KR102267444B1 - Apparatus for Treating Harmful Gas - Google Patents

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KR102267444B1 KR1020190093713A KR20190093713A KR102267444B1 KR 102267444 B1 KR102267444 B1 KR 102267444B1 KR 1020190093713 A KR1020190093713 A KR 1020190093713A KR 20190093713 A KR20190093713 A KR 20190093713A KR 102267444 B1 KR102267444 B1 KR 102267444B1
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    • B01D2259/818—Employing electrical discharges or the generation of a plasma

Abstract

본 발명은 유해가스처리장치에 관한 것으로서, 덕트와; 상기 덕트의 내부에 설치된 저온플라즈마발생부와; 상기 저온플라즈마발생부의 전방에 배치되도록 설치되고 상기 덕트의 외부에서 상기 덕트의 내부를 향하고 상기 덕트의 일단을 통해 유입되어 상기 덕트를 통과할 수 있는 크기를 갖는 정방향송풍력을 상기 덕트의 외부에 존재하는 유해가스에 제공하는 동력형 정방향송풍팬과; 상기 저온플라즈마발생부의 후방에 배치되도록 상기 덕트의 내부에 설치되어 상기 정방향송풍력보다 작은 크기로 상기 정방향송풍력과 반대방향으로 향하는 역방향송풍력을 상기 저온플라즈마발생부의 주위를 통과하는 유해가스에 제공하는 역방향송풍팬을 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의해, 유해가스에 포함된 유해물질의 제거효율이 향상된다.The present invention relates to a hazardous gas treatment apparatus, comprising: a duct; a low-temperature plasma generating unit installed inside the duct; It is installed so as to be disposed in front of the low-temperature plasma generating unit and is directed from the outside of the duct toward the inside of the duct, and is introduced through one end of the duct and a forward blowing force having a size that can pass through the duct is present outside the duct And a power-type forward blowing fan provided to the harmful gas; Installed inside the duct so as to be disposed behind the low-temperature plasma generating unit, a reverse blowing force directed in the opposite direction to the forward blowing force with a size smaller than the forward blowing force is provided to the harmful gas passing around the low-temperature plasma generating unit It is characterized in that it includes a reverse blowing fan. Accordingly, the removal efficiency of harmful substances contained in the harmful gas is improved.

Description

유해가스처리장치{Apparatus for Treating Harmful Gas}Harmful Gas Treatment Device {Apparatus for Treating Harmful Gas}

본 발명은 유해가스처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 저온플라즈마기술을 사용하여 유해가스에 포함된 유해물질을 처리하기 위한 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a hazardous gas processing apparatus, and more particularly, to an apparatus for processing harmful substances contained in harmful gas using low-temperature plasma technology.

축산단지, 음식물처리장, 하ㆍ폐수 및 분뇨처리장, 산업단지 등에서 발생하는 유해가스(악취가스 포함)를 처리하기 위해 저온플라즈마기술을 사용하는 방법이 안출되어 사용되고 있다.A method of using low-temperature plasma technology has been devised and used to treat harmful gases (including odorous gases) generated in livestock complexes, food treatment plants, sewage and wastewater and excreta treatment plants, and industrial complexes.

저온플라즈마기술에 따르면 유해가스가 존재하는 공간에서 의도적으로 전기방전을 일으키면 큰 운동에너지를 갖는 전자가 가스 입자들과 비탄성충돌하게 된다. 전자와 가스 입자사이의 비탄성충돌에 의해 화학적으로 반응성이 크고 정화역할을 하는 고반응성 정화물질(OH 라디칼 등)이 생성된다. 이러한 고반응성 정화물질을 이용하면 유해가스에 포함된 유해물질(암모니아, 황화수소 등)을 처리(분해, 환원 등)할 수 있다.According to the low-temperature plasma technology, if an electric discharge is intentionally generated in a space where harmful gas is present, electrons with large kinetic energy collide with gas particles inelastically. Due to inelastic collisions between electrons and gas particles, highly reactive purifying substances (OH radicals, etc.) that are highly chemically reactive and play a purifying role are generated. By using such a highly reactive purification material, harmful substances (ammonia, hydrogen sulfide, etc.) contained in harmful gases can be treated (decomposed, reduced, etc.).

이와 같이 저온플라즈마기술에 따른 유해가스 처리메카니즘은 종래 널리 알려져 있으므로 상세한 설명은 생략하기로 한다.As such, the harmful gas treatment mechanism according to the low-temperature plasma technology is widely known in the prior art, and thus a detailed description thereof will be omitted.

도6은 종래의 유해가스처리장치의 전체 구성도이다. 6 is an overall configuration diagram of a conventional harmful gas processing apparatus.

종래의 유해가스처리장치는, 도6에 도시된 바와 같이, 덕트(110)와, 덕트(110)의 내부에 설치된 저온플라즈마발생부(120), 정방향송풍팬(130) 및 배기팬(164)과, 정방향송풍팬(130)의 전방에 설치된 에어필터(161)와, 저온플라즈마발생부(120)와 배기팬(164) 사이에 설치된 금속필터(162) 및 촉매반응기(163)를 갖고 있다.As shown in FIG. 6, the conventional hazardous gas treatment apparatus includes a duct 110, a low-temperature plasma generating unit 120 installed inside the duct 110, a forward blowing fan 130, and an exhaust fan 164. and an air filter 161 installed in front of the forward blowing fan 130 , a metal filter 162 and a catalytic reactor 163 installed between the low-temperature plasma generator 120 and the exhaust fan 164 .

덕트(110)는 원형단면의 곡관 형태로 구현되어 있다.The duct 110 is implemented in the form of a curved pipe of a circular cross section.

정방향송풍팬(130)은 덕트(110)의 가스유입측 종단에 인접하도록 덕트(110)의 내부에 설치된다.The forward blowing fan 130 is installed inside the duct 110 so as to be adjacent to the end of the gas inlet side of the duct 110 .

정방향송풍팬(130)은 덕트(110)의 외부에서 덕트(110)의 내부를 향하는 정방향송풍력을 덕트(110)의 외부에 존재하는 유해가스에 제공한다.The forward blowing fan 130 provides a forward blowing force from the outside of the duct 110 toward the inside of the duct 110 to harmful gas existing outside the duct 110 .

정방향송풍력에 의해 덕트(110)의 외부에 존재하는 유해가스는 덕트(110)의 일단을 통해 유입되어 덕트(110)를 통과하여 배기팬(164)에 도달할 수 있는 정도의 크기를 갖는다.Noxious gas existing outside the duct 110 by the forward blowing force is introduced through one end of the duct 110 and has a size that can reach the exhaust fan 164 through the duct 110 .

배기팬(164)은 덕트(110)의 가스배출측 종단에 인접하도록 덕트(110)의 내부에 설치된다.The exhaust fan 164 is installed inside the duct 110 so as to be adjacent to the end of the gas discharge side of the duct 110 .

배기팬(164)은 정방향송풍력과 같은 방향으로 작용하는 배기송풍력을 저온플라즈마발생부(120)의 후방영역을 통과하는 유해가스에 제공한다.The exhaust fan 164 provides exhaust blowing force acting in the same direction as the forward blowing force to the harmful gas passing through the rear region of the low-temperature plasma generating unit 120 .

전술한 구성을 갖는 종래의 유해가스처리장치의 동작을 설명하면 다음과 같다. 설명의 편의를 위해 정방향송풍팬(130)과 저온플라즈마발생부(120)에는 구동전원이 인가되어 있는 것으로 가정한다.The operation of the conventional harmful gas processing apparatus having the above-described configuration will be described as follows. For convenience of explanation, it is assumed that driving power is applied to the forward blowing fan 130 and the low-temperature plasma generating unit 120 .

먼저 정방향송풍팬(130)에 구동전원이 인가되면 정방향송풍팬(130)이 회전하여 정방향송풍력이 발생한다.First, when driving power is applied to the forward blowing fan 130, the forward blowing fan 130 rotates to generate a forward blowing force.

정방향송풍력이 발생하면 덕트(110) 외부에 존재하는 유해가스는 덕트(110)의 일단 통해 덕트(110)의 내부로 유입된 다음, 덕트(110)를 통과하여 덕트(110)의 타단을 통해 외부로 배출된다. 유해가스의 배출동작은 배기팬(164)이 제공하는 배기송풍력에 의해 촉진된다.When the forward blowing force is generated, the harmful gas existing outside the duct 110 is introduced into the interior of the duct 110 through one end of the duct 110 , and then passes through the duct 110 and through the other end of the duct 110 . discharged to the outside The exhaust operation of the harmful gas is promoted by the exhaust blowing force provided by the exhaust fan 164 .

정방향송풍력이 크면 클수록 덕트(110)의 내부로 유입되는 유해가스의 양이 많아진다.As the forward blowing force increases, the amount of harmful gas flowing into the duct 110 increases.

유해가스는 덕트(110)를 통과하는 동안 저온플라즈마발생부(120)에서 발생한 플라즈마에 의해 생성된 고반응성 정화물질과 유해가스에 포함된 유해물질이 반응하고, 이에 따라 유해가스에 포함된 유해물질이 제거된다.The high-reactive purification material generated by the plasma generated in the low-temperature plasma generating unit 120 while the harmful gas passes through the duct 110 reacts with the harmful substances contained in the harmful gas, and accordingly, the harmful substances contained in the harmful gas this is removed

정방향송풍력이 크면 클수록 유해가스가 플라즈마반응영역에 머무르는 시간이 짧아진다.The larger the forward blowing force, the shorter the time the harmful gas stays in the plasma reaction region.

배기팬(164)의 회전동작에 의해 발생하는 배기송풍력에 의해 유해가스가 플라즈마반응영역에 머무르는 시간은 단축된다.The time the harmful gas stays in the plasma reaction region is shortened by the exhaust blowing force generated by the rotational operation of the exhaust fan 164 .

그런데 종래의 유해가스처리장치에 따르면, 정방향송풍팬(130)의 회전동작에 의해 발생하는 정방향송풍력이 크면 클수록 유해가스가 플라즈마반응영역에 머무르는 시간이 짧아지고 덕트(110)의 내부로 유입되는 유해가스의 양이 많아지기 때문에 정방향송풍력이 큰 경우 유해가스에 포함된 유해물질의 제거효율이 저하된다는 문제점이 있었다.However, according to the conventional harmful gas processing apparatus, the greater the forward blowing force generated by the rotational operation of the forward blowing fan 130, the shorter the time the harmful gas stays in the plasma reaction region, and the more the harmful gas flows into the inside of the duct 110. Since the amount of harmful gas increases, there is a problem that the removal efficiency of harmful substances contained in the harmful gas is lowered when the forward blowing force is large.

이러한 문제점은 배기팬(164)의 회전동작에 의해 발생하는 배기송풍력에 의해 유해가스가 플라즈마반응영역에 머무르는 시간이 단축되기 때문에 가중된다.This problem is aggravated because the time the harmful gas stays in the plasma reaction region is shortened by the exhaust blowing force generated by the rotational operation of the exhaust fan 164 .

관련 선행문헌으로는 대한민국 등록특허공보 제10-0477060호(등록일자: 2005년 03월 07일, 발명의 명칭: 평판형 다층 저온 플라즈마 반응기를 이용한 유해가스처리시스템)이 있으며, 상기 선행 문헌에는 위에서 설명한 종래의 유해가스처리장치에 관한 기술이 개시되어 있다.As a related prior document, there is Republic of Korea Patent Publication No. 10-0477060 (Registration date: March 07, 2005, title of invention: Noxious gas treatment system using a flat plate type multi-layer low-temperature plasma reactor), and in the preceding document, there is The technology related to the conventional harmful gas processing apparatus described is disclosed.

따라서 본 발명의 목적은, 유해가스에 포함된 유해물질의 제거효율이 향상된 유해가스처리장치를 제공하는 것이다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a harmful gas treatment apparatus with improved removal efficiency of harmful substances contained in the harmful gas.

상기 목적은, 본 발명에 따라, 덕트와; 상기 덕트의 내부에 설치된 저온플라즈마발생부와; 상기 저온플라즈마발생부의 전방에 배치되도록 설치되고 상기 덕트의 외부에서 상기 덕트의 내부를 향하고 상기 덕트의 일단을 통해 유입되어 상기 덕트를 통과할 수 있는 크기를 갖는 정방향송풍력을 상기 덕트의 외부에 존재하는 유해가스에 제공하는 동력형 정방향송풍팬과; 상기 정방향송풍력에 의해 회전하는 무동력형이고 상기 저온플라즈마발생부의 후방에 배치되도록 상기 덕트의 내부에 설치되어 상기 정방향송풍력보다 작은 크기로 상기 정방향송풍력과 반대방향으로 향하는 역방향송풍력을 상기 저온플라즈마발생부의 주위를 통과하는 유해가스에 제공하는 역방향송풍팬을 포함하는 것을 특징으로 하는 유해가스처리장치에 의해 달성된다.Said object, according to the invention, a duct; a low-temperature plasma generating unit installed inside the duct; It is installed so as to be disposed in front of the low-temperature plasma generating unit and is directed from the outside of the duct toward the inside of the duct, and is introduced through one end of the duct and a forward blowing force having a size that can pass through the duct is present outside the duct And a power-type forward blowing fan provided to the harmful gas; It is a non-powered type that is rotated by the forward blowing force and is installed inside the duct so as to be disposed behind the low-temperature plasma generating part and is smaller than the forward blowing force. It is achieved by a noxious gas processing apparatus comprising a reverse blowing fan for providing noxious gas passing around the plasma generating unit.

여기서 유해가스에 포함된 유해물질의 제거효율이 더욱더 향상되도록, 상기 저온플라즈마발생부는 다수의 통기공을 갖도록 형성된 전극을 가지고, 상기 전극이 설치되는 위치에서 얻은 상기 덕트의 개구면을 전극위치덕트개구면이라고 할 때 상기 통기공의 개구면이 상기 전극위치덕트개구면에 대향하도록 상기 덕트의 내부에 설치되는 것이 바람직하다.Here, in order to further improve the removal efficiency of harmful substances contained in the harmful gas, the low-temperature plasma generating unit has an electrode formed to have a plurality of vent holes, and the opening surface of the duct obtained at the location where the electrode is installed is formed with an electrode positioning duct. When referring to a spherical surface, it is preferable that the opening surface of the vent hole is installed inside the duct to face the electrode location duct opening surface.

그리고 역방향송풍력의 크기를 증가시킬 수 있도록, 상기 역방향송풍팬의 후방에 배치되고 상기 역방향송풍팬에서 멀어지는 방향을 따라 경사를 이루도록 상기 덕트의 내부에 설치되는 흐름지연판을 더 포함하는 것이 바람직하다.And to increase the magnitude of the reverse blowing force, it is disposed at the rear of the reverse blowing fan and it is preferable to further include a flow retardation plate installed inside the duct to form an inclination along a direction away from the reverse blowing fan. .

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따라서 본 발명에 따르면, 정방향송풍력을 덕트의 외부에 존재하는 유해가스에 제공하는 동력형 정방향송풍팬을 저온플라즈마발생부의 전방에 배치되도록 설치하는 한편, 정방향송풍력보다 작은 크기로 정방향송풍력과 반대방향으로 향하는 역방향송풍력을 저온플라즈마발생부의 주위를 통과하는 유해가스에 제공하는 무동력형 역방향송풍팬을 저온플라즈마발생부의 후방에 배치되어 정방향송풍력에 의해 회전하도록 덕트의 내부에 설치함으로써, 유해가스에 포함된 유해물질의 제거효율이 향상된다. 유해물질의 제거효율이 향상되면 덕트의 길이구간을 짧게 할 수 있게 된다(유해가스는 덕트를 통과하는 동안 고반응성 정화물질과 유해물질 사이의 반응이 부분적으로 일어남).Therefore, according to the present invention, a powered forward blowing fan that provides forward blowing power to harmful gases existing outside the duct is installed to be disposed in front of the low-temperature plasma generating unit, while the forward blowing power is smaller than the forward blowing power and A non-motorized reverse blowing fan that provides a reverse blowing force directed in the opposite direction to the harmful gas passing around the low-temperature plasma generating unit is disposed in the rear of the low-temperature plasma generating unit and rotates by the forward blowing force. The removal efficiency of harmful substances contained in the gas is improved. If the removal efficiency of harmful substances is improved, the length of the duct can be shortened (the reaction between the highly reactive purification material and the harmful substance partially occurs while the harmful gas passes through the duct).

도1은 본 발명의 실시예에 따른 유해가스처리장치의 전체 구성도,
도2는 본 발명의 실시예에 따른 저온플라즈마발생부의 사시도,
도3은 본 발명의 실시예에 따른 역방향송풍팬 영역의 결합사시도,
도4는 본 발명의 실시예에 따른 역방향송풍팬 영역의 분해사시도,
도5는 본 발명의 실시예에 따른 흐름지연판의 설치상태를 도시한 도면,
도6은 종래의 유해가스처리장치의 전체 구성도이다.1 is an overall configuration diagram of a harmful gas processing apparatus according to an embodiment of the present invention;
2 is a perspective view of a low-temperature plasma generator according to an embodiment of the present invention;
3 is a combined perspective view of a reverse blowing fan area according to an embodiment of the present invention;
4 is an exploded perspective view of a reverse blowing fan area according to an embodiment of the present invention;
5 is a view showing the installation state of the flow delay plate according to an embodiment of the present invention;
6 is an overall configuration diagram of a conventional harmful gas processing apparatus.

이하에서, 첨부도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도1은 본 발명의 실시예에 따른 유해가스처리장치의 전체 구성도이고, 도2는 본 발명의 실시예에 따른 저온플라즈마발생부의 사시도이고, 도3은 본 발명의 실시예에 따른 역방향송풍팬 영역의 결합사시도이고, 도4는 본 발명의 실시예에 따른 역방향송풍팬 영역의 분해사시도이고, 도5는 본 발명의 실시예에 따른 흐름지연판의 설치상태를 도시한 도면이다.1 is an overall configuration diagram of a harmful gas processing apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a perspective view of a low-temperature plasma generator according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a reverse blowing fan according to an embodiment of the present invention It is a combined perspective view of the area, Figure 4 is an exploded perspective view of the reverse blowing fan area according to an embodiment of the present invention, Figure 5 is a view showing the installation state of the flow delay plate according to the embodiment of the present invention.

본 발명의 실시예에 따른 유해가스처리장치는, 이들 도면에 도시된 바와 같이, 덕트(10)와, 덕트(10)의 내부에 설치된 저온플라즈마발생부(20)와, 덕트(10)의 전방에 설치된 동력형 정방향송풍팬(30)과, 덕트(10)의 내부에 설치된 무동력형 역방향송풍팬(40) 및 흐름지연판(51)을 갖고 있다.Noxious gas processing apparatus according to an embodiment of the present invention, as shown in these drawings, a duct 10, a low-temperature plasma generating unit 20 installed inside the duct 10, and the front of the duct 10 It has a powered forward blowing fan 30 installed in the duct, a non-powered reverse blowing fan 40 and a flow retarding plate 51 installed inside the duct 10 .

덕트(10)는 원형관 형태의 덕트바디부(11)와, 덕트바디부(11)의 일단에서 외측으로 절곡 형성된 덕트플랜지(12)를 갖고 있다.The duct 10 has a duct body part 11 in the form of a circular tube, and a duct flange 12 bent outward from one end of the duct body part 11 .

덕트바디부(11)는 원형단면의 직선관 형태로 구현되어 있다.The duct body part 11 is implemented in the form of a straight pipe of a circular cross section.

덕트(10)는 유해가스가 존재하는 공간에 연결되도록 벽체 등에 설치될 수 있다.The duct 10 may be installed on a wall or the like so as to be connected to a space in which noxious gas is present.

즉, 덕트(10)는 유해가스가 존재하는 공간을 둘러싸는 벽체에 배출공을 형성하고, 덕트플랜지측 종단이 배출공에 정렬되도록 덕트플랜지(12)를 통해 벽체 등에 고정될 수 있다.That is, the duct 10 may be fixed to the wall or the like through the duct flange 12 to form a discharge hole in the wall surrounding the space in which the harmful gas exists, and to align the end of the duct flange side with the discharge hole.

저온플라즈마발생부(20)는 덕트(10)에 고정 설치된 대략 피읖(ㅍ)자 형태의 지지프레임(21)과, 지지프레임(21)에 형성된 전극(22)을 갖고 있다.The low-temperature plasma generating unit 20 has a support frame 21 in the shape of a substantially P-shaped that is fixedly installed in the duct 10 , and an electrode 22 formed on the support frame 21 .

지지프레임(21)은 목재 등의 비전도성 재질을 사용하여 제작할 수 있다.The support frame 21 may be manufactured using a non-conductive material such as wood.

전극(22)은 2조의 전선(23, 각 조당 한쌍의 전선을 가짐)을 격자형태를 이루도록 지지프레임(21)에 고정하는 방법으로 형성할 수 있다. 전극(22)을 격자 형태로 형성함으로써 전극(22)에 의해 다수의 통기공(22a)이 생긴다,The electrode 22 may be formed by fixing two sets of wires 23, each having a pair of wires, to the support frame 21 to form a grid. By forming the electrode 22 in the form of a lattice, a plurality of vent holes 22a are created by the electrode 22,

전극(22)에 전원을 인가하면 2조의 전선(23)의 각 교차점(2개의 전선이 상하로 접촉되어 있음) 전기방전을 얻을 수 있다.When power is applied to the electrode 22, an electric discharge can be obtained at each intersection of the two sets of wires 23 (the two wires are in contact with each other).

이러한 구성을 갖는 전극(22)은 종래 널리 사용되고 있으므로 상세한 설명은 생략하기로 한다.Since the electrode 22 having such a configuration has been widely used in the prior art, a detailed description thereof will be omitted.

2조의 전선(23)을 격자형태로 배치하는 대신 종래 알려진 바와 같이 플라스틱수지(ABS, PC, PP 등)에 고전기전도성 물질(백금족 금속분말, 탄소분말, 백금족나노튜브 등)을 혼합한 후 메쉬형태로 전극을 성형하는 방법 등으로 전극에 통기공(22a)을 형성할 수 있다.Instead of arranging two sets of wires 23 in a lattice form, as conventionally known, a highly conductive material (platinum group metal powder, carbon powder, platinum group nanotube, etc.) is mixed with a plastic resin (ABS, PC, PP, etc.) in a mesh form The vent hole 22a may be formed in the electrode by a method of forming a furnace electrode or the like.

이러한 구성을 갖는 저온플라즈마발생부(20)는 정방향송풍팬(30)의 후방에서 통기공(22a)의 개구면이 전극위치덕트개구면에 대향하도록 덕트(10)의 내부에 설치된다. 여기서 전극위치덕트개구면은 전극(22)이 설치되는 위치에서 얻은 덕트(10)의 개구면을 의미한다.The low-temperature plasma generating unit 20 having such a configuration is installed inside the duct 10 so that the opening surface of the vent hole 22a faces the electrode location duct opening at the rear of the forward blowing fan 30 . Here, the electrode position duct opening surface means the opening surface of the duct 10 obtained at the position where the electrode 22 is installed.

정방향송풍팬(30)은 저온플라즈마발생부(20)의 전방에 배치되도록 덕트(10)의 외부에 설치된다,The forward blowing fan 30 is installed on the outside of the duct 10 so as to be disposed in front of the low-temperature plasma generating unit 20,

정방향송풍팬(30)은 하우징(31)과, 하우징(31)에 결합된 지지판(32)과, 하우징(31)에 지지되도록 설치된 정방향송풍팬날개부(33) 및 정방향송풍팬모터(34)를 갖고 있다.The forward blowing fan 30 includes a housing 31, a support plate 32 coupled to the housing 31, a forward blowing fan blade part 33 installed to be supported on the housing 31, and a forward blowing fan motor 34. has a

정방향송풍팬날개부(33)는 정방향송풍팬모터(34)가 회전할 때 덕트(10)의 외부에서 덕트(10)의 내부를 향하는 정방향송풍력을 덕트(10)의 외부에 존재하는 유해가스에 제공한다.The forward blowing fan wing part 33 transmits the forward blowing force from the outside of the duct 10 to the inside of the duct 10 when the forward blowing fan motor 34 rotates. Noxious gases present outside the duct 10 provided to

정방향송풍력은 덕트(10)의 외부에 존재하는 유해가스가 덕트(10)의 일단을 통해 유입되어 덕트(10)를 통과할 수 있는 크기를 갖는다.The forward blowing force has a size that allows harmful gas existing outside the duct 10 to be introduced through one end of the duct 10 and to pass through the duct 10 .

정방향송풍팬(30)은 지지판(32)을 덕트(10)가 설치된 벽체에 고정하는 방법으로 설치될 수 있다. 정방향송풍팬(30)의 설치는 유해가스가 존재하는 공간에 노출되도록 이루어진다.The forward blowing fan 30 may be installed by fixing the support plate 32 to the wall where the duct 10 is installed. The installation of the forward blowing fan 30 is made so as to be exposed to a space in which harmful gases exist.

역방향송풍팬(40)은 저온플라즈마발생부(20)의 후방에 배치되도록 덕트(10)의 내부에 설치된다,The reverse blowing fan 40 is installed inside the duct 10 so as to be disposed at the rear of the low-temperature plasma generating unit 20,

역방향송풍팬(40)은 다음과 같은 방법으로 설치될 수 있다.The reverse blowing fan 40 may be installed in the following way.

먼저 덕트지지축(41)의 양단과 덕트지지축(41)에 형성된 회전방지걸림절곡부(42)가 외부로 노출되도록 덕트지지축(41)을 덕트(10)에 설치한다. 덕트지지축(41)의 양단에는 너트(45)가 체결된다. 덕트(10)의 단면적이 작은 경우 덕트(10)를 분할 형성하고 역방향송풍팬(40)을 설치한 후 덕트(10)의 분할부분을 결합시킬 수 있다.First, the duct support shaft 41 is installed in the duct 10 so that both ends of the duct support shaft 41 and the anti-rotation locking bent portion 42 formed on the duct support shaft 41 are exposed to the outside. Nuts 45 are fastened to both ends of the duct support shaft 41 . When the cross-sectional area of the duct 10 is small, the duct 10 is divided and the reverse blower fan 40 is installed, and then the divided parts of the duct 10 can be combined.

다음에 팬지지축(43)의 일단을 역방향송풍팬(40)에 결합한다. 팬지지축(43)과 역방향송풍팬(40)의 결합영역에는 베어링(44)이 설치된다. 팬지지축(43)의 일단에는 너트(45)가 체결된다.Next, one end of the fan support shaft 43 is coupled to the reverse blowing fan 40 . A bearing 44 is installed in the coupling region between the fan support shaft 43 and the reverse blowing fan 40 . A nut 45 is fastened to one end of the fan support shaft 43 .

다음에 팬지지축(43)의 타단을 덕트지지축(41)에 결합한다. 팬지지축(43)의 타단에는 너트(45)가 체결된다.Next, the other end of the fan support shaft 43 is coupled to the duct support shaft 41 . A nut 45 is fastened to the other end of the fan support shaft 43 .

역방향송풍팬(40)은 정방향송풍력과 반대방향으로 작용하는 역방향송풍력을 저온플라즈마발생부(20)의 주위를 통과하는 유해가스에 제공하도록 구성되어 있다.The reverse blowing fan 40 is configured to provide a reverse blowing force acting in the opposite direction to the forward blowing force to the harmful gas passing around the low-temperature plasma generating unit 20 .

역방향송풍팬(40)은 정방향송풍력에 의해 회전하는 무동력형으로서 역방향송풍력은 정방향송풍력보다 작은 크기를 갖고 있다.The reverse blowing fan 40 is a non-powered type that rotates by a forward blowing force, and the reverse blowing force has a smaller size than the forward blowing force.

각 흐름지연판(51)은 역방향송풍팬(40)의 후방에 배치되고, 역방향송풍팬(40)에서 멀어지는 방향을 따라 경사를 이루도록 덕트(10)의 내부에 설치된다.Each flow delay plate 51 is disposed at the rear of the reverse blowing fan 40 and is installed inside the duct 10 so as to form an inclination along the direction away from the reverse blowing fan 40 .

전술한 구성을 갖는 본 발명의 실시예에 따른 유해가스처리장치의 동작을 설명하면 다음과 같다. 설명의 편의를 위해 정방향송풍팬(30)과 저온플라즈마발생부(20)에는 구동전원이 인가되어 있는 것으로 가정한다.The operation of the harmful gas processing apparatus according to the embodiment of the present invention having the above-described configuration will be described as follows. For convenience of description, it is assumed that driving power is applied to the forward blowing fan 30 and the low-temperature plasma generating unit 20 .

먼저 정방향송풍팬(30)에 구동전원이 인가되면 정방향송풍팬(30)이 회전하여 정방향송풍력이 발생한다.First, when driving power is applied to the forward blowing fan 30, the forward blowing fan 30 rotates to generate a forward blowing force.

정방향송풍력이 발생하면 덕트(10) 외부에 존재하는 유해가스는 덕트(10)의 일단(덕트플랜지측 종단)을 통해 덕트(10)의 내부로 유입된 다음, 덕트(10)를 통과하여 덕트(10)의 타단을 통해 배출된다.When the forward blowing force is generated, the harmful gas existing outside the duct 10 flows into the inside of the duct 10 through one end (the end of the duct flange side) of the duct 10, and then passes through the duct 10 and passes through the duct. It is discharged through the other end of (10).

유해가스는 덕트(10)를 통과하는 동안 저온플라즈마발생부(20)에서 발생한 플라즈마에 의해 생성된 고반응성 정화물질과 유해가스에 포함된 유해물질이 반응하고 이에 따라 유해가스에 포함된 유해물질이 제거된다.The hazardous gas reacts with the highly reactive purification material generated by the plasma generated in the low-temperature plasma generating unit 20 while passing through the duct 10 and the hazardous material contained in the noxious gas, and thus the noxious material contained in the noxious gas is released. is removed

그리고 정방향송풍력에 의해 역방향송풍팬(40)이 회전하고 정방향송풍력과 반대방향으로 작용하는 역방향송풍력이 저온플라즈마발생부(20)의 후방영역을 통과하는 유해가스에 제공된다.And the reverse blowing fan 40 rotates by the forward blowing force, and the reverse blowing force acting in the opposite direction to the forward blowing force is provided to the harmful gas passing through the rear region of the low-temperature plasma generating unit 20 .

정방향송풍력에 의해 역방향송풍팬(40)이 회전하기 때문에 역방향송풍력의 크기는 정방향송풍력의 크기에 의존적이다.Since the reverse blowing fan 40 rotates by the forward blowing force, the magnitude of the reverse blowing force is dependent on the magnitude of the forward blowing force.

즉, 정방향송풍력이 크면 클수록 역방향송풍력이 커진다.That is, the larger the forward blowing force is, the larger the reverse blowing force is.

그리고 정방향송풍력이 크면 클수록 덕트(10)의 내부로 유입되는 유해가스의 양이 많아진다.And the greater the forward blowing force, the greater the amount of harmful gas flowing into the duct 10.

역방향송풍력에 의해 저온플라즈마발생부(20) 주위의 플라즈마와 유해가스는 교란되어 고반응성 정화물질과 유해가스에 포함된 유해물질 사이의 반응이 증가한다(정화물질과 유해물질 사이의 유효접촉회수의 증가 등에 의해).The plasma and harmful gas around the low-temperature plasma generating unit 20 are disturbed by the reverse blowing force, and the reaction between the highly reactive purification material and the harmful substances contained in the harmful gas is increased (the number of effective contact between the purification material and the harmful substance) by an increase in, etc.).

그리고 역방향송풍력에 의해 플라즈마의 반응영역을 통과하는 유해가스의 속도가 저하되어 고반응성 정화물질과 유해가스에 포함된 유해물질 사이의 반응이 증가한다.In addition, the speed of the harmful gas passing through the reaction region of the plasma is lowered by the reverse blowing force, so that the reaction between the highly reactive purification material and the harmful material contained in the harmful gas is increased.

정방향송풍력이 커져 덕트(10)의 내부로 유입되는 유해가스의 양이 증가할 때 역방향송풍력도 정방향송풍력을 따라 커지고 정방향송풍력이 작아져 덕트(10)의 내부로 유입되는 유해가스의 양이 감소할 때 역방향송풍력도 정방향송풍력을 따라 작아지기 때문에 정방향송풍력의 크기가 변하더라도 역방향송풍력에 의한 반응증가효과를 안정적으로 유지할 수 있게 된다.When the amount of noxious gas flowing into the inside of the duct 10 increases as the forward blowing force increases, the reverse blowing power also increases along with the forward blowing power and the forward blowing power decreases, so that the harmful gas flowing into the inside of the duct 10 increases. When the amount decreases, the reverse blowing force also decreases along with the forward blowing force, so even if the magnitude of the forward blowing force changes, the effect of increasing the reaction by the reverse blowing force can be stably maintained.

유해가스는 덕트(10)를 통과하는 동안 흐름지연판(51)의 저항을 받아 이동속도가 감소한다.The noxious gas receives the resistance of the flow delay plate 51 while passing through the duct 10 and the movement speed is reduced.

한편 전술한 실시예에서는 정방향송풍팬(30)을 덕트(10)의 외부에 설치하고 있으나, 도6에 도시된 종래의 경우와 같이 덕트(10)의 내부에 정방향송풍팬을 설치하여 본 발명을 실시할 수 있다. 즉, 저온플라즈마발생부의 전방이란 덕트(10)의 내부와 외부를 모두 포함하는 의미로 사용된다.On the other hand, in the above embodiment, the forward blowing fan 30 is installed on the outside of the duct 10, but the present invention is achieved by installing the forward blowing fan inside the duct 10 as in the conventional case shown in FIG. can be carried out. That is, the front of the low-temperature plasma generating unit is used to mean including both the inside and the outside of the duct (10).

그리고 전술한 실시예에서는 원형 단면 형태로 덕트(10)를 구성하고 있으나, 사각 단면 등 다른 단면 형태로 덕트를 구성하여 본 발명을 실시할 수 있다.And in the above-described embodiment, although the duct 10 is configured in a circular cross-section, the present invention can be implemented by configuring the duct in other cross-sectional shapes, such as a square cross-section.

삭제delete

또한 전술한 실시예에서는 직선관 형태로 덕트(10)를 구성하고 있으나, 도6에 도시된 종래의 경우와 같이 곡관 형태로 덕트를 구성하여 본 발명을 실시할 수 있다.In addition, although the duct 10 is configured in the form of a straight pipe in the above-described embodiment, the present invention may be implemented by configuring the duct in the shape of a curved pipe as in the conventional case shown in FIG. 6 .

또한 통기공(22a)을 갖는 전극(22) 대신 종래 널리 알려진 와이어-플레이트, 핀-플레이트, 플레이트-플레이트, 핀-핀 및 와이어-와이어 등과 같이 다른 형태의 전극을 사용하여 본 발명을 실시할 수 있다.In addition, the present invention can be practiced by using other types of electrodes such as wire-plate, pin-plate, plate-plate, pin-pin and wire-wire, which are widely known in the art instead of the electrode 22 having the air hole 22a. have.

또한 전술한 실시예에서는 필터를 생략하고 있으나, 역방향송풍팬(40)의 전방 또는 후방에 필터(유해가스에 포함된 유해물질의 제거량을 더욱더 증가시키거나 저온플라즈마기술에 의해 제거할 수 없는 유해물질을 제거하기 위해)를 설치할 수 있다.In addition, although the filter is omitted in the above-described embodiment, a filter on the front or rear of the reverse blowing fan 40 (to further increase the removal amount of harmful substances contained in harmful gas or harmful substances that cannot be removed by low-temperature plasma technology) to remove it) can be installed.

상술한 바와 같이 본 발명의 실시예에 따르면, 정방향송풍력을 덕트(10)의 외부에 존재하는 유해가스에 제공하는 동력형 정방향송풍팬(30)을 저온플라즈마발생부(20)의 전방에 배치되도록 설치하는 한편, 정방향송풍력보다 작은 크기로 정방향송풍력과 반대방향으로 향하는 역방향송풍력을 저온플라즈마발생부(20)의 주위를 통과하는 유해가스에 제공하는 무동력형 역방향송풍팬(40)을 저온플라즈마발생부(20)의 후방에 배치되어 정방향송풍력에 의해 회전하도록 덕트(10)의 내부에 설치함으로써, 유해가스에 포함된 유해물질의 제거효율이 향상된다. 유해물질의 제거효율이 향상되면 덕트(10)의 길이구간을 짧게 할 수 있게 된다(유해가스는 덕트를 통과하는 동안 고반응성 정화물질과 유해물질 사이의 반응이 부분적으로 일어남).As described above, according to the embodiment of the present invention, a powered forward blowing fan 30 that provides forward blowing power to harmful gases existing outside the duct 10 is disposed in front of the low-temperature plasma generating unit 20 . On the other hand, a non-motorized reverse blowing fan 40 that provides a reverse blowing force directed in the opposite direction to the forward blowing force to the harmful gas passing around the low-temperature plasma generating unit 20 with a size smaller than the forward blowing force. By being disposed in the rear of the low-temperature plasma generating unit 20 and installed inside the duct 10 to rotate by the forward blowing force, the removal efficiency of harmful substances contained in the harmful gas is improved. When the removal efficiency of harmful substances is improved, it is possible to shorten the length section of the duct 10 (reaction between the highly reactive purification material and the harmful substances occurs partially while the harmful gas passes through the duct).

그리고 다수의 통기공(22a)을 갖도록 형성된 전극(22)을 포함하고 통기공(22a)의 개구면이 전극위치덕트개구면에 대향하도록 저온플라즈마발생부(20)를 설치함으로써, 유해가스에 포함된 유해물질의 제거효율이 더욱더 향상된다(통기공에 의해 고반응성 정화물질과 유해가스에 포함된 유해물질 사이의 반응이 증가함).And by installing the low-temperature plasma generating unit 20 including the electrode 22 formed to have a plurality of vent holes 22a and the opening surface of the vent hole 22a is opposite to the electrode location duct opening surface, it is included in the harmful gas The removal efficiency of harmful substances is further improved (reaction between highly reactive purifying substances and toxic substances contained in toxic gases increases due to ventilation holes).

또한 역방향송풍팬(40)의 후방에 흐름지연판(51)을 설치함으로써, 역방향송풍력의 크기를 증가시킬 수 있게 된다(유해가스는 덕트를 통과하는 동안 흐름지연판의 저항을 받아 이동속도가 감소함).In addition, by installing the flow delay plate 51 at the rear of the reverse blowing fan 40, it is possible to increase the magnitude of the reverse blowing force (toxic gas receives the resistance of the flow delay plate while passing through the duct, the movement speed is decreased).

삭제delete

10, 110: 덕트 20, 120: 저온플라즈마발생부
30, 130: 정방향송풍팬 40: 역방향송풍팬
41: 덕트지지축 42: 팬지지축
51: 흐름지연판 164: 배기팬10, 110: duct 20, 120: low-temperature plasma generating part
30, 130: forward blowing fan 40: reverse blowing fan
41: duct support shaft 42: fan support shaft
51: flow delay plate 164: exhaust fan

Claims (4)

덕트와;
상기 덕트의 내부에 설치된 저온플라즈마발생부와;
상기 저온플라즈마발생부의 전방에 배치되도록 설치되고 상기 덕트의 외부에서 상기 덕트의 내부를 향하고 상기 덕트의 일단을 통해 유입되어 상기 덕트를 통과할 수 있는 크기를 갖는 정방향송풍력을 상기 덕트의 외부에 존재하는 유해가스에 제공하는 동력형 정방향송풍팬과;
상기 저온플라즈마발생부의 후방에 배치되어 상기 정방향송풍력에 의해 회전하도록 상기 덕트의 내부에 설치되고 상기 정방향송풍력보다 작은 크기로 상기 정방향송풍력과 반대방향으로 향하는 역방향송풍력을 상기 저온플라즈마발생부의 주위를 통과하는 유해가스에 제공하는 무동력형 역방향송풍팬을 포함하는 것을 특징으로 하는 유해가스처리장치.with ducts;
a low-temperature plasma generating unit installed inside the duct;
It is installed so as to be disposed in front of the low-temperature plasma generating unit and is directed from the outside of the duct to the inside of the duct, and is introduced through one end of the duct to generate a forward blowing force having a size that can pass through the duct. And a power-type forward blowing fan provided to the harmful gas;
The low-temperature plasma generating unit is disposed behind the low-temperature plasma generating unit and installed inside the duct to rotate by the forward blowing force and directed in the opposite direction to the forward blowing force with a size smaller than the forward blowing force. Noxious gas processing apparatus, characterized in that it comprises a non-powered reverse blowing fan that provides the noxious gas passing through. 제1항에 있어서,
상기 저온플라즈마발생부는 다수의 통기공을 갖도록 형성된 전극을 가지고, 상기 전극이 설치되는 위치에서 얻은 상기 덕트의 개구면을 전극위치덕트개구면이라고 할 때 상기 통기공의 개구면이 상기 전극위치덕트개구면에 대향하도록 상기 덕트의 내부에 설치되는 것을 특징으로 하는 유해가스처리장치.According to claim 1,
The low-temperature plasma generating unit has an electrode formed to have a plurality of ventilation holes, and when the opening surface of the duct obtained at the position where the electrode is installed is referred to as the electrode positioning duct opening, the opening surface of the ventilation hole is the electrode positioning duct opening Harmful gas treatment apparatus, characterized in that installed inside the duct to face the spherical surface. 삭제delete 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 역방향송풍팬의 후방에 배치되고 상기 역방향송풍팬에서 멀어지는 방향을 따라 경사를 이루도록 상기 덕트의 내부에 설치되는 흐름지연판을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유해가스처리장치.3. The method of claim 1 or 2,
The harmful gas treatment apparatus further comprising a flow delay plate disposed in the rear of the reverse blowing fan and installed inside the duct to form an inclination along a direction away from the reverse blowing fan.
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