KR102275060B1 - 마스크 실드 조립체 - Google Patents

마스크 실드 조립체 Download PDF

Info

Publication number
KR102275060B1
KR102275060B1 KR1020210035423A KR20210035423A KR102275060B1 KR 102275060 B1 KR102275060 B1 KR 102275060B1 KR 1020210035423 A KR1020210035423 A KR 1020210035423A KR 20210035423 A KR20210035423 A KR 20210035423A KR 102275060 B1 KR102275060 B1 KR 102275060B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mask
deposition surface
base mask
nut
substrate
Prior art date
Application number
KR1020210035423A
Other languages
English (en)
Inventor
전태영
Original Assignee
(주)거성
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)거성 filed Critical (주)거성
Priority to KR1020210035423A priority Critical patent/KR102275060B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102275060B1 publication Critical patent/KR102275060B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431—Constructional details of the reactor
    • H01J37/32798—Further details of plasma apparatus not provided for in groups H01J37/3244 - H01J37/32788; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/32—Processing objects by plasma generation
    • H01J2237/33—Processing objects by plasma generation characterised by the type of processing
    • H01J2237/332—Coating
    • H01J2237/3321—CVD [Chemical Vapor Deposition]

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

마스크 실드 조립체가 개시된다. 본 발명의 마스크 실드 조립체는, 스퍼터링(sputtering) 공정 중 타겟으로부터 방출되는 금속원자가 기판 주변에서 챔버 내면에 증착되는 것을 방지하는 마스크 실드 조립체로서, 금속원자의 이동경로로부터 기판의 가장자리를 가리도록, 타겟과 기판 사이에 액자틀 형태로 구비된 베이스 마스크를 포함하며, 베이스 마스크는 복수로 분할되어 챔버 내에 구비된 결합부재에 각각 결합되는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 마스크 실드의 교체 작업에 의한 공정 로스를 대폭적으로 감소시킬 수 있도록 이루어지는 마스크 실드 조립체를 제공할 수 있게 된다.

Description

마스크 실드 조립체{MASK SHIELD ASSEMBLY}
본 발명은 마스크 실드 조립체에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 스퍼터링(sputtering) 공정 중 타겟(TARGET)으로부터 방출되는 금속원자가 기판 주변에서 챔버 내면에 증착되는 것이 방지되도록 금속원자의 이동경로로부터 기판의 가장자리를 가리는 마스크 실드 조립체에 관한 것이다.
물질에 이온 충격을 가하면 그 물질을 구성하는 원자나 분자가 튀어나와 주위의 물체면에 부착하는 현상을 이용하여 타격을 주어 튀어나오게 하는 것을 스퍼터링이라고 한다. 이것을 적극적으로 이용하여 물체면에 박막을 형성하는 데 쓴다. 진공통 안의 Ar, Kr 등 주로 불활성 기체 중의 방전으로 타겟의 원자나 분자를 튀어나오게 하여 기판 위에 막을 형성한다.
기본적으로는 스퍼터라는 타겟과 기판을 두 전극으로 한 직류 방전이나 고주파 방전이 사용되지만, 스퍼터 때의 진공도의 저하를 피하고, 방전 전압과 전류를 독립적으로 제어하며 방전을 안정화시키는 등의 요청에 따라 3극 또는 4극의 방전이 쓰이는 경우도 있다.
직류 방전에서는 금속밖에 스퍼터할 수 없지만, 고주파 방전에서는 금속이나 절연체를 불문하고 모두 스퍼터할 수 있다.
이와 관련하여 대한민국 공개특허공보 제2012-0021642호에는 스퍼터 장치가 게시되어 있으며, 공개특허공보 제2012-0021642호는 기판에 대한 증착 공정이 진행되며, 내부 일측에 타겟이 마련되는 공정 챔버; 기판을 지지한 상태에서 공정 챔버에 출입 가능하게 마련되는 캐리어; 및 캐리어에 착탈 가능하게 결합되어 캐리어와 함께 이동되며, 기판의 테두리 부분에 증착막이 형성되는 것을 저지하는 비성막용 쉴드(shield)를 포함하는 것을 특징으로 한다.
공개특허공보 제2012-0021642호는 증착 공정을 중단하고 비성막용 쉴드를 자주 교체하는데 따른 다양한 공정상 로스(loss)를 감소시켜 생산성을 향상시킬 수 있는 이점이 있다.
그러나 공개특허공보 제2012-0021642호에 개시된 비성막용 쉴드는 결합바디와 쉴드부재로 구성됨에 따라, 비성막용 쉴드 교체시 결합바디와 쉴드부재를 작업자가 일일이 분리시켜야 하는 어려움이 있었다. 이는 비성막용 쉴드의 교체시간을 증가시키는 가장 큰 요인으로 작용한다.
또한, 공개특허공보 제2012-0021642호에 개시된 비성막용 쉴드는 일체형으로 제작되거나, 바아(bar) 타입으로 4개 마련되어 캐리어의 4면에 각각 하나씩 결합된다. 대형 공정 챔버의 높이는 3미터에 이르며, 작업자는 사다리를 타고 오른 상태에서 비성막용 쉴드의 교체를 진행해야 한다. 그러나 일체형 또는 바아 타입의 비성막용 쉴드는 무게가 상당하여 사다리에 오른 작업자가 교체작업을 원활하게 진행하기 어려운 문제가 있었다.
또한, 공개특허공보 제2012-0021642호에는 비성막용 쉴드의 주변을 통해 금속원자가 챔버의 내면에 증착되는 것을 방지하기 위해, 챔버의 측벽에 비성막용 쉴드의 가장자리를 가리는 돌출부가 형성되어 있으나, 돌출부에 증착된 금속원자 박막의 필링(peeling)이 발생되면 파티클의 주요 원인이 되거나 기판의 끝단 비성막부와의 근접 거리에 따른 쇼트 발생 등을 야기하는 문제가 있다.
따라서, 기존 스퍼터 장치를 그대로 사용하면서도 비성막용 쉴드의 교체 작업에 의한 공정 로스를 감소시킬 수 있는 기술 개발이 시급하게 요구되고 있다.
(0001) 대한민국 공개특허공보 제2012-0021642호 (공개일:2012.03.09)
본 발명의 목적은, 마스크 실드의 교체 작업에 의한 공정 로스를 대폭적으로 감소시킬 수 있도록 이루어지는 마스크 실드 조립체를 제공하는 것이다.
상기 목적은, 본 발명에 따라, 스퍼터링(sputtering) 공정 중 타겟으로부터 방출되는 금속원자가 기판 주변에서 챔버 내면에 증착되는 것을 방지하는 마스크 실드 조립체로서, 상기 금속원자의 이동경로로부터 상기 기판의 가장자리를 가리도록, 상기 타겟과 상기 기판 사이에 액자틀 형태로 구비된 베이스 마스크를 포함하며, 상기 베이스 마스크는 복수로 분할되어 상기 챔버 내에 구비된 결합부재에 각각 결합되는 것을 특징으로 하는 마스크 실드 조립체에 의하여 달성된다.
상기 베이스 마스크는 상기 금속원자가 증착되는 제1 증착면을 형성하고, 상기 제1 증착면은, 상기 타겟과 상기 기판의 가장자리 사이에 구비되고, 상기 기판 전면의 법선방향과 경사를 형성하는 경사증착면; 및 상기 경사증착면과 연결되되, 상기 경사증착면보다 상기 기판과 이격된 연장증착면을 포함하여 이루어질 수 있다.
상기 베이스 마스크는 제1 베이스 마스크와 제2 베이스 마스크를 포함하고, 상기 제1 베이스 마스크의 일단부에 상기 제1 증착면보다 상기 타겟으로부터 이격된 단차면이 형성되고, 상기 제2 베이스 마스크의 일단부는 상기 금속원자의 이동경로로부터 상기 단차면을 가리도록 이루어질 수 있다.
상기 단차면은, 상기 경사증착면과 평행하고, 상기 경사증착면보다 상기 타겟으로부터 이격된 제1 경사단차면; 상기 연장증착면과 평행하고, 상기 연장증착면보다 상기 타겟으로부터 이격된 연장단차면; 및 상기 경사단차면을 기준으로 상기 연장단차면의 반대쪽에 형성되고, 상기 기판 전면의 법선방향과 경사를 형성하는 제2 경사단차면을 포함하여 이루어질 수 있다.
상기 베이스 마스크의 가장자리를 따라 구비되고, 상기 타겟을 향해 돌출되는 사이드 마스크를 포함하고, 상기 사이드 마스크는 상기 금속원자가 증착되는 제2 증착면을 형성하고, 상기 제2 증착면은 상기 연장증착면을 기준으로 상기 경사증착면의 반대쪽에 구비되도록 이루어질 수 있다.
상기 베이스 마스크와 상기 결합부재는 볼트와 너트에 의해 결합되고, 상기 베이스 마스크 및 상기 결합부재 중 어느 하나에 삽입홀이 형성되며, 상기 볼트를 정회전시키면, 상기 너트가 상기 삽입홀 내에서 이동하며 나사결합되도록 이루어질 수 있다.
상기 삽입홀의 단면적은 상기 볼트 쪽으로 갈수록 좁아지고, 상기 볼트를 정회전시키면, 상기 너트가 상기 삽입홀 내에서 이동하며 상기 너트의 측면이 상기 삽입홀의 내면에 밀착되도록 이루어질 수 있다.
상기 너트는 상기 볼트의 나사부를 기준으로 반경방향으로 분할되고, 상기 볼트를 정회전시키면, 상기 너트가 상기 삽입홀 내에서 이동하며 상기 볼트의 수나사와 상기 너트의 암나사가 서로 가까워지도록 이루어질 수 있다.
본 발명에 의하면, 베이스 마스크는 복수로 분할되어 챔버 내에 구비된 결합부재에 각각 결합됨으로써, 마스크 실드의 교체 작업에 의한 공정 로스를 대폭적으로 감소시킬 수 있도록 이루어지는 마스크 실드 조립체를 제공할 수 있게 된다.
또한, 베이스 마스크와 결합부재는 볼트와 너트에 의해 결합되고, 볼트를 회전시키면, 너트가 삽입홀 내에서 이동하며 나사결합되거나 분리됨으로써, 마스크 실드의 교체 작업에 의한 공정 로스를 대폭적으로 감소시킬 수 있도록 이루어지는 마스크 실드 조립체를 제공할 수 있게 된다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 실드 조립체의 사시도이다.
도 2는 도 1의 마스크 실드 조립체의 부분 분해사시도이다.
도 3은 도 1의 마스크 실드 조립체의 부분 확대도이다.
도 4는 도 3의 마스크 실드 조립체의 A-A' 단면도이다.
도 5는 도 3의 마스크 실드 조립체의 B-B' 단면도이다.
도 6은 도 1의 마스크 실드 조립체의 사용상태를 나타내는 부분단면도이다.
도 7은 도 6의 마스크 실드 조립체의 베이스 마스크와 결합부재의 볼트결합을 나타내는 부분단면도이다.
도 8(a)는 도 7(a)의 C-C' 단면도이다.
도 8(b)는 도 7(b)의 D-D' 단면도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세하게 설명하면 다음과 같다. 다만, 본 발명을 설명함에 있어서, 이미 공지된 기능 혹은 구성에 대한 설명은, 본 발명의 요지를 명료하게 하기 위하여 생략하기로 한다.
본 발명의 마스크 실드 조립체는, 마스크 실드의 교체 작업에 의한 공정 로스를 대폭적으로 감소시킬 수 있도록 이루어진다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 실드 조립체(1)의 사시도이다. 도 2는 도 1의 마스크 실드 조립체(1)의 부분 분해사시도이다.
도 3은 도 1의 마스크 실드 조립체(1)의 부분 확대도이다. 도 4는 도 3의 마스크 실드 조립체(1)의 A-A' 단면도이다. 도 5는 도 3의 마스크 실드 조립체(1)의 B-B' 단면도이다.
도 6은 도 1의 마스크 실드 조립체(1)의 사용상태를 나타내는 부분단면도이다.
도 7은 도 6의 마스크 실드 조립체(1)의 베이스 마스크(10)와 결합부재(4)의 볼트결합을 나타내는 부분단면도이다. 도 8(a)는 도 7의 C-C' 단면도이다. 도 8(b)는 도 7의 D-D' 단면도이다.
도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명일 일 실시예에 따른 마스크 실드 조립체(1)는, 스퍼터링(sputtering) 공정 중 타겟(TA)으로부터 방출되는 금속원자가 기판(2) 주변에서 챔버 내면에 증착되는 것이 방지되도록 금속원자의 이동경로(P)로부터 기판(2)의 가장자리를 가리도록 이루어진다.
물질에 이온 충격을 가하면 그 물질을 구성하는 원자나 분자가 튀어나와 주위의 물체면에 부착하는 현상을 이용하여 타격을 주어 튀어나오게 하는 것을 스퍼터링이라고 하며, 이것을 적극적으로 이용하여 물체면에 박막을 형성하는 데 이용된다. 진공통 안의 Ar, He, Kr 등 주로 불활성 기체 중의 방전으로 타겟의 원자나 분자를 튀어나오게 하여 기판 위에 막을 형성한다.
기본적으로는 스퍼터라는 타겟과 기판을 두 전극으로 한 직류 방전이나 고주파 방전이 사용되지만, 스퍼터 때의 진공도의 저하를 피하고, 방전 전압과 전류를 독립적으로 제어하며 방전을 안정화시키는 등의 요청에 따라 3극 또는 4극의 방전이 쓰이는 경우도 있다.
도 6에는 스퍼터링 장치에서 챔버(미도시) 내부에 설치되는 타겟(TA) 및 기판(3)을 부분단면도로서 걔략적으로 도시하였다. 타겟(TA) 및 기판(3)을 포함하는 스퍼터링 장치는 대한민국 등록특허공보 제686494호, 공개특허공보 제2014-0141744호 및 공개특허공보 제2012-0021642호에 게시된 바와 같이 공지된 기술로서 자세한 설명은 생략하기로 한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 실드 조립체(1)는, 베이스 마스크(10) 및 사이드 마스크(20)를 포함하여 구성된다.
도 1 및 도 4에 도시된 바와 같이, 베이스 마스크(10)는 금속원자의 이동경로(P)로부터 기판(3)의 가장자리를 가리는 구성으로서, 타겟(TA)과 기판(3) 사이에 액자틀 형태로 구비된다.
스퍼터링 공정에 투입되어 금속원자가 증착되는 기판(3)은 원형, 다각형 등 다양한 형태로 이루어질 수도 있으나, 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 실드 조립체(1)는 사각플레이트 형태의 기판(3)으로 이루어지는 것으로 설명하기로 한다.
베이스 마스크(10)는 대한민국 등록특허공보 제686494호와 같이 타겟과 기판 사이에서 챔버 내부에 고정되게 설치되거나, 대한민국 공개특허공보 제2014-0141744호와 같이 챔버 내부에서 이동가능하게 형성될 수도 있으며, 대한민국 공개특허공보 제2012-0021642호와 같이 기판과 함께 캐리어(미도시)에 결합된 상태에서 챔버 내외부 간을 이동가능하게 설치될 수도 있다.
구체적으로 도시되지는 않았으나, 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 실드 조립체(1)는 공개특허공보 제2012-0021642호와 같이 타겟(TA)과 기판(3) 사이에서 챔버 내부에 고정되게 설치된 것으로 설명하기로 한다.
그리고 베이스 마스크(10)는, 도 4에 도시된 바와 같이, 챔버 내에 구비된 결합부재(4)에 결합되는 것으로 설명하기로 한다.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 베이스 마스크(10)는 사각플레이트형 기판(3)의 넓이에 따라 크기조정 가능하도록 복수로 분할되어 챔버 내에 구비된 결합부재(4)에 각각 결합된다. 베이스 마스크(10)는 결합부재(4)에 결합된 상태에서 복수의 조각이 서로 연결되어 액자틀 형태를 형성한다.
도 4 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 베이스 마스크(10)는 금속원자가 증착되는 제1 증착면(10A)을 형성한다.
도 6에 도시된 바와 같이, 제1 증착면(10A)은 경사증착면(10A1) 및 연장증착면(10A2)을 포함한다.
경사증착면(10A1)은 타겟(TA)과 기판(2)의 가장자리 사이에 구비된다. 경사증착면(10A1)은 전체적으로 기판(2) 전면의 법선방향과 경사를 형성한다. 경사증착면(10A1)은 연장증착면(10A2) 쪽으로 갈수록 타겟(TA)과 가까워지는 형태를 형성한다.
연장증착면(10A2)은 경사증착면(10A1)과 연결된다. 연장증착면(10A2)은 경사증착면(10A1)보다 기판(2)과 이격된다. 연장증착면(10A2)의 법선방향과 기판(2) 전면의 법선방향은 동일하다.
경사증착면(10A1) 및 연장증착면(10A2)은 연속된 요철형태를 형성한다. 경사증착면(10A1) 및 연장증착면(10A2)은 금속원자가 증착될 수 있는 부분으로서, 연속된 요철형태를 형성하면, 금속원자가 증착될 수 있는 면적이 최대화되어 금속원자 박막의 성장, 그리고 이에 따른 필링 및 쇼트 발생가능성을 낮추게 된다.
베이스 마스크(10)는 제1 베이스 마스크(11), 제2 베이스 마스크(12) 및 제3 베이스 마스크(13)를 포함한다.
제2 베이스 마스크(12)는 가로방향으로 길게 형성된다. 제3 베이스 마스크(13)는 세로 방향으로 길게 형성된다. 제1 베이스 마스크(11)는 양단부가 제2 베이스 마스크(12)와 제3 베이스 마스크(13)와 중첩된다.
도 2 및 도 6에 도시된 바와 같이, 제1 베이스 마스크(11), 제2 베이스 마스크(12) 및 제3 베이스 마스크(13) 각각은 볼트(B1)에 의해 결합부재(4)에 결합된다. 볼트(B1)의 헤드 표면은, 금속원자가 증착될 수 있는 면적이 최대화되도록 연속된 요철형태를 형성할 수 있다.
제1 베이스 마스크(11)는 절곡된 형태로 사각형 액자틀 형태의 코너 부분 즉, 4개의 모서리 부분에 구비되어 양단부가 제2 베이스 마스크(12) 및 제3 베이스 마스크(13)와 서로 중첩되게 연결된다.
제2 베이스 마스크(12)는 복수로 구비되어 사각형 액자틀 형태에서 상단부와 하단부를 형성한다. 제3 베이스 마스크(13)는 복수로 구비되어 사각형 액자틀 형태에서 좌단부와 우단부를 형성한다.
제1 베이스 마스크(11), 제2 베이스 마스크(12) 및 제3 베이스 마스크(13)가 복수의 조각이 서로 연결되어 액자틀 형태를 형성하도록 이루어지면, 제2 베이스 마스크(12) 및 제3 베이스 마스크(13)의 개수를 조정함으로써, 마스크 실드 조립체(1)의 전체 가로 길이와 세로 길이가 조정될 수 있다. 따라서, 서로 다른 넓이의 기판(3)에 금속원자를 증착하는 다양한 스퍼터링 공정에 공통적으로 사용될 수 있는 이점이 있다.
도 2에 도시된 바와 같이, 제1 베이스 마스크(11), 제2 베이스 마스크(12) 및 제3 베이스 마스크(13) 각각은, 서로 중첩되는 양단부에 제1 중첩연결부(10a) 및 제1 중첩연결부(10a)와 서로 중첩되는 제2 중첩연결부(10b)가 형성된다.
베이스 마스크(10)가 t의 두께로 형성되면, 제1 중첩연결부(10a) 및 제2 중첩연결부(10b)는 제1 베이스 마스크(11), 제2 베이스 마스크(12) 및 제3 베이스 마스크(13) 각각의 양단에 대략 0.5t보다 작은 두께로 형성된다.
제1 베이스 마스크(11), 제2 베이스 마스크(12) 및 제3 베이스 마스크(13)를 결합부재(4)에 각각 결합한 상태에서, 열팽창에 의한 접촉이 방지되도록, 제1 중첩연결부(10a)와 제2 중첩연결부(10b)는 서로 이격된다.
제1 베이스 마스크(11), 제2 베이스 마스크(12) 및 제3 베이스 마스크(13)를 결합부재(4)에 각각 결합하면, 제1 중첩연결부(10a)와 제2 중첩연결부(10b)는 대략 t의 두께로 서로 중첩되어 제2 베이스 마스크(12), 제3 베이스 마스크(13) 및 제3 베이스의 연결부위를 통한 금속원자의 통과가 방지된다.
제1 중첩연결부(10a)는 기판(3) 쪽에 배치되고 제2 중첩연결부(10b)는 타겟(TA) 쪽에 배치되어 서로 중첩된다. 제1 베이스 마스크(11) 양단에는 제1 중첩연결부(10a)가 형성되고, 제1 베이스 마스크(11)와 서로 연결되는 제2 베이스 마스크(12) 및 제3 베이스 마스크(13)의 단부에는 제2 중첩연결부(10b)가 형성된다.
제1 중첩연결부(10a)에 제1 증착면(10A)보다 타겟(TA)으로부터 이격된 단차면(11A)이 형성되고, 제2 중첩연결부(10b)는 금속원자의 이동경로(P)로부터 단차면(11A)을 가린다.
이에 따라, 베이스 마스크(10)의 조립시에는 제1 베이스 마스크(11)가 먼저 결합부재(4)에 결합되고, 분해시에는 제2 베이스 마스크(12) 및 제3 베이스 마스크(13)의 분해 후 제1 베이스 마스크(11)가 분해된다.
이는 타겟(TA)으로부터 방출되는 금속원자의 증착율이 타겟(TA)의 중심으로부터 가장 먼 제1 베이스 마스크(11)보다는 제2 베이스 마스크(12) 및 제3 베이스 마스크(13)에서 보다 높기 때문이다.
제2 베이스 마스크(12)와 제3 베이스 마스크(13)를 제1 베이스 마스크(11)보다 자주 교체할 수 있으며, 제1 베이스 마스크(11)는 일정 두께 이상의 박막이 형성된 경우에만 제2 베이스 마스크(12) 및 제3 베이스 마스크(13)와 함께 분해하여 크리닝해줌으로써 베이스 마스크(10)의 크리닝 비용이 감소할 수 있다.
도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 단차면(11A)은 제1 경사단차면(11A1), 연장단차면(11A2) 및 제2 경사단차면(11A3)을 포함한다.
제1 경사단차면(11A1)은 경사증착면(10A1)과 평행한 면을 형성한다. 제1 경사단차면(11A1)은 경사증착면(10A1)보다 타겟(TA)으로부터 이격된다.
연장단차면(11A2)은 연장증착면(10A2)과 평행한 면을 형성한다. 연장단차면(11A2)은 연장증착면(10A2)보다 타겟(TA)으로부터 이격된다.
제2 경사단차면(11A3)은 기판(3) 전면의 법선방향과 경사를 형성한다. 제2 경사단차면(11A3)은 경사단차면(11A)을 기준으로 연장단차면(11A2)의 반대쪽에 형성된다.
도 1 및 도 6에 도시된 바와 같이, 사이드 마스크(20)는 타겟(TA)을 향해 돌출된 형태로서 마스크 실드 조립체(1)의 가장자리를 따라 형성되는 구성으로서, 제1 사이드 마스크(21), 제2 사이드 마스크(22) 및 제3 사이드 마스크(23)를 포함하여 구성된다.
도 2에 도시된 바와 같이, 제2 사이드 마스크(22)는 제2 베이스 마스크(12)에 볼트(B2)로 결합되고, 제3 사이드 마스크(23)는 제3 베이스 마스크(13)에 볼트(B2)로 결합되며, 제1 사이드 마스크(21)는 제1 베이스 마스크(11)에 볼트(B2)로 결합된다.
사이드 마스크(20)는 금속원자가 증착되는 제2 증착면(20A)을 형성한다. 제2 증착면(20A)은 연장증착면(10A2)을 기준으로 경사증착면(10A1)의 반대쪽에 구비된다.
도 6에 도시된 바와 같이, 타겟(TA)으로부터 방출되는 금속원자는 제1 증착면(10A) 및 제2 증착면(20A)에 증착된다.
도 2에 도시된 바와 같이, 제1 사이드 마스크(21), 제2 사이드 마스크(22) 및 제3 사이드 마스크(23) 각각에는, 서로 중첩되는 양단부에 제1 중첩연결부(20a) 및 제1 중첩연결부(20a)와 서로 중첩되는 제2 중첩연결부(20b)가 형성된다.
도 5에 도시된 바와 같이, 사이드 마스크(20)가 t의 두께로 형성되면, 제1 중첩연결부(20a) 및 제2 중첩연결부(20b)는 제1 사이드 마스크(21), 제2 사이드 마스크(22) 및 제3 사이드 마스크(23) 각각의 양단에 대략 0.5t보다 작은 두께로 형성된다.
제1 사이드 마스크(21), 제2 사이드 마스크(22) 및 제3 사이드 마스크(23)를 제1 베이스 마스크(11), 제2 베이스 마스크(12) 및 제3 베이스 마스크(13)에 각각 고정한 상태에서, 열팽창에 의한 접촉이 방지되도록, 제1 중첩연결부(20a)와 제2 중첩연결부(20b)는 서로 이격된다.
제1 사이드 마스크(21), 제2 사이드 마스크(22) 및 제3 사이드 마스크(23)를 결합부재(4)에 각각 결합하면, 제1 중첩연결부(20a)와 제2 중첩연결부(20b)는 대략 t의 두께로 서로 중첩되어 제2 사이드 마스크(22), 제3 사이드 마스크(23) 및 제3 사이드 마스크(23)의 연결부위를 통한 금속원자의 통과가 방지된다.
도 5에 도시된 바와 같이, 제1 중첩연결부(20a)는 사이드 마스크(20)의 바깥쪽에 배치되고 제2 중첩연결부(20b)는 사이드 마스크(20)의 안쪽에 배치되어 서로 중첩된다.
바람직하게는, 제1 사이드 마스크(21) 양단에는 제1 중첩연결부(20a)가 형성되고, 제1 사이드 마스크(21)와 서로 연결되는 제2 사이드 마스크(22) 및 제3 사이드 마스크(23)의 단부에는 제2 중첩연결부(20b)가 형성된다.
제1 중첩연결부(20a)는 사이드 마스크(20)의 바깥쪽에 배치되고 제2 중첩연결부(20b)는 사이드 마스크(20)의 안쪽에 배치된다.
따라서, 마스크 실드 조립체(1)의 조립시 제1 베이스 마스크(11)가 먼저 결합부재(4)에 조립되고 제2 베이스 마스크(12) 및 제3 베이스 마스크(13)가 결합부재(4)에 조립되는 과정에서, 제1 중첩연결부(10a) 및 제2 중첩연결부(10b)의 간섭이 방지된다.
공개특허공보 제2012-0021642호에는 본 발명의 마스크 실드 조립체(1)에 대응되는 비성막용 쉴드가 게시되어 있으며, 공개특허공보 제2012-0021642호에는 비성막용 쉴드의 주변을 통해 금속원자가 챔버의 내면에 증착되는 것을 방지하기 위해, 챔버의 측벽에 비성막용 쉴드의 가장자리를 가리도록 형성된 돌출부가 게시되어 있다.
그러나 공개특허공보 제2012-0021642호에서 돌출부는 비성막용 쉴드와 함께 이동되지 않으므로 돌출부에 증착된 금속원자 박막의 필링(peeling)이 발생되면 파티클의 주요 원인이 되거나 기판의 끝단 비성막부와의 근접 거리에 따른 쇼트 발생 등을 야기하는 문제가 있었다.
도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 마스크 실드 조립체(1)는 마스크 실드 조립체(1)의 가장자리를 따라 타겟(TA)을 향해 돌출되는 사이드 마스크(20)가 형성됨으로써 상술한 바와 같은 문제점을 해결하고 있다.
즉, 본 발명의 마스크 실드 조립체(1)는 마스크 실드 조립체(1)의 가장자리에 타겟(TA)을 향해 돌출되는 사이드 마스크(20)가 형성되어 타겟(TA)으로부터 돌출부(2)를 향해 이동하는 금속원자의 이동경로(P)를 가로막음에 따라, 금속원자가 챔버(미도시) 내부에 고정된 돌출부(2)에 증착되지 않고 사이드 마스크(20)에 증착됨으로써, 금속원자의 증착에 의한 돌출부(2)의 오염을 방지하게 된다.
도 4에 도시된 바와 같이, 사이드 마스크(20)의 외측면은 돌출부(2)의 끝단으로부터 일정간격 이격되어 형성된다. 따라서, 마스크 실드 조립체(1)가 챔버(미도시)의 내외부로 이동하는 과정에서 마스크 실드 조립체(1)와 돌출부(2) 간 충돌이 방지된다.
도 1 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 마스크 실드 조립체(1)의 타겟(TA)을 향하는 전면과 사이드 마스크(20)의 양쪽면은 연속된 요철형태를 형성한다.
마스크 실드 조립체(1)의 타겟(TA)을 향하는 전면과 사이드 마스크(20)의 양쪽면은 금속원자가 증착될 수 있는 부분으로서, 요철형태를 형성하면 금속원자가 증착될 수 있는 면적이 최대화되어 금속원자 박막의 성장, 그리고 이에 따른 필링 및 쇼트 발생가능성을 낮추게 된다.
공개특허공보 제2012-0021642호에 개시된 비성막용 쉴드는 결합바디와 쉴드부재로 구성됨에 따라, 비성막용 쉴드 교체시 결합바디와 쉴드부재를 작업자가 일일이 분리시켜야 하는 어려움이 있었다. 이는 비성막용 쉴드의 교체시간을 증가시키는 가장 큰 요인으로 작용한다.
또한, 공개특허공보 제2012-0021642호에 개시된 비성막용 쉴드는 일체형으로 제작되거나, 바아(bar) 타입으로 4개 마련되어 캐리어의 4면에 각각 하나씩 결합된다. 대형 공정 챔버의 높이는 3미터에 이르며, 작업자는 사다리를 타고 오른 상태에서 비성막용 쉴드의 교체를 진행해야 한다. 그러나 일체형 또는 바아 타입의 비성막용 쉴드는 무게가 상당하여 사다리에 오른 작업자가 교체작업을 원활하게 진행하기 어려운 문제가 있었다.
본 발명의 마스크 실드 조립체(1)는 베이스 마스크(10)는 복수로 분할되어 챔버 내에 구비된 결합부재(4)에 각각 결합되고, 타겟(TA)을 향해 돌출되는 사이드 마스크(20)는 베이스 마스크(10)의 가장자리를 따라 구비됨에 따라, 사다리에 오른 작업자도 결합부재(4)로부터 분할된 베이스 마스크(10) 중 일부를 쉽게 분리하여 교체할 수 있는 이점이 있다.
도 6 내지 도 8에 도시된 바와 같이, 베이스 마스크(10)와 결합부재(4)는 볼트(B1)와 너트(N)에 의해 결합될 수 있다.
도 7에 도시된 바와 같이, 베이스 마스크(10) 및 결합부재(4) 중 어느 하나에 삽입홀(H1)이 형성되고, 베이스 마스크(10) 및 결합부재(4) 중 다른 하나에 삽입홀(H2)이 형성된다.
너트(N)는 삽입홀(H1)에 이동 가능하게 삽입된다. 삽입홀(H1)의 단면적은 삽입홀(H2) 쪽 즉, 볼트(B1) 쪽으로 갈수록 좁아지는 형태를 형성한다. 너트(N)의 단면적도 볼트(B1) 쪽으로 갈수록 좁아지는 형태를 형성한다.
도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이, 너트(N)는 제1 너트(N1) 및 제2 너트(N2)를 포함한다. 제1 너트(N1)와 제2 너트(N2)는 볼트(B1)의 나사부를 기준으로 반경방향으로 분할된 형태를 형성한다.
도 7(a) 및 도 8(a)에 도시된 바와 같이, 너트(N)의 암나사는, 제1 너트(N1)와 제2 너트(N2)가 삽입홀(H1) 내에서 서로 최대로 멀어진 상태에서 볼트(B1)의 수나사와 가장 멀어진다. 따라서 너트(N)의 암나사는, 제1 너트(N1)와 제2 너트(N2)가 삽입홀(H1) 내에서 서로 최대로 멀어졌을 때 볼트(B1)의 수나사와 가장 약한 결합구조를 형성한다.
도 7(b) 및 도 8(b)에 도시된 바와 같이, 너트(N)의 암나사는, 제1 너트(N1)와 제2 너트(N2)가 삽입홀(H1) 내에서 서로 가까워진 상태에서 볼트(B1)의 수나사와 가장 가까워진다. 따라서 너트(N)의 암나사는, 제1 너트(N1)와 제2 너트(N2)가 삽입홀(H1) 내에서 서로 최대로 가까워진 상태에서 볼트(B1)의 수나사와 가장 견고한 결합구조를 형성한다.
도 7(a) 및 도 8(a)에 도시된 상태에서 볼트(B1)를 정회전(나사결합되는 방향으로 회전)시키면, 너트(N)가 삽입홀(H1) 내에서 볼트(B1) 쪽으로 이동하며 나사결합된다. 삽입홀(H1)의 단면적은 삽입홀(H2) 쪽 즉, 볼트(B1) 쪽으로 갈수록 좁아지는 형태를 형성한다. 따라서 이 과정에서 제1 너트(N1)와 제2 너트(N2)는 서로 가까워진다.
도 7(b) 및 도 8(b)에 도시된 바와 같이, 제1 너트(N1)와 제2 너트(N2)가 삽입홀(H1) 내에서 서로 밀착된 상태에서, 너트(N)의 측면은 삽입홀(H1)의 내면에 밀착된다. 따라서 너트(N)의 이동이 차단되며, 볼트(B1)와 너트(N)는 견고한 결합구조를 형성하게 된다.
도 7(b) 및 도 8(b)에 도시된 상태에서 볼트(B1)를 역회전(나사결합이 해체되는 방향으로 회전)시키면, 도 7(a) 및 도 8(a)에 도시된 바와 같이, 너트(N)가 삽입홀(H1) 내에서 볼트(B1)와 반대쪽으로 이동하며 제1 너트(N1)와 제2 너트(N2)는 서로 멀어진다.
도시되지는 않았으나, 제1 너트(N1)와 제2 너트(N2) 사이에 탄성부재가 개재될 수 있다. 제1 너트(N1)와 제2 너트(N2)는 탄성부재에 의해 서로 멀어질 수 있다. 탄성부재는 압축스프링(compression spring) 등으로 구비될 수 있다.
도면부호 R은 너트(N)의 이탈을 차단하는 차단부재(R)를 의미한다. 차단부재(R)는 삽입홀(H1) 내면에 탈착 가능하게 결합된다. 차단부재(R)는 스냅 링(snap ring)으로 구비될 수 있다.
차단부재(R)는 탄성 변형 가능한 재질로 이루어진다. 차단부재(R)가 너트(N)의 이동에 의해 다소 탄성 변형하면, 제1 너트(N1)와 제2 너트(N2)는 삽입홀(H1) 내에서 더 이격될 수 있다. 이 상태에서 볼트(B1)와 너트(N)의 나사결합이 완전히 해제될 수 있다.
상술한 바와 같이, 볼트(B1)는 헤드가 삽입홀(H2)에 완전히 삽입된 상태에서 공회전하여 너트(N)에 나사결합되거나 나사결합이 해제된다. 따라서 챔버 내에서 볼트(B1)의 낙하(유실) 가능성이 해제됨에 따라, 베이스 마스크(10)와 결합부재(4)의 볼트(B1)와 너트(N)에 의한 결합 및 분해를 신속하고 용이하게 할 수 있는 이점이 있다.
본 발명에 의하면, 베이스 마스크는 복수로 분할되어 챔버 내에 구비된 결합부재에 각각 결합됨으로써, 마스크 실드의 교체 작업에 의한 공정 로스를 대폭적으로 감소시킬 수 있도록 이루어지는 마스크 실드 조립체를 제공할 수 있게 된다.
또한, 베이스 마스크와 결합부재는 볼트와 너트에 의해 결합되고, 볼트를 회전시키면, 너트가 삽입홀 내에서 이동하며 나사결합되거나 분리됨으로써, 마스크 실드의 교체 작업에 의한 공정 로스를 대폭적으로 감소시킬 수 있도록 이루어지는 마스크 실드 조립체를 제공할 수 있게 된다.
앞에서, 본 발명의 특정한 실시예가 설명되고 도시되었지만 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 일이다. 따라서, 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 기술적 사상이나 관점으로부터 개별적으로 이해되어서는 안되며, 변형된 실시예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.
1 : 마스크 실드 조립체
10 : 베이스 마스크 20 : 사이드 마스크
10A : 제1 증착면 20A : 제2 증착면
10A1 : 경사증착면 20a : 제1 중첩연결부
10A2 : 연장증착면 20b : 제2 중첩연결부
10a : 제1 중첩연결부 21 : 제1 사이드 마스크
10b : 제2 중첩연결부 22 : 제2 사이드 마스크
11 : 제1 베이스 마스크 23 : 제3 사이드 마스크
11A : 단차면 B1,B2 : 볼트
11A1 : 제1 경사단차면 N : 너트
11A2 : 연장단차면 N1 : 제1 너트
11A3 : 제2 경사단차면 N2 : 제2 너트
12 : 제2 베이스 마스크 H1 : 삽입홀
13 : 제3 베이스 마스크 H2 : 걸림홀
TA : 타겟 R : 차단부재
P : 이동경로
2 : 돌출부
3 : 기판
4 : 결합부재

Claims (7)

  1. 스퍼터링(sputtering) 공정 중 타겟으로부터 방출되는 금속원자가 기판 주변에서 챔버 내면에 증착되는 것을 방지하는 마스크 실드 조립체로서,
    상기 금속원자의 이동경로로부터 상기 기판의 가장자리를 가리도록, 상기 타겟과 상기 기판 사이에 액자틀 형태로 구비된 베이스 마스크를 포함하며,
    상기 베이스 마스크는 복수로 분할되어 상기 챔버 내에 구비된 결합부재에 각각 결합되고,
    상기 베이스 마스크와 상기 결합부재는 볼트와 너트에 의해 결합되고,
    상기 베이스 마스크 및 상기 결합부재 중 어느 하나에 삽입홀이 형성되며,
    상기 볼트를 정회전시키면, 상기 너트가 상기 삽입홀 내에서 이동하며 나사결합되는 것을 특징으로 하는 마스크 실드 조립체.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 베이스 마스크는 상기 금속원자가 증착되는 제1 증착면을 형성하고,
    상기 제1 증착면은,
    상기 타겟과 상기 기판의 가장자리 사이에 구비되고, 상기 기판 전면의 법선방향과 경사를 형성하는 경사증착면; 및
    상기 경사증착면과 연결되되, 상기 경사증착면보다 상기 기판과 이격된 연장증착면을 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 실드 조립체.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 베이스 마스크는 제1 베이스 마스크와 제2 베이스 마스크를 포함하고,
    상기 제1 베이스 마스크의 일단부에 상기 제1 증착면보다 상기 타겟으로부터 이격된 단차면이 형성되고,
    상기 제2 베이스 마스크의 일단부는 상기 금속원자의 이동경로로부터 상기 단차면을 가리며,
    상기 단차면은,
    상기 경사증착면과 평행하고, 상기 경사증착면보다 상기 타겟으로부터 이격된 제1 경사단차면;
    상기 연장증착면과 평행하고, 상기 연장증착면보다 상기 타겟으로부터 이격된 연장단차면; 및
    상기 경사단차면을 기준으로 상기 연장단차면의 반대쪽에 형성되고, 상기 기판 전면의 법선방향과 경사를 형성하는 제2 경사단차면을 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 실드 조립체.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 베이스 마스크의 가장자리를 따라 구비되고, 상기 타겟을 향해 돌출되는 사이드 마스크를 포함하고,
    상기 사이드 마스크는 상기 금속원자가 증착되는 제2 증착면을 형성하고,
    상기 제2 증착면은 상기 연장증착면을 기준으로 상기 경사증착면의 반대쪽에 구비되는 것을 특징으로 하는 마스크 실드 조립체.
  5. 삭제
  6. 제1항에 있어서,
    상기 삽입홀의 단면적은 상기 볼트 쪽으로 갈수록 좁아지고,
    상기 볼트를 정회전시키면, 상기 너트가 상기 삽입홀 내에서 이동하며 상기 너트의 측면이 상기 삽입홀의 내면에 밀착되는 것을 특징으로 하는 마스크 실드 조립체.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 너트는 상기 볼트의 나사부를 기준으로 반경방향으로 분할되고,
    상기 볼트를 정회전시키면, 상기 너트가 상기 삽입홀 내에서 이동하며 상기 볼트의 수나사와 상기 너트의 암나사가 서로 가까워지는 것을 특징으로 하는 마스크 실드 조립체.
KR1020210035423A 2021-03-18 2021-03-18 마스크 실드 조립체 KR102275060B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210035423A KR102275060B1 (ko) 2021-03-18 2021-03-18 마스크 실드 조립체

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210035423A KR102275060B1 (ko) 2021-03-18 2021-03-18 마스크 실드 조립체

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR102275060B1 true KR102275060B1 (ko) 2021-07-08

Family

ID=76893500

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020210035423A KR102275060B1 (ko) 2021-03-18 2021-03-18 마스크 실드 조립체

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102275060B1 (ko)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100752936B1 (ko) * 2005-07-25 2007-08-30 주식회사 에이디피엔지니어링 플라즈마 처리장치의 플라즈마 차폐수단
KR20120021642A (ko) 2010-08-11 2012-03-09 주식회사 에스에프에이 스퍼터 장치
KR101213456B1 (ko) * 2011-05-29 2012-12-18 주식회사 장평건설 체결구 조립체
KR101600265B1 (ko) * 2014-09-01 2016-03-08 엘지디스플레이 주식회사 화학기상증착장치
KR101608946B1 (ko) * 2014-11-19 2016-04-05 (주)이루자 마스크 쉴드 모듈 및 이를 포함하는 스퍼터링 장치

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100752936B1 (ko) * 2005-07-25 2007-08-30 주식회사 에이디피엔지니어링 플라즈마 처리장치의 플라즈마 차폐수단
KR20120021642A (ko) 2010-08-11 2012-03-09 주식회사 에스에프에이 스퍼터 장치
KR101213456B1 (ko) * 2011-05-29 2012-12-18 주식회사 장평건설 체결구 조립체
KR101600265B1 (ko) * 2014-09-01 2016-03-08 엘지디스플레이 주식회사 화학기상증착장치
KR101608946B1 (ko) * 2014-11-19 2016-04-05 (주)이루자 마스크 쉴드 모듈 및 이를 포함하는 스퍼터링 장치

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2130215B1 (en) Deposition system with electrically isolated pallet and anode assemblies
JP6692823B2 (ja) 高コンダクタンスのプロセスキット
JP6514763B2 (ja) スパッタリングターゲット
US20190352765A1 (en) Deposition mask
KR102275060B1 (ko) 마스크 실드 조립체
WO2005024092A2 (en) Particulate reduction using temperature-controlled chamber shield
WO2012003994A1 (en) Magnetron sputtering apparatus
TWI573883B (zh) 物理氣相沉積系統與應用其之物理氣相沉積方法
KR20110033362A (ko) 고균일 박막제조를 위한 방전용 양전극을 구비하는 스퍼터 건
KR101074793B1 (ko) 박막 증착 장치
JP6057517B2 (ja) スパッタリング用分割ターゲット装置及びそれを利用したスパッタリング方法
JP2011026624A (ja) プラズマ処理装置
CN111511956B (zh) 防附着部件和真空处理装置
KR102580293B1 (ko) 스퍼터링 장치
EP2213765A1 (en) Stray coating prevention device, coating chamber device for coating substrates, and method of coating
KR101703219B1 (ko) 기판의 잔류 응력을 제어하는 스퍼터링 장치
KR101583917B1 (ko) 이온빔 소스의 음극
JP2558993B2 (ja) 画像表示装置および画像表示装置の製造方法
CN214477328U (zh) 一种离子源屏蔽装置
KR20210115119A (ko) 증착원
TW201835364A (zh) 濺鍍裝置及電極膜之製造方法
KR100620193B1 (ko) 스퍼터링 장치의 셔터 플레이트
JP2019189904A (ja) 蒸着マスク、薄膜製造装置、薄膜の製造方法、および有機半導体素子の製造方法
KR20220065163A (ko) 마그넷 모듈 및 이를 포함하는 스퍼터링 장치
CN114457313A (zh) 真空溅镀机用的遮挡装置

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant