KR20200114982A - Method and apparatus for fabricating pattern sheet - Google Patents

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Abstract

Provided are a method for producing a pattern sheet, and a device for producing a pattern sheet. The method for producing a pattern sheet comprises the steps of: forming a first pattern layer including a first surface concave-convex part on the upper surface of a first substrate; and forming a second pattern layer on the first pattern layer through a continuous process, wherein the second pattern layer is formed such that the sum of the thicknesses of the first pattern layer and the second pattern layer is uniform. The second pattern layer comprises a second surface concave-convex part having a complementary shape engaged with the first surface concave-convex part. The first pattern layer comprises a first pattern region and a second pattern region in which the first surface concave-convex part and the second surface concave-convex part have cross-sectional structures different from those of the first pattern region. According to the present invention, a defect caused by the first pattern layer is not visible on a laminate-type pattern sheet.

Description

패턴 시트의 제조 방법 및 패턴 시트의 제조 장치 {Method and apparatus for fabricating pattern sheet}[Method and apparatus for fabricating pattern sheet]

본 발명은 상보적인 형상을 갖는 복수개의 패턴층을 적층한 패턴 시트의 제조 방법 및 제조 장치에 대한 것이다. The present invention relates to a method and apparatus for manufacturing a pattern sheet in which a plurality of pattern layers having a complementary shape are stacked.

적층형 패턴 시트는 디프를레이 장치에 사용된다. 최근 디스플레이의 대형화로 인하여 55인치 이상의 크기를 갖는 패턴시트의 요구가 많으나, 55인치 이상에 대응되는 패턴시트의 경우 1300mm 이상의 폭에 수 마이크로미터 수준의 최소 직경을 갖는 복수개의 패턴들이 전면에 형성된 패턴롤을 제작해야 할 수 있으며, 상기 복수개의 패턴들이 선형이고 패턴롤의 원주 방향이 아닌 폭 방향 또는 상기 원주 방향에서 큰 각도로 틸트된 방향으로 패턴롤을 가공해야 할 경우 높은 난이도로 인하여 제작 시간이 길고 수율이 낮으며 매우 고가이므로, 1300mm 이상의 광폭을 갖는 적층형 패턴시트 형성시 제조비용이 현저히 상승될 수 있다.The laminated patterned sheet is used in the deep-lay device. Due to the recent enlargement of the display, there is a lot of demand for a pattern sheet having a size of 55 inches or more, but in the case of a pattern sheet corresponding to 55 inches or more, a plurality of patterns having a width of 1300 mm or more and a minimum diameter of several micrometers are formed on the front side It may be necessary to manufacture a roll, and if the plurality of patterns are linear and the pattern roll is to be processed in a width direction rather than a circumferential direction of the pattern roll or a direction tilted at a large angle from the circumferential direction, the manufacturing time is reduced due to high difficulty. Since it is long, has a low yield, and is very expensive, manufacturing cost can be significantly increased when forming a laminated pattern sheet having a wide width of 1300 mm or more.

뿐만 아니라, 패턴 시트를 형성하기 위해서는 패턴롤과 1차 패턴수지에 의해 제1 기재 상에 형성되는 제1 패턴층을 구비한 패턴시트 반제품을 제작한 후, 상기 제1 패턴층 표면에 2차 패턴수지를 도포한 후 제2 기재를 덮어 물리적으로 가압하여 상기 제1 패턴층에 상보적인 형상을 갖는 제2 패턴층을 형성하게 되는데, 상기 제1 패턴층 및 제2 패턴층을 각각 별도의 공정으로 제조시 제1 패턴층에 형성된 불량이 적층형 패턴시트에 시인되거나, 제1 및/또는 제2 패턴층의 두께 불균일성으로 인하여 적층형 패턴시트 상에 얼룩으로 시인될 수 있다. 패턴롤의 대안으로 소프트 몰드에 의한 패턴 형성 방법이 알려져 있지만, 소프트 몰드는 양 단부를 연결하는 이음부를 포함하고, 그 이음부가 전사된 패턴이 두께 불균일을 나타내므로, 상술한 얼룩이 발생할 우려가 있다. 복수개의 패턴층이 각각 90% 이상의 높은 광투과율을 구비할 경우에는 외관 불량에 더욱 민감할 수밖에 없다.In addition, in order to form a pattern sheet, a pattern sheet semi-finished product having a first pattern layer formed on a first substrate by a pattern roll and a primary pattern resin is prepared, and then a second pattern is formed on the surface of the first pattern layer. After the resin is applied, a second pattern layer having a shape complementary to the first pattern layer is formed by covering the second substrate and physically pressing it. The first pattern layer and the second pattern layer are each separately processed. During manufacture, defects formed in the first pattern layer may be recognized by the stacked pattern sheet, or may be recognized as stains on the stacked pattern sheet due to non-uniform thickness of the first and/or second pattern layers. As an alternative to the pattern roll, a method of forming a pattern using a soft mold is known, but since the soft mold includes a joint connecting both ends, and the pattern to which the joint is transferred shows a thickness non-uniformity, the above-described unevenness may occur. When the plurality of pattern layers each have a high light transmittance of 90% or more, it is inevitably more sensitive to appearance defects.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 제1 패턴층에 기인한 불량이 적층형 패턴 시트에서 시인되지 않는 패턴 시트의 제조 방법에 관한 것이다.The problem to be solved by the present invention relates to a method of manufacturing a pattern sheet in which defects due to the first pattern layer are not recognized in the laminated pattern sheet.

본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 제1 패턴층에 기인한 불량이 적층형 패턴 시트에서 시인되지 않는 패턴 시트의 제조 장치에 관한 것이다.Another problem to be solved by the present invention relates to an apparatus for manufacturing a pattern sheet in which defects due to the first pattern layer are not recognized in the laminated pattern sheet.

본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problems of the present invention are not limited to the problems mentioned above, and other problems that are not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기 과제를 해결하기 위한 일 실시예에 따른 패턴 시트의 제조 방법은 제1 기재의 상면에 제1 표면 요철을 포함하는 제1 패턴층을 형성하는 단계, 및 연속 공정으로 상기 제1 패턴층 상에 제2 패턴층을 형성하는 단계로서, 상기 제1 패턴층과 상기 제2 패턴층의 두께의 합이 균일하도록 상기 제2 패턴층을 형성하는 단계를 포함하되, 상기 제2 패턴층은 상기 제1 표면 요철에 맞물리는 상보적인 형상을 갖는 제2 표면 요철을 포함하고, 상기 제1 패턴층은 제1 패턴 영역, 및 상기 제1 표면 요철 및 상기 제2 표면 요철이 상기 제1 패턴 영역과 다른 단면 구조를 갖는 제2 패턴 영역을 포함한다. The method of manufacturing a pattern sheet according to an embodiment for solving the above problem includes forming a first pattern layer including a first surface irregularities on an upper surface of a first substrate, and on the first pattern layer in a continuous process. A step of forming a second pattern layer, comprising forming the second pattern layer so that the sum of the thicknesses of the first pattern layer and the second pattern layer is uniform, wherein the second pattern layer comprises the first Includes a second surface irregularities having a complementary shape meshing with the surface irregularities, the first pattern layer has a first pattern region, and the first surface irregularities and the second surface irregularities are different from the first pattern area And a second pattern region having a structure.

상기 다른 과제를 해결하기 위한 일 실시예에 따른 패턴 시트의 제조 장치는 제1 패턴 형성부 및 제2 패턴 형성부를 포함하는 패턴 시트 제조 장치로서, 상기 제1 패턴 형성부는 소프트 몰드, 제1 수지 공급 유닛, 및 제1 기재 제공부를 포함하고, 상기 제2 패턴 형성부는 라미네이션부, 제2 수지 공급 유닛, 및 제2 기재 제공부를 포함하되, 상기 제1 패턴 형성부와 상기 제2 패턴 형성부는 연속 공정으로 연결된다. The apparatus for manufacturing a pattern sheet according to an embodiment for solving the other problem is an apparatus for manufacturing a pattern sheet including a first pattern forming unit and a second pattern forming unit, and the first pattern forming unit is a soft mold and a first resin supply A unit and a first substrate providing unit, wherein the second pattern forming unit includes a lamination unit, a second resin supply unit, and a second substrate providing unit, wherein the first pattern forming unit and the second pattern forming unit are continuous processes. It is connected by

기타 실시예의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.Details of other embodiments are included in the detailed description and drawings.

실시예들에 따르면, 높은 생산성과 낮은 비용의 필름몰드를 이용하여 연속공정으로 제조함으로써 생산성을 개선하고 제조비용을 절감할 수 있다. According to embodiments, it is possible to improve productivity and reduce manufacturing cost by manufacturing in a continuous process using a film mold having high productivity and low cost.

또, 필름몰드로부터 제작되는 제1 패턴층의 이음부로부터 기인한 불량 발생을 방지하고, 적층형 패턴시트 제작시 적층 패턴의 두께를 균일하게 할 수 있고, 필름몰드의 적용 및 이를 이용한 연속공정으로 수행되어 제조비용이 절감될 수 있다. 특히 1300mm 폭 이상의 대형 적층형 패턴시트의 생산성을 향상시킬 수 있다. 나아가, 제1 및/또는 제2 패턴층의 두께 균일성을 개선할 수 있다.In addition, defects caused by the joints of the first pattern layer produced from the film mold can be prevented, the thickness of the laminated pattern can be made uniform when the laminated pattern sheet is produced, and the film mold is applied and a continuous process using the same is performed. So the manufacturing cost can be reduced. In particular, it is possible to improve the productivity of a large laminated pattern sheet with a width of 1300mm or more. Furthermore, it is possible to improve the thickness uniformity of the first and/or second pattern layer.

본 발명에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며, 더욱 다양한 효과들이 본 명세서 내에 포함되어 있다.The effects according to the present invention are not limited by the contents exemplified above, and more various effects are included in the present specification.

도 1은 일 실시예에 따른 패턴 시트의 단면도이다.
도 2 내지 도 4는 다양한 실시예에 따른 패턴 시트의 단면도들이다.
도 5는 또 다른 실시예에 따른 패턴 시트의 단면도이다.
도 6은 또 다른 실시예에 따른 패턴 시트의 단면도이다.
도 7은 일 실시예에 따른 롤 형상의 패턴 시트의 단면도이다.
도 8은 일 실시예에 따른 소프트 몰드의 사시도이다.
도 9는 도 8의 IX-IX'선을 따라 자른 단면도이다.
도 10은 도 8의 소프트 몰드를 이용하여 패턴 시트를 제조하는 일 과정을 보여주는 단면도이다.
도 11은 다른 실시예에 따른 소프트 몰드의 사시도이다.
도 12는 도 11의 XII-XII'선을 따라 자른 단면도이다.
도 13은 도 11의 소프트 몰드를 이용하여 형성된 롤 형상의 패턴 시트의 단면도이다.
도 14는 또 다른 실시예에 따른 소프트 몰드의 사시도이다.
도 15는 도 14의 XV-XV'선을 따라 자른 단면도이다.
도 16은 도 14의 XVI-XVI'선을 따라 자른 단면도이다.
도 17은 도 14의 소프트 몰드를 이용하여 형성된 롤 형상의 패턴 시트의 사시도이다.
도 18은 일 실시예에 따른 패턴 시트의 제조 방법의 순서도이다.
도 19는 일 실시예에 따른 패턴 시트의 제조 장치 및 공정도를 나타낸 개략도이다.
도 20은 다른 실시예에 따른 패턴 시트의 제조 장치 및 공정도를 나타낸 개략도이다.
1 is a cross-sectional view of a pattern sheet according to an exemplary embodiment.
2 to 4 are cross-sectional views of pattern sheets according to various embodiments.
5 is a cross-sectional view of a pattern sheet according to another embodiment.
6 is a cross-sectional view of a pattern sheet according to another embodiment.
7 is a cross-sectional view of a roll-shaped pattern sheet according to an exemplary embodiment.
8 is a perspective view of a soft mold according to an embodiment.
9 is a cross-sectional view taken along line IX-IX' of FIG. 8.
10 is a cross-sectional view showing a process of manufacturing a pattern sheet using the soft mold of FIG. 8.
11 is a perspective view of a soft mold according to another embodiment.
12 is a cross-sectional view taken along line XII-XII' of FIG. 11.
13 is a cross-sectional view of a roll-shaped pattern sheet formed by using the soft mold of FIG. 11.
14 is a perspective view of a soft mold according to another embodiment.
15 is a cross-sectional view taken along line XV-XV' of FIG. 14.
16 is a cross-sectional view taken along line XVI-XVI' of FIG. 14.
17 is a perspective view of a roll-shaped pattern sheet formed by using the soft mold of FIG. 14.
18 is a flowchart of a method of manufacturing a pattern sheet according to an exemplary embodiment.
19 is a schematic diagram showing an apparatus and process diagram for manufacturing a patterned sheet according to an exemplary embodiment.
20 is a schematic diagram showing an apparatus and process diagram for manufacturing a patterned sheet according to another embodiment.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. Advantages and features of the present invention, and a method of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described below in detail together with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in various forms different from each other, and only these embodiments make the disclosure of the present invention complete, and common knowledge in the art to which the present invention pertains. It is provided to completely inform the scope of the invention to those who have it, and the invention is only defined by the scope of the claims.

소자(elements) 또는 층이 다른 소자 또는 층"위(on)"로 지칭되는 것은 다른 소자 바로 위에 또는 중간에 다른 층 또는 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다. 반면, 소자가 "직접 위(directly on)"로 지칭되는 것은 중간에 다른 소자 또는 층을 개재하지 않은 것을 나타낸다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. "및/또는"는 언급된 아이템들의 각각 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다. When an element or layer is referred to as “on” another element or layer, it includes all cases where another layer or other element is interposed directly on or in the middle of another element. On the other hand, when a device is referred to as "directly on", it indicates that no other device or layer is interposed therebetween. The same reference numerals refer to the same components throughout the specification. "And/or" includes each and every combination of one or more of the recited items.

비록 제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있음은 물론이다.Although the first, second, and the like are used to describe various components, it goes without saying that these components are not limited by these terms. These terms are only used to distinguish one component from another component. Therefore, it goes without saying that the first component mentioned below may be the second component within the technical idea of the present invention.

본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소 외에 하나 이상의 다른 구성요소의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.The terms used in the present specification are for describing exemplary embodiments and are not intended to limit the present invention. In this specification, the singular form also includes the plural form unless specifically stated in the phrase. As used in the specification, “comprises” and/or “comprising” do not exclude the presence or addition of one or more other elements other than the mentioned elements.

다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms (including technical and scientific terms) used in the present specification may be used as meanings that can be commonly understood by those of ordinary skill in the art to which the present invention belongs. In addition, terms defined in a commonly used dictionary are not interpreted ideally or excessively unless explicitly defined specifically.

공간적으로 상대적인 용어인 "아래(below)", "아래(beneath)", "하부(lower)", "위(above)", "상부(upper)" 등은 도면에 도시되어 있는 바와 같이 하나의 구성 요소와 다른 구성 요소들과의 상관관계를 용이하게 기술하기 위해 사용될 수 있다. 공간적으로 상대적인 용어는 도면에 도시되어 있는 방향에 더하여 사용시 또는 동작시 구성요소들의 서로 다른 방향을 포함하는 용어로 이해되어야 한다. 예를 들면, 도면에 도시되어 있는 구성요소를 뒤집을 경우, 다른 구성요소의 "아래(below)"또는 "아래(beneath)"로 기술된 구성요소는 다른 구성요소의 "위(above)"에 놓여질 수 있다. 따라서, 예시적인 용어인 "아래"는 아래와 위의 방향을 모두 포함할 수 있다. 구성요소는 다른 방향으로도 배향될 수 있고, 이에 따라 공간적으로 상대적인 용어들은 배향에 따라 해석될 수 있다.Spatially relative terms "below", "beneath", "lower", "above", "upper", etc., as shown in the figure It can be used to easily describe the correlation between a component and other components. Spatially relative terms should be understood as terms including different directions of components during use or operation in addition to the directions shown in the drawings. For example, if a component shown in a drawing is turned over, a component described as "below" or "beneath" of another component will be placed "above" the other component. I can. Accordingly, the exemplary term “below” may include both directions below and above. Components may be oriented in other directions, and thus spatially relative terms may be interpreted according to the orientation.

본 명세서에서 사용되는 용어인 "~시트", "~필름", "~층" 등은 서로 동일한 의미로 혼용될 수 있다. 또한, 본 명세서의 용어인 기능성 광학시트는 광학 필름, 광학판, 광학 필름 패키지 등을 포함하는 의미로 사용될 수 있다. Terms used in the present specification "~ sheet", "~ film", "~ layer" and the like may be used interchangeably with the same meaning. In addition, the functional optical sheet, which is the term of the present specification, may be used as a meaning including an optical film, an optical plate, an optical film package, and the like.

이하, 첨부된 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예들에 대해 설명한다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 일 실시예에 따른 패턴 시트의 단면도이다. 1 is a cross-sectional view of a pattern sheet according to an exemplary embodiment.

설명의 편의상 시트, 필름이나 층의 면 중 도면에서 상부 방향에 놓이는 면을 상면으로, 하부 방향에 놓이는 면을 하면으로 지칭한다. 그러나, 상면, 하면 등의 용어는 해당 구조의 일면 또는 타면을 상대적으로 구분하여 지칭하기 위해 사용된 것일 뿐이며, 패턴 시트(10)의 적용예나 배치 방향에 따라 상면으로 지칭된 면이 하부를 향하거나 측면을 향하는 등 다양한 방향을 향할 수 있다. For convenience of explanation, the surface of the sheet, film, or layer that lies in the upper direction in the drawing is referred to as the upper surface, and the surface that lies in the lower direction is referred to as the lower surface. However, the terms such as the upper surface and the lower surface are only used to relatively distinguish one surface or the other surface of the structure, and depending on the application example or arrangement direction of the pattern sheet 10, the surface referred to as the upper surface faces downward or It can be oriented in a variety of directions, such as facing the side.

도면에서 제1 방향(D1)과 제2 방향(D2)은 상호 수직으로 교차하는 방향이다. 패턴 시트(10)의 변은 제1 방향(D1)과 제2 방향(D2) 중 어느 하나에 평행할 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다.In the drawing, the first direction D1 and the second direction D2 are directions perpendicular to each other. The side of the pattern sheet 10 may be parallel to any one of the first direction D1 and the second direction D2, but is not limited thereto.

도 1을 참조하면, 패턴 시트(10)는 표시 장치의 광학 시트로 사용될 수 있다. 일 예로, 패턴 시트(10)는 액정 표시 장치의 백라이트 유닛의 광학 시트로 사용될 수 있다. 구체적으로, 패턴 시트(10)는 백라이트 유닛의 파장 변환 시트, 프리즘 시트, 확산 시트, 보호 시트 등으로 사용될 수 있다. 다른 예로, 패턴 시트(10)는 액정 표시 패널이나, 유기 발광 표시 패널의 상부에 배치되는 광학 시트로 사용될 수도 있다. 구체적으로, 패턴 시트(10)는 프라이버시 시트, 시야각에서의 색재현율을 높이기 위한 색 변화 저감용 시트, 밝은 장소에서도 명암비가 우수한 명실 명암비 향상 시트, 및 전자파 차폐 시트 등으로 사용될 수 있다. Referring to FIG. 1, the pattern sheet 10 may be used as an optical sheet of a display device. For example, the pattern sheet 10 may be used as an optical sheet of a backlight unit of a liquid crystal display. Specifically, the pattern sheet 10 may be used as a wavelength conversion sheet, a prism sheet, a diffusion sheet, and a protective sheet of the backlight unit. As another example, the pattern sheet 10 may be used as a liquid crystal display panel or an optical sheet disposed on an organic light emitting display panel. Specifically, the pattern sheet 10 may be used as a privacy sheet, a sheet for reducing color change to increase color reproduction at a viewing angle, a bright room contrast ratio improving sheet having excellent contrast ratio even in a bright place, and an electromagnetic wave shielding sheet.

패턴 시트(10)는 복수의 층들이 적층된 적층형 패턴 시트일 수 있다. 패턴 시트(10)는 제1 기재(100), 제1 기재(100)의 상면 상에 배치된 제1 패턴층(310), 및 제1 패턴층(310) 상에 배치된 제2 패턴층(320)을 포함한다. 패턴 시트(10)는 제2 패턴층(320) 상에 배치된 제2 기재(200)를 더 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 패턴 시트(10)의 외측면인 제1 기재(100)의 하면과 제2 기재(200)의 상면은 평탄하며, 다른 층의 배치없이 외부에 노출될 수 있다. 다른 실시예에서, 제1 기재(100)의 하면 및/또는 제2 기재(200)의 상면에는 기능성 코팅층(미도시)이 배치될 수도 있다. 상기 기능성 코팅층의 예로는 하드코팅층, 반사방지층, 방오층 등을 들 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다.The pattern sheet 10 may be a stacked pattern sheet in which a plurality of layers are stacked. The pattern sheet 10 includes a first substrate 100, a first pattern layer 310 disposed on an upper surface of the first substrate 100, and a second pattern layer 310 disposed on the first pattern layer 310 ( 320). The pattern sheet 10 may further include a second substrate 200 disposed on the second pattern layer 320. In one embodiment, the lower surface of the first substrate 100 and the upper surface of the second substrate 200, which are outer surfaces of the pattern sheet 10, are flat and may be exposed to the outside without disposing other layers. In another embodiment, a functional coating layer (not shown) may be disposed on the lower surface of the first substrate 100 and/or the upper surface of the second substrate 200. Examples of the functional coating layer may include a hard coating layer, an antireflection layer, and an antifouling layer, but are not limited thereto.

제1 기재(100)와 제2 기재(200)는 서로 대향한다. 제1 기재(100) 및 제2 기재(200)는 각각 균일한 두께를 가질 수 있다. The first substrate 100 and the second substrate 200 face each other. Each of the first substrate 100 and the second substrate 200 may have a uniform thickness.

제1 기재(100) 및 제2 기재(200)는 각각 투명한 수지를 포함하여 이루어질 수 있다. 예를 들어, 제1 기재(100) 및 제2 기재(200)는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리에틸렌(PE), 폴리프로필렌(PP), 폴리술폰(PSF), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 트리아세틸셀룰로오스(TAC), 시클로올레핀 폴리머(COP) 또는 시클로올레핀 코폴리머(COC) 등과 같은 광학 필름에 통상적으로 적용되는 물질로 이루어질 수 있다. 제1 기재(100) 및 제2 기재(200)의 광투과율은 90% 이상일 수 있다. 제1 기재(100)와 제2 기재(200)는 동일한 물질로 이루어질 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다.Each of the first substrate 100 and the second substrate 200 may include a transparent resin. For example, the first substrate 100 and the second substrate 200 are polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polyethylene (PE), polypropylene (PP), polysulfone (PSF), polymethyl It may be made of a material conventionally applied to an optical film such as methacrylate (PMMA), triacetylcellulose (TAC), cycloolefin polymer (COP), or cycloolefin copolymer (COC). The light transmittance of the first substrate 100 and the second substrate 200 may be 90% or more. The first substrate 100 and the second substrate 200 may be made of the same material, but are not limited thereto.

제1 기재(100)의 상면에는 제1 패턴층(310)이 배치된다. 제1 패턴층(310)의 상면은 요부와 철부를 포함하는 제1 표면 요철(또는 제1 패턴부, 도면에서 '310' 내부의 점선 상부)을 포함할 수 있다. 제1 패턴층(310)은 각 철부를 일체로 연결하는 제1 기저부(또는 제1 완화층, 도면에서 '310' 내부의 점선 하부)를 더 포함할 수 있다. A first pattern layer 310 is disposed on the upper surface of the first substrate 100. The upper surface of the first pattern layer 310 may include first surface irregularities including concave portions and convex portions (or a first pattern portion, an upper dotted line inside '310' in the drawing). The first pattern layer 310 may further include a first base portion (or a first relief layer, under the dotted line inside '310' in the drawing) integrally connecting each convex portion.

제1 패턴층(310) 상에는 제2 패턴층(320)이 배치된다. 제2 패턴층(320)의 하면은 제1 패턴층(310)의 상면에 직접 접할 수 있다. 제2 패턴층(320)의 하면은 철부와 요부를 포함하는 제2 표면 요철(또는 제2 패턴부, 도면에서 '320' 내부의 점선 하부)을 포함할 수 있다. 제1 패턴층(310)의 제1 표면 요철과 제2 패턴층(320)의 제2 표면 요철은 서로 맞물리는 상보적인 형상을 가질 수 있다. 즉, 제1 표면 요철의 철부는 제2 표면 요철의 요부와 실질적으로 동일한 형상을 가지며 맞물릴 수 있다. 제1 표면 요철의 요부는 제2 표면 요철의 철부와 실질적으로 동일한 형상을 가지며 맞물릴 수 있다. 제1 표면 요철의 구체적인 형상에 대해서는 후술하기로 한다.A second pattern layer 320 is disposed on the first pattern layer 310. The lower surface of the second pattern layer 320 may directly contact the upper surface of the first pattern layer 310. The lower surface of the second pattern layer 320 may include second surface irregularities including convex portions and concave portions (or the second pattern portion, under the dotted line inside '320' in the drawing). The first surface irregularities of the first pattern layer 310 and the second surface irregularities of the second pattern layer 320 may have a complementary shape meshing with each other. That is, the convex portions of the first surface irregularities have substantially the same shape as the concave portions of the second surface irregularities and may be engaged. The concave portions of the first surface irregularities have substantially the same shape as the convex portions of the second surface irregularities and may be engaged. The specific shape of the first surface irregularities will be described later.

제2 패턴층(320)의 상면은 제2 기재(200)의 하면에 접할 수 있다. 제2 패턴층(320)의 상면은 대체로 평탄할 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다.The upper surface of the second pattern layer 320 may be in contact with the lower surface of the second substrate 200. The upper surface of the second pattern layer 320 may be generally flat, but is not limited thereto.

일 실시예에서, 제2 패턴층(320)은 제1 패턴층(310)과 달리 기저부를 불포함할 수 있다. 이 경우, 제2 패턴층(320)의 각 패턴들은 제1 패턴층(310) 제1 표면 요철의 철부에 의해 구분되거나 분할될 수 있다. 또한, 제1 패턴층(310) 제1 표면 요철의 철부의 적어도 일부는 제2 기재(200)의 하면에 접촉할 수 있다.In an embodiment, unlike the first pattern layer 310, the second pattern layer 320 may include a base portion. In this case, each of the patterns of the second pattern layer 320 may be divided or divided by the convex portions of the first surface irregularities of the first pattern layer 310. In addition, at least a part of the convex portions of the first surface irregularities of the first pattern layer 310 may contact the lower surface of the second substrate 200.

다른 실시예에서, 제2 패턴층(320)은 제1 패턴층(310)과 마찬가지로 제2 패턴층(320)의 각 철부를 연결하는 제2 기저부(또는 제2 완화층, 도면에서 '320' 내부의 점선 상부)를 더 포함할 수 있다. 제2 기저부의 두께는 제1 기저부의 두께와 동일할 수도 있고, 그보다 작을 수도 있고, 그보다 클 수도 있다. 제2 기저부의 두께가 제1 기저부의 두께보다 작은 경우, 제2 패턴층(320)의 최대 두께 또한 제1 패턴층(310)의 최대 두께보다 작을 수 있다. 반면, 이후에 기술되는 바와 같이 제1 패턴층(310)은 광 변조 특성만 갖고 제2 패턴층(320)은 광 변조 특성 뿐만 아니라 점착 특성을 더 갖는 경우에는, 제2 기저부의 두께가 제1 기저부의 두께보다 클 수 있고, 이 경우 제2 패턴층(320)의 최대 두께 또한 제1 패턴층(310)의 최대 두께보다 클 수 있다.In another embodiment, the second pattern layer 320, like the first pattern layer 310, has a second base portion (or a second relaxation layer, '320' in the drawing) connecting each convex portion of the second pattern layer 320. It may further include an upper dotted line). The thickness of the second base portion may be the same as the thickness of the first base portion, may be smaller than that, or may be greater than that. When the thickness of the second base portion is smaller than the thickness of the first base portion, the maximum thickness of the second pattern layer 320 may also be smaller than the maximum thickness of the first pattern layer 310. On the other hand, as will be described later, when the first pattern layer 310 has only light modulation characteristics and the second pattern layer 320 further has adhesive characteristics as well as light modulation characteristics, the thickness of the second base portion is It may be larger than the thickness of the base portion, and in this case, the maximum thickness of the second pattern layer 320 may also be larger than the maximum thickness of the first pattern layer 310.

제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)을 합친 두께는 균일할 수 있다. 몇몇 실시예에서, 제1 패턴층(310)은 철부의 높이(t10)가 균일하지 않을 수 있다. 예를 들어, 후술하는 제1 패턴 영역(PTR1)과 제2 패턴 영역(PTR2)은 그 높이가 상이할 수 있다. 뿐만 아니라, 제1 패턴 영역(PTR1)에 속하는 철부 사이에서도 높이 차이가 발생할 수 있다. 이 경우, 제1 패턴층(310) 상면에 형성되는 제2 패턴층(320)이 평탄화 기능을 수행할 수 있다. 즉, 제1 패턴층(310)의 철부의 두께(또는 높이)(t10)가 큰 영역에서는 상대적으로 제2 패턴층(320)의 요부의 두께(또는 높이)(t21)가 작고, 제1 패턴층(310)의 철부의 두께(t10)가 작은 영역에서는 상대적으로 제2 패턴층(320)의 요부의 두께(t21)가 커서 전반적으로 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)을 합친 두께를 균일하게 유지할 수 있다. 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)의 두께의 합이 균일함에 따라 제1 기재(100)의 상면과 그에 대향하는 제2 기재(200)의 하면 사이의 거리 또한 균일해질 수 있다. 마찬가지로, 제1 패턴층(310)의 요부의 두께(t11)와 그에 상응하는 제2 패턴층(320)의 철부의 두께(t20)의 합은 균일하며, 제1 패턴층(310)의 철부의 두께(t10) 및 그에 상응하는 제2 패턴층(320)의 요부의 두께(t21)의 합과 동일할 수 있다.The combined thickness of the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 may be uniform. In some embodiments, the height t10 of the first pattern layer 310 may not be uniform. For example, the first pattern area PTR1 and the second pattern area PTR2 to be described later may have different heights. In addition, a height difference may also occur between convex portions belonging to the first pattern region PTR1. In this case, the second pattern layer 320 formed on the upper surface of the first pattern layer 310 may perform a planarization function. That is, in a region in which the thickness (or height) t10 of the convex portion of the first pattern layer 310 is large, the thickness (or height) t21 of the concave portion of the second pattern layer 320 is relatively small, and the first pattern In an area where the thickness t10 of the convex portion of the layer 310 is small, the thickness t21 of the concave portion of the second pattern layer 320 is relatively large, so that the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 are generally The combined thickness can be kept uniform. As the sum of the thicknesses of the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 is uniform, the distance between the upper surface of the first substrate 100 and the lower surface of the second substrate 200 opposite thereto may also become uniform. have. Likewise, the sum of the thickness t11 of the concave portion of the first pattern layer 310 and the thickness t20 of the convex portion of the second pattern layer 320 corresponding thereto is uniform, and the convex portion of the first pattern layer 310 is It may be equal to the sum of the thickness t10 and the thickness t21 of the concave portions of the second pattern layer 320 corresponding thereto.

패턴 시트(10)가 평판 형상으로 펼쳐진 상태에서, 제1 기재(100)와 제2 기재(200)는 평행하게 배치될 수 있다.In a state in which the pattern sheet 10 is unfolded in a flat plate shape, the first substrate 100 and the second substrate 200 may be disposed in parallel.

제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)은 각각 투명한 수지를 포함하여 이루어질 수 있다. 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)은 각각 에폭시아크릴레이트계 수지, 우레탄아크릴레이트계 수지, 실리콘아크릴레이트계 수지 등의 광경화성 수지나 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 폴리에스테르계 수지 등의 열경화성 수지를 포함하여 이루어질 수 있다. 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)을 구성하는 상기 수지는 각각 95% 이상의 광투과율을 가질 수 있다.Each of the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 may include a transparent resin. The first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 are photocurable resins such as epoxy acrylate resins, urethane acrylate resins, and silicone acrylate resins, acrylic resins, urethane resins, and polyester resins, respectively. It may be formed by including a thermosetting resin such as. Each of the resins constituting the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 may have a light transmittance of 95% or more.

제2 패턴층(320)은 점착 특성을 더 가질 수 있다. 패턴 시트(10)가 제2 기재(200)를 포함하고 제2 패턴층(320)이 높은 점착 특성을 가질 경우, 패턴 시트(10) 자체의 합지 품질을 향상시킬 수 있다. 또한, 제2 패턴층(320)을 제2 기재(200)와 합지하거나, 제2 기재(200)가 없는 패턴 시트(10)를 추가적인 피착체와 합지할 때, 별도의 결합 부재를 생략할 수 있다. 이 경우, 제2 패턴층(320)의 점착력은 500g/25mm 이상일 수 있고, 1000g/25mm 이상인 것이 더욱 바람직하다. 일 예로, 제2 패턴층(320)이 무알칼리 유리(Non-Alkali Glass, 코닝 Eagle XG Glass 0.7t)에 부착될 경우 상기 유리와 제2 패턴층(320)의 점착력이 1500g/25mm 이상이 되어, 패턴 시트(10)를 표면 필름으로 사용시 별도의 접합 부재를 사용하지 않더라도 견고한 접합력을 구현할 수 있다.The second pattern layer 320 may further have adhesive properties. When the pattern sheet 10 includes the second substrate 200 and the second pattern layer 320 has high adhesive properties, the quality of lamination of the pattern sheet 10 itself may be improved. In addition, when the second pattern layer 320 is laminated with the second substrate 200 or the pattern sheet 10 without the second substrate 200 is laminated with an additional adherend, a separate coupling member may be omitted. have. In this case, the adhesive force of the second pattern layer 320 may be 500g/25mm or more, and more preferably 1000g/25mm or more. For example, when the second pattern layer 320 is attached to an alkali-free glass (Non-Alkali Glass, Corning Eagle XG Glass 0.7t), the adhesive strength between the glass and the second pattern layer 320 becomes 1500g/25mm or more. , When using the pattern sheet 10 as a surface film, even if a separate bonding member is not used, a solid bonding force can be implemented.

제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)은 굴절률은 약 1.4 내지 1.7이거나, 약 1.5 내지 1.6일 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다. 일 실시예에서, 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)은 동일한 굴절률을 가질 수 있다. 이 경우, 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)의 계면에 실질적인 광학 계면이 이루어지지 않아 해당 계면을 통과하는 빛이 굴절하지 않고 직진할 수 있다. 다른 실시예에서, 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)의 굴절률은 상이할 수도 있다. 예를 들어, 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)의 굴절률이 0.1 이상이 되는 경우, 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)의 계면이 광학적 계면을 이뤄 광의 진행 방향을 굴절시키거나 반사시키는 등 광 변조 기능을 수행할 수 있다. The first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 may have a refractive index of about 1.4 to 1.7, or about 1.5 to 1.6, but are not limited thereto. In one embodiment, the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 may have the same refractive index. In this case, since a substantial optical interface is not formed at the interface between the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320, light passing through the interface may go straight without refracting. In another embodiment, the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 may have different refractive indices. For example, when the refractive index of the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 is 0.1 or more, the interface between the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 forms an optical interface. It can perform a light modulation function, such as refracting or reflecting a traveling direction of light.

일 실시예에서, 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)은 동일한 물질을 포함하여 이루어질 수 있다. 다른 실시예에서, 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)은 상이한 물질을 포함하여 이루어질 수도 있다. 몇몇 실시예에서, 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)은 그 구성 성분이 상이하되, 굴절률은 실질적으로 동일할 수 있다. 여기서, 굴절률이 실질적으로 동일하다고 하는 것은 굴절률이 완전히 동일한 경우 뿐만 아니라, 굴절률의 차이가 0.01 이하인 경우를 포함하는 의미로 사용될 수 있다. In one embodiment, the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 may be formed of the same material. In another embodiment, the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 may be formed of different materials. In some embodiments, the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 may have different constituent components, but have substantially the same refractive index. Here, the fact that the refractive index is substantially the same may be used to include not only the case where the refractive index is completely the same, but also the case where the difference in the refractive index is 0.01 or less.

몇몇 실시예에서, 제2 패턴층(320)은 제1 패턴층(310)보다 작은 영률(Young's Modulus) 값을 가질 수 있다. 제2 패턴층(320)이 상대적으로 더 작은 영률 값을 가질 경우, 상대적으로 우수한 복원력을 가지며, 권취시 인접한 패턴 시트(10)의 제1 패턴층(310) 또는 제2 패턴층(320)의 미세 단차에 의해 눌림이 발생하는 경우에도 그에 의한 변형을 줄일 수 있다. In some embodiments, the second pattern layer 320 may have a Young's Modulus value smaller than that of the first pattern layer 310. When the second pattern layer 320 has a relatively smaller Young's modulus value, it has a relatively excellent resilience, and the first pattern layer 310 or the second pattern layer 320 of the adjacent pattern sheet 10 Even when pressing occurs due to a fine step, deformation caused by it can be reduced.

도 1에서는 제1 기재(100) 상면의 바로 위에 제1 패턴층(310)이 형성되고, 제2 기재(200) 하면의 바로 위에 제2 패턴층(320)이 형성된 경우를 예시하였지만, 제1 기재(100)의 상면과 제1 패턴층(310) 사이 및/또는 제2 기재(200)의 하면과 제2 패턴층(320) 사이에는 이형층과 같은 기능성 코팅층이 더 배치될 수도 있다. 이 경우, 패턴층(300)에 대한 이형층의 부착력은 상술한 제2 패턴층(320)의 점착력보다 작으며, 예를 들어 5g/25mm 내지 30g/25mm일 수 있지만, 이에 제한되지 않는다. In FIG. 1, a case where the first pattern layer 310 is formed directly on the upper surface of the first substrate 100 and the second pattern layer 320 is formed directly on the lower surface of the second substrate 200 is illustrated. A functional coating layer such as a release layer may be further disposed between the upper surface of the substrate 100 and the first pattern layer 310 and/or between the lower surface of the second substrate 200 and the second pattern layer 320. In this case, the adhesion of the release layer to the pattern layer 300 is less than the adhesion of the second pattern layer 320 described above, and may be, for example, 5g/25mm to 30g/25mm, but is not limited thereto.

몇몇 실시예에서, 제1 기재(100)의 상면과 제1 패턴층(310) 사이 및/또는 제2 기재(200)의 하면과 제2 패턴층(320) 사이에는 상반된 기능을 갖는 기능성 코팅층이 배치될 수 있다. 예를 들어, 제1 기재(100)의 상면 상, 다시 말하면 제1 기재(100)와 제1 패턴층(310) 사이에는 제1 패턴층(310)과의 부착력을 높이기 위한 프라이머층이 더 구비되고, 제2 기재(200)의 하면 상, 다시 말하면 제2 기재(200)와 제2 패턴층(320) 사이에는 제2 패턴층(320)과의 부착력을 낮추기 위한 이형층이 더 구비될 수 있다. 반대로, 제1 기재(100)의 상면 상에 이형층이, 제2 기재(200)의 하면 상에 프라이머층이 배치될 수도 있다.In some embodiments, a functional coating layer having opposite functions is provided between the upper surface of the first substrate 100 and the first pattern layer 310 and/or between the lower surface of the second substrate 200 and the second pattern layer 320. Can be placed. For example, a primer layer is further provided on the top surface of the first substrate 100, that is, between the first substrate 100 and the first pattern layer 310, to increase adhesion to the first pattern layer 310. And, on the lower surface of the second substrate 200, that is, between the second substrate 200 and the second pattern layer 320, a release layer for lowering the adhesion to the second pattern layer 320 may be further provided. have. Conversely, a release layer may be disposed on the upper surface of the first substrate 100 and a primer layer may be disposed on the lower surface of the second substrate 200.

이하, 도 1 내지 도 4를 참조하여, 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)의 표면 요철 형상에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, the uneven shape of the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 4.

도 2 내지 도 4는 다양한 실시예에 따른 패턴 시트의 단면도들이다.2 to 4 are cross-sectional views of pattern sheets according to various embodiments.

먼저, 도 1을 참조하면, 제1 패턴층(310)의 제1 표면 요철은 단면이 이등변 삼각형인 프리즘 형상을 가질 수 있다. 여기서, 이등변 삼각형의 등변은 제1 패턴층(310)의 표면이 되고, 밑변은 제1 패턴층(310)의 골부를 연결한 가상의 선이 된다. 제1 패턴층(310)의 프리즘 형상은 제1 방향으로 연장되며, 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 철부와 요부가 교대 배열될 수 있다. 이 경우, 제1 패턴층(310)의 철부는 프리즘의 산부가 되고, 제1 패턴층(310)의 요부는 프리즘의 골부가 될 수 있다. 단면도상 제1 패턴층(310) 제1 표면 요철의 철부 형상의 이등변 삼각형과 요부 형상의 이등변 삼각형은 동일한 형상일 수 있다. 이 경우, 단면도상 제2 패턴층(320) 제2 표면 요철의 요부 형상과 철부 형상 또한 동일한 이등변 삼각형일 수 있다. First, referring to FIG. 1, the first surface irregularities of the first pattern layer 310 may have a prism shape having an isosceles triangle in cross section. Here, the equilateral side of the isosceles triangle becomes the surface of the first pattern layer 310, and the bottom side becomes a virtual line connecting the valleys of the first pattern layer 310. The prism shape of the first pattern layer 310 extends in a first direction, and convex portions and concave portions may be alternately arranged along a second direction crossing the first direction. In this case, the convex portion of the first pattern layer 310 may be the peak of the prism, and the concave portion of the first pattern layer 310 may be the valley of the prism. In the cross-sectional view, an isosceles triangle having a convex shape of the first surface unevenness and an isosceles triangle having a concave shape of the first pattern layer 310 may have the same shape. In this case, the shape of the concave portion and the convex portion of the second surface irregularities of the second pattern layer 320 in the cross-sectional view may also have the same isosceles triangle.

다른 패턴 시트(10_1)의 패턴층(301)의 예로, 제1 패턴층(311)의 제1 표면 요철은, 도 2에 도시된 바와 같이, 단면이 비대칭 삼각형인 프리즘 형상을 가질 수 있다. 제1 패턴층(311)의 제1 표면 요철의 단면 형상은 철부의 일측을 빗변으로 하는 직각 삼각형일 수 있다. 제2 패턴층(310)의 제2 표면 요철의 단면 형상 또한 동일한 직각 삼각형일 수 있다. As an example of the pattern layer 301 of the other pattern sheet 10_1, the first surface irregularities of the first pattern layer 311 may have a prism shape having an asymmetric triangle in cross section as shown in FIG. 2. The cross-sectional shape of the first surface irregularities of the first pattern layer 311 may be a right triangle having one side of the convex portion as a hypotenuse. The cross-sectional shape of the second surface irregularities of the second pattern layer 310 may also have the same right triangle.

또 다른 패턴 시트(10_2)의 패턴층(302)의 예로, 제1 패턴층(312)의 제1 표면 요철은, 도 3에 도시된 바와 같이, 사다리꼴 형상을 가질 수 있다. 제1 표면 요철의 철부는 윗변보다 밑변(골부를 연결한 가상의 선)이 길고, 빗변(옆변)의 경사가 동일한 등각 사다리꼴 형상일 수 있다. 제2 패턴층(322)의 제2 표면 요철의 단면 형상 또한 등각 사다리꼴 형상일 수 있다. As an example of the pattern layer 302 of another pattern sheet 10_2, the first surface irregularities of the first pattern layer 312 may have a trapezoidal shape, as shown in FIG. 3. The convex portion of the first surface irregularities may have a lower side (a virtual line connecting the valley) longer than an upper side, and may have an equilateral trapezoidal shape with the same slope of the hypotenuse (lateral side). The cross-sectional shape of the second surface irregularities of the second pattern layer 322 may also have a conformal trapezoidal shape.

또 다른 패턴 시트(10_3)의 패턴층(303)의 예로, 제1 패턴층(313)의 제1 표면 요철은, 도 4에 도시된 바와 같이, 측면이 라운드진 형상을 가질 수 있다. 도 4의 실시예는 도 3의 실시예에서 빗변이 곡선인 경우에 해당한다. 도 4에서는 제1 표면 요철의 빗변이 볼록하고, 그에 상보적인 제2 패턴층(314)의 제2 표면 요철의 빗변은 오목한 곡선을 이루는 경우를 예시하였지만, 그 반대로 제1 표면 요철의 빗변이 오목하고 제2 표면 요철의 빗변이 볼록할 수도 있다.As another example of the pattern layer 303 of the pattern sheet 10_3, the first surface irregularities of the first pattern layer 313 may have a rounded side surface, as illustrated in FIG. 4. The example of FIG. 4 corresponds to the case of a hypotenuse curve in the example of FIG. 3. 4 illustrates a case in which the hypotenuse of the first surface irregularities is convex, and the hypotenuse of the second surface irregularities of the second pattern layer 314 complementary thereto forms a concave curve, but on the contrary, the hypotenuse of the first surface irregularities is concave. And the hypotenuse of the second surface irregularities may be convex.

도 5는 또 다른 실시예에 따른 패턴 시트의 단면도이다. 도 5의 실시예는 패턴 시트(10_4)의 패턴층(304)은 제1 패턴층(314)과 제2 패턴층(324) 중 적어도 하나가 그 내부에 입자들을 더 포함할 수 있음을 예시한다. 구체적으로, 제1 패턴층(314)과 제2 패턴층(324)이 상기 입자의 예로서 파장 변환 입자와 산란 입자를 포함하여 패턴 시트(10_4)가 파장 변환 시트로 적용되는 경우를 예시한다. 예시된 바와 달리, 파장 변환 입자(WCP1, WCP2)와 산란 입자(SCP)는 제1 패턴층(314)과 제2 패턴층(324) 중 어느 하나에만 배치될 수도 있다. 5 is a cross-sectional view of a pattern sheet according to another embodiment. The embodiment of FIG. 5 illustrates that at least one of the first pattern layer 314 and the second pattern layer 324 in the pattern layer 304 of the pattern sheet 10_4 may further include particles therein. . Specifically, the first pattern layer 314 and the second pattern layer 324 are examples of the particles, including wavelength conversion particles and scattering particles, and the pattern sheet 10_4 is applied as a wavelength conversion sheet. Unlike illustrated, the wavelength conversion particles WCP1 and WCP2 and the scattering particles SCP may be disposed on only one of the first pattern layer 314 and the second pattern layer 324.

도 5를 참조하면, 제1 패턴층(314)과 제2 패턴층(324)은 그 내부에 파장 변환 입자(WCP1, WCP2)를 포함할 수 있다. 파장 변환 입자(WCP1, WCP2)는 입사된 빛의 파장을 변환하는 입자로, 예를 들어 양자점(Quantum dot: QD), 형광 물질 또는 인광 물질의 입자일 수 있다. 파장 변환 입자(WCP1, WCP2)의 일예인 양자점에 대해 상세히 설명하면, 양자점은 수 나노미터 크기의 결정 구조를 가진 물질로, 수백에서 수천 개 정도의 원자로 구성된다. 양자점은 크기가 매우 작기 때문에 양자 구속(quantum confinement) 효과가 나타난다. 양자 구속 효과는 물체가 나노 크기 이하로 작아지는 경우 그 물체의 에너지 밴드 갭(band gap)이 커지는 현상을 말한다. 이에 따라, 양자점에 밴드 갭보다 에너지가 높은 파장의 빛이 입사하는 경우, 양자점은 그 빛을 흡수하여 들뜬 상태로 되고, 특정 파장의 광을 방출하면서 바닥 상태로 떨어진다. 방출된 파장의 광은 밴드 갭에 해당되는 값을 갖는다. 양자점은 그 크기와 조성 등을 조절하면 양자 구속 효과에 의한 발광 특성을 조절할 수 있다.Referring to FIG. 5, the first pattern layer 314 and the second pattern layer 324 may include wavelength conversion particles WCP1 and WCP2 therein. The wavelength conversion particles WCP1 and WCP2 are particles that convert the wavelength of incident light, and may be, for example, quantum dots (QD), fluorescent materials, or particles of phosphorescent materials. When a quantum dot, which is an example of the wavelength conversion particles WCP1 and WCP2, will be described in detail, the quantum dot is a material having a crystal structure of several nanometers, and is composed of several hundreds to thousands of atoms. Because quantum dots are very small, they exhibit a quantum confinement effect. The quantum confinement effect refers to a phenomenon in which the energy band gap of the object increases when the object becomes smaller than the nano size. Accordingly, when light having a wavelength higher than the band gap is incident on the quantum dot, the quantum dot absorbs the light and becomes excited, and falls to the ground state while emitting light of a specific wavelength. The emitted wavelength light has a value corresponding to the band gap. By controlling the size and composition of the quantum dots, it is possible to control the luminescence characteristics due to the quantum confinement effect.

본 실시예에 적용될 수 있는 양자점은 통상적으로 사용하는 것이라면 특별히 한정하지 않으나, 예를 들어, Ⅱ-Ⅵ족 화합물, Ⅱ-Ⅴ족 화합물, Ⅲ-Ⅵ족 화합물, Ⅲ-Ⅴ족 화합물, Ⅳ-Ⅵ족 화합물, Ⅰ-Ⅲ-Ⅵ족 화합물, Ⅱ-Ⅳ-Ⅵ족 화합물 및 Ⅱ-Ⅳ-Ⅴ족 화합물 중 적어도 하나를 포함하는 것일 수 있다.The quantum dots that can be applied to the present embodiment are not particularly limited as long as they are commonly used, but for example, Group II-VI compounds, Group II-V compounds, Group III-VI compounds, Group III-V compounds, and IV-VI It may include at least one of a Group compound, a Group I-III-VI compound, a Group II-IV-VI compound, and a Group II-IV-V compound.

양자점은 코어(Core) 및 코어를 오버 코팅하는 쉘(Shell)을 포함하는 것일 수 있다. 코어는 이에 한정하는 것은 아니나, 예를 들어, CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, GaN, GaP, GaAs, GaSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, InP, InAs, InSb, SiC, Ca, Se, In, P, Fe, Pt, Ni, Co, Al, Ag, Au, Cu, FePt, Fe2O3, Fe3O4, Si, 및 Ge 중 적어도 하나일 수 있다. 쉘은 이에 한정하는 것은 아니나, 예를 들어, ZnS, ZnSe, ZnTe, CdS, CdSe, CdTe, HgS, HgSe, HgTe, AlN, AlP, AlAs, AlSb, GaN, GaP, GaAs, GaSb, GaSe, InN, InP, InAs, InSb, TlN, TlP, TlAs, TlSb, PbS, PbSe 및 PbTe 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. The quantum dots may include a core and a shell overcoating the core. The core is not limited thereto, for example, CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, GaN, GaP, GaAs, GaSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, InP, InAs, InSb, SiC, Ca, It may be at least one of Se, In, P, Fe, Pt, Ni, Co, Al, Ag, Au, Cu, FePt, Fe2O3, Fe3O4, Si, and Ge. The shell is not limited thereto, for example, ZnS, ZnSe, ZnTe, CdS, CdSe, CdTe, HgS, HgSe, HgTe, AlN, AlP, AlAs, AlSb, GaN, GaP, GaAs, GaSb, GaSe, InN, It may include at least one of InP, InAs, InSb, TlN, TlP, TlAs, TlSb, PbS, PbSe, and PbTe.

파장 변환 입자(WCP1, WCP2)는 입사광을 서로 다른 파장으로 변환하는 복수의 파장 변환 입자를 포함할 수 있다. 예를 들어, 파장 변환 입자는 특정 파장의 입사광을 제1 파장으로 변환하여 방출하는 제1 파장 변환 입자(WCP1)와 제2 파장으로 변환하여 방출하는 제2 파장 변환 입자(WCP2)를 포함할 수 있다. 예시적인 실시예에서, 입사광은 블루 파장의 빛이고, 상기 제1 파장은 그린 파장이고, 상기 제2 파장은 레드 파장일 수 있다. 예를 들어, 상기 블루 파장은 420 내지 470nm에서 피크를 갖는 파장이고, 상기 그린 파장은 520nm 내지 570nm에서 피크를 갖는 파장이고, 상기 레드 파장은 620nm 내지 670nm에서 피크를 갖는 파장일 수 있다. 그러나, 블루, 그린, 레드 파장이 위 예시에 제한되는 것은 아니며, 본 기술분야에서 블루, 그린, 레드로 인식될 수 있는 파장 범위를 모두 포함하는 것으로 이해되어야 한다. The wavelength converting particles WCP1 and WCP2 may include a plurality of wavelength converting particles that convert incident light into different wavelengths. For example, the wavelength converting particle may include a first wavelength converting particle (WCP1) that converts incident light of a specific wavelength to a first wavelength and emits it, and a second wavelength converting particle (WCP2) that converts and emits the second wavelength. have. In an exemplary embodiment, the incident light may be a blue wavelength light, the first wavelength may be a green wavelength, and the second wavelength may be a red wavelength. For example, the blue wavelength may be a wavelength having a peak at 420 to 470 nm, the green wavelength may be a wavelength having a peak at 520 nm to 570 nm, and the red wavelength may be a wavelength having a peak at 620 nm to 670 nm. However, the blue, green, and red wavelengths are not limited to the above example, and should be understood to include all wavelength ranges that can be recognized as blue, green, and red in the art.

상기 예시적인 실시예에서, 패턴층(304)에 입사된 블루광은 패턴층(304)을 통과하면서 일부가 제1 파장 변환 입자(WCP1)에 입사하여 그린 파장으로 변환되어 방출되고, 다른 일부가 제2 파장 변환 입자(WCP2)에 입사하여 레드 파장으로 변환되어 방출되며, 나머지 일부는 제1 및 제2 파장 변환 입자(WCP1, WCP2)에 입사되지 않고 그대로 출사될 수 있다. 따라서, 패턴층(304)을 통과한 빛은 블루 파장의 빛, 그린 파장의 빛, 및 레드 파장의 빛을 모두 포함하게 된다. 방출되는 서로 다른 파장의 빛들의 비율을 적절하게 조절하면 백색광 또는 다른 색의 출사광을 표시할 수 있다. 패턴층(304)에 변환된 빛들은 좁은 범위의 특정 파장 내에 집중되고, 좁은 반치폭을 갖는 샤프한 스펙트럼을 갖는다. 따라서, 이와 같은 스펙트럼의 빛을 컬러 필터로 필터링하여 색상을 구현할 경우, 색재현성이 개선될 수 있다.In the exemplary embodiment, the blue light incident on the pattern layer 304 is partially incident on the first wavelength converting particle WCP1 while passing through the pattern layer 304, converted into a green wavelength, and emitted, and the other part is It is incident on the second wavelength conversion particle WCP2, is converted into a red wavelength, and is emitted, and some of the remainder may be emitted as it is without being incident on the first and second wavelength conversion particles WCP1 and WCP2. Accordingly, the light passing through the pattern layer 304 includes all of the blue wavelength light, the green wavelength light, and the red wavelength light. White light or outgoing light of different colors can be displayed by appropriately adjusting the ratio of the emitted light of different wavelengths. The light converted to the pattern layer 304 is concentrated within a specific wavelength in a narrow range, and has a sharp spectrum having a narrow half width. Accordingly, when color is implemented by filtering light of such a spectrum with a color filter, color reproducibility may be improved.

방출되는 빛의 비율은 제1 파장 변환 입자(WCP1)의 함량과 제2 파장 변환 입자(WCP2)의 함량비에 의해 조절될 수 있다. 예를 들어, 제1 파장 변환 입자(WCP1)의 함량이 상대적으로 많으면 제1 파장의 빛이 더 많이 방출되고, 제2 파장 변환 입자(WCP2)의 함량이 상대적으로 많으면 제2 파장의 빛이 더 많이 방출된다. 예시적인 실시예에서, 그린 파장에 관계된 제1 파장 변환 입자(WCP1)와 레드 파장에 관계된 제2 파장 변환 입자(WCP2)의 함량비는 5:1 내지 14:1일 수 있고, 나아가 8:1 내지 12:1의 범위 내에 있을 수 있다. The ratio of the emitted light may be adjusted by the content ratio of the first wavelength conversion particles WCP1 and the second wavelength conversion particles WCP2. For example, when the content of the first wavelength converting particles WCP1 is relatively large, light of the first wavelength is more emitted, and when the content of the second wavelength converting particles WCP2 is relatively large, the light of the second wavelength is more A lot is released. In an exemplary embodiment, the content ratio of the first wavelength converting particle WCP1 related to the green wavelength and the second wavelength converting particle WCP2 related to the red wavelength may be 5:1 to 14:1, and further 8:1 To 12:1.

상기 예시적인 실시예와는 달리, 입사광이 자외선광이고 이를 각각 블루, 그린, 레드 파장으로 변환하는 3 종류의 파장 변환 입자가 제1 패턴층(314) 및 제2 패턴층(324)의 내부에 배치되어 백색광을 출사할 수도 있다. Unlike the above exemplary embodiment, incident light is ultraviolet light, and three types of wavelength conversion particles that convert it into blue, green, and red wavelengths respectively are inside the first pattern layer 314 and the second pattern layer 324. It can also be arranged to emit white light.

제1 패턴층(314) 및 제2 패턴층(324)은 그 내부에 산란 입자(SCP)를 더 포함할 수 있다. 산란 입자(SCP)는 비양자점 입자로서, 파장 변환 기능이 없는 입자일 수 있다. 산란 입자(SCP)는 입사된 빛을 산란시켜 더 많은 입사광이 파장 변환 입자 측으로 입사될 수 있도록 한다. 뿐만 아니라, 산란 입자(SCP)는 파장별 빛의 출사각을 균일하게 제어하는 역할을 수행할 수 있다. 구체적으로 설명하면 일부의 입사광이 파장 변환 입자(WCP1, WCP2)에 입사된 후 파장이 변환되어 방출될 때, 그 방출 방향은 무작위인 산란 특성을 갖는다. 만약, 패턴층(304) 내에 산란 입자(SCP)가 없다면, 파장 변환 입자(WCP1, WCP2) 충돌 후 방출하는 그린, 레드 파장은 산란 방출 특성을 갖지만, 파장 변환 입자(WCP1, WCP2)의 충돌 없이 방출하는 블루 파장은 산란 방출 특성을 갖지 않아 출사 각도에 따라 블루/그린/레드 파장의 방출량이 상이해질 수 있다. 이에, 산란 입자(SCP)가 파장 변환 입자(WCP1, WCP2)에 충돌하지 않고 방출되는 블루 파장에 대해서도 산란 방출 특성을 부여함으로써, 파장별 빛의 출사각을 유사하게 조절시킬 수 있다. The first pattern layer 314 and the second pattern layer 324 may further include scattering particles (SCP) therein. Scattering particles (SCPs) are non-quantum point particles, and may be particles without a wavelength conversion function. The scattering particles (SCP) scatter the incident light so that more incident light can be incident on the wavelength conversion particle side. In addition, the scattering particles (SCP) may play a role of uniformly controlling the emission angle of light for each wavelength. Specifically, when some of the incident light is incident on the wavelength converting particles WCP1 and WCP2 and then the wavelength is converted and emitted, the emission direction has a random scattering characteristic. If there are no scattering particles (SCP) in the pattern layer 304, the green and red wavelengths emitted after the collision of the wavelength converting particles (WCP1, WCP2) have scattering emission characteristics, but without collision of the wavelength converting particles (WCP1, WCP2). Since the emitted blue wavelength does not have a scattered emission characteristic, the emission amount of the blue/green/red wavelength may be different according to the emission angle. Accordingly, by giving scattering emission characteristics to blue wavelengths emitted without colliding the scattering particles (SCP) with the wavelength conversion particles (WCP1, WCP2), it is possible to similarly control the emission angle of light for each wavelength.

파장 변환 효율과 산란 방출 특성 등을 효과적으로 발휘하기 위해 산란 입자(SCP)의 함량은 제1 및 제2 파장 변환 입자(WCP1, WCP2)의 함량(총합)보다 크거나 같은 것이 좋다. 그러나, 산란 입자(SCP)의 함량이 너무 많으면 패턴층(304)의 투과율을 저하시킬 수 있다. 예를 들어, 산란 입자(SCP)의 함량이 제1 및 제2 파장 변환 입자(WCP1, WCP2)의 함량의 6배를 초과할 경우, 투과율의 저하로 백라이트 어셈블리로 적용하기 부적절하다. 이와 같은 관점에서, 산란 입자(SCP)의 함량은 제1 및 제2 파장 변환 입자(WCP1, WCP2)의 함량(총합) 이상 제1 및 제2 파장 변환 입자(WCP1, WCP2)의 함량(총합)의 6배 이하의 범위를 가질 수 있다. In order to effectively exhibit wavelength conversion efficiency and scatter emission characteristics, the content of the scattering particles (SCP) is preferably greater than or equal to the content (total) of the first and second wavelength conversion particles (WCP1, WCP2). However, if the content of the scattering particles (SCP) is too large, the transmittance of the pattern layer 304 may be reduced. For example, when the content of the scattering particles (SCP) exceeds 6 times the content of the first and second wavelength conversion particles (WCP1, WCP2), it is inappropriate to apply to a backlight assembly due to a decrease in transmittance. From this point of view, the content of the scattering particles (SCP) is the content (total) of the first and second wavelength converting particles (WCP1, WCP2) or more (total) of the first and second wavelength converting particles (WCP1, WCP2) It may have a range of 6 times or less.

산란 입자(SCP)는 파장 변환 입자(WCP1, WCP2)보다 크기가 클 수 있다. 예를 들어, 산란 입자(SCP)로서 수십 nm 내지 수십 um 크기의 SiO2, TiO2, ZnO 등이 사용될 수 있다. SiO2의 경우 0.1um 내지 20um의 크기를 가질 수 있고, 일 실시예에서, 1.5um 내지 3.5um의 크기를 가질 수 있다. TiO2의 경우 0.05um 내지 5um의 크기를 가질 수 있고, 일 실시예에서, 0.19um 내지 0.48um의 크기를 가질 수 있다. ZnO의 경우 0.1um 내지 2um의 크기를 가질 수 있다. The scattering particles (SCP) may be larger in size than the wavelength conversion particles (WCP1, WCP2). For example, as the scattering particles (SCP), SiO2, TiO2, ZnO, etc. having a size of several tens of nm to tens of um may be used. SiO2 may have a size of 0.1um to 20um, and in one embodiment, may have a size of 1.5um to 3.5um. TiO2 may have a size of 0.05um to 5um, and in one embodiment, may have a size of 0.19um to 0.48um. In the case of ZnO, it may have a size of 0.1um to 2um.

도 6은 또 다른 실시예에 따른 패턴 시트의 단면도이다. 도 6의 실시예는 패턴 시트(10_5)의 패턴층(305)의 제2 패턴층(325)이 그 내부에 흡광 입자(LAP)를 포함하는 경우를 예시한다. 이와 같은 구조의 패턴 시트(10_5)는 프라이버시 시트 또는 명암비 향상 시트 등으로 적용될 수 있다.6 is a cross-sectional view of a pattern sheet according to another embodiment. 6 illustrates a case in which the second pattern layer 325 of the pattern layer 305 of the pattern sheet 10_5 includes light absorbing particles LAP therein. The pattern sheet 10_5 having such a structure may be applied as a privacy sheet or a contrast ratio improving sheet.

도 6을 참조하면, 제1 패턴층(315)의 제1 요철 표면과 제2 패턴층(325)의 제2 요철 표면은 각각 단면상 등각 사다리꼴 형상을 갖는다. 흡광 입자(LAP)는 제2 패턴층(325)의 내부에 배치된다. 흡광 입자(LAP)는 제1 패턴층(315)의 내부에는 배치되지 않는다. 이 경우 제2 패턴층(325)은 제2 기저부를 구비하지 않는 것이 바람직할 수 있다. 예시된 바와 달리, 흡광 입자(LAP)는 제1 패턴층(315) 내부에 배치되고, 제2 패턴층(325) 내부에는 배치되지 않을 수도 있다. Referring to FIG. 6, the first uneven surface of the first pattern layer 315 and the second uneven surface of the second pattern layer 325 each have an equilateral trapezoidal shape in cross section. The light absorbing particles LAP are disposed inside the second pattern layer 325. The light absorbing particles LAP are not disposed inside the first pattern layer 315. In this case, it may be preferable that the second pattern layer 325 does not have a second base portion. Unlike illustrated, the light absorbing particles LAP may be disposed inside the first pattern layer 315 and may not be disposed inside the second pattern layer 325.

도 7은 일 실시예에 따른 롤 형상의 패턴 시트의 단면도이다. 7 is a cross-sectional view of a roll-shaped pattern sheet according to an exemplary embodiment.

도 7을 참조하면, 패턴 시트(10R1)는 롤 형상으로 제조될 수 있다. 패턴 시트(10R1)가 표시 장치에 적용될 때에는 롤 형상의 패턴 시트(10R1)로부터 소정의 형상을 갖도록 절단될 수 있다. 절단된 패턴 시트는 직사각형 형상일 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다. Referring to FIG. 7, the pattern sheet 10R1 may be manufactured in a roll shape. When the pattern sheet 10R1 is applied to a display device, it may be cut from the roll-shaped pattern sheet 10R1 to have a predetermined shape. The cut pattern sheet may have a rectangular shape, but is not limited thereto.

롤 형상의 패턴 시트(10R1)에서, 길이 방향은 권취 또는 권출되는 방향이고, 폭 방향은 길이 방향에 수직한 방향이 된다. 상기 길이 방향은 롤 형상의 패턴 시트(10) 제조시 시트의 주행 방향에 해당하기 때문에 종방향 또는 MD(Machine Direction) 방향으로도 지칭될 수 있다. 상기 폭 방향은 MD 방향을 가로지르는 방향으로서, 횡방향 또는 TD(Transverse Direction) 방향으로도 지칭될 수 있다. 예시적인 실시예에서, 패턴 시트(10)의 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)의 프리즘 형상 연장 방향은 롤 형상의 패턴 시트(10)의 TD 방향이다. 롤 형상의 패턴 시트(10)의 TD 방향 폭은 1300mm 이상일 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다.In the roll-shaped pattern sheet 10R1, the longitudinal direction is a direction to be wound or unwound, and the width direction is a direction perpendicular to the longitudinal direction. Since the longitudinal direction corresponds to the running direction of the sheet when manufacturing the roll-shaped pattern sheet 10, it may also be referred to as a longitudinal direction or MD (Machine Direction) direction. The width direction is a direction crossing the MD direction, and may also be referred to as a transverse direction or a TD (Transverse Direction) direction. In an exemplary embodiment, a prism-shaped extension direction of the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 of the pattern sheet 10 is a TD direction of the roll-shaped pattern sheet 10. The width in the TD direction of the roll-shaped pattern sheet 10 may be 1300 mm or more, but is not limited thereto.

롤 형상의 패턴 시트(10)는 제1 패턴 영역(PTR1)과 제2 패턴 영역(PTR2)을 포함할 수 있다. 제1 패턴 영역(PTR1)은 도 1 내지 도 6을 통해 설명한 제1 패턴층(310)의 제1 표면 요철과 제2 패턴층(320)의 표면 요철이 정상적으로 형성된 정상 패턴 영역(또는 유효 패턴 영역)일 수 있다. 제2 패턴 영역(PTR2)은 제1 패턴층(310)의 제1 표면 요철과 제2 패턴층(320)의 제2 표면 요철이 다른 단면 구조를 갖는 영역으로, 더미 패턴 영역일 수 있다. 롤 형상의 패턴 시트(10)의 제2 패턴 영역(PTR2)은 표시 장치에는 적용되지 않을 수 있다. 즉, 표시 장치에 적용되는 패턴 시트(10)를 형성할 때 제2 패턴 영역(PTR2)은 제외하고 제1 패턴 영역(PTR1)만을 포함하도록 롤 형상의 패턴 시트(10R1)를 절단할 수 있다. 제2 패턴 영역(PTR2)에서 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)의 형상은 제1 패턴 영역(PTR1)과 다르지만, 제1 기재(100)와 제2 기재(200)의 높이(또는 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)을 합친 패턴층(300)의 전체 두께)는 제1 패턴 영역(PTR1)과 제2 패턴 영역(PTR2) 모두에서 균일할 수 있다. The roll-shaped pattern sheet 10 may include a first pattern area PTR1 and a second pattern area PTR2. The first pattern area PTR1 is a normal pattern area (or an effective pattern area) in which the first surface irregularities of the first pattern layer 310 and the surface irregularities of the second pattern layer 320 described through FIGS. 1 to 6 are normally formed. ) Can be. The second pattern region PTR2 is a region having a cross-sectional structure in which the first surface irregularities of the first pattern layer 310 and the second surface irregularities of the second pattern layer 320 are different, and may be a dummy pattern region. The second pattern area PTR2 of the roll-shaped pattern sheet 10 may not be applied to the display device. That is, when forming the pattern sheet 10 applied to the display device, the roll-shaped pattern sheet 10R1 may be cut to include only the first pattern area PTR1 except for the second pattern area PTR2. The shapes of the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 in the second pattern region PTR2 are different from the first pattern region PTR1, but the first and second substrates 100 and 200 have different shapes. The height (or the total thickness of the pattern layer 300 combined with the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320) may be uniform in both the first pattern region PTR1 and the second pattern region PTR2. have.

제2 패턴 영역(PTR2)은 이음부를 포함하는 소프트 몰드를 이용하여 롤 형상의 패턴 시트(10R1)를 형성한 결과물일 수 있다. 이하에서, 소프트 몰드를 이용하여 제1 패턴층(310)을 형성하는 과정에 대한 설명을 통해 제2 패턴 영역(PTR2)을 더욱 상세히 설명하기로 한다. The second pattern area PTR2 may be a result of forming the roll-shaped pattern sheet 10R1 using a soft mold including a joint. Hereinafter, the second pattern region PTR2 will be described in more detail through a description of a process of forming the first pattern layer 310 using a soft mold.

도 8은 일 실시예에 따른 소프트 몰드의 사시도이고, 도 9는 도 8의 IX-IX'선을 따라 자른 단면도로서, 소프트 몰드의 이음부의 단면도다. 도 10은 도 8의 소프트 몰드를 이용하여 패턴 시트를 제조하는 일 과정을 보여주는 단면도이다. FIG. 8 is a perspective view of a soft mold according to an exemplary embodiment, and FIG. 9 is a cross-sectional view taken along line IX-IX′ of FIG. 8, and is a cross-sectional view of a joint portion of the soft mold. 10 is a cross-sectional view showing a process of manufacturing a pattern sheet using the soft mold of FIG. 8.

도 8 내지 도 10을 참조하면, 제1 패턴층(310)의 제1 표면 요철은 소프트 몰드(20)를 이용하여 형성될 수 있다. 소프트 몰드(20)는 그 표면에 형성하고자 하는 대상 패턴과 상보적인 패턴을 갖는다. 제1 표면 요철을 갖는 제1 패턴층(도 1의 '310')은 제1 수지층에 제1 표면 요철의 상보적인 형상을 갖는 소프트 몰드(20)의 표면 패턴이 접하도록 가압하고(임프틴트), 제1 수지층을 경화함으로써 형성될 수 있다. 다른 예로, 제1 표면 요철의 상보적인 형상을 갖는 소프트 몰드(20)의 표면 패턴에 제1 수지를 공급하여 제1 수지층을 형성한 후 경화하여 제1 표면 요철을 갖는 제1 패턴층(310)을 형성할 수도 있다. 제1 수지는 소프트 몰드(20)의 표면 패턴 상에 공급되거나, 제1 기재(100)의 상면 상에 공급될 수 있고, 소프트 몰드(20)의 표면 패턴과 제1 기재(100)의 상면 모두에 동시, 또는 순차적으로 공급될 수도 있다. 소프트 몰드(20)는 하드 몰드인 원통형 또는 판형 금속 몰드로부터 복제되어 제조될 수 있다.8 to 10, the first surface irregularities of the first pattern layer 310 may be formed using the soft mold 20. The soft mold 20 has a pattern complementary to a target pattern to be formed on its surface. The first pattern layer ('310' in FIG. 1) having the first surface irregularities is pressed so that the surface pattern of the soft mold 20 having a complementary shape of the first surface irregularities comes into contact with the first resin layer (Imptint ), it can be formed by curing the first resin layer. As another example, a first resin layer is formed by supplying a first resin to the surface pattern of the soft mold 20 having a complementary shape of the first surface irregularities, and then cured to form the first pattern layer 310 having the first surface irregularities. ) Can also be formed. The first resin may be supplied on the surface pattern of the soft mold 20 or may be supplied on the upper surface of the first substrate 100, and both the surface pattern of the soft mold 20 and the upper surface of the first substrate 100 It may be supplied simultaneously or sequentially. The soft mold 20 may be reproduced and manufactured from a cylindrical or plate-shaped metal mold that is a hard mold.

소프트 몰드(20)는 하드 몰드와는 달리 그 자체가 시트 형상일 수 있다. 소프트 몰드(20)는 몰드 기재(21) 및 몰드 기재(21) 상에 배치된 몰드 패턴(22)을 포함할 수 있다. 소프트 몰드(20)의 길이 방향 양 단부는 서로 연결되어 루프 형상을 이룰 수 있다. 루프 형상의 소프트 몰드(20)는 가이드롤(GR)에 걸쳐져 회전할 수 있다. 즉, 소프트 몰드(20)의 특정 위치는 루프 형상을 따라 길이 방향으로 이동할 수 있다. 소프트 몰드(20)의 특정 위치는 제1 수지 공급 유닛(RPD1)를 지나면서 표면 상에 제1 수지층을 공급받은 상태에서 이동한 후, 제1 라미네이션부(PRR1, DRR)에서 제1 기재(100)와 만나 제1 수지층이 제1 기재(100) 측으로 전사될 수 있다. Unlike the hard mold, the soft mold 20 may itself be in a sheet shape. The soft mold 20 may include a mold substrate 21 and a mold pattern 22 disposed on the mold substrate 21. Both ends of the soft mold 20 in the longitudinal direction may be connected to each other to form a loop shape. The loop-shaped soft mold 20 may be rotated while being over the guide roll GR. That is, the specific position of the soft mold 20 may move in the longitudinal direction along the loop shape. The specific position of the soft mold 20 is moved while being supplied with the first resin layer on the surface while passing through the first resin supply unit RPD1, and then in the first lamination unit PRR1, DRR. 100), the first resin layer may be transferred to the first substrate 100 side.

한편, 소프트 몰드(20)의 표면 형상은 길이 방향을 따라 균일한 반복적인 패턴을 갖지만, 루프 형상을 만들기 위해 형성된 이음부(CNR)에서는 다른 패턴을 가질 수 있다. 구체적으로, 소프트 몰드(20)는 이음부(CNR)에 배치된 제1 접착 테이프(23)를 더 포함할 수 있다. 시트 타입의 소프트 몰드(20)의 양 단부는 제1 접착 테이프(23)를 통해 부착되어 연결될 수 있다. 제1 접착 테이프(23)는 소프트 몰드(20)의 몰드 패턴(22) 상면에 배치될 수 있다. 제1 접착 테이프(23)는 몰드 패턴(22) 상에 배치되므로, 제1 접착 테이프(23)의 표면은 몰드 패턴(22)의 산부보다 두께 방향으로 돌출될 수 있다. 따라서, 소프트 몰드(20)의 표면 형상은 이음부(CNR)에서 두께 방향으로 더 돌출될 수 있다. 임프린트 과정에서 소프트 몰드(20)의 철부는 제1 패턴층(310)의 요부로, 소프트 몰드(20)의 요부는 제1 패턴층(310)의 철부로 전사되므로, 이와 같은 소프트 몰드(20)를 이용하여 임프린트를 수행하면 이음부(CNR)에 의해 가압된 제1 패턴층(310)은 더 두께가 얇은 요부를 가질 수 있다. On the other hand, the surface shape of the soft mold 20 has a uniform repeating pattern along the length direction, but the joint portion CNR formed to form a loop shape may have a different pattern. Specifically, the soft mold 20 may further include a first adhesive tape 23 disposed on the joint CNR. Both ends of the sheet-type soft mold 20 may be attached and connected through the first adhesive tape 23. The first adhesive tape 23 may be disposed on the upper surface of the mold pattern 22 of the soft mold 20. Since the first adhesive tape 23 is disposed on the mold pattern 22, the surface of the first adhesive tape 23 may protrude in the thickness direction from the peak of the mold pattern 22. Accordingly, the surface shape of the soft mold 20 may further protrude from the joint CNR in the thickness direction. During the imprinting process, the convex portion of the soft mold 20 is transferred to the concave portion of the first pattern layer 310 and the convex portion of the soft mold 20 is transferred to the convex portion of the first pattern layer 310. When imprinting is performed by using, the first pattern layer 310 pressed by the joint CNR may have a concave portion having a thinner thickness.

몇몇 실시예에서, 소프트 몰드(20)는 몰드 기재(21) 하면에 배치된 제2 접착 테이프(24)를 더 포함할 수 있다. 제2 접착 테이프(24)는 생략될 수도 있다. In some embodiments, the soft mold 20 may further include a second adhesive tape 24 disposed on the lower surface of the mold substrate 21. The second adhesive tape 24 may be omitted.

소프트 몰드(20)의 이음부(CNR)에 의해 가압된 제1 패턴층(310)은 도 7의 제2 패턴 영역(PTR2)에 해당되는데, 제2 패턴 영역(PTR2)에서 제1 패턴층(310)의 두께(요부의 두께)는 제1 패턴 영역(PTR1)에서 제1 패턴층(310)의 요부(골) 두께보다 더 작을 수 있다. 제2 패턴 영역(PTR2)의 길이(길이 방향의 폭)는 제1 패턴 영역(PTR1)의 반복 패턴 피치보다 크며, 예를 들어, 단위 프리즘 폭(MD 방향의 폭)의 100배 내지 500배의 범위일 수 있다. 도 7의 롤 형상의 패턴 시트(10R1)에서 제1 패턴 영역(PTR1)과 제2 패턴 영역(PTR2)은 길이 방향을 따라 일정한 주기로 교대 배치될 수 있다. The first pattern layer 310 pressed by the joint portion CNR of the soft mold 20 corresponds to the second pattern area PTR2 of FIG. 7, and the first pattern layer 310 in the second pattern area PTR2 The thickness of 310 (the thickness of the recess) may be smaller than the thickness of the recess (valley) of the first pattern layer 310 in the first pattern area PTR1. The length (width in the length direction) of the second pattern area PTR2 is larger than the repeating pattern pitch of the first pattern area PTR1, for example, 100 times to 500 times the unit prism width (width in the MD direction). It can be a range. In the roll-shaped pattern sheet 10R1 of FIG. 7, the first pattern area PTR1 and the second pattern area PTR2 may be alternately disposed at a predetermined period along the length direction.

도 11은 다른 실시예에 따른 소프트 몰드의 사시도이고, 도 12는 도 11의 XII-XII'선을 따라 자른 단면도로서, 이음부의 단면도이다. 도 13은 도 11의 소프트 몰드를 이용하여 형성된 롤 형상의 패턴 시트의 단면도이다. 11 is a perspective view of a soft mold according to another embodiment, and FIG. 12 is a cross-sectional view taken along line XII-XII' of FIG. 11 and is a cross-sectional view of a joint. 13 is a cross-sectional view of a roll-shaped pattern sheet formed by using the soft mold of FIG. 11.

도 11 및 도 12를 참조하면, 본 실시예에 다른 소프트 몰드(20_1)는 이음부(CNR)가 레이저 용접에 의해 이루어진 점에서 도 8의 실시예와 상이하다. 이음부(CNR)에서 몰드 기판의 양 단부는 레이저 용접을 통해 융착되어 있을 수 있다. 상기 레이저 용접에 사용되는 레이저는 알렉산드리트 레이저(Alexandrite laser), 다이오드 레이저(Diode Laser), Nd:YAG 레이저(Nd:YAG Laser) 등을 들 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다. 이음부(CNR)에서 몰드 기재(21)의 상면에는 소정 구간 몰드 패턴(22)이 완전히 제거되어 있거나, 도면에서 도시된 바와 같이 몰드 패턴(22) 산부의 두께보다 작은 몰드 패턴(22) 잔류층이 배치되어 있을 수 있다. 몰드 패턴(22) 잔류층은 몰드 패턴(22)과 몰드 기재(21)를 레이저 용접 처리하여 남은 잔류층일 수 있다. 이음부(CNR)에서 몰드 기재(21)의 하면에는 제2 접착 테이프(24)가 배치될 수 있다. 제2 접착 테이프(24)는 레이저 용접이 완료된 후 제거될 수도 있다. 11 and 12, the soft mold 20_1 according to the present embodiment is different from the embodiment of FIG. 8 in that the joint portion CNR is formed by laser welding. Both ends of the mold substrate in the joint CNR may be fused through laser welding. The laser used for laser welding may include, but is not limited to, an Alexandrite laser, a diode laser, and an Nd:YAG laser. The mold pattern 22 for a predetermined section is completely removed from the upper surface of the mold substrate 21 in the joint CNR, or a residual layer of the mold pattern 22 smaller than the thickness of the peak of the mold pattern 22 as shown in the drawing May have been placed. The residual layer of the mold pattern 22 may be a residual layer remaining by laser welding the mold pattern 22 and the mold substrate 21. A second adhesive tape 24 may be disposed on the lower surface of the mold substrate 21 in the joint CNR. The second adhesive tape 24 may be removed after laser welding is completed.

도 12의 소프트 몰드(20_1)의 이음부(CNR)는 도 9의 소프트 몰드(20)의 이음부(CNR)와는 달리 몰드 패턴(22) 잔류층이 주변의 몰드 패턴(22)으로부터 함몰될 수 있다. 일 실시예에서, 소프트 몰드(20_1)의 몰드 패턴(22) 잔류층의 두께는 몰드 패턴(22) 산부의 두께보다 작고, 몰드 패턴(22) 골부의 두께보다 크거나 같을 수 있지만 이에 제한되는 것은 아니다. In the joint CNR of the soft mold 20_1 of FIG. 12, unlike the joint CNR of the soft mold 20 of FIG. 9, the residual layer of the mold pattern 22 may be recessed from the surrounding mold pattern 22. have. In one embodiment, the thickness of the remaining layer of the mold pattern 22 of the soft mold 20_1 may be smaller than the thickness of the peak of the mold pattern 22 and may be greater than or equal to the thickness of the valley of the mold pattern 22, but is limited thereto. no.

도 13을 참조하면, 도 11의 소프트 몰드(20_1)를 이용하여 롤 형상의 패턴 시트(10R2)를 제조할 경우, 제1 패턴 영역(PTR1)의 제1 패턴층(310)의 형상은 도 7의 실시예와 동일하지만, 제2 패턴 영역(PTR2)의 제1 패턴층(310)의 형상은 도 7의 실시예와는 달리 함몰된 이음부(CNR)의 형상이 전사되어 소정 두께를 가질 수 있다. 제2 패턴 영역(PTR2)의 제1 패턴층(310)의 두께는 제1 패턴 영역(PTR1)의 제1 패턴층(310)의 골부 두께보다 크고, 산부 두께보다 작거나 같을 수 있다. 다른 예로, 제2 패턴 영역(PTR2)의 제1 패턴층(310)의 두께는 제1 패턴 영역(PTR1)의 산부 두께보다 클 수도 있다. 제2 패턴 영역(PTR2)의 길이(길이 방향의 폭)는 제1 패턴 영역(PTR1)의 프리즘 반복 패턴 피치보다 크며, 예를 들어, 단위 프리즘 폭(MD 방향의 폭)의 5배 내지 50배의 범위일 수 있다. Referring to FIG. 13, when manufacturing the roll-shaped pattern sheet 10R2 using the soft mold 20_1 of FIG. 11, the shape of the first pattern layer 310 of the first pattern area PTR1 is FIG. 7. It is the same as the embodiment of, but the shape of the first pattern layer 310 of the second pattern area PTR2 is different from the embodiment of FIG. 7, and the shape of the concave joint CNR is transferred to have a predetermined thickness. have. The thickness of the first pattern layer 310 of the second pattern area PTR2 may be greater than the thickness of the valleys of the first pattern layer 310 of the first pattern area PTR1 and less than or equal to the thickness of the peaks. As another example, the thickness of the first pattern layer 310 of the second pattern area PTR2 may be greater than the thickness of the peak of the first pattern area PTR1. The length (width in the length direction) of the second pattern area PTR2 is larger than the prism repeat pattern pitch of the first pattern area PTR1, for example, 5 to 50 times the unit prism width (width in the MD direction) It can be in the range of.

도 14는 또 다른 실시예에 따른 소프트 몰드의 사시도이다. 도 15는 도 14의 XV-XV'선을 따라 자른 단면도이다. 도 16은 도 14의 XVI-XVI'선을 따라 자른 단면도이다. 도 17은 도 14의 소프트 몰드를 이용하여 형성된 롤 형상의 패턴 시트(10)의 단면도이다.14 is a perspective view of a soft mold according to another embodiment. 15 is a cross-sectional view taken along line XV-XV' of FIG. 14. 16 is a cross-sectional view taken along line XVI-XVI' of FIG. 14. 17 is a cross-sectional view of a roll-shaped pattern sheet 10 formed by using the soft mold of FIG. 14.

본 실시예는 패턴 시트(10R3)의 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)의 프리즘 형상 연장 방향이 롤 형상의 패턴 시트(10)의 MD 방향인 경우를 예시한다. 도 17을 참조하면, 롤 형상의 패턴 시트(10R3)는 제1 패턴 영역(PTR1)과 제2 패턴 영역(PTR2)을 포함하며, 각 프리즘 패턴은 제1 패턴 영역(PTR1)의 길이 방향을 따라 연장되다가 제2 패턴 영역(PTR2)에 이르러 단절될 수 있다. 제2 패턴 영역(PTR2)의 길이(길이 방향의 폭)는 제1 패턴 영역(PTR1)의 프리즘 반복 패턴 피치보다 크며, 예를 들어, 단위 프리즘 폭(TD 방향의 폭)의 5배 내지 50배의 범위일 수 있다. This embodiment exemplifies a case where the prism-shaped extension direction of the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 of the pattern sheet 10R3 is the MD direction of the roll-shaped pattern sheet 10. Referring to FIG. 17, the roll-shaped pattern sheet 10R3 includes a first pattern area PTR1 and a second pattern area PTR2, and each prism pattern is formed along the length direction of the first pattern area PTR1. It may be extended and then disconnected to reach the second pattern area PTR2. The length (width in the length direction) of the second pattern area PTR2 is greater than the prism repeating pattern pitch of the first pattern area PTR1, for example, 5 to 50 times the unit prism width (width in the TD direction) It can be in the range of.

도 14를 참조하면, 소프트 몰드(20_2)는 양 단부가 이음부(CNR)를 통해 연결된다. 소프트 몰드(20_2) 몰드 패턴(22)의 프리즘 형상은 루프 방향을 따라 연장된다. 도 14에서는 소프트 몰드(20_2)의 양 단부를 제1 접착 테이프(23) 및 제2 접착 테이프(24)를 통해 부착하여 연결한 경우가 예시되어 있다. 그러나, 이에 제한되지 않고, 도 12의 실시예에서처럼 레이저에 의해 융착될 수도 있다. Referring to FIG. 14, both ends of the soft mold 20_2 are connected through a joint CNR. The prism shape of the soft mold 20_2 mold pattern 22 extends along the loop direction. 14 illustrates a case in which both ends of the soft mold 20_2 are attached and connected through the first adhesive tape 23 and the second adhesive tape 24. However, the present invention is not limited thereto, and may be fused by a laser as in the embodiment of FIG. 12.

예시된 바와는 달리, 패턴 시트(10R3)의 제1 패턴층(310)과 제2 패턴층(320)의 프리즘 형상 연장 방향은 롤 형상의 패턴 시트(10R3)의 MD 방향 및 TD 방향에 대해 경사질 수도 있다. 예를 들어, 프리즘 형상 연장 방향은 MD 방향을 기준으로 1° 내지 30°의 각도를 갖거나, 60° 내지 89°의 각도를 가질 수 있다.Unlike illustrated, the prism-shaped extension directions of the first pattern layer 310 and the second pattern layer 320 of the pattern sheet 10R3 are inclined with respect to the MD and TD directions of the roll-shaped pattern sheet 10R3. You can lose. For example, the prism shape extension direction may have an angle of 1° to 30° or an angle of 60° to 89° based on the MD direction.

상술한 바와 같이, 롤 형상의 패턴 시트(10R1, 10R2, 10R3)는 상기한 바와 같은 소프트 몰드(20, 20_1, 20_2)를 이용하여 제1 기재(100)의 상면에 제1 패턴층(310)을 형성하고, 이후 제1 패턴층(310) 상면 상에 제2 패턴층(320)과 제2 기재(200)를 형성함으로써 완성될 수 있다. 시트들의 제조 공정에서 코팅이나 패턴 형성 공정이 비연속적으로 진행될 경우, 중간 코팅이 마무리된 시트는 롤 형상으로 권취된 상태로 운반이나 보관될 수 있다. 예를 들어, 상기한 바와 같은 소프트 몰드(20, 20_1, 20_2)를 이용하여 제1 기재(100)의 상면에 제1 패턴층(310)을 형성한 중간 구조물을 롤 형상으로 권취하여 운반 및/또는 보관할 수 있다. 이 경우, 권취된 롤 형상의 시트는 권취된 부분에서 제1 패턴층(310)의 상면과 제1 기재(100)의 하면이 대향할 수 있다. 권취 과정에서 시트는 두께 방향으로 압력을 받을 수 있는데, 제2 패턴 영역(PTR2)에 해당하는 부분은 제1 패턴 영역(PTR1)에 비해 길이(길이 방향의 폭)가 작을 뿐만 아니라, 패턴 형상도 상이하므로, 제2 패턴 영역(PTR2)의 제1 패턴층(310)은 귄취에 의해 중첩하여 대향하는 제1 기재(100)의 하면에 영향을 줄 수 있고, 이로 인하여 권취시 제1 기재(10)의 하면과 대향하는 제1 패턴층(310)의 상면에도 영향을 줄 수 있다.As described above, the roll-shaped pattern sheets 10R1, 10R2, and 10R3 use the soft molds 20, 20_1, and 20_2 as described above, and the first pattern layer 310 is formed on the upper surface of the first substrate 100. And then forming the second pattern layer 320 and the second substrate 200 on the upper surface of the first pattern layer 310. When the coating or pattern forming process is discontinuously performed in the manufacturing process of the sheets, the sheet on which the intermediate coating is finished may be transported or stored in a rolled state. For example, the intermediate structure in which the first pattern layer 310 is formed on the upper surface of the first substrate 100 using the soft molds 20, 20_1, 20_2 as described above is wound in a roll shape and transported and/ Or you can keep it. In this case, in the rolled sheet, the upper surface of the first pattern layer 310 and the lower surface of the first substrate 100 may face each other in the wound portion. During the winding process, the sheet may receive pressure in the thickness direction, and the portion corresponding to the second pattern area PTR2 is not only smaller in length (width in the length direction) than the first pattern area PTR1, but also has a pattern shape. Since they are different, the first pattern layer 310 of the second pattern area PTR2 may be overlapped by winding to affect the lower surface of the opposed first substrate 100, and thus, the first substrate 10 The upper surface of the first pattern layer 310 facing the lower surface of) may also be affected.

예를 들어, 도 7에 도시된 제1 패턴층(310)을 형성하고 권취하는 경우, 제2 패턴 영역(PTR2)의 돌출 부위가 대향하는 제1 기재(100)의 하면을 가압하여 권취시 제1 기재(100)의 하면과 대향하는 제1 패턴층(310)에 눌림 불량을 야기할 수 있다. 도 13에 도시된 제1 패턴층(310)을 형성하고 권취하는 경우, 제2 패턴 영역(PTR2)의 함몰 부위 측으로 제1 기재(100)의 하면이 가압되어 권취시 제1 기재(100)의 하면과 대향하는 제1 패턴층(310)에 눌림 불량이 야기될 수 있다. 제2 패턴 영역(PTR2)은 표시 장치의 패턴 시트(10)로 적용될 때에는 제거되어 사용되지 않지만, 권취 과정에서 정상적인 패턴을 갖는 제1 패턴 영역(PTR1)에 영향을 줄 수 있고, 그 결과 제1 패턴 영역(PTR1)이 휘어지거나 변형될 수 있으며, 패턴 시트(10)의 선형 얼룩 불량이 발생할 수 있다. For example, when the first pattern layer 310 shown in FIG. 7 is formed and wound, the protruding portion of the second pattern area PTR2 presses the lower surface of the first substrate 100 opposite to 1 A pressing failure may be caused in the first pattern layer 310 facing the lower surface of the substrate 100. When the first pattern layer 310 shown in FIG. 13 is formed and wound, the lower surface of the first substrate 100 is pressed toward the recessed portion of the second pattern area PTR2, so that the first substrate 100 is wound. Defects in pressing may be caused in the first pattern layer 310 facing the lower surface. The second pattern area PTR2 is removed and not used when applied to the pattern sheet 10 of the display device, but may affect the first pattern area PTR1 having a normal pattern during the winding process. As a result, the first pattern area PTR2 The pattern area PTR1 may be bent or deformed, and a linear unevenness defect of the pattern sheet 10 may occur.

이와 같은 소프트 몰드(20, 20_1, 20_2)의 이음부(CNR)에 의한 영향력을 최소화하기 위해 이하에서 제1 패턴층(310)을 형성한 후 권취하는 공정 없이 연속 공정으로 제2 패턴층(320)을 형성하는 방법이 제안된다. In order to minimize the influence of the joint portion CNR of the soft molds 20, 20_1, and 20_2, the second pattern layer 320 is formed in a continuous process without a process of forming and winding the first pattern layer 310 below. ) Is proposed.

도 18은 일 실시예에 따른 패턴 시트의 제조 방법의 순서도이다. 도 18에 도시된 바와 같이, 패턴 시트의 제조 방법은 제1 기재(100)의 상면에 제1 패턴층(310)을 형성하는 단계(S1), 및 권취 공정 없이 연속 공정으로 제1 패턴층(310) 상에 제2 패턴층(320)을 형성하는 단계(S2)를 포함할 수 있다.18 is a flowchart of a method of manufacturing a pattern sheet according to an exemplary embodiment. As shown in FIG. 18, the method of manufacturing a pattern sheet includes a step of forming the first pattern layer 310 on the upper surface of the first substrate 100 (S1), and the first pattern layer ( 310) may include forming the second pattern layer 320 (S2).

도 19는 일 실시예에 따른 패턴 시트의 제조 장치 및 공정도를 나타낸 개략도이다.19 is a schematic diagram showing an apparatus and process diagram for manufacturing a patterned sheet according to an exemplary embodiment.

도 19를 참조하면, 일 실시예에 따른 패턴 시트의 제조 장치(50)는 제1 패턴층 형성부(PTS1)와 제2 패턴층 형성부(PTS2)를 포함한다. Referring to FIG. 19, an apparatus 50 for manufacturing a pattern sheet according to an exemplary embodiment includes a first pattern layer forming part PTS1 and a second pattern layer forming part PTS2.

제1 패턴층 형성부(PTS1)는 소프트 몰드(20), 제1 수지 공급 유닛(RPD1) 및 제1 경화 장치(PCR1, MCR1)를 포함할 수 있다. 제1 패턴층 형성부(PTS1)는 가이드롤(GR), 제1 라미네이션부(PRR1, DRR) 및/또는 제1 기재 제공부(SPD1)를 더 포함할 수 있다. 제1 기재 제공부(SPD1)의 제1 기재는 상기 제1 기재 타면에 하나 이상의 패턴층 또는 기능층이 형성된 완제품이거나, 패턴 시트의 제조 장치(50)에 의해 제작된 또 다른 패턴 시트 일 수 있으며, 이 경우 제1 기재 타면에는 상술한 제1 패턴층, 제2 패턴층 및 제2 기재에 대응되는 구성이 형성되어 있을 수 있다.The first pattern layer forming part PTS1 may include a soft mold 20, a first resin supply unit RPD1, and a first curing device PCR1 and MCR1. The first pattern layer forming part PTS1 may further include a guide roll GR, first lamination parts PRR1 and DRR, and/or a first substrate providing part SPD1. The first substrate of the first substrate providing unit (SPD1) may be a finished product in which one or more pattern layers or functional layers are formed on the other surface of the first substrate, or may be another pattern sheet manufactured by the pattern sheet manufacturing apparatus 50. In this case, a configuration corresponding to the above-described first pattern layer, second pattern layer, and second substrate may be formed on the other surface of the first substrate.

소프트 몰드(20)는 몰드 기재(21)의 하면 측이 가이드롤(GR) 및 드럼롤(DRR)에 걸쳐져 루프 형상을 이룰 수 있다. The soft mold 20 may have a loop shape with the lower surface side of the mold base material 21 spanning the guide roll GR and the drum roll DRR.

소프트 몰드(20)의 주행 경로 상에는 제1 수지 공급 유닛(RPD1)이 배치될 수 있다. 제1 수지 공급 유닛(RPD1)은 소프트 몰드(20)의 몰드 패턴(22) 상에 제1 수지를 공급한다. 제1 수지 공급 유닛(RPD1)은 적어도 하나의 제1 수조(BTH1)와 적어도 하나의 제1 코팅롤(SMR1)을 포함할 수 있다. 제1 코팅롤(SMR1)은 표면에 고무 또는 우레탄 재질 등으로 이루어진 탄성층을 구비할 수 있다. 제1 수조(BTH1)는 제1 수지를 함유할 수 있다. 제1 수지는 광경화성 물질을 포함할 수 있다. 제1 패턴층(310)이 내부에 입자를 포함하는 실시예의 경우, 제1 수지 또한 해당 입자를 포함할 수 있을 것이다.The first resin supply unit RPD1 may be disposed on the traveling path of the soft mold 20. The first resin supply unit RPD1 supplies the first resin onto the mold pattern 22 of the soft mold 20. The first resin supply unit RPD1 may include at least one first water tank BTH1 and at least one first coating roll SMR1. The first coating roll SMR1 may have an elastic layer made of rubber or urethane material on its surface. The first water tank BTH1 may contain a first resin. The first resin may contain a photocurable material. In the case where the first pattern layer 310 includes particles therein, the first resin may also include the particles.

제1 코팅롤(SMR1)은 제1 수조(BTH1)와 소프트 몰드(20) 사이에 배치될 수 있다. 구체적으로, 제1 수조(BTH1)가 하부에 배치되고, 그 상부에 제1 코팅롤(SMR1)이 배치되며, 제1 코팅롤(SMR1)의 상부에 몰드 패턴(22)의 상면이 제1 코팅롤(SMR1)을 향하도록 소프트 몰드(20)가 배치될 수 있다. 제1 코팅롤(SMR1)은 회전 가능하도록 설치될 수 있다. 제1 코팅롤(SMR1)은 제1 수조(BTH1)의 제1 수지 및 소프트 몰드(20)의 몰드 패턴(22)에 접하도록 배치되며, 표면 상에 제1 수조(BTH1)로부터 제1 수지를 공급받아 소프트 몰드(20)의 이송 방향과 동일한 방향으로 회전하며 이를 몰드 패턴(22)의 상면으로 전사하는 역할을 할 수 있다. The first coating roll SMR1 may be disposed between the first water tank BTH1 and the soft mold 20. Specifically, the first water tank BTH1 is disposed below, the first coating roll SMR1 is disposed thereon, and the upper surface of the mold pattern 22 is first coated on the first coating roll SMR1. The soft mold 20 may be disposed to face the roll SMR1. The first coating roll SMR1 may be installed to be rotatable. The first coating roll SMR1 is disposed so as to contact the first resin of the first tank BTH1 and the mold pattern 22 of the soft mold 20, and transfers the first resin from the first tank BTH1 on the surface. It is supplied and rotates in the same direction as the transport direction of the soft mold 20 and may serve to transfer it to the upper surface of the mold pattern 22.

제1 코팅롤(SMR1)은 복수일 수 있다. 복수의 제1 코팅롤(SMR1)들은 인접하여 배치될 수 있다. 소프트 몰드(20)는 복수의 제1 코팅롤(SMR1)들을 순차적으로 지나면서 각 제1 코팅롤(SMR1)로부터 제1 수지를 순차 공급받을 수 있다. 소프트 몰드(20)가 여러 제1 코팅롤(SMR1)들로부터 소량씩 제1 수지를 공급받으면, 하나의 제1 코팅롤(SMR1)로부터 다량의 제1 수지를 한번에 공급받는 것에 비해 기포 생성이 억제될 수 있다. The first coating roll SMR1 may be plural. The plurality of first coating rolls SMR1 may be disposed adjacent to each other. The soft mold 20 may sequentially receive a first resin from each of the first coating rolls SMR1 while passing through the plurality of first coating rolls SMR1 in sequence. When the soft mold 20 receives a small amount of the first resin from several first coating rolls (SMR1), the generation of air bubbles is suppressed compared to receiving a large amount of first resin from one first coating roll (SMR1) at once. Can be.

제1 기재 제공부(100)는 제1 기재롤을 포함한다. 제1 기재롤로부터 권출된 제1 기재(100)는 가이드롤(GR)을 따라 이송되어 제1 라미네이션부(PRR1, DRR)로 이동한다. 제1 라미네이션부는 제1 압착롤(PRR1)과 드럼롤(DRR)을 포함할 수 있다. 제1 기재(100)는 드럼롤(DRR)과 그 상부에서 드럼롤(DRR)에 소정 간격 이격되어 배치된 제1 압착롤(PRR1) 사이 공간을 지나면서 드럼롤(DRR) 상에서 이동하는 소프트 몰드(20)에 근접하게 되고, 소프트 몰드(20)의 몰드 패턴(22) 상에 배치된 제1 수지와 접촉할 수 있다. 접촉한 제1 수지는 소프트 몰드(20)로부터 제1 기재(100)의 상면으로 전사될 수 있으며, 이후에 기술되는 복수의 경화 공정을 통하여 제1 패턴층(310)이 형성될 수 있다. 또한, 제1 압착롤(PRR1)의 최하단부는 드럼롤(DRR)의 최상단부 보다 낮은 높이에 위치되도록 상호 어슷하게 배치될 수 있으며, 도면에 도시되지는 않았지만, 제1 압착롤(PRR1)과 드럼롤(DRR) 사이에는 소프트 몰드(20)의 폭보다 좁은 간격으로 2개의 댐(가스켓)과 하나 이상의 석션(suction)을 구비함으로써, 제1 패턴층(310) 형성시 남는 제1 수지가 소프트 몰드(20)의 측면으로 새어나가 소프트 몰드(20) 또는 제1 패턴층(310)에 불량이 발생되는 것을 방지할 수 있다. 제1 패턴층(310)의 두께(t10)는 드럼롤(DRR)과 제1 압착롤(PRR1)의 간격에 의해 조절될 수 있다. 구체적으로, 드럼롤(DRR)과 제1 압착롤(PRR1)의 간격에 따라 제1 기저부의 두께(t11)가 조절될 수 있다. 소프트 몰드(20)의 원활한 순환을 위하여 상기 드럼롤(DRR)의 표면에는 고무 또는 우레탄 재질의 탄성층을 구비할 수 있다.The first substrate providing unit 100 includes a first substrate roll. The first substrate 100 unwound from the first substrate roll is transported along the guide roll GR to move to the first lamination portions PRR1 and DRR. The first lamination part may include a first pressing roll PRR1 and a drum roll DRR. The first substrate 100 is a soft mold that moves on the drum roll DRR while passing through the space between the drum roll DRR and the first pressing roll PRR1 disposed at a predetermined distance apart from the drum roll DRR at the top thereof. It approaches 20 and may contact the first resin disposed on the mold pattern 22 of the soft mold 20. The first resin in contact may be transferred from the soft mold 20 to the upper surface of the first substrate 100, and the first pattern layer 310 may be formed through a plurality of curing processes described later. In addition, the lowermost end of the first compression roll (PRR1) may be disposed similarly to each other to be positioned at a lower height than the uppermost end of the drum roll (DRR), although not shown in the drawing, the first compression roll (PRR1) and the drum Two dams (gaskets) and one or more suctions are provided between the rolls DRR at an interval narrower than the width of the soft mold 20, so that the first resin remaining when the first pattern layer 310 is formed is a soft mold. It is possible to prevent the occurrence of defects in the soft mold 20 or the first pattern layer 310 by leaking out to the side of (20). The thickness t10 of the first pattern layer 310 may be adjusted by the interval between the drum roll DRR and the first compression roll PRR1. Specifically, the thickness t11 of the first base portion may be adjusted according to the distance between the drum roll DRR and the first pressing roll PRR1. For smooth circulation of the soft mold 20, an elastic layer made of rubber or urethane may be provided on the surface of the drum roll DRR.

소프트 몰드(20)로부터 전사된 제1 수지는 제1 경화 장치(PCR1, MCR1)를 통해 경화될 수 있다. 제1 경화 장치(PCR1, MCR1)는 제1 가경화 장치(PCR1) 및 제1 본경화 장치(MCR1)를 포함할 수 있다. 제1 가경화 장치(PCR1)는 저압 UV를 조사하고, 제1 본경화 장치(MCR1)는 그보다 높은 광량의 고압 UV를 조사할 수 있다. 제1 가경화 장치(PCR1)는 드럼롤(DRR) 부근에 배치되어, 제1 수지가 제1 기재(100)의 상면으로 전사되는 것과 동시에 또는 그 직후에 제1 수지를 가경화할 수 있다. 제1 본경화 장치(MCR1)는 제1 기재(100)의 주행 경로 상에 배치되어 가경화된 제1 수지를 완전 경화하여 제1 패턴층(310)을 형성한다. 그에 따라, 제1 기재(100) 및 그 상면에 제1 패턴층(310)이 형성된 1차 패턴 시트를 제조될 수 있다. 제1 패턴층(310) 형성에 의해 완성된 1차 패턴 시트는 권취됨 없이 제2 패턴층 형성부(PTS2)로 이송된다. 1차 패턴 시트의 제1 패턴층(310)의 형상은 상술한 바와 같이 제1 패턴 영역(PTR1)과 제2 패턴 영역(PTR2)에서 서로 상이할 수 있다. 그러나, 1차 패턴 시트 상태에서는 권취되지 않고 곧바로 제2 패턴층(320)을 형성하는 단계로 이송되므로, 패턴 시트(10)가 중첩되면서 제2 패턴 영역(PTR2)에 의해 눌림 불량이 발생하는 것이 방지될 수 있다. The first resin transferred from the soft mold 20 may be cured through the first curing devices PCR1 and MCR1. The first curing apparatus PCR1 and MCR1 may include a first temporary curing apparatus PCR1 and a first main curing apparatus MCR1. The first temporary curing device PCR1 may irradiate low pressure UV, and the first main curing device MCR1 may irradiate high pressure UV with a higher amount of light. The first temporary curing device PCR1 is disposed in the vicinity of the drum roll DRR, and the first resin can be temporarily cured at the same time as or immediately after the first resin is transferred to the upper surface of the first substrate 100. The first main curing device MCR1 completely cures the first resin temporarily cured by being disposed on the travel path of the first substrate 100 to form the first pattern layer 310. Accordingly, the first substrate 100 and the first pattern sheet on which the first pattern layer 310 is formed may be manufactured. The first pattern sheet completed by forming the first pattern layer 310 is transferred to the second pattern layer forming part PTS2 without being wound. The shape of the first pattern layer 310 of the first pattern sheet may be different from each other in the first pattern region PTR1 and the second pattern region PTR2 as described above. However, since it is not wound in the state of the first pattern sheet and is transferred directly to the step of forming the second pattern layer 320, it is possible that a pressing failure occurs due to the second pattern area PTR2 while the pattern sheet 10 overlaps. Can be prevented.

제2 패턴층 형성부(PTS2)는 제2 수지 공급 유닛(RPD2) 및 제2 경화 장치(PCR2, MCR2)를 포함할 수 있다. 제2 패턴층 형성부(PTS2)는 가이드롤(GR), 라미네이션부(PRR2, BKR), 블레이드(BLD) 및/또는 제2 기재 제공부(SPD2)를 더 포함할 수 있다. The second pattern layer forming part PTS2 may include a second resin supply unit RPD2 and second curing devices PCR2 and MCR2. The second pattern layer forming part PTS2 may further include a guide roll GR, lamination parts PRR2 and BKR, a blade BLD, and/or a second substrate providing part SPD2.

제2 수지 공급 유닛(RPD2)은 1차 패턴 시트의 주행 경로 상에 배치될 수 있다. 제2 수지 공급 유닛(RPD2)은 1차 패턴 시트의 제1 패턴층(310) 상면 상에 제2 수지를 공급한다. 제2 수지 공급 유닛(RPD2)은 적어도 하나의 제2 수조(BTH2)와 적어도 하나의 제2 코팅롤(SMR2)을 포함할 수 있다. 제2 코팅롤(SMR2)은 표면에 고무 또는 우레탄 재질 등으로 이루어진 탄성층을 구비할 수 있다. 제2 수조(BTH2)는 제2 수지를 함유할 수 있다. 제2 수지는 광경화성 물질을 포함할 수 있다. 제2 패턴층(320)이 내부에 입자를 포함하는 실시예의 경우, 제2 수지 또한 해당 입자를 포함할 수 있다.The second resin supply unit RPD2 may be disposed on the traveling path of the primary pattern sheet. The second resin supply unit RPD2 supplies a second resin on the upper surface of the first pattern layer 310 of the primary pattern sheet. The second resin supply unit RPD2 may include at least one second water tank BTH2 and at least one second coating roll SMR2. The second coating roll SMR2 may have an elastic layer made of rubber or urethane material on its surface. The second water tank BTH2 may contain a second resin. The second resin may contain a photocurable material. In the case where the second pattern layer 320 includes particles therein, the second resin may also include the particles.

제2 수지가 용제를 포함하지 않을 경우 제2 수지의 점도는 300cps 내지 3000cps일 수 있다. 제2 수지의 점도가 300cps 미만으로 너무 낮으면, 제2 수지의 코팅 과정에서 내부에 기포가 발생하여 외관 불량이 발생할 수 있고, 제2 수지의 유동성이 높아 두께 조절이 어려울 수 있다. 반면에, 제2 수지의 점도가 3000cps를 초과하는 경우에는 제1 패턴층(310)의 골부(요부)로 제2 수지가 잘 충진되지 않아 생산 속도가 저하될 수 있다. 따라서, 바람직한 제2 수지의 점도는 300cps 내지 3000cps이고, 더욱 바람직하게는 500cps 내지 1500cps일 수 있다. 제2 수지가 용제를 포함하는 경우에는 300cps 이하 또는 300cps 미만의 점도를 가질 수도 있다. When the second resin does not contain a solvent, the viscosity of the second resin may be 300 cps to 3000 cps. If the viscosity of the second resin is too low, such as less than 300 cps, bubbles may be generated inside during the coating process of the second resin, resulting in poor appearance, and high fluidity of the second resin may make it difficult to control the thickness. On the other hand, when the viscosity of the second resin exceeds 3000 cps, the second resin is not well filled into the valleys (concave portions) of the first pattern layer 310, and the production speed may be lowered. Therefore, the viscosity of the second resin is preferably 300 cps to 3000 cps, more preferably 500 cps to 1500 cps. When the second resin contains a solvent, it may have a viscosity of 300 cps or less or 300 cps or less.

제2 코팅롤(SMR2)은 제2 수조(BTH2)와 1차 패턴 시트 사이에 배치될 수 있다. 구체적으로, 제2 수조(BTH2)가 하부에 배치되고, 그 상부에 제2 코팅롤(SMR2)이 배치되며, 제2 코팅롤(SMR2)의 상부에 제1 패턴층(310)의 상면이 제2 코팅롤(SMR2)을 향하도록 1차 패턴 시트가 배치될 수 있다. 제2 코팅롤(SMR2)은 회전 가능하도록 설치될 수 있다. 제2 코팅롤(SMR2)은 제2 수조(BTH2)의 제2 수지 및 제1 패턴층(310)의 상면에 접하도록 배치되며, 표면 상에 제2 수조(BTH2)로부터 제2 수지를 공급받아 1차 패턴 시트의 이송 방향과 동일한 방향으로 회전하며 이를 제1 패턴층(310)의 상면으로 전달하는 역할을 할 수 있다. The second coating roll SMR2 may be disposed between the second water tank BTH2 and the first pattern sheet. Specifically, a second water tank (BTH2) is disposed at the bottom, a second coating roll (SMR2) is disposed thereon, and the upper surface of the first pattern layer 310 is disposed on the second coating roll (SMR2). 2 The first pattern sheet may be disposed to face the coating roll SMR2. The second coating roll SMR2 may be installed to be rotatable. The second coating roll SMR2 is disposed so as to contact the upper surface of the second resin and the first pattern layer 310 of the second water tank BTH2, and receives the second resin from the second water tank BTH2 on the surface. It rotates in the same direction as the transfer direction of the first pattern sheet and may serve to transfer it to the upper surface of the first pattern layer 310.

제2 코팅롤(SMR2)은 복수일 수 있다. 복수의 제2 코팅롤(SMR2)들은 인접하여 배치될 수 있다. 1차 패턴 시트는 복수의 제2 코팅롤(SMR2)들을 순차적으로 지나면서 각 제2 코팅롤(SMR2)로부터 제2 수지를 순차 공급받을 수 있다. 1차 패턴 시트가 여러 제2 코팅롤(SMR2)들로부터 소량씩 제2 수지를 공급받으면, 하나의 제2 코팅롤(SMR2)로부터 다량의 제2 수지를 한번에 공급받는 것에 비해 기포 생성이 억제될 수 있다.The second coating roll SMR2 may be plural. The plurality of second coating rolls SMR2 may be disposed adjacent to each other. The first pattern sheet may sequentially receive a second resin from each of the second coating rolls SMR2 while passing through the plurality of second coating rolls SMR2 in sequence. When the first pattern sheet receives a small amount of second resin from several second coating rolls (SMR2), the generation of air bubbles will be suppressed compared to receiving a large amount of second resin from one second coating roll (SMR2) at once. I can.

제2 수지가 공급된 1차 패턴 시트는 제2 라미네이션부(PRR2, BKR) 측으로 이송되는데, 그 중간에 블레이드(BLD)가 설치되어 스퀴징 공정을 수행할 수 있다. 블레이드(BLD)는 제2 수지의 표면에 적어도 부분적으로 접하도록 설치될 수 있다. 제2 수지가 공급된 1차 패턴 시트를 블레이드(BLD)에 통과시키면 표면 두께를 조절할 수 있을 뿐만 아니라, 불균일한 표면을 균일하게 할 수 있다. 또한, 1차 패턴 시트에 제2 수지를 공급할 때, 제1 패턴층(310) 골부 상에 제2 수지가 부분적으로 미충진될 수 있는데, 스퀴징 공정을 통해 이와 같은 미충진 공간을 충진할 수 있다. The first pattern sheet supplied with the second resin is transferred to the second lamination units PRR2 and BKR, and a blade BLD is installed in the middle thereof to perform a squeezing process. The blade BLD may be installed to at least partially contact the surface of the second resin. When the primary pattern sheet supplied with the second resin is passed through the blade BLD, the surface thickness can be adjusted, and the uneven surface can be made uniform. In addition, when supplying the second resin to the first pattern sheet, the second resin may be partially unfilled on the valley of the first pattern layer 310, and such an unfilled space may be filled through a squeezing process. have.

제2 기재 제공부(200)는 제2 기재(200)롤을 포함한다. 제2 기재(200)롤로부터 권출된 제2 기재(200)는 가이드롤(GR)을 따라 이송된다. 제2 기재(200)는 제2 라미네이션부(PRR2, BKR)에서 제2 수지를 공급받은 1차 패턴 시트와 근접하게 되고, 제2 라미네이션부(PRR2, BKR)를 통과하면서 상호 접촉하면서 라미네이션될 수 있다.The second substrate providing unit 200 includes a second substrate 200 roll. The second substrate 200 unwound from the second substrate 200 roll is transported along the guide roll GR. The second substrate 200 may be laminated while being in close proximity to the primary pattern sheet supplied with the second resin from the second lamination units PRR2 and BKR, and in contact with each other while passing through the second lamination units PRR2 and BKR. have.

제2 라미네이션부(PRR2, BKR)는 제2 압착롤(PRR2)(또는 갭롤)과 지지롤(BKR)(또는 백롤)을 포함할 수 있다. 제2 압착롤(PRR2)과 지지롤(BKR)은 수평 방향으로 일정한 간격을 갖고 대향하도록 배치될 수 있다. 제2 수지를 공급받은 1차 패턴 시트와 제2 기재(200)는 수직 방향 또는 상하 방향으로 진행하여 제2 압착롤(PRR2)과 지지롤(BKR) 사이를 통과하면서 라미네이션될 수 있다. 제2 압착롤(PRR2)과 지지롤(BKR)의 간격을 조절함으로써 패턴 시트(10)의 두께를 제어할 수 있다. 제2 압착롤(PRR2)과 지지롤(BKR)의 간격에 의해 제2 패턴층(320)의 두께(t20)가 조절될 수 있으며, 구체적으로는 제2 기저부의 두께(t21)가 조절될 수 있다. 도면에 도시되지는 않았지만, 제2 압착롤(PRR2)과 지지롤(BKR) 사이에는 1차 패턴 시트 및 제2 기재의 폭보다 좁은 간격으로 2개의 댐(가스켓)과 하나 이상의 석션(suction)을 구비함으로써, 제2 패턴층(320) 형성시 남는 제2 수지가 양 측면으로 새어나가 불량이 발생되는 것을 방지할 수 있다The second lamination parts PRR2 and BKR may include a second pressing roll PRR2 (or gap roll) and a support roll BKR (or a back roll). The second pressing roll PRR2 and the support roll BKR may be disposed to face each other with a constant interval in the horizontal direction. The first pattern sheet and the second substrate 200 supplied with the second resin may proceed in a vertical direction or an up-down direction and may be laminated while passing between the second pressing roll PPR2 and the support roll BKR. The thickness of the pattern sheet 10 may be controlled by adjusting the distance between the second pressing roll PRR2 and the support roll BKR. The thickness t20 of the second pattern layer 320 may be adjusted by the gap between the second pressing roll PPR2 and the support roll BKR, and specifically, the thickness t21 of the second base may be adjusted. have. Although not shown in the drawing, two dams (gaskets) and one or more suctions are provided between the second pressing roll (PRR2) and the support roll (BKR) at a space narrower than the width of the first pattern sheet and the second substrate. By providing, it is possible to prevent the occurrence of defects due to leakage of the second resin remaining when forming the second pattern layer 320 to both sides.

제2 수지는 제2 경화 장치(PCR2, MCR2)를 통해 경화될 수 있다. 제2 경화 장치(PCR2, MCR2)는 제2 가경화 장치(PCR2) 및 제2 본경화 장치(MCR2)를 포함할 수 있다. 제2 가경화 장치(PCR2)는 저압 UV를 조사하고, 제2 본경화 장치(MCR2)는 그보다 높은 고압 UV를 조사할 수 있다. 제2 가경화 장치(PCR2)의 경우 제2 기재 제공부(SPD2)로부터 제공되는 제2 기재(200) 측에 배치될 수 있으나, 제2 기재(200)가 UV를 차단 또는 흡수하는 물질을 포함하는 경우에는 1차 패턴 시트 측에 배치될 수 있으며, 이하에 기술하는 실시예에서도 동일하게 적용할 수 있다. 제2 경화 장치(PCR2, MCR2)는 제2 라미네이션부(PRR2, BKR) 또는 그에 인접하도록 배치되어, 제2 수지와 제2 기재(200)가 라미네이션되는 것과 동시에 또는 그 직후에 제2 수지를 가경화할 수 있다. 제2 본경화 장치(MCR2)는 제2 기재(200)의 주행 경로 상에 배치되어 가경화된 제2 수지를 완전 경화하여 제2 패턴층(320)을 형성할 수 있다. 라미네이션 및 제2 패턴층(320)이 형성이 완료된 2차 패턴 시트는 완성된 패턴 시트(10R)로서 롤 형상으로 권취될 수 있다. 권취되는 패턴 시트(10R)는 이미 제2 패턴 영역(PTR2) 상에 제2 패턴층(320)이 형성되어 있어, 패턴층(300) 전체로 볼 때 제1 패턴 영역(PTR1)과 제2 패턴 영역(PTR2)에서 균일한 두께를 가지며, 제1 기재(100)의 하면과 제2 기재(200)의 상면도 돌출부 없이 평탄한 표면을 가질 수 있다. 따라서, 권취에 의해 패턴 시트(10R)가 중첩하더라도 눌림 불량 등이 방지될 수 있다. 제2 패턴층(320)이 완전 경화 후 소정의 모듈러스 값을 갖는 제2 수지에 의해 형성될 경우, 눌림 불량 등이 방지되는 데에 더 유리할 수 있다. 이 경우 상기 제2 패턴층(320)에 형성되는 제2 기저부의 두께(t21)는 상기 제1 패턴층(310)에 형성되는 제1 기저부의 두께(t11)보다 클 수 있다. 또한, 제2 패턴층(320)은 점착 특성을 더 가질 수 있다.The second resin may be cured through a second curing device (PCR2, MCR2). The second curing apparatus PCR2 and MCR2 may include a second temporary curing apparatus PCR2 and a second main curing apparatus MCR2. The second temporary curing device PCR2 may irradiate a low pressure UV, and the second main curing device MCR2 may irradiate a higher high pressure UV. In the case of the second temporary curing device (PCR2), it may be disposed on the side of the second substrate 200 provided from the second substrate providing unit SPD2, but the second substrate 200 includes a material that blocks or absorbs UV In this case, it may be disposed on the side of the primary pattern sheet, and the same can be applied to the embodiments described below. The second curing device (PCR2, MCR2) is disposed to be adjacent to or at the second lamination unit (PRR2, BKR), and the second resin is temporarily cured at the same time as or immediately after the second resin and the second substrate 200 are laminated. I can be upset. The second main curing device MCR2 may form the second pattern layer 320 by completely curing the second resin temporarily cured by being disposed on the travel path of the second substrate 200. The secondary pattern sheet on which the lamination and the second pattern layer 320 is formed may be wound in a roll shape as a completed pattern sheet 10R. Since the pattern sheet 10R to be wound has already formed the second pattern layer 320 on the second pattern area PTR2, the first pattern area PTR1 and the second pattern are viewed as a whole. The region PTR2 has a uniform thickness, and the lower surface of the first substrate 100 and the upper surface of the second substrate 200 may also have a flat surface without protrusions. Therefore, even if the pattern sheets 10R overlap by winding, a pressing failure or the like can be prevented. When the second pattern layer 320 is formed of a second resin having a predetermined modulus value after complete curing, it may be more advantageous in preventing a pressing failure. In this case, the thickness t21 of the second base portion formed on the second pattern layer 320 may be greater than the thickness t11 of the first base portion formed on the first pattern layer 310. In addition, the second pattern layer 320 may further have adhesive properties.

도 20은 다른 실시예에 따른 패턴 시트의 제조 장치 및 공정도를 나타낸 개략도이다. 20 is a schematic diagram showing an apparatus and process diagram for manufacturing a patterned sheet according to another embodiment.

도 20을 참조하면, 본 실시예에 따른 패턴 시트의 제조 장치(50_1)는 제2 라미네이션부(PRR2, BKR) 구성들의 배치가 도 19의 실시예와 상이하다. 즉, 제2 라미네이션부(PRR2, BKR)가 제2 압착롤(PRR2)(또는 갭롤)과 지지롤(BKR)(또는 백롤)을 포함하는 것은 도 19의 실시예와 동일하지만, 제2 압착롤(PRR2)과 지지롤(BKR)이 수직 방향(또는 상하 방향)으로 일정한 간격을 갖고 대향하도록 배치된 점에서 도 19의 실시예와 상이하다. 본 실시예에서, 제2 수지를 공급받은 1차 패턴 시트와 제2 기재(200)는 수평 방향으로 진행하여 제2 압착롤(PRR2)과 지지롤(BKR) 사이를 통과하면서 라미네이션될 수 있다. 본 실시예에서도, 제2 압착롤(PRR2)과 지지롤(BKR)의 간격을 조절함으로써 패턴 시트(10R)의 두께를 제어할 수 있다.Referring to FIG. 20, in the apparatus 50_1 for manufacturing a pattern sheet according to the present embodiment, the arrangement of the configurations of the second lamination units PRR2 and BKR is different from the embodiment of FIG. 19. That is, the second lamination portion (PRR2, BKR) including the second pressing roll (PRR2) (or gap roll) and the support roll (BKR) (or back roll) is the same as the embodiment of Fig. 19, but the second pressing roll It is different from the embodiment of FIG. 19 in that the (PRR2) and the support roll (BKR) are arranged to face each other at regular intervals in the vertical direction (or vertical direction). In the present embodiment, the first pattern sheet and the second substrate 200 supplied with the second resin may be laminated while passing in a horizontal direction and passing between the second pressing roll PPR2 and the support roll BKR. In this embodiment as well, the thickness of the pattern sheet 10R can be controlled by adjusting the distance between the second pressing roll PRR2 and the support roll BKR.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.Embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, but those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains can be implemented in other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention. You can understand. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are illustrative in all respects and not limiting.

10: 패턴 시트
100: 제1 기재
200: 제2 기재
300: 패턴층
310: 제1 패턴층
320: 제2 패턴층
10: pattern sheet
100: first substrate
200: second base
300: pattern layer
310: first pattern layer
320: second pattern layer

Claims (15)

제1 기재의 상면에 제1 표면 요철을 포함하는 제1 패턴층을 형성하는 단계; 및
연속 공정으로 상기 제1 패턴층 상에 제2 패턴층을 형성하는 단계로서, 상기 제1 패턴층과 상기 제2 패턴층의 두께의 합이 균일하도록 상기 제2 패턴층을 형성하는 단계를 포함하되,
상기 제2 패턴층은 상기 제1 표면 요철에 맞물리는 상보적인 형상을 갖는 제2 표면 요철을 포함하고,
상기 제1 패턴층은 제1 패턴 영역, 및 상기 제1 표면 요철 및 상기 제2 표면 요철이 상기 제1 패턴 영역과 다른 단면 구조를 갖는 제2 패턴 영역을 포함하는 패턴 시트의 제조 방법.
Forming a first pattern layer including first surface irregularities on an upper surface of the first substrate; And
Forming a second pattern layer on the first pattern layer in a continuous process, comprising forming the second pattern layer so that the sum of the thicknesses of the first pattern layer and the second pattern layer is uniform, ,
The second pattern layer includes a second surface irregularities having a complementary shape meshing with the first surface irregularities,
The first pattern layer is a method of manufacturing a pattern sheet including a first pattern region, and a second pattern region in which the first surface irregularities and the second surface irregularities have a different cross-sectional structure from the first pattern region.
제1 항에 있어서,
상기 제1 패턴층은 이음부를 포함하는 소프트 몰드에 의해 형성되고,
상기 제2 패턴 영역은 상기 이음부에 의해 형성되는 패턴 시트의 제조 방법.
The method of claim 1,
The first pattern layer is formed by a soft mold including a joint,
The second pattern region is a method of manufacturing a pattern sheet formed by the joint.
제1 항에 있어서,
상기 제2 패턴층은 용제를 포함하지 않으며 300 내지 3000cps의 점도를 갖는 수지로부터 형성되는 패턴 시트의 제조 방법.
The method of claim 1,
The second pattern layer does not contain a solvent and is formed from a resin having a viscosity of 300 to 3000 cps.
제1 항에 있어서,
상기 제1 패턴층과 상기 제2 패턴층은 상호간 0.1 이상의 굴절률 차이를 갖는 패턴 시트의 제조 방법.
The method of claim 1,
The method of manufacturing a pattern sheet in which the first pattern layer and the second pattern layer have a refractive index difference of 0.1 or more.
제1 항에 있어서,
상기 제2 패턴층은 상기 제1 패턴층보다 작은 영률 값을 갖는 패턴 시트의 제조 방법.
The method of claim 1,
The second pattern layer is a method of manufacturing a pattern sheet having a smaller Young's modulus value than the first pattern layer.
제1 항에 있어서,
상기 제2 패턴층은 유리와의 점착력이 1500g/25mm 이상인 점착층인 패턴 시트의 제조 방법.
The method of claim 1,
The second pattern layer is an adhesive layer having an adhesive strength of 1500 g/25 mm or more with glass.
제1 항에 있어서,
상기 제1 패턴층은 단면이 삼각형 또는 사다리꼴인 프리즘 형상을 갖는 패턴 시트의 제조 방법.
The method of claim 1,
The first pattern layer is a method of manufacturing a pattern sheet having a prism shape having a triangular or trapezoidal cross section.
제7 항에 있어서,
상기 제1 패턴층 및 상기 제2 패턴층 중 적어도 하나는 그 내부에 입자를 포함하는 패턴 시트의 제조 방법.
The method of claim 7,
At least one of the first pattern layer and the second pattern layer includes particles therein.
제8 항에 있어서,
상기 입자는 파장 변환 입자와 산란 입자를 포함하는 패턴 시트의 제조 방법.
The method of claim 8,
The particle is a method for producing a patterned sheet comprising wavelength conversion particles and scattering particles.
제8 항에 있어서,
상기 입자는 흡광 입자를 포함하되,
상기 흡광 입자는 상기 제2 패턴층 내부에 배치되고, 상기 제1 패턴층 내부에 배치되지 않는 패턴 시트의 제조 방법.
The method of claim 8,
The particles include light absorbing particles,
The light absorbing particles are disposed inside the second pattern layer and are not disposed inside the first pattern layer.
제1 항에 있어서,
상기 제2 패턴층 상에 제2 기재를 배치하는 단계를 더 포함하는 패턴 시트의 제조 방법.
The method of claim 1,
The method of manufacturing a pattern sheet further comprising the step of disposing a second substrate on the second pattern layer.
제11 항에 있어서,
상기 제2 기재를 배치하는 단계 후에, 상기 패턴 시트를 권취하는 단계를 더 포함하는 패턴 시트의 제조 방법.
The method of claim 11,
After the step of disposing the second substrate, the method of manufacturing a pattern sheet further comprising the step of winding up the pattern sheet.
제1 패턴 형성부 및 제2 패턴 형성부를 포함하는 패턴 시트 제조 장치로서,
상기 제1 패턴 형성부는 소프트 몰드, 제1 수지 공급 유닛, 및 제1 기재 제공부를 포함하고,
상기 제2 패턴 형성부는 라미네이션부, 제2 수지 공급 유닛, 및 제2 기재 제공부를 포함하되,
상기 제1 패턴 형성부와 상기 제2 패턴 형성부는 연속 공정으로 연결되는 패턴 시트의 제조 장치.
A pattern sheet manufacturing apparatus comprising a first pattern forming portion and a second pattern forming portion,
The first pattern forming part includes a soft mold, a first resin supply unit, and a first base material providing part,
The second pattern forming unit includes a lamination unit, a second resin supply unit, and a second substrate providing unit,
The apparatus for manufacturing a pattern sheet in which the first pattern forming part and the second pattern forming part are connected in a continuous process.
제13 항에 있어서,
상기 제1 패턴 형성부와 상기 제2 패턴 형성부 사이에는 상기 제1 기재 제공부에서 제공하는 제1 기재를 권취하는 수단이 존재하지 않는 패턴 시트의 제조 장치.
The method of claim 13,
An apparatus for manufacturing a patterned sheet in which no means for winding up the first substrate provided by the first substrate providing portion is present between the first pattern forming portion and the second pattern forming portion.
제13 항에 있어서,
상기 라미네이션부는 제2 압착롤 및 상기 제2 압착롤에 일정한 간격을 갖고 대향하도록 배치된 지지롤을 포함하는 패턴 시트의 제조 장치.
The method of claim 13,
The apparatus for manufacturing a patterned sheet, wherein the lamination portion includes a second pressing roll and a support roll disposed to face the second pressing roll at regular intervals.
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