌계 단량체나, 메틸비닐에테르, 에틸비닐에테르, 프로필비닐에테르 등의 비닐에테르류나, 아세트산비닐, 부티르산비닐, 라우르산비닐, 스테아르산비닐 등의 산 비닐에스테르류나, 에틸렌, 프로필렌, 이소프렌, 부타디엔 등의 불포화 탄화수소나, 염화비닐, 불화비닐, 클로르스티렌 등의 할로겐 함유 단량체나, 트리알릴(이소)시아누레이트, 트리알릴트리멜리테이트, 디비닐벤젠, 디알릴프탈레이트, 디알릴아크릴아미드, 디알릴에테르, γ-(메트)아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 트리메톡시실릴스티렌, 비닐트리메톡시실란 등의 단량체를 사용해도 된다.In addition to these acrylic monomers, styrene-based monomers such as styrene and α-methylstyrene, vinyl ethers such as methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, and propyl vinyl ether, vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl laurate, Acid vinyl esters such as vinyl stearate, unsaturated hydrocarbons such as ethylene, propylene, isoprene and butadiene, halogen-containing monomers such as vinyl chloride, vinyl fluoride, and chlorstyrene, triallyl (iso)cyanurate, triallyltri Monomers such as melitate, divinylbenzene, diallyl phthalate, diallyl acrylamide, diallyl ether, γ-(meth)acryloxypropyltrimethoxysilane, trimethoxysilylstyrene, and vinyltrimethoxysilane may be used. do.

또, 상기 비닐계 입자로는, 예를 들어 폴리디비닐벤젠 입자, 폴리클로로프렌 입자, 부타디엔 고무 입자 등을 사용해도 된다.Moreover, as said vinyl particle, you may use polydivinylbenzene particle|grains, polychloroprene particle|grains, butadiene rubber particle|grains, etc., for example.

상기 우레탄계 입자 중 시판되고 있는 것으로는, 예를 들어 아트펄 (네가미 공업사 제조), 다이믹 비즈 (다이이치 정화 공업사 제조) 등을 들 수 있고, 이들을 분급이나 혼합 등에 의해 최빈 입자 직경이 중위 입자 직경의 1.07 배 이상이 되도록 조정하여 사용할 수 있다.Examples of commercially available urethane-based particles include Art Pearl (manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.) and Dynamic Beads (manufactured by Daiichi Seijo Kogyo Co., Ltd.). These particles have a median particle diameter in the mode of particle size by classification, mixing, or the like. It can be used by adjusting it to be 1.07 times or more of the diameter.

상기 유연 입자의 경도의 바람직한 하한은 10, 바람직한 상한은 50 이다. 상기 유연 입자의 경도가 50 을 초과하면, 얻어지는 액정 적하 공법용 시일제가 접착성이 열등한 것이 되거나, 얻어지는 액정 표시 소자에 갭 불량이 생기거나 하는 경우가 있다. 상기 유연 입자의 경도의 보다 바람직한 하한은 20, 보다 바람직한 상한은 40 이다.A preferable minimum of the hardness of the said flexible particle|grain is 10, and a preferable upper limit is 50. When the hardness of the said flexible particle|grain exceeds 50, the sealing compound for liquid crystal dropping methods obtained may become a thing inferior in adhesiveness, or a gap defect may arise in the liquid crystal display element obtained. A more preferable minimum of the hardness of the said flexible particle|grain is 20, and a more preferable upper limit is 40.

또한, 본 명세서에 있어서 상기 유연 입자의 경도는, JIS K 6253 에 준거한 방법에 의해 측정되는 듀로미터 A 경도를 의미한다.In addition, in this specification, the hardness of the said flexible particle|grain means the durometer A hardness measured by the method based on JISK6253.

상기 유연 입자의 함유량은, 경화성 수지 100 중량부에 대하여 바람직한 하한이 15 중량부, 바람직한 상한이 50 중량부이다. 상기 유연 입자의 함유량이 15 중량부 미만이면, 시일제의 액정으로의 용출을 충분히 방지할 수 없게 되는 경우가 있다. 상기 유연 입자의 함유량이 50 중량부를 초과하면, 얻어지는 액정 적하 공법용 시일제가 도포성이나 접착성이 열등한 것이 되는 경우가 있다. 상기 유연 입자의 함유량의 보다 바람직한 하한은 20 중량부, 보다 바람직한 상한은 40 중량부이다.As for content of the said flexible particle|grain, a preferable minimum is 15 weight part with respect to 100 weight part of curable resin, and a preferable upper limit is 50 weight part. When content of the said flexible particle|grain is less than 15 weight part, it may become impossible to fully prevent the elution to the liquid crystal of a sealing compound. When content of the said flexible particle|grain exceeds 50 weight part, the sealing compound for liquid crystal dropping methods obtained may become inferior to applicability|paintability and adhesiveness. A more preferable minimum of content of the said flexible particle|grain is 20 weight part, and a more preferable upper limit is 40 weight part.

본 발명의 액정 적하 공법용 시일제는, 경화성 수지를 함유한다.The sealing compound for liquid crystal dropping methods of this invention contains curable resin.

상기 경화성 수지는, (메트)아크릴 수지를 함유하는 것이 바람직하다.It is preferable that the said curable resin contains a (meth)acrylic resin.

본 발명의 액정 적하 공법용 시일제는, 신속하게 경화시킬 수 있기 때문에, 경화성 수지로서 (메트)아크릴 수지를 함유하고, 또한 중합 개시제로서 후술하는 라디칼 중합 개시제를 함유하는 것이 바람직하고, 가열만으로 본 발명의 액정 적하 공법용 시일제를 신속하게 경화시키는 것이 가능해져, 협액자 설계의 액정 표시 소자이더라도 액정 오염의 발생을 충분히 억제할 수 있기 때문에, (메트)아크릴 수지와 후술하는 열 라디칼 중합 개시제를 함유하는 것이 보다 바람직하다.Since the sealing compound for liquid crystal dropping methods of this invention can be hardened quickly, it is preferable to contain (meth)acrylic resin as curable resin, and to contain the radical polymerization initiator mentioned later as a polymerization initiator, and only heating Since it becomes possible to quickly harden the sealing compound for liquid crystal dropping methods of the present invention, and even a liquid crystal display element of a narrow frame design, generation of liquid crystal contamination can be sufficiently suppressed, (meth)acrylic resin and a thermal radical polymerization initiator described later It is more preferable to contain.

상기 경화성 수지는, 에폭시(메트)아크릴레이트를 함유하는 것이 보다 바람직하다.It is more preferable that the said curable resin contains epoxy (meth)acrylate.

또한, 본 명세서에 있어서 상기 「(메트)아크릴 수지」란, (메트)아크릴로일기를 갖는 수지를 의미하고, 상기 「(메트)아크릴로일기」란, 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기를 의미한다. 또, 상기 「에폭시(메트)아크릴레이트」란, 에폭시 수지 중의 모든 에폭시기를 (메트)아크릴산과 반응시킨 화합물을 의미한다.In addition, in this specification, the said "(meth)acrylic resin" means resin which has a (meth)acryloyl group, and the said "(meth)acryloyl group" means an acryloyl group or a methacryloyl group do. In addition, the said "epoxy (meth)acrylate" means the compound which made all the epoxy groups in an epoxy resin react with (meth)acrylic acid.

상기 에폭시(메트)아크릴레이트를 합성하기 위한 원료가 되는 에폭시 수지로는, 예를 들어 비스페놀 A 형 에폭시 수지, 비스페놀 F 형 에폭시 수지, 비스페놀 S 형 에폭시 수지, 2,2'-디알릴비스페놀 A 형 에폭시 수지, 수소 첨가 비스페놀형 에폭시 수지, 프로필렌옥사이드 부가 비스페놀 A 형 에폭시 수지, 레조르시놀형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 술파이드형 에폭시 수지, 디페닐에테르형 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지, 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 오르토크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔 노볼락형 에폭시 수지, 비페닐 노볼락형 에폭시 수지, 나프탈렌페놀 노볼락형 에폭시 수지, 글리시딜아민형 에폭시 수지, 알킬폴리올형 에폭시 수지, 고무 변성형 에폭시 수지, 글리시딜에스테르 화합물, 비스페놀 A 형 에피술파이드 수지 등을 들 수 있다.As an epoxy resin used as a raw material for synthesizing the epoxy (meth)acrylate, for example, a bisphenol A type epoxy resin, a bisphenol F type epoxy resin, a bisphenol S type epoxy resin, and 2,2'-diallylbisphenol A type Epoxy resin, hydrogenated bisphenol type epoxy resin, propylene oxide added bisphenol A type epoxy resin, resorcinol type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, sulfide type epoxy resin, diphenyl ether type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin Resin, naphthalene type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, orthocresol novolak type epoxy resin, dicyclopentadiene novolak type epoxy resin, biphenyl novolak type epoxy resin, naphthalenephenol novolak type epoxy resin, glycy dilamine-type epoxy resins, alkyl polyol-type epoxy resins, rubber-modified epoxy resins, glycidyl ester compounds, bisphenol A-type episulfide resins, and the like.

상기 비스페놀 A 형 에폭시 수지 중 시판되고 있는 것으로는, 예를 들어 jER828EL, jER1001, jER1004 (모두 미츠비시 화학사 제조), 에피클론 850-S (DIC 사 제조) 등을 들 수 있다.As what is marketed among the said bisphenol A epoxy resins, jER828EL, jER1001, jER1004 (all are made by Mitsubishi Chemical Corporation), Epiclone 850-S (made by DIC Corporation), etc. are mentioned, for example.

상기 비스페놀 F 형 에폭시 수지 중 시판되고 있는 것으로는, 예를 들어 jER806, jER4004 (모두 미츠비시 화학사 제조) 등을 들 수 있다.As what is marketed among the said bisphenol F-type epoxy resins, jER806, jER4004 (all are Mitsubishi Chemical Corporation make) etc. are mentioned, for example.

상기 비스페놀 S 형 에폭시 수지 중 시판되고 있는 것으로는, 예를 들어 에피클론 EXA1514 (DIC 사 제조) 등을 들 수 있다.As what is marketed among the said bisphenol S-type epoxy resins, Epiclon EXA1514 (made by DIC Corporation) etc. are mentioned, for example.

상기 2,2'-디알릴비스페놀 A 형 에폭시 수지 중 시판되고 있는 것으로는, 예를 들어 RE-810NM (닛폰 화약사 제조) 등을 들 수 있다.As what is marketed among the said 2,2'- diallylbisphenol A epoxy resins, RE-810NM (made by Nippon Kayaku Co., Ltd.) etc. are mentioned, for example.

상기 수소 첨가 비스페놀형 에폭시 수지 중 시판되고 있는 것으로는, 예를 들어 에피클론 EXA7015 (DIC 사 제조) 등을 들 수 있다.As what is marketed among the said hydrogenated bisphenol-type epoxy resins, Epiclon EXA7015 (made by DIC Corporation) etc. are mentioned, for example.

상기 프로필렌옥사이드 부가 비스페놀 A 형 에폭시 수지 중 시판되고 있는 것으로는, 예를 들어 EP-4000S (ADEKA 사 제조) 등을 들 수 있다.As what is marketed among the said propylene oxide addition bisphenol A epoxy resins, EP-4000S (made by ADEKA) etc. are mentioned, for example.

상기 레조르시놀형 에폭시 수지 중 시판되고 있는 것으로는, 예를 들어 EX-201 (나가세켐텍스사 제조) 등을 들 수 있다.As what is marketed among the said resorcinol type epoxy resin, EX-201 (made by Nagase Chemtex) etc. is mentioned, for example.

상기 비페닐형 에폭시 수지 중 시판되고 있는 것으로는, 예를 들어 jERYX-4000H (미츠비시 화학사 제조) 등을 들 수 있다.As what is marketed among the said biphenyl type epoxy resin, jERYX-4000H (made by Mitsubishi Chemical Corporation) etc. are mentioned, for example.

상기 술파이드형 에폭시 수지 중 시판되고 있는 것으로는, 예를 들어 YSLV-50TE (신닛테츠스미킨 화학사 제조) 등을 들 수 있다.As what is marketed among the said sulfide-type epoxy resins, YSLV-50TE (made by the Nippon Tetsu Sumikin Chemical Company) etc. are mentioned, for example.

상기 디페닐에테르형 에폭시 수지 중 시판되고 있는 것으로는, 예를 들어 YSLV-80DE (신닛테츠스미킨 화학사 제조) 등을 들 수 있다.As what is marketed among the said diphenyl ether type|mold epoxy resin, YSLV-80DE (made by a Nippon-Tsumikin Chemical company) etc. are mentioned, for example.

상기 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지 중 시판되고 있는 것으로는, 예를 들어 EP-4088S (ADEKA 사 제조) 등을 들 수 있다.As what is marketed among the said dicyclopentadiene type epoxy resin, EP-4088S (made by ADEKA) etc. are mentioned, for example.

상기 나프탈렌형 에폭시 수지 중 시판되고 있는 것으로는, 예를 들어 에피클론 HP4032, 에피클론 EXA-4700 (모두 DIC 사 제조) 등을 들 수 있다.As what is marketed among the said naphthalene type epoxy resins, Epiclon HP4032, Epiclon EXA-4700 (all are made by DIC Corporation), etc. are mentioned, for example.

상기 페놀 노볼락형 에폭시 수지 중 시판되고 있는 것으로는, 예를 들어 에피클론 N-770 (DIC 사 제조) 등을 들 수 있다.As what is marketed among the said phenol novolak-type epoxy resins, Epiclon N-770 (made by DIC Corporation) etc. are mentioned, for example.

상기 오르토크레졸 노볼락형 에폭시 수지 중 시판되고 있는 것으로는, 예를 들어 에피클론 N-670-EXP-S (DIC 사 제조) 등을 들 수 있다.As what is marketed among the said orthocresol novolak-type epoxy resins, Epiclon N-670-EXP-S (made by DIC Corporation) etc. are mentioned, for example.

상기 디시클로펜타디엔 노볼락형 에폭시 수지 중 시판되고 있는 것으로는, 예를 들어 에피클론 HP7200 (DIC 사 제조) 등을 들 수 있다.As what is marketed among the said dicyclopentadiene novolak-type epoxy resins, Epiclon HP7200 (made by DIC Corporation) etc. are mentioned, for example.

상기 비페닐 노볼락형 에폭시 수지 중 시판되고 있는 것으로는, 예를 들어 NC-3000P (닛폰 화약사 제조) 등을 들 수 있다.As what is marketed among the said biphenyl novolak-type epoxy resins, NC-3000P (made by Nippon Kayaku Co., Ltd.) etc. are mentioned, for example.

상기 나프탈렌페놀 노볼락형 에폭시 수지 중 시판되고 있는 것으로는, 예를 들어 ESN-165S (신닛테츠스미킨 화학사 제조) 등을 들 수 있다.As what is marketed among the said naphthalenephenol novolak-type epoxy resins, ESN-165S (made by Nippon-Tsumikin Chemical Co., Ltd.) etc. are mentioned, for example.

상기 글리시딜아민형 에폭시 수지 중 시판되고 있는 것으로는, 예를 들어 jER630 (미츠비시 화학사 제조), 에피클론 430 (DIC 사 제조), TETRAD-X (미츠비시 가스 화학사 제조) 등을 들 수 있다.As what is marketed among the said glycidylamine type epoxy resin, jER630 (made by Mitsubishi Chemical Corporation), Epiclone 430 (made by DIC Corporation), TETRAD-X (made by Mitsubishi Gas Chemicals), etc. are mentioned, for example.

상기 알킬폴리올형 에폭시 수지 중 시판되고 있는 것으로는, 예를 들어 ZX-1542 (신닛테츠스미킨 화학사 제조), 에피클론 726 (DIC 사 제조), 에포라이트 80MFA (쿄에이샤 화학사 제조), 데나콜 EX-611 (나가세켐텍스사 제조) 등을 들 수 있다.As what is marketed among the said alkyl polyol type epoxy resins, For example, ZX-1542 (made by Nippon-Tsumikin Chemicals), Epiclone 726 (made by DIC), Eporite 80MFA (made by Kyoeisha Chemicals), Denacol EX-611 (manufactured by Nagase Chemtex) and the like.

상기 고무 변성형 에폭시 수지 중 시판되고 있는 것으로는, 예를 들어 YR-450, YR-207 (모두 신닛테츠스미킨 화학사 제조), 에포리드 PB (다이셀사 제조) 등을 들 수 있다.As what is marketed among the said rubber-modified epoxy resins, YR-450, YR-207 (all are the Shin-Nittetsu Sumikin Chemicals make), Epolide PB (made by Daicel), etc. are mentioned, for example.

상기 글리시딜에스테르 화합물 중 시판되고 있는 것으로는, 예를 들어 데나콜 EX-147 (나가세켐텍스사 제조) 등을 들 수 있다.As what is marketed among the said glycidyl ester compound, Denacol EX-147 (made by Nagase Chemtex) etc. is mentioned, for example.

상기 비스페놀 A 형 에피술파이드 수지 중 시판되고 있는 것으로는, 예를 들어 jERYL-7000 (미츠비시 화학사 제조) 등을 들 수 있다.As what is marketed among the said bisphenol A episulfide resins, jERYL-7000 (made by Mitsubishi Chemical Corporation) etc. are mentioned, for example.

상기 에폭시 수지 중 그 외에 시판되고 있는 것으로는, 예를 들어 YDC-1312, YSLV-80XY, YSLV-90CR (모두 신닛테츠스미킨 화학사 제조), XAC4151 (아사히 화성사 제조), jER1031, jER1032 (모두 미츠비시 화학사 제조), EXA-7120 (DIC 사 제조), TEPIC (닛산 화학사 제조) 등을 들 수 있다.Other commercially available epoxy resins include, for example, YDC-1312, YSLV-80XY, YSLV-90CR (all manufactured by Shin-Nittetsu Chemical Co., Ltd.), XAC4151 (all manufactured by Asahi Chemical Co., Ltd.), jER1031, jER1032 (all manufactured by Mitsubishi). Chemical company make), EXA-7120 (made by DIC company), TEPIC (made by Nissan Chemical company), etc. are mentioned.

상기 에폭시(메트)아크릴레이트 중 시판되고 있는 것으로는, 예를 들어 EBECRYL860, EBECRYL3200, EBECRYL3201, EBECRYL3412, EBECRYL3600, EBECRYL3700, EBECRYL3701, EBECRYL3702, EBECRYL3703, EBECRYL3800, EBECRYL6040, EBECRYLRDX63182 (모두 다이셀·올넥스사 제조), EA-1010, EA-1020, EA-5323, EA-5520, EA-CHD, EMA-1020 (모두 신나카무라 화학 공업사 제조), 에폭시에스테르 M-600A, 에폭시에스테르 40EM, 에폭시에스테르 70PA, 에폭시에스테르 200PA, 에폭시에스테르 80MFA, 에폭시에스테르 3002M, 에폭시에스테르 3002A, 에폭시에스테르 1600A, 에폭시에스테르 3000M, 에폭시에스테르 3000A, 에폭시에스테르 200EA, 에폭시에스테르 400EA (모두 쿄에이샤 화학사 제조), 데나콜아크릴레이트 DA-141, 데나콜아크릴레이트 DA-314, 데나콜아크릴레이트 DA-911 (모두 나가세켐텍스사 제조) 등을 들 수 있다.Among the above-mentioned epoxy (meth) acrylates, commercially available ones include, for example, EBECRYL860, EBECRYL3200, EBECRYL3201, EBECRYL3412, EBECRYL3600, EBECRYL3700, EBECRYL3701, EBECRYL3702, EBECRYL3703, EBRYECRYL603 manufactured by DYCELL EBECRYL3800 (all manufactured by Daicel EBECRYL3800, EBRY ALL EBECRYL3800) , EA-1010, EA-1020, EA-5323, EA-5520, EA-CHD, EMA-1020 (all manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), Epoxy Ester M-600A, Epoxy Ester 40EM, Epoxy Ester 70PA, Epoxy Ester 200PA , Epoxy ester 80MFA, Epoxy ester 3002M, Epoxy ester 3002A, Epoxy ester 1600A, Epoxy ester 3000M, Epoxy ester 3000A, Epoxy ester 200EA, Epoxy ester 400EA (all manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Denacol acrylate DA-141, Dena Chole acrylate DA-314 and denacol acrylate DA-911 (all are made by Nagase Chemtex Corporation), etc. are mentioned.

상기 에폭시(메트)아크릴레이트 이외의 다른 (메트)아크릴 수지로는, 예를 들어 (메트)아크릴산에 수산기를 갖는 화합물을 반응시킴으로써 얻어지는 에스테르 화합물, 이소시아네이트 화합물에 수산기를 갖는 (메트)아크릴산 유도체를 반응시킴으로써 얻어지는 우레탄(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.As other (meth)acrylic resins other than the said epoxy (meth)acrylate, for example, an ester compound obtained by reacting (meth)acrylic acid with a compound having a hydroxyl group, an isocyanate compound A (meth)acrylic acid derivative having a hydroxyl group is reacted The urethane (meth)acrylate etc. obtained by making it are mentioned are mentioned.

상기 (메트)아크릴산에 수산기를 갖는 화합물을 반응시킴으로써 얻어지는 에스테르 화합물 중 단관능인 것으로는, 예를 들어 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, n-옥틸(메트)아크릴레이트, 이소옥틸(메트)아크릴레이트, 이소노닐(메트)아크릴레이트, 이소데실(메트)아크릴레이트, 라우릴(메트)아크릴레이트, 이소미리스틸(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시부틸(메트)아크릴레이트, 4-하이드록시부틸(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 비시클로펜테닐(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 2-메톡시에틸(메트)아크릴레이트, 2-에톡시에틸(메트)아크릴레이트, 2-부톡시에틸(메트)아크릴레이트, 2-페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 메톡시에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 페녹시디에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 페녹시폴리에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트, 에틸카르비톨(메트)아크릴레이트, 2,2,2-트리플루오로에틸(메트)아크릴레이트, 2,2,3,3-테트라플루오로프로필(메트)아크릴레이트, 1H,1H,5H-옥타플루오로펜틸(메트)아크릴레이트, 이미드(메트)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 디에틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸숙신산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸헥사하이드로프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸2-하이드록시프로필프탈레이트, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸포스페이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Among the ester compounds obtained by reacting (meth)acrylic acid with a compound having a hydroxyl group, monofunctional ones include, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, n-butyl ( Meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, iso Nonyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, isomyristyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate , 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate , bicyclopentenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 2-butoxyethyl (meth) acrylate , 2-phenoxyethyl (meth) acrylate, methoxyethylene glycol (meth) acrylate, methoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth) acrylate, phenoxy polyethylene glycol (meth) acrylic rate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, ethyl carbitol (meth) acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl ( Meth) acrylate, 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl (meth) acrylate, imide (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, 2- (meth)acryloyloxyethyl succinic acid, 2-(meth)acryloyloxyethylhexahydrophthalic acid, 2-(meth)acryloyloxyethyl 2-hydroxypropylphthalate, 2-(meth)acryloyloxy Ethyl phosphate, glycidyl (meth)acrylate, etc. are mentioned.

상기 에스테르 화합물 중 2 관능인 것으로는, 예를 들어 1,3-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메트)아크릴레이트, 1,10-데칸디올디(메트)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 2-n-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올디(메트)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 부가 비스페놀 A 디(메트)아크릴레이트, 프로필렌옥사이드 부가 비스페놀 A 디 (메트)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 부가 비스페놀 F 디(메트)아크릴레이트, 디메틸올디시클로펜타디에닐디(메트)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 이소시아누르산디(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시-3-(메트)아크릴로일옥시프로필(메트)아크릴레이트, 카보네이트디올디(메트)아크릴레이트, 폴리에테르디올디(메트)아크릴레이트, 폴리에스테르디올디(메트)아크릴레이트, 폴리카프로락톤디올디(메트)아크릴레이트, 폴리부타디엔디올디(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Among the ester compounds, the bifunctional ones include, for example, 1,3-butanediol di(meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, 1,10-decanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di ( Meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, 2-n-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol di(meth)acrylate, dipropylene glycol di(meth)acrylate, tripropylene glycol Di(meth)acrylate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, ethylene oxide addition bisphenol A di(meth)acrylate, propylene oxide addition bisphenol A di(meth)acrylate , Ethylene oxide addition bisphenol F di(meth)acrylate, dimethyloldicyclopentadienyldi(meth)acrylate, ethylene oxide-modified isocyanuric acid di(meth)acrylate, 2-hydroxy-3-(meth)acrylo Iloxypropyl (meth) acrylate, carbonate diol di (meth) acrylate, polyether diol di (meth) acrylate, polyester diol di (meth) acrylate, polycaprolactone diol di (meth) acrylate, poly Butadienediol di(meth)acrylate, etc. are mentioned.

상기 에스테르 화합물중 3 관능 이상인 것으로는, 예를 들어 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 부가 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 프로필렌옥사이드 부가 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 부가 이소시아누르산트리(메트)아크릴레이트, 글리세린트리(메트)아크릴레이트, 프로필렌옥사이드 부가 글리세린트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 트리스(메트)아크릴로일옥시에틸포스페이트, 디트리메틸올프로판테트라(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Among the ester compounds, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, ethylene oxide addition trimethylolpropane tri(meth)acrylate, propylene oxide addition trimethylolpropane tri(meth)acrylate, capro Lactone-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene oxide addition isocyanuric acid tri (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, propylene oxide addition glycerin tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri ( Meth) acrylate, tris (meth) acryloyloxyethyl phosphate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipenta Erythritol hexa(meth)acrylate etc. are mentioned.

상기 우레탄(메트)아크릴레이트는, 예를 들어 2 개의 이소시아네이트기를 갖는 이소시아네이트 화합물 1 당량에 대하여 수산기를 갖는 (메트)아크릴산 유도체 2 당량을, 촉매량의 주석계 화합물 존재하에서 반응시킴으로써 얻을 수 있다.The urethane (meth)acrylate can be obtained by, for example, reacting 2 equivalents of a (meth)acrylic acid derivative having a hydroxyl group with 1 equivalent of an isocyanate compound having two isocyanate groups in the presence of a catalytic amount of a tin-based compound.

상기 우레탄(메트)아크릴레이트의 원료가 되는 이소시아네이트 화합물로는, 예를 들어 이소포론디이소시아네이트, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 디페닐메탄-4,4'-디이소시아네이트 (MDI), 수소 첨가 MDI, 폴리메릭 MDI, 1,5-나프탈렌디이소시아네이트, 노르보르난디이소시아네이트, 톨리딘디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트 (XDI), 수소 첨가 XDI, 리신디이소시아네이트, 트리페닐메탄트리이소시아네이트, 트리스(이소시아네이트페닐)티오포스페이트, 테트라메틸자일렌디이소시아네이트, 1,6,11-운데칸트리이소시아네이트 등을 들 수 있다. As an isocyanate compound used as a raw material of the said urethane (meth)acrylate, For example, isophorone diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate , diphenylmethane-4,4'-diisocyanate (MDI), hydrogenated MDI, polymeric MDI, 1,5-naphthalene diisocyanate, norbornane diisocyanate, tolidine diisocyanate, xylylene diisocyanate (XDI), hydrogen Added XDI, lysine diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, tris(isocyanatephenyl)thiophosphate, tetramethylxylene diisocyanate, 1,6,11- undecane triisocyanate, etc. are mentioned.

또, 상기 이소시아네이트 화합물로는, 예를 들어 에틸렌글리콜, 글리세린, 소르비톨, 트리메틸올프로판, 프로필렌글리콜, 카보네이트디올, 폴리에테르디올, 폴리에스테르디올, 폴리카프로락톤디올 등의 폴리올과 과잉의 이소시아네이트 화합물의 반응에 의해 얻어지는 사슬 연장된 이소시아네이트 화합물도 사용할 수 있다.Moreover, as said isocyanate compound, For example, Reaction of polyols, such as ethylene glycol, glycerol, sorbitol, trimethylol propane, propylene glycol, carbonate diol, polyetherdiol, polyesterdiol, polycaprolactonediol, and an excess isocyanate compound A chain-extended isocyanate compound obtained by

상기 우레탄(메트)아크릴레이트의 원료가 되는 수산기를 갖는 (메트)아크릴산 유도체로는, 예를 들어 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 4-하이드록시부틸(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시부틸(메트)아크릴레이트 등의 하이드록시알킬모노(메트)아크릴레이트나, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 1,3-프로판디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 폴리에틸렌글리콜 등의 2 가의 알코올의 모노(메트)아크릴레이트, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 글리세린 등의 3 가의 알코올의 모노(메트)아크릴레이트 또는 디(메트)아크릴레이트나, 비스페놀 A 형 에폭시아크릴레이트 등의 에폭시(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.As the (meth)acrylic acid derivative having a hydroxyl group as a raw material of the urethane (meth)acrylate, for example, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxy Hydroxyalkyl mono(meth)acrylates such as hydroxybutyl (meth)acrylate and 2-hydroxybutyl (meth)acrylate; ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol; Mono(meth)acrylates of dihydric alcohols such as 1,4-butanediol and polyethylene glycol, mono(meth)acrylates or di(meth)acrylates of trihydric alcohols such as trimethylolethane, trimethylolpropane, and glycerin; and epoxy (meth)acrylates such as bisphenol A epoxy acrylate.

상기 우레탄(메트)아크릴레이트 중 시판되고 있는 것으로는, 예를 들어 M-1100, M-1200, M-1210, M-1600 (모두 토아 합성사 제조), EBECRYL230, EBECRYL270, EBECRYL4858, EBECRYL8402, EBECRYL8804, EBECRYL8803, EBECRYL8807, EBECRYL9260, EBECRYL1290, EBECRYL5129, EBECRYL4842, EBECRYL210, EBECRYL4827, EBECRYL6700, EBECRYL220, EBECRYL2220 (모두 다이셀·올네스사 제조), 아트레진 UN-9000H, 아트레진 UN-9000A, 아트레진 UN-7100, 아트레진 UN-1255, 아트레진 UN-330, 아트레진 UN-3320HB, 아트레진 UN-1200TPK, 아트레진 SH-500B (모두 네가미 공업사 제조), U-122P, U-108A, U-340P, U-4HA, U-6HA, U-324A, U-15HA, UA-5201P, UA-W2A, U-1084A, U-6LPA, U-2HA, U-2PHA, UA-4100, UA-7100, UA-4200, UA-4400, UA-340P, U-3HA, UA-7200, U-2061BA, U-10H, U-122A, U-340A, U-108, U-6H, UA-4000 (모두 신나카무라 화학 공업사 제조), AH-600, AT-600, UA-306H, AI-600, UA-101T, UA-101I, UA-306T, UA-306I (모두 쿄에이샤 화학사 제조) 등을 들 수 있다.Among the urethane (meth) acrylates that are commercially available, for example, M-1100, M-1200, M-1210, M-1600 (all manufactured by Toa Synthetic Corporation), EBECRYL230, EBECRYL270, EBECRYL4858, EBECRYL8402, EBECRYL8804, EBECRYL8803 , EBECRYL8807, EBECRYL9260, EBECRYL1290, EBECRYL5129, EBECRYL4842, EBECRYL210, EBECRYL4827, EBECRYL6700, EBECRYL220, EBECRYL2220 (all manufactured by Daicel Olnes), Atresin UN-9000H, Atresin UN-9000H, Atresin UN-9000H Resin UN-1255, Art Resin UN-330, Art Resin UN-3320HB, Art Resin UN-1200TPK, Art Resin SH-500B (all manufactured by Negami Industries), U-122P, U-108A, U-340P, U- 4HA, U-6HA, U-324A, U-15HA, UA-5201P, UA-W2A, U-1084A, U-6LPA, U-2HA, U-2PHA, UA-4100, UA-7100, UA-4200, UA-4400, UA-340P, U-3HA, UA-7200, U-2061BA, U-10H, U-122A, U-340A, U-108, U-6H, UA-4000 (all manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industries) ), AH-600, AT-600, UA-306H, AI-600, UA-101T, UA-101I, UA-306T, UA-306I (all of which are manufactured by Kyoeisha Chemical Corporation) and the like.

상기 (메트)아크릴 수지는, 액정에 대한 악영향을 억제하는 점에서, -OH 기, -NH- 기, -NH2 기 등의 수소 결합성의 유닛을 갖는 것이 바람직하다. 또, 상기 (메트)아크릴 수지는, 높은 반응성의 관점에서 분자 중에 (메트)아크릴로일기를 2 ∼ 3 개 갖는 것이 바람직하다.The (meth) acrylic resin is, in terms of suppressing the adverse effect on the liquid crystal, it is preferable to have a hydrogen bond Castle unit such as -OH group, -NH- group, -NH 2 group. Moreover, it is preferable that the said (meth)acrylic resin has 2-3 (meth)acryloyl groups in a molecule|numerator from a high reactivity viewpoint.

상기 경화성 수지는, 얻어지는 액정 적하 공법용 시일제의 접착성을 향상시키는 것 등을 목적으로 하여, 에폭시 수지를 함유해도 된다.The said curable resin may contain an epoxy resin for the purpose of improving the adhesiveness of the sealing compound for liquid crystal dropping methods obtained, etc.

상기 에폭시 수지로는, 예를 들어 상기 에폭시(메트)아크릴레이트를 합성하기 위한 원료가 되는 에폭시 수지나, 부분 (메트)아크릴 변성 에폭시 수지 등을 들 수 있다.As said epoxy resin, the epoxy resin used as a raw material for synthesizing the said epoxy (meth)acrylate, a partially (meth)acrylic-modified epoxy resin, etc. are mentioned, for example.

또한, 본 명세서에 있어서 상기 부분 (메트)아크릴 변성 에폭시 수지란, 1 분자 중에 에폭시기와 (메트)아크릴로일기를 각각 1 개 이상 갖는 수지를 의미하고, 예를 들어 2 개 이상의 에폭시기를 갖는 수지의 일부분의 에폭시기를 (메트)아크릴산과 반응시킴으로써 얻을 수 있다.In addition, in this specification, the said partially (meth)acryl-modified epoxy resin means a resin each having one or more epoxy groups and (meth)acryloyl groups in one molecule, for example, a resin having two or more epoxy groups. It can be obtained by reacting a part of the epoxy group with (meth)acrylic acid.

상기 부분 (메트)아크릴 변성 에폭시 수지 중 시판되고 있는 것으로는, 예를 들어 UVACURE1561 (다이셀·올넥스사 제조) 등을 들 수 있다.As what is marketed among the said partially (meth)acrylic-modified epoxy resins, UVACURE1561 (made by Daicel Allnex) etc. is mentioned, for example.

상기 경화성 수지로서 상기 에폭시 수지를 함유하는 경우, 상기 경화성 수지 전체에 있어서의 (메트)아크릴로일기와 에폭시기의 합계량에 대한 에폭시기의 비율의 바람직한 상한은 50 몰% 이다. 상기 에폭시기의 비율이 50 몰% 를 초과하면, 얻어지는 액정 적하 공법용 시일제의 액정에 대한 용해성이 높아져 액정 오염을 일으켜, 얻어지는 액정 표시 소자가 표시 성능이 열등한 것이 되는 경우가 있다. 상기 에폭시기의 비율의 보다 바람직한 상한은 20 몰% 이다.When the said epoxy resin is contained as said curable resin, the preferable upper limit of the ratio of the epoxy group with respect to the total amount of the (meth)acryloyl group in the said curable resin whole is 50 mol%. When the ratio of the said epoxy group exceeds 50 mol%, the solubility with respect to the liquid crystal of the sealing compound for liquid crystal dropping methods obtained increases, liquid-crystal contamination is raised, and the liquid crystal display element obtained may become inferior in display performance. The more preferable upper limit of the ratio of the said epoxy group is 20 mol%.

본 발명의 액정 적하 공법용 시일제는, 중합 개시제 및/또는 열 경화제를 함유한다.The sealing compound for liquid crystal dropping methods of this invention contains a polymerization initiator and/or a thermosetting agent.

그 중에서도 중합 개시제로서 라디칼 중합 개시제를 함유하는 것이 바람직하다. 스프링 백은, 상기 유연 입자의 입도 분포의 영향뿐만 아니라 시일제의 경화 속도에도 영향을 받는다. 상기 라디칼 중합 개시제는, 열 경화제에 비하여 경화 속도를 현격히 빠르게 할 수 있기 때문에, 상기 유연 입자와 조합하여 사용함으로써, 상기 유연 입자에 의해 발생하기 쉬운 스프링 백의 발생을 억제하는 효과가 더욱 우수한 것으로 할 수 있다.Especially, it is preferable to contain a radical polymerization initiator as a polymerization initiator. Springback is influenced not only by the influence of the particle size distribution of the said flexible particle|grain but also by the curing rate of a sealing compound. Since the radical polymerization initiator can significantly speed up the curing rate compared to the thermal curing agent, by using it in combination with the flexible particles, the effect of suppressing the occurrence of springback, which is likely to be caused by the flexible particles, can be made more excellent. have.

상기 라디칼 중합 개시제로는, 가열에 의해 라디칼을 발생하는 열 라디칼 중합 개시제, 광 조사에 의해 라디칼을 발생하는 광 라디칼 중합 개시제 등을 들 수 있다.As said radical polymerization initiator, the thermal radical polymerization initiator which generate|occur|produces a radical by heating, a radical photopolymerization initiator which generate|occur|produces a radical by light irradiation, etc. are mentioned.

상기 서술한 바와 같이, 상기 라디칼 중합 개시제는 열 경화제에 비하여 경화 속도가 현격히 빠르기 때문에, 라디칼 중합 개시제를 사용함으로써, 시일 브레이크나 액정 오염의 발생을 억제하고, 또한 상기 유연 입자를 배합함으로써 발생하기 쉬운 스프링 백도 보다 효과적으로 억제할 수 있다.As described above, the radical polymerization initiator has a significantly faster curing rate compared to the thermal curing agent, so by using the radical polymerization initiator, the occurrence of seal break and liquid crystal contamination is suppressed, and the flexible particles are easily generated by blending the Springback can also be suppressed more effectively.

그 중에서도, 얻어지는 액정 적하 공법용 시일제를 열에 의해 신속하게 경화시킬 수 있기 때문에, 열 라디칼 중합 개시제가 바람직하다.Especially, since the sealing compound for liquid crystal dropping methods obtained can be hardened quickly by a heat|fever, a thermal radical polymerization initiator is preferable.

상기 열 라디칼 중합 개시제로는, 예를 들어 아조 화합물, 유기 과산화물 등으로 이루어지는 것을 들 수 있다. 그 중에서도 고분자 아조 화합물로 이루어지는 고분자 아조 개시제가 바람직하다.As said thermal radical polymerization initiator, what consists of an azo compound, an organic peroxide, etc. is mentioned, for example. Among them, a polymer azo initiator composed of a polymer azo compound is preferable.

또한, 본 명세서에 있어서 고분자 아조 개시제란, 아조기를 갖고, 열에 의해 (메트)아크릴로일옥시기를 경화시킬 수 있는 라디칼을 생성하는 수 평균 분자량이 300 이상인 화합물을 의미한다.In addition, in this specification, a polymeric azo initiator means an azo group and a number average molecular weight which produces|generates the radical which can harden a (meth)acryloyloxy group by heat|fever is 300 or more compound means 300 or more.

상기 고분자 아조 개시제의 수 평균 분자량의 바람직한 하한은 1000, 바람직한 상한은 30 만이다. 상기 고분자 아조 개시제의 수 평균 분자량이 1000 미만이면, 고분자 아조 개시제가 액정에 악영향을 주는 경우가 있다. 상기 고분자 아조 개시제의 수 평균 분자량이 30 만을 초과하면, 경화성 수지에 대한 혼합이 곤란해지는 경우가 있다. 상기 고분자 아조 개시제의 수 평균 분자량의 보다 바람직한 하한은 5000, 보다 바람직한 상한은 10 만이며, 더욱 바람직한 하한은 1 만, 더욱 바람직한 상한은 9 만이다.The preferable lower limit of the number average molecular weight of the said polymeric azo initiator is 1000, and a preferable upper limit is 300,000. When the number average molecular weight of the said polymeric azo initiator is less than 1000, a polymeric azo initiator may exert a bad influence on a liquid crystal. When the number average molecular weight of the said polymeric azo initiator exceeds 300,000, mixing with respect to curable resin may become difficult. A more preferable minimum of the number average molecular weight of the said polymeric azo initiator is 5000, a more preferable upper limit is 100,000, a more preferable minimum is 10,000, and a more preferable upper limit is 90,000.

또한, 본 명세서에 있어서, 상기 수 평균 분자량은 겔 퍼미에이션 크로마토그래피 (GPC) 로 측정을 실시하고, 폴리스티렌 환산에 의해 구해지는 값이다. GPC 에 의해 폴리스티렌 환산에 의한 수 평균 분자량을 측정할 때의 칼럼으로는, 예를 들어 Shodex LF-804 (쇼와 전공사 제조) 등을 들 수 있다.In addition, in this specification, the said number average molecular weight is a value calculated|required by polystyrene conversion by measuring by gel permeation chromatography (GPC). As a column at the time of measuring the number average molecular weight by polystyrene conversion by GPC, Shodex LF-804 (made by Showa Denko Co., Ltd.) etc. are mentioned, for example.

상기 고분자 아조 개시제로는, 예를 들어 아조기를 개재하여 폴리알킬렌옥사이드나 폴리디메틸실록산 등의 유닛이 복수 결합된 구조를 갖는 것을 들 수 있다.Examples of the polymer azo initiator include those having a structure in which a plurality of units such as polyalkylene oxide and polydimethylsiloxane are bonded via an azo group.

상기 아조기를 개재하여 폴리알킬렌옥사이드 등의 유닛이 복수 결합된 구조를 갖는 고분자 아조 개시제로는, 폴리에틸렌옥사이드 구조를 갖는 것이 바람직하다. 이와 같은 고분자 아조 개시제로는, 예를 들어 4,4'-아조비스(4-시아노펜탄산) 과 폴리알킬렌글리콜의 중축합물이나, 4,4'-아조비스(4-시아노펜탄산) 과 말단 아미노기를 갖는 폴리디메틸실록산의 중축합물 등을 들 수 있고, 구체적으로는 예를 들어 VPE-0201, VPE-0401, VPE-0601, VPS-0501, VPS-1001 (모두 와코 순약 공업사 제조) 등을 들 수 있다.The polymer azo initiator having a structure in which a plurality of units such as polyalkylene oxide are bonded via the azo group preferably has a polyethylene oxide structure. As such a polymer azo initiator, for example, a polycondensate of 4,4'-azobis(4-cyanopentanoic acid) and polyalkylene glycol, 4,4'-azobis(4-cyanopentanoic acid) and Polycondensate of polydimethylsiloxane having a terminal amino group, etc. are mentioned, Specifically, For example, VPE-0201, VPE-0401, VPE-0601, VPS-0501, VPS-1001 (all manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) etc. are mentioned. can be heard

또, 고분자 아조 개시제 이외의 아조 개시제의 예로는, 예를 들어 V-65, V-501 (모두 와코 순약 공업사 제조) 등을 들 수 있다.Moreover, as an example of azo initiators other than a polymeric azo initiator, V-65, V-501 (all are made by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) etc. are mentioned, for example.

상기 유기 과산화물로는, 예를 들어 케톤퍼옥사이드, 퍼옥시케탈, 하이드로퍼옥사이드, 디알킬퍼옥사이드, 퍼옥시에스테르, 디아실퍼옥사이드, 퍼옥시디카보네이트 등을 들 수 있다.Examples of the organic peroxide include ketone peroxide, peroxyketal, hydroperoxide, dialkylperoxide, peroxyester, diacylperoxide, and peroxydicarbonate.

상기 광 라디칼 중합 개시제로는, 예를 들어 벤조페논계 화합물, 아세토페논계 화합물, 아실포스핀옥사이드계 화합물, 티타노센계 화합물, 옥심에스테르계 화합물, 벤조인에테르계 화합물, 티오크산톤 등을 들 수 있다.Examples of the radical photopolymerization initiator include benzophenone compounds, acetophenone compounds, acylphosphine oxide compounds, titanocene compounds, oxime ester compounds, benzoin ether compounds, thioxanthone, and the like. have.

상기 광 라디칼 중합 개시제 중 시판되고 있는 것으로는, 예를 들어 IRGACURE 184, IRGACURE 369, IRGACURE 379, IRGACURE 651, IRGACURE 819, IRGACURE 907, IRGACURE 2959, IRGACURE OXE01, 루시린 TPO (모두 BASF 사 제조), 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르 (모두 도쿄 화성 공업사 제조) 등을 들 수 있다.Among the radical photopolymerization initiators, commercially available ones include, for example, IRGACURE 184, IRGACURE 369, IRGACURE 379, IRGACURE 651, IRGACURE 819, IRGACURE 907, IRGACURE 2959, IRGACURE OXE01, Lucirin TPO (all manufactured by BASF), benzo Inmethyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether (all are the Tokyo Chemical Industry make) etc. are mentioned.

상기 중합 개시제로서 카티온 중합 개시제를 사용해도 된다.You may use a cationic polymerization initiator as said polymerization initiator.

상기 카티온 중합 개시제로는, 광 카티온 중합 개시제를 바람직하게 사용할 수 있다. 상기 광 카티온 중합 개시제는, 광 조사에 의해 프로톤산 또는 루이스산을 발생시키는 것이면 특별히 한정되지 않고, 이온성 광산 발생 타입이어도 되고, 비이온성 광산 발생 타입이어도 된다.As said cationic polymerization initiator, a photocationic polymerization initiator can be used preferably. The said photocationic polymerization initiator will not be specifically limited if a protonic acid or a Lewis acid is generated by light irradiation, An ionic photo-acid generation type may be sufficient, and a nonionic photo-acid generation type may be sufficient as it.

상기 광 카티온 중합 개시제로는, 예를 들어 방향족 디아조늄염, 방향족 할로늄염, 방향족 술포늄염 등의 오늄염류, 철-알렌 착물, 티타노센 착물, 아릴실란올-알루미늄 착물 등의 유기 금속 착물류 등을 들 수 있다.Examples of the photocationic polymerization initiator include onium salts such as aromatic diazonium salts, aromatic halonium salts and aromatic sulfonium salts, iron-allene complexes, titanocene complexes, and organometallic complexes such as arylsilanol-aluminum complexes. and the like.

상기 광 카티온 중합 개시제 중 시판되고 있는 것으로는, 예를 들어 아데카 옵토마 SP-150, 아데카 옵토마 SP-170 (모두 ADEKA 사 제조) 등을 들 수 있다.As what is marketed among the said photocationic polymerization initiators, Adeka Optoma SP-150, Adeka Optoma SP-170 (all are made by ADEKA Corporation), etc. are mentioned, for example.

상기 중합 개시제의 함유량은, 상기 경화성 수지 100 중량부에 대하여, 바람직한 하한이 0.1 중량부, 바람직한 상한이 30 중량부이다. 상기 중합 개시제의 함유량이 0.1 중량부 미만이면, 얻어지는 액정 적하 공법용 시일제를 충분히 경화시킬 수 없는 경우가 있다. 상기 중합 개시제의 함유량이 30 중량부를 초과하면, 얻어지는 액정 적하 공법용 시일제의 저장 안정성이 저하되는 경우가 있다. 상기 중합 개시제의 함유량의 보다 바람직한 하한은 1 중량부, 보다 바람직한 상한은 10 중량부이며, 더욱 바람직한 상한은 5 중량부이다.As for content of the said polymerization initiator, with respect to 100 weight part of said curable resin, a preferable minimum is 0.1 weight part, and a preferable upper limit is 30 weight part. The sealing compound for liquid crystal dropping methods obtained as content of the said polymerization initiator is less than 0.1 weight part may not fully be hardened. When content of the said polymerization initiator exceeds 30 weight part, the storage stability of the sealing compound for liquid crystal dropping methods obtained may fall. A more preferable lower limit of the content of the polymerization initiator is 1 part by weight, a more preferable upper limit is 10 parts by weight, and a still more preferable upper limit is 5 parts by weight.

상기 열 경화제로는, 예를 들어 유기산 하이드라지드, 이미다졸 유도체, 아민 화합물, 다가 페놀계 화합물, 산무수물 등을 들 수 있다. 그 중에서도 고형의 유기산 하이드라지드가 바람직하게 사용된다. As said thermosetting agent, organic acid hydrazide, an imidazole derivative, an amine compound, polyhydric phenol type compound, an acid anhydride etc. are mentioned, for example. Among them, solid organic acid hydrazide is preferably used.

상기 고형의 유기산 하이드라지드로는, 예를 들어 1,3-비스(하이드라지노카르보에틸)-5-이소프로필히단토인, 세바크산디하이드라지드, 이소프탈산디하이드라지드, 아디프산디하이드라지드, 말론산디하이드라지드 등을 들 수 있고, 시판되고 있는 것으로는, 예를 들어 아미큐어 VDH, 아미큐어 UDH (모두 아지노모토 파인테크노사 제조), SDH, IDH, ADH (모두 오오츠카 화학사 제조), MDH (니혼 파인캠사 제조) 등을 들 수 있다.Examples of the solid organic acid hydrazide include 1,3-bis(hydrazinocarboethyl)-5-isopropylhydantoin, sebacic acid dihydrazide, isophthalic acid dihydrazide, and adipic acid dihydrazide. drazide, malonic acid dihydrazide, etc. are mentioned, As what is marketed, For example, Amicure VDH, Amicure UDH (all are made by Ajinomoto Fine Techno), SDH, IDH, ADH (all are made by Otsuka Chemical Co., Ltd.) , MDH (manufactured by Nippon Fine Cam), and the like.

상기 열 경화제의 함유량은, 상기 경화성 수지 100 중량부에 대하여, 바람직한 하한이 1 중량부, 바람직한 상한이 50 중량부이다. 상기 열 경화제의 함유량이 1 중량부 미만이면, 얻어지는 액정 적하 공법용 시일제를 충분히 열 경화시킬 수 없는 경우가 있다. 상기 열 경화제의 함유량이 50 중량부를 초과하면, 얻어지는 액정 적하 공법용 시일제의 점도가 지나치게 높아져 도포성이 나빠지는 경우가 있다. 상기 열 경화제의 함유량의 보다 바람직한 상한은 30 중량부이다.As for content of the said thermosetting agent, with respect to 100 weight part of said curable resins, a preferable minimum is 1 weight part, and a preferable upper limit is 50 weight part. When content of the said thermosetting agent is less than 1 weight part, the sealing compound for liquid crystal dropping methods obtained may not fully be thermosetting. When content of the said thermosetting agent exceeds 50 weight part, the viscosity of the sealing compound for liquid crystal dropping methods obtained may become high too much, and applicability|paintability may worsen. A more preferable upper limit of the content of the thermosetting agent is 30 parts by weight.

본 발명의 액정 적하 공법용 시일제는, 경화 촉진제를 함유하는 것이 바람직하다. 상기 경화 촉진제를 사용함으로써, 고온에서 가열하지 않아도 충분히 시일제를 경화시킬 수 있다.It is preferable that the sealing compound for liquid crystal dropping methods of this invention contains a hardening accelerator. By using the said hardening accelerator, even if it does not heat at high temperature, a sealing compound can fully be hardened.

상기 경화 촉진제로는, 예를 들어 이소시아누르 고리 골격을 갖는 다가 카르복실산이나 에폭시 수지 아민 애덕트물 등을 들 수 있으며, 구체적으로는 예를 들어, 트리스(2-카르복시메틸)이소시아누레이트, 트리스(2-카르복시에틸)이소시아누레이트, 트리스(3-카르복시프로필)이소시아누레이트, 비스(2-카르복시에틸)이소시아누레이트 등을 들 수 있다.As said hardening accelerator, polyhydric carboxylic acid which has isocyanuric ring skeleton, an epoxy resin amine adduct, etc. are mentioned, for example, Specifically, For example, tris (2-carboxymethyl) isocyanu is mentioned, for example. Late, tris(2-carboxyethyl)isocyanurate, tris(3-carboxypropyl)isocyanurate, bis(2-carboxyethyl)isocyanurate, etc. are mentioned.

상기 경화 촉진제의 함유량은, 상기 경화성 수지 100 중량부에 대하여, 바람직한 하한이 0.1 중량부, 바람직한 상한이 10 중량부이다. 상기 경화 촉진제의 함유량이 0.1 중량부 미만이면, 얻어지는 액정 적하 공법용 시일제가 충분히 경화되지 않거나, 경화시키기 위해서 고온에서의 가열이 필요하거나 하는 경우가 있다. 상기 경화 촉진제의 함유량이 10 중량부를 초과하면, 얻어지는 액정 적하 공법용 시일제가 접착성이 열등한 것이 되는 경우가 있다.As for content of the said hardening accelerator, with respect to 100 weight part of said curable resin, a preferable minimum is 0.1 weight part, and a preferable upper limit is 10 weight part. When content of the said hardening accelerator is less than 0.1 weight part, the sealing compound for liquid crystal dropping methods obtained may not fully harden|cure, or in order to harden|cure it, the heating at high temperature may be needed. When content of the said hardening accelerator exceeds 10 weight part, the sealing compound for liquid crystal dropping methods obtained may become inferior to adhesiveness.

본 발명의 액정 적하 공법용 시일제는, 점도의 향상, 응력 분산 효과에 의한 접착성의 개선, 선팽창률의 개선, 경화물의 내습성 향상 등을 목적으로 하여 충전제를 함유하는 것이 바람직하다.It is preferable that the sealing compound for liquid crystal dropping methods of this invention contains a filler for the purpose of the improvement of a viscosity, the adhesive improvement by a stress dispersion effect, the improvement of a coefficient of linear expansion, the moisture resistance improvement of hardened|cured material, etc.

상기 충전제로는, 예를 들어 탤크, 석면, 실리카, 규조토, 스멕타이트, 벤토나이트, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 알루미나, 몬모릴로나이트, 산화아연, 산화철, 산화마그네슘, 산화주석, 산화티탄, 수산화마그네슘, 수산화알루미늄, 유리 비즈, 질화규소, 황산바륨, 석고, 규산칼슘, 세리사이트, 활성 백토, 질화알루미늄 등의 무기 충전제나, 폴리에스테르 미립자, 폴리우레탄 미립자, 비닐 중합체 미립자, 아크릴 중합체 미립자, 코어쉘 아크릴레이트 공중합체 미립자 등의 유기 충전제를 들 수 있다. 이들 충전제는 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.Examples of the filler include talc, asbestos, silica, diatomaceous earth, smectite, bentonite, calcium carbonate, magnesium carbonate, alumina, montmorillonite, zinc oxide, iron oxide, magnesium oxide, tin oxide, titanium oxide, magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, Inorganic fillers such as glass beads, silicon nitride, barium sulfate, gypsum, calcium silicate, sericite, activated clay, aluminum nitride, polyester microparticles, polyurethane microparticles, vinyl polymer microparticles, acrylic polymer microparticles, core-shell acrylate copolymer microparticles Organic fillers, such as these are mentioned. These fillers may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

상기 충전제의 함유량은, 액정 적하 공법용 시일제 전체에 대하여, 바람직한 하한이 10 중량%, 바람직한 상한이 70 중량% 이다. 상기 충전제의 함유량이 10 중량% 미만이면, 접착성의 개선 등의 효과가 충분히 발휘되지 않는 경우가 있다. 상기 충전제의 함유량이 70 중량% 를 초과하면, 얻어지는 액정 적하 공법용 시일제의 점도가 높아져 도포성이 나빠지는 경우가 있다. 상기 충전제의 함유량의 보다 바람직한 하한은 20 중량%, 보다 바람직한 상한은 60 중량% 이다.As for content of the said filler, with respect to the whole sealing compound for liquid crystal dropping methods, a preferable minimum is 10 weight%, and a preferable upper limit is 70 weight%. When content of the said filler is less than 10 weight%, effects, such as an adhesive improvement, may not fully be exhibited. When content of the said filler exceeds 70 weight%, the viscosity of the sealing compound for liquid crystal dropping methods obtained may become high, and applicability|paintability may worsen. The more preferable lower limit of content of the said filler is 20 weight%, and a more preferable upper limit is 60 weight%.

본 발명의 액정 적하 공법용 시일제는, 실란 커플링제를 함유하는 것이 바람직하다. 상기 실란 커플링제는, 주로 시일제와 기판 등을 양호하게 접착하기 위한 접착 보조제로서의 역할을 갖는다.It is preferable that the sealing compound for liquid crystal dropping methods of this invention contains a silane coupling agent. The said silane coupling agent mainly has a role as an adhesion|attachment adjuvant for adhering a sealing compound, a board|substrate, etc. favorably.

상기 실란 커플링제로는, 기판 등과의 접착성을 향상시키는 효과가 우수하고, 경화성 수지와 화학 결합함으로써 액정 중으로의 경화성 수지의 유출을 억제할 수 있는 점에서, 예를 들어 N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-이소시아네이트프로필트리메톡시실란 등이 바람직하게 사용된다. 이들 실란 커플링제는 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.The said silane coupling agent is excellent in the effect of improving adhesiveness with a board|substrate etc., and since it can suppress the outflow of curable resin into a liquid crystal by chemically bonding with curable resin, for example, N-phenyl-3- Aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-isocyanatepropyltrimethoxysilane, etc. are preferably used do. These silane coupling agents may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

상기 실란 커플링제의 함유량은, 액정 적하 공법용 시일제 전체에 대하여, 바람직한 하한이 0.1 중량%, 바람직한 상한이 20 중량% 이다. 상기 실란 커플링제의 함유량이 0.1 중량% 미만이면, 실란 커플링제를 배합하는 것에 의한 효과가 충분히 발휘되지 않는 경우가 있다. 상기 실란 커플링제의 함유량이 20 중량% 를 초과하면, 얻어지는 액정 적하 공법용 시일제가 액정을 오염시키는 경우가 있다. 상기 실란 커플링제의 함유량의 보다 바람직한 하한은 0.5 중량%, 보다 바람직한 상한은 10 중량% 이다.As for content of the said silane coupling agent, with respect to the whole sealing compound for liquid crystal dropping methods, a preferable minimum is 0.1 weight%, and a preferable upper limit is 20 weight%. When content of the said silane coupling agent is less than 0.1 weight%, the effect by mix|blending a silane coupling agent may not fully be exhibited. When content of the said silane coupling agent exceeds 20 weight%, the sealing compound for liquid crystal dropping methods obtained may contaminate a liquid crystal. A more preferable lower limit of content of the said silane coupling agent is 0.5 weight%, and a more preferable upper limit is 10 weight%.

본 발명의 액정 적하 공법용 시일제는, 차광제를 함유해도 된다. 상기 차광제를 함유함으로써, 본 발명의 액정 적하 공법용 시일제는 차광 시일제로서 바람직하게 사용할 수 있다.The sealing compound for liquid crystal dropping methods of this invention may contain a light-shielding agent. By containing the said light-shielding agent, the sealing compound for liquid crystal dropping methods of this invention can be used suitably as a light-shielding sealing compound.

상기 차광제로는, 예를 들어 산화철, 티탄 블랙, 아닐린 블랙, 시아닌 블랙, 플러렌, 카본 블랙, 수지 피복형 카본 블랙 등을 들 수 있다. 그 중에서도 티탄 블랙이 바람직하다.Examples of the light-shielding agent include iron oxide, titanium black, aniline black, cyanine black, fullerene, carbon black, and resin-coated carbon black. Among them, titanium black is preferable.

상기 티탄 블랙은, 파장 300 ∼ 800 nm 의 광에 대한 평균 투과율과 비교하여, 자외선 영역 부근, 특히 파장 370 ∼ 450 nm 의 광에 대한 투과율이 높아지는 물질이다. 즉, 상기 티탄 블랙은, 가시광 영역의 파장의 광을 충분히 차폐시킴으로써 본 발명의 액정 적하 공법용 시일제에 차광성을 부여하는 한편, 자외선 영역 부근의 파장의 광은 투과시키는 성질을 갖는 차광제이다. 본 발명의 액정 적하 공법용 시일제에 함유되는 차광제로는, 절연성이 높은 물질이 바람직하고, 절연성이 높은 차광제로서도 티탄 블랙이 바람직하다.The titanium black is a substance having a higher transmittance in the vicinity of an ultraviolet region, particularly in the light of a wavelength of 370 to 450 nm, compared with the average transmittance for light having a wavelength of 300 to 800 nm. That is, the titanium black is a light-shielding agent having a property of transmitting light of a wavelength in the vicinity of an ultraviolet region while providing light-shielding property to the sealing compound for liquid crystal dropping method of the present invention by sufficiently shielding light of a wavelength in the visible region. . As a light-shielding agent contained in the sealing compound for liquid crystal dropping methods of this invention, a substance with high insulation is preferable, and titanium black is preferable also as a light-shielding agent with high insulation.

상기 티탄 블랙은, 1 ㎛ 당 광학 농도 (OD 값) 가 3 이상인 것이 바람직하고, 4 이상인 것이 보다 바람직하다. 상기 티탄 블랙의 차광성은 높으면 높을수록 바람직하고, 상기 티탄 블랙의 OD 값에 바람직한 상한은 특별히 없지만, 통상은 5 이하가 된다.It is preferable that the optical density (OD value) per 1 micrometer is 3 or more, and, as for the said titanium black, it is more preferable that it is 4 or more. The higher the light-shielding property of the titanium black, the more preferable, and there is no upper limit particularly preferable for the OD value of the titanium black;

상기 티탄 블랙은, 표면 처리되어 있지 않은 것이라도 충분한 효과를 발휘하지만, 표면이 커플링제 등의 유기 성분으로 처리되어 있는 것이나, 산화규소, 산화티탄, 산화게르마늄, 산화알루미늄, 산화지르코늄, 산화마그네슘 등의 무기 성분으로 피복되어 있는 것 등, 표면 처리된 티탄 블랙을 사용할 수도 있다. 그 중에서도 유기 성분으로 처리되어 있는 것은, 보다 절연성을 향상시킬 수 있는 점에서 바람직하다.Although the said titanium black exhibits sufficient effect even if it is not surface-treated, the thing whose surface is treated with organic components, such as a coupling agent, silicon oxide, titanium oxide, germanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, magnesium oxide, etc. Surface-treated titanium black, such as one coated with an inorganic component of Among these, those treated with an organic component are preferred from the viewpoint of further improving insulation.

또, 차광제로서 상기 티탄 블랙을 함유하는 본 발명의 액정 표시 소자용 시일제를 이용하여 제조한 액정 표시 소자는, 충분한 차광성을 가지므로, 광의 누출이 없어 높은 콘트라스트를 가져, 우수한 화상 표시 품질을 갖는 액정 표시 소자를 실현할 수 있다. Moreover, since the liquid crystal display element manufactured using the sealing compound for liquid crystal display elements of this invention containing the said titanium black as a light-shielding agent has sufficient light-shielding property, there is no light leakage and has high contrast, excellent image display quality It is possible to realize a liquid crystal display device having

상기 티탄 블랙 중 시판되고 있는 것으로는, 예를 들어 12S, 13M, 13M-C, 13R-N, 14M-C (모두 미츠비시 머티리얼사 제조), 틸락 D (아코 화성사 제조) 등을 들 수 있다.As what is marketed among the said titanium black, 12S, 13M, 13M-C, 13R-N, 14M-C (all are made by Mitsubishi Materials), Tillac D (made by Ako Chemical Co., Ltd.) etc. are mentioned, for example.

상기 티탄 블랙의 비표면적의 바람직한 하한은 13 ㎡/g, 바람직한 상한은 30 ㎡/g 이고, 보다 바람직한 하한은 15 ㎡/g, 보다 바람직한 상한은 25 ㎡/g 이다.A preferable lower limit of the specific surface area of the titanium black is 13 m2/g, a preferable upper limit is 30 m2/g, a more preferable lower limit is 15 m2/g, and a more preferable upper limit is 25 m2/g.

또, 상기 티탄 블랙의 체적 저항의 바람직한 하한은 0.5 Ω·㎝, 바람직한 상한은 3 Ω·㎝ 이고, 보다 바람직한 하한은 1 Ω·㎝, 보다 바람직한 상한은 2.5 Ω·㎝ 이다.In addition, a preferable lower limit of the volume resistance of the titanium black is 0.5 Ω·cm, a preferable upper limit is 3 Ω·cm, a more preferable lower limit is 1 Ω·cm, and a more preferable upper limit is 2.5 Ω·cm.

상기 차광제의 일차 입자 직경은, 액정 표시 소자의 셀갭 이하이면 특별히 한정되지 않지만, 바람직한 하한은 1 nm, 바람직한 상한은 5 ㎛ 이다. 상기 차광제의 일차 입자 직경이 1 nm 미만이면, 얻어지는 액정 적하 공법용 시일제의 점도나 틱소트로피가 크게 증대해 버려 작업성이 나빠지는 경우가 있다. 상기 차광제의 일차 입자 직경이 5 ㎛ 를 초과하면, 얻어지는 액정 적하 공법용 시일제의 기판에 대한 도포성이 나빠지는 경우가 있다. 상기 차광제의 일차 입자 직경의 보다 바람직한 하한은 5 nm, 보다 바람직한 상한은 200 nm, 더욱 바람직한 하한은 10 nm, 더욱 바람직한 상한은 100 nm 이다.Although the primary particle diameter of the said light-shielding agent will not be specifically limited if it is below the cell gap of a liquid crystal display element, A preferable lower limit is 1 nm, and a preferable upper limit is 5 micrometers. When the primary particle diameter of the said light-shielding agent is less than 1 nm, the viscosity and thixotropy of the sealing compound for liquid crystal dropping methods obtained may increase greatly, and workability|operativity may worsen. When the primary particle diameter of the said light-shielding agent exceeds 5 micrometers, the applicability|paintability with respect to the board|substrate of the sealing compound for liquid crystal dropping methods obtained may worsen. A more preferable lower limit of the primary particle diameter of the light-shielding agent is 5 nm, a more preferable upper limit is 200 nm, a more preferable lower limit is 10 nm, and a more preferable upper limit is 100 nm.

상기 차광제의 함유량은, 액정 적하 공법용 시일제 전체에 대하여, 바람직한 하한이 5 중량%, 바람직한 상한이 80 중량% 이다. 상기 차광제의 함유량이 5 중량% 미만이면, 충분한 차광성이 얻어지지 않는 경우가 있다. 상기 차광제의 함유량이 80 중량% 를 초과하면, 얻어지는 액정 적하 공법용 시일제의 기판에 대한 밀착성이나 경화 후의 강도가 저하되거나, 묘화성이 저하되거나 하는 경우가 있다. 상기 차광제의 함유량의 보다 바람직한 하한은 10 중량%, 보다 바람직한 상한은 70 중량% 이며, 더욱 바람직한 하한은 30 중량%, 더욱 바람직한 상한은 60 중량% 이다.As for content of the said light-shielding agent, with respect to the whole sealing compound for liquid crystal dropping methods, a preferable minimum is 5 weight%, and a preferable upper limit is 80 weight%. When content of the said light-shielding agent is less than 5 weight%, sufficient light-shielding property may not be acquired. When content of the said light-shielding agent exceeds 80 weight%, the adhesiveness to the board|substrate of the sealing compound for liquid crystal dropping methods obtained, and the intensity|strength after hardening may fall, or drawing property may fall. A more preferable lower limit of content of the said light-shielding agent is 10 weight%, a more preferable upper limit is 70 weight%, A more preferable minimum is 30 weight%, and a more preferable upper limit is 60 weight%.

본 발명의 액정 적하 공법용 시일제는, 추가로 필요에 따라, 점도 조정을 위한 반응성 희석제, 패널 갭 조정을 위한 폴리머 비즈 등의 스페이서, 소포제, 레벨링제, 중합 금지제, 그 밖의 커플링제 등의 첨가제를 함유해도 된다.The sealing compound for liquid crystal dropping methods of this invention, spacers, such as a reactive diluent for viscosity adjustment, polymer beads for panel gap adjustment, and an antifoamer, a leveling agent, a polymerization inhibitor, other coupling agents, etc. as needed further You may contain an additive.

본 발명의 액정 적하 공법용 시일제를 제조하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 호모디스퍼, 호모믹서, 만능 믹서, 플래니터리 믹서, 니더, 3 단 롤 등의 혼합기를 이용하여, 경화성 수지와, 중합 개시제 및/또는 열 경화제와, 유연 입자와, 필요에 따라 첨가하는 실란 커플링제 등의 첨가제를 혼합하는 방법 등을 들 수 있다.The method of manufacturing the sealing compound for liquid crystal dropping methods of this invention is not specifically limited, For example, sclerosis|hardenability using mixers, such as a homodisper, a homomixer, a universal mixer, a planetary mixer, a kneader, a three-roll The method of mixing resin, a polymerization initiator and/or a thermosetting agent, flexible particle|grains, and additives, such as a silane coupling agent added as needed, etc. are mentioned.

본 발명의 액정 적하 공법용 시일제에 있어서의, E 형 점도계를 사용하여 25 ℃, 1 rpm 의 조건으로 측정한 점도의 바람직한 하한은 5 만 ㎩·s, 바람직한 상한은 50 만 ㎩·s 이다. 상기 점도가 5 만 ㎩·s 미만이거나, 50 만 ㎩·s 를 초과하거나 하면, 액정 적하 공법용 시일제를 기판 등에 도포할 때의 작업성이 나빠지는 경우가 있다. 상기 점도의 보다 바람직한 상한은 40 만 ㎩·s 이다.The minimum with preferable viscosity measured on 25 degreeC and 1 rpm conditions using the E-type viscometer in the sealing compound for liquid crystal dropping methods of this invention is 50,000 Pa.s, and a preferable upper limit is 500,000 Pa.s. When the said viscosity is less than 50,000 Pa.s or exceeds 500,000 Pa.s, workability at the time of apply|coating the sealing compound for liquid crystal dropping methods to a board|substrate etc. may worsen. A more preferable upper limit of the viscosity is 400,000 Pa·s.

본 발명의 액정 적하 공법용 시일제에 도전성 미립자를 배합함으로써, 상하 도통 재료를 제조할 수 있다. 이와 같은 본 발명의 액정 적하 공법용 시일제와 도전성 미립자를 함유하는 상하 도통 재료도 또한, 본 발명 중의 하나이다.A vertical conduction material can be manufactured by mix|blending electroconductive microparticles|fine-particles with the sealing compound for liquid crystal dropping methods of this invention. The vertical conduction material containing the sealing compound for liquid crystal dropping methods of this invention and electroconductive fine particles is also one of this invention.

상기 도전성 미립자로는, 예를 들어 금속 볼이나, 수지 미립자의 표면에 도전 금속층을 형성한 것 등을 사용할 수 있다. 그 중에서도 수지 미립자의 표면에 도전 금속층을 형성한 것은, 수지 미립자의 우수한 탄성에 의해 투명 기판 등을 손상시키지 않고 도전 접속이 가능한 점에서 바람직하다.As the conductive fine particles, for example, metal balls or those in which a conductive metal layer is formed on the surface of the resin fine particles can be used. Among these, those in which a conductive metal layer is formed on the surface of the resin fine particles are preferable in that conductive connection is possible without damaging the transparent substrate or the like due to the excellent elasticity of the resin fine particles.

본 발명의 액정 적하 공법용 시일제 또는 본 발명의 상하 도통 재료를 갖는 액정 표시 소자도 또한, 본 발명 중의 하나이다.The liquid crystal display element which has the sealing compound for liquid crystal dropping methods of this invention, or the vertical conduction material of this invention is also one of this invention.

본 발명의 액정 표시 소자를 제조하는 방법으로는, 예를 들어 ITO 박막 등의 전극이 부착된 유리 기판이나 폴리에틸렌테레프탈레이트 기판 등의 2 장의 투명 기판의 일방에, 본 발명의 액정 적하 공법용 시일제 등을 스크린 인쇄, 디스펜서 도포 등에 의해 장방 형상의 시일 패턴을 형성하는 공정, 본 발명의 액정 적하 공법용 시일제 등이 미경화인 상태로 액정의 미소적을 투명 기판의 테두리 내 전체면에 적하 도포하고, 곧바로 다른 기판을 중첩하는 공정 및 본 발명의 액정 적하 공법용 시일제를 가열하여 경화시키는 공정을 갖는 방법 등을 들 수 있다. 또, 본 발명의 액정 적하 공법용 시일제를 가열하여 경화시키는 공정 전에, 시일 패턴 부분에 자외선 등의 광을 조사하여 시일제를 가경화시키는 공정을 실시해도 된다.As a method of manufacturing the liquid crystal display element of this invention, in one of two transparent substrates, such as a glass substrate with electrodes, such as an ITO thin film, and a polyethylene terephthalate board|substrate, for example, the sealing compound for liquid crystal dropping methods of this invention A step of forming a rectangular seal pattern by screen printing, dispenser application, etc., the liquid crystal dropping method of the present invention is applied dropwise to the entire surface within the rim of the transparent substrate in an uncured state, The method etc. which have the process of directly overlapping another board|substrate, and the process of heating and hardening the sealing compound for liquid crystal dropping methods of this invention are mentioned. Moreover, before the process of heating and hardening the sealing compound for liquid crystal dropping methods of this invention, you may perform the process of irradiating lights, such as an ultraviolet-ray, to a sealing pattern part, and temporarily hardening a sealing compound.

본 발명에 의하면, 시일 브레이크나 액정 오염의 억제와 스프링 백에 의한 갭 불량의 억제를 양립할 수 있는 액정 적하 공법용 시일제를 제공할 수 있다. 또, 본 발명에 의하면, 그 액정 적하 공법용 시일제를 사용하여 제조되는 상하 도통 재료 및 액정 표시 소자를 제공할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the sealing compound for liquid crystal dropping methods compatible with suppression of a seal break and liquid-crystal contamination, and suppression of the gap defect by springback can be provided. Moreover, according to this invention, the vertical conduction material and liquid crystal display element which are manufactured using this sealing compound for liquid crystal dropping methods can be provided.

이하에 실시예를 들어 본 발명을 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에만 한정되지 않는다.The present invention will be described in more detail below with reference to Examples, but the present invention is not limited only to these Examples.

또한, 실시예 및 비교예의 유기 EL 표시 소자용 봉지제는, 셀갭이 5 ㎛ 인 유기 EL 표시 소자의 제조에 사용되는 것으로 한다.In addition, the sealing agent for organic electroluminescent display elements of an Example and a comparative example shall be used for manufacture of the organic electroluminescent display element whose cell gap is 5 micrometers.

(유연 입자 A 의 조제)(Preparation of flexible particle A)

실리콘 고무 입자 (신에츠 화학 공업사 제조, 「KMP-601」) 를 메탄올 중에 분산시키고, 8 ㎛ 의 메시의 체로 습식 체분급하여, 체를 통과한 것을 회수하여 건조시켜, 실리콘 고무 입자의 분급 처리품인 유연 입자 A 를 얻었다. 체는 폴리이미드 필름에 레이저로 초고정밀도 미세 가공을 실시하여 얻은 매우 정밀도가 높은 구멍을 갖는 것을 사용하였다.Silicone rubber particles (manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd., "KMP-601") are dispersed in methanol, wet sieved through a sieve of 8 µm mesh, and then passed through the sieve to recover and dry, which is a classification treatment product of silicone rubber particles Flexible particle A was obtained. As a sieve, a polyimide film having very high precision holes obtained by performing ultra-high precision micromachining with a laser was used.

얻어진 유연 입자 A 에 대하여, 쿨터식 분포 측정 장치 (벡크만·쿨터사 제조, 「멀티사이저 4」) 를 사용하여 측정한 최빈 입자 직경, 중위 입자 직경, 최대 입자 직경, 최소 입자 직경, 평균 입자 직경, D90, 입자 직경의 CV 값, 최소 입자 직경으로부터 중위 입자 직경보다 2 ㎛ 작은 입자 직경까지의 체적 빈도의 비율 W, 중위 입자 직경으로부터 2 ㎛ 작은 입자 직경으로부터 중위 입자 직경까지의 체적 빈도의 비율 X, 중위 입자 직경으로부터 중위 입자 직경보다 2 ㎛ 큰 입자 직경까지의 체적 빈도의 비율 Y, 중위 입자 직경보다 2 ㎛ 큰 입자 직경으로부터 최대 입자 직경까지의 체적 빈도의 비율 Z 를 표 1 에 나타내었다.About the obtained flexible particle|grain A, the mode particle diameter measured using the Coulter-type distribution analyzer (the Beckman Coulter company make, "Multisizer 4"), the median particle diameter, the largest particle diameter, the minimum particle diameter, and an average particle diameter, D90, CV value of particle diameter, ratio of volume frequency from minimum particle diameter to particle diameter 2 μm smaller than median particle diameter W, ratio of volume frequency from median particle diameter to particle diameter 2 μm small to median particle diameter Table 1 shows X, the ratio Y of the volume frequency from the median particle diameter to the particle diameter 2 μm larger than the median particle diameter, and the ratio Z of the volume frequency from the particle diameter 2 μm larger than the median particle diameter to the maximum particle diameter.

상기 쿨터식 분포 측정 장치에 의한 측정은, 입자 0.1 g 을 메탄올 10 g 에 첨가하여 잘 섞이게 하고, 초음파 분산을 5 분간 실시하여 입자 분산액을 조제하고, 샘플 스탠드 내의 전해액 「ISOTON II」(벡크만·쿨터사 제조) 이 들어간 비커에, 얻어진 입자 분산액을 측정 장치의 표시 농도가 5 % 가 될 때까지 스포이드로 주입하였다. 측정은 2 회 실시하여, 산출된 값의 산술 평균값을 사용하였다.For the measurement by the Coulter-type distribution measuring device, 0.1 g of particles are added to 10 g of methanol, mixed well, and ultrasonic dispersion is performed for 5 minutes to prepare a particle dispersion, and an electrolyte solution "ISOTON II" in a sample stand (Beckman · The obtained particle dispersion liquid was inject|poured into the beaker containing Coulter (made by Coulter) with the dropper until the display density|concentration of a measuring apparatus became 5 %. The measurement was performed twice, and the arithmetic mean of the calculated values was used.

(유연 입자 B 의 조제)(Preparation of flexible particle B)

실리콘 고무 입자 (신에츠 화학 공업사 제조, 「KMP-601」) 를 메탄올 중에 분산시키고, 8 ㎛ 의 메시의 체로 습식 체분급하여, 체를 통과한 것을 회수하고, 이어서 5 ㎛ 의 메시의 체로 습식 체분급하여, 체에 남은 것을 회수하여 건조시켜, 실리콘 고무 입자의 분급 처리품인 유연 입자 B 를 얻었다. 체는 폴리이미드 필름에 레이저로 초고정밀도 미세 가공을 실시하여 얻은 매우 정밀도가 높은 구멍을 갖는 것을 사용하였다.Silicone rubber particles (manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd., "KMP-601") were dispersed in methanol and wet sieved through a sieve of 8 µm mesh to recover what passed through the sieve, and then wet sieve through a sieve of 5 µm mesh Then, what remained on the sieve was collect|recovered and dried, and the flexible particle|grain B which is a classification process product of silicone rubber particle|grains was obtained. As a sieve, a polyimide film having very high precision holes obtained by performing ultra-high precision micromachining with a laser was used.

얻어진 유연 입자 B 에 대하여, 유연 입자 A 와 동일하게 하여 측정한 최빈 입자 직경, 중위 입자 직경, 최대 입자 직경, 최소 입자 직경, 평균 입자 직경, D90, 입자 직경의 CV 값, W, X, Y 및 Z 를 표 1 에 나타내었다.About the obtained flexible particle|grain B, it carried out similarly to the flexible particle|grain A, and measured the mode particle diameter, a median particle diameter, a largest particle diameter, a minimum particle diameter, an average particle diameter, D90, CV value of a particle diameter, W, X, Y and Z is shown in Table 1.

(유연 입자 C 의 조제)(Preparation of flexible particle C)

실리콘 고무 입자 (신에츠 화학 공업사 제조, 「KMP-601」) 를 메탄올 중에 분산시키고, 10 ㎛ 의 메시의 체로 습식 체분급하여, 체를 통과한 것을 회수하여 건조시켜, 실리콘 고무 입자의 분급 처리품인 유연 입자 C 를 얻었다. 체는 폴리이미드 필름에 레이저로 초고정밀도 미세 가공을 실시하여 얻은 매우 정밀도가 높은 구멍을 갖는 것을 사용하였다.Silicone rubber particles (manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd., "KMP-601") are dispersed in methanol, wet sieved through a sieve of 10 μm mesh, and the sieve passed through the sieve is recovered and dried, which is a classification treatment product of silicone rubber particles Flexible particle C was obtained. As a sieve, a polyimide film having very high precision holes obtained by performing ultra-high precision micromachining with a laser was used.

얻어진 유연 입자 C 에 대하여, 유연 입자 A 와 동일하게 하여 측정한 최빈 입자 직경, 중위 입자 직경, 최대 입자 직경, 최소 입자 직경, 평균 입자 직경, D90, 입자 직경의 CV 값, W, X, Y 및 Z 를 표 1 에 나타내었다.About the obtained flexible particle|grain C, it carried out similarly to the flexible particle|grain A, and measured the mode particle diameter, a median particle diameter, a largest particle diameter, a minimum particle diameter, an average particle diameter, D90, CV value of a particle diameter, W, X, Y, and Z is shown in Table 1.

(유연 입자 D 의 조제)(Preparation of flexible particle D)

실리콘 고무 입자 (신에츠 화학 공업사 제조, 「KMP-601」) 를 정밀 공기 분급기 (닛신 엔지니어링사 제조, 「터보 클래시파이어 TC-15」) 로 공급 속도 5 kg/h, 회전수 10000 rpm 의 조건으로 분급하여, 유연 입자 D 를 얻었다.Silicon rubber particles (manufactured by Shin-Etsu Chemical Industries, Ltd., "KMP-601") were fed by a precision air classifier (manufactured by Nisshin Engineering, "Turbo Classifier TC-15") at a feed rate of 5 kg/h and a rotational speed of 10000 rpm. was classified to obtain flexible particles D.

얻어진 유연 입자 D 에 대하여, 유연 입자 A 와 동일하게 하여 측정한 최빈 입자 직경, 중위 입자 직경, 최대 입자 직경, 최소 입자 직경, 평균 입자 직경, D90, 입자 직경의 CV 값, W, X, Y 및 Z 를 표 1 에 나타내었다.About the obtained flexible particle|grain D, it carried out similarly to the flexible particle|grain A, and measured the mode particle diameter, a median particle diameter, a largest particle diameter, a minimum particle diameter, an average particle diameter, D90, CV value of a particle diameter, W, X, Y, and Z is shown in Table 1.

(유연 입자 E 의 조제)(Preparation of flexible particle E)

실리콘 수지 입자 (모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈사 제조, 「토스펄 1100」) 55 중량부와, 실리콘 수지 입자 (모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈사 제조, 「토스펄 2000B」) 45 중량부를, 분체 혼합기 (니혼 코크스 공업사 제조, 「FM 믹서 (FM5RC/I)」) 를 사용하여 균일하게 교반 혼합하여, 유연 입자 E 를 얻었다.55 parts by weight of silicone resin particles (manufactured by Momentive Performance Materials, "Tospearl 1100") and 45 parts by weight of silicone resin particles (manufactured by Momentive Performance Materials, "Tospearl 2000B") in a powder mixer ( It stirred and mixed uniformly using the Nippon Cokes Industry Co., Ltd. make, "FM mixer (FM5RC/I)"), and the flexible particle|grain E was obtained.

얻어진 유연 입자 E 에 대하여, 유연 입자 A 와 동일하게 하여 측정한 최빈 입자 직경, 중위 입자 직경, 최대 입자 직경, 최소 입자 직경, 평균 입자 직경, D90, 입자 직경의 CV 값, W, X, Y 및 Z 를 표 1 에 나타내었다.About the obtained flexible particle|grain E, it carried out similarly to the flexible particle|grain A, and measured the mode particle diameter, a median particle diameter, a largest particle diameter, a minimum particle diameter, an average particle diameter, D90, CV value of a particle diameter, W, X, Y and Z is shown in Table 1.

(유연 입자 F 의 조제)(Preparation of flexible particle F)

폴리테트라메틸렌글리콜디아크릴레이트 75 중량부와, 스티렌 21 중량부와, 과산화벤조일 4 중량부를 혼합하고, 균일하게 용해시켜, 모노머 혼합액을 얻었다. 얻어진 모노머 혼합액을 폴리비닐알코올 1 중량% 수용액이 들어간 반응 가마에 투입하여, 2 ∼ 4 시간 교반함으로써, 모노머의 액적이 소정의 입자 직경이 되도록 입자 직경 조정을 실시하였다. 이어서, 85 ℃ 의 질소 분위기하에서 9 시간 반응을 실시하여, 미분급 중합체 입자를 얻었다. 얻어진 미분급 중합체 입자를 열수로 몇 차례 세정하고 건조시켰다. 그 후, 메탄올 중에 분산시키고, 10 ㎛ 의 메시의 체로 습식 체분급하여, 체를 통과한 것을 회수하여 건조시켜, 비닐계 입자의 분급 처리품인 유연 입자 F 를 얻었다. 체는 폴리이미드 필름에 레이저로 초고정밀도 미세 가공을 실시하여 얻은 매우 정밀도가 높은 구멍을 갖는 것을 사용하였다.75 parts by weight of polytetramethylene glycol diacrylate, 21 parts by weight of styrene, and 4 parts by weight of benzoyl peroxide were mixed and uniformly dissolved to obtain a monomer mixture. The obtained monomer liquid mixture was put into a reaction kiln containing a 1 wt% polyvinyl alcohol aqueous solution, and stirred for 2 to 4 hours to adjust the particle size of the monomer droplets to a predetermined particle size. Next, reaction was performed in 85 degreeC nitrogen atmosphere for 9 hours, and the unclassified polymer particle was obtained. The obtained finely divided polymer particles were washed several times with hot water and dried. Then, it disperse|distributed in methanol, wet sieve classification was carried out with the sieve of a 10 micrometers mesh, what passed through the sieve was collect|recovered, it was made to dry, and the flexible particle|grain F which is a classification processing product of vinyl type particle|grains was obtained. As a sieve, a polyimide film having very high precision holes obtained by performing ultra-high precision micromachining with a laser was used.

얻어진 유연 입자 F 에 대하여, 유연 입자 A 와 동일하게 하여 측정한 최빈 입자 직경, 중위 입자 직경, 최대 입자 직경, 최소 입자 직경, 평균 입자 직경, D90, 입자 직경의 CV 값, W, X, Y 및 Z 를 표 1 에 나타내었다.About the obtained flexible particle|grain F, it carried out similarly to the flexible particle|grain A, and measured the mode particle diameter, a median particle diameter, a largest particle diameter, a minimum particle diameter, an average particle diameter, D90, CV value of a particle diameter, W, X, Y and Z is shown in Table 1.

(유연 입자 G 의 조제)(Preparation of flexible particle G)

폴리테트라메틸렌글리콜디아크릴레이트 75 중량부와, 스티렌 21 중량부와, 과산화벤조일 4 중량부를 혼합하고, 균일하게 용해시켜, 모노머 혼합액을 얻었다. 얻어진 모노머 혼합액을 폴리비닐알코올 1 중량% 수용액이 들어간 반응 가마에 투입하여, 2 ∼ 4 시간 교반함으로써, 모노머의 액적이 소정의 입자 직경이 되도록 입자 직경 조정을 실시하였다. 이어서, 85 ℃ 의 질소 분위기하에서 9 시간 반응을 실시하여, 미분급 중합체 입자를 얻었다. 얻어진 미분급 중합체 입자를 열수로 몇 차례 세정하고 건조시켰다. 그 후, 메탄올 중에 분산시키고, 8 ㎛ 의 메시의 체로 습식 체분급하여, 체를 통과한 것을 회수하여 건조시켜, 비닐계 입자의 분급 처리품인 유연 입자 G 를 얻었다. 체는 폴리이미드 필름에 레이저로 초고정밀도 미세 가공을 실시하여 얻은 매우 정밀도가 높은 구멍을 갖는 것을 사용하였다.75 parts by weight of polytetramethylene glycol diacrylate, 21 parts by weight of styrene, and 4 parts by weight of benzoyl peroxide were mixed and uniformly dissolved to obtain a monomer mixture. The obtained monomer liquid mixture was put into a reaction kiln containing a 1 wt% polyvinyl alcohol aqueous solution, and stirred for 2 to 4 hours to adjust the particle size of the monomer droplets to a predetermined particle size. Next, reaction was performed in 85 degreeC nitrogen atmosphere for 9 hours, and the unclassified polymer particle was obtained. The obtained finely divided polymer particles were washed several times with hot water and dried. Then, it disperse|distributed in methanol, wet sieve classification was carried out with the sieve of an 8-micrometer mesh, what passed through a sieve was collect|recovered, it was made to dry, and the flexible particle|grain G which is a classification processing product of vinyl type particle|grains was obtained. As a sieve, a polyimide film having very high precision holes obtained by performing ultra-high precision micromachining with a laser was used.

얻어진 유연 입자 G 에 대하여, 유연 입자 A 와 동일하게 하여 측정한 최빈 입자 직경, 중위 입자 직경, 최대 입자 직경, 최소 입자 직경, 평균 입자 직경, D90, 입자 직경의 CV 값, W, X, Y 및 Z 를 표 1 에 나타내었다.About the obtained flexible particle|grain G, it carried out similarly to the flexible particle|grain A, and measured the mode particle diameter, a median particle diameter, a largest particle diameter, a minimum particle diameter, an average particle diameter, D90, CV value of a particle diameter, W, X, Y and Z is shown in Table 1.

(실시예 1)(Example 1)

경화성 수지로서 비스페놀 A 형 에폭시아크릴레이트 (다이셀·올넥스사 제조, 「EBECRYL3700」) 70 중량부 및 비스페놀 F 형 에폭시 수지 (미츠비시 화학사 제조, 「jER806」) 30 중량부와, 열 라디칼 중합 개시제로서 고분자 아조 개시제 (와코 순약 공업사 제조, 「VPE-0201」) 7 중량부와, 열 경화제로서 세바크산디하이드라지드 (오오츠카 화학사 제조, 「SDH」) 8 중량부와, 유연 입자 A 30 중량부와, 충전제로서 실리카 (아도마텍스사 제조, 「아도마파인 SO-C2」) 10 중량부와, 실란 커플링제로서 3-글리시독시프로필트리메톡시실란 (신에츠 화학 공업사 제조, 「KBM-403」) 1 중량부를 배합하여, 유성식 교반 장치 (싱키사 제조, 「아와토리 렌타로」) 로 교반한 후, 세라믹 3 단 롤로 균일하게 혼합시켜 액정 적하 공법용 시일제를 얻었다.As a curable resin, 70 parts by weight of a bisphenol A epoxy acrylate (manufactured by Daicel Allnex, "EBECRYL3700") and 30 parts by weight of a bisphenol F-type epoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical, "jER806") as a thermal radical polymerization initiator 7 parts by weight of a polymer azo initiator (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., "VPE-0201"), 8 parts by weight of sebacic acid dihydrazide (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd., "SDH") as a thermosetting agent, and 30 parts by weight of flexible particles A , 10 parts by weight of silica (manufactured by Adomatex, “Adomafine SO-C2”) as a filler, and 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., “KBM-403” as a silane coupling agent) ) 1 weight part was mix|blended, and after stirring with the planetary stirring apparatus (The Sinki company make, "Awatori Rentaro"), it was made to mix uniformly with a ceramic 3-stage roll, and the sealing compound for liquid crystal dropping methods was obtained.

(실시예 2 ∼ 10, 비교예 1 ∼ 4)(Examples 2 to 10, Comparative Examples 1 to 4)

표 2, 3 에 기재된 배합비에 따라, 각 재료를 실시예 1 과 동일하게 하여, 유성식 교반기 (싱키사 제조 「아와토리 렌타로」) 를 사용하여 혼합한 후, 추가로 3 단 롤을 사용하여 혼합함으로써 실시예 2 ∼ 10, 비교예 1 ∼ 4 의 액정 적하 공법용 시일제를 조제하였다.According to the blending ratios shown in Tables 2 and 3, each material was prepared in the same manner as in Example 1, mixed using a planetary stirrer (“Awatori Rentaro” manufactured by Sinki Corporation), and then further using a 3-stage roll By mixing, the sealing compound for liquid crystal dropping methods of Examples 2-10 and Comparative Examples 1-4 was prepared.

또한, 비교예 1 에서 사용한 「KMP-601 미분급품」은, 실리콘 고무 입자 (신에츠 화학 공업사 제조, 「KMP-601」) 를 분급하지 않고 그대로 사용한 것이고, 비교예 2 에서 사용한 「KMP-600 미분급품」은, 실리콘 고무 입자 (신에츠 화학 공업사 제조, 「KMP-600」) 를 분급하지 않고 그대로 사용한 것이며, 비교예 3 에서 사용한 「9701 미분급품」은, 실리콘 엘라스토머 복합 입자 (토오레·다우코닝사 제조, 「9701 코스메틱 파우더」) 를 분급하지 않고 그대로 사용한 것으로, 각각에 대하여 유연 입자 A 와 동일하게 하여 측정한 최빈 입자 직경, 중위 입자 직경, 최대 입자 직경, 최소 입자 직경, 평균 입자 직경, D90, 입자 직경의 CV 값, W, X, Y 및 Z 를 표 1 에 나타내었다.In addition, the "KMP-601 unclassified product" used in Comparative Example 1 was used as it is without classifying silicone rubber particles (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., "KMP-601"), and the "KMP-600 unclassified product" used in Comparative Example 2 was used. ' indicates that silicone rubber particles (manufactured by Shin-Etsu Chemical Industries, Ltd., "KMP-600") were used without classification, and "9701 unclassified product" used in Comparative Example 3 is silicone elastomer composite particles (manufactured by Toray Dow Corning, "9701 cosmetic powder") was used as it is without classification, and the mode particle diameter, median particle diameter, maximum particle diameter, minimum particle diameter, average particle diameter, D90, particle diameter measured in the same manner as flexible particle A for each The CV values, W, X, Y and Z of are shown in Table 1.

<평가><Evaluation>

실시예 및 비교예에서 얻어진 각 액정 적하 공법용 시일제에 대하여 이하의 평가를 실시하였다.The following evaluation was performed about each sealing compound for liquid crystal dropping methods obtained by the Example and the comparative example.

(셀갭)(cell gap)

실시예 및 비교예에서 얻어진 각 액정 적하 공법용 시일제 100 중량부에 대하여 평균 입자 직경 4.7 ㎛ 의 스페이서 입자 (세키스이 화학 공업사 제조, 「마이크로펄 SI」) 1 중량부를 유성식 교반 장치에 의해 균일하게 분산시켜, 얻어진 시일제를 디스펜서용 시린지 (무사시 엔지니어링사 제조, 「PSY-10E」) 에 충전하고, 탈포 처리를 실시하고 나서, 디스펜서 (무사시 엔지니어링사 제조, 「SHOTMASTER300」) 로, 2 장의 ITO 박막이 부착된 투명 전극 기판 중 일방에 장방형의 테두리를 그리도록 시일제 (메인 시일) 를 도포하고, 계속해서 셀을 진공으로 유지하기 위해, 추가로 외주에 한 바퀴 시일제 (더미 시일) 를 도포하였다. 그 후, TN 액정 (칫소사 제조, 「JC-5001LA」) 의 미소적을 액정 적하 장치로 적하 도포하고, 타방의 투명 기판을 진공 첩합 장치로 5 ㎩ 의 진공하에서 첩합하였다. 첩합한 후의 셀에 고압 수은 램프를 사용하여 100 mW/㎠ 의 자외선을 30 초간 조사한 후, 125 ℃ 에서 60 분간 가열하여 시일제를 열 경화시켜 액정 표시 소자를 얻었다.With respect to 100 parts by weight of each sealing compound for liquid crystal dropping method obtained in Examples and Comparative Examples, 1 part by weight of spacer particles having an average particle diameter of 4.7 µm (“Micropearl SI”, manufactured by Sekisui Chemical Industry Co., Ltd.) with a planetary stirring device uniformly After dispersing and filling a syringe for dispensers ("PSY-10E", manufactured by Musashi Engineering, Inc.) with the obtained sealing compound, and a defoaming treatment, with a dispenser (manufactured by Musashi Engineering, "SHOTMASTER300"), two ITO thin films A sealing compound (main seal) was applied to one side of this attached transparent electrode substrate so as to draw a rectangular edge, and a sealing compound (dummy seal) was further applied to the outer periphery in order to keep the cell in a vacuum. . Then, the microdroplet of TN liquid crystal (the Chisso company make, "JC-5001LA") was drip-coated with the liquid crystal dropping device, and the other transparent substrate was bonded together under the vacuum of 5 Pa with the vacuum bonding device. After irradiating a 100 mW/cm<2> ultraviolet-ray for 30 second using the high-pressure mercury-vapor lamp to the cell after bonding together, it heated at 125 degreeC for 60 minutes, the sealing compound was thermosetted, and the liquid crystal display element was obtained.

얻어진 액정 표시 소자의 셀갭을 측정하여, 셀 내가 균일하게 4 ∼ 5 ㎛ 로 되어 있던 경우를 「◎」, 셀 내의 거의 전체에 4 ∼ 5 ㎛ 의 갭이 얻어진 경우를 「○」, 셀 내에 4 ∼ 5 ㎛ 의 갭이 얻어지지 않은 부분이 많거나 또는 넓게 존재한 경우를 「△」, 셀을 형성할 수 없었던 경우를 「×」로 하여 셀갭을 평가하였다. 결과를 표 2, 3 에 나타내었다.The cell gap of the obtained liquid crystal display element was measured, and when the inside of a cell was 4-5 micrometers uniformly, "double-circle", when a 4-5 micrometers gap was obtained in almost the whole in a cell, "circle", 4 to in a cell The cell gap was evaluated as “Δ” when there were many or wide portions in which a gap of 5 μm was not obtained, and “×” when a cell could not be formed. The results are shown in Tables 2 and 3.

(액정 오염성)(Liquid crystalline contamination)

상기 「(셀갭)」의 평가에서 얻어진 액정 표시 소자에 대하여, 시일부 주변의 액정 (특히 코너부) 에 생기는 표시 불균일을 육안으로 관찰하여, 표시 불균일이 전혀 없었던 경우를 「◎」, 표시 불균일이 거의 없었던 경우를 「○」, 표시 불균일이 명확히 확인된 경우를 「△」, 심한 표시 불균일이 확인된 경우 또는 셀을 형성할 수 없었던 경우를 「×」로 하여 액정 오염성을 평가하였다. 결과를 표 2, 3 에 나타내었다.About the liquid crystal display element obtained by the evaluation of the said "(cell gap)", the display unevenness generated in the liquid crystal (especially the corner part) around the seal part was visually observed, and when there was no display unevenness at all, "double-circle", display unevenness was Liquid-crystal staining property was evaluated by making "○" when there was almost no case, "(triangle|delta)" for the case where display nonuniformity was clearly confirmed, and the case where severe display nonuniformity was confirmed or the case where a cell could not be formed as "x". The results are shown in Tables 2 and 3.

(시일제로부터 취출한 유연 입자의 평가)(Evaluation of the flexible particle taken out from the sealing compound)

실시예 및 비교예에서 얻어진 각 액정 적하 공법용 시일제 0.5 중량부를 에탄올 30 중량부 중에 투입하여, 35 ℃ 에서 1 시간 교반을 실시한 후, 여과를 실시함으로써 시일제로부터 유연 미립자를 취출하였다.After putting 0.5 weight part of each sealing compound for liquid crystal dropping methods obtained by the Example and the comparative example into 30 weight part of ethanol and stirring at 35 degreeC for 1 hour, the flexible microparticles|fine-particles were taken out from the sealing compound by filtering.

각 시일제로부터 취출한 유연 입자에 대하여, 상기 「(유연 입자 A 의 조제)」와 동일하게 하여 측정한, 최빈 입자 직경, 중위 입자 직경, 최대 입자 직경, 최소 입자 직경, 평균 입자 직경, 입자 직경의 CV 값, W, X, Y 및 Z 를 표 4 에 나타내었다.Modest particle diameter, median particle diameter, maximum particle diameter, minimum particle diameter, average particle diameter, particle diameter which carried out similarly to said "(preparation of flexible particle A)" and measured about the flexible particle taken out from each sealing compound Table 4 shows the CV values of W, X, Y and Z.

Figure 112016063399854-pct00001
Figure 112016063399854-pct00001

Figure 112016063399854-pct00002
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Figure 112016063399854-pct00003
Figure 112016063399854-pct00003

Figure 112016063399854-pct00004
Figure 112016063399854-pct00004

본 발명에 의하면, 시일 브레이크나 액정 오염의 억제와 스프링 백에 의한 갭 불량의 억제를 양립할 수 있는 액정 적하 공법용 시일제를 제공할 수 있다. 또, 본 발명에 의하면, 그 액정 적하 공법용 시일제를 사용하여 제조되는 상하 도통 재료 및 액정 표시 소자를 제공할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the sealing compound for liquid crystal dropping methods compatible with suppression of a seal break and liquid-crystal contamination, and suppression of the gap defect by springback can be provided. Moreover, according to this invention, the vertical conduction material and liquid crystal display element which are manufactured using this sealing compound for liquid crystal dropping methods can be provided.

Claims (9)

액정 적하 공법에 의한 액정 표시 소자의 제조에 사용하는 액정 적하 공법용 시일제로서,
경화성 수지와, 중합 개시제 및/또는 열 경화제와, 유연 입자를 함유하고,
상기 유연 입자는, 입도 분포에 있어서 최빈 입자 직경이 중위 (中位) 입자 직경의 1.07 배 이상인 것을 특징으로 하는 액정 적하 공법용 시일제.
As a sealing compound for liquid crystal dropping methods used for manufacture of the liquid crystal display element by a liquid crystal dropping method,
Curable resin, a polymerization initiator and/or a thermosetting agent, and flexible particle|grains are contained,
The said flexible particle|grain is 1.07 times or more of a median particle diameter in particle size distribution. The sealing compound for liquid crystal dropping methods characterized by the above-mentioned.
제 1 항에 있어서,
유연 입자는 입도 분포에 있어서, 누적 분포에서의 D90 이 중위 입자 직경의 1.40 배 미만인 것을 특징으로 하는 액정 적하 공법용 시일제.
The method of claim 1,
Flexible particle is particle size distribution. WHEREIN: D90 in cumulative distribution is less than 1.40 times of a median particle diameter, The sealing compound for liquid crystal dropping methods characterized by the above-mentioned.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
유연 입자는 입도 분포에 있어서, 최소 입자 직경으로부터 중위 입자 직경보다 2 ㎛ 작은 입자 직경까지의 체적 빈도의 비율을 W (%), 중위 입자 직경보다 2 ㎛ 큰 입자 직경으로부터 최대 입자 직경까지의 체적 빈도의 비율을 Z (%) 로 했을 때, W/Z≥1.1 인 것을 특징으로 하는 액정 적하 공법용 시일제.
3. The method according to claim 1 or 2,
For flexible particles, in the particle size distribution, W (%) is the ratio of the volume frequency from the minimum particle diameter to the particle diameter 2 μm smaller than the median particle diameter, and the volume frequency from the particle diameter 2 μm larger than the median particle diameter to the maximum particle diameter. When the ratio of is made into Z (%), it is W/Z≥1.1, The sealing compound for liquid crystal dropping methods characterized by the above-mentioned.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
유연 입자는 입도 분포에 있어서, 중위 입자 직경보다 2 ㎛ 작은 입자 직경으로부터 중위 입자 직경까지의 체적 빈도의 비율을 X (%), 중위 입자 직경으로부터 중위 입자 직경보다 2 ㎛ 큰 입자 직경까지의 체적 빈도의 비율을 Y (%) 로 했을 때, X+Y≥60 인 것을 특징으로 하는 액정 적하 공법용 시일제.
3. The method according to claim 1 or 2,
For flexible particles, in the particle size distribution, the ratio of the volume frequency from a particle diameter 2 µm smaller than the median particle diameter to the median particle diameter is X (%), and the volume frequency from the median particle diameter to a particle diameter 2 μm larger than the median particle diameter It is X+Y≥60 when ratio is made into Y (%), The sealing compound for liquid crystal dropping methods characterized by the above-mentioned.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
유연 입자는 입도 분포에 있어서, 중위 입자 직경보다 2 ㎛ 큰 입자 직경으로부터 최대 입자 직경까지의 체적 빈도의 합계가 전체의 10 % 미만이고, 또한 최소 입자 직경으로부터 중위 입자 직경보다 2 ㎛ 작은 입자 직경까지의 체적 빈도의 합계가 전체의 20 % 미만인 것을 특징으로 하는 액정 적하 공법용 시일제.
3. The method according to claim 1 or 2,
In the particle size distribution of flexible particles, the sum of the volume frequencies from the particle diameter 2 μm larger than the median particle diameter to the maximum particle diameter is less than 10% of the total, and from the minimum particle diameter to a particle diameter 2 μm smaller than the median particle diameter The total of the volume frequency of is less than 20% of the whole, The sealing compound for liquid crystal dropping methods characterized by the above-mentioned.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
유연 입자는 최대 입자 직경이 액정 표시 소자의 셀갭의 100 % 이상이고, 또한 5 ∼ 50 ㎛ 인 것을 특징으로 하는 액정 적하 공법용 시일제.
3. The method according to claim 1 or 2,
A flexible particle|grain is 100% or more of a maximum particle diameter of the cell gap of a liquid crystal display element, and it is 5-50 micrometers, The sealing compound for liquid crystal dropping methods characterized by the above-mentioned.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
차광제를 함유하는 것을 특징으로 하는 액정 적하 공법용 시일제.
3. The method according to claim 1 or 2,
A light-shielding agent is contained, The sealing compound for liquid crystal dropping methods characterized by the above-mentioned.
제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 액정 적하 공법용 시일제와 도전성 미립자를 함유하는 것을 특징으로 하는 상하 도통 (導通) 재료.The sealing compound for liquid crystal dropping methods of Claim 1 or 2, and electroconductive fine particles are contained, The vertical conduction material characterized by the above-mentioned. 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 액정 적하 공법용 시일제를 갖는 것을 특징으로 하는 액정 표시 소자.It has the sealing compound for liquid crystal dropping methods of Claim 1 or 2, The liquid crystal display element characterized by the above-mentioned.
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