KR102410625B1 - Harmful Gas Reduction System - Google Patents

Harmful Gas Reduction System Download PDF

Info

Publication number
KR102410625B1
KR102410625B1 KR1020220043702A KR20220043702A KR102410625B1 KR 102410625 B1 KR102410625 B1 KR 102410625B1 KR 1020220043702 A KR1020220043702 A KR 1020220043702A KR 20220043702 A KR20220043702 A KR 20220043702A KR 102410625 B1 KR102410625 B1 KR 102410625B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
gas
plasma
harmful
wet
module
Prior art date
Application number
KR1020220043702A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
이공우
정연두
강복원
조재원
Original Assignee
주식회사 조은환경
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 조은환경 filed Critical 주식회사 조은환경
Priority to KR1020220043702A priority Critical patent/KR102410625B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102410625B1 publication Critical patent/KR102410625B1/en

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/75Multi-step processes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D46/00Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours
    • B01D46/0027Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours with additional separating or treating functions
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D47/00Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent
    • B01D47/02Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent by passing the gas or air or vapour over or through a liquid bath
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D47/00Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent
    • B01D47/06Spray cleaning
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/32Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by electrical effects other than those provided for in group B01D61/00
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/77Liquid phase processes
    • B01D53/78Liquid phase processes with gas-liquid contact
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2257/00Components to be removed
    • B01D2257/10Single element gases other than halogens
    • B01D2257/106Ozone
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2257/00Components to be removed
    • B01D2257/70Organic compounds not provided for in groups B01D2257/00 - B01D2257/602
    • B01D2257/708Volatile organic compounds V.O.C.'s
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2259/00Type of treatment
    • B01D2259/80Employing electric, magnetic, electromagnetic or wave energy, or particle radiation
    • B01D2259/818Employing electrical discharges or the generation of a plasma

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Disinfection, Sterilisation Or Deodorisation Of Air (AREA)

Abstract

본 발명은 악취유발물질과 VOC 등과 같은 유해성분이 포함된 유해가스를 저감하는 시스템에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 유입되는 유해가스를 필터링하는 전처리필터모듈; 필터링된 유해가스를 플라즈마 가스와 혼합하여 악취유발물질 및 유해성분을 저감하는 플라즈마교반모듈; 및 가스와 오존을 저감하는 습식처리모듈;을 포함하며, 유해가스 내의 악취유발물질과 유해성분 및 오존을 저감할 수 있는 유해가스 저감 시스템에 관한 것이다. The present invention relates to a system for reducing harmful gases containing harmful components such as odor-causing substances and VOCs, and more particularly, to a pre-treatment filter module for filtering incoming harmful gases; a plasma stirring module for reducing odor-causing substances and harmful components by mixing the filtered harmful gas with the plasma gas; and a wet treatment module for reducing gas and ozone, and relates to a harmful gas reduction system capable of reducing odor-causing substances, harmful components, and ozone in harmful gases.

Description

유해가스 저감 시스템 {Harmful Gas Reduction System }Harmful Gas Reduction System {Harmful Gas Reduction System }

본 발명은 악취유발물질과 VOC 등과 같은 유해성분이 포함된 유해가스를 저감하는 시스템에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 유입되는 유해가스를 필터링하는 전처리필터모듈; 필터링된 유해가스를 플라즈마 가스와 혼합하여 악취유발물질 및 유해성분을 저감하는 플라즈마교반모듈; 및 가스와 오존을 저감하는 습식처리모듈;을 포함하며, 유해가스 내의 악취유발물질과 유해성분 및 오존을 저감할 수 있는 유해가스 저감 시스템에 관한 것이다. The present invention relates to a system for reducing harmful gases containing harmful components such as odor-causing substances and VOCs, and more particularly, to a pre-treatment filter module for filtering incoming harmful gases; a plasma stirring module for reducing odor-causing substances and harmful components by mixing the filtered harmful gas with the plasma gas; and a wet treatment module for reducing gas and ozone, and relates to a harmful gas reduction system capable of reducing odor-causing substances, harmful components, and ozone in harmful gases.

일반적으로 축산단지, 음식물처리장, 하ㆍ폐수 및 분뇨처리장, 산업단지 등에서 악취 및 유해가스가 발생하며 통상 하수관에서 발생되는 양이 가장 많다. 이러한 악취는 하수관내에 퇴적되는 퇴적물에 의해 더욱 심하게 발산되고, 이는 하수관 주변에 거주하는 거주자들과 그 주변을 통행하는 사람들에게 두통, 구토, 불쾌감을 준다.In general, odors and harmful gases are generated in livestock complexes, food treatment plants, sewage, wastewater and excreta treatment plants, and industrial complexes, and the amount usually generated from sewage pipes is the largest. These odors are more strongly emitted by the sediment deposited in the sewer pipe, which gives headaches, vomiting, and discomfort to the residents living around the sewer pipe and people passing by it.

이러한 악취 및 유해가스를 처리하기 위해서 흡수, 흡착, 연소를 포함한 전통적인 방식으로부터 촉매, 자외선, 오존, 플라즈마를 이용한 산화법, 바이오 필터, 생물학적 처리 등의 미생물을 이용한 방법 등 다양한 기술들이 종래에 사용되어 왔다.In order to treat these odors and harmful gases, various technologies have been used in the past, from traditional methods including absorption, adsorption, and combustion to oxidation methods using catalysts, ultraviolet rays, ozone, plasma, and methods using microorganisms such as biofilters and biological treatment. .

각종 유해가스들 중에서 다습한 고농도 국소배기 유해가스는 바이오필터와 약액세정 등 습식 탈취방식으로 처리하며, 공공처리장의 기계실, 전처리실, 탈수기동 등에서 발생하는 유해가스는 공간 탈취로 대용량 처리에 경제성을 갖고 있는 광촉매 혹은 플라즈마 탈취방식이 주로 사용되고 있다.Among various harmful gases, high-humidity, high-concentration, local exhaust noxious gas is treated with wet deodorization methods such as biofilter and chemical cleaning, and harmful gas generated from the machine room, pre-treatment room, and dehydration operation of public treatment plants is economical in large-capacity treatment by deodorizing space. Photocatalyst or plasma deodorization method is mainly used.

이중, 플라즈마를 활용한 탈취 방식을 살펴보면, 오존(O3) 산화, OH 라디칼(Radical) 산화 혹은 이온클러스터 산화 등을 이용하며, 대기 중의 오염물질 및 악취성분을 분해하는 장치이다. 이 방식은 건식 탈취방식으로 바이오필터와 약액세정에 비해 설비 차압 부하가 낮아 경제성을 갖는 방식으로 대용량 공간탈취에 적합하다.Among them, looking at the deodorization method using plasma, ozone (O3) oxidation, OH radical (Radical) oxidation, or ion cluster oxidation is used, and it is a device that decomposes pollutants and odor components in the air. This method is a dry deodorization method and is suitable for large-capacity space deodorization as it is economical due to a lower differential pressure load compared to biofilters and chemical cleaning.

그러나 대용량 공간탈취를 이용하여 유해가스를 정화하려는 경우에, 플라즈마와 유해가스와의 혼합정도에 따라 그 탈취성능이 결정되지만, 종래의 기술을 살펴보면 플라즈마 가스의 탈취 기능 향상을 위한 추가적인 방안의 검토는 활발하게 이루어지지 않는 실정이다.However, in the case of purifying harmful gas using large-capacity space deodorization, the deodorization performance is determined according to the mixing degree of plasma and harmful gas. It is not actively done.

또한, 플라즈마를 이용한 산화법으로 악취를 저감하는 기술에서, 플라즈마 반응기 후단에서 배출되는 배출가스는 오존과 같은 유해 부산물이 다소 포함하고 있기 때문에 완전히 무해한 가스로 배출되기 어려운 문제점이 있다. In addition, in the technology for reducing odors by the oxidation method using plasma, the exhaust gas discharged from the rear end of the plasma reactor contains some harmful by-products such as ozone, so there is a problem in that it is difficult to be discharged as a completely harmless gas.

오존은 산소원자 3개로 된 특유한 냄새가 있는 미청색의 기체이며, 반감기가 공기 중에는 2~13시간, 수중에서는 15~30분이다. 또한 오존은 산화력이 강하여 음료수를 살균, 소독하거나, 의류 등의 표백 따위에 주로 쓰이게 되며, 특히 용존산소가 풍부하여 각종 세균과 바이러스 등의 살균, 소독효과를 얻을 수 있다. 그러나 그 농도가 0.1ppm을 넘으면 호흡기에 자극을 주고 심하면 기침과 두통, 폐기능 저하현상이 발생하여 질병의 원인이 된다.Ozone is a light blue gas with a characteristic odor made of three oxygen atoms, and has a half-life of 2 to 13 hours in air and 15 to 30 minutes in water. In addition, ozone has a strong oxidizing power, so it is mainly used for sterilizing and disinfecting beverages or for bleaching clothes. However, when the concentration exceeds 0.1ppm, it stimulates the respiratory tract, and in severe cases, cough, headache, and decreased lung function occur, causing disease.

악취 저감를 위한 플라즈마 방식을 활용하는 경우, 처리후 배출되는 가스에 잔여 오존이 남아 사람에게 해를 끼칠 수 있을 뿐 아니라 대기오염을 유발하는 원인이 된다.When the plasma method for odor reduction is used, residual ozone remains in the gas discharged after treatment, which can harm people and cause air pollution.

더불어, 이러한 산업용 유해가스 저감 시스템은 부피가 크고 한번 설치되고 나면 해체가 어렵기 때문에 구성에 변화를 주고자 할 시에는 작업의 난도가 높고 비용이 많이 들게 된다. In addition, since these industrial hazardous gas reduction systems are bulky and difficult to dismantle once installed, the difficulty of operation is high and cost is high when changing the configuration.

따라서 악취를 저감하기 위해 플라즈마 산화방식을 활용한 유해가스 저감 시스템에서. 유해가스와 플라즈마 가스의 혼합 성능을 향상시킴과 동시에 배출 가스내 포함되어 있는 잔여 오존을 저감하여 최종 단계에서 무해한 가스를 배출할 수 있으며, 구성의 일부를 쉽게 변화줄 수 있어 설치와 해체 및 유지보수가 편리한 유해가스 저감 시스템의 개발이 대두된다.Therefore, in a harmful gas reduction system using plasma oxidation to reduce odors. It improves the mixing performance of harmful gas and plasma gas and at the same time reduces residual ozone contained in the exhaust gas, so that harmless gas can be discharged at the final stage. The development of a convenient harmful gas reduction system is on the rise.

KR 10-1993636 (B1) 2019.06.21.KR 10-1993636 (B1) 2019.06.21. KR 10-2269589 (B1) 2021.06.18.KR 10-2269589 (B1) 2021.06.18.

상기 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은 유해가스 내에 포함되어 있는 악취유발물질 및 유해성분을 저감하는 플라즈마교반모듈 및 가스 내에 오존 및 유해성분을 저감하는 습식처리모듈이 모듈화되어 분리구성되므로 어느 하나의 모듈을 쉽게 분리하여 교체할 수 있어 유지보수의 편리성이 뛰어나고 설치장소에 알맞도록 구성에 변화를 줄 수 있는 유해가스 저감 시스템을 제공하는 것이다. An object of the present invention to solve the above problem is that the plasma stirring module for reducing the odor-causing substances and harmful components contained in the harmful gas and the wet treatment module for reducing the ozone and harmful components in the gas are modularized and separated, so any one The purpose of this module is to provide a system for reducing harmful gases that can be easily separated and replaced to provide excellent maintenance convenience and change the configuration to suit the installation site.

본 발명의 다른 목적은 유해가스가 유입되는 교반챔버 내부에서 유해가스가 이동하는 유동라인을 지그재그 형상으로 형성하여 유해가스와 플라즈마 가스의 혼합을 가속화하여 탈취 성능을 강화할 수 있는 유해가스 저감 시스템을 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to provide a system for reducing harmful gases that can enhance deodorization performance by accelerating the mixing of harmful gases and plasma gases by forming a flow line through which harmful gases move in a zigzag shape inside a stirring chamber into which harmful gases are introduced will do

본 발명의 다른 목적은 유동라인을 형성하는 격벽의 끝단을 가스 유동 반대방향을 향하도록 절곡시켜 가스 유동에 저항을 줌으로써 유동의 불규칙성을 유도하여 난류를 발생시켜 유해가스와 플라즈마 가스의 혼합을 가속화하는 유해가스 저감 시스템을 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to bend the end of the partition wall forming the flow line in the opposite direction to the gas flow to resist the gas flow, thereby inducing irregularity in the flow to generate turbulence to accelerate the mixing of harmful gas and plasma gas. To provide a harmful gas reduction system.

본 발명의 다른 목적은 가스의 유동라인이 일직선의 간극구간과 곡률진 코너구간으로 나누어서 형성하며 상기 간극구간을 지나 상기 코너구간을 통과하면서 유동의 불안정을 야기하여 유해가스와 플라즈마 가스의 혼합을 유도하는 유해가스 저감 시스템을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to form a gas flow line by dividing it into a straight gap section and a curved corner section, and cause instability of the flow while passing the gap section and passing through the corner section to induce mixing of harmful gas and plasma gas. To provide a harmful gas reduction system.

본 발명의 다른 목적은 간극구간을 폭이 좁은 제1간극구간과 폭이 넓은 제2간극구간으로 형성하여 가스를 제1간극구간을 빠른속도로 통과하게 하고 제2간극구간을 상대적으로 느린 속도로 통과하게 하여 유속차를 이용하여 플라즈마 가스와 유해가스의 혼합을 촉진할 수 있는 유해가스 저감 시스템을 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to form the gap section into a narrow first gap section and a wide second gap section to allow gas to pass through the first gap section at a high speed and to pass the second gap section at a relatively slow speed. It is to provide a harmful gas reduction system that can promote mixing of plasma gas and harmful gas by using a flow velocity difference.

본 발명의 다른 목적은 가스가 격벽을 관통할 수 있도록 관통홀을 형성하며, 상기 관통홀을 통과한 가스가 유동라인을 따라 격벽을 넘어간 가스와 충돌을 일으키게 하여 그 충격으로 가스의 불안정을 야기하여 유해가스와 플라즈마 가스의 혼합을 촉진시키는 유해가스 저감 시스템을 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to form a through hole so that the gas can pass through the barrier rib, and cause the gas that has passed through the through hole to collide with the gas that has crossed the barrier along the flow line, thereby causing gas instability and harmful An object of the present invention is to provide a system for reducing harmful gases that promotes mixing of gas and plasma gas.

본 발명의 다른 목적은 유해가스가 플라즈마 산화처리를 거친 후 배출되는 가스에 포함되어 있는 오존을 저감할 뿐만 아니라 가스 내의 미처리된 악취유발물질 및 유해성분도 저감할 수 있는 유해가스 저감 시스템을 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to provide a harmful gas reduction system capable of reducing ozone contained in the gas discharged after the harmful gas undergoes plasma oxidation treatment, as well as reducing untreated odor-causing substances and harmful components in the gas. .

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은 악취유발물질과 유해성분이 포함된 유해가스를 저감하는 저감시스템에 있어서, 유해가스를 플라즈마 가스와 혼합하여 가스 내 악취유발물질을 저감하는 플라즈마교반모듈(300); 상기 플라즈마교반모듈(300)로부터 유입되는 가스 내의 유해성분 및 오존이 물이 표면을 따라 하강하는 습벽(420) 사이를 통과하면서 저감되는 습식처리모듈(400);을 포함하며, 상기 플라즈마교반모듈(300)은 유해가스가 유입되는 교반유입구(311) 및 처리된 가스가 배출되는 교반배출구(312)가 형성되며, 중공인 내부에 가스가 이동하는 유동라인(320)이 형성되는 교반챔버(310); 상기 교반챔버(310) 내부의 양측면에서 번갈아가며 돌출되어 상기 유동라인(320)을 지그재그 형상으로 형성하며, 끝단이 가스 유동 반대방향으로 연장된 절곡부(331)가 형성되며, 가스 유동방향과 직각을 이루도록 배치되는 복수개의 격벽(330); 및 가스의 이동경로에서 상기 격벽(330)의 전단에 배치되며, 플라즈마 가스가 유입되는 가스투입구(342)가 형성되고, 중공인 내부에서 플라즈마 가스가 이동하는 가스유로(344)가 형성되며, 내측에 유해가스가 통과하는 통과로(343)가 형성되고, 상기 가스유로(344)에 플라즈마 가스가 분출되는 미세홀(345)이 복수 개로 형성되는 플라즈마분사기(340);를 포함한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a system for reducing harmful gases containing odor-causing substances and harmful components, comprising: a plasma stirring module 300 for reducing odor-causing substances in the gas by mixing harmful gases with plasma gas; and a wet treatment module 400 in which harmful components and ozone in the gas flowing in from the plasma stirring module 300 are reduced while passing between the wet walls 420 where water descends along the surface. 300) is a stirring chamber 310 in which the stirring inlet 311 through which harmful gas is introduced and the stirring outlet 312 through which the treated gas is discharged, the flow line 320 through which the gas moves is formed in the hollow body (310) ; The agitation chamber 310 alternately protrudes from both sides of the inside to form the flow line 320 in a zigzag shape, and a bent portion 331 with an end extending in the opposite direction to the gas flow is formed, and is perpendicular to the gas flow direction. a plurality of partition walls 330 disposed to form a; and a gas inlet 342 through which the plasma gas is introduced is formed at the front end of the barrier rib 330 in the gas movement path, and a gas flow path 344 through which the plasma gas moves inside the hollow is formed. and a plasma injector 340 in which a passage 343 through which a harmful gas passes is formed, and a plurality of fine holes 345 through which a plasma gas is ejected are formed in the gas passage 344 .

또한 본 발명의 상기 유동라인(320)은 이웃하는 상기 격벽(330) 사이를 이동하는 간극구간(321) 및 상기 격벽(330)의 연장된 절곡부(331)와 교반챔버(310) 내벽면 사이인 코너구간(324)을 포함한다.In addition, the flow line 320 of the present invention includes a gap section 321 moving between the adjacent partition walls 330 and between the extended bent portion 331 of the partition wall 330 and the inner wall surface of the stirring chamber 310 . It includes an in-corner section 324 .

또한 본 발명의 상기 간극구간(321)은 이웃하는 상기 격벽(330) 사이의 거리가 인접하여 좁은 폭으로 형성되는 제1간극구간(322) 및 이웃하는 상기 격벽(330) 사이의 거리가 이격되어 상기 제1간극구간(322)보다 더 넓은 폭으로 형성되는 제2간극구간(323)을 포함하며, 상기 제1간극구간(322)을 통과하는 가스는 고압 및 고속으로 이동하며, 상기 제1간극구간(322)을 통과한 가스는 상기 코너구간(324)을 통과하고 상기 제2간극구간(323)으로 진입하면서 저압 및 저속으로 상기 제2간극구간(323)을 통과하며, 가스가 상기 제1간극구간(322)과 제2간극구간(323)을 교차하여 반복적으로 통과하면서 압력의 변화로 유해가스와 플라즈마 가스의 혼합이 가속된다. In addition, in the gap section 321 of the present invention, the distance between the first gap section 322 formed to have a narrow width and the adjacent partition wall 330 are spaced apart from each other so that the distance between the adjacent partition walls 330 is adjacent to each other. and a second gap section 323 formed with a wider width than the first gap section 322, and the gas passing through the first gap section 322 moves at high pressure and high speed, and the first gap The gas passing through the section 322 passes through the corner section 324 and enters the second gap section 323 while passing through the second gap section 323 at a low pressure and low speed, and the gas passes through the first gap section 323. While repeatedly passing through the gap section 322 and the second gap section 323, the mixing of the noxious gas and the plasma gas is accelerated by the change in pressure.

또한 본 발명은 상기 간극구간(321)을 통과하는 가스가 상기 절곡부(331)와 부딪치며 압력이 증가한다. In addition, in the present invention, the gas passing through the gap section 321 collides with the bent portion 331 and the pressure increases.

또한 본 발명의 상기 격벽(330)의 표면에는 가스가 관통하는 관통홀(332)이 형성되며, 상기 관통홀(332)을 통과한 가스는 해당 격벽(330)의 코너구간(324)을 지나 이동하는 가스와 충돌하며 난류가 발생한다.In addition, a through hole 332 through which gas passes is formed on the surface of the partition wall 330 of the present invention, and the gas passing through the through hole 332 moves past the corner section 324 of the corresponding partition wall 330 . It collides with the gas and creates turbulence.

또한 본 발명의 상기 관통홀(332)을 통과하는 가스의 양은 상기 격벽(330)의 코너구간(324)을 통과한 가스의 양보다 적다.In addition, the amount of gas passing through the through hole 332 of the present invention is less than the amount of gas passing through the corner section 324 of the partition wall 330 .

또한 본 발명의 상기 습식처리모듈(400)은 내부가 중공이며, 오존이 포함된 가스가 유입되는 습식처리유입구(411) 및 가스가 배출되는 습식처리배출구(414)가 형성되는 습식처리챔버(410); 상기 습식처리챔버(410)의 하부면에서 상향 이격되어 배치되며, 다수의 하부통공(441)이 형성되는 하판(440); 상기 습식처리챔버(410) 하부면과 상기 하판(440) 사이에 형성되며, 상기 하부통공(441)에서 물이 유입되는 하부수조(450); 상기 하판(440)에서 상향 이격되어 배치되며, 다수의 슬릿(431)이 가스 유동방향으로 형성되는 상판(430); 하단이 상기 하판(440)의 상부에 배치되며, 상기 슬릿(431)을 관통하여 상기 상판(430) 위로 돌출되되 상기 슬릿(431)과 간극이 형성되는 다수의 습벽(420); 및 상기 습식처리챔버(410)의 일측에 구비되며, 상기 하판(440)의 하방에 하부관(462)이 구비되고 상기 상판(430)의 상방에 상부관(461)이 구비되어 상기 하부수조(450)의 물을 상기 상판(430)의 상부로 이송하는 이송펌프(460);를 포함한다.In addition, the wet treatment module 400 of the present invention has a hollow inside, and a wet treatment chamber 410 in which a wet treatment inlet 411 through which ozone-containing gas is introduced and a wet treatment outlet 414 through which gas is discharged are formed. ); a lower plate 440 spaced upward from the lower surface of the wet processing chamber 410 and having a plurality of lower through holes 441 formed therein; a lower water tank 450 formed between the lower surface of the wet treatment chamber 410 and the lower plate 440 and into which water is introduced from the lower through hole 441; an upper plate 430 disposed upwardly from the lower plate 440 and having a plurality of slits 431 formed in a gas flow direction; a plurality of wet walls 420 having a lower end disposed on the lower plate 440, passing through the slit 431 and protruding above the upper plate 430, the slit 431 and the gap are formed; and a lower pipe 462 provided below the lower plate 440 and an upper pipe 461 provided above the upper plate 430, the lower water tank ( It includes;

또한 본 발명의 상기 상판(430)에는 상부통공(432)이 형성되어 상기 상판(430)의 상부의 물이 상기 상부통공(432)을 통하여 하강하면서 가스와 접촉하며, 상기 습식처리유입구(411)에는 외부의 물공급원(481)에서 공급받은 물을 분무하는 분무기(480)가 구비되어 상기 습식처리유입구(411)를 통과하는 가스가 안개와 혼합된다.In addition, an upper through hole 432 is formed in the upper plate 430 of the present invention, so that the water at the upper portion of the upper plate 430 descends through the upper through hole 432 and comes into contact with the gas, and the wet treatment inlet 411 is provided with a sprayer 480 for spraying water supplied from an external water supply source 481, and the gas passing through the wet treatment inlet 411 is mixed with the mist.

또한 본 발명의 송풍유입구(110)를 통해 유해가스를 흡기하여 송풍배출구(120)로 배출하는 송풍기(100); 상기 플라즈마교반모듈(300)의 교반유입구(311)로 유입되는 유해가스를 필터링하는 전처리필터모듈(200); 상기 습식처리모듈(400)에서 배출된 가스 내의 유해물질을 저감시키는 후처리필터모듈(500);을 더 포함한다.In addition, a blower 100 for sucking in harmful gas through the ventilation inlet 110 of the present invention and discharging to the ventilation outlet 120; a pre-treatment filter module 200 for filtering the harmful gas flowing into the stirring inlet 311 of the plasma stirring module 300; It further includes a; post-treatment filter module 500 for reducing harmful substances in the gas discharged from the wet treatment module 400.

본 발명에 따른 유해가스 저감 시스템은 유해가스 내에 포함되어 있는 악취유발물질 및 유해성분을 저감하는 플라즈마교반모듈 및 가스 내에 오존 및 유해성분을 저감하는 습식처리모듈이 모듈화되어 분리구성되므로 어느 하나의 모듈을 쉽게 분리하여 교체할 수 있어 유지보수의 편리성이 뛰어나고 설치장소에 알맞도록 구성에 변화를 줄 수 있는 장점이 있다.In the harmful gas reduction system according to the present invention, the plasma stirring module for reducing odor-causing substances and harmful components contained in the harmful gas and the wet treatment module for reducing ozone and harmful components in the gas are modularized and separated, so any one module It can be easily separated and replaced, so it is easy to maintain and has the advantage of being able to change the configuration to suit the installation location.

또한 본 발명은 유해가스가 유입되는 교반챔버 내부에서 유해가스가 이동하는 유동라인을 지그재그 형상으로 형성하여 유해가스와 플라즈마 가스의 혼합을 가속화하여 탈취 성능을 강화할 수 있는 장점이 있다.In addition, the present invention has an advantage in that the deodorization performance can be strengthened by accelerating the mixing of the harmful gas and the plasma gas by forming a flow line through which the harmful gas moves in a zigzag shape inside the stirring chamber into which the harmful gas is introduced.

또한 본 발명은 유동라인을 형성하는 격벽의 끝단을 가스 유동 반대방향을 향하도록 절곡시켜 가스 유동에 저항을 줌으로써 유동의 불규칙성을 유도하여 난류를 발생시켜 유해가스와 플라즈마 가스의 혼합을 가속화하는 장점이 있다.In addition, the present invention has the advantage of accelerating the mixing of harmful gas and plasma gas by inducing irregularity in the flow by bending the end of the partition wall forming the flow line to face the opposite direction to the gas flow and thereby inducing irregularity in the flow. have.

또한 본 발명은 가스의 유동라인이 일직선의 간극구간과 곡률진 코너구간으로 나누어서 형성하며 상기 간극구간을 지나 상기 코너구간을 통과하면서 유동의 불안정을 야기하여 유해가스와 플라즈마 가스의 혼합을 유도하는 장점이 있다.In addition, the present invention forms a gas flow line by dividing it into a straight gap section and a curved corner section, and while passing through the gap section and passing through the corner section, it causes instability of the flow to induce mixing of harmful gas and plasma gas. have.

또한 본 발명은 간극구간을 폭이 좁은 제1간극구간과 폭이 넓은 제2간극구간으로 형성하여 가스를 제1간극구간을 빠른속도로 통과하게 하고 제2간극구간을 상대적으로 느린 속도로 통과하게 하여 유속차를 이용하여 플라즈마 가스와 유해가스의 혼합을 촉진할 수 있는 장점이 있다.In addition, the present invention forms the gap section into a narrow first gap section and a wide second gap section to allow gas to pass through the first gap section at a high speed and to pass through the second gap section at a relatively slow speed. Therefore, there is an advantage in that the mixing of the plasma gas and the harmful gas can be promoted by using the flow velocity difference.

또한 본 발명은 가스가 격벽을 관통할 수 있도록 관통홀을 형성하며, 상기 관통홀을 통과한 가스가 유동라인을 따라 격벽을 넘어간 가스와 충돌을 일으키게 하여 그 충격으로 가스의 불안정을 야기하여 유해가스와 플라즈마 가스의 혼합을 촉진시키는 장점이 있다.In addition, the present invention forms a through-hole so that the gas can pass through the barrier rib, and causes the gas passing through the through-hole to collide with the gas that has crossed the barrier along the flow line, thereby causing gas instability and harmful gas and There is an advantage of promoting the mixing of the plasma gas.

또한 본 발명은 유해가스가 플라즈마 산화처리를 거친 후 배출되는 가스에 포함되어 있는 오존을 저감할 뿐만 아니라 가스 내의 미처리된 악취유발물질 및 유해성분도 저감할 수 있는 장점이 있다. In addition, the present invention has the advantage of reducing ozone contained in the gas discharged after the harmful gas undergoes plasma oxidation treatment, as well as reducing untreated odor-causing substances and harmful components in the gas.

도 1은 본 발명의 유해가스 저감 시스템의 전체사시도.
도 2는 본 발명의 유해가스 저감 시스템에서 각 모듈의 내부를 도시한 전체사시도.
도 3은 본 발명의 유해가스 저감 시스템에서 플라즈마교반모듈의 내부가 보이도록 도시한 전체사시도.
도 4는 본 발명의 유해가스 저감 시스템에서 플라즈마교반모듈의 종단면도.
도 5는 본 발명의 유해가스 저감 시스템에서 플라즈마분사기를 도시한 사시도.
도 6은 본 발명의 유해가스 저감 시스템에서 습식처리모듈을 도시한 사시도.
도 7은 본 발명의 유해가스 저감 시스템에서 습식처리모듈을 도시한 것으로, (a)는 일실시예의 습벽을 나타낸 사시도, (b)는 다른 실시예의 습벽에 타공홀, 친수성코팅제 및 메디아입자가 구비된 상태의 사시도.
도 8은 본 발명의 유해가스 저감 시스템에서 습식처리모듈을 나타낸 것으로, 나팔관 형태의 습식처리유입구가 형성된 상태에서 하판이 보이도록 횡단면처리한 단면도.
도 9는 본 발명의 유해가스 저감 시스템에서 습식처리모듈을 나타낸 것으로, 물의 흐름을 도시한 상태의 종단면도.
도 10은 본 발명의 유해가스 저감 시스템에서 습식처리모듈을 상판이 도시되도록 횡단면처리한 것으로, (a)는 상판의 일부면적에 밴드형상으로 밀집한 상부통공이 형성된 상태의 횡단면도, (b)는 상판의 전체면적에 상부통공이 형성된 상태의 횡단면도.
1 is an overall perspective view of the harmful gas reduction system of the present invention.
Figure 2 is an overall perspective view showing the inside of each module in the harmful gas reduction system of the present invention.
Figure 3 is an overall perspective view showing the inside of the plasma stirring module in the harmful gas reduction system of the present invention.
Figure 4 is a longitudinal cross-sectional view of the plasma stirring module in the harmful gas reduction system of the present invention.
Figure 5 is a perspective view showing a plasma injector in the harmful gas reduction system of the present invention.
6 is a perspective view showing a wet treatment module in the harmful gas reduction system of the present invention.
7 is a view showing a wet treatment module in the harmful gas reduction system of the present invention, (a) is a perspective view showing a wet wall of one embodiment, (b) is a wet wall of another embodiment, a perforated hole, hydrophilic coating agent and media particles are provided A perspective view of the finished state.
8 is a view showing a wet treatment module in the harmful gas reduction system of the present invention, and is a cross-sectional view of the lower plate in a state in which the wet treatment inlet in the form of a fallopian tube is formed.
9 is a longitudinal cross-sectional view showing the flow of water as showing a wet treatment module in the harmful gas reduction system of the present invention.
10 is a cross-sectional view of the wet treatment module in the harmful gas reduction system of the present invention so that the upper plate is shown. A cross-sectional view of a state in which an upper hole is formed in the entire area of

이하, 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부한 도면을 참조하여 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 설명한다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings so that those of ordinary skill in the art can easily implement them.

도 1 내지 도 10에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 유해가스 저감 시스템은 하수처리장과 같은 악취발생시설에 설치되어 악취유발물질과 유해성분 및 오존을 저감하는 저감시스템으로서, 1 to 10, the harmful gas reduction system according to the present invention is installed in a odor generating facility such as a sewage treatment plant to reduce odor-causing substances, harmful components, and ozone.

유입되는 유해가스를 필터링하는 전처리필터모듈(200);A pre-treatment filter module 200 for filtering the incoming harmful gas;

상기 전처리필터모듈(200)을 통과한 유해가스를 플라즈마 가스와 혼합하여 가스 내 악취유발물질을 저감하는 플라즈마교반모듈(300);a plasma stirring module 300 for reducing odor-causing substances in the gas by mixing the harmful gas passing through the pre-treatment filter module 200 with the plasma gas;

상기 플라즈마교반모듈(300)로부터 유입되는 가스 및 오존을 저감하는 습식처리모듈(400);을 포함한다.and a wet treatment module 400 for reducing the gas and ozone introduced from the plasma stirring module 300 .

본 발명에 따른 유해가스 저감 시스템은 축산단지, 음식물처리장, 하ㆍ폐수 및 분뇨처리장, 산업단지 등의 악취 발생 시설에 설치되며, 이러한 시설에서 발생하는 악취유발물질 및 VOC(Volatile Organic Compound)와 같은 유해성분이 포함된 가스를 처리대상물로 하여 유해가스 내 악취 또는 유해성분의 저감을 목적으로 한다. The harmful gas reduction system according to the present invention is installed in odor generating facilities such as livestock complexes, food treatment plants, sewage/wastewater and excreta treatment plants, and industrial complexes. It aims to reduce odors or harmful components in harmful gases by treating gases containing harmful components.

본 발명에서 처리 대상인 악취유발물질 및 유해성분이 포함된 가스를 '유해가스'로 지칭하며, 유해가스가 프라즈마교반모듈(300) 내부에서 플라즈마 가스와 혼합된 가스를 '가스' 또는 '혼합가스'로 지칭한다. 유해가스는 송풍기(100)를 통하여 전처리필터모듈(200)을 거쳐 플라즈마교반모듈(300)로 유입되며, 플라즈마교반모듈(300) 내에서 플라즈마 가스와 혼합된 가스가 배출된 후 습식처리모듈(400)로 유입된다. In the present invention, the gas containing odor-causing substances and harmful components to be treated is referred to as 'noxious gas', and the gas in which the harmful gas is mixed with the plasma gas in the plasma stirring module 300 is referred to as 'gas' or 'mixed gas'. refers to The harmful gas flows into the plasma stirring module 300 through the pre-treatment filter module 200 through the blower 100, and after the gas mixed with the plasma gas is discharged from the plasma stirring module 300, the wet treatment module 400 ) is introduced into

이러한 목적을 달성하기 위해 플라즈마를 활용하여 악취유발물질 및 유해성분을 분해하는 플라즈마교반모듈(300) 및 상기 플라즈마교반모듈(300)에서 배출된 가스 내에 남아있는 잔여 악취와 유해성분 및 오존을 저감하는 습식처리모듈(400)이 구비된다. In order to achieve this purpose, the plasma stirring module 300 for decomposing odor-causing substances and harmful components by using plasma and the plasma stirring module 300 to reduce residual odors, harmful components and ozone remaining in the gas discharged from the plasma stirring module 300 A wet processing module 400 is provided.

또한, 상기 플라즈마교반모듈(300)의 전단에 구비되는 전처리필터모듈(200) 및 상기 습식처리모듈(400)의 후단에 구비되는 후처리필터모듈(500)에서 프리필터(220), 디미스터(230)(Demister) 및 흡착제를 구비하여 기체 내의 이물질과 유해성분을 필터링한다. In addition, the pre-filter 220, the demister ( 230) (Demister) and an adsorbent to filter foreign substances and harmful components in the gas.

본 발명은 유해가스 저감을 위한 처리과정중 최전단에 위치한 송풍기(100)를 통하여 처리대상의 가스인 유해가스를 전처리필터모듈(200)에 유입시키고, 상기 전처리필터모듈(200)에서 1차 필터링된 유해가스는 상기 송풍기(100)의 지속적인 송풍동작으로 인해 플라즈마교반모듈(300)에 진입한다. In the present invention, harmful gas, which is a gas to be treated, is introduced into the pre-treatment filter module 200 through the blower 100 located at the forefront during the treatment process for reducing harmful gases, and the pre-treatment filter module 200 performs primary filtering The harmful gas enters the plasma stirring module 300 due to the continuous blowing operation of the blower 100 .

상기 플라즈마교반모듈(300)에서는 유해가스와 플라즈마 가스를 혼합하여 혼합가스로 형성하게 되면서, 유해가스 내의 악취유발물질 및 유해성분을 플라즈마의 강력한 산화력으로 저감한다. In the plasma stirring module 300, harmful gas and plasma gas are mixed to form a mixed gas, and odor-causing substances and harmful components in the harmful gas are reduced by the strong oxidizing power of plasma.

상기 플라즈마교반모듈(300)을 통과하면서 유해가스와 플라즈마 가스와의 혼합이 유도되고 유해가스 내의 악취유발 물질 및 유해성분이 저감된 상태로 배출되어 상기 습식처리모듈(400)로 유입되며, 상기 습식처리모듈(400)에서 가스는 물로 씻는 습식으로 가스 내 잔류하는 잔여 오존 및 미처리된 악취유발물질과 유해성분이 저감된다. Mixing of harmful gas and plasma gas is induced while passing through the plasma stirring module 300 , and odor-causing substances and harmful components in the harmful gas are discharged in a reduced state and flowed into the wet treatment module 400 , the wet treatment In the module 400 , the gas is washed with water in a wet manner so that residual ozone and untreated odor-causing substances and harmful components remaining in the gas are reduced.

상기 습식처리모듈(400)에서 배출된 가스는 후처리필터모듈(500)로 유입되어 상기 후처리필터모듈(500)에서 산성, 중성 및 염기성 성분을 흡착하는 흡착제에 2차 필터링되어 외부로 배출된다. The gas discharged from the wet treatment module 400 flows into the post-treatment filter module 500, is filtered secondarily by an adsorbent that adsorbs acidic, neutral and basic components in the post-treatment filter module 500, and is discharged to the outside. .

본 발명은 유해가스를 각각의 모듈에 유입되게 함으로써 각각의 모듈에 해당되는 처리공정을 거치게 하여 유해가스 내의 악취유발물질 및 유해성분을 저감할 수 있다.The present invention can reduce odor-causing substances and harmful components in the harmful gas by allowing the harmful gas to be introduced into each module and then undergo a treatment process corresponding to each module.

더불어, 각각의 처리공정을 담당하는 구성을 모듈화함으로써 각 모듈에 한정되는 유지보수 작업을 원활하게 수행할 수 있을 뿐만 아니라, 본 발명이 설치되는 악취발생시설의 조건과 환경에 따라서 본 발명의 구성을 배치순서 및 조합형태를 다양하게 가변할 수 있다. In addition, by modularizing the configuration responsible for each treatment process, maintenance work limited to each module can be smoothly performed, and the configuration of the present invention can be adjusted according to the conditions and environment of the odor generating facility in which the present invention is installed. The arrangement order and combination form can be varied in various ways.

도 1 내지 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 송풍기(100)는 유해가스의 유동방향을 설정하는 구성으로, 상기 처리공정의 최전단에 배치된다. 1 to 2, the blower 100 according to the present invention is configured to set the flow direction of harmful gas, and is disposed at the forefront of the treatment process.

상기 송풍기(100)는 내부의 팬을 동작하여 대기중의 유해가스를 송풍유입구(110)로 흡입하고, 전처리필터모듈(200)의 필터유입구(210) 쪽으로 향하여 형성되는 송풍배출구(120)를 통해 배출한다. The blower 100 operates an internal fan to suck in harmful gases in the atmosphere through the blower inlet 110, and the blower outlet 120 is formed toward the filter inlet 210 of the pre-treatment filter module 200. Through discharge

상기 송풍기(100)의 송풍배출구(120)에서 배출되는 유해가스는 상기 송풍기(100)의 후단에 배치된 전처리필터모듈(200)로 유입되도록 유동 동력을 제공하며, 전처리필터모듈(200)에서 플라즈마교반모듈(300) 및 습식처리모듈(400)을 거쳐 후처리필터모듈(500)까지 가스의 유동이 이루어질 수 있도록 지속적으로 동작하여 원활한 유동이 이루어질 수 있도록 한다. Noxious gas discharged from the blower outlet 120 of the blower 100 provides flow power to flow into the pretreatment filter module 200 disposed at the rear end of the blower 100, and the plasma in the pretreatment filter module 200 It continuously operates so that the gas can flow through the stirring module 300 and the wet treatment module 400 to the post-treatment filter module 500 so that a smooth flow can be achieved.

도 1 내지 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 송풍기(100)에 의해 유해가스가 유입되는 전처리필터모듈(200)은 유해가스를 1차로 필터링하는 구성으로서, 플라즈마교반모듈(300) 및 습식처리모듈(400)로 유입되기 전에 유해가스를 1차 정제하여 플라즈마교반모듈(300) 및 습식처리모듈(400)의 효율성 및 내구성을 향상시킨다. 1 to 2, the pre-processing filter module 200 into which the harmful gas is introduced by the blower 100 is a configuration for primary filtering of the harmful gas, and the plasma stirring module 300 and the wet processing module The efficiency and durability of the plasma stirring module 300 and the wet treatment module 400 are improved by first refining the harmful gas before flowing into the 400 .

상기 전처리필터모듈(200)은 전단에 필터유입구(210)가 형성되어 상기 송풍기(100)의 송풍배출구(120)에서 배출되는 유해가스를 상기 필터유입구(210)를 통해 내부로 유입한다. 상기 전처리필터모듈(200)의 내부에는 프리필터(220) 및 디미스터(230)의 필터가 배치되나, 본 발명의 일실시예에서 필터의 종류와 기능을 한정하지 않는다. The pretreatment filter module 200 has a filter inlet 210 formed at the front end to introduce harmful gas discharged from the blower outlet 120 of the blower 100 to the inside through the filter inlet 210 . The filters of the pre-filter 220 and the demister 230 are disposed inside the pre-processing filter module 200, but the types and functions of the filters are not limited in one embodiment of the present invention.

필터에 의해 필터링된 유해가스는 필터배출구(240)를 통하여 상기 전처리필터모듈(200)의 외부로 배출되며, 상기 필터배출구(240)는 플라즈마교반모듈(300)과 접해있어 플라즈마교반부의 교반유입구(311)로 유입된다. The harmful gas filtered by the filter is discharged to the outside of the pre-treatment filter module 200 through the filter outlet 240, and the filter outlet 240 is in contact with the plasma stirring module 300, so the stirring inlet of the plasma stirring unit ( 311) is introduced.

상기 전처리필터모듈(200)에는 유해가스 내의 동물의 털, 보푸라기, 머리카락, 큰 먼지와 같은 비교적 입자크기가 큰 이물질을 거르는 프리필터(220)가 배치된다. 상기 프리필터(220)는 유해가스의 정화공정 중 최전단에 배치된다. The pre-filter module 200 is provided with a pre-filter 220 that filters out foreign substances having a relatively large particle size such as animal hair, lint, hair, and large dust in the harmful gas. The pre-filter 220 is disposed at the forefront of the purifying process of harmful gases.

상기 프리필터(220)는 물세척이 가능하고 탈부착이 용이하도록 구비되어, 일정 시간동안 사용하여 필터의 효율이 감소하였을 경우에는 상기 전처리필터모듈(200)에서 분리하고 물세척 후 다시 재장착하여 사용할 수 있다. The pre-filter 220 is washable with water and is provided so that it is easy to attach and detach, and when the efficiency of the filter decreases after using it for a certain period of time, it is separated from the pre-treatment filter module 200, washed with water, and then reinstalled to be used. can

상기 전처리필터 내에서 상기 프리필터(220)의 후단에 배치되는 디미스터(230)는 유해가스 내의 수분을 저감하는 필터로, 상기 플라즈마교반모듈(300)에 유입되기 전에 유해가스 내의 수분을 필터링한다. 따라서 유해가스내의 수분 함유량이 감소되어 플라즈마교반모듈(300)에 유입된 유해가스가 플라즈마교반모듈(300) 내에 분사되는 플라즈마 가스와의 혼합이 원활하게 이루어진다. The demister 230 disposed at the rear end of the pre-filter 220 in the pre-treatment filter is a filter for reducing moisture in the harmful gas, and filters moisture in the harmful gas before entering the plasma stirring module 300. . Accordingly, the moisture content in the harmful gas is reduced, so that the harmful gas introduced into the plasma stirring module 300 is smoothly mixed with the plasma gas injected into the plasma stirring module 300 .

상기 전처리필터모듈(200)의 필터배출구(240)를 통해 배출된 유해가스는 도 1 내지 도 5에 도시한 플라즈마교반모듈(300)로 유입되어, 유해가스 내 존재하는 악취유발물질 및 유해성분을 저감한다. The harmful gas discharged through the filter outlet 240 of the pre-treatment filter module 200 flows into the plasma stirring module 300 shown in FIGS. reduce

상기 플라즈마교반모듈(300)에서 존재하는 기체 중, 처리대상이 되는 가스를 유해가스로, 탈취시키는 가스를 플라즈마 가스로, 유해가스와 플라즈마 가스가 혼합된 상태의 기체를 혼합가스 또는 가스로 지칭한다. Among the gases present in the plasma stirring module 300, a gas to be treated is referred to as a harmful gas, a deodorizing gas is referred to as a plasma gas, and a gas in a state in which the harmful gas and plasma gas are mixed is referred to as a mixed gas or gas. .

상기 플라즈마교반모듈(300)은 The plasma stirring module 300 is

유해가스가 유입되는 교반유입구(311) 및 가스가 배출되는 교반배출구(312)가 형성되며, 중공인 내부에 가스가 이동하는 유동라인(320)이 형성되는 교반챔버(310);A stirring chamber 310 in which a stirring inlet 311 through which harmful gas is introduced and a stirring outlet 312 through which gas is discharged are formed, and a flow line 320 through which gas moves is formed in a hollow interior;

상기 교반챔버(310) 내부의 양측면에서 번갈아가며 돌출되어 상기 유동라인(320)을 지그재그 형상으로 형성하며, 끝단이 가스 유동 반대방향으로 연장된 절곡부(331)가 형성되며, 가스 유동방향과 직각을 이루도록 배치되는 복수개의 격벽(330); 및The agitation chamber 310 alternately protrudes from both sides of the inside to form the flow line 320 in a zigzag shape, and a bent portion 331 with an end extending in the opposite direction to the gas flow is formed, and is perpendicular to the gas flow direction. a plurality of partition walls 330 disposed to form a; and

가스의 이동경로에서 상기 격벽(330)의 전단에 배치되며, 플라즈마 가스가 유입되는 가스투입구(342)가 형성되고, 중공인 내부에서 플라즈마 가스가 이동하는 가스유로(344)가 형성되며, 내측에 유해가스가 통과하는 통과로(343)가 형성되고, 상기 가스유로(344)에 플라즈마 가스가 분출되는 미세홀(345)이 복수 개로 형성되는 플라즈마분사기(340);를 포함한다.It is disposed at the front end of the partition wall 330 in the movement path of the gas, a gas inlet 342 through which plasma gas is introduced is formed, and a gas flow path 344 through which the plasma gas moves is formed in the hollow inside. and a plasma injector 340 in which a passage 343 through which noxious gas passes is formed, and a plurality of fine holes 345 through which plasma gas is ejected are formed in the gas passage 344 .

도 3 내지 도 4에 도시한 상기 플라즈마교반모듈(300)은 일측에 형성된 교반유입구(311)를 통해 유해가스가 교반챔버(310) 내부로 유입되며, 상기 교반챔버(310) 내부에서 유해가스가 플라즈마분사기(340)에서 분출되는 플라즈마 가스와 혼합되고 반응을 일으켜 유해가스 내의 악취유발물질 및 유해성분이 산화 또는 분해되어 악취유발물질과 유해성분이 탈취되어 저감된다. 플라즈마와 반응하여 악취유발물질이 제거된 가스는 교반배출구(312)를 통해 교반챔버(310) 외부로 배출된다. In the plasma stirring module 300 shown in FIGS. 3 to 4 , harmful gas flows into the stirring chamber 310 through the stirring inlet 311 formed on one side, and the harmful gas inside the stirring chamber 310 is The odor-causing substances and harmful components in the harmful gas are oxidized or decomposed by mixing and reacting with the plasma gas ejected from the plasma injector 340 , so that the odor-causing materials and harmful components are deodorized and reduced. The gas from which the odor-causing material is removed by reacting with the plasma is discharged to the outside of the stirring chamber 310 through the stirring outlet 312 .

도 4에 도시한 바와 같이, 상기 교반챔버(310) 내부에는 복수개의 격벽(330)이 지그재그로 배열되어 내부로 유입된 가스가 지그재그로 이동하는 유동라인(320)이 형성된다. 따라서 가스의 유로가 길게 형성되어 체류시간을 늘릴 수 있어 유해가스와 플라즈마 가스가 원활하게 혼합될 수 있다. As shown in FIG. 4 , a plurality of partition walls 330 are arranged in a zigzag inside the stirring chamber 310 to form a flow line 320 in which the gas introduced therein moves in a zigzag manner. Therefore, the gas flow path is formed to be long, so that the residence time can be increased, so that the harmful gas and the plasma gas can be mixed smoothly.

상기 전처리필터모듈(200)을 통과하여 이물질이 제거된 유해가스는 플라즈마분사기(340)를 통과한다. 유해가스는 플라즈마분사기(340)에서 분출되는 플라즈마 가스와 혼합되며, 플라즈마분사기(340)의 후단에 복수 배치되는 격벽(330)을 통과하면서 혼합이 가속되어 악취유발물질 및 유해성분이 저감되어 탈취 완료되고, 정화된 가스는 교반배출구(312)를 통해 외부로 배출된다. The harmful gas from which foreign substances have been removed by passing through the pre-treatment filter module 200 passes through the plasma injector 340 . The harmful gas is mixed with the plasma gas ejected from the plasma injector 340, and while passing through the partition wall 330 disposed at the rear end of the plasma injector 340, the mixing is accelerated, and the odor-causing substances and harmful components are reduced and deodorization is completed. , the purified gas is discharged to the outside through the stirring outlet (312).

상기 교반챔버(310)는 유해가스가 내부로 유입되어, 플라즈마 가스와 혼합이 이루어지는 공간으로, 상기 전처리필터모듈(200)의 필터배출구(240)와 접한 교반유입구(311)에서 유해가스가 유입되고, 플라즈마 가스와 혼합되면서 탈취된 가스는 습식처리모듈(400)의 습식처리유입구(411)와 접한 교반배출구(312)로 배출된다. The agitation chamber 310 is a space where harmful gas flows into and is mixed with plasma gas, and harmful gas is introduced from the stirring inlet 311 in contact with the filter outlet 240 of the pre-treatment filter module 200 and , the deodorized gas while being mixed with the plasma gas is discharged to the agitation outlet 312 in contact with the wet treatment inlet 411 of the wet treatment module 400 .

도 4를 참고하여 상기 교반챔버(310)의 내부에 유동라인(320)이 형성되며, 상기 유동라인(320)이 충분히 길게 형성될 수 있도록 지그재그 형상을 이루고 있다. Referring to FIG. 4 , a flow line 320 is formed inside the stirring chamber 310 and has a zigzag shape so that the flow line 320 can be formed to be sufficiently long.

상기 유동라인(320)을 지그재그 형상으로 형성하기 위한 수단으로, 격벽(330)이 상기 교반챔버(310) 내부에서 복수개로 배치된다. As a means for forming the flow line 320 in a zigzag shape, a plurality of partition walls 330 are disposed inside the stirring chamber 310 .

상기 격벽(330)의 면이 가스의 유동방향에 수직하여 정면으로 가스를 맞이한다. The surface of the partition wall 330 is perpendicular to the flow direction of the gas and faces the gas in the front.

상기 격벽(330)은 복수개로 배치되되, 지그재그 형상의 유동라인(320)을 형성하기 위하여 상기 교반챔버(310) 내부면의 좌측면 및 우측면에서 번갈아가며 내측으로 돌출되게 배치된다. 가스의 유동라인(320)은 상기 격벽(330)을 따라서 지그재그의 궤적을 그리며 이동한다. The partition wall 330 is disposed in plurality, and is disposed to alternately protrude inward from the left side and the right side of the inner surface of the stirring chamber 310 to form a zigzag-shaped flow line 320 . The gas flow line 320 moves along the partition wall 330 in a zigzag trajectory.

상기 격벽(330)이 지그재그 형상으로 배열되므로 가스의 유로는 길게 형성되며, 상기 교반챔버(310) 내부의 체류시간을 늘려 유해가스와 플라즈마 가스의 혼합을 촉진시키게 되어 탈취성능이 향상된다. Since the partition wall 330 is arranged in a zigzag shape, a gas flow path is formed long, and the residence time inside the stirring chamber 310 is increased to promote mixing of harmful gas and plasma gas, thereby improving deodorization performance.

상기 격벽(330)으로 인해 지그재그 형상으로 형성되는 유동라인(320)은 큰 곡률로 인한 급격한 커브와 그 이동방향의 큰 변화를 야기하여 가스유동의 불규칙성을 증가시킬 수 있으며 이로 인해 난류를 발생시킴으로써 유해가스와 플라즈마 가스의 혼합을 가속시킬 수 있다. The flow line 320 formed in a zigzag shape due to the partition wall 330 may cause an abrupt curve due to a large curvature and a large change in its movement direction, thereby increasing the irregularity of the gas flow, thereby generating turbulence, thereby generating harmful gas and plasma gas mixing can be accelerated.

상기 유동라인(320)을 더 상세하게 구분하면, 상기 유동라인(320)은 이웃하는 상기 격벽(330) 사이를 이동하는 간극구간(321) 및 상기 격벽(330)의 연장된 절곡부(331)와 교반챔버(310) 내벽면 사이인 코너구간(324)을 포함한다. If the flow line 320 is divided in more detail, the flow line 320 includes a gap section 321 moving between the adjacent partition walls 330 and an extended bent portion 331 of the partition wall 330 . and a corner section 324 between the inner wall surface of the stirring chamber 310 and the agitation chamber 310 .

상기 간극구간(321)을 통과하는 가스는 일직선의 유동경로로 이동하며, 상기 코너구간(324)을 통과하는 가스는 곡률진 경로를 그리며 이동한다. The gas passing through the gap section 321 moves along a straight flow path, and the gas passing through the corner section 324 moves along a curved path.

따라서 상기 간극구간(321)을 빠져나온 후 상기 코너구간(324)을 통과하면서 경로의 변화로 인해 유동이 꺾이게 되고 유동의 불안정을 야기하여 난류를 발생시킨다. Accordingly, after exiting the gap section 321 and passing through the corner section 324, the flow is bent due to a change in the path, causing instability of the flow, thereby generating turbulence.

난류로 인하여 가스 내의 유해가스와 플라즈마 가스의 혼합을 더욱 촉진시킬 수 있다. Due to the turbulence, it is possible to further promote the mixing of the harmful gas and the plasma gas in the gas.

상기 간극구간(321)은 이웃하는 상기 격벽(330) 사이의 거리가 인접하여 좁은 폭으로 형성되는 제1간극구간(322) 및 이웃하는 상기 격벽(330) 사이의 거리가 이격되어 상기 제1간극구간(322)보다 더 넓은 폭으로 형성되는 제2간극구간(323)으로 이루어진다. The gap section 321 includes a first gap section 322 formed to have a narrow width so that the distance between the adjacent partition walls 330 is adjacent and the distance between the adjacent partition walls 330 is spaced apart from the first gap. The second gap section 323 is formed to have a wider width than the section 322 .

상기 제1간극구간(322)과 제2간극구간(323)은 교차하며 반복적으로 형성된다. 즉, 가스가 상기 제1간극구간(322)을 지나 코너구간(324)을 통과하면 상기 제2간극구간(323)으로 진입하고, 상기 제2간극구간(323)을 지나 코너구간(324)을 통과한 후 제1간극구간(322)으로 진입하는 것이다. The first gap section 322 and the second gap section 323 intersect and are repeatedly formed. That is, when the gas passes through the first gap section 322 and passes through the corner section 324 , it enters the second gap section 323 , passes the second gap section 323 and passes through the corner section 324 . After passing through, the first gap section 322 is entered.

상기 제1간극구간(322)은 제2간극구간(323)에 비해 좁게 형성되어, 상기 제1간극구간(322)을 통과하는 가스는 상기 제2간극구간(323)에 비해 상대적으로 좁은 폭을 이동하면서 고압 및 고속의 상태로 형성된다. The first gap section 322 is formed narrower than the second gap section 323, and the gas passing through the first gap section 322 has a relatively narrow width compared to the second gap section 323. It is formed in a state of high pressure and high speed while moving.

이러한 고압 및 고속의 상태의 가스가 코너구간(324)을 통과하고 제2간극구간(323)으로 진입하면 넓어진 유동폭으로 인해 해소되며, 가스는 저압 및 저속으로 변화한다. When the high-pressure and high-speed gas passes through the corner section 324 and enters the second gap section 323 , it is resolved due to the widened flow width, and the gas changes to low pressure and low speed.

제2간극구간(323)을 통과한 후 상기 코너구간(324)을 지나 재차 제1간극구간(322)으로 진입하면서 다시 고압 및 고속의 상태로 변화한다.After passing through the second gap section 323 , it passes through the corner section 324 and enters the first gap section 322 again, changing to a high-pressure and high-speed state again.

따라서 가스는 제1간극구간(322)과 제2간극구간(323)을 교차하면서 반복적으로 통과하면서 압력 및 속도의 변동성이 상당히 크게 형성되며, 이러한 변동성으로 인해 상기 가스 내의 유해가스와 플라즈마 가스의 혼합이 가속된다. Therefore, as the gas repeatedly passes while crossing the first gap section 322 and the second gap section 323, the pressure and velocity fluctuations are significantly formed. this is accelerated

상기 격벽(330)은 끝단이 구부러진 절곡부(331)가 형성된다. 상기 절곡부(331)는 가스 유동의 반대방향을 향해서 구부러진다. 즉, 가스의 유동방향이 오른쪽을 향한다면 상기 절곡부(331)는 상기 격벽(330)의 끝단에서 왼쪽을 향하여 절곡된다. The partition wall 330 is formed with a bent portion 331 having a bent end. The bent portion 331 is bent toward the opposite direction of the gas flow. That is, if the flow direction of the gas is toward the right, the bent part 331 is bent toward the left at the end of the partition wall 330 .

가스는 유동라인(320)을 따라 이동하면서 상기 격벽(330)을 넘어갈 때에 상기 절곡부(331)에 부딪쳐 저항을 받는다. 상기 절곡부(331)는 가스의 유동을 방해하여 불안정을 야기하며, 난류가 발생되도록 한다. As the gas moves along the flow line 320 and passes over the partition wall 330 , it collides with the bent portion 331 and receives resistance. The bent portion 331 obstructs the flow of gas, causing instability, and causing turbulence.

상기 절곡부(331)에서 발생한 난류는 상기 코너구간(324)의 진입부에서의 가스 유동을 방해하며 불안정성이 심화되고 유해가스와 플라즈마 가스의 혼합을 가속시킨다. The turbulence generated in the bent part 331 obstructs the gas flow at the entry part of the corner section 324 , instability is increased, and the mixture of harmful gas and plasma gas is accelerated.

상기 절곡부(331)는 간극구간(321)의 진출부와 코너구간(324)의 진입부의 경계에서 형성되므로, 가스의 압력이 간극구간(321)의 진출부에서 상승되도록 하고 고압상태로 코너구간(324)을 빠르게 통과할 수 있도록 한다. The bent portion 331 is formed at the boundary between the exit portion of the gap section 321 and the entry portion of the corner section 324 , so that the gas pressure rises at the exit portion of the gap section 321 , and a high-pressure corner section (324) to pass quickly.

상기 격벽(330)의 표면에는 가스가 상기 격벽(330)을 관통하여 지날 수 있도록 관통홀(332)이 형성된다. 상기 관통홀(332)은 상기 격벽(330) 표면의 전체 면적 중 0.1~5% 범위 내에서 형성된다. A through hole 332 is formed in the surface of the partition wall 330 so that gas can pass through the partition wall 330 . The through hole 332 is formed within the range of 0.1 to 5% of the total area of the surface of the partition wall 330 .

유동라인(320)을 따라서 이동하는 가스는 격벽(330)과 부딪치며 경로를 우회하지만, 일부 가스는 관통홀(332)을 통해 상기 격벽(330)을 관통하여 지나간다. The gas moving along the flow line 320 collides with the partition wall 330 and bypasses the path, but some gas passes through the partition wall 330 through the through hole 332 .

상기 관통홀(332)을 통과한 일부 가스는 이미 상기 격벽(330)의 코너구간(324)을 지나 다음 간극구간(321)을 통과하고 있는 가스와 충돌하여 난류를 야기한다. 이러한 난류로 인해 유해가스와 플라즈마 가스의 혼합을 더욱 촉진시킬 수 있다. Some of the gas that has passed through the through hole 332 collides with the gas that has already passed through the corner section 324 of the partition wall 330 and has passed through the next gap section 321 to cause turbulence. Due to this turbulence, the mixing of the harmful gas and the plasma gas can be further promoted.

이때, 상기 관통홀(332)의 크기가 격벽(330)의 면적에 비해 작게 형성되기 때문에 상기 관통홀(332)을 통과하는 가스의 양은 격벽(330)의 코너구간(324)을 통과하는 가스의 양보다 적다. At this time, since the size of the through hole 332 is formed to be smaller than the area of the barrier rib 330 , the amount of gas passing through the through hole 332 is the amount of gas passing through the corner section 324 of the barrier rib 330 . less than the amount

또한, 상기 관통홀(332)을 통과하는 가스의 속도는 격벽(330)의 코너구간(324)을 통과하는 가스의 속도보다 빠르다. In addition, the speed of the gas passing through the through hole 332 is faster than the speed of the gas passing through the corner section 324 of the partition wall 330 .

정리하면, 상기 격벽(330)의 교차배치로 인하여 유동라인(320)이 지그재그로 형성되므로 유로가 길어지고 가스가 교반챔버(310) 내의 체류시간이 증가되어 유해가스와 플라즈마 가스의 혼합작용이 일어날 수 있도록 충분한 시간을 확보할 수 있다. In summary, because the flow line 320 is formed in a zigzag due to the intersecting arrangement of the partition walls 330, the flow path is lengthened and the residence time of the gas in the stirring chamber 310 is increased, so that the mixing action of harmful gas and plasma gas occurs. Make sure you have enough time to do it.

그리고, 상기 유동라인(320)이 간극구간(321)과 코너구간(324)으로 형성되어 유동을 불안정을 야기하며, 간극구간(321)은 폭이 좁은 제1간극구간(322)과 폭이 넓은 제2간극구간(323)이 교차되어 반복적으로 형성되어 압력의 변화로 유해가스와 플라즈마 가스의 혼합을 더욱 촉진할 수 있다.In addition, the flow line 320 is formed of a gap section 321 and a corner section 324 to cause unstable flow, and the gap section 321 has a narrow first gap section 322 and a wide gap section 322 . The second gap section 323 is repeatedly formed to cross each other, so that the mixing of the harmful gas and the plasma gas can be further promoted by a change in pressure.

또한, 상기 격벽(330)의 끝단에 가스 유동의 반대방향으로 돌출된 절곡부(331)를 형성하여, 가스가 유동라인(320)을 따라 진행하면서 상기 절곡부(331)와 충돌되므로 난류가 발생하므로 혼합가스의 형성을 유도할 수 있다. In addition, by forming a bent portion 331 protruding in the opposite direction to the gas flow at the end of the partition wall 330 , the gas collides with the bent portion 331 while proceeding along the flow line 320 , thereby generating turbulence. Therefore, it is possible to induce the formation of a mixed gas.

더불어, 격벽(330)에 관통홀(332)을 전체면적의 0.1~5% 내로 형성하여 일부가스가 상기 관통홀(332)을 통해 격벽(330)을 관통하면서 격벽(330) 후단의 간극구간(321)을 통과하고 있는 가스와 충돌하므로, 난류를 유도하고 혼합을 가속할 수 있다. In addition, a through hole 332 is formed in the partition wall 330 within 0.1 to 5% of the total area so that some gas passes through the partition wall 330 through the through hole 332 in the gap section at the rear end of the partition wall 330 ( 321), which can induce turbulence and accelerate mixing.

도 5에 도시된 바와 같이, 상기 플라즈마교반모듈(300)에서 교반유입구(311)의 후단에 배치되는 플라즈마분사기(340)는 유해가스에 플라즈마 가스를 분사하는 장치이다. 상기 유해가스에 플라즈마 가스를 분사하고 나면 서로 섞인 상태에서 상기 유동라인(320)을 따라 이동하면서 혼합을 유도한다. As shown in FIG. 5 , the plasma injector 340 disposed at the rear end of the stirring inlet 311 in the plasma stirring module 300 is a device for injecting plasma gas into harmful gases. After the plasma gas is injected into the harmful gas, mixing is induced while moving along the flow line 320 in a mixed state.

상기 플라즈마분사기(340)는 플라즈마 가스가 흐르는 가스유로(344)가 구비되며, 상기 가스유로(344)는 내부가 중공인 파이프 형상으로 형성된다. The plasma injector 340 is provided with a gas flow path 344 through which a plasma gas flows, and the gas flow path 344 is formed in a hollow pipe shape.

상기 플라즈마분사기(340)에는 내측에 유해가스가 통과하면서 지나가는 사각형상의 통과로(343)가 형성된다. 상기 통과로(343)는 단일 또는 복수의 사각형상으로 형성될 수 있으며, 본 발명의 일실시예에서는 복수개로 형성된 상태를 도시하였다. A rectangular passage 343 is formed in the plasma injector 340 through which harmful gas passes. The passage 343 may be formed in a single or a plurality of rectangular shapes, and in an embodiment of the present invention, a plurality of passages 343 are shown.

유해가스는 플라즈마분사기(340)의 내측에 형성된 상기 통과로(343) 이외의 영역인 상기 플라즈마분사기(340)의 외측으로도 통과할 수 있다. Noxious gas may also pass through the outside of the plasma injector 340, which is a region other than the passage 343 formed inside the plasma injector 340.

상기 교반챔버(310)의 상부에 플라즈마발생부(341)가 구비되며, 상기 플라즈마발생부(341)에서 플라즈마 가스가 생성된다. A plasma generating unit 341 is provided above the stirring chamber 310 , and plasma gas is generated in the plasma generating unit 341 .

상기 플라즈마분사기(340)의 일측에는 상기 플라즈마발생부(341)에서 생성된 플라즈마 가스가 플라즈마분사기(340)로 공급되는 가스투입구(342)가 형성된다. 상기 가스투입구(342)를 통해 유입된 플라즈마 가스는 가스유로(344)를 따라 흐른다. A gas inlet 342 through which the plasma gas generated by the plasma generating unit 341 is supplied to the plasma injector 340 is formed at one side of the plasma injector 340 . The plasma gas introduced through the gas inlet 342 flows along the gas flow path 344 .

상기 가스유로(344) 내부를 흐르는 플라즈마 가스는 미세홀(345)을 통해 외부로 분출된다. 상기 미세홀(345)은 가스유로(344) 표면을 따라 복수로 형성된다. 플라즈마 가스가 플라즈마분사기(340)의 상하에서 내측방향으로 분출될 수 있는 면에는 미세홀(345)이 형성되지 않는다. 즉, 플라즈마 가스는 상하 수직방향으로 분출되지 않고 좌우 수평방향으로 분출된다. 미세홀(345)을 통해 플라즈마 가스가 분출되는 방향은 유해가스의 유동방향과 수직을 이룬다. The plasma gas flowing in the gas flow path 344 is ejected to the outside through the micro-holes 345 . The micro-holes 345 are formed in plurality along the surface of the gas flow path 344 . The micro-holes 345 are not formed on the surface on which the plasma gas can be ejected from the top and bottom of the plasma injector 340 in the inward direction. That is, the plasma gas is not ejected in the vertical direction, but is ejected in the left and right horizontal directions. The direction in which the plasma gas is ejected through the fine hole 345 is perpendicular to the flow direction of the harmful gas.

상기 플라즈마교반모듈(300) 내부에서 유해가스와 플라즈마 가스의 유동에 대해 설명한다. The flow of harmful gas and plasma gas inside the plasma stirring module 300 will be described.

정화대상의 가스인 유해가스는 전처리필터모듈(200)의 필터배출구(240)에서 배출되어 교반유입구(311)를 통해 교반챔버(310) 내부로 유입된다. Noxious gas, which is a gas to be purified, is discharged from the filter outlet 240 of the pre-treatment filter module 200 and introduced into the stirring chamber 310 through the stirring inlet 311 .

상기 교반유입구(311)를 통과한 유해가스는 플라즈마분사기(340)를 지나게 되는데, 통과로(343) 및 플라즈마분사기(340) 테두리의 외측으로 통과하면서 미세홀(345)에서 분출되는 플라즈마 가스와 섞이게 된다. The noxious gas passing through the stirring inlet 311 passes through the plasma injector 340, passing through the passage 343 and the plasma injector 340 to the outside of the rim to be mixed with the plasma gas ejected from the microholes 345. do.

상기 유해가스와 플라즈마 가스가 섞인 상태의 혼합가스는 격벽(330)을 통과하면서 혼합이 가속화된다. 유동라인(320)이 격벽(330)에 의해 지그재그로 형성되므로 유로가 길게되어 교반챔버(310) 내부의 체류시간이 길어져 유해가스와 플라즈마 가스가 서로 충분히 혼합될 수 있다. The mixed gas in a state in which the harmful gas and plasma gas are mixed is accelerated while passing through the partition wall 330 . Since the flow line 320 is formed in a zigzag by the partition wall 330 , the flow path is lengthened and the residence time inside the stirring chamber 310 is increased, so that the harmful gas and the plasma gas can be sufficiently mixed with each other.

간극구간(321)과 코너구간(324)을 반복하여 이동하고, 폭이 좁은 제1간극구간(322)과 폭이 넓은 제2간극구간(323)을 교차하여 통과하면서 유동이 더욱 불안정해져 난류가 심화되고 난류로 인하여 혼합가스의 혼합이 더욱 촉진된다. The gap section 321 and the corner section 324 are repeatedly moved, and the flow becomes more unstable and turbulence occurs as it crosses the narrow first gap section 322 and the wide second gap section 323. The mixing of the mixed gas is further promoted due to the deepening and turbulence.

또한 혼합가스가 절곡부(331)에 부딪치며, 또한 일부가스가 관통홀(332)을 통해 빠져나가 격벽(330) 후단의 간극구간(321)을 통과하는 가스와 부딪치므로 유동을 불안정하게 만들고 난류로 인하여 혼합이 가속화된다. Also, the mixed gas collides with the bent portion 331, and some gas escapes through the through hole 332 and collides with the gas passing through the gap section 321 at the rear end of the partition wall 330, making the flow unstable and turbulent This accelerates the mixing.

상기 혼합가스는 격벽(330)의 형상과 구조로 인하여 체류시간이 길게 형성되며 난류 발생을 반복적으로 일으켜 유해가스와 플라즈마 가스가 충분히 혼합될 수 있어, 유해가스 내 악취유발물질이 플라즈마 가스에 의해 산화 및 분해되어 탈취 성능이 더욱 향상된다. The mixed gas has a long residence time due to the shape and structure of the partition wall 330 and repeatedly generates turbulence so that the harmful gas and the plasma gas can be sufficiently mixed, so that the odor-causing substance in the harmful gas is oxidized by the plasma gas and decomposition to further improve deodorization performance.

도 6 내지 도 10에 도시된 바와 같이, 상기 플라즈마교반모듈(300)의 교반배출구(312)에서 배출되는 가스는 습식처리모듈(400)의 습식처리유입구(411)로 유입되어 가스 내 잔류하는 미처리된 악취유발물질 및 유해성분, 잔여 오존을 저감하는 공정과정이 수행된다. 6 to 10, the gas discharged from the stirring outlet 312 of the plasma stirring module 300 flows into the wet treatment inlet 411 of the wet treatment module 400, and the remaining untreated gas in the gas A process to reduce the odor-causing substances, harmful components, and residual ozone is carried out.

상기 습식처리모듈(400)은 플라즈마 산화처리를 거친 가스 내에 포함되어 있는 잔여 오존 및 악취유발물질 및 유해성분을 저감하기 위해 습식으로 씻어내는 모듈로서, The wet treatment module 400 is a module for washing with wet water to reduce residual ozone and odor-causing substances and harmful components contained in the gas that has undergone plasma oxidation treatment,

내부가 중공이며, 오존이 포함된 가스가 유입되는 습식처리유입구(411) 및 가스가 배출되는 습식처리배출구(414)가 형성되는 습식처리챔버(410); a wet treatment chamber 410 having a hollow interior and having a wet treatment inlet 411 through which ozone-containing gas is introduced and a wet treatment outlet 414 through which gas is discharged;

상기 습식처리챔버(410)의 하부면에서 상향 이격되어 배치되며, 다수의 하부통공(441)이 형성되는 하판(440); a lower plate 440 spaced upward from the lower surface of the wet processing chamber 410 and having a plurality of lower through holes 441 formed therein;

상기 습식처리챔버(410) 하부면과 상기 하판(440) 사이에 형성되며, 상기 하부통공(441)에서 물이 유입되는 하부수조(450); a lower water tank 450 formed between the lower surface of the wet treatment chamber 410 and the lower plate 440 and into which water is introduced from the lower through hole 441;

상기 하판(440)에서 상향 이격되어 배치되며, 다수의 슬릿(431)이 가스 유동방향으로 형성되는 상판(430);an upper plate 430 disposed upwardly from the lower plate 440 and having a plurality of slits 431 formed in a gas flow direction;

하단이 상기 하판(440)의 상부에 배치되며, 상기 슬릿(431)을 관통하여 상기 상판(430) 위로 돌출되되 상기 슬릿(431)과 간극이 형성되는 다수의 습벽(420); 및 a plurality of wet walls 420 having a lower end disposed on the lower plate 440, passing through the slit 431 and protruding above the upper plate 430, the slit 431 and the gap are formed; and

상기 습식처리챔버(410)의 일측에 구비되며, 상기 하판(440)의 하방에 하부관(462)이 구비되고 상기 상판(430)의 상방에 상부관(461)이 구비되어 상기 하부수조(450)의 물을 상기 상판(430)의 상부로 이송하는 이송펌프(460);를 포함한다. It is provided on one side of the wet treatment chamber 410 , a lower pipe 462 is provided below the lower plate 440 , and an upper pipe 461 is provided above the upper plate 430 , so that the lower water tank 450 is provided. ) of the transfer pump 460 for transferring the water to the upper portion of the upper plate 430; includes.

본 발명은 수중에서 15분 내지 30분의 반감기를 가지는 오존의 물성을 활용하여 물의 계속적인 순환과정에서 오존의 자연스러운 감소를 이용한다. 플라즈마 산화처리를 거친 후 배출되는 가스 내에는 잔여 오존 및 미처리된 악취유발물질 및 유해성분이 포함되어 있어 이를 처리하기 위해 본 발명의 장치에 유입시킨 후 물에 용해시켜 오존이 자연적으로 감소하도록 유도하고, 악취유발물질은 하부로 가라앉도록 함으로써 최종적으로 무해한 가스가 배출되도록 한다.The present invention utilizes the physical properties of ozone having a half-life of 15 to 30 minutes in water to utilize the natural reduction of ozone in the continuous cycle of water. In the gas discharged after plasma oxidation treatment, residual ozone and untreated odor-causing substances and harmful components are included. By allowing the odor-causing substances to sink to the bottom, harmless gases are finally discharged.

본 발명에서 처리라 함은 가스를 물에 용해시켜 가스 내 포함된 악취유발물질 및 유해성분, 그리고 잔여 오존을 물로 씻어내는 수세과정을 의미한다. 이 과정에서 가스 내의 완전한 탈취와 유해성분의 제거를 의미하는 것은 아니다. In the present invention, treatment refers to a water washing process in which gas is dissolved in water to wash off odor-causing substances and harmful components contained in the gas, and residual ozone with water. This process does not mean complete deodorization and removal of harmful components in the gas.

상기 플라즈마교반모듈(300)의 교반배출구(312)에서 배출된 가스는 습식처리모듈(400)의 습식처리유입구(411)로 유입되어, 습식처리챔버(410) 내에서 물과 접촉하며 용해되고, 가스 내 포함되어 있는 잔여 오존 및 악취유발물질, 유해성분이 물의 흐름을 따라 하부로 가라앉게 되어, 유해물질이 저감된 가스가 습식처리배출구(414)로 배출된다. The gas discharged from the stirring outlet 312 of the plasma stirring module 300 flows into the wet treatment inlet 411 of the wet treatment module 400, and is dissolved in contact with water in the wet treatment chamber 410, Residual ozone, odor-causing substances, and harmful components contained in the gas sink to the bottom along the flow of water, and the gas with reduced harmful substances is discharged to the wet treatment outlet 414 .

도 6 내지 도 10에 도시된 바와 같이, 상기 습식처리모듈(400)에서, 습식처리챔버(410)는 내부가 중공으로 형성되며, 일측에 플라즈마교반모듈(300)을 통과한 가스가 유입되는 습식처리유입구(411)가 형성되고, 습식처리챔버(410) 내에서 처리과정을 거친 가스가 배출되는 습식처리배출구(414)가 형성된다. 6 to 10 , in the wet processing module 400 , the wet processing chamber 410 has a hollow inside, and the gas that has passed through the plasma stirring module 300 flows into one side of the wet processing chamber 410 . A treatment inlet 411 is formed, and a wet treatment outlet 414 through which the gas that has undergone a treatment process is discharged in the wet treatment chamber 410 is formed.

상기 습식처리챔버(410)는 상기 습식처리유입구(411) 및 습식처리배출구(414)를 제외한 부분은 밀폐되어 있어 상기 습식처리챔버(410) 내부로 유입된 가스가 오존 및 악취유발물질, 유해성분이 제거되지 않은 채 대기 중으로 방출되는 것을 막을 수 있다. The wet treatment chamber 410 is sealed except for the wet treatment inlet 411 and the wet treatment outlet 414, so that the gas introduced into the wet treatment chamber 410 contains ozone, odor-causing substances, and harmful components. It can be prevented from being released into the atmosphere without being removed.

도 7를 참고하여 상기 습식처리배출구(414)에는 디미스터(230)(Demister)가 구비된다. 본 발명은 물을 활용하여 수세식으로 가스를 정화하므로, 가스내에 수분 함유량이 높게 형성되나, 상기 습식처리챔버(410) 외부로 배출되기 전에 이러한 수분을 저감시킨 후 외부로 배출하기 위하여 디미스터(230)가 구비된다. 상기 디미스터(230)를 통과한 가스는 수분이 저감되어 외부로 배출된다. Referring to FIG. 7 , a demister 230 is provided at the wet treatment outlet 414 . The present invention utilizes water to purify the gas by flushing, so that the moisture content in the gas is high, but the demister 230 reduces the moisture before it is discharged to the outside of the wet treatment chamber 410 and then discharges it to the outside. ) is provided. The gas that has passed through the demister 230 has reduced moisture and is discharged to the outside.

도 6 내지 도 10에 도시된 바와 같이, 상기 습식처리챔버(410) 내부에는 표면을 따라 물이 흐르는 다수의 습벽(420)이 구비된다. 상기 습벽(420)은 일정 두께를 가진 판 형상으로, 수직으로 세워져 배치되고 상기 습식처리유입구(411)에서 습식처리배출구(414)로 향하는 가스의 유동방향과 직각이 되는 방향으로 배열된다.6 to 10 , a plurality of wet walls 420 through which water flows along the surface are provided inside the wet treatment chamber 410 . The wet wall 420 has a plate shape having a predetermined thickness, is vertically erected, and is arranged in a direction perpendicular to the flow direction of the gas from the wet treatment inlet 411 to the wet treatment outlet 414 .

상기 습벽(420)은 상기 습식처리챔버(410)의 상부에 위치한 물을 그 표면을 따라 하방으로 흐르는 구성으로, 물이 젖어 있는 표면에서 가스와 접촉된다. 가스는 상기 습벽(420)의 표면에 체류하는 물과 접촉되어 물에 용해되고, 가스 내 잔여 오존 및 악취유발물질, 유해성분이 흡수된다. The wet wall 420 flows downward along the surface of the wet wall 420 located above the wet treatment chamber 410, and comes into contact with the gas on the wet surface. The gas comes into contact with water remaining on the surface of the wet wall 420 and is dissolved in the water, and residual ozone, odor-causing substances, and harmful components in the gas are absorbed.

상기 습벽(420)은 이웃하는 습벽(420)과의 간극이 좁도록 배치된다. 상기 습벽(420) 사이의 간극은 상기 습식처리유입구(411)에서 유입된 가스가 지나가는 통로로서, 이 간극을 지나가면서 가스 내 오존 및 미처리된 악취유발물질과 유해성분이 물과 접촉되어 용해되고, 하방으로 흐르는 물을 따라 하부로 이동한다. The wet wall 420 is disposed such that a gap with the adjacent wet wall 420 is narrow. The gap between the wet walls 420 is a passage through which the gas introduced from the wet treatment inlet 411 passes, and as it passes through the gap, ozone in the gas, untreated odor-causing substances, and harmful components come into contact with water and are dissolved, and the bottom moves to the bottom along the flowing water.

도 7(b)에 도시된 바와 같이 상기 습벽(420)의 표면에는 타공홀(421)이 형성될 수 있다. 상기 습벽(420)에 형성되는 타공홀(421)은 물이 상기 습벽(420)의 표면을 타고 흐르면서 상기 습벽(420)을 관통 이동할 수 있도록 하는 구멍이다. As shown in FIG. 7B , a perforated hole 421 may be formed on the surface of the wet wall 420 . The perforated hole 421 formed in the wet wall 420 is a hole through which water flows through the wet wall 420 while flowing along the surface of the wet wall 420 .

물은 상기 습벽(420)의 일측 표면을 따라 하방으로 흐르다가, 상기 타공홀(421)을 만나게 되면 상기 타공홀(421)을 통하여 타측 표면으로 이동하게 된다. 또한 타측 표면에서 물이 흐르다가 다시 또 상기 타공홀(421)을 만나면 일측 표면으로 이동한다.Water flows downward along one surface of the wet wall 420 , and when it meets the perforated hole 421 , it moves to the other surface through the perforated hole 421 . Also, when water flows from the other surface and meets the perforated hole 421 again, it moves to one surface.

따라서 상기 타공홀(421)을 통하여 물은 습벽(420)의 표면 일측과 타측을 반복하여 이동하게 되며, 흐르는 경로가 하방을 향하되 지그재그의 형상을 그리게 된다. 이로 인해 물은 상기 습벽(420)을 타고 흐르는 시간이 연장되어 가스와의 접촉시간을 증가시킬 수 있다. 물의 습벽(420) 표면에서의 체류시간이 길어지므로 많은 양의 물을 소비하지 않고 적은 양의 물로도 가스와의 접촉시간 및 용해효율이 증가된다. 물의 소비량이 감소하므로 경제적인 효과가 있다. Therefore, through the perforated hole 421, water repeatedly moves one side and the other side of the surface of the wet wall 420, and the flow path is directed downward, but draws a zigzag shape. Due to this, the time for the water to flow along the wet wall 420 may be extended, thereby increasing the contact time with the gas. Since the residence time of the water on the wet wall 420 surface is increased, the contact time with the gas and the dissolution efficiency are increased even with a small amount of water without consuming a large amount of water. There is an economic effect because water consumption is reduced.

상기 습벽(420)의 표면에는 친수성코팅제(422)가 분포된다. 상기 친수성코팅제(422)가 분포된 습벽(420)의 표면은 친수성이 강화된다.A hydrophilic coating agent 422 is distributed on the surface of the wet wall 420 . The surface of the wet wall 420 on which the hydrophilic coating agent 422 is distributed has enhanced hydrophilicity.

상기 습벽(420)을 타고 흐르는 물은 상기 친수성코팅제(422)로 인해 하강속도가 늦춰지게 되어, 더욱 긴 시간동안 상기 습벽(420)의 표면에 체류할 수 있다. Water flowing along the wet wall 420 may have a lowering speed due to the hydrophilic coating agent 422 , so that it can stay on the surface of the wet wall 420 for a longer period of time.

또한, 상기 습벽(420)의 표면에는 메디아입자(423) 가루를 부착할 수 있다. 상기 메디아입자(423) 가루는 상기 습벽(420)의 표면에서 일부 영역에 부착되며 전체 면적을 가리지 않는다. 따라서 상기 친수성코팅제(422)가 표면에 드러날 수 있다. In addition, the media particle 423 powder may be attached to the surface of the wet wall 420 . The media particle 423 powder is attached to a partial area on the surface of the wet wall 420 and does not cover the entire area. Accordingly, the hydrophilic coating agent 422 may be exposed on the surface.

상기 메디아입자(423) 가루는 카본, 제올라이트 등의 성분으로 이루어질 수 있으며, 가스 내의 유해성분을 저감할 수 있도록 촉매나 흡착제로서의 기능을 한다. The media particle 423 powder may be made of components such as carbon and zeolite, and functions as a catalyst or adsorbent to reduce harmful components in the gas.

또한, 상기 메디아입자(423)로 인하여 상기 습벽(420)의 표면이 울퉁불퉁한 엠보싱형상으로 형성된다. 이는 상기 메디아입자(423)의 성분으로 인해 유해성분 저감 효과 뿐만 아니라 상기 습벽(420)을 타고 흐르는 물이 엠보싱형상의 표면을 따라 하강하면서 체류시간을 연장할 수 있고, 가스와의 접촉시간을 늘릴 수 있다. In addition, the surface of the wet wall 420 is formed in a rough embossed shape due to the media particles 423 . This can extend the residence time as the water flowing along the wet wall 420 descends along the embossed surface as well as the effect of reducing harmful components due to the components of the media particles 423, and increase the contact time with the gas. can

상기 습벽(420)에 더 구비되는 친수성코팅제(422) 및 메디아입자(423)로 인해 물이 습벽(420)의 체류시간이 길어지므로 가스와의 접촉시간, 용해효율을 증가시킬 수 있다. Due to the hydrophilic coating agent 422 and the media particles 423 further provided on the wet wall 420 , the residence time of water in the wet wall 420 becomes longer, so that the contact time with the gas and the dissolution efficiency can be increased.

도 8에 도시된 바와 같이, 상기 습벽(420)의 하부에는 상기 습벽(420)을 지지하는 하판(440)이 배치된다. 상기 하판(440)은 습식처리챔버(410)의 하부면에서 상향으로 이격되어 위치한다. As shown in FIG. 8 , a lower plate 440 supporting the wet wall 420 is disposed under the wet wall 420 . The lower plate 440 is located upwardly spaced apart from the lower surface of the wet processing chamber 410 .

상기 하판(440)은 다수의 하부통공(441)이 형성된다. 상기 하판(440)은 후술할 하부수조(450)의 경계면을 형성하는 면이다. 물이 습벽(420)을 타고 하방으로 내려오면, 하판(440)에서 상기 하부통공(441)을 통하여 하부수조(450)로 유입된다. The lower plate 440 has a plurality of lower through-holes 441 are formed. The lower plate 440 is a surface forming the interface of the lower water tank 450 to be described later. When the water descends downward on the wet wall 420 , it flows into the lower water tank 450 from the lower plate 440 through the lower through hole 441 .

도 10에 도시된 바와 같이 상기 습식처리챔버(410)의 상부에는 하판(440)에서 상향 이격되어 배치되는 상판(430)이 구비된다. 상기 상판(430)은 상기 습벽(420)이 관통되어 상부로 돌출되는 슬릿(431)이 다수 형성된다. 상기 슬릿(431)의 내면은 습벽(420)과 일정 간극이 형성된다. 상기 슬릿(431) 내면과 습벽(420)의 표면이 이격되어 형성된 간극으로 상기 상판(430)위에 위치한 물이 유입되어 상기 습벽(420) 표면을 따라 하방으로 흐른다. As shown in FIG. 10 , an upper plate 430 disposed upwardly spaced apart from the lower plate 440 is provided on the upper portion of the wet processing chamber 410 . A plurality of slits 431 protruding upward through the wet wall 420 are formed in the upper plate 430 . A predetermined gap is formed on the inner surface of the slit 431 with the wet wall 420 . Water located on the upper plate 430 flows into a gap formed by separating the inner surface of the slit 431 from the surface of the wet wall 420 and flows downward along the surface of the wet wall 420 .

이때, 상기 상판(430)에 형성된 슬릿(431)의 내면과 습벽(420) 표면 사이의 간극은 상판(430) 위의 물이 유입될 수 있도록 충분히 근접해야 하며, 일정 간극 이상으로 형성되면 물이 습벽(420)의 표면과 접촉되지 못하고 표면에서 탈락되어 하방으로 떨어진다. 상기 습벽(420)의 표면과 접촉되지 못한 채 떨어지는 물은 가스와 접촉되는 시간이 상대적으로 짧아 가스가 충분히 용해되지 못하여 접촉효율이 낮아진다. At this time, the gap between the inner surface of the slit 431 formed in the upper plate 430 and the surface of the wet wall 420 should be sufficiently close to allow the water on the upper plate 430 to flow in. It does not come into contact with the surface of the wet wall 420 and is dropped from the surface and falls downward. Water falling without being in contact with the surface of the wet wall 420 is in contact with the gas for a relatively short time, so that the gas is not sufficiently dissolved, thereby reducing the contact efficiency.

따라서 상기 상판(430) 위의 물이 상기 습벽(420)의 표면에 접촉한 상태에서 하방으로 낙하할 수 있도록 슬릿(431)의 내면이 상기 습벽(420)의 표면에 밀접하게 가까운 것이 바람직하다. Therefore, it is preferable that the inner surface of the slit 431 is closely close to the surface of the wet wall 420 so that the water on the upper plate 430 can fall downward while in contact with the surface of the wet wall 420 .

상기 상판(430) 위에서 상기 습벽(420)의 표면과 미접촉된 채 자유낙하하는 물이 발생하지 않고 상기 습벽(420)의 표면과 접촉상태를 유지한 채 따라 흐르게 되면 상기 하판(440)까지 도달하는 시간이 길어져 가스와의 접촉시간을 늘릴 수 있다.Water that freely falls on the upper plate 430 while not in contact with the surface of the wet wall 420 does not occur and flows along it while maintaining contact with the surface of the wet wall 420 to reach the lower plate 440 The longer the time, the longer the contact time with the gas.

물이 가스와의 접촉효율이 증가되어 용해되는 양이 증가하므로 적은 양의 물을 사용하고도 가스 내의 오존 및 악취유발물질과 유해성분을 저감할 수 있으므로 물을 절약할 수 있다. Water can be saved because ozone, odor-causing substances and harmful components in gas can be reduced even with a small amount of water because the amount of water dissolved by increasing contact efficiency with gas is increased.

도 10에 도시된 바와 같이, 상기 상판(430)의 표면에는 미세한 크기의 상부통공(432)이 다수 형성된다. As shown in FIG. 10 , a plurality of fine-sized upper through holes 432 are formed on the surface of the upper plate 430 .

상기 상판(430)위에 머무는 물은 상기 슬릿(431)과 상기 상부통공(432)을 통하여 하강할 수 있게 되는데, 상기 상부통공(432)은 아주 미세한 직경으로 형성되기에 상기 상부통공(432)을 통하여 하강하는 물의 양보다 상기 슬릿(431)을 통해 습벽(420) 표면을 따라 흐르는 물의 양이 더 많다. Water staying on the upper plate 430 can descend through the slit 431 and the upper through-hole 432, and the upper through-hole 432 is formed with a very fine diameter. The amount of water flowing along the wet wall 420 surface through the slit 431 is greater than the amount of water falling through it.

상기 상부통공(432)에서 떨어지는 하강수는 비처럼 내리게 되며, 자유낙하하게 되면서 상기 상판(430)과 하판(440) 사이를 통과하고 있는 가스와 접촉되어 용해시킬 수 있다. The descending water falling from the upper through-hole 432 falls like rain, and as it falls freely, it may come into contact with the gas passing between the upper plate 430 and the lower plate 440 to dissolve it.

따라서 가스 내의 오존과 악취유발물질, 유해성분의 저감효과를 더욱 강화할 수 있다. Therefore, the effect of reducing ozone, odor-causing substances and harmful components in the gas can be further strengthened.

상기 상부통공(432)은 도 10(b)와 같이 상기 상판(430)의 전체면적에 대하여 형성될 수 있으며, 또는 도 10(a)와 같이 일정 면적에서만 형성될 수 있다. The upper through hole 432 may be formed with respect to the entire area of the upper plate 430 as shown in FIG. 10(b), or may be formed only in a predetermined area as shown in FIG.

상기 상부통공(432)이 도 10(a)와 같이 일정 면적에서만 형성되는 경우, 가스의 유동방향과 직각이 되도록 길게 형성될 수 있다. 이 경우에 가스는 습식처리유입구(411)에서 습식처리배출구(414)로 이동하면서 습벽(420) 표면의 물 또는 상부통공(432)을 통한 하강수에 의해 물과의 접촉이 일어나는 효과가 있다. When the upper through-hole 432 is formed only in a predetermined area as shown in FIG. In this case, as the gas moves from the wet treatment inlet 411 to the wet treatment outlet 414 , there is an effect that the gas comes into contact with water by the water on the surface of the wet wall 420 or the water down through the upper through hole 432 .

도 8에 도시된 바와 같이, 상기 습벽(420)의 전단이 상기 습식처리유입구(411)와 이격되어 배치된다. 상기 습식처리유입구(411)와 습벽(420)의 전단이 이격된 공간은 확산부(415)로 형성되며, 상기 습식처리유입구(411)를 통해 습식처리챔버(410) 내부로 유입된 가스는 상기 확산부(415)의 공간에서 전방위로 확산된다. As shown in FIG. 8 , the front end of the wet wall 420 is disposed to be spaced apart from the wet treatment inlet 411 . The space in which the wet processing inlet 411 and the front end of the wet wall 420 are separated is formed as a diffusion part 415, and the gas introduced into the wet processing chamber 410 through the wet processing inlet 411 is It spreads in all directions in the space of the diffusion part 415 .

상기 습식처리유입구(411)는 본 발명의 다른 실시예인 상기 습식처리챔버(410) 내부로 향할수록 점점 단면적이 커지는 나팔관 형상으로 형성될 수 있다. The wet treatment inlet 411 may be formed in the shape of a fallopian tube whose cross-sectional area gradually increases toward the inside of the wet treatment chamber 410 , which is another embodiment of the present invention.

또한, 상기 습식처리유입구(411)에는 분배격벽(412)이 형성되며, 상기 분배격벽(412)에는 다수의 분배공(413)이 형성된다. In addition, a distribution partition wall 412 is formed in the wet treatment inlet 411 , and a plurality of distribution holes 413 are formed in the distribution partition wall 412 .

본 발명에서 가스는 물과의 접촉으로 인한 수세방식으로 오존 및 악취유발물질, 유해성분을 저감하는 것이기에, 가스는 물과 최대한으로 접촉되어야 하고 용해되어야 그 저감효과가 두드러진다. In the present invention, since the gas is to reduce ozone, odor-causing substances, and harmful components by washing with water due to contact with water, the gas must be in contact with water as much as possible and dissolved to have a remarkable reduction effect.

따라서 가스를 밀집시키지 않고 최대한 넓게 퍼지게 하여 상기 습식처리챔버(410) 내에 균일한 밀도를 유지한 상태로 진행시켜야 그 저감효과가 극대화되기에 상기 분배공(413)이 형성되는 분배격벽(412)이 구비된다. Therefore, the distribution partition wall 412 in which the distribution hole 413 is formed is formed in order to maximize the reduction effect only when the gas is spread as wide as possible without concentrating the gas to maintain a uniform density in the wet processing chamber 410. provided

상기 플라즈마교반모듈(300)의 교반배출구(312)로 빠져나온 후 습식처리모듈(400)의 습식처리유입구(411)로 유입되는 가스는 습식처리챔버(410) 내부로 유입되기 전 상기 분배격벽(412)에 의해 충돌된다. 상기 분배격벽(412)과 충돌한 후 흩어진 가스는 상기 분배공(413)을 통해 습식처리챔버(410) 내부로 유입되면서 넓게 퍼질 수 있다. The gas flowing into the wet treatment inlet 411 of the wet treatment module 400 after exiting through the stirring outlet 312 of the plasma stirring module 300 is discharged into the wet treatment chamber 410 before being introduced into the distribution partition wall ( 412) is collided. The gas dispersed after colliding with the distribution partition wall 412 may spread widely while being introduced into the wet processing chamber 410 through the distribution hole 413 .

따라서 상기 습식처리챔버(410) 내의 중앙부에 위치한 상기 습벽(420) 사이의 통로 뿐만 아니라 가장자리에 위치한 습벽(420) 사이의 통로에도 가스가 균일한 밀도로 유입될 수 있어 수세척 효과를 더욱 강화할 수 있다. Therefore, the gas can be introduced at a uniform density not only into the passage between the wet walls 420 located in the central part of the wet treatment chamber 410 but also into the passage between the wet walls 420 located at the edges, the water washing effect can be further strengthened. have.

상기 습식처리유입구(411)를 통해 습식처리챔버(410) 내부로 유입된 가스는 습식처리유입구(411)의 단면적보다 큰 확산부(415)로 진입하면서 전방위로 확산되는데, 상기 확산부(415)는 가스가 다수의 습벽(420) 사이의 통로로 이동할 수 있도록 유도한다. The gas introduced into the wet treatment chamber 410 through the wet treatment inlet 411 diffuses in all directions while entering the diffusion unit 415 having a larger cross-sectional area than the wet treatment inlet 411, the diffusion portion 415 induces gas to move into the passage between the plurality of wet walls 420 .

가스는 확산부(415)에서 압력을 잃으며 유동속도가 느려져 상기 습벽(420) 사이 통로를 지날 시에 더 많은 물과 접촉하여 용해될 수 있으며, 상기 습식처리유입구(411)에서 거리가 먼 습벽(420) 사이의 통로까지 도달하여 통과함으로써 접촉 면적을 증대할 수 있다. The gas loses pressure in the diffusion part 415 and the flow rate is slowed so that it can be dissolved by contact with more water when passing through the passage between the wet walls 420 , and the wet wall farther from the wet treatment inlet 411 . The contact area can be increased by reaching and passing through the passage between the 420 .

도 8에 도시된 바와 같이, 상기 습식처리유입구(411)에는 분무기(480)가 구비되어, 유입되는 가스에 물을 안개처럼 분사한다. 상기 습식처리챔버(410) 내부로 유입되기 전 분무기(480)에서 분사되는 물과 혼합하고 가스 내 유해성분을 저감한다. As shown in FIG. 8 , a sprayer 480 is provided at the wet treatment inlet 411 to spray water into the incoming gas like a mist. It is mixed with water sprayed from the sprayer 480 before being introduced into the wet treatment chamber 410 to reduce harmful components in the gas.

상기 분무기(480)는 외부의 물공급원(481)으로부터 물을 공급받게 되고, 노즐에 의해 가스로 물을 분무할 수 있다. The sprayer 480 may be supplied with water from an external water supply source 481, and may spray water with a gas by a nozzle.

가스는 안개와 혼합된 상태로 상기 습식처리챔버(410)로 유입되고, 습벽(420) 사이를 통과하면서 더욱 원활하게 용해되어 유해성분의 저감 효과가 더욱 향상된다. The gas flows into the wet treatment chamber 410 in a mixed state with the mist, and dissolves more smoothly while passing between the wet walls 420 , so that the effect of reducing harmful components is further improved.

도 9를 참고하여, 상기 상판(430)의 상부에 위치한 물이 상기 습벽(420) 표면을 따라 흘러 하판(440)에 도달하면 상기 하판(440)에 형성된 하부통공(441)을 통해 하부수조(450)로 고이게 된다. Referring to FIG. 9, when the water located on the upper part of the upper plate 430 flows along the surface of the wet wall 420 and reaches the lower plate 440, the lower water tank through the lower hole 441 formed in the lower plate 440 ( 450), and

상기 하부수조(450)는 상기 습식처리챔버(410)의 하부면과 상기 하판(440)이 상호 이격되어 형성되는 구성으로, 상기 습식처리유입구(411)에서 유입된 가스가 습벽(420) 표면의 물과 접촉하여 용해된 후 하판(440)으로 떨어진 물을 일시적으로 저장한다. The lower water tank 450 has a configuration in which the lower surface of the wet treatment chamber 410 and the lower plate 440 are spaced apart from each other, and the gas introduced from the wet treatment inlet 411 is disposed on the surface of the wet wall 420 . After being dissolved in contact with water, the water that has fallen to the lower plate 440 is temporarily stored.

상기 하부수조(450)에 저장된 오존 및 악취유발물질, 유해성분이 포함되어 있는 물을 교환이 필요할 시에 별도의 배관(미도시)을 통해 배출하고, 새로운 물을 공급하여 가스를 정화함으로써 정화효율을 높일 수 있다. When it is necessary to exchange the water containing ozone, odor-causing substances, and harmful components stored in the lower water tank 450, it is discharged through a separate pipe (not shown), and new water is supplied to purify the gas to improve the purification efficiency. can be raised

도 9에 도시된 바와 같이, 상기 하부수조(450)에 저장된 물은 상기 습식처리챔버(410)의 일측에 구비된 이송펌프(460)를 통해 상기 상판(430)의 상부로 퍼올려진다. As shown in FIG. 9 , the water stored in the lower water tank 450 is pumped up to the upper part of the upper plate 430 through a transfer pump 460 provided at one side of the wet treatment chamber 410 .

상기 하부수조(450)는 하부관(462)을 통해 상기 이송펌프(460)와 연통되며, 상기 이송펌프(460)에 의해 상승동력을 받은 물은 상부관(461)을 통하여 상기 상판(430)의 상부로 배출된다. The lower water tank 450 communicates with the transfer pump 460 through a lower pipe 462 , and the water received by the transfer pump 460 raises power through the upper pipe 461 to the upper plate 430 . is discharged to the upper part of

따라서, 상기 이송펌프(460)를 통해 물이 연속적으로 순환됨으로써 물 속에 용해된 오존이 자연적으로 분해될 수 있도록 반감기 이상의 충분한 시간을 거칠 수 있다. 악취유발물질 또한 물의 표면장력으로 붙잡고 있어 외부로 누출되지 않는다. Accordingly, as water is continuously circulated through the transfer pump 460 , it is possible to pass a sufficient time longer than the half-life so that ozone dissolved in water can be naturally decomposed. Odor-causing substances are also held in by the surface tension of water, so they do not leak to the outside.

도 9에 도시된 바와 같이, 상기 습식처리챔버(410)의 일측에는 하강수로(470)가 더 구비된다. 상기 하강수로(470)는 상기 상판(430) 위의 수심을 조절하는 장치로서, 상기 상판(430) 상부의 물이 지나치게 공급되어 넘치는 것을 방지하는 구성이다. As shown in FIG. 9 , a downcomer 470 is further provided at one side of the wet treatment chamber 410 . The downcomer 470 is a device for adjusting the depth of water on the upper plate 430 , and is configured to prevent the upper part of the upper plate 430 from overflowing due to excessive supply of water.

상기 하강수로(470)의 상단은 상기 상판(430)의 상부의 공간과 연통되고, 하단은 하부수조(450)의 공간과 연통된다. The upper end of the downcomer 470 communicates with the space above the upper plate 430 , and the lower end communicates with the space of the lower water tank 450 .

따라서, 상기 상판(430) 상부의 물이 상기 하강수로(470)의 상단보다 더 높게 수심이 형성되는 경우, 상기 하강수로(470)를 따라 흐르면서 하부수조(450)로 유입됨으로써, 상기 상판(430) 상부의 물의 수심이 조절된다.Accordingly, when the water depth of the upper plate 430 is formed higher than the upper end of the downcomer 470 , it flows along the downcomer 470 and flows into the lower water tank 450 , so that the upper plate (430) The water depth of the upper part is adjusted.

상기 습식처리모듈(400)의 물의 흐름 및 가스의 흐름과, 오존 및 악취유발물질, 유해성분의 정화과정을 설명한다. The flow of water and gas of the wet treatment module 400, and the purification process of ozone, odor-causing substances, and harmful components will be described.

상기 플라즈마교반모듈(300)의 교반배출구(312)에서 배출되는 가스는 습식처리모듈(400)의 습식처리유입구(411)로 유입된다. The gas discharged from the stirring outlet 312 of the plasma stirring module 300 flows into the wet treatment inlet 411 of the wet treatment module 400 .

가스는 상기 습식처리유입구(411)에서 분무기(480)에서 분사되는 안개와 혼합된다.The gas is mixed with the mist sprayed from the sprayer 480 at the wet treatment inlet 411 .

또한 가스는 습식처리유입구(411)의 분배격벽(412)과 부딪치며 넓게 흩어지고, 분배공(413)을 통하여 퍼진 상태로 습식처리챔버(410) 내부로 유입되며, 확산부(415)를 통과하면서 습식처리챔버(410)의 가장자리에 있는 습벽(420) 사이의 통로까지 균일한 밀도로 흩어진다. In addition, the gas collides with the distribution partition wall 412 of the wet treatment inlet 411 and spreads widely, flows into the wet treatment chamber 410 in a state of being spread through the distribution hole 413, and passes through the diffusion unit 415. Even the passages between the wet walls 420 at the edges of the wet processing chamber 410 are dispersed at a uniform density.

상기 습식처리챔버(410) 내부로 유입된 가스는 확산부(415)에서 전방위로 확산하여 습벽(420) 사이에 형성된 모든 통로를 지나가면서 습벽(420)의 표면과 접촉한다. The gas introduced into the wet processing chamber 410 diffuses in all directions in the diffusion part 415 , passes through all passages formed between the wet walls 420 , and comes into contact with the surface of the wet walls 420 .

상기 상판(430) 상부의 물은 슬릿(431)을 통해 상기 습벽(420)의 표면을 따라 흐르게 되며, 상기 타공홀(421)을 통해 표면의 일측 타측을 왕래하면서 하강한다. The water on the upper plate 430 flows along the surface of the wet wall 420 through the slit 431 , and descends while going back and forth from one side to the other side of the surface through the perforated hole 421 .

물은 상기 습벽(420)의 친수성코팅제(422)에 의해 친화력이 강하므로, 상기 습벽(420)을 타고 내려오는 하강속도가 더뎌지며, 더 많은 가스와 접촉될 수 있고, 가스는 물에 녹는 용해농도가 높아진다. Since water has a strong affinity due to the hydrophilic coating agent 422 of the wet wall 420, the speed of descending down the wet wall 420 is slowed, and it can come into contact with more gas, and the gas dissolves in water. concentration increases.

가스 내 포함된 잔여 오존과 악취유발물질, 유해성분도 또한 물 속에 녹아 들어가게 되고, 오염물질을 포함한 물은 습벽(420) 표면을 따라 하판(440) 위로 떨어진다. Residual ozone, odor-causing substances, and harmful components contained in the gas are also dissolved in the water, and the water including contaminants falls on the lower plate 440 along the surface of the wet wall 420 .

상기 하판(440)에 형성된 하부통공(441)을 통하여 물은 하부수조(450)로 떨어지고 하부수조(450)에 일시적으로 저장된다. Water falls into the lower water tank 450 through the lower through hole 441 formed in the lower plate 440 and is temporarily stored in the lower water tank 450 .

상기 오존의 반감기를 고려하여 외부로 노출시키지 않고 이송펌프(460)를 통해 상기 습식처리챔버(410) 내부에서 순환시킴으로써 오존을 감소시킨다. Ozone is reduced by circulating in the wet treatment chamber 410 through the transfer pump 460 without exposing it to the outside in consideration of the half-life of ozone.

따라서 습벽(420) 사이를 통과한 가스는 잔여 오존과 악취유발물질, 유해성분이 저감된 상태로 디미스터(230)를 통과하며 수분 함유량이 감소되고 습식처리배출구(414)를 통해 습식처리챔버(410) 외부로 배출된다. Therefore, the gas that has passed between the wet walls 420 passes through the demister 230 in a state in which residual ozone, odor-causing substances, and harmful components are reduced, the moisture content is reduced, and the wet treatment chamber 410 through the wet treatment outlet 414 ) is discharged to the outside.

도 1 내지 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 습식처리모듈(400)에서 배출된 가스는 후처리필터모듈(500)로 유입되어, 최종적으로 외부로 방출되기 전에 필터링된다. 1 to 2 , the gas discharged from the wet treatment module 400 flows into the post-treatment filter module 500 and is finally filtered before being discharged to the outside.

상기 후처리필터모듈(500)에는 기능에 따라 산성/중성/염기성 등 유해성분을 흡착하는 흡착제가 다수 구비되어 있다. 그러나 필터는 필요에 따라 다양하게 차용할 수 있기에 그 종류를 한정하지 않는다. The post-treatment filter module 500 is provided with a plurality of adsorbents for adsorbing harmful components such as acid/neutral/basic according to their function. However, since the filter can be borrowed in various ways according to need, the type is not limited.

본 발명에 따른 유해가스 저감 시스템은 송풍기(100)를 통해 유해가스의 유동이 일방향으로 설정되고, 송풍기(100)에 의해 유해가스는 전처리필터모듈(200), 플라즈마교반모듈(300), 습식처리모듈(400) 및 후처리필터모듈(500)을 차례로 통과한다. In the harmful gas reduction system according to the present invention, the flow of harmful gas is set in one direction through the blower 100, and the harmful gas is pretreated by the blower 100 by the pretreatment filter module 200, the plasma stirring module 300, and the wet treatment It passes through the module 400 and the post-processing filter module 500 in turn.

전처리필터모듈(200)에서 입자크기가 상대적으로 큰 이물질이 제거되고 수분이 제거되며, 플라즈마교반모듈(300)을 통과하면서 유해가스 내의 악취유발물질 및 유해성분이 산화작용으로 저감되며, 습식처리모듈(400)을 통과하면서 가스 내 잔여 오존 및 미처리된 악취유발물질,유해성분이 추가적으로 더 저감되고, 후처리필터모듈(500)에서 재차 필터링된 후 외부로 배출된다. In the pre-treatment filter module 200, foreign substances having a relatively large particle size are removed and moisture is removed, and while passing through the plasma stirring module 300, odor-causing substances and harmful components in the harmful gas are reduced through oxidation, and the wet treatment module ( 400), residual ozone in the gas, untreated odor-causing substances, and harmful components are further reduced, and after being filtered again in the post-treatment filter module 500, it is discharged to the outside.

따라서 본 발명은 각각의 정화공정을 담당하는 구성이 모듈화되어 분리될 수 있으므로 어느 하나의 모듈을 쉽게 분리하여 교체할 수 있어 유지보수의 편리성이 뛰어나며, 악취발생시설의 조건과 환경에 맞추어 각각의 구성에 변화를 가할 수 있어 설치의 편리성이 향상된다.Therefore, in the present invention, since the configuration responsible for each purification process can be modularized and separated, any one module can be easily separated and replaced, which is excellent in maintenance convenience, Convenience of installation is improved as changes can be made to the configuration.


100:송풍기
110:송풍유입구 120:송풍배출구
200:전처리필터모듈
210:필터유입구 220:프리필터
230:디미스터 240:필터배출구
300:플라즈마교반모듈
310:교반챔버 311:교반유입구 312:교반배출구
320:유동라인 321:간극구간 322:제1간극구간 323:제2간극구간
324:코너구간
330:격벽 331:절곡부 332:관통홀
340:플라즈마분사기 341:플라즈마발생부 342:가스투입구
343:통과로 344:가스유로 345:미세홀
400:습식처리모듈
410:습식처리챔버 411:습식처리유입구 412:분배격벽 413:분배공
414:습식처리배출구 415:확산부
420:습벽 421:타공홀 422:친수성코팅제 423:메디아입자
430:상판 431:슬릿 432:상부통공
440:하판 441:하부통공
450:하부수조 460:이송펌프 461:상부관 462:하부관
470:하강수로 480:분무기 481:물공급원
500:후처리필터모듈

100: blower
110: ventilation inlet 120: ventilation outlet
200: pre-processing filter module
210: filter inlet 220: pre-filter
230: demister 240: filter outlet
300: plasma stirring module
310: stirring chamber 311: stirring inlet 312: stirring outlet
320: flow line 321: gap section 322: first gap section 323: second gap section
324: Corner section
330: bulkhead 331: bent part 332: through hole
340: plasma sprayer 341: plasma generator 342: gas inlet
343: Pass road 344: Gas flow path 345: Fine hall
400: wet processing module
410: wet treatment chamber 411: wet treatment inlet 412: distribution bulkhead 413: distribution hole
414: wet treatment outlet 415: diffusion unit
420: wet wall 421: perforated hole 422: hydrophilic coating agent 423: media particles
430: top plate 431: slit 432: upper hole
440: lower plate 441: lower hole
450: lower water tank 460: transfer pump 461: upper pipe 462: lower pipe
470: Downstream 480: Sprayer 481: Water supply source
500: post-processing filter module

Claims (9)

악취유발물질과 유해성분이 포함된 유해가스를 저감하는 저감시스템에 있어서,
유해가스를 플라즈마 가스와 혼합하여 가스 내 악취유발물질을 저감하는 플라즈마교반모듈(300);
상기 플라즈마교반모듈(300)로부터 유입되는 가스 내의 유해성분 및 오존이 물이 표면을 따라 하강하는 습벽(420) 사이를 통과하면서 저감되는 습식처리모듈(400);을 포함하며,

상기 플라즈마교반모듈(300)은
유해가스가 유입되는 교반유입구(311) 및 처리된 가스가 배출되는 교반배출구(312)가 형성되며, 중공인 내부에 가스가 이동하는 유동라인(320)이 형성되는 교반챔버(310);
상기 교반챔버(310) 내부의 양측면에서 번갈아가며 돌출되어 상기 유동라인(320)을 지그재그 형상으로 형성하며, 끝단이 가스 유동 반대방향으로 연장된 절곡부(331)가 형성되며, 가스 유동방향과 직각을 이루도록 배치되는 복수개의 격벽(330); 및
가스의 이동경로에서 상기 격벽(330)의 전단에 배치되며, 플라즈마 가스가 유입되는 가스투입구(342)가 형성되고, 중공인 내부에서 플라즈마 가스가 이동하는 가스유로(344)가 형성되며, 내측에 유해가스가 통과하는 통과로(343)가 형성되고, 상기 가스유로(344)에 플라즈마 가스가 분출되는 미세홀(345)이 복수 개로 형성되는 플라즈마분사기(340);를 포함하는
유해가스 저감 시스템.
In the reduction system for reducing harmful gas containing odor-causing substances and harmful components,
Plasma stirring module 300 for mixing harmful gas with plasma gas to reduce odor-causing substances in the gas;
and a wet treatment module 400 in which harmful components and ozone in the gas flowing in from the plasma stirring module 300 are reduced while passing between the wet walls 420 where water descends along the surface.

The plasma stirring module 300 is
A stirring chamber 310 in which the stirring inlet 311 through which harmful gas is introduced and the stirring outlet 312 through which the treated gas is discharged are formed, and a flow line 320 through which the gas moves is formed in the hollow body 310;
The agitation chamber 310 alternately protrudes from both sides of the inner side to form the flow line 320 in a zigzag shape, and a bent portion 331 with an end extending in the opposite direction to the gas flow is formed, and is perpendicular to the gas flow direction. a plurality of partition walls 330 disposed to form a; and
It is disposed at the front end of the barrier rib 330 in the gas movement path, a gas inlet 342 through which plasma gas is introduced is formed, and a gas flow path 344 through which the plasma gas moves is formed in the hollow inside. A plasma injector 340 in which a passage 343 through which noxious gas passes is formed, and a plurality of fine holes 345 through which plasma gas is ejected are formed in the gas passage 344;
Noxious gas reduction system.
제1항에 있어서,
상기 유동라인(320)은
이웃하는 상기 격벽(330) 사이를 이동하는 간극구간(321) 및 상기 격벽(330)의 연장된 절곡부(331)와 교반챔버(310) 내벽면 사이인 코너구간(324)을 포함하는
유해가스 저감 시스템.
According to claim 1,
The flow line 320 is
A gap section 321 moving between the adjacent partition walls 330 and a corner section 324 between the extended bent portion 331 of the partition wall 330 and the inner wall surface of the stirring chamber 310 are included.
Noxious gas reduction system.
제2항에 있어서,
상기 간극구간(321)은
이웃하는 상기 격벽(330) 사이의 거리가 인접하여 좁은 폭으로 형성되는 제1간극구간(322) 및 이웃하는 상기 격벽(330) 사이의 거리가 이격되어 상기 제1간극구간(322)보다 더 넓은 폭으로 형성되는 제2간극구간(323)을 포함하며,
상기 제1간극구간(322)을 통과하는 가스는 고압 및 고속으로 이동하며,
상기 제1간극구간(322)을 통과한 가스는 상기 코너구간(324)을 통과하고 상기 제2간극구간(323)으로 진입하면서 저압 및 저속으로 상기 제2간극구간(323)을 통과하며,
가스가 상기 제1간극구간(322)과 제2간극구간(323)을 교차하여 반복적으로 통과하면서 압력의 변화로 유해가스와 플라즈마 가스의 혼합이 가속되는
유해가스 저감 시스템.
3. The method of claim 2,
The gap section 321 is
A first gap section 322 formed with a narrow width between adjacent partition walls 330 is adjacent to each other, and a distance between the adjacent partition walls 330 is spaced apart to be wider than the first gap section 322 . It includes a second gap section 323 formed in width,
The gas passing through the first gap section 322 moves at high pressure and high speed,
The gas passing through the first gap section 322 passes through the corner section 324 and passes through the second gap section 323 at low pressure and low speed while entering the second gap section 323,
As the gas crosses the first gap section 322 and the second gap section 323 and passes repeatedly, the mixing of the harmful gas and the plasma gas is accelerated by the change in pressure.
Noxious gas reduction system.
제2항에 있어서,
상기 간극구간(321)을 통과하는 가스가 상기 절곡부(331)와 부딪치며 난류가 형성되는
유해가스 저감 시스템.
3. The method of claim 2,
The gas passing through the gap section 321 collides with the bent portion 331 to form turbulence.
Noxious gas reduction system.
제2항에 있어서,
상기 격벽(330)의 표면에는 가스가 관통하는 관통홀(332)이 형성되며,
상기 관통홀(332)을 통과한 가스는 해당 격벽(330)의 코너구간(324)을 지나 이동하는 가스와 충돌하며 난류가 발생하는
유해가스 저감 시스템.
3. The method of claim 2,
A through hole 332 through which gas passes is formed on the surface of the partition wall 330,
The gas passing through the through hole 332 collides with the gas moving through the corner section 324 of the partition wall 330, and turbulence is generated.
Noxious gas reduction system.
제5항에 있어서,
상기 관통홀(332)을 통과하는 가스의 양은 상기 격벽(330)의 코너구간(324)을 통과한 가스의 양보다 적은
유해가스 저감 시스템.
6. The method of claim 5,
The amount of gas passing through the through hole 332 is less than the amount of gas passing through the corner section 324 of the partition wall 330 .
Noxious gas reduction system.
제1항에 있어서,
상기 습식처리모듈(400)은
내부가 중공이며, 오존이 포함된 가스가 유입되는 습식처리유입구(411) 및 가스가 배출되는 습식처리배출구(414)가 형성되는 습식처리챔버(410);
상기 습식처리챔버(410)의 하부면에서 상향 이격되어 배치되며, 다수의 하부통공(441)이 형성되는 하판(440);
상기 습식처리챔버(410) 하부면과 상기 하판(440) 사이에 형성되며, 상기 하부통공(441)에서 물이 유입되는 하부수조(450);
상기 하판(440)에서 상향 이격되어 배치되며, 다수의 슬릿(431)이 가스 유동방향으로 형성되는 상판(430);
하단이 상기 하판(440)의 상부에 배치되며, 상기 슬릿(431)을 관통하여 상기 상판(430) 위로 돌출되되 상기 슬릿(431)과 간극이 형성되는 다수의 습벽(420); 및
상기 습식처리챔버(410)의 일측에 구비되며, 상기 하판(440)의 하방에 하부관(462)이 구비되고 상기 상판(430)의 상방에 상부관(461)이 구비되어 상기 하부수조(450)의 물을 상기 상판(430)의 상부로 이송하는 이송펌프(460);를 포함하는
유해가스 저감 시스템.
According to claim 1,
The wet processing module 400 is
a wet treatment chamber 410 having a hollow interior and having a wet treatment inlet 411 through which ozone-containing gas is introduced and a wet treatment outlet 414 through which gas is discharged;
a lower plate 440 spaced upward from the lower surface of the wet processing chamber 410 and having a plurality of lower through holes 441 formed therein;
a lower water tank 450 formed between the lower surface of the wet treatment chamber 410 and the lower plate 440 and into which water is introduced from the lower through hole 441;
an upper plate 430 disposed upwardly from the lower plate 440 and having a plurality of slits 431 formed in a gas flow direction;
a plurality of wet walls 420 having a lower end disposed on the lower plate 440 and protruding above the upper plate 430 through the slit 431 and having gaps with the slit 431; and
It is provided on one side of the wet treatment chamber 410 , a lower pipe 462 is provided below the lower plate 440 , and an upper pipe 461 is provided above the upper plate 430 , so that the lower water tank 450 is provided. ) of the transfer pump 460 for transferring the water to the upper part of the upper plate 430; including
Noxious gas reduction system.
제7항에 있어서,
상기 상판(430)에는 상부통공(432)이 형성되어 상기 상판(430)의 상부의 물이 상기 상부통공(432)을 통하여 하강하면서 가스와 접촉하며,
상기 습식처리유입구(411)에는 외부의 물공급원(481)에서 공급받은 물을 분무하는 분무기(480)가 구비되어 상기 습식처리유입구(411)를 통과하는 가스가 안개와 혼합되는
유해가스 저감 시스템.
8. The method of claim 7,
An upper through hole 432 is formed in the upper plate 430 so that the water at the upper portion of the upper plate 430 comes in contact with the gas while descending through the upper through hole 432,
The wet treatment inlet 411 is provided with a sprayer 480 for spraying water supplied from an external water supply source 481, so that the gas passing through the wet treatment inlet 411 is mixed with mist.
Noxious gas reduction system.
제1항에 있어서,
송풍유입구(110)를 통해 유해가스를 흡기하여 송풍배출구(120)로 배출하는 송풍기(100);
상기 플라즈마교반모듈(300)의 교반유입구(311)로 유입되는 유해가스를 필터링하는 전처리필터모듈(200);
상기 습식처리모듈(400)에서 배출된 가스 내의 유해물질을 저감시키는 후처리필터모듈(500);
을 더 포함하는 유해가스 저감 시스템.
According to claim 1,
a blower 100 for sucking in harmful gas through the blower inlet 110 and discharging it to the blower outlet 120 ;
a pre-treatment filter module 200 for filtering the harmful gas flowing into the stirring inlet 311 of the plasma stirring module 300;
a post-treatment filter module 500 for reducing harmful substances in the gas discharged from the wet treatment module 400;
Noxious gas reduction system further comprising a.
KR1020220043702A 2022-04-08 2022-04-08 Harmful Gas Reduction System KR102410625B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020220043702A KR102410625B1 (en) 2022-04-08 2022-04-08 Harmful Gas Reduction System

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020220043702A KR102410625B1 (en) 2022-04-08 2022-04-08 Harmful Gas Reduction System

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR102410625B1 true KR102410625B1 (en) 2022-06-22

Family

ID=82216673

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020220043702A KR102410625B1 (en) 2022-04-08 2022-04-08 Harmful Gas Reduction System

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102410625B1 (en)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101993636B1 (en) 2018-04-30 2019-06-27 이충규 Air cleaning and deodorizing device
KR20200050636A (en) * 2018-11-02 2020-05-12 한국에너지기술연구원 Apparatus on the Toxic Gas Removal by Wetted Wall Column
KR102269589B1 (en) 2021-05-04 2021-06-24 주식회사 조은환경 Wet-type Ozone Remover
KR102283732B1 (en) * 2021-04-02 2021-07-30 배도춘 Plasma generation unit for odor removal, odor removal device including plasma generation module, and odor removal device in poultry farms using the same
KR102284032B1 (en) * 2020-11-30 2021-07-30 탑스이앤씨 주식회사 Odor treatment device

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101993636B1 (en) 2018-04-30 2019-06-27 이충규 Air cleaning and deodorizing device
KR20200050636A (en) * 2018-11-02 2020-05-12 한국에너지기술연구원 Apparatus on the Toxic Gas Removal by Wetted Wall Column
KR102284032B1 (en) * 2020-11-30 2021-07-30 탑스이앤씨 주식회사 Odor treatment device
KR102283732B1 (en) * 2021-04-02 2021-07-30 배도춘 Plasma generation unit for odor removal, odor removal device including plasma generation module, and odor removal device in poultry farms using the same
KR102269589B1 (en) 2021-05-04 2021-06-24 주식회사 조은환경 Wet-type Ozone Remover

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100986245B1 (en) Apparatus and method of high efficiency chemical cleaning-type deodorization using non-motorized mixing feeder
KR101396537B1 (en) Droplet separator system for odor gas removal
KR102191776B1 (en) Wet type air purifying device
KR101401992B1 (en) Scrubber with multi-filtering system
KR101738143B1 (en) Continuous stink gas deodorization device
KR101591849B1 (en) Washer type deodorizing apparatus
KR101997185B1 (en) Liquid Cleaning Deodorant Device Using Catalyst Oxidation Water
KR20180083061A (en) Hybrid two step cleaning apparatus using multistage deodorising filter
CN105833687A (en) Deodorizing device
CN106925054A (en) Gas purge system
KR100604643B1 (en) Complex air purifier
KR102001359B1 (en) Treatment apparatus for offensive gas
CN205965456U (en) Organic waste gas integrated treating equipment
KR102410625B1 (en) Harmful Gas Reduction System
KR101765189B1 (en) Stink gas deodorization device
CN211586026U (en) Waste gas catalytic oxidation purifier
KR102086738B1 (en) apparatus for removing odor using ozone and photocatalyst
KR102530571B1 (en) Swirl Flow Type Deodorizing Device Advanced Oxidation Process
KR102274312B1 (en) Multi-stage continuous processing complex deodorizer
KR101006615B1 (en) Offensive Odor Treatment Apparatus and Scrubber
CN205649672U (en) Integrative vortex sprays deodorization equipment
WO2021218052A1 (en) Mixer and separated air purification device comprising same
CN206715673U (en) Foul gas processing unit
KR102594353B1 (en) Plasma Deodorization
CN108626806B (en) Air purifying device

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant