KR102064251B1 - Laser apparatus for skin treatment - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 피부 치료용 레이저 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 펄스 폭이 조절이 용이한 레이저 생성부를 포함하는 피부 치료용 레이저 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a laser treatment laser apparatus, and more particularly, to a laser treatment laser apparatus including a laser generating unit that is easy to adjust the pulse width.
최근 산업 및 연구현장에서 레이저를 이용한 분야에 대한 연구가 활발하게 진행되고 있다. 특히, 이러한 레이저는 최근 들어 분광학, 나노 이미징, 입자가속, 핵융합 등의 연구분야를 비롯하여, 3D 프린팅, 조면, 통신 공연등의 생활현장과 용접, 절단, 표면 개질 등의 산업현장에서 활발하게 개발되고 있다.Recently, researches on the field using lasers are being actively conducted in industrial and research fields. In particular, these lasers have recently been actively developed in the research fields such as spectroscopy, nano-imaging, particle acceleration, and fusion, as well as in industrial fields such as welding, cutting, and surface modification, as well as in the field of 3D printing, roughening, and communication performances. have.
따라서 다양한 형태의 레이저 생성 장치 및 레이저 증폭 장치들이 개발되고 있다. 하지만 기존의 레이저 생성 장치 및 레이저 증폭 장치들은 다양한 형태의 펄스 파를 얻기 위해서는 구조가 복잡해지고, 구조를 단순하게 할 경우 출력이 줄어드는 문제가 있다.Accordingly, various types of laser generating devices and laser amplifying devices have been developed. However, conventional laser generating devices and laser amplifying devices have a complicated structure in order to obtain various types of pulse waves, and there is a problem in that output is reduced when the structure is simplified.
본 발명은 펄스 폭이 조절이 용이한 레이저 생성부를 포함하는 피부 치료용 레이저를 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a laser for treating the skin including a laser generating unit is easy to adjust the pulse width.
본 발명의 일 측면에 따르면, 본 발명은 다이오드 레이저로부터 생성된 펄스의 폭을 조절 가능하고, 단일 또는 복수의 펄스를 생성하는 레이저 생성부 및 상기 레이저 생성부로부터 공급 받은 상기 펄스를 증폭하는 레이저 증폭부를 포함하는, 피부 치료용 레이저 장치를 제공한다.According to an aspect of the present invention, the present invention is a laser generator for controlling the width of the pulse generated from the diode laser, and generates a single or a plurality of pulses and laser amplification for amplifying the pulse supplied from the laser generator It provides a laser treatment device for skin, comprising a portion.
본 발명의 다른 측면에 따르면, 본 발명은 펄스 폭이 조절된 펄스를 생성하는 레이저 생성부 및 상기 레이저 생성부로부터 공급 받은 펄스를 증폭하는 레이저 증폭부를 포함하고, 상기 레이저 증폭부는, 상기 레이저 생성부로부터 공급 받은 펄스를 제1증폭하는 제1증폭매질, 상기 제1증폭매질을 통과하면서 제1증폭된 펄스가 반사되어 상기 제1증폭매질 방향으로 되돌아가도록 배치되는 제1미러, 상기 제1증폭매질을 사이에 두고 상기 제1미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제1증폭매질로 되돌아와 통과함으로써 제2증폭되는 펄스의 경로를 조절하는 제1빔스플리터, 통과하는 펄스의 편광 또는 위상을 변경시키기 위해서, 상기 제1미러와 상기 제1빔스플리터 사이에 배치되는 제1웨이브플레이트, 상기 제1빔스플리터에서 경로가 조절된 펄스를 제2증폭매질 방향으로 보내는 제2미러, 상기 제1증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제2미러로부터 공급 받은 펄스를 제3증폭하는 상기 제2증폭매질, 상기 제1증폭매질 및 상기 제2증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제1증폭매질 및 상기 제2증폭매질에 빛을 비추는 제1펌핑 램프, 상기 제2증폭매질을 사이에 두고 상기 제2미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제2증폭매질을 통과하면서 제3증폭된 펄스를 반사하여 경로를 조절하는 제3미러, 상기 제3미러에서 경로가 조절된 펄스를 제3증폭매질 방향으로 보내는 제4미러, 상기 제4미러에서 공급 받은 펄스를 제4증폭하는 제3증폭매질, 상기 제3증폭매질을 사이에 두고 상기 제4미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제3증폭매질을 통과하면서 제4증폭된 펄스를 반사하여 경로를 조절하는 제5미러, 상기 제5미러에서 경로가 조절된 펄스를 제4증폭매질 방향으로 보내는 제6미러, 상기 제6미러에서 공급 받은 펄스를 제5증폭하는 제4증폭매질, 상기 제3증폭매질 및 상기 제4증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제3증폭매질 및 상기 제4증폭매질에 빛을 비추는 제2펌핑 램프 및 상기 제4증폭매질을 사이에 두고 상기 제6미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제4증폭매질을 통과한 펄스를 반사하여 경로를 조절하는 제7미러를 포함하며, 상기 레이저 생성부에서 공급 되는 상기 펄스는 상기 제1빔스플리트를 투과하여 상기 제1증폭매질 방향으로 향하는, 피부 치료용 레이저 장치를 제공한다.According to another aspect of the invention, the present invention includes a laser generator for generating a pulse width-controlled pulse and a laser amplifier for amplifying a pulse supplied from the laser generator, the laser amplifier, the laser generator A first amplifying medium for firstly amplifying a pulse supplied from the first amplifying medium, a first mirror disposed to reflect the first amplified pulse while passing through the first amplifying medium and returning toward the first amplifying medium A first beamsplitter arranged to face the first mirror with a gap between the first mirror splitter and a second beam splitter for adjusting a path of a second amplified pulse by returning to and passing through the first amplifying medium, And a first wave plate disposed between the first mirror and the first beam splitter, and a pulse whose path is adjusted in the first beam splitter. A second mirror that is sent in a direction, and is spaced apart from the first amplification medium, and spaced apart from the second amplification medium, the first amplification medium, and the second amplification medium, the third amplifying pulses supplied from the second mirror. And a first pumping lamp for illuminating the first amplification medium and the second amplification medium, the second amplifying medium and facing the second mirror, and passing through the second amplification medium. A third mirror that adjusts a path by reflecting a third amplified pulse, a fourth mirror that sends a pulse whose path is adjusted in the third mirror in a direction of a third amplification medium, and sends a pulse supplied from the fourth mirror to a fourth mirror A third amplifying medium to amplify, the fifth mirror to face the fourth mirror with the third amplifying medium therebetween, and to adjust a path by reflecting a fourth amplified pulse while passing through the third amplifying medium; In the fifth mirror the path is A sixth mirror for sending the truncated pulses toward the fourth amplifying medium, a fourth amplifying medium for fifth amplifying the pulses supplied from the sixth mirror, the third amplifying medium and the fourth amplifying medium, and A second pumping lamp for illuminating the third and fourth amplifying medium and the fourth amplifying medium and the fourth amplifying medium disposed to face the sixth mirror, and reflects a pulse passing through the fourth amplifying medium. And a seventh mirror for adjusting a path, wherein the pulses supplied from the laser generator are transmitted through the first beam split and directed toward the first amplification medium.
본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 본 발명은 펄스 폭이 조절된 펄스를 생성하는 레이저 생성부 및 상기 레이저 생성부로부터 공급 받은 펄스를 증폭하는 레이저 증폭부를 포함하고, 상기 레이저 증폭부는, 상기 레이저 생성부로부터 공급 받은 펄스를 제1증폭하는 제1증폭매질, 상기 제1증폭매질을 통과하면서 제1증폭된 펄스가 반사되어 상기 제1증폭매질 방향으로 되돌아가도록 배치되는 제1미러, 상기 제1증폭매질을 사이에 두고 상기 제1미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제1증폭매질로 되돌아와 통과함으로써 제2증폭되는 펄스의 경로를 조절하는 제1빔스플리터, 통과하는 펄스의 편광 또는 위상을 변경시키기 위해서, 상기 제1미러와 상기 제1빔스플리터 사이에 배치되는 제1웨이브플레이트, 상기 제1빔스플리터에서 경로가 조절된 펄스를 제2증폭매질 방향으로 보내는 제2미러, 상기 제1증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제2미러로부터 공급 받은 펄스를 제3증폭하는 상기 제2증폭매질, 상기 제1증폭매질 및 상기 제2증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제1증폭매질 및 상기 제2증폭매질에 빛을 비추는 제1펌핑 램프, 상기 제2증폭매질을 통과하면서 제3증폭된 펄스가 반사되어 상기 제2증폭매질 방향으로 되돌아 가도록 배치되는 제3미러, 상기 제2증폭매질을 사이에 두고 상기 제3미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제2증폭매질로 되돌아와 통과함으로써 제4증폭되는 펄스의 경로를 조절하는 제2빔스플리터, 통과하는 펄스의 편광 또는 위상을 변경시키기 위해서, 상기 제3미러와 상기 제2빔스플리터 사이에 배치되는 제3웨이브플레이트 및 상기 제2미러에서 반사된 펄스는 상기 제2빔스플리터를 통하여 상기 제2증폭매질로 공급되고, 상기 제2미러와 상기 제2빔스플리터 사이에 배치되어 상기 제2미러에서 반사되어 상기 제2빔스플리터로 향하는 펄스의 편광 또는 위상을 변경시키는 제2웨이브플레이트를 포함하며, 상기 레이저 생성부에서 공급 되는 상기 펄스는 상기 제1빔스플리트를 투과하여 상기 제1증폭매질 방향으로 향하는, 피부 치료용 레이저 장치를 제공한다.According to another aspect of the present invention, the present invention includes a laser generator for generating a pulse width-controlled pulse and a laser amplifier for amplifying a pulse supplied from the laser generator, the laser amplifier, the laser generation A first amplifying medium for firstly amplifying a pulse supplied from a negative portion, a first mirror arranged to return a first amplified pulse to the first amplifying medium while passing through the first amplifying medium and returning to the first amplifying medium A first beamsplitter arranged to face the first mirror with a medium in between, and adapted to control the path of the second amplified pulse by returning to and passing through the first amplifying medium, changing the polarization or phase of the passing pulse In order to achieve this, a first wave plate disposed between the first mirror and the first beam splitter, and a path-controlled pulse in the first beam splitter are second amplified. A second mirror, spaced apart from the first amplification medium, which is sent in the vaginal direction, wherein the second amplification medium, the first amplification medium, and the second amplification medium are configured to amplify a pulse supplied from the second mirror; A first pumping lamp which is disposed spaced apart from the first and second amplifying media, and passes through the second and second amplifying medium to reflect a third amplified pulse to return to the second amplifying medium A second beam splitter disposed to face the third mirror with the second mirror disposed therebetween, the second beam splitter adjusting a path of the fourth amplified pulse by returning to and passing through the second amplifier medium; In order to change the polarization or phase of the passing pulse, the third wave plate disposed between the third mirror and the second beam splitter and the pulses reflected from the second mirror pass through the second beam splitter. And a second wave plate which is supplied to the second amplification medium and is disposed between the second mirror and the second beam splitter to change the polarization or phase of a pulse reflected from the second mirror and directed to the second beam splitter. Includes, wherein the pulse is supplied from the laser generating unit is transmitted through the first beam split toward the first amplification medium, provides a laser device for treating the skin.
본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 본 발명은 펄스 폭이 조절된 펄스를 생성하는 레이저 생성부 및 상기 레이저 생성부로부터 공급 받은 펄스를 증폭하는 레이저 증폭부를 포함하고, 상기 레이저 증폭부는, 상기 레이저 생성부로부터 공급 받은 펄스를 제1증폭하는 제1증폭매질, 상기 제1증폭매질을 통과하면서 제1증폭된 펄스의 경로를 조절하는 제1미러, 상기 제1미러에서 경로가 조절된 펄스를 제2증폭매질 방향으로 보내는 제2미러, 상기 제1증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제2미러에서 공급 받은 펄스를 제2증폭하는 제2증폭매질, 상기 제1증폭매질 및 상기 제2증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제1증폭매질 및 상기 제2증폭매질에 빛을 비추는 제1펌핑 램프, 상기 제2증폭매질에서 제2증폭된 펄스를 통과시키는 제2빔스플리터, 상기 제2빔스플리터를 사이에 두고 상기 제2증폭매질과 대향하도록 배치되고, 상기 제2증폭매질을 통과하면서 제2증폭되어 상기 제2빔스플리터를 통과한 펄스를 반사하여 경로를 조절하는 제3미러, 상기 제3미러와 상기 제2빔스플리터 사이에 배치되어 상기 제2빔스플리터를 통과하여 상기 제3미러로 향하는 펄스의 편광 또는 위상을 변경시키는 제1웨이브플레이트, 상기 제1증폭매질을 사이에 두고 상기 제1미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제3미러에서 경로가 조절된 펄스를 반사하여 경로를 조절하는 제1빔스플리터, 상기 제1빔스플리터에서 경로가 조절된 펄스는 제1증폭매질을 통과하여 제3증폭되고, 상기 제3증폭된 펄스는 상기 제1미러에서 경로가 조절되어 상기 제2미러 방향으로 향하며, 상기 제2미러에서 경로가 조절된 펄스는 상기 제2증폭매질 방향으로 향하고, 상기 제2증폭매질을 통과하여 제4증폭된 펄스는 상기 제2빔스플리터에서 경로가 조절되어 송출되며, 상기 레이저 생성부에서 공급 되는 상기 펄스는 상기 제1빔스플리트를 투과하여 상기 제1증폭매질 방향으로 향하는, 피부 치료용 레이저 장치를 제공한다.According to another aspect of the present invention, the present invention includes a laser generator for generating a pulse width-controlled pulse and a laser amplifier for amplifying a pulse supplied from the laser generator, the laser amplifier, the laser generation A first amplifying medium for firstly amplifying a pulse supplied from a negative portion, a first mirror for adjusting a path of a first amplified pulse while passing through the first amplifying medium, and a second pulse in which the path is adjusted in the first mirror A second amplifying medium, which is spaced apart from the first amplifying medium, a second amplifying medium which amplifies a pulse supplied from the second mirror, the first amplifying medium, and the second amplifying medium; A first pumping lamp disposed to be spaced apart from the first amplifying medium and the second amplifying medium, a second beam splitter for passing a second amplified pulse from the second amplifying medium, and a second beam splitter A third mirror disposed to face the second amplification medium with a gap between the second amplification medium and the second amplification medium reflecting a second amplified pulse passing through the second beam splitter to adjust a path; A first wave plate disposed between a mirror and the second beam splitter to change polarization or phase of a pulse passing through the second beam splitter toward the third mirror, the first amplifying medium being interposed therebetween A first beam splitter disposed to face the mirror and adjusting a path by reflecting a pulse whose path is adjusted in the third mirror, and a pulse whose path is adjusted in the first beam splitter passes through a first amplifying medium The amplified, the third amplified pulse is a path controlled in the first mirror toward the second mirror direction, the path controlled pulse in the second mirror is directed toward the second amplification medium direction The fourth amplified pulse passing through the second amplifying medium is controlled by a path of the second beam splitter and is transmitted. The pulse supplied from the laser generator passes through the first beam split to transmit the first amplified signal. Provided is a laser treatment device for skin treatment facing the medium.
본 발명에 따른 피부 치료용 레이저 장치는 다음과 같은 효과가 있다.Laser treatment device for skin according to the present invention has the following effects.
첫째, 레이저 생성부에서 생성되는 펄스의 폭을 간편하게 조절할 뿐만 아니라, 레이저 증폭부에서 펄스의 증폭을 용이하게 할 수 있다.First, not only can easily adjust the width of the pulse generated in the laser generator, it can also facilitate the amplification of the pulse in the laser amplifier.
둘째, 펄스의 폭의 조절이 용이하여 다양한 펄스 파를 쉽게 생성할 수 있다.Second, the pulse width can be easily adjusted to easily generate various pulse waves.
셋째, 다이오드 레이저를 이용한 On/Off 제어를 이용하기 ??문에 조작이 쉽다.Third, it is easy to operate because it uses On / Off control using a diode laser.
넷째, 레이저 증폭부에서 펄스를 증폭하여 출력할 수 있기 때문에, 피부 치료 대상자에게 다양한 펄스 파장, 펄스 폭 및 에너지를 가지는 펄스를 연속적 또는 비연속적으로 출력할 수 있다. 특히 레이저 증폭부의 구조가 매우 단순하여 펄스의 증폭이 용이하다.Fourth, since the laser amplification unit can amplify and output pulses, pulses having various pulse wavelengths, pulse widths, and energies can be continuously or discontinuously output to the skin treatment subject. In particular, the structure of the laser amplifier is very simple, so it is easy to amplify the pulse.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치의 모식도이다.
도 2는 도 1에 따른 피부 치료용 레이저 장치의 레이저 생성부의 구성을 나타내는 블록도이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 피부 치료용 레이저 장치의 모식도이다.
도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치의 모식도이다.1 is a schematic diagram of a laser treatment device for skin according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a block diagram illustrating a configuration of a laser generating unit of the laser device for treating skin according to FIG. 1.
3 is a schematic diagram of a laser apparatus for treating skin in another embodiment of the present invention.
Figure 4 is a schematic diagram of a laser treatment device for skin according to another embodiment of the present invention.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치(100)는 레이저 생성부(110), 레이저 증폭부(120) 및 제어부(130)를 포함한다. 상기 레이저 생성부(110)는 레이저 소스 생성부(111) 및 펄스폭 조절부(112)를 포함한다.1 and 2, the
상기 레이저 소스 생성부(111)는 시드 레이저(Seed Laser)를 방출한다. 상기 레이저 소스 생성부(111)는 1064nm 파장의 레이저 다이오드로 형성된다. 상기 레이저 소스 생성부(111)는 On/Off 제어를 통해 레이저 펄스를 생성한다. 그리고 상기 레이저 소스 생성부(111)에서 생성된 펄스는 100피코초(ps) 내지 수십밀리세컨초(ms)의 펄스폭으로 가변될 수 있다. 상기 레이저 소스 생성부(111)에서 생성되는 레이저 펄스는 상기 제어부(130)의 입력 신호에 따라 상기 펄스폭 조절부(112)에서 실시간으로 상기 레이저 펄스의 폭을 가변할 수 있다. 또한 상기 레이저 소스 생성부(111)에서 생성된 펄스는 P파로 형성된다. 상기 레이저 소스 생성부(111)는 단일 또는 복수의 레이저 펄스를 생성할 수 있다. 하지만 본 발명은 이에 한정되지 않고 상기 레이저 소스 생성부(111)를 다른 종류로 변경 가능하다.The
상기 펄스폭 조절부(112)는 상기 레이저 소스 생성부(111)에서 생성되는 레이저 소스의 에너지, 펄스 폭, 펄스 개수를 조절하여 복수의 서로 다른 에너지, 펄스 폭 및 펄스 개수를 갖는 변조된 레이저 소스를 생성한다. 상기 펄스폭 조절부(112)의 상기 조절은 상기 제어부(130)의 신호에 따라서 수행된다. 상기 펄스 폭 조절부(112)는 전용 드라이버를 포함한다. 상기 다이오드 레이저의 전용 드라이버는 100ps 이하의 짧은 라이징 타임(Rising Time)을 가지고 있어서, 수백 ps의 펄스 폭 제어가 가능한 것을 이용한다. 상기 다이오드 레이저의 전용 드라이버의 경우, ps의 짧은 펄스용 드라이버 또는 ms 이상의 펄스를 제어하는 드라이버 중 선택하여 이용할 수 있다.The pulse
상기 펄스폭 조절부(112)는 상기 복수의 변조된 레이저 소스 중 어느 하나 또는 상기 레이저 소스 생성부(111)에서 생성된 레이저 소스 중 어느 하나를 상기 레이저 증폭부(120)로 송출한다. 물론 상기 펄스폭 조절부(112)는 상기 복수의 변조된 레이저 소스 중 어느 하나와 상기 레이저 소스 생성부(111)에서 생성된 레이저 소스를 교번하여 상기 레이저 증폭부(120)로 송출할 수도 있다. 또한 상기 복수의 변조된 레이저 소스와 상기 레이저 소스 생성부(111)에서 생성된 레이저 소스를 교번하여 상기 레이저 증폭부(120)로 송출할 수도 있고, 상기 복수의 변조된 레이저 소스를 교번하여 상기 레이저 증폭부로 송출할 수도 있다. 상기 레이저 생성부(120)는 상기 제어부(130)의 입력 신호에 따라 실시간으로 펄스 폭을 가변하는 것이 가능하다. 따라서 간편하게 다양한 펄스 폭을 가진 레이저 펄스를 생성하는 것이 가능한 장점이 있다.The pulse
상기 레이저 증폭부(120)는 제1빔스플리터(123), 제1증폭매질(121a), 제1미러(122a), 제1웨이브플레이트(124), 제2미러(122b), 제2증폭매질(121b), 제3미러(122c), 제4미러(122d), 제3증폭매질(121c), 제5미러(122e), 제6미러(122f), 제4증폭매질(121d), 제7미러(122g), 제8미러(122h), 제1렌즈(125a), 제2렌즈(125b), 제1펌핑 램프(126a), 제2펌핑 램프(126b) 및 2차 조화파 발생장치(127)를 포함한다. 상기 제1빔스플리터(123)는 P편광은 투과하고 S편광은 반사시킨다. 따라서 상기 레이저 생성부(110)에서 공급 받은 레이저 펄스는 P파 이므로 상기 제1빔스플리터(123)를 그대로 투과한다. 또한 상기 제1빔스플리터(123)는 상기 레이저 생성부(110)에서 공급 받은 레이저 소스의 진행 방향과 동일축 상에 배치된다. 물론 상기 제1빔스플리터(123)의 배치는 변경될 수 있다. 제1빔스플리터(123)의 다른 역할은 후술한다.The
상기 제1증폭매질(121a)은 상기 레이저 생성부(110)로부터 공급되는 레이저 소스가 단일 또는 복수 회 통과하면서 증폭되도록 하는 역할을 수행한다. 상기 제1펌핑 램프(126a)는 상기 제1증폭매질(121a) 내의 이온들을 여기시키기 위하여 상기 제1증폭매질(121a)에 빛을 비춘다. 상기 제1펌핑 램프(126a)는 상기 제1증폭매질(121a)과 이격되어 배치된다. 상기 제1증폭매질(121a)은 로드(rod) 구조로 형성된다. 그리고 상기 제1증폭매질(121a)은 Nd:YAG로 형성된다. 하지만 본 발명은 상기 제1증폭매질(121a)의 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.The
그리고 상기 제1증폭매질(121a)은 상기 제1빔스플리터(123)와 동일 축 상에 배치된다. 따라서 상기 제1빔스플리터(123)를 투과한 상기 레이저 펄스는 상기 제1증폭매질(121a)을 통과하면서 제1증폭 된다.The
상기 제1미러(122a)는 상기 제1빔스플리터(123) 및 상기 제1증폭매질(121a)과 동일 축 상에 배치된다. 따라서 상기 제1증폭매질(121a)을 통과하여 제1증폭된 상기 레이저 펄스를 상기 제1증폭매질(121a) 방향으로 반사하는 전부 반사 거울이다. 상기 제1미러(122a)는 상기 제1증폭매질(121a)을 통과하면서 제1증폭된 상기 레이저 펄스를 상기 제1증폭매질(121a)에 의해 다시 한번 증폭 시키기 위해 되돌려 보내는 역할을 한다. The
이 때 상기 제1증폭매질(121a)과 상기 제1미러(122a) 사이에는 제1웨이브플레이트(124)가 배치된다. 상기 제1웨이브플레이트(124)는 상기 제1웨이브플레이트(124)를 통과하는 파의 위상을 1/4파장 변경시키는 쿼터 웨이브플레이트(QWP, Quarter-Wave-Plate)로 형성된다. 즉, 상기 제1웨이브플레이트(122c)는 상기 제1증폭매질(121a)을 통과하여 상기 제1미러(122a)로 향하는 상기 레이저 펄스의 위상을 1/4파장 변경시키고, 상기 제1미러(122a)에 반사되어 상기 제1증폭매질(121a)로 되돌아 가는 레이저 펄스의 위상을 다시 1/4파장 변경 시킨다. 따라서 상기 레이저 생성부(110)로부터 공급 받은 P파는 상기 제1웨이브플레이트(124)를 두 번 통과하면서 S파로 변경된다. 이는 상기 제1빔스플리터(123)로 다시 되돌아 갈 때 투과하지 않고 반사되어 상기 레이저 펄스의 진행 경로가 변경되도록 하기 위함이다.At this time, a
상기 제1웨이브플레이트(124)를 두 번 통과한 후 다시 상기 제1증폭매질(121a)로 되돌아 가는 상기 레이저 펄스는 상기 제1증폭매질(121a)을 통과하면서 제2증폭 된다. 상기 제2증폭된 레이저 펄스는 상기 제1빔스플리터(123)에서 경로가 조절된다. 즉, 상기 제2증폭된 레이저 펄스는 상기 제1빔스플리터(123)에 반사되어 경로가 90도 변경된다.The laser pulse that passes through the
상기 제2미러(122b)는 상기 제1빔스플리터(123) 상측에 형성된다. 따라서 상기 제1빔스플리터(123)에 반사된 레이저 펄스는 상기 제2미러(122b)에서 반사된다. 상기 제2미러(122b)는 상기 제1빔스플리터(123)에서 공급 받은 레이저 펄스가 상기 제2증폭매질(121b) 방향으로 반사되도록 배치된다.The
상기 제2증폭매질(121b)은 상기 제2미러(122b)에서 반사된 레이저 펄스를 제3증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제2증폭매질(121b)은 상기 제1증폭매질(121a)과 이격되어 배치된다. 상기 제2증폭매질(121b) 내의 이온들은 상기 제1펌핑 램프(126a)에 의해 여기될 수 있다. 상기 제2증폭매질(121b)은 로드(rod) 구조로 형성된다. 그리고 상기 제2증폭매질(121a)은 Nd:YAG로 형성된다. 하지만 본 발명은 상기 제2증폭매질(121b)의 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.The
그리고 상기 제2증폭매질(121b)은 상기 제1증폭매질(121a)의 상측에 배치된다. 또한 상기 제2증폭매질(121b)은 상기 제2미러(122b)와 동일 축 상에 배치된다. 즉, 상기 제2증폭매질(121b)은 상기 제2미러(122b)의 배치 위치에 따라 상기 제1증폭매질(121a)의 하측에 배치될 수도 있다.The
상기 제3미러(122c)는 상기 제2증폭매질(121b)을 사이에 두고 상기 제2미러(122b)와 대향되도록 배치된다. 그리고 상기 제3미러(122c)는 상기 제2증폭매질(121b)을 통과하면서 상기 제3증폭된 레이저 펄스를 반사하여 경로를 조절한다. 즉, 상기 제3미러(122c)는 상기 제2증폭매질(121b)을 통과한 상기 레이저 펄스를 반사하여 경로를 90도 변경하는 역할을 한다. 물론 상기 제3미러(122c)에서 반사되는 레이저 펄스의 반사각도는 변경이 가능하다. 상기 제3미러(122c) 또한 상기 제2미러(122b) 및 상기 제2증폭매질(121b)과 동일 축 상에 배치된다.The
상기 제4미러(122d)는 상기 제3미러(122c)에서 공급 받은 레이저 펄스를 상기 제3증폭매질(121c) 방향으로 반사시킨다. 이 때 상기 제3미러(122c)에서 상기 제4미러(122d)로 향하는 레이저 펄스의 진행 경로에는 상기 레이저 펄스의 공간적 크기를 조절하기 위한 렌즈부(125a, 125b)를 더 포함할 수 있다. 상기 렌즈부(125a, 125b)는 제1렌즈(125a) 및 제2렌즈(125b)를 포함할 수 있다. 상기 렌즈부(125a, 125b)는 상기 제1렌즈(125a)와 상기 제2렌즈(125b) 사이의 거리를 조절하여 상기 제3미러(122c)에서 상기 제4미러(122d) 방향으로 향하는 레이저 펄스의 공간 크기를 조절한다.The
상기 제3증폭매질(121c)은 상기 제4미러(122b)에서 반사된 레이저 펄스를 제4증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제3증폭매질(121c)은 상기 제4증폭매질(121d)과 이격되어 배치된다. 상기 제3증폭매질(121c) 내의 이온들은 상기 제2펌핑 램프(126b)에 의해 여기될 수 있다. 상기 제3증폭매질(121c)은 로드(rod) 구조로 형성된다. 그리고 상기 제3증폭매질(121c)은 Nd:YAG로 형성된다. 하지만 본 발명은 상기 제3증폭매질(121c)의 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.The
상기 제5미러(122e)는 상기 제3증폭매질(121c)을 사이에 두고 상기 제4미러(125b)와 대향하도록 배치된다. 상기 제5미러(122e)는 상기 제3증폭매질(121c)을 통과하면서 제4증폭된 레이저 펄스를 반사하여 경로를 조절한다. 즉, 상기 제5미러(122e)는 상기 제3증폭매질(121c)을 통과한 상기 레이저 펄스를 반사하여 경로를 90도 변경하는 역할을 한다. 물론 상기 제5미러(122e)에서 반사되는 레이저 펄스의 반사각도는 변경이 가능하다. 상기 제5미러(122e)는 상기 제4미러(122d) 및 상기 제3증폭매질(121c)과 동일 축 상에 배치된다.The
상기 제6미러(122f)는 상기 제5미러(122e)에서 공급 받은 레이저 펄스를 상기 제4증폭매질(121d) 방향으로 반사시킨다. 본 실시예에서 상기 제6미러(122f)는 상기 제5미러(122e)와 별개로 형성되어 있지만, 상기 제5미러(122e)와 상기 제6미러(122f)는 하나의 미러로 형성될 수도 있다.The
상기 제4증폭매질(121d)은 상기 제6미러(122f)에서 반사된 레이저 펄스를 제5증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제4증폭매질(121d)은 상기 제3증폭매질(121c)과 이격되어 배치된다. 상기 제4증폭매질(121d) 내의 이온들은 상기 제2펌핑 램프(126b)에 의해 여기될 수 있다. 상기 제4증폭매질(121d)은 로드(rod) 구조로 형성된다. 그리고 상기 제4증폭매질(121d)은 Nd:YAG로 형성된다. 하지만 본 발명은 상기 제4증폭매질(121d)의 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.The
상기 제7미러(122g)는 상기 제4증폭매질(121d)을 사이에 두고 상기 제6미러(122f)와 대향하도록 배치된다. 그리고 상기 제7미러(122g)는 상기 제4증폭매질(121d)을 통과한 레이저 펄스를 반사하여 상기 제8미러(122h) 방향으로 경로를 조절한다.The
상기 제8미러(122h)는 상기 제7미러(122g)의 일측에 배치되고, 상기 제7미러(122g)로부터 공급 받은 레이저 펄스의 경로를 조절한다. 상기 제8미러(122h)에서 경로가 조절된 상기 레이저 펄스는 상기 레이저 증폭부(120)로 출력된다. 하지만 본 발명은 이에 한정되지 않고 상기 제7미러(122g)에서 직접 상기 레이저 증폭부(120)로 레이저 펄스를 출력할 수도 있다.The
상기 2차 조화파 발생장치(SHG, Second Harmonic Generator)(127)는 상기 제7미러(122g) 또는 상기 제8미러(122h)에서 출력되는 상기 레이저 펄스의 파장을 변화시킨다. 상기 2차 조화파 발생장치(127)는 상기 제7미러(122g) 또는 상기 제8미러(122h)에서 출력되는 레이저 펄스가 진행하는 경로에 배치된다. 상기 2차 조화파 발생장치(127)는 공지의 파장 변화 방식과 유사하게 상기 제8미러(122h)에서 출력되는 상기 레이저 펄스의 파장을 변화시킨다.The second harmonic generator (SHG) 127 changes the wavelength of the laser pulse output from the
상기 제어부(130)는 상기 레이저 생성부(110) 및 상기 레이저 증폭부(120)를 제어하는 역할을 한다. 즉, 상기 제어부(130)는 상기 레이저 소스 생성부(111) 및 상기 펄스폭 조절부(112)에 신호를 가하여 생성되는 레이저 소스의 에너지 및 펄스 폭 등을 조절한다. 이 때 상기 제어부(130)는 상기 레이저 생성부(110)에 포함되어 있는 다이오드 레이저의 전용 드라이버를 이용하여 펄스 폭이 가변되도록 한다. 상기 다이오드 레이저의 전용 드라이버는 100ps 이하의 짧은 라이징 타임(Rising Time)을 가지고 있어서, 수백 ps의 펄스 폭 제어가 가능한 것을 이용한다. 상기 다이오드 레이저의 전용 드라이버의 경우, ps의 짧은 펄스용 드라이버 또는 ms 이상의 펄스를 제어하는 드라이버 중 선택하여 이용할 수 있다.The
또한 상기 제어부(130)는 상기 레이저 증폭부(120)의 제1펌핑 램프(126a) 및 제2펌핑 램프(126b)에 신호를 가하여 상기 제1증폭매질(121a), 상기 제2증폭매질(121b), 상기 제3증폭매질(121c) 및 상기 제4증폭매질(121d)의 상태를 조절할 수도 있다. 또한 상기 제어부(130)는 상기 레이저 증폭부(120)에서 출력되는 레이저 펄스가 요구되는 에너지 수준을 갖지 못한 경우 상기 레이저 생성부(110)에 신호를 전달하여 생성되는 레이저 펄스를 조절할 수도 있다.In addition, the
본 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치(100)는 레이저 생성부(110)에서 간편하게 펄스 폭을 가변할 수 있고, 상기 레이저 생성부(110)에서 생성된 레이저 펄스를 여러 번 반복적으로 증폭할 수 있는 구조를 가짐으로써, 상기 레이저 생성부(110)에서 생성된 작은 에너지의 레이저 펄스를 큰 에너지의 레이저 펄스로 증폭할 수 있는 장점이 있다.The
도 1에서는, 상기 제1펌핑 램프(126a) 및 상기 제2펌핑 램프(126b)가 각각 1개 배치되어 있지만, 본 발명은 이에 한정되지 않는다. 상기 제1펌핑 램프(126a) 및 상기 제2펌핑 램프(126b)는 각각 2개의 램프를 포함하는 구조를 가져서, 상기 제1펌핑 램프(126a)의 각 램프가 상기 제1증폭매질(121a) 및 상기 제2증폭매질(121b)에 빛을 조사하고, 상기 제2펌핑 램프(126b)의 각 램프가 상기 제3증폭매질(121c) 및 상기 제4증폭매질(121d)에 빛을 조사하게 할 수도 있다. 이 경우, 상기 레이저 증폭부(120)의 제어가 용이해지는 효과가 있다.In FIG. 1, one
도 3을 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치(200)는 레이저 생성부(210), 레이저 증폭부(220) 및 제어부(230)를 포함한다. 또한 상기 레이저 생성부(210)는 도 1에 따른 레이저 생성부(110)와 같이 레이저 소스 생성부(미도시)와 펄스폭 조절부(미도시)를 포함할 수 있다. 본 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치(200)에서 상기 레이저 생성부(210) 및 상기 제어부(230)는 도 1에 따른 피부 치료용 레이저 장치(100)와 유사한바 설명을 생략한다.Referring to FIG. 3, the
상기 레이저 증폭부(220)는 제1빔스플리터(223a), 제1증폭매질(221a), 제1미러(222a), 제1웨이브플레이트(224a), 제2미러(222b), 제2웨이브플레이트(224b), 제2증폭매질(221b), 제1펌핑 램프(226), 제3미러(222c), 제2빔스플리터(223b), 제3웨이브플레이트(224c), 제1렌즈(225a), 제2렌즈(225b) 및 제4미러(222d)를 포함한다. 도면에 도시되지는 않았지만 도 1에서와 같은 2차 조화파 발생장치(미도시)가 더 포함될 수도 있다. 상기 제1빔스플리터(223a)는 P편광은 투과하고 S편광은 반사시킨다. 따라서 상기 레이저 생성부(210)에서 공급 받은 레이저 펄스는 도 1에 따른 레이저 생성부(110) 에서와 같이 P파 이므로 상기 제1빔스플리터(223a)를 그대로 투과한다. 또한 상기 제1빔스플리터(223a)는 상기 레이저 생성부(210)에서 공급 받은 레이저 소스의 진행 방향과 동일축 상에 배치된다. 물론 상기 제1빔스플리터(223a)의 배치는 변경될 수 있다.The
상기 제1증폭매질(221a)은 상기 레이저 생성부(210)로부터 공급되는 레이저 소스를 증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제1펌핑 램프(226)는 상기 제1증폭매질(221a) 내의 이온들을 여기시키기 위하여 상기 제1증폭매질(221a)에 빛을 비춘다. 상기 제1펌핑 램프(226a)는 상기 제1증폭매질(221a)과 이격되어 배치된다. 상기 제1증폭매질(221a)은 로드(rod) 구조로 형성된다. 그리고 상기 제1증폭매질(221a)은 Nd:YAG로 형성된다. 하지만 본 발명은 상기 제1증폭매질(221a)의 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.The
그리고 상기 제1증폭매질(221a)은 상기 제1빔스플리터(223a)와 동일 축 상에 배치된다. 따라서 상기 제1빔스플리터(223a)를 투과한 상기 레이저 펄스는 상기 제1증폭매질(221a)을 통과하면서 제1증폭 된다.The
상기 제1미러(222a)는 상기 제1빔스플리터(223a) 및 상기 제1증폭매질(221a)과 동일 축 상에 배치된다. 또한 상기 제1미러(222a)는 상기 제1빔스플리터(223a)와 상기 제1증폭매질(221a)을 사이에 두고 대향하도록 배치된다. 그리고 상기 제1증폭매질(221a)을 통과하여 제1증폭된 상기 레이저 펄스를 상기 제1증폭매질(221a) 방향으로 반사하는 전부 반사 거울이다. 상기 제1미러(222a)는 상기 제1증폭매질(221a)을 통과하면서 제1증폭된 상기 레이저 펄스를 상기 제1증폭매질(121a)에 의해 다시 한번 증폭 시키기 위해 되돌려 보내는 역할을 한다.The
이 때 상기 제1증폭매질(221a)과 상기 제1미러(222a) 사이에는 제1웨이브플레이트(224a)가 배치된다. 상기 제1웨이브플레이트(124)는 상기 제1웨이브플레이트(224a)를 통과하는 파의 위상을 1/4파장 변경시키는 쿼터 웨이브플레이트(QWP, Quarter-Wave-Plate)로 형성된다. 그리고 상기 제1증폭매질(221a)을 통과한 후, 상기 제1웨이브플레이트(224a)를 통과하여 상기 제1미러(222a)로 향하는 레이저 펄스 및 상기 제1미러(222a)에 반사되어 상기 제1웨이브플레이트(224a)로 향하는 레이저 펄스는 원형편광되어 진행한다. 즉, 상기 제1웨이브플레이트(224a)는 상기 제1증폭매질(221a)을 통과하여 상기 제1미러(222a)로 향하는 상기 레이저 펄스의 위상을 1/4파장 변경시키고, 상기 제1미러(222a)에 반사되어 상기 제1증폭매질(221a)로 되돌아 가는 레이저 펄스의 위상을 다시 1/4파장 변경 시킨다. 따라서 상기 레이저 생성부(210)로부터 공급 받은 P파는 상기 제1웨이브플레이트(224a)를 두 번 통과하면서 S파로 변경된다. 이는 상기 제1빔스플리터(223a)로 다시 되돌아 갈 때 투과하지 않고 반사되어 상기 레이저 펄스의 진행 경로가 변경되도록 하기 위함이다.At this time, a
상기 제1웨이브플레이트(224a)를 두 번 통과한 후 다시 상기 제1증폭매질(221a)로 되돌아 가는 상기 레이저 펄스는 상기 제1증폭매질(221a)을 통과하면서 제2증폭 된다. 상기 제2증폭된 레이저 펄스는 상기 제1빔스플리터(223a)에서 경로가 조절된다. 즉, 상기 제2증폭된 레이저 펄스는 상기 제1빔스플리터(223a)에 반사되어 경로가 90도 변경된다.The laser pulse that passes through the
상기 제2미러(222b)는 상기 제1빔스플리터(223a)의 경로가 90도 변경된 일측에 배치된다. 따라서 상기 제1빔스플리터(223a)에 반사된 레이저 펄스는 상기 제2미러(222b)에서 반사된다. 상기 제2미러(222b)는 상기 제1빔스플리터(223a)에서 공급 받은 레이저 펄스가 상기 제2증폭매질(221b) 방향으로 반사되도록 배치된다.The
상기 제2웨이브플레이트(224b) 상기 제2미러(222b)에서 반사되어 상기 제2증폭매질(221b) 방향으로 향하는 레이저 펄스의 위상을 변경한다. 이 때 상기 제2웨이브플레이트(224b)는 상기 제1웨이브플레이트(224a)와는 달리 하프 웨이브플레이트(HWP, Half Wave Plate)로 형성된다. 즉 상기 제2웨이브플레이트(224b)로 공급 되는 레이저 펄스는 S파 이고, 상기 제2웨이브플레이트(224b)를 통과한 레이저 펄스는 파의 위상이 1/2파장 변경되어 P파가 된다. 이는 상기 제2미러(224b)에서 반사된 레이저 펄스가 상기 제2웨이브플레이트(224b)를 사이에 두고 상기 제2미러(224b)와 대향하도록 배치되는 상기 제2빔스플리터(223b)를 투과하도록 하기 위함이다.The phase of the laser pulse reflected from the
상기 제2빔스플리터(223b)는 상기 제2웨이브플레이트(224b)와 상기 제2증폭매질(221b) 사이에 배치된다. 상기 제2빔스플리터(223b)는 상기 제2웨이브플레이트(224b)를 통과한 레이저 펄스가 P파이므로 반사하지 않고 투과시킨다.The
상기 제1렌즈(225a) 및 상기 제2렌즈(225b)는 상기 제2빔스플리터(223b)와 상기 제2웨이브플레이트(224b) 사이에 배치된다. 상기 제1렌즈(225a) 및 상기 제2렌즈(225b)는 상기 제2미러(222b)에서 반사된 레이저 펄스의 공간적 크기를 조절한다.The
상기 제2증폭매질(221b)은 상기 제2빔스플리터(223b)를 투과하여 공급되는 레이저 소스를 제3증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제1펌핑 램프(226)는 상기 제2증폭매질(221b) 내의 이온들을 여기시키기 위하여 상기 제2증폭매질(221b)에 빛을 비춘다. 상기 제1펌핑 램프(226)는 상기 제2증폭매질(221b)과 이격되어 배치된다. 상기 제2증폭매질(221b)은 로드(rod) 구조로 형성된다. 그리고 상기 제2증폭매질(221b)은 Nd:YAG로 형성된다. 하지만 본 발명은 상기 제2증폭매질(221b)의 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.The
상기 제3미러(222c)는 상기 제2증폭매질(221b)을 통과하면서 제3등폭된 레이저 펄스를 반사하여 상기 제2증폭매질(221b) 방향으로 되돌아 가도록 하는 역할을 한다. 이 때 상기 제3미러(222c)와 상기 제2증폭매질(221b) 사이에는 제3웨이브플레이트(224c)가 배치된다. 상기 제3웨이브플레이트(224c)는 상기 제1웨이브플레이트(224a)와 같이 쿼터 웨이브플레이트로 형성된다. 따라서 상기 제2증폭매질(221b)로부터 상기 제3미러(222c)로 진행하면서 상기 레이저 펄스는 1/4파장 위상이 변경되고, 상기 제3미러(222c)에서 상기 제2증폭매질(221b)로 되돌아 오면서 상기 레이저 펄스는 1/4파장 위상이 변경된다. 그리고 상기 제2증폭매질(221b)을 통과한 후, 상기 제3웨이브플레이트(224c)를 통과하여 상기 제3미러(222c)로 향하는 레이저 펄스 및 상기 제3미러(222c)에 반사되어 상기 제3웨이브플레이트(224c)로 향하는 레이저 펄스는 원형편광되어 진행한다. 즉, 상기 제2증폭매질(221b)로 돌아오는 상기 레이저 펄스는 P파에서 S파로 파형이 변경된다.The
상기 제2빔스플리터(223b)는 상기 제3미러(222c)에서 반사되어 상기 제2증폭매질(221b)을 통과하여 제4증폭되는 레이저 펄스를 반사하여 경로를 조절한다. 상기 제2빔스플리터(223b)에서 반사되어 경로가 조절된 상기 레이저 펄스는 상기 제2빔스플리터(223b)의 일측에 배치되는 제4미러(222d)에 반사되어 출력된다.The
본 실시예에 따른 장치(200)는 도 1에 따른 장치(100)와 비교할 때 증폭 횟수는 4회로 한 번이 적지만 도 1에 따른 장치(100) 보다 구조가 간단한 장점이 있다. 또한 4회의 증폭이 있으므로 상기 레이저 생성부(210)에서 생성된 낮은 에너지의 레이저 펄스를 충분히 큰 에너지를 갖는 레이저 펄스로 증폭이 가능하다.Compared to the
도 4를 참조하면, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치(300)는 레이저 생성부(310), 레이저 증폭부(320) 및 제어부(330)를 포함한다. 상기 레이저 생성부(310)는 도면에는 도시하지 않았지만, 레이저 소스 생성부(미도시) 및 펄스폭 조절부를 포함할 수 있다. 상기 레이저 생성부(310) 및 상기 제어부(330)는 상기 도 1에 따른 피부 치료용 레이저 장치(100)와 유사하므로 설명을 생략한다.Referring to FIG. 4, the
상기 레이저 증폭부(320)는 제1빔스플리터(323a), 제1증폭매질(321a), 제1미러(322a), 제2미러(322b), 제1렌즈(325a), 제2렌즈(325b), 제2증폭매질(321b), 제1펌핑 램프(326), 제2빔스플리터(323b), 제1웨이브플레이트(324), 제3미러(322c) 및 제4미러(322d)를 포함한다. 도면에 도시되지는 않았지만 도 1에서와 같은 2차 조화파 발생장치(미도시)가 더 포함될 수도 있다. 상기 제1빔스플리터(323a)는 P편광은 투과하고 S편광은 반사시킨다. 따라서 상기 레이저 생성부(310)에서 공급 받은 레이저 펄스는 도 1에 따른 레이저 생성부(310) 에서와 같이 P파 이므로 상기 제1빔스플리터(323a)를 그대로 투과한다. 또한 상기 제1빔스플리터(323a)는 상기 레이저 생성부(310)에서 공급 받은 레이저 소스의 진행 방향과 동일축 상에 배치된다. 물론 상기 제1빔스플리터(323a)의 배치는 변경될 수 있다.The
상기 제1증폭매질(321a)은 상기 레이저 생성부(310)로부터 공급되는 레이저 소스를 증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제1펌핑 램프(326)는 상기 제1증폭매질(321a) 내의 이온들을 여기시키기 위하여 상기 제1증폭매질(321a)에 빛을 비춘다. 상기 제1펌핑 램프(326)는 상기 제1증폭매질(321a)과 이격되어 배치된다. 상기 제1증폭매질(321a)은 로드(rod) 구조로 형성된다. 그리고 상기 제1증폭매질(321a)은 Nd:YAG로 형성된다. 하지만 본 발명은 상기 제1증폭매질(321a)의 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.The
그리고 상기 제1증폭매질(321a)은 상기 제1빔스플리터(323a)와 동일 축 상에 배치된다. 따라서 상기 제1빔스플리터(323a)를 투과한 상기 레이저 펄스는 상기 제1증폭매질(321a)을 통과하면서 제1증폭 된다.The
상기 제1미러(322a)는 상기 제1증폭매질(321a)을 사이에 두고 상기 제1빔스플리터(323a)와 대향하도록 배치된다. 상기 제1미러(322a)는 상기 제1증폭매질(321a)을 통과한 레이저 펄스를 반사하여 경로를 변경시킨다.The
상기 제2미러(322b)는 상기 제1미러(322a)에 의해 경로가 변경된 레이저 펄스를 반사하여 다시 경로를 변경시킨다. 상기 제2미러(322b)는 상기 제1미러(322a)의 일측에 배치된다.The
상기 제2증폭매질(321b)은 상기 제2미러(322b)에서 반사된 레이저 펄스를 제2증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제2증폭매질(321b)은 상기 제1증폭매질(321a)과 이격되어 배치된다. 상기 제1펌핑 램프(326)는 상기 제2증폭매질(321b) 내의 이온들을 여기시키기 위하여 상기 제2증폭매질(321b)에 빛을 비춘다. 상기 제1펌핑 램프(326)는 상기 제2증폭매질(321b)과 이격되어 배치된다. 상기 제1증폭매질(321b)은 로드(rod) 구조로 형성된다. 그리고 상기 제1증폭매질(321b)은 Nd:YAG로 형성된다. 하지만 본 발명은 상기 제1증폭매질(321b)의 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.The
그리고 상기 제2증폭매질(321b)은 상기 제2미러(322b)와 동일 축 상에 배치된다. 따라서 상기 제2미러(322b)에서 반사된 상기 레이저 펄스는 상기 제2증폭매질(321b)을 통과하면서 제2증폭 된다.The
상기 제1렌즈(325a) 및 상기 제2렌즈(325b)는 상기 제2미러(322b)와 상기 제2증폭매질(321b) 사이에 배치된다. 상기 제1렌즈(325a) 및 상기 제2렌즈(325b)는 상기 제2미러(322b)에서 반사된 레이저 펄스의 공간적 크기를 조절한다.The
상기 제2빔스플리터(323b)는 상기 제2증폭매질(321b)을 사이에 두고 상기 제2미러(322b)와 대향하도록 배치된다. 상기 제2빔스플리터(323b)는 상기 제2증폭된 레이저 펄스가 P파 이므로 투과시킨다.The
상기 제3미러(322c)는 상기 제2빔스플리터(323b)를 투과한 레이저 펄스를 반사하여 경로를 변경시킨다. 상기 제3미러(322c)는 상기 제2빔스플리터(323b)를 사이에 두고 상기 제2증폭매질(321b)과 대향하도록 배치된다.The
상기 제1웨이브플레이트(324)는 상기 제2빔스플리터(323b)와 상기 제3미러(322c) 사이에 배치된다. 상기 제1웨이브플레이트(324)는 하프 웨이브플레이트로 형성된다. 따라서 상기 제1웨이브플레이트(324)를 통과하는 레이저 펄스는 파형이 P파에서 S파로 변경된다.The
상기 제3미러(322c)는 상기 제1웨이브플레이트(324)를 사이에 두고 상기 제2빔스플리터(323b)와 대향하도록 배치된다. 또한 상기 제3미러(322c)는 상기 제1빔스플리터(323a)의 일측에 배치된다. 상기 제3미러(322c)에 반사되어 경로가 변경된 레이저 펄스는 상기 제1빔스플리터(323a)로 되돌아가서 반사된다. 상기 제1빔스플리터(323a)에서 반사된 레이저 펄스는 상기 제1증폭매질(321a)로 향한다.The
상기 제1증폭매질(321a)을 통과하면서 제3증폭 되는 레이저 펄스는 상기 제1미러(322a)에서 반사되어 경로가 변경된다. 상기 제1미러(322a)에 반사되어 경로가 변경된 레이저 펄스는 상기 제2미러(322b)에 반사되어 경로가 바뀌면서 상기 제2증폭매질(321b)로 향한다.The third laser amplified laser beam passing through the
상기 제2증폭매질(321b)을 통과하면서 제4증폭되는 레이저 펄스는 제2빔스플리터(323b)에서 반사되어 경로가 변경된다. 상기 제1웨이브플레이트(324)를 통과하면서 파형이 S파로 변경되었기 때문에 상기 레이저 펄스는 상기 제2빔스플리터(323b)를 투과하지 못하고 반사되어 경로가 변경된다.The fourth laser amplified laser beam passing through the
상기 제4미러(322d)는 상기 제2빔스플리터(323b)의 일측에 배치된다. 상기 제4미러(322d)는 상기 제2빔스플리터(323b)에서 반사되는 레이저 펄서의 경로 변경하여 출력한다.The
본 실시예에 따른 장치(300)는 도 3에 따른 장치(200)와 비교할 때 증폭 횟수는 4회로 동일하면서도 웨이브플레이트의 수가 도 2에 따른 장치(200) 보다 작아 구조가 간단하면서도 증폭 효율이 좋은 장점이 있다.Compared to the
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허 청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, these are merely exemplary, and those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.
100, 200, 300,: 피부 치료용 레이저 장치
110, 210, 310: 레이저 생성부
111: 레이저 소스 생성부
112: 펄스폭 조절부
120, 220, 320: 레이저 증폭부
121a, 221a, 321a: 제1증폭매질
121b, 221b, 321b: 제2증폭매질
121c: 제3증폭매질
121d: 제4증폭매질
122a, 222a, 322a: 제1미러
122b, 222b, 322b: 제2미러
122c, 222c, 322c: 제3미러
122d, 222d, 322d: 제4미러
122e: 제5미러
122f: 제6미러
122g: 제7미러
122h: 제8미러
123a, 223a, 323a: 제1빔스플리터
223b, 323b: 제2빔스플리터
124a, 224a, 324a: 제1웨이브플레이트
224b: 제2웨이브플레이트
224c: 제3웨이브플레이트
125a, 225a, 325a: 제1렌즈
125b, 225b, 325b: 제2렌즈
126a, 226, 326: 제1펌핑 램프
126b: 제2펌핑 램프
127: 2차 조화파 발생장치
130, 230, 330: 제어부100, 200, 300 ,: laser device for skin treatment
110, 210, 310: laser generator
111: laser source generation unit
112: pulse width adjusting unit
120, 220, 320: laser amplifier
121a, 221a, 321a: first amplification medium
121b, 221b, 321b: second amplification medium
121c: third amplification medium
121d: fourth amplification medium
122a, 222a, 322a: first mirror
122b, 222b, 322b: second mirror
122c, 222c, 322c: third mirror
122d, 222d, and 322d: fourth mirror
122e: fifth mirror
122f: 6th mirror
122g: 7th mirror
122h: 8th mirror
123a, 223a, and 323a: first beam splitter
223b and 323b: second beam splitter
124a, 224a, 324a: first wave plate
224b: second wave plate
224c: third wave plate
125a, 225a, 325a: first lens
125b, 225b, and 325b: second lens
126a, 226, 326: first pumping lamp
126b: second pumping lamp
127: second harmonic generator
130, 230, 330: control unit
Claims (1)
펌핑 램프, 및 상기 펌핑 램프로부터 광 에너지를 흡수하는 로드 구조의 단일 또는 복수 개의 증폭매질을 포함하는 레이저 증폭부를 포함하고,
상기 레이저 증폭부에서는, 상기 레이저 생성부로부터 공급 받은 펄스가 상기 단일 또는 복수 개의 증폭매질 중에서 적어도 하나의 증폭매질을 외부로부터 내부로 복수 회를 관통하여 통과하면서 점차 증폭되는 피부 치료용 레이저 장치.A diode laser for generating a pulse variable that is variable with a pulse width of 100 picoseconds (ps) to 2000 picoseconds (ps) by a dedicated driver having a rising time of 100 picoseconds (ps) or less, and a diode laser generated from the diode laser A laser generator for generating a single or a plurality of pulses, including a pulse width adjusting unit for adjusting a width of a pulse; And
A pump amplifier and a laser amplifier including a single or a plurality of amplification media of a rod structure for absorbing optical energy from the pump lamp,
In the laser amplification unit, the laser device for skin treatment is gradually amplified while the pulse supplied from the laser generating unit passes at least one amplification medium of the single or a plurality of amplification medium through a plurality of times from the outside to the inside.
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2019
- 2019-07-11 KR KR1020190084036A patent/KR102064251B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (3)
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