KR102323196B1 - Method and apparatus for fabricating pattern sheet - Google Patents

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KR102323196B1 KR1020190106965A KR20190106965A KR102323196B1 KR 102323196 B1 KR102323196 B1 KR 102323196B1 KR 1020190106965 A KR1020190106965 A KR 1020190106965A KR 20190106965 A KR20190106965 A KR 20190106965A KR 102323196 B1 KR102323196 B1 KR 102323196B1
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Abstract

패턴 시트의 제조 방법 및 패턴 시트의 제조 장치가 제공된다. 패턴 시트의 제조 방법은 제1 기재의 상면에 제1 표면 요철을 포함하는 제1 패턴층을 형성하는 단계, 및 연속 공정으로 제1 패턴층 상에 제2 패턴층을 형성하는 단계로서, 제1 패턴층과 제2 패턴층의 두께의 합이 균일하도록 제2 패턴층을 형성하는 단계를 포함하되, 제2 패턴층은 제1 표면 요철에 맞물리는 상보적인 형상을 갖는 제2 표면 요철을 포함하고, 제1 패턴층은 제1 패턴 영역, 및 제1 표면 요철 및 제2 표면 요철이 제1 패턴 영역과 다른 단면 구조를 갖는 제2 패턴 영역을 포함한다.
A method for manufacturing a patterned sheet and an apparatus for manufacturing a patterned sheet are provided. A method of manufacturing a pattern sheet includes forming a first pattern layer including a first surface asperity on an upper surface of a first substrate, and forming a second pattern layer on the first pattern layer in a continuous process. Forming a second pattern layer so that the sum of the thicknesses of the pattern layer and the second pattern layer is uniform, wherein the second pattern layer includes a second surface unevenness having a complementary shape engaged with the first surface unevenness, and , the first pattern layer includes a first pattern region, and a second pattern region in which the first surface asperity and the second surface asperity have a cross-sectional structure different from that of the first pattern region.

Figure R1020190106965
Figure R1020190106965

Description

패턴 시트의 제조 방법 및 패턴 시트의 제조 장치 {Method and apparatus for fabricating pattern sheet}Pattern sheet manufacturing method and pattern sheet manufacturing apparatus {Method and apparatus for fabricating pattern sheet}

본 발명은 상보적인 형상을 갖는 복수개의 패턴층을 적층한 패턴 시트의 제조 방법 및 제조 장치에 대한 것이다. The present invention relates to a method and apparatus for manufacturing a patterned sheet in which a plurality of patterned layers having complementary shapes are laminated.

적층형 패턴 시트는 디스플레이 장치에 사용된다. 최근 디스플레이의 대형화로 인하여 55인치 이상의 크기를 갖는 패턴시트의 요구가 많으나, 55인치 이상에 대응되는 패턴시트의 경우 1300mm 이상의 폭에 수 마이크로미터 수준의 최소 직경을 갖는 복수개의 패턴들이 전면에 형성된 패턴롤을 제작해야 할 수 있으며, 상기 복수개의 패턴들이 선형이고 패턴롤의 원주 방향이 아닌 폭 방향 또는 상기 원주 방향에서 큰 각도로 틸트된 방향으로 패턴롤을 가공해야 할 경우 높은 난이도로 인하여 제작 시간이 길고 수율이 낮으며 매우 고가이므로, 1300mm 이상의 광폭을 갖는 적층형 패턴시트 형성시 제조비용이 현저히 상승될 수 있다.Laminated pattern sheets are used in display devices. Due to the recent enlargement of the display, there is a lot of demand for a pattern sheet having a size of 55 inches or more. However, in the case of a pattern sheet corresponding to 55 inches or more, a plurality of patterns having a width of 1300 mm or more and a minimum diameter of several micrometers are formed on the front surface. It may be necessary to manufacture a roll, and when the plurality of patterns are linear and the pattern roll needs to be processed in the width direction, not in the circumferential direction of the pattern roll, or in the direction tilted at a large angle in the circumferential direction, the manufacturing time is shortened due to high difficulty Since it is long, the yield is low, and it is very expensive, the manufacturing cost may be significantly increased when forming a laminated pattern sheet having a width of 1300 mm or more.

뿐만 아니라, 패턴 시트를 형성하기 위해서는 패턴롤과 1차 패턴수지에 의해 제1 기재 상에 형성되는 제1 패턴층을 구비한 패턴시트 반제품을 제작한 후, 상기 제1 패턴층 표면에 2차 패턴수지를 도포한 후 제2 기재를 덮어 물리적으로 가압하여 상기 제1 패턴층에 상보적인 형상을 갖는 제2 패턴층을 형성하게 되는데, 상기 제1 패턴층 및 제2 패턴층을 각각 별도의 공정으로 제조시 제1 패턴층에 형성된 불량이 적층형 패턴시트에 시인되거나, 제1 및/또는 제2 패턴층의 두께 불균일성으로 인하여 적층형 패턴시트 상에 얼룩으로 시인될 수 있다. 패턴롤의 대안으로 소프트 몰드에 의한 패턴 형성 방법이 알려져 있지만, 소프트 몰드는 양 단부를 연결하는 이음부를 포함하고, 그 이음부가 전사된 패턴이 두께 불균일을 나타내므로, 상술한 얼룩이 발생할 우려가 있다. 복수개의 패턴층이 각각 90% 이상의 높은 광투과율을 구비할 경우에는 외관 불량에 더욱 민감할 수밖에 없다.In addition, in order to form a pattern sheet, a pattern sheet semi-finished product having a first pattern layer formed on a first substrate by a pattern roll and a primary pattern resin is manufactured, and then a secondary pattern is formed on the surface of the first pattern layer. After the resin is applied, a second pattern layer having a shape complementary to the first pattern layer is formed by physically pressing the second substrate to cover the first pattern layer and the second pattern layer, respectively, in separate processes. Defects formed on the first pattern layer during manufacturing may be recognized on the laminated pattern sheet, or as a stain on the laminated pattern sheet due to non-uniform thickness of the first and/or second pattern layers. As an alternative to the pattern roll, a method of forming a pattern by a soft mold is known, but the soft mold includes a joint connecting both ends, and the pattern to which the joint is transferred shows a thickness non-uniformity. When each of the plurality of pattern layers has a high light transmittance of 90% or more, it is inevitably more sensitive to an appearance defect.

공개특허공보 제10-2016-0057904호Laid-Open Patent Publication No. 10-2016-0057904

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 제1 패턴층에 기인한 불량이 적층형 패턴 시트에서 시인되지 않는 패턴 시트의 제조 방법에 관한 것이다.The problem to be solved by the present invention relates to a method of manufacturing a pattern sheet in which defects due to the first pattern layer are not visually recognized in the laminated pattern sheet.

본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 제1 패턴층에 기인한 불량이 적층형 패턴 시트에서 시인되지 않는 패턴 시트의 제조 장치에 관한 것이다.Another problem to be solved by the present invention relates to an apparatus for manufacturing a pattern sheet in which defects due to the first pattern layer are not visually recognized in the laminated pattern sheet.

본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problems of the present invention are not limited to the problems mentioned above, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기 과제를 해결하기 위한 일 실시예에 따른 패턴 시트의 제조 방법은 제1 기재의 상면에 제1 표면 요철을 포함하는 제1 패턴층을 형성하는 단계, 및 연속 공정으로 상기 제1 패턴층 상에 제2 패턴층을 형성하는 단계로서, 상기 제1 패턴층과 상기 제2 패턴층의 두께의 합이 균일하도록 상기 제2 패턴층을 형성하는 단계를 포함하되, 상기 제2 패턴층은 상기 제1 표면 요철에 맞물리는 상보적인 형상을 갖는 제2 표면 요철을 포함하고, 상기 제1 패턴층은 제1 패턴 영역, 및 상기 제1 표면 요철 및 상기 제2 표면 요철이 상기 제1 패턴 영역과 다른 단면 구조를 갖는 제2 패턴 영역을 포함한다. A method of manufacturing a pattern sheet according to an embodiment for solving the above problems includes forming a first pattern layer including a first surface asperity on an upper surface of a first substrate, and on the first pattern layer in a continuous process Forming a second pattern layer, comprising forming the second pattern layer so that the sum of the thicknesses of the first pattern layer and the second pattern layer is uniform, wherein the second pattern layer includes the first pattern layer a second surface asperity having a complementary shape engaged with the surface asperity, wherein the first pattern layer has a first pattern area, and a cross section in which the first surface asperity and the second surface asperity are different from the first pattern area and a second pattern region having a structure.

상기 다른 과제를 해결하기 위한 일 실시예에 따른 패턴 시트의 제조 장치는 제1 패턴 형성부 및 제2 패턴 형성부를 포함하는 패턴 시트 제조 장치로서, 상기 제1 패턴 형성부는 소프트 몰드, 제1 수지 공급 유닛, 및 제1 기재 제공부를 포함하고, 상기 제2 패턴 형성부는 라미네이션부, 제2 수지 공급 유닛, 및 제2 기재 제공부를 포함하되, 상기 제1 패턴 형성부와 상기 제2 패턴 형성부는 연속 공정으로 연결된다. An apparatus for manufacturing a pattern sheet according to an embodiment for solving the other problem is a pattern sheet manufacturing apparatus including a first pattern forming unit and a second pattern forming unit, wherein the first pattern forming unit is a soft mold and a first resin supply a unit, and a first substrate providing unit, wherein the second pattern forming unit includes a lamination unit, a second resin supply unit, and a second substrate providing unit, wherein the first pattern forming unit and the second pattern forming unit are a continuous process is connected to

기타 실시예의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.The details of other embodiments are included in the detailed description and drawings.

실시예들에 따르면, 높은 생산성과 낮은 비용의 필름몰드를 이용하여 연속공정으로 제조함으로써 생산성을 개선하고 제조비용을 절감할 수 있다. According to embodiments, it is possible to improve productivity and reduce manufacturing costs by manufacturing in a continuous process using a film mold with high productivity and low cost.

또, 필름몰드로부터 제작되는 제1 패턴층의 이음부로부터 기인한 불량 발생을 방지하고, 적층형 패턴시트 제작시 적층 패턴의 두께를 균일하게 할 수 있고, 필름몰드의 적용 및 이를 이용한 연속공정으로 수행되어 제조비용이 절감될 수 있다. 특히 1300mm 폭 이상의 대형 적층형 패턴시트의 생산성을 향상시킬 수 있다. 나아가, 제1 및/또는 제2 패턴층의 두께 균일성을 개선할 수 있다.In addition, it is possible to prevent the occurrence of defects due to the joint of the first pattern layer produced from the film mold, and to make the thickness of the laminated pattern uniform when manufacturing the laminated pattern sheet, and to apply the film mold and perform a continuous process using the same This can reduce the manufacturing cost. In particular, it is possible to improve the productivity of a large laminated pattern sheet with a width of 1300 mm or more. Furthermore, thickness uniformity of the first and/or second pattern layers may be improved.

본 발명에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며, 더욱 다양한 효과들이 본 명세서 내에 포함되어 있다.The effect according to the present invention is not limited by the contents exemplified above, and more various effects are included in the present specification.

도 1은 일 실시예에 따른 패턴 시트의 단면도이다.
도 2 내지 도 4는 다양한 실시예에 따른 패턴 시트의 단면도들이다.
도 5는 또 다른 실시예에 따른 패턴 시트의 단면도이다.
도 6은 또 다른 실시예에 따른 패턴 시트의 단면도이다.
도 7은 일 실시예에 따른 롤 형상의 패턴 시트의 단면도이다.
도 8은 일 실시예에 따른 소프트 몰드의 사시도이다.
도 9는 도 8의 IX-IX'선을 따라 자른 단면도이다.
도 10은 도 8의 소프트 몰드를 이용하여 패턴 시트를 제조하는 일 과정을 보여주는 단면도이다.
도 11은 다른 실시예에 따른 소프트 몰드의 사시도이다.
도 12는 도 11의 XII-XII'선을 따라 자른 단면도이다.
도 13은 도 11의 소프트 몰드를 이용하여 형성된 롤 형상의 패턴 시트의 단면도이다.
도 14는 또 다른 실시예에 따른 소프트 몰드의 사시도이다.
도 15는 도 14의 XV-XV'선을 따라 자른 단면도이다.
도 16은 도 14의 XVI-XVI'선을 따라 자른 단면도이다.
도 17은 도 14의 소프트 몰드를 이용하여 형성된 롤 형상의 패턴 시트의 사시도이다.
도 18은 일 실시예에 따른 패턴 시트의 제조 방법의 순서도이다.
도 19는 일 실시예에 따른 패턴 시트의 제조 장치 및 공정도를 나타낸 개략도이다.
도 20은 다른 실시예에 따른 패턴 시트의 제조 장치 및 공정도를 나타낸 개략도이다.
1 is a cross-sectional view of a pattern sheet according to an embodiment.
2 to 4 are cross-sectional views of pattern sheets according to various embodiments.
5 is a cross-sectional view of a pattern sheet according to another embodiment.
6 is a cross-sectional view of a pattern sheet according to another embodiment.
7 is a cross-sectional view of a roll-shaped pattern sheet according to an embodiment.
8 is a perspective view of a soft mold according to an embodiment.
9 is a cross-sectional view taken along line IX-IX' of FIG. 8 .
10 is a cross-sectional view illustrating a process of manufacturing a pattern sheet using the soft mold of FIG. 8 .
11 is a perspective view of a soft mold according to another embodiment.
12 is a cross-sectional view taken along line XII-XII' of FIG. 11 .
13 is a cross-sectional view of a roll-shaped pattern sheet formed using the soft mold of FIG. 11 .
14 is a perspective view of a soft mold according to another embodiment.
15 is a cross-sectional view taken along line XV-XV' of FIG. 14 .
16 is a cross-sectional view taken along line XVI-XVI' of FIG. 14 .
17 is a perspective view of a roll-shaped pattern sheet formed using the soft mold of FIG. 14 .
18 is a flowchart of a method of manufacturing a pattern sheet according to an exemplary embodiment.
19 is a schematic diagram illustrating an apparatus and process diagram for manufacturing a pattern sheet according to an embodiment.
20 is a schematic diagram illustrating an apparatus and process diagram for manufacturing a pattern sheet according to another embodiment.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. Advantages and features of the present invention and methods of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described below in detail in conjunction with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in a variety of different forms, and only these embodiments allow the disclosure of the present invention to be complete, and common knowledge in the technical field to which the present invention belongs It is provided to fully inform the possessor of the scope of the invention, and the present invention is only defined by the scope of the claims.

소자(elements) 또는 층이 다른 소자 또는 층"위(on)"로 지칭되는 것은 다른 소자 바로 위에 또는 중간에 다른 층 또는 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다. 반면, 소자가 "직접 위(directly on)"로 지칭되는 것은 중간에 다른 소자 또는 층을 개재하지 않은 것을 나타낸다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. "및/또는"는 언급된 아이템들의 각각 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다. Reference to an element or layer “on” another element or layer includes any intervening layer or other element directly on or in the middle of another element. On the other hand, when an element is referred to as "directly on", it is indicated that there are no intervening elements or layers intervening. Like reference numerals refer to like elements throughout. “and/or” includes each and every combination of one or more of the recited items.

비록 제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있음은 물론이다.Although the first, second, etc. are used to describe various elements, these elements are not limited by these terms, of course. These terms are only used to distinguish one component from another. Accordingly, it goes without saying that the first component mentioned below may be the second component within the spirit of the present invention.

본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소 외에 하나 이상의 다른 구성요소의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.The terminology used herein is for the purpose of describing the embodiments and is not intended to limit the present invention. As used herein, the singular also includes the plural unless specifically stated otherwise in the phrase. As used herein, “comprises” and/or “comprising” does not exclude the presence or addition of one or more other components in addition to the stated components.

다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms (including technical and scientific terms) used herein may be used with the meaning commonly understood by those of ordinary skill in the art to which the present invention belongs. In addition, terms defined in a commonly used dictionary are not to be interpreted ideally or excessively unless clearly defined in particular.

공간적으로 상대적인 용어인 "아래(below)", "아래(beneath)", "하부(lower)", "위(above)", "상부(upper)" 등은 도면에 도시되어 있는 바와 같이 하나의 구성 요소와 다른 구성 요소들과의 상관관계를 용이하게 기술하기 위해 사용될 수 있다. 공간적으로 상대적인 용어는 도면에 도시되어 있는 방향에 더하여 사용시 또는 동작시 구성요소들의 서로 다른 방향을 포함하는 용어로 이해되어야 한다. 예를 들면, 도면에 도시되어 있는 구성요소를 뒤집을 경우, 다른 구성요소의 "아래(below)"또는 "아래(beneath)"로 기술된 구성요소는 다른 구성요소의 "위(above)"에 놓여질 수 있다. 따라서, 예시적인 용어인 "아래"는 아래와 위의 방향을 모두 포함할 수 있다. 구성요소는 다른 방향으로도 배향될 수 있고, 이에 따라 공간적으로 상대적인 용어들은 배향에 따라 해석될 수 있다.Spatially relative terms "below", "beneath", "lower", "above", "upper", etc. It can be used to easily describe the correlation between a component and other components. A spatially relative term should be understood as a term that includes different directions of components during use or operation in addition to the directions shown in the drawings. For example, when a component shown in the drawings is turned over, a component described as “beneath” or “beneath” of another component may be placed “above” of the other component. can Accordingly, the exemplary term “below” may include both directions below and above. Components may also be oriented in other orientations, and thus spatially relative terms may be interpreted according to orientation.

본 명세서에서 사용되는 용어인 "~시트", "~필름", "~층" 등은 서로 동일한 의미로 혼용될 수 있다. 또한, 본 명세서의 용어인 기능성 광학시트는 광학 필름, 광학판, 광학 필름 패키지 등을 포함하는 의미로 사용될 수 있다. The terms "~ sheet", "~ film", "~ layer", etc. used herein may be used interchangeably with the same meaning. In addition, the term functional optical sheet as used herein may be used in the sense of including an optical film, an optical plate, an optical film package, and the like.

이하, 첨부된 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예들에 대해 설명한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 일 실시예에 따른 패턴 시트의 단면도이다. 1 is a cross-sectional view of a pattern sheet according to an embodiment.

설명의 편의상 시트, 필름이나 층의 면 중 도면에서 상부 방향에 놓이는 면을 상면으로, 하부 방향에 놓이는 면을 하면으로 지칭한다. 그러나, 상면, 하면 등의 용어는 해당 구조의 일면 또는 타면을 상대적으로 구분하여 지칭하기 위해 사용된 것일 뿐이며, 패턴 시트(10)의 적용예나 배치 방향에 따라 상면으로 지칭된 면이 하부를 향하거나 측면을 향하는 등 다양한 방향을 향할 수 있다. For convenience of description, a surface placed in an upper direction in the drawing among the surfaces of the sheet, film, or layer is referred to as an upper surface, and a surface placed in a lower direction is referred to as a lower surface. However, terms such as the upper surface, the lower surface, etc. are only used to refer to one surface or the other surface of the structure to be relatively distinguished, and depending on the application or arrangement direction of the pattern sheet 10 , the surface referred to as the upper surface faces downward or It can face in various directions, such as facing the side.

도면에서 제1 방향(D1)과 제2 방향(D2)은 상호 수직으로 교차하는 방향이다. 패턴 시트(10)의 변은 제1 방향(D1)과 제2 방향(D2) 중 어느 하나에 평행할 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다.In the drawing, the first direction D1 and the second direction D2 are directions perpendicular to each other. A side of the pattern sheet 10 may be parallel to any one of the first direction D1 and the second direction D2 , but is not limited thereto.

도 1을 참조하면, 패턴 시트(10)는 표시 장치의 광학 시트로 사용될 수 있다. 일 예로, 패턴 시트(10)는 액정 표시 장치의 백라이트 유닛의 광학 시트로 사용될 수 있다. 구체적으로, 패턴 시트(10)는 백라이트 유닛의 파장 변환 시트, 프리즘 시트, 확산 시트, 보호 시트 등으로 사용될 수 있다. 다른 예로, 패턴 시트(10)는 액정 표시 패널이나, 유기 발광 표시 패널의 상부에 배치되는 광학 시트로 사용될 수도 있다. 구체적으로, 패턴 시트(10)는 프라이버시 시트, 시야각에서의 색재현율을 높이기 위한 색 변화 저감용 시트, 밝은 장소에서도 명암비가 우수한 명실 명암비 향상 시트, 및 전자파 차폐 시트 등으로 사용될 수 있다. Referring to FIG. 1 , a pattern sheet 10 may be used as an optical sheet of a display device. For example, the pattern sheet 10 may be used as an optical sheet of a backlight unit of a liquid crystal display. Specifically, the pattern sheet 10 may be used as a wavelength conversion sheet, a prism sheet, a diffusion sheet, a protective sheet, and the like of the backlight unit. As another example, the pattern sheet 10 may be used as a liquid crystal display panel or an optical sheet disposed on the organic light emitting display panel. Specifically, the pattern sheet 10 may be used as a privacy sheet, a sheet for reducing color change to increase color reproducibility at a viewing angle, a bright-room contrast-ratio improving sheet with excellent contrast even in a bright place, and an electromagnetic wave shielding sheet.

패턴 시트(10)는 복수의 층들이 적층된 적층형 패턴 시트일 수 있다. 패턴 시트(10)는 제1 기재(100), 제1 기재(100)의 상면 상에 배치된 제1 패턴층(310), 및 제1 패턴층(310) 상에 배치된 제2 패턴층(320)을 포함한다. 패턴 시트(10)는 제2 패턴층(320) 상에 배치된 제2 기재(200)를 더 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 패턴 시트(10)의 외측면인 제1 기재(100)의 하면과 제2 기재(200)의 상면은 평탄하며, 다른 층의 배치없이 외부에 노출될 수 있다. 다른 실시예에서, 제1 기재(100)의 하면 및/또는 제2 기재(200)의 상면에는 기능성 코팅층(미도시)이 배치될 수도 있다. 상기 기능성 코팅층의 예로는 하드코팅층, 반사방지층, 방오층 등을 들 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다.The pattern sheet 10 may be a laminated pattern sheet in which a plurality of layers are stacked. The pattern sheet 10 includes a first substrate 100 , a first pattern layer 310 disposed on the upper surface of the first substrate 100 , and a second pattern layer disposed on the first pattern layer 310 ( 320). The pattern sheet 10 may further include a second substrate 200 disposed on the second pattern layer 320 . In an embodiment, the lower surface of the first substrate 100 that is the outer surface of the pattern sheet 10 and the upper surface of the second substrate 200 are flat, and may be exposed to the outside without disposing another layer. In another embodiment, a functional coating layer (not shown) may be disposed on the lower surface of the first substrate 100 and/or the upper surface of the second substrate 200 . Examples of the functional coating layer include, but are not limited to, a hard coating layer, an antireflection layer, an antifouling layer, and the like.

제1 기재(100)와 제2 기재(200)는 서로 대향한다. 제1 기재(100) 및 제2 기재(200)는 각각 균일한 두께를 가질 수 있다. The first substrate 100 and the second substrate 200 face each other. The first substrate 100 and the second substrate 200 may each have a uniform thickness.

제1 기재(100) 및 제2 기재(200)는 각각 투명한 수지를 포함하여 이루어질 수 있다. 예를 들어, 제1 기재(100) 및 제2 기재(200)는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리에틸렌(PE), 폴리프로필렌(PP), 폴리술폰(PSF), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 트리아세틸셀룰로오스(TAC), 시클로올레핀 폴리머(COP) 또는 시클로올레핀 코폴리머(COC) 등과 같은 광학 필름에 통상적으로 적용되는 물질로 이루어질 수 있다. 제1 기재(100) 및 제2 기재(200)의 광투과율은 90% 이상일 수 있다. 제1 기재(100)와 제2 기재(200)는 동일한 물질로 이루어질 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다.The first substrate 100 and the second substrate 200 may each include a transparent resin. For example, the first substrate 100 and the second substrate 200 may include polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polyethylene (PE), polypropylene (PP), polysulfone (PSF), and polymethyl It may be made of a material conventionally applied to an optical film, such as methacrylate (PMMA), triacetyl cellulose (TAC), cycloolefin polymer (COP) or cycloolefin copolymer (COC). The light transmittance of the first substrate 100 and the second substrate 200 may be 90% or more. The first substrate 100 and the second substrate 200 may be made of the same material, but are not limited thereto.

제1 기재(100)의 상면에는 제1 패턴층(310)이 배치된다. 제1 패턴층(310)의 상면은 요부와 철부를 포함하는 제1 표면 요철(또는 제1 패턴부, 도면에서 '310' 내부의 점선 상부)을 포함할 수 있다. 제1 패턴층(310)은 각 철부를 일체로 연결하는 제1 기저부(또는 제1 완화층, 도면에서 '310' 내부의 점선 하부)를 더 포함할 수 있다. A first pattern layer 310 is disposed on the upper surface of the first substrate 100 . The upper surface of the first pattern layer 310 may include a first surface unevenness (or a first pattern portion, an upper portion of a dotted line inside '310' in the drawing) including a concave portion and a convex portion. The first pattern layer 310 may further include a first base portion (or a first relief layer, a lower portion of a dotted line inside '310' in the drawing) that integrally connects each convex portion.

제1 패턴층(310) 상에는 제2 패턴층(320)이 배치된다. 제2 패턴층(320)의 하면은 제1 패턴층(310)의 상면에 직접 접할 수 있다. 제2 패턴층(320)의 하면은 철부와 요부를 포함하는 제2 표면 요철(또는 제2 패턴부, 도면에서 '320' 내부의 점선 하부)을 포함할 수 있다. 제1 패턴층(310)의 제1 표면 요철과 제2 패턴층(320)의 제2 표면 요철은 서로 맞물리는 상보적인 형상을 가질 수 있다. 즉, 제1 표면 요철의 철부는 제2 표면 요철의 요부와 실질적으로 동일한 형상을 가지며 맞물릴 수 있다. 제1 표면 요철의 요부는 제2 표면 요철의 철부와 실질적으로 동일한 형상을 가지며 맞물릴 수 있다. 제1 표면 요철의 구체적인 형상에 대해서는 후술하기로 한다.A second pattern layer 320 is disposed on the first pattern layer 310 . The lower surface of the second pattern layer 320 may directly contact the upper surface of the first pattern layer 310 . The lower surface of the second pattern layer 320 may include a second surface asperity including convex portions and concave portions (or a second pattern portion, a lower portion of the dotted line inside '320' in the drawing). The first surface irregularities of the first pattern layer 310 and the second surface irregularities of the second pattern layer 320 may have complementary shapes that engage with each other. That is, the convex portion of the first surface asperity has substantially the same shape as the convex portion of the second surface asperity and may be engaged. The concave and convex portions of the first surface asperity have substantially the same shape as the convex and convex portions of the second surface concavo-convex and engage with each other. A specific shape of the first surface asperity will be described later.

제2 패턴층(320)의 상면은 제2 기재(200)의 하면에 접할 수 있다. 제2 패턴층(320)의 상면은 대체로 평탄할 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다.The upper surface of the second pattern layer 320 may be in contact with the lower surface of the second substrate 200 . The upper surface of the second pattern layer 320 may be substantially flat, but is not limited thereto.

일 실시예에서, 제2 패턴층(320)은 제1 패턴층(310)과 달리 기저부를 불포함할 수 있다. 이 경우, 제2 패턴층(320)의 각 패턴들은 제1 패턴층(310) 제1 표면 요철의 철부에 의해 구분되거나 분할될 수 있다. 또한, 제1 패턴층(310) 제1 표면 요철의 철부의 적어도 일부는 제2 기재(200)의 하면에 접촉할 수 있다.In an embodiment, the second pattern layer 320 may not include a base portion unlike the first pattern layer 310 . In this case, each pattern of the second pattern layer 320 may be divided or divided by the convex portions of the first surface asperity of the first pattern layer 310 . In addition, at least a portion of the convex and convex portions of the first surface asperity of the first pattern layer 310 may contact the lower surface of the second substrate 200 .

다른 실시예에서, 제2 패턴층(320)은 제1 패턴층(310)과 마찬가지로 제2 패턴층(320)의 각 철부를 연결하는 제2 기저부(또는 제2 완화층, 도면에서 '320' 내부의 점선 상부)를 더 포함할 수 있다. 제2 기저부의 두께는 제1 기저부의 두께와 동일할 수도 있고, 그보다 작을 수도 있고, 그보다 클 수도 있다. 제2 기저부의 두께가 제1 기저부의 두께보다 작은 경우, 제2 패턴층(320)의 최대 두께 또한 제1 패턴층(310)의 최대 두께보다 작을 수 있다. 반면, 이후에 기술되는 바와 같이 제1 패턴층(310)은 광 변조 특성만 갖고 제2 패턴층(320)은 광 변조 특성 뿐만 아니라 점착 특성을 더 갖는 경우에는, 제2 기저부의 두께가 제1 기저부의 두께보다 클 수 있고, 이 경우 제2 패턴층(320)의 최대 두께 또한 제1 패턴층(310)의 최대 두께보다 클 수 있다.In another embodiment, the second pattern layer 320, like the first pattern layer 310, is a second base portion (or second alleviation layer, '320' in the drawing) connecting each convex portion of the second pattern layer 320. The inner dotted line upper portion) may be further included. The thickness of the second base may be equal to, smaller than, or larger than the thickness of the first base. When the thickness of the second base is smaller than the thickness of the first base, the maximum thickness of the second pattern layer 320 may also be smaller than the maximum thickness of the first pattern layer 310 . On the other hand, as will be described later, when the first pattern layer 310 has only light modulation characteristics and the second pattern layer 320 has not only light modulation characteristics but also adhesion characteristics, the thickness of the second base is the first It may be greater than the thickness of the base, and in this case, the maximum thickness of the second pattern layer 320 may also be greater than the maximum thickness of the first pattern layer 310 .

제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)을 합친 두께는 균일할 수 있다. 몇몇 실시예에서, 제1 패턴층(310)은 철부의 높이(t10)가 균일하지 않을 수 있다. 예를 들어, 후술하는 제1 패턴 영역(PTR1)과 제2 패턴 영역(PTR2)은 그 높이가 상이할 수 있다. 뿐만 아니라, 제1 패턴 영역(PTR1)에 속하는 철부 사이에서도 높이 차이가 발생할 수 있다. 이 경우, 제1 패턴층(310) 상면에 형성되는 제2 패턴층(320)이 평탄화 기능을 수행할 수 있다. 즉, 제1 패턴층(310)의 철부의 두께(또는 높이)(t10)가 큰 영역에서는 상대적으로 제2 패턴층(320)의 요부의 두께(또는 높이)(t21)가 작고, 제1 패턴층(310)의 철부의 두께(t10)가 작은 영역에서는 상대적으로 제2 패턴층(320)의 요부의 두께(t21)가 커서 전반적으로 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)을 합친 두께를 균일하게 유지할 수 있다. 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)의 두께의 합이 균일함에 따라 제1 기재(100)의 상면과 그에 대향하는 제2 기재(200)의 하면 사이의 거리 또한 균일해질 수 있다. 마찬가지로, 제1 패턴층(310)의 요부의 두께(t11)와 그에 상응하는 제2 패턴층(320)의 철부의 두께(t20)의 합은 균일하며, 제1 패턴층(310)의 철부의 두께(t10) 및 그에 상응하는 제2 패턴층(320)의 요부의 두께(t21)의 합과 동일할 수 있다.The combined thickness of the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 may be uniform. In some embodiments, the height t10 of the convex portion of the first pattern layer 310 may not be uniform. For example, the height of the first pattern region PTR1 and the second pattern region PTR2 to be described later may be different from each other. In addition, a height difference may occur between the convex portions belonging to the first pattern region PTR1 . In this case, the second pattern layer 320 formed on the upper surface of the first pattern layer 310 may perform a planarization function. That is, in a region where the thickness (or height) t10 of the convex portion of the first pattern layer 310 is large, the thickness (or height) t21 of the concave portion of the second pattern layer 320 is relatively small, and the first pattern In a region where the thickness t10 of the convex portion of the layer 310 is small, the thickness t21 of the concave portion of the second pattern layer 320 is relatively large, and thus the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 are generally large. The combined thickness can be maintained uniformly. As the sum of the thicknesses of the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 is uniform, the distance between the upper surface of the first substrate 100 and the lower surface of the second substrate 200 opposite thereto may also be uniform. have. Similarly, the sum of the thickness t11 of the concave portion of the first pattern layer 310 and the corresponding thickness t20 of the convex portion of the second pattern layer 320 is uniform, and the convex portion of the first pattern layer 310 is uniform. It may be the same as the sum of the thickness t10 and the thickness t21 of the corresponding concave portion of the second pattern layer 320 .

패턴 시트(10)가 평판 형상으로 펼쳐진 상태에서, 제1 기재(100)와 제2 기재(200)는 평행하게 배치될 수 있다.In a state in which the pattern sheet 10 is spread in a flat plate shape, the first substrate 100 and the second substrate 200 may be arranged in parallel.

제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)은 각각 투명한 수지를 포함하여 이루어질 수 있다. 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)은 각각 에폭시아크릴레이트계 수지, 우레탄아크릴레이트계 수지, 실리콘아크릴레이트계 수지 등의 광경화성 수지나 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 폴리에스테르계 수지 등의 열경화성 수지를 포함하여 이루어질 수 있다. 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)을 구성하는 상기 수지는 각각 95% 이상의 광투과율을 가질 수 있다.The first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 may each include a transparent resin. The first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 are photocurable resins such as epoxy acrylate-based resins, urethane acrylate-based resins, and silicone acrylate-based resins, acrylic resins, urethane-based resins, and polyester-based resins, respectively. It may include a thermosetting resin, such as. The resin constituting the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 may each have a light transmittance of 95% or more.

제2 패턴층(320)은 점착 특성을 더 가질 수 있다. 패턴 시트(10)가 제2 기재(200)를 포함하고 제2 패턴층(320)이 높은 점착 특성을 가질 경우, 패턴 시트(10) 자체의 합지 품질을 향상시킬 수 있다. 또한, 제2 패턴층(320)을 제2 기재(200)와 합지하거나, 제2 기재(200)가 없는 패턴 시트(10)를 추가적인 피착체와 합지할 때, 별도의 결합 부재를 생략할 수 있다. 이 경우, 제2 패턴층(320)의 점착력은 500g/25mm 이상일 수 있고, 1000g/25mm 이상인 것이 더욱 바람직하다. 일 예로, 제2 패턴층(320)이 무알칼리 유리(Non-Alkali Glass, 코닝 Eagle XG Glass 0.7t)에 부착될 경우 상기 유리와 제2 패턴층(320)의 점착력이 1500g/25mm 이상이 되어, 패턴 시트(10)를 표면 필름으로 사용시 별도의 접합 부재를 사용하지 않더라도 견고한 접합력을 구현할 수 있다.The second pattern layer 320 may further have an adhesive property. When the pattern sheet 10 includes the second substrate 200 and the second pattern layer 320 has high adhesive properties, the lamination quality of the pattern sheet 10 itself may be improved. In addition, when laminating the second pattern layer 320 with the second substrate 200 or laminating the pattern sheet 10 without the second substrate 200 with an additional adherend, a separate bonding member may be omitted. have. In this case, the adhesive force of the second pattern layer 320 may be 500 g/25 mm or more, and more preferably 1000 g/25 mm or more. For example, when the second pattern layer 320 is attached to non-alkali glass (Corning Eagle XG Glass 0.7t), the adhesive force between the glass and the second pattern layer 320 is 1500 g/25 mm or more. , when using the pattern sheet 10 as a surface film, it is possible to implement a strong bonding force without using a separate bonding member.

제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)은 굴절률은 약 1.4 내지 1.7이거나, 약 1.5 내지 1.6일 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다. 일 실시예에서, 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)은 동일한 굴절률을 가질 수 있다. 이 경우, 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)의 계면에 실질적인 광학 계면이 이루어지지 않아 해당 계면을 통과하는 빛이 굴절하지 않고 직진할 수 있다. 다른 실시예에서, 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)의 굴절률은 상이할 수도 있다. 예를 들어, 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)의 굴절률의 차이가 0.1 이상이 되는 경우, 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)의 계면이 광학적 계면을 이뤄 광의 진행 방향을 굴절시키거나 반사시키는 등 광 변조 기능을 수행할 수 있다. The refractive index of the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 may be about 1.4 to 1.7 or about 1.5 to 1.6, but is not limited thereto. In an embodiment, the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 may have the same refractive index. In this case, since a substantial optical interface is not formed at the interface between the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 , light passing through the interface may travel straight without being refracted. In another embodiment, the refractive indices of the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 may be different. For example, when the difference in refractive index between the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 is 0.1 or more, the interface between the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 is an optical interface. It can perform a light modulation function such as refracting or reflecting the propagation direction of light.

일 실시예에서, 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)은 동일한 물질을 포함하여 이루어질 수 있다. 다른 실시예에서, 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)은 상이한 물질을 포함하여 이루어질 수도 있다. 몇몇 실시예에서, 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)은 그 구성 성분이 상이하되, 굴절률은 실질적으로 동일할 수 있다. 여기서, 굴절률이 실질적으로 동일하다고 하는 것은 굴절률이 완전히 동일한 경우 뿐만 아니라, 굴절률의 차이가 0.01 이하인 경우를 포함하는 의미로 사용될 수 있다. In an embodiment, the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 may include the same material. In another embodiment, the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 may include different materials. In some embodiments, the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 may have different components, but may have substantially the same refractive index. Here, the fact that the refractive indices are substantially the same may be used to include not only the case in which the refractive indices are completely identical, but also the case in which the difference in refractive indices is 0.01 or less.

몇몇 실시예에서, 제2 패턴층(320)은 제1 패턴층(310)보다 작은 영률(Young's Modulus) 값을 가질 수 있다. 제2 패턴층(320)이 상대적으로 더 작은 영률 값을 가질 경우, 상대적으로 우수한 복원력을 가지며, 권취시 인접한 패턴 시트(10)의 제1 패턴층(310) 또는 제2 패턴층(320)의 미세 단차에 의해 눌림이 발생하는 경우에도 그에 의한 변형을 줄일 수 있다. In some embodiments, the second pattern layer 320 may have a smaller Young's modulus value than that of the first pattern layer 310 . When the second pattern layer 320 has a relatively smaller Young's modulus value, it has a relatively good restoring force, and the first pattern layer 310 or the second pattern layer 320 of the adjacent pattern sheet 10 during winding. Even when pressing occurs due to a minute step, deformation caused by it can be reduced.

도 1에서는 제1 기재(100) 상면의 바로 위에 제1 패턴층(310)이 형성되고, 제2 기재(200) 하면의 바로 위에 제2 패턴층(320)이 형성된 경우를 예시하였지만, 제1 기재(100)의 상면과 제1 패턴층(310) 사이 및/또는 제2 기재(200)의 하면과 제2 패턴층(320) 사이에는 이형층과 같은 기능성 코팅층이 더 배치될 수도 있다. 이 경우, 패턴층(300)에 대한 이형층의 부착력은 상술한 제2 패턴층(320)의 점착력보다 작으며, 예를 들어 5g/25mm 내지 30g/25mm일 수 있지만, 이에 제한되지 않는다. 1 illustrates a case in which the first pattern layer 310 is formed directly on the upper surface of the first substrate 100 and the second pattern layer 320 is formed directly on the lower surface of the second substrate 200, but the first A functional coating layer such as a release layer may be further disposed between the upper surface of the substrate 100 and the first pattern layer 310 and/or between the lower surface of the second substrate 200 and the second pattern layer 320 . In this case, the adhesive force of the release layer to the pattern layer 300 is smaller than the adhesive force of the above-described second pattern layer 320 , and may be, for example, 5 g/25 mm to 30 g/25 mm, but is not limited thereto.

몇몇 실시예에서, 제1 기재(100)의 상면과 제1 패턴층(310) 사이 및/또는 제2 기재(200)의 하면과 제2 패턴층(320) 사이에는 상반된 기능을 갖는 기능성 코팅층이 배치될 수 있다. 예를 들어, 제1 기재(100)의 상면 상, 다시 말하면 제1 기재(100)와 제1 패턴층(310) 사이에는 제1 패턴층(310)과의 부착력을 높이기 위한 프라이머층이 더 구비되고, 제2 기재(200)의 하면 상, 다시 말하면 제2 기재(200)와 제2 패턴층(320) 사이에는 제2 패턴층(320)과의 부착력을 낮추기 위한 이형층이 더 구비될 수 있다. 반대로, 제1 기재(100)의 상면 상에 이형층이, 제2 기재(200)의 하면 상에 프라이머층이 배치될 수도 있다.In some embodiments, between the upper surface of the first substrate 100 and the first pattern layer 310 and/or between the lower surface of the second substrate 200 and the second pattern layer 320 , a functional coating layer having opposite functions can be placed. For example, on the upper surface of the first substrate 100 , that is, between the first substrate 100 and the first pattern layer 310 , a primer layer for increasing adhesion with the first pattern layer 310 is further provided. and on the lower surface of the second substrate 200 , that is, between the second substrate 200 and the second pattern layer 320 , a release layer for lowering the adhesion with the second pattern layer 320 may be further provided. have. Conversely, the release layer may be disposed on the upper surface of the first substrate 100 and the primer layer may be disposed on the lower surface of the second substrate 200 .

이하, 도 1 내지 도 4를 참조하여, 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)의 표면 요철 형상에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, the surface uneven shape of the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 4 .

도 2 내지 도 4는 다양한 실시예에 따른 패턴 시트의 단면도들이다.2 to 4 are cross-sectional views of pattern sheets according to various embodiments.

먼저, 도 1을 참조하면, 제1 패턴층(310)의 제1 표면 요철은 단면이 이등변 삼각형인 프리즘 형상을 가질 수 있다. 여기서, 이등변 삼각형의 등변은 제1 패턴층(310)의 표면이 되고, 밑변은 제1 패턴층(310)의 골부를 연결한 가상의 선이 된다. 제1 패턴층(310)의 프리즘 형상은 제1 방향으로 연장되며, 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 철부와 요부가 교대 배열될 수 있다. 이 경우, 제1 패턴층(310)의 철부는 프리즘의 산부가 되고, 제1 패턴층(310)의 요부는 프리즘의 골부가 될 수 있다. 단면도상 제1 패턴층(310) 제1 표면 요철의 철부 형상의 이등변 삼각형과 요부 형상의 이등변 삼각형은 동일한 형상일 수 있다. 이 경우, 단면도상 제2 패턴층(320) 제2 표면 요철의 요부 형상과 철부 형상 또한 동일한 이등변 삼각형일 수 있다. First, referring to FIG. 1 , the first surface unevenness of the first pattern layer 310 may have a prism shape having an isosceles triangular cross-section. Here, the equilateral side of the isosceles triangle becomes the surface of the first pattern layer 310 , and the base side becomes an imaginary line connecting the valleys of the first pattern layer 310 . The prism shape of the first pattern layer 310 may extend in a first direction, and convex portions and concave portions may be alternately arranged along a second direction intersecting the first direction. In this case, the convex portion of the first pattern layer 310 may be the ridge of the prism, and the concave portion of the first pattern layer 310 may be the valley of the prism. In the cross-sectional view, an isosceles triangle of the convex portion of the first surface of the first pattern layer 310 and an isosceles triangle of the concave portion may have the same shape. In this case, the shape of the concave and convex portions of the second surface asperity of the second pattern layer 320 may be the same isosceles triangle in cross-sectional view.

다른 패턴 시트(10_1)의 패턴층(301)의 예로, 제1 패턴층(311)의 제1 표면 요철은, 도 2에 도시된 바와 같이, 단면이 비대칭 삼각형인 프리즘 형상을 가질 수 있다. 제1 패턴층(311)의 제1 표면 요철의 단면 형상은 철부의 일측을 빗변으로 하는 직각 삼각형일 수 있다. 제2 패턴층(310)의 제2 표면 요철의 단면 형상 또한 동일한 직각 삼각형일 수 있다. As an example of the pattern layer 301 of the other pattern sheet 10_1 , the first surface asperity of the first pattern layer 311 may have a prism shape having an asymmetric triangular cross-section as shown in FIG. 2 . The cross-sectional shape of the first surface unevenness of the first pattern layer 311 may be a right-angled triangle having one side of the convex portion as the hypotenuse. The cross-sectional shape of the second surface unevenness of the second pattern layer 310 may also be the same right-angled triangle.

또 다른 패턴 시트(10_2)의 패턴층(302)의 예로, 제1 패턴층(312)의 제1 표면 요철은, 도 3에 도시된 바와 같이, 사다리꼴 형상을 가질 수 있다. 제1 표면 요철의 철부는 윗변보다 밑변(골부를 연결한 가상의 선)이 길고, 빗변(옆변)의 경사가 동일한 등각 사다리꼴 형상일 수 있다. 제2 패턴층(322)의 제2 표면 요철의 단면 형상 또한 등각 사다리꼴 형상일 수 있다. As another example of the patterned layer 302 of the patterned sheet 10_2 , the first surface asperity of the first patterned layer 312 may have a trapezoidal shape as illustrated in FIG. 3 . The convex portion of the first surface unevenness may have an isometric trapezoidal shape in which a base (imaginary line connecting valleys) is longer than an upper side, and a hypotenuse (lateral side) has the same slope. The cross-sectional shape of the second surface unevenness of the second pattern layer 322 may also be an isometric trapezoidal shape.

또 다른 패턴 시트(10_3)의 패턴층(303)의 예로, 제1 패턴층(313)의 제1 표면 요철은, 도 4에 도시된 바와 같이, 측면이 라운드진 형상을 가질 수 있다. 도 4의 실시예는 도 3의 실시예에서 빗변이 곡선인 경우에 해당한다. 도 4에서는 제1 표면 요철의 빗변이 볼록하고, 그에 상보적인 제2 패턴층(314)의 제2 표면 요철의 빗변은 오목한 곡선을 이루는 경우를 예시하였지만, 그 반대로 제1 표면 요철의 빗변이 오목하고 제2 표면 요철의 빗변이 볼록할 수도 있다.As another example of the pattern layer 303 of the pattern sheet 10_3 , the first surface asperity of the first pattern layer 313 may have a rounded side surface as shown in FIG. 4 . The embodiment of FIG. 4 corresponds to the case of the hypotenuse curve in the embodiment of FIG. 3 . In FIG. 4 , the hypotenuse of the first surface unevenness is convex and the hypotenuse of the second surface unevenness of the second pattern layer 314 complementary thereto forms a concave curve. On the contrary, the hypotenuse of the first surface unevenness is concave. and the hypotenuse of the second surface asperity may be convex.

도 5는 또 다른 실시예에 따른 패턴 시트의 단면도이다. 도 5의 실시예는 패턴 시트(10_4)의 패턴층(304)은 제1 패턴층(314)과 제2 패턴층(324) 중 적어도 하나가 그 내부에 입자들을 더 포함할 수 있음을 예시한다. 구체적으로, 제1 패턴층(314)과 제2 패턴층(324)이 상기 입자의 예로서 파장 변환 입자와 산란 입자를 포함하여 패턴 시트(10_4)가 파장 변환 시트로 적용되는 경우를 예시한다. 예시된 바와 달리, 파장 변환 입자(WCP1, WCP2)와 산란 입자(SCP)는 제1 패턴층(314)과 제2 패턴층(324) 중 어느 하나에만 배치될 수도 있다. 5 is a cross-sectional view of a pattern sheet according to another embodiment. The embodiment of FIG. 5 illustrates that at least one of the first patterned layer 314 and the second patterned layer 324 of the patterned layer 304 of the patterned sheet 10_4 may further include particles therein. . Specifically, a case in which the pattern sheet 10_4 is applied as a wavelength conversion sheet is exemplified in which the first pattern layer 314 and the second pattern layer 324 include wavelength conversion particles and scattering particles as examples of the particles. Unlike the example, the wavelength conversion particles WCP1 and WCP2 and the scattering particles SCP may be disposed on only one of the first pattern layer 314 and the second pattern layer 324 .

도 5를 참조하면, 제1 패턴층(314)과 제2 패턴층(324)은 그 내부에 파장 변환 입자(WCP1, WCP2)를 포함할 수 있다. 파장 변환 입자(WCP1, WCP2)는 입사된 빛의 파장을 변환하는 입자로, 예를 들어 양자점(Quantum dot: QD), 형광 물질 또는 인광 물질의 입자일 수 있다. 파장 변환 입자(WCP1, WCP2)의 일예인 양자점에 대해 상세히 설명하면, 양자점은 수 나노미터 크기의 결정 구조를 가진 물질로, 수백에서 수천 개 정도의 원자로 구성된다. 양자점은 크기가 매우 작기 때문에 양자 구속(quantum confinement) 효과가 나타난다. 양자 구속 효과는 물체가 나노 크기 이하로 작아지는 경우 그 물체의 에너지 밴드 갭(band gap)이 커지는 현상을 말한다. 이에 따라, 양자점에 밴드 갭보다 에너지가 높은 파장의 빛이 입사하는 경우, 양자점은 그 빛을 흡수하여 들뜬 상태로 되고, 특정 파장의 광을 방출하면서 바닥 상태로 떨어진다. 방출된 파장의 광은 밴드 갭에 해당되는 값을 갖는다. 양자점은 그 크기와 조성 등을 조절하면 양자 구속 효과에 의한 발광 특성을 조절할 수 있다.Referring to FIG. 5 , the first pattern layer 314 and the second pattern layer 324 may include wavelength conversion particles WCP1 and WCP2 therein. The wavelength conversion particles WCP1 and WCP2 are particles that convert the wavelength of incident light, and may be, for example, quantum dots (QDs), particles of a fluorescent material, or a phosphorescent material. Quantum dots, which are examples of wavelength conversion particles (WCP1, WCP2), are described in detail. Quantum dots are materials having a crystal structure of several nanometers in size, and are composed of hundreds to thousands of atoms. Since quantum dots are very small in size, quantum confinement effects appear. The quantum confinement effect refers to a phenomenon in which an energy band gap of an object becomes larger when an object becomes smaller than a nano size. Accordingly, when light having a wavelength higher than that of the bandgap is incident on the quantum dot, the quantum dot absorbs the light and enters an excited state, and falls to a ground state while emitting light of a specific wavelength. Light of the emitted wavelength has a value corresponding to the band gap. By controlling the size and composition of quantum dots, the light emission characteristics due to the quantum confinement effect can be controlled.

본 실시예에 적용될 수 있는 양자점은 통상적으로 사용하는 것이라면 특별히 한정하지 않으나, 예를 들어, Ⅱ-Ⅵ족 화합물, Ⅱ-Ⅴ족 화합물, Ⅲ-Ⅵ족 화합물, Ⅲ-Ⅴ족 화합물, Ⅳ-Ⅵ족 화합물, Ⅰ-Ⅲ-Ⅵ족 화합물, Ⅱ-Ⅳ-Ⅵ족 화합물 및 Ⅱ-Ⅳ-Ⅴ족 화합물 중 적어도 하나를 포함하는 것일 수 있다.Quantum dots that can be applied to this embodiment are not particularly limited as long as they are commonly used, but for example, II-VI compounds, II-V compounds, III-VI compounds, III-V compounds, IV-VI compounds. It may include at least one of a group compound, a group I-III-VI compound, a group II-IV-VI compound, and a group II-IV-V compound.

양자점은 코어(Core) 및 코어를 오버 코팅하는 쉘(Shell)을 포함하는 것일 수 있다. 코어는 이에 한정하는 것은 아니나, 예를 들어, CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, GaN, GaP, GaAs, GaSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, InP, InAs, InSb, SiC, Ca, Se, In, P, Fe, Pt, Ni, Co, Al, Ag, Au, Cu, FePt, Fe2O3, Fe3O4, Si, 및 Ge 중 적어도 하나일 수 있다. 쉘은 이에 한정하는 것은 아니나, 예를 들어, ZnS, ZnSe, ZnTe, CdS, CdSe, CdTe, HgS, HgSe, HgTe, AlN, AlP, AlAs, AlSb, GaN, GaP, GaAs, GaSb, GaSe, InN, InP, InAs, InSb, TlN, TlP, TlAs, TlSb, PbS, PbSe 및 PbTe 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. The quantum dots may include a core and a shell over-coating the core. Cores include, but are not limited to, for example, CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, GaN, GaP, GaAs, GaSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, InP, InAs, InSb, SiC, Ca, It may be at least one of Se, In, P, Fe, Pt, Ni, Co, Al, Ag, Au, Cu, FePt, Fe2O3, Fe3O4, Si, and Ge. Shells include, but are not limited to, for example, ZnS, ZnSe, ZnTe, CdS, CdSe, CdTe, HgS, HgSe, HgTe, AlN, AlP, AlAs, AlSb, GaN, GaP, GaAs, GaSb, GaSe, InN, It may include at least one of InP, InAs, InSb, TlN, TlP, TlAs, TlSb, PbS, PbSe, and PbTe.

파장 변환 입자(WCP1, WCP2)는 입사광을 서로 다른 파장으로 변환하는 복수의 파장 변환 입자를 포함할 수 있다. 예를 들어, 파장 변환 입자는 특정 파장의 입사광을 제1 파장으로 변환하여 방출하는 제1 파장 변환 입자(WCP1)와 제2 파장으로 변환하여 방출하는 제2 파장 변환 입자(WCP2)를 포함할 수 있다. 예시적인 실시예에서, 입사광은 블루 파장의 빛이고, 상기 제1 파장은 그린 파장이고, 상기 제2 파장은 레드 파장일 수 있다. 예를 들어, 상기 블루 파장은 420 내지 470nm에서 피크를 갖는 파장이고, 상기 그린 파장은 520nm 내지 570nm에서 피크를 갖는 파장이고, 상기 레드 파장은 620nm 내지 670nm에서 피크를 갖는 파장일 수 있다. 그러나, 블루, 그린, 레드 파장이 위 예시에 제한되는 것은 아니며, 본 기술분야에서 블루, 그린, 레드로 인식될 수 있는 파장 범위를 모두 포함하는 것으로 이해되어야 한다. The wavelength conversion particles WCP1 and WCP2 may include a plurality of wavelength conversion particles that convert incident light into different wavelengths. For example, the wavelength conversion particle may include a first wavelength conversion particle (WCP1) that converts incident light of a specific wavelength into a first wavelength and emits it, and a second wavelength conversion particle (WCP2) that converts and emits a second wavelength. have. In an exemplary embodiment, the incident light may be light of a blue wavelength, the first wavelength may be a green wavelength, and the second wavelength may be a red wavelength. For example, the blue wavelength may be a wavelength having a peak at 420 nm to 470 nm, the green wavelength may be a wavelength having a peak at 520 nm to 570 nm, and the red wavelength may be a wavelength having a peak at 620 nm to 670 nm. However, it should be understood that the blue, green, and red wavelengths are not limited to the above examples, and include all wavelength ranges that can be recognized as blue, green, and red in the art.

상기 예시적인 실시예에서, 패턴층(304)에 입사된 블루광은 패턴층(304)을 통과하면서 일부가 제1 파장 변환 입자(WCP1)에 입사하여 그린 파장으로 변환되어 방출되고, 다른 일부가 제2 파장 변환 입자(WCP2)에 입사하여 레드 파장으로 변환되어 방출되며, 나머지 일부는 제1 및 제2 파장 변환 입자(WCP1, WCP2)에 입사되지 않고 그대로 출사될 수 있다. 따라서, 패턴층(304)을 통과한 빛은 블루 파장의 빛, 그린 파장의 빛, 및 레드 파장의 빛을 모두 포함하게 된다. 방출되는 서로 다른 파장의 빛들의 비율을 적절하게 조절하면 백색광 또는 다른 색의 출사광을 표시할 수 있다. 패턴층(304)에 변환된 빛들은 좁은 범위의 특정 파장 내에 집중되고, 좁은 반치폭을 갖는 샤프한 스펙트럼을 갖는다. 따라서, 이와 같은 스펙트럼의 빛을 컬러 필터로 필터링하여 색상을 구현할 경우, 색재현성이 개선될 수 있다.In the exemplary embodiment, a portion of the blue light incident on the pattern layer 304 passes through the pattern layer 304 and enters the first wavelength conversion particle WCP1, is converted into a green wavelength, and is emitted, and the other portion is emitted. The second wavelength conversion particles WCP2 are incident on the WCP2, are converted into red wavelengths, and are emitted, and the remaining portion may be emitted without being incident on the first and second wavelength conversion particles WCP1 and WCP2. Accordingly, the light passing through the pattern layer 304 includes all of blue wavelength light, green wavelength light, and red wavelength light. If the ratio of the emitted light of different wavelengths is appropriately adjusted, white light or emitted light of a different color can be displayed. Lights converted to the pattern layer 304 are focused within a specific wavelength in a narrow range, and have a sharp spectrum with a narrow half maximum width. Accordingly, color reproducibility may be improved when color is realized by filtering light of such a spectrum with a color filter.

방출되는 빛의 비율은 제1 파장 변환 입자(WCP1)의 함량과 제2 파장 변환 입자(WCP2)의 함량비에 의해 조절될 수 있다. 예를 들어, 제1 파장 변환 입자(WCP1)의 함량이 상대적으로 많으면 제1 파장의 빛이 더 많이 방출되고, 제2 파장 변환 입자(WCP2)의 함량이 상대적으로 많으면 제2 파장의 빛이 더 많이 방출된다. 예시적인 실시예에서, 그린 파장에 관계된 제1 파장 변환 입자(WCP1)와 레드 파장에 관계된 제2 파장 변환 입자(WCP2)의 함량비는 5:1 내지 14:1일 수 있고, 나아가 8:1 내지 12:1의 범위 내에 있을 수 있다. The ratio of the emitted light may be controlled by the ratio of the content of the first wavelength conversion particles WCP1 to the content ratio of the second wavelength conversion particles WCP2. For example, when the content of the first wavelength conversion particles (WCP1) is relatively large, more light of the first wavelength is emitted, and when the content of the second wavelength conversion particles (WCP2) is relatively large, the light of the second wavelength is more A lot is emitted In an exemplary embodiment, the content ratio of the first wavelength conversion particle WCP1 related to the green wavelength and the second wavelength conversion particle WCP2 related to the red wavelength may be 5:1 to 14:1, and further 8:1 to 12:1.

상기 예시적인 실시예와는 달리, 입사광이 자외선광이고 이를 각각 블루, 그린, 레드 파장으로 변환하는 3 종류의 파장 변환 입자가 제1 패턴층(314) 및 제2 패턴층(324)의 내부에 배치되어 백색광을 출사할 수도 있다. Unlike the above exemplary embodiment, incident light is ultraviolet light, and three types of wavelength conversion particles that convert it into blue, green, and red wavelengths, respectively, are inside the first pattern layer 314 and the second pattern layer 324 . It may be disposed to emit white light.

제1 패턴층(314) 및 제2 패턴층(324)은 그 내부에 산란 입자(SCP)를 더 포함할 수 있다. 산란 입자(SCP)는 비양자점 입자로서, 파장 변환 기능이 없는 입자일 수 있다. 산란 입자(SCP)는 입사된 빛을 산란시켜 더 많은 입사광이 파장 변환 입자 측으로 입사될 수 있도록 한다. 뿐만 아니라, 산란 입자(SCP)는 파장별 빛의 출사각을 균일하게 제어하는 역할을 수행할 수 있다. 구체적으로 설명하면 일부의 입사광이 파장 변환 입자(WCP1, WCP2)에 입사된 후 파장이 변환되어 방출될 때, 그 방출 방향은 무작위인 산란 특성을 갖는다. 만약, 패턴층(304) 내에 산란 입자(SCP)가 없다면, 파장 변환 입자(WCP1, WCP2) 충돌 후 방출하는 그린, 레드 파장은 산란 방출 특성을 갖지만, 파장 변환 입자(WCP1, WCP2)의 충돌 없이 방출하는 블루 파장은 산란 방출 특성을 갖지 않아 출사 각도에 따라 블루/그린/레드 파장의 방출량이 상이해질 수 있다. 이에, 산란 입자(SCP)가 파장 변환 입자(WCP1, WCP2)에 충돌하지 않고 방출되는 블루 파장에 대해서도 산란 방출 특성을 부여함으로써, 파장별 빛의 출사각을 유사하게 조절시킬 수 있다. The first pattern layer 314 and the second pattern layer 324 may further include scattering particles (SCP) therein. The scattering particle (SCP) is a non-quantum dot particle, and may be a particle having no wavelength conversion function. The scattering particles (SCP) scatter the incident light so that more incident light is incident toward the wavelength conversion particle. In addition, the scattering particles (SCP) may play a role of uniformly controlling the emission angle of light for each wavelength. In detail, when some incident light is incident on the wavelength conversion particles WCP1 and WCP2 and the wavelength is converted and emitted, the emission direction has a random scattering characteristic. If there are no scattering particles (SCP) in the pattern layer 304, green and red wavelengths emitted after the collision of the wavelength conversion particles (WCP1, WCP2) have scatter emission characteristics, but without collision of the wavelength conversion particles (WCP1, WCP2) Since the emitted blue wavelength does not have a scattering emission characteristic, the emission amount of the blue/green/red wavelength may be different depending on the emission angle. Accordingly, the scattering particles (SCP) do not collide with the wavelength conversion particles (WCP1, WCP2) by imparting a scattering emission characteristic to the emitted blue wavelength, it is possible to similarly control the emission angle of light for each wavelength.

파장 변환 효율과 산란 방출 특성 등을 효과적으로 발휘하기 위해 산란 입자(SCP)의 함량은 제1 및 제2 파장 변환 입자(WCP1, WCP2)의 함량(총합)보다 크거나 같은 것이 좋다. 그러나, 산란 입자(SCP)의 함량이 너무 많으면 패턴층(304)의 투과율을 저하시킬 수 있다. 예를 들어, 산란 입자(SCP)의 함량이 제1 및 제2 파장 변환 입자(WCP1, WCP2)의 함량의 6배를 초과할 경우, 투과율의 저하로 백라이트 어셈블리로 적용하기 부적절하다. 이와 같은 관점에서, 산란 입자(SCP)의 함량은 제1 및 제2 파장 변환 입자(WCP1, WCP2)의 함량(총합) 이상 제1 및 제2 파장 변환 입자(WCP1, WCP2)의 함량(총합)의 6배 이하의 범위를 가질 수 있다. In order to effectively exhibit wavelength conversion efficiency and scattered emission characteristics, the content of the scattering particles (SCP) is preferably greater than or equal to the content (total) of the first and second wavelength conversion particles (WCP1, WCP2). However, if the content of the scattering particles (SCP) is too large, the transmittance of the pattern layer 304 may be reduced. For example, when the content of the scattering particles (SCP) exceeds 6 times the content of the first and second wavelength conversion particles (WCP1, WCP2), it is inappropriate to apply as a backlight assembly due to a decrease in transmittance. In this regard, the content of the scattering particles (SCP) is equal to or greater than the content (total) of the first and second wavelength conversion particles (WCP1, WCP2) or the content (total) of the first and second wavelength conversion particles (WCP1, WCP2) It may have a range of 6 times or less of

산란 입자(SCP)는 파장 변환 입자(WCP1, WCP2)보다 크기가 클 수 있다. 예를 들어, 산란 입자(SCP)로서 수십 nm 내지 수십 um 크기의 SiO2, TiO2, ZnO 등이 사용될 수 있다. SiO2의 경우 0.1um 내지 20um의 크기를 가질 수 있고, 일 실시예에서, 1.5um 내지 3.5um의 크기를 가질 수 있다. TiO2의 경우 0.05um 내지 5um의 크기를 가질 수 있고, 일 실시예에서, 0.19um 내지 0.48um의 크기를 가질 수 있다. ZnO의 경우 0.1um 내지 2um의 크기를 가질 수 있다. The scattering particles (SCP) may have a larger size than the wavelength conversion particles (WCP1, WCP2). For example, SiO2, TiO2, ZnO, etc. having a size of several tens of nm to several tens of um may be used as the scattering particles (SCP). In the case of SiO2, it may have a size of 0.1 μm to 20 μm, and in one embodiment, it may have a size of 1.5 μm to 3.5 μm. TiO2 may have a size of 0.05um to 5um, and in one embodiment, may have a size of 0.19um to 0.48um. In the case of ZnO, it may have a size of 0.1 μm to 2 μm.

도 6은 또 다른 실시예에 따른 패턴 시트의 단면도이다. 도 6의 실시예는 패턴 시트(10_5)의 패턴층(305)의 제2 패턴층(325)이 그 내부에 흡광 입자(LAP)를 포함하는 경우를 예시한다. 이와 같은 구조의 패턴 시트(10_5)는 프라이버시 시트 또는 명암비 향상 시트 등으로 적용될 수 있다.6 is a cross-sectional view of a pattern sheet according to another embodiment. 6 illustrates a case in which the second pattern layer 325 of the pattern layer 305 of the pattern sheet 10_5 includes light absorbing particles LAP therein. The pattern sheet 10_5 having such a structure may be applied as a privacy sheet or a contrast enhancement sheet.

도 6을 참조하면, 제1 패턴층(315)의 제1 요철 표면과 제2 패턴층(325)의 제2 요철 표면은 각각 단면상 등각 사다리꼴 형상을 갖는다. 흡광 입자(LAP)는 제2 패턴층(325)의 내부에 배치된다. 흡광 입자(LAP)는 제1 패턴층(315)의 내부에는 배치되지 않는다. 이 경우 제2 패턴층(325)은 제2 기저부를 구비하지 않는 것이 바람직할 수 있다. 예시된 바와 달리, 흡광 입자(LAP)는 제1 패턴층(315) 내부에 배치되고, 제2 패턴층(325) 내부에는 배치되지 않을 수도 있다. Referring to FIG. 6 , the first concave-convex surface of the first pattern layer 315 and the second concave-convex surface of the second pattern layer 325 each have an isometric trapezoidal shape in cross section. The light absorbing particles LAP are disposed inside the second pattern layer 325 . The light absorbing particles LAP are not disposed inside the first pattern layer 315 . In this case, it may be preferable that the second pattern layer 325 does not have a second base portion. Unlike the example, the light absorbing particles LAP are disposed inside the first pattern layer 315 and may not be disposed inside the second pattern layer 325 .

도 7은 일 실시예에 따른 롤 형상의 패턴 시트의 단면도이다. 7 is a cross-sectional view of a roll-shaped pattern sheet according to an embodiment.

도 7을 참조하면, 패턴 시트(10R1)는 롤 형상으로 제조될 수 있다. 패턴 시트(10R1)가 표시 장치에 적용될 때에는 롤 형상의 패턴 시트(10R1)로부터 소정의 형상을 갖도록 절단될 수 있다. 절단된 패턴 시트는 직사각형 형상일 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다. Referring to FIG. 7 , the pattern sheet 10R1 may be manufactured in a roll shape. When the pattern sheet 10R1 is applied to a display device, it may be cut from the roll-shaped pattern sheet 10R1 to have a predetermined shape. The cut pattern sheet may have a rectangular shape, but is not limited thereto.

롤 형상의 패턴 시트(10R1)에서, 길이 방향은 권취 또는 권출되는 방향이고, 폭 방향은 길이 방향에 수직한 방향이 된다. 상기 길이 방향은 롤 형상의 패턴 시트(10) 제조시 시트의 주행 방향에 해당하기 때문에 종방향 또는 MD(Machine Direction) 방향으로도 지칭될 수 있다. 상기 폭 방향은 MD 방향을 가로지르는 방향으로서, 횡방향 또는 TD(Transverse Direction) 방향으로도 지칭될 수 있다. 예시적인 실시예에서, 패턴 시트(10)의 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)의 프리즘 형상 연장 방향은 롤 형상의 패턴 시트(10)의 TD 방향이다. 롤 형상의 패턴 시트(10)의 TD 방향 폭은 1300mm 이상일 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다.In the roll-shaped pattern sheet 10R1, the longitudinal direction is a direction to be wound or unwound, and the width direction is a direction perpendicular to the longitudinal direction. The longitudinal direction may also be referred to as a longitudinal direction or MD (Machine Direction) direction because it corresponds to the traveling direction of the sheet when the roll-shaped pattern sheet 10 is manufactured. The width direction is a direction transverse to the MD direction, and may also be referred to as a transverse direction or a TD (Transverse Direction) direction. In an exemplary embodiment, the prism-shaped extension directions of the first patterned layer 310 and the second patterned layer 320 of the patterned sheet 10 are the TD directions of the roll-shaped patterned sheet 10 . The TD direction width of the roll-shaped pattern sheet 10 may be 1300 mm or more, but is not limited thereto.

롤 형상의 패턴 시트(10)는 제1 패턴 영역(PTR1)과 제2 패턴 영역(PTR2)을 포함할 수 있다. 제1 패턴 영역(PTR1)은 도 1 내지 도 6을 통해 설명한 제1 패턴층(310)의 제1 표면 요철과 제2 패턴층(320)의 표면 요철이 정상적으로 형성된 정상 패턴 영역(또는 유효 패턴 영역)일 수 있다. 제2 패턴 영역(PTR2)은 제1 패턴층(310)의 제1 표면 요철과 제2 패턴층(320)의 제2 표면 요철이 다른 단면 구조를 갖는 영역으로, 더미 패턴 영역일 수 있다. 롤 형상의 패턴 시트(10)의 제2 패턴 영역(PTR2)은 표시 장치에는 적용되지 않을 수 있다. 즉, 표시 장치에 적용되는 패턴 시트(10)를 형성할 때 제2 패턴 영역(PTR2)은 제외하고 제1 패턴 영역(PTR1)만을 포함하도록 롤 형상의 패턴 시트(10R1)를 절단할 수 있다. 제2 패턴 영역(PTR2)에서 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)의 형상은 제1 패턴 영역(PTR1)과 다르지만, 제1 기재(100)와 제2 기재(200)의 높이(또는 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)을 합친 패턴층(300)의 전체 두께)는 제1 패턴 영역(PTR1)과 제2 패턴 영역(PTR2) 모두에서 균일할 수 있다. The roll-shaped pattern sheet 10 may include a first pattern region PTR1 and a second pattern region PTR2 . The first pattern region PTR1 is a normal pattern region (or effective pattern region) in which the first surface irregularities of the first pattern layer 310 and the surface irregularities of the second pattern layer 320 described with reference to FIGS. 1 to 6 are normally formed. ) can be The second pattern region PTR2 is a region having a cross-sectional structure in which the first surface irregularities of the first pattern layer 310 and the second surface irregularities of the second pattern layer 320 have different cross-sectional structures, and may be a dummy pattern region. The second pattern region PTR2 of the roll-shaped pattern sheet 10 may not be applied to the display device. That is, when the pattern sheet 10 applied to the display device is formed, the roll-shaped pattern sheet 10R1 may be cut to include only the first pattern region PTR1 excluding the second pattern region PTR2 . In the second pattern region PTR2 , the shapes of the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 are different from those of the first pattern region PTR1 , but between the first substrate 100 and the second substrate 200 . The height (or the total thickness of the pattern layer 300 combined with the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320) may be uniform in both the first pattern region PTR1 and the second pattern region PTR2. have.

제2 패턴 영역(PTR2)은 이음부를 포함하는 소프트 몰드를 이용하여 롤 형상의 패턴 시트(10R1)를 형성한 결과물일 수 있다. 이하에서, 소프트 몰드를 이용하여 제1 패턴층(310)을 형성하는 과정에 대한 설명을 통해 제2 패턴 영역(PTR2)을 더욱 상세히 설명하기로 한다. The second pattern region PTR2 may be a result of forming the roll-shaped pattern sheet 10R1 using a soft mold including a joint portion. Hereinafter, the second pattern region PTR2 will be described in more detail through the description of the process of forming the first pattern layer 310 using the soft mold.

도 8은 일 실시예에 따른 소프트 몰드의 사시도이고, 도 9는 도 8의 IX-IX'선을 따라 자른 단면도로서, 소프트 몰드의 이음부의 단면도다. 도 10은 도 8의 소프트 몰드를 이용하여 패턴 시트를 제조하는 일 과정을 보여주는 단면도이다. 8 is a perspective view of a soft mold according to an exemplary embodiment, and FIG. 9 is a cross-sectional view taken along line IX-IX' of FIG. 8 and is a cross-sectional view of a joint of the soft mold. 10 is a cross-sectional view illustrating a process of manufacturing a pattern sheet using the soft mold of FIG. 8 .

도 8 내지 도 10을 참조하면, 제1 패턴층(310)의 제1 표면 요철은 소프트 몰드(20)를 이용하여 형성될 수 있다. 소프트 몰드(20)는 그 표면에 형성하고자 하는 대상 패턴과 상보적인 패턴을 갖는다. 제1 표면 요철을 갖는 제1 패턴층(도 1의 '310')은 제1 수지층에 제1 표면 요철의 상보적인 형상을 갖는 소프트 몰드(20)의 표면 패턴이 접하도록 가압하고(임프틴트), 제1 수지층을 경화함으로써 형성될 수 있다. 다른 예로, 제1 표면 요철의 상보적인 형상을 갖는 소프트 몰드(20)의 표면 패턴에 제1 수지를 공급하여 제1 수지층을 형성한 후 경화하여 제1 표면 요철을 갖는 제1 패턴층(310)을 형성할 수도 있다. 제1 수지는 소프트 몰드(20)의 표면 패턴 상에 공급되거나, 제1 기재(100)의 상면 상에 공급될 수 있고, 소프트 몰드(20)의 표면 패턴과 제1 기재(100)의 상면 모두에 동시, 또는 순차적으로 공급될 수도 있다. 소프트 몰드(20)는 하드 몰드인 원통형 또는 판형 금속 몰드로부터 복제되어 제조될 수 있다.8 to 10 , the first surface unevenness of the first pattern layer 310 may be formed using the soft mold 20 . The soft mold 20 has a pattern complementary to a target pattern to be formed on its surface. The first pattern layer ('310' in FIG. 1) having the first surface asperity is pressed so that the surface pattern of the soft mold 20 having the complementary shape of the first surface asperity is in contact with the first resin layer (imp tint). ), by curing the first resin layer. As another example, a first resin layer is formed by supplying a first resin to the surface pattern of the soft mold 20 having a complementary shape of the first surface unevenness, and then cured to form the first pattern layer 310 having the first surface unevenness. ) can also be formed. The first resin may be supplied on the surface pattern of the soft mold 20 or supplied on the upper surface of the first substrate 100 , and both the surface pattern of the soft mold 20 and the upper surface of the first substrate 100 . may be supplied simultaneously or sequentially. The soft mold 20 may be manufactured by duplicating a cylindrical or plate-shaped metal mold that is a hard mold.

소프트 몰드(20)는 하드 몰드와는 달리 그 자체가 시트 형상일 수 있다. 소프트 몰드(20)는 몰드 기재(21) 및 몰드 기재(21) 상에 배치된 몰드 패턴(22)을 포함할 수 있다. 소프트 몰드(20)의 길이 방향 양 단부는 서로 연결되어 루프 형상을 이룰 수 있다. 루프 형상의 소프트 몰드(20)는 가이드롤(GR)에 걸쳐져 회전할 수 있다. 즉, 소프트 몰드(20)의 특정 위치는 루프 형상을 따라 길이 방향으로 이동할 수 있다. 소프트 몰드(20)의 특정 위치는 제1 수지 공급 유닛(RPD1)를 지나면서 표면 상에 제1 수지층을 공급받은 상태에서 이동한 후, 제1 라미네이션부(PRR1, DRR)에서 제1 기재(100)와 만나 제1 수지층이 제1 기재(100) 측으로 전사될 수 있다. Unlike the hard mold, the soft mold 20 may itself have a sheet shape. The soft mold 20 may include a mold substrate 21 and a mold pattern 22 disposed on the mold substrate 21 . Both ends of the soft mold 20 in the longitudinal direction may be connected to each other to form a loop shape. The loop-shaped soft mold 20 may rotate over the guide roll GR. That is, a specific position of the soft mold 20 may be moved in the longitudinal direction along the loop shape. A specific position of the soft mold 20 passes through the first resin supply unit RPD1 and moves in a state in which the first resin layer is supplied on the surface, and then, in the first lamination parts PRR1 and DRR, the first substrate ( 100) and the first resin layer may be transferred to the first substrate 100 side.

한편, 소프트 몰드(20)의 표면 형상은 길이 방향을 따라 균일한 반복적인 패턴을 갖지만, 루프 형상을 만들기 위해 형성된 이음부(CNR)에서는 다른 패턴을 가질 수 있다. 구체적으로, 소프트 몰드(20)는 이음부(CNR)에 배치된 제1 접착 테이프(23)를 더 포함할 수 있다. 시트 타입의 소프트 몰드(20)의 양 단부는 제1 접착 테이프(23)를 통해 부착되어 연결될 수 있다. 제1 접착 테이프(23)는 소프트 몰드(20)의 몰드 패턴(22) 상면에 배치될 수 있다. 제1 접착 테이프(23)는 몰드 패턴(22) 상에 배치되므로, 제1 접착 테이프(23)의 표면은 몰드 패턴(22)의 산부보다 두께 방향으로 돌출될 수 있다. 따라서, 소프트 몰드(20)의 표면 형상은 이음부(CNR)에서 두께 방향으로 더 돌출될 수 있다. 임프린트 과정에서 소프트 몰드(20)의 철부는 제1 패턴층(310)의 요부로, 소프트 몰드(20)의 요부는 제1 패턴층(310)의 철부로 전사되므로, 이와 같은 소프트 몰드(20)를 이용하여 임프린트를 수행하면 이음부(CNR)에 의해 가압된 제1 패턴층(310)은 더 두께가 얇은 요부를 가질 수 있다. On the other hand, the surface shape of the soft mold 20 has a uniform repeating pattern along the longitudinal direction, but may have a different pattern in the joint portion (CNR) formed to make the loop shape. Specifically, the soft mold 20 may further include the first adhesive tape 23 disposed on the joint portion CNR. Both ends of the sheet-type soft mold 20 may be attached and connected through the first adhesive tape 23 . The first adhesive tape 23 may be disposed on the upper surface of the mold pattern 22 of the soft mold 20 . Since the first adhesive tape 23 is disposed on the mold pattern 22 , the surface of the first adhesive tape 23 may protrude more in the thickness direction than the ridge of the mold pattern 22 . Accordingly, the surface shape of the soft mold 20 may further protrude from the joint portion CNR in the thickness direction. In the imprint process, the convex portions of the soft mold 20 are transferred to the convex portions of the first pattern layer 310 and the convex portions of the soft mold 20 are transferred to the convex portions of the first pattern layer 310 , so the soft mold 20 When imprinting is performed using , the first pattern layer 310 pressed by the joint portion CNR may have a thinner concave portion.

몇몇 실시예에서, 소프트 몰드(20)는 몰드 기재(21) 하면에 배치된 제2 접착 테이프(24)를 더 포함할 수 있다. 제2 접착 테이프(24)는 생략될 수도 있다. In some embodiments, the soft mold 20 may further include a second adhesive tape 24 disposed on the lower surface of the mold substrate 21 . The second adhesive tape 24 may be omitted.

소프트 몰드(20)의 이음부(CNR)에 의해 가압된 제1 패턴층(310)은 도 7의 제2 패턴 영역(PTR2)에 해당되는데, 제2 패턴 영역(PTR2)에서 제1 패턴층(310)의 두께(요부의 두께)는 제1 패턴 영역(PTR1)에서 제1 패턴층(310)의 요부(골) 두께보다 더 작을 수 있다. 제2 패턴 영역(PTR2)의 길이(길이 방향의 폭)는 제1 패턴 영역(PTR1)의 반복 패턴 피치보다 크며, 예를 들어, 단위 프리즘 폭(MD 방향의 폭)의 100배 내지 500배의 범위일 수 있다. 도 7의 롤 형상의 패턴 시트(10R1)에서 제1 패턴 영역(PTR1)과 제2 패턴 영역(PTR2)은 길이 방향을 따라 일정한 주기로 교대 배치될 수 있다. The first pattern layer 310 pressed by the joint portion CNR of the soft mold 20 corresponds to the second pattern region PTR2 of FIG. 7 , and in the second pattern region PTR2, the first pattern layer ( The thickness (thickness of the recess) of the 310 may be smaller than the thickness of the recess (valley) of the first pattern layer 310 in the first pattern region PTR1 . The length (width in the longitudinal direction) of the second pattern region PTR2 is greater than the repeat pattern pitch of the first pattern region PTR1, for example, 100 to 500 times the unit prism width (width in the MD direction). can be a range. In the roll-shaped pattern sheet 10R1 of FIG. 7 , the first pattern region PTR1 and the second pattern region PTR2 may be alternately arranged at a constant cycle along the longitudinal direction.

도 11은 다른 실시예에 따른 소프트 몰드의 사시도이고, 도 12는 도 11의 XII-XII'선을 따라 자른 단면도로서, 이음부의 단면도이다. 도 13은 도 11의 소프트 몰드를 이용하여 형성된 롤 형상의 패턴 시트의 단면도이다. 11 is a perspective view of a soft mold according to another embodiment, and FIG. 12 is a cross-sectional view taken along the line XII-XII' of FIG. 11 and is a cross-sectional view of a joint. 13 is a cross-sectional view of a roll-shaped pattern sheet formed using the soft mold of FIG. 11 .

도 11 및 도 12를 참조하면, 본 실시예에 다른 소프트 몰드(20_1)는 이음부(CNR)가 레이저 용접에 의해 이루어진 점에서 도 8의 실시예와 상이하다. 이음부(CNR)에서 몰드 기판의 양 단부는 레이저 용접을 통해 융착되어 있을 수 있다. 상기 레이저 용접에 사용되는 레이저는 알렉산드리트 레이저(Alexandrite laser), 다이오드 레이저(Diode Laser), Nd:YAG 레이저(Nd:YAG Laser) 등을 들 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다. 이음부(CNR)에서 몰드 기재(21)의 상면에는 소정 구간 몰드 패턴(22)이 완전히 제거되어 있거나, 도면에서 도시된 바와 같이 몰드 패턴(22) 산부의 두께보다 작은 몰드 패턴(22) 잔류층이 배치되어 있을 수 있다. 몰드 패턴(22) 잔류층은 몰드 패턴(22)과 몰드 기재(21)를 레이저 용접 처리하여 남은 잔류층일 수 있다. 이음부(CNR)에서 몰드 기재(21)의 하면에는 제2 접착 테이프(24)가 배치될 수 있다. 제2 접착 테이프(24)는 레이저 용접이 완료된 후 제거될 수도 있다. 11 and 12 , the soft mold 20_1 according to the present embodiment is different from the embodiment of FIG. 8 in that the joint CNR is formed by laser welding. At the joint CNR, both ends of the mold substrate may be fused through laser welding. The laser used for the laser welding may include, but is not limited to, an Alexandrite laser, a diode laser, an Nd:YAG laser, and the like. A predetermined section of the mold pattern 22 is completely removed from the upper surface of the mold base 21 at the joint CNR, or the residual layer of the mold pattern 22 is smaller than the thickness of the ridge of the mold pattern 22 as shown in the figure. This may be placed. The residual layer of the mold pattern 22 may be a residual layer remaining by laser welding the mold pattern 22 and the mold base 21 . A second adhesive tape 24 may be disposed on the lower surface of the mold base 21 at the joint portion CNR. The second adhesive tape 24 may be removed after laser welding is completed.

도 12의 소프트 몰드(20_1)의 이음부(CNR)는 도 9의 소프트 몰드(20)의 이음부(CNR)와는 달리 몰드 패턴(22) 잔류층이 주변의 몰드 패턴(22)으로부터 함몰될 수 있다. 일 실시예에서, 소프트 몰드(20_1)의 몰드 패턴(22) 잔류층의 두께는 몰드 패턴(22) 산부의 두께보다 작고, 몰드 패턴(22) 골부의 두께보다 크거나 같을 수 있지만 이에 제한되는 것은 아니다. The joint portion CNR of the soft mold 20_1 of FIG. 12 is different from the joint portion CNR of the soft mold 20 of FIG. 9 , the residual layer of the mold pattern 22 may be recessed from the surrounding mold pattern 22 have. In one embodiment, the thickness of the remaining layer of the mold pattern 22 of the soft mold 20_1 may be smaller than the thickness of the ridges of the mold pattern 22 and may be greater than or equal to the thickness of the valleys of the mold pattern 22, but is limited thereto. no.

도 13을 참조하면, 도 11의 소프트 몰드(20_1)를 이용하여 롤 형상의 패턴 시트(10R2)를 제조할 경우, 제1 패턴 영역(PTR1)의 제1 패턴층(310)의 형상은 도 7의 실시예와 동일하지만, 제2 패턴 영역(PTR2)의 제1 패턴층(310)의 형상은 도 7의 실시예와는 달리 함몰된 이음부(CNR)의 형상이 전사되어 소정 두께를 가질 수 있다. 제2 패턴 영역(PTR2)의 제1 패턴층(310)의 두께는 제1 패턴 영역(PTR1)의 제1 패턴층(310)의 골부 두께보다 크고, 산부 두께보다 작거나 같을 수 있다. 다른 예로, 제2 패턴 영역(PTR2)의 제1 패턴층(310)의 두께는 제1 패턴 영역(PTR1)의 산부 두께보다 클 수도 있다. 제2 패턴 영역(PTR2)의 길이(길이 방향의 폭)는 제1 패턴 영역(PTR1)의 프리즘 반복 패턴 피치보다 크며, 예를 들어, 단위 프리즘 폭(MD 방향의 폭)의 5배 내지 50배의 범위일 수 있다. Referring to FIG. 13 , when the roll-shaped pattern sheet 10R2 is manufactured using the soft mold 20_1 of FIG. 11 , the shape of the first pattern layer 310 of the first pattern region PTR1 is shown in FIG. 7 . Although the same as the embodiment of , the shape of the first pattern layer 310 of the second pattern region PTR2 may have a predetermined thickness by transferring the shape of the recessed joint portion CNR, unlike the embodiment of FIG. 7 . have. The thickness of the first pattern layer 310 of the second pattern region PTR2 may be greater than the thickness of the valleys of the first pattern layer 310 of the first pattern region PTR1 and less than or equal to the thickness of the peaks. As another example, the thickness of the first pattern layer 310 of the second pattern region PTR2 may be greater than the thickness of the peaks of the first pattern region PTR1 . The length (width in the longitudinal direction) of the second pattern region PTR2 is greater than the prism repeat pattern pitch of the first pattern region PTR1 , for example, 5 to 50 times the unit prism width (width in the MD direction). may be in the range of

도 14는 또 다른 실시예에 따른 소프트 몰드의 사시도이다. 도 15는 도 14의 XV-XV'선을 따라 자른 단면도이다. 도 16은 도 14의 XVI-XVI'선을 따라 자른 단면도이다. 도 17은 도 14의 소프트 몰드를 이용하여 형성된 롤 형상의 패턴 시트(10)의 단면도이다.14 is a perspective view of a soft mold according to another embodiment. 15 is a cross-sectional view taken along line XV-XV' of FIG. 14 . 16 is a cross-sectional view taken along line XVI-XVI' of FIG. 14 . 17 is a cross-sectional view of the roll-shaped pattern sheet 10 formed using the soft mold of FIG. 14 .

본 실시예는 패턴 시트(10R3)의 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)의 프리즘 형상 연장 방향이 롤 형상의 패턴 시트(10)의 MD 방향인 경우를 예시한다. 도 17을 참조하면, 롤 형상의 패턴 시트(10R3)는 제1 패턴 영역(PTR1)과 제2 패턴 영역(PTR2)을 포함하며, 각 프리즘 패턴은 제1 패턴 영역(PTR1)의 길이 방향을 따라 연장되다가 제2 패턴 영역(PTR2)에 이르러 단절될 수 있다. 제2 패턴 영역(PTR2)의 길이(길이 방향의 폭)는 제1 패턴 영역(PTR1)의 프리즘 반복 패턴 피치보다 크며, 예를 들어, 단위 프리즘 폭(TD 방향의 폭)의 5배 내지 50배의 범위일 수 있다. This embodiment exemplifies a case in which the prism-shaped extension directions of the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 of the pattern sheet 10R3 are the MD directions of the roll-shaped pattern sheet 10 . Referring to FIG. 17 , the roll-shaped pattern sheet 10R3 includes a first pattern region PTR1 and a second pattern region PTR2 , and each prism pattern is formed along the length direction of the first pattern region PTR1 . After extending, the second pattern region PTR2 may be disconnected. The length (width in the longitudinal direction) of the second pattern region PTR2 is greater than the prism repeat pattern pitch of the first pattern region PTR1 , for example, 5 to 50 times the unit prism width (width in the TD direction). may be in the range of

도 14를 참조하면, 소프트 몰드(20_2)는 양 단부가 이음부(CNR)를 통해 연결된다. 소프트 몰드(20_2) 몰드 패턴(22)의 프리즘 형상은 루프 방향을 따라 연장된다. 도 14에서는 소프트 몰드(20_2)의 양 단부를 제1 접착 테이프(23) 및 제2 접착 테이프(24)를 통해 부착하여 연결한 경우가 예시되어 있다. 그러나, 이에 제한되지 않고, 도 12의 실시예에서처럼 레이저에 의해 융착될 수도 있다. Referring to FIG. 14 , both ends of the soft mold 20_2 are connected through a joint CNR. The prism shape of the mold pattern 22 of the soft mold 20_2 extends along the loop direction. 14 illustrates a case in which both ends of the soft mold 20_2 are attached and connected through the first adhesive tape 23 and the second adhesive tape 24 . However, the present invention is not limited thereto, and may be fused by a laser as in the embodiment of FIG. 12 .

예시된 바와는 달리, 패턴 시트(10R3)의 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)의 프리즘 형상 연장 방향은 롤 형상의 패턴 시트(10R3)의 MD 방향 및 TD 방향에 대해 경사질 수도 있다. 예를 들어, 프리즘 형상 연장 방향은 MD 방향을 기준으로 1° 내지 30°의 각도를 갖거나, 60° 내지 89°의 각도를 가질 수 있다.Unlike the illustration, the prism-shaped extension directions of the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 of the pattern sheet 10R3 are inclined with respect to the MD and TD directions of the roll-shaped pattern sheet 10R3. may be lost For example, the prism shape extending direction may have an angle of 1° to 30° or an angle of 60° to 89° with respect to the MD direction.

상술한 바와 같이, 롤 형상의 패턴 시트(10R1, 10R2, 10R3)는 상기한 바와 같은 소프트 몰드(20, 20_1, 20_2)를 이용하여 제1 기재(100)의 상면에 제1 패턴층(310)을 형성하고, 이후 제1 패턴층(310) 상면 상에 제2 패턴층(320)과 제2 기재(200)를 형성함으로써 완성될 수 있다. 시트들의 제조 공정에서 코팅이나 패턴 형성 공정이 비연속적으로 진행될 경우, 중간 코팅이 마무리된 시트는 롤 형상으로 권취된 상태로 운반이나 보관될 수 있다. 예를 들어, 상기한 바와 같은 소프트 몰드(20, 20_1, 20_2)를 이용하여 제1 기재(100)의 상면에 제1 패턴층(310)을 형성한 중간 구조물을 롤 형상으로 권취하여 운반 및/또는 보관할 수 있다. 이 경우, 권취된 롤 형상의 시트는 권취된 부분에서 제1 패턴층(310)의 상면과 제1 기재(100)의 하면이 대향할 수 있다. 권취 과정에서 시트는 두께 방향으로 압력을 받을 수 있는데, 제2 패턴 영역(PTR2)에 해당하는 부분은 제1 패턴 영역(PTR1)에 비해 길이(길이 방향의 폭)가 작을 뿐만 아니라, 패턴 형상도 상이하므로, 제2 패턴 영역(PTR2)의 제1 패턴층(310)은 귄취에 의해 중첩하여 대향하는 제1 기재(100)의 하면에 영향을 줄 수 있고, 이로 인하여 권취시 제1 기재(10)의 하면과 대향하는 제1 패턴층(310)의 상면에도 영향을 줄 수 있다.As described above, the roll-shaped pattern sheets 10R1, 10R2, and 10R3 are formed on the upper surface of the first substrate 100 using the soft molds 20, 20_1, and 20_2 as described above for the first pattern layer 310. , and then forming the second pattern layer 320 and the second substrate 200 on the upper surface of the first pattern layer 310 may be completed. When the coating or pattern forming process is discontinuously performed in the manufacturing process of the sheets, the intermediate coating-finished sheet may be transported or stored in a rolled-up state. For example, by using the soft molds 20, 20_1, 20_2 as described above, the intermediate structure in which the first pattern layer 310 is formed on the upper surface of the first substrate 100 is wound in a roll shape to transport and / Or you can keep it. In this case, in the wound roll-shaped sheet, the upper surface of the first pattern layer 310 and the lower surface of the first substrate 100 may face each other in the wound portion. During the winding process, the sheet may be subjected to pressure in the thickness direction, and the portion corresponding to the second pattern region PTR2 has a smaller length (width in the longitudinal direction) than the first pattern region PTR1, as well as the pattern shape. Since they are different, the first pattern layer 310 of the second pattern region PTR2 may overlap and affect the opposite lower surface of the first substrate 100 by winding, and thus the first substrate 10 during winding ) may also affect the upper surface of the first pattern layer 310 opposite to the lower surface.

예를 들어, 도 7에 도시된 제1 패턴층(310)을 형성하고 권취하는 경우, 제2 패턴 영역(PTR2)의 돌출 부위가 대향하는 제1 기재(100)의 하면을 가압하여 권취시 제1 기재(100)의 하면과 대향하는 제1 패턴층(310)에 눌림 불량을 야기할 수 있다. 도 13에 도시된 제1 패턴층(310)을 형성하고 권취하는 경우, 제2 패턴 영역(PTR2)의 함몰 부위 측으로 제1 기재(100)의 하면이 가압되어 권취시 제1 기재(100)의 하면과 대향하는 제1 패턴층(310)에 눌림 불량이 야기될 수 있다. 제2 패턴 영역(PTR2)은 표시 장치의 패턴 시트(10)로 적용될 때에는 제거되어 사용되지 않지만, 권취 과정에서 정상적인 패턴을 갖는 제1 패턴 영역(PTR1)에 영향을 줄 수 있고, 그 결과 제1 패턴 영역(PTR1)이 휘어지거나 변형될 수 있으며, 패턴 시트(10)의 선형 얼룩 불량이 발생할 수 있다. For example, when the first pattern layer 310 shown in FIG. 7 is formed and wound, the lower surface of the first substrate 100 opposite to the protruding portion of the second pattern region PTR2 is pressed by pressing the first pattern layer 310 when winding. It may cause a pressing defect in the first pattern layer 310 facing the lower surface of the first substrate 100 . When the first pattern layer 310 shown in FIG. 13 is formed and wound, the lower surface of the first substrate 100 is pressed toward the recessed portion of the second pattern region PTR2 so that the first substrate 100 is wound during winding. A pressing defect may be caused in the first pattern layer 310 facing the lower surface. The second pattern region PTR2 is removed and not used when applied to the pattern sheet 10 of the display device, but may affect the first pattern region PTR1 having a normal pattern during the winding process, and as a result, the first pattern region PTR2 is not used. The pattern region PTR1 may be bent or deformed, and a linear unevenness defect of the pattern sheet 10 may occur.

이와 같은 소프트 몰드(20, 20_1, 20_2)의 이음부(CNR)에 의한 영향력을 최소화하기 위해 이하에서 제1 패턴층(310)을 형성한 후 권취하는 공정 없이 연속 공정으로 제2 패턴층(320)을 형성하는 방법이 제안된다. In order to minimize the influence of the joint portions CNR of the soft molds 20 , 20_1 , and 20_2 , the second pattern layer 320 is formed in a continuous process without the process of forming the first pattern layer 310 and then winding the second pattern layer 320 . ) is proposed.

도 18은 일 실시예에 따른 패턴 시트의 제조 방법의 순서도이다. 도 18에 도시된 바와 같이, 패턴 시트의 제조 방법은 제1 기재(100)의 상면에 제1 패턴층(310)을 형성하는 단계(S1), 및 권취 공정 없이 연속 공정으로 제1 패턴층(310) 상에 제2 패턴층(320)을 형성하는 단계(S2)를 포함할 수 있다.18 is a flowchart of a method of manufacturing a pattern sheet according to an exemplary embodiment. As shown in FIG. 18 , the method for manufacturing a patterned sheet includes a step (S1) of forming a first pattern layer 310 on the upper surface of the first substrate 100, and a first pattern layer (S1) in a continuous process without a winding process. The step (S2) of forming the second pattern layer 320 on the 310 may be included.

도 19는 일 실시예에 따른 패턴 시트의 제조 장치 및 공정도를 나타낸 개략도이다.19 is a schematic diagram illustrating an apparatus and process diagram for manufacturing a pattern sheet according to an embodiment.

도 19를 참조하면, 일 실시예에 따른 패턴 시트의 제조 장치(50)는 제1 패턴층 형성부(PTS1)와 제2 패턴층 형성부(PTS2)를 포함한다. Referring to FIG. 19 , the apparatus 50 for manufacturing a pattern sheet according to an exemplary embodiment includes a first pattern layer forming unit PTS1 and a second pattern layer forming unit PTS2 .

제1 패턴층 형성부(PTS1)는 소프트 몰드(20), 제1 수지 공급 유닛(RPD1) 및 제1 경화 장치(PCR1, MCR1)를 포함할 수 있다. 제1 패턴층 형성부(PTS1)는 가이드롤(GR), 제1 라미네이션부(PRR1, DRR) 및/또는 제1 기재 제공부(SPD1)를 더 포함할 수 있다. 제1 기재 제공부(SPD1)의 제1 기재는 상기 제1 기재 타면에 하나 이상의 패턴층 또는 기능층이 형성된 완제품이거나, 패턴 시트의 제조 장치(50)에 의해 제작된 또 다른 패턴 시트 일 수 있으며, 이 경우 제1 기재 타면에는 상술한 제1 패턴층, 제2 패턴층 및 제2 기재에 대응되는 구성이 형성되어 있을 수 있다.The first pattern layer forming part PTS1 may include a soft mold 20 , a first resin supply unit RPD1 , and first curing devices PCR1 and MCR1 . The first pattern layer forming part PTS1 may further include a guide roll GR, first lamination parts PRR1 and DRR, and/or a first substrate providing part SPD1. The first substrate of the first substrate providing unit SPD1 may be a finished product in which one or more patterned layers or functional layers are formed on the other surface of the first substrate, or another patterned sheet manufactured by the apparatus 50 for manufacturing a patterned sheet. , in this case, a configuration corresponding to the above-described first pattern layer, the second pattern layer, and the second substrate may be formed on the other surface of the first substrate.

소프트 몰드(20)는 몰드 기재(21)의 하면 측이 가이드롤(GR) 및 드럼롤(DRR)에 걸쳐져 루프 형상을 이룰 수 있다. The soft mold 20 may form a loop shape with the lower surface of the mold base 21 spanning the guide roll GR and the drum roll DRR.

소프트 몰드(20)의 주행 경로 상에는 제1 수지 공급 유닛(RPD1)이 배치될 수 있다. 제1 수지 공급 유닛(RPD1)은 소프트 몰드(20)의 몰드 패턴(22) 상에 제1 수지를 공급한다. 제1 수지 공급 유닛(RPD1)은 적어도 하나의 제1 수조(BTH1)와 적어도 하나의 제1 코팅롤(SMR1)을 포함할 수 있다. 제1 코팅롤(SMR1)은 표면에 고무 또는 우레탄 재질 등으로 이루어진 탄성층을 구비할 수 있다. 제1 수조(BTH1)는 제1 수지를 함유할 수 있다. 제1 수지는 광경화성 물질을 포함할 수 있다. 제1 패턴층(310)이 내부에 입자를 포함하는 실시예의 경우, 제1 수지 또한 해당 입자를 포함할 수 있을 것이다.The first resin supply unit RPD1 may be disposed on the traveling path of the soft mold 20 . The first resin supply unit RPD1 supplies the first resin onto the mold pattern 22 of the soft mold 20 . The first resin supply unit RPD1 may include at least one first water tank BTH1 and at least one first coating roll SMR1. The first coating roll SMR1 may have an elastic layer made of a rubber or urethane material on its surface. The first water tank BTH1 may contain the first resin. The first resin may include a photocurable material. In the case of the embodiment in which the first pattern layer 310 includes particles therein, the first resin may also include the particles.

제1 코팅롤(SMR1)은 제1 수조(BTH1)와 소프트 몰드(20) 사이에 배치될 수 있다. 구체적으로, 제1 수조(BTH1)가 하부에 배치되고, 그 상부에 제1 코팅롤(SMR1)이 배치되며, 제1 코팅롤(SMR1)의 상부에 몰드 패턴(22)의 상면이 제1 코팅롤(SMR1)을 향하도록 소프트 몰드(20)가 배치될 수 있다. 제1 코팅롤(SMR1)은 회전 가능하도록 설치될 수 있다. 제1 코팅롤(SMR1)은 제1 수조(BTH1)의 제1 수지 및 소프트 몰드(20)의 몰드 패턴(22)에 접하도록 배치되며, 표면 상에 제1 수조(BTH1)로부터 제1 수지를 공급받아 소프트 몰드(20)의 이송 방향과 동일한 방향으로 회전하며 이를 몰드 패턴(22)의 상면으로 전사하는 역할을 할 수 있다. The first coating roll SMR1 may be disposed between the first water tank BTH1 and the soft mold 20 . Specifically, the first water tank (BTH1) is disposed at the lower portion, the first coating roll (SMR1) is disposed on the upper surface, and the upper surface of the mold pattern 22 is first coated on the first coating roll (SMR1) The soft mold 20 may be disposed to face the roll SMR1. The first coating roll SMR1 may be installed to be rotatable. The first coating roll SMR1 is disposed to be in contact with the mold pattern 22 of the soft mold 20 and the first resin of the first water tank BTH1, and the first resin from the first water tank BTH1 on the surface It is supplied and rotates in the same direction as the transport direction of the soft mold 20 , and may serve to transfer it to the upper surface of the mold pattern 22 .

제1 코팅롤(SMR1)은 복수일 수 있다. 복수의 제1 코팅롤(SMR1)들은 인접하여 배치될 수 있다. 소프트 몰드(20)는 복수의 제1 코팅롤(SMR1)들을 순차적으로 지나면서 각 제1 코팅롤(SMR1)로부터 제1 수지를 순차 공급받을 수 있다. 소프트 몰드(20)가 여러 제1 코팅롤(SMR1)들로부터 소량씩 제1 수지를 공급받으면, 하나의 제1 코팅롤(SMR1)로부터 다량의 제1 수지를 한번에 공급받는 것에 비해 기포 생성이 억제될 수 있다. The first coating roll SMR1 may be plural. The plurality of first coating rolls SMR1 may be disposed adjacently. The soft mold 20 may sequentially receive the first resin from each of the first coating rolls SMR1 while sequentially passing through the plurality of first coating rolls SMR1 . When the soft mold 20 receives a small amount of the first resin from several first coating rolls SMR1, bubble generation is suppressed compared to receiving a large amount of the first resin from one first coating roll SMR1 at once. can be

제1 기재 제공부(100)는 제1 기재롤을 포함한다. 제1 기재롤로부터 권출된 제1 기재(100)는 가이드롤(GR)을 따라 이송되어 제1 라미네이션부(PRR1, DRR)로 이동한다. 제1 라미네이션부는 제1 압착롤(PRR1)과 드럼롤(DRR)을 포함할 수 있다. 제1 기재(100)는 드럼롤(DRR)과 그 상부에서 드럼롤(DRR)에 소정 간격 이격되어 배치된 제1 압착롤(PRR1) 사이 공간을 지나면서 드럼롤(DRR) 상에서 이동하는 소프트 몰드(20)에 근접하게 되고, 소프트 몰드(20)의 몰드 패턴(22) 상에 배치된 제1 수지와 접촉할 수 있다. 접촉한 제1 수지는 소프트 몰드(20)로부터 제1 기재(100)의 상면으로 전사될 수 있으며, 이후에 기술되는 복수의 경화 공정을 통하여 제1 패턴층(310)이 형성될 수 있다. 또한, 제1 압착롤(PRR1)의 최하단부는 드럼롤(DRR)의 최상단부 보다 낮은 높이에 위치되도록 상호 어슷하게 배치될 수 있으며, 도면에 도시되지는 않았지만, 제1 압착롤(PRR1)과 드럼롤(DRR) 사이에는 소프트 몰드(20)의 폭보다 좁은 간격으로 2개의 댐(가스켓)과 하나 이상의 석션(suction)을 구비함으로써, 제1 패턴층(310) 형성시 남는 제1 수지가 소프트 몰드(20)의 측면으로 새어나가 소프트 몰드(20) 또는 제1 패턴층(310)에 불량이 발생되는 것을 방지할 수 있다. 제1 패턴층(310)의 두께(t10)는 드럼롤(DRR)과 제1 압착롤(PRR1)의 간격에 의해 조절될 수 있다. 구체적으로, 드럼롤(DRR)과 제1 압착롤(PRR1)의 간격에 따라 제1 기저부의 두께(t11)가 조절될 수 있다. 소프트 몰드(20)의 원활한 순환을 위하여 상기 드럼롤(DRR)의 표면에는 고무 또는 우레탄 재질의 탄성층을 구비할 수 있다.The first substrate providing unit 100 includes a first substrate roll. The first substrate 100 unwound from the first substrate roll is transferred along the guide roll GR and moved to the first lamination units PRR1 and DRR. The first lamination unit may include a first pressing roll PRR1 and a drum roll DRR. The first substrate 100 is a soft mold moving on the drum roll DRR while passing through the space between the drum roll DRR and the first pressing roll PRR1 disposed at a predetermined distance from the drum roll DRR at the top thereof. 20 , and may come into contact with the first resin disposed on the mold pattern 22 of the soft mold 20 . The contacted first resin may be transferred from the soft mold 20 to the upper surface of the first substrate 100 , and the first pattern layer 310 may be formed through a plurality of curing processes to be described later. In addition, the lowermost end of the first pressing roll (PRR1) may be disposed similarly to each other so as to be positioned at a lower height than the uppermost end of the drum roll (DRR), although not shown in the drawings, the first pressing roll (PRR1) and the drum By providing two dams (gaskets) and one or more suctions at intervals narrower than the width of the soft mold 20 between the rolls DRR, the first resin remaining when the first pattern layer 310 is formed is transferred to the soft mold. It is possible to prevent a defect from occurring in the soft mold 20 or the first pattern layer 310 by leaking to the side of (20). The thickness t10 of the first pattern layer 310 may be adjusted by the distance between the drum roll DRR and the first compression roll PRR1. Specifically, the thickness t11 of the first base may be adjusted according to the interval between the drum roll DRR and the first pressing roll PRR1. For smooth circulation of the soft mold 20, an elastic layer made of rubber or urethane may be provided on the surface of the drum roll DRR.

소프트 몰드(20)로부터 전사된 제1 수지는 제1 경화 장치(PCR1, MCR1)를 통해 경화될 수 있다. 제1 경화 장치(PCR1, MCR1)는 제1 가경화 장치(PCR1) 및 제1 본경화 장치(MCR1)를 포함할 수 있다. 제1 가경화 장치(PCR1)는 저압 UV를 조사하고, 제1 본경화 장치(MCR1)는 그보다 높은 광량의 고압 UV를 조사할 수 있다. 제1 가경화 장치(PCR1)는 드럼롤(DRR) 부근에 배치되어, 제1 수지가 제1 기재(100)의 상면으로 전사되는 것과 동시에 또는 그 직후에 제1 수지를 가경화할 수 있다. 제1 본경화 장치(MCR1)는 제1 기재(100)의 주행 경로 상에 배치되어 가경화된 제1 수지를 완전 경화하여 제1 패턴층(310)을 형성한다. 그에 따라, 제1 기재(100) 및 그 상면에 제1 패턴층(310)이 형성된 1차 패턴 시트를 제조될 수 있다. 제1 패턴층(310) 형성에 의해 완성된 1차 패턴 시트는 권취됨 없이 제2 패턴층 형성부(PTS2)로 이송된다. 1차 패턴 시트의 제1 패턴층(310)의 형상은 상술한 바와 같이 제1 패턴 영역(PTR1)과 제2 패턴 영역(PTR2)에서 서로 상이할 수 있다. 그러나, 1차 패턴 시트 상태에서는 권취되지 않고 곧바로 제2 패턴층(320)을 형성하는 단계로 이송되므로, 패턴 시트(10)가 중첩되면서 제2 패턴 영역(PTR2)에 의해 눌림 불량이 발생하는 것이 방지될 수 있다. The first resin transferred from the soft mold 20 may be cured through the first curing devices PCR1 and MCR1. The first curing devices PCR1 and MCR1 may include a first temporary curing device PCR1 and a first main curing device MCR1 . The first provisional curing device PCR1 may irradiate low-pressure UV, and the first main curing device MCR1 may irradiate high-pressure UV with a higher light quantity. The first temporary curing device PCR1 may be disposed near the drum roll DRR to temporarily cure the first resin at the same time or immediately after the first resin is transferred to the upper surface of the first substrate 100 . The first main curing device MCR1 is disposed on the travel path of the first substrate 100 to completely cure the pre-cured first resin to form the first pattern layer 310 . Accordingly, the first substrate 100 and the first pattern sheet in which the first pattern layer 310 is formed on the upper surface may be manufactured. The first pattern sheet completed by forming the first pattern layer 310 is transferred to the second pattern layer forming unit PTS2 without being wound. The shape of the first pattern layer 310 of the primary pattern sheet may be different from each other in the first pattern region PTR1 and the second pattern region PTR2 as described above. However, in the state of the primary pattern sheet, it is not wound and directly transferred to the step of forming the second pattern layer 320 , so that the pattern sheet 10 overlaps and a press defect occurs by the second pattern region PTR2 . can be prevented.

제2 패턴층 형성부(PTS2)는 제2 수지 공급 유닛(RPD2) 및 제2 경화 장치(PCR2, MCR2)를 포함할 수 있다. 제2 패턴층 형성부(PTS2)는 가이드롤(GR), 라미네이션부(PRR2, BKR), 블레이드(BLD) 및/또는 제2 기재 제공부(SPD2)를 더 포함할 수 있다. The second pattern layer forming unit PTS2 may include a second resin supply unit RPD2 and second curing devices PCR2 and MCR2 . The second pattern layer forming part PTS2 may further include a guide roll GR, lamination parts PRR2 and BKR, a blade BLD, and/or a second substrate providing part SPD2.

제2 수지 공급 유닛(RPD2)은 1차 패턴 시트의 주행 경로 상에 배치될 수 있다. 제2 수지 공급 유닛(RPD2)은 1차 패턴 시트의 제1 패턴층(310) 상면 상에 제2 수지를 공급한다. 제2 수지 공급 유닛(RPD2)은 적어도 하나의 제2 수조(BTH2)와 적어도 하나의 제2 코팅롤(SMR2)을 포함할 수 있다. 제2 코팅롤(SMR2)은 표면에 고무 또는 우레탄 재질 등으로 이루어진 탄성층을 구비할 수 있다. 제2 수조(BTH2)는 제2 수지를 함유할 수 있다. 제2 수지는 광경화성 물질을 포함할 수 있다. 제2 패턴층(320)이 내부에 입자를 포함하는 실시예의 경우, 제2 수지 또한 해당 입자를 포함할 수 있다.The second resin supply unit RPD2 may be disposed on a traveling path of the primary pattern sheet. The second resin supply unit RPD2 supplies the second resin on the upper surface of the first pattern layer 310 of the primary pattern sheet. The second resin supply unit RPD2 may include at least one second water tank BTH2 and at least one second coating roll SMR2. The second coating roll SMR2 may have an elastic layer made of a rubber or urethane material on its surface. The second water tank BTH2 may contain a second resin. The second resin may include a photocurable material. In the case of an embodiment in which the second pattern layer 320 includes particles therein, the second resin may also include the particles.

제2 수지가 용제를 포함하지 않을 경우 제2 수지의 점도는 300cps 내지 3000cps일 수 있다. 제2 수지의 점도가 300cps 미만으로 너무 낮으면, 제2 수지의 코팅 과정에서 내부에 기포가 발생하여 외관 불량이 발생할 수 있고, 제2 수지의 유동성이 높아 두께 조절이 어려울 수 있다. 반면에, 제2 수지의 점도가 3000cps를 초과하는 경우에는 제1 패턴층(310)의 골부(요부)로 제2 수지가 잘 충진되지 않아 생산 속도가 저하될 수 있다. 따라서, 바람직한 제2 수지의 점도는 300cps 내지 3000cps이고, 더욱 바람직하게는 500cps 내지 1500cps일 수 있다. 제2 수지가 용제를 포함하는 경우에는 300cps 이하 또는 300cps 미만의 점도를 가질 수도 있다. When the second resin does not contain a solvent, the viscosity of the second resin may be 300 cps to 3000 cps. If the viscosity of the second resin is too low, less than 300 cps, bubbles may be generated inside during the coating process of the second resin, resulting in poor appearance, and high fluidity of the second resin may make it difficult to control the thickness. On the other hand, when the viscosity of the second resin exceeds 3000 cps, the second resin is not well filled into the valleys (concave portions) of the first pattern layer 310 , and thus the production rate may be reduced. Accordingly, the preferred viscosity of the second resin is 300 cps to 3000 cps, and more preferably 500 cps to 1500 cps. When the second resin contains a solvent, it may have a viscosity of 300 cps or less or less than 300 cps.

제2 코팅롤(SMR2)은 제2 수조(BTH2)와 1차 패턴 시트 사이에 배치될 수 있다. 구체적으로, 제2 수조(BTH2)가 하부에 배치되고, 그 상부에 제2 코팅롤(SMR2)이 배치되며, 제2 코팅롤(SMR2)의 상부에 제1 패턴층(310)의 상면이 제2 코팅롤(SMR2)을 향하도록 1차 패턴 시트가 배치될 수 있다. 제2 코팅롤(SMR2)은 회전 가능하도록 설치될 수 있다. 제2 코팅롤(SMR2)은 제2 수조(BTH2)의 제2 수지 및 제1 패턴층(310)의 상면에 접하도록 배치되며, 표면 상에 제2 수조(BTH2)로부터 제2 수지를 공급받아 1차 패턴 시트의 이송 방향과 동일한 방향으로 회전하며 이를 제1 패턴층(310)의 상면으로 전달하는 역할을 할 수 있다. The second coating roll SMR2 may be disposed between the second water tank BTH2 and the first pattern sheet. Specifically, the second water tank (BTH2) is disposed at the lower portion, the second coating roll (SMR2) is disposed on the upper surface, and the upper surface of the first pattern layer (310) is the first on the second coating roll (SMR2). The first pattern sheet may be disposed to face the second coating roll (SMR2). The second coating roll SMR2 may be installed to be rotatable. The second coating roll SMR2 is disposed to be in contact with the upper surface of the second resin and the first pattern layer 310 of the second water tank BTH2, and receives the second resin supplied from the second water tank BTH2 on the surface. It rotates in the same direction as the transport direction of the first pattern sheet and may serve to transfer it to the upper surface of the first pattern layer 310 .

제2 코팅롤(SMR2)은 복수일 수 있다. 복수의 제2 코팅롤(SMR2)들은 인접하여 배치될 수 있다. 1차 패턴 시트는 복수의 제2 코팅롤(SMR2)들을 순차적으로 지나면서 각 제2 코팅롤(SMR2)로부터 제2 수지를 순차 공급받을 수 있다. 1차 패턴 시트가 여러 제2 코팅롤(SMR2)들로부터 소량씩 제2 수지를 공급받으면, 하나의 제2 코팅롤(SMR2)로부터 다량의 제2 수지를 한번에 공급받는 것에 비해 기포 생성이 억제될 수 있다.The second coating roll SMR2 may be plural. The plurality of second coating rolls SMR2 may be disposed adjacently. The first pattern sheet may sequentially receive the second resin from each of the second coating rolls SMR2 while sequentially passing through the plurality of second coating rolls SMR2. When the first pattern sheet is supplied with the second resin in small amounts from several second coating rolls (SMR2), bubble generation is suppressed compared to receiving a large amount of the second resin from one second coating roll (SMR2) at once. can

제2 수지가 공급된 1차 패턴 시트는 제2 라미네이션부(PRR2, BKR) 측으로 이송되는데, 그 중간에 블레이드(BLD)가 설치되어 스퀴징 공정을 수행할 수 있다. 블레이드(BLD)는 제2 수지의 표면에 적어도 부분적으로 접하도록 설치될 수 있다. 제2 수지가 공급된 1차 패턴 시트를 블레이드(BLD)에 통과시키면 표면 두께를 조절할 수 있을 뿐만 아니라, 불균일한 표면을 균일하게 할 수 있다. 또한, 1차 패턴 시트에 제2 수지를 공급할 때, 제1 패턴층(310) 골부 상에 제2 수지가 부분적으로 미충진될 수 있는데, 스퀴징 공정을 통해 이와 같은 미충진 공간을 충진할 수 있다. The first pattern sheet supplied with the second resin is transferred to the second lamination units PRR2 and BKR, and a blade BLD is installed in the middle to perform a squeezing process. The blade BLD may be installed to at least partially contact the surface of the second resin. When the first pattern sheet supplied with the second resin is passed through the blade BLD, it is possible to control the thickness of the surface as well as to make the non-uniform surface uniform. In addition, when supplying the second resin to the first pattern sheet, the second resin may be partially unfilled on the valleys of the first pattern layer 310, and such an unfilled space can be filled through a squeezing process. have.

제2 기재 제공부(200)는 제2 기재(200)롤을 포함한다. 제2 기재(200)롤로부터 권출된 제2 기재(200)는 가이드롤(GR)을 따라 이송된다. 제2 기재(200)는 제2 라미네이션부(PRR2, BKR)에서 제2 수지를 공급받은 1차 패턴 시트와 근접하게 되고, 제2 라미네이션부(PRR2, BKR)를 통과하면서 상호 접촉하면서 라미네이션될 수 있다.The second substrate providing unit 200 includes a second substrate 200 roll. The second substrate 200 unwound from the roll of the second substrate 200 is transferred along the guide roll GR. The second substrate 200 comes close to the first pattern sheet supplied with the second resin from the second lamination units PRR2 and BKR, passes through the second lamination units PRR2 and BKR, and may be laminated while in contact with each other. have.

제2 라미네이션부(PRR2, BKR)는 제2 압착롤(PRR2)(또는 갭롤)과 지지롤(BKR)(또는 백롤)을 포함할 수 있다. 제2 압착롤(PRR2)과 지지롤(BKR)은 수평 방향으로 일정한 간격을 갖고 대향하도록 배치될 수 있다. 제2 수지를 공급받은 1차 패턴 시트와 제2 기재(200)는 수직 방향 또는 상하 방향으로 진행하여 제2 압착롤(PRR2)과 지지롤(BKR) 사이를 통과하면서 라미네이션될 수 있다. 제2 압착롤(PRR2)과 지지롤(BKR)의 간격을 조절함으로써 패턴 시트(10)의 두께를 제어할 수 있다. 제2 압착롤(PRR2)과 지지롤(BKR)의 간격에 의해 제2 패턴층(320)의 두께(t20)가 조절될 수 있으며, 구체적으로는 제2 기저부의 두께(t21)가 조절될 수 있다. 도면에 도시되지는 않았지만, 제2 압착롤(PRR2)과 지지롤(BKR) 사이에는 1차 패턴 시트 및 제2 기재의 폭보다 좁은 간격으로 2개의 댐(가스켓)과 하나 이상의 석션(suction)을 구비함으로써, 제2 패턴층(320) 형성시 남는 제2 수지가 양 측면으로 새어나가 불량이 발생되는 것을 방지할 수 있다The second lamination parts PRR2 and BKR may include a second pressing roll PRR2 (or a gap roll) and a support roll BKR (or a back roll). The second pressing roll (PRR2) and the support roll (BKR) may be disposed to face each other at regular intervals in the horizontal direction. The first pattern sheet and the second substrate 200 supplied with the second resin may be laminated while passing between the second pressing roll PRR2 and the support roll BKR in a vertical or vertical direction. The thickness of the pattern sheet 10 may be controlled by adjusting the interval between the second pressing roll PRR2 and the support roll BKR. The thickness t20 of the second pattern layer 320 may be adjusted by the interval between the second pressing roll PRR2 and the support roll BKR, and specifically, the thickness t21 of the second base may be adjusted. have. Although not shown in the drawing, between the second pressing roll (PRR2) and the support roll (BKR), two dams (gaskets) and one or more suctions are formed at intervals narrower than the width of the first pattern sheet and the second substrate. By providing the second pattern layer 320, it is possible to prevent the second resin from leaking to both sides when the second pattern layer 320 is formed, thereby preventing a defect from occurring.

제2 수지는 제2 경화 장치(PCR2, MCR2)를 통해 경화될 수 있다. 제2 경화 장치(PCR2, MCR2)는 제2 가경화 장치(PCR2) 및 제2 본경화 장치(MCR2)를 포함할 수 있다. 제2 가경화 장치(PCR2)는 저압 UV를 조사하고, 제2 본경화 장치(MCR2)는 그보다 높은 고압 UV를 조사할 수 있다. 제2 가경화 장치(PCR2)의 경우 제2 기재 제공부(SPD2)로부터 제공되는 제2 기재(200) 측에 배치될 수 있으나, 제2 기재(200)가 UV를 차단 또는 흡수하는 물질을 포함하는 경우에는 1차 패턴 시트 측에 배치될 수 있으며, 이하에 기술하는 실시예에서도 동일하게 적용할 수 있다. 제2 경화 장치(PCR2, MCR2)는 제2 라미네이션부(PRR2, BKR) 또는 그에 인접하도록 배치되어, 제2 수지와 제2 기재(200)가 라미네이션되는 것과 동시에 또는 그 직후에 제2 수지를 가경화할 수 있다. 제2 본경화 장치(MCR2)는 제2 기재(200)의 주행 경로 상에 배치되어 가경화된 제2 수지를 완전 경화하여 제2 패턴층(320)을 형성할 수 있다. 라미네이션 및 제2 패턴층(320)이 형성이 완료된 2차 패턴 시트는 완성된 패턴 시트(10R)로서 롤 형상으로 권취될 수 있다. 권취되는 패턴 시트(10R)는 이미 제2 패턴 영역(PTR2) 상에 제2 패턴층(320)이 형성되어 있어, 패턴층(300) 전체로 볼 때 제1 패턴 영역(PTR1)과 제2 패턴 영역(PTR2)에서 균일한 두께를 가지며, 제1 기재(100)의 하면과 제2 기재(200)의 상면도 돌출부 없이 평탄한 표면을 가질 수 있다. 따라서, 권취에 의해 패턴 시트(10R)가 중첩하더라도 눌림 불량 등이 방지될 수 있다. 제2 패턴층(320)이 완전 경화 후 소정의 모듈러스 값을 갖는 제2 수지에 의해 형성될 경우, 눌림 불량 등이 방지되는 데에 더 유리할 수 있다. 이 경우 상기 제2 패턴층(320)에 형성되는 제2 기저부의 두께(t21)는 상기 제1 패턴층(310)에 형성되는 제1 기저부의 두께(t11)보다 클 수 있다. 또한, 제2 패턴층(320)은 점착 특성을 더 가질 수 있다.The second resin may be cured through the second curing devices PCR2 and MCR2. The second curing devices PCR2 and MCR2 may include a second temporary curing device PCR2 and a second main curing device MCR2. The second provisional curing device PCR2 may irradiate a low-pressure UV, and the second main curing device MCR2 may irradiate a higher high-pressure UV than that. In the case of the second temporary curing device PCR2, it may be disposed on the side of the second substrate 200 provided from the second substrate providing unit SPD2, but the second substrate 200 includes a material that blocks or absorbs UV. In this case, it may be disposed on the side of the primary pattern sheet, and the same may be applied to the embodiments described below. The second curing devices PCR2 and MCR2 are disposed adjacent to or adjacent to the second lamination portions PRR2 and BKR to temporarily cure the second resin at the same time or immediately after the second resin and the second substrate 200 are laminated. can get angry The second main curing device MCR2 may be disposed on the travel path of the second substrate 200 to completely cure the second pre-cured resin to form the second pattern layer 320 . The secondary pattern sheet on which the lamination and the second pattern layer 320 are formed may be wound in a roll shape as the completed pattern sheet 10R. In the pattern sheet 10R to be wound, the second pattern layer 320 is already formed on the second pattern region PTR2 , so that when viewed as a whole of the pattern layer 300 , the first pattern region PTR1 and the second pattern region PTR2 . The region PTR2 may have a uniform thickness, and the lower surface of the first substrate 100 and the upper surface of the second substrate 200 may also have flat surfaces without protrusions. Accordingly, even if the pattern sheets 10R overlap by winding, a pressing defect or the like can be prevented. When the second pattern layer 320 is formed of the second resin having a predetermined modulus value after complete curing, it may be more advantageous to prevent a pressing defect. In this case, the thickness t21 of the second base formed on the second pattern layer 320 may be greater than the thickness t11 of the first base formed on the first pattern layer 310 . In addition, the second pattern layer 320 may further have an adhesive property.

도 20은 다른 실시예에 따른 패턴 시트의 제조 장치 및 공정도를 나타낸 개략도이다. 20 is a schematic diagram illustrating an apparatus and process diagram for manufacturing a pattern sheet according to another embodiment.

도 20을 참조하면, 본 실시예에 따른 패턴 시트의 제조 장치(50_1)는 제2 라미네이션부(PRR2, BKR) 구성들의 배치가 도 19의 실시예와 상이하다. 즉, 제2 라미네이션부(PRR2, BKR)가 제2 압착롤(PRR2)(또는 갭롤)과 지지롤(BKR)(또는 백롤)을 포함하는 것은 도 19의 실시예와 동일하지만, 제2 압착롤(PRR2)과 지지롤(BKR)이 수직 방향(또는 상하 방향)으로 일정한 간격을 갖고 대향하도록 배치된 점에서 도 19의 실시예와 상이하다. 본 실시예에서, 제2 수지를 공급받은 1차 패턴 시트와 제2 기재(200)는 수평 방향으로 진행하여 제2 압착롤(PRR2)과 지지롤(BKR) 사이를 통과하면서 라미네이션될 수 있다. 본 실시예에서도, 제2 압착롤(PRR2)과 지지롤(BKR)의 간격을 조절함으로써 패턴 시트(10R)의 두께를 제어할 수 있다.Referring to FIG. 20 , in the apparatus 50_1 for manufacturing a pattern sheet according to the present embodiment, the arrangement of the second lamination units PRR2 and BKR is different from the embodiment of FIG. 19 . That is, the second lamination part (PRR2, BKR) including the second pressing roll (PRR2) (or gap roll) and the support roll (BKR) (or back roll) is the same as the embodiment of FIG. 19 , but the second pressing roll It is different from the embodiment of FIG. 19 in that the PRR2 and the support roll BKR are disposed to face each other at regular intervals in the vertical direction (or in the vertical direction). In the present embodiment, the first pattern sheet and the second substrate 200 supplied with the second resin may be laminated while passing between the second pressing roll PRR2 and the support roll BKR in a horizontal direction. Also in this embodiment, the thickness of the pattern sheet 10R can be controlled by adjusting the interval between the second pressing roll PRR2 and the support roll BKR.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.Although the embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains may be embodied in other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention. you will be able to understand Therefore, it should be understood that the embodiments described above are illustrative in all respects and not restrictive.

10: 패턴 시트
100: 제1 기재
200: 제2 기재
300: 패턴층
310: 제1 패턴층
320: 제2 패턴층
10: pattern sheet
100: first substrate
200: second substrate
300: pattern layer
310: first pattern layer
320: second pattern layer

Claims (15)

제1 기재롤로부터 권출된 제1 기재의 상면에 제1 표면 요철을 포함하는 제1 패턴층을 형성하는 단계;
상기 제1 패턴층이 형성된 상기 제1 기재를 권취하는 공정 없이 연속 공정으로 상기 제1 패턴층 상에 제2 패턴층을 형성하는 단계로서, 상기 제1 패턴층과 상기 제2 패턴층의 두께의 합이 균일하도록 상기 제2 패턴층을 형성하는 단계; 및
상기 제2 패턴층을 형성하는 단계 후에 상기 제2 패턴층 상에 제2 기재롤로부터 권출된 제2 기재를 배치하는 단계를 포함하되,
상기 제2 패턴층은 상기 제1 표면 요철에 맞물리는 상보적인 형상을 갖는 제2 표면 요철을 포함하고,
상기 제1 패턴층은 제1 패턴 영역, 및 상기 제1 표면 요철 및 상기 제2 표면 요철이 상기 제1 패턴 영역과 다른 단면 구조를 갖는 제2 패턴 영역을 포함하며,
상기 제1 패턴층은 제1 수지로부터 형성되고,
상기 제2 패턴층은 용제를 포함하지 않으며 300 내지 3000cps의 점도를 갖는 제2 수지로부터 형성되고,
상기 제2 패턴층은 상기 제1 패턴층보다 작은 영률 값을 가지며,
상기 제2 패턴층은 유리와의 점착력이 1500g/25mm 이상인 점착층이며,
상기 제2 패턴층을 형성하는 단계는 인접하여 배치되는 복수 개의 제2 코팅롤을 통하여 상기 제1 패턴층 상에 상기 제2 수지를 순차 공급하는 단계를 더 포함하고,
상기 제1 패턴층은 상기 제1 표면 요철의 철부를 일체로 연결하는 제1 기저부를 포함하고,
상기 제2 패턴층은 상기 제2 표면 요철의 철부를 일체로 연결하는 제2 기저부를 포함하며,
상기 제2 기저부의 두께는 상기 제1 기저부의 두께보다 큰 패턴 시트의 제조 방법.
Forming a first pattern layer comprising a first surface unevenness on the upper surface of the first substrate unwound from the first substrate roll;
Forming a second pattern layer on the first pattern layer in a continuous process without a process of winding the first substrate on which the first pattern layer is formed, wherein the thickness of the first pattern layer and the second pattern layer is forming the second pattern layer so that the sum is uniform; and
Comprising the step of disposing a second substrate unwound from a second substrate roll on the second pattern layer after the step of forming the second pattern layer,
The second pattern layer includes a second surface unevenness having a complementary shape engaged with the first surface unevenness,
The first pattern layer includes a first pattern region and a second pattern region in which the first surface irregularities and the second surface irregularities have a cross-sectional structure different from that of the first pattern region,
The first pattern layer is formed from a first resin,
The second pattern layer is formed from a second resin that does not contain a solvent and has a viscosity of 300 to 3000 cps,
The second pattern layer has a smaller Young's modulus value than the first pattern layer,
The second pattern layer is an adhesive layer having an adhesive strength with glass of 1500 g/25 mm or more,
The step of forming the second pattern layer further comprises the step of sequentially supplying the second resin on the first pattern layer through a plurality of second coating rolls disposed adjacently,
The first pattern layer includes a first base for integrally connecting the convex and convex portions of the first surface,
The second pattern layer includes a second base portion integrally connecting the convex and convex portions of the second surface unevenness,
The thickness of the second base portion is greater than the thickness of the first base portion manufacturing method of the pattern sheet.
제1 항에 있어서,
상기 제1 패턴층은 이음부를 포함하는 소프트 몰드에 의해 형성되고,
상기 제2 패턴 영역은 상기 이음부에 의해 형성되는 패턴 시트의 제조 방법.
According to claim 1,
The first pattern layer is formed by a soft mold including a joint,
The method of manufacturing a pattern sheet in which the second pattern region is formed by the joint portion.
삭제delete 제1 항에 있어서,
상기 제1 패턴층과 상기 제2 패턴층은 상호간 0.1 이상의 굴절률 차이를 갖는 패턴 시트의 제조 방법.
According to claim 1,
The method of manufacturing a pattern sheet having a refractive index difference of 0.1 or more between the first pattern layer and the second pattern layer.
삭제delete 삭제delete 제1 항에 있어서,
상기 제1 패턴층은 단면이 삼각형 또는 사다리꼴인 프리즘 형상을 갖는 패턴 시트의 제조 방법.
According to claim 1,
The first pattern layer is a method of manufacturing a pattern sheet having a prism shape having a cross section of a triangle or a trapezoid.
제7 항에 있어서,
상기 제1 패턴층 및 상기 제2 패턴층 중 적어도 하나는 그 내부에 입자를 포함하는 패턴 시트의 제조 방법.
8. The method of claim 7,
At least one of the first pattern layer and the second pattern layer is a method of manufacturing a pattern sheet including particles therein.
제8 항에 있어서,
상기 입자는 파장 변환 입자와 산란 입자를 포함하는 패턴 시트의 제조 방법.
9. The method of claim 8,
The particle is a method of manufacturing a pattern sheet comprising wavelength conversion particles and scattering particles.
제8 항에 있어서,
상기 입자는 흡광 입자를 포함하되,
상기 흡광 입자는 상기 제2 패턴층 내부에 배치되고, 상기 제1 패턴층 내부에 배치되지 않는 패턴 시트의 제조 방법.
9. The method of claim 8,
The particles include light absorbing particles,
The light absorbing particles are disposed inside the second pattern layer, the manufacturing method of the pattern sheet is not disposed inside the first pattern layer.
삭제delete 삭제delete 제1 패턴 형성부 및 제2 패턴 형성부를 포함하는 패턴 시트 제조 장치로서,
상기 제1 패턴 형성부는 소프트 몰드, 제1 수지 공급 유닛, 및 제1 기재롤을 포함하는 제1 기재 제공부를 포함하고,
상기 제2 패턴 형성부는 라미네이션부, 제2 수지 공급 유닛, 및 제2 기재롤을 포함하는 제2 기재 제공부를 포함하되,
상기 제1 패턴 형성부와 상기 제2 패턴 형성부는 연속 공정으로 연결되고,
상기 제2 패턴 형성부는 상기 제1 패턴 형성부에서 패턴이 형성된 패턴 시트의 주행 경로 상에 배치되며,
상기 소프트 몰드는 이음부를 포함하고,
상기 라미네이션부는 상기 제2 기재 제공부와 상기 제2 수지 공급 유닛 사이에 배치되고,
상기 제1 패턴 형성부와 상기 제2 패턴 형성부 사이에는 상기 제1 기재 제공부에서 제공하는 제1 기재를 권취하는 수단이 존재하지 않으며,
상기 제1 수지 공급 유닛은 제1 수지를 공급하고,
상기 제2 수지 공급 유닛은 300 내지 3000cps의 점도를 갖는 제2 수지를 공급하며,
상기 제2 수지는 경화된 상태에서 상기 제1 수지보다 작은 영률 값을 가지며
상기 제2 수지는 경화된 상태에서 유리와의 점착력이 1500g/25mm 이상이며,
상기 제2 수지 공급 유닛은 인접하여 배치되어 상기 제2 수지를 공급하도록 구성된 복수 개의 코팅롤을 포함하는 패턴 시트의 제조 장치.
A pattern sheet manufacturing apparatus including a first pattern forming unit and a second pattern forming unit, the apparatus comprising:
The first pattern forming unit includes a first substrate providing unit including a soft mold, a first resin supply unit, and a first substrate roll,
The second pattern forming unit includes a lamination unit, a second resin supply unit, and a second substrate providing unit including a second substrate roll,
The first pattern forming part and the second pattern forming part are connected in a continuous process,
The second pattern forming part is disposed on the traveling path of the pattern sheet on which the pattern is formed in the first pattern forming part,
The soft mold includes a joint,
The lamination part is disposed between the second substrate providing part and the second resin supply unit,
There is no means for winding the first substrate provided by the first substrate providing unit between the first pattern forming unit and the second pattern forming unit,
The first resin supply unit supplies a first resin,
The second resin supply unit supplies a second resin having a viscosity of 300 to 3000 cps,
The second resin has a smaller Young's modulus value than the first resin in a cured state
The second resin has an adhesive strength of 1500 g/25 mm or more with glass in a cured state,
The second resin supply unit is disposed adjacent to the manufacturing apparatus of a pattern sheet including a plurality of coating rolls configured to supply the second resin.
삭제delete 제13 항에 있어서,
상기 라미네이션부는 제2 압착롤 및 상기 제2 압착롤에 일정한 간격을 갖고 대향하도록 배치된 지지롤을 포함하는 패턴 시트의 제조 장치.
14. The method of claim 13,
The lamination part is an apparatus for manufacturing a pattern sheet including a second pressing roll and a support roll disposed to face the second pressing roll at a predetermined interval.
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