KR102297729B1 - Glass production method and glass - Google Patents

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요시나리 카토
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니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤
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Abstract

유리의 제조방법으로서, 수증기압이 1hPa 이상인 분위기 중에서, 유리 조성 중의 Li2O+Na2O+K2O의 함유량이 5질량% 미만인 유리를 열처리한다.In a method for manufacturing a glass, or more water vapor pressure atmosphere are 1hPa, the content of the glass composition of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is subjected to heat treatment the glass is less than 5% by mass.

Description

유리의 제조방법 및 유리{GLASS PRODUCTION METHOD AND GLASS}Glass manufacturing method and glass

본 발명은 유리의 제조방법 및 유리에 관한 것으로서, 구체적으로는 액정 디스플레이, 유기 EL 디스플레이 등의 플랫 패널 디스플레이용 유리 기판, 터치패널 디스플레이, 칩 사이즈 패키지(CSP), 전하 결합 소자(CCD), 등배 근접형 고체 촬상 소자(CIS) 등의 커버 유리에 적합한 유리의 제조방법 및 유리에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing glass and glass, and more specifically, to a glass substrate for flat panel displays such as liquid crystal displays and organic EL displays, touch panel displays, chip size packages (CSPs), charge coupled devices (CCDs), equal magnifications It is related with the manufacturing method of glass suitable for cover glass, such as a proximity type solid-state image sensor (CIS), and glass.

액정 디스플레이, 유기 EL 디스플레이 등의 플랫 패널 디스플레이는 더욱 박형화, 대형화가 요구되고 있고, 이것에 따라 플랫 패널 디스플레이용 유리 기판도 더욱 박형화, 대형화가 요구되고 있다.Flat panel displays, such as a liquid crystal display and an organic electroluminescent display, are calculated|required further thinning and enlargement, and the glass substrate for flat panel displays is also calculated|required further thinning and enlarged by this.

이 용도의 유리 기판에는 일반적으로 무알칼리 유리가 사용되고 있다.Alkali-free glass is generally used for the glass substrate of this use.

J. Am. Ceram. Soc., 69, p. 815-821, 1986년 J. Am. Ceram. Soc., 69, p. 815-821, 1986

유리 기판이 박형화, 대형화되면, 파손이 발생하기 쉬워진다. 이 때문에, 강도 향상의 시도가 중요해진다.When a glass substrate becomes thin and enlarges, it will become easy to generate|occur|produce damage. For this reason, the trial of strength improvement becomes important.

유리의 강도를 높이는 방법으로서, 알칼리 이온의 이온교환(이온교환 처리)에 의해 표면에 압축 응력층을 형성하는 방법, 즉 화학 강화법이 알려져 있고, 이 화학 강화 유리는 터치패널 디스플레이의 커버 유리로서 이미 실용화되어 있다.As a method of increasing the strength of glass, a method of forming a compressive stress layer on the surface by ion exchange (ion exchange treatment) of alkali ions, that is, a chemical strengthening method is known, and this chemically strengthened glass is already used as a cover glass of a touch panel display. has been put into practice.

그러나, 무알칼리 유리는 유리 조성 중에 알칼리 금속 산화물을 포함하지 않기 때문에 이온교환 처리를 적용하는 것이 곤란하다.However, since alkali-free glass does not contain an alkali metal oxide in a glass composition, it is difficult to apply an ion exchange treatment.

또한, 유리의 강도를 높이는 방법으로서, 고온의 유리에 저온의 공기를 블로잉하여 표면에 압축 응력층을 형성하는 방법, 즉 물리 강화 처리가 알려져 있다.Further, as a method of increasing the strength of glass, a method of forming a compressive stress layer on the surface by blowing low-temperature air into high-temperature glass, that is, a physical strengthening treatment is known.

그러나, 플랫 패널 디스플레이용 유리 기판은 판두께가 작기 때문에, 물리 강화 처리를 적용하는 것이 곤란하다.However, since the glass substrate for flat panel displays has a small plate|board thickness, it is difficult to apply a physical strengthening process.

본 발명은 상기 사정을 감안한 것이고, 그 기술적 과제는 박형의 저알칼리 유리 또는 무알칼리 유리의 강도를 적정하게 높일 수 있는 방법을 창안하는 것이다.This invention takes the said situation into consideration, and the technical subject is to invent the method which can raise the intensity|strength of thin low-alkali glass or alkali free glass appropriately.

본 발명자는 각종의 실험을 반복한 결과, 수증기압이 높은 분위기 중에서 유리를 열처리함으로써 상기 기술적 과제를 해결할 수 있는 것을 발견하고, 본 발명으로서 제안하는 것이다. 즉, 본 발명의 유리의 제조방법은 수증기압이 1hPa 이상인 분위기 중에서, 유리 조성 중의 Li2O+Na2O+K2O의 함유량이 5질량% 미만인 유리를 열처리하는 것을 특징으로 한다. 여기에서, 「Li2O+Na2O+K2O」는 Li2O, Na2O 및 K2O의 합량을 가리킨다. 또한, 본 발명에서 말하는 「열처리」는 독립한 열처리 공정뿐만아니라, 예를 들면 성형시의 서냉 공정을 포함한다.As a result of repeating various experiments, this inventor discovers that the said technical subject can be solved by heat-processing glass in the atmosphere with high water vapor pressure, and proposes it as this invention. That it is, in the manufacturing method of the glass of the present invention is not less than a water vapor pressure atmosphere are 1hPa, characterized in that the content of the glass composition of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O heat treatment the glass is less than 5% by weight. Here, "Li 2 O + Na 2 O + K 2 O " refers to the total amount of Li 2 O, Na 2 O and K 2 O. In addition, the "heat treatment" as used in this invention includes not only the independent heat processing process, but the slow cooling process at the time of shaping|molding, for example.

수증기압이 높은 분위기 중에서 유리를 열처리하면, 완화의 시정수가 작아져서 응력 완화가 진행되지만, 이 응력 완화는 분위기의 영향에 의해 유리 표면쪽이 유리 내부보다 빠르게 진행된다. 이것에 의해, 열처리 후에 유리 내부의 쪽이 유리 표면보다 수축하여 유리 표면에 압축 응력층이 형성된다. 결과적으로, 박형의 저알칼리 유리 또는 무알칼리 유리의 강도를 적정하게 높이는 것이 가능해진다.When glass is heat-treated in an atmosphere with high water vapor pressure, the time constant of relaxation becomes small and stress relaxation advances, but this stress relaxation advances faster on the glass surface side than inside the glass under the influence of the atmosphere. Thereby, after heat treatment, the inner side of the glass shrinks from the glass surface, and a compressive stress layer is formed on the glass surface. As a result, it becomes possible to raise the intensity|strength of thin low alkali glass or alkali free glass appropriately.

제 2로, 본 발명의 유리의 제조방법은 열처리 온도가 150℃ 이상인 것이 바람직하다. 열처리 온도가 높을수록 응력 완화가 생기기 쉬워진다.Second, in the manufacturing method of the glass of the present invention, it is preferable that the heat treatment temperature is 150°C or higher. The higher the heat treatment temperature, the easier it is for stress relaxation to occur.

제 3으로, 본 발명의 유리의 제조방법은 성형시에 열처리하는 것, 특히 성형시의 서냉 공정을 실행할 때에 수증기압이 높은 분위기를 도입하는 것이 바람직하다. 이것에 의해 별도의 열처리 공정이 불필요하게 되어 유리의 제조 효율이 향상된다.Third, in the manufacturing method of the glass of the present invention, it is preferable to heat-treat at the time of molding, particularly, to introduce an atmosphere having a high water vapor pressure when performing the slow cooling step at the time of molding. Thereby, a separate heat treatment process becomes unnecessary, and the manufacturing efficiency of glass improves.

제 4로, 본 발명의 유리의 제조방법은 오버플로우 다운드로우법에 의한 성형시에 열처리하는 것이 바람직하다. 이것에 의해, 유리 리본의 양 표면을 수증기압이 높은 분위기에 노출시키는 것이 가능하게 되어, 유리의 양 표면의 강도를 높이기 쉬워진다. 여기에서, 「오버플로우 다운드로우법」은 용융 유리를 내열성을 갖는 홈통 형상 성형체의 양측으로부터 넘치게 하고, 넘친 용융 유리를 홈통 형상 성형체의 하단에서 합류시키면서, 하방을 향해서 유하시키면서 성형해서 유리 기판을 제작하는 방법이다.Fourth, in the manufacturing method of the glass of this invention, it is preferable to heat-process at the time of shaping|molding by an overflow down-draw method. Thereby, it becomes possible to expose both surfaces of a glass ribbon to the atmosphere with high water vapor pressure, and it becomes easy to raise the intensity|strength of both surfaces of glass. Here, in the "overflow down-draw method", the molten glass overflows from both sides of a trough-shaped molded body having heat resistance, and the overflowed molten glass is merged at the lower end of the trough-shaped molded body, and while flowing downward, forming a glass substrate is produced. way to do it

제 5로, 본 발명의 유리의 제조방법은 성형 후에 열처리하는 것, 특히 열처리로를 이용하여 성형 후의 유리의 열처리를 행하는 것이 바람직하다. 이렇게 하면, 완화 현상을 제어하기 쉬워진다.Fifth, in the method for manufacturing glass of the present invention, it is preferable to heat-treat after molding, particularly, to heat-treat the glass after molding using a heat treatment furnace. This makes it easier to control the relaxation phenomenon.

제 6으로, 본 발명의 유리의 제조방법은 유리에 부하 응력을 부여한 상태에서 열처리하는 것이 바람직하다. 외부 부하에 의해 유리에 인장 응력을 부여한 상태에서 열처리하면, 유리 표면의 응력 완화가 진행되어 그 인장 응력이 작아지지만, 그 한편으로 유리 내부의 응력 완화는 충분히 진행되지 않는다. 이 때문에, 열처리 후에 부하 응력을 제거하면, 유리 내부만이 수축하는 상태가 되어 유리 표면에 압축 응력을 효율좋게 부여할 수 있다.Sixth, in the manufacturing method of the glass of the present invention, it is preferable to heat-treat in a state in which a load stress is applied to the glass. When heat treatment is performed in a state in which tensile stress is applied to glass by an external load, stress relaxation on the surface of the glass advances and the tensile stress decreases, but on the other hand, stress relaxation inside the glass does not proceed sufficiently. For this reason, when the load stress is removed after heat processing, only the inside of glass will be in a state in which it shrink|contracts, and a compressive stress can be provided efficiently to the glass surface.

제 7로, 본 발명의 유리의 제조방법은 유리가 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 50∼80%, Al2O3 5∼25%, B2O3 0∼20%, Li2O+Na2O+K2O 0∼5% 미만, MgO+CaO+SrO+BaO 1∼25%를 함유하는 것이 바람직하다. 여기에서, 「MgO+CaO+SrO+BaO」는 MgO, CaO, SrO 및 BaO의 합량을 가리킨다.Seventh, in the manufacturing method of the glass of the present invention, the glass is SiO 2 50-80% by mass% as a glass composition, Al 2 O 3 5-25%, B 2 O 3 0-20%, Li 2 O+Na O + K 2 O less than 2 0 to 5%, preferably contains MgO + CaO + SrO + BaO 1~25 %. Here, "MgO+CaO+SrO+BaO" refers to the total amount of MgO, CaO, SrO, and BaO.

제 8로, 본 발명의 유리는 유리 조성 중의 Li2O+Na2O+K2O의 함유량이 5질량% 미만이며, 또한 최표면으로부터의 깊이가 1㎛인 위치에서의 프로톤 농도가 최표면으로부터의 깊이가 10㎛인 위치에서의 프로톤 농도보다 높은 것을 특징으로 한다. 상기한 바와 같이, 수증기압이 높은 분위기 중에서 유리를 열처리하면, 유리 표면에 압축 응력층이 형성되지만, 이 경우 유리 표면의 프로톤 농도가 유리 내부의 프로톤 농도보다 높아지게 된다. 따라서, 최표면으로부터의 깊이가 1㎛인 위치에서의 프로톤 농도와 최표면으로부터의 깊이가 10㎛인 위치에서의 프로톤 농도를 대비하면, 유리 표면과 유리 내부의 응력 완화의 차를 적정하게 평가하는 것이 가능해진다. 여기에서, 「프로톤 농도」는 글로우 방전 발광 분석법(GD-OES) 등으로 측정 가능하다.Eighth, in the glass of the present invention, the content of Li 2 O+Na 2 O+K 2 O in the glass composition is less than 5% by mass, and the proton concentration at the position where the depth from the outermost surface is 1 μm is the outermost surface. It is characterized in that it is higher than the proton concentration at a position with a depth of 10 μm. As described above, when glass is heat treated in an atmosphere with high water vapor pressure, a compressive stress layer is formed on the surface of the glass, but in this case, the proton concentration on the glass surface becomes higher than the proton concentration inside the glass. Therefore, if the proton concentration at a position having a depth of 1 μm from the outermost surface and the proton concentration at a position having a depth of 10 μm from the outermost surface are compared, the difference between the stress relaxation between the glass surface and the inside of the glass is appropriately evaluated. thing becomes possible Here, the "proton concentration" can be measured by a glow discharge emission spectrometry (GD-OES) or the like.

제 9로, 본 발명의 유리는 (최표면으로부터의 깊이가 1㎛인 위치에서의 프로톤 농도)/(최표면으로부터의 깊이가 10㎛인 위치에서의 프로톤 농도)가 1.1 이상인 것이 바람직하다.Ninth, the glass of the present invention preferably has (proton concentration at a position having a depth of 1 µm from the outermost surface)/(proton concentration at a position having a depth of 10 µm from the outermost surface) of 1.1 or more.

제 10으로, 본 발명의 유리는 평판 형상이고, 또한 판두께가 0.5mm 이하인 것이 바람직하다.Tenth, it is preferable that the glass of this invention is flat plate shape and plate thickness is 0.5 mm or less.

제 11로, 본 발명의 유리는 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 50∼80%, Al2O3 5∼25%, B2O3 0∼20%, Li2O+Na2O+K2O 0∼5% 미만, MgO+CaO+SrO+BaO 1∼25%를 함유하는 것이 바람직하다. 이렇게 하면, 플랫 패널 디스플레이용 유리 기판에 적용하기 쉬워진다.Eleventh, the glass of the present invention is SiO 2 50 to 80%, Al 2 O 3 5 to 25%, B 2 O 3 0 to 20%, Li 2 O+Na 2 O+K 2 in mass% as a glass composition It is preferable to contain less than 0-5% of O and 1-25% of MgO+CaO+SrO+BaO. In this way, it becomes easy to apply to the glass substrate for flat panel displays.

제 12로, 본 발명의 유리는 오버플로우 다운드로우법에 의해 성형되어 이루어지는 것이 바람직하다.Twelfth, it is preferable that the glass of this invention is shape|molded by the overflow down-draw method.

제 13으로, 본 발명의 유리는 이온교환 처리되어 있지 않은 것이 바람직하다. 이렇게 하면, 유리의 제조 비용을 저렴화할 수 있다.Thirteenth, it is preferable that the glass of the present invention is not subjected to ion exchange treatment. In this way, the manufacturing cost of glass can be reduced.

도 1은 본 발명의 실시형태에 관한 유리의 제조방법을 예시하기 위한 측면도이다.
도 2는 [실시예 2]의 실험을 설명하기 위한 사시도이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a side view for illustrating the manufacturing method of the glass which concerns on embodiment of this invention.
2 is a perspective view for explaining an experiment of [Example 2].

본 발명의 유리의 제조방법에서는 수증기압이 1hPa 이상인 분위기 중에서 유리를 열처리하지만, 수증기압은 바람직하게는 5hPa 이상, 10hPa 이상, 20hPa 이상, 50hPa 이상, 100hPa 이상 또는 200hPa 이상, 특히 바람직하게는 300∼2000hPa이다. 수증기압이 낮으면, 응력 완화가 진행되기 어려워진다. 또한, 수증기 발생장치의 온도를 높이면, 수증기압을 높일 수 있다.In the glass manufacturing method of the present invention, the glass is heat treated in an atmosphere having a water vapor pressure of 1 hPa or more, but the water vapor pressure is preferably 5 hPa or more, 10 hPa or more, 20 hPa or more, 50 hPa or more, 100 hPa or more, or 200 hPa or more, particularly preferably 300 to 2000 hPa. . When the water vapor pressure is low, stress relaxation becomes difficult to advance. In addition, if the temperature of the steam generator is increased, the steam pressure can be increased.

열처리 온도는 바람직하게는 150℃ 이상, 200℃ 이상, 300℃ 이상, 400℃ 이상 또는 500℃ 이상, 특히 바람직하게는 600℃ 이상이다. 열처리 온도가 낮으면, 응력 완화가 진행되기 어려워진다. 한편, 열처리 온도가 지나치게 높으면, 유리 표면과 유리 내부의 응력 완화의 차가 작아지기 때문에, 유리의 강도를 높이기 어려워진다. 따라서, 열처리 온도는 900℃ 이하가 바람직하다.The heat treatment temperature is preferably 150°C or higher, 200°C or higher, 300°C or higher, 400°C or higher or 500°C or higher, particularly preferably 600°C or higher. When the heat treatment temperature is low, stress relaxation becomes difficult to proceed. On the other hand, when the heat treatment temperature is too high, the difference in stress relaxation between the glass surface and the inside of the glass becomes small, so that it becomes difficult to increase the strength of the glass. Therefore, the heat treatment temperature is preferably 900°C or less.

열처리 시간은 바람직하게는 1분간 이상, 2분간 이상, 3분간 이상, 5분간 이상, 10분간 이상 또는 30분간 이상, 특히 바람직하게는 60분간 이상이다. 열처리 시간이 짧으면, 응력 완화가 진행되기 어려워진다. 한편, 열처리 시간이 너무 길면, 유리의 제조 비용이 상승한다. 따라서, 열처리 시간은 바람직하게는 15시간 이하, 특히 바람직하게는 2시간 미만이다. 또한, 성형시에 유리를 열처리할 경우의 열처리 시간은 수증기압이 1hPa 이상인 분위기 중에서 150℃ 이상의 온도 영역에 유리가 체류하는 시간을 가리킨다.The heat treatment time is preferably 1 minute or more, 2 minutes or more, 3 minutes or more, 5 minutes or more, 10 minutes or more, or 30 minutes or more, particularly preferably 60 minutes or more. When the heat treatment time is short, it becomes difficult for stress relaxation to proceed. On the other hand, when the heat treatment time is too long, the manufacturing cost of the glass rises. Accordingly, the heat treatment time is preferably 15 hours or less, particularly preferably less than 2 hours. In addition, the heat treatment time in the case of heat-processing glass at the time of shaping|molding refers to the time for glass to stay in the temperature range of 150 degreeC or more in an atmosphere with a water vapor pressure of 1 hPa or more.

본 발명의 유리의 제조방법은 부하 응력을 부여한 상태에서 열처리하는 것이 바람직하고, 부하 응력은 바람직하게는 0.1MPa 이상, 0.2MPa 이상, 0.5MPa 이상, 1MPa 이상, 5MPa 이상, 10MPa 이상, 20MPa 이상 또는 50MPa 이상, 특히 바람직하게는 100MPa 이상이다. 부하 응력이 높을수록 응력 완화가 진행되기 쉬워진다. 그러나, 부하 응력이 지나치게 높으면, 열처리시에 유리가 파손되기 쉬워진다. 따라서, 부하 응력은 1000MPa 이하가 바람직하다.In the method for producing the glass of the present invention, it is preferable to heat treatment in a state in which a load stress is applied, and the load stress is preferably 0.1 MPa or more, 0.2 MPa or more, 0.5 MPa or more, 1 MPa or more, 5 MPa or more, 10 MPa or more, 20 MPa or more, or 50 MPa or more, particularly preferably 100 MPa or more. The higher the load stress, the easier the stress relaxation will proceed. However, when the load stress is too high, the glass tends to break during heat treatment. Therefore, the load stress is preferably 1000 MPa or less.

유리에 부하 응력을 부여하는 수단으로서 각종의 방법이 상정되지만, 그 중에서도 제조 효율의 관점으로부터 유리를 만곡 또는 굴곡시키는 방법이 바람직하고, 특히 성형시에 유리를 만곡 또는 굴곡시키는 방법이 바람직하다.Although various methods are assumed as a means for applying a load stress to glass, among them, the method of bending or bending glass from a viewpoint of manufacturing efficiency is preferable, and especially the method of bending or bending glass at the time of shaping|molding is preferable.

본 발명의 유리의 제조방법에서는 제조 효율의 관점으로부터 성형시(예를 들면 서냉 공정의 실행시)에 열처리하는 것이 바람직하고, 완화 현상을 제어하는 관점으로부터 성형 후에 열처리하는 것도 바람직하다. 또한, 성형 후의 열처리는 전기로 등을 사용하는 것이 바람직하다.In the manufacturing method of the glass of this invention, it is preferable to heat-process at the time of shaping|molding (at the time of execution of a slow cooling process) from a viewpoint of manufacturing efficiency, and it is also preferable to heat-process after shaping|molding from a viewpoint of controlling a relaxation phenomenon. In addition, it is preferable to use an electric furnace etc. for heat processing after shaping|molding.

본 발명의 유리는 유리 조성 중의 Li2O+Na2O+K2O의 함유량이 5질량% 미만이고, 또한 최표면으로부터의 깊이가 1㎛인 위치에서의 프로톤 농도가 최표면으로부터의 깊이가 10㎛인 위치에서의 프로톤 농도보다 높은 것을 특징으로 한다. 마찬가지로 하여, 본 발명의 유리는 유리 조성 중의 Li2O+Na2O+K2O의 함유량이 5질량% 미만이고, 또한 최표면으로부터의 깊이가 0.2㎛인 위치에서의 프로톤 농도가 최표면으로부터의 깊이가 10㎛인 위치에서의 프로톤 농도보다 높은 것이 바람직하다. 또한, 본 발명의 유리의 기술적 특징은 본 발명의 유리의 제조방법의 기술적 특징과 중복되지만(본 발명의 유리의 제조방법의 기술적 특징은 본 발명의 유리의 기술적 특징과 중복되지만), 본 명세서에서는 편의상, 그 중복 부분에 대해서 상세한 설명을 생략한다.In the glass of the present invention, the content of Li 2 O+Na 2 O+K 2 O in the glass composition is less than 5% by mass, and the proton concentration at the position where the depth from the outermost surface is 1 μm is the depth from the outermost surface. It is characterized in that it is higher than the proton concentration at a position of 10 μm. Similarly, in the glass of the present invention, the content of Li 2 O+Na 2 O+K 2 O in the glass composition is less than 5% by mass, and the proton concentration at a position where the depth from the outermost surface is 0.2 μm is from the outermost surface. It is preferable that the depth of is higher than the proton concentration at a position of 10 μm. In addition, although the technical characteristics of the glass of the present invention overlap with the technical characteristics of the manufacturing method of the glass of the present invention (the technical characteristics of the manufacturing method of the glass of the present invention overlap with the technical characteristics of the glass of the present invention), in this specification For convenience, a detailed description of the overlapping portion is omitted.

본 발명의 유리는 소정의 유리 조성이 되도록 조합한 유리 배치를 연속식 유리 용융 가마에 투입하고, 이 유리 배치를 가열 용융하고, 얻어진 용융 유리를 청징한 후, 성형 장치에 공급한 다음에 평판 형상 등으로 성형함으로써 제작할 수 있다. 또한, 상기한 바와 같이, 성형시 및/또는 성형 후에, 수증기압이 높은 분위기 중에서 유리를 열처리하면, 최표면의 프로톤 농도를 높일 수 있다.In the glass of the present invention, a glass batch prepared so as to have a predetermined glass composition is put into a continuous glass melting kiln, the glass batch is heated and melted, the obtained molten glass is clarified, and then supplied to a forming apparatus, and then flat plate shape It can be manufactured by shaping|molding with etc. In addition, as described above, when the glass is heat-treated in an atmosphere with high water vapor pressure during and/or after molding, the proton concentration on the outermost surface can be increased.

본 발명의 유리는 오버플로우 다운드로우법으로 성형되어 이루어지는 것이 바람직하다. 오버플로우 다운드로우법의 경우, 유리 기판의 표면으로 되어야 할 면은 홈통 형상 내화물에 접촉하지 않고 자유 표면의 상태에서 성형되기 때문에, 유리 기판의 표면 품위를 높일 수 있다. 결과적으로, 미연마에 의해 표면 품위가 양호한 유리 기판을 얻을 수 있다.It is preferable that the glass of this invention is shape|molded by the overflow down-draw method. In the case of the overflow down-draw method, since the surface which should become the surface of a glass substrate is shape|molded in the state of a free surface without contacting a gutter-shaped refractory body, the surface quality of a glass substrate can be raised. As a result, a glass substrate with good surface quality can be obtained by unpolishing.

본 발명의 유리는 오버플로우 다운드로우법 이외에도, 각종의 성형 방법을 채택할 수 있다. 예를 들면, 슬롯 다운법, 플로트법, 롤아웃법 등의 성형 방법을 채택할 수 있다.The glass of this invention can employ|adopt various shaping|molding methods other than the overflow down-draw method. For example, a molding method such as a slot-down method, a float method, or a roll-out method can be adopted.

본 발명의 유리에 있어서, 유리 조성 중의 Li2O+Na2O+K2O의 함유량은 바람직하게는 5질량% 미만, 3질량% 이하, 2질량% 이하, 1질량% 이하, 0.5질량% 이하 또는 0.3질량% 이하, 특히 바람직하게는 0.1질량% 이하이다. 유리 조성 중의 Li2O, Na2O 및 K2O의 각각의 함유량도 바람직하게는 5질량% 미만, 3질량% 이하, 2질량% 이하, 1질량% 이하, 0.5질량% 이하 또는 0.3질량% 이하, 특히 바람직하게는 0.1질량% 이하이다. 상기한 바와 같이, 알칼리 금속 산화물의 함유량이 적어지면, 이온교환 처리를 적용하기 어려워지지만, 본 발명의 강도 향상 효과는 상대적으로 커진다. 또한, 알칼리 금속 산화물의 함유량이 적어지면, 내열성, 내후성 등이 향상되기 쉬워진다. 또한, 수증기압이 높은 분위기에서의 응력 완화는 유리 조성에 거의 영향을 주지 않아서, 저알칼리 유리 또는 무알칼리 유리에서도 적정하게 진행된다.In the glass of the present invention, the content of the glass composition of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is preferably less than 5% by mass, 3% or less, 2% or less, 1% or less, 0.5 mass% or less or 0.3 mass% or less, particularly preferably 0.1 mass% or less. Each content of Li 2 O, Na 2 O and K 2 O in the glass composition is also preferably less than 5 mass %, 3 mass % or less, 2 mass % or less, 1 mass % or less, 0.5 mass % or less, or 0.3 mass %. Below, especially preferably, it is 0.1 mass % or less. As described above, when the content of the alkali metal oxide decreases, it becomes difficult to apply the ion exchange treatment, but the strength improvement effect of the present invention becomes relatively large. Moreover, when content of an alkali metal oxide decreases, heat resistance, weather resistance, etc. will become easy to improve. Moreover, stress relaxation in an atmosphere with high water vapor pressure hardly affects a glass composition, and it advances suitably also in a low alkali glass or an alkali free glass.

본 발명의 유리에 있어서, (최표면으로부터의 깊이가 1㎛인 위치에서의 프로톤 농도)/(최표면으로부터의 깊이가 10㎛인 위치에서의 프로톤 농도)는 바람직하게는 1.1 이상, 1.15 이상, 1.2 이상 또는 1.25 이상이다. (최표면으로부터의 깊이가 1㎛인 위치에서의 프로톤 농도)/(최표면으로부터의 깊이가 10㎛인 위치에서의 프로톤 농도)가 작아지면, 유리 표면과 유리 내부의 응력 완화의 차가 작아지기 때문에, 유리의 강도를 높이기 어려워진다.In the glass of the present invention, (proton concentration at a position having a depth of 1 µm from the outermost surface)/(proton concentration at a position having a depth of 10 µm from the outermost surface) is preferably 1.1 or more, 1.15 or more, 1.2 or greater or 1.25 or greater. When (proton concentration at a position with a depth of 1 µm from the outermost surface)/(proton concentration at a position with a depth of 10 µm from the outermost surface) decreases, the difference in stress relaxation between the surface of the glass and the inside of the glass becomes smaller. , it becomes difficult to increase the strength of the glass.

(최표면으로부터의 깊이가 0.2㎛인 위치에서의 프로톤 농도)/(최표면으로부터의 깊이가 10㎛인 위치에서의 프로톤 농도)는 바람직하게는 1.1 이상, 1.15 이상, 1.2 이상, 1.25 이상 또는 1.3 이상, 특히 바람직하게는 1.5 이상이다. (최표면으로부터의 깊이가 0.2㎛인 위치에서의 프로톤 농도)/(최표면으로부터의 깊이가 10㎛인 위치에서의 프로톤 농도)가 작아지면, 유리 표면과 유리 내부의 응력 완화의 차가 작아지기 때문에, 유리의 강도를 높이기 어려워진다.(Proton concentration at a position having a depth of 0.2 µm from the outermost surface)/(Proton concentration at a position having a depth of 10 µm from the outermost surface) is preferably 1.1 or more, 1.15 or more, 1.2 or more, 1.25 or more, or 1.3 or more, particularly preferably 1.5 or more. When (proton concentration at a position with a depth of 0.2 µm from the outermost surface)/(proton concentration at a position with a depth of 10 µm from the outermost surface) decreases, the difference in stress relaxation between the surface of the glass and the inside of the glass becomes smaller. , it becomes difficult to increase the strength of the glass.

(최표면으로부터의 깊이가 0.02㎛인 위치에서의 프로톤 농도)/(최표면으로부터의 깊이가 10㎛인 위치에서의 프로톤 농도)는 바람직하게는 1.2 이상, 1.25 이상, 1.3 이상, 1.5 이상 또는 2.0 이상, 특히 바람직하게는 2.5 이상이다. (최표면으로부터의 깊이가 0.02㎛인 위치에서의 프로톤 농도)/(최표면으로부터의 깊이가 10㎛인 위치에서의 프로톤 농도)가 작아지면, 유리 표면과 유리 내부의 응력 완화의 차가 작아지기 때문에, 유리의 강도를 높이기 어려워진다.(Proton concentration at a position having a depth of 0.02 µm from the outermost surface)/(Proton concentration at a position having a depth of 10 µm from the outermost surface) is preferably 1.2 or more, 1.25 or more, 1.3 or more, 1.5 or more, or 2.0 or more, particularly preferably 2.5 or more. When (proton concentration at a position with a depth of 0.02 µm from the outermost surface)/(proton concentration at a position with a depth of 10 µm from the outermost surface) decreases, the difference in stress relaxation between the surface of the glass and the inside of the glass becomes smaller. , it becomes difficult to increase the strength of the glass.

본 발명의 유리는 평판 형상을 이루는 것, 즉 유리 기판인 것이 바람직하다. 평판 형상이면, 플랫 패널 디스플레이용 유리 기판, 커버 유리 등에 적용하기 쉬워진다. 판두께는 0.5mm 이하, 0.4mm 이하 또는 0.3mm 이하가 바람직하고, 특히 0.05∼0.2mm가 바람직하다. 판두께가 작을수록 물리 강화 처리를 적용하기 어려워지지만, 본 발명의 강도 향상 효과는 상대적으로 커진다. 또한, 판두께가 작으면, 유리를 만곡하기 쉬워져서 유리에 부하 응력을 부여하기어 쉬워진다. 더욱 판두께가 작으면, 유리 기판을 경량화하기 쉬워져서 디바이스도 경량화하기 쉬워진다. 또한, 수증기압이 높은 분위기에서의 응력 완화는 판두께에 거의 영향을 주지 않아서, 판두께가 작을 경우에도 적정하게 진행된다.It is preferable that the glass of this invention makes a flat plate shape, ie, it is a glass substrate. If it is flat panel shape, it will become easy to apply to the glass substrate for flat panel displays, a cover glass, etc. The plate thickness is preferably 0.5 mm or less, 0.4 mm or less, or 0.3 mm or less, and particularly preferably 0.05 to 0.2 mm. The smaller the plate thickness, the more difficult it is to apply the physical strengthening treatment, but the strength improvement effect of the present invention is relatively large. Moreover, when plate|board thickness is small, it will become easy to curve glass, and it will become easy to apply load stress to glass. Furthermore, when plate|board thickness is small, it will become easy to lighten a glass substrate, and it will become easy to lighten a device also. In addition, stress relaxation in an atmosphere with a high water vapor pressure has little effect on the plate thickness, and proceeds appropriately even when the plate thickness is small.

본 발명의 유리는 유리 조성으로서, 질량%로 SiO2 50∼80%, Al2O3 5∼25%, B2O3 0∼20%, Li2O+Na2O+K2O 0∼5% 미만, MgO+CaO+SrO+BaO 1∼25%를 함유하는 것이 바람직하다. 상기한 바와 같이 유리 조성을 한정한 이유를 이하에 나타낸다. 또한, 각 성분의 함유 범위의 설명에 있어서, %표시는 질량%를 가리킨다.The glass of the present invention has a glass composition, in terms of mass%, SiO 2 50 to 80%, Al 2 O 3 5 to 25%, B 2 O 3 0 to 20%, Li 2 O+Na 2 O+K 2 O 0 to It is preferable to contain less than 5% and 1-25% of MgO+CaO+SrO+BaO. The reason for limiting the glass composition as mentioned above is shown below. In addition, in description of the content range of each component, % indication points out mass %.

SiO2는 유리의 골격을 형성하는 성분이다. SiO2의 함유량은 바람직하게는 50∼80%, 54∼70% 또는 56∼66%, 특히 바람직하게는 58∼64%이다. SiO2의 함유량이 지나치게 적으면, 밀도가 지나치게 높아짐과 아울러, 내산성이 저하하기 쉬워진다. 한편, SiO2의 함유량이 지나치게 많으면, 고온 점도가 높아져서 용융성이 저하하기 쉬워지는 것에 부가해서, 크리스토발라이트 등의 실투 결정이 석출되기 쉬워져서, 액상 온도가 상승하기 쉬워진다.SiO 2 is a component forming the skeleton of glass. The content of SiO 2 is preferably 50 to 80%, 54 to 70% or 56 to 66%, particularly preferably 58 to 64%. When the content of SiO 2 is too small, and the density is excessively increased Further, the acid resistance is likely to decrease. On the other hand, when the content of SiO 2 is too much, the high temperature viscosity becomes high the melting properties in addition to being easy to degrade, so liable to devitrification, such as determining the precipitation of cristobalite, is likely to have a liquid temperature rise.

Al2O3은 유리의 골격을 형성하는 성분이며, 또한 왜곡점이나 영률을 높이는 성분이며, 더욱 분상(分相)을 억제하는 성분이다. Al2O3의 함유량은 바람직하게는 5∼25%, 12∼24% 또는 15∼22%, 특히 바람직하게는 16∼21%이다. Al2O3의 함유량이 지나치게 적으면, 왜곡점, 영률이 저하하기 쉬워지고, 또한 유리가 분상되기 쉬워진다. 한편, Al2O3의 함유량이 지나치게 많으면, 뮬라이트나 회장석 등의 실투 결정이 석출되기 쉬워져서, 액상 온도가 상승하기 쉬워진다.Al 2 O 3 is a component forming the skeleton of glass, is also a component of suppressing the distortion component and the height of a point or Young's modulus, more phase separation (分相). The content of Al 2 O 3 is preferably 5 to 25%, 12 to 24% or 15 to 22%, particularly preferably 16 to 21%. When the content of Al 2 O 3 is too small, the distortion point, and the Young's modulus is apt to become degraded, and is apt to have a glass phase separation. On the other hand, when the content of Al 2 O 3 is too large, the devitrification crystal such as mullite or chairman seat is so liable to be precipitated, the liquid is liable to temperature rise.

B2O3은 용융성, 내실투성, 내손상성을 높이는 성분이다. B2O3의 함유량은 바람직하게는 0∼20%, 0.1∼12%, 1∼10% 또는 3∼9%, 특히 바람직하게는 5∼8%이다. B2O3의 함유량이 지나치게 적으면, 용융성이나 내실투성이 저하하기 쉬워지고, 또한 불산계의 약액에 대한 내성이 저하하기 쉬워진다. 한편, B2O3의 함유량이 지나치게 많으면, 영률이나 왜곡점이 저하하기 쉬워진다.B 2 O 3 is a component to increase the melting property, resistance to devitrification, and scratch resistance. The content of B 2 O 3 is preferably 0 to 20%, 0.1 to 12%, 1 to 10%, or 3 to 9%, particularly preferably 5 to 8%. When the content of B 2 O 3 is too small, it becomes easy to decrease teeming molten or substantial, and tends to resistance to chemical degradation of the hydrofluoric acid-based. On the other hand, when the content of B 2 O 3 is too large, it is easy to decrease the Young's modulus or the distortion point.

Li2O, Na2O 및 K2O의 함유량은 상기한 바와 같다.The contents of Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O are as described above.

알칼리 토류금속 산화물은 고온 점성을 내리고, 용융성을 높이는 성분이다. MgO+CaO+SrO+BaO의 함유량은 바람직하게는 1∼25%, 3∼20% 또는 5∼15%, 특히 바람직하게는 7∼13%이다. MgO+CaO+SrO+BaO의 함유량이 지나치게 적으면, 용융성이 저하하기 쉬워진다. 한편, MgO+CaO+SrO+BaO의 함유량이 지나치게 많으면, 유리가 실투하기 쉬워진다.Alkaline earth metal oxide is a component that lowers high-temperature viscosity and improves meltability. The content of MgO+CaO+SrO+BaO is preferably 1 to 25%, 3 to 20%, or 5 to 15%, particularly preferably 7 to 13%. When there is too little content of MgO+CaO+SrO+BaO, meltability will fall easily. On the other hand, when there is too much content of MgO+CaO+SrO+BaO, glass will become easy to devitrify.

MgO는 고온 점성을 내리고 용융성을 높이는 성분이며, 알칼리 토류금속 산화물 중에서는 영률을 현저하게 높이는 성분이다. MgO의 함유량은 바람직하게는 0∼15%, 0∼8%, 0∼7%, 0∼6% 또는 0∼3%, 특히 바람직하게는 0.1∼2%이다. MgO의 함유량이 지나치게 적으면, 용융성이나 영률이 저하하기 쉬워진다. 한편, MgO의 함유량이 지나치게 많으면, 내실투성이 저하하기 쉬워짐과 아울러, 왜곡점이 저하하기 쉬워진다.MgO is a component that lowers high-temperature viscosity and improves meltability, and among alkaline earth metal oxides, it is a component that significantly increases Young's modulus. The content of MgO is preferably 0 to 15%, 0 to 8%, 0 to 7%, 0 to 6% or 0 to 3%, particularly preferably 0.1 to 2%. When there is too little content of MgO, meltability and Young's modulus will fall easily. On the other hand, when there is too much content of MgO, while devitrification resistance will fall easily, a strain point will fall easily.

CaO는 왜곡점을 저하시키지 않고, 고온 점성을 저하시키고 용융성을 현저하게 향상시키는 성분이다. 또한, 알칼리 토류금속 산화물 중에서는 도입 원료가 비교적 저렴하기 때문에, 원료 비용을 저렴화하는 성분이다. CaO의 함유량은 바람직하게는 1∼15%, 3∼11% 또는 4∼10%, 특히 바람직하게는 5∼9%이다. CaO의 함유량이 지나치게 적으면, 상기 효과를 향수하기 어려워진다. 한편, CaO의 함유량이 지나치게 많으면, 유리가 실투되기 쉬워짐과 아울러, 열팽창계수가 높아지기 쉽다.CaO is a component that does not lower the strain point, lowers the high-temperature viscosity, and remarkably improves the meltability. In addition, in alkaline earth metal oxides, since the raw material to be introduced is relatively inexpensive, it is a component that reduces the cost of the raw material. The content of CaO is preferably 1 to 15%, 3 to 11% or 4 to 10%, particularly preferably 5 to 9%. When there is too little content of CaO, it will become difficult to enjoy the said effect. On the other hand, when there is too much content of CaO, while glass will become devitrified easily, a thermal expansion coefficient will become high easily.

SrO는 분상을 억제하고, 또한 내실투성을 높이는 성분이다. 또한, 왜곡점을 저하시키지 않고, 고온 점성을 저하시키고 용융성을 높이는 성분임과 아울러, 액상 온도의 상승을 억제하는 성분이다. SrO의 함유량은 바람직하게는 0∼15% 또는 0.1∼9%, 특히 바람직하게는 0.5∼6%이다. SrO의 함유량이 지나치게 적으면, 상기 효과를 향수하기 어려워진다. 한편, SrO의 함유량이 지나치게 많으면, 스트론튬 실리케이트계의 실투 결정이 석출되기 쉬워져서, 내실투성이 저하하기 쉬워진다.SrO is a component which suppresses a powder phase and improves devitrification resistance. Moreover, while not reducing a strain point, while being a component which reduces high temperature viscosity and improves meltability, it is a component which suppresses a raise of liquidus temperature. The content of SrO is preferably 0 to 15% or 0.1 to 9%, particularly preferably 0.5 to 6%. When there is too little content of SrO, it will become difficult to enjoy the said effect. On the other hand, when there is too much content of SrO, the devitrification crystal of a strontium silicate system will precipitate easily, and devitrification resistance will fall easily.

BaO는 내실투성을 현저하게 향상시키는 성분이다. BaO의 함유량은 바람직하게는 0∼15%, 0∼12% 또는 0.1∼9%, 특히 바람직하게는 1∼7%이다. BaO의 함유량이 지나치게 적으면, 상기 효과를 향수하기 어려워진다. 한편, BaO의 함유량이 지나치게 많으면, 밀도가 지나치게 높아짐과 아울러, 용융성이 저하하기 쉬워진다. 또한, BaO를 포함하는 실투 결정이 석출되기 쉬워져서, 액상 온도가 상승하기 쉬워진다.BaO is a component which improves devitrification resistance remarkably. The content of BaO is preferably 0 to 15%, 0 to 12% or 0.1 to 9%, particularly preferably 1 to 7%. When there is too little content of BaO, it will become difficult to enjoy the said effect. On the other hand, when there is too much content of BaO, while a density will become high too much, meltability will fall easily. Moreover, it becomes easy to precipitate the devitrification crystal containing BaO, and it becomes easy to raise liquidus temperature.

상기 성분 이외에도, 예를 들면 이하의 성분을 첨가해도 좋다. 또한, 상기 성분 이외의 다른 성분의 함유량은 본 발명의 효과를 적확하게 향수하는 관점으로부터, 합량으로 10% 이하가 바람직하고, 특히 5% 이하가 바람직하다.In addition to the above components, for example, the following components may be added. Further, the content of the components other than the above components is preferably 10% or less in total, particularly preferably 5% or less, from the viewpoint of accurately enjoying the effects of the present invention.

ZrO2는 왜곡점, 영률을 높이는 기능이 있다. 그러나, ZrO2의 함유량이 지나치게 많으면, 내실투성이 현저하게 저하된다. 특히, SnO2를 함유시키는 경우에는 ZrO2의 함유량을 엄밀하게 규제하는 것이 바람직하다. ZrO2의 함유량은 0.4% 이하 또는 0.3% 이하가 바람직하고, 특히 0.01∼0.2%가 바람직하다.ZrO 2 has a function of increasing the strain point and Young's modulus. However, when the content of ZrO 2 is too large, substantial teeming is significantly reduced. In particular, the case of adding SnO 2, it is preferable to strictly regulate the content of ZrO 2. The content of ZrO 2 is preferably 0.4% or less or 0.3% or less, particularly preferably 0.01 to 0.2%.

SnO2는 고온 영역에서 양호한 청징 작용을 갖는 성분이다. SnO2의 함유량은 바람직하게는 0∼1%, 0.01∼0.5% 또는 0.05∼0.3%, 특히 바람직하게는 0.1∼0.3%이다. SnO2의 함유량이 지나치게 많으면, SnO2의 실투 결정이 유리 중으로 석출되기 쉬워진다.SnO 2 is a component having a good clarification action in a high temperature region. The content of SnO 2 is preferably 0-1%, 0.01-0.5% or 0.05-0.3%, particularly preferably 0.1-0.3%. If the content of SnO 2 is too much, devitrification crystals of SnO 2 is likely to be precipitated into the glass.

상기한 바와 같이, 본 발명의 유리는 청징제로서 SnO2의 첨가가 적합하지만, 유리 특성이 손상되지 않는 한 청징제로서 CeO2, SO3, C, 금속 분말(예를 들면 Al, Si 등)을 1%까지 첨가해도 좋다.As described above, in the glass of the present invention, the addition of SnO 2 as a clarifier is suitable, but CeO 2 , SO 3 , C, metal powder (eg Al, Si, etc.) as a clarifier as long as the glass properties are not impaired. may be added up to 1%.

As2O3, Sb2O3, F, Cl도 청징제로서 유효하게 작용하고, 본 발명의 유리는 이들 성분의 함유를 배제하는 것은 아니지만, 환경적 관점으로부터 이들 성분의 함유량은 각각 0.1% 미만, 특히 0.05% 미만이 바람직하다.As 2 O 3 , Sb 2 O 3 , F and Cl also act effectively as clarifiers, and the glass of the present invention does not exclude the content of these components, but from an environmental point of view, the contents of these components are each less than 0.1%. , particularly preferably less than 0.05%.

실시예Example 1 One

이하, 실시예에 의거하여 본 발명을 상세하게 설명한다. 또한, 이하의 실시예는 단순한 예시이다. 본 발명은 이하의 실시예에 하등 한정되지 않는다.Hereinafter, the present invention will be described in detail based on Examples. In addition, the following examples are mere examples. The present invention is not limited at all to the following examples.

우선 유리 조성으로서, 질량%로 SiO2 60%, Al2O3 16.5%, B2O3 10%, MgO 0.5%, CaO 8%, SrO 4%, BaO 0.7%, ZrO2 0.1%, SnO2 0.2%를 함유하도록, 각종 유리 원료를 조합하여 유리 배치를 제작했다. 다음에, 얻어진 유리 배치를 연속 용융로에 투입하고, 1500∼1600℃에서 용융한 후, 용융 유리를 청징, 교반한 후에 성형 장치에 공급하고, 오버플로우 다운드로우법에 의해 판두께가 0.4mm인 평판 형상으로 성형했다. 그 후, 소정 사이즈로 절단하여 유리 기판을 얻었다. 성형시에는 유리 리본의 표면 근방의 수증기압이 500hPa가 되도록, 성형 장치 내로 수증기를 공급했다. 이하, 도 1을 참작하면서, 본 발명의 실시형태를 상술한다.First, as a glass composition, in terms of mass%, SiO 2 60%, Al 2 O 3 16.5%, B 2 O 3 10%, MgO 0.5%, CaO 8%, SrO 4%, BaO 0.7%, ZrO 2 0.1%, SnO 2 A glass batch was produced by combining various glass raw materials so that 0.2% might be contained. Next, the obtained glass batch is put into a continuous melting furnace, melted at 1500 to 1600° C., then the molten glass is clarified and stirred, then supplied to a forming apparatus, and a flat plate having a plate thickness of 0.4 mm by an overflow down-draw method molded into shape. Then, it cut|disconnected to predetermined size and obtained the glass substrate. At the time of shaping|molding, water vapor|steam was supplied into the shaping|molding apparatus so that the water vapor pressure of the surface vicinity of a glass ribbon might become 500 hPa. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described in detail, referring FIG.

도 1은 본 발명의 실시형태에 따른 유리의 제조방법을 예시하기 위한 측면도이다. 성형 장치(1)는 유리 리본(2)을 성형하기 위한 홈통 형상 성형체(3)와, 롤러(R1)와, 롤러(R2)와, 유리 리본(2)과 홈통 형상 성형체(3)를 둘러싸는 주위벽(4)과, 유리 리본(2)을 지지 및 이송하기 위한 롤러(5)를 주요 구성요소로 한다.1 is a side view for illustrating a method of manufacturing a glass according to an embodiment of the present invention. The molding apparatus 1 includes a trough-shaped molded body 3 for molding a glass ribbon 2, a roller R1, a roller R2, a glass ribbon 2 and a trough-shaped molded body 3 surrounding the The peripheral wall 4 and the roller 5 for supporting and conveying the glass ribbon 2 are made into main components.

홈통 형상 성형체(3)는 그 하단으로부터 유리 리본(2)을 하강시키면서 성형한다. 성형체(3)의 하방에서는 유리 리본(2)에 양면측으로부터 접촉하는 1조의 롤러(R1)가 설치된다. 또한, 유리 리본(2)의 어느 면측에 대해서도, 한 쌍의 롤러(R1)가 유리 리본(2)의 폭방향 양단부에만 접촉한다. 롤러(R1)는 유리 리본(2)을 냉각하면서 폭방향의 수축을 규제하는 기능을 갖는다.The trough-shaped molded object 3 is shape|molded, descending the glass ribbon 2 from the lower end. Below the molded object 3, a set of roller R1 which contacts the glass ribbon 2 from both surfaces is provided. Moreover, also about any surface side of the glass ribbon 2, a pair of roller R1 contacts only the width direction both ends of the glass ribbon 2. The roller R1 has a function to regulate the shrinkage in the width direction while cooling the glass ribbon 2 .

롤러(R1)의 하방에서는 유리 리본(2)에 양면측으로부터 접촉하는 1조의 롤러(R2)가 상하 방향을 따라 복수 조(본 실시형태에서는 5조) 설치된다. 또한, 유리 리본(2)의 어느 면측에 대해서도 한 쌍의 롤러(R2)가 유리 리본(2)의 폭방향 양단부에만 접촉한다. 롤러(R2)는 유리 리본(2)을 하방으로 연신하는 기능을 갖는다.Under roller R1, a plurality of sets (five sets in this embodiment) are provided along the up-down direction of one set of roller R2 which contact|abuts to the glass ribbon 2 from both surfaces. In addition, a pair of roller R2 contacts only the width direction both ends of the glass ribbon 2 also about any surface side of the glass ribbon 2 . The roller R2 has a function of extending|stretching the glass ribbon 2 downward.

주위벽(4)은 롤러(R1)와, 롤러(R2)와, 유리 리본(2)과, 홈통 형상 성형체(3)를 둘러싼다. 주위벽(4)은 그 하단에 개구부(6)를 갖고, 이 개구부(6)를 통해서 유리 리본(2)이 외부 공간으로 나간다. 주위벽(4)은 개구부(6) 이외에는 실질적으로 외부 공간에 대한 개구부를 갖지 않고, 예를 들면 홈통 형상 성형체(3)의 보온 기능이나 유리 리본(2)의 서냉 기능을 갖는다.The peripheral wall 4 surrounds the roller R1 , the roller R2 , the glass ribbon 2 , and the trough-shaped molded body 3 . The peripheral wall 4 has an opening 6 at its lower end, through which the glass ribbon 2 exits to the outside space. The peripheral wall 4 does not have an opening part with respect to the external space substantially other than the opening part 6, For example, it has the heat-retaining function of the trough-shaped molded object 3, and the slow cooling function of the glass ribbon 2. As shown in FIG.

주위벽(4)의 하단 주변의 내부 공간은 홈통 형상 성형체(3)로부터 하강하는 유리 리본(2)과 분리벽(9)에 의해 제 1 공간(S1)과 제 2 공간(S2)으로 구획되고, 이들이 열처리 공간으로 되어 있다. 제 1 공간(S1)과 제 2 공간(S2)에는 공급 유로(7, 8)를 통해서 수증기가 공급되고 있다. 그리고, 제 1 공간(S1)과 제 2 공간(S2)의 온도는 300∼600℃로 되어 있다. 유리 리본(2)이 제 1 공간(S1)과 제 2 공간(S2)을 통과하는 시간은 1분간이다.The inner space around the lower end of the peripheral wall 4 is divided into a first space S1 and a second space S2 by a glass ribbon 2 descending from the trough-shaped molded body 3 and a separating wall 9, , these are the heat treatment spaces. Water vapor is supplied to the first space S1 and the second space S2 through the supply passages 7 and 8 . And the temperature of 1st space S1 and 2nd space S2 is 300-600 degreeC. Time for which the glass ribbon 2 passes through 1st space S1 and 2nd space S2 is 1 minute.

본 실시형태에서는 도시는 생략하지만, 제 1 공간(S1)과 제 2 공간(S2)의 각각의 온도를 조절하고, 이들 공간(S1, S2) 사이에 온도차를 부여하는 온도차 부여 수단이 설치되어 있다. 이 온도차 부여 수단에 의해, 제 1 공간(S1)이 제 2 공간(S2)보다 온도가 높아지도록 온도차가 부여된다. 이 온도차 부여는 유리 리본(2)을 만곡시키도록 작용한다. 또한, 이 온도차 부여로 변경하여, 롤러(5)의 위치 등 (예를 들면 롤러(5)의 좌우 방향의 위치)을 변경하여 유리 리본(2)을 만곡시켜도 좋다.Although not shown in the present embodiment, temperature difference imparting means for adjusting the respective temperatures of the first space S1 and the second space S2 and imparting a temperature difference between these spaces S1 and S2 is provided. . By this temperature difference provision means, a temperature difference is provided so that the temperature of 1st space S1 may become higher than 2nd space S2. This temperature difference application acts to bend the glass ribbon 2 . In addition, by changing to this temperature difference provision, you may change the position of the roller 5 etc. (for example, the position of the left-right direction of the roller 5), and you may make the glass ribbon 2 curve.

얻어진 유리 기판에 대해서, 크랙 발생 상황을 평가했다. 구체적으로는 우선 습도 30%, 온도 25℃로 유지된 항온항습조 내에 있어서, 소정 하중으로 설정한 4각추 압자를 유리 표면에 15초간 박아넣고, 그 15초 후에 압흔의 4코너로부터 발생하는 크랙의 수를 카운트(1개의 압흔에 대해서 최대 4로 함)한다. 이렇게 하여 4각추 압자를 20회 압입하고, 압입으로부터 20초 후의 총 크랙 발생수를 구한 후, 총 크랙 발생수/80×100(%)의 식에 의해 구했다. 또한, 비커스 경도계를 Matsuzawa Co., Ltd. 제품의 MX-50으로 하고, 4각추 압자의 재질을 다이아몬드로 하고, 4각추 압자의 대면각을 130°로 하고, 압입 하중을 100gf로 했다.About the obtained glass substrate, the crack generation|occurrence|production condition was evaluated. Specifically, first, in a thermo-hygrostat maintained at 30% humidity and 25 ° C., a quadrangular pyramid indenter set at a predetermined load is driven into the glass surface for 15 seconds, and cracks generated from the 4 corners of the indentation after 15 seconds. Count the number (maximum of 4 for one indentation). In this way, the quadrangular pyramid indenter was press-fitted 20 times, and the total number of cracks 20 seconds after the press-in was calculated, and then the total number of cracks/80×100 (%) was calculated. In addition, the Vickers hardness tester was manufactured by Matsuzawa Co., Ltd. It was set as MX-50 of the product, the material of the quadrangular pyramid indenter was made into diamond, the facing angle of the quadrangular pyramid indenter was 130 degrees, and the indentation load was 100 gf.

그 결과, 상기한 바와 같이 성형 장치 내에 수증기를 공급한 유리 기판의 크랙 총수는 20개이었다. 또한, 성형 장치 내에 수증기를 공급하지 않고, 성형 장치 내를 수증기압이 1hPa 미만이 되는 분위기로 더욱 제어했을 경우에 대해서, 유리 기판의 크랙 총수를 마찬가지로 평가한 바, 43개이었다.As a result, as mentioned above, the total number of cracks of the glass substrate which supplied water vapor|steam in the shaping|molding apparatus was 20 pieces. Moreover, it was 43 when the total number of cracks of a glass substrate was evaluated similarly about the case where the inside of a shaping|molding apparatus was further controlled in the atmosphere used as less than 1 hPa without supplying water vapor|steam in a shaping|molding apparatus.

실시예Example 2 2

우선 유리 조성으로서, 질량%로 SiO2 60%, Al2O3 16.5%, B2O3 10%, MgO 0.5%, CaO 8%, SrO 4%, BaO 0.7%, ZrO2 0.1%, SnO2 0.2%를 함유하도록 각종 유리 원료를 조합하여 유리 배치를 제작했다. 다음에, 얻어진 유리 배치를 연속 용융로에 투입하고, 1500∼1600℃에서 용융한 후, 용융 유리를 청징, 교반한 후에 성형 장치에 공급하고, 오버플로우 다운드로우법에 의해 0.1mm 두께의 필름 형상으로 성형하고, 300mm×35mm의 가늘고 긴 직사각형 형상으로 절단했다.First, as a glass composition, in terms of mass%, SiO 2 60%, Al 2 O 3 16.5%, B 2 O 3 10%, MgO 0.5%, CaO 8%, SrO 4%, BaO 0.7%, ZrO 2 0.1%, SnO 2 A glass batch was produced by combining various glass raw materials so as to contain 0.2%. Next, the obtained glass batch is put into a continuous melting furnace, melted at 1500 to 1600° C., then the molten glass is clarified and stirred, then supplied to a molding apparatus, and is formed into a film with a thickness of 0.1 mm by an overflow downdraw method. It shape|molded and it cut|disconnected into the elongate rectangular shape of 300 mm x 35 mm.

또한, 도 2에 나타나 있는 바와 같이, 한 쌍의 평행판(11)을 갖는 열처리 지그에 가늘고 긴 직사각형 형상의 유리 필름(10)을 굴곡 또는 만곡시켜서 배치한 후, 로 내의 수증기압이 5hPa로 제어된 전기로에 투입하고, 200℃에서 또한 10시간의 조건에서 열처리했다. 여기에서, 한 쌍의 평행판(11)의 간격은 6mm로 했다. 또한, 유리 필름(10)의 볼록 형상 선단(10a)에 대해서, 하기의 수식 1에 의해 계산되는 인장 응력이 1.4GPa가 되도록 유리 필름(10)을 굴곡시켰다. 여기에서, σ은 장축방향, 즉 장변 방향의 인장 응력(GPa), t는 유리 필름(10)의 판두께(mm), D는 한 쌍의 평행판(11)의 간격(mm), E는 유리 필름(10)의 영률(GPa)이다(비특허문헌 1 참조).In addition, as shown in FIG. 2 , after bending or curving and arranging the elongated rectangular glass film 10 on a heat treatment jig having a pair of parallel plates 11 , the water vapor pressure in the furnace was controlled to 5 hPa. It was put into an electric furnace and heat-treated at 200°C for 10 hours. Here, the space|interval of a pair of parallel plates 11 was made into 6 mm. Moreover, with respect to the convex-shaped front-end|tip 10a of the glass film 10, the glass film 10 was bent so that the tensile stress calculated by following formula 1 might be set to 1.4 GPa. Here, σ is the tensile stress in the long axis direction, that is, the long side direction (GPa), t is the plate thickness of the glass film 10 (mm), D is the spacing between the pair of parallel plates 11 (mm), E is It is the Young's modulus (GPa) of the glass film 10 (refer nonpatent literature 1).

Figure 112016046344877-pct00001
Figure 112016046344877-pct00001

열처리 후의 유리 필름에 대하여, 크랙 발생 상황을 평가했다. 구체적으로는, 우선 습도 30%, 온도 25℃로 유지된 항온항습조 내에 있어서 소정 하중으로 설정한 4각추 압자를 유리 표면에 15초간 박아넣고, 그 15초 후에 압흔의 4코너로부터 발생하는 크랙의 수를 카운트(1개의 압흔에 대해서 최대 4로 함)한다. 이렇게 하여 4각추 압자를 20회 압입하고, 압입으로부터 20초 후의 총 크랙 발생수를 구한 후, 총 크랙 발생수/80×100(%)의 식에 의해 구했다. 또한, 비커스 경도계를 Matsuzawa Co., Ltd. 제품의 MX-50으로 하고, 4각추 압자의 재질을 다이아몬드로 하고, 4각추 압자의 대면각을 130°로 하고, 압입 하중을 100gf로 했다.About the glass film after heat processing, the crack generation|occurrence|production condition was evaluated. Specifically, first, in a thermo-hygrostat maintained at a humidity of 30% and a temperature of 25°C, a quadrangular pyramid indenter set to a predetermined load is driven into the glass surface for 15 seconds, and cracks generated from the 4 corners of the indentation after 15 seconds Count the number (maximum of 4 for one indentation). In this way, the quadrangular pyramid indenter was press-fitted 20 times, and the total number of cracks 20 seconds after the press-in was calculated, and then the total number of cracks/80×100 (%) was calculated. In addition, the Vickers hardness tester was manufactured by Matsuzawa Co., Ltd. It was set as MX-50 of the product, the material of the quadrangular pyramid indenter was made into diamond, the facing angle of the quadrangular pyramid indenter was 130 degrees, and the indentation load was 100 gf.

그 결과, 장축 방향(장변 방향)의 크랙이 32개, 단축 방향(단변 방향)의 크랙이 14개이었다. 단축 방향(단변 방향)의 크랙이 적은 이유는 유리 필름의 볼록 형상 선단에 있어서의 장축 방향(장변 방향)의 인장 응력이 열처리에 의해 압축 응력으로 되었기 때문이다.As a result, there were 32 cracks in the major axis direction (long side direction) and 14 cracks in the minor axis direction (short side direction). The reason why there are few cracks in the minor axis direction (short side direction) is because the tensile stress of the major axis direction (long side direction) in the convex front-end|tip of a glass film turned into compressive stress by heat processing.

또한, 열처리를 행하여 있지 않은 가늘고 긴 직사각형 형상의 유리 필름에 대해서 같은 평가를 행한 바, 단축 방향의 크랙이 23개이었다.Moreover, when the same evaluation was performed about the elongate rectangular glass film which is not heat-processed, there were 23 cracks in the uniaxial direction.

또한, 상기 열처리를 행한 유리 필름에 대해서, GD-OES(HORIBA, Ltd. GD-Profiler2)를 사용하여, 깊이 방향에 있어서의 프로톤의 발광 강도비로부터 프로톤 농도비를 산정했다. GD-OES의 측정 조건은 방전 전력: 80W, 방전 압력: 200Pa로 했다. 또한, 프로톤 발광 강도비는 프로톤 농도비와 동등하다. (최표면으로부터의 깊이가 0.02㎛인 위치에서의 프로톤 농도)/(최표면으로부터의 깊이가 10㎛인 위치에서의 프로톤 농도)는 2.6이며, (최표면으로부터의 깊이가 0.2㎛인 위치에서의 프로톤 농도)/(최표면으로부터의 깊이가 10㎛인 위치에서의 프로톤 농도)는 1.3이며, (최표면으로부터의 깊이가 1㎛인 위치에서의 프로톤 농도)/(최표면으로부터의 깊이가 10㎛인 위치에서의 프로톤 농도)는 1.1이었다.Moreover, about the glass film which performed the said heat processing, the proton concentration ratio was computed from the light emission intensity ratio of the proton in the depth direction using GD-OES (HORIBA, Ltd. GD-Profiler2). The measurement conditions of GD-OES were discharge power: 80 W, and discharge pressure: 200 Pa. In addition, the proton emission intensity ratio is equal to the proton concentration ratio. (Proton concentration at a position with a depth of 0.02 µm from the outermost surface)/(Proton concentration at a position with a depth of 10 µm from the outermost surface) is 2.6, (at a position with a depth of 0.2 µm from the outermost surface) Proton concentration)/(proton concentration at a position with a depth of 10 µm from the outermost surface) is 1.3, and (proton concentration at a position with a depth of 1 µm from the outermost surface)/(a depth of 10 µm from the outermost surface) is The proton concentration at the phosphorus position) was 1.1.

[실시예 1], [실시예 2]에서의 실험은 표 1에 나타내는 재질(시료 No. A∼I)에서도 마찬가지로 행하는 것이 가능하고, 크랙 발생을 억제하는 효과도 마찬가지로 향수하는 것이 가능하다.Experiments in [Example 1] and [Example 2] can be similarly performed with the materials (sample Nos. A to I) shown in Table 1, and the effect of suppressing crack generation can be similarly enjoyed.

Figure 112016046344877-pct00002
Figure 112016046344877-pct00002

1: 성형 장치 2: 유리 리본
3: 홈통 형상 성형체 4: 주위벽
5, R1, R2: 롤러 6: 개구부
7, 8: 공급구 S1: 제 1 공간
S2: 제 2 공간
1: Forming device 2: Glass ribbon
3: Gutter-shaped molded body 4: Peripheral wall
5, R1, R2: Roller 6: Opening
7, 8: supply port S1: first space
S2: second space

Claims (13)

유리 조성으로서 질량%로 SiO2 50∼80%, Al2O3 5∼25%, B2O3 0∼20%, Li2O+Na2O+K2O 0∼0.5%, MgO+CaO+SrO+BaO 1∼25%를 함유하는 유리를, 수증기압이 1hPa 이상인 분위기 중에서, 성형시의 서냉 공정에서 열처리하는 것을 특징으로 하는 유리의 제조방법. SiO 2 50-80%, Al 2 O 3 5-25%, B 2 O 3 0-20%, Li 2 O+Na 2 O+K 2 O 0-0.5%, MgO+CaO in mass% as glass composition A method for producing glass, wherein a glass containing 1 to 25% of +SrO+BaO is heat-treated in an atmosphere having a water vapor pressure of 1 hPa or more in a slow cooling step during molding. 제 1 항에 있어서,
열처리 온도가 150℃ 이상인 것을 특징으로 하는 유리의 제조방법.
The method of claim 1,
Method for producing glass, characterized in that the heat treatment temperature is 150 ℃ or more.
삭제delete 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
오버플로우 다운드로우법에 의한 성형시에 열처리하는 것을 특징으로 하는 유리의 제조방법.
3. The method according to claim 1 or 2,
A method for manufacturing glass, characterized in that heat treatment is performed during molding by an overflow down-draw method.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
추가로 성형 후에 열처리하는 것을 특징으로 하는 유리의 제조방법.
3. The method according to claim 1 or 2,
A method for producing glass, characterized in that heat treatment is further performed after molding.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
유리에 부하 응력을 부여한 상태에서 열처리하는 것을 특징으로 하는 유리의 제조방법.
3. The method according to claim 1 or 2,
A method for manufacturing glass, characterized in that heat treatment is performed in a state in which a load stress is applied to the glass.
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