KR102294632B1 - Fringe field switching mode liquid crystal display device - Google Patents

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Abstract

본 발명은 표싱영역의 외곽부의 빛샘 현상을 방지하는 프린지필드 스위칭모드 액정표시장치를 제공하기 위하여, 표시 영역과 비표시 영역으로 구분된 제1기판과 상기 제1기판 상에 배치되는 게이트 배선과 상기 제1기판 및 게이트 배선 상에 배치되는 게이트 절연막과 상기 게이트 절연막 상에 게이트 배선과 교차하며 배치되는 데이터 배선과 상기 데이터 배선 상에 배치되는 제1보호층 과 상기 층간 절연막 상에 배치되는 공통전극과 상기 비표시 영역의 상기 공통전극 일부를 노출시키는 콘택홀을 구비하며 상기 공통전극 상부에 배치되는 제2보호층과 상기 콘택홀을 통해 상기 공통전극과 연결되며 상기 제2보호층 상부의 상기 비표시 영역에 배치되는 쇼팅 패턴 및 상기 게이트 배선 및 데이터 배선에 둘러 싸이며, 상기 제2보호층 상부의 상기 표시 영역에 배치되는 화소전극 및 상기 쇼팅 패턴 상부와 접촉되는 더미 화소전극을 포함하는 프린지필드 스위칭모드 액정표시장치를 제공한다.In order to provide a fringe field switching mode liquid crystal display device that prevents light leakage at the outer portion of a display area, a first substrate divided into a display area and a non-display area, a gate wiring disposed on the first substrate, and the a gate insulating layer disposed on the first substrate and the gate wiring, a data line disposed on the gate insulating layer to cross the gate wiring, a first protective layer disposed on the data line, and a common electrode disposed on the interlayer insulating layer; A second protective layer having a contact hole exposing a portion of the common electrode in the non-display area and connected to the common electrode through the contact hole and a second protective layer disposed on the common electrode, the non-display area on the second protective layer A fringe field switching comprising a shorting pattern disposed in a region and a dummy pixel electrode surrounded by the gate wiring and the data wiring, the pixel electrode disposed in the display region over the second protective layer, and a dummy pixel electrode in contact with an upper portion of the shorting pattern Mode liquid crystal display is provided.

Description

프린지 필드 스위칭 모드 액정표시장치 {Fringe field switching mode liquid crystal display device}Fringe field switching mode liquid crystal display device

본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로, 특히, 표시 영역 외곽부의 빛샘 현상을 방지하는 프린지필드 스위칭모드 액정표시장치에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a fringe field switching mode liquid crystal display device that prevents light leakage at the outer portion of a display area.

액정표시장치는 액정의 광학적 이방성과 분극 성질을 이용한 표시소자로, 휴대 전자기기의 표시부나, 컴퓨터의 모니터 또는 텔레비전 등에 널리 사용된다. A liquid crystal display device is a display device using the optical anisotropy and polarization properties of liquid crystal, and is widely used in the display of portable electronic devices, monitors of computers, or televisions.

액정은 가늘고 긴 분자구조를 가지고 있어, 배향에 방향성을 가지며 전기장 내에 놓일 경우 그 크기 및 방향에 따라 분자배열 방향이 변화된다. 따라서, 액정표시장치는 전계생성 전극이 각각 형성된 두 기판 사이에 액정층이 위치하는 액정패널을 포함하며, 두 전극 사이에 생성되는 전기장의 변화를 통해서 액정분자의 배열방향을 인위적으로 조절하고, 이에 따른 광 투과율을 변화시켜 여러 가지 화상을 표시한다.The liquid crystal has a long and thin molecular structure, has directionality in alignment, and when placed in an electric field, the direction of molecular arrangement changes according to its size and direction. Accordingly, the liquid crystal display device includes a liquid crystal panel in which a liquid crystal layer is positioned between two substrates on which electric field generating electrodes are formed, and artificially adjusts the alignment direction of liquid crystal molecules through a change in an electric field generated between the two electrodes, Various images are displayed by changing the light transmittance accordingly.

도 1a 및 도 1b는 종래의 프린지필드 스위칭모드 액정표시장치의 제1 및 제2기판의 평면도 이고, 도 2는 도 1a 및 도 1b의 Ⅱ-Ⅱ를 따라 절단한 단면도이다.1A and 1B are plan views of first and second substrates of a conventional fringe field switching mode liquid crystal display, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along II-II of FIGS. 1A and 1B.

도면에 도시한 바와 같이, 종래의 프린지필드 스위칭모드 액정표시장치(30)는 제1기판(10), 이와 대응하는 제2기판(20) 및 이들 두 기판 사이에 액정층(14)이 구비된 구성을 이루고 있으며, 제1 및 제2기판(10, 20)은 표시영역(AA)과 비표시영역(NAA)으로 구분된다.As shown in the figure, the conventional fringe field switching mode liquid crystal display 30 includes a first substrate 10, a corresponding second substrate 20, and a liquid crystal layer 14 between the two substrates. The first and second substrates 10 and 20 are divided into a display area AA and a non-display area NAA.

제1기판(10)은 어레이 기판이라고도 하며, 스위칭 소자인 박막트랜지스터(T)가 매트릭스 형태로 위치하고, 이러한 박막트랜지스터(T)를 교차하여 지나가는 게이트 배선(16)과 데이터 배선(12)이 형성된다.The first substrate 10 is also called an array substrate, and thin film transistors T, which are switching elements, are positioned in a matrix form, and a gate wiring 16 and data wiring 12 that cross the thin film transistors T are formed. .

구체적으로, 제1기판(10) 상에 게이트 배선(16)이 배치되고, 제1기판(10) 및 게이트 배선(16) 상에 게이트 절연막(11)이 배치된다.Specifically, the gate wiring 16 is disposed on the first substrate 10 , and the gate insulating layer 11 is disposed on the first substrate 10 and the gate wiring 16 .

또한, 데이터 배선(12)이 게이트 절연막(11) 상에 게이트 배선(16)과 교차하며 배치되고, 제1보호층(13) 및 층간 절연막(15)이 데이터 배선(12) 상에 적층되어 배치된다.Further, the data line 12 is disposed on the gate insulating layer 11 to cross the gate line 16 , and the first protective layer 13 and the interlayer insulating layer 15 are stacked on the data line 12 . do.

또한, 공통전극(19)이 층간 절연막(15) 상에 배치되고 공통전극(19) 상부에 제2보호층(21)이 배치되며, 화소전극(17)은 제2보호층(21) 상부의 표시영역(AA)에 배치되고, 더미 화소전극(18)은 제2보호층(21) 상부의 비표시영역(NAA)에 배치된다.In addition, the common electrode 19 is disposed on the interlayer insulating layer 15 , the second protective layer 21 is disposed on the common electrode 19 , and the pixel electrode 17 is disposed on the second protective layer 21 . It is disposed in the display area AA, and the dummy pixel electrode 18 is disposed in the non-display area NAA on the second passivation layer 21 .

이 때, 공통전극(19) 및 제2보호층(21) 상부에 배치되는 화소전극(17) 및 더미 화소전극(18)에 다수의 바(bar) 형태를 갖는 개구가 구비되며, 화소전극(17)의 각 개구의 주변에서 화소전극(17)과 공통전극(19)에 의해 발현되는 프린지 필드에 의해 액정표시장치가 구동된다.In this case, a plurality of bar-shaped openings are provided in the pixel electrode 17 and the dummy pixel electrode 18 disposed on the common electrode 19 and the second protective layer 21 , and the pixel electrode ( 17), the liquid crystal display is driven by the fringe field generated by the pixel electrode 17 and the common electrode 19 around each opening.

제2기판(20)은 컬러필터 기판이라고도 하며, 블랙매트릭스(24)와 서브 컬러필터(25)를 포함하는데, 블랙매트릭스(24)는 각 서브 컬러필터(25) 사이의 구분 및 광 차단 역할을 한다.The second substrate 20 is also referred to as a color filter substrate, and includes a black matrix 24 and a sub color filter 25 , and the black matrix 24 serves to distinguish between each sub color filter 25 and to block light. do.

또한, 블랙매트릭스(24)는 비표시영역(NAA)을 투과하는 빛을 차단한다.In addition, the black matrix 24 blocks light passing through the non-display area NAA.

액정층(14)은 표시영역(AA)의 화소전극(17) 상에 위치한 박막트랜지스터(T)로부터 인가된 신호에 의해 재배열되고, 액정층(14)의 재배열 정도에 따라 액정층(14)을 투과하는 빛의 양을 조절하는 방식으로 화상이 표현된다.The liquid crystal layer 14 is rearranged by a signal applied from the thin film transistor T located on the pixel electrode 17 of the display area AA, and the liquid crystal layer 14 is rearranged according to the degree of rearrangement of the liquid crystal layer 14 . ), the image is expressed by adjusting the amount of light passing through it.

결국, 표시영역(AA)을 투과한 빛만이 액정층(14)을 통해 제2기판(20)의 서브 컬러필터(25)을 투과하여 다양한 화상으로 표현되는 것이다.As a result, only the light that has passed through the display area AA passes through the sub color filter 25 of the second substrate 20 through the liquid crystal layer 14 and is expressed in various images.

한편, 공통전극(19)과 화소전극(17)에 전압이 인가되면 액정은 분극 되는데, 이 상태가 지속되면 액정 내의 이온성 불순물들이 전기장에 의해 고착되고, 잔상 발생 등 액정의 표시 특성을 악화시킨다.On the other hand, when a voltage is applied to the common electrode 19 and the pixel electrode 17, the liquid crystal is polarized. If this state continues, the ionic impurities in the liquid crystal are fixed by the electric field, and the display characteristics of the liquid crystal such as afterimage generation are deteriorated. .

따라서, 화소전극(17)에 인가되는 데이터 전압의 극성을 반전시켜 표시 영역(AA)에 위치한 액정의 분극 상태를 주기적으로 반전시키는 인버젼 방식이 제안되었다.Accordingly, an inversion method of periodically inverting the polarization state of the liquid crystal located in the display area AA by inverting the polarity of the data voltage applied to the pixel electrode 17 has been proposed.

그러나, 비표시 영역(NAA)의 더미 화소전극(18)은 전기적으로 플로팅(floating)되어 있고, 그 하부에 위치한 공통전극(19)에는 일정한 전압이 인가되고 있어 화소전극(17)과 공통전극(19)에는 일정한 전계가 형성되어 유지된다.However, the dummy pixel electrode 18 of the non-display area NAA is electrically floating, and a constant voltage is applied to the common electrode 19 located below the pixel electrode 17 and the common electrode ( 19), a constant electric field is formed and maintained.

이러한 상태가 지속되면 액정층(14) 내의 이온성 불순물들이 상기 전계에 의해 고착화되고, 더미 화소전극(18)에 전압이 인가되지 않았음에도 불구하고 이러한 전계에 의해 액정 배열이 틀어지게 된다.If this state continues, ionic impurities in the liquid crystal layer 14 are fixed by the electric field, and the liquid crystal arrangement is distorted by the electric field even though no voltage is applied to the dummy pixel electrode 18 .

따라서, 블랙매트릭스(24)로 비표시영역(NAA)을 차단하는 경우에도 배열이 틀어진 액정에 의해 빛이 표시영역(AA)의 최외곽 영역인 빛샘영역(a)으로 투과되어 불량을 일으키게 된다. Accordingly, even when the non-display area NAA is blocked with the black matrix 24 , light is transmitted to the light leakage area a, which is the outermost area of the display area AA, due to the misaligned liquid crystal, thereby causing a defect.

이를 빛샘 현상이라 하며, 특히, 이러한 빛샘 현상에 의해 액정표시장치의 표시 영역(AA)의 외곽부가 블랙(black)상태에서도 밝게 보이게 되는 불량이 발생된다.
This is referred to as a light leakage phenomenon, and in particular, a defect in which the outer portion of the display area AA of the liquid crystal display appears bright even in a black state occurs due to the light leakage phenomenon.

본 발명은 상기한 종래의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 액정표시장치의 표시 화면의 외곽부가 블랙(black)상태에서도 밝게 보이는 빛샘 현상을 방지하는 프린지필드 스위칭모드 액정표시장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
The present invention has been devised to solve the above problems of the prior art, and it is to provide a fringe field switching mode liquid crystal display device that prevents light leakage from appearing bright even when the outer portion of the display screen of the liquid crystal display device is in a black state. The purpose.

전술한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 표시 영역과 비표시 영역으로 구분된 제1기판과 상기 제1기판 상에 배치되는 게이트 배선과 상기 제1기판 및 게이트 배선 상에 배치되는 게이트 절연막과 상기 게이트 절연막 상에 게이트 배선과 교차하며 배치되는 데이터 배선과 상기 데이터 배선 상에 배치되는 제1보호층과 상기 제1보호층 상에 배치되는 공통전극과 상기 비표시 영역의 상기 공통전극 일부를 노출시키는 콘택홀을 구비하며 상기 공통전극 상부에 배치되는 제2보호층과 상기 콘택홀을 통해 상기 공통전극과 연결되며 상기 제2보호층 상부의 상기 비표시 영역에 배치되는 쇼팅 패턴 및 상기 게이트 배선 및 데이터 배선에 둘러 싸이며, 상기 제2보호층 상부의 상기 표시 영역에 배치되는 화소전극 및 상기 쇼팅 패턴 상부와 접촉되는 더미 화소전극을 포함하는 프린지필드 스위칭모드 액정표시장치를 제공한다.The present invention provides a first substrate divided into a display area and a non-display area, a gate wiring disposed on the first substrate, and a gate insulating layer disposed on the first substrate and the gate wiring. and a data line disposed on the gate insulating layer to intersect a gate line, a first passivation layer disposed on the data line, a common electrode disposed on the first passivation layer, and a portion of the common electrode in the non-display area. a second protective layer having a contact hole to expose it, a second protective layer disposed on the common electrode, a shorting pattern connected to the common electrode through the contact hole, and disposed in the non-display area on the second protective layer, and the gate wiring and a dummy pixel electrode surrounded by a data line, the pixel electrode disposed in the display area on the second passivation layer, and a dummy pixel electrode contacting an upper portion of the shorting pattern.

또한, 게이트전극 및 소스/드레인전극을 포함하며 상기 게이트 배선 및 데이터 배선의 교차지점에 배치되는 박막트랜지스터를 더 포함하고,상기 박막트랜지스터 중 상기 비표시 영역에 배치된 상기 박막트랜지스터의 드레인전극과 상기 더미 화소전극은 전기적으로 플로팅되는 것을 특징으로 한다.In addition, a thin film transistor including a gate electrode and source/drain electrodes and disposed at an intersection of the gate line and the data line, the drain electrode of the thin film transistor disposed in the non-display area of the thin film transistor and the The dummy pixel electrode is electrically floating.

또한, 상기 화소전극 및 더미 화소전극은 다수의 개구부를 구비하는 것을 특징으로 한다.In addition, the pixel electrode and the dummy pixel electrode are characterized in that it has a plurality of openings.

또한, 상기 쇼팅 패턴은 상기 공통전극 또는 상기 더미 화소전극과 동일 물질로 이루어지는 것을 특징으로 한다.In addition, the shorting pattern may be formed of the same material as the common electrode or the dummy pixel electrode.

또한, 상기 더미 화소전극은 상기 데이터 배선과 평행한 방향으로 상기 표시영역 내의 최외곽에 배치된 상기 화소전극과 인접한 위치에 적어도 한 라인 이상 배치되는 것을 특징으로 한다.In addition, at least one line of the dummy pixel electrode may be disposed adjacent to the pixel electrode disposed at the outermost portion within the display area in a direction parallel to the data line.

또한, 상기 더미 화소전극은 상기 게이트 배선과 평행한 방향으로 상기 표시영역 내의 최외곽에 배치된 상기 화소전극과 인접한 위치에 적어도 한 라인 이상 배치되는 것을 특징으로 한다.In addition, the dummy pixel electrode is characterized in that at least one line is disposed in a position adjacent to the pixel electrode disposed at the outermost in the display area in a direction parallel to the gate wiring.

또한, 상기 더미 화소전극은 상기 표시 영역의 최외곽에 배치된 상기 화소전극을 둘러싸며 배치되는 것을 특징으로 한다.In addition, the dummy pixel electrode may be disposed to surround the pixel electrode disposed at the outermost portion of the display area.

또한, 블랙매트릭스, 서브 컬러필터를 포함하는 제2기판; 및In addition, a second substrate including a black matrix and a sub color filter; and

상기 제1 및 제2기판 사이에 배치되는 액정층을 더 포함하고, 상기 서브 컬러필터는 상기 화소전극에 대응되는 영역에 배치되며, 상기 블랙매트릭스는 상기 서브 컬러필터 사이 및 상기 제1기판의 비표시영역에 각각 배치되는 것을 특징으로 한다.
a liquid crystal layer disposed between the first and second substrates, the sub color filter is disposed in a region corresponding to the pixel electrode, and the black matrix is a ratio between the sub color filters and the first substrate It is characterized in that each is arranged in the display area.

본 발명은 더미 화소전극 및 공통전극을 등전위로 형성함으로써, 비표시영역의 액정이 틀어지는 것을 방지하여, 표시영역 최외곽의 빛샘 영역으로 빛이 투과되어 불량을 발생시키는 빛샘 현상을 방지할 수 있는 효과가 있다.
According to the present invention, by forming the dummy pixel electrode and the common electrode at equipotential potential, the liquid crystal in the non-display area is prevented from being distorted, thereby preventing the light leakage phenomenon that causes a defect due to light being transmitted to the light leakage area at the outermost part of the display area. there is

도 1a 및 도 1b는 종래의 프린지필드 스위칭모드 액정표시장치의 제1 및 제2기판의 평면도이다.
도 2는 도 1a 및 도 1b의 Ⅱ-Ⅱ를 따라 절단한 단면도이다.
도 3a 및 도 3b는 본 발명의 프린지필드 스위칭모드 액정표시장치의 제1 및 제2기판의 평면도이다.
도 4는 도 3a 및 도 3b의 Ⅳ-Ⅳ를 따라 절단한 단면도이다.1A and 1B are plan views of first and second substrates of a conventional fringe field switching mode liquid crystal display.
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along II-II of FIGS. 1A and 1B.
3A and 3B are plan views of the first and second substrates of the fringe field switching mode liquid crystal display according to the present invention.
4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV of FIGS. 3A and 3B.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 3a 및 도 3b는 본 발명의 프린지필드 스위칭모드 액정표시장치의 제1 및 제2기판의 평면도이고, 도 4는 도 3a 및 도 3b의 Ⅳ-Ⅳ를 따라 절단한 단면도이다.3A and 3B are plan views of the first and second substrates of the fringe field switching mode liquid crystal display according to the present invention, and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV of FIGS. 3A and 3B.

도면에 도시한 바와 같이, 본 발명의 프린지필드 스위칭모드 액정표시장치(300)는 제1기판(100), 이와 대응하는 제2기판(200) 및 이들 두 기판 사이에 액정층(114)이 구비된 구성을 이루고 있으며, 제1 및 제2기판(100, 200)은 영상을 표시하는 표시 영역(AA)과 그렇지 않은 비표시 영역(NAA)으로 구분된다.As shown in the drawing, the fringe field switching mode liquid crystal display 300 of the present invention includes a first substrate 100, a corresponding second substrate 200, and a liquid crystal layer 114 between the two substrates. The first and second substrates 100 and 200 are divided into a display area AA that displays an image and a non-display area NAA that does not.

제1기판(100)은 어레이 기판이라고도 하며, 스위칭 소자인 박막트랜지스터(T)가 매트릭스 형태로 위치하고, 이러한 박막트랜지스터(T)를 교차하여 지나가는 게이트 배선(116)과 데이터 배선(112)이 형성된다.The first substrate 100 is also referred to as an array substrate, in which thin film transistors T, which are switching elements, are positioned in a matrix form, and gate wirings 116 and data wirings 112 that cross the thin film transistors T are formed. .

구체적으로, 제1기판(100) 상에 게이트 배선(116)이 배치되고, 제1기판(100) 및 게이트 배선(116) 상에 게이트 절연막(111)이 배치된다.Specifically, the gate wiring 116 is disposed on the first substrate 100 , and the gate insulating layer 111 is disposed on the first substrate 100 and the gate wiring 116 .

또한, 데이터 배선(112)이 게이트 절연막(111) 상에 게이트 배선(116)과 교차하며 배치되고, 제1보호층(113) 및 층간 절연막(115)이 데이터 배선(112) 상에 적층되어 배치된다.In addition, the data line 112 is disposed on the gate insulating layer 111 to cross the gate line 116 , and the first protective layer 113 and the interlayer insulating layer 115 are stacked on the data line 112 . do.

또한, 공통전극(119)이 층간 절연막(115) 상에 배치되고, 제2보호층(121)은 비표시 영역(NAA)의 공통전극(119) 일부를 노출시키는 콘택홀(CH)을 구비하며 공통전극(119) 상부에 배치된다.In addition, the common electrode 119 is disposed on the interlayer insulating layer 115 , and the second protective layer 121 has a contact hole CH exposing a portion of the common electrode 119 in the non-display area NAA. It is disposed on the common electrode 119 .

또한, 쇼팅 패턴(130)은 공통전극(119)과 콘택홀(CH)을 통해 연결되며, 제2보호층(121) 상부의 비표시 영역(NAA)에 배치된다. In addition, the shorting pattern 130 is connected to the common electrode 119 through the contact hole CH, and is disposed in the non-display area NAA on the second protective layer 121 .

또한, 화소전극(117)은 게이트 배선(116) 및 데이터 배선(112)에 둘러 싸이며, 제2보호층(121) 상부의 표시영역(AA)에 배치되고, 더미 화소전극(118)은 게이트 배선(116) 및 데이터 배선(112)에 둘러 싸이며, 비표시영역(NAA)의 쇼팅 패턴(130) 상부에 배치된다.In addition, the pixel electrode 117 is surrounded by the gate wiring 116 and the data wiring 112 , and is disposed in the display area AA on the second protective layer 121 , and the dummy pixel electrode 118 is a gate It is surrounded by the wiring 116 and the data line 112 and is disposed on the shorting pattern 130 of the non-display area NAA.

또한, 쇼팅 패턴(130)은 공통전극(119)과 더미 화소전극(118)을 전기적으로 연결시키는 것이므로, 도전성물질로서 공통전극(119) 또는 더미 화소전극(118)과 동일한 물질로 이루어지는 것이 바람직하다.In addition, since the shorting pattern 130 electrically connects the common electrode 119 and the dummy pixel electrode 118 , it is preferable that the shorting pattern 130 be made of the same material as the common electrode 119 or the dummy pixel electrode 118 as a conductive material. .

또한, 게이트전극 및 소스/드레인전극을 포함하며, 게이트 배선(116) 및 데이터 배선(112)의 교차지점에 배치되어 이들 배선과 연결되는 박막트랜지스터(T)를 더 포함하는데, 게이트 전극은 게이트배선(116)과 동일층 및 동일물질로 형성되며, 소스/드레인전극은 데이터 배선(112)과 동일층 및 동일물질로 형성된다.In addition, the thin film transistor T including a gate electrode and source/drain electrodes, disposed at the intersection of the gate wiring 116 and the data wiring 112 to be connected to these wirings, the gate electrode is the gate wiring It is formed of the same layer and the same material as that of 116 , and the source/drain electrodes are formed of the same layer and the same material as that of the data line 112 .

이 때, 화소전극(118)은 박막트랜지스터(T)를 통해 데이터 배선(112)으로부터 데이터 전압이 인가되지만, 더미 화소전극(118)은 전기적으로 플로팅(floating)되는 것을 특징으로 한다.At this time, the pixel electrode 118 is characterized in that the data voltage is applied from the data line 112 through the thin film transistor T, but the dummy pixel electrode 118 is electrically floating.

예를 들면, 박막트랜지스터(T) 중 비표시 영역(NAA)에 배치된 박막트랜지스터의 드레인전극(미도시)과 더미 화소전극(118)이 전기적으로 플로팅 될 수 있다.For example, the drain electrode (not shown) and the dummy pixel electrode 118 of the thin film transistor disposed in the non-display area NAA of the thin film transistor T may be electrically floated.

즉, 더미 화소전극(118)에는 데이터배선(112)을 통해 데이터전압이 인가되지 않으며, 후술하는 바와 같이 제1기판(100)에 배향막 형성 시 표시영역(AA)의 시작부와 끝단부에서 배향막의 두께가 급격히 두껍게 형성되는 배향막 마운트의 형성을 억제하여 러빙 불량을 방지하기 위한 것이다.That is, no data voltage is applied to the dummy pixel electrode 118 through the data line 112 . As will be described later, when the alignment layer is formed on the first substrate 100 , the alignment layer is formed at the beginning and the end of the display area AA. This is to prevent the rubbing defect by suppressing the formation of the alignment film mount, which is rapidly formed thick.

또한, 쇼팅 패턴(130)이 공통전극(119)과 더미 화소전극(118)을 전기적으로 연결함에 따라, 공통전극(119)과 더미 화소전극(118)은 등전위를 형성하게 되고, 공통전극(119)과 더미 화소전극(118)의 전위차가 발생하지 않아 비표시영역(NAA)에는 전계가 형성되지 않게 된다.In addition, as the shorting pattern 130 electrically connects the common electrode 119 and the dummy pixel electrode 118 , the common electrode 119 and the dummy pixel electrode 118 form an equipotential, and the common electrode 119 ) and the potential difference between the dummy pixel electrode 118 and the dummy pixel electrode 118 do not occur, so that no electric field is formed in the non-display area NAA.

이에 따라, 액정층(114) 내의 이온성 불순물들이 전계에 의해 고착화되어 액정 배열이 틀어지게 되는 것을 방지할 수 있으며, 액정표시장치의 표시 화면의 외곽부가 블랙(black)상태에서 배열이 틀어진 액정 사이로 빛이 새어 밝게 보이는 빛샘 현상을 방지할 수 있다.Accordingly, the ionic impurities in the liquid crystal layer 114 can be fixed by the electric field to prevent the liquid crystal arrangement from being misaligned, and the outer portion of the display screen of the liquid crystal display can be moved from a black state to between the misaligned liquid crystals. Light leakage can be prevented.

또한, 공통전극(119) 상부에 배치되는 화소전극(117) 및 더미 화소전극(118)에 다수의 바(bar) 형태를 갖는 개구가 구비되어 있다.In addition, a plurality of bar-shaped openings are provided in the pixel electrode 117 and the dummy pixel electrode 118 disposed on the common electrode 119 .

이에 따라, 본 발명의 프린지필드 스위칭모드 액정표시장치는 화소전극(117)의 각 개구의 주변에서 화소전극(117)과 공통전극(119)에 의해 발현되는 프린지 필드에 의해 구동된다.Accordingly, the fringe field switching mode liquid crystal display device of the present invention is driven by the fringe field generated by the pixel electrode 117 and the common electrode 119 around each opening of the pixel electrode 117 .

또한, 화소전극(117) 및 더미 화소전극118)은 인듐-틴-옥사이드(ITO)와 같이 빛의 투과율이 비교적 뛰어난 투명 도전성 금속을 사용한다.In addition, the pixel electrode 117 and the dummy pixel electrode 118 use a transparent conductive metal having relatively excellent light transmittance, such as indium-tin-oxide (ITO).

제2기판(200)은 컬러필터 기판이라고도 하며, 블랙매트릭스(124)와 서브 컬러필터(125)를 포함하는데, 특히, 블랙매트릭스(124)는 각 서브 컬러필터(125) 사이를 구분하고, 표시영역(AA) 및 비표시영역(NAA)을 구분하여 각 서브 컬러필터(125) 사이 및 비표시영역(NAA)의 광 차단 역할을 수행한다.The second substrate 200 is also referred to as a color filter substrate, and includes a black matrix 124 and a sub color filter 125. In particular, the black matrix 124 separates each sub color filter 125 and displays By dividing the area AA and the non-display area NAA, the light blocking function between each sub color filter 125 and the non-display area NAA is performed.

구체적으로, 서브 컬러필터(125)는 화소전극(117)에 대응되는 영역에 배치되며, 블랙매트릭스(124)는 서브 컬러필터(125) 사이 및 제1기판(100)의 비표시영역(NAA)에 각각 배치 된다.Specifically, the sub color filter 125 is disposed in an area corresponding to the pixel electrode 117 , and the black matrix 124 is disposed between the sub color filters 125 and in the non-display area NAA of the first substrate 100 . are placed in each.

이에 따라, 제2기판(200)의 블랙매트릭스(124)가 각 서브픽셀 사이를 투과하는 빛을 차단하고, 비표시영역(NAA)을 투과하는 빛이 디스플레이 되지 않도록 차단하는 것이다.Accordingly, the black matrix 124 of the second substrate 200 blocks the light passing between each sub-pixel and blocks the light passing through the non-display area NAA from being displayed.

또한, 액정층(114)은 표시영역(AA)의 화소전극(117) 상에 위치한 박막트랜지스터(T)로부터 인가된 신호에 의해 재배열되고, 액정층(114)의 재배열 정도에 따라 액정층(114)을 투과하는 빛의 양을 조절하는 방식으로 화상이 표현된다.In addition, the liquid crystal layer 114 is rearranged by a signal applied from the thin film transistor T located on the pixel electrode 117 in the display area AA, and the liquid crystal layer 114 is rearranged according to the degree of rearrangement of the liquid crystal layer 114 . An image is expressed in a way that adjusts the amount of light passing through (114).

결국, 표시영역(AA)을 투과한 빛만이 액정층(114)을 통해 제2기판(200)의 서브 컬러필터(125)을 투과하여 다양한 화상으로 표현되는 것이다.As a result, only the light that has passed through the display area AA passes through the sub color filter 125 of the second substrate 200 through the liquid crystal layer 114 and is expressed in various images.

다음, 더미 화소전극(118)을 비표시영역(NAA)에 배치하는 이유에 대해 설명하겠다.Next, a reason for disposing the dummy pixel electrode 118 in the non-display area NAA will be described.

제1기판(100)에는 액정분자의 초기 배향 방향을 설정해주는 배향막이 형성되는데, 배향막은 러빙포를 이용한 러빙 공정을 통해 설정된 방향으로의 러빙 방향이 정해진다.An alignment layer for setting an initial alignment direction of the liquid crystal molecules is formed on the first substrate 100 , and the rubbing direction of the alignment layer in a direction set through a rubbing process using a rubbing cloth is determined.

이때, 표시영역(AA) 외측의 비표시영역(NAA)에 더미 화소전극(118)을 형성함으로써 배향막 형성 시 표시영역(AA)의 시작부와 끝단부에서 배향막의 두께가 급격히 두껍게 형성되는 배향막 마운트의 형성을 억제할 수 있다.At this time, by forming the dummy pixel electrode 118 in the non-display area NAA outside the display area AA, when the alignment layer is formed, the thickness of the alignment layer is rapidly formed at the beginning and the end of the display area AA. formation can be inhibited.

이에 따라, 표시영역(AA)에 배향막 마운트가 억제됨으로써 러빙 불량을 저감시킬 수 있다.Accordingly, the mounting of the alignment layer in the display area AA is suppressed, thereby reducing the rubbing defect.

한편, 더미 화소전극(118)은 데이터 배선(112)과 평행한 방향으로 표시영역(AA) 내의 최외곽에 배치된 화소전극(117)과 인접한 위치에 적어도 한 라인 이상 배치될 수 있다.Meanwhile, at least one line of the dummy pixel electrode 118 may be disposed adjacent to the pixel electrode 117 disposed at the outermost portion in the display area AA in a direction parallel to the data line 112 .

또한, 게이트 배선(116)과 평행한 방향으로 표시영역(AA) 내의 최외곽에 배치된 화소전극(117)과 인접한 위치에 적어도 한 라인 이상 배치될 수 있다.In addition, at least one line may be disposed adjacent to the pixel electrode 117 disposed at the outermost side in the display area AA in a direction parallel to the gate wiring 116 .

또한, 표시 영역(AA)의 최외곽에 배치된 화소전극(117)을 둘러싸며 배치될 수 있다.
Also, it may be disposed to surround the pixel electrode 117 disposed at the outermost portion of the display area AA.

본 발명은 전술한 실시예에 한정되지 아니하며, 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 이상 다양한 변화와 변형이 가능하다.
The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various changes and modifications are possible without departing from the spirit of the present invention.

100 : 제1기판 200 : 제2기판
112 : 데이터배선 124 : 블랙매트릭스
119 : 공통전극 125 : 서브 컬러필터
121 : 제2보호층 114 : 액정층
130 : 쇼팅 패턴
117 : 화소전극
118 : 더미 화소전극100: first substrate 200: second substrate
112: data wiring 124: black matrix
119: common electrode 125: sub color filter
121: second protective layer 114: liquid crystal layer
130: shorting pattern
117: pixel electrode
118: dummy pixel electrode

Claims (12)

표시 영역과 비표시 영역으로 구분된 제1기판 및 제2기판;
상기 제1기판 및 상기 제2기판 사이에 배치된 액정층;
상기 제1기판 상에 배치되는 게이트 배선;
상기 제1기판 및 상기 게이트 배선 상에 배치되는 게이트 절연막;
상기 게이트 절연막 상에 상기 게이트 배선과 교차하며 배치되는 데이터 배선;
상기 데이터 배선 상에 배치되는 제1보호층;
상기 제1보호층 상에 배치되는 공통전극;
상기 비표시 영역의 상기 공통전극 일부를 노출시키는 콘택홀을 구비하며 상기 공통전극 상부에 배치되는 제2보호층;
상기 콘택홀을 통해 상기 공통전극과 연결되며 상기 제2보호층 상부의 상기 비표시 영역에 배치되는 쇼팅 패턴;
상기 표시영역에 형성되어 상기 게이트 배선 및 데이터 배선에 둘러 싸이며, 상기 제2보호층 상부의 상기 표시 영역에 배치되는 화소전극; 및
상기 비표시영역의 상기 쇼팅 패턴 상부에 형성되는 더미 화소전극을 포함하며,
상기 표시영역의 액정층에는 상기 화소전극과 상기 공통전극에 의해 전계가 형성되며, 상기 비표시영역의 상기 더미 화소전극과 상기 공통전극은 상기 쇼팅 패턴에 의해 전기적으로 연결되어 상기 비표시영역의 상기 액정층에는 전계가 형성되지 않는 것을 특징으로 하는 프린지필드 스위칭모드 액정표시장치.
a first substrate and a second substrate divided into a display area and a non-display area;
a liquid crystal layer disposed between the first substrate and the second substrate;
a gate line disposed on the first substrate;
a gate insulating layer disposed on the first substrate and the gate wiring;
a data line disposed on the gate insulating layer to cross the gate line;
a first protective layer disposed on the data line;
a common electrode disposed on the first protective layer;
a second protective layer having a contact hole exposing a portion of the common electrode in the non-display area and disposed on the common electrode;
a shorting pattern connected to the common electrode through the contact hole and disposed in the non-display area over the second passivation layer;
a pixel electrode formed in the display area, surrounded by the gate line and the data line, and disposed in the display area over the second passivation layer; and
and a dummy pixel electrode formed on the shorting pattern in the non-display area;
An electric field is formed in the liquid crystal layer of the display area by the pixel electrode and the common electrode, and the dummy pixel electrode and the common electrode of the non-display area are electrically connected by the shorting pattern to form the dummy pixel electrode in the non-display area. A fringe field switching mode liquid crystal display device, characterized in that no electric field is formed in the liquid crystal layer.
 제 1 항에 있어서,
게이트전극 및 소스/드레인전극을 포함하며 상기 게이트 배선 및 상기 데이터 배선의 교차지점에 배치되어 이들 배선과 연결되는 박막트랜지스터를 더 포함하고,
상기 박막트랜지스터 중 상기 비표시 영역에 배치된 상기 박막트랜지스터의 드레인전극과 상기 더미 화소전극은 전기적으로 플로팅되는 것을 특징으로 하는 프린지필드 스위칭모드 액정표시장치.
The method of claim 1,
A thin film transistor including a gate electrode and a source/drain electrode and disposed at an intersection of the gate line and the data line to be connected to the lines,
The fringe field switching mode liquid crystal display device according to claim 1, wherein the drain electrode and the dummy pixel electrode of the thin film transistor disposed in the non-display area of the thin film transistor are electrically floated.
 제 1 항에 있어서,
상기 화소전극 및 상기 더미 화소전극은 각각 다수의 개구부를 구비하는 것을 특징으로 하는 프린지필드 스위칭모드 액정표시장치.
The method of claim 1,
and each of the pixel electrode and the dummy pixel electrode has a plurality of openings.
 제 1 항에 있어서,
상기 쇼팅 패턴은 상기 공통전극 또는 상기 더미 화소전극과 동일 물질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 프린지필드 스위칭모드 액정표시장치.
The method of claim 1,
and the shorting pattern is made of the same material as the common electrode or the dummy pixel electrode.
 제 1 항에 있어서,
상기 더미 화소전극은 상기 데이터 배선과 평행한 방향으로 상기 표시영역 내의 최외곽에 배치된 상기 화소전극과 인접한 위치에 적어도 한 라인 이상 배치되는 것을 특징으로 하는 프린지필드 스위칭모드 액정표시장치.
The method of claim 1,
The fringe field switching mode liquid crystal display device according to claim 1, wherein the dummy pixel electrode is arranged in at least one line at a position adjacent to the pixel electrode arranged at the outermost part of the display area in a direction parallel to the data line.
 제 1 항에 있어서,
상기 더미 화소전극은 상기 게이트 배선과 평행한 방향으로 상기 표시영역 내의 최외곽에 배치된 상기 화소전극과 인접한 위치에 적어도 한 라인 이상 배치되는 것을 특징으로 하는 프린지필드 스위칭모드 액정표시장치.
The method of claim 1,
The fringe field switching mode liquid crystal display device according to claim 1, wherein the dummy pixel electrode is disposed in at least one line adjacent to the pixel electrode disposed at the outermost part of the display area in a direction parallel to the gate wiring.
 제 1 항에 있어서,
상기 더미 화소전극은 상기 표시 영역의 최외곽에 배치된 상기 화소전극을 둘러싸며 배치되는 것을 특징으로 하는 프린지필드 스위칭모드 액정표시장치.
The method of claim 1,
and the dummy pixel electrode is disposed to surround the pixel electrode disposed at the outermost part of the display area.
 제 1 항에 있어서,
상기 제2기판에 형성된 블랙매트릭스 및 서브 컬러필터를 더 포함하며,
상기 서브 컬러필터는 상기 화소전극에 대응되는 영역에 배치되며, 상기 블랙매트릭스는 상기 서브 컬러필터 사이 및 상기 제1기판의 비표시영역에 각각 배치되는 것을 특징으로 하는 프린지필드 스위칭모드 액정표시장치.
The method of claim 1,
It further comprises a black matrix and a sub color filter formed on the second substrate,
The sub-color filter is disposed in an area corresponding to the pixel electrode, and the black matrix is disposed between the sub-color filters and in the non-display area of the first substrate, respectively.
 표시 영역과 비표시 영역으로 구분된 제1기판 및 제2기판;
상기 제1기판 및 상기 제2기판 사이에 배치된 액정층;
상기 제1기판 위에 배치된 공통전극;
절연층을 사이에 두고 상기 표시영역의 상기 공통전극 상부에 배치되어 상기 공통전극와의 전위차에 의해 상기 표시영역의 액정층에 전계를 형성하는 화소전극; 및
상기 절연층을 사이에 두고 상기 비표시영역의 공통전극 상부에 배치되고, 상기 공통전극과 전기적으로 접속되어 상기 공통전극과 동일 전위를 형성하는 더미화소전극으로 구성된 액정표시장치.
a first substrate and a second substrate divided into a display area and a non-display area;
a liquid crystal layer disposed between the first substrate and the second substrate;
a common electrode disposed on the first substrate;
a pixel electrode disposed on the common electrode of the display region with an insulating layer interposed therebetween to form an electric field in the liquid crystal layer of the display region by a potential difference with the common electrode; and
and a dummy pixel electrode disposed on the common electrode of the non-display area with the insulating layer interposed therebetween and electrically connected to the common electrode to form the same potential as the common electrode.
 제 9 항에 있어서,
상기 비표시영역의 절연층에 형성된 콘택홀; 및
상기 비표시영역의 절연층 위에 형성되어 상기 콘택홀을 통해 상기 공통전극과 상기 더미화소전극을 전기적으로 연결하는 연결부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
10. The method of claim 9,
a contact hole formed in the insulating layer of the non-display area; and
and a connection member formed on the insulating layer of the non-display area and electrically connecting the common electrode and the dummy pixel electrode through the contact hole.
 제 10 항에 있어서,
상기 더미화소전극은 상기 연결부재 상면에 배치되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
11. The method of claim 10,
and the dummy pixel electrode is disposed on an upper surface of the connection member.
 제 9 항에 있어서,
상기 화소전극 및 상기 더미 화소전극은 각각 다수의 개구부를 구비하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.10. The method of claim 9,
and each of the pixel electrode and the dummy pixel electrode has a plurality of openings.
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