KR102321340B1 - 나노 공학 다공성 네트워크 물질을 사용하는 에너지 변환기로서 고상 디바이스를 사용하는 사전 평형 시스템 및 방법 - Google Patents
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Abstract
다양한 에너지 형태들을 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스. 에너지 형태들은 화학, 광기전 또는 열 구배일 수 있다. 에너지 변환 디바이스는 제1 및 제2 전극을 갖는다. 다공성 반도체 또는 유전체 층이 그 위에 위치되어 있는 기판이 존재한다. 기판 자체는 평면, 2차원, 또는 3차원일 수 있고, 내부 및 외부 표면들을 갖는다. 이 기판들은 강성, 가요성 및/또는 굴곡성일 수 있다. 다공성 반도체 또는 유전체 층은 나노 공학 구조물일 수 있다. 다공성 도체 물질은, 다공성 도체 물질의 적어도 일부가 다공성 반도체 또는 유전체 층의 나노 공학 구조물에 들어감으로써 얽히는 영역을 형성하도록, 다공성 반도체 또는 유전체 층의 적어도 일부분 상에 위치된다.
Description
본 특허 문서는 일반적으로 에너지 변환 시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 나노 와이어 어레이(nano-wire array) 또는 나노 공학 구조물(nano-engineered structure), 또는 나노 입자, 또는 콜로이드 페이스트(colloidal paste)와 같은 다공성 물질 네트워크(porous material network)들을 포함하는 평면 또는 3차원 표면을 갖는 고상 전기 발생기(solid-state electric generator)를 사용하여 전력, 방사 빔 또는 기계적 운동을 발생시키는 방법 및 시스템에 관한 것이다.
화학 에너지 및 다른 에너지 형태들을 전기로 변환하기 위해 고상 전기 발생기를 사용하는 것이, 예를 들어, 미국 특허 제6,114,620호, 제6,218,608호, 제6,222,116호, 제6,268,560호, 제6,327,859호, 제6,649,823호, 제7,371,962호, 및 제7,663,053호에 설명된 바와 같이, 최근에 발표되었다. 미국 특허 제6,114,620호, 제6,218,608호, 제6,222,116호, 제6,268,560호, 제6,327,859호, 제6,649,823호, 제7,371,962호, 및 제7,663,053호는 이로써 그 전체가 참조로 본원에 포함된다. 이러한 에너지 변환 디바이스들은 화학적 및 다른 에너지 형태들을 효율적으로 변환한다. 예를 들어, 본원의 도 1은 고상 전기 발생기를 이러한 디바이스의 특성들을 보여주는 그래프들과 함께 예시하고 있다. 본원에서 도 1a의 단면도에 도시된 바와 같이, 전하 캐리어(보통 전자 e-임)는 전도성 표면(10A)에서 또는 그 근방에서 여기자(energizer)(12A)에 의해 여기된다. 전하 캐리어는, 예를 들어, 화학 반응 또는 다른 에너지 형태들에 의해 여기된다. 각각의 경우에, 전하 캐리어가 반도체 전도대(semiconductor conduction band)에 주입된다. 예를 들어, 전하 캐리어는 도체(10A)로부터 반도체 또는 유전체(11A) 내로 탄도학적으로(ballistically) 이동한다. 도체(10A)는 전자가, 다른 전자, 포논(phonon), 원자와 충돌하는 것에 의해 에너지를 그다지 상실함이 없이, 탄도학적으로 그를 통해 유효하게 이동할 정도로 아주 얇다. 반도체 전도대와 도체 또는 전도성 촉매의 페르미 레벨(Fermi level) 사이에 에너지 오프셋이 존재하기 때문에, 그 결과 플러스 단자(17A)와 마이너스 단자(16A)에 걸쳐 전압(14A)이 생긴다. 도 1a에서, 유전체 접합(15A)은 도 1b에 11B로서 도시된, 전자 탄도 운동(electron ballistic motion)을 방해하는 경향이 있는 전위 전압 장벽(electrical potential voltage barrier)을 생성하도록 특별히 선택된 반도체 접합이다. 도 1b는 영 바이어스(zero bias)에서 디바이스에서의 전위를 디바이스를 따른 거리의 함수로서 나타낸 것이다.
전위 전압 장벽은 많은 방식들 중 하나의 방식으로, 예를 들어, 도 1c에 도시된 쇼트키 장벽, 도 1d에 도시된 p-n 접합, 또는 도 1e의 도체-유전체-도체 접합으로서 형성될 수 있다. 유전체는 전기 전도성이다. 순방향 바이어스된 다이오드는 이 에너지 변환 디바이스를 구현하는 가장 간단한 방법들 중 하나를 제공한다. 도 1c는 순방향 바이어스된 쇼트키 다이오드 - 그의 플러스 단자가 도체/금속임 - 를 나타낸 것이다.
본 특허 문서는 평면 2차원 기판 상에 또는 3차원 기판 상에 있을 수 있는 신규의 3차원 디바이스 구조물들을 가지는 다양한 실시예들을 기술한다. 2차원 또는 3차원 기판들은 강성이거나 가요성/굴곡성일 수 있다. 다양한 실시예들은 디바이스의 2차원 면적 단위당 생성될 수 있는 전력(즉, 전기)의 양을 증가시키는 것에 의해 이전의 고상 전기 발생기를 개선시킨다. 본원에 기술되는 신규의 디바이스 구조물들은 고상 접합(solid-state junction)을 가진다. 이 디바이스 구조물들은 고상 접합을 형성하는 다공성 반도체 또는 유전체 그리고 도체 및/또는 촉매의 나노 클러스터를 포함한다. 복합 시스템(composite system)에 보이드(void)가 있더라도, 상이한 다공성 반도체/도체 또는 전도성 촉매 물질들이, 예로서, 통합 시스템(integrated system)일 수 있거나, 물질들이 네트워크로서 물리적으로 연결될 수 있다. 나노 클러스터는 물질들이 나노 크기의 클러스터들을 형성할 때이다. 고상 접합은 쇼트키 다이오드 또는 p-n 접합일 수 있지만, 이들로 제한되지 않는다. 또한, 전기 또는 다른 에너지 형태들을 발생시키기 위한 개시된 디바이스 구조물들을 제조하는 방법들/공정들이 개시되어 있다.
화학 에너지를 전기 또는 다른 에너지 형태들로 변환하는 에너지 변환 디바이스가 개시되어 있다. 에너지 변환 디바이스의 제1 양태는 기판에 연결된 제1 전극을 포함한다. 다공성 반도체(또는 유전체) 층은 기판 상에 배치된다(선택적인 비다공성 반도체(또는 유전체) 층이 다공성 반도체(또는 유전체) 층 상의 기판과의 사이에 있음). 다공성 반도체 층은 나노 공학 구조물을 가진다. 다공성 촉매 물질이 다공성 반도체(또는 유전체) 층의 적어도 일부분 상에 위치된다. 다공성 촉매 물질의 적어도 일부가 다공성 반도체 층의 나노 공학 구조물(얽히는 영역(intertwining region)을 형성함)에 들어간다. 제2 전극이 존재하고, 연료(fuel), 다공성 촉매 물질, 및 다공성 반도체 층 사이의 화학 반응 동안 제1 전극과 제2 전극 사이에 전위가 형성된다. 고상 전기 발생기로부터 열을 제거하는 히트 싱크가 또한 존재하며, 여기서 히트 싱크는 주변 온도보다 더 높은 히트 싱크 온도를 가진다.
본 명세서에 개시되어 있는 다른 양태에서, 에너지 변환 디바이스의 기판이 화학 반응을 위한 증가된 표면적을 제공하도록 3차원 표면을 생성하게 패터닝된다.
본 명세서에 개시되어 있는 다른 양태에서, 에너지 변환 디바이스의 기판이 나노와이어(nano-wire)들이 형성되도록 패터닝된다.
본 명세서에 개시되어 있는 다른 양태에서, 에너지 변환 디바이스의 기판이 피크(peak)들 및 밸리(valley)들이 형성되도록 텍스처링된다.
본 명세서에 개시되어 있는 다른 양태에서, 에너지 변환 디바이스는 기판과 다공성 반도체 층 사이에 비다공성 반도체 층을 가진다.
본 명세서에 개시되어 있는 다른 양태에서, 에너지 변환 디바이스의 기판은 2차원이고 평면이다.
본 명세서에 개시되어 있는 다른 양태에서, 에너지 변환 디바이스의 기판은 3차원이고 내부 및 외부 표면들을 가지고 있다.
본 명세서에 개시되어 있는 다른 양태에서, 에너지 변환 디바이스의 기판은 강성이다.
본 명세서에 개시되어 있는 다른 양태에서, 에너지 변환 디바이스의 기판은 가요성이다.
본 명세서에 개시되어 있는 다른 양태에서, 에너지 변환 디바이스의 기판은 굴곡성이다.
본 명세서에 개시되어 있는 다른 양태에서, 고상 접합은 쇼트키 다이오드이다.
본 명세서에 개시되어 있는 다른 양태에서, 고상 접합은 p-n 접합이다.
본 명세서에 개시되어 있는 다른 양태에서, 고상 접합은 도체-유전체, 유전체-유전체, 도체-유전체-도체, 또는 유전체-도체-유전체 접합이다.
본 명세서에 개시되어 있는 다른 양태에서, 다공성 반도체 층은 결정질, 다결정질, 또는 다공성 TiO2, SrTiO3, BaTiO3, Sr13x-Ba_y-TiO_z, 붕소 카바이드, LiNiO, Al2O3, ZnO, 및 LaSrVO3, 그리고 PTCDA, 또는 3,4,9,10-페릴렌테트라카르복실산-다이안하이드라이드를 포함하는 유기 반도체를 포함하는 물질 그룹으로부터 선택된 반도체 물질을 포함한다.
본 명세서에 개시되어 있는 다른 양태에서, 나노스코픽 도체 클러스터(nanoscopic conductor cluster)는 다공성 반도체 층 상에 불연속 다공성 커버리지(discontinuous porous coverage)를 가진다.
본 명세서에 개시되어 있는 다른 양태에서, 도체 층은 복수의 나노스코픽 클러스터들을 포함한다.
본 명세서에 개시되어 있는 다른 양태에서, 나노스코픽 클러스터는 촉매를 포함한다.
본 명세서에 개시되어 있는 다른 양태에서, 하나 이상의 에너지 변환 디바이스들은 전기적으로 직렬로, 전기적으로 병렬로, 또는 직렬과 병렬의 조합으로 연결된다.
본 명세서에 개시되어 있는 다른 양태에서, 하나 이상의 에너지 변환 디바이스들은 열적으로 직렬로, 열적으로 병렬로, 또는 직렬과 병렬의 조합으로 연결된다.
본 명세서에 개시되어 있는 다른 양태에서, 에너지 변환 시스템은 터널링 치수(tunneling dimension)보다 더 큰 치수를 갖는 하나 이상의 에너지 변환 디바이스들의 능동 표면(active surface) 상에 버스 바(buss bar)들을 포함한다.
고상 발생기는 화학 반응 에너지, 광기전(photovoltaic) 또는 열 구배(thermal gradient)에 의해 여기될 수 있고, 강성 기판 상에 또는 가요성/굴곡성 기판 상에 제조될 수 있다. 화학 반응 에너지로부터 기계적 운동을 발생시키는 디바이스는 작동액(hydraulic fluid)을 나노 공학 구조물의 비반응측과 접촉하게 위치시키는 것으로 이루어져 있고, 도체/촉매 및 나노 공학 구조물 둘 다의 표면이 유체에 대한 단방향 힘(unidirectional force)을 향상시키도록 기계적으로 형성된다. 나노 튜브와 같은 다른 방법들이 또한 기계 에너지로 변환시키는 데 사용될 수 있다. 본 장치는 반응 생성물이 그의 주변과 평형을 이루기 전의 짧은 기간 동안 반응 생성물 에너지의 상당 부분을 유용한 일로 변환시킨다. 본 발명은, 열 평형에 도달되기 전에 촉매의 표면에서 일어나는 화학 반응으로부터, 방출된 에너지의 형태로, 전기 또는 기계 에너지 또는 간섭성 방사(coherent radiation)를 추출하는 것에 관한 것이다.
본 명세서의 일부로서 포함되어 있는 첨부 도면들은 다양한 실시예들을 예시하고, 앞서 주어진 전반적인 설명 및 이하에서 주어지는 실시예들의 상세한 설명과 함께, 본원에 기술되는 원리들을 설명하고 알려주는 역할을 한다.
도 1a는 고상 전기 발생기를 나타낸 도면.
도 1b는 고상 접합에서의 전위 장벽의 효과를 나타내는, 전위 에너지(potential energy) 대 디바이스의 최상단 표면으로부터의 거리의 그래프를 나타낸 도면.
도 1c는 쇼트키 장벽을 가지는 예시적인 고상 전기 발생기에서 전위 대 디바이스의 최상단 표면으로부터의 거리의 그래프를 나타낸 도면.
도 1d는 p-n 접합 전위 장벽을 가지는 예시적인 고상 전기 발생기에서 전위 대 디바이스의 최상단 표면으로부터의 거리의 그래프를 나타낸 도면.
도 1e는 도체-유전체-도체 전위 장벽을 가지는 예시적인 고상 전기 발생기에서 전위 대 디바이스의 최상단 표면으로부터의 거리의 그래프를 나타낸 도면.
도 2는 도체 및/또는 촉매-반도체 계면에 대한 에너지 대역 다이어그램을 나타낸 도면.
도 3은 EMF 발생 메커니즘의 개요를 나타낸 도면.
도 4는 전도성 촉매 네트워크일 수 있는, 도체 및/또는 촉매를 갖는 나노와이어 물질 어레이의 일부분의 개략 단면을 나타낸 도면.
도 5a는 평면 2차원 기판 상의 다른 다공성 반도체 또는 유전체 3차원 층과 3차원적으로 얽혀 있는 전도성 촉매 3차원 층일 수 있는 다공성 도체 및/또는 촉매로 이루어진 3차원 다공성 네트워크의 단면도. 비다공성 중간층(non-porous interlayer)이, 선택적으로, 평면 기판과 위쪽에 있는 다공성 3차원 층들/네트워크들 사이에 삽입될 수 있다.
도 5b는 다른 다공성 반도체 또는 유전체 3차원 층과 3차원적으로 얽혀 있는 전도성 촉매 3차원 층일 수 있는 다공성 도체 및/또는 촉매로 이루어진 3차원 다공성 네트워크의 단면 현미경 사진을 나타낸 도면.
도 5c는 다른 다공성 반도체 또는 유전체 3차원 층과 3차원적으로 얽혀 있는 전도성 촉매 3차원 층일 수 있는 다공성 도체 및/또는 촉매로 이루어진 3차원 다공성 네트워크를 가지는 에너지 변환기의 상부 현미경 영상을 나타낸 도면.
도 6은 평면 기판 상에 전도성 촉매일 수 있는 3차원 다공성 도체 및/또는 촉매의 다수의 층들, 및 3차원 다공성 반도체 또는 유전체 네트워크들을 갖는 다중 셀 디바이스 구조물을 가지는 에너지 변환기를 나타낸 도면. 비다공성 중간층이, 선택적으로, 평면 2차원 기판과 위쪽에 있는 다공성 3차원 층들/네트워크들 사이에 삽입될 수 있거나 그렇지 않을 수 있다.
도 7은 3차원 기판 상의 전도성 촉매 및 다공성 반도체 또는 유전체일 수 있는 다공성 도체 및/또는 촉매의 패터닝된 3차원 네트워크를 가지는 예시적인 에너지 변환기를 나타낸 도면으로서, 여기서 내부 및 외부 표면들은 전도성 촉매 층/네트워크일 수 있는 다공성 도체 및/또는 촉매와 3차원적으로 얽혀 있는 다공성 반도체 또는 유전체 층/네트워크로 덮여 있음. 선택적인 비다공성 층이 또한 3차원 기판과 3차원 다공성 반도체 또는 유전체 층/네트워크 사이에 삽입될 수 있다.
도 8은 3차원 기판 상의 전도성 촉매 및 다공성 반도체 또는 유전체일 수 있는 다공성 도체 및/또는 촉매의 3차원 다공성 기판/지지 층(부분적으로 또는 전체적으로) 네트워크를 가지는 예시적인 에너지 변환기를 나타낸 도면으로서, 여기서 내부 및 외부 표면들은 전도성 촉매 층/네트워크일 수 있는 다공성 도체 및/또는 촉매와 3차원적으로 얽혀 있는 다공성 반도체 또는 유전체 층/네트워크로 덮여 있음. 선택적인 비다공성 층이 또한 3차원 기판과 3차원 다공성 반도체 또는 유전체 층/네트워크 사이에 삽입될 수 있다.
도 9a는 3차원 기판 상의 전도성 촉매 및 다공성 반도체 또는 유전체일 수 있는 다공성 도체 및/또는 촉매의 텍스처링된 3차원 네트워크를 가지는 예시적인 에너지 변환기를 나타낸 도면으로서, 여기서 내부 및 외부 표면들은 전도성 촉매 층/네트워크일 수 있는 다공성 도체 및/또는 촉매와 3차원적으로 얽혀 있는 다공성 반도체 또는 유전체 층/네트워크로 덮여 있음. 선택적인 비다공성 층이 또한 3차원 기판과 3차원 다공성 반도체 또는 유전체 층/네트워크 사이에 삽입될 수 있다.
도 9b는 도 9a에서와 같은 3차원 텍스처링된 기판 상의 예시적인 3차원 에너지 변환기의 단면의 현미경 영상을 나타낸 도면.
도 9c는 도 9a에서와 같은 3차원 텍스처링된 기판 상의 예시적인 3차원 에너지 변환기의 상면의 현미경 영상을 나타낸 도면.
도 10은 히트 싱크에 연결된 예시적인 에너지 변환기를 나타낸 도면.
도 11a 및 도 11b는 열적으로 그리고 전기적으로 직렬로 연결된 주 및 보조 에너지 변환기를 나타낸 도면으로서, 여기서 주 및 보조 변환기는 동일하거나 상이한 에너지원에 의해 여기될 수 있음.
도 12는 열적으로 그리고 전기적으로 연결된 몇 개의 예시적인 에너지 변환기들을 나타낸 도면.
도 13은 가장 차가운 곳(구조물의 내부)으로부터 사전 평형 탄도학적 굴절 변환기 어셈블리가 고정되어 있는 가장 뜨거운 곳(구조물의 외부)으로의 반응물 및 냉각제 흐름을 보여주는 예시적인 단면을 나타낸 도면.
도 14a는 지지 기판 상의 고상 에너지 변환기 어셈블리를 따라 형성된 불활성 스페이서들을 보여주는 예시적인 단면을 나타낸 도면.
도 14b는 지지 기판 상의 스페이서 및 고상 에너지 변환기 어셈블리의 예시적인 단면 상세를 나타낸 도면.
도 15는 고상 에너지 변환기 어셈블리들을 포함하는 기판들을 적층시키는 것을 보여주고 적층된 요소들 사이의 공간들에서의 반응물, 냉각 및 배기 흐름을 보여주는 예시적인 단면을 나타낸 도면.
도 16은 지지 구조물의 표면에 걸쳐 전기적으로 직렬로 연결된 고상 에너지 변환기 어셈블리들을 보여주는 예시적인 단면을 나타낸 도면.
도 17은 지지 구조물을 통해 그리고 구조물 상의 고상 에너지 변환기 어셈블리 주위에 흐르는 반응물 및 냉각제를 갖는 기판을 보여주는 예시적인 단면을 나타낸 도면.
도 18은 롤(roll)을 통한 반응물 및 냉각제 흐름을 가능하게 하는, 롤링되어 있는 고상 에너지 변환기들 및 스페이서들을 포함하는 예시적인 표면을 나타낸 도면.
도 19는 촉매 반응에 의해 방출되는 에너지를 기계적 일로 변환하는 디바이스의 예시적인 실시예의 단면을 나타낸 도면.
도 20은 압전식으로 전기를 발생시키는 디바이스의 예시적인 실시예의 단면을 나타낸 도면.
도 21은 본 발명에 따른, 전기 또는 방사 빔을 발생시키는 구성의 예시적인 실시예를 나타낸 도면.
요소들의 구현 및 조합의 다양한 신규의 상세들을 포함하는, 본원에 기술되는 상기 및 다른 바람직한 특징들이 이제부터 첨부 도면들을 참조하여 보다 상세하게 기술될 것이고 청구범위에서 언급될 것이다. 특정의 방법들 및 장치들이 청구항들에 대한 제한으로서가 아니라 예로서 나타내어져 있다는 것을 잘 알 것이다. 본 기술 분야의 통상의 기술자라면 잘 알 것인 바와 같이, 본원의 개시 내용의 원리들 및 특징들이 청구항들의 범주를 벗어남이 없이 다양한 많은 실시예들에서 이용될 수 있다.
도 1a는 고상 전기 발생기를 나타낸 도면.
도 1b는 고상 접합에서의 전위 장벽의 효과를 나타내는, 전위 에너지(potential energy) 대 디바이스의 최상단 표면으로부터의 거리의 그래프를 나타낸 도면.
도 1c는 쇼트키 장벽을 가지는 예시적인 고상 전기 발생기에서 전위 대 디바이스의 최상단 표면으로부터의 거리의 그래프를 나타낸 도면.
도 1d는 p-n 접합 전위 장벽을 가지는 예시적인 고상 전기 발생기에서 전위 대 디바이스의 최상단 표면으로부터의 거리의 그래프를 나타낸 도면.
도 1e는 도체-유전체-도체 전위 장벽을 가지는 예시적인 고상 전기 발생기에서 전위 대 디바이스의 최상단 표면으로부터의 거리의 그래프를 나타낸 도면.
도 2는 도체 및/또는 촉매-반도체 계면에 대한 에너지 대역 다이어그램을 나타낸 도면.
도 3은 EMF 발생 메커니즘의 개요를 나타낸 도면.
도 4는 전도성 촉매 네트워크일 수 있는, 도체 및/또는 촉매를 갖는 나노와이어 물질 어레이의 일부분의 개략 단면을 나타낸 도면.
도 5a는 평면 2차원 기판 상의 다른 다공성 반도체 또는 유전체 3차원 층과 3차원적으로 얽혀 있는 전도성 촉매 3차원 층일 수 있는 다공성 도체 및/또는 촉매로 이루어진 3차원 다공성 네트워크의 단면도. 비다공성 중간층(non-porous interlayer)이, 선택적으로, 평면 기판과 위쪽에 있는 다공성 3차원 층들/네트워크들 사이에 삽입될 수 있다.
도 5b는 다른 다공성 반도체 또는 유전체 3차원 층과 3차원적으로 얽혀 있는 전도성 촉매 3차원 층일 수 있는 다공성 도체 및/또는 촉매로 이루어진 3차원 다공성 네트워크의 단면 현미경 사진을 나타낸 도면.
도 5c는 다른 다공성 반도체 또는 유전체 3차원 층과 3차원적으로 얽혀 있는 전도성 촉매 3차원 층일 수 있는 다공성 도체 및/또는 촉매로 이루어진 3차원 다공성 네트워크를 가지는 에너지 변환기의 상부 현미경 영상을 나타낸 도면.
도 6은 평면 기판 상에 전도성 촉매일 수 있는 3차원 다공성 도체 및/또는 촉매의 다수의 층들, 및 3차원 다공성 반도체 또는 유전체 네트워크들을 갖는 다중 셀 디바이스 구조물을 가지는 에너지 변환기를 나타낸 도면. 비다공성 중간층이, 선택적으로, 평면 2차원 기판과 위쪽에 있는 다공성 3차원 층들/네트워크들 사이에 삽입될 수 있거나 그렇지 않을 수 있다.
도 7은 3차원 기판 상의 전도성 촉매 및 다공성 반도체 또는 유전체일 수 있는 다공성 도체 및/또는 촉매의 패터닝된 3차원 네트워크를 가지는 예시적인 에너지 변환기를 나타낸 도면으로서, 여기서 내부 및 외부 표면들은 전도성 촉매 층/네트워크일 수 있는 다공성 도체 및/또는 촉매와 3차원적으로 얽혀 있는 다공성 반도체 또는 유전체 층/네트워크로 덮여 있음. 선택적인 비다공성 층이 또한 3차원 기판과 3차원 다공성 반도체 또는 유전체 층/네트워크 사이에 삽입될 수 있다.
도 8은 3차원 기판 상의 전도성 촉매 및 다공성 반도체 또는 유전체일 수 있는 다공성 도체 및/또는 촉매의 3차원 다공성 기판/지지 층(부분적으로 또는 전체적으로) 네트워크를 가지는 예시적인 에너지 변환기를 나타낸 도면으로서, 여기서 내부 및 외부 표면들은 전도성 촉매 층/네트워크일 수 있는 다공성 도체 및/또는 촉매와 3차원적으로 얽혀 있는 다공성 반도체 또는 유전체 층/네트워크로 덮여 있음. 선택적인 비다공성 층이 또한 3차원 기판과 3차원 다공성 반도체 또는 유전체 층/네트워크 사이에 삽입될 수 있다.
도 9a는 3차원 기판 상의 전도성 촉매 및 다공성 반도체 또는 유전체일 수 있는 다공성 도체 및/또는 촉매의 텍스처링된 3차원 네트워크를 가지는 예시적인 에너지 변환기를 나타낸 도면으로서, 여기서 내부 및 외부 표면들은 전도성 촉매 층/네트워크일 수 있는 다공성 도체 및/또는 촉매와 3차원적으로 얽혀 있는 다공성 반도체 또는 유전체 층/네트워크로 덮여 있음. 선택적인 비다공성 층이 또한 3차원 기판과 3차원 다공성 반도체 또는 유전체 층/네트워크 사이에 삽입될 수 있다.
도 9b는 도 9a에서와 같은 3차원 텍스처링된 기판 상의 예시적인 3차원 에너지 변환기의 단면의 현미경 영상을 나타낸 도면.
도 9c는 도 9a에서와 같은 3차원 텍스처링된 기판 상의 예시적인 3차원 에너지 변환기의 상면의 현미경 영상을 나타낸 도면.
도 10은 히트 싱크에 연결된 예시적인 에너지 변환기를 나타낸 도면.
도 11a 및 도 11b는 열적으로 그리고 전기적으로 직렬로 연결된 주 및 보조 에너지 변환기를 나타낸 도면으로서, 여기서 주 및 보조 변환기는 동일하거나 상이한 에너지원에 의해 여기될 수 있음.
도 12는 열적으로 그리고 전기적으로 연결된 몇 개의 예시적인 에너지 변환기들을 나타낸 도면.
도 13은 가장 차가운 곳(구조물의 내부)으로부터 사전 평형 탄도학적 굴절 변환기 어셈블리가 고정되어 있는 가장 뜨거운 곳(구조물의 외부)으로의 반응물 및 냉각제 흐름을 보여주는 예시적인 단면을 나타낸 도면.
도 14a는 지지 기판 상의 고상 에너지 변환기 어셈블리를 따라 형성된 불활성 스페이서들을 보여주는 예시적인 단면을 나타낸 도면.
도 14b는 지지 기판 상의 스페이서 및 고상 에너지 변환기 어셈블리의 예시적인 단면 상세를 나타낸 도면.
도 15는 고상 에너지 변환기 어셈블리들을 포함하는 기판들을 적층시키는 것을 보여주고 적층된 요소들 사이의 공간들에서의 반응물, 냉각 및 배기 흐름을 보여주는 예시적인 단면을 나타낸 도면.
도 16은 지지 구조물의 표면에 걸쳐 전기적으로 직렬로 연결된 고상 에너지 변환기 어셈블리들을 보여주는 예시적인 단면을 나타낸 도면.
도 17은 지지 구조물을 통해 그리고 구조물 상의 고상 에너지 변환기 어셈블리 주위에 흐르는 반응물 및 냉각제를 갖는 기판을 보여주는 예시적인 단면을 나타낸 도면.
도 18은 롤(roll)을 통한 반응물 및 냉각제 흐름을 가능하게 하는, 롤링되어 있는 고상 에너지 변환기들 및 스페이서들을 포함하는 예시적인 표면을 나타낸 도면.
도 19는 촉매 반응에 의해 방출되는 에너지를 기계적 일로 변환하는 디바이스의 예시적인 실시예의 단면을 나타낸 도면.
도 20은 압전식으로 전기를 발생시키는 디바이스의 예시적인 실시예의 단면을 나타낸 도면.
도 21은 본 발명에 따른, 전기 또는 방사 빔을 발생시키는 구성의 예시적인 실시예를 나타낸 도면.
요소들의 구현 및 조합의 다양한 신규의 상세들을 포함하는, 본원에 기술되는 상기 및 다른 바람직한 특징들이 이제부터 첨부 도면들을 참조하여 보다 상세하게 기술될 것이고 청구범위에서 언급될 것이다. 특정의 방법들 및 장치들이 청구항들에 대한 제한으로서가 아니라 예로서 나타내어져 있다는 것을 잘 알 것이다. 본 기술 분야의 통상의 기술자라면 잘 알 것인 바와 같이, 본원의 개시 내용의 원리들 및 특징들이 청구항들의 범주를 벗어남이 없이 다양한 많은 실시예들에서 이용될 수 있다.
전기를 발생시키고 그리고/또는 다른 에너지 형태들로 변환하는 방법 및 장치가 기술된다. 본원에 개시되어 있는 특징들 및 교시 내용들 각각은 개별적으로 또는 다른 특징들 및 교시 내용들과 결합하여 이용될 수 있다. 이 부가의 특징들 및 교시 내용들 중 다수를 이용하는 대표적인 예들이, 개별적으로 그리고 결합하여, 첨부 도면들을 참조하여 더 상세히 기술된다. 이 상세한 설명은 본 교시 내용의 바람직한 양태들을 실시하기 위한 추가의 상세들을 본 기술 분야의 통상의 기술자에게 알려주기 위한 것에 불과하고 청구항들의 범주를 제한하려고 의도되어 있지 않다. 따라서, 이하의 상세한 설명에 개시되는 특징들의 조합들이 최광의의 의미에서 교시 내용들을 실시하는 데 필요하지 않을 수 있고, 그 대신에 단지 본 교시 내용들의 특히 대표적인 예들을 설명하기 위해 교시되어 있다.
이하의 설명에서, 단지 설명의 목적상, 본원에 기술되는 다양한 실시예들의 완전한 이해를 제공하기 위해 특정 용어가 기재되어 있다. 그렇지만, 본원에 기술되는 개념들을 실시하기 위해 이 구체적인 상세들이 필요하지 않다는 것이 본 기술 분야의 통상의 기술자에게는 명백할 것이다.
더욱이, 본 교시 내용의 부가의 유용한 실시예들을 제공하기 위해 대표적인 예들 및 종속 청구항들의 다양한 특징들이 구체적이고 명확하게 열거되지 않은 방식들로 결합될 수 있다. 또한 명확히 유의할 점은, 모든 값 범위들 또는 엔터티들의 그룹들의 표시들이 원래의 개시 내용의 목적을 위해서는 물론 청구된 발명 요지를 제한하기 위해 모든 가능한 중간 값 또는 중간 엔터티를 개시한다는 것이다. 또한 명확히 유의할 점은, 도면들에 도시된 구성요소들의 차원들 및 형상들이 본 교시 내용이 어떻게 실시되는지를 이해하는 데 도움을 주도록 설계되어 있고 예들에 도시된 차원들 및 형상들을 제한하도록 의도되어 있지 않다는 것이다.
부가의 실시예들은 고상 변환기들을 열적으로 병렬로 그리고/또는 직렬로 연결시키고, 고상 변환기들을 전기적으로 병렬로 그리고/또는 직렬로 연결시킨다. 연결된 변환기들이 병렬로 그리고/또는 직렬로 추가로 연결된다. 열적 연결은 전기적 연결과 물리적으로 다를 수 있다. 에너지원 및 열원들은 독자적이고 공간적으로 불균일한 온도 프로필들, 시간적으로 산발적이고 일정하지 않은 에너지 버스트(energy burst)들을 갖는 것들을 포함하고, 다양한 영역들이 불균일한 열 유동률(heat flow rate)들을 나타낼 수 있다.
본원에 기술되는 다양한 실시예들은 다양한 에너지 형태들을 전기 또는 다른 에너지 형태들로 변환하는 고상 디바이스이다. 본원에 기술되는 것들과 유사한 전자 수송 메커니즘들을 사용하는 종래의 디바이스들의 제한 인자는 디바이스의 2차원 단위 면적당 전력을 생성하는 표면적이었다. 본원에 기술되는 다양한 실시예들은 고상 에너지 변환기 디바이스의 표면적을, 이러한 디바이스들의 2차원 면적을 그다지 증가시키는 일 없이, 증가시키는 것에 의해 이 문제들을 극복한다.
여기 방법들은 화학 반응 에너지를 사용하는 것, 광기전 방법, 전파하는 그리고/또는 소멸하는 전자기 방사를 사용하는 것, 전기 쿨롱 결합(electric coulomb coupling)을 사용하는 것, 열 흐름 및 연관된 열 구배를 사용하는 것, 태양열 여기자(solar energizer)를 사용하는 것, 지열, 마찰, 및 핵 열원들과 같은 열원들을 사용하는 것, 핵 여기(nuclear energizing)를사용하는 것, 인-시투 전리 방사선(in-situ ionizing radiation)을 사용하는 것, 방사성 폐기물 방사선을 사용하는 것, 화염 히터 및 촉매 히터를 사용하는 것, 열전(thermo-electric) 및 제백(Seebeck) 효과를 사용하는 것, 및 압전 여기(piezo-electric energizing)를사용하는 것을 포함한다.
예를 들어, 도 4 내지 도 9에 본원에 기술되는 디바이스 구조물 및 방법들/공정들은 (a) 나노와이어, 나노섬유, 또는 나노튜브; (b) 상호연결 벽 및 공극을 갖는 다공성 나노 공학 구조물; 및 (c) 침투 네트워크(percolating network)를 갖는 다공성 나노 공학 구조물을 포함하지만, 이들로 제한되지 않는다. 제조 방법들/공정들은 다공성 구조물 및/또는 나노 공학 구조물을 생성하는 직접 막 성장(direct film growth)을 포함하지만, 이들로 제한되지 않는다. 이러한 디바이스들을 제조하는 방법들은 (i) 착색 산화 및 에칭(stain oxidation and etching); (ii) 건식 및/또는 습식 산화 및 에칭; (iii) 전기 화학 산화 및 에칭; (iv) 양극 산화 및 에칭; (v) 마이크로아크 산화 및 에칭; 반도체(들), 유전체(들), 금속(들), 도체(들), 및/또는 전도성 촉매일 수 있는 촉매의 나노 입자, 용제, 페이스트, 또는 콜로이드 중의 금속 염; 및 (vi) 졸겔 공정들을 포함하지만, 이들로 제한되지 않는다. 특정 반도체 및 유전체(예컨대, 실리콘)에 대해, 물질에 다공성 및 나노 공학 구조물을 유입시키기 위해 이 제조 방법들/공정들 모두에 대해 에칭만이 필요하다.
특정 실시예들에서, 평면 2차원 기판 또는 3차원 기판 상의 하나의 유닛/네트워크로 통합된, 다공성 반도체 또는 유전체 및 다공성 도체 및/또는 촉매(전도성 촉매일 수 있음)를 이용하는 화학 에너지 변환 디바이스가 기술된다. 2차원 또는 3차원 기판들은 강성이거나 가요성/굴곡성일 수 있다. 예로서, 때때로 티타늄 산화물, 반도전성 네트워크(semiconducting network)라고 지칭되는 유전체 또는 반도체의 다공성 박막(티타늄 이산화물(TiO2) 등)은 금속 티타늄(Ti)을 비다공성 평면 기판(실리콘 등) 상에 또는 평면 기판 상에 증착된 비다공성 지지 층(실리콘 상의 비다공성 TiO2 층 등) 상에 증착하는 것에 의해 제조될 수 있다. 이 증착된 금속 Ti 박막은 이어서 TiO2를 생성하기 위해 산화될 수 있고, (i) 착색 산화 및 에칭, (ii) 건식 또는 습식 산화 및 에칭, (iii) 전기 화학 산화 및 에칭, (iv) 양극 산화 및 에칭, 또는 (v) 마이크로아크 산화 및 에칭을 통해 그의 마이크로구조물에 나노-다공성 구멍들을 형성하기 위해 추가로 개질될 수 있다. 이 공정들 모두에 수반되는 화학 시약(chemical reagent)은 플루오르화수소산(HF), 질산(HNO3), 황산(H2SO4), 과산화수소(H2O2), 및/또는 수산화나트륨(NaOH)을 포함하지만, 이들로 제한되지 않는다. 디바이스 전기 성능을 추가로 향상시키기 위해, 장벽 층으로서 기능하는 부가의 비다공성 물질 층이 또한 증착된 금속 Ti 박막과 평면 기판 사이에 삽입될 수 있다. 다른 예에서, 기판 자체는 다공성 실리콘, 텍스처링된 실리콘 표면, 및 패터닝된 실리콘 웨이퍼(이들로 제한되지 않음)와 같은 3차원 구조물일 수 있다. 마찬가지로, 반도체 또는 유전체(TiO2 등)의 부가의 비다공성 박층이 금속 Ti 층과 앞서 기술된 3차원 기판 사이에 삽입될 수 있다. 다른 예로서, 다공성 도체들 및/또는 촉매들(전도성 촉매일 수 있음)과 다공성 반도체들 또는 유전체들의 통합이 도체/촉매, 반도체, 및 유전체의 나노 입자를 사용하는 인쇄 기법들 또는 스핀 코팅을 통해 2차원 또는 3차원 기판 상에 제조될 수 있다.
본원에 개시되어 있는 다양한 실시예들이 TiO2를 사용하여 기술되어 있지만, TiO2가 어디에서 논의되든 간에, 본원에서의 교시 내용을 벗어남이 없이 나노 공학 구조물을 갖는 다공성 반도체 및 유전체의 박막과 같은 다른 물질들이 사용될 수 있다. 이러한 다른 박막 다공성 물질들은 실리콘; A12O3; GaN; GaAs; Ge; ZnO; 실리카; 탄소; 니오븀, 탄탈, 지로코늄, 세륨, 주석, 및 바나듐의 산화물을 포함하지만, 이들로 제한되지 않는다. 이 물질들은 또한 아래쪽의 평면 및 3차원 기판들 또는 지지 층들에 적용된다. 동일한 처리 방법들이 또한 디바이스 제조에서 사용될 수 있다.
논의될 것인 바와 같이, 복수의(그리고 바람직하게는, 많은 수의) 고상 접합들을 생성하기 위해 촉매 및/또는 도체가 다공성 반도체의 내부 및 외부 표면들 상에 위치된다. 다공성 나노 공학 반도체 또는 유전체 네트워크(들)와 고상 접합을 형성하기 위해 사용될 수 있는 촉매 및/또는 도체는 Pt, Au, 또는 Pd(이들로 제한되지 않음)과 같은 귀금속 또는 다른 금속들일 수 있다. 이 도체들 및/또는 촉매들은, 용제, 페이스트 또는 콜로이드 중의 나노 입자 및/또는 금속염을 사용하는 것; 박막 증착 및 그에 뒤이은 나노 입자의 형성을 핵생성하기 위한 어닐링 또는 페이스트/용제/증착 방법의 조합; 화학적 기상 증착(CVD); 스퍼터링; 증발; 원자층 증착(ALD); 또는 졸겔 공정(이들로 제한되지 않음)을 비롯한, 다수의 방법들을 사용하여 증착될 수 있다.
도 2를 참조하여, 에너지 변환 메커니즘이 기술된다. 도 2는 에너지 변환 디바이스의 촉매-나노와이어 계면에 대한 에너지 대역 다이어그램(200)을 나타낸 것이다. 전하 캐리어 여기자(205)가 촉매 및/또는 촉매 도체(210)와 접촉하게 된다. 전하 캐리어 여기자(205)(이 경우에, 연료 및 공기를 포함하는 화학 반응 여기자임)는 전자들(240)을 반도체(215)의 전도대(220)에 주입한다. 거기서, 전자들(240)은 반도체(215)와 도체(210) 사이에서 쇼트키와 같은 전위 장벽(225)을 만나고, 또한 도체를 매립하고 있는 상부 전극층(도시 생략)일 수 있다. 전자들(240)은 이어서 도체(210)와 반도체(215) 사이의 계면에서의 내부 전계(built-in electric field)에 의해 하부 접점(도시 생략) 쪽으로 지향된다. 전자들(240)은 외부 회로(도시 생략)에서 이동하고, 그로써 상부 접점(역시 도시되지 않음)을 통해 촉매/도체 사이트로 복귀하기 전에 그의 에너지를 부하에 전달한다. 도 2에 도시된 회로의 출력 전압은 촉매/도체에서의 페르미 레벨과 반도체의 전도대 사이의 전위 오프셋(장벽)에 의존할 것이다.
환언하면, 도 3에 개략적으로 도시된 바와 같이, 산화-환원 반응은 촉매 사이트와 반도체 사이트 사이의 전자의 화학 전위차(chemical potential difference)를 유발하고, 이는 차례로 EMF(Δμ = V2-V1)를 발생시킨다.
일 실시예에서, 화학 에너지를 전기로 변환하는 화학 에너지 변환 디바이스가 본원에 기술되어 있다. 본원에 기술되는 것들과 유사한 전자 수송 메커니즘을 사용하는 종래의 디바이스의 제한 인자는 촉매 반응이 일어날 수 있는 속도였다. 본원에 기술되는 것들과 같은 화학 에너지 변환기 디바이스의 전기 발생은 반응 속도 및 연료 변환에 비례하고, 반응 속도 및 연료 변환은 적어도 (i) 촉매 반응이 일어나는 온도, 및 (ii) 촉매의 총 표면적에 비례한다. 그렇지만, 표면적을 증가시키는 것에 의해, 일반적으로 디바이스가 2차원적으로 크게 되고 따라서 디바이스의 크기가 증가되며, 이는 바람직하지 않다. 마찬가지로, 반응 속도를 향상시키기 위해 온도가 증가될 수 있지만, 온도를 증가시키는 것이 또한 바람직하지 않을 수 있다. 본원에 기술되는 다양한 실시예들은 화학 에너지 변환기 디바이스의 표면적을, 이러한 디바이스들의 2차원 면적을 그다지 증가시키는 일 없이, 증가시키는 것에 의해 이 문제들을 극복한다.
도 4는 화학 에너지 변환기 디바이스(400)의 일 실시예를 나타낸 것이다. 상세하게는, 도 4는 기판 층(도시 생략) 상에 형성되는 나노와이어(415)를 갖는 디바이스를 나타낸 것이며, 여기서 기판 층은, 티타늄 산화물(TiO2)과 같은, 유전체 또는 반도체의 다공성 박막을 포함할 수 있다. 기판 층은 금속 전도성 물질 또는 고농도로 n-도핑된 반도체 물질로 제조될 수 있는 전극(410) 상에 형성된다. 전극(410)은 기판 층 아래쪽에 또는 기판과 나노와이어(415) 사이에 있을 수 있다. 나노와이어(415)는 나노 공학 다공성 반도체 물질 또는 나노 공학 다공성 유전체를 포함할 수 있다. 어느 방식이든지, 나노와이어(415)는 전기 전도성 어레이를 형성한다. 전도성 물질(420)이 나노와이어(415)의 표면 상에 있지만, 중간 물질들도 있을 수 있다. 전도성 물질(420)은 금속 입자일 수 있고, 여기서 각각의 금속 입자는 나노와이어(415)를 형성하는 반도체 물질과 쇼트키 다이오드 접합을 형성한다. 사용 중에, 수소, 또는 메탄올 또는 천연가스 및 공기와 같은 여기 소스(430), 또는 과산화수소와 같은 일원 추진제(monopropellant) 에너지원 또는 연료가 촉매(420)와 접촉하게 되고, 이는 도체(420)로부터의 전자들이 반도체(405) 내에 주입되게 하며, 전자들은 이어서 전극(410) 쪽으로 끌려간다. 이것은 전기를 발생시킨다. 제2 전극(425)이 촉매/도체(420) 상에 형성되고, 이는, 하부 전극(410)과 함께, 전류가 흐르고 전압 전위 Vout이 전극들 사이에 발생되도록 회로가 형성될 수 있게 한다.
나노와이어(415)는 총 효율을 개선시키는 몇 가지 장점들을 제공한다. 나노와이어(415)는 표면적을 가지며, 이는 나노와이어(415)가 없는 경우에 동일한 2차원 면적이 제공하는 것보다 각각의 나노와이어(415)가 상당히 더 큰 표면적을 제공한다는 것을 의미한다. 나노와이어에 의해 제공되는 부가의 표면적은, 촉매 증착이 2차원적인 에너지 변환 디바이스와 비교할 때, 보다 많은 촉매/도체 물질이 나노와이어 상에 증착될 수 있게 한다. 나노와이어 상에 촉매 나노 입자, 나노 클러스터가 존재하는 것은 화학 반응을 위한 보다 많은 반응 사이트들을 제공하여, 보다 낮은 온도에서 증가된 반응/변환 속도를 가져온다. 다른 장점은 다공성 네트워크가 또한 나노와이어의 내부 표면 상에 위치된 촉매로의 반응물의 확산 및 촉매로부터의 반응 생성물의 제거를 용이하게 한다는 것이다.
일 실시예에서, 나노와이어(415)는, 티타늄 소스로부터의 에피택셜 씨드 층으로부터의 성장과 같은, 다양한 간단하고 저렴한 방법들에서(예컨대, 열수 공정(hydrothermal process)에서) 합성될 수 있는, 전자 수송을 향상시키는 단일 결정 TiO2 나노와이어로 이루어져 있다. 하부 접점(410)은 나노와이어 성장을 위한 에피택셜 템플릿(예컨대, TiO2 나노와이어의 경우에 FTO(fluorinated tin oxide))을 제공하는 전도성 층을 갖는 전도성 기판이다. 상부 접점(425)은 촉매/도체의 다공성 네트워크를 전기적으로 연결시켜야만 한다. 촉매/도체는 페이스트 또는 전해질일 수 있다. 다시 말하지만, 도체 및/또는 촉매가 나노 입자 페이스트, 나노 입자 용제, 박막 증착 또는 이들의 임의의 조합을 사용하여 증착될 수 있다.
도 5a는 얽히는 영역(510)에서 다공성 반도체 또는 유전체 층(515)과 3차원적으로 얽혀 있는 3차원 다공성 촉매/도체 층(505)을 포함하는 에너지 변환기 디바이스의 다른 실시예를 나타낸 것이며, 이는 차례로 평면 기판(525) 상에 위치될 수 있다. 층(515)은 앞서 논의된 바와 같이 TiO2로 구성될 수 있고, 공극을 정의하는 상호 연결 벽을 가지는 나노 공학 구조물 또는 침투 네트워크를 갖는 나노 공학 구조물인 벌집 모양의 구조물의 형태를 가질 수 있다. 어느 방식이든 간에, 벌집 모양 구조물은 촉매 층(505)으로부터의 촉매 나노 입자가 벌집 구조물의 공간에 들어가 반도체 또는 유전체 층(515)의 표면 상에 있을 수 있게 한다. 이 벌집 구조물은 층(515)을 3차원적으로 다공성으로 만든다. 이 나노 입자는, 예를 들어, 백금 또는 임의의 금속일 수 있다. 반도체 또는 유전체 층(515)의 벌집 모양 구조물은 도 5b 및 도 5c에서의 현미경 영상에서 볼 수 있다.
마찬가지로, 3차원 다공성 촉매 층(505)은 다공성 네트워크, 개개의 나노 클러스터/입자, 또는 이 둘의 조합을 포함할 수 있고, 예를 들어, 백금으로 구성될 수 있다. 다공성 반도체 또는 유전체 층(515)에서와 같이, 촉매/도체 층은 벌집 모양의 구조물의 형태를 가질 수 있다. 선택적으로, 이는 상부 전극으로서 기능하는 메쉬 또는 연속적인 시스템일 수 있다. 예시적인 3차원 다공성 층(505)은 도 5b 및 도 5c의 현미경 영상에서 볼 수 있다. 얽히는 영역(510)의 특징은 촉매/도체-반도체 접합의 3차원 네트워크를 구성하기 위해 촉매/도체가 분포되어 있을 수 있는 그의 큰 내부 표면적이다. 예시적인 얽히는 영역(510)은 도 5b 및 도 5c의 현미경 영상에서 볼 수 있다.
에너지 변환기(500)는, 선택적으로, 아래쪽의 기판과 위쪽의 다공성 물질 사이에 장벽 층을 제공하기 위해, 증발, 화학적 기상 증착(CVD), 스퍼터링, 또는 원자층 증착(ALD)과 같은, 표준 증착 방법들을 통해 증착된 비다공성 반도체 또는 유전체 층(520)을 포함할 수 있다.
도 5a에 예시된 실시예에서, 상부 전극(530)은 촉매/도체 층(505)의 일부 또는 전부 상에 형성될 수 있다. 마찬가지로, 하부 전극(535)은 평면 기판(525) 아래에 형성될 수 있다. 이 2 개의 전극은 완전한 회로를 형성하기 위해 외부 부하에 전기적으로 연결될 수 있다.
도 6은 도 5a에서와 같은 복수의 에너지 변환기 디바이스들(500)이 n 개의 셀(602a 내지 602n)로서 배열되어 있고 따라서 서로 겹치게 적층되어 있는 또 다른 실시예를 나타낸 것이다. 도 6에 도시된 화학 에너지 변환기(600)는 제조되어 평면 2차원 기판 상에 수직으로 통합될 수 있는 다공성 촉매의 다수의 층들(605a 내지 605n) 및 다공성 반도체/유전체 네트워크의 다수의 층들(615a 내지 615n)을 갖는 다중 셀 디바이스 구조물이다. 상세하게는, 화학 에너지 변환기(600)는 평면 기판(625)이 그 위에 배치되어 있는 하부 전극(635)을 가질 수 있다. 비다공성 반도체 또는 유전체 층(620)은, 원하는 경우, 평면 기판(625) 상에 위치될 수 있다. 이러한 층(620)의 사용은 아래쪽의 기판과 위쪽의 다공성 물질 사이의 장벽 층으로서 기능한다. 화학 에너지 변환기(600)의 제1 셀(602a)은 반도체 또는 유전체 물질(예를 들어, TiO2로 구성될 수 있음)로 이루어진 다공성 층(615a)을 포함한다. 제1 셀(602a)은 또한 앞서 기술된 방법들을 사용하여 그 위에 위치되는 3차원 다공성 촉매 층(605a)을 포함하고, 다공성 네트워크, 개개의 나노 클러스터/입자, 또는 이 둘의 조합을 포함할 수 있다. 촉매 층(605a)은, 예를 들어, 백금으로 구성될 수 있다. 층(615a)과 촉매 층(605a) 사이의 계면에서, 물질들이 제1 얽히는 영역(610a)에서 3차원적으로 얽힌다.
발생되는 전기의 양을 증가시키기 위해, 화학 에너지 변환기 디바이스(600)는 서로 겹치게 적층되는 부가의 셀들(602b 내지 602n)을 가진다. 예를 들어, 제2 다공성 반도체 또는 유전체 층(615b) 및 제2 촉매 층(605b)으로 이루어진 제2 셀(602b)은 제1 셀 위쪽에 형성되고, 3차원 얽히는 영역(612a)이 제1 셀(602a)과 제2 셀(602b) 사이에 형성된다. 마찬가지로, 제3 3차원 얽히는 영역(610b)이 제2 촉매 층(605b)과 제2 다공성 반도체 또는 유전체 층(615b) 사이에 형성된다.
에너지 발생을 추가로 증가시키기 위해, n 개의 부가 셀들(602n)이 화학 에너지 변환기(600)에 부가될 수 있다. 부가 셀들 각각은 n 개의 제2 촉매 층(605n) 및 n 개의 다공성 반도체 또는 유전체 층(615n)으로 이루어져 있고, 3차원 얽히는 영역(610n)이 촉매 층(605n)과 다공성 반도체 또는 유전체 층(615n) 사이의 모든 계면에 형성된다. 3차원 얽히는 영역(612a 내지 612m)이 각각의 셀 사이에 형성될 것이다. 이러한 다중 셀 구조물은 보다 큰 디바이스를 포함함이 없이 반응 사이트 전력 발생/변환을 위한 촉매 도체-반도체 계면 총면적을 상당히 증가시키고, 그로써 화학 반응을 통한 연료 변환 및 대응하는 전기 출력을 증가시킨다.
에너지 변환기(700)가 도 5에서 기술된 다공성 촉매와 다공성 반도체의 통합을 가지는 도 7에 예시된 또 다른 실시예는 3차원 표면 상에 구성된다. 이러한 3차원 표면은 평면 2차원 기판보다 더 큰 표면적을 가지며, 그 결과 전력 발생/변환을 위한 활성 사이트가 증가되고, 이는 차례로 발생되는 전기의 양을 증가시킨다. 상세하게는, 도 7을 참조하여 기술되는 실시예는 하부 전극(735)을 갖는다. 3차원 기판(725)은, 예를 들어, 표준 리소그래피 패터닝/에칭 공정을 사용하여 그 위에 제조된다. 이 실시예에서, 기판(725)은 패터닝된 3차원 네트워크 마이크로 트렌치(712)를 형성한다. 원하는 경우, 아래쪽의 기판과 위쪽의 다공성 물질 사이의 장벽 층으로서 기능하는 비다공성 층(720)이 패터닝된 기판(725) 상에 위치될 수 있다. 도 5에 도시된 실시예에서와 같이, 다공성 반도체/유전체 네트워크(715)는 패터닝된 기판(725)(또는 비다공성 층(720)(존재하는 경우)) 상에 위치된다. 촉매 층(705)이 다공성 반도체/유전체 네트워크(715) 상에 위치되고, 또한 얽히는 영역(710)을 형성하기 위해 다공성 반도체/유전체 네트워크(715)의 공극에 들어간다. 제2 전극(730)이 촉매 층(725) 상에 위치되고, 제1 전극(735)과 결합하여, 전압이 나타나게 할 수 있고, 따라서 변환기 디바이스(700)에 의해 발생된 전기의 사용을 가능하게 한다.
도 8은 도 5에 기술된 것과 유사하게 내부 및 외부 표면들이 다공성 반도체 또는 촉매 층(815)과 다공성 촉매(805)의 통합으로 덮여 있는 다공성 3차원 기판/지지 층(825)을 포함하는 화학 에너지 변환기(800)의 일 실시예를 나타낸 것이다. 상세하게는, 화학 에너지 변환기 디바이스(800)는 다공성 기판/지지 층(825)이 그 위에 위치되어 있는 하부 전극(835)을 가진다.
제2 전극(830)이 층(825) 상에 위치되고, 제1 전극(835)과 결합하여, 전압이 나타나게 할 수 있고, 따라서 변환기 디바이스(800)에 의해 발생된 전기의 사용을 가능하게 한다.
3차원 다공성 기판은 전형적으로 비정질이고, 어닐링 시에, 결정화될 수 있다. 나노 공학 구조물은 전형적으로 상호 연결된 벽 및 와이어로 이루어져, 고도로 다공성인 구조물을 형성한다. 물리적 및 전기적 특성들 중에서도 특히, 공극의 크기, 다공성 층의 두께가 공정 파라미터에 의해 조정될 수 있다.
반도체 또는 유전체(예를 들어, TiO2)의 나노 공학 다공성 네트워크 또는 층을, 그 위쪽에 있는 촉매에 대한 지지체로서, 생성하는 다른 방법은 다공성 층/네트워크의 박막을 형성하기 위해 TiO2 나노 입자의 페이스트를 이용하는 것이다.
도 9a는 도 5에 기술된 실시예와 같이 표면이 다공성 반도체 또는 유전체 물질 층(915)과 다공성 촉매(905)의 통합으로 덮여 있는 3차원 텍스처링된 기판/지지 층(925)을 가지는 일 실시예를 나타낸 것이다. 상세하게는, 도 9에 예시된 화학 에너지 변환기(900)는 하부 전극(935)을 갖는다. 예를 들어, 실리콘 웨이퍼를 에칭하는 것에 의해 생성될 수 있는 3차원 텍스처링된 기판(925)이 그 위에 위치된다.
텍스처링된 기판(925)은 피크 및 밸리를 형성하고, 그로써 3차원 반응 구역을 생성한다. 이 3차원 반응 구역은 화학 반응에 이용 가능한 표면적을 증가시키고, 이는 주어진 디바이스 크기에 대해 특정의 양의 시간 동안 일어날 수 있는 반응 사이트의 수를 증가시키며, 그로써 에너지 변환기(900)의 전기 발생 능력을 증가시킨다. 원하는 경우, 비다공성 층(920)이 텍스처링된 기판(925) 상에 위치될 수 있다. 상기와 같이, 비다공성 층(920)은 아래쪽의 기판과 위쪽의 다공성 물질을 분리시키는 장벽 층을 제공한다. 다공성 또는 반도체 또는 유전체 층(915)은 텍스처링된 기판(925)(또는 비다공성 층(존재하는 경우)) 상에 위치된다.
촉매 층(905)이 다공성 반도체/유전체 네트워크(915) 상에 위치되고, 또한 얽히는 영역(910)을 형성하기 위해 다공성 반도체/유전체 네트워크(915)의 공극에 들어간다. 제2 전극(930)이 촉매 층(905) 상에 위치되고, 제1 전극(935)과 결합하여, 전압이 나타나게 할 수 있고, 따라서 변환기 디바이스(900)에 의해 발생된 전기의 사용을 가능하게 한다.
본원에 기술되는 다른 실시예들에서와 같이, 텍스처링된 기판(925)의 사용의 결과, 촉매에 대한 표면적이 증가되고, 그 결과 평면 2차원 기판을 가지는 에너지 변환기보다 더 많은 전기가 발생된다.
도 9b는 텍스처링된 기판을 가지는 도 9a에서와 같은 에너지 변환기를 나타낸 현미경 영상이다. 현미경 영상은 반도체 또는 유전체 층(915)이 그 위에 형성된 기판(925)을 보여준다. 나노 입자 형태의 촉매 층(905)(도시 생략)이 유전체/반도체 층(915) 상에 있고, 나노 입자가 층(915)의 공극에 들어가 얽히는 영역을 형성한다. 도 9c는 유전체/반도체 층(915)의 텍스처를 볼 수 있는 상면도를 나타낸 것이다.
디바이스 구조물, 구체적으로는 전기 에너지를 발생시키는 고상 접합을 포함하는 다공성 네트워크를 형성하기 위해 나노와이어 어레이, 나노 공학 구조물을 사용하여 이를 제조하는 방법/공정이 본원에 기술된다. 디바이스 구조물은 2차원 평면 기판 상에 또는 3차원 기판 상에 제조될 수 있다. 2차원 또는 3차원 기판들은 강성이거나 가요성/굴곡성일 수 있다. 예시적인 방법은 하나 이상의 고상 전기 발생기를 제조하는 것을 포함한다. 고상 전기 발생기는 광기전적으로 여기되는 고상 전기 발생기를 포함하는 그룹으로부터 선택된 하나 이상을 포함한다.
일 실시예는 도체와 반도체 물질 사이의 전기 지연 전위(electrical retarding potential)를 제공하는 접합이 적어도 도체-유전체, 유전체-유전체, 또는 유전체-도체-유전체 접합을 포함할 수 있는 고상 디바이스이다. 절연체 및 반금속이 여기서 유전체 및 금속의 일부인 것으로 간주된다. "반도체 접합"이라는 용어는 금속 및/또는 반도체, 큰 대역 갭 및 저농도로 도핑된 비정질 물질을 갖는 절연체 물질, 반금속, 절연체, 비정질 물질, 다결정 물질로 형성된 양자 우물을 포함하는 반도체 접합을 포함한다. "금속"이라는 용어는 고농도로 도핑된 반도체, 금속, 반금속, 고농도로 도핑된 반도체, 전기 도체를 포함한다. 지도 원리는 접합이 접근하는 전하 캐리어에 지연 및 극복 가능 및/또는 터널링 전위 둘 다를 제공한다는 것이다.
일 실시예에서, 고상 변환기는 도 10에 도시된 바와 같이 에너지 변환 공정으로부터의 임의의 과도한 열을 발산시키기 위해 히트 싱크에 연결될 수 있다. 히트 싱크는 반응물 및 가스에 의해 및/또는 기판(물리적으로 히트 싱크에 연결될 수 있음)에 의해 제공될 수 있다. 도 10을 참조하면, 촉매를 포함하는 표면(1001)에 의해 부분적으로 둘러싸여 있는 영역 내의 화학 반응물이 표면 근방에서 반응할 수 있고, 표면(1001)의 근처에, 그 근방에 또는 그 내에 있는 반응 중간생성물과 접촉하거나, 그를 흡수하거나, 해리하거나, 재결합시키거나, 형성할 수 있다.
도 10의 실시예에서 유전체 및 전위 장벽 물질(1003)은, 도체와 비교하여, 반도체 TiO2로 선택된다. 도체(1002)는 유전체 반도체(1003)와 쇼트키 장벽을 형성한다. 마이너스 전극(1006)과 플러스 전극(1007) 사이에 전위가 관찰된다. 도체 및 전극 물질 둘 다가 적어도 금속, 전도성 산화물과 같은 도체, 그리고 고농도로 도핑된 실리콘 및 반도체와 같은 축퇴적으로 고농도로 도핑된 반도체, 높은 ZT 성능 지수(figure of merit)를 갖는 물질을 포함하는 그룹으로부터 선택된 물질을 포함한다. 반응에 의해 그리고 쇼트키 접합 에너지 변환기에 의해 발생된 열은 보다 차가운 온도의 히트 싱크(1005) 내로 배출된다.
도 10에서 보다 낮은 온도의 히트 싱크는 반응물(1000) 자체를 포함할 수 있는데, 그 이유는 이 디바이스에서의 반응물이, 시스템에 공급될 때, 일반적으로 뜨겁지 않기 때문이다.
일 실시예는, 예를 들어, 루틸(rutile) TiO2, 아나타제(anatase) TiO2, 다공성 아나타제 TiO2, SrTiO3, BaTiO3, Sr_x-Ba_y-TiO_z, LiNiO, 및 LaSrVO3, 그리고 특정 유기 반도체(PTCDA, 또는 3,4,9,10-페릴렌테트라카르복실산-다이안하이드라이드 등)(이들로 제한되지 않음)를 비롯한, TiO2 이외의 유전체 또는 반도체(1003)를 사용하는 것을 포함한다. 첨자 x, y 및 z는 통상의 관례에 따른 농도를 나타낸다. SrTiO3의 하나의 장점은 그에 대한 쇼트키 장벽이 해제(unpin)되어, TiO2의 장벽에 비해 비교적 더 큰 장벽을 제공할 수 있다는 것이다.
도 10의 일 실시예에서, 히트 싱크(1005)는 유전체(1003)에 직접 결합될 수 있는 반면, 다른 실시예에서, 직접 결합이 필요하지 않다. 이러한 히트 싱크는 히트 파이프, 유체 흐름을 갖는 모세관 시스템, 반응물 자체를 사용하는 것(이들로 제한되지 않음)을 포함한 증발 냉각, 열 전도성 물질 및 대류 흐름 방법, 그리고 나노스코픽 열 구배 변환기를 포함할 수 있다.
일 실시예에서, 에너지 변환기 시스템은 도 11에 도시된 바와 같이 히트 싱크에 연결된 다수의 보조 변환기들에 연결된 주 변환기를 포함할 수 있다. 주 변환기는 화학적으로 여기될 수 있다. 주 변환기는 하나의 여기 소스에 의해 여기될 수 있는 반면, 보조 변환기들은 다른 여기 소스에 의해 여기될 수 있다. 대안적으로, 그들이 유사한 여기 소스에 의해 여기될 수 있다. 예를 들어, 주 변환기는 화학 반응에 의해 여기될 수 있고, 주 에너지 변환기로부터의 과도한 열은 차례로 보조 변환기를 여기시킨다. 일반적인 다른 에너지 변환 시스템들을 포함하는 구성에서, 고상 변환기들은 열적으로 직렬로 그리고 전기적으로 직렬로 또는 병렬로 연결된다. "직렬-병렬"이라고 지칭되는 이러한 상호연결은 신뢰성를 보장하기 위해 사용되는 직렬 병렬 구성을 배제하지 않는다. 예를 들어, 화학적으로 여기되는 발생기의 마이너스 전극(1108)은 보조 변환기(1101)의 플러스 전극에 전기적으로 그리고 열적으로 결합된다. 보조 변환기의 마이너스 전극(1103) 및 반도체 물질(1102)은 보다 차가운 히트 싱크(1110)에 열적으로 결합된다. 전기는 플러스 전극(1106) 및 마이너스 전극(1103)으로부터 얻어지고, 그리고 디바이스들이, 이 예에서, 직렬로 있기 때문에, 또한 플러스 전극(1101) 및 마이너스 전극(1103)으로부터 얻어진다. 유의할 점은, 출력 전압이 플러스 및 마이너스 전극 쌍 중 임의의 것으로부터 끌어내어질 수 있다는 것이다. 유의할 점은, 이러한 다수의 출력들이 아주 유익하다는 것이다.
이 구성은 화학적으로 여기되는 발생기가, 보조 변환기가 없는 경우, 반응 속도의 증가, 따라서 보다 높은 전력 밀도를 가능하게 하는 것보다 더 높은 온도에서 동작할 수 있게 한다. 증가된 온도는 또한 일부 반응물들의 점화 온도에서 매우 다양한 반응물 및 동작의 사용을 가능하게 한다.
도 12를 참조하면, 일 실시예는 열적으로 여기되는 고상 변환기들 - 각각이 다음 고상 변환기에 열적으로도 전기적으로도 직렬로 연결됨 - 을 재귀적으로 반복한다. 제1 스테이지(1201)는 많은 공지된 방법들 중 임의의 것에 의해 여기되는 화학적으로 여기되는 전기 발생기일 수 있다.
재귀적으로 반복되는 고상 변환기들(1202)은 이어서 제1 스테이지(1201)의 보다 높은 온도 "열 방출" 및 보다 낮은 온도의 주변 히트 싱크로부터 전기를 발생시킨다. 추정치들은 재귀적으로 반복된 열 구배 변환기가 그의 열원 온도과 히트 싱크 온도 사이의 카르노 한계 효율(Carnot limit efficiency)의 약 80%를 달성할 수 있다는 것을 암시한다.
출력 전압이 플러스 및 마이너스 전극 쌍 중 임의의 것으로부터 끌어내어질 수 있다는 것이다. 일 실시예는 히트 싱크에 접속된 일련의 보조 열 구배 변환기들에 접속된 주 에너지 변환기를 사용한다. 도 12는 이러한 에너지 변환기를 나타낸 것이다. 다수의 보조 변환기들(1202)이 직렬로 연결된다. 직렬 연결(1202)의 한쪽 단부는 히트 싱크(1203)에 연결된다. 직렬 연결(1202)의 다른쪽 단부는 주 에너지 변환기(1201)에 연결된다. 주 에너지 변환기는 열 구배, 광기전 또는 다른 수단에 의해 화학적으로 여기될 수 있다. 구성요소들(1202)의 개수는 0부터 원하는 개수까지(경계 포함)일 수 있다. 구성요소들(1202)의 주 기능은 이전에 연결된 에너지 변환 구성요소로부터의 배출 열 에너지의 일부를 전위로 변환하는 것이다.
일 실시예는 일련의 보조 변환기들(1202)에 접속된 주 변환기(1201)를 포함할 수 있고, 보조 변환기들 중 하나 이상은 전기적으로 및 열적으로 직렬로 연결되고 히트 싱크에 접속된 유전체-도체-유전체 접합을 포함할 수 있다.
다양한 실시예들은 고상 에너지 변환기에 대한 히트 싱크를 제공한다. 냉각을 위한 히트 싱크는, 대류 흐름, 상 변화 또는 증발 냉각, 및 히트 파이프를 비롯한, 많은 방식들로 달성될 수 있다. 반응물 또는 반응 성분이 사용될 수 있다. 예를 들어, 도 13은 변환기를 지지하는 구조물을 갖는 그리고 냉각제가 흐를 수 있는, 반응물이 흐를 수 있는, 첨가제가 흐를 수 있는, 또는 이 물질들의 임의의 조합이 흐를 수 있는 변환기 어셈블리의 내부를 갖는 공극/구멍(1303)을 사용하는 일 실시예를 나타낸 것이다. 공극/구멍(1303) 대신에 채널, 덕트(duct) 또는 파이프가, 도시되어 있지 않지만, 이 특징을 위해 또한 사용 가능하다. 각각의 경우가 그의 장점들을 가진다. 물질(1301)이 차가운 측면(1302)으로부터 공극 또는 구멍(1303)을 통해 뜨거운 영역(1304)으로 흐른다. 차가운 측면(1302) 및 뜨거운 측면(1304) 둘 다는 반응물 또는 첨가물을 포함할 수 있고, 뜨거운 측면은 배기 및 공기 흐름 둘 다와 연관되어 있다.
차가운 측면(1302)에서의 반응물(1301)의 증발은 물론 보다 차가운 물질(1301)의 흐름은 냉각을 야기한다. 반응물(1301)은 적층물의 뜨거운 표면(1305) 근방에서 농축되고 연료 과다(fuel rich)일 수 있다.
보다 따뜻한 반응 표면(1305)과 접촉할 때 기체로 되는 액체 반응물 또는 증발 냉각제(1301)를 사용하는 것은 화학적으로 여기된 핫 전자(hot electron) 공정에 대한 바람직한 기체 화학종(gas specie)을 제공한다.
일 실시예는 공기 역학적 표면(aerodynamic surface) 바로 위에 변환기를 형성한다. 이것은 전기의 직접 발생은 물론 액체-기체 변환에 의해 발생된 기체를 터빈을 미는 질량 흐름(mass flow)으로서 사용하는 것 또는 유용한 일의 다른 기계적 추출 및 축 에너지의 발생을 가능하게 한다.
일 실시예는 전기 발생기에서의 저온 히트 싱크에 대해 액체 공기 및 다른 액체 가스(1301)를 사용한다. 액체 공기 및 유사한 불활성 액체 가스는 영역(1302)에 히트 싱크를 제공할 수 있고, 배기 영역(1304)에서의 주변 공기는 열원을 제공할 수 있으며, 디바이스는 그로써 온도차를 사용하여 직접 전기를 발생시킬 수 있다. 액체/기체 상 전이(phase transition)는 또한 그와 동시에 터빈과 같은 기계 에너지 변환기를 작동시킬 수 있다.
일 실시예는 공기 흐름을 제공하기 위해 자연 대류를 사용한다. 유의할 점은, 냉각 공기 체적이 전형적으로 반응 공기 체적보다 훨씬 더 클 수 있다는 것이다.
도 13에 기초한 일 실시예는 또한, 납작해진 튜브와 같은, 일반화된 튜브의 기하학적 형태의 단면을 나타낼 수 있다. 일반화된 튜브는 하나 이상의 면 상에서 고상 에너지 변환기로 코팅된다. "튜브"는 여기서, 불균일한 벽을 포함하는 임의의 상대 벽 두께를 갖는, 임의의 부분적으로 비어 있는 기하학적 형태를 갖는 무언가를 지칭한다. 예를 들어, 튜브는 기체 또는 액체 흐름을 가능하게 하는 2 장의 시트 사이의 밀폐된 공간을 갖는 그리고 가장자리들에서 밀폐된 체적을 갖는 2 장의 시트처럼 보이도록 납작하게 될 수 있다.
도 14를 참조하면, 기본적인 적층 가능 유닛이 전기 전도성 층, 열 전도성 층, 및 구조적 지지 층 중 하나 이상을 포함하는 구조물 상에 위치되어 있다.
실시예들은 전기 발생기의 체적을 생성하기 위해 하나 이상의 고상 발생기 어셈블리를 서로 연결시켜 적층시킨다. 적층물들은 전기적으로 직렬로 또는 병렬로 연결될 수 있다.
도 14에 단면도로 도시된, 기본적인 적층 가능 유닛의 일 실시예는 핵심 요소 - 위쪽에 있는 플러스의 여기된 측(1404)과 아래쪽에 있는 마이너스 측과 전기적으로 연결될 고상 변환기(1401)(주 에너지 변환기만으로 또는 주 및 보조 에너지 변환기들로 이루어져 있을 수 있음) - 를 포함한다. 에너지 변환기들은 지지되고 플러스 전극 연결부(1402), 마이너스 전극 연결부(1403)와 연결된다. 구조물(1403)은 전기 전도성 요소, 열 전도성 요소, 및 강도 구조물 요소(strength structure element) 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 적층하는 것은, 변환기(1401)의 활성 구역 위쪽에 여기 소스 및 열원을 위한 공간을 남겨 두면서, 기본적인 적층 가능 유닛을 다른 기본적인 적층 가능 유닛들 상에 위치시키는 것을 포함한다. 동일한 것이 임의의 실행 가능 구성 또는 배열로 달성될 수 있다.
도 14a 및 도 14b에 도시된 실시예는 플러스 전극들(1402, 1404)을 변환기(1401)를 통해 마이너스 전극(1403)에 연결시킨다. 플러스 전극들(1402 및 1404)이 도시되어 있지만, 단지 하나만 존재해도 된다. 이것의 단면이 도 15에 도시되어 있다. 유의할 점은, 도 15의 각각의 기본 구조물이 3차원 기본 적층 구조물들의 매트릭스를 형성하기 위해 수직 방향으로 그리고/또는 수평 방향으로 재귀적으로 적층될 수 있다는 것이다.
도 14b는 실시예들에서 명확함을 위해 의도적으로 생략되어 있는 전기적 및 열적 연결 및 계면에 관련된 상세를 제공한다.
실제로, 본 기술 분야의 통상의 기술자는 전극을 변환기에 연결시키기 위해 많은 공지된 방법들 중 하나를 사용할 것이다. 도 14b를 참조하면, 일 실시예는 플러스 전극(1402)을 구조물(1403) 바로 위에 형성된 절연체(1405) 상에 위치시키고, 이어서 플러스 전극(1402)을 변환기 어셈블리의 플러스 단부 및 활성 표면(1404)에 전기적으로 연결시키기 위해 전기적 브리지(1406)가 형성된다. 구조물 요소(1403)는 실제로 변환기의 마이너스 측면에 연결된 전기 도체를 포함할 것이고, 또한 변환기에의 열적 연결을 포함할 것이다. 간단한 실시예는 구조물(1403)을 전기 전도성이면서 열 전도성이도록(예를 들어, 5 마이크로미터 두께의 알루미늄 또는 구리 박으로) 형성한다.
일 실시예는 도 14a 및 도 14b에 도시된 기본적인 적층 가능 유닛들을 서로 겹치게 적층시켜, 전기 발생기 에너지 변환기들의 체적을 형성한다. 반응물 및 냉각제(1500)가 적층물들 사이의 공간(1501) 내로 흐르고, 배기 가스가 공간을 통해 흘러 나간다.
다른 실시예는 동일한 평면에 있는 인접한 변환기들의 플러스 전극을 마이너스 전극에 연결시키는 것에 의해 적층물의 평면을 따라 변환기들을 직렬로 연결시킨다. 이것은 몇 가지 방식들로 달성될 수 있고, 그 중 하나가 도 16에 도시되어 있다. 전기적 연결(1602)이 제1 변환기(1601A)의 플러스 측면 및 활성 표면에 대해 이루어지고, 절연체(1605)에 의해 절연된 상호 연결 도체(1603)에 연결된다. 상호연결부(1603)는 제2 변환기(1601B)의 마이너스 측면(1605)과 전기적으로 접촉한다. 절연 스페이서(1600)가 도 16에서 변환기 후방에 개념적으로 도시되어 있다. 2 개의 직렬 디바이스들이 기판(1606) 상에 있다.
다른 실시예는 도 17에 도시된 기본적인 적층 가능 유닛의 몸체를 통해 냉각제 및/또는 반응물(1700)을 제공한다. 예를 들어, 고상 변환기(1701) 및 스페이서(1702)가 구조물 및 기판(1703) 상에 형성되고, 그 내부(1704)에서 반응물 및/또는 냉각제(1700)가 흐른다. 도 18을 참조하면, 이 실시예의 디바이스는 말아질 수 있고, 스페이서(1702)(도 18에서 1802로 표시됨) 및 변환기(1701)(도 18에서 1801로 표시됨)에 의해 형성된 롤 사이의 공간(1705)(도 18에서 1805로 표시됨)은 반응물이 공간(1805) 내로 흐를 수 있게 하고 배기 가스가 공간(1805) 밖으로 흐를 수 있다. 스페이서(1702/1802) 및 전기 상호연결부가 또한 명확함을 위해 도 17에 도시되어 있다. 상세한 연결이 또한 도 16 및 도 14b에 설명된 것과 같을 수 있다.
이 실시예들 각각에서, 변환기는 앞서 기술된 기둥 형태를 비롯한 많은 형태들을 취할 수 있고, 거의 임의적인 형상들의 많은 표면들 상에 부착될 수 있다.
도 19는 촉매 표면, 클러스터 또는 나노 구조물 상에 또는 그 내에서의 흡수 및 결합 반응에 의해 발생되는 포논의 방출이 작동액 압력으로 변환되는 디바이스의 예시적인 실시예를 나타낸 것이다.
도 19에 도시된 실시예에 따르면, 포논이 기판의 반대쪽으로 이동하여 액체에 압력을 가하도록, 촉매 몸체의 제1 측면 상에서 촉매 몸체 내로 들어가는 포논에 의해 발생되는 압력이 촉매(또는 촉매가 위치해 있을 수 있는 기판)의 기하학적 형태에 의해 안내될 수 있는 포논 파를 형성한다. 이 이동의 두께는 포논의 방향이 실질적으로 교란되지 않는 채로 있는 평균 거리 미만이어야만 한다. 도착하는 포논의 지향성 및 비대칭 압력이, 액체 금속 또는 희생 계면과 같은 액체를 밀어내어 액체가 하부 표면에 평행한 방향으로 이동하게 하는, 파 운동(wave motion)으로서 촉매 몸체의 반대쪽에서 나타나도록 하는 각도("스침" 각도(grazing angle))로 포논이 도착한다. 디바이스의 하부의 표면을 따르는 파 운동 또는 지향 충격(directed impulse)으로 인해 벽과 액체 사이의 겉보기 마이너스 마찰 계수(apparent negative coefficient of friction)가 나타난다.
예시적인 디바이스는, 도 19의 단면도에 도시된 바와 같이, 톱니 패턴을 가지는 상부 및 하부 표면들을 갖는 기판(1902)을 포함한다. 하부 표면은 작동액(1904)과 접촉하고 있다. 도 19에 도시된 바와 같이, 기판은 직사각형 단면을 가지며 작동액(1904)에 대해 일정 각도로 서로 인접하여 배열된 복수의 서브구조물들(1900)을 포함하는 것으로 생각될 수 있다.
기판의 상부 표면에서, 각각의 서브구조물(1900)은 촉매를 포함하는 층(1901)을 포함한다. 인접한 서브구조물들 사이의 노출된 측면 표면 상에서, 각각의 서브구조물(1900)은 촉매 및 반응물에 대해 불활성인 물질의 층(1902)을 포함한다. 각각의 서브구조물의 몸체는 포논 도파로(phonon waveguide)로서도 기능하는 기판(1903)으로 이루어져 있다. 백금이 촉매 층(1901)에 대해 그리고 기판(1903)에 대해 사용될 수 있고, 공기는 산화제이고, 에탄올 또는 메탄올은 탄화수소 반응물 연료(hydrocarbon reactant fuel)이며 물 또는 수은은 작동액(1904)이다. 작동액은 또한 디바이스에 대한 냉각제로서 역할할 수 있고, 그로써 높은 전력 밀도 동작을 가능하게 한다.
촉매(1901) 및 기판(1903)은 동일한 물질(예컨대, 백금)로 이루어져 있을 수 있다. 작동액 내로의 포논 운동의 전파를 최소화하기 위해 구조 고려사항들, 제조성 및/또는 임피던스 정합에 기초하여 다른 기판 물질들이 사용될 수 있다.
백금 촉매 층(1901) 및 기판(1903)의 두께는 광 분기 포논 또는 고주파수 음향 분리 포논의 에너지 변경 평균 자유 경로 미만이어야만 하고, 적어도 10 나노미터 정도이고 1 마이크로미터만큼 클 수 있다.
기판(1902)의 표면 상에 톱니 패턴을 형성하기 위해 나노 제조 방법들이 사용될 수 있고, 이러한 패턴의 단위의 치수는 1 마이크로미터만큼 크다.
도시된 바와 같이(예컨대, 상부 표면의 톱니 패턴의 우측으로 향한 면(facet) 상에) 불활성 층(1902)을 증착하는 것에 의해, 도 19에서 화살표로 나타낸 바와 같이, 반응에 대한 그리고 따라서 포논 전파에 대한 우선 방향(preferential direction)이 설정된다.
음향, 초음파 또는 기가헤르쯔 음향 레일리파(Rayleigh wave)가 촉매측에서 반응 속도를 자극하고 포논의 방출을 동기화하는 데 사용될 수 있다. 이 파는 포논 방출의 크기를 증가시키고 간섭성 방출을 야기하여, 피크 및 평균 전력 둘 다를 크게 향상시킨다.
추가의 실시예에서, 물질의 박층 또는 층들이 기판과 액체 사이에 배열된다. 이 층들은, 작동액 내로의 운동량의 전달을 최대화하고 기판(1904) 내로의 반사를 최소화하기 위해, 기판(1902)과 작동액(1904) 사이에서 음향 임피던스를 가지는 물질로 이루어져 있다. 물질의 체적 탄성률 및 포논 전파 특성들로 인해 기판으로부터 나오는 포논이 최소한의 반사 및 에너지 손실로 실질적으로 액체 내로 전달되도록 물질이 선택되어야만 한다.
촉매 반응을 향상시키기 위해, 촉매 및 기판 구조물은 도 4 내지 도 9에 기술된 3D 다공성 형태를 취할 수 있다. 이것은 반응 면적 및 반응 속도를 증가시켜, 발생된 포논의 크기의 증가를 제공한다. 이것은 단위 투사 면적당 발생된 운동을 증가시킨다.
디바이스의 추가의 실시예에서, 촉매 반응에 의해 발생된 포논의 방출은 포논이 물질과 충돌할 때 물질 내에서의 압전 효과에 의해 전류로 변환된다. 이러한 디바이스의 예시적인 실시예가 도 20에 도시되어 있다.
도 20의 예시적인 디바이스는 압전 요소(2003) 상에 배열된 촉매 층(2001)을 포함하고, 압전 요소(2003)는 차례로 지지 기판(2004) 상에 배열된다. 층들(2001, 2003)은 강성, 가요성 또는 굴곡성인 2D 또는 3D 텍스처링된 기판 상에 있는 고상 디바이스로서 본원에 기술되는 3차원 다공성 구조물일 수 있다. 촉매 층(2001)은 나노클러스터, 나노층 또는 양자 우물, 또는 3D 다공성 네트워크로서 구현될 수 있다. 본 발명에 따르면, 전기 리드들(2002)이 압전 요소(2003) - 그의 양단에 전위가 나타남 - 의 반대쪽 단부들에 제공된다. 도 20의 예시적인 실시예에서, 촉매 층(2001)은 백금을 포함하고, 공기는 산화제이고 에탄올 또는 메탄올은 탄화수소 반응물 연료이다. 압전 요소(2003)는 통상적으로 압전형이 아닌 반도체(InGaAsSb 등)를 비롯한 임의의 압전 물질(piezomaterial)을 포함할 수 있다. 반도체와 백금 사이의 격자 부정합은, (Ba, Sr)TiO3 박막, AlxGal-xAs/GaAs 및 응력 변형된 층 InGaAs/GaAs (111)B 양자 우물 p-i-n 구조물과 같은, 반도체, 또는 높은 비선형성을 갖는 강유전체 또는 압전 물질에 압전 특성을 유발하는 응력 변형(strain)(흔히 변형 전위(deformation potential)라고 불리움)을 생성한다.
압전 요소(2003)가 반도체로 이루어져 있는 경우, 반도체는 광자를 전기로 변환하고, 전자들을 전기로서 회수하며, 포논을 전기로 변환하는 다이오드 요소가 된다.
도 20의 예시적인 실시예에서, 반응물이 촉매 층(2001)과 상호작용할 때, 반응에 의해 발생된 포논이 압전 물질(2003) 내로 전도된다. 그 결과, 전기 접점(2002)에서 압전 물질(2003) 내에 전위가 유발된다.
기판(2003)의 기하학적 형태는 바람직하게는 압전 요소(2003)의 비선형성을 향상시키기 위해 포논을 집속시키도록 되어 있다. 이 결과, 고주파수 포논이 자기 정류된다. 예시적인 실시예에서, 촉매에 의해 발생된 포논을 압전 물질 상으로 집속시키기 위해, 압전 요소(2003)는 바람직하게는 곡면이고 렌즈 또는 집속 반사체(concentrating reflector)와 같은 형상으로 되어 있다. 포논의 집속은 초점에서 큰 진폭의 원자 운동을 야기한다. 이 집속에 의해 유발된 원자 운동은 압전 물질을 비선형으로 되게 하고, 초점에서 물질에서의 전기의 발생과 같은 비선형 응답을 야기한다. 이 결과, 차례로 압전 물질이 포논 유발 고주파수 전류의 정류기로 된다.
반응 속도를 자극하고 포논의 방출을 동기화하기 위해, 포논 방출의 크기를 향상시키기 위해, 그리고 간섭성 방출을 야기하여 압전 물질(2003)에 전달되는 피크 및 평균 전력 둘 다를 크게 향상시키기 위해, 음향, 초음파 또는 기가헤르쯔 음향 레일리파가 도 20의 예시적인 디바이스의 촉매 측면에서 사용될 수 있다. 음향 레일리파는 백금 촉매 표면 상에서의 산화 반응을 가속시킨다. 발생기(도시 생략)를 사용하여 촉매(2001)의 표면 상에서 표면 탄성파가 발생될 수 있다. 이러한 파는 음향, 초음파 또는 기가헤르쯔 주파수를 가질 수 있다. 레일리파는 반응을 동기화시키기 위해 반응을 유발시키고, 이는 차례로 포논의 방출을 동기화시킨다. 그 결과, 반응이 펄스 방식으로 집군되고, 이는 압전 물질(2003)에 전달되는 전력을 향상시킨다.
도 20의 디바이스의 동작 주파수는 바람직하게는 GHz 범위에 있고 압전 물질(2003)에 의해 생성되는 교류의 정류가 종래의 수단(반도체 다이오드 등)으로 달성될 수 있도록 보다 낮다.
추가의 예시적인 실시예에서, 고도로 진동 여기된 라디칼 및 최종 생성물 분자와 같은 여기 상태 생성물에 의해 방출되는 적외선 광자와 같은 전자기 방사가 광기전적으로 전기로 변환된다. 방사선의 자극 방출이 여기 상태 생성물(촉매 표면 상의 고도로 진동 여기된 라디칼 및 반응 생성물 분자 - 둘 다 촉매 표면 상에 있음 - 등)로부터 에너지를 추출하고 그로부터 방출하는 데 사용된다. 추출된 에너지는 간섭성 빔 또는 적외선 또는 광 에너지의 초방사성 빔(super-radiant beam)의 형태로 나타난다. 방사선의 주파수는 반응물의 정상 모드 진동 주파수의 기본 진동(fundamental)(1의 진동 양자수 변화) 또는 배진동(overtone)(2 이상의 진동 양자수 변화)에 대응한다. 본 발명에서 몇 가지 상이한 주파수들이 동시에 추출될 수 있다. 그 결과 얻어진 간섭성 빔이 그 자체로 유용하지만, 이 고강도 빔이 또한 광기전적으로 전기로 변환될 수 있다. 본 발명에 따르면, 이러한 방출이 촉매 표면 상에서의 반응에 의해 생성되고, 광 공동(optical cavity)의 사용에 의해 가속된다. 도 21은 이러한 변환을 수행하는 전기 발생기의 예시적인 실시예를 나타낸 것이다.
도 21의 디바이스는 촉매(2102)가 복수의 아일랜드들, 나노클러스터들, 양자 우물 클러스터들 또는 양자점들에 배열되어 있는 하나 이상의 기판들(2102)(명확함을 위해, 그 중 하나에만 번호가 부기되어 있음)을 포함한다. 촉매 클러스터들은 충분히(예컨대, 수십 나노미터 이상) 떨어져 있고, 기판은 충분히 얇게(예컨대, 1 센티미터 미만의 총 광학 두께) 제조되며, 따라서 화학종 방출의 주파수에서 IR 흡수가 완화된다. 기판(2101) 상의 촉매 클러스터의 어셈블리는 반응 방사선에 실질적으로 투명하다. 촉매(2102)는 바람직하게는 백금 또는 팔라듐이다. 디바이스는 바람직하게는 다량의 반응들을 가능하게 하기 위해 적층된 복수의 기판들(2101)을 포함한다. 다시 말하지만, 그에 부가하여, 촉매 반응을 향상시키기 위해, 촉매/기판 구조물이 도 4 내지 도 9에서 앞서 기술된 임의의 형태를 가질 수 있다.
촉매-기반 적층물(2101/2102)이 도 4에 도시된 바와 같이 배열된 고반사성 요소(2103) 및 저반사성 요소(2104)를 가지는 광 공동 내에 밀폐된다. 광 공동 및 촉매-기판 적층물(2101/2102)은 바람직하게는 반응 방사선 또는 그의 배진동에 공명한다. 광 공동이 방사선의 에너지를 증가시키기 위해 배진동 방사선(즉, 양자 수의 변화가 2 이상인 다중극 방사선(multipole radiation))을 자극하는 데 사용될 수 있다. 광 공동은 바람직하게는 화학종 주파수의 배진동에 동조되어 있는 패브리-페로 공동(Fabrey-Perot cavity)에서와 같이 다수의 주파수들을 가진다.
연료(2107)(수소, 에탄올 또는 메탄올 등) 및 산화제(2108)(공기 등)가 광 공동 내로 유입되고, 광 공동에서 촉매-기판 적층물(2101/2102)과 상호작용한다. 이 화학종들이 광 공동에 있고 광기전 변환기(2105)가 방사선을 집광하여 전기로 변환하는 동안, 배기 스트림(exhaust stream) 내의 동일한 화학 조성(chemical makeup)의 다른 화학종에 대한 여기 상태 진동 에너지의 공진 전달, 교환 또는 감쇠를 최소화하기 위해 연료의 희박 혼합물(lean mixture)이 사용될 수 있다. 배기 경로(2109)가 뒤따라 있다.
자극 방출 개시기 및 동기화기 디바이스(stimulated emission initiator and synchronizer device)(2112)가 광 공동에서의 방출을 개시하고 동기화시키는 데 사용된다. 디바이스(2112)는 통상적으로 이용 가능한 자극 방출 발진기일 수 있고, 공지된 방식으로 본 발명의 디바이스에 결합될 수 있다. 광 공동은 방사선의 자극 방출을 야기하기 위해 공지된 방식으로 설계될 수 있다. 광기전 전지는 전형적으로 촉매 반응의 특징을 이루는 장파장 IR 광자(센티미터당 1000 내지 5000)를 변환하는 데 그다지 효율적이지 않다. 디바이스(2112)의 고피크 전력 출력은 이 상황을 해결하고, IR 광기전 전지를 보다 효율적으로 만든다.
광기전 변환기(2105)는 촉매-기판 적층물(211/2102)의 체적 밖에서 방출된 방사선을 볼 수 있는 어디라도 위치된다. 이러한 배치는 광기전 집광기(2105)를 공지된 방법을 사용하여 냉각시키는 것을 가능하게 한다. 광기전 집광기(2105)의 전기 출력 리드(2106)가 다이오드(410)를 통해 전기 에너지 저장 디바이스(2111)에 결합될 수 있다. 광기전 변환기(2105)의 출력은 펄스로 되어 있고, 펄스 레이트(pulse rate)는 전형적으로 1 메가헤르쯔 초과이다. 전기 에너지 저장 디바이스(2111)는, 예를 들어, 커패시터, 슈퍼-커패시터(super-capacitor) 또는 배터리를 포함할 수 있다. 고주파수의 펄스형 출력이 주어진 경우, 저장 디바이스(2111)로서 사용되는 커패시터가 아주 소형일 수 있다. 커패시터는 단일 펄스의 에너지를 수집할 정도로 크면 된다. 커패시터에 저장되는 에너지는 따라서 1 초에 변환기(2105)에 의해 전달되는 에너지보다 수백만배 적을 수 있다.
촉매 표면 상의 화학 반응물은, 전이 "사다리"(ladder of transition)의 일부이고 촉매 표면 상에서 강하게 편극되기 때문에, 배진동 전이를 가능하게 하며, 이는 모든 전이들이 영이 아닌 쌍극자 방사 전이 매트릭스 요소를 가질 수 있게 한다. 또한, 반응물은, 표면에 부착되어 있고 회전하지 않기 때문에, 기체 내의 자유 분자와 연관된 회전 스미어링(rotational smearing)을 갖지 않는다. 이 특징은 방사선의 자극 방출에 의한 근단색 배진동 광 증폭(near monochromatic overtone light amplification)을 가능하게 한다.
도 21의 실시예에서와 같이, 화학종의 자극에 의해 방사되는 전자기 에너지가 고휘도, 준단색, 다색 방사 또는 간섭성 빔으로 형성될 수 있다.
광기전 반도체를 포함하는 앞서 기술된 실시예들 각각에서, 광기전 반도체의 효율을 향상시키기 위해 촉매가 바람직하게는 높은 표면 전력 밀도(예컨대, 제곱 센티미터당 10 와트 초과)로 또는 피크 표면 전력 밀도(제곱 센티미터당 1 와트 이상)로 동작된다.
본 방법, 디바이스 및 시스템은 전기를 발생시키기 위해 고상 디바이스에서 사용되는 접합의 에너지 변환 효율을 향상시킨다. 에너지원은 전하 캐리어(예컨대, 전자)를 접합의 한쪽 측면에 주입한다. 순 초과의 전하 캐리어가 접합의 한쪽 측면으로부터 다른쪽 측면으로 주입될 때, 전하 캐리어가 전계에 의해 외부 회로에서 강제로 이동된다. 그 결과, 화학 에너지가 유용한 형태의 전기 에너지로 변환된다. 실시예들의 요소는 반도체 물질에서 전하 수송 또는 이동도가 개선될 때 이 공정의 효율이 개선된다는 것이다.
전력을 발생시키는 대안의 메커니즘은 나노와이어 네트워크 또는 나노 공학 다공성 네트워크/층과 촉매 사이에 전기 화학 전위차(기전력(EMF)으로서 기능할 수 있음)를 생성하는 것이다. 반도체/촉매 표면은 산화 또는 환원 반응 중 하나에 적합할 수 있어, 2 개의 반응을 효과적으로 분리시킬 수 있다. 이것은 촉매 사이트와 반도체 표면 사이에 전기 화학 전위 구배를 생성할 수 있고, 이는 외부 회로에 기전력(EMF)을 유발시키고 부하를 구동할 수 있다.
일 실시예는, 예를 들어, 루틸 TiO2, 아나타제 TiO2, 다결정질 TiO2, 다공성 TiO2, ZrO2, SrTiO3, BaTiO3, Sr_x-Ba_y-TiO_z, LiNiO, 실리콘, A12O3; ZnO;, SiC; GaN; GaAs; Ge; 실리카; 탄소; 니오븀, 탄탈, 지로코늄, 세륨, 주석, 바나듐의 산화물, 및 LaSrVO3, 그리고 특정 유기 반도체(PTCDA, 또는 3,4,9,10-페릴렌테트라카르복실산-다이안하이드라이드 등)(이들로 제한되지 않음)를 비롯한 유전체 또는 반도체로 이루어진 나노와이어 어레이 또는 나노 공학 다공성 네트워크/층을 포함한다. 첨자 x, y 및 z는 통상의 관례에 따른 농도를 나타낸다. SrTiO3의 하나의 장점은 그에 대한 쇼트키 장벽이 해제되어, TiO2의 장벽에 비해 비교적 더 큰 장벽을 제공할 수 있다는 것이다.
연료, 산화제, 자가 촉매, 자극제
본원에 기술되는 다양한 화학 에너지 변환기 디바이스는 산화제, 자가 촉매 반응 가속제, 감속제, 및 일원 추진제를 비롯한 저장 가능 반응물을 사용한다. 표준 압력 및 온도에서의 액체 과산화수소 H2O2와 같은 액상이 편리한데, 그 이유는 그의 기화열이 냉각제로서 사용되고 액체가 편리하게 저장 가능하기 때문이다. H2O2 및 모노메틸하이드라진(MMH)과 같은 일원 추진제도 마찬가지로 편리하고 변환기의 활성 표면을 여기시킨다. 자가 촉매 가속제는 H2O2와 같은 일원 추진제를 포함한다.
일 실시예는 이러한 여기를 여기시키는 반응 및 반응물을 사용한다. 반응, 반응물 및 첨가제는 적어도 일원 추진제, 산화제를 갖는 고에너지 연료, 하이퍼골릭 연료, 및 첨가제와 자가 촉매 화학종을 생성하는 것으로 알려진 반응물, 반응을 가속시키거나 반응을 제어하기 위해 선택된 반응물의 조합, 그리고 이들의 조합을 포함한다. 반응물 및/또는 첨가제는 이하의 반응물을 포함하지만, 이들로 제한되지 않는다:
암모니아보다 더 저장 가능한 강력한 연료:
아민 치환 암모니아
다이-메틸-아민 (CH3)2NH
트라이-메틸-아민 (CH3)3N
모노-에틸-아민 (C2H5)NH2
다이-에틸-아민 (C2H5)2NH)
보다 쉽게 저장 가능한 다른 부류:
메탄올, CH3OH
에탄올, EtOH CH3CH2OH
포름산, HCOOH
디젤 연료
가솔린
알코올
고체 연료를 포함하는 슬러리
아산화탄소, C3O2, CO=C=CO,
포름알데히드 HCHO,
파라포름알데히드, = 보다 나은 HCHO)n, 포름알데히드 가스로 승화될 수 있음 (어쩌면 동시에 셀 냉각제임)
저장성이 떨어지는 연료:
일산화탄소
수소
암모니아 NH3
질소를 포함하는 강력한 연료:
니트로메탄, CH3NO2
메탄올로 "절단"되는 니트로메탄 = 전형적인 비행기 "예열 플러그" 엔진 연료
넓은 연료/공기 비를 갖는 고에너지 연료:
에폭시-에탄, = 옥시란 또는 에틸렌-산화물 CH2-CH2 O
1,3-에폭시-프로판 = 옥세탄 및 트라이-메틸렌-산화물 = 1,3-메틸렌-산화물 CH2-(CH2)-CH2 O
에폭시-프로판 CH2-(CH2)-CH2 O
아세틸렌, C2H2
다이아세틸렌 = 1,3-부타디인
1,3-부타디엔 CH2=CH-CH=CH2,
덜 이색적인 고에너지 연료:
다이-에틸-에테르 또는 수술용 에테르
아세톤 = 다이-메틸-케톤
덜 이색적인 휘발성 연료:
사이클로-프로판
사이클로-부탄
메탄, 프로판, 부탄, 펜탄 등과 같은 탄화수소
다른 저장 가능한 연료:
포름산 메틸 HCOO-C2H5
포름아미드 HCO-NH2
N, N, -다이-메틸-포름아미드 HCO-N-(CH3)2
에틸렌-다이아민 H2N-CH2-CH2-NH2
에틸렌-글리콜
1,4-다이옥산 = 에틸렌-글리콜의 이분자 고리형 에테르
파라알데히드 (CH3CHO)3 아세트알데히드의 고리 삼량체
강력한 산화제:
테트라-니트로-메탄, C(NO2)4... 자발적으로 분해되지 않고 ... 기상 과산화수소 H2O2에서 셀의 반응 표면 상에 2개의 개별적인 증기를 전달하기만 함
저 개시 에너지 혼합물:
산소를 갖는 사이클로-프로판 = 수술용 마취, 마이크로주울 개시제
하이퍼골릭:
UDMH = 비대칭 다이메틸 하이드라진 = 1,1-다이메틸 하이드라진 (CH3)2NNH2
UDMH는 보통 N2O4와 하이퍼골릭이고, 아주 강력한 발암 물질이다.
MMH 모노메틸 하이드라진 (CH3)HNNH2 산화제(예컨대, N2O4)와 하이퍼골릭임
부식성, 유독성의 강력한 일원 추진제:
하이드라진 = H2NNH2 촉매(보통 Pt 또는 Pd 또는 몰리브덴 산화물)에 의해 쉽게 분해됨
하이드라진 하이드레이트
다양한 실시예들이 특정 예 및 서브시스템과 관련하여기술되어 있지만, 본원에 개시되어 있는 개념들이 이 특정의 예 또는 서브시스템으로 제한되지 않고 다른 실시예들로도 확장된다는 것이 본 기술 분야의 통상의 기술자에게는 명백할 것이다. 이하의 청구항들에 명시되는 이 다른 실시예들 모두가 이 개념들의 범주 내에 포함된다.
Claims (34)
- 화학 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스로서,
제1 전극;
상기 제1 전극에 연결된 기판;
반도체 네트워크를 형성하는 나노 공학 구조물을 가지고 상기 기판 위에 배치되는 다공성 반도체 층;
상기 다공성 반도체 층의 적어도 일부분 상의 다공성 촉매 물질 - 상기 다공성 촉매 물질의 적어도 일부는 얽히는 영역(intertwining region)을 형성하기 위해 상기 다공성 반도체 층의 상기 나노 공학 구조물에 들어가고, 상기 다공성 촉매 물질과 상기 다공성 반도체 층은 고상 접합을 형성함 -;
상기 다공성 촉매 물질 위에 배치되는 제2 전극 - 상기 다공성 촉매 물질로부터의 전자는 상기 다공성 반도체 층으로 주입되고, 연료, 상기 다공성 촉매 물질, 및 상기 다공성 반도체 층 사이의 화학 반응 동안 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 전위가 형성되고, 상기 다공성 촉매 물질로부터의 전자는 상기 제1 전극 쪽으로 끌려가고, 상기 전자는 상기 다공성 촉매 물질로 복귀하기 전에 상기 제1 전극으로부터 상기 제2 전극까지 외부 회로에서 이동하는 것임 -; 및
고상 전기 발생기(solid state electric generator)로부터 열을 제거하며 주변 온도보다 더 높은 히트 싱크 온도를 갖는 히트 싱크
를 포함하는
화학 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스. - 제1항에 있어서,
상기 기판은 3차원 표면을 생성하도록 패터닝되고, 이에 따라 화학 반응을 위한 증가된 표면적을 제공하는 것인, 화학 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스. - 제1항에 있어서,
상기 다공성 반도체 층은 나노와이어들이 형성되도록 패터닝되는 것인, 화학 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스. - 제1항에 있어서,
상기 기판은 피크(peak)들 및 밸리(valley)들이 형성되도록 텍스처링되는 것인, 화학 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스. - 제1항에 있어서,
상기 기판과 상기 다공성 반도체 층 사이에 비다공성 반도체 층을 추가로 포함하는, 화학 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스. - 제1항에 있어서,
상기 기판 자체는 2차원이고 평면인 것인, 화학 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스. - 제1항에 있어서,
상기 기판 자체는 3차원이고 내부 및 외부 표면들을 갖는 것인, 화학 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스. - 제1항에 있어서,
상기 기판은 강성(rigid)인 것인, 화학 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스. - 제1항에 있어서,
상기 기판은 가요성인 것인, 화학 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스. - 제1항에 있어서,
상기 기판은 굴곡성(foldable)인 것인, 화학 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스. - 제1항에 있어서,
고상 접합(solid-state junction)은 쇼트키 다이오드(Schottky diode)인 것인, 화학 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스. - 제1항에 있어서,
고상 접합은 p-n 접합인 것인, 화학 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스. - 제1항에 있어서,
고상 접합은 도체-유전체, 유전체-유전체, 도체-유전체-도체, 또는 유전체-도체-유전체 접합인 것인, 화학 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스. - 제1항에 있어서,
상기 다공성 반도체 층은 결정질, 다결정질, 또는 다공성 TiO2, SrTiO3, BaTiO3, Sr13x-Ba_y-TiO_z, 붕소 카바이드, LiNiO, Al2O3, ZnO, 및 LaSrVO3, 그리고 PTCDA, 또는 3,4,9,10-페릴렌테트라카르복실산-다이안하이드라이드를 포함하는 유기 반도체를 포함하는 물질 그룹으로부터 선택된 반도체 물질을 포함하는 것인, 화학 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스. - 제1항에 있어서,
나노스코픽 도체 클러스터(nanoscopic conductor cluster)는 상기 다공성 반도체 층 위에 불연속 다공성 커버리지(discontinuous porous coverage)를 갖는 것인, 화학 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스. - 제1항에 있어서,
도체 층은 복수의 나노스코픽 클러스터들을 포함하는 것인, 화학 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스. - 제1항에 있어서,
나노스코픽 클러스터는 촉매를 포함하는 것인, 화학 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스. - 제1항에 있어서,
전기적으로 직렬로, 전기적으로 병렬로, 또는 직렬과 병렬의 조합으로 연결된 하나 이상의 에너지 변환 디바이스들을 포함하는, 화학 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스. - 제1항에 있어서,
열적으로 직렬로, 열적으로 병렬로, 또는 직렬과 병렬의 조합으로 연결된 하나 이상의 에너지 변환 디바이스들을 포함하는, 화학 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스. - 제1항에 있어서,
터널링 치수(tunneling dimension)보다 더 큰 치수를 갖는 하나 이상의 에너지 변환 디바이스들의 능동 표면(active surface) 상에 버스 바(buss bar)들을 포함하는, 화학 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스. - 광기전 에너지(photovoltaic energy)를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스로서,
제1 전극;
상기 제1 전극에 연결된 기판;
반도체 네트워크를 형성하는 나노 공학 구조물을 가지며 상기 기판 위에 배치되는 다공성 반도체 층;
상기 다공성 반도체 층의 적어도 일부분 상의 다공성 도체 물질 - 상기 다공성 도체 물질의 적어도 일부는 얽히는 영역을 형성하기 위해 상기 다공성 반도체 층의 상기 나노 공학 구조물에 들어가고, 상기 다공성 도체 물질과 상기 다공성 반도체 층은 고상 접합을 형성함 -;
상기 다공성 도체 물질 위에 배치되는 제2 전극 - 상기 다공성 도체 물질로부터의 전자는 상기 다공성 반도체 층으로 주입되고, 연료, 상기 다공성 도체 물질, 및 상기 다공성 반도체 층 사이의 화학 반응 동안 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 전위가 형성되고, 상기 다공성 도체 물질로부터의 전자는 상기 제1 전극 쪽으로 끌려가고, 상기 전자는 상기 다공성 도체 물질로 복귀하기 전에 상기 제1 전극으로부터 상기 제2 전극까지 외부 회로에서 이동하는 것임 -; 및
고상 전기 발생기로부터 열을 제거하며 주변 온도보다 더 높은 히트 싱크 온도를 갖는 히트 싱크
를 포함하는
광기전 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스. - 제21항에 있어서,
상기 기판은 3차원 표면을 생성하도록 패터닝되고, 이에 따라 전력 발생/변환을 위한 증가된 고상 접합 면적을 제공하는 것인, 광기전 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스. - 제21항에 있어서,
상기 다공성 반도체 층은 나노와이어들이 형성되도록 패터닝되는 것인, 광기전 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스. - 제21항에 있어서,
상기 기판은 피크들 및 밸리들이 형성되도록 텍스처링되는 것인, 광기전 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스. - 제21항에 있어서,
상기 기판과 상기 다공성 반도체 층 사이에 비다공성 반도체 층을 추가로 포함하는, 광기전 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스. - 제21항에 있어서,
상기 기판 자체는 2차원이고 평면인 것인, 광기전 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스. - 제21항에 있어서,
상기 기판 자체는 3차원이고 내부 및 외부 표면들을 갖는 것인, 광기전 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스. - 제21항에 있어서,
상기 기판은 강성인 것인, 광기전 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스. - 제21항에 있어서,
상기 기판은 가요성인 것인, 광기전 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스. - 제21항에 있어서,
상기 기판은 굴곡성인 것인, 광기전 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스. - 제21항에 있어서,
상기 히트 싱크는 상기 다공성 반도체 층 또는 상기 기판에 연결될 수 있는 것인, 광기전 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스. - 제21항에 있어서,
고상 접합은 쇼트키 다이오드인 것인, 광기전 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스. - 제21항에 있어서,
고상 접합은 p-n 접합인 것인, 광기전 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스. - 제21항에 있어서,
고상 접합은 도체-유전체, 유전체-유전체, 도체-유전체-도체, 또는 유전체-도체-유전체 접합인 것인, 광기전 에너지를 전기로 변환하는 에너지 변환 디바이스.
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