KR102284032B1 - Odor treatment device - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 악취발생시설의 악취 처리 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 습식처리부와 플라즈마 반응부를 포함하는 악취발생시설의 악취 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a malodor treatment apparatus for an odor generating facility, and more particularly, to a malodor treatment apparatus for a malodor generating facility including a wet treatment unit and a plasma reaction unit.
축사 악취의 주 원인물질인 암모니아, 황화수소, 메르캅탄, 아민류 등은 낮은 농도에서도 불쾌감과 혐오감을 줄 수 있고, 주변 영업에 큰 피해를 줄 수 있다. Ammonia, hydrogen sulfide, mercaptan, amines, etc., which are the main causes of odor in livestock odors, can cause discomfort and disgust even at low concentrations and can cause great damage to surrounding businesses.
종래 악취를 제거하기 위한 처리방식으로서는 산화, 흡착, 생물학적 분해, 및 플라즈마 분해법 등이 알려져 있다. 종래 악취처리방식 중 하나인 화학적 산화방법은 화학약품 산화제(이산화염소, 차아염소산, 이산화염소산염)를 이용하여 악취물질을 산화 및 분해시키는 방법으로서, 여러 종류의 악취가 효과적으로 제거될 수는 있으나 화학약품이 인간의 건강에 영향을 줄 수 있고 산화제 자체가 환경오염의 원인이 되는 문제점이 있다.Conventionally, oxidation, adsorption, biological decomposition, plasma decomposition, and the like are known as treatment methods for removing odors. Chemical oxidation, which is one of the conventional odor treatment methods, is a method of oxidizing and decomposing odor substances using chemical oxidizing agents (chlorine dioxide, hypochlorous acid, chlorite). There is a problem in that this can affect human health and that the oxidizing agent itself causes environmental pollution.
또한, 종래 악취처리방식 중 다른 하나로서 대한민국 등록실용신안공보 제20-0408407호(2006.02.02.등록)에서 축사의 암모니아 가스 및 부탄 가스를 활성탄을 이용하여 제거하고 있다. 흡착방법은 활성탄과 같이 비표면적이 큰 흡착제를 이용하여 악취물질을 흡착시켜 제거하는 방법이다. 그러나, 흡착방법에서는 악취원인물질이 흡착제에 반영구적으로 흡착되므로 주기적으로 흡착제를 교체해주어야 하는 불편함이 있고, 이에 따라 유지 및 보수 비용이 증가한다.In addition, as another of the conventional odor treatment methods, in Korean Utility Model Publication No. 20-0408407 (registered on February 2, 2006), ammonia gas and butane gas in livestock houses are removed using activated carbon. The adsorption method is a method of adsorbing and removing odorous substances using an adsorbent with a large specific surface area such as activated carbon. However, in the adsorption method, since the odor-causing substance is semi-permanently adsorbed to the adsorbent, it is inconvenient to periodically replace the adsorbent, thereby increasing maintenance and repair costs.
이와 같이 종래 대부분의 악취처리방식은 인간의 건강에 좋지 않은 영향을 주거나 유지관리비용이 증가하는 등의 여러 가지 문제점이 있다.As described above, most of the conventional odor treatment methods have various problems, such as adversely affecting human health or increasing maintenance costs.
또한, 종래 악취처리방식에 의하면 악취의 제거 효율이 낮고, 설치가 되더라도 시설물 운영 및 관리가 어려워 실용성이 떨어지는 문제점이 있다. 특히, 축산 악취는 악취원인물질 농도가 높아 처리가 용이치 않다.In addition, according to the conventional malodor treatment method, the efficiency of removing the odor is low, and even if installed, it is difficult to operate and manage the facility, so that practicality is lowered. In particular, the odor of livestock is not easy to treat due to the high concentration of odor-causing substances.
본 발명은 하나의 양상에서 악취 제거 효과가 높고, 악취 제거에 사용된 액체를 재순환시켜 사용함으로써 관리 비용을 저감시키고, 정화처리된 공기를 오염 공기 발생 지점으로 재순환시켜 오염 공기 발생 지점의 악취 발생을 억제할 수 있는 악취처리장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.In one aspect, the present invention has a high odor removal effect, reduces management costs by recirculating and using a liquid used for odor removal, and recirculates purified air to a polluted air generating point to reduce odor generation at a polluted air generating point An object of the present invention is to provide an odor treatment device capable of suppressing odors.
본 발명은 하나의 구체예에서, 흡기부를 통해 유입된 오염 공기를 플라즈마로 1차 정화처리하는 플라즈마 반응부; 플라즈마 반응부를 경유한 1차 정화처리된 공기에 액체를 분사하여 오염 공기를 2차 정화처리하는 습식반응부; 습식반응부를 경유한 2차 정화처리된 공기가 관통하여 경유함으로써 3차 정화처리되는 스크린필터; 습식반응부에서 사용되고 재순환된 액체를 스크린필터에 분사하는 재순환 분무노즐; 습식반응부에서 분사된 액체 및 스크린필터에 분사된 액체가 저장되는 저수부; 저수부의 액체가 재순환필터를 경유하여 저장되는 재순환 저수부; 및 액체를 재순환 저수부로부터 재순환 분무노즐로 공급하는 재순환 펌프;를 포함하는, 악취처리장치를 제공할 수 있다.The present invention, in one embodiment, a plasma reaction unit for primary purification treatment of the contaminated air introduced through the intake into plasma; a wet reaction unit for secondary purification of polluted air by spraying liquid into the air subjected to the primary purification treatment via the plasma reaction unit; a screen filter that is subjected to tertiary purification by passing through the secondary purifying air passing through the wet reaction unit; a recirculation spray nozzle for spraying the recirculated liquid used in the wet reaction unit to the screen filter; a reservoir in which the liquid sprayed from the wet reaction unit and the liquid sprayed to the screen filter are stored; a recirculation reservoir in which the liquid of the reservoir is stored via a recirculation filter; and a recirculation pump for supplying the liquid from the recirculation reservoir to the recirculation spray nozzle.
본 발명의 하나의 양상에 따르는 악취처리장치는 악취 제거 효과가 높고, 악취 제거에 사용된 액체를 재순환시켜 사용함으로써 관리 비용을 저감시키고, 정화처리된 공기를 오염 공기 발생 지점으로 재순환시켜 오염 공기 발생 지점의 악취 발생을 억제할 수 있다.The malodor treatment apparatus according to an aspect of the present invention has a high malodor removal effect, reduces management costs by recirculating and using a liquid used for malodor removal, and recirculates purified air to a polluted air generating point to generate polluted air It is possible to suppress the occurrence of odors in the branch.
도 1은 본 발명의 하나의 양상의 하나의 구체예에 따르는 악취처리장치의 측면도를 개력적으로 나타낸 도면이다.
도 2는 도 1의 선 A-A'를 따라 절단한 단면도이다.
도 3은 본 발명의 하나의 양상의 하나의 구체예에 따르는 악취처리장치의 측면도로서 플라즈마 반응부(200)를 더욱 상세하게 나타낸 도면이다.
도 4는 플라즈마 반응부(200)의 사시도를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 5는 도 3 및 도 4의 선 A-A'를 따라 절단한 단면도이다.1 is a diagram schematically showing a side view of a malodor treatment apparatus according to one embodiment of one aspect of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line A-A' of FIG. 1 .
3 is a side view of the malodor treatment apparatus according to one embodiment of one aspect of the present invention, and is a view showing the
4 is a diagram schematically illustrating a perspective view of the
5 is a cross-sectional view taken along the line A-A' of FIGS. 3 and 4;
이하 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
도 1은 본 발명의 하나의 양상의 하나의 구체예에 따르는 악취처리장치의 측면도를 개력적으로 나타낸 도면이다.1 is a diagram schematically showing a side view of a malodor treatment apparatus according to an embodiment of an aspect of the present invention.
도 2는 도 1의 선 A-A'를 따라 절단한 단면도이다.FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line A-A' of FIG. 1 .
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 하나의 양상의 하나의 구체예에 따르는 악취처리장치는, 흡기부(100)를 통해 유입된 오염 공기를 플라즈마로 1차 정화처리하는 플라즈마 반응부(200), 플라즈마 반응부(200)를 경유한 1차 정화처리된 공기에 액체를 분사하여 오염 공기를 2차 정화처리하는 습식반응부(300), 습식반응부(300)를 경유한 2차 정화처리된 공기가 관통하여 경유함으로써 3차 정화처리되는 스크린필터(400), 습식반응부(300)에서 사용되고 재순환된 액체를 스크린필터(400)에 분사하는 재순환 분무노즐(500), 습식반응부(300)에서 분사된 액체 및 스크린필터(400)에 분사된 액체가 저장되는 저수부(600), 저수부(600)의 액체가 재순환필터(650)를 경유하여 저장되는 재순환 저수부(700), 및 액체를 재순환 저수부(700)로부터 재순환 분무노즐(500)로 공급하는 재순환 펌프(800)를 포함할 수 있다.1 and 2, in the malodor treatment apparatus according to one embodiment of an aspect of the present invention, a plasma reaction unit ( 200), the
도 1에서 굽은 화살표는 오염 공기의 흐름을 대략적으로 제시한 것이다.The curved arrows in FIG. 1 schematically show the flow of polluted air.
본 발명의 하나의 양상의 하나의 구체예에 따르는 악취처리장치는 플라즈마 반응부(200)를 포함할 수 있다. The malodor treatment apparatus according to one embodiment of one aspect of the present invention may include a
플라즈마 반응부(200)는 흡기부(100)를 통해 유입된 오염 공기를 플라즈마로 1차 정화처리할 수 있다. 도 1 및 도 2에서 플라즈마 반응부(200)는 점선의 사각형으로 도시된 부분으로 제시된다.The
한편 흡기부(100)는 오염 공기 발생 지점으로부터 오염 공기를 악취처리장치 내부로 유입시키도록 구성될 수 있다. 흡기부(100)에는 오염 공기 발생 지점으로부터 오염 공기를 악취처리장치 내부로 유입시키는 흡기팬(101)이 설치될 수 있다.Meanwhile, the
도 3은 본 발명의 하나의 양상의 하나의 구체예에 따르는 악취처리장치의 측면도로서 플라즈마 반응부(200)를 더욱 상세하게 나타낸 도면이다.3 is a side view of a malodor treatment apparatus according to an embodiment of an aspect of the present invention, and is a view showing the
도 4는 플라즈마 반응부(200)의 사시도를 개략적으로 나타낸 도면이다.4 is a diagram schematically illustrating a perspective view of the
도 5는 도 3 및 도 4의 선 A-A'를 따라 절단한 단면도이다.5 is a cross-sectional view taken along the line A-A' of FIGS. 3 and 4;
본 발명의 하나의 양상의 하나의 구체예에 따르는 악취처리장치에서 플라즈마 반응부(200)는 서로 이격된 다층 구조의 격벽(210)을 포함하며, 서로 이격된 다층 구조의 격벽(210) 사이에 플라즈마 방전관(220)이 배치될 수 있다. 흡기부(100)를 통해 유입된 오염 공기는 플라즈마 반응부(200) 내에 존재하는 서로 이격된 다층 구조의 격벽(210) 사이를 지그재그 형태의 유로를 따라 경유하면서 플라즈마 방전관(220)에서 발생하는 플라즈마 방전에 의해 악취가 제거될 수 있다. 도 3에서 굽은 화살표는 오염 공기의 흐름을 대략적으로 제시한 것이다.In the malodor treatment apparatus according to one embodiment of an aspect of the present invention, the
도 3 내지 도 5를 참조하여 더욱 상세하게 설명하면, 본 발명의 하나의 양상의 하나의 구체예에 따르는 악취처리장치에서 플라즈마 반응부(200)는 서로 이격된 다층 구조의 격벽(210)을 포함할 수 있다. 3 to 5, in the malodor treatment apparatus according to an embodiment of an aspect of the present invention, the
도 4를 참조하여 설명하면, 서로 이격된 다층 구조의 격벽(210)은 예컨대 제1 격벽(211), 제2 격벽(212), 제3 격벽(213), 제4 격벽(214), 제5 격벽(215), 제6 격벽(216)으로 구성될 수 있으며 여기에 제한되는 것은 아니다.Referring to FIG. 4 , the
여기서 흡기부(100)는 예컨대 악취처리장치의 4개의 측면 중 어느 하나의 외부면에 설치될 수 있다. 따라서 흡기부(100)가 설치되는 악취처리장치의 외부면과 맞닿는 악취처리장치의 내부면을 제1 내부면이라 하고, 시계방향으로 각각 제2 내부면, 제3 내부면, 및 제4 내부면이라 한다.Here, the
본 발명의 하나의 구체예에서, 제1 격벽(211)은 가장 상부에 배치되고 악취처리장치의 상부면과 이격되어 배치됨으로써 흡기부(100)를 통해 유입되는 오염 공기가 제1 격벽(211)과 악취처리장치의 상부면 사이를 통과하도록 오염 공기 유로(이하 '제1 유로'라 함)를 형성할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the
한편 제1 격벽(211)은 악취처리장치의 제1 내부면, 제2 내부면, 및 제4 내부면에 부착되고, 제3 내부면으로부터 이격되어 배치될 수 있다. 이에 따라 흡기부(100)를 통해 유입되는 오염 공기는 플라즈마 반응부(200)로 유입되면서 직하강하지 않고 제1 격벽(211)과 악취처리장치의 상부면 사이에 형성된 유로(즉, 제1 유로)를 따라 악취처리장치의 제3 내부면까지 수평 이동을 한 후 제1 격벽(211)과 제3 내부면이 이격된 부분에서 하강하여 후술하는 제2 유로로 이동하게 된다.Meanwhile, the
한편, 제2 격벽(212)은 제1 격벽(211) 아래에 이격되어 배치됨으로써 제1 격벽(211)과 제2 격벽(212) 사이에 형성된 유로(이하 '제2 유로'라 함)를 형성할 수 있다. Meanwhile, the
또한 제2 격벽(212)은 악취처리장치의 제2 내부면, 제3 내부면, 및 제4 내부면에 부착되고, 제1 내부면으로부터 이격되어 배치될 수 있다. 이에 따라 제1 유로를 따라 수평 이동 후 제1 격벽(211)과 제3 내부면이 이격된 부분에서 하강한 오염 공기는 제2 유로를 따라 악취처리장치의 제1 내부면까지 수평 이동을 한 후 제2 격벽(212)과 제1 내부면이 이격된 부분에서 하강하여 후술하는 제3 유로로 이동하게 된다.In addition, the
이와 유사하게 제3 격벽(213), 제4 격벽(214), 제5 격벽(215), 제6 격벽(216)이 플라즈마 반응부(200)에서 하방으로 순서대로 서로 이격되어 배치될 수 있다.Similarly, the
제3 격벽(213)과 제5 격벽(215)은 제1 격벽(211)과 동일하게 악취처리장치의 제1 내부면, 제2 내부면, 및 제4 내부면에 부착되고, 제3 내부면으로부터 이격되어 배치될 수 있다.The
한편 제4 격벽(214)과 제6 격벽(216)은 제2 격벽(212)과 동일하게 악취처리장치의 제2 내부면, 제3 내부면, 및 제4 내부면에 부착되고, 제1 내부면으로부터 이격되어 배치될 수 있다.Meanwhile, the
이와 같은 구성에 의해 제1 격벽(211)과 제2 격벽(212) 사이의 제1 유로, 제2 격벽(212)과 제3 격벽(213) 사이의 제2 유로, 제3 격벽(213)과 제4 격벽(214) 사이의 제3 유로, 제4 격벽(214)과 제5 격벽(215) 사이의 제4 유로, 그리고 제5 격벽(215)과 제6 격벽(216) 사이의 제5 유로를 형성할 수 있다.With this configuration, the first flow path between the
이러한 플라즈마 반응부(200) 내의 격벽의 구성에 의해, 흡기부(100)를 통해 유입된 오염 공기는 플라즈마 반응부(200) 내에 존재하는 다층 구조의 격벽(210) 사이를 지그재그 형태의 유로를 따라 경유하면서 이동하게 된다. 더욱 상세하게 설명하면, 도 4의 굽은 화살표로 제시한 바와 같이, 흡기부(100)를 통해 유입된 오염 공기는 제1 유로, 제2 유로, 제3 유로, 제4 유로, 및 제5 유로를 따라 지그재그 형태로 이동하면서 후술하는 플라즈마 방전관(220)에서 발생하는 플라즈마 방전에 의해 악취가 제거될 수 있다.Due to the configuration of the barrier ribs in the
한편 다층 구조의 격벽(210) 사이에는 플라즈마 방전관(220)이 배치될 수 있다. 구체적으로 플라즈마 방전관(220)은 제1 격벽(211)과 제2 격벽(212) 사이, 제2 격벽(212)과 제3 격벽(213) 사이, 제3 격벽(213)과 제4 격벽(214) 사이, 제4 격벽(214)과 제5 격벽(215) 사이, 그리고 제5 격벽(215)과 제6 격벽(216) 사이에 배치될 수 있다.Meanwhile, a
플라즈마 방전관(220)은 접지 전극 및 방전 전극을 포함할 수 있다. 플라즈마 방전관(220)은 악취처리장치 내부에 직접 고정될 수도 있지만, 내열성이 높은 재료의 고정대에 의해서 고정될 수도 있으며, 전원 공급부에 의해서 접지 전극과 방전 전극에는 고압의 전류가 전달되는 관계로 고정대는 같이 내열성 및 절연성이 좋은 테플론과 같은 에틸렌 수지를 사용할 수 있다. 전원 공급부(미도시)는 접지 전극과 방전 전극 어느 한쪽 또는 양쪽에 서로 다른 전압으로 방전을 위한 전원을 인가하도록 제공되며, 전원 공급부를 통해 접지 전극과 방전 전극에 전원이 공급될 시 접지 전극과 방전 전극의 사이에서 코로나 방전이 발생된다. 접지 전극과 방전 전극 사이에 코로나 방전이 발생하면 접지 전극과 방전 전극 사이에는 각종 화학적 활성종(chemically active specie)이 생성될 수 있다. 예를 들어, 산화성 활성종이 형성될 수 있으며, 코로나 방전공간을 통과하는 악취원인물질은 산화성 활성종에 의해 제거될 수 있다.The
이에 따라 흡기부(100)를 통해 유입된 오염 공기는 플라즈마 반응부(200) 내에 존재하는 다층 구조의 격벽(210) 사이를 지그재그 형태의 유로를 따라 경유하면서 플라즈마 방전관(220)에서 발생하는 플라즈마 방전에 의해 악취가 제거될 수 있다. 흡기부(100)를 통해 유입된 오염 공기가 플라즈마 반응부(200) 내에 존재하는 다층 구조의 격벽(210) 사이를 지그재그 형태의 유로를 따라 경유하면서 그 사이에 배치된 플라즈마 방전관(220)과의 접촉 면적을 최대한으로 크게 함으로써 플라즈마 방전에 의한 오염 공기의 악취 제거가 최대한 효율적으로 이루어질 수 있다.Accordingly, the polluted air introduced through the
본 발명의 하나의 양상의 하나의 구체예에 따르는 악취처리장치는 또한 습식반응부(300)를 포함할 수 있다.The malodor treatment apparatus according to one embodiment of one aspect of the present invention may also include a
습식반응부(300)는 플라즈마 반응부(200)를 경유한 1차 정화처리된 공기에 액체를 분사하여 오염 공기를 2차 정화처리할 수 있다. 도 1 및 도 2에서 습식반응부(300)는 점선의 사각형으로 도시된 부분으로 제시된다.The
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 하나의 실시예에서, 습식반응부(300)는 플라즈마 반응부(200) 하부에 배치될 수 있다. 1 and 2 , in one embodiment of the present invention, the
습식반응부(300)는 악취처리장치의 외부에서 공급된 액체를 1차 정화처리된 공기에 분사하는 액체 분무노즐(301)을 포함할 수 있다. 액체 분무노즐(301)은 악취처리장치의 내벽에 설치되어, 플라즈마 반응부(200)를 경유한 1차 정화처리된 공기에 액체를 분사하도록 구성될 수 있다. The
액체는 악취처리장치의 외부에 설치된 액체 공급 펌프(302)에 의해 액체 분무노즐(301)로 공급될 수 있다.The liquid may be supplied to the
액체로는 물을 사용할 수 있으며, 악취제거를 위한 약품, 예컨대 차아염소산나트륨(NaOCl), 가성소다(NaOH), 과산화수소(H2O2), 이산화수소, 암모니아, 이산화염소(ClO2), 차아염소산(HOCl), 이산화염소산염 등이 첨가된 물을 사용할 수 있다.Water can be used as the liquid, and chemicals for removing odors, such as sodium hypochlorite (NaOCl), caustic soda (NaOH), hydrogen peroxide (H2O2), hydrogen dioxide, ammonia, chlorine dioxide (ClO2), hypochlorous acid (HOCl) , water to which chlorine dioxide has been added can be used.
한편 습식반응부(300)의 하부 바닥면은 후술하는 저수부(600)쪽으로 경사지게 구성됨으로써 액체 분무노즐(301)에서 분사된 액체가 저수부(600)로 흘러가도록 할 수 있다.On the other hand, the lower bottom surface of the
본 발명의 하나의 양상의 하나의 구체예에 따르는 악취처리장치는 또한 스크린필터(400)를 포함할 수 있다.The malodor treatment apparatus according to one embodiment of one aspect of the present invention may also include a
스크린필터(400)는 습식반응부(300)를 경유한 2차 정화처리된 공기가 관통하여 경유함으로써 3차 정화처리되도록 구성될 수 있다.The
스크린필터(400)는 미세망 또는 부직포로 구성될 수 있다. 바람직하게는 다층의 미세망 또는 다층의 부직포로 구성되고 미세망 또는 부직포 사이에 충진제가 충진될 수 있다. 충진제는 활성탄 등이 사용될 수 있다.The
후술하는 바와 같이, 스크린필터(400)에는 습식반응부(300)에서 사용되고 재순환된 액체가 재순환 분무노즐(500)에 의해 분사되며, 이에 따라 충진제에 액체가 분사된다. 따라서 습식반응부(300)를 경유한 2차 정화처리된 공기는 스크린필터(400)를 관통하여 경유하면서 다시 한번 정화처리될 수 있다(3차 정화처리).As will be described later, the
전술한 습식반응부(300)의 경우 오염 공기에 대하여 대기 중에서 액체를 분사하므로 액체와 오염 공기의 접촉율이 낮아 오염 공기의 정화율이 낮을 수 있다. In the case of the
그러나 스크린필터(400)의 경우 액체가 스크린필터(400) 내의 충진제에 분사되고 오염 공기가 충진제 사이를 경유하면서 이동하므로 오염 공기와 액체의 접촉율이 높아 오염 공기의 정화율을 극대화시킬 수 있다.However, in the case of the
본 발명의 하나의 양상의 하나의 구체예에 따르는 악취처리장치는 또한 재순환 분무노즐(500), 저수부(600), 재순환 저수부(700), 및 재순환 펌프(800)를 포함할 수 있다.The malodor treatment apparatus according to one embodiment of one aspect of the present invention may also include a
재순환 분무노즐(500)은 습식반응부(300)에서 사용되고 재순환된 액체를 스크린필터(400)에 분사하도록 구성될 수 있다. The
저수부(600)는 습식반응부(300)에서 분사된 액체 및 스크린필터(400)에 분사된 액체가 저장되도록 구성될 수 있다. 전술한 바와 같이 습식반응부(300)의 하부 바닥면이 저수부(600)쪽으로 경사지게 구성됨으로써 액체 분무노즐(301)에서 분사된 액체가 저수부(600)로 흘러가서 저수부(600)에 저장될 수 있다. 한편 재순환 분무노즐(500)로부터 스크린필터(400)에 분사된 액체는 자연 낙하하여 저수부(600)에 저장될 수 있다. The
재순환 저수부(700)는 저수부(600)의 액체가 재순환필터(650)를 경유하여 저장되도록 구성될 수 있다. 즉 악취처리장치를 최초 가동시켜면 액체 분무노즐(301)에서 분무된 액체가 저수부(600)에 저장된다. 따라서 저수부(600)에 저장된 액체는 오염 공기에 포함되었던 분진 또는 먼지 등의 오염 물질이 포함되어 있을 수 있다. 이후 저수부(600)에 저장된 액체는 재순환필터(650)를 경유하여 재순환 저수부(700)로 이동하여 저장된다. 저수부(600)에 저장된 액체가 재순환필터(650)를 통과하여 이동할 때 액체에 포함된 오염 물질의 대부분이 필터링될 수 있다. The
재순환 펌프(800)는 액체를 재순환 저수부(700)로부터 재순환 분무노즐(500)로 공급하도록 구성될 수 있다. 즉 악취처리장치 외부에 재순환 펌프(800)가 설치되어 재순환 저수부(700)에 저장된 액체를 재순환 분무노즐(500)로 공급할 수 있다. 이에 따라, 액체는 재순환 펌프(800)에 의해 재순환 저수부(700)로부터 재순환 분무노즐(500)로 공급되고, 이후 재순환 분무노즐(500)로부터 스크린필터(400)로 분사되며, 분사된 액체는 다시 저수부(600)에 저장될 수 있다. The
이러한 구성으로 인하여 최초 액체 분무노즐(301)로부터 분사된 액체는 저수부(600)에 저장되고, 이후 재순환필터(650)를 경유하여 재순환 저수부(700)에 저장되고, 재순환 펌프(800)에 의해 재순환 분무노즐(500)로 공급되어 스크린필터(400)에 분사된 후 다시 저수부(600)에 저장될 수 있다. Due to this configuration, the liquid initially sprayed from the
본 발명의 또 다른 구체예에서, 재순환 분무노즐(500)은 스크린필터(400) 상부에 배치될 수 있다. 이에 따라, 액체는 재순환 펌프(800)에 의해 재순환 저수부(700)로부터 재순환 분무노즐(500)로 공급되고, 이후 재순환 분무노즐(500)로부터 스크린필터(400)로 분사되며, 분사된 액체는 자연 낙하하여 다시 저수부(600)에 저장될 수 있다.In another embodiment of the present invention, the
본 발명의 하나의 양상의 또 다른 구체예에 따르는 악취처리장치에 있어서, 습식반응부(300)는 플라즈마 반응부(200) 하부에 배치되며, 재순환 분무노즐(500)은 스크린필터(400) 상부에 배치될 수 있다. 이 경우, 플라즈마 반응부(200) 전체 및 습식반응부(300)의 일부와 재순환 분무노즐(500) 및 스크린필터 사이(400)에는, 오염 공기의 흐름을 차단하는 중간벽(250)이 설치될 수 있다. 바람직하게는 중간벽(250)은 악취처리장치의 상부면으로부터 하방으로 연장되어 플라즈마 반응부(200) 전체 및 습식반응부(300)의 일부까지 연장되도록 설치될 수 있다. 이에 따라 플라즈마 반응부(200)를 경유한 1차 정화처리된 공기는 습식반응부(300)에서 수평 방향으로 바로 이동하지 않고 습식반응부(300)의 하부로 이동한 후 스크린필터(400)로 이동하게 되므로, 습식반응부(300)에서 액체가 1차 정화처리된 공기에 충분히 분사될 수 있다.In the malodor treatment apparatus according to another embodiment of one aspect of the present invention, the
본 발명의 하나의 양상의 또 다른 구체예에 따르는 악취처리장치는 재순환 저수부(700)의 수위 유지를 위한 볼탑(701)이 연결 구비된 배수밸브(702)를 더욱 포함할 수 있다.The malodor treatment apparatus according to another embodiment of one aspect of the present invention may further include a
본 발명의 하나의 양상의 또 다른 구체예에 따르는 악취처리장치에서 흡기부(100)는 오염 공기 발생 지점으로부터 오염 공기를 악취처리장치 내부로 유입시키도록 구성될 수 있다.In the malodor treatment apparatus according to another embodiment of an aspect of the present invention, the
또한 본 발명의 하나의 양상의 또 다른 구체예에 따르는 악취처리장치는 배기부(900)를 더욱 포함할 수 있다. 배기부(900)는 3차 정화처리된 공기를 악취처리장치 외부로 배출시키는 배기팬(901)을 포함할 수 있다.Also, the malodor treatment apparatus according to another embodiment of one aspect of the present invention may further include an
배기부(900)는 스크린필터(400)를 경유한 3차 정화처리된 공기를 악취처리장치 외부로 배출시키는 동시에 오염 공기 발생 지점으로 재순환시키도록 구성될 수 있다. 즉 배기부(900)에 배기 덕트 등을 연결함으로써 악취처리장치로부터 배출되는 3차 정화처리된 공기를 오염 공기 발생 지점으로 다시 재순환시킬 수 있다. The
3차 정화처리된 공기는 오염 제거 물질 등이 포함된 액체를 함유하고 있으므로 악취처리장치에 의해 3차 정화처리된 공기를 오염 공기 발생 지점으로 다시 재순환시킴으로써 오염 공기 발생 지점의 공기 오염도를 저감시킬 수 있다. Since the tertiary purified air contains a liquid containing decontamination materials, etc., the air pollution level at the polluted air generating point can be reduced by recirculating the tertiary purified air by the odor treatment device back to the polluted air generating point. there is.
오염 공기 발생 지점은 악취가 많이 발생하는 축사, 비닐하우스, 기계조립공장, 화장실, 흡연실, 해산물 가공공장, 축산물 가공공장 등일 수 있다.The polluted air generation point may be a livestock barn, a plastic house, a machine assembly plant, a toilet, a smoking room, a seafood processing plant, a livestock product processing plant, etc. that generate a lot of odor.
이하 본 발명의 다양한 실시예를 설명한다.Hereinafter, various embodiments of the present invention will be described.
(1) 흡기부를 통해 유입된 오염 공기를 플라즈마로 1차 정화처리하는 플라즈마 반응부; 플라즈마 반응부를 경유한 1차 정화처리된 공기에 액체를 분사하여 오염 공기를 2차 정화처리하는 습식반응부; 습식반응부를 경유한 2차 정화처리된 공기가 관통하여 경유함으로써 3차 정화처리되는 스크린필터; 습식반응부에서 사용되고 재순환된 액체를 스크린필터에 분사하는 재순환 분무노즐; 습식반응부에서 분사된 액체 및 스크린필터에 분사된 액체가 저장되는 저수부; 저수부의 액체가 재순환필터를 경유하여 저장되는 재순환 저수부; 및 액체를 재순환 저수부로부터 재순환 분무노즐로 공급하는 재순환 펌프;를 포함하는, 악취처리장치.(1) a plasma reaction unit for primary purification treatment of the contaminated air introduced through the intake unit into plasma; a wet reaction unit for secondary purification of polluted air by spraying liquid into the air subjected to the primary purification treatment via the plasma reaction unit; a screen filter that is subjected to tertiary purification by passing through the secondary purifying air passing through the wet reaction unit; a recirculation spray nozzle for spraying the recirculated liquid used in the wet reaction unit to the screen filter; a reservoir in which the liquid sprayed from the wet reaction unit and the liquid sprayed to the screen filter are stored; a recirculation reservoir in which the liquid of the reservoir is stored via a recirculation filter; and a recirculation pump for supplying the liquid from the recirculation reservoir to the recirculation spray nozzle.
(2) 흡기부는 오염 공기 발생 지점으로부터 오염 공기를 악취처리장치 내부로 유입시키며, 스크린필터를 경유한 3차 정화처리된 공기를 악취처리장치 외부로 배출시키는 동시에 오염 공기 발생 지점으로 재순환시키는 배기부를 더욱 포함하는, 악취처리장치.(2) The intake unit introduces the polluted air from the polluted air generating point into the odor treatment device, and discharges the tertiary purified air through the screen filter to the outside of the odor treatment device and at the same time recirculates the polluted air to the polluted air generating point. Further comprising, an odor treatment device.
(3) 플라즈마 반응부는 서로 이격된 다층 구조의 격벽을 포함하며, 서로 이격된 다층 구조의 격벽 사이에 플라즈마 방전관이 배치되며, 흡기부를 통해 유입된 오염 공기는 플라즈마 반응부 내에 존재하는 서로 이격된 다층 구조의 격벽 사이를 지그재그 형태의 유로를 따라 경유하면서 플라즈마 방전관에서 발생하는 플라즈마 방전에 의해 악취가 제거되는, 악취처리장치.(3) The plasma reaction unit includes barrier ribs having a multi-layer structure spaced apart from each other, a plasma discharge tube is disposed between the barrier ribs having a multi-layer structure spaced apart from each other, and polluted air introduced through the intake unit is present in the plasma reaction unit in a multi-layered space spaced apart from each other. An odor treatment device in which odors are removed by plasma discharge generated in a plasma discharge tube while passing through a zigzag flow path between partition walls of the structure.
(4) 습식반응부는 플라즈마 반응부 하부에 배치되며, 재순환 분무노즐은 스크린필터 상부에 배치되며, 재순환 분무노즐로부터 스크린필터 상부에 분사된 액체는 자연 낙하하여 저수부에 저장되는, 악취처리장치.(4) The wet reaction unit is disposed below the plasma reaction unit, the recirculation spray nozzle is disposed above the screen filter, and the liquid sprayed from the recirculation spray nozzle to the top of the screen filter naturally falls and is stored in the reservoir.
(5) 액체는 물 또는 차아염소산나트륨(NaOCl), 가성소다(NaOH), 과산화수소(H2O2), 이산화수소, 암모니아, 이산화염소(ClO2), 차아염소산(HOCl) 및 이산화염소산염 중 하나 이상이 첨가된 물인, 악취처리장치.(5) Liquid is water or sodium hypochlorite (NaOCl), caustic soda (NaOH), hydrogen peroxide (H2O2), hydrogen dioxide, ammonia, chlorine dioxide (ClO2), hypochlorous acid (HOCl) Water, odor treatment device.
(6) 습식반응부는 외부로부터 공급된 액체를 1차 정화처리된 공기에 분사하는 액체 분무노즐을 포함하는, 악취처리장치.(6) The wet reaction unit includes a liquid spray nozzle for spraying the liquid supplied from the outside into the air that has been subjected to the primary purification treatment.
(7) 플라즈마 반응부 전체 및 습식반응부의 일부와 재순환 분무노즐 및 스크린필터의 사이에 설치되어 오염 공기의 흐름을 차단하되, 악취처리장치의 상부면으로부터 하방으로 연장되어 플라즈마 반응부 전체 및 습식반응부의 일부까지 연장되는 중간벽을 더욱 포함하는, 악취처리장치.(7) Installed between the entire plasma reaction unit and a part of the wet reaction unit, the recirculation spray nozzle and the screen filter to block the flow of polluted air, but extend downward from the upper surface of the odor treatment device for the entire plasma reaction unit and the wet reaction and an intermediate wall extending to a portion of the portion.
흡기부(100), 플라즈마 반응부(200), 습식반응부(300), 스크린필터(400), 재순환 분무노즐(500), 저수부(600), 재순환필터(650), 재순환 저수부(700), 재순환 펌프(800)
Claims (7)
플라즈마 반응부를 경유한 1차 정화처리된 공기에 액체를 분사하여 오염 공기를 2차 정화처리하는 습식반응부;
습식반응부를 경유한 2차 정화처리된 공기가 관통하여 경유함으로써 3차 정화처리되는 스크린필터;
습식반응부에서 사용되고 재순환된 액체를 스크린필터에 분사하는 재순환 분무노즐;
습식반응부에서 분사된 액체 및 스크린필터에 분사된 액체가 저장되는 저수부;
저수부의 액체가 재순환필터를 경유하여 저장되는 재순환 저수부; 및
액체를 재순환 저수부로부터 재순환 분무노즐로 공급하는 재순환 펌프;
를 포함하며,
플라즈마 반응부는 서로 이격된 다층 구조의 격벽을 포함하며,
서로 이격된 다층 구조의 격벽 사이에 플라즈마 방전관이 배치되며,
흡기부를 통해 유입된 오염 공기는 플라즈마 반응부 내에 존재하는 서로 이격된 다층 구조의 격벽 사이를 지그재그 형태의 유로를 따라 경유하면서 플라즈마 방전관에서 발생하는 플라즈마 방전에 의해 악취가 제거되는, 악취처리장치.a plasma reaction unit that first purifies the contaminated air introduced through the intake unit with plasma;
a wet reaction unit for secondary purification of polluted air by spraying liquid into the air subjected to the primary purification treatment via the plasma reaction unit;
a screen filter that is subjected to tertiary purification by passing through the secondary purifying air passing through the wet reaction unit;
a recirculation spray nozzle for spraying the recirculated liquid used in the wet reaction unit to the screen filter;
a reservoir in which the liquid sprayed from the wet reaction unit and the liquid sprayed to the screen filter are stored;
a recirculation reservoir in which the liquid of the reservoir is stored via a recirculation filter; and
a recirculation pump for supplying liquid from the recirculation reservoir to the recirculation spray nozzle;
includes,
The plasma reaction unit includes a multi-layered barrier rib spaced apart from each other,
Plasma discharge tubes are disposed between the barrier ribs of a multi-layer structure spaced apart from each other,
Contaminated air introduced through the intake unit passes through a zigzag flow path between barrier ribs having a multi-layered structure spaced apart from each other in the plasma reaction unit, and odor is removed by plasma discharge generated in the plasma discharge tube.
흡기부는 오염 공기 발생 지점으로부터 오염 공기를 악취처리장치 내부로 유입시키며,
스크린필터를 경유한 3차 정화처리된 공기를 악취처리장치 외부로 배출시키는 동시에 오염 공기 발생 지점으로 재순환시키는 배기부를 더욱 포함하는, 악취처리장치.The method according to claim 1,
The intake unit introduces the polluted air from the polluted air generating point into the inside of the odor treatment device,
The odor treatment apparatus further comprising an exhaust unit for discharging the tertiary purified air through the screen filter to the outside of the odor treatment apparatus and at the same time recirculating the air to the polluted air generating point.
습식반응부는 플라즈마 반응부 하부에 배치되며,
재순환 분무노즐은 스크린필터 상부에 배치되며,
재순환 분무노즐로부터 스크린필터 상부에 분사된 액체는 자연 낙하하여 저수부에 저장되는, 악취처리장치.The method according to claim 1,
The wet reaction unit is disposed below the plasma reaction unit,
The recirculation spray nozzle is disposed above the screen filter,
The liquid sprayed on the top of the screen filter from the recirculation spray nozzle naturally falls and is stored in the reservoir.
액체는 물 또는 차아염소산나트륨(NaOCl), 가성소다(NaOH), 과산화수소(H2O2), 이산화수소, 암모니아, 이산화염소(ClO2), 차아염소산(HOCl) 및 이산화염소산염 중 하나 이상이 첨가된 물인, 악취처리장치.The method according to claim 1,
The liquid is water or water to which one or more of sodium hypochlorite (NaOCl), caustic soda (NaOH), hydrogen peroxide (H2O2), hydrogen dioxide, ammonia, chlorine dioxide (ClO2), hypochlorous acid (HOCl) and chlorite has been added, odor, processing unit.
습식반응부는 외부로부터 공급된 액체를 1차 정화처리된 공기에 분사하는 액체 분무노즐을 포함하는, 악취처리장치.The method according to claim 1,
The wet reaction unit includes a liquid spray nozzle that sprays the liquid supplied from the outside into the air that has been subjected to the primary purification treatment.
플라즈마 반응부 전체 및 습식반응부의 일부와 재순환 분무노즐 및 스크린필터의 사이에 설치되어 오염 공기의 흐름을 차단하되, 악취처리장치의 상부면으로부터 하방으로 연장되어 플라즈마 반응부 전체 및 습식반응부의 일부까지 연장되는 중간벽을 더욱 포함하는, 악취처리장치.5. The method according to claim 4,
It is installed between the entire plasma reaction unit and a part of the wet reaction unit and the recirculation spray nozzle and the screen filter to block the flow of polluted air, but extends downward from the upper surface of the odor treatment device to the entire plasma reaction unit and a part of the wet reaction unit The malodor treatment device further comprising an extended intermediate wall.
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GRNT | Written decision to grant |