KR102280064B1 - Laser apparatus for skin treatment which is capable of amplifying laser pulses of various wavelengths - Google Patents
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Abstract
본 발명은 적어도 2가지 이상의 서로 다른 파장을 가지는 다이오드 레이저 펄스를 생성하는 다이오드 레이저 생성부, 서로 다른 복수 개의 증폭매질들을 포함하며, 상기 증폭매질 중에서 상기 다이오드 레이저 생성부로부터 전달되는 상기 다이오드 레이저 펄스의 파장에 대응되는 상기 증폭매질을 선택하여, 상기 다이오드 레이저 펄스를 증폭하는 레이저 증폭부 및 상기 다이오드 레이저 생성부 및 상기 레이저 증폭부를 제어하는 제어부를 포함하고, 상기 레이저 증폭부는, 복수 개의 증폭매질들 중에서 상기 다이오드 레이저로부터 전달되는 상기 레이저 펄스가 증폭될 수 있는 증폭매질이 배치되도록 상기 증폭매질의 위치를 조정할 수 있는, 피부 치료용 레이저 장치를 제공한다.
따라서, 위치 조정이 가능한 복수 개의 증폭매질을 포함함으로써, 다양한 파장의 레이저 펄스를 효율적으로 증폭시킬 수 있다.The present invention includes a diode laser generator for generating diode laser pulses having at least two different wavelengths, and a plurality of different amplification media, of the diode laser pulse transmitted from the diode laser generator among the amplification media. and a laser amplifying unit configured to select the amplification medium corresponding to a wavelength to amplify the diode laser pulse, and a control unit configured to control the diode laser generating unit and the laser amplifying unit, wherein the laser amplifying unit comprises a plurality of amplification media. It provides a laser device for skin treatment that can adjust the position of the amplification medium so that the amplification medium in which the laser pulse transmitted from the diode laser can be amplified is disposed.
Therefore, by including a plurality of amplification media capable of position adjustment, it is possible to efficiently amplify laser pulses of various wavelengths.
Description
본 발명은 피부 치료용 레이저 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 다양한 파장의 레이저 펄스를 증폭할 수 있도록, 위치 조절이 가능한 복수 개의 증폭매질을 포함하는 피부 치료용 레이저 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a laser device for skin treatment, and more particularly, to a laser device for skin treatment including a plurality of amplification media whose positions can be adjusted so as to amplify laser pulses of various wavelengths.
최근 산업 및 연구현장에서 레이저를 이용한 분야에 대한 연구가 활발하게 진행되고 있다. 이러한 레이저는 최근 들어 피부 치료, 분광학, 나노 이미징, 입자가속, 핵융합 등의 연구 분야를 비롯하여, 3D 프린팅, 조면, 통신 공연 등의 생활현장과 용접, 절단, 표면 개질 등의 산업현장에서 활발하게 개발되고 있다.In recent years, research on the field using lasers in industry and research fields has been actively conducted. Recently, such lasers have been actively developed in research fields such as skin treatment, spectroscopy, nano-imaging, particle acceleration, and nuclear fusion, as well as in everyday life such as 3D printing, roughing, and telecommunication performances, and in industrial fields such as welding, cutting, and surface modification. is becoming
이러한 레이저는 사용하는 용도에 따라 레이저의 파장을 달리하는 것이 요구된다. 하지만 증폭매질은 특정한 파장의 레이저 펄스만을 증폭시킬 수 있기 때문에 다양한 파장을 갖는 레이저 펄스를 증폭시키기 위해서는 다수의 증폭매질이 필요하다. 따라서 기존의 레이저 장치는 공급되는 레이저 펄스에 따라 많은 수의 증폭매질을 필요로 하므로 레이저 장치의 부피나 크기가 커지는 문제가 있다.Such a laser is required to vary the wavelength of the laser according to the purpose of use. However, since the amplification medium can amplify only laser pulses of specific wavelengths, a plurality of amplification media are required to amplify laser pulses having various wavelengths. Therefore, since the existing laser device requires a large number of amplification media according to the supplied laser pulse, there is a problem in that the volume or size of the laser device increases.
본 발명은 다양한 파장의 레이저 펄스를 증폭할 수 있도록, 위치 조절이 가능한 복수 개의 증폭매질을 포함하는 피부 치료용 레이저 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a laser device for skin treatment including a plurality of amplification media capable of position control so as to amplify laser pulses of various wavelengths.
본 발명의 일 측면에 따르면, 본 발명은 적어도 2가지 이상의 서로 다른 파장을 가지는 다이오드 레이저 펄스를 생성하는 다이오드 레이저 생성부, 서로 다른 복수 개의 증폭매질들을 포함하며, 상기 증폭매질 중에서 상기 다이오드 레이저 생성부로부터 전달되는 상기 다이오드 레이저 펄스의 파장에 대응되는 상기 증폭매질을 선택하여, 상기 다이오드 레이저 펄스를 증폭하는 레이저 증폭부 및 상기 다이오드 레이저 생성부 및 상기 레이저 증폭부를 제어하는 제어부를 포함하고, 상기 레이저 증폭부는, 복수 개의 증폭매질들 중에서 상기 다이오드 레이저로부터 전달되는 상기 레이저 펄스가 증폭될 수 있는 증폭매질이 배치되도록 상기 증폭매질의 위치를 조정할 수 있는, 피부 치료용 레이저 장치를 제공한다.According to an aspect of the present invention, the present invention includes a diode laser generator generating diode laser pulses having at least two or more different wavelengths, and a plurality of different amplification media, wherein the diode laser generator among the amplification media A laser amplifying unit for amplifying the diode laser pulse by selecting the amplification medium corresponding to the wavelength of the diode laser pulse transmitted from The unit provides a laser device for skin treatment, which can adjust the position of the amplification medium so that an amplification medium capable of amplifying the laser pulse transmitted from the diode laser is disposed among the plurality of amplification mediums.
본 발명에 따른 피부 치료용 레이저 장치는 다음과 같은 효과가 있다.The laser device for skin treatment according to the present invention has the following effects.
첫째, 위치 조정이 가능한 복수 개의 증폭매질을 포함함으로써, 다양한 파장의 레이저 펄스를 효율적으로 증폭시킬 수 있다.First, by including a plurality of amplification media capable of position adjustment, it is possible to efficiently amplify laser pulses of various wavelengths.
둘째, 증폭매질의 위치 조정이 가능하기 때문에 작은 부피에 많은 수의 증폭매질을 포함할 수 있어서 장치의 크기가 작은 장점이 있다.Second, since the position of the amplification medium can be adjusted, a large number of amplification media can be included in a small volume, so the device has an advantage of small size.
셋째, 다양한 파장의 레이저 펄스를 증폭할 수 있기 때문에, 피부 치료 대상자에게 필요한 파장을 가지는 펄스를 출력할 수 있다. 특히 레이저 증폭부의 구조가 매우 단순하여 펄스의 증폭이 용이하다.Third, since it is possible to amplify laser pulses of various wavelengths, it is possible to output a pulse having a wavelength required for a skin treatment target. In particular, since the structure of the laser amplification unit is very simple, it is easy to amplify the pulse.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치의 블록도이다.
도 2는 도 1에 따른 피부 치료용 레이저 장치의 다이오드 레이저 생성부를 구체적으로 나타낸 모식도이다.
도 3은 도 1에 따른 피부 치료용 레이저 장치의 레이저 증폭부를 구체적으로 나타낸 모식도이다.
도 4는 도 1에 따른 피부 치료용 레이저 장치의 제1증폭모듈의 일 실시예이다.
도 5는 도 1에 따른 피부 치료용 레이저 장치의 제1증폭모듈의 다른 실시예이다.
도 6은 도 1에 따른 피부 치료용 레이저 장치의 제1증폭모듈의 또 다른 실시예이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 피부 치료용 레이저 장치의 모식도이다.
도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치의 모식도이다.1 is a block diagram of a laser device for skin treatment according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic diagram specifically showing a diode laser generating unit of the laser device for skin treatment according to FIG. 1 .
FIG. 3 is a schematic diagram specifically showing a laser amplification unit of the laser device for skin treatment according to FIG. 1 .
FIG. 4 is an embodiment of a first amplification module of the laser device for skin treatment according to FIG. 1 .
FIG. 5 is another embodiment of the first amplification module of the laser device for skin treatment according to FIG. 1 .
FIG. 6 is another embodiment of the first amplification module of the laser device for skin treatment according to FIG. 1 .
7 is a schematic diagram of a laser device for skin treatment according to another embodiment of the present invention.
8 is a schematic diagram of a laser device for skin treatment according to another embodiment of the present invention.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail by describing preferred embodiments of the present invention with reference to the accompanying drawings.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치(100)는 다이오드 레이저 생성부(110), 레이저 증폭부(120) 및 제어부(130)를 포함한다. 상기 레이저 생성부(110)는 제1다이오드 레이저(111), 제2다이오드 레이저(112), 제3다이오드 레이저(113) 및 제9미러(114)를 포함한다. 상기 레이저 생성부(110)는 시드 레이저(Seed Laser)를 방출한다. 즉, 상기 레이저 생성부(110)는 상기 레이저 증폭부(120)를 통해서 증폭 되어 출력되는 레이저의 소스가 되는 펄스를 생성하는 광원으로 형성된다. 상기 레이저 생성부(110)의 다이오드 레이저들(111, 112, 113)에서 방출되는 레이저 펄스는 상기 제9미러(114)에 의해 경로가 변경되어 상기 레이저 증폭부(120)로 전달된다.1 to 3 , the
상기 제1다이오드 레이저(111), 제2다이오드 레이저(112) 및 제3다이오드 레이저(113)는 서로 다른 파장의 다이오드 레이저 펄스를 생성한다. 본 실시예에서는 상기 레이저 생성부(110)가 세 개의 개별 다이오드 레이저를 포함하는 것을 예로 들었으나 상기 레이저 생성부(110)가 포함하는 개별 다이오드 레이저의 수는 얼마든지 변경이 가능하다. 상기 제1다이오드 레이저(111), 제2다이오드 레이저(112) 및 제3다이오드 레이저(113) 각각은 On/Off 제어를 통해 레이저 펄스를 생성한다. 물론 상기 레이저 펄스의 생성 방법은 변경이 가능하다.The
상기 제1다이오드 레이저(111), 제2다이오드 레이저(112) 및 제3다이오드 레이저(113)에서 각각 생성되는 레이저 펄스는 동일한 경로를 통해서 상기 레이저 증폭부(120)로 전달된다. 이는 상기 제1다이오드 레이저(111), 제2다이오드 레이저(112) 및 제3다이오드 레이저(113) 각각에서 생성되는 레이저 펄스의 경로를 조절하는 제9미러(114)에 의해서 일어난다. 즉, 상기 제9미러(114)가 상기 제1다이오드 레이저(111), 제2다이오드 레이저(112) 및 제3다이오드 레이저(113)에서 생성되는 레이저 펄스를 상기 레이저 증폭부(120)에 동일한 경로로 전달될 수 있도록 한다. 이 때, 상기 제9미러(114)는 이동이 가능해서 상기 제1다이오드 레이저(111), 제2다이오드 레이저(112) 및 제3다이오드 레이저(113)에서 각각 생성되는 레이저 펄스의 경로를 변화시킬 수 있다. 상기 제9미러(114)는 상기 제9미러(114)에 연결되어 있는 모터(미도시)에 의해서 작동된다. 상기 모터(미도시)는 상기 제어부(130)의 신호에 의해서 상기 제9미러(114)를 작동 시킨다. 본 실시예에서는 상기 제9미러(114)가 하나이고, 이동하면서 상기 제1다이오드 레이저(111), 제2다이오드 레이저(112) 및 제3다이오드 레이저(113)의 경로를 변경시키는 것을 예로 들었으나, 상기 제9미러(114)는 상기 다이오드 레이저들의 수에 맞게 복수 개가 고정되어 설치될 수도 있다. 또한 상기 제1다이오드 레이저(111), 제2다이오드 레이저(112) 및 제3다이오드 레이저(113) 각각에서 생성된 레이저 펄스는 상기 제9미러(114)에 의하지 않고 직접 상기 레이저 생성부(120)로 전달될 수도 있다.The laser pulses respectively generated by the
상기 레이저 증폭부(120)는 제1빔스플리터(123), 제1증폭모듈(121a), 제1미러(122a), 제1웨이브플레이트(124), 제2미러(122b), 제2증폭모듈(121b), 제3미러(122c), 제4미러(122d), 제3증폭모듈(121c), 제5미러(122e), 제6미러(122f), 제4증폭모듈(121d), 제7미러(122g), 제8미러(122h), 제1렌즈(125a), 제2렌즈(125b), 제1펌핑 램프(126a), 제2펌핑 램프(126b) 및 2차 조화파 발생장치(127)를 포함한다. 상기 제1빔스플리터(123)는 P편광은 투과하고 S편광은 반사시킨다. 따라서 상기 레이저 생성부(110)에서 공급 받은 레이저 펄스는 P파 이므로 상기 제1빔스플리터(123)를 그대로 투과한다. 또한 상기 제1빔스플리터(123)는 상기 레이저 생성부(110)에서 공급 받은 레이저 펄스의 진행 방향과 동일축 상에 배치된다. 물론 상기 제1빔스플리터(123)의 배치는 변경될 수 있다. 제1빔스플리터(123)의 다른 역할은 후술한다.The
도 4를 참조하면, 상기 제1증폭모듈(121a)은 베이스부(1211a), 제1증폭매질(1212a) 및 제2증폭매질(1213a)을 포함한다. 상기 제1증폭모듈(121a)은 상기 레이저 생성부(110)로부터 공급되는 레이저 펄스가 단일 또는 복수 회 통과하면서 증폭되도록 하는 역할을 수행한다. 상기 제1펌핑 램프(126a)는 상기 제1증폭모듈(121a) 내의 이온들을 여기시키기 위하여 상기 제1증폭모듈(121a)에 빛을 비춘다. 상기 제1펌핑 램프(126a)는 상기 제1증폭모듈(121a)과 이격되어 배치된다.Referring to FIG. 4 , the
상기 베이스부(1211a)는 원형의 플레이트 구조로 형성된다. 상기 베이스부(1211a) 상에는 상기 제1증폭매질(1212a) 및 상기 제2증폭매질(1213a)이 배치된다. 상기 베이스부(1211a)는 회전이 가능한 구조이다. 상기 베이스부(1211a)의 회전축은 상기 레이저 생성부(110)에서 전달되는 레이저 펄스가 진행하는 방향과 교차하는 방향으로 형성된다. 즉, 상기 레이저 생성부(110)에서 전달되는 레이저 펄스가 수평방향에서 전달되면 상기 베이스부(1211a)의 회전축은 상하방향으로 형성된다. 본 실시예에서는 상기 베이스부(1211a)가 원형의 플레이트 구조인 것을 예로 들었으나, 상기 베이스부(1211a)의 구조는 얼마든지 변경이 가능하다.The
상기 제1증폭매질(1212a) 및 상기 제2증폭매질(1213a)은 상기 베이스부(1211a)의 일면 상에 배치된다. 상기 제1증폭매질(1212a) 및 상기 제2증폭매질(1213a)은 로드(rod) 구조로 형성된다. 상기 제1증폭매질(1212a)은 Nd:YAG로 형성된다. 그리고 상기 제2증폭매질(1213a)은 Alexandrite로 형성된다. 물론 상기 제1증폭매질(1212a)과 상기 제2증폭매질(1213a)의 종류는 얼마든지 변경이 가능하다. 상기 제1증폭매질(1212a)과 상기 제2증폭매질(1213a)은 이격되도록 배치된다.The
본 실시예에서, 상기 제1증폭매질(1212a)과 상기 제2증폭매질(1213a)은 상기 베이스부(1211a)의 중심을 기준으로 대칭 되는 위치에 배치된다. 구체적으로 살펴보면, 상기 제1증폭매질(1212a)이 수평방향의 x축 0°에서 반시계 방향으로 90° 회전한 위치에 배치될 때, 상기 제2증폭매질(1213a)은 상기 x축 0°에서 반시계 방향으로 270° 회전한 위치에 배치된다. 물론 상기 제1증폭매질(1212a)과 상기 제2증폭매질(1213a)의 배치는 얼마든지 변경이 가능하다. 그리고 상기 제1증폭매질(1212a) 및 상기 제2증폭매질(1213a)의 종류 및 형태도 얼마든지 변경이 가능하다. 또한 상기 베이스부(1211a)가 회전축을 중심으로 회전할 때, 상기 제1증폭매질(1212a) 및 상기 제2증폭매질(1213a) 중 어느 하나에는 상기 레이저 생성부(110)에서 전달되는 레이저 펄스가 유입된다.In the present embodiment, the
상기 레이저 생성부(110)에서 전달되는 레이저 펄스가 유입되도록 상기 제1증폭모듈(121a)을 회전시키는 것은 상기 제어부(130)의 신호에 의해서 이루어진다. 상기 제어부(130)는 상기 레이저 생성부(110)에서 전달되는 레이저 펄스의 종류에 따라 상기 제1증폭모듈(121a)을 회전시켜서 상기 제1증폭매질(1212a) 또는 상기 제2증폭매질(1213a)이 상기 레이저 생성부(110)에서 전달되는 레이저 펄스가 진행하는 경로상에 배치되도록 한다. 즉, 상기 제1증폭매질(1212a) 및 상기 제2증폭매질(1213a) 중에서 적어도 하나는 상기 제1빔스플리터(123)와 동일 축 상에 배치된다. 따라서 상기 제1빔스플리터(123)를 투과한 상기 레이저 펄스는 상기 제1증폭매질(1212a) 또는 상기 제2증폭매질(1213a)을 통과하면서 제1증폭 된다.Rotating the
도 5를 참조하면, 도 5는 도 3의 제1증폭모듈(121a)의 다른 실시예를 나타낸다. 이에 따르면, 상기 제1증폭모듈(121a)은 베이스부(1211a'), 제1증폭매질(1212a') 및 제2증폭매질(1213a')을 포함한다. 상기 베이스부(1211a')는 원기둥 형상으로, 상기 원기둥의 상면 및 하면을 관통하는 회전축이 상기 레이저 생성부(110)에서 전달되는 레이저 펄스가 진행하는 방향과 평행하도록 배치되며, 회전이 가능하다. 즉, 상기 베이스부(1211a')의 회전축은 좌우방향으로 배치된다. 상기 베이스부(1211a)의 측면 상에는 상기 제1증폭매질(1212a') 및 상기 제2증폭매질(1213a')이 배치된다. 상기 제1증폭매질(1212a')은 도 4의 제1증폭매질(1212a)와 동일한 소재로 형성되고, 상기 제2증폭매질은(1213a')은 도 4의 제2증폭매질(1213a)과 동일한 소재로 형성된다. 상기 제1증폭매질(1212a')과 상기 제2증폭매질(1213a')은 상기 베이스부(1211a)의 측면 상에 서로 이격되도록 배치된다. 본 실시예에서 상기 제1증폭매질(1212a') 및 상기 제2증폭매질(1213a')은 상기 베이스부(1211a) 측면의 상하에 대칭 되는 위치에 형성되도록 180° 이격되어 배치된다Referring to FIG. 5 , FIG. 5 shows another embodiment of the
(a)는 상기 제1증폭매질(1212a')이 상기 다이오드 레이저 생성부(110)에서 전달되는 레이저 펄스의 진행 경로 상에 배치되어 있는 모습이다. (b)는 (a)의 상태에서 상기 제1증폭모듈(121a)을 상기 베이스부(1211a')의 회전축을 중심으로 180°회전시킨 모습이다. 이 때는 상기 제2증폭매질(1213a')이 상기 다이오드 레이저 생성부(110)에서 전달되는 레이저 펄스의 진행 경로 상에 배치된다. 본 실시예에 따른 제1증폭모듈(121a)은 도 4에 따른 제1증폭모듈(121a)과 비교할 때, 상기 제1증폭매질(1212a')과 상기 제2증폭매질(1213a')을 상기 베이스부(1211a')에 배치할 때 공간적인 간섭이 작아서 다수의 증폭매질을 배치하기 유리한 장점이 있다.(a) is a view in which the
도 6을 참조하면, 도 6은 도 3에 따른 제1증폭모듈(121a)의 또 다른 실시예를 나타낸다. 이에 따르면, 상기 제1증폭모듈(121a)은 베이스부(1211a''), 제1증폭매질(1212a'') 및 제2증폭매질(1213a'')을 포함한다. 상기 베이스부(1211a'')는 승강 및 하강이 가능하다. 상기 베이스부(1211a'')의 승강 및 하강 조절은 상기 제어부(130)에서 수행한다. 상기 베이스부(1211a'')는 내부에 저장 공간이 형성되어 있는 원기둥 형상을 갖는다. 그리고 상기 베이스부(1211a'')는 일측과 상기 일측에 대향하는 타측이 개구되어 있다. 따라서 상기 제1증폭매질(1212a'')은 상기 베이스부(1211a'')의 상부에 배치하고, 상기 제2증폭매질(1213a'')은 상기 베이스부(1211a'') 내부의 저장공간에 배치한다. 그러므로 상기 제2증폭매질(1213a'')은 상기 베이스부(1122a'')의 승강 또는 하강 시에도 상기 베이스부(1213a'')의 하면 외측 또는 상면 내측에 배치될 때보다 안정성을 유지할 수 있다. 그리고 상기 제1증폭매질(1212a'')은 도 4에 따른 제1증폭매질(1212a)과 동일한 소재로 형성되고, 상기 제2증폭매질(1213'')은 도 4에 따른 제2증폭매질(1213a)과 동일한 소재로 형성된다.Referring to FIG. 6 , FIG. 6 shows another embodiment of the
(a)는 상기 제1증폭매질(1212a'')이 상기 다이오드 레이저 생성부(110)에서 전달되는 레이저 펄스의 진행 경로 상에 배치되어 있는 모습이다. (b)는 (a)의 상태에서 상기 베이스부(1211a'')를 상승시킨 모습이다. 이 때는 상기 제2증폭매질(1213a'')이 상기 다이오드 레이저 생성부(110)에서 전달되는 레이저 펄스의 진행 경로 상에 배치된다. 본 실시예에 따른 제1증폭모듈(121a)은 도 4 및 도 5에 따른 제1증폭모듈(121a)과 비교할 때, 상기 베이스부(1211a'')의 회전운동이 아닌 상하방향의 직선운동을 통해 상기 제1증폭매질(1212a'')과 상기 제2증폭매질(1213a'')의 위치를 조정하므로 작동이 단순한 장점이 있다.(a) is a view in which the
상기 제1미러(122a)는 상기 제1빔스플리터(123)와 동일축 상에 배치된다. 또한 상기 제1미러(122a)는 상기 제1증폭매질(1212a) 및 상기 제2증폭매질(1213a) 중에서 하나와 동일 축 상에 배치된다. 따라서 상기 제1증폭매질(1212a) 또는 상기 제2증폭매질(1213a)을 통과하여 제1증폭된 상기 레이저 펄스를 상기 제1증폭모듈(121a) 방향으로 반사하는 전부 반사 거울이다. 상기 제1미러(122a)는 상기 제1증폭매질(1212a) 또는 상기 제2증폭매질(1213a)을 통과하면서 제1증폭된 상기 레이저 펄스를 상기 제1증폭매질(1212a) 또는 상기 제2증폭매질(1213a)에 의해 다시 한번 증폭시키기 위해 되돌려 보내는 역할을 한다. The
이 때 상기 제1증폭모듈(121a)과 상기 제1미러(122a) 사이에는 제1웨이브플레이트(124)가 배치된다. 상기 제1웨이브플레이트(124)는 상기 제1웨이브플레이트(124)를 통과하는 파의 위상을 1/4파장 변경시키는 쿼터 웨이브플레이트(QWP, Quarter-Wave-Plate)로 형성된다. 즉, 상기 제1웨이브플레이트(122c)는 상기 제1증폭매질(1212a) 또는 상기 제2증폭매질(1213a)을 통과하여 상기 제1미러(122a)로 향하는 상기 레이저 펄스의 위상을 1/4파장 변경시키고, 상기 제1미러(122a)에 반사되어 상기 제1증폭모듈(121a)로 되돌아 가는 레이저 펄스의 위상을 다시 1/4파장 변경 시킨다. 따라서 상기 레이저 생성부(110)로부터 공급 받은 P파는 상기 제1웨이브플레이트(124)를 두 번 통과하면서 S파로 변경된다. 이는 상기 제1빔스플리터(123)로 다시 되돌아 갈 때 투과하지 않고 반사되어 상기 레이저 펄스의 진행 경로가 변경되도록 하기 위함이다.At this time, a
상기 제1웨이브플레이트(124)를 두 번 통과한 후 다시 상기 제1증폭모듈(121a)로 되돌아가는 상기 레이저 펄스는 상기 제1증폭매질(1212a) 또는 상기 제2증폭매질(1213a)을 통과하면서 제2증폭 된다. 상기 제2증폭된 레이저 펄스는 상기 제1빔스플리터(123)에서 경로가 조절된다. 즉, 상기 제2증폭된 레이저 펄스는 상기 제1빔스플리터(123)에 반사되어 경로가 90도 변경된다.The laser pulse, which passes through the
상기 제2미러(122b)는 상기 제1빔스플리터(123) 상측에 형성된다. 따라서 상기 제1빔스플리터(123)에 반사된 레이저 펄스는 상기 제2미러(122b)에서 반사된다. 상기 제2미러(122b)는 상기 제1빔스플리터(123)에서 공급 받은 레이저 펄스가 상기 제2증폭모듈(121b) 방향으로 반사되도록 배치된다.The
상기 제2증폭모듈(121b)은 상기 제2미러(122b)에서 반사된 레이저 펄스를 제3증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제2증폭모듈(121b)은 상기 제1증폭모듈(121a)과 이격되어 배치된다. 상기 제2증폭모듈(121b) 내의 이온들은 상기 제1펌핑 램프(126a)에 의해 여기될 수 있다. 본 실시예에서 상기 제2증폭모듈(121b)은 상기 제1증폭모듈(121a)과 유사한 구조로 형성된다. 즉, 상기 제2증폭모듈(121b)은 베이스부(미도시), 제3증폭매질(미도시), 제4증폭매질(미도시)를 포함한다. 상기 제3증폭매질(미도시)은 상기 제1증폭매질(1212a)와 동일한 소재로 형성된다. 상기 제4증폭매질(미도시)은 상기 제2증폭매질(1213a)과 동일한 소재로 형성된다. 하지만 본 발명은 상기 제2증폭모듈(121b)의 소재, 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.The
그리고 상기 제2증폭모듈(121b)은 상기 제1증폭모듈(121a)의 상측에 배치된다. 또한 상기 제2증폭모듈(121b)은 상기 제2미러(122b)와 동일 축 상에 배치된다. 즉, 상기 제2증폭모듈(121b)은 상기 제2미러(122b)의 배치 위치에 따라 상기 제1증폭모듈(121a)의 하측에 배치될 수도 있다.And the
상기 제3미러(122c)는 상기 제2증폭모듈(121b)을 사이에 두고 상기 제2미러(122b)와 대향되도록 배치된다. 그리고 상기 제3미러(122c)는 상기 제2증폭모듈(121b)을 통과하면서 상기 제3증폭된 레이저 펄스를 반사하여 경로를 조절한다. 즉, 상기 제3미러(122c)는 상기 제2증폭모듈(121b)을 통과한 상기 레이저 펄스를 반사하여 경로를 90도 변경하는 역할을 한다. 물론 상기 제3미러(122c)에서 반사되는 레이저 펄스의 반사각도는 변경이 가능하다. 상기 제3미러(122c) 또한 상기 제2미러(122b) 및 상기 제2증폭모듈(121b)과 동일 축 상에 배치된다.The
상기 제4미러(122d)는 상기 제3미러(122c)에서 공급 받은 레이저 펄스를 상기 제3증폭모듈(121c) 방향으로 반사시킨다. 이 때 상기 제3미러(122c)에서 상기 제4미러(122d)로 향하는 레이저 펄스의 진행 경로에는 상기 레이저 펄스의 공간적 크기를 조절하기 위한 렌즈부(125a, 125b)를 더 포함할 수 있다. 상기 렌즈부(125a, 125b)는 제1렌즈(125a) 및 제2렌즈(125b)를 포함할 수 있다. 상기 렌즈부(125a, 125b)는 상기 제1렌즈(125a)와 상기 제2렌즈(125b) 사이의 거리를 조절하여 상기 제3미러(122c)에서 상기 제4미러(122d) 방향으로 향하는 레이저 펄스의 공간 크기를 조절한다.The
상기 제3증폭모듈(121c)은 상기 제4미러(122b)에서 반사된 레이저 펄스를 제4증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제3증폭모듈(121c)은 상기 제4증폭모듈(121d)과 이격되어 배치된다. 상기 제3증폭모듈(121c) 내의 이온들은 상기 제2펌핑 램프(126b)에 의해 여기될 수 있다. 본 실시예에서 상기 제3증폭모듈(121c)은 상기 제1증폭모듈(121a)과 유사한 구조로 형성된다. 즉, 상기 제3증폭모듈(121c)은 베이스부(미도시), 제5증폭매질(미도시), 제6증폭매질(미도시)를 포함한다. 상기 제5증폭매질(미도시)은 상기 제1증폭매질(1212a)와 동일한 소재로 형성된다. 상기 제6증폭매질(미도시)은 상기 제2증폭매질(1213a)과 동일한 소재로 형성된다. 하지만 본 발명은 이에 한정되지 않고 상기 제3증폭모듈(121c)의 소재, 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.The
상기 제5미러(122e)는 상기 제3증폭모듈(121c)을 사이에 두고 상기 제4미러(125b)와 대향하도록 배치된다. 상기 제5미러(122e)는 상기 제3증폭모듈(121c)을 통과하면서 제4증폭된 레이저 펄스를 반사하여 경로를 조절한다. 즉, 상기 제5미러(122e)는 상기 제3증폭모듈(121c)을 통과한 상기 레이저 펄스를 반사하여 경로를 90도 변경하는 역할을 한다. 물론 상기 제5미러(122e)에서 반사되는 레이저 펄스의 반사각도는 변경이 가능하다. 상기 제5미러(122e)는 상기 제4미러(122d) 및 상기 제3증폭모듈(121c)과 동일 축 상에 배치된다.The
상기 제6미러(122f)는 상기 제5미러(122e)에서 공급 받은 레이저 펄스를 상기 제4증폭모듈(121d) 방향으로 반사시킨다. 본 실시예에서 상기 제6미러(122f)는 상기 제5미러(122e)와 별개로 형성되어 있지만, 상기 제5미러(122e)와 상기 제6미러(122f)는 하나의 미러로 형성될 수도 있다.The
상기 제4증폭모듈(121d)은 상기 제6미러(122f)에서 반사된 레이저 펄스를 제5증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제4증폭모듈(121d)은 상기 제3증폭모듈(121c)과 이격되어 배치된다. 상기 제4증폭모듈(121d) 내의 이온들은 상기 제2펌핑 램프(126b)에 의해 여기될 수 있다. 본 실시예에서 상기 제4증폭모듈(121d)은 상기 제1증폭모듈(121a)과 유사한 구조로 형성된다. 즉, 상기 제4증폭모듈(121d)은 베이스부(미도시), 제7증폭매질(미도시), 제8증폭매질(미도시)을 포함한다. 상기 제7증폭매질(미도시)은 상기 제1증폭매질(1212a)와 동일한 소재로 형성된다. 상기 제8증폭매질(미도시)은 상기 제2증폭매질(1213a)과 동일한 소재로 형성된다. 하지만 본 발명은 이에 한정되지 않고 상기 제4증폭모듈(121c)의 소재, 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.The
상기 제7미러(122g)는 상기 제4증폭모듈(121d)을 사이에 두고 상기 제6미러(122f)와 대향하도록 배치된다. 그리고 상기 제7미러(122g)는 상기 제4증폭모듈(121d)을 통과한 레이저 펄스를 반사하여 상기 제8미러(122h) 방향으로 경로를 조절한다.The
상기 제8미러(122h)는 상기 제7미러(122g)의 일측에 배치되고, 상기 제7미러(122g)로부터 공급 받은 레이저 펄스의 경로를 조절한다. 상기 제8미러(122h)에서 경로가 조절된 상기 레이저 펄스는 상기 레이저 증폭부(120)로 출력된다. 하지만 본 발명은 이에 한정되지 않고 상기 제7미러(122g)에서 직접 상기 레이저 증폭부(120)로 레이저 펄스를 출력할 수도 있다.The
상기 2차 조화파 발생장치(SHG, Second Harmonic Generator)(127)는 상기 제7미러(122g) 또는 상기 제8미러(122h)에서 출력되는 상기 레이저 펄스의 파장을 변화시킨다. 상기 2차 조화파 발생장치(127)는 상기 제7미러(122g) 또는 상기 제8미러(122h)에서 출력되는 레이저 펄스가 진행하는 경로에 배치된다. 상기 2차 조화파 발생장치(127)는 공지의 파장 변화 방식과 유사하게 상기 제8미러(122h)에서 출력되는 상기 레이저 펄스의 파장을 변화시킨다.The secondary harmonic generator (SHG) 127 changes the wavelength of the laser pulse output from the
상기 제어부(130)는 상기 다이오드 레이저 생성부(110) 및 상기 레이저 증폭부(120)를 제어하는 역할을 한다. 즉, 상기 제어부(130)는 상기 제1다이오드 레이저(111), 제2다이오드 레이저(112) 및 제3다이오드 레이저(113)의 작동을 조절하여 서로 다른 파장의 레이저 펄스를 생성토록 한다. 또한 상기 제어부(130)는 상기 레이저 증폭기(120)에 신호를 가하여 생성되는 다이오드 레이저 펄스의 세기 및 파장을 조절한다. 이 때 상기 제어부(130)는 상기 레이저 생성부(110)에 포함되어 있는 다이오드 레이저의 전용 드라이버(미도시)를 이용하여 펄스폭이 가변되도록 할 수 있다. 상기 다이오드 레이저(111)의 전용 드라이버의 경우, ps의 짧은 펄스용 드라이버 또는 ms 이상의 펄스를 제어하는 드라이버 중 선택하여 이용할 수 있다.The
또한 상기 제어부(130)는 상기 레이저 증폭부(120)의 제1펌핑 램프(126a) 및 제2펌핑 램프(126b)에 신호를 가하여 상기 제1증폭모듈(121a), 상기 제2증폭모듈(121b), 상기 제3증폭모듈(121c) 및 상기 제4증폭모듈(121d)에 포함되어 있는 증폭매질의 상태를 조절할 수도 있다. 또한 상기 제어부(130)는 상기 레이저 증폭부(120)에서 출력되는 레이저 펄스가 요구되는 에너지 수준을 갖지 못한 경우 상기 레이저 생성부(110)에 신호를 전달하여 생성되는 레이저 펄스를 조절할 수도 있다.In addition, the
본 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치(100)는 레이저 생성부(110)에서 전달되는 다양한 파장의 레이저 펄스를 회전 가능한 증폭모듈을 이용하여 간편하게 증폭할 수 있도록 함으로써, 작은 부피의 피부 치료용 레이저 장치를 제작할 수 있도록 하는 장점이 있다. 또한 피부 치료를 위한 다양한 범위의 파장을 갖는 레이저 펄스를 하나의 장치에서 증폭이 가능토록 함으로써 작업 효율을 향상시킬 수 있도록 하는 장점도 있다.The
도 3에서는, 상기 제1펌핑 램프(126a) 및 상기 제2펌핑 램프(126b)가 각각 1개 배치되어 있지만, 본 발명은 이에 한정되지 않는다. 상기 제1펌핑 램프(126a) 및 상기 제2펌핑 램프(126b)는 각각 2개의 램프를 포함하는 구조를 가져서, 상기 제1펌핑 램프(126a)의 각 램프가 상기 제1증폭모듈(121a) 및 상기 제2증폭모듈(121b)에 빛을 조사하고, 상기 제2펌핑 램프(126b)의 각 램프가 상기 제3증폭모듈(121c) 및 상기 제4증폭모듈(121d)에 빛을 조사하게 할 수도 있다. 이 경우, 상기 레이저 증폭부(120)의 제어가 용이해지는 효과가 있다.In FIG. 3 , each of the
도 7을 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치(200)는 레이저 생성부(210), 레이저 증폭부(220) 및 제어부(230)를 포함한다. 본 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치(200)에서 상기 다이오드 레이저 생성부(210) 및 상기 제어부(230)는 도 3에 따른 피부 치료용 레이저 장치(100)와 유사한바 설명을 생략한다.Referring to FIG. 7 , the
상기 레이저 증폭부(220)는 제1빔스플리터(223a), 제1증폭모듈(221a), 제1미러(222a), 제1웨이브플레이트(224a), 제2미러(222b), 제2웨이브플레이트(224b), 제2증폭모듈(221b), 제1펌핑 램프(226), 제3미러(222c), 제2빔스플리터(223b), 제3웨이브플레이트(224c), 제1렌즈(225a), 제2렌즈(225b) 및 제4미러(222d)를 포함한다. 도면에 도시되지는 않았지만 도 3에서와 같은 2차 조화파 발생장치(미도시)가 더 포함될 수도 있다. 상기 제1빔스플리터(223a)는 P편광은 투과하고 S편광은 반사시킨다. 따라서 상기 다이오드 레이저 생성부(210)에서 공급 받은 레이저 펄스는 도 3에 따른 다이오드 레이저 생성부(110) 에서와 같이 P파 이므로 상기 제1빔스플리터(223a)를 그대로 투과한다. 또한 상기 제1빔스플리터(223a)는 상기 다이오드 레이저 생성부(210)에서 공급 받은 레이저 펄스의 진행 방향과 동일축 상에 배치된다. 물론 상기 제1빔스플리터(223a)의 배치는 변경될 수 있다.The
상기 제1증폭모듈(221a)은 상기 레이저 생성부(210)로부터 공급되는 레이저 펄스를 증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제1증폭모듈(221a)은 상기 제1펌핑 램프(226)는 상기 제1증폭모듈(221a) 내의 이온들을 여기시키기 위하여 상기 제1증폭모듈(221a)에 빛을 비춘다. 상기 제1펌핑 램프(226a)는 상기 제1증폭모듈(221a)과 이격되어 배치된다. 상기 제1증폭모듈(221a)은 도 4에 따른 제1증폭모듈(221a)과 유사한 소재, 배치 및 형태를 갖는다. 하지만 본 발명은 이에 한정되지 않고 상기 제1증폭모듈(221a)의 소재, 배치 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.The
그리고 상기 제1증폭모듈(221a)은 상기 제1빔스플리터(223a)와 동일 축 상에 배치된다. 따라서 상기 제1빔스플리터(223a)를 투과한 상기 레이저 펄스는 상기 제1증폭모듈(221a)을 통과하면서 제1증폭 된다.In addition, the
상기 제1미러(222a)는 상기 제1빔스플리터(223a) 및 상기 제1증폭모듈(221a)과 동일 축 상에 배치된다. 또한 상기 제1미러(222a)는 상기 제1빔스플리터(223a)와 상기 제1증폭모듈(221a)을 사이에 두고 대향하도록 배치된다. 그리고 상기 제1증폭모듈(221a)을 통과하여 제1증폭된 상기 레이저 펄스를 상기 제1증폭모듈(221a) 방향으로 반사하는 전부 반사 거울이다. 상기 제1미러(222a)는 상기 제1증폭모듈(221a)을 통과하면서 제1증폭된 상기 레이저 펄스를 상기 제1증폭모듈(121a)에 의해 다시 한번 증폭 시키기 위해 되돌려 보내는 역할을 한다.The
이 때 상기 제1증폭모듈(221a)과 상기 제1미러(222a) 사이에는 제1웨이브플레이트(224a)가 배치된다. 상기 제1웨이브플레이트(124)는 상기 제1웨이브플레이트(224a)를 통과하는 파의 위상을 1/4파장 변경시키는 쿼터 웨이브플레이트(QWP, Quarter-Wave-Plate)로 형성된다. 그리고 상기 제1증폭모듈(221a)을 통과한 후, 상기 제1웨이브플레이트(224a)를 통과하여 상기 제1미러(222a)로 향하는 레이저 펄스 및 상기 제1미러(222a)에 반사되어 상기 제1웨이브플레이트(224a)로 향하는 레이저 펄스는 원형편광되어 진행한다. 즉, 상기 제1웨이브플레이트(224a)는 상기 제1증폭모듈(221a)을 통과하여 상기 제1미러(222a)로 향하는 상기 레이저 펄스의 위상을 1/4파장 변경시키고, 상기 제1미러(222a)에 반사되어 상기 제1증폭모듈(221a)로 되돌아 가는 레이저 펄스의 위상을 다시 1/4파장 변경 시킨다. 따라서 상기 레이저 생성부(210)로부터 공급 받은 P파는 상기 제1웨이브플레이트(224a)를 두 번 통과하면서 S파로 변경된다. 이는 상기 제1빔스플리터(223a)로 다시 되돌아 갈 때 투과하지 않고 반사되어 상기 레이저 펄스의 진행 경로가 변경되도록 하기 위함이다.At this time, a
상기 제1웨이브플레이트(224a)를 두 번 통과한 후 다시 상기 제1증폭모듈(221a)로 되돌아 가는 상기 레이저 펄스는 상기 제1증폭모듈(221a)을 통과하면서 제2증폭 된다. 상기 제2증폭된 레이저 펄스는 상기 제1빔스플리터(223a)에서 경로가 조절된다. 즉, 상기 제2증폭된 레이저 펄스는 상기 제1빔스플리터(223a)에 반사되어 경로가 90도 변경된다.The laser pulse, which passes through the
상기 제2미러(222b)는 상기 제1빔스플리터(223a)의 경로가 90도 변경된 일측에 배치된다. 따라서 상기 제1빔스플리터(223a)에 반사된 레이저 펄스는 상기 제2미러(222b)에서 반사된다. 상기 제2미러(222b)는 상기 제1빔스플리터(223a)에서 공급 받은 레이저 펄스가 상기 제2증폭모듈(221b) 방향으로 반사되도록 배치된다.The
상기 제2웨이브플레이트(224b) 상기 제2미러(222b)에서 반사되어 상기 제2증폭매질(221b) 방향으로 향하는 레이저 펄스의 위상을 변경한다. 이 때 상기 제2웨이브플레이트(224b)는 상기 제1웨이브플레이트(224a)와는 달리 하프 웨이브플레이트(HWP, Half Wave Plate)로 형성된다. 즉 상기 제2웨이브플레이트(224b)로 공급 되는 레이저 펄스는 S파 이고, 상기 제2웨이브플레이트(224b)를 통과한 레이저 펄스는 파의 위상이 1/2파장 변경되어 P파가 된다. 이는 상기 제2미러(224b)에서 반사된 레이저 펄스가 상기 제2웨이브플레이트(224b)를 사이에 두고 상기 제2미러(224b)와 대향하도록 배치되는 상기 제2빔스플리터(223b)를 투과하도록 하기 위함이다.The
상기 제2빔스플리터(223b)는 상기 제2웨이브플레이트(224b)와 상기 제2증폭모듈(221b) 사이에 배치된다. 상기 제2빔스플리터(223b)는 상기 제2웨이브플레이트(224b)를 통과한 레이저 펄스가 P파이므로 반사하지 않고 투과시킨다.The
상기 제1렌즈(225a) 및 상기 제2렌즈(225b)는 상기 제2빔스플리터(223b)와 상기 제2웨이브플레이트(224b) 사이에 배치된다. 상기 제1렌즈(225a) 및 상기 제2렌즈(225b)는 상기 제2미러(222b)에서 반사된 레이저 펄스의 공간적 크기를 조절한다.The
상기 제2증폭모듈(221b)은 상기 제2빔스플리터(223b)를 투과하여 공급되는 레이저 펄스를 제3증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제2증폭모듈(221b)은 도 4에 따른 제1증폭모듈(121a)과 유사한 소재 및 구조를 갖는다. 상기 제1펌핑 램프(226)는 상기 제2증폭모듈(221b) 내의 이온들을 여기시키기 위하여 상기 제2증폭모듈(221b)에 빛을 비춘다. 상기 제1펌핑 램프(226)는 상기 제2증폭모듈(221b)과 이격되어 배치된다. 하지만 본 발명은 이에 한정되지 않고 상기 제2증폭모듈(221b)의 소재, 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.The
상기 제3미러(222c)는 상기 제2증폭모듈(221b)을 통과하면서 제3등폭된 레이저 펄스를 반사하여 상기 제2증폭모듈(221b) 방향으로 되돌아 가도록 하는 역할을 한다. 이 때 상기 제3미러(222c)와 상기 제2증폭모듈(221b) 사이에는 제3웨이브플레이트(224c)가 배치된다. 상기 제3웨이브플레이트(224c)는 상기 제1웨이브플레이트(224a)와 같이 쿼터 웨이브플레이트로 형성된다. 따라서 상기 제2증폭모듈(221b)로부터 상기 제3미러(222c)로 진행하면서 상기 레이저 펄스는 1/4파장 위상이 변경되고, 상기 제3미러(222c)에서 상기 제2증폭모듈(221b)로 되돌아 오면서 상기 레이저 펄스는 1/4파장 위상이 변경된다. 그리고 상기 제2증폭모듈(221b)을 통과한 후, 상기 제3웨이브플레이트(224c)를 통과하여 상기 제3미러(222c)로 향하는 레이저 펄스 및 상기 제3미러(222c)에 반사되어 상기 제3웨이브플레이트(224c)로 향하는 레이저 펄스는 원형편광되어 진행한다. 즉, 상기 제2증폭모듈(221b)로 돌아오는 상기 레이저 펄스는 P파에서 S파로 파형이 변경된다.The
상기 제2빔스플리터(223b)는 상기 제3미러(222c)에서 반사되어 상기 제2증폭모듈(221b)을 통과하여 제4증폭되는 레이저 펄스를 반사하여 경로를 조절한다. 상기 제2빔스플리터(223b)에서 반사되어 경로가 조절된 상기 레이저 펄스는 상기 제2빔스플리터(223b)의 일측에 배치되는 제4미러(222d)에 반사되어 출력된다.The
본 실시예에 따른 장치(200)는 도 3에 따른 장치(100)와 비교할 때 증폭 횟수는 4회로 한 번이 적지만 도 1에 따른 장치(100) 보다 구조가 간단한 장점이 있다. 또한 4회의 증폭이 있으므로 상기 레이저 생성부(210)에서 생성된 낮은 에너지의 레이저 펄스를 충분히 큰 에너지를 갖는 레이저 펄스로 증폭이 가능하다.The
도 8을 참조하면, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치(300)는 레이저 생성부(310), 레이저 증폭부(320) 및 제어부(330)를 포함한다. 상기 레이저 생성부(310)는 도면에는 도시하지 않았지만, 다이오드 레이저(미도시) 및 파장 가변부(미도시)를 포함할 수 있다. 상기 레이저 생성부(310) 및 상기 제어부(330)는 상기 도 3에 따른 피부 치료용 레이저 장치(100)와 유사하므로 설명을 생략한다.Referring to FIG. 8 , the
상기 레이저 증폭부(320)는 제1빔스플리터(323a), 제1증폭모듈(321a), 제1미러(322a), 제2미러(322b), 제1렌즈(325a), 제2렌즈(325b), 제2증폭모듈(321b), 제1펌핑 램프(326), 제2빔스플리터(323b), 제1웨이브플레이트(324), 제3미러(322c) 및 제4미러(322d)를 포함한다. 도면에 도시되지는 않았지만 도 3에서와 같은 2차 조화파 발생장치(미도시)가 더 포함될 수도 있다. 상기 제1빔스플리터(323a)는 P편광은 투과하고 S편광은 반사시킨다. 따라서 상기 레이저 생성부(310)에서 공급 받은 레이저 펄스는 도 1에 따른 레이저 생성부(310) 에서와 같이 P파 이므로 상기 제1빔스플리터(323a)를 그대로 투과한다. 또한 상기 제1빔스플리터(323a)는 상기 레이저 생성부(310)에서 공급 받은 레이저 펄스의 진행 방향과 동일축 상에 배치된다. 물론 상기 제1빔스플리터(323a)의 배치는 변경될 수 있다.The
상기 제1증폭모듈(321a)은 상기 레이저 생성부(310)로부터 공급되는 레이저 펄스를 증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제1증폭모듈(321a)은 도 4에 따른 제1증폭모듈(121a)과 유사한 소재 및 구조로 형성된다. 상기 제1펌핑 램프(326)는 상기 제1증폭모듈(321a) 내의 이온들을 여기시키기 위하여 상기 제1증폭모듈(321a)에 빛을 비춘다. 상기 제1펌핑 램프(326)는 상기 제1증폭모듈(321a)과 이격되어 배치된다. 하지만 본 발명은 이에 한정되지 않고 상기 제1증폭모듈(321a)의 소재, 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.The
그리고 상기 제1증폭모듈(321a)은 상기 제1빔스플리터(323a)와 동일 축 상에 배치된다. 따라서 상기 제1빔스플리터(323a)를 투과한 상기 레이저 펄스는 상기 제1증폭모듈(321a)을 통과하면서 제1증폭 된다.In addition, the
상기 제1미러(322a)는 상기 제1증폭매질(321a)을 사이에 두고 상기 제1빔스플리터(323a)와 대향하도록 배치된다. 상기 제1미러(322a)는 상기 제1증폭모듈(321a)을 통과한 레이저 펄스를 반사하여 경로를 변경시킨다.The
상기 제2미러(322b)는 상기 제1미러(322a)에 의해 경로가 변경된 레이저 펄스를 반사하여 다시 경로를 변경시킨다. 상기 제2미러(322b)는 상기 제1미러(322a)의 일측에 배치된다.The
상기 제2증폭모듈(321b)은 상기 제2미러(322b)에서 반사된 레이저 펄스를 제2증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제2증폭모듈(321b)은 도 4에 따른 제1증폭모듈(121a)과 유사한 소재 및 구조로 형성된다. 상기 제2증폭모듈(321b)은 상기 제1증폭모듈(321a)과 이격되어 배치된다. 상기 제1펌핑 램프(326)는 상기 제2증폭모듈(321b) 내의 이온들을 여기시키기 위하여 상기 제2증폭모듈(321b)에 빛을 비춘다. 상기 제1펌핑 램프(326)는 상기 제2증폭모듈(321b)과 이격되어 배치된다. 하지만 본 발명은 이에 한정되지 않고 상기 제1증폭매질(321b)의 소재, 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.The
그리고 상기 제2증폭모듈(321b)은 상기 제2미러(322b)와 동일 축 상에 배치된다. 따라서 상기 제2미러(322b)에서 반사된 상기 레이저 펄스는 상기 제2증폭모듈(321b)을 통과하면서 제2증폭 된다.And the
상기 제1렌즈(325a) 및 상기 제2렌즈(325b)는 상기 제2미러(322b)와 상기 제2증폭모듈(321b) 사이에 배치된다. 상기 제1렌즈(325a) 및 상기 제2렌즈(325b)는 상기 제2미러(322b)에서 반사된 레이저 펄스의 공간적 크기를 조절한다.The
상기 제2빔스플리터(323b)는 상기 제2증폭모듈(321b)을 사이에 두고 상기 제2미러(322b)와 대향하도록 배치된다. 상기 제2빔스플리터(323b)는 상기 제2증폭된 레이저 펄스가 P파 이므로 투과시킨다.The
상기 제3미러(322c)는 상기 제2빔스플리터(323b)를 투과한 레이저 펄스를 반사하여 경로를 변경시킨다. 상기 제3미러(322c)는 상기 제2빔스플리터(323b)를 사이에 두고 상기 제2증폭매질(321b)과 대향하도록 배치된다.The
상기 제1웨이브플레이트(324)는 상기 제2빔스플리터(323b)와 상기 제3미러(322c) 사이에 배치된다. 상기 제1웨이브플레이트(324)는 하프 웨이브플레이트로 형성된다. 따라서 상기 제1웨이브플레이트(324)를 통과하는 레이저 펄스는 파형이 P파에서 S파로 변경된다.The
상기 제3미러(322c)는 상기 제1웨이브플레이트(324)를 사이에 두고 상기 제2빔스플리터(323b)와 대향하도록 배치된다. 또한 상기 제3미러(322c)는 상기 제1빔스플리터(323a)의 일측에 배치된다. 상기 제3미러(322c)에 반사되어 경로가 변경된 레이저 펄스는 상기 제1빔스플리터(323a)로 되돌아가서 반사된다. 상기 제1빔스플리터(323a)에서 반사된 레이저 펄스는 상기 제1증폭모듈(321a)로 향한다.The
상기 제1증폭모듈(321a)을 통과하면서 제3증폭 되는 레이저 펄스는 상기 제1미러(322a)에서 반사되어 경로가 변경된다. 상기 제1미러(322a)에 반사되어 경로가 변경된 레이저 펄스는 상기 제2미러(322b)에 반사되어 경로가 바뀌면서 상기 제2증폭모듈(321b)로 향한다.The laser pulse, which is third amplified while passing through the
상기 제2증폭모듈(321b)을 통과하면서 제4증폭되는 레이저 펄스는 제2빔스플리터(323b)에서 반사되어 경로가 변경된다. 상기 제1웨이브플레이트(324)를 통과하면서 파형이 S파로 변경되었기 때문에 상기 레이저 펄스는 상기 제2빔스플리터(323b)를 투과하지 못하고 반사되어 경로가 변경된다.The laser pulse, which is fourth amplified while passing through the
상기 제4미러(322d)는 상기 제2빔스플리터(323b)의 일측에 배치된다. 상기 제4미러(322d)는 상기 제2빔스플리터(323b)에서 반사되는 레이저 펄스의 경로를 변경하여 출력한다.The
본 실시예에 따른 장치(300)는 도 4에 따른 장치(200)와 비교할 때 증폭 횟수는 4회로 동일하면서도 웨이브플레이트의 수가 도 4에 따른 장치(200) 보다 작아 구조가 간단하면서도 증폭 효율이 좋은 장점이 있다.The
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허 청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to the embodiment shown in the drawings, which is merely exemplary, it will be understood by those skilled in the art that various modifications and equivalent other embodiments are possible therefrom. Therefore, the true technical protection scope of the present invention should be determined by the technical spirit of the appended claims.
100, 200, 300,: 피부 치료용 레이저 장치
110, 210, 310: 레이저 생성부
111: 제1다이오드 레이저
112: 제2다이오드 레이저
113: 제3다이오드 레이저
114: 제9미러
120, 220, 320: 레이저 증폭부
121a, 221a, 321a: 제1증폭모듈
1211a, 1211a', 1211a'': 베이스부
1212a, 1212a', 1212a'': 제1증폭매질
1213a, 1213a', 1213a'': 제2증폭매질
121b, 221b, 321b: 제2증폭모듈
121c: 제3증폭모듈
121d: 제4증폭모듈
122a, 222a, 322a: 제1미러
122b, 222b, 322b: 제2미러
122c, 222c, 322c: 제3미러
122d, 222d, 322d: 제4미러
122e: 제5미러
122f: 제6미러
122g: 제7미러
122h: 제8미러
123a, 223a, 323a: 제1빔스플리터
223b, 323b: 제2빔스플리터
124a, 224a, 324a: 제1웨이브플레이트
224b: 제2웨이브플레이트
224c: 제3웨이브플레이트
125a, 225a, 325a: 제1렌즈
125b, 225b, 325b: 제2렌즈
126a, 226, 326: 제1펌핑 램프
126b: 제2펌핑 램프
127: 2차 조화파 발생장치
130, 230, 330: 제어부100, 200, 300,: laser device for skin treatment
110, 210, 310: laser generating unit
111: first diode laser
112: second diode laser
113: third diode laser
114: ninth mirror
120, 220, 320: laser amplification unit
121a, 221a, 321a: first amplification module
1211a, 1211a', 1211a'': base part
1212a, 1212a', 1212a'': first amplification medium
1213a, 1213a', 1213a'': second amplification medium
121b, 221b, 321b: second amplification module
121c: third amplification module
121d: fourth amplification module
122a, 222a, 322a: first mirror
122b, 222b, 322b: second mirror
122c, 222c, 322c: third mirror
122d, 222d, 322d: 4th mirror
122e: 5th mirror
122f: 6th mirror
122g: 7th mirror
122h: 8th mirror
123a, 223a, 323a: first beam splitter
223b, 323b: second beam splitter
124a, 224a, 324a: first wave plate
224b: second wave plate
224c: third wave plate
125a, 225a, 325a: first lens
125b, 225b, 325b: second lens
126a, 226, 326: first pumping ramp
126b: second pumping ramp
127: second harmonic wave generator
130, 230, 330: control unit
Claims (11)
서로 다른 복수 개의 증폭매질들을 포함하며, 상기 증폭매질 중에서 상기 다이오드 레이저 생성부로부터 전달되는 상기 다이오드 레이저 펄스의 파장에 대응되는 상기 증폭매질을 선택하여, 상기 다이오드 레이저 펄스를 증폭하는 레이저 증폭부; 및
상기 다이오드 레이저 생성부 및 상기 레이저 증폭부를 제어하는 제어부를 포함하고,
상기 레이저 증폭부는,
복수 개의 증폭매질들 중에서 상기 다이오드 레이저로부터 전달되는 상기 레이저 펄스가 증폭될 수 있는 증폭매질이 배치되도록 상기 증폭매질의 위치를 조정할 수 있으며,
상기 레이저 증폭부는,
상기 다이오드 레이저 생성부로부터 전달되는 상기 다이오드 레이저 펄스가 이동하는 위치로, 상기 증폭매질 중에서 대응되는 증폭매질의 위치를 선택적으로 이동시키며,
상기 레이저 증폭부는,
회전축이 상기 레이저 생성부에서 전달되는 상기 레이저 펄스가 진행하는 방향과 교차하도록 배치되고, 플레이트 구조의 회전 가능한 베이스부를 더 포함하고,
상기 증폭매질들은, 상기 회전축이 관통하는 상기 베이스부의 동일면인 일면 상에 접촉되도록 배치되되, 이격되도록 배치되어 있고,
상기 베이스부가 상기 회전축을 중심으로 회전할 때, 상기 베이스부 상에 배치되어 있는 상기 증폭매질들도 상기 회전축을 중심으로 회전하면서, 상기 증폭매질들 중 어느 하나에는 상기 레이저 생성부에서 전달되는 상기 레이저 펄스가 유입되도록 배치되는,
피부 치료용 레이저 장치.a diode laser generator generating diode laser pulses having at least two different wavelengths;
a laser amplifying unit including a plurality of different amplification media and selecting the amplification medium corresponding to the wavelength of the diode laser pulse transmitted from the diode laser generating unit from among the amplifying medium to amplify the diode laser pulse; and
A control unit for controlling the diode laser generating unit and the laser amplifying unit,
The laser amplification unit,
The position of the amplification medium may be adjusted so that an amplification medium in which the laser pulse transmitted from the diode laser can be amplified is disposed among the plurality of amplification mediums,
The laser amplification unit,
Selectively moving a position of a corresponding amplification medium in the amplification medium to a position to which the diode laser pulse transmitted from the diode laser generator moves,
The laser amplification unit,
The rotation axis is arranged to cross the direction in which the laser pulse transmitted from the laser generator proceeds, and further comprising a rotatable base portion of a plate structure,
The amplification medium is arranged so as to be in contact with the same surface of the base part through which the rotation shaft passes, and arranged to be spaced apart,
When the base unit rotates about the rotation axis, the amplification medium disposed on the base unit also rotates about the rotation axis, and the laser transmitted from the laser generator to any one of the amplification medium. arranged to receive a pulse,
Laser device for skin treatment.
서로 다른 복수 개의 증폭매질들을 포함하며, 상기 증폭매질 중에서 상기 다이오드 레이저 생성부로부터 전달되는 상기 다이오드 레이저 펄스의 파장에 대응되는 상기 증폭매질을 선택하여, 상기 다이오드 레이저 펄스를 증폭하는 레이저 증폭부; 및
상기 다이오드 레이저 생성부 및 상기 레이저 증폭부를 제어하는 제어부를 포함하고,
상기 레이저 증폭부는,
복수 개의 증폭매질들 중에서 상기 다이오드 레이저로부터 전달되는 상기 레이저 펄스가 증폭될 수 있는 증폭매질이 배치되도록 상기 증폭매질의 위치를 조정할 수 있으며,
상기 레이저 증폭부는,
상기 다이오드 레이저 생성부로부터 전달되는 상기 다이오드 레이저 펄스가 이동하는 위치로, 상기 증폭매질 중에서 대응되는 증폭매질의 위치를 선택적으로 이동시키며,
상기 레이저 증폭부는,
회전축이 상기 레이저 생성부에서 전달되는 상기 레이저 펄스가 진행하는 방향과 평행하도록 배치되고, 회전 가능한 원기둥 형상의 베이스부를 더 포함하고,
상기 증폭매질들은, 상기 베이스부의 측면 상에 배치되되, 상기 회전축의 둘레 방향을 따라서 이격되도록 상기 베이스부의 중심을 기준으로 대칭구조로 배치되어 있고,
상기 베이스부가 상기 회전축을 중심으로 회전할 때, 상기 베이스부의 측면 상에 배치되어 있는 상기 증폭매질들도 상기 회전축을 중심으로 회전하면서 상기 증폭매질들 중 어느 하나에는 상기 레이저 생성부에서 전달되는 상기 레이저 펄스가 유입되도록 배치되는,
피부치료용 레이저 장치.a diode laser generator generating diode laser pulses having at least two different wavelengths;
a laser amplifying unit including a plurality of different amplification media and selecting the amplification medium corresponding to the wavelength of the diode laser pulse transmitted from the diode laser generating unit from among the amplifying medium to amplify the diode laser pulse; and
A control unit for controlling the diode laser generating unit and the laser amplifying unit,
The laser amplification unit,
The position of the amplification medium may be adjusted so that an amplification medium in which the laser pulse transmitted from the diode laser can be amplified is disposed among the plurality of amplification mediums,
The laser amplification unit,
Selectively moving a position of a corresponding amplification medium in the amplification medium to a position to which the diode laser pulse transmitted from the diode laser generator moves,
The laser amplification unit,
The rotating shaft is arranged to be parallel to the direction in which the laser pulse transmitted from the laser generating unit proceeds, and further comprising a rotatable cylindrical base,
The amplification medium is disposed on the side of the base part, and is arranged in a symmetrical structure with respect to the center of the base part so as to be spaced apart along the circumferential direction of the rotation axis,
When the base part rotates about the rotation axis, the amplification medium disposed on the side surface of the base unit also rotates about the rotation axis, and the laser transmitted from the laser generator to any one of the amplification medium. arranged to receive a pulse,
Laser device for skin treatment.
서로 다른 복수 개의 증폭매질들을 포함하며, 상기 증폭매질 중에서 상기 다이오드 레이저 생성부로부터 전달되는 상기 다이오드 레이저 펄스의 파장에 대응되는 상기 증폭매질을 선택하여, 상기 다이오드 레이저 펄스를 증폭하는 레이저 증폭부; 및
상기 다이오드 레이저 생성부 및 상기 레이저 증폭부를 제어하는 제어부를 포함하고,
상기 레이저 증폭부는,
복수 개의 증폭매질들 중에서 상기 다이오드 레이저로부터 전달되는 상기 레이저 펄스가 증폭될 수 있는 증폭매질이 배치되도록 상기 증폭매질의 위치를 조정할 수 있으며,
상기 레이저 증폭부는,
상기 다이오드 레이저 생성부로부터 전달되는 상기 다이오드 레이저 펄스가 이동하는 위치로, 상기 증폭매질 중에서 대응되는 증폭매질의 위치를 선택적으로 이동시키며,
상기 레이저 증폭부는,
상기 레이저 생성부에서 전달되는 상기 레이저 펄스가 진행하는 방향과 교차되는 상하 방향으로 직선운동을 통해서 승강이 가능하고, 내부에 저장 공간이 형성되어 있는 베이스부를 더 포함하고,
상기 증폭매질들은, 상기 베이스부의 상부에 접촉하여 배치되는 제1증폭매질 및 상기 저장 공간에 접촉하여 배치되는 제2증폭매질을 포함하되, 상기 제1증폭매질 및 상기 제2증폭매질은 상기 베이스부가 승강하는 상하 방향으로 이격되도록 배치되어 있고,
상기 베이스부가 승강할 때, 상기 증폭매질들 중 어느 하나에는 상기 레이저 생성부에서 전달되는 상기 레이저 펄스가 유입되도록 배치되는,
피부치료용 레이저 장치.a diode laser generator generating diode laser pulses having at least two different wavelengths;
a laser amplifying unit including a plurality of different amplification media and selecting the amplification medium corresponding to the wavelength of the diode laser pulse transmitted from the diode laser generating unit from among the amplifying medium to amplify the diode laser pulse; and
A control unit for controlling the diode laser generating unit and the laser amplifying unit,
The laser amplification unit,
The position of the amplification medium may be adjusted so that an amplification medium in which the laser pulse transmitted from the diode laser can be amplified is disposed among the plurality of amplification mediums,
The laser amplification unit,
Selectively moving a position of a corresponding amplification medium in the amplification medium to a position to which the diode laser pulse transmitted from the diode laser generator moves,
The laser amplification unit,
It further includes a base part capable of lifting and lowering through a linear motion in an up-down direction crossing the direction in which the laser pulse transmitted from the laser generating part proceeds, and having a storage space formed therein,
The amplification medium includes a first amplification medium disposed in contact with an upper portion of the base portion and a second amplification medium disposed in contact with the storage space, wherein the first amplification medium and the second amplification medium include the base portion. The ascending and descending are arranged to be spaced apart in the vertical direction,
When the base unit is raised and lowered, the laser pulse transmitted from the laser generating unit is introduced into any one of the amplification media.
Laser device for skin treatment.
상기 레이저 증폭부는,
상기 레이저 생성부로부터 공급 받은 펄스를 제1증폭하는 제1증폭모듈;
상기 제1증폭모듈을 통과하면서 제1증폭된 펄스가 반사되어 상기 제1증폭모듈 방향으로 되돌아가도록 배치되는 제1미러;
상기 제1증폭모듈을 사이에 두고 상기 제1미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제1증폭모듈로 되돌아와 통과함으로써 제2증폭되는 펄스의 경로를 조절하는 제1빔스플리터;
통과하는 펄스의 편광 또는 위상을 변경시키기 위해서, 상기 제1미러와 상기 제1빔스플리터 사이에 배치되는 제1웨이브플레이트;
상기 제1빔스플리터에서 경로가 조절된 펄스를 제2증폭모듈 방향으로 보내는 제2미러;
상기 제1증폭모듈과 이격되어 배치되고, 상기 제2미러로부터 공급 받은 펄스를 제3증폭하는 상기 제2증폭모듈;
상기 제1증폭모듈 및 상기 제2증폭모듈과 이격되어 배치되고, 상기 제1증폭모듈 및 상기 제2증폭모듈에 빛을 비추는 제1펌핑 램프;
상기 제2증폭모듈을 사이에 두고 상기 제2미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제2증폭모듈을 통과하면서 제3증폭된 펄스를 반사하여 경로를 조절하는 제3미러;
상기 제3미러에서 경로가 조절된 펄스를 제3증폭모듈 방향으로 보내는 제4미러;
상기 제4미러에서 공급 받은 펄스를 제4증폭하는 제3증폭모듈;
상기 제3증폭모듈을 사이에 두고 상기 제4미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제3증폭모듈을 통과하면서 제4증폭된 펄스를 반사하여 경로를 조절하는 제5미러;
상기 제5미러에서 경로가 조절된 펄스를 제4증폭모듈 방향으로 보내는 제6미러;
상기 제6미러에서 공급 받은 펄스를 제5증폭하는 상기 제4증폭모듈;
상기 제3증폭모듈 및 상기 제4증폭모듈과 이격되어 배치되고, 상기 제3증폭모듈 및 상기 제4증폭모듈에 빛을 비추는 제2펌핑 램프; 및
상기 제4증폭모듈을 사이에 두고 상기 제6미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제4증폭모듈을 통과한 펄스를 반사하여 경로를 조절하는 제7미러를 포함하며,
상기 레이저 생성부에서 공급 되는 상기 펄스는 상기 제1빔스플리터를 투과하여 상기 제1증폭모듈 방향으로 향하는,
피부 치료용 레이저 장치.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The laser amplification unit,
a first amplification module for first amplifying the pulses supplied from the laser generator;
a first mirror disposed such that a pulse, which is first amplified while passing through the first amplifier module, is reflected and returned to the direction of the first amplifier module;
a first beam splitter disposed to face the first mirror with the first amplification module interposed therebetween, and configured to adjust the path of the second amplified pulse by returning to and passing through the first amplifying module;
a first wave plate disposed between the first mirror and the first beam splitter to change the polarization or phase of a passing pulse;
a second mirror for sending a pulse whose path is adjusted by the first beam splitter in the direction of a second amplification module;
the second amplifying module arranged to be spaced apart from the first amplifying module and third amplifying the pulses supplied from the second mirror;
a first pumping lamp disposed to be spaced apart from the first amplifying module and the second amplifying module and illuminating the first amplifying module and the second amplifying module;
a third mirror disposed to face the second mirror with the second amplifying module interposed therebetween and configured to reflect a third amplified pulse while passing through the second amplifying module to adjust a path;
a fourth mirror for sending a pulse whose path is adjusted in the third mirror in the direction of a third amplification module;
a third amplification module for fourth amplifying the pulses supplied from the fourth mirror;
a fifth mirror disposed to face the fourth mirror with the third amplification module interposed therebetween and configured to adjust a path by reflecting a fourth amplified pulse while passing through the third amplifying module;
a sixth mirror for sending a pulse whose path is adjusted in the fifth mirror toward a fourth amplification module;
the fourth amplifying module for fifth amplifying the pulses supplied from the sixth mirror;
a second pumping lamp disposed to be spaced apart from the third amplifying module and the fourth amplifying module and illuminating the third amplifying module and the fourth amplifying module; and
and a seventh mirror disposed to face the sixth mirror with the fourth amplifying module interposed therebetween, and adjusting a path by reflecting the pulse passing through the fourth amplifying module,
The pulse supplied from the laser generator passes through the first beam splitter and is directed in the direction of the first amplification module,
Laser device for skin treatment.
상기 제3미러와 상기 제4미러 사이에 배치되고, 상기 제3미러에서 반사된 펄스의 펄스의 크기를 조절하는 렌즈부를 더 포함하는,
피부 치료용 레이저 장치.7. The method of claim 6,
It is disposed between the third mirror and the fourth mirror, further comprising a lens unit for adjusting the magnitude of the pulse of the pulse reflected from the third mirror,
Laser device for skin treatment.
상기 레이저 증폭부는,
상기 레이저 생성부로부터 공급 받은 펄스를 제1증폭하는 제1증폭모듈;
상기 제1증폭모듈을 통과하면서 제1증폭된 펄스가 반사되어 상기 제1증폭모듈 방향으로 되돌아가도록 배치되는 제1미러;
상기 제1증폭모듈을 사이에 두고 상기 제1미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제1증폭모듈로 되돌아와 통과함으로써 제2증폭되는 펄스의 경로를 조절하는 제1빔스플리터;
통과하는 펄스의 편광 또는 위상을 변경시키기 위해서, 상기 제1미러와 상기 제1빔스플리터 사이에 배치되는 제1웨이브플레이트;
상기 제1빔스플리터에서 경로가 조절된 펄스를 제2증폭모듈 방향으로 보내는 제2미러;
상기 제1증폭모듈과 이격되어 배치되고, 상기 제2미러로부터 공급 받은 펄스를 제3증폭하는 상기 제2증폭모듈;
상기 제1증폭모듈 및 상기 제2증폭모듈과 이격되어 배치되고, 상기 제1증폭모듈 및 상기 제2증폭모듈에 빛을 비추는 제1펌핑 램프;
상기 제2증폭모듈을 통과하면서 제3증폭된 펄스가 반사되어 상기 제2증폭모듈 방향으로 되돌아 가도록 배치되는 제3미러;
상기 제2증폭모듈을 사이에 두고 상기 제3미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제2증폭모듈로 되돌아와 통과함으로써 제4증폭되는 펄스의 경로를 조절하는 제2빔스플리터;
통과하는 펄스의 편광 또는 위상을 변경시키기 위해서, 상기 제3미러와 상기 제2빔스플리터 사이에 배치되는 제3웨이브플레이트; 및
상기 제2미러에서 반사된 펄스는 상기 제2빔스플리터를 통하여 상기 제2증폭모듈로 공급되고, 상기 제2미러와 상기 제2빔스플리터 사이에 배치되어 상기 제2미러에서 반사되어 상기 제2빔스플리터로 향하는 펄스의 편광 또는 위상을 변경시키는 제2웨이브플레이트를 포함하며,
상기 레이저 생성부에서 공급 되는 상기 펄스는 상기 제1빔스플리터를 투과하여 상기 제1증폭모듈 방향으로 향하는,
피부 치료용 레이저 장치.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The laser amplification unit,
a first amplification module for first amplifying the pulses supplied from the laser generator;
a first mirror disposed so that a pulse, which is first amplified while passing through the first amplifier module, is reflected and returned to the first amplifier module;
a first beam splitter disposed to face the first mirror with the first amplification module interposed therebetween and configured to control the path of the second amplified pulse by returning to and passing through the first amplifying module;
a first wave plate disposed between the first mirror and the first beam splitter to change the polarization or phase of a passing pulse;
a second mirror for sending a pulse whose path has been adjusted by the first beam splitter in the direction of a second amplification module;
the second amplifying module arranged to be spaced apart from the first amplifying module and third amplifying the pulse supplied from the second mirror;
a first pumping lamp disposed to be spaced apart from the first amplifying module and the second amplifying module and illuminating the first and second amplifying modules with light;
a third mirror disposed to reflect a third amplified pulse while passing through the second amplifying module and return to the direction of the second amplifying module;
a second beam splitter disposed to face the third mirror with the second amplification module interposed therebetween and configured to control the path of the pulse to be fourth amplified by returning to and passing through the second amplification module;
a third wave plate disposed between the third mirror and the second beam splitter to change the polarization or phase of the passing pulse; and
The pulse reflected from the second mirror is supplied to the second amplification module through the second beam splitter, is disposed between the second mirror and the second beam splitter, and is reflected by the second mirror to the second beam A second wave plate for changing the polarization or phase of the pulse directed to the splitter,
The pulse supplied from the laser generator passes through the first beam splitter and is directed toward the first amplification module,
Laser device for skin treatment.
상기 제2빔스플리터와 상기 제2웨이브플레이트 사이에 배치되고, 상기 제2웨이브플레이트에서 편광 또는 위상이 변경된 펄스의 크기를 조절하는 렌즈부를 더 포함하는,
피부 치료용 레이저 장치.9. The method of claim 8,
It is disposed between the second beam splitter and the second wave plate, further comprising a lens unit for adjusting the magnitude of a pulse whose polarization or phase is changed in the second wave plate,
Laser device for skin treatment.
상기 레이저 증폭부는,
상기 레이저 생성부로부터 공급 받은 펄스를 제1증폭하는 제1증폭모듈;
상기 제1증폭모듈을 통과하면서 제1증폭된 펄스의 경로를 조절하는 제1미러;
상기 제1미러에서 경로가 조절된 펄스를 제2증폭모듈 방향으로 보내는 제2미러;
상기 제1증폭모듈과 이격되어 배치되고, 상기 제2미러에서 공급 받은 펄스를 제2증폭하는 제2증폭모듈;
상기 제1증폭모듈 및 상기 제2증폭모듈과 이격되어 배치되고, 상기 제1증폭모듈 및 상기 제2증폭모듈에 빛을 비추는 제1펌핑 램프;
상기 제2증폭모듈에서 제2증폭된 펄스를 통과시키는 제2빔스플리터;
상기 제2빔스플리터를 사이에 두고 상기 제2증폭모듈과 대향하도록 배치되고, 상기 제2증폭모듈을 통과하면서 제2증폭되어 상기 제2빔스플리터를 통과한 펄스를 반사하여 경로를 조절하는 제3미러;
상기 제3미러와 상기 제2빔스플리터 사이에 배치되어 상기 제2빔스플리터를 통과하여 상기 제3미러로 향하는 펄스의 편광 또는 위상을 변경시키는 제1웨이브플레이트;
상기 제1증폭모듈을 사이에 두고 상기 제1미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제3미러에서 경로가 조절된 펄스를 반사하여 경로를 조절하는 제1빔스플리터;
상기 제1빔스플리터에서 경로가 조절된 펄스는 제1증폭모듈을 통과하여 제3증폭되고, 상기 제3증폭된 펄스는 상기 제1미러에서 경로가 조절되어 상기 제2미러 방향으로 향하며, 상기 제2미러에서 경로가 조절된 펄스는 상기 제2증폭모듈 방향으로 향하고, 상기 제2증폭모듈을 통과하여 제4증폭된 펄스는 상기 제2빔스플리터에서 경로가 조절되어 송출되며,
상기 레이저 생성부에서 공급 되는 상기 펄스는 상기 제1빔스플리터를 투과하여 상기 제1증폭모듈 방향으로 향하는,
피부 치료용 레이저 장치.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The laser amplification unit,
a first amplification module for first amplifying the pulses supplied from the laser generator;
a first mirror for controlling the path of the first amplified pulse while passing through the first amplifying module;
a second mirror for sending a pulse whose path is adjusted in the first mirror toward a second amplification module;
a second amplifying module disposed to be spaced apart from the first amplifying module and configured to second amplify the pulses supplied from the second mirror;
a first pumping lamp disposed to be spaced apart from the first amplifying module and the second amplifying module and illuminating the first amplifying module and the second amplifying module;
a second beam splitter passing the second amplified pulse in the second amplifying module;
a third that is disposed to face the second amplification module with the second beam splitter interposed therebetween, is second amplified while passing through the second amplification module, and reflects the pulse passing through the second beam splitter to adjust the path mirror;
a first wave plate disposed between the third mirror and the second beam splitter to change the polarization or phase of a pulse passing through the second beam splitter and directed to the third mirror;
a first beam splitter disposed to face the first mirror with the first amplification module interposed therebetween and configured to adjust a path by reflecting a pulse whose path has been adjusted in the third mirror;
The pulse whose path is adjusted in the first beam splitter passes through a first amplification module and is amplified for a third time, and the third amplified pulse is directed in the direction of the second mirror by adjusting the path in the first mirror, A pulse whose path is adjusted in the second mirror is directed in the direction of the second amplification module, and a fourth amplified pulse passing through the second amplifying module is transmitted with a path adjusted by the second beam splitter,
The pulse supplied from the laser generator passes through the first beam splitter and is directed in the direction of the first amplification module,
Laser device for skin treatment.
상기 제2미러와 상기 제2빔스플리터 사이에 배치되고, 상기 제2미러에서 경로가 조절된 펄스의 크기를 조절하는 렌즈부를 더 포함하는,
피부 치료용 레이저 장치.11. The method of claim 10,
It is disposed between the second mirror and the second beam splitter, and further comprising a lens unit for adjusting the magnitude of the pulse whose path is adjusted in the second mirror,
Laser device for skin treatment.
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JP2006204609A (en) * | 2005-01-28 | 2006-08-10 | Showa Yakuhin Kako Kk | Laser therapy equipment |
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US5868731A (en) * | 1996-03-04 | 1999-02-09 | Innotech Usa, Inc. | Laser surgical device and method of its use |
KR101898632B1 (en) | 2017-04-19 | 2018-09-13 | 주식회사 이오테크닉스 | Laser amplifying apparatus |
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- 2019-07-30 KR KR1020190092456A patent/KR102280064B1/en active IP Right Grant
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2006204609A (en) * | 2005-01-28 | 2006-08-10 | Showa Yakuhin Kako Kk | Laser therapy equipment |
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