KR102259735B1 - Manufacturing method of the plasma nozzle - Google Patents

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Abstract

본 발명의 일 관점에 따르면, 초미세 유체관을 가지는 플라즈마 노즐의 제조방법을 제공한다.
상기 플라즈마 노즐의 제조방법은 제 1 기판의 적어도 어느 일면에 포토리소그라피(Photolithography) 공정을 이용하여 복수개의 유체관부를 형성하는 단계; 상기 복수개의 유체관부가 형성된 상기 제 1 기판의 일면과 마주보도록 제 2 기판을 배치한 후 접합하여 노즐 소자 모듈을 형성하는 단계; 및 상기 노즐 소자 모듈을 절단하여 복수개의 단위 노즐을 형성하는 단계;를 포함할 수 있다.
According to one aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a plasma nozzle having an ultrafine fluid tube.
The method of manufacturing the plasma nozzle includes: forming a plurality of fluid pipe parts on at least one surface of a first substrate using a photolithography process; forming a nozzle element module by arranging and bonding a second substrate to face one surface of the first substrate on which the plurality of fluid pipe portions are formed; and forming a plurality of unit nozzles by cutting the nozzle element module.

Description

플라즈마 노즐의 제조방법{Manufacturing method of the plasma nozzle}Manufacturing method of the plasma nozzle

본 발명은 플라즈마 노즐의 제조방법에 대한 것으로서, 더욱 상세하게는 초미세 유체관을 가지는 플라즈마 노즐의 제조방법에 대한 것이다. The present invention relates to a method of manufacturing a plasma nozzle, and more particularly, to a method of manufacturing a plasma nozzle having an ultrafine fluid tube.

플라즈마 노즐은 플라즈마를 이용한 적층 제조, 표면 가공/개질/세정 장비에 적용되는 것으로서, 플라즈마를 형성하는 부품이다. 플라즈마 노즐은 금속 팁(Tip)을 양극 및 양극과 마주보는 쪽에 음극 혹은 접지(earth)를 두는 방식으로 구성된다. 이 때, 양 전극에 전계를 걸면, 주입된 가스 혹은 공기 중의 기체가 이온화되어 플라즈마가 형성된다.A plasma nozzle is a component that forms plasma as applied to additive manufacturing and surface processing/modification/cleaning equipment using plasma. Plasma nozzles are configured in such a way that a cathode or earth is placed on a metal tip with an anode and a cathode facing the anode. At this time, when an electric field is applied to both electrodes, the injected gas or gas in the air is ionized to form plasma.

종래에는 플라즈마 노즐을 제조할 때, 도 3에 도시된 바와 같이, 원형인 금속 노즐의 중심에 유체관을 형성하여 제작했다. 플라즈마를 미세하게 형성하기 위해서는, 노즐 중심의 유체관의 직경을 좁게 형성하여야 한다. 최근 상기 유체관을 제조하는 방법은 금속체의 중심에 기계적인 밀링에 의해 절삭 가공하거나 또는 레이저를 이용하여 유체관을 형성시키는 방법이 사용된다.Conventionally, when manufacturing a plasma nozzle, as shown in FIG. 3, a fluid pipe was formed in the center of a circular metal nozzle. In order to form a fine plasma, the diameter of the fluid pipe at the center of the nozzle should be narrowed. Recently, as a method of manufacturing the fluid pipe, a method of forming a fluid pipe using a laser or cutting processing by mechanical milling in the center of a metal body is used.

그러나, 이러한 종래기술은 유체관의 직경보다 깊이가 훨씬 깊게 제조해야 되므로, 미세가공이 어려운 문제점이 있다. 일반적으로 10㎜ 이상의 깊이를 갖는 유체관을 형성할 경우, 100㎛ 내외의 직경이 가공할 수 있는 가장 최소의 크기가 된다. 그러므로, 종래의 기술로는 50㎛ 이하의 초미세 유체관을 형성하는 것은 사실상 어렵다.However, this prior art has a problem in that microfabrication is difficult because the depth of the fluid pipe must be manufactured much deeper than the diameter. In general, when a fluid pipe having a depth of 10 mm or more is formed, a diameter of about 100 μm becomes the smallest size that can be processed. Therefore, it is practically difficult to form an ultrafine fluid tube of 50 μm or less in the prior art.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 포함하여 여러 문제점들을 해결하기 위한 것으로서, 종래의 가공방법으로 형성할 수 없는 초미세 유로를 가지는 플라즈마 노즐의 제조방법의 제공을 목적으로 한다. 그러나 이러한 과제는 예시적인 것으로, 이에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.Accordingly, an object of the present invention is to solve various problems including the above problems, and an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a plasma nozzle having an ultra-fine flow path that cannot be formed by a conventional processing method. However, these problems are exemplary, and the scope of the present invention is not limited thereby.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 관점에 따르면, 플라즈마 노즐의 제조방법을 제공한다. According to one aspect of the present invention for solving the above problems, there is provided a method of manufacturing a plasma nozzle.

상기 플라즈마 노즐의 제조방법은 제 1 기판의 적어도 어느 일면에 포토리소그라피(Photolithography) 공정을 이용하여 복수개의 유체관부를 형성하는 단계; 상기 복수개의 유체관부가 형성된 상기 제 1 기판의 일면과 마주보도록 제 2 기판을 배치한 후 접합하여 노즐 소자 모듈을 형성하는 단계; 및 상기 노즐 소자 모듈을 절단하여 복수개의 단위 노즐을 형성하는 단계;를 포함할 수 있다.The method of manufacturing the plasma nozzle includes: forming a plurality of fluid pipe units on at least one surface of a first substrate using a photolithography process; forming a nozzle element module by arranging and bonding a second substrate to face one surface of the first substrate on which the plurality of fluid pipe portions are formed; and forming a plurality of unit nozzles by cutting the nozzle element module.

상기 플라즈마 노즐의 제조방법에 있어서, 상기 복수개의 유체관부와 서로 대칭되도록, 상기 제 2 기판의 일면에 포토리소그라피 공정을 이용하여 복수개의 유체관부를 형성할 수 있다.In the method of manufacturing the plasma nozzle, a plurality of fluid pipe parts may be formed on one surface of the second substrate to be symmetrical with the plurality of fluid pipe parts using a photolithography process.

상기 플라즈마 노즐의 제조방법에 있어서, 상기 복수개의 유체관부를 형성하는 단계 이전에, 상기 제 1 기판의 일면에 복수개의 전극 패턴부를 형성하는 단계; 및 상기 전극 패턴부 내에 금속을 증착하여, 양전극 패턴 및 음전극 패턴을 하나의 쌍으로 구비하는 금속 패턴을 형성하는 단계;를 포함하고, 상기 양전극 패턴 및 음전극 패턴은 상기 유체관부를 중심으로 좌우 대칭일 수 있다.In the manufacturing method of the plasma nozzle, before forming the plurality of fluid pipe parts, the method comprising: forming a plurality of electrode pattern parts on one surface of the first substrate; and depositing a metal in the electrode pattern portion to form a metal pattern including a positive electrode pattern and a negative electrode pattern as a pair, wherein the positive electrode pattern and the negative electrode pattern are symmetrical about the fluid pipe portion can

상기 플라즈마 노즐의 제조방법에 있어서, 상기 노즐 소자 모듈을 형성하는 단계 이전에, 상기 제 2 기판의 일면에 복수개의 전극 패턴부를 형성하는 단계; 및 상기 전극 패턴부 내에 금속을 증착하여, 양전극 패턴 및 음전극 패턴을 하나의 쌍으로 구비하는 금속 패턴을 형성하는 단계;를 포함하고, 상기 양전극 패턴 및 음전극 패턴은 상기 유체관부를 중심으로 좌우 대칭일 수 있다.In the manufacturing method of the plasma nozzle, before forming the nozzle element module, forming a plurality of electrode pattern portions on one surface of the second substrate; and depositing a metal in the electrode pattern portion to form a metal pattern including a positive electrode pattern and a negative electrode pattern as a pair, wherein the positive electrode pattern and the negative electrode pattern are symmetrical about the fluid pipe portion can

상기 플라즈마 노즐의 제조방법에 있어서, 상기 복수개의 유체관부를 형성하는 단계 이전에, 상기 제 1 기판의 일면에 복수개의 전극 패턴부를 형성하는 단계; 및 상기 전극 패턴부 내에 금속을 증착하여, 양전극 패턴을 구비하는 금속 패턴을 형성하는 단계;를 포함하고, 상기 양전극 패턴은 상기 유체관부와 나란하게 배치될 수 있다.In the manufacturing method of the plasma nozzle, before forming the plurality of fluid pipe parts, the method comprising: forming a plurality of electrode pattern parts on one surface of the first substrate; and depositing a metal in the electrode pattern portion to form a metal pattern having a positive electrode pattern, wherein the positive electrode pattern may be disposed in parallel with the fluid pipe portion.

상기 플라즈마 노즐의 제조방법에 있어서, 상기 노즐 소자 모듈을 형성하는 단계 이전에, 상기 제 2 기판의 일면에 복수개의 전극 패턴부를 형성하는 단계; 및 상기 전극 패턴부 내에 금속을 증착하여, 양전극 패턴을 구비하는 금속 패턴을 형성하는 단계;를 포함하고, 상기 양전극 패턴은 상기 유체관부와 나란하게 배치될 수 있다.In the manufacturing method of the plasma nozzle, before forming the nozzle element module, forming a plurality of electrode pattern portions on one surface of the second substrate; and depositing a metal in the electrode pattern portion to form a metal pattern having a positive electrode pattern, wherein the positive electrode pattern may be disposed in parallel with the fluid pipe portion.

상기 플라즈마 노즐의 제조방법에 있어서, 상기 복수개의 유체관부를 형성하는 단계는, 상기 제 1 기판의 적어도 어느 일면 상에 포토레지스터(PR)를 도포하고, 마스크를 이용하여 노광 공정 및 식각 공정을 수행함으로써, 상기 제 1 기판의 일면에 상기 복수개의 유체관부를 형성하는 단계;를 포함할 수 있다.In the method of manufacturing the plasma nozzle, the forming of the plurality of fluid pipe parts includes coating a photoresist (PR) on at least one surface of the first substrate, and performing an exposure process and an etching process using a mask. By doing so, forming the plurality of fluid pipe parts on one surface of the first substrate; may include.

상기 플라즈마 노즐의 제조방법에 있어서, 상기 금속 패턴을 형성하는 단계는, 상기 복수개의 전극 패턴이 형성된 면 상에 금속을 증착하는 단계; 및 식각 공정을 수행함으로써, 상기 복수개의 전극 패턴 내에 채워진 상기 금속만 제외하고, 나머지 금속은 모두 제거하여 상기 제 1 기판 또는 상기 제 2 기판의 일면에 상기 금속 패턴을 형성하는 단계;를 포함할 수 있다.In the method of manufacturing the plasma nozzle, the forming of the metal pattern may include: depositing a metal on a surface on which the plurality of electrode patterns are formed; and forming the metal pattern on one surface of the first substrate or the second substrate by performing an etching process, except for the metal filled in the plurality of electrode patterns, and removing all remaining metals. have.

상기 플라즈마 노즐의 제조방법에 있어서, 상기 제 1 기판 및 제 2 기판은 광학적 접착제를 이용하여 직접 본딩(Direct Bonding) 방식으로 접합할 수 있다.In the method of manufacturing the plasma nozzle, the first substrate and the second substrate may be bonded by a direct bonding method using an optical adhesive.

상기 플라즈마 노즐의 제조방법에 있어서, 상기 제 1 기판 및 제 2 기판은 가열 및 압착 공정을 이용하여 상기 금속 패턴에 의해 직접 접합할 수 있다.In the method of manufacturing the plasma nozzle, the first substrate and the second substrate may be directly bonded by the metal pattern using a heating and compression process.

상기 플라즈마 노즐의 제조방법에 있어서, 상기 기판은 세라믹, 고분자 및 금속 소재 중 어느 하나를 포함할 수 있다.In the method of manufacturing the plasma nozzle, the substrate may include any one of a ceramic material, a polymer material, and a metal material.

상기한 바와 같이 이루어진 본 발명의 플라즈마 노즐의 제조방법을 이용하여 50㎛ 이하의 초미세 유체관을 갖는 플라즈마 노즐을 제공할 수 있다. 상기 플라즈마 노즐은 반도체 공정 및 3D 프린팅 등 정밀한 공정에 적용되는 장치, 의료용 및 살균/소독용 휴대용 플라즈마 발생기에 적용 가능하다. 물론 이러한 효과에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.A plasma nozzle having an ultra-fine fluid tube of 50 μm or less can be provided by using the method of manufacturing the plasma nozzle of the present invention made as described above. The plasma nozzle is applicable to a device applied to a precise process such as a semiconductor process and 3D printing, and a portable plasma generator for medical use and sterilization/disinfection. Of course, the scope of the present invention is not limited by these effects.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 노즐의 제조방법을 설명하기 위해 공정순서에 따라 개략적으로 도해하는 도면이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 노즐의 제조방법을 이용하여 제조한 플라즈마 노즐의 구조를 개략적으로 도해하는 도면이다.
도 3은 본 발명의 비교예에 따른 플라즈마 노즐의 제조방법 및 이를 이용한 플라즈마 노즐의 구조를 개략적으로 도해하는 도면이다.
1 is a diagram schematically illustrating a process sequence in order to explain a method of manufacturing a plasma nozzle according to an embodiment of the present invention.
2 is a diagram schematically illustrating a structure of a plasma nozzle manufactured using a method for manufacturing a plasma nozzle according to an embodiment of the present invention.
3 is a diagram schematically illustrating a method of manufacturing a plasma nozzle and a structure of a plasma nozzle using the same according to a comparative example of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 여러 실시예들을 상세히 설명하기로 한다. 본 발명의 실시예들은 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이며, 하기 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다. 오히려 이들 실시예들은 본 개시를 더욱 충실하고 완전하게 하고, 당업자에게 본 발명의 사상을 완전하게 전달하기 위하여 제공되는 것이다.Hereinafter, various embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The embodiments of the present invention are provided to more completely describe the present invention to those of ordinary skill in the art, and the following examples may be modified in various other forms, and the scope of the present invention is as follows. It is not limited to the examples. Rather, these embodiments are provided to make the present disclosure more faithful and complete, and to completely convey the spirit of the present invention to those skilled in the art.

이하에서, 본 발명의 실시예에 따른 초미세 유체관을 갖는 플라즈마 노즐은 정밀한 공정제어 및 직접화가 가능한 반도체 공정을 이용한다.Hereinafter, a plasma nozzle having an ultrafine fluid tube according to an embodiment of the present invention uses a semiconductor process capable of precise process control and directization.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 노즐의 제조방법을 설명하기 위해 공정순서에 따라 개략적으로 도해하는 도면이다.1 is a diagram schematically illustrating a process sequence in order to explain a method of manufacturing a plasma nozzle according to an embodiment of the present invention.

도 1의 (a) 내지 (c)를 참조하면, 제 1 기판(10) 상에 포토레지스터(PR; 12) 용액을 도포한 후 포토리소그라피(Photolithography) 공정을 이용하여 복수개의 전극 패턴부(14)를 형성할 수 있다. 제 1 기판(10)은 예를 들어, 실리콘(Si)을 사용할 수 있으며, 경우에 따라, 세라믹, 고분자 및 금속 소재 중 어느 하나를 포함할 수 있다. 상기 포토리소그라피는 반도체 공정 중 하나로서, 감광제인 포토레지스터(12)를 제 1 기판(10) 상에 도포한다. 이후에 마스크(미도시)를 정렬시킨 후 빛을 조사(노광)한다. 이후에 현상 후 식각(에칭)하여 제 1 기판(10) 상에 트렌치(trench) 형태의 전극 패턴부(14)를 형성하는 공정이다. 상기 포토리소그라피 공정은 이미 공지된 기술이므로, 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.Referring to FIGS. 1A to 1C , a photoresist (PR; 12) solution is applied on the first substrate 10 and then a plurality of electrode pattern portions 14 are applied using a photolithography process. ) can be formed. The first substrate 10 may be made of, for example, silicon (Si), and in some cases, may include any one of a ceramic material, a polymer material, and a metal material. The photolithography is one of semiconductor processes, in which a photoresist 12 serving as a photosensitizer is applied on the first substrate 10 . After aligning the mask (not shown), light is irradiated (exposed). After development, etching (etching) is performed to form the electrode pattern portion 14 in the form of a trench on the first substrate 10 . Since the photolithography process is a known technique, a detailed description thereof will be omitted.

도 1의 (d) 내지 (e)를 참조하면, 전극 패턴부(14)를 구비하는 제 1 기판(10)의 상면에 금속을 증착하여 금속층(16)을 형성한다. 상기 금속은 전극 패턴부(14) 내의 빈공간을 매립하여 전극으로서의 기능을 수행한다. 이후, 화학적기계연마(CMP)를 이용하여 전극 패턴부(14) 내에 매립된 금속만을 남기고, 제 1 기판(10)의 면 상에 존재하는 금속층(16)을 제거하여 금속 패턴(18)을 형성한다.Referring to FIGS. 1D to 1E , a metal layer 16 is formed by depositing a metal on the upper surface of the first substrate 10 including the electrode pattern part 14 . The metal fills the empty space in the electrode pattern part 14 to function as an electrode. Thereafter, by using chemical mechanical polishing (CMP), only the metal buried in the electrode pattern portion 14 is left, and the metal layer 16 present on the surface of the first substrate 10 is removed to form the metal pattern 18 . do.

일 예로서, 실리콘 등의 세라믹 소재 혹은 고분자 소재를 제 1 기판(10)으로 사용할 경우, 금속 패턴(18)은 양전극 패턴 및 음전극 패턴을 하나의 쌍으로 구성될 수 있다. 양전극 패턴 및 음전극 패턴을 하나의 쌍으로 하는 금속 패턴(18)이 일정한 간격으로 배열될 수 있다. As an example, when a ceramic material such as silicon or a polymer material is used as the first substrate 10 , the metal pattern 18 may include a positive electrode pattern and a negative electrode pattern as a pair. The metal patterns 18 including the positive electrode pattern and the negative electrode pattern as a pair may be arranged at regular intervals.

도 1의 (f) 및 (g)를 참조하면, 금속 패턴(18)이 형성된 제 1 기판(10) 상에 포토리소그라피(Photolithography) 공정을 이용하여 복수개의 유체관부(19)를 형성할 수 있다. 상기 포토리소그라피에 대한 내용은 도 1의 (b) 및 (c)를 참조하여 상술한 바와 동일하므로 생략한다. Referring to FIGS. 1F and 1G , a plurality of fluid pipe units 19 may be formed on the first substrate 10 on which the metal pattern 18 is formed by using a photolithography process. . The content of the photolithography is the same as described above with reference to FIGS. 1 (b) and (c), and thus will be omitted.

도 2의 (a)를 참조하면, 플라즈마 노즐(100)은 양전극 및 음전극 기능을 수행하는 금속 패턴(18)과 초미세 유체관부(19)를 갖는다. 경우에 따라, 금속 패턴(18)의 개수는 상이하게 형성 가능하다. 본 도면에서, 금속 패턴(18) 및 유체관부(19)의 형태는 직육면체의 형상으로 도시되었으나, 포토리소그라피 공정 조건의 제어를 통해서, 원형 또는 타원형 등 다양한 형태로 제조가 가능하다.Referring to FIG. 2A , the plasma nozzle 100 has a metal pattern 18 that functions as a positive electrode and a negative electrode, and a microfluidic tube part 19 . In some cases, the number of metal patterns 18 may be different. In this figure, the metal pattern 18 and the fluid pipe part 19 are shown in the shape of a rectangular parallelepiped, but through control of the photolithography process conditions, various shapes such as a circle or an oval can be manufactured.

금속 패턴(18)이 양전극 패턴 및 음전극 패턴을 하나의 쌍으로 구성되어 있으며, 하나의 유체관부(19)는 한 쌍의 양전극 패턴 및 음전극 패턴 사이에 형성된다. 양전극 패턴 및 음전극 패턴은 유체관부(19)와 서로 나란하게 배치되며, 유체관부(19)를 중심으로 좌우 대칭의 형태로 배치된다. The metal pattern 18 is composed of a pair of a positive electrode pattern and a negative electrode pattern, and one fluid pipe unit 19 is formed between the pair of positive electrode patterns and negative electrode patterns. The positive electrode pattern and the negative electrode pattern are arranged side by side with the fluid pipe part 19, and are arranged in a left-right symmetrical form with the fluid pipe part 19 as the center.

도 1의 (h)를 참조하면, 제 1 기판(10)에 복수개의 금속 패턴(18) 및 복수개의 유체관부(19)의 형성이 완료되면, 제 1 기판(10) 상에 제 2 기판(20)을 배치한 후 접합하여 노즐 소자 모듈(110)을 형성할 수 있다.Referring to (h) of FIG. 1 , when the formation of the plurality of metal patterns 18 and the plurality of fluid pipe portions 19 on the first substrate 10 is completed, the second substrate ( 20) may be disposed and joined to form the nozzle element module 110 .

제 2 기판(20)은 도 1의 (b) 내지 (g)에 도시된 공정과 동일한 공정을 거쳐서 제 2 기판(20)에 복수개의 금속 패턴(18) 및 복수개의 유체관부(19)를 형성할 수 있다. 복수개의 금속 패턴(18) 및 복수개의 유체관부(19)의 형성방법은 상술한 바와 동일하므로 생략한다.The second substrate 20 forms a plurality of metal patterns 18 and a plurality of fluid pipe units 19 on the second substrate 20 through the same process as those shown in FIGS. 1 (b) to 1 (g). can do. The method of forming the plurality of metal patterns 18 and the plurality of fluid pipe portions 19 is the same as described above, and thus is omitted.

도 2의 (a)를 참조하면, 제 1 기판(10) 및 제 2 기판(20)에 각각 형성되어 있는 복수개의 금속 패턴(18) 및 복수개의 유체관부(19)를 서로 마주보도록 배치한 후 접합할 수 있다. Referring to FIG. 2A , after arranging the plurality of metal patterns 18 and the plurality of fluid pipe portions 19 respectively formed on the first substrate 10 and the second substrate 20 to face each other, can be joined.

다른 예로서, 도 2의 (b)를 참조하면, 제 2 기판(20)에는 복수개의 금속 패턴(18) 및 유체관부(19)를 형성하지 않고, 평평한 상태인 제 2 기판(20)을 제 1 기판(10) 상에 접합할 수도 있다. 이 경우, 제 1 기판(10)에 형성될 복수개의 금속 패턴(18) 및 유체관부(19)의 크기 및 구조는 적용되는 장치에 따라 상이하게 제어할 수 있다.As another example, referring to FIG. 2B , the second substrate 20 in a flat state is formed without forming the plurality of metal patterns 18 and the fluid pipe part 19 on the second substrate 20 . It can also be bonded on one substrate 10 . In this case, the sizes and structures of the plurality of metal patterns 18 and the fluid pipe unit 19 to be formed on the first substrate 10 may be controlled differently depending on an applied device.

또 다른 예로서, 도 2의 (c)를 참조하면, 금속 패턴(18)은 양극 패턴만 형성될 수도 있다. 이 경우, 금속 패턴(18)이 양극 역할을 수행하므로, 플라즈마 처리가 필요한 기판(미도시)이 음극 역할을 수행하거나, 접지 역할을 수행할 수 있다. 금속 패턴(18)이 양전극 패턴만으로 구성된다면, 유체관부(19)는 양전극 패턴과 나란한 형태로 배치된다. 이 경우, 금속 패턴(18)은 유체관부(19)를 중심으로 왼쪽 또는 오른쪽에 상관없이 배치될 수 있다.As another example, referring to FIG. 2C , only the anode pattern may be formed in the metal pattern 18 . In this case, since the metal pattern 18 serves as an anode, a substrate (not shown) requiring plasma treatment may act as a cathode or serve as a ground. If the metal pattern 18 is composed of only the positive electrode pattern, the fluid pipe unit 19 is arranged in parallel with the positive electrode pattern. In this case, the metal pattern 18 may be disposed irrespective of the left side or the right side with respect to the fluid pipe unit 19 .

또 다른 예로서, 도 2의 (d)를 참조하면, 금속 소재를 제 1 기판(10)으로 사용할 경우, 금속 패턴(18) 없이 유체관부(19)만 형성될 수도 있다. 제 1 기판(10) 자체가 도체이기 때문에, 노즐이 양전극 역할을 하고, 금속 패턴(18)은 불필요하다. 이 경우, 금속 패턴(18)을 형성하는 단계(도 1의 (b) 내지 (e))는 생략된다. As another example, referring to FIG. 2D , when a metal material is used as the first substrate 10 , only the fluid pipe part 19 may be formed without the metal pattern 18 . Since the first substrate 10 itself is a conductor, the nozzle serves as a positive electrode, and the metal pattern 18 is unnecessary. In this case, the step of forming the metal pattern 18 (FIG. 1 (b) to (e)) is omitted.

제 1 기판(10) 및 제 2 기판(20)은 가열 및 압착 공정을 이용하여 금속 패턴(18)에 의해 직접 접합할 수 있다. 다른 예로서, 제 1 기판(10) 및 제 2 기판(20)에 금속 패턴(18)이 없을 경우, 광학적 접착제를 이용하여 직접 본딩(Direct Bonding) 방식으로 제 1 기판(10) 및 제 2 기판(20)이 서로 접합될 수 있다. 여기서, 상기 광학적 접착제의 경우, 이미 공지된 기술로서, 상세한 설명은 생략한다.The first substrate 10 and the second substrate 20 may be directly bonded by the metal pattern 18 using a heating and compression process. As another example, when there is no metal pattern 18 on the first substrate 10 and the second substrate 20 , the first substrate 10 and the second substrate 20 are directly bonded using an optical adhesive. (20) may be bonded to each other. Here, in the case of the optical adhesive, as a known technique, a detailed description thereof will be omitted.

도 1의 (i)를 참조하면, 노즐 소자 모듈(110)의 내부에는 복수개의 금속 패턴(18) 및 유체관부(19)를 포함한다. 유체관부(19)는 제 1 기판(10) 및 제 2 기판(20)이 서로 접합되어 형성된 빈 공간으로서, 플라즈마를 발생시키는 가스가 유입되고 유출되는 유체관으로 이해될 수 있다. 이후에 절단선(35)을 따라 노즐 소자 모듈(110)을 절단하여 복수개의 단위 노즐(100)을 형성할 수 있다.Referring to (i) of FIG. 1 , the inside of the nozzle element module 110 includes a plurality of metal patterns 18 and a fluid pipe part 19 . The fluid pipe unit 19 is an empty space formed by bonding the first substrate 10 and the second substrate 20 to each other, and may be understood as a fluid pipe through which a gas generating plasma flows in and out. Thereafter, the nozzle element module 110 may be cut along the cutting line 35 to form a plurality of unit nozzles 100 .

도 3을 참조하면, 종래의 플라즈마 노즐(50)은, 원형의 금속팁의 중심에 유체관부(52)를 구비하고 있다. 이 경우, 플라즈마 노즐(50) 자체가 양극으로만 작용하고, 기판이 음극으로 작용한다. 예를 들어, 플라즈마 발생용 가스(G)가 플라즈마 노즐(50)의 유체관부(52)를 통해 공급되면, 양극의 플라즈마 노즐(50)과 음극의 기판 사이에서 플라즈마(P)가 발생된다. 플라즈마 노즐(50)이 이동할 경우, 두 전극간의 간격제어가 어려워 균일한 품질의 플라즈마를 얻기 어려운 반면, 본 발명에서는 양전극과 음전극을 노즐 자체에 형성할 수 있어 그 간격이 일정하므로, 균일하고 미세한 플라즈마의 형성이 가능한 장점이 있다. Referring to FIG. 3 , the conventional plasma nozzle 50 has a fluid pipe 52 at the center of a circular metal tip. In this case, the plasma nozzle 50 itself acts only as an anode, and the substrate acts as a cathode. For example, when the gas G for plasma generation is supplied through the fluid pipe part 52 of the plasma nozzle 50, the plasma P is generated between the plasma nozzle 50 of the anode and the substrate of the cathode. When the plasma nozzle 50 moves, it is difficult to control the distance between the two electrodes, so it is difficult to obtain a plasma of uniform quality. It has the advantage of being able to form

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.The present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, but these are merely exemplary, and those of ordinary skill in the art will appreciate that various modifications and equivalent other embodiments are possible therefrom. Therefore, the true technical protection scope of the present invention should be determined by the technical spirit of the appended claims.

10 : 제 1 기판
12, 13 : 포토레지스터
14 : 전극 패턴부
16 : 금속층
18 : 금속 패턴
19, 52 : 유체관부
20 : 제 2 기판
35 : 절단선
50 : 플라즈마 노즐(종래)
100 : 단위 노즐(플라즈마 노즐)
110 : 노즐 소자 모듈
10: first substrate
12, 13: photo register
14: electrode pattern part
16: metal layer
18: metal pattern
19, 52: fluid pipe part
20: second substrate
35: cut line
50: plasma nozzle (conventional)
100: unit nozzle (plasma nozzle)
110: nozzle element module

Claims (11)

초미세 유체관을 가지는 플라즈마 노즐의 제조방법으로서,
제 1 기판의 적어도 어느 일면에 포토리소그라피(Photolithography) 공정을 이용하여 복수개의 유체관부를 형성하는 단계;
상기 복수개의 유체관부가 형성된 상기 제 1 기판의 일면과 마주보도록 제 2 기판을 배치한 후 접합하여 노즐 소자 모듈을 형성하는 단계; 및
상기 노즐 소자 모듈을 절단하여 복수개의 단위 노즐을 형성하는 단계;를 포함하고,
상기 복수개의 유체관부와 서로 대칭되도록, 상기 제 2 기판의 일면에 포토리소그라피 공정을 이용하여 복수개의 유체관부를 형성하는 단계를 포함하는,
플라즈마 노즐의 제조방법.
A method of manufacturing a plasma nozzle having an ultra-fine fluid tube, comprising:
forming a plurality of fluid pipe units on at least one surface of the first substrate using a photolithography process;
forming a nozzle element module by arranging and bonding a second substrate to face one surface of the first substrate on which the plurality of fluid pipe portions are formed; and
forming a plurality of unit nozzles by cutting the nozzle element module;
Comprising the step of forming a plurality of fluid pipe parts using a photolithography process on one surface of the second substrate so as to be symmetrical with the plurality of fluid pipe parts
A method of manufacturing a plasma nozzle.
삭제delete 초미세 유체관을 가지는 플라즈마 노즐의 제조방법으로서,
제 1 기판의 적어도 어느 일면에 포토리소그라피(Photolithography) 공정을 이용하여 복수개의 유체관부를 형성하는 단계;
상기 복수개의 유체관부가 형성된 상기 제 1 기판의 일면과 마주보도록 제 2 기판을 배치한 후 접합하여 노즐 소자 모듈을 형성하는 단계; 및
상기 노즐 소자 모듈을 절단하여 복수개의 단위 노즐을 형성하는 단계;를 포함하고,
상기 복수개의 유체관부를 형성하는 단계 이전에,
상기 제 1 기판의 일면에 복수개의 전극 패턴부를 형성하는 단계; 및
상기 전극 패턴부 내에 금속을 증착하여, 양전극 패턴 및 음전극 패턴을 하나의 쌍으로 구비하는 금속 패턴을 형성하는 단계;를 포함하고,
상기 양전극 패턴 및 음전극 패턴은 상기 유체관부를 중심으로 좌우 대칭인,
플라즈마 노즐의 제조방법.
A method of manufacturing a plasma nozzle having an ultra-fine fluid tube, the method comprising:
forming a plurality of fluid pipe units on at least one surface of the first substrate using a photolithography process;
forming a nozzle element module by arranging and bonding a second substrate to face one surface of the first substrate on which the plurality of fluid pipe portions are formed; and
forming a plurality of unit nozzles by cutting the nozzle element module;
Before the step of forming the plurality of fluid pipe parts,
forming a plurality of electrode pattern portions on one surface of the first substrate; and
depositing a metal in the electrode pattern portion to form a metal pattern including a positive electrode pattern and a negative electrode pattern as a pair;
The positive electrode pattern and the negative electrode pattern are symmetrical about the fluid pipe part,
A method of manufacturing a plasma nozzle.
제 3 항에 있어서,
상기 노즐 소자 모듈을 형성하는 단계 이전에,
상기 제 2 기판의 일면에 복수개의 전극 패턴부를 형성하는 단계; 및
상기 전극 패턴부 내에 금속을 증착하여, 양전극 패턴 및 음전극 패턴을 하나의 쌍으로 구비하는 금속 패턴을 형성하는 단계;를 포함하고,
상기 양전극 패턴 및 음전극 패턴은 상기 유체관부를 중심으로 좌우 대칭인,
플라즈마 노즐의 제조방법.
The method of claim 3,
Before forming the nozzle element module,
forming a plurality of electrode pattern portions on one surface of the second substrate; and
depositing a metal in the electrode pattern portion to form a metal pattern including a positive electrode pattern and a negative electrode pattern as a pair;
The positive electrode pattern and the negative electrode pattern are symmetrical about the fluid pipe part,
A method of manufacturing a plasma nozzle.
초미세 유체관을 가지는 플라즈마 노즐의 제조방법으로서,
제 1 기판의 적어도 어느 일면에 포토리소그라피(Photolithography) 공정을 이용하여 복수개의 유체관부를 형성하는 단계;
상기 복수개의 유체관부가 형성된 상기 제 1 기판의 일면과 마주보도록 제 2 기판을 배치한 후 접합하여 노즐 소자 모듈을 형성하는 단계; 및
상기 노즐 소자 모듈을 절단하여 복수개의 단위 노즐을 형성하는 단계;를 포함하고,
상기 복수개의 유체관부를 형성하는 단계 이전에,
상기 제 1 기판의 일면에 복수개의 전극 패턴부를 형성하는 단계; 및
상기 전극 패턴부 내에 금속을 증착하여, 양전극 패턴을 구비하는 금속 패턴을 형성하는 단계;를 포함하고,
상기 양전극 패턴은 상기 유체관부와 나란하게 배치된,
플라즈마 노즐의 제조방법.
A method of manufacturing a plasma nozzle having an ultra-fine fluid tube, comprising:
forming a plurality of fluid pipe units on at least one surface of the first substrate using a photolithography process;
forming a nozzle element module by arranging and bonding a second substrate to face one surface of the first substrate on which the plurality of fluid pipe portions are formed; and
forming a plurality of unit nozzles by cutting the nozzle element module;
Before the step of forming the plurality of fluid pipe parts,
forming a plurality of electrode pattern portions on one surface of the first substrate; and
Including; depositing a metal in the electrode pattern portion to form a metal pattern having a positive electrode pattern;
The positive electrode pattern is arranged in parallel with the fluid pipe part,
A method of manufacturing a plasma nozzle.
제 5 항에 있어서,
상기 노즐 소자 모듈을 형성하는 단계 이전에,
상기 제 2 기판의 일면에 복수개의 전극 패턴부를 형성하는 단계; 및
상기 전극 패턴부 내에 금속을 증착하여, 양전극 패턴을 구비하는 금속 패턴을 형성하는 단계;를 포함하고,
상기 양전극 패턴은 상기 유체관부와 나란하게 배치된,
플라즈마 노즐의 제조방법.
The method of claim 5,
Before forming the nozzle element module,
forming a plurality of electrode pattern portions on one surface of the second substrate; and
Including; depositing a metal in the electrode pattern portion to form a metal pattern having a positive electrode pattern;
The positive electrode pattern is arranged in parallel with the fluid pipe part,
A method of manufacturing a plasma nozzle.
초미세 유체관을 가지는 플라즈마 노즐의 제조방법으로서,
제 1 기판의 적어도 어느 일면에 포토리소그라피(Photolithography) 공정을 이용하여 복수개의 유체관부를 형성하는 단계;
상기 복수개의 유체관부가 형성된 상기 제 1 기판의 일면과 마주보도록 제 2 기판을 배치한 후 접합하여 노즐 소자 모듈을 형성하는 단계; 및
상기 노즐 소자 모듈을 절단하여 복수개의 단위 노즐을 형성하는 단계;를 포함하고,
상기 복수개의 유체관부를 형성하는 단계는,
상기 제 1 기판의 적어도 어느 일면 상에 포토레지스터(PR)를 도포하고, 마스크를 이용하여 노광 공정 및 식각 공정을 수행함으로써, 상기 제 1 기판의 일면에 상기 복수개의 유체관부를 형성하는 단계;를 포함하는,
플라즈마 노즐의 제조방법.
A method of manufacturing a plasma nozzle having an ultra-fine fluid tube, comprising:
forming a plurality of fluid pipe units on at least one surface of the first substrate using a photolithography process;
forming a nozzle element module by arranging and bonding a second substrate to face one surface of the first substrate on which the plurality of fluid pipe portions are formed; and
forming a plurality of unit nozzles by cutting the nozzle element module;
The step of forming the plurality of fluid pipe parts,
Forming the plurality of fluid pipe parts on one surface of the first substrate by applying a photoresist (PR) on at least one surface of the first substrate, and performing an exposure process and an etching process using a mask; containing,
A method of manufacturing a plasma nozzle.
제 3 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 금속 패턴을 형성하는 단계는,
상기 복수개의 전극 패턴이 형성된 면 상에 금속을 증착하는 단계; 및
식각 공정을 수행함으로써, 상기 복수개의 전극 패턴 내에 채워진 상기 금속만 제외하고, 나머지 금속은 모두 제거하여 상기 제 1 기판 또는 상기 제 2 기판의 일면에 상기 금속 패턴을 형성하는 단계;를 포함하는,
플라즈마 노즐의 제조방법.
7. The method according to any one of claims 3 to 6,
The step of forming the metal pattern,
depositing a metal on the surface on which the plurality of electrode patterns are formed; and
By performing an etching process, except for the metal filled in the plurality of electrode patterns, and removing all remaining metals to form the metal pattern on one surface of the first substrate or the second substrate; including,
A method of manufacturing a plasma nozzle.
제 1 항에 있어서,
상기 제 1 기판 및 제 2 기판은 광학적 접착제를 이용하여 직접 본딩(Direct Bonding) 방식으로 접합하는,
플라즈마 노즐의 제조방법.
The method of claim 1,
The first substrate and the second substrate are bonded in a direct bonding method using an optical adhesive,
A method of manufacturing a plasma nozzle.
제 3 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 기판 및 제 2 기판은 가열 및 압착 공정을 이용하여 상기 금속 패턴에 의해 직접 접합하는,
플라즈마 노즐의 제조방법.
7. The method according to any one of claims 3 to 6,
The first substrate and the second substrate are directly bonded by the metal pattern using a heating and pressing process,
A method of manufacturing a plasma nozzle.
제 1 항에 있어서,
상기 기판은 세라믹, 고분자 및 금속 소재 중 어느 하나를 포함하는,
플라즈마 노즐의 제조방법.
The method of claim 1,
The substrate includes any one of a ceramic, polymer, and metal material,
A method of manufacturing a plasma nozzle.
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