KR102304450B1 - Antenna - Google Patents

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KR102304450B1
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엘지이노텍 주식회사
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    • H01Q13/00Waveguide horns or mouths; Slot antennas; Leaky-waveguide antennas; Equivalent structures causing radiation along the transmission path of a guided wave
    • H01Q13/10Resonant slot antennas
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    • H01Q13/08Radiating ends of two-conductor microwave transmission lines, e.g. of coaxial lines, of microstrip lines

Abstract

본 발명의 실시 예에 따른 안테나는 제 1 유전체 기판; 및 상기 제 1 유전체 기판 아래에 배치되며, 내부에 공기층이 형성된 제 2 유전체 기판;를 포함하고, 상기 제 1 유전체 기판은, 유전층과, 상기 유전층 위에 배치되며, 적어도 하나의 방사 슬롯이 형성된 그라운드 및 급전부를 포함하는 상부층과, 상기 유전층 아래에 배치되며, 상기 제 2 유전체 기판과 접촉하는 하부층과, 상기 제 1 유전체 기판 및 상기 제 2 유전체 기판을 관통하며, 상기 상부층에 배치되는 상기 방사 슬롯 및 상기 제 2 유전체 기판에 형성되는 상기 공기층의 주위를 둘러싸는 복수의 비아를 포함한다.An antenna according to an embodiment of the present invention includes a first dielectric substrate; and a second dielectric substrate disposed under the first dielectric substrate and having an air layer formed therein, wherein the first dielectric substrate includes a dielectric layer, a ground disposed on the dielectric layer, and at least one radiation slot formed therein; an upper layer including a feeding part, a lower layer disposed under the dielectric layer and in contact with the second dielectric substrate, the radiation slot passing through the first dielectric substrate and the second dielectric substrate and disposed in the upper layer; and a plurality of vias surrounding the air layer formed in the second dielectric substrate.

Description

안테나{ANTENNA}antenna {ANTENNA}

본 발명에 따른 실시 예는 안테나에 관한 것으로, 특히 공기층 구조의 도파관을 가지는 SIW(Surface Imntegrate Waveguide) 안테나에 관한 것이다.An embodiment according to the present invention relates to an antenna, and more particularly, to an SIW (Surface Imntegrate Waveguide) antenna having a waveguide having an air layer structure.

일반적으로, 슬롯(slot) 안테나는, 넓은 금속판(도파관)의 전계면과 평행한 측면에 가늘고 긴 공간 즉, 구멍(slot, slit)을 뚫고 이것을 여진시켜 그 부분에서 전파가 복사되도록 한 안테나로서, 슬롯 또는 슬릿 안테나라고 한다.In general, a slot antenna is an antenna in which a radio wave is radiated from a wide metal plate (waveguide) by drilling a thin and long space, that is, a hole (slit) on the side parallel to the electric field plane, and excitation of it, This is called a slot or slit antenna.

이러한 슬롯 안테나는, 평행 2선식이나 동축 급전선을 사용할 수 있고, 도파관의 관벽 전류를 방해하도록 가로지르면 슬롯에서 전파가 복사된다. 동축 급전선으로 급전할 때는 정합시키기 위하여 중심부에서 조금 끝쪽으로 움직인 점에서 급전한다. 자기 다이폴이며 수평 슬롯에서는 수직 편파가, 수직 슬롯에서는 수평 편파가 복사된다. 지향 특성은 상보 다이폴과 같은데 도체관과 직각인 방향에서 최대가 되며, 후방에 차폐용 공동을 설치하면 단향성이 된다.This slot antenna can use a parallel two-wire type or a coaxial feed line, and radio waves are radiated from the slot when traversing the waveguide to interfere with the tube wall current. When feeding with a coaxial feeder, feed from a point moved a little from the center to the end in order to match. It is a magnetic dipole and vertically polarized waves are radiated in horizontal slots and horizontally polarized waves are radiated in vertical slots. The directivity characteristic is the same as the complementary dipole, but it is maximized in the direction perpendicular to the conductor tube, and if a shielding cavity is installed at the rear, it becomes unidirectional.

또한, 슬롯 배열(slot array) 안테나는, 도파관의 전계면과 평행한 측면으로 비스듬하게 반파장 공진 슬롯을 뚫고, 이것을 슬롯 안테나 열로서 배열하고, 필요한 지향성과 이득을 얻는 안테나이다. 급전은 안테나의 중앙부 또는 한쪽 끝에서 한다. 방수, 방지, 염해의 방지, 강도의 보강을 위해 유전체의 레이돔(radome)으로 덮는다.In addition, a slot array antenna is an antenna which drills a half-wavelength resonance slot obliquely to the side parallel to the electric field plane of a waveguide, arranges this as a slot antenna row, and obtains the required directivity and gain. Power is supplied from the center or one end of the antenna. It is covered with a dielectric radome for waterproofing, prevention, prevention of salt damage, and reinforcement of strength.

한편, SIW(Surface Integrate Waveguide) 안테나는 기존 메탈 도파관 구조를 인쇄회로기판에 구현한 형태로, 밀리미터파(mm-wave) 신호를 저손실로 전송할 수 있는 장점이 있다. 이는 기존의 도파관 구조의 저 손실 특성과 인쇄회로기판의 집적화에 따른 신호 처리가 용이한 장점을 상호 결합한 것으로 밀리미터파 대역 모듈 구현의 높은 손실의 한계점을 극복할 수 있는 대안이 될 수 있다.On the other hand, the SIW (Surface Integrate Waveguide) antenna has the advantage of being able to transmit a millimeter wave (mm-wave) signal with low loss in the form of an existing metal waveguide structure implemented on a printed circuit board. This is a combination of the low loss characteristics of the existing waveguide structure and the advantage of easy signal processing due to the integration of the printed circuit board.

그러나, 기존의 SIW 안테나 구조는, 테프론이 채워진 유전층을 포함하는 도파관 구조이며, 이는, 상기 도파관 구조를 만들기 위해서는 일정 두께 이상의 테프론 소재를 사용해야 하는 단점이 있다. 또한, 테프론 원자재에 의한 밀리미터파 손실 발생은 불가피하며, 원자재 특성상 고가의 저손실 소재를 사용해야만 하는 제약은 동일하게 발생한다. However, the conventional SIW antenna structure is a waveguide structure including a dielectric layer filled with Teflon, which has a disadvantage in that a Teflon material having a predetermined thickness or more must be used to make the waveguide structure. In addition, the occurrence of millimeter wave loss due to Teflon raw materials is inevitable, and the constraint of using an expensive, low-loss material due to the characteristics of raw materials is equally generated.

본 발명에 따른 실시 예에서는, 공기층을 활용하여 유전층의 두께를 획기적으로 줄이면서 밀리미터파의 전송 손실을 최소화할 수 있는 안테나를 제공하도록 한다.In an embodiment according to the present invention, an antenna capable of minimizing the transmission loss of millimeter wave while remarkably reducing the thickness of the dielectric layer by using an air layer is provided.

또한, 본 발명에 따른 실시 예에서는 테프론과 같은 유전층에 의한 유전율과 공기층층의 유전율이 상호 결합된 유효 유전율에 의해 신호를 전달할 수 있는 안테나를 제공하도록 한다.In addition, in an embodiment according to the present invention, an antenna capable of transmitting a signal by an effective permittivity in which a dielectric constant of a dielectric layer such as Teflon and a dielectric constant of an air layer are combined with each other is provided.

또한, 본 발명에 따른 실시 예에서는 신호 손실을 최소화할 수 있는 신호 전송을 위한 전송 선로를 포함한 안테나를 제공하도록 한다.In addition, in an embodiment according to the present invention, an antenna including a transmission line for signal transmission capable of minimizing signal loss is provided.

제안되는 실시 예에서 이루고자 하는 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 제안되는 실시 예가 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The technical problems to be achieved in the proposed embodiment are not limited to the technical problems mentioned above, and other technical problems not mentioned are clear to those of ordinary skill in the art to which the proposed embodiment belongs from the description below. will be able to be understood

본 발명의 실시 예에 따른 안테나는 제 1 유전체 기판; 및 상기 제 1 유전체 기판 아래에 배치되며, 내부에 공기층이 형성된 제 2 유전체 기판;를 포함하고, 상기 제 1 유전체 기판은, 유전층과, 상기 유전층 위에 배치되며, 적어도 하나의 방사 슬롯이 형성된 그라운드 및 급전부를 포함하는 상부층과, 상기 유전층 아래에 배치되며, 상기 제 2 유전체 기판과 접촉하는 하부층과, 상기 제 1 유전체 기판 및 상기 제 2 유전체 기판을 관통하며, 상기 상부층에 배치되는 상기 방사 슬롯 및 상기 제 2 유전체 기판에 형성되는 상기 공기층의 주위를 둘러싸는 복수의 비아를 포함한다.An antenna according to an embodiment of the present invention includes a first dielectric substrate; and a second dielectric substrate disposed under the first dielectric substrate and having an air layer formed therein, wherein the first dielectric substrate includes a dielectric layer, a ground disposed on the dielectric layer, and at least one radiation slot formed therein; an upper layer including a feeding part, a lower layer disposed under the dielectric layer and in contact with the second dielectric substrate, the radiation slot passing through the first dielectric substrate and the second dielectric substrate and disposed in the upper layer; and a plurality of vias surrounding the air layer formed in the second dielectric substrate.

또한, 상기 유전층은, 테프론을 포함한다.In addition, the dielectric layer contains Teflon.

또한, 상기 공기층은, 상기 상부층의 상기 그라운드에 형성되는 상기 적어도 하나의 방사 슬롯과 수직 방향으로 중첩된다.In addition, the air layer is vertically overlapped with the at least one radiation slot formed in the ground of the upper layer.

또한, 상기 제 2 유전체 기판은, 제 1 절연층과, 상기 제 1 절연층 위에 배치되는 제 1 금속층과, 상기 제 1 금속층 위에 배치되는 제 1 접착층과, 상기 제 1 접착층 위에 배치되는 제 2 금속층과, 상기 제 2 금속층 위에 배치되는 제 2 절연층과, 상기 제 2 절연층 위에 배치되는 제 3 금속층과, 상기 제 3 금속층 위에 배치되는 제 2 접착층을 포함한다.In addition, the second dielectric substrate includes a first insulating layer, a first metal layer disposed on the first insulating layer, a first adhesive layer disposed on the first metal layer, and a second metal layer disposed on the first adhesive layer. and a second insulating layer disposed on the second metal layer, a third metal layer disposed on the second insulating layer, and a second adhesive layer disposed on the third metal layer.

또한, 상기 제 1 절연층 및 상기 제 2 절연층은, FR4를 포함하고, 상기 제 1 접착층 및 상기 제 2 접착층은, 프리프레그를 포함한다.In addition, the first insulating layer and the second insulating layer include FR4, and the first adhesive layer and the second adhesive layer include a prepreg.

또한, 상기 공기층은, 상기 제 1 접착층, 상기 제 2 금속층, 상기 제 2 절연층, 상기 제 3 금속층 및 상기 제 2 접착층을 관통한다.In addition, the air layer passes through the first adhesive layer, the second metal layer, the second insulating layer, the third metal layer, and the second adhesive layer.

또한, 상기 공기층의 두께는, 상기 유전층의 두께보다 두껍다.In addition, the thickness of the air layer is thicker than the thickness of the dielectric layer.

또한, 상기 그라운드의 일단에는, 상기 급전부의 신호 전송 라인의 제 1 영역이 삽입되는 함몰부가 형성되며, 상기 함몰부의 폭은, 상기 신호 전송 라인의 상기 제 1 영역의 폭보다 크며, 상기 신호 전송 라인의 상기 제 1 영역은, 상기 그라운드와 비접촉한다.In addition, at one end of the ground, a depression is formed into which a first region of the signal transmission line of the power feeding unit is inserted, and a width of the depression is greater than a width of the first region of the signal transmission line, and the signal transmission line The first region of the line is not in contact with the ground.

또한, 상기 하부층은, 상기 공기층과 수직으로 중첩되는 영역에 형성되는 제 1 슬롯과, 상기 제 1 슬롯과 일정 간격 이격되며, 상기 신호 전송 라인의 상기 제 1 영역과 수직으로 중첩되는 영역에 형성되는 제 2 슬롯을 포함한다.In addition, the lower layer is formed in a first slot formed in an area vertically overlapping with the air layer, spaced apart from the first slot by a predetermined interval, and formed in an area vertically overlapping with the first area of the signal transmission line and a second slot.

또한, 상기 제 2 슬롯은, 상기 제 1 영역과 수직 방향으로 중첩되는 영역에 형성되는 제 1 부분과, 상기 제 1 부분의 일단으로부터 상기 제 1 슬롯을 향하여 수직으로 절곡되어 형성되는 제 2 부분과, 상기 제 1 부분의 타단으로부터 상기 제 1 슬롯을 향하여 수직으로 절곡되어 형성되는 제 3 부분을 포함한다.In addition, the second slot includes a first portion formed in a region overlapping the first region in a vertical direction, and a second portion formed by being vertically bent from one end of the first portion toward the first slot; , and a third portion formed by being vertically bent from the other end of the first portion toward the first slot.

또한, 상기 신호 전송 라인의 상기 제 1 영역은, 상기 수직 방향 내에서 상기 제 2 슬롯의 상기 제 1 부분으로부터 돌출되어 적어도 일부가 상기 제 2 부분과 상기 제 3 부분 사이에 배치된다.In addition, the first region of the signal transmission line protrudes from the first part of the second slot in the vertical direction, and at least a part is disposed between the second part and the third part.

또한, 상기 제 1 영역의 단부는, 상기 수직 방향 내에서, 상기 제 2 부분 및 상기 3 부분 각각의 일단 및 타단 사이에 배치된다.In addition, an end of the first region is disposed between one end and the other end of each of the second part and the three parts in the vertical direction.

본 발명에 따른 실시 예에 의하면, 공기층 도파관의 특성과 유전율 특성을 상호 결합한 형태로, 낮은 두께의 테프론 대비 상대적으로 높은 두께의 공기층으로 밀리미터파를 전송함에 따른 신호 손실을 최소화할 수 있고, 테프론으로 패턴(슬롯 타입 외)을 구현함으로써, 밀리미터파 안테나의 제작 용이성을 향상시킬 수 있다.According to the embodiment according to the present invention, in a form in which the characteristics of the air layer waveguide and the dielectric constant characteristics are mutually combined, the signal loss due to the transmission of millimeter waves through the air layer having a relatively high thickness compared to the low thickness Teflon can be minimized, and Teflon is used. By implementing a pattern (other than the slot type), it is possible to improve the easiness of manufacturing the millimeter wave antenna.

또한, 본 발명에 따른 실시 예에 의하면, 낮은 두께의 테프론을 사용하여 SIW를 구현할 수 있는 구조뿐만 아니라, 전송 손실을 최소화할 수 있는 공기층을 포함으로써, 제품 신뢰성을 향상시킬 수 있다.In addition, according to an embodiment of the present invention, by including an air layer capable of minimizing transmission loss as well as a structure that can implement SIW using Teflon of a low thickness, product reliability can be improved.

또한, 본 발명에 따른 실시 예에 의하면, 테프론에 의한 유전율(Er)과 공기층층의 유전율(Er=1)이 상호 결합된 유효 유전율에 의해 신호가 전달이 되며, 이에 따라 구조 설계의 자유도를 향상시킬 수 있다.In addition, according to the embodiment of the present invention, the signal is transmitted by the effective dielectric constant in which the dielectric constant (Er) of Teflon and the dielectric constant (Er=1) of the air layer are mutually combined, thereby improving the degree of freedom in structural design can do it

또한, 본 발명에 따른 실시 예에 의하면, 도파관 모드(Transverse Electric 10)로 신호의 전송이 이루어지기 때문에, 공기층층에 의한 에너지 손실이 테프론의 매질의 손실 계수(Df)에 비해 상대적으로 저손실 특성을 가질 수 있다. In addition, according to the embodiment according to the present invention, since the signal is transmitted in the waveguide mode (Transverse Electric 10), the energy loss due to the air layer is relatively low loss compared to the loss factor (Df) of the medium of Teflon. can have

또한, 본 발명에 따른 실시 예에 의하면, 테프론의 상부층을 이용하여 패턴을 구현함으로써, 공기층만을 포함하는 구조가 가지는 안테나 설계의 단점을 극복할 수 있으며, 이에 따른 슬롯 패턴 제작의 난이도를 저감할 수 있다.In addition, according to the embodiment according to the present invention, by implementing the pattern using the upper layer of Teflon, it is possible to overcome the disadvantages of the antenna design of the structure including only the air layer, and thus the difficulty of manufacturing the slot pattern can be reduced. have.

또한, 본 발명에서는 테프론의 상부층과 통신소자 사이의 연결을 위한 전송 라인을 설계함으로써, 삽입 손실(Insertion Loss)를 최소화할 수 있다.In addition, in the present invention, by designing a transmission line for the connection between the upper layer of Teflon and the communication device, it is possible to minimize the insertion loss (Insertion Loss).

도 1은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 안테나의 구조를 보여주는 도면이고, 도 2는, 도 1 의 제 1 유전체 기판(100)의 상부층(120)의 평면도이며, 도 3은 도 1의 제 1 유전체 기판(100)의 하부층(130)의 평면도이며, 도 4는 도 3의 제 2 슬롯이 형성된 영역의 확대도이다.
도 5는 본 발명의 실시 예와의 비교 구조를 보여주는 도면이다.
도 6은 본 발명의 실시 예의 구조와 비교 구조의 삽입 손실을 나타낸 그래프이다.
도 7은 본 발명의 실시 예에 따른 신호 특성을 보여주는 도면이다.
도 8은 본 발명의 실시 예에 따른 안테나의 방사 특성을 보여주는 도면이다.
도 9는 본 발명의 실시 예에 따른 안테나에서의 신호 손실을 보여주는 도면이다.
도 10은 본 발명의 안테나와의 비교 구조에 대한 신호 손실을 나타낸 도면이다.
도 11 내지 도 15는 본 발명의 실시 예에 따른 슬롯의 다양한 구현 예를 나타낸 도면이다.
도 16은 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 안테나의 구조를 보여주는 도면이다.
1 is a view showing the structure of an antenna according to a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan view of the upper layer 120 of the first dielectric substrate 100 of FIG. 1, and FIG. 1 is a plan view of the lower layer 130 of the dielectric substrate 100, and FIG. 4 is an enlarged view of a region in which the second slot of FIG. 3 is formed.
5 is a view showing a comparative structure with an embodiment of the present invention.
6 is a graph showing the insertion loss of the structure of the embodiment of the present invention and the comparative structure.
7 is a diagram showing signal characteristics according to an embodiment of the present invention.
8 is a view showing radiation characteristics of an antenna according to an embodiment of the present invention.
9 is a diagram illustrating signal loss in an antenna according to an embodiment of the present invention.
10 is a diagram showing signal loss in comparison with the antenna of the present invention.
11 to 15 are diagrams illustrating various implementation examples of slots according to an embodiment of the present invention.
16 is a diagram showing the structure of an antenna according to a second embodiment of the present invention.

이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 구성 및 작용을 구체적으로 설명한다. 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 도면 부호에 관계없이 동일한 구성요소는 동일한 참조부여를 부여하고, 이에 대한 중복설명은 생략하기로 한다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.Hereinafter, the configuration and operation according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the description with reference to the accompanying drawings, the same components are given the same reference, regardless of the reference numerals, and redundant description thereof will be omitted. Terms such as first, second, etc. may be used to describe various elements, but the elements should not be limited by the terms. The above terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another.

이하, 실시 예들은 첨부된 도면 및 실시 예들에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다. 실시 예들의 설명에 있어서, 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들이 기판, 각 층(막), 영역, 패드 또는 패턴들의 "위(on)"에 또는 "아래(under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, "위(on)"와 "아래(under)"는 "직접(directly)" 또는 "다른 층을 개재하여 (indirectly)" 형성되는 것을 모두 포함한다. 도면에서 각층의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장되거나 생략되거나 또는 개략적으로 도시되었다. 또한 각 구성요소의 크기는 실제크기를 전적으로 반영하는 것은 아니다. 이하, 첨부된 도면을 참조하여 실시 예들을 설명한다.Hereinafter, the embodiments will be clearly revealed through the accompanying drawings and the description of the embodiments. In the description of embodiments, each layer (film), region, pattern or structure is formed “on” or “under” the substrate, each layer (film), region, pad or pattern. When described as being, “on” and “under” include both “directly” or “indirectly” formed through another layer. In the drawings, the thickness or size of each layer is exaggerated, omitted, or schematically illustrated for convenience and clarity of description. In addition, the size of each component does not fully reflect the actual size. Hereinafter, embodiments will be described with reference to the accompanying drawings.

한편, 이하의 설명에서는 본 발명의 이해를 돕고 출원인의 설명의 편의를 위하여, 본 발명에 따른 안테나는 밀리미터파용을 예로 한다. 또한, 본 발명에 따른 밀리미터파용 안테나는, 기판 직접 도파관(SIW: Substrate Integrated Waveguide) 직렬 슬롯 배열 안테나로 구성될 수 있다. 다만, 본 발명의 권리범위는 예시되는 직렬 슬롯 배열 안테나에만 한정되는 것은 아니며, 동일 또는 유사한 방법으로 다양한 형태의 안테나, 예를 들어, 병렬 슬롯 배열 안테나 또는 직/병렬 배열 안테나 등을 구현할 수 있으며, 이와 같이 구현되는 다양한 형태의 안테나도 본 발명의 권리 범위에 속할 수 있다.Meanwhile, in the following description, for the purpose of helping the understanding of the present invention and for convenience of description by the applicant, the antenna according to the present invention is for a millimeter wave as an example. In addition, the millimeter wave antenna according to the present invention may be configured as a substrate integrated waveguide (SIW) series slot array antenna. However, the scope of the present invention is not limited only to the illustrated serial slot array antenna, and various types of antennas, for example, a parallel slot array antenna or a serial/parallel array antenna, may be implemented in the same or similar manner. Various types of antennas implemented in this way may also fall within the scope of the present invention.

도 1은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 안테나의 구조를 보여주는 도면이고, 도 2는, 도 1 의 제 1 유전체 기판(100)의 상부층(120)의 평면도이며, 도 3은 도 1의 제 1 유전체 기판(100)의 하부층(130)의 평면도이며, 도 4는 도 3의 제 2 슬롯이 형성된 영역의 확대도이다.1 is a diagram showing the structure of an antenna according to a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan view of the upper layer 120 of the first dielectric substrate 100 of FIG. 1, and FIG. 1 is a plan view of the lower layer 130 of the dielectric substrate 100, and FIG. 4 is an enlarged view of an area in which the second slot of FIG. 3 is formed.

도 1 내지 도 4을 참조하면, 안테나는, 제 1 유전체 기판(100) 및 상기 제 1 유전체 기판(100) 아래에 배치되는 제 2 유전체 기판(200)을 포함한다.1 to 4 , the antenna includes a first dielectric substrate 100 and a second dielectric substrate 200 disposed under the first dielectric substrate 100 .

여기에서, 상기 제 1 유전체 기판(100)은 소정의 유전율(Er)과 두께(h)를 갖는 비전도성 물질로 이루어진다. Here, the first dielectric substrate 100 is made of a non-conductive material having a predetermined dielectric constant Er and a thickness h.

상기 제 1 유전체 기판(100)은 유전층(110)과, 상기 유전층(110) 위에 배치되는 상부층(120)과, 상기 유전층(110) 아래에 배치되는 하부층(130)을 포함한다. The first dielectric substrate 100 includes a dielectric layer 110 , an upper layer 120 disposed on the dielectric layer 110 , and a lower layer 130 disposed under the dielectric layer 110 .

상기 유전층(110)은 테프론(Teflon)을 사용할 수 있다.The dielectric layer 110 may be made of Teflon.

상기 상부층(120)은 상기 유전층(110) 위에 배치되는 금속층이다. 그리고, 상기 하부층(130)은 상기 유전층(110) 아래에 배치되는 금속층이다. The upper layer 120 is a metal layer disposed on the dielectric layer 110 . In addition, the lower layer 130 is a metal layer disposed under the dielectric layer 110 .

다시 말해서, 상기 유전층(110), 상기 상부층(120) 및 상기 하부층(130)을 포함하는 제 1 유전체 기판(100)은 테프론 기판일 수 있다.In other words, the first dielectric substrate 100 including the dielectric layer 110 , the upper layer 120 , and the lower layer 130 may be a Teflon substrate.

상기 상부층(120)은 복수의 슬롯을 포함하는 그라운드(122)와, 급전을 위한 급전부(121)를 포함한다. 상기 그라운드(122)와 상기 급전부(121)는 상기 상부층(120)을 금속 피막 에칭법을 이용하여 제작할 수 있다. 바람직하게 상기 그라운드(122)는 슬롯(1221)을 포함하는 그라운드일 수 있다. 이때, 상기 상부층(120)은 상기 그라운드(122)에 형성된 슬롯(1221)의 주위를 둘러싸며 배치되는 복수의 비아(1222)를 더 포함할 수 있다. The upper layer 120 includes a ground 122 including a plurality of slots and a power feeding unit 121 for feeding power. The ground 122 and the power feeding unit 121 may be manufactured by using a metal film etching method for the upper layer 120 . Preferably, the ground 122 may be a ground including a slot 1221 . In this case, the upper layer 120 may further include a plurality of vias 1222 disposed to surround the slot 1221 formed in the ground 122 .

상기 비아(1222)는 상기 상부층(120)을 관통하며 배치된다. 바람직하게, 상기 비아(1222)는 상기 상부층(120)뿐 아니라, 상기 상부층(120)을 포함하는 제 1 유전체 기판(100)과 상기 제 2 유전체 기판(200)을 관통하며 배치된다. 이에 따라, 상기 비아(1222)의 일면은 상기 상기 제 1 유전체 기판(100)의 상면(상기 상부층(120)의 상면)을 통해 노출되고, 상기 비아(1222)의 타면은 상기 제 2 유전체 기판(200)의 하면을 통해 노출된다. The via 1222 is disposed through the upper layer 120 . Preferably, the via 1222 is disposed through the first dielectric substrate 100 and the second dielectric substrate 200 including the upper layer 120 as well as the upper layer 120 . Accordingly, one surface of the via 1222 is exposed through the upper surface of the first dielectric substrate 100 (the upper surface of the upper layer 120), and the other surface of the via 1222 is the second dielectric substrate ( 200) is exposed through the lower surface.

상기 비아(1222)는 제 1 유전체 기판(100)과 상기 제 2 유전체 기판(200) 사이의 층간 전기적 연결을 위한 통로로써, 전기적으로 단절되어 있는 층을 드릴링(drilling)하여 비아 홀(도시하지 않음)을 형성하고, 상기 형성된 비아 홀을 도전성 물질로 채우거나, 도전 물질로 도금하여 형성될 수 있다. The via 1222 is a passage for an interlayer electrical connection between the first dielectric substrate 100 and the second dielectric substrate 200, and is a via hole (not shown) by drilling an electrically disconnected layer. ) and filling the formed via-holes with a conductive material or plating with a conductive material.

상기 비아(1222)를 형성하기 위한 금속 물질은 Cu, Ag, Sn, Au, Ni 및 Pd 중 선택되는 어느 하나의 물질일 수 있으며, 상기 금속 물질 충진은 무전해 도금, 전해 도금, 스크린 인쇄(Screen Printing), 스퍼터링(Sputtering), 증발법(Ecaporation), 잉크젯팅 및 디스펜싱 중 어느 하나 또는 이들의 조합된 방식을 이용할 수 있다.The metal material for forming the via 1222 may be any one material selected from Cu, Ag, Sn, Au, Ni, and Pd, and the filling of the metal material is performed by electroless plating, electrolytic plating, or screen printing (Screen printing). Printing), sputtering, evaporation, inkjetting, and dispensing, or a combination thereof may be used.

이때, 상기 비아 홀은 기계, 레이저 및 화학 가공 중 어느 하나의 가공 방식에 의해 형성될 수 있다.In this case, the via hole may be formed by any one processing method among mechanical, laser, and chemical processing.

상기 비아 홀이 기계 가공에 의해 형성되는 경우에는 밀링(Milling), 드릴(Drill) 및 라우팅(Routing) 등의 방식을 사용할 수 있고, 레이저 가공에 의해 형성되는 경우에는 UV나 Co2 레이저 방식을 사용할 수 있으며, 화학 가공에 의해 형성되는 경우에는 아미노실란, 케톤류 등을 포함하는 약품을 이용하여 상기 제 1 유전체 기판(100)과 상기 제 2 유전체 기판(200)을 개방할 수 있다.When the via hole is formed by machining, methods such as milling, drilling, and routing can be used, and when the via hole is formed by laser processing, a UV or Co2 laser method can be used. In the case of being formed by chemical processing, the first dielectric substrate 100 and the second dielectric substrate 200 may be opened using chemicals including aminosilane, ketones, and the like.

한편, 상기 레이저에 의한 가공은 광학 에너지를 표면에 집중시켜 재료의 일부를 녹이고 증발시켜, 원하는 형태를 취하는 절단 방법으로, 컴퓨터 프로그램에 의한 복잡한 형성도 쉽게 가공할 수 있고, 다른 방법으로는 절단하기 어려운 복합 재료도 가공할 수 있다. On the other hand, the processing by the laser is a cutting method in which a part of the material is melted and evaporated by concentrating optical energy on the surface to take a desired shape, and complex formation by a computer program can be easily processed, and in other methods, cutting Even difficult composite materials can be machined.

또한, 상기 레이저에 의한 가공은 절단 직경이 최소 0.005mm까지 가능하며, 가공 가능한 두께 범위로 넓은 장점이 있다. 상기 레이저 가공 드릴로, YAG(Yttrium Aluminum Garnet)레이저나 CO2 레이저나 자외선(UV) 레이저를 이용하는 것이 바람직하다. YAG 레이저는 동박층 및 절연층 모두를 가공할 수 있는 레이저이고, CO2 레이저는 절연층만 가공할 수 있는 레이저이다.In addition, the processing by the laser can have a cutting diameter of at least 0.005mm, and has a wide advantage in a range of possible thicknesses. As the laser processing drill, it is preferable to use a YAG (Yttrium Aluminum Garnet) laser, a CO2 laser, or an ultraviolet (UV) laser. The YAG laser is a laser that can process both the copper foil layer and the insulating layer, and the CO2 laser is a laser that can process only the insulating layer.

상기 비아(1222)는 일정 직경을 가지며, 상호 일정 거리만큼 이격되어 복수 개가 배치될 수 있다. 이때, 상기 복수의 비아(1222)의 각각의 직경은 300㎛일 수 있으며, 상기 복수의 비아(1222)들 사이의 이격 거리는 300㎛일 수 있다.The via 1222 may have a predetermined diameter, and a plurality of vias 1222 may be spaced apart from each other by a predetermined distance. In this case, the diameter of each of the plurality of vias 1222 may be 300 μm, and the separation distance between the plurality of vias 1222 may be 300 μm.

한편, 그라운드(122)는 상기 유전층(110)의 상면의 전체 영역에 배치되는 것이 아니라, 일부 영역에만 배치될 수 있다. 즉, 상기 그라운드(122)는 상기 유전층(110)의 상면에 a*b 크기의 장방향 형상을 가질 수 있다. 이때, 상기 그라운드(122)가 가지는 크기는 상기 유전층(110)의 상면의 크기보다 작다.Meanwhile, the ground 122 may not be disposed over the entire area of the upper surface of the dielectric layer 110 , but may be disposed only on a partial area. That is, the ground 122 may have a longitudinal shape of the size a*b on the upper surface of the dielectric layer 110 . In this case, the size of the ground 122 is smaller than the size of the top surface of the dielectric layer 110 .

또한, 상기 유전층(110) 위에는 급전부(121)가 배치된다. 상기 급전부(121)도 상기 그라운드(122)와 마찬가지로 상기 상부층(120)을 이용하여 형성될 수 있다. 상기 급전부(121)는 통신소자(도시하지 않음)와 상기 상부층(120)의 상기 그라운드(122)를 연결한다. 바람직하게, 상기 급전부(121)는 상기 통신소자를 통해 전달되는 신호를 상기 그라운드(122)로 전달한다. In addition, a power feeding unit 121 is disposed on the dielectric layer 110 . Like the ground 122 , the power feeding part 121 may be formed using the upper layer 120 . The power feeding unit 121 connects a communication device (not shown) and the ground 122 of the upper layer 120 . Preferably, the power feeding unit 121 transmits a signal transmitted through the communication device to the ground 122 .

이를 위해, 상기 급전부(121)는 일반적으로 사용되는 마이크로 스트립 라인 구조의 신호 전송 라인(1211)을 포함할 수 있다. To this end, the power feeding unit 121 may include a signal transmission line 1211 having a generally used micro-strip line structure.

이때, 상기 그라운드(122)의 일단에는 상기 그라운드(122)의 내부 방향으로 함몰된 함몰부(1223)가 형성되며, 상기 급전부(121)의 제 1 영역은 상기 그라운드(122)의 상기 함몰부(1223) 내에 삽입된다. In this case, a depression 1223 is formed at one end of the ground 122 in an inward direction of the ground 122 , and the first region of the power feeding part 121 is the depression of the ground 122 . 1223 is inserted.

여기에서, 상기 함몰부(1223)가 가지는 폭은 상기 신호 전송 라인(1211)이 가지는 선폭보다 크다. 따라서, 상기 신호 전송 라인(1211)의 상기 제 1 영역은, 상기 그라운드(122)와 접촉하지 않으면서 상기 함몰부(1223) 내에 삽입된다. Here, the width of the recessed portion 1223 is greater than the line width of the signal transmission line 1211 . Accordingly, the first region of the signal transmission line 1211 is inserted into the depression 1223 without contacting the ground 122 .

다시 말해서, 상기 그라운드(122)와 상기 신호 전송 라인(1211)의 상기 제 1 영역 사이에는 상기 함몰부(1223)에 의해 하부의 상기 유전층(110)의 상면이 노출된다. 즉, 상기 신호 전송 라인(1211)의 상기 제 1 영역의 하부 주위에는 상기 유전층(110)이 둘러싸며 배치될 수 있다. In other words, between the ground 122 and the first region of the signal transmission line 1211 , the upper surface of the lower dielectric layer 110 is exposed by the depression 1223 . That is, the dielectric layer 110 may be disposed around the lower portion of the first region of the signal transmission line 1211 .

즉, 본 발명에서는 상기 신호 전송 라인(1211)의 상기 제 1 영역의 주위의 하부에 상기 유전층(110)이 둘러싸며 배치되도록 하며, 이에 따라 상기 제 1 영역의 주위를 통해 전달되는 신호의 손실을 최소화하도록 한다.That is, in the present invention, the dielectric layer 110 is disposed to surround the lower portion of the periphery of the first region of the signal transmission line 1211, thereby reducing the loss of the signal transmitted through the periphery of the first region. to be minimized.

상기 유전층(110)의 하면에는 상기 하부층(130)이 배치된다.The lower layer 130 is disposed on the lower surface of the dielectric layer 110 .

상기 하부층(130)은 상기 비아(1222)를 통해 상기 상부층(120)과 전기적으로 연결된다. 바람직하게, 상기 하부층(130)은 상기 비아(1222)를 통해 상기 상부층(120)의 그라운드(122)와 전기적으로 연결된다.The lower layer 130 is electrically connected to the upper layer 120 through the via 1222 . Preferably, the lower layer 130 is electrically connected to the ground 122 of the upper layer 120 through the via 1222 .

상기 하부층(130)에는 복수의 슬롯이 형성된다. 이때, 상기 복수의 슬롯은 상기 하부층(130) 중 상기 유전층(110) 위에 배치되는 그라운드(122)와 수직으로 중첩되는 중첩 영역(R1)에 형성된다. A plurality of slots are formed in the lower layer 130 . In this case, the plurality of slots are formed in the overlapping region R1 vertically overlapping with the ground 122 disposed on the dielectric layer 110 of the lower layer 130 .

즉, 상기 하부층(130)의 중첩 영역(R1)에는 제 1 슬롯(131) 및 상기 제 1 슬롯(131)과 일정 간격 이격되어 제 2 슬롯(132)이 형성된다. That is, in the overlapping region R1 of the lower layer 130 , a first slot 131 and a second slot 132 spaced apart from the first slot 131 are formed.

상기 제 1 슬롯(131)은 상기 그라운드(122)와 수직으로 중첩되는 상기 유전층(110)의 하면 중 적어도 일부를 노출한다. 이때, 상기 제 1 슬롯(131)은 상기 제 2 유전체 기판(200)에 형성되는 공기층(C)과 수직으로 중첩된다. 상기 공기층(C)은 공극이라고도 할 수 있으며, 상기 신호가 전달되는 통로이다. 명확하게, 상기 공기층(C)은 에어 캐비티(Air Cavity)라고 할 수 있다.The first slot 131 exposes at least a portion of a lower surface of the dielectric layer 110 vertically overlapping with the ground 122 . In this case, the first slot 131 vertically overlaps the air layer C formed on the second dielectric substrate 200 . The air layer (C) may be referred to as a void, and is a passage through which the signal is transmitted. Clearly, the air layer (C) may be referred to as an air cavity.

따라서, 상기 제 1 슬롯(131)을 통해 노출되는 상기 유전층(110)의 하면은 상기 제 2 유전체 기판(200)의 상기 공기층(C) 내에 배치된다. Accordingly, the lower surface of the dielectric layer 110 exposed through the first slot 131 is disposed in the air layer C of the second dielectric substrate 200 .

한편, 상기 제 1 슬롯(131)은 '□'자 형상을 가질 수 있으며, 상기 제 2 유전체 기판(200)에 형성되는 공기층(C)의 크기보다 작은 크기로 형성될 수 있다. Meanwhile, the first slot 131 may have a '□' shape, and may have a size smaller than the size of the air layer C formed on the second dielectric substrate 200 .

상기 제 2 슬롯(132)은 상기 하부층(130) 상에 상기 제 1 슬롯(131)과 일정 간격 이격된 위치에 형성된다. 상기 제 2 슬롯(132)은 상기 중첩 영역 내에 배치된다. The second slot 132 is formed on the lower layer 130 at a position spaced apart from the first slot 131 by a predetermined interval. The second slot 132 is disposed in the overlapping area.

바람직하게, 상기 제 2 슬롯(132)의 적어도 일부는 상기 신호 전송 라인(1211)의 상기 제 1 영역과 수직으로 중첩되는 영역에 형성된다. Preferably, at least a portion of the second slot 132 is formed in a region that vertically overlaps with the first region of the signal transmission line 1211 .

다시 말해서, 상기 제 2 슬롯(132)은 일자 형상을 가지는 제 1 부분(1321)과, 상기 제 1 부분(1321)의 일단에서 상기 제 1 부분(132)의 수직 방향으로 형성되는 제 2 부분(132)과, 상기 제 1 부분(132)의 타단에서 상기 제 1 부분(132)의 수직 방향으로 형성되며 상기 제 2 부분(132)과 평행한 제 3 부분(1323)을 포함한다.In other words, the second slot 132 includes a first portion 1321 having a straight shape, and a second portion ( 132 , and a third part 1323 formed at the other end of the first part 132 in a direction perpendicular to the first part 132 and parallel to the second part 132 .

즉, 상기 제 2 슬롯(132)의 상기 제 1 부분(1321)과, 상기 제 2 부분(1322)과, 상기 제 3 부분(1323)의 조합 형상은 U자 형상을 갖는다.That is, the combination shape of the first part 1321 , the second part 1322 , and the third part 1323 of the second slot 132 has a U-shape.

상기 제 2 슬롯(132)은 상기와 같이 U자 형상을 가지며, 수직 방향으로 상기 신호 전송 라인(1211)과 적어도 일부가 중첩되도록 형성된다. 이에 따라, 본 발명에서는 공기층(C)을 가지는 신호 도파관 구조에서, 상기 급전부(121)와 상기 제 1 유전체 기판(100)의 상기 상부층(120) 사이를 삽입 손실 없이 연결할 수 있다.The second slot 132 has a U-shape as described above, and is formed to at least partially overlap the signal transmission line 1211 in the vertical direction. Accordingly, in the present invention, in the signal waveguide structure having the air layer C, it is possible to connect the power supply unit 121 and the upper layer 120 of the first dielectric substrate 100 without an insertion loss.

한편, 도 4를 참조하여 상기 제 2 슬롯과 상기 신호 전송 라인(1211) 사이의 관계에 대해 보다 구체적으로 설명하기로 한다.Meanwhile, a relationship between the second slot and the signal transmission line 1211 will be described in more detail with reference to FIG. 4 .

상기 제 2 슬롯(132)은 상기 제 1 부분(1321)이 상기 신호 전송 라인(1211)의 상기 제 1 영역과 수직으로 중첩된다. 바람직하게, 상기 제 2 슬롯(132)의 상기 제 1 부분(1321)의 적어도 일부는 상기 제 1 영역과 수직 방향으로 중첩되는 영역에 위치한다. 이때, 상기 제 1 부분(1321)의 좌우 폭은 상기 신호 전송 라인(1211)의 상기 제 1 영역의 좌우 폭보다 크다.In the second slot 132 , the first portion 1321 vertically overlaps the first area of the signal transmission line 1211 . Preferably, at least a portion of the first portion 1321 of the second slot 132 is positioned in an area overlapping the first area in a vertical direction. In this case, the left and right widths of the first portion 1321 are greater than the left and right widths of the first region of the signal transmission line 1211 .

따라서, 상기 제 1 부분(1321)은 수직 방향 내에서 상기 신호 전송 라인(1211)의 제 1 영역과 중첩되는 부분과, 상기 신호 전송 라인(1211)과 중첩되지 않는 부분을 각각 포함한다.Accordingly, the first portion 1321 includes a portion overlapping the first area of the signal transmission line 1211 and a portion not overlapping the signal transmission line 1211 in the vertical direction, respectively.

그리고, 상기 제 2 부분(1322)은 상기 제 1 부분(1321)의 일단에서 수직 방향으로 절곡되어 배치된다. 바람직하게, 상기 제 2 부분(1322)은 상기 제 1 부분(1321)의 일단에서, 상기 제 1 슬롯(131)이 형성된 방향을 향하여 수직 절곡된다.In addition, the second part 1322 is vertically bent at one end of the first part 1321 . Preferably, the second part 1322 is vertically bent from one end of the first part 1321 in a direction in which the first slot 131 is formed.

또한, 상기 제 3 부분(1323)은 상기 제 1 부분(1321)의 타단에서 수직 방향으로 절곡되어 배치된다. 바람직하게, 상기 제 3 부분(1323)은 상기 제 1 부분(1321)의 타단에서, 상기 제 1 슬롯(131)이 형성된 방향을 향하여 수직 절곡된다.In addition, the third portion 1323 is vertically bent at the other end of the first portion 1321 . Preferably, the third portion 1323 is vertically bent from the other end of the first portion 1321 in a direction in which the first slot 131 is formed.

한편, 상기 신호 전송 라인(1211)의 상기 제 1 영역은, 수직 방향 내에서 상기 제 2 슬롯(132)의 상기 제 1 부분(1321)과 중첩되는 영역을 포함하며, 상기 중첩되는 영역에 더하여, 수직 방향 내에서 상기 제 2 부분(1322)과 상기 제 3 부분(1323)의 사이 영역으로 돌출되어 배치된다. On the other hand, the first area of the signal transmission line 1211 includes an area overlapping with the first portion 1321 of the second slot 132 in the vertical direction, and in addition to the overlapping area, It is disposed to protrude to an area between the second part 1322 and the third part 1323 in the vertical direction.

이때, 상기 신호 전송 라인(1211)의 상기 제 1 영역의 끝단은 수직 방향 내에서 상기 제 2 부분(1322)과 상기 제 3 부분(1323)의 사이 영역 내에 배치된다. 즉, 상기 제 2 슬롯(132)과 상기 신호 전송 라인(1211)의 수직 방향 내에서의 위치 관계에 따라 삽입 손실에 큰 차이가 나타난다.In this case, the end of the first region of the signal transmission line 1211 is disposed in the region between the second part 1322 and the third part 1323 in the vertical direction. That is, there is a large difference in the insertion loss according to the positional relationship between the second slot 132 and the signal transmission line 1211 in the vertical direction.

도 5는 본 발명의 실시 예와의 비교 구조를 보여주는 도면이다.5 is a view showing a comparative structure with an embodiment of the present invention.

상기와 같이, 본 발명에서는 상기 신호 전송 라인(1211)의 상기 제 1 영역의 끝단이 수직 방향 내에서 상기 제 2 부분(1322)과 상기 제 3 부분(1323)의 사이 영역 내에 배치된다. As described above, in the present invention, the end of the first region of the signal transmission line 1211 is disposed in the region between the second part 1322 and the third part 1323 in the vertical direction.

이와 다르게, 도 5의 (A)와 같이, 상기 신호 전송 라인(1211)의 상기 제 1 영역의 끝단은 수직 방향 내에서 상기 제 2 부분(1322)과 상기 제 3 부분(1323)의 사이 영역 내에 배치되지 않고, 상기 제 1 부분(1311) 상에만 배치될 수 있다. 이는, 상기 신호 전송 라인(1211)의 상기 제 1 영역의 길이가 본 발명의 실시 예보다 짧은 경우를 의미한다.Alternatively, as shown in FIG. 5A , the end of the first region of the signal transmission line 1211 is in the region between the second part 1322 and the third part 1323 in the vertical direction. It is not disposed, and may be disposed only on the first part 1311 . This means that the length of the first region of the signal transmission line 1211 is shorter than that of the embodiment of the present invention.

또한, 이와 다르게 도 5의 (B)와 같이, 상기 신호 전송 라인(1211)의 상기 제 1 영역의 끝단은 수직 방향 내에서 상기 제 2 부분(1322)과 상기 제 3 부분(1323)의 사이 영역 내에 배치될 뿐 아니라, 상기 제 2 부분(1322)과 상기 제 3 부분(1323)의 사이 영역을 벗어나는 위치까지 연장될 수 있다. 이는, 상기 신호 전송 라인(1211)의 상기 제 1 영역의 길이가 본 발명의 실시 예보다 더 긴 경우를 의미한다.Alternatively, as shown in FIG. 5B , the end of the first region of the signal transmission line 1211 is a region between the second part 1322 and the third part 1323 in the vertical direction. In addition to being disposed within, it may extend to a position outside the region between the second part 1322 and the third part 1323 . This means that the length of the first region of the signal transmission line 1211 is longer than that of the embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 실시 예의 구조와 비교 구조의 삽입 손실을 나타낸 그래프이다.6 is a graph showing the insertion loss of the structure of the embodiment of the present invention and the comparative structure.

도 6의 그래프에서 A는 도 5의 (A) 구조에 의해 발생하는 삽입 손실을 보여주고, B는 도 5의 (B) 구조에 의해 발생하는 삽입 손실을 보여주며, C는 도 4에 따른 본 발명의 실시 예의 구조에 의해 발생하는 삽입 손실을 보여준다.In the graph of FIG. 6, A shows the insertion loss caused by the structure of FIG. 5 (A), B shows the insertion loss caused by the structure of FIG. 5 (B), and C is the view according to FIG. The insertion loss caused by the structure of the embodiment of the invention is shown.

도 6에 나타난 바와 같이, 76.5GHz 주파수 영역에서, 상기 A 구조는 0.91dB의 삽입 손실이 나타나는 것을 확인할 수 있었으며, 상기 B 구조는 0.84dB의 삽입 손실이 나타나는 것을 확인할 수 있었으며, 본 발명의 실시 예의 구조는 상기 A 및 B 구조와는 확연히 구분되는 0.13dB의 삽입 손실이 나타나는 것을 확인할 수 있었다.As shown in FIG. 6 , in the 76.5 GHz frequency domain, it was confirmed that the A structure exhibited an insertion loss of 0.91 dB, and the B structure exhibited an insertion loss of 0.84 dB. It was confirmed that the structure exhibits an insertion loss of 0.13 dB, which is clearly distinguished from the A and B structures.

한편, 상기 제 1 유전체 기판(100) 아래에는 제 2 유전체 기판(200)이 배치된다. 상기 제 2 유전체 기판(200)은 상기 제 1 유전체 기판(100)으로부터 전달되는 밀리미터파의 신호를 전달하는 도파관이다.Meanwhile, a second dielectric substrate 200 is disposed under the first dielectric substrate 100 . The second dielectric substrate 200 is a waveguide that transmits a millimeter wave signal transmitted from the first dielectric substrate 100 .

다시 말해서, 상기 제 2 유전체 기판(200)은 상기 제 1 유전체 기판(100)로부터 신호를 전달받아 내부의 공기층(C)을 통해 상기 신호를 전송한다. 이때, 상기 신호는 상기 유전층(110)이 가지는 테프론의 유전율과, 상기 제 2 유전체 기판(200)의 공기층(C)이 가지는 유전율(Er=1)이 상호 결합된 유효 유전율에 의해 상기 공기층(C)을 통해 전달된다. In other words, the second dielectric substrate 200 receives the signal from the first dielectric substrate 100 and transmits the signal through the internal air layer (C). At this time, the signal is the air layer (C) by an effective permittivity in which the dielectric constant of Teflon of the dielectric layer 110 and the dielectric constant (Er=1) of the air layer C of the second dielectric substrate 200 are mutually combined. ) is transmitted through

이를 위해, 상기 제 2 유전체 기판(200)은 제 1 절연층(210)과, 상기 제 1 절연층(210) 위에 배치되는 제 1 금속층(220)과, 상기 제 1 금속층(220) 위에 배치되는 제 1 접착층(230)과, 상기 제 1 접착층(230) 위에 배치되는 제 2 금속층(240)과, 상기 제 2 금속층(240) 위에 배치되는 제 2 절연층(250)과, 상기 제 2 절연층(250) 위에 배치되는 제 3 금속층(260)과, 상기 제 3 금속층(260) 위에 배치되는 제 2 접착층(270)을 포함한다.To this end, the second dielectric substrate 200 includes a first insulating layer 210 , a first metal layer 220 disposed on the first insulating layer 210 , and a first metal layer 220 disposed on the first metal layer 220 . A first adhesive layer 230 , a second metal layer 240 disposed on the first adhesive layer 230 , a second insulating layer 250 disposed on the second metal layer 240 , and the second insulating layer A third metal layer 260 disposed on the 250 , and a second adhesive layer 270 disposed on the third metal layer 260 .

상기 제 1 접착층(230)은 프리프레그일 수 있으며, 상면에 상기 제 1 금속층(220)이 배치된 제 1 절연층(210)과, 하면에 상기 제 2 금속층(240)이 배치된 제 2 절연층(220) 사이에 접착력을 제공하여 상호 결합될 수 있도록 한다.The first adhesive layer 230 may be a prepreg, the first insulating layer 210 having the first metal layer 220 disposed on the upper surface, and the second insulating layer 210 having the second metal layer 240 disposed on the lower surface. It provides adhesion between the layers 220 so that they can be bonded together.

제 2 접착층(270)은 상면에 제 3 금속층(260)이 배치된 상기 제 2 절연층(250)과 상기 제 1 유전체 기판(100) 사이에 접착력을 제공하여 상호 결합될 수 있도록 한다.The second adhesive layer 270 provides an adhesive force between the second insulating layer 250 on which the third metal layer 260 is disposed and the first dielectric substrate 100 so that they can be coupled to each other.

제 1 절연층(210)과 제 2 절연층(250)은 일정 두께의 상기 공기층(C)을 확보하기 위하여 형성된다. 이때, 하나의 절연층으로 상기 공기층(C)의 두께를 확보할 수 있다면, 상기 절연층은 본 발명에서와 같이 2개의 층이 아닌 1개의 층으로도 형성될 수 있을 것이다. 또한, 상기 절연층은 본 발명에서와 같이 2개의 층이 아닌 3개의 층이나 그 이상의 층으로도 형성될 수 있을 것이다.The first insulating layer 210 and the second insulating layer 250 are formed to secure the air layer C having a predetermined thickness. At this time, if the thickness of the air layer (C) can be secured with one insulating layer, the insulating layer may be formed with one layer instead of two layers as in the present invention. In addition, the insulating layer may be formed of three or more layers instead of two as in the present invention.

상기 제 1 절연층(210) 및 제 2 절연층(250)은 에폭시(epoxy),듀로이드(Duroid), 베이크라이트, 고저항 실리콘, 유리, 알루미나, LTCC 및 에어폼(Air form) 등을 사용할 수 있으나, 바람직하게 비교적 단가가 저렴한 FR-4를 사용한다.The first insulating layer 210 and the second insulating layer 250 may be made of epoxy, duroid, bakelite, high-resistance silicon, glass, alumina, LTCC, and air form. However, it is preferable to use FR-4, which is relatively inexpensive.

상기 제 1 금속층(220), 제 2 금속층(240) 및 제 3 금속층(260)은 각 층들 사이에 배선 역할을 하는 회로 패턴을 포함한다. The first metal layer 220 , the second metal layer 240 , and the third metal layer 260 include a circuit pattern serving as a wiring between the respective layers.

한편, 상기 제 2 유전체 기판(200) 내에는 상기 제 2 접착층(270), 제 3 금속층(260), 제 2 절연층(250), 제 2 금속층(240) 및 상기 제 1 접착층(230)을 관통하는 공기층(C)이 형성된다.Meanwhile, the second adhesive layer 270 , the third metal layer 260 , the second insulating layer 250 , the second metal layer 240 and the first adhesive layer 230 are formed in the second dielectric substrate 200 . A penetrating air layer (C) is formed.

상기 공기층(C)은 상기 제 1 유전체 기판(100)의 상부에 형성되는 상기 그라운드(122)와 수직으로 중첩되는 영역 내에 배치된다. 바람직하게, 상기 공기층(C)의 위치는 상기 그라운드(122)를 구성하는 비아(1222)의 위치에 의해 결정될 수 있다. The air layer C is disposed in a region that vertically overlaps with the ground 122 formed on the first dielectric substrate 100 . Preferably, the position of the air layer C may be determined by the position of the via 1222 constituting the ground 122 .

상기 공기층(C)은 상기 비아(1222)가 둘러싸고 있는 내부 영역과 수직으로 중첩되는 위치에 형성된다. 따라서, 상기 비아(1222)는 상기 제 2 유전체 기판(200)을 관통하며 배치되는데, 상기 공기층(C)이 상기 비아(1222)의 내부 영역에 배치되기 때문에, 상기 비아(1222)와 상기 공기층(C)은 상기 제 2 유전체 기판(200) 내에서 일정 간격 이격된다.The air layer C is formed at a position vertically overlapping with the inner region surrounded by the via 1222 . Accordingly, the via 1222 is disposed to pass through the second dielectric substrate 200, and since the air layer C is disposed in the inner region of the via 1222, the via 1222 and the air layer ( C) are spaced apart from each other by a predetermined interval in the second dielectric substrate 200 .

한편, 상기 공기층(C)이 가지는 두께는, 상기 제 1 유전체 기판(100)의 두께, 바람직하게는 상기 유전층(110)의 두께보다 두꺼운 것이 바람직하다.Meanwhile, the thickness of the air layer (C) is preferably thicker than the thickness of the first dielectric substrate 100 , preferably, the thickness of the dielectric layer 110 .

본 발명에 따른 실시 예에 의하면, 공기층 도파관의 특성과 유전율 특성을 상호 결합한 형태로, 낮은 두께의 테프론 대비 상대적으로 높은 두께의 공기층으로 밀리미터파를 전송함에 따른 신호 손실을 최소화할 수 있고, 테프론으로 패턴(슬롯 타입 외)을 구현함으로써, 밀리미터파 안테나의 제작 용이성을 향상시킬 수 있다.According to the embodiment according to the present invention, in a form in which the characteristics of the air layer waveguide and the dielectric constant characteristics are mutually combined, the signal loss due to the transmission of millimeter waves through the air layer having a relatively high thickness compared to the low thickness Teflon can be minimized, and Teflon is used. By implementing a pattern (other than the slot type), it is possible to improve the easiness of manufacturing the millimeter wave antenna.

또한, 본 발명에 따른 실시 예에 의하면, 낮은 두께의 테프론을 사용하여 SIW를 구현할 수 있는 구조뿐만 아니라, 전송 손실을 최소화할 수 있는 공기층을 포함으로써, 제품 신뢰성을 향상시킬 수 있다.In addition, according to an embodiment of the present invention, product reliability can be improved by including an air layer that can minimize transmission loss as well as a structure that can implement SIW using Teflon of a low thickness.

또한, 본 발명에 따른 실시 예에 의하면, 테프론에 의한 유전율(Er)과 공기층층의 유전율(Er=1)이 상호 결합된 유효 유전율에 의해 신호가 전달이 되며, 이에 따라 구조 설계의 자유도를 향상시킬 수 있다.In addition, according to the embodiment of the present invention, the signal is transmitted by the effective dielectric constant in which the dielectric constant (Er) of Teflon and the dielectric constant (Er=1) of the air layer are mutually combined, thereby improving the degree of freedom in structural design can do it

또한, 본 발명에 따른 실시 예에 의하면, 도파관 모드(Transverse Electric 10)로 신호의 전송이 이루어지기 때문에, 공기층층에 의한 에너지 손실이 테프론의 매질의 손실 계수(Df)에 비해 상대적으로 저손실 특성을 가질 수 있다. In addition, according to the embodiment according to the present invention, since the signal is transmitted in the waveguide mode (Transverse Electric 10), the energy loss due to the air layer is relatively low loss compared to the loss factor (Df) of the medium of Teflon. can have

또한, 본 발명에 따른 실시 예에 의하면, 테프론의 상부층을 이용하여 패턴을 구현함으로써, 공기층만을 포함하는 구조가 가지는 안테나 설계의 단점을 극복할 수 있으며, 이에 따른 슬롯 패턴 제작의 난이도를 저감할 수 있다.In addition, according to the embodiment according to the present invention, by implementing the pattern using the upper layer of Teflon, it is possible to overcome the disadvantages of the antenna design of the structure including only the air layer, and thus the difficulty of manufacturing the slot pattern can be reduced. have.

또한, 본 발명에서는 테프론의 상부층과 통신소자 사이의 연결을 위한 전송 라인을 설계함으로써, 삽입 손실(Insertion Loss)를 최소화할 수 있다.In addition, in the present invention, by designing a transmission line for the connection between the upper layer of Teflon and the communication device, it is possible to minimize the insertion loss (Insertion Loss).

도 7은 본 발명의 실시 예에 따른 신호 특성을 보여주는 도면이다.7 is a diagram showing signal characteristics according to an embodiment of the present invention.

도 7을 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 입력 신호와 반사 신호의 비는 76.50GHz 주파수에서 -21.47dB을 가지고 있었으며, 이에 따른 신호 손실이 최소화되는 것을 확인할 수 있었다.Referring to FIG. 7 , the ratio of the input signal and the reflected signal according to the embodiment of the present invention was -21.47 dB at a frequency of 76.50 GHz, and thus it was confirmed that the signal loss was minimized.

도 8은 본 발명의 실시 예에 따른 안테나의 방사 특성을 보여주는 도면이다.8 is a view showing radiation characteristics of an antenna according to an embodiment of the present invention.

도 8에 도시된 바와 같이, 0도의 커브를 기준으로 76.5GHz 주파수에서 최대 13.2925dB의 신호 게인이 형성되는 것을 확인할 수 있었으며, 90도의 커브를 기준으로 76.5GHz 주파수에서 최대 12.4109dB의 신호 게인이 형성되는 것을 확인할 수 있었다.As shown in FIG. 8 , it was confirmed that the maximum signal gain of 13.2925 dB was formed at the 76.5 GHz frequency based on the 0 degree curve, and the maximum signal gain of 12.4109 dB was formed at the 76.5 GHz frequency based on the 90 degree curve. was able to confirm that

도 9는 본 발명의 실시 예에 따른 안테나에서의 신호 손실을 보여주는 도면이다.9 is a diagram illustrating signal loss in an antenna according to an embodiment of the present invention.

도 9에 도시된 바와 같이, 76.5GHz의 주파수에서 본 발명에서의 공기층(C)을 포함하는 안테나 구조가 가지는 신호 손실을 0.17dB이 나타나는 것을 확인할 수 있었다.As shown in FIG. 9 , it was confirmed that the signal loss of the antenna structure including the air layer (C) in the present invention at a frequency of 76.5 GHz was 0.17 dB.

도 10은 본 발명의 안테나와의 비교 구조에 대한 신호 손실을 나타낸 도면이다.10 is a diagram showing signal loss in comparison with the antenna of the present invention.

도 10의 A는 일반적인 테프론층만을 이용하여 SIW 안테나를 구현한 경우에서 나타나는 신호 손실을 보여주고, 도 10의 B는 Conventional Micro-Strip Line에서 나타나는 신호 손실을 보여준다.FIG. 10A shows a signal loss that occurs when an SIW antenna is implemented using only a typical Teflon layer, and FIG. 10B shows a signal loss that occurs on a conventional micro-strip line.

도 10의 A에서와 같이, 일반적인 테프론층만을 이용하여 SIW 안테나를 구현한 경우에는 0.72dB의 신호 손실이 발생하였고, 도 10의 B에서와 같이, Conventional Micro-Strip Line에서는 1.08dB의 신호 손실이 나타나는 것을 확인할 수 있었다.As shown in A of FIG. 10, when the SIW antenna is implemented using only a general Teflon layer, a signal loss of 0.72 dB occurred, and as shown in FIG. could be seen to appear.

도 11 내지 도 15는 본 발명의 실시 예에 따른 슬롯의 다양한 구현 예를 나타낸 도면이다.11 to 15 are diagrams illustrating various implementation examples of slots according to an embodiment of the present invention.

도 11은 전형적이며 대중적으로 사용되고 있는 도파관 배열 안테나 구조로써 병렬 연결로 등가화되는 슬롯 배열 안테나가 예시되었다.11 is a typical and popularly used waveguide array antenna structure, exemplified by a slot array antenna equivalent to a parallel connection.

여기서, 모든 방사 슬롯(301 내지 404)은, 공진(Resonance)에 해당되는 길이 및 오프셋(offset)을 가지며, 도파관의 중심에서 떨어진 오프셋 거리에 따라 다양한 병렬 서셉턴스(susceptance)를 가진다. Here, all of the radiation slots 301 to 404 have a length and an offset corresponding to resonance, and have various parallel susceptances according to an offset distance away from the center of the waveguide.

그 밖에 각 방사 슬롯은, 도파관 관내 파장(guide wavelength)의 반파장(λg/2) 거리만큼 떨어져 배치되어, 상기 각 방사 슬롯에 유도되는 전장 벡터의 위상은 동일하며, 높은 순도의 선형 편파를 방사할 수 있다.In addition, each radiation slot is disposed at a distance of half a wavelength (λg/2) of the waveguide wavelength (guide wavelength), so that the phase of the electric field vector induced in each radiation slot is the same, and high-purity linearly polarized waves are radiated can do.

도 12는 본 발명과 관련하여, 교차 회전 각도를 가지는 직렬 슬롯 배열 안테나 구조를 설명하기 위해 도시한 도면이다.12 is a diagram illustrating a structure of a serial slot array antenna having a cross rotation angle in relation to the present invention.

도 12의 단일 방사 슬롯은, 공진에 해당되는 길이를 가지며 회전 각도에 따라 다양한 직렬 레지스턴스(resistance)를 가진다.The single radiating slot of FIG. 12 has a length corresponding to resonance and has various series resistance according to a rotation angle.

여기서, 각 방사 슬롯(401 내지 404)은, 도파관 관내 파장(guide wavelength)의 반파장 거리만큼 떨어져 배치된다.Here, each of the radiation slots 401 - 404 are spaced apart by a half wavelength distance of the waveguide guide wavelength.

도 13은 본 발명과 관련하여, 동일한 회전 각도를 가진 직렬 슬롯 배열 안테나 구조를 설명하기 위해 도시한 도면이다.13 is a diagram illustrating a structure of a serial slot array antenna having the same rotation angle in relation to the present invention.

도 13의 단일 방사 슬롯은, 공진에 해당되는 길이를 가지며 회전 각도에 따라 다양한 직렬 레지스턴스를 가진다.The single radiating slot of FIG. 13 has a length corresponding to resonance and has a variable series resistance according to a rotation angle.

여기서, 각 방사 슬롯(501 내지 502)은, 도파관 관내 파장의 한 파장 거리만큼 떨어져 배치되며, 모든 방사 슬롯은 동일한 전장 위상(phase) 정보를 가진다.Here, each of the radiation slots 501 to 502 is spaced apart by one wavelength distance of the wavelength within the waveguide, and all radiation slots have the same electric field phase information.

따라서, 각 방사 슬롯(501 내지 502)에 유도되는 전장 벡터 방향은 동일하여 순도 높은 선형 편파를 발생시킬수 있다.Therefore, the direction of the electric field vector induced in each of the radiation slots 501 to 502 is the same, so that it is possible to generate a high-purity linear polarization wave.

도 14는 본 발명과 관련하여, 진행파(traveling-wave) 직렬 슬롯 배열 안테나 구조를 설명하기 위해 도시한 도면이다.14 is a diagram illustrating a structure of a traveling-wave serial slot array antenna in relation to the present invention.

도 14의 진행파 직렬 슬롯 배열 안테나는, 방사 슬롯 간의 간격은 일정하지 않고 서로 다른 간격을 가진 구조이다.The traveling wave series slot array antenna of FIG. 14 has a structure in which the spacing between the radiating slots is not constant but different from each other.

또한, 도 14의 진행파 배열 안테나(601 내지 604)는, 마지막 슬롯(404) 즉, 슬롯 배열 끝에는, 도파관의 특성 임피던스 로드(load)로 종단(termination)된다.Further, the traveling wave array antennas 601 to 604 of FIG. 14 are terminated with the characteristic impedance load of the waveguide at the last slot 404, that is, at the end of the slot array.

도 15는 본 발명과 관련하여, 슬롯 쌍(slot pair) 직렬 슬롯 배열 안테나 구조를 설명하기 위해 도시한 도면이다.15 is a diagram illustrating a structure of a slot pair serial slot array antenna in relation to the present invention.

도 15의 레이더 안테나는, 두 개의 방사 슬롯이 하나의 쌍을 형성하며 직렬로 배열된 안테나 구조이다.The radar antenna of FIG. 15 has an antenna structure in which two radiation slots form a pair and are arranged in series.

여기서, 도 15와 같은 레이더 안테나는, 방사 슬롯(701 내지 702, 703 내지 704) 간의 간격이 매우 좁아 상호 커플링 임피던스(mutual coupling impedance)를 반드시 고려해야 하며, 반복적인 계산을 통한 설계만이 가능하여 그 설계가 매우 까다롭다.Here, in the radar antenna as shown in FIG. 15, the spacing between the radiation slots 701 to 702 and 703 to 704 is very narrow, so mutual coupling impedance must be considered, and only design through repeated calculation is possible. Its design is very difficult.

도 16은 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 안테나의 구조를 보여주는 도면이다.16 is a diagram showing the structure of an antenna according to a second embodiment of the present invention.

도 16을 참조하면, 안테나는, 제 1 유전체 기판(100) 및 상기 제 1 유전체 기판(100) 아래에 배치되는 제 2 유전체 기판(200)을 포함한다.Referring to FIG. 16 , the antenna includes a first dielectric substrate 100 and a second dielectric substrate 200 disposed under the first dielectric substrate 100 .

여기에서, 상기 제 1 유전체 기판(100)은 소정의 유전율(Er)과 두께(h)를 갖는 비전도성 물질로 이루어진다. 상기 제 1 유전체 기판(100)은 유전층(110)과, 상기 유전층(110) 위에 배치되는 상부층(120)과, 상기 유전층(110) 아래에 배치되는 하부층(130)을 포함한다. Here, the first dielectric substrate 100 is made of a non-conductive material having a predetermined dielectric constant Er and a thickness h. The first dielectric substrate 100 includes a dielectric layer 110 , an upper layer 120 disposed on the dielectric layer 110 , and a lower layer 130 disposed under the dielectric layer 110 .

상기 유전층(110)은 테프론(Teflon)을 사용할 수 있다. 상기 상부층(120)은 상기 유전층(110) 위에 배치되는 금속층이다. 그리고, 상기 하부층(130)은 상기 유전층(110) 아래에 배치되는 금속층이다. The dielectric layer 110 may be made of Teflon. The upper layer 120 is a metal layer disposed on the dielectric layer 110 . In addition, the lower layer 130 is a metal layer disposed under the dielectric layer 110 .

다시 말해서, 상기 유전층(110), 상기 상부층(120) 및 상기 하부층(130)을 포함하는 제 1 유전체 기판(100)은 테프론 기판일 수 있다.In other words, the first dielectric substrate 100 including the dielectric layer 110 , the upper layer 120 , and the lower layer 130 may be a Teflon substrate.

상기 비아(1222)는 상기 상부층(120)을 관통하며 배치된다. 바람직하게, 상기 비아(1222)는 상기 상부층(120)뿐 아니라, 상기 상부층(120)을 포함하는 제 1 유전체 기판(100)과 상기 제 2 유전체 기판(200)을 관통하며 배치된다. 이에 따라, 상기 비아(1222)의 일면은 상기 상기 제 1 유전체 기판(100)의 상면(상기 상부층(120)의 상면)을 통해 노출되고, 상기 비아(1222)의 타면은 상기 제 2 유전체 기판(200)의 하면을 통해 노출된다. The via 1222 is disposed through the upper layer 120 . Preferably, the via 1222 is disposed through the first dielectric substrate 100 and the second dielectric substrate 200 including the upper layer 120 as well as the upper layer 120 . Accordingly, one surface of the via 1222 is exposed through the upper surface of the first dielectric substrate 100 (the upper surface of the upper layer 120), and the other surface of the via 1222 is the second dielectric substrate ( 200) is exposed through the lower surface.

상기 비아(1222)는 제 1 유전체 기판(100)과 상기 제 2 유전체 기판(200) 사이의 층간 전기적 연결을 위한 통로로써, 전기적으로 단절되어 있는 층을 드릴링(drilling)하여 비아 홀(도시하지 않음)을 형성하고, 상기 형성된 비아 홀을 도전성 물질로 채우거나, 도전 물질로 도금하여 형성될 수 있다. The via 1222 is a passage for an interlayer electrical connection between the first dielectric substrate 100 and the second dielectric substrate 200, and is a via hole (not shown) by drilling an electrically disconnected layer. ) and filling the formed via-holes with a conductive material or plating with a conductive material.

상기 비아(1222)를 형성하기 위한 금속 물질은 Cu, Ag, Sn, Au, Ni 및 Pd 중 선택되는 어느 하나의 물질일 수 있으며, 상기 금속 물질 충진은 무전해 도금, 전해 도금, 스크린 인쇄(Screen Printing), 스퍼터링(Sputtering), 증발법(Ecaporation), 잉크젯팅 및 디스펜싱 중 어느 하나 또는 이들의 조합된 방식을 이용할 수 있다.The metal material for forming the via 1222 may be any one material selected from Cu, Ag, Sn, Au, Ni, and Pd, and the filling of the metal material is performed by electroless plating, electrolytic plating, or screen printing (Screen printing). Printing), sputtering, evaporation, inkjetting, and dispensing, or a combination thereof may be used.

한편, 그라운드(122)는 상기 유전층(110)의 상면의 전체 영역에 배치되는 것이 아니라, 일부 영역에만 배치될 수 있다. 즉, 상기 그라운드(122)는 상기 유전층(110)의 상면에 a*b 크기의 장방향 형상을 가질 수 있다. 이때, 상기 그라운드(122)가 가지는 크기는 상기 유전층(110)의 상면의 크기보다 작다.Meanwhile, the ground 122 may not be disposed over the entire area of the upper surface of the dielectric layer 110 , but may be disposed only on a partial area. That is, the ground 122 may have a longitudinal shape of the size a*b on the upper surface of the dielectric layer 110 . In this case, the size of the ground 122 is smaller than the size of the top surface of the dielectric layer 110 .

상기 제 1 유전체 기판(100) 아래에는 제 2 유전체 기판(200)이 배치된다. 상기 제 2 유전체 기판(200)은 상기 제 1 유전체 기판(100)으로부터 전달되는 밀리미터파의 신호를 전달하는 도파관이다.A second dielectric substrate 200 is disposed under the first dielectric substrate 100 . The second dielectric substrate 200 is a waveguide that transmits a millimeter wave signal transmitted from the first dielectric substrate 100 .

다시 말해서, 상기 제 2 유전체 기판(200)은 상기 제 1 유전체 기판(100)로부터 신호를 전달받아 내부의 공기층(C)을 통해 상기 신호를 전송한다. 이때, 상기 신호는 상기 유전층(110)이 가지는 테프론의 유전율과, 상기 제 2 유전체 기판(200)의 공기층(C)이 가지는 유전율(Er=1)이 상호 결합된 유효 유전율에 의해 상기 공기층(C)을 통해 전달된다. In other words, the second dielectric substrate 200 receives the signal from the first dielectric substrate 100 and transmits the signal through the internal air layer (C). At this time, the signal is the air layer (C) by an effective permittivity in which the dielectric constant of Teflon of the dielectric layer 110 and the dielectric constant (Er=1) of the air layer C of the second dielectric substrate 200 are mutually combined. ) is transmitted through

이를 위해, 상기 제 2 유전체 기판(200)은 제 1 절연층(210)과, 상기 제 1 절연층(210) 위에 배치되는 제 1 금속층(220)과, 상기 제 1 금속층(220) 위에 배치되는 제 1 접착층(230)과, 상기 제 1 접착층(230) 위에 배치되는 제 2 금속층(240)과, 상기 제 2 금속층(240) 위에 배치되는 제 2 절연층(250)과, 상기 제 2 절연층(250) 위에 배치되는 제 3 금속층(260)과, 상기 제 3 금속층(260) 위에 배치되는 제 2 접착층(270)을 포함한다.To this end, the second dielectric substrate 200 includes a first insulating layer 210 , a first metal layer 220 disposed on the first insulating layer 210 , and a first metal layer 220 disposed on the first metal layer 220 . A first adhesive layer 230 , a second metal layer 240 disposed on the first adhesive layer 230 , a second insulating layer 250 disposed on the second metal layer 240 , and the second insulating layer A third metal layer 260 disposed on the 250 , and a second adhesive layer 270 disposed on the third metal layer 260 .

상기 제 1 접착층(230)은 프리프레그일 수 있으며, 상면에 상기 제 1 금속층(220)이 배치된 제 1 절연층(210)과, 하면에 상기 제 2 금속층(240)이 배치된 제 2 절연층(220) 사이에 접착력을 제공하여 상호 결합될 수 있도록 한다.The first adhesive layer 230 may be a prepreg, the first insulating layer 210 having the first metal layer 220 disposed on the upper surface, and the second insulating layer 210 having the second metal layer 240 disposed on the lower surface. It provides adhesion between the layers 220 so that they can be bonded together.

제 2 접착층(270)은 상면에 제 3 금속층(260)이 배치된 상기 제 2 절연층(250)과 상기 제 1 유전체 기판(100) 사이에 접착력을 제공하여 상호 결합될 수 있도록 한다.The second adhesive layer 270 provides an adhesive force between the second insulating layer 250 on which the third metal layer 260 is disposed and the first dielectric substrate 100 so that they can be coupled to each other.

제 1 절연층(210)과 제 2 절연층(250)은 일정 두께의 상기 공기층(C)을 확보하기 위하여 형성된다. 이때, 하나의 절연층으로 상기 공기층(C)의 두께를 확보할 수 있다면, 상기 절연층은 본 발명에서와 같이 2개의 층이 아닌 1개의 층으로도 형성될 수 있을 것이다. 또한, 상기 절연층은 본 발명에서와 같이 2개의 층이 아닌 3개의 층이나 그 이상의 층으로도 형성될 수 있을 것이다.The first insulating layer 210 and the second insulating layer 250 are formed to secure the air layer C having a predetermined thickness. At this time, if the thickness of the air layer (C) can be secured with one insulating layer, the insulating layer may be formed with one layer instead of two layers as in the present invention. In addition, the insulating layer may be formed of three or more layers instead of two as in the present invention.

상기 제 1 절연층(210) 및 제 2 절연층(250)은 에폭시(epoxy),듀로이드(Duroid), 베이크라이트, 고저항 실리콘, 유리, 알루미나, LTCC 및 에어폼(Air form) 등을 사용할 수 있으나, 바람직하게 비교적 단가가 저렴한 FR-4를 사용한다.The first insulating layer 210 and the second insulating layer 250 may be made of epoxy, duroid, bakelite, high-resistance silicon, glass, alumina, LTCC, and air form. However, it is preferable to use FR-4, which is relatively inexpensive.

상기 제 1 금속층(220), 제 2 금속층(240) 및 제 3 금속층(260)은 각 층들 사이에 배선 역할을 하는 회로 패턴을 포함한다. The first metal layer 220 , the second metal layer 240 , and the third metal layer 260 include a circuit pattern serving as a wiring between the respective layers.

한편, 상기 제 2 유전체 기판(200) 내에는 상기 제 2 접착층(270), 제 3 금속층(260), 제 2 절연층(250), 제 2 금속층(240) 및 상기 제 1 접착층(230)을 관통하는 공기층(C)이 형성된다.Meanwhile, the second adhesive layer 270 , the third metal layer 260 , the second insulating layer 250 , the second metal layer 240 and the first adhesive layer 230 are formed in the second dielectric substrate 200 . A penetrating air layer (C) is formed.

상기 공기층(C)은 상기 제 1 유전체 기판(100)의 상부에 형성되는 상기 그라운드(122)와 수직으로 중첩되는 영역 내에 배치된다. 바람직하게, 상기 공기층(C)의 위치는 상기 그라운드(122)를 구성하는 비아(1222)의 위치에 의해 결정될 수 있다. The air layer C is disposed in a region that vertically overlaps with the ground 122 formed on the first dielectric substrate 100 . Preferably, the position of the air layer C may be determined by the position of the via 1222 constituting the ground 122 .

상기 공기층(C)은 상기 비아(1222)가 둘러싸고 있는 내부 영역과 수직으로 중첩되는 위치에 형성된다. 따라서, 상기 비아(1222)는 상기 제 2 유전체 기판(200)을 관통하며 배치되는데, 상기 공기층(C)이 상기 비아(1222)의 내부 영역에 배치되기 때문에, 상기 비아(1222)와 상기 공기층(C)은 상기 제 2 유전체 기판(200) 내에서 일정 간격 이격된다.The air layer C is formed at a position vertically overlapping with the inner region surrounded by the via 1222 . Accordingly, the via 1222 is disposed to pass through the second dielectric substrate 200, and since the air layer C is disposed in the inner region of the via 1222, the via 1222 and the air layer ( C) are spaced apart from each other by a predetermined interval in the second dielectric substrate 200 .

또한, 상기 제 2 실시 예에서의 안테나는, 상기 공기층(C)에 차단층(290)이 더 형성된다. 상기 차단층(290)은 상기 공기층(C)의 내벽과 바닥면에 형성되며, 그에 따라 상기 공기층(C)의 외부로의 신호 손실을 차단하도록 한다. In addition, in the antenna of the second embodiment, a blocking layer 290 is further formed in the air layer (C). The blocking layer 290 is formed on the inner wall and bottom surface of the air layer (C), thereby blocking signal loss to the outside of the air layer (C).

본 발명에 따른 실시 예에 의하면, 공기층 도파관의 특성과 유전율 특성을 상호 결합한 형태로, 낮은 두께의 테프론 대비 상대적으로 높은 두께의 공기층으로 밀리미터파를 전송함에 따른 신호 손실을 최소화할 수 있고, 테프론으로 패턴(슬롯 타입 외)을 구현함으로써, 밀리미터파 안테나의 제작 용이성을 향상시킬 수 있다.According to the embodiment according to the present invention, in a form in which the characteristics of the air layer waveguide and the dielectric constant characteristics are mutually combined, the signal loss due to the transmission of millimeter waves through the air layer having a relatively high thickness compared to the low thickness Teflon can be minimized, and Teflon is used. By implementing a pattern (other than the slot type), it is possible to improve the easiness of manufacturing the millimeter wave antenna.

또한, 본 발명에 따른 실시 예에 의하면, 낮은 두께의 테프론을 사용하여 SIW를 구현할 수 있는 구조뿐만 아니라, 전송 손실을 최소화할 수 있는 공기층을 포함으로써, 제품 신뢰성을 향상시킬 수 있다.In addition, according to an embodiment of the present invention, by including an air layer capable of minimizing transmission loss as well as a structure that can implement SIW using Teflon of a low thickness, product reliability can be improved.

또한, 본 발명에 따른 실시 예에 의하면, 테프론에 의한 유전율(Er)과 공기층층의 유전율(Er=1)이 상호 결합된 유효 유전율에 의해 신호가 전달이 되며, 이에 따라 구조 설계의 자유도를 향상시킬 수 있다.In addition, according to the embodiment of the present invention, the signal is transmitted by the effective dielectric constant in which the dielectric constant (Er) of Teflon and the dielectric constant (Er=1) of the air layer are mutually combined, thereby improving the degree of freedom in structural design can do it

또한, 본 발명에 따른 실시 예에 의하면, 도파관 모드(Transverse Electric 10)로 신호의 전송이 이루어지기 때문에, 공기층층에 의한 에너지 손실이 테프론의 매질의 손실 계수(Df)에 비해 상대적으로 저손실 특성을 가질 수 있다. In addition, according to the embodiment according to the present invention, since the signal is transmitted in the waveguide mode (Transverse Electric 10), the energy loss due to the air layer is relatively low loss compared to the loss factor (Df) of the medium of Teflon. can have

또한, 본 발명에 따른 실시 예에 의하면, 테프론의 상부층을 이용하여 패턴을 구현함으로써, 공기층만을 포함하는 구조가 가지는 안테나 설계의 단점을 극복할 수 있으며, 이에 따른 슬롯 패턴 제작의 난이도를 저감할 수 있다.In addition, according to the embodiment according to the present invention, by implementing the pattern using the upper layer of Teflon, it is possible to overcome the disadvantages of the antenna design of the structure including only the air layer, and thus the difficulty of manufacturing the slot pattern can be reduced. have.

또한, 본 발명에서는 테프론의 상부층과 통신소자 사이의 연결을 위한 전송 라인을 설계함으로써, 삽입 손실(Insertion Loss)를 최소화할 수 있다.In addition, in the present invention, by designing a transmission line for the connection between the upper layer of Teflon and the communication device, it is possible to minimize the insertion loss (Insertion Loss).

Claims (12)

제 1 유전체 기판; 및
상기 제 1 유전체 기판 아래에 배치되며, 내부에 공기층이 형성된 제 2 유전체 기판;을 포함하고,
상기 제 1 유전체 기판은,
상기 공기층의 두께보다 얇은 두께를 가지는 유전층과,
상기 유전층 위에 배치되며, 적어도 하나의 방사 슬롯이 형성된 그라운드 및 급전부를 포함하는 상부층과,
상기 유전층 아래에 배치되며, 상기 제 2 유전체 기판과 접촉하는 하부층과,
상기 제 1 유전체 기판 및 상기 제 2 유전체 기판을 관통하며, 상기 상부층에 배치되는 상기 방사 슬롯 및 상기 제 2 유전체 기판에 형성되는 상기 공기층의 주위를 둘러싸는 복수의 비아를 포함하고,
상기 그라운드의 일단에는 상기 급전부의 신호 전송 라인의 제 1 영역이 삽입되는 함몰부가 형성되며,
상기 함몰부의 폭은 상기 신호 전송 라인의 상기 제 1 영역의 폭보다 크며,
상기 신호 전송 라인의 상기 제 1 영역은 상기 그라운드와 비접촉하는
안테나.
a first dielectric substrate; and
a second dielectric substrate disposed under the first dielectric substrate and having an air layer formed therein;
The first dielectric substrate,
a dielectric layer having a thickness smaller than that of the air layer;
an upper layer disposed over the dielectric layer and comprising a ground and a feed portion having at least one radiation slot formed therein;
a lower layer disposed under the dielectric layer and in contact with the second dielectric substrate;
a plurality of vias passing through the first dielectric substrate and the second dielectric substrate and surrounding the radiating slot disposed in the upper layer and the air layer formed in the second dielectric substrate;
At one end of the ground, a depression into which the first region of the signal transmission line of the power feeding unit is inserted is formed;
a width of the depression is greater than a width of the first region of the signal transmission line;
The first region of the signal transmission line is in contact with the ground.
antenna.
제 1항에 있어서,
상기 하부층은,
상기 공기층과 수직으로 중첩되는 영역에 형성되는 제 1 슬롯과,
상기 제 1 슬롯과 일정 간격 이격되며, 상기 신호 전송 라인의 상기 제 1 영역과 수직으로 중첩되는 영역에 형성되는 제 2 슬롯을 포함하는
안테나.
The method of claim 1,
The lower layer is
a first slot formed in an area vertically overlapping with the air layer;
and a second slot spaced apart from the first slot by a predetermined interval and formed in an area vertically overlapping with the first area of the signal transmission line.
antenna.
제 1항에 있어서,
상기 공기층은,
상기 상부층의 상기 그라운드에 형성되는 상기 적어도 하나의 방사 슬롯과 수직 방향으로 중첩되는
안테나.
The method of claim 1,
The air layer is
The at least one radiation slot formed in the ground of the upper layer overlaps in a vertical direction.
antenna.
제 1항에 있어서,
상기 제 2 유전체 기판은,
제 1 절연층과,
상기 제 1 절연층 위에 배치되는 제 1 금속층과,
상기 제 1 금속층 위에 배치되는 제 1 접착층과,
상기 제 1 접착층 위에 배치되는 제 2 금속층과,
상기 제 2 금속층 위에 배치되는 제 2 절연층과,
상기 제 2 절연층 위에 배치되는 제 3 금속층과,
상기 제 3 금속층 위에 배치되는 제 2 접착층을 포함하고,
상기 제 1 절연층 및 상기 제 2 절연층은 FR4를 포함하고,
상기 제 1 접착층 및 상기 제 2 접착층은 프리프레그를 포함하는
안테나.
The method of claim 1,
The second dielectric substrate,
a first insulating layer;
a first metal layer disposed on the first insulating layer;
a first adhesive layer disposed on the first metal layer;
a second metal layer disposed on the first adhesive layer;
a second insulating layer disposed on the second metal layer;
a third metal layer disposed on the second insulating layer;
a second adhesive layer disposed on the third metal layer;
The first insulating layer and the second insulating layer include FR4,
The first adhesive layer and the second adhesive layer include a prepreg
antenna.
제 4항에 있어서,
상기 공기층은,
상기 제 1 접착층, 상기 제 2 금속층, 상기 제 2 절연층, 상기 제 3 금속층 및 상기 제 2 접착층을 관통하는
안테나.
5. The method of claim 4,
The air layer is
penetrating the first adhesive layer, the second metal layer, the second insulating layer, the third metal layer, and the second adhesive layer
antenna.
제 2항에 있어서,
상기 제 2 슬롯은,
상기 제 1 영역과 수직 방향으로 중첩되는 영역에 형성되는 제 1 부분과,
상기 제 1 부분의 일단으로부터 상기 제 1 슬롯을 향하여 수직으로 절곡되어 형성되는 제 2 부분과,
상기 제 1 부분의 타단으로부터 상기 제 1 슬롯을 향하여 수직으로 절곡되어 형성되는 제 3 부분을 포함하는
안테나.
3. The method of claim 2,
The second slot is
a first portion formed in a region overlapping the first region in a vertical direction;
a second portion formed by being vertically bent from one end of the first portion toward the first slot;
and a third part formed by being vertically bent from the other end of the first part toward the first slot.
antenna.
제 6항에 있어서,
상기 신호 전송 라인의 상기 제 1 영역은,
상기 수직 방향 내에서 상기 제 2 슬롯의 상기 제 1 부분으로부터 돌출되어 적어도 일부가 상기 제 2 부분과 상기 제 3 부분 사이에 배치되고,
상기 제 1 영역의 단부는,
상기 수직 방향 내에서, 상기 제 2 부분 및 상기 3 부분 각각의 일단 및 타단 사이에 배치되는
안테나.
7. The method of claim 6,
The first area of the signal transmission line,
at least a portion protruding from the first portion of the second slot in the vertical direction is disposed between the second portion and the third portion,
The end of the first region,
disposed between one end and the other end of each of the second part and the three parts in the vertical direction
antenna.
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