KR102252412B1 - Laser apparatus for treatment of skin which can adjust the duration of pulse and change the wavelength easily - Google Patents

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Abstract

본 발명은 다이오드 레이저 펄스를 생성하는 다이오드 레이저 생성부, 상기 다이오드 레이저 생성부로부터 전달되는 상기 다이오드 레이저 펄스를 증폭하는 레이저 증폭부 및 상기 다이오드 레이저 생성부 및 상기 레이저 증폭부를 제어하여, 상기 레이저 증폭부에서 출력되는 펄스의 지속시간을 제어하는 제어부를 포함하고, 상기 다이오드 레이저 생성부는, 상기 다이오드 레이저 펄스를 생성하는 한 개 또는 복수 개의 다이오드 레이저 및 상기 다이오드 레이저에 각각 대응되도록 배치되며, 상기 다이오드 레이저에서 생성되는 다이오드 레이저 펄스들을 서로 다른 지속시간을 가지는 펄스들로 가변 생성시키는 한 개 또는 복수 개의 다이오드 레이저 드라이버를 포함하는, 피부 치료용 레이저 장치를 제공한다.
따라서, 가변된 레이저 펄스를 이용하여 다양한 지속시간을 가지는 레이저 펄스를 출력할 수 있다.
The present invention controls a diode laser generator for generating a diode laser pulse, a laser amplifying unit for amplifying the diode laser pulse transmitted from the diode laser generating unit, and controlling the diode laser generating unit and the laser amplifying unit, A control unit for controlling a duration of a pulse output from, and the diode laser generating unit is arranged to correspond to one or a plurality of diode lasers and the diode laser respectively generating the diode laser pulse, and in the diode laser It provides a laser device for skin treatment comprising one or a plurality of diode laser drivers for variably generating the generated diode laser pulses into pulses having different durations.
Accordingly, laser pulses having various durations can be output by using the variable laser pulse.

Description

펄스의 지속시간 조절이 용이하고, 파장 가변이 가능한 피부 치료용 레이저 장치{Laser apparatus for treatment of skin which can adjust the duration of pulse and change the wavelength easily}Laser apparatus for treatment of skin which can adjust the duration of pulse and change the wavelength easily}

본 발명은 펄스의 지속시간 조절이 용이하고, 파장 가변이 가능한 피부 치료용 레이저 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 펄스의 지속시간 조절이 용이한 레이저 생성부를 포함하는 펄스의 지속시간 조절이 용이하고, 파장 가변이 가능한 피부 치료용 레이저 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a laser device for skin treatment with easy control of pulse duration and variable wavelength, and more particularly, easy control of pulse duration including a laser generator for easy control of pulse duration and , It relates to a laser device for skin treatment capable of tunable wavelength.

최근 산업 및 연구현장에서 레이저를 이용한 분야에 대한 연구가 활발하게 진행되고 있다. 이러한 레이저는 최근 들어 피부 치료, 분광학, 나노 이미징, 입자가속, 핵융합 등의 연구분야를 비롯하여, 3D 프린팅, 조면, 통신 공연등의 생활현장과 용접, 절단, 표면 개질 등의 산업현장에서 활발하게 개발되고 있다.In recent years, research on the field using lasers has been actively conducted in industry and research sites. These lasers have recently been actively developed in research fields such as skin treatment, spectroscopy, nano-imaging, particle acceleration, and nuclear fusion, as well as life sites such as 3D printing, roughening and communication performances, and industrial sites such as welding, cutting, and surface modification. Has become.

이러한 레이저는 사용하는 용도에 따라 레이저의 지속시간, 파장 및 세기 등을 달리하는 것이 요구된다. 하지만 기존의 레이저 장치는 레이저의 지속시간, 파장 및 세기를 가변하기 위해서 고가이거나 복잡한 구조를 갖는 장비를 필요로 하는 문제가 있다.These lasers are required to vary the duration, wavelength, and intensity of the laser according to the intended use. However, the conventional laser device has a problem that requires equipment having an expensive or complex structure in order to vary the duration, wavelength, and intensity of the laser.

대한민국등록특허 제10-1898632호Korean Patent Registration No. 10-1898632

본 발명은 펄스의 지속시간 조절이 용이한 레이저 생성부를 포함하는 펄스의 지속시간 조절이 용이하고, 파장 가변이 가능한 피부 치료용 레이저 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a laser device for skin treatment, which includes a laser generator for which the duration of the pulse is easily adjusted, the duration of the pulse is easily adjusted, and the wavelength is variable.

본 발명의 일 측면에 따르면, 본 발명은 다이오드 레이저 펄스를 생성하는 다이오드 레이저 생성부, 상기 다이오드 레이저 생성부로부터 전달되는 상기 다이오드 레이저 펄스를 증폭하는 레이저 증폭부 및 상기 다이오드 레이저 생성부 및 상기 레이저 증폭부를 제어하여, 상기 레이저 증폭부에서 출력되는 펄스의 지속시간을 제어하는 제어부를 포함하고, 상기 다이오드 레이저 생성부는, 상기 다이오드 레이저 펄스를 생성하는 한 개 또는 복수 개의 다이오드 레이저 및 상기 다이오드 레이저에 각각 대응되도록 배치되며, 상기 다이오드 레이저에서 생성되는 다이오드 레이저 펄스들을 서로 다른 지속시간을 가지는 펄스들로 가변 생성시키는 한 개 또는 복수 개의 다이오드 레이저 드라이버를 포함하는, 피부 치료용 레이저 장치를 제공한다.According to an aspect of the present invention, the present invention provides a diode laser generation unit for generating a diode laser pulse, a laser amplification unit for amplifying the diode laser pulse transmitted from the diode laser generation unit, and the diode laser generation unit and the laser amplification. And a control unit controlling a unit to control a duration of a pulse output from the laser amplifying unit, and the diode laser generating unit corresponds to one or more diode lasers generating the diode laser pulse and the diode laser, respectively It is disposed so as to provide a laser device for skin treatment, including one or a plurality of diode laser drivers for variably generating diode laser pulses generated by the diode laser into pulses having different durations.

본 발명에 따른 피부 치료용 레이저 장치는 다음과 같은 효과가 있다.The laser device for skin treatment according to the present invention has the following effects.

첫째, 가변된 레이저 펄스를 이용하여 다양한 지속시간을 가지는 레이저 펄스를 출력할 수 있다.First, it is possible to output laser pulses having various durations by using a variable laser pulse.

둘째, 복수의 다이오드 레이저를 이용하여 증폭 매질의 변동 없이 서로 다른 종류의 파장을 가지는 레이저 펄스를 출력할 수 있다.Second, by using a plurality of diode lasers, it is possible to output laser pulses having different types of wavelengths without changing the amplification medium.

셋째, 구조가 간단하여 고장의 위험이나, 작동 오류의 위험이 작다.Third, due to its simple structure, the risk of failure or operation error is small.

넷째, 간편하게 가변된 레이저 펄스를 생성할 수 있기 때문에, 피부 치료 대상자에게 다양한 펄스 지속시간을 가지는 펄스를 출력할 수 있다. 특히 레이저 증폭부의 구조가 매우 단순하여 펄스의 증폭이 용이하다.Fourth, since it is possible to easily generate a variable laser pulse, it is possible to output pulses having various pulse durations to a skin treatment subject. In particular, the structure of the laser amplification unit is very simple, so it is easy to amplify the pulse.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치의 블록도이다.
도 2는 도 1에 따른 피부 치료용 레이저 장치의 다이오드 레이저 생성부를 구체적으로 나타낸 모식도이다.
도 3은 도 1에 따른 피부 치료용 레이저 장치의 다이오드 레이저 생성부에서 생성된 펄스를 구체적으로 나타낸 모식도이다.
도 4는 도 1에 따른 피부 치료용 레이저 장치의 레이저 증폭부를 구체적으로 나타낸 모식도이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 피부 치료용 레이저 장치의 모식도이다.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치의 모식도이다.
1 is a block diagram of a laser device for skin treatment according to an embodiment of the present invention.
2 is a schematic diagram showing in detail a diode laser generator of the laser device for skin treatment according to FIG. 1.
3 is a schematic diagram showing in detail the pulse generated by the diode laser generator of the laser device for skin treatment according to FIG. 1.
4 is a schematic diagram showing in detail the laser amplification unit of the laser device for skin treatment according to FIG. 1.
5 is a schematic diagram of a laser device for skin treatment according to another embodiment of the present invention.
6 is a schematic diagram of a laser device for skin treatment according to another embodiment of the present invention.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail by describing a preferred embodiment of the present invention with reference to the accompanying drawings.

도 1 내지 도 4를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치(100)는 다이오드 레이저 생성부(110), 레이저 증폭부(120) 및 제어부(130)를 포함한다. 상기 레이저 생성부(110)는 제1레이저 생성부(111) 및 제2레이저 생성부(112)를 포함한다. 상기 제1레이저 생성부(111)는 제1다이오드 레이저 드라이버(111a) 및 제1다이오드 레이저(111b)를 포함하고, 상기 제2레이저 생성부(112)는 제2다이오드 레이저 드라이버(112a) 및 제2다이오드 레이저(112b)를 포함한다. 상기 제1다이오드 레이저(111b) 및 상기 제2다이오드 레이저(111a)는 각각 시드 레이저(Seed Laser)를 방출한다. 즉, 상기 제1다이오드 레이저(111b) 및 상기 제2다이오드 레이저(111a)는 상기 레이저 증폭부(120)를 통해서 증폭 되어 출력되는 레이저의 소스가 되는 펄스를 생성하는 광원으로 형성된다. 상기 상기 제1다이오드 레이저(111b)에서 생성되는 레이저 펄스는 상기 제1다이오드 레이저 드라이버(111a)에 의해 컨트롤 되고, 상기 제2다이오드 레이저(112a)에서 생성되는 레이저 펄스는 상기 제2다이오드 레이저 드라이버(112b)에 의해 컨트롤 된다.1 to 4, the laser device 100 for skin treatment according to an embodiment of the present invention includes a diode laser generating unit 110, a laser amplifying unit 120, and a control unit 130. The laser generating unit 110 includes a first laser generating unit 111 and a second laser generating unit 112. The first laser generator 111 includes a first diode laser driver 111a and a first diode laser 111b, and the second laser generator 112 includes a second diode laser driver 112a and a first diode laser driver. It includes a two-diode laser 112b. Each of the first diode laser 111b and the second diode laser 111a emits a seed laser. That is, the first diode laser 111b and the second diode laser 111a are formed as light sources that generate pulses that are amplified and output through the laser amplifying unit 120, which are the sources of the laser. The laser pulse generated by the first diode laser 111b is controlled by the first diode laser driver 111a, and the laser pulse generated by the second diode laser 112a is the second diode laser driver ( 112b).

상기 제1다이오드 레이저(111b) 및 상기 제2다이오드 레이저(112b)는 서로 다른 파장의 다이오드 레이저 펄스를 생성한다. 상기 레이저 증폭부(120)에서 방출되는 레이저의 파장은 상기 레이저 생성부(110)로부터 전달되는 레이저의 파장에 따라 달라질 수 있다. 따라서 상기 제1다이오드 레이저(111b) 및 상기 제2다이오드 레이저(112b)의 파장을 달리 함으로써 상기 레이저 증폭부(120)에서 방출되는 레이저의 출력 파장을 변화시킬 수 있다. 그러므로 본 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치(100)는 서로 다른 파장을 갖는 상기 제1다이오드 레이저(111b) 및 상기 제2다이오드 레이저(112b) 중 어느 하나를 선택함으로써 출력 파장을 간편하게 조절할 수 있다.The first diode laser 111b and the second diode laser 112b generate diode laser pulses of different wavelengths. The wavelength of the laser emitted from the laser amplifying unit 120 may vary according to the wavelength of the laser transmitted from the laser generating unit 110. Accordingly, by changing the wavelengths of the first diode laser 111b and the second diode laser 112b, the output wavelength of the laser emitted from the laser amplifying unit 120 may be changed. Therefore, the laser device for skin treatment 100 according to the present embodiment can easily adjust the output wavelength by selecting one of the first diode laser 111b and the second diode laser 112b having different wavelengths. .

물론 상기 제1다이오드 레이저(111b) 및 상기 제2다이오드 레이저(112b)의 파장은 상기 레이저 생성부(120)에 포함되어 있는 증폭매질에서 증폭이 가능한 범위 내에 속하는 정도의 차이를 갖는다. 즉, 상기 제1다이오드 레이저(111b) 및 상기 제2다이오드 레이저(112b)의 파장 차이는 하나의 증폭매질에서 모두 증폭이 가능한 범위 내에 속한다. 구체적으로 예를 들면, 상기 레이저 생성부(120)에 포함되어 있는 증폭매질이 Nd:YAG 라고 했을 때, 상기 Nd:YAG로 증폭이 가능한 파장 범위에 상기 제1다이오드 레이저(111b) 및 상기 제2다이오드 레이저(112b)에서 생성되는 레이저의 파장이 각각 속한다는 의미이다. 하지만 본 발명은 이에 한정되지 않고 상기 제1다이오드 레이저(111b) 및 상기 제2다이오드 레이저(112b)에서 동일한 파장의 다이오드 레이저 펄스를 생성하도록 할 수도 있다.Of course, the wavelengths of the first diode laser 111b and the second diode laser 112b have a difference in a degree that falls within a range in which amplification is possible in the amplification medium included in the laser generator 120. That is, the difference in wavelength between the first diode laser 111b and the second diode laser 112b falls within a range in which all of the amplification medium can be amplified. Specifically, for example, when the amplification medium included in the laser generating unit 120 is Nd:YAG, the first diode laser 111b and the second diode are in a wavelength range that can be amplified by the Nd:YAG. This means that the wavelength of the laser generated by the diode laser 112b belongs to each. However, the present invention is not limited thereto, and the first diode laser 111b and the second diode laser 112b may generate diode laser pulses of the same wavelength.

본 실시예에서는 상기 레이저 생성부(110)가 상기 제1다이오드 레이저(111b) 및 상기 제2다이오드 레이저(112b) 두 개의 개별 다이오드 레이저를 포함하는 것을 예로 들었으나 상기 레이저 생성부(110)에 포함하는 개별 다이오드 레이저의 수는 얼마든지 변경이 가능하다. 상기 제1다이오드 레이저(111b) 및 상기 제2다이오드 레이저(112b)는 On/Off 제어를 통해 레이저 펄스를 생성한다.In the present embodiment, it was exemplified that the laser generating unit 110 includes two individual diode lasers of the first diode laser 111b and the second diode laser 112b, but included in the laser generating unit 110 The number of individual diode lasers can be changed any number of times. The first diode laser 111b and the second diode laser 112b generate laser pulses through On/Off control.

도 2의 (a)를 참조하면, 상기 제1레이저 생성부(111)는 제1다이오드 레이저 드라이버(111a) 및 제1다이오드 레이저(111b)를 포함하고, 상기 제2레이저 생성부(112)는 제2다이오드 레이저 드라이버(112a) 및 제2다이오드 레이저(112b)를 포함한다. 상기 제1다이오드 레이저 드라이버(111a)는 상기 제1다이오드 레이저(111b)를 컨트롤하여 가변된 펄스의 지속시간을 가지는 가변 레이저 펄스를 생성한다. 상기 제1다이오드 레이저(111b)로부터 생성되는 다이오드 레이저 펄스의 지속시간은 제1지속시간 내지 제2지속시간으로 형성된다. 예를 들면 상기 제1레이저 생성부(111)에서 생성되는 레이저 펄스는 피코초(ps) 내지 나노초(ns)로 형성된다.Referring to FIG. 2A, the first laser generator 111 includes a first diode laser driver 111a and a first diode laser 111b, and the second laser generator 112 And a second diode laser driver 112a and a second diode laser 112b. The first diode laser driver 111a controls the first diode laser 111b to generate a variable laser pulse having a variable pulse duration. The duration of the diode laser pulse generated from the first diode laser 111b is formed from a first duration to a second duration. For example, the laser pulse generated by the first laser generator 111 is formed in picoseconds (ps) to nanoseconds (ns).

그리고 상기 제2다이오드 레이저 드라이버(112a)는 상기 제2다이오드 레이저(112b)를 컨트롤 하여 가변된 펄스의 지속시간을 가지는 가변 레이저 펄스를 생성한다. 상기 제2다이오드 레이저(112b)로부터 생성되는 다이오드 레이저 펄스의 지속시간은 제3지속시간 내지 제4지속시간으로 형성된다. 이 때, 상기 제2레이저 생성부(112)로부터 생성되는 레이저 펄스는 상기 제1레이저 생성부(111)로부터 생성되는 레이저 펄스보다 지속시간이 길다. 즉, 상기 제3지속시간 및 상기 제4지속시간은 상기 제1지속시간 및 상기 제2지속시간보다 더 길게 형성된다. 예를 들면, 상기 제2레이저 생성부(112)에서 생성되는 레이저 펄스는 나노초(ns) 내지 밀리초(ms)로 형성된다. 이 때, 동일한 나노초(ns) 범위에 해당하더라도, 상기 제1레이저 생성부(111)에서 생성되는 나노초(ns) 범위의 레이저 펄스보다 상기 제2레이저 생성부(112)에서 생성되는 나노초(ns) 범위의 레이저 펄스의 지속시간이 길다. 물론 상기 제1레이저 생성부(111) 및 상기 제2레이저 생성부(112)로부터 생성되는 레이저 펄스의 지속시간은 드라이버 교체를 통해서 얼마든지 변경이 가능하다.In addition, the second diode laser driver 112a controls the second diode laser 112b to generate a variable laser pulse having a variable pulse duration. The duration of the diode laser pulse generated from the second diode laser 112b is formed from a third duration to a fourth duration. In this case, the laser pulse generated by the second laser generating unit 112 has a longer duration than the laser pulse generated by the first laser generating unit 111. That is, the third duration and the fourth duration are longer than the first duration and the second duration. For example, the laser pulse generated by the second laser generating unit 112 is formed in nanoseconds (ns) to milliseconds (ms). At this time, even if it falls within the same nanosecond (ns) range, nanoseconds (ns) generated by the second laser generation unit 112 than laser pulses of the nanosecond (ns) range generated by the first laser generation unit 111 The duration of the laser pulse in the range is long. Of course, the duration of the laser pulses generated by the first laser generating unit 111 and the second laser generating unit 112 can be changed as much as possible through driver replacement.

상기 제1다이오드 레이저 드라이버(111a)는 상기 제1다이오드 레이저(111b)를 컨트롤 하여 상기 제1다이오드 레이저(111b)에서 생성되는 레이저 펄스를 피코초(ps) 내지 나노초(ns)로 조절하여 시간차를 가지고 순차적으로 방출토록 한다. 그리고 상기 제2다이오드 레이저 드라이버(112a)는 상기 제2다이오드 레이저(112b)를 컨트롤 하여 상기 제2다이오드 레이저(112b)에서 생성되는 레이저 펄스를 나노초(ns) 내지 밀리초(ms)로 조절하여 시간차를 가지고 순차적으로 방출토록 한다. 이 때, 상기 제1다이오드 레이저(111b)와 상기 제2다이오드 레이저(112b)에서 순차적으로 방출된 레이저 펄스는 상기 레이저 증폭부(120)로 전달된다.The first diode laser driver 111a controls the first diode laser 111b to adjust the laser pulse generated by the first diode laser 111b in picoseconds (ps) to nanoseconds (ns) to adjust the time difference. And release them sequentially. In addition, the second diode laser driver 112a controls the second diode laser 112b to adjust the laser pulse generated by the second diode laser 112b in nanoseconds (ns) to milliseconds (ms), and the time difference And release them sequentially. In this case, laser pulses sequentially emitted from the first diode laser 111b and the second diode laser 112b are transmitted to the laser amplification unit 120.

도 2의 (b)는 상기 다이오드 레이저 생성부(110)의 다른 구조를 나타낸다. (b)는 (a)의 경우와 거의 유사하지만, 상기 제1레이저 생성부(111) 및 상기 제2레이저 생성부(112)에서 방출되는 레이저 펄스가 동일한 경로로 상기 레이저 증폭부(120)에 전달된다는 점에 차이가 있다. 이러한 차이점은 상기 제1레이저 생성부(111) 및 상기 제2레이저 생성부(112)에서 방출되는 레이저 펄스의 경로를 조절하는 제9미러(113)에 의해 나타난다. 즉, 상기 제9미러(113)는 상기 제1레이저 생성부(111) 및 상기 제2레이저 생성부(112)에서 생성되는 레이저 펄스가 상기 레이저 증폭부(120)에 동일한 경로로 전달될 수 있도록 경로를 조절한다. 물론 상기 제9미러(113)는 상기 레이저 증폭부(120)에 배치되어 있는 증폭매질의 종류에 따라 증폭이 가능한 파장의 레이저 펄스를 방출하는 레이저 생성부(111, 112)에서 생성되는 레이저 펄스를 상기 레이저 증폭부(120)로 전달한다. 이 때 상기 제9미러(113)는 상기 제1레이저 생성부(111) 또는 상기 제2레이저 생성부(112)에서 생성되는 레이저 펄스를 상기 레이저 증폭부(120)로 전달하기 전후 또는 좌우 방향으로 이동하게 된다. 상기 제9미러(113)는 상기 제어부(130)에 의해 컨트롤 되는 모터에 의해 이동한다. 본 실시예에서는 상기 제9미러(113)가 하나이고, 이동하면서 상기 제1레이저 생성부(111) 및 상기 제2레이저 생성부(112)에서 생성되는 레이저 펄스의 경로를 변경시키는 것을 예로 들었으나, 상기 제9미러(113)는 상기 다이오드 레이저들의 수에 맞게 복수 개가 고정되어 설치될 수도 있다.2B shows another structure of the diode laser generator 110. (b) is almost similar to the case of (a), but the laser pulses emitted from the first laser generating unit 111 and the second laser generating unit 112 are transmitted to the laser amplifying unit 120 in the same path. There is a difference in that it is delivered. This difference is indicated by the ninth mirror 113 that adjusts the path of the laser pulses emitted from the first laser generating unit 111 and the second laser generating unit 112. That is, the ninth mirror 113 allows the laser pulses generated by the first laser generating unit 111 and the second laser generating unit 112 to be transmitted to the laser amplifying unit 120 in the same path. Adjust the route. Of course, the ninth mirror 113 generates laser pulses generated by the laser generators 111 and 112 that emit laser pulses of wavelengths that can be amplified according to the type of amplification medium disposed in the laser amplification unit 120. It is transmitted to the laser amplification unit 120. At this time, the ninth mirror 113 transmits the laser pulses generated by the first laser generating unit 111 or the second laser generating unit 112 to the laser amplifying unit 120 in the front and rear or left and right directions. Will move. The ninth mirror 113 is moved by a motor controlled by the controller 130. In this embodiment, the ninth mirror 113 is one, and while moving, the path of the laser pulses generated by the first laser generating unit 111 and the second laser generating unit 112 is changed. , A plurality of the ninth mirrors 113 may be fixed and installed according to the number of the diode lasers.

본 실시예에서는 상기 제1레이저 생성부(111)와 상기 제2레이저 생성부(112)가 상기 다이오드 레이저 생성부(110)에 함께 포함되어 있는 것을 예로 들었지만, 상기 다이오드 레이저 생성부(110)는 상기 제1레이저 생성부(111)만을 포함하거나, 상기 제2레이저 생성부(112)만을 포함할 수도 있다. 즉, 상기 다이오드 레이저 생성부(110)가 상기 제1레이저 생성부(111)만을 포함한 경우에는 상기 제1다이오드 레이저(111b)에서 생성되는 레이저 펄스를 피코초(ps) 내지 나노초(ns)로 조절하여 방출한다. 그리고 상기 다이오드 레이저 생성부(110)가 상기 제2레이저 생성부(112)만을 포함한 경우에는 상기 제2다이오드 레이저(112b)에서 생성되는 레이저 펄스를 나노초(ns) 내지 밀리초(ms)로 조절하여 방출한다.In this embodiment, the first laser generation unit 111 and the second laser generation unit 112 are included in the diode laser generation unit 110 as an example, but the diode laser generation unit 110 It may include only the first laser generation unit 111 or only the second laser generation unit 112. That is, when the diode laser generating unit 110 includes only the first laser generating unit 111, the laser pulse generated by the first diode laser 111b is adjusted in picoseconds (ps) to nanoseconds (ns). To release. And when the diode laser generating unit 110 includes only the second laser generating unit 112, the laser pulse generated by the second diode laser 112b is adjusted in nanoseconds (ns) to milliseconds (ms). Emits.

물론 도 2의 (a) 및 (b)에서와 같이 상기 레이저 생성부(110)가 상기 제1레이저 생성부(111)와 상기 제2레이저 생성부(112)를 포함하더라도, 상기 제1레이저 생성부(111)와 상기 제2레이저 생성부(112) 중 어느 하나만을 작동시킴으로써, 피코초(ps) 내지 나노초(ns)의 펄스만을 방출하거나, 나노초(ns) 내지 밀리초(ms)의 펄스만을 방출하는 것이 가능하다. 즉, 상기 제1레이저 생성부(111)와 상기 제2레이저 생성부(112) 중 어느 하나만을 작동하여 상기 레이저 생성부(110)에 상기 제1레이저 생성부(111)와 상기 제2레이저 생성부(112) 중 어느 하나만이 설치되어 있는 것과 동일한 효과를 낼 수 있다.Of course, even if the laser generating unit 110 includes the first laser generating unit 111 and the second laser generating unit 112 as shown in FIGS. 2A and 2B, the first laser is generated. By operating only one of the unit 111 and the second laser generating unit 112, only a pulse of picoseconds (ps) to nanoseconds (ns) is emitted, or only pulses of nanoseconds (ns) to milliseconds (ms) It is possible to emit. That is, only one of the first laser generating unit 111 and the second laser generating unit 112 is operated to generate the first laser generating unit 111 and the second laser in the laser generating unit 110. Only one of the parts 112 may have the same effect as that installed.

도 3을 참조하면, 상기 제1다이오드 레이저 드라이버(111a)는 상기 제1다이오드 레이저(111b)를 컨트롤 하고, 상기 제2다이오드 레이저 드라이버(112a)는 상기 제2다이오드 레이저(112b)를 컨트롤 하여 가변된 펄스 지속시간을 가지는 소정의 가변 레이저 펄스를 형성한다. 상기 제1다이오드 레이저(111b)로부터 생성되는 다이오드 레이저 펄스의 지속시간은 제1지속시간 내지 제2지속시간으로 상기 제1다이오드 레이저 드라이버(112a)에 의해 컨트롤 된다. 그리고 상기 제2다이오드 레이저(112b)로부터 생성되는 다이오드 레이저 펄스의 지속시간은 제3지속시간 내지 제4지속시간으로 상기 제2다이오드 레이저 드라이버(112a)에 의해 컨트롤 된다. 이 때, 상기 제2다이오드 레이저 드라이버(112a)에 의해 컨트롤 되어 상기 제2다이오드 레이저(112b)로부터 생성되는 가변된 레이저 펄스는 상기 제1다이오드 레이저 드라이버(111a)에 의해 컨트롤 되어 상기 제1다이오드 레이저(111b)로부터 생성되는 가변된 레이저 펄스보다 지속시간이 길다. 즉, 상기 제3지속시간 및 상기 제4지속시간은 상기 제1지속시간 및 상기 제2지속시간보다 길게 형성된다. 물론 상기 제1다이오드 레이저(111b) 및 상기 제2다이오드 레이저(112b)로부터 생성되는 레이저 펄스의 지속시간은 사용되는 다이오드 레이저 드라이버들에 의해 얼마든지 변경이 가능하다.3, the first diode laser driver 111a controls the first diode laser 111b, and the second diode laser driver 112a controls the second diode laser 112b to be variable. A predetermined variable laser pulse having a pulse duration is formed. The duration of the diode laser pulse generated from the first diode laser 111b is controlled by the first diode laser driver 112a from a first duration to a second duration. In addition, the duration of the diode laser pulse generated from the second diode laser 112b is controlled by the second diode laser driver 112a from a third duration to a fourth duration. In this case, the variable laser pulses that are controlled by the second diode laser driver 112a and generated from the second diode laser 112b are controlled by the first diode laser driver 111a to be controlled by the first diode laser driver 111a. The duration is longer than the variable laser pulse generated from (111b). That is, the third duration and the fourth duration are longer than the first duration and the second duration. Of course, the duration of the laser pulses generated from the first diode laser 111b and the second diode laser 112b can be changed as much as possible by the diode laser drivers used.

구체적으로, 상기 제1다이오드 레이저 드라이버(111a)는 100피코초(ps) 이상 10나노초(ns) 미만의 파장 범위의 레이저 펄스를 생성하고, 제2다이오드 레이저 드라이버(112a)는 10나노초 이상 10밀리초(ms) 이하의 파장 범위의 레이저 펄스를 생성한다. 즉, 상기 가변 레이저 펄스는 지속시간이 100피코초(ps) 내지 10밀리초(ms)로 형성된다. 본 실시예에서는 상기 가변 레이저 펄스의 지속시간이 100피코초 내지 10밀리초(ms)인 것을 예로 들었으나, 상기 다이오드 레이저 드라이버들(111a, 112a)의 변경을 통해서 상기 가변 레이저 펄스의 지속시간을 얼마든지 변화시킬 수 있다.Specifically, the first diode laser driver 111a generates laser pulses in a wavelength range of 100 picoseconds (ps) or more and less than 10 nanoseconds (ns), and the second diode laser driver 112a is 10 nanoseconds or more and 10 millimeters. It generates laser pulses in the wavelength range of seconds (ms) or less. That is, the variable laser pulse has a duration of 100 picoseconds (ps) to 10 milliseconds (ms). In the present embodiment, the duration of the variable laser pulse is 100 picoseconds to 10 milliseconds (ms), but the duration of the variable laser pulse is changed by changing the diode laser drivers 111a and 112a. You can change it anytime you want.

또한 상기 가변 레이저 펄스의 지속시간은 피코초 범위에만 속하거나 나노초 범위에만 속할 수도 있고, 상기 피코초 범위 및 상기 나노초 범위에 모두 걸처서 속할 수도 있다. 즉, 상기 가변 레이저 펄스의 지속시간은 어느 하나의 시간 단위에만 속하도록 형성될 수도 있고, 여러 시간 범위를 포함하도록 형성될 수도 있다. 이러한 가변 레이저 펄스는 상기 다이오드 레이저 드라이버들(111a, 112a)을 변화시켜서 상기 제1다이오드 레이저(111b) 및 상기 제2다이오드 레이저(112b)에서 생성되는 레이저 펄스의 지속시간을 다양하게 조절할 수 있다.In addition, the duration of the variable laser pulse may belong to only the picosecond range or the nanosecond range, and may belong to both the picosecond range and the nanosecond range. That is, the duration of the variable laser pulse may be formed to belong to only one time unit or may be formed to include several time ranges. The variable laser pulse may change the diode laser drivers 111a and 112a to variously adjust the duration of laser pulses generated by the first diode laser 111b and the second diode laser 112b.

상기 레이저 증폭부(120)는 제1빔스플리터(123), 제1증폭매질(121a), 제1미러(122a), 제1웨이브플레이트(124), 제2미러(122b), 제2증폭매질(121b), 제3미러(122c), 제4미러(122d), 제3증폭매질(121c), 제5미러(122e), 제6미러(122f), 제4증폭매질(121d), 제7미러(122g), 제8미러(122h), 제1렌즈(125a), 제2렌즈(125b), 제1펌핑 램프(126a), 제2펌핑 램프(126b) 및 2차 조화파 발생장치(127)를 포함한다. 상기 제1빔스플리터(123)는 P편광은 투과하고 S편광은 반사시킨다. 따라서 상기 레이저 생성부(110)에서 공급 받은 레이저 펄스는 P파 이므로 상기 제1빔스플리터(123)를 그대로 투과한다. 또한 상기 제1빔스플리터(123)는 상기 레이저 생성부(110)에서 공급 받은 레이저 펄스의 진행 방향과 동일축 상에 배치된다. 물론 상기 제1빔스플리터(123)의 배치는 변경될 수 있다. 제1빔스플리터(123)의 다른 역할은 후술한다.The laser amplification unit 120 includes a first beam splitter 123, a first amplification medium 121a, a first mirror 122a, a first wave plate 124, a second mirror 122b, and a second amplification medium (121b), third mirror (122c), fourth mirror (122d), third amplification medium (121c), fifth mirror (122e), sixth mirror (122f), fourth amplification medium (121d), seventh The mirror 122g, the eighth mirror 122h, the first lens 125a, the second lens 125b, the first pumping lamp 126a, the second pumping lamp 126b, and the second harmonic wave generator 127 ). The first beam splitter 123 transmits P-polarized light and reflects S-polarized light. Therefore, since the laser pulse supplied from the laser generating unit 110 is a P wave, it passes through the first beam splitter 123 as it is. In addition, the first beam splitter 123 is disposed on the same axis as the traveling direction of the laser pulse supplied from the laser generating unit 110. Of course, the arrangement of the first beam splitter 123 may be changed. Other roles of the first beam splitter 123 will be described later.

상기 제1증폭매질(121a)은 상기 레이저 생성부(110)로부터 공급되는 레이저 펄스가 단일 또는 복수 회 통과하면서 증폭되도록 하는 역할을 수행한다. 상기 제1펌핑 램프(126a)는 상기 제1증폭매질(121a) 내의 이온들을 여기시키기 위하여 상기 제1증폭매질(121a)에 빛을 비춘다. 상기 제1펌핑 램프(126a)는 상기 제1증폭매질(121a)과 이격되어 배치된다. 상기 제1증폭매질(121a)은 로드(rod) 구조로 형성된다. 그리고 상기 제1증폭매질(121a)은 Nd:YAG(Neodymium:Yttrium Aluminum Garnet) 또는 Pr:YLF(Paraseodymium : Yttrium Lithium Fluoride)로 형성된다. 예를 들어, 상기 레이저 생성부(110)로부터 공급되는 레이저 파장이 946nm, 1064nm 또는 1319nm일 경우에는 상기 제1증폭매질(121a)은 Nd:YAG로 형성된다. 그리고 상기 레이저 생성부(110)로부터 공급되는 레이저 파장이 523nm, 607nm 또는 640nm일 경우에는 상기 제1증폭매질(121a)은 Pr:YLF로 형성된다. 하지만 본 발명은 이에 한정되지 않고 상기 제1증폭매질(121a)의 종류, 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.The first amplification medium 121a serves to amplify the laser pulse supplied from the laser generating unit 110 while passing through a single or multiple times. The first pumping lamp 126a illuminates the first amplification medium 121a to excite ions in the first amplification medium 121a. The first pumping lamp 126a is disposed to be spaced apart from the first amplification medium 121a. The first amplification medium 121a is formed in a rod structure. In addition, the first amplification medium 121a is formed of Nd:YAG (Neodymium: Yttrium Aluminum Garnet) or Pr:YLF (Paraseodymium: Yttrium Lithium Fluoride). For example, when the laser wavelength supplied from the laser generator 110 is 946 nm, 1064 nm, or 1319 nm, the first amplification medium 121a is formed of Nd:YAG. In addition, when the laser wavelength supplied from the laser generating unit 110 is 523 nm, 607 nm, or 640 nm, the first amplification medium 121a is formed of Pr:YLF. However, the present invention is not limited thereto, and the type, structure, and shape of the first amplification medium 121a may be changed as much as possible.

그리고 상기 제1증폭매질(121a)은 상기 제1빔스플리터(123)와 동일 축 상에 배치된다. 따라서 상기 제1빔스플리터(123)를 투과한 상기 레이저 펄스는 상기 제1증폭매질(121a)을 통과하면서 제1증폭 된다.In addition, the first amplification medium 121a is disposed on the same axis as the first beam splitter 123. Accordingly, the laser pulse transmitted through the first beam splitter 123 is first amplified while passing through the first amplification medium 121a.

상기 제1미러(122a)는 상기 제1빔스플리터(123) 및 상기 제1증폭매질(121a)과 동일 축 상에 배치된다. 따라서 상기 제1증폭매질(121a)을 통과하여 제1증폭된 상기 레이저 펄스를 상기 제1증폭매질(121a) 방향으로 반사하는 전부 반사 거울이다. 상기 제1미러(122a)는 상기 제1증폭매질(121a)을 통과하면서 제1증폭된 상기 레이저 펄스를 상기 제1증폭매질(121a)에 의해 다시 한번 증폭시키기 위해 되돌려 보내는 역할을 한다. The first mirror 122a is disposed on the same axis as the first beam splitter 123 and the first amplification medium 121a. Accordingly, all reflection mirrors reflect the first amplified laser pulse through the first amplification medium 121a in the direction of the first amplification medium 121a. The first mirror 122a serves to return the first amplified laser pulse while passing through the first amplification medium 121a to amplify it once again by the first amplification medium 121a.

이 때 상기 제1증폭매질(121a)과 상기 제1미러(122a) 사이에는 제1웨이브플레이트(124)가 배치된다. 상기 제1웨이브플레이트(124)는 상기 제1웨이브플레이트(124)를 통과하는 파의 위상을 1/4파장 변경시키는 쿼터 웨이브플레이트(QWP, Quarter-Wave-Plate)로 형성된다. 즉, 상기 제1웨이브플레이트(122c)는 상기 제1증폭매질(121a)을 통과하여 상기 제1미러(122a)로 향하는 상기 레이저 펄스의 위상을 1/4파장 변경시키고, 상기 제1미러(122a)에 반사되어 상기 제1증폭매질(121a)로 되돌아 가는 레이저 펄스의 위상을 다시 1/4파장 변경 시킨다. 따라서 상기 레이저 생성부(110)로부터 공급 받은 P파는 상기 제1웨이브플레이트(124)를 두 번 통과하면서 S파로 변경된다. 이는 상기 제1빔스플리터(123)로 다시 되돌아 갈 때 투과하지 않고 반사되어 상기 레이저 펄스의 진행 경로가 변경되도록 하기 위함이다.In this case, a first wave plate 124 is disposed between the first amplification medium 121a and the first mirror 122a. The first wave plate 124 is formed of a quarter wave plate (QWP) that changes the phase of the wave passing through the first wave plate 124 by 1/4 wavelength. That is, the first wave plate 122c changes the phase of the laser pulse toward the first mirror 122a by passing through the first amplification medium 121a by 1/4 wavelength, and the first mirror 122a ) To change the phase of the laser pulse reflected back to the first amplification medium 121a again by 1/4 wavelength. Accordingly, the P wave supplied from the laser generating unit 110 passes through the first wave plate 124 twice and is changed to an S wave. This is to change the path of the laser pulse by reflecting rather than transmitting transmission when returning to the first beam splitter 123 again.

상기 제1웨이브플레이트(124)를 두 번 통과한 후 다시 상기 제1증폭매질(121a)로 되돌아가는 상기 레이저 펄스는 상기 제1증폭매질(121a)을 통과하면서 제2증폭 된다. 상기 제2증폭된 레이저 펄스는 상기 제1빔스플리터(123)에서 경로가 조절된다. 즉, 상기 제2증폭된 레이저 펄스는 상기 제1빔스플리터(123)에 반사되어 경로가 90도 변경된다.After passing through the first wave plate 124 twice, the laser pulse returned to the first amplification medium 121a is second amplified while passing through the first amplification medium 121a. The path of the second amplified laser pulse is adjusted by the first beam splitter 123. That is, the second amplified laser pulse is reflected by the first beam splitter 123 and the path is changed by 90 degrees.

상기 제2미러(122b)는 상기 제1빔스플리터(123) 상측에 형성된다. 따라서 상기 제1빔스플리터(123)에 반사된 레이저 펄스는 상기 제2미러(122b)에서 반사된다. 상기 제2미러(122b)는 상기 제1빔스플리터(123)에서 공급 받은 레이저 펄스가 상기 제2증폭매질(121b) 방향으로 반사되도록 배치된다.The second mirror 122b is formed above the first beam splitter 123. Accordingly, the laser pulse reflected by the first beam splitter 123 is reflected by the second mirror 122b. The second mirror 122b is disposed so that the laser pulse supplied from the first beam splitter 123 is reflected in the direction of the second amplification medium 121b.

상기 제2증폭매질(121b)은 상기 제2미러(122b)에서 반사된 레이저 펄스를 제3증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제2증폭매질(121b)은 상기 제1증폭매질(121a)과 이격되어 배치된다. 상기 제2증폭매질(121b) 내의 이온들은 상기 제1펌핑 램프(126a)에 의해 여기될 수 있다. 상기 제2증폭매질(121b)은 로드(rod) 구조로 형성된다. 그리고 상기 제2증폭매질(121b)은 Nd:YAG 또는 Pr:YLF로 형성된다. 예를 들어, 상기 레이저 생성부(110)로부터 공급되는 레이저 파장이 946nm, 1064nm 또는 1319nm일 경우에는 상기 제2증폭매질(121b)은 Nd:YAG로 형성된다. 그리고 상기 레이저 생성부(110)로부터 공급되는 레이저 파장이 523nm, 607nm 또는 640nm일 경우에는 상기 제2증폭매질(121b)은 Pr:YLF로 형성된다. 하지만 본 발명은 이에 한정되지 않고, 상기 제2증폭매질(121b)의 종류, 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.The second amplification medium 121b serves to third amplify the laser pulse reflected from the second mirror 122b. The second amplification medium 121b is disposed to be spaced apart from the first amplification medium 121a. Ions in the second amplification medium 121b may be excited by the first pumping lamp 126a. The second amplification medium 121b is formed in a rod structure. In addition, the second amplification medium 121b is formed of Nd:YAG or Pr:YLF. For example, when the laser wavelength supplied from the laser generator 110 is 946 nm, 1064 nm, or 1319 nm, the second amplification medium 121b is formed of Nd:YAG. In addition, when the laser wavelength supplied from the laser generator 110 is 523 nm, 607 nm, or 640 nm, the second amplification medium 121b is formed of Pr:YLF. However, the present invention is not limited thereto, and the type, structure, and shape of the second amplification medium 121b may be changed as much as possible.

그리고 상기 제2증폭매질(121b)은 상기 제1증폭매질(121a)의 상측에 배치된다. 또한 상기 제2증폭매질(121b)은 상기 제2미러(122b)와 동일 축 상에 배치된다. 즉, 상기 제2증폭매질(121b)은 상기 제2미러(122b)의 배치 위치에 따라 상기 제1증폭매질(121a)의 하측에 배치될 수도 있다.In addition, the second amplification medium 121b is disposed above the first amplification medium 121a. In addition, the second amplification medium 121b is disposed on the same axis as the second mirror 122b. That is, the second amplification medium 121b may be disposed under the first amplification medium 121a according to the arrangement position of the second mirror 122b.

상기 제3미러(122c)는 상기 제2증폭매질(121b)을 사이에 두고 상기 제2미러(122b)와 대향되도록 배치된다. 그리고 상기 제3미러(122c)는 상기 제2증폭매질(121b)을 통과하면서 상기 제3증폭된 레이저 펄스를 반사하여 경로를 조절한다. 즉, 상기 제3미러(122c)는 상기 제2증폭매질(121b)을 통과한 상기 레이저 펄스를 반사하여 경로를 90도 변경하는 역할을 한다. 물론 상기 제3미러(122c)에서 반사되는 레이저 펄스의 반사각도는 변경이 가능하다. 상기 제3미러(122c) 또한 상기 제2미러(122b) 및 상기 제2증폭매질(121b)과 동일 축 상에 배치된다.The third mirror 122c is disposed to face the second mirror 122b with the second amplification medium 121b interposed therebetween. In addition, the third mirror 122c reflects the third amplified laser pulse while passing through the second amplification medium 121b to adjust a path. That is, the third mirror 122c serves to change the path by 90 degrees by reflecting the laser pulse passing through the second amplification medium 121b. Of course, the reflection angle of the laser pulse reflected from the third mirror 122c can be changed. The third mirror 122c is also disposed on the same axis as the second mirror 122b and the second amplification medium 121b.

상기 제4미러(122d)는 상기 제3미러(122c)에서 공급 받은 레이저 펄스를 상기 제3증폭매질(121c) 방향으로 반사시킨다. 이 때 상기 제3미러(122c)에서 상기 제4미러(122d)로 향하는 레이저 펄스의 진행 경로에는 상기 레이저 펄스의 공간적 크기를 조절하기 위한 렌즈부(125a, 125b)를 더 포함할 수 있다. 상기 렌즈부(125a, 125b)는 제1렌즈(125a) 및 제2렌즈(125b)를 포함할 수 있다. 상기 렌즈부(125a, 125b)는 상기 제1렌즈(125a)와 상기 제2렌즈(125b) 사이의 거리를 조절하여 상기 제3미러(122c)에서 상기 제4미러(122d) 방향으로 향하는 레이저 펄스의 공간 크기를 조절한다.The fourth mirror 122d reflects the laser pulse supplied from the third mirror 122c toward the third amplification medium 121c. In this case, a path of the laser pulse from the third mirror 122c to the fourth mirror 122d may further include lens units 125a and 125b for adjusting the spatial size of the laser pulse. The lens units 125a and 125b may include a first lens 125a and a second lens 125b. The lens units 125a and 125b adjust the distance between the first lens 125a and the second lens 125b to control the laser pulse from the third mirror 122c to the fourth mirror 122d. Adjust the size of the space.

상기 제3증폭매질(121c)은 상기 제4미러(122b)에서 반사된 레이저 펄스를 제4증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제3증폭매질(121c)은 상기 제4증폭매질(121d)과 이격되어 배치된다. 상기 제3증폭매질(121c) 내의 이온들은 상기 제2펌핑 램프(126b)에 의해 여기될 수 있다. 상기 제3증폭매질(121c)은 로드(rod) 구조로 형성된다. 그리고 상기 제3증폭매질(121c)은 Nd:YAG 또는 Pr:YLF로 형성된다. 예를 들어, 상기 레이저 생성부(110)로부터 공급되는 레이저 파장이 946nm, 1064nm 또는 1319nm일 경우에는 상기 제3증폭매질(121c)은 Nd:YAG로 형성된다. 그리고 상기 레이저 생성부(110)로부터 공급되는 레이저 파장이 523nm, 607nm 또는 640nm일 경우에는 상기 제3증폭매질(121c)은 Pr:YLF로 형성된다. 하지만 본 발명은 이에 한정되지 않고, 상기 제3증폭매질(121c)의 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.The third amplification medium 121c serves to fourth amplify the laser pulse reflected from the fourth mirror 122b. The third amplification medium 121c is disposed to be spaced apart from the fourth amplification medium 121d. Ions in the third amplification medium 121c may be excited by the second pumping lamp 126b. The third amplification medium 121c is formed in a rod structure. In addition, the third amplification medium 121c is formed of Nd:YAG or Pr:YLF. For example, when the laser wavelength supplied from the laser generator 110 is 946 nm, 1064 nm, or 1319 nm, the third amplification medium 121c is formed of Nd:YAG. In addition, when the laser wavelength supplied from the laser generator 110 is 523 nm, 607 nm, or 640 nm, the third amplification medium 121c is formed of Pr:YLF. However, the present invention is not limited thereto, and the structure and shape of the third amplification medium 121c may be changed as much as possible.

상기 제5미러(122e)는 상기 제3증폭매질(121c)을 사이에 두고 상기 제4미러(125b)와 대향하도록 배치된다. 상기 제5미러(122e)는 상기 제3증폭매질(121c)을 통과하면서 제4증폭된 레이저 펄스를 반사하여 경로를 조절한다. 즉, 상기 제5미러(122e)는 상기 제3증폭매질(121c)을 통과한 상기 레이저 펄스를 반사하여 경로를 90도 변경하는 역할을 한다. 물론 상기 제5미러(122e)에서 반사되는 레이저 펄스의 반사각도는 변경이 가능하다. 상기 제5미러(122e)는 상기 제4미러(122d) 및 상기 제3증폭매질(121c)과 동일 축 상에 배치된다.The fifth mirror 122e is disposed to face the fourth mirror 125b with the third amplification medium 121c interposed therebetween. The fifth mirror 122e adjusts a path by reflecting a fourth amplified laser pulse while passing through the third amplification medium 121c. That is, the fifth mirror 122e serves to change the path by 90 degrees by reflecting the laser pulse passing through the third amplification medium 121c. Of course, the angle of reflection of the laser pulse reflected from the fifth mirror 122e can be changed. The fifth mirror 122e is disposed on the same axis as the fourth mirror 122d and the third amplification medium 121c.

상기 제6미러(122f)는 상기 제5미러(122e)에서 공급 받은 레이저 펄스를 상기 제4증폭매질(121d) 방향으로 반사시킨다. 본 실시예에서 상기 제6미러(122f)는 상기 제5미러(122e)와 별개로 형성되어 있지만, 상기 제5미러(122e)와 상기 제6미러(122f)는 하나의 미러로 형성될 수도 있다.The sixth mirror 122f reflects the laser pulse supplied from the fifth mirror 122e toward the fourth amplification medium 121d. In this embodiment, the sixth mirror 122f is formed separately from the fifth mirror 122e, but the fifth mirror 122e and the sixth mirror 122f may be formed as one mirror. .

상기 제4증폭매질(121d)은 상기 제6미러(122f)에서 반사된 레이저 펄스를 제5증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제4증폭매질(121d)은 상기 제3증폭매질(121c)과 이격되어 배치된다. 상기 제4증폭매질(121d) 내의 이온들은 상기 제2펌핑 램프(126b)에 의해 여기될 수 있다. 상기 제4증폭매질(121d)은 로드(rod) 구조로 형성된다. 그리고 상기 제4증폭매질(121d)은 Nd:YAG 또는 Pr:YLF로 형성된다. 예를 들어, 상기 레이저 생성부(110)로부터 공급되는 레이저 파장이 946nm, 1064nm 또는 1319nm일 경우에는 상기 제4증폭매질(121d)은 Nd:YAG로 형성된다. 그리고 상기 레이저 생성부(110)로부터 공급되는 레이저 파장이 523nm, 607nm 또는 640nm일 경우에는 상기 제4증폭매질(121d)은 Pr:YLF로 형성된다. 하지만 본 발명은 이에 한정되지 않고, 상기 제4증폭매질(121d)의 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.The fourth amplification medium 121d serves to amplify a fifth laser pulse reflected from the sixth mirror 122f. The fourth amplification medium 121d is disposed to be spaced apart from the third amplification medium 121c. Ions in the fourth amplification medium 121d may be excited by the second pumping lamp 126b. The fourth amplification medium 121d is formed in a rod structure. In addition, the fourth amplification medium 121d is formed of Nd:YAG or Pr:YLF. For example, when the laser wavelength supplied from the laser generator 110 is 946 nm, 1064 nm, or 1319 nm, the fourth amplification medium 121d is formed of Nd:YAG. In addition, when the laser wavelength supplied from the laser generator 110 is 523 nm, 607 nm, or 640 nm, the fourth amplification medium 121d is formed of Pr:YLF. However, the present invention is not limited thereto, and the structure and shape of the fourth amplification medium 121d may be changed as much as possible.

상기 제7미러(122g)는 상기 제4증폭매질(121d)을 사이에 두고 상기 제6미러(122f)와 대향하도록 배치된다. 그리고 상기 제7미러(122g)는 상기 제4증폭매질(121d)을 통과한 레이저 펄스를 반사하여 상기 제8미러(122h) 방향으로 경로를 조절한다.The seventh mirror 122g is disposed to face the sixth mirror 122f with the fourth amplification medium 121d interposed therebetween. In addition, the seventh mirror 122g reflects the laser pulse passing through the fourth amplification medium 121d to adjust a path in the direction of the eighth mirror 122h.

상기 제8미러(122h)는 상기 제7미러(122g)의 일측에 배치되고, 상기 제7미러(122g)로부터 공급 받은 레이저 펄스의 경로를 조절한다. 상기 제8미러(122h)에서 경로가 조절된 상기 레이저 펄스는 상기 레이저 증폭부(120)로 출력된다. 하지만 본 발명은 이에 한정되지 않고 상기 제7미러(122g)에서 직접 상기 레이저 증폭부(120)로 레이저 펄스를 출력할 수도 있다.The eighth mirror 122h is disposed on one side of the seventh mirror 122g, and controls the path of the laser pulse supplied from the seventh mirror 122g. The laser pulse whose path is adjusted in the eighth mirror 122h is output to the laser amplifying unit 120. However, the present invention is not limited thereto, and a laser pulse may be directly output from the seventh mirror 122g to the laser amplifying unit 120.

상기 2차 조화파 발생장치(SHG, Second Harmonic Generator)(127)는 상기 제7미러(122g) 또는 상기 제8미러(122h)에서 출력되는 상기 레이저의 파장을 변화시킨다. 상기 2차 조화파 발생장치(127)는 상기 제7미러(122g) 또는 상기 제8미러(122h)에서 출력되는 레이저 펄스가 진행하는 경로에 배치된다. 상기 2차 조화파 발생장치(127)는 공지의 파장 변화 방식과 유사하게 상기 제8미러(122h)에서 출력되는 상기 레이저의 파장을 변화시킨다.The second harmonic generator (SHG) 127 changes the wavelength of the laser output from the seventh mirror 122g or the eighth mirror 122h. The second harmonic generator 127 is disposed in a path along which a laser pulse output from the seventh mirror 122g or the eighth mirror 122h travels. The second harmonic generator 127 changes the wavelength of the laser output from the eighth mirror 122h, similar to a known wavelength change method.

상기 제어부(130)는 상기 다이오드 레이저 생성부(110) 및 상기 레이저 증폭부(120)를 제어하는 역할을 한다. 즉, 상기 제어부(130)는 상기 제1레이저 생성부(111)와 상기 제2레이저 생성부(112)에 신호를 가하여 생성되는 다이오드 레이저 펄스의 지속시간을 조절한다. 또한 상기 제어부(130)는 상기 레이저 증폭부(120)에 신호를 가하여 생성되는 다이오드 레이저 펄스의 세기를 조절한다.The control unit 130 serves to control the diode laser generating unit 110 and the laser amplifying unit 120. That is, the control unit 130 controls the duration of the diode laser pulse generated by applying signals to the first laser generating unit 111 and the second laser generating unit 112. In addition, the control unit 130 controls the intensity of the diode laser pulse generated by applying a signal to the laser amplifying unit 120.

또한 상기 제어부(130)는 상기 레이저 증폭부(120)의 제1펌핑 램프(126a) 및 제2펌핑 램프(126b)에 신호를 가하여 상기 제1증폭매질(121a), 상기 제2증폭매질(121b), 상기 제3증폭매질(121c) 및 상기 제4증폭매질(121d)의 상태를 조절할 수도 있다. 또한 상기 제어부(130)는 상기 레이저 증폭부(120)에서 출력되는 레이저 펄스가 요구되는 에너지 수준을 갖지 못한 경우 상기 레이저 생성부(110)에 신호를 전달하여 생성되는 레이저 펄스를 조절할 수도 있다.In addition, the control unit 130 applies signals to the first pumping lamp 126a and the second pumping lamp 126b of the laser amplifying unit 120 to provide the first amplifying medium 121a and the second amplifying medium 121b. ), the state of the third amplification medium 121c and the fourth amplification medium 121d may be adjusted. In addition, when the laser pulse output from the laser amplification unit 120 does not have a required energy level, the control unit 130 may transmit a signal to the laser generation unit 110 to control the generated laser pulse.

본 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치(100)는 레이저 생성부(110)에서 간편하게 상기 다이오드 레이저(111b, 112b)에서 생성되는 다이오드 레이저 펄스의 지속시간을 가변할 수 있고, 상기 레이저 생성부(110)에서 생성되는 레이저 펄스를 여러 번 반복적으로 증폭할 수 있는 구조를 가짐으로써 다양한 형태의 다이오드 레이저 펄스를 생성할 수 있고, 상기 레이저 생성부(110)에서 생성된 작은 에너지의 레이저 펄스를 큰 에너지의 레이저 펄스로 증폭할 수 있는 장점이 있다.The laser device for skin treatment 100 according to the present embodiment can easily change the duration of the diode laser pulse generated by the diode lasers 111b and 112b in the laser generating unit 110, and the laser generating unit ( By having a structure capable of repeatedly amplifying the laser pulse generated by 110) several times, various types of diode laser pulses can be generated, and the laser pulse of small energy generated by the laser generator 110 is converted to a large energy. There is an advantage that can be amplified with a laser pulse of.

도 4에서는, 상기 제1펌핑 램프(126a) 및 상기 제2펌핑 램프(126b)가 각각 1개 배치되어 있지만, 본 발명은 이에 한정되지 않는다. 상기 제1펌핑 램프(126a) 및 상기 제2펌핑 램프(126b)는 각각 2개의 램프를 포함하는 구조를 가져서, 상기 제1펌핑 램프(126a)의 각 램프가 상기 제1증폭매질(121a) 및 상기 제2증폭매질(121b)에 빛을 조사하고, 상기 제2펌핑 램프(126b)의 각 램프가 상기 제3증폭매질(121c) 및 상기 제4증폭매질(121d)에 빛을 조사하게 할 수도 있다. 이 경우, 상기 레이저 증폭부(120)에 더 많은 펌핑에너지를 가할 수 있게 되어, 더 높은 출력을 용이하게 낼 수 있는 효과가 있다.In FIG. 4, one first pumping lamp 126a and one second pumping lamp 126b are disposed, but the present invention is not limited thereto. The first pumping lamp 126a and the second pumping lamp 126b each have a structure including two lamps, so that each lamp of the first pumping lamp 126a is the first amplification medium 121a and Light is irradiated to the second amplification medium 121b, and each lamp of the second pumping lamp 126b irradiates light to the third amplification medium 121c and the fourth amplification medium 121d. have. In this case, it is possible to apply more pumping energy to the laser amplifying unit 120, and thus, there is an effect of easily producing a higher output.

도 5를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치(200)는 레이저 생성부(210), 레이저 증폭부(220) 및 제어부(230)를 포함한다. 본 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치(200)에서 상기 레이저 생성부(210) 및 상기 제어부(230)는 도 4에 따른 피부 치료용 레이저 장치(100)와 유사한바 설명을 생략한다.Referring to FIG. 5, a laser device 200 for skin treatment according to another embodiment of the present invention includes a laser generating unit 210, a laser amplifying unit 220, and a control unit 230. In the laser device 200 for skin treatment according to the present embodiment, the laser generation unit 210 and the control unit 230 are similar to the laser device 100 for skin treatment according to FIG. 4, and thus a description thereof will be omitted.

상기 레이저 증폭부(220)는 제1빔스플리터(223a), 제1증폭매질(221a), 제1미러(222a), 제1웨이브플레이트(224a), 제2미러(222b), 제2웨이브플레이트(224b), 제2증폭매질(221b), 제1펌핑 램프(226), 제3미러(222c), 제2빔스플리터(223b), 제3웨이브플레이트(224c), 제1렌즈(225a), 제2렌즈(225b) 및 제4미러(222d)를 포함한다. 도면에 도시되지는 않았지만 도 1에서와 같은 2차 조화파 발생장치(미도시)가 더 포함될 수도 있다. 상기 제1빔스플리터(223a)는 P편광은 투과하고 S편광은 반사시킨다. 따라서 상기 레이저 생성부(210)에서 공급 받은 레이저 펄스는 도 4에 따른 레이저 생성부(110) 에서와 같이 P파 이므로 상기 제1빔스플리터(223a)를 그대로 투과한다. 또한 상기 제1빔스플리터(223a)는 상기 레이저 생성부(210)에서 공급 받은 레이저 펄스의 진행 방향과 동일축 상에 배치된다. 물론 상기 제1빔스플리터(223a)의 배치는 변경될 수 있다.The laser amplification unit 220 includes a first beam splitter 223a, a first amplification medium 221a, a first mirror 222a, a first wave plate 224a, a second mirror 222b, and a second wave plate. (224b), second amplification medium 221b, first pumping lamp 226, third mirror 222c, second beam splitter 223b, third wave plate 224c, first lens 225a, And a second lens 225b and a fourth mirror 222d. Although not shown in the drawing, a second harmonic generator (not shown) as in FIG. 1 may be further included. The first beam splitter 223a transmits P-polarized light and reflects S-polarized light. Therefore, since the laser pulse supplied from the laser generating unit 210 is a P wave as in the laser generating unit 110 according to FIG. 4, it passes through the first beam splitter 223a as it is. In addition, the first beam splitter 223a is disposed on the same axis as the traveling direction of the laser pulse supplied from the laser generating unit 210. Of course, the arrangement of the first beam splitter 223a may be changed.

상기 제1증폭매질(221a)은 상기 레이저 생성부(210)로부터 공급되는 레이저 펄스를 증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제1펌핑 램프(226)는 상기 제1증폭매질(221a) 내의 이온들을 여기시키기 위하여 상기 제1증폭매질(221a)에 빛을 비춘다. 상기 제1펌핑 램프(226a)는 상기 제1증폭매질(221a)과 이격되어 배치된다. 상기 제1증폭매질(221a)은 로드(rod) 구조로 형성된다. 그리고 상기 제1증폭매질(221a)은 Nd:YAG로 형성된다. 하지만 본 발명은 상기 제1증폭매질(221a)의 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.The first amplification medium 221a serves to amplify the laser pulse supplied from the laser generator 210. The first pumping lamp 226 illuminates the first amplification medium 221a to excite ions in the first amplification medium 221a. The first pumping lamp 226a is disposed to be spaced apart from the first amplification medium 221a. The first amplification medium 221a is formed in a rod structure. In addition, the first amplification medium 221a is formed of Nd:YAG. However, in the present invention, the structure and shape of the first amplification medium 221a can be changed as much as possible.

그리고 상기 제1증폭매질(221a)은 상기 제1빔스플리터(223a)와 동일 축 상에 배치된다. 따라서 상기 제1빔스플리터(223a)를 투과한 상기 레이저 펄스는 상기 제1증폭매질(221a)을 통과하면서 제1증폭 된다.In addition, the first amplification medium 221a is disposed on the same axis as the first beam splitter 223a. Accordingly, the laser pulse transmitted through the first beam splitter 223a is first amplified while passing through the first amplification medium 221a.

상기 제1미러(222a)는 상기 제1빔스플리터(223a) 및 상기 제1증폭매질(221a)과 동일 축 상에 배치된다. 또한 상기 제1미러(222a)는 상기 제1빔스플리터(223a)와 상기 제1증폭매질(221a)을 사이에 두고 대향하도록 배치된다. 그리고 상기 제1증폭매질(221a)을 통과하여 제1증폭된 상기 레이저 펄스를 상기 제1증폭매질(221a) 방향으로 반사하는 전부 반사 거울이다. 상기 제1미러(222a)는 상기 제1증폭매질(221a)을 통과하면서 제1증폭된 상기 레이저 펄스를 상기 제1증폭매질(121a)에 의해 다시 한번 증폭 시키기 위해 되돌려 보내는 역할을 한다.The first mirror 222a is disposed on the same axis as the first beam splitter 223a and the first amplification medium 221a. In addition, the first mirror 222a is disposed to face the first beam splitter 223a and the first amplification medium 221a therebetween. In addition, all reflection mirrors reflect the first amplified laser pulse through the first amplification medium 221a in the direction of the first amplification medium 221a. The first mirror 222a serves to return the first amplified laser pulse while passing through the first amplification medium 221a to amplify it once again by the first amplification medium 121a.

이 때 상기 제1증폭매질(221a)과 상기 제1미러(222a) 사이에는 제1웨이브플레이트(224a)가 배치된다. 상기 제1웨이브플레이트(124)는 상기 제1웨이브플레이트(224a)를 통과하는 파의 위상을 1/4파장 변경시키는 쿼터 웨이브플레이트(QWP, Quarter-Wave-Plate)로 형성된다. 그리고 상기 제1증폭매질(221a)을 통과한 후, 상기 제1웨이브플레이트(224a)를 통과하여 상기 제1미러(222a)로 향하는 레이저 펄스 및 상기 제1미러(222a)에 반사되어 상기 제1웨이브플레이트(224a)로 향하는 레이저 펄스는 원형편광되어 진행한다. 즉, 상기 제1웨이브플레이트(224a)는 상기 제1증폭매질(221a)을 통과하여 상기 제1미러(222a)로 향하는 상기 레이저 펄스의 위상을 1/4파장 변경시키고, 상기 제1미러(222a)에 반사되어 상기 제1증폭매질(221a)로 되돌아 가는 레이저 펄스의 위상을 다시 1/4파장 변경 시킨다. 따라서 상기 레이저 생성부(210)로부터 공급 받은 P파는 상기 제1웨이브플레이트(224a)를 두 번 통과하면서 S파로 변경된다. 이는 상기 제1빔스플리터(223a)로 다시 되돌아 갈 때 투과하지 않고 반사되어 상기 레이저 펄스의 진행 경로가 변경되도록 하기 위함이다.At this time, a first wave plate 224a is disposed between the first amplification medium 221a and the first mirror 222a. The first wave plate 124 is formed of a quarter wave plate (QWP) that changes the phase of the wave passing through the first wave plate 224a by 1/4 wavelength. And after passing through the first amplification medium (221a), the laser pulse passing through the first wave plate (224a) toward the first mirror (222a) and reflected by the first mirror (222a), the first The laser pulse directed to the wave plate 224a is circularly polarized and proceeds. That is, the first wave plate 224a changes the phase of the laser pulse toward the first mirror 222a by passing through the first amplification medium 221a by 1/4 wavelength, and the first mirror 222a ) To change the phase of the laser pulse reflected back to the first amplification medium 221a again by 1/4 wavelength. Accordingly, the P wave supplied from the laser generating unit 210 is changed to an S wave while passing through the first wave plate 224a twice. This is to change the propagation path of the laser pulse by reflecting it without transmitting it when returning back to the first beam splitter 223a.

상기 제1웨이브플레이트(224a)를 두 번 통과한 후 다시 상기 제1증폭매질(221a)로 되돌아 가는 상기 레이저 펄스는 상기 제1증폭매질(221a)을 통과하면서 제2증폭 된다. 상기 제2증폭된 레이저 펄스는 상기 제1빔스플리터(223a)에서 경로가 조절된다. 즉, 상기 제2증폭된 레이저 펄스는 상기 제1빔스플리터(223a)에 반사되어 경로가 90도 변경된다.After passing through the first wave plate 224a twice, the laser pulse returned to the first amplification medium 221a is second amplified while passing through the first amplification medium 221a. The path of the second amplified laser pulse is adjusted in the first beam splitter 223a. That is, the second amplified laser pulse is reflected by the first beam splitter 223a so that the path is changed by 90 degrees.

상기 제2미러(222b)는 상기 제1빔스플리터(223a)의 경로가 90도 변경된 일측에 배치된다. 따라서 상기 제1빔스플리터(223a)에 반사된 레이저 펄스는 상기 제2미러(222b)에서 반사된다. 상기 제2미러(222b)는 상기 제1빔스플리터(223a)에서 공급 받은 레이저 펄스가 상기 제2증폭매질(221b) 방향으로 반사되도록 배치된다.The second mirror 222b is disposed on one side where the path of the first beam splitter 223a is changed by 90 degrees. Accordingly, the laser pulse reflected by the first beam splitter 223a is reflected by the second mirror 222b. The second mirror 222b is disposed so that the laser pulse supplied from the first beam splitter 223a is reflected in the direction of the second amplification medium 221b.

상기 제2웨이브플레이트(224b) 상기 제2미러(222b)에서 반사되어 상기 제2증폭매질(221b) 방향으로 향하는 레이저 펄스의 위상을 변경한다. 이 때 상기 제2웨이브플레이트(224b)는 상기 제1웨이브플레이트(224a)와는 달리 하프 웨이브플레이트(HWP, Half Wave Plate)로 형성된다. 즉 상기 제2웨이브플레이트(224b)로 공급 되는 레이저 펄스는 S파 이고, 상기 제2웨이브플레이트(224b)를 통과한 레이저 펄스는 파의 위상이 1/2파장 변경되어 P파가 된다. 이는 상기 제2미러(224b)에서 반사된 레이저 펄스가 상기 제2웨이브플레이트(224b)를 사이에 두고 상기 제2미러(224b)와 대향하도록 배치되는 상기 제2빔스플리터(223b)를 투과하도록 하기 위함이다.The second wave plate 224b changes the phase of the laser pulse reflected from the second mirror 222b and directed toward the second amplification medium 221b. In this case, the second wave plate 224b is formed of a half wave plate (HWP) unlike the first wave plate 224a. That is, the laser pulse supplied to the second wave plate 224b is an S wave, and the phase of the laser pulse passing through the second wave plate 224b is changed by 1/2 wavelength to become a P wave. This allows the laser pulse reflected from the second mirror 224b to pass through the second beam splitter 223b disposed to face the second mirror 224b with the second wave plate 224b interposed therebetween. It is for sake.

상기 제2빔스플리터(223b)는 상기 제2웨이브플레이트(224b)와 상기 제2증폭매질(221b) 사이에 배치된다. 상기 제2빔스플리터(223b)는 상기 제2웨이브플레이트(224b)를 통과한 레이저 펄스가 P파이므로 반사하지 않고 투과시킨다.The second beam splitter 223b is disposed between the second wave plate 224b and the second amplification medium 221b. Since the laser pulse passing through the second wave plate 224b is a P wave, the second beam splitter 223b transmits it without reflecting it.

상기 제1렌즈(225a) 및 상기 제2렌즈(225b)는 상기 제2빔스플리터(223b)와 상기 제2웨이브플레이트(224b) 사이에 배치된다. 상기 제1렌즈(225a) 및 상기 제2렌즈(225b)는 상기 제2미러(222b)에서 반사된 레이저 펄스의 공간적 크기를 조절한다.The first lens 225a and the second lens 225b are disposed between the second beam splitter 223b and the second wave plate 224b. The first lens 225a and the second lens 225b adjust the spatial magnitude of the laser pulse reflected from the second mirror 222b.

상기 제2증폭매질(221b)은 상기 제2빔스플리터(223b)를 투과하여 공급되는 레이저 펄스를 제3증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제1펌핑 램프(226)는 상기 제2증폭매질(221b) 내의 이온들을 여기시키기 위하여 상기 제2증폭매질(221b)에 빛을 비춘다. 상기 제1펌핑 램프(226)는 상기 제2증폭매질(221b)과 이격되어 배치된다. 상기 제2증폭매질(221b)은 로드(rod) 구조로 형성된다. 그리고 상기 제2증폭매질(221b)은 Nd:YAG로 형성된다. 하지만 본 발명은 상기 제2증폭매질(221b)의 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.The second amplification medium 221b serves to third amplify the laser pulse supplied through the second beam splitter 223b. The first pumping lamp 226 illuminates the second amplification medium 221b to excite ions in the second amplification medium 221b. The first pumping lamp 226 is disposed to be spaced apart from the second amplification medium 221b. The second amplification medium 221b is formed in a rod structure. In addition, the second amplification medium 221b is formed of Nd:YAG. However, in the present invention, the structure and shape of the second amplification medium 221b can be changed as much as possible.

상기 제3미러(222c)는 상기 제2증폭매질(221b)을 통과하면서 제3등폭된 레이저 펄스를 반사하여 상기 제2증폭매질(221b) 방향으로 되돌아 가도록 하는 역할을 한다. 이 때 상기 제3미러(222c)와 상기 제2증폭매질(221b) 사이에는 제3웨이브플레이트(224c)가 배치된다. 상기 제3웨이브플레이트(224c)는 상기 제1웨이브플레이트(224a)와 같이 쿼터 웨이브플레이트로 형성된다. 따라서 상기 제2증폭매질(221b)로부터 상기 제3미러(222c)로 진행하면서 상기 레이저 펄스는 1/4파장 위상이 변경되고, 상기 제3미러(222c)에서 상기 제2증폭매질(221b)로 되돌아 오면서 상기 레이저 펄스는 1/4파장 위상이 변경된다. 그리고 상기 제2증폭매질(221b)을 통과한 후, 상기 제3웨이브플레이트(224c)를 통과하여 상기 제3미러(222c)로 향하는 레이저 펄스 및 상기 제3미러(222c)에 반사되어 상기 제3웨이브플레이트(224c)로 향하는 레이저 펄스는 원형편광되어 진행한다. 즉, 상기 제2증폭매질(221b)로 돌아오는 상기 레이저 펄스는 P파에서 S파로 파형이 변경된다.The third mirror 222c serves to reflect the third equal width laser pulse while passing through the second amplification medium 221b to return to the direction of the second amplification medium 221b. In this case, a third wave plate 224c is disposed between the third mirror 222c and the second amplification medium 221b. The third wave plate 224c is formed as a quarter wave plate like the first wave plate 224a. Therefore, while proceeding from the second amplification medium 221b to the third mirror 222c, the phase of the laser pulse changes to a quarter wavelength, and from the third mirror 222c to the second amplification medium 221b. Upon returning, the phase of the laser pulse is changed by 1/4 wavelength. And after passing through the second amplification medium (221b), the laser pulse passing through the third wave plate (224c) toward the third mirror (222c) and reflected by the third mirror (222c), the third The laser pulse directed to the wave plate 224c is circularly polarized and proceeds. That is, the waveform of the laser pulse returning to the second amplification medium 221b is changed from P wave to S wave.

상기 제2빔스플리터(223b)는 상기 제3미러(222c)에서 반사되어 상기 제2증폭매질(221b)을 통과하여 제4증폭되는 레이저 펄스를 반사하여 경로를 조절한다. 상기 제2빔스플리터(223b)에서 반사되어 경로가 조절된 상기 레이저 펄스는 상기 제2빔스플리터(223b)의 일측에 배치되는 제4미러(222d)에 반사되어 출력된다.The second beam splitter 223b adjusts a path by reflecting a laser pulse reflected from the third mirror 222c and passing through the second amplification medium 221b to amplify a fourth laser pulse. The laser pulse whose path is adjusted by being reflected by the second beam splitter 223b is reflected and output to a fourth mirror 222d disposed at one side of the second beam splitter 223b.

본 실시예에 따른 장치(200)는 도 4에 따른 장치(100)와 비교할 때 증폭 횟수는 4회로 한 번이 적지만 도 1에 따른 장치(100) 보다 구조가 간단한 장점이 있다. 또한 4회의 증폭이 있으므로 상기 레이저 생성부(210)에서 생성된 낮은 에너지의 레이저 펄스를 충분히 큰 에너지를 갖는 레이저 펄스로 증폭이 가능하다.The device 200 according to the present embodiment has an advantage of having a simpler structure than the device 100 according to FIG. 1, although the number of amplification times is less once compared to the device 100 according to FIG. 4. In addition, since there are four amplifications, it is possible to amplify the low energy laser pulse generated by the laser generator 210 into a laser pulse having a sufficiently large energy.

도 6을 참조하면, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치(300)는 레이저 생성부(310), 레이저 증폭부(320) 및 제어부(330)를 포함한다. 상기 레이저 생성부(310) 및 상기 제어부(330)는 상기 도 4에 따른 피부 치료용 레이저 장치(100)와 유사하므로 설명을 생략한다.Referring to FIG. 6, a laser device for skin treatment 300 according to another embodiment of the present invention includes a laser generating unit 310, a laser amplifying unit 320, and a control unit 330. Since the laser generating unit 310 and the control unit 330 are similar to the laser device 100 for skin treatment according to FIG. 4, descriptions thereof will be omitted.

상기 레이저 증폭부(320)는 제1빔스플리터(323a), 제1증폭매질(321a), 제1미러(322a), 제2미러(322b), 제1렌즈(325a), 제2렌즈(325b), 제2증폭매질(321b), 제1펌핑 램프(326), 제2빔스플리터(323b), 제1웨이브플레이트(324), 제3미러(322c) 및 제4미러(322d)를 포함한다. 도면에 도시되지는 않았지만 도 1에서와 같은 2차 조화파 발생장치(미도시)가 더 포함될 수도 있다. 상기 제1빔스플리터(323a)는 P편광은 투과하고 S편광은 반사시킨다. 따라서 상기 레이저 생성부(310)에서 공급 받은 레이저 펄스는 도 4에 따른 레이저 생성부(110) 에서와 같이 P파 이므로 상기 제1빔스플리터(323a)를 그대로 투과한다. 또한 상기 제1빔스플리터(323a)는 상기 레이저 생성부(310)에서 공급 받은 레이저 펄스의 진행 방향과 동일축 상에 배치된다. 물론 상기 제1빔스플리터(323a)의 배치는 변경될 수 있다.The laser amplification unit 320 includes a first beam splitter 323a, a first amplification medium 321a, a first mirror 322a, a second mirror 322b, a first lens 325a, and a second lens 325b. ), a second amplification medium 321b, a first pumping lamp 326, a second beam splitter 323b, a first wave plate 324, a third mirror 322c, and a fourth mirror 322d. . Although not shown in the drawing, a second harmonic generator (not shown) as in FIG. 1 may be further included. The first beam splitter 323a transmits P-polarized light and reflects S-polarized light. Therefore, since the laser pulse supplied from the laser generating unit 310 is a P wave as in the laser generating unit 110 of FIG. 4, it passes through the first beam splitter 323a as it is. In addition, the first beam splitter 323a is disposed on the same axis as the traveling direction of the laser pulse supplied from the laser generating unit 310. Of course, the arrangement of the first beam splitter 323a may be changed.

상기 제1증폭매질(321a)은 상기 레이저 생성부(310)로부터 공급되는 레이저 펄스를 증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제1펌핑 램프(326)는 상기 제1증폭매질(321a) 내의 이온들을 여기시키기 위하여 상기 제1증폭매질(321a)에 빛을 비춘다. 상기 제1펌핑 램프(326)는 상기 제1증폭매질(321a)과 이격되어 배치된다. 상기 제1증폭매질(321a)은 로드(rod) 구조로 형성된다. 그리고 상기 제1증폭매질(321a)은 Nd:YAG로 형성된다. 하지만 본 발명은 상기 제1증폭매질(321a)의 종류, 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.The first amplification medium 321a serves to amplify the laser pulse supplied from the laser generator 310. The first pumping lamp 326 illuminates the first amplification medium 321a to excite ions in the first amplification medium 321a. The first pumping lamp 326 is disposed to be spaced apart from the first amplification medium 321a. The first amplification medium 321a is formed in a rod structure. In addition, the first amplification medium 321a is formed of Nd:YAG. However, in the present invention, the type, structure and shape of the first amplification medium 321a can be changed as much as possible.

그리고 상기 제1증폭매질(321a)은 상기 제1빔스플리터(323a)와 동일 축 상에 배치된다. 따라서 상기 제1빔스플리터(323a)를 투과한 상기 레이저 펄스는 상기 제1증폭매질(321a)을 통과하면서 제1증폭 된다.In addition, the first amplification medium 321a is disposed on the same axis as the first beam splitter 323a. Accordingly, the laser pulse transmitted through the first beam splitter 323a is first amplified while passing through the first amplification medium 321a.

상기 제1미러(322a)는 상기 제1증폭매질(321a)을 사이에 두고 상기 제1빔스플리터(323a)와 대향하도록 배치된다. 상기 제1미러(322a)는 상기 제1증폭매질(321a)을 통과한 레이저 펄스를 반사하여 경로를 변경시킨다.The first mirror 322a is disposed to face the first beam splitter 323a with the first amplification medium 321a interposed therebetween. The first mirror 322a changes a path by reflecting the laser pulse passing through the first amplification medium 321a.

상기 제2미러(322b)는 상기 제1미러(322a)에 의해 경로가 변경된 레이저 펄스를 반사하여 다시 경로를 변경시킨다. 상기 제2미러(322b)는 상기 제1미러(322a)의 일측에 배치된다.The second mirror 322b reflects the laser pulse whose path has been changed by the first mirror 322a to change the path again. The second mirror 322b is disposed on one side of the first mirror 322a.

상기 제2증폭매질(321b)은 상기 제2미러(322b)에서 반사된 레이저 펄스를 제2증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제2증폭매질(321b)은 상기 제1증폭매질(321a)과 이격되어 배치된다. 상기 제1펌핑 램프(326)는 상기 제2증폭매질(321b) 내의 이온들을 여기시키기 위하여 상기 제2증폭매질(321b)에 빛을 비춘다. 상기 제1펌핑 램프(326)는 상기 제2증폭매질(321b)과 이격되어 배치된다. 상기 제1증폭매질(321b)은 로드(rod) 구조로 형성된다. 그리고 상기 제1증폭매질(321b)은 Nd:YAG로 형성된다. 하지만 본 발명은 상기 제1증폭매질(321b)의 종류, 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.The second amplification medium 321b serves to second amplify the laser pulse reflected from the second mirror 322b. The second amplification medium 321b is disposed to be spaced apart from the first amplification medium 321a. The first pumping lamp 326 illuminates the second amplification medium 321b to excite ions in the second amplification medium 321b. The first pumping lamp 326 is disposed to be spaced apart from the second amplification medium 321b. The first amplification medium 321b is formed in a rod structure. In addition, the first amplification medium 321b is formed of Nd:YAG. However, in the present invention, the type, structure, and shape of the first amplification medium 321b can be changed as much as possible.

그리고 상기 제2증폭매질(321b)은 상기 제2미러(322b)와 동일 축 상에 배치된다. 따라서 상기 제2미러(322b)에서 반사된 상기 레이저 펄스는 상기 제2증폭매질(321b)을 통과하면서 제2증폭 된다.In addition, the second amplification medium 321b is disposed on the same axis as the second mirror 322b. Accordingly, the laser pulse reflected from the second mirror 322b is amplified for the second time while passing through the second amplification medium 321b.

상기 제1렌즈(325a) 및 상기 제2렌즈(325b)는 상기 제2미러(322b)와 상기 제2증폭매질(321b) 사이에 배치된다. 상기 제1렌즈(325a) 및 상기 제2렌즈(325b)는 상기 제2미러(322b)에서 반사된 레이저 펄스의 공간적 크기를 조절한다.The first lens 325a and the second lens 325b are disposed between the second mirror 322b and the second amplification medium 321b. The first lens 325a and the second lens 325b adjust the spatial magnitude of the laser pulse reflected from the second mirror 322b.

상기 제2빔스플리터(323b)는 상기 제2증폭매질(321b)을 사이에 두고 상기 제2미러(322b)와 대향하도록 배치된다. 상기 제2빔스플리터(323b)는 상기 제2증폭된 레이저 펄스가 P파 이므로 투과시킨다.The second beam splitter 323b is disposed to face the second mirror 322b with the second amplification medium 321b interposed therebetween. The second beam splitter 323b transmits the second amplified laser pulse because it is a P wave.

상기 제3미러(322c)는 상기 제2빔스플리터(323b)를 투과한 레이저 펄스를 반사하여 경로를 변경시킨다. 상기 제3미러(322c)는 상기 제2빔스플리터(323b)를 사이에 두고 상기 제2증폭매질(321b)과 대향하도록 배치된다.The third mirror 322c changes a path by reflecting the laser pulse transmitted through the second beam splitter 323b. The third mirror 322c is disposed to face the second amplification medium 321b with the second beam splitter 323b therebetween.

상기 제1웨이브플레이트(324)는 상기 제2빔스플리터(323b)와 상기 제3미러(322c) 사이에 배치된다. 상기 제1웨이브플레이트(324)는 하프 웨이브플레이트로 형성된다. 따라서 상기 제1웨이브플레이트(324)를 통과하는 레이저 펄스는 파형이 P파에서 S파로 변경된다.The first wave plate 324 is disposed between the second beam splitter 323b and the third mirror 322c. The first wave plate 324 is formed as a half wave plate. Accordingly, the waveform of the laser pulse passing through the first wave plate 324 is changed from P wave to S wave.

상기 제3미러(322c)는 상기 제1웨이브플레이트(324)를 사이에 두고 상기 제2빔스플리터(323b)와 대향하도록 배치된다. 또한 상기 제3미러(322c)는 상기 제1빔스플리터(323a)의 일측에 배치된다. 상기 제3미러(322c)에 반사되어 경로가 변경된 레이저 펄스는 상기 제1빔스플리터(323a)로 되돌아가서 반사된다. 상기 제1빔스플리터(323a)에서 반사된 레이저 펄스는 상기 제1증폭매질(321a)로 향한다.The third mirror 322c is disposed to face the second beam splitter 323b with the first wave plate 324 interposed therebetween. In addition, the third mirror 322c is disposed on one side of the first beam splitter 323a. The laser pulse reflected by the third mirror 322c and whose path is changed is reflected back to the first beam splitter 323a. The laser pulse reflected by the first beam splitter 323a is directed to the first amplification medium 321a.

상기 제1증폭매질(321a)을 통과하면서 제3증폭 되는 레이저 펄스는 상기 제1미러(322a)에서 반사되어 경로가 변경된다. 상기 제1미러(322a)에 반사되어 경로가 변경된 레이저 펄스는 상기 제2미러(322b)에 반사되어 경로가 바뀌면서 상기 제2증폭매질(321b)로 향한다.The laser pulse that is amplified by a third while passing through the first amplification medium 321a is reflected by the first mirror 322a to change a path. The laser pulse whose path is changed by being reflected by the first mirror 322a is reflected by the second mirror 322b and is directed to the second amplification medium 321b while the path is changed.

상기 제2증폭매질(321b)을 통과하면서 제4증폭되는 레이저 펄스는 제2빔스플리터(323b)에서 반사되어 경로가 변경된다. 상기 제1웨이브플레이트(324)를 통과하면서 파형이 S파로 변경되었기 때문에 상기 레이저 펄스는 상기 제2빔스플리터(323b)를 투과하지 못하고 반사되어 경로가 변경된다.The fourth amplified laser pulse passing through the second amplification medium 321b is reflected by the second beam splitter 323b to change the path. Since the waveform has been changed to an S wave while passing through the first wave plate 324, the laser pulse cannot pass through the second beam splitter 323b and is reflected, so that the path is changed.

상기 제4미러(322d)는 상기 제2빔스플리터(323b)의 일측에 배치된다. 상기 제4미러(322d)는 상기 제2빔스플리터(323b)에서 반사되는 레이저 펄스의 경로를 변경하여 출력한다.The fourth mirror 322d is disposed on one side of the second beam splitter 323b. The fourth mirror 322d changes and outputs the path of the laser pulse reflected from the second beam splitter 323b.

본 실시예에 따른 장치(300)는 도 4에 따른 장치(200)와 비교할 때 증폭 횟수는 4회로 동일하면서도 웨이브플레이트의 수가 도 4에 따른 장치(200) 보다 작아 구조가 간단하면서도 증폭 효율이 좋은 장점이 있다.The device 300 according to the present embodiment has the same number of amplification times as the device 200 according to FIG. 4 as compared to the device 200 according to FIG. 4, but the number of wave plates is smaller than the device 200 according to FIG. There is an advantage.

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허 청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.The present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, but these are merely exemplary, and those of ordinary skill in the art will appreciate that various modifications and equivalent other embodiments are possible therefrom. Therefore, the true technical protection scope of the present invention should be determined by the technical spirit of the appended claims.

100, 200, 300,: 피부 치료용 레이저 장치
110, 210, 310: 레이저 생성부
111: 제1레이저 생성부
111a: 제1다이오드 레이저 드라이버
111b: 제1다이오드 레이저
112: 제2레이저 생성부
112a: 제2다이오드 레이저 드라이버
112b: 제2다이오드 레이저
120, 220, 320: 레이저 증폭부
121a, 221a, 321a: 제1증폭매질
121b, 221b, 321b: 제2증폭매질
121c: 제3증폭매질
121d: 제4증폭매질
122a, 222a, 322a: 제1미러
122b, 222b, 322b: 제2미러
122c, 222c, 322c: 제3미러
122d, 222d, 322d: 제4미러
122e: 제5미러
122f: 제6미러
122g: 제7미러
122h: 제8미러
123a, 223a, 323a: 제1빔스플리터
223b, 323b: 제2빔스플리터
124a, 224a, 324a: 제1웨이브플레이트
224b: 제2웨이브플레이트
224c: 제3웨이브플레이트
125a, 225a, 325a: 제1렌즈
125b, 225b, 325b: 제2렌즈
126a, 226, 326: 제1펌핑 램프
126b: 제2펌핑 램프
127: 2차 조화파 발생장치
130, 230, 330: 제어부
100, 200, 300,: laser device for skin treatment
110, 210, 310: laser generation unit
111: first laser generation unit
111a: first diode laser driver
111b: first diode laser
112: second laser generation unit
112a: second diode laser driver
112b: second diode laser
120, 220, 320: laser amplification unit
121a, 221a, 321a: first amplification medium
121b, 221b, 321b: second amplification medium
121c: third amplification medium
121d: fourth amplification medium
122a, 222a, 322a: first mirror
122b, 222b, 322b: second mirror
122c, 222c, 322c: third mirror
122d, 222d, 322d: 4th mirror
122e: fifth mirror
122f: 6th mirror
122g: 7th mirror
122h: Mirror 8
123a, 223a, 323a: first beam splitter
223b, 323b: second beam splitter
124a, 224a, 324a: first wave plate
224b: second wave plate
224c: third wave plate
125a, 225a, 325a: first lens
125b, 225b, 325b: second lens
126a, 226, 326: first pumping lamp
126b: second pumping ramp
127: second harmonic wave generator
130, 230, 330: control unit

Claims (9)

다이오드 레이저 펄스를 생성하는 다이오드 레이저 생성부;
상기 다이오드 레이저 생성부로부터 전달되는 상기 다이오드 레이저 펄스를 증폭하는 레이저 증폭부; 및
상기 다이오드 레이저 생성부 및 상기 레이저 증폭부를 제어하여, 상기 레이저 증폭부에서 출력되는 펄스의 지속시간을 제어하는 제어부를 포함하고,
상기 다이오드 레이저 생성부는,
상기 다이오드 레이저 펄스를 생성하는 한 개 또는 복수 개의 다이오드 레이저; 및
상기 다이오드 레이저에 각각 대응되도록 배치되며, 상기 다이오드 레이저에서 생성되는 다이오드 레이저 펄스들을 서로 다른 지속시간을 가지는 펄스들로 가변 생성시키는 한 개 또는 복수 개의 다이오드 레이저 드라이버를 포함하며,
상기 레이저 증폭부는,
상기 레이저 생성부로부터 공급 받은 펄스를 제1증폭하는 제1증폭매질;
상기 제1증폭매질을 통과하면서 제1증폭된 펄스가 반사되어 상기 제1증폭매질 방향으로 되돌아가도록 배치되는 제1미러;
상기 제1증폭매질을 사이에 두고 상기 제1미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제1증폭매질로 되돌아와 통과함으로써 제2증폭되는 펄스의 경로를 조절하는 제1빔스플리터;
통과하는 펄스의 편광 또는 위상을 변경시키기 위해서, 상기 제1미러와 상기 제1빔스플리터 사이에 배치되는 제1웨이브플레이트;
상기 제1빔스플리터에서 경로가 조절된 펄스를 제2증폭매질 방향으로 보내는 제2미러;
상기 제1증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제2미러로부터 공급 받은 펄스를 제3증폭하는 상기 제2증폭매질;
상기 제1증폭매질 및 상기 제2증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제1증폭매질 및 상기 제2증폭매질에 빛을 비추는 제1펌핑 램프;
상기 제2증폭매질을 사이에 두고 상기 제2미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제2증폭매질을 통과하면서 제3증폭된 펄스를 반사하여 경로를 조절하는 제3미러;
상기 제3미러에서 경로가 조절된 펄스를 제3증폭매질 방향으로 보내는 제4미러;
상기 제4미러에서 공급 받은 펄스를 제4증폭하는 제3증폭매질;
상기 제3증폭매질을 사이에 두고 상기 제4미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제3증폭매질을 통과하면서 제4증폭된 펄스를 반사하여 경로를 조절하는 제5미러;
상기 제5미러에서 경로가 조절된 펄스를 제4증폭매질 방향으로 보내는 제6미러;
상기 제6미러에서 공급 받은 펄스를 제5증폭하는 제4증폭매질;
상기 제3증폭매질 및 상기 제4증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제3증폭매질 및 상기 제4증폭매질에 빛을 비추는 제2펌핑 램프; 및
상기 제4증폭매질을 사이에 두고 상기 제6미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제4증폭매질을 통과한 펄스를 반사하여 경로를 조절하는 제7미러를 포함하며,
상기 레이저 생성부에서 공급 되는 상기 펄스는 상기 제1빔스플리터를 투과하여 상기 제1증폭매질 방향으로 향하는,
피부 치료용 레이저 장치.
A diode laser generator for generating a diode laser pulse;
A laser amplifying unit amplifying the diode laser pulse transmitted from the diode laser generating unit; And
And a control unit controlling the diode laser generating unit and the laser amplifying unit to control a duration of a pulse output from the laser amplifying unit,
The diode laser generator,
One or a plurality of diode lasers generating the diode laser pulses; And
It includes one or a plurality of diode laser drivers arranged to correspond to the diode lasers, respectively, and variably generating diode laser pulses generated by the diode laser into pulses having different durations,
The laser amplification unit,
A first amplification medium for first amplifying the pulses supplied from the laser generator;
A first mirror disposed so that the first amplified pulse is reflected while passing through the first amplification medium and returns to the direction of the first amplification medium;
A first beam splitter disposed to face the first mirror with the first amplification medium therebetween, and adjusting a path of a second amplified pulse by returning to and passing through the first amplification medium;
A first wave plate disposed between the first mirror and the first beam splitter to change the polarization or phase of a passing pulse;
A second mirror for transmitting a pulse whose path is adjusted by the first beam splitter toward a second amplification medium;
The second amplification medium disposed to be spaced apart from the first amplification medium and configured to third amplify the pulses supplied from the second mirror;
A first pumping lamp disposed to be spaced apart from the first amplification medium and the second amplification medium, and illuminating light to the first amplification medium and the second amplification medium;
A third mirror disposed to face the second mirror with the second amplification medium interposed therebetween, and adjusting a path by reflecting a third amplified pulse while passing through the second amplification medium;
A fourth mirror that transmits a pulse whose path is adjusted in the third mirror toward a third amplification medium;
A third amplifying medium for a fourth amplifying the pulse supplied from the fourth mirror;
A fifth mirror disposed to face the fourth mirror with the third amplification medium interposed therebetween, and adjusting a path by reflecting a fourth amplified pulse while passing through the third amplification medium;
A sixth mirror that sends a pulse whose path is adjusted in the fifth mirror toward a fourth amplification medium;
A fourth amplification medium for amplifying a fifth pulse supplied from the sixth mirror;
A second pumping lamp disposed to be spaced apart from the third amplification medium and the fourth amplification medium, and illuminating light to the third amplification medium and the fourth amplification medium; And
And a seventh mirror disposed to face the sixth mirror with the fourth amplification medium therebetween, and to adjust a path by reflecting a pulse passing through the fourth amplification medium,
The pulse supplied from the laser generating unit passes through the first beam splitter and is directed toward the first amplification medium,
Laser device for skin treatment.
다이오드 레이저 펄스를 생성하는 다이오드 레이저 생성부;
상기 다이오드 레이저 생성부로부터 전달되는 상기 다이오드 레이저 펄스를 증폭하는 레이저 증폭부; 및
상기 다이오드 레이저 생성부 및 상기 레이저 증폭부를 제어하여, 상기 레이저 증폭부에서 출력되는 펄스의 지속시간을 제어하는 제어부를 포함하고,
상기 다이오드 레이저 생성부는,
상기 다이오드 레이저 펄스를 생성하는 한 개 또는 복수 개의 다이오드 레이저; 및
상기 다이오드 레이저에 각각 대응되도록 배치되며, 상기 다이오드 레이저에서 생성되는 다이오드 레이저 펄스들을 서로 다른 지속시간을 가지는 펄스들로 가변 생성시키는 한 개 또는 복수 개의 다이오드 레이저 드라이버를 포함하며,
상기 레이저 증폭부는,
상기 레이저 생성부로부터 공급 받은 펄스를 제1증폭하는 제1증폭매질;
상기 제1증폭매질을 통과하면서 제1증폭된 펄스가 반사되어 상기 제1증폭매질 방향으로 되돌아가도록 배치되는 제1미러;
상기 제1증폭매질을 사이에 두고 상기 제1미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제1증폭매질로 되돌아와 통과함으로써 제2증폭되는 펄스의 경로를 조절하는 제1빔스플리터;
통과하는 펄스의 편광 또는 위상을 변경시키기 위해서, 상기 제1미러와 상기 제1빔스플리터 사이에 배치되는 제1웨이브플레이트;
상기 제1빔스플리터에서 경로가 조절된 펄스를 제2증폭매질 방향으로 보내는 제2미러;
상기 제1증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제2미러로부터 공급 받은 펄스를 제3증폭하는 상기 제2증폭매질;
상기 제1증폭매질 및 상기 제2증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제1증폭매질 및 상기 제2증폭매질에 빛을 비추는 제1펌핑 램프;
상기 제2증폭매질을 통과하면서 제3증폭된 펄스가 반사되어 상기 제2증폭매질 방향으로 되돌아 가도록 배치되는 제3미러;
상기 제2증폭매질을 사이에 두고 상기 제3미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제2증폭매질로 되돌아와 통과함으로써 제4증폭되는 펄스의 경로를 조절하는 제2빔스플리터;
통과하는 펄스의 편광 또는 위상을 변경시키기 위해서, 상기 제3미러와 상기 제2빔스플리터 사이에 배치되는 제3웨이브플레이트; 및
상기 제2미러에서 반사된 펄스는 상기 제2빔스플리터를 통하여 상기 제2증폭매질로 공급되고, 상기 제2미러와 상기 제2빔스플리터 사이에 배치되어 상기 제2미러에서 반사되어 상기 제2빔스플리터로 향하는 펄스의 편광 또는 위상을 변경시키는 제2웨이브플레이트를 포함하며,
상기 레이저 생성부에서 공급 되는 상기 펄스는 상기 제1빔스플리터를 투과하여 상기 제1증폭매질 방향으로 향하는,
피부 치료용 레이저 장치.
A diode laser generator for generating a diode laser pulse;
A laser amplifying unit amplifying the diode laser pulse transmitted from the diode laser generating unit; And
And a control unit controlling the diode laser generating unit and the laser amplifying unit to control a duration of a pulse output from the laser amplifying unit,
The diode laser generator,
One or a plurality of diode lasers generating the diode laser pulses; And
It includes one or a plurality of diode laser drivers arranged to correspond to the diode lasers, respectively, and variably generating diode laser pulses generated by the diode laser into pulses having different durations,
The laser amplification unit,
A first amplification medium for first amplifying the pulses supplied from the laser generator;
A first mirror disposed so that the first amplified pulse is reflected while passing through the first amplification medium and returns to the direction of the first amplification medium;
A first beam splitter disposed to face the first mirror with the first amplification medium therebetween, and adjusting a path of a second amplified pulse by returning to and passing through the first amplification medium;
A first wave plate disposed between the first mirror and the first beam splitter to change the polarization or phase of a passing pulse;
A second mirror for transmitting a pulse whose path is adjusted by the first beam splitter toward a second amplification medium;
The second amplification medium disposed to be spaced apart from the first amplification medium and configured to third amplify the pulses supplied from the second mirror;
A first pumping lamp disposed to be spaced apart from the first amplification medium and the second amplification medium, and illuminating light to the first amplification medium and the second amplification medium;
A third mirror disposed to reflect a third amplified pulse while passing through the second amplification medium and return to the direction of the second amplification medium;
A second beam splitter disposed to face the third mirror with the second amplification medium therebetween, and adjusting a path of a fourth amplified pulse by returning to and passing through the second amplification medium;
A third wave plate disposed between the third mirror and the second beam splitter to change the polarization or phase of the passing pulse; And
The pulse reflected from the second mirror is supplied to the second amplification medium through the second beam splitter, and is disposed between the second mirror and the second beam splitter to be reflected from the second mirror and the second beam It includes a second wave plate to change the polarization or phase of the pulse directed to the splitter,
The pulse supplied from the laser generating unit passes through the first beam splitter and is directed toward the first amplification medium,
Laser device for skin treatment.
다이오드 레이저 펄스를 생성하는 다이오드 레이저 생성부;
상기 다이오드 레이저 생성부로부터 전달되는 상기 다이오드 레이저 펄스를 증폭하는 레이저 증폭부; 및
상기 다이오드 레이저 생성부 및 상기 레이저 증폭부를 제어하여, 상기 레이저 증폭부에서 출력되는 펄스의 지속시간을 제어하는 제어부를 포함하고,
상기 다이오드 레이저 생성부는,
상기 다이오드 레이저 펄스를 생성하는 한 개 또는 복수 개의 다이오드 레이저; 및
상기 다이오드 레이저에 각각 대응되도록 배치되며, 상기 다이오드 레이저에서 생성되는 다이오드 레이저 펄스들을 서로 다른 지속시간을 가지는 펄스들로 가변 생성시키는 한 개 또는 복수 개의 다이오드 레이저 드라이버를 포함하며,
상기 레이저 증폭부는,
상기 레이저 생성부로부터 공급 받은 펄스를 제1증폭하는 제1증폭매질;
상기 제1증폭매질을 통과하면서 제1증폭된 펄스의 경로를 조절하는 제1미러;
상기 제1미러에서 경로가 조절된 펄스를 제2증폭매질 방향으로 보내는 제2미러;
상기 제1증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제2미러에서 공급 받은 펄스를 제2증폭하는 상기 제2증폭매질;
상기 제1증폭매질 및 상기 제2증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제1증폭매질 및 상기 제2증폭매질에 빛을 비추는 제1펌핑 램프;
상기 제2증폭매질에서 제2증폭된 펄스를 통과시키는 제2빔스플리터;
상기 제2빔스플리터를 사이에 두고 상기 제2증폭매질과 대향하도록 배치되고, 상기 제2증폭매질을 통과하면서 제2증폭되어 상기 제2빔스플리터를 통과한 펄스를 반사하여 경로를 조절하는 제3미러;
상기 제3미러와 상기 제2빔스플리터 사이에 배치되어 상기 제2빔스플리터를 통과하여 상기 제3미러로 향하는 펄스의 편광 또는 위상을 변경시키는 제1웨이브플레이트;
상기 제1증폭매질을 사이에 두고 상기 제1미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제3미러에서 경로가 조절된 펄스를 반사하여 경로를 조절하는 제1빔스플리터;
상기 제1빔스플리터에서 경로가 조절된 펄스는 제1증폭매질을 통과하여 제3증폭되고, 상기 제3증폭된 펄스는 상기 제1미러에서 경로가 조절되어 상기 제2미러 방향으로 향하며, 상기 제2미러에서 경로가 조절된 펄스는 상기 제2증폭매질 방향으로 향하고, 상기 제2증폭매질을 통과하여 제4증폭된 펄스는 상기 제2빔스플리터에서 경로가 조절되어 송출되며,
상기 레이저 생성부에서 공급 되는 상기 펄스는 상기 제1빔스플리터를 투과하여 상기 제1증폭매질 방향으로 향하는,
피부 치료용 레이저 장치.
A diode laser generator for generating a diode laser pulse;
A laser amplifying unit amplifying the diode laser pulse transmitted from the diode laser generating unit; And
And a control unit controlling the diode laser generating unit and the laser amplifying unit to control a duration of a pulse output from the laser amplifying unit,
The diode laser generator,
One or a plurality of diode lasers generating the diode laser pulses; And
It includes one or a plurality of diode laser drivers arranged to correspond to the diode lasers, respectively, and variably generating diode laser pulses generated by the diode laser into pulses having different durations,
The laser amplification unit,
A first amplification medium for first amplifying the pulses supplied from the laser generator;
A first mirror for adjusting a path of a first amplified pulse while passing through the first amplification medium;
A second mirror for transmitting a pulse whose path is adjusted in the first mirror toward a second amplification medium;
The second amplification medium disposed to be spaced apart from the first amplification medium, and second amplifying the pulse supplied from the second mirror;
A first pumping lamp disposed to be spaced apart from the first amplification medium and the second amplification medium, and illuminating light to the first amplification medium and the second amplification medium;
A second beam splitter passing a second amplified pulse through the second amplifying medium;
A third is disposed to face the second amplification medium with the second beam splitter interposed therebetween, and adjusts a path by reflecting the second amplified pulse passing through the second amplifying medium and passing through the second beam splitter. mirror;
A first wave plate disposed between the third mirror and the second beam splitter to change the polarization or phase of a pulse passing through the second beam splitter and directed to the third mirror;
A first beam splitter arranged to face the first mirror with the first amplification medium therebetween, and configured to adjust a path by reflecting a pulse whose path is adjusted from the third mirror;
The pulse whose path is adjusted in the first beam splitter passes through a first amplification medium and is amplified by a third, and the third amplified pulse is directed toward the second mirror by adjusting a path in the first mirror. 2 The pulse whose path is adjusted in the mirror is directed toward the second amplification medium, and the fourth amplified pulse passing through the second amplification medium is transmitted after the path is adjusted by the second beam splitter,
The pulse supplied from the laser generating unit passes through the first beam splitter and is directed toward the first amplification medium,
Laser device for skin treatment.
청구항 1 내지 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 한 개 또는 복수 개의 다이오드 레이저는,
복수 개의 다이오드 레이저들이며,
상기 복수 개의 다이오드 레이저들은 서로 다른 파장의 다이오드 레이저 펄스를 생성하는,
피부 치료용 레이저 장치.
The method according to any one of claims 1 to 3,
The one or more diode lasers,
Is a plurality of diode lasers,
The plurality of diode lasers generate diode laser pulses of different wavelengths,
Laser device for skin treatment.
청구항 1 내지 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 한 개 또는 복수 개의 다이오드 레이저는,
제1다이오드 레이저 및 제2다이오드 레이저를 포함하며,
상기 한 개 또는 복수 개의 다이오드 레이저 드라이버는,
상기 제1다이오드 레이저로부터 생성되는 다이오드 레이저 펄스의 지속시간을 제1지속시간 내지 제2지속시간으로 가변하는 제1다이오드 레이저 드라이버; 및
상기 제2다이오드 레이저로부터 생성되는 다이오드 레이저 펄스의 지속시간을 제3지속시간 내지 제4지속시간으로 가변하는 제2다이오드 레이저 드라이버를 포함하고,
상기 제3지속시간 및 상기 제4지속시간은, 상기 제1지속시간 및 상기 제2지속시간보다 큰,
피부 치료용 레이저 장치.
The method according to any one of claims 1 to 3,
The one or more diode lasers,
Including a first diode laser and a second diode laser,
The one or more diode laser drivers,
A first diode laser driver for varying a duration of a diode laser pulse generated from the first diode laser from a first duration to a second duration; And
A second diode laser driver for varying a duration of a diode laser pulse generated from the second diode laser from a third duration to a fourth duration,
The third duration and the fourth duration are greater than the first duration and the second duration,
Laser device for skin treatment.
청구항 1에 있어서,
상기 제3미러와 상기 제4미러 사이에 배치되고, 상기 제3미러에서 반사된 펄스의 펄스의 크기를 조절하는 렌즈부를 더 포함하는,
피부 치료용 레이저 장치.
The method according to claim 1,
Further comprising a lens unit disposed between the third mirror and the fourth mirror and configured to adjust the magnitude of the pulse of the pulse reflected from the third mirror,
Laser device for skin treatment.
청구항 2에 있어서,
상기 제2빔스플리터와 상기 제2웨이브플레이트 사이에 배치되고, 상기 제2웨이브플레이트에서 편광 또는 위상이 변경된 펄스의 크기를 조절하는 렌즈부를 더 포함하는,
피부 치료용 레이저 장치.
The method according to claim 2,
Further comprising a lens unit disposed between the second beam splitter and the second wave plate, and adjusting a magnitude of a pulse whose polarization or phase is changed in the second wave plate,
Laser device for skin treatment.
삭제delete 청구항 3에 있어서,
상기 제2미러와 상기 제2빔스플리터 사이에 배치되고, 상기 제2미러에서 경로가 조절된 펄스의 크기를 조절하는 렌즈부를 더 포함하는,
피부 치료용 레이저 장치.
The method of claim 3,
Further comprising a lens unit disposed between the second mirror and the second beam splitter and configured to adjust the size of a pulse whose path is adjusted in the second mirror,
Laser device for skin treatment.
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