KR102250921B1 - 전자 기기 장치 및 이의 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
전자 기기 장치 및 이의 제조 방법이 제공된다.
일례로, 전자 기기 장치는 광을 제공하는 광 제공 장치; 및 상기 광 제공 장치로부터 제공되는 상기 광의 투과도를 조절하는 가변 광 제어 부재를 포함하되, 상기 가변 광 제어 부재는, 복수의 단위 영역이 정의되는 베이스 기판, 상기 베이스 기판 상에 형성되는 복수의 박막트랜지스터, 및 상기 베이스 기판 상에 상기 각 단위 영역 마다 또는 상기 복수의 단위 영역 중 적어도 두개의 단위 영역마다 배치되며 상기 박막트랜지스터의 제어에 의해 변형 가능한 렌즈부를 갖는 렌즈층을 포함한다.
일례로, 전자 기기 장치는 광을 제공하는 광 제공 장치; 및 상기 광 제공 장치로부터 제공되는 상기 광의 투과도를 조절하는 가변 광 제어 부재를 포함하되, 상기 가변 광 제어 부재는, 복수의 단위 영역이 정의되는 베이스 기판, 상기 베이스 기판 상에 형성되는 복수의 박막트랜지스터, 및 상기 베이스 기판 상에 상기 각 단위 영역 마다 또는 상기 복수의 단위 영역 중 적어도 두개의 단위 영역마다 배치되며 상기 박막트랜지스터의 제어에 의해 변형 가능한 렌즈부를 갖는 렌즈층을 포함한다.
Description
본 발명은 전자 기기 장치 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.
전자 기기 장치의 예로서 조명 장치 및 표시 장치 등이 있다. 표시 장치의 예로서 액정 표시 장치 및 유기 발광 표시 장치 등이 있다.
액정 표시 장치는 서로 대향하는 2개의 기판들 상에 형성된 전극(화소 전극 및 공통 전극)에 전압을 인가하여 그 사이에 개재된 액정층의 액정 분자들의 배열을 제어함으로써 투과되는 광의 양을 조정하여 영상을 표시한다. 액정 표시 장치는 기판들을 포함하는 액정 표시 패널이 자체적으로 발광하지 못하는 비발광성 소자로 구성되므로, 액정 표시 패널에 광을 공급하기 위한 백라이트 유닛을 필요로 한다. 백라이트 유닛은 통상적으로 광원과, 광원을 구동하는 전원을 공급하는 회로 기판과, 광원으로부터 제공되는 광을 액정 표시 패널에 균일하게 공급하기 위해 도광 부재, 집광 부재, 확산 부재 및 편광 부재와 같은 광학 부재들을 포함한다.
유기 발광 표시 장치는 자체 발광형 표시 소자로서, 복수의 화소를 포함하는 유기 발광 표시 패널을 포함한다. 유기 발광 표시 패널은 각 화소마다 애노드 전극과 캐소드 전극 사이에 유기 발광 물질로 이루어진 유기 발광층을 포함한다. 이들 전극들에 양극 및 음극 전압이 각각 인가됨에 따라 애노드 전극으로부터 주입된 정공(hole)이 정공 주입층 및 정공 수송층을 경유하여 유기 발광층으로 이동되고, 전자는 캐소드 전극으로부터 전자 주입층과 전자 수송층을 경유하여 유기 발광층으로 이동되어, 유기 발광층에서 전자와 정공이 재결합된다. 이러한 재결합에 의해 여기자(exiton)가 생성되며, 이 여기자가 여기 상태에서 기저 상태로 변화됨에 따라 유기 발광층이 발광됨으로써 유기 발광 표시 패널에 화상이 표시된다. 즉, 각 화소별 유기 발광층이 애노드 전극에서 캐소드 전극으로 흐르는 전류의 크기에 대응하는 휘도로 발광되어 유기 발광 표시 패널에 영상이 표시된다.
한편, 액정 표시 장치의 박형화 추세에 따라 백라이트 유닛의 구성인 광학 부재의 개수를 최소화하거나 광원의 개수를 줄이는 액정 표시 장치가 개발되고 있다. 그런데, 광학 부재의 개수를 최소화하거나 광원의 개수를 줄이면서 액정 표시 패널로 공급되는 광의 투과도를 균일하게 맞추기 어려워져, 영상의 휘도가 불균일해지는 문제가 있다.
유기 발광 표시 장치의 유기 발광층은 각 화소별로 애노드 전극에서 캐소드 전극으로 흐르는 전류에 의해 발광되기 때문에, 원치 않은 내부 저항 등에 의해 각 화소별로 애노드 전극에서 캐소드 전극으로 흐르는 전류의 크기가 상이할 수 있다. 이 경우 유기 발광 표시 패널로부터 방출되는 광의 투과도가 불균일해져 영상의 휘도가 불균일해질 수 있다.
이에, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 영상의 휘도가 균일해지도록 광의 투과도를 조절할 수 있는 전자 기기 장치를 제공하는 것이다.
본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 영상의 휘도가 균일해지도록 광의 투과도를 조절할 수 있는 전자 기기 장치의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 기기 장치는 광을 제공하는 광 제공 장치; 및 상기 광 제공 장치로부터 제공되는 상기 광의 투과도를 조절하는 가변 광 제어 부재를 포함하되, 상기 가변 광 제어 부재는, 복수의 단위 영역이 정의되는 베이스 기판, 상기 베이스 기판 상에 형성되는 복수의 박막트랜지스터, 및 상기 베이스 기판 상에 상기 각 단위 영역 마다 또는 상기 복수의 단위 영역 중 적어도 두개의 단위 영역마다 배치되며 상기 박막트랜지스터의 제어에 의해 변형 가능한 렌즈부를 갖는 렌즈층을 포함한다.
상기 가변 광 제어 부재는 상기 박막트랜지스터와 상기 렌즈부의 일측 사이에 연결된 제1 렌즈 제어 전극; 및 상기 렌즈부의 타측에 연결된 제2 렌즈 제어 전극을 더 포함할 수 있다.
상기 렌즈층은 형상 기억 폴리머로 형성될 수 있다.
상기 렌즈층은 폴리에스테르 우레탄(polyether urethane), 폴리노르보넨(poly-norbornene), 트랜스-폴리이소프렌(trans-polyisoprene), 폴리우레탄(poly-urethane) 및 폴리에틸렌(poly-ethylene) 중 어느 하나와, 카본 나노 튜브(carbon nanotube) 및 카본 나노파이퍼(carbon nanofiber) 중 어느 하나를 포함할 수 있다.
상기 베이스 기판은 유리 기판 또는 절연 기판일 수 있다.
상기 전자 기기 장치는 상기 광 제공 장치의 상부와 상기 가변 광 제어 부재의 하부 사이에 배치되며, 비변형 상태로 상기 광의 투과도를 제어하는 고정 광 제어 부재를 더 포함할 수 있다.
상기 고정 광 제어 부재는 프리즘 부재, 도광 부재, 확산 부재, 비변형 렌즈 부재, 위상차 보상 부재 및 편광 부재 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.
상기 전자 기기 장치는 상기 가변 광 제어 부재의 상부에 배치되며, 상기 복수의 단위 영역과 대응되는 복수의 화소가 정의되는 액정 표시 패널을 더 포함할 수 있다.
상기 광 제공 장치는 광원과, 상기 광원을 구동하는 전원을 공급하는 회로 기판을 포함하며, 상기 고정 광 제어 부재는 상기 광원의 적어도 일 측부에 배치되는 도광판과, 상기 도광판과 상기 가변 광 제어 부재 사이에 배치되는 확산 시트를 포함할 수 있다.
상기 광 제공 장치는 광원과, 상기 광원을 구동하는 전원을 공급하는 회로 기판을 포함하며, 상기 고정 광 제어 부재는 상기 광원의 상부와 상기 가변 광 제어 부재 사이에 배치되는 확산판을 포함할 수 있다.
상기 광 제공 장치는 광원과, 상기 광원을 구동하는 전원을 공급하는 회로 기판을 포함하며, 상기 고정 광 제어 부재는 상기 광원의 적어도 일 측부에 배치되며 상기 가변 광 제어 부재와 마주보는 도광판을 포함할 수 있다.
상기 전자 기기 장치는 상기 고정 광 제어 부재와 상기 가변 광 제어 부재 사이에 배치되며, 상기 복수의 단위 영역과 대응되는 복수의 화소가 정의되는 액정 표시 패널을 더 포함할 수 있다.
상기 광 제공 장치는 상기 복수의 단위 영역과 대응되는 복수의 화소가 정의되는 유기 발광 표시 패널을 포함하며, 상기 유기 발광 표시 패널은 상기 각 화소마다 형성되는 유기 발광층을 포함할 수 있다.
상기 다른 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 기기 장치의 제조 방법은 광을 제공하는 광 제공 장치를 준비하는 단계; 복수의 단위 영역이 정의되는 베이스 기판과, 상기 베이스 기판 상에 형성되는 복수의 박막트랜지스터와, 상기 베이스 기판 상에 상기 각 단위 영역 마다 또는 상기 복수의 단위 영역 중 적어도 두개의 단위 영역마다 배치되며 상기 박막트랜지스터의 제어에 의해 변형 가능한 렌즈부를 가지는 렌즈층을 포함하는 가변 광 제어 부재를 상기 광 제공 장치의 상부에 배치하는 단계; 상기 광 제공 장치로부터 가변 광 제어 부재로 제공되는 광의 투과도를 검사하는 단계; 및 상기 검사된 광의 투과도에 따라 상기 렌즈부를 변형하여 상기 광의 투과도를 보정하는 단계를 포함한다.
상기 광의 투과도를 보정하는 단계는 상기 복수의 단위 영역 중 제1 휘도를 가지는 제1 단위 영역과 상기 제1 휘도와 상이한 제2 휘도를 가지는 제2 단위 영역이 동일한 휘도를 가지도록 상기 제2 단위 영역에 위치하는 렌즈부의 형상을 변경시키는 과정을 포함할 수 있다.
상기 제2 휘도가 상기 제1 휘도보다 낮은 경우, 상기 제2 단위 영역의 렌즈부가 상기 제1 단위 영역의 렌즈부보다 볼록한 형상을 가지도록 변형될 수 있다.
상기 전자 기기 장치의 제조 방법은 상기 광 제공 장치의 상부와 상기 가변 광 제어 부재의 하부 사이에 비변형 상태로 상기 광의 투과도를 조절하는 고정 광 제어 부재을 배치하는 단계를 더 포함하며, 상기 고정 광 제어 부재는 프리즘 부재, 도광 부재, 확산 부재, 비변형 렌즈 부재, 위상차 보상 부재 및 편광 부재 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.
상기 복수의 단위 영역과 대응되는 복수의 화소가 정의되는 액정 표시 패널이 상기 가변 광 제어 부재의 상부에 배치되며, 상기 광 제공 장치는 광원과, 상기 광원을 구동하는 전원을 공급하는 회로 기판을 포함할 수 있다.
상기 복수의 단위 영역과 대응되는 복수의 화소가 정의되는 액정 표시 패널이 상기 고정 광 제어 부재와 상기 가변 광 제어 부재 사이에 배치되며, 상기 광 제공 장치는 광원과, 상기 광원을 구동하는 전원을 공급하는 회로 기판을 포함할 수 있다.
상기 광 제공 장치는 상기 복수의 단위 영역과 대응되는 복수의 화소가 정의되는 유기 발광 표시 패널을 포함하며, 상기 유기 발광 표시 패널은 상기 각 화소마다 형성되는 유기 발광층을 포함할 수 있다.
기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.
본 발명의 실시예들에 의하면 적어도 다음과 같은 효과가 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 상기와 같이 본 발명의 일 실시예 따른 전자 기기 장치는 박막트랜지스터의 제어에 의해 변형 가능한 렌즈부를 가지는 렌즈층을 포함하는 가변 광 제어 부재를 포함함으로써, 광 제공 장치로부터 제공되는 광의 투과도를 균일하게 조절하여 광의 휘도를 균일하게 할 수 있다.
본 발명에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며, 더욱 다양한 효과들이 본 명세서 내에 포함되어 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 기기 장치의 구성도이다.
도 2는 도 1의 가변 광 제어 부재의 베이스 기판의 개략적인 구성도이다.
도 3은 도 2의 하나의 단위 영역에 대응되는 가변 광 제어 부재의 단면도이다.
도 4는 도 2의 하나의 단위 영역의 회로도이다.
도 5는 도 1의 광 제공 장치로부터 가변 광 제어 부재로 제공되는 광의 투과도를 조절하는 것을 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 전자 기기 장치의 개략적인 단면도이다.
도 7은 도 1의 광 제공 장치로부터 가변 광 제어 부재로 제공되는 광의 투과도를 조절하는 것을 설명하기 위한 도면이다.
도 8은 도 7의 다른 예를 보여주기 위한 도면이다.
도 9는 본 발명의 또다른 실시예에 따른 전자 기기 장치의 개략적인 단면도이다.
도 10은 본 발명의 또다른 실시예에 따른 전자 기기 장치의 개략적인 단면도이다.
도 11은 본 발명의 또다른 실시예에 따른 전자 기기 장치의 개략적인 단면도이다.
도 12는 본 발명의 또다른 실시예에 따른 전자 기기 장치의 개략적인 단면도이다.
도 13은 본 발명의 또다른 실시예에 따른 전자 기기 장치의 개략적인 단면도이다.
도 14는 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 기기 장치의 제조 방법을 나타내는 순서도이다.
도 2는 도 1의 가변 광 제어 부재의 베이스 기판의 개략적인 구성도이다.
도 3은 도 2의 하나의 단위 영역에 대응되는 가변 광 제어 부재의 단면도이다.
도 4는 도 2의 하나의 단위 영역의 회로도이다.
도 5는 도 1의 광 제공 장치로부터 가변 광 제어 부재로 제공되는 광의 투과도를 조절하는 것을 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 전자 기기 장치의 개략적인 단면도이다.
도 7은 도 1의 광 제공 장치로부터 가변 광 제어 부재로 제공되는 광의 투과도를 조절하는 것을 설명하기 위한 도면이다.
도 8은 도 7의 다른 예를 보여주기 위한 도면이다.
도 9는 본 발명의 또다른 실시예에 따른 전자 기기 장치의 개략적인 단면도이다.
도 10은 본 발명의 또다른 실시예에 따른 전자 기기 장치의 개략적인 단면도이다.
도 11은 본 발명의 또다른 실시예에 따른 전자 기기 장치의 개략적인 단면도이다.
도 12는 본 발명의 또다른 실시예에 따른 전자 기기 장치의 개략적인 단면도이다.
도 13은 본 발명의 또다른 실시예에 따른 전자 기기 장치의 개략적인 단면도이다.
도 14는 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 기기 장치의 제조 방법을 나타내는 순서도이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
소자(elements) 또는 층이 다른 소자 또는 층"위(on)"로 지칭되는 것은 다른 소자 바로 위에 또는 중간에 다른 층 또는 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
비록 제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있음은 물론이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 기기 장치의 구성도이고, 도 2는 도 1의 가변 광 제어 부재의 베이스 기판의 개략적인 구성도이고, 도 3은 도 2의 하나의 단위 영역에 대응되는 가변 광 제어 부재의 단면도이고, 도 4는 도 2의 하나의 단위 영역의 회로도이고, 도 5는 도 1의 광 제공 장치로부터 가변 광 제어 부재로 제공되는 광의 투과도를 조절하는 것을 설명하기 위한 도면이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 기기 장치(10)는 광을 비추는 조명 장치 또는 광에 의해 영상을 표시하는 표시 장치일 수 있다. 전자 기기 장치(10)는 광 제공 장치(100) 및 가변 광 제어 부재(200)를 포함한다. 전자 기기 장치(10)는 광 제공 장치(100)와 가변 광 제어 부재(200) 사이에 배치되는 고정 광 제어 부재(300)를 더 포함할 수 있다.
광 제공 장치(100)는 광을 발생시켜 제공하는 장치로서, 예를 들어 광원을 포함할 수 있다. 상기 광원은 백열 전구, 할로겐 램프, 형광 램프, 발광 다이오드 중 어느 하나일 수 있다.
가변 광 제어 부재(200)는 광 제공 장치(100)로부터 제공되는 광의 투과도를 조절하는 부재로서, 베이스 기판(210), 박막트랜지스터(Tr), 제1 렌즈 제어 전극(220), 렌즈층(230) 및 제2 렌즈 제어 전극(240)을 포함할 수 있다.
베이스 기판(210)은 유리 기판 또는 절연 기판일 수 있다. 베이스 기판(210)은 도 2와 같이 베이스 기판(210) 상에 제1 방향(D1)을 따라 배열되는 복수의 게이트 라인(GL1, GL2, ..., GLn)(n은 자연수)과, 제1 방향(D1)과 교차하는 제2 방향(D2) 따라 배열되는 복수의 데이터 라인(DL1 ,DL2, ..., DLm)(m은 자연수)에 의해 정의되는 복수의 단위 영역(UA)을 포함할 수 있다.
박막트랜지스터(Tr)는 복수개로 구비될 수 있으며 베이스 기판(210) 상에 각 단위 영역(UA) 마다 형성될 수 있다. 박막트랜지스터(Tr)는 게이트 전극(211), 반도체층(213), 소스 전극(215) 및 드레인 전극(216)을 포함할 수 있다. 도 3 및 도 4에서는, 박막트랜지스터(Tr)가 제1 게이트 라인(GL1)과 제1 데이터 라인(DL1)에 의해 정의되는 단위 영역(UA)에 형성되는 것을 예로 들어 설명하기로 한다.
게이트 전극(211)은 베이스 기판(210) 상에 제1 게이트 라인(GL1)과 연결되게 형성된다. 게이트 전극(211)은 금속, 합금, 금속 질화물, 도전성 금속 산화물, 투명 도전성 물질 등을 포함할 수 있다. 제1 게이트 라인(GL1)은 베이스 기판(210) 상에 게이트 전극(211) 형성시 함께 형성될 수 있으며, 게이트 절연막(212)이 제1 게이트 라인(GL)과 게이트 전극(211)을 덮도록 베이스 기판(210) 상에 형성될 수 있다. 게이트 절연막(212)은 실리콘 질화물이나, 실리콘 산화물을 포함할 수 있다.
반도체층(213)은 게이트 절연막(212)을 사이에 두고 게이트 전극(211) 상에 형성된다. 반도체층(213)은 게이트 절연막(212) 상에 제공되는 활성층을 포함할 수 있다. 상기 활성층은 평면상에서 소스 전극(215)과 드레인 전극(216)이 형성된 영역 및 소스 전극(215)과 드레인 전극(216) 사이의 영역에 대응하는 영역에 형성된다. 상기 활성층 상에는 오믹 컨택층(214)이 형성될 수 있다. 오믹 컨택층(214)은 상기 활성층과 소스 전극(215) 및 상기 활성층과 드레인 전극(216) 사이에 형성될 수 있다.
소스 전극(215)은 베이스 기판(210) 상에 제1 데이터 라인(DL1)과 연결되게 형성되며, 평면상으로 게이트 전극(211)의 적어도 일부와 중첩할 수 있다. 드레인 전극(216)은 소스 전극(215)으로부터 이격되게 형성되며, 평면상으로 게이트 전극(211)의 적어도 일부와 중첩할 수 있다.
소스 전극(215)과 드레인 전극(216)은 금속, 합금, 금속 질화물, 도전성 금속 산화물, 투명 도전성 물질 등을 포함할 수 있다. 여기서, 소스 전극(215)과 드레인 전극(216)은 소스 전극(215)과 드레인 전극(216) 사이의 이격된 영역을 제외한 영역에서 반도체층(213)의 일부와 중첩할 수 있다.
제1 절연층(217)은 박막트랜지스터(Tr)를 덮도록 게이트 절연막(212) 상에 형성된다. 여기서, 제1 절연층(217)은 드레인 전극(216)을 노출하는 관통홀을 가진다. 제1 절연층(217)은 예를 들어 실리콘 질화물이나 실리콘 산화물을 포함할 수 있다.
제1 렌즈 제어 전극(220)은 제1 절연층(217) 상에 형성되며, 제1 절연층(217)의 상기 관통홀을 통해 노출된 드레인 전극(216)과 연결된다. 제1 렌즈 제어 전극(220)은 인듐틴옥사이드(ITO)와 같은 투명 도전성 물질로 형성될 수 있다.
렌즈층(230)은 박막트랜지스터(Tr) 상에, 구체적으로 제1 절연층(217)과 제1 렌즈 제어 전극(220) 상에 형성된다. 렌즈층(230)은 제1 렌즈 제어 전극(220)과 제2 렌즈 제어 전극(240)을 통해 인가되는 전압에 의해 변형될 수 있는 형상 기억 폴리머로 형성될 수 있다. 예를 들어, 렌즈층(230)은 폴리에스테르 우레탄(polyether urethane), 폴리노르보넨(poly-norbornene), 트랜스-폴리이소프렌(trans-polyisoprene), 폴리우레탄(poly-urethane) 및 폴리에틸렌(poly-ethylene) 중 어느 하나와, 카본 나노튜브(carbon nanotube) 및 카본 나노파이버(carbon nanofiber) 중 어느 하나를 포함하여 형성될 수 있다.
렌즈층(230) 중 제1 렌즈 제어 전극(220)과 접하는 렌즈부(231)는 베이스 기판(210)의 각 단위 영역(UA) 마다 또는 복수의 단위 영역(UA) 중 적어도 두 개의 단위 영역(UA)마다 배치될 수 있다. 렌즈부(231)가 적어도 두개의 단위 영역(UA)마다 배치되는 경우, 박막트랜지스터(Tr)는 렌즈부(231)의 배치와 대응되게 배치될 수 있다.
렌즈부(231)는 전자 기기 장치(10)의 제조 공정 중에 광 제공 장치(100)로부터 가변 광 제어 부재(200)로 제공되는 광의 투과도 검사 후 광의 투과도에 대한 보정이 필요한 경우 박막트랜지스터(Tr)의 제어에 의해 변형됨으로써, 광 제공 장치(100)로부터 제공되는 광의 투과도를 실질적으로 조절할 수 있다. 상기 광의 투과도는 광의 휘도를 측정하여 평가될 수 있다.
예를 들어, 도 5에 도시된 바와 같이 베이스 기판(210)의 복수의 단위 영역(UA) 중 제1 단위 영역(UA1)으로 제공된 광의 제1 휘도(미리 정해진 휘도)와 제2 단위 영역(UA2; 빗금친 부분)으로 제공되는 광의 제2 휘도가 상이한 경우, 제2 단위 영역(UA2)으로 제공된 광의 제2 휘도를 제1 단위 영역(UA1)으로 제공된 광의 제1 휘도와 동일하게 하도록 제2 단위 영역(UA2)에 위치하는 렌즈부(231)가 박막트랜지스터(Tr)의 제어에 의해 변형될 수 있다.
일례로, 제2 휘도가 제1 휘도보다 작은 경우 제 2 휘도를 크게 하는 것이 필요하게 되며, 이에 따라 박막트랜지스터(Tr)의 제어에 의해 렌즈층(230) 중 베이스 기판(210)의 제2 단위 영역(UA2)과 대응되게 위치하는 렌즈부(231)가 베이스 기판(210)의 제1 단위 영역(UA1)과 대응되게 위치하는 렌즈부(231)보다 볼록한 형상으로 변형될 수 있다. 도 5에서는, 렌즈층(230) 중 베이스 기판(210)의 제2 단위 영역(UA2)과 대응되게 위치하는 렌즈부(231)가 볼록한 형상을 가지며, 베이스 기판(210)의 제1 단위 영역(UA1)과 대응되게 위치하는 렌즈부(231)가 평평한 형상을 가지는 것으로 예시되었다. 렌즈부(231)의 볼록 정도가 클수록 집광률이 커져 광 제공 장치(100)로부터 제공되는 광의 휘도가 클 수 있다.
한편, 도 5에서 광 제공 장치(100)로부터 가변 광 제어 부재(200)로 공급되는 광이 제3 단위 영역에서 제1 휘도와 제2 휘도 사이의 제3 휘도를 가지는 경우, 베이스 기판(210)의 제3 단위 영역과 대응되게 위치하는 렌즈부(231)는 베이스 기판(210)의 제1 단위 영역(UA1)과 대응되게 위치하는 렌즈부(231) 보다는 볼록하고 베이스 기판(210)의 제2 단위 영역(UA2)과 대응되게 위치하는 렌즈부(231)보다는 볼록하지 않을 수 있다.
제2 렌즈 제어 전극(240)은 렌즈층(230) 상에 공통 전원 전압(도 4의 Vc)과 연결되도록 형성된다. 제2 렌즈 제어 전극(240)은 인듐틴옥사이드(ITO)와 같은 투명 도전성 물질로 형성될 수 있다.
상기에서 설명된 렌즈부(231)의 변형 동작에 대해 도 4를 참조하여 구체적으로 설명하면, 가변 광 제어 부재(300)의 박막트랜지스터(Tr)는 제1 제어 라인(GL1)을 통해 공급되는 제어 신호에 응답하여 제1 데이터 라인(DL1)을 통해 공급되는 데이터 신호에 대응하는 전압을 렌즈부(231)의 일단에 인가한다. 렌즈부(231)의 타단에는 공통 전원 전압(Vc)이 전기적으로 연결된다. 이에 따라, 렌즈부(231)는 박막트랜지스터(Tr)로부터 인가되는 전압과 공통 전원 전압(Vc)의 차에 의해 변형될 수 있다. 예를 들어, 박막트랜지스터(Tr)로부터 인가되는 전압이 공통 전원 전압(Vc)보다 큰 경우, 렌즈부(231)는 볼록해질 수 있다. 반대로 박막트랜지스터(Tr)로부터 인가되는 전압이 공통 전원 전압(Vc)보다 작은 경우, 렌즈부(231)는 평평하거나 오목해질 수 있다.
한편, 전자 기기 장치(10)의 제조 공정에서 변형된 렌즈부(231)가 전자 기기 장치(10)의 구동시 적용되도록, 전자 기기 장치(10)는 구동시에도 박막트랜지스터(Tr)의 전압과 공통 전원 전압(Vc)이 렌즈부(231)에 인가되도록 구성될 수 있다. 또한, 전자 기기 장치(10)의 제조 공정에서 변형된 렌즈부(231)와 대응되는 렌즈부를 가지는 렌즈층을 포함하는 가변 광 제어 부재를 새로 형성하여 전자 기기 장치에 적용할 수 있다. 이 경우, 전자 기기 장치(10)의 구동시에 박막트랜지스터의 전압과 공통 전원 전압이 렌즈부에 인가하는 것이 불필요하다.
고정 광 제어 부재(300)는 광 제공 장치(100)와 가변 광 제어 부재(200) 사이에 배치된다. 고정 광 제어 부재(300)는 비변형 상태로 광 제공 장치(100)로부터 제공되는 광의 투과도를 조절한다. 고정 광 제어 부재(300)는 예를 들어 프리즘 부재, 도광 부재, 확산 부재, 비변형 렌즈 부재, 위상차 보상 부재 및 편광 부재 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.
상기와 같이 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 기기 장치(10)는 박막트랜지스터(Tr)의 제어에 의해 변형 가능한 렌즈부(231)를 가지는 렌즈층(230)을 포함하는 가변 광 제어 부재(200)를 포함함으로써, 광 제공 장치(100)로부터 제공되는 광의 투과도를 균일하게 조절하여 광의 휘도를 균일하게 할 수 있다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 전자 기기 장치의 개략적인 단면도이고, 도 7은 도 1의 광 제공 장치로부터 가변 광 제어 부재로 제공되는 광의 투과도를 조절하는 것을 설명하기 위한 도면이고, 도 8은 도 7의 다른 예를 보여주기 위한 도면이다.
도 6을 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 전자 기기 장치(10a)는 액정 표시 장치로 구현되는 것을 예시한다.
전자 기기 장치(10a)는 광 제공 장치(100a), 고정 광 제어 부재(300a), 가변 광 제어 부재(200a) 및 액정 표시 패널(400)을 포함한다.
광 제공 장치(100a)는 광을 발생시키고, 광을 고정 광 제어 부재(300a) 및 가변 광 제어 부재(200a)를 통해 액정 표시 패널(400)로 제공한다. 광 제공 장치(100a)는 광원(110)과 회로 기판(120)을 포함한다.
광원(110)은 광을 실질적으로 발생시키며, 발광 다이오드(light emitting diode, LED)와 같은 광원 소자를 포함할 수 있다.
회로 기판(120)은 광원(110)이 실장되는 공간을 제공하며, 광원(110)을 구동시키는 전원을 광원(110)에 제공하는 경로를 위한 배선층(미도시)을 포함할 수 있다. 회로 기판(120)은 바(bar) 타입일 수 있다.
고정 광 제어 부재(300a)는 비변형 상태로 광 제공 장치(100a)로부터 제공받은 광의 투과도를 조절한다. 고정 광 제어 부재(300a)는 도광판(310) 및 확산 시트(320)를 포함할 수 있다.
도광판(310)은 광원(110)의 적어도 일측부에 배치된다. 도광판(310)은 광원(110)으로부터 공급된 광을 액정 표시 패널(400) 측으로 가이드한다. 도광판(310)은 사각 플레이트 형상을 가지는 것으로 도시되었지만, 이에 한정되는 것은 아니며, 다양한 형상을 가질 수 있다. 도광판(310)은 광을 굴절시키는 투명한 물질로 이루어질 수 있다. 예시적인 실시예에서 상기 투명한 물질은 폴리카보네이트(polycarbonate)나 폴리메틸메타크릴레이트(polymethyl methacrylate) 등의 투명한 고분자 수지일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 또한 도광판(310)은 강성(rigid) 물질로 이루어질 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니고, 가요성 물질로 이루어질 수도 있다.
확산 시트(320)는 도광판(310)의 상부에 배치되며 도광판(310)으로부터 제공되는 광을 확산하는 역할을 한다. 도시되진 않았지만, 확산 시트(320) 상에는 확산 시트(320)에서 확산된 광을 액정 표시 패널(400)에 수직한 방향으로 집광하는 프리즘 시트가 배치될 수 있다.
가변 광 제어 부재(200a)는 고정 광 제어 부재(300a)의 상부에 배치되며, 변형 상태로 광 제공 장치(100a)로부터 고정 광 제어 부재(300a)를 통해 제공받은 광의 투과도를 조절하며, 투과도가 조절된 광을 액정 표시 패널(400)로 제공한다.
가변 광 제어 부재(200a)는 도 2 내지 도 4의 가변 광 제어 부재(200)와 동일한 구성을 가지며 동일한 역할을 한다.
다만, 베이스 기판(210a)에 정의되는 복수의 단위 영역(도 2의 UA 참조)이 액정 표시 패널(400)에 정의되는 복수의 화소와 대응될 수 있으며, 렌즈층(230a)의 렌즈부(231a)가 베이스 기판(210a)의 각 단위 영역마다 배치될 수 있다. 이 경우, 가변 광 제어 부재(200a)는 액정 표시 패널(400)의 각 화소별 광의 투과도를 조절할 수 있다.
예를 들어, 도 7에 도시된 바와 같이 베이스 기판(210a)의 복수의 단위 영역 중 제1 단위 영역(UA1)으로 제공된 광의 제1 휘도(미리 정해진 휘도)와 제2 단위 영(UA2; 빗금친 부분)으로 제공되는 광의 제2 휘도가 상이한 경우, 제2 단위 영역(UA2)으로 제공된 광의 제2 휘도를 제1 단위 영역(UA1)으로 제공된 광의 제1 휘도와 동일하게 하도록 제2 단위 영역(UA2)에 위치하는 렌즈부(231a)가 박막트랜지스터(도 3 및 도 4의 Tr 참조)의 제어에 의해 변형될 수 있다.
일례로, 제2 휘도가 제1 휘도보다 작은 경우 제 2 휘도를 크게 하는 것이 필요하게 되며, 이에 따라 박막트랜지스터의 제어에 의해 렌즈층(230a) 중 베이스 기판(210a)의 제2 단위 영역(UA2)과 대응되게 위치하는 렌즈부(231a)가 베이스 기판(210a)의 제1 단위 영역(UA1)과 대응되게 위치하는 렌즈부(231a)보다 볼록한 형상으로 변형될 수 있다. 도 7에서는, 렌즈층(230a) 중 베이스 기판(210a)의 제2 단위 영역(UA2)과 대응되게 위치하는 렌즈부(231a)가 볼록한 형상을 가지며, 베이스 기판(210a)의 제1 단위 영역(UA1)과 대응되게 위치하는 렌즈부(231a)가 평평한 형상을 가지는 것으로 예시되었다. 렌즈부(231a)의 볼록 정도가 클수록 집광률이 커져 광 제공 장치(100a)로부터 제공되는 광의 휘도가 클 수 있다.
한편, 액정 표시 패널(400)에 정의되는 화소의 크기가 작은 경우 도 8에 도시된 바와 같이 베이스 기판(210ab)에 정의되는 복수의 단위 영역(도 2의 UA 참조)이 액정 표시 패널(400)에 정의되는 복수의 화소와 대응될 수 있으며, 렌즈층(230ab)의 렌즈부(231ab)가 베이스 기판(210ab)의 복수의 단위 영역 중 적어도 두 개의 단위 영역마다 배치될 수 있다. 이 경우, 가변 광 제어 부재(200a)는 액정 표시 패널(400)의 광의 투과도를 적어도 두개의 단위 영역과 대응되는 화소 단위로 조절할 수 있다.
예를 들어, 도 8에 도시된 바와 같이 베이스 기판(210ab)의 복수의 단위 영역 중 제1 단위 영역(UA1)으로 제공된 광의 제1 휘도(미리 정해진 휘도)와 제2 단위 영역(UA2; 빗금친 부분)으로 제공되는 광의 제2 휘도가 상이한 경우, 제2 단위 영역(UA2)으로 제공된 광의 제2 휘도를 제1 단위 영역(UA1)으로 제공된 광의 제1 휘도와 동일하게 하도록 제2 단위 영역(UA2)에 위치하는 렌즈부(231ab)가 박막트랜지스터(도 3 및 도 4의 Tr 참조)의 제어에 의해 변형될 수 있다.
일례로, 제2 휘도가 제1 휘도보다 작은 경우 제2 휘도를 크게 하는 것이 필요하게 되며, 이에 따라 박막트랜지스터의 제어에 의해 렌즈층(230ab) 중 베이스 기판(210ab)의 4개의 제2 단위 영역(UA2)과 대응되게 위치하는 1개의 렌즈부(231ab)가 베이스 기판(210ab)의 4개의 제1 단위 영역(UA1)과 대응되게 위치하는 1개의 렌즈부(231ab)보다 볼록한 형상으로 변형될 수 있다. 도 8에서는, 렌즈층(230ab) 중 4개의 제2 단위 영역(UA2)과 대응되게 위치하는 1개의 렌즈부(231ab)가 볼록한 형상을 가지며, 베이스 기판(210ab)의 4개의 제1 단위 영역(UA1)과 대응되게 위치하는 1개의 렌즈부(231ab)가 평평한 형상을 가지는 것으로 예시되었다. 렌즈부(231ab)의 볼록 정도가 클수록 집광률이 커져 광 제공 장치(100a)로부터 제공되는 광의 휘도가 클 수 있다.
액정 표시 패널(400)은 가변 광 제어 부재(200a)의 상부에 배치된다. 액정 표시 패널(400)은 복수의 화소를 포함한다. 상기 화소들은 매트릭스 형상으로 배치될 수 있다. 액정 표시 패널(400)은 상호 대향하는 제1 패널(410) 및 제2 패널(420)을 포함할 수 있다. 제1 패널(410))과 제2 패널(420)은 실링재(미도시)에 의해 결합할 수 있다. 제1 패널(410)과 제2 패널(420) 사이에는 액정층(430)이 개재될 수 있다.
액정 표시 패널(400)은 액정층(430)의 액정 분자들의 배열을 제어하며, 광 제공 장치(100a)로부터 고정 광 제어 부재(300a) 및 가변 광 제어 부재(200a)를 통해 제공되는 광의 양을 조정하여 영상을 표시한다. 이 때, 액정 표시 패널(400)은 가변 광 제어 부재(200a)의 제어에 의해 균일한 투과도를 가지는 광을 제공받기 때문에, 액정 분자들의 배열의 제어에 의해 광의 양을 조정하여 영상을 표시하는 경우 휘도가 균일한 영상을 표시할 수 있다.
한편, 위에서는 가변 광 제어 부재(200a)가 광 제공 장치(100a)로부터 제공되는 광의 투과도를 균일하게 하도록 조절하는 것을 설명하였으나, 전자 기기 장치(10a)의 구동시 광 제공 장치(100a)로부터 제공되는 광의 투과도를 액정 표시 패널(400)에 영상을 표시하기 위한 영상 데이터를 기초로 하여 변화시킴으로써, 로컬 디밍(local dimming) 구동을 가능하게 할 수 있다.
상기와 같이 본 발명의 다른 실시예에 따른 전자 기기 장치(10a)는 박막트랜지스터의 제어에 의해 변형 가능한 렌즈부(231a)를 가지는 렌즈층(230a)을 포함하는 가변 광 제어 부재(200a)를 포함함으로써, 광 제공 장치(100a)로부터 제공되는 광의 투과도를 균일하게 조절할 수 있다.
따라서, 본 발명의 다른 실시예에 따른 전자 기기 장치(10a)는 가변 광 제어 부재(200a)의 조절에 의해 균일한 투과도를 가지는 광을 액정 표시 패널(400)로 제공함으로써, 액정 표시 패널(400)에 균일한 휘도를 가지는 영상을 표시하게 할 수 있다.
도 9는 본 발명의 또다른 실시예에 따른 전자 기기 장치의 개략적인 단면도이다.
도 9를 참조하면, 본 발명의 또다른 실시예에 따른 전자 기기 장치(10b)는 도 6의 전자 기기 장치(10a)와 같이 액정 표시 장치로 구현되는 것을 예시한다. 다만, 전자 기기 장치(10b)는 전자 기기 장치(10a)와 비교하여 광 제공 장치(100b) 및 고정 광 제어 부재(300b)의 구성만 다르며, 동일한 구성을 가지며 동일한 역할을 한다. 이에 따라, 전자 기기 장치(10b)에서는 광 제공 장치(100b) 및 고정 광 제어 부재(300b)에 대해서만 설명하기로 한다.
광 제공 장치(100b)는 광을 발생시키고, 광을 고정 광 제어 부재(300b) 및 가변 광 제어 부재(200a)를 통해 액정 표시 패널(400)로 제공한다. 광 제공 장치(100b)는 광원(110b)과 회로 기판(120b)을 포함한다.
광원(110b)은 도 6의 광원(110)과 유사하다. 다만, 광원(110b)은 도 6의 광원(110)이 액정 표시 패널(400)을 기준으로 측부에 배치되는 것과 달리 액정 표시 패널(400)을 기준으로 하부에 배치된다. 이 경우, 광원(110b)의 개수가 도 6의 광원(110)의 개수보다 많을 수 있다.
회로 기판(120b)은 도 6의 회로 기판(120)과 유사하다. 다만, 회로 기판(120b)은 광원(110b)의 하부에 배치된다.
고정 광 제어 부재(300b)는 도 6의 고정 광 제어 부재(300a)와 유사하다. 다만, 광원(110b)이 액정 표시 패널(400)의 하부에 배치되어 액정 표시 패널(400)을 향하는 방향으로 제공되기 때문에, 도 6에 도시된 도광판(310)은 생략될 수 있으며 고정 광 제어 부재(300b)가 광원(110b)으로부터 제공되는 광을 확산시킬 수 있는 확산판으로 이루어질 수 있다.
상기와 같이 본 발명의 또다른 실시예에 따른 전자 기기 장치(10b)는 박막트랜지스터의 제어에 의해 변형 가능한 렌즈부(231a)를 가지는 렌즈층(230a)을 포함하는 가변 광 제어 부재(200a)를 포함함으로써, 광 제공 장치(100b)로부터 제공되는 광의 투과도를 균일하게 조절할 수 있다.
따라서, 본 발명의 또다른 실시예에 따른 전자 기기 장치(10b)는 가변 광 제어 부재(200a)의 조절에 의해 균일한 투과도를 가지는 광을 액정 표시 패널(400)로 제공함으로써, 액정 표시 패널(400)에 균일한 휘도를 가지는 영상을 표시하게 할 수 있다.
도 10은 본 발명의 또다른 실시예에 따른 전자 기기 장치의 개략적인 단면도이다.
도 10를 참조하면, 본 발명의 또다른 실시예에 따른 전자 기기 장치(10c)는 도 6의 전자 기기 장치(10a)와 같이 액정 표시 장치로 구현되는 것을 예시한다. 다만, 전자 기기 장치(10c)는 전자 기기 장치(10a)와 비교하여 고정 광 제어 부재(300c) 만 다르며, 동일한 구성을 가지며 동일한 역할을 한다. 이에 따라, 전자 기기 장치(10c)에서는 고정 광 제어 부재(300c)에 대해서만 설명하기로 한다.
고정 광 제어 부재(300c)는 도 6의 고정 광 제어 부재(300a)와 유사하다. 다만, 고정 광 제어 부재(300c)는 도 6에서 확산 시트(320)가 생략된 도광판(310)으로만 구성될 수 있다. 이 경우, 전자 기기 장치(10c)의 두께가 줄어들 수 있다.
상기와 같이 본 발명의 또다른 실시예에 따른 전자 기기 장치(10c)는 박막트랜지스터의 제어에 의해 변형 가능한 렌즈부(231a)를 가지는 렌즈층(230a)을 포함하는 가변 광 제어 부재(200a)를 포함함으로써, 광 제공 장치(100b)로부터 제공되는 광의 투과도를 조절할 수 있다.
따라서, 본 발명의 또다른 실시예에 따른 전자 기기 장치(10c)는 가변 광 제어 부재(200a)의 조절에 의해 균일한 투과도를 가지는 광을 액정 표시 패널(400)로 제공함으로써, 액정 표시 패널(400)에 균일한 휘도를 가지는 영상을 표시하게 할 수 있다.
도 11은 본 발명의 또다른 실시예에 따른 전자 기기 장치의 개략적인 단면도이다.
도 11을 참조하면, 본 발명의 또다른 실시예에 따른 전자 기기 장치(10d)는 도 6의 전자 기기 장치(10a)와 같이 액정 표시 장치로 구현되는 것을 예시한다. 다만, 전자 기기 장치(10c)는 전자 기기 장치(10a)와 비교하여 가변 광 제어 부재(200a)의 배치 위치만 다르며, 동일한 구성을 가지며 동일한 역할을 한다. 즉, 전자 기기 장치(10c)에서 가변 광 제어 부재(200a)는 액정 표시 패널(400)의 상부에 배치된다. 이 경우, 가변 광 제어 부재(200a)가 최종적으로 액정 표시 패널(400)로부터 방출되는 광의 투과도를 조절하여 액정 표시 패널(400)에 표시되는 영상의 휘도를 균일하게 함으로써, 전자 기기 장치(10d)의 표시 품질이 향상될 수 있다.
상기와 같이 본 발명의 또다른 실시예에 따른 전자 기기 장치(10d)는 박막트랜지스터의 조절에 의해 변형 가능한 렌즈부(231a)를 가지는 렌즈층(230a)을 포함하는 가변 광 제어 부재(200a)를 포함함으로써, 액정 표시 패널(400)로부터 방출되는 광의 투과도를 조절할 수 있다.
따라서, 본 발명의 또다른 실시예에 따른 전자 기기 장치(10d)는 가변 광 제어 부재(200a)의 조절에 의해 액정 표시 패널(400)로부터 균일한 투과도를 가지는 광을 방출하여 액정 표시 패널(400)에 균일한 휘도를 가지는 영상을 표시하게 함으로써, 표시 품질을 향상시킬 수 있다.
도 12는 본 발명의 또다른 실시예에 따른 전자 기기 장치의 개략적인 단면도이다.
도 12를 참조하면, 본 발명의 또다른 실시예에 따른 전자 기기 장치(10e)는 유기 발광 표시 장치로 구현되는 것을 예시한다.
전자 기기 장치(10e)는 광 제공 장치(100e) 및 가변 광 제어 부재(200e)를 포함한다.
광 제공 장치(100e)는 유기 발광 표시 패널로서, 제1 기판(110e), 제1 전극(120e), 화소 정의막(130e), 유기층(140e), 제2 전극(150e) 및 제2 기판(160e)을 포함할 수 있다.
제1 기판(110e)은 절연 기판을 포함할 수 있다. 상기 절연 기판은 투명한 SiO2를 주성분으로 하는 투명 재질의 글라스재로 형성될 수 있다. 몇몇 실시예에서, 상기 절연 기판은 불투명 재질로 이루어지거나, 플라스틱 재질로 이루어질 수도 있다. 더 나아가, 상기 절연 기판은 가요성 기판일 수 있다.
도시하지는 않았지만, 제1 기판(110e)은 절연 기판 상에 형성된 다른 구조물들을 더 포함할 수 있다. 상기 다른 구조물들의 예로는 배선, 전극, 절연막 등을 들 수 있다. 본 실시예에 따른 전자 기기 장치(10e)가 능동형 유기 발광 표시 장치일 경우, 제1 기판(110e)은 절연 기판 상에 형성된 복수의 박막트랜지스터를 포함할 수 있다. 복수의 박막 트랜지스터 중 적어도 일부의 드레인 전극은 제1 전극(120e)과 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 박막트랜지스터는 실리콘 또는 산화물 반도체로 형성되는 액티브 영역을 가지는 것일 수 있다.
제1 전극(120e)은 기판(110e) 상에 화소 별로 형성된다. 제1 전극(120e)은 박막트랜지스터의 드레인 전극에 인가된 신호를 받아 유기층(140e)으로 정공을 제공하는 애노드 전극 또는 전자를 제공하는 캐소드 전극일 수 있다. 본 발명의 실시예에서는, 제1 전극(120e)이 애노드 전극인 것을 예로 들어 설명하기로 한다. 제1 전극(120e)이 반사 전극으로 사용되는 경우 전자 기기 장치(10e)는 유기층(140e)으로부터 나오는 광이 제2 전극(150e) 방향으로 방출되는 전면 유기 발광 표시 장치일 수 있다.
화소 정의막(130e)은 제1 전극(120e)이 형성된 제1 기판(110e) 상에 형성된다. 화소 정의막(130e)은 화소의 경계에 배치되어 각 화소를 구분할 수 있다. 또한, 화소 정의막(130e)은 유기층(140e)의 배치 공간을 제공하는 개구부를 정의할 수 있다. 화소 정의막(130e)의 개구부에 의해 제1 전극(120e)이 노출되며, 이 때 제1 전극(120e)의 측부가 화소 정의막(130e) 측으로 연장되어 부분적으로 화소 정의막(130e)과 오버랩될 수 있다. 화소 정의막(130e)과 제1 전극(120e)이 오버랩된 영역에서 이들의 위치 관계는 제1 기판(110e)을 기준으로 화소 정의막(130e)이 제1 전극(120e)의 상부일 수 있다.
화소 정의막(130e)은 절연 물질로 이루어질 수 있다. 구체적으로, 화소 정의막(130e)은 벤조사이클로부텐(Benzo Cyclo Butene;BCB), 폴리이미드(polyimide;PI), 폴리아마이드(poly amaide;PA), 아크릴 수지 및 페놀수지 등으로부터 선택된 적어도 하나의 유기 물질을 포함하여 이루어질 수 있다. 또, 다른 예로, 화소 정의막(130e)은 실리콘 질화물 등과 같은 무기 물질을 포함하여 이루어질 수도 있다.
유기층(140e)은 제1 전극(120e) 상에 형성된다. 구체적으로, 유기층(140e)은 화소 정의막(130e)의 개구부에 형성되며, 화소 정의막(130e)의 상부 일부를 덮도록 연장될 수 있다. 유기층(140e)은 제1 전극(120e)에서 제공되는 정공과 제2 전극(150e)에서 제공되는 전자를 재결합시켜 광을 실질적으로 방출하는 유기 발광층을 포함할 수 있다. 보다 상세히 설명하면, 유기 발광층에 정공 및 전자가 제공되면 정공 및 전자가 결합하여 엑시톤을 형성하고, 이러한 엑시톤이 여기 상태로부터 기저 상태로 떨어지면서 광을 방출시킨다.
제 2 전극(150e)은 유기층(140e) 상에 형성되며, 유기층(140e)으로 전자를 제공하는 캐소드 전극 또는 정공을 제공하는 애노드 전극일 수 있다. 본 발명의 실시예에서는, 제2 전극(150e)이 캐소드 전극인 것을 예로 들어 설명하기로 한다.
제2 기판(160e)은 절연 기판으로 이루어질 수 있다. 화소 정의막(130e) 상의 제2 전극(150e)과 제2 기판(160e) 사이에는 스페이서(미도시)가 배치될 수도 있다. 본 발명의 다른 몇몇 실시예에서, 제2 기판(160e)은 생략될 수도 있다. 이 경우, 절연 물질로 이루어진 봉지막이 전체 구조물을 덮어 보호할 수 있다.
가변 광 제어 부재(200e)는 도 2 내지 도 4의 가변 광 제어 부재(200)와 동일한 구성을 가지며 동일한 역할을 한다.
다만, 베이스 기판(210e)에 정의되는 복수의 단위 영역(도 2의 UA 참조)이 상기 유기 발광 표시 패널에 정의되는 복수의 화소와 대응될 수 있으며, 렌즈층(230e)의 렌즈부(231e)가 베이스 기판(210e)의 각 단위 영역마다 배치될 수 있다. 이 경우, 가변 광 제어 부재(200e)는 상기 유기 발광 표시 패널의 각 화소별 광의 투과도를 조절할 수 있다.
이에 따라, 유기 발광 표시 장치의 유기 발광층이 각 화소별로 애노드 전극에서 캐소드 전극으로 흐르는 전류에 의해 발광되어 각 화소별로 애노드 전극에서 캐소드 전극으로 흐르는 전류의 크기가 원치 않은 내부 저항 등에 의해 상이한 경우, 가변 광 제어 부재(200e)는 유기 발광 표시 패널로부터 제공되는 광의 투과도를 균일하게 할 수 있다.
가변 광 제어 부재(200e)의 상부에는 외광 반사를 방지하는 편광판(400e)이 부착될 수 있다. 편광판(400e)은 가변 광 제어 부재(200e)와 접촉하는 부분에 부착된 점착제를 포함하기 때문에, 점착제의 탄성에 의해 가변 광 제어 부재(200e)의 렌즈부(231e)가 변형시 공간에 크게 제약받지 않을 수 있다.
상기와 같이 상기와 같이 본 발명의 또다른 실시예에 따른 전자 기기 장치(10e)는 박막트랜지스터의 제어에 의해 변형 가능한 렌즈부(231e)를 가지는 렌즈층(230e)을 포함하는 가변 광 제어 부재(200e)를 포함함으로써, 광 제공 장치(100e)인 유기 발광 표시 장치로부터 방출되는 광의 투과도를 조절할 수 있다.
따라서, 본 발명의 또다른 실시예에 따른 전자 기기 장치(10e)는 가변 광 제어 부재(200e)의 조절에 의해 광 제공 장치(100e)인 유기 발광 표시 패널로부터 균일한 투과도를 가지는 광을 방출하여 유기 발광 표시 패널에 균일한 휘도를 가지는 영상을 표시하게 함으로써, 표시 품질을 향상시킬 수 있다.
도 13은 본 발명의 또다른 실시예에 따른 전자 기기 장치의 개략적인 단면도이다.
도 13를 참조하면, 본 발명의 또다른 실시예에 따른 전자 기기 장치(10f)는 도 12의 전자 기기 장치(10e)와 같이 유기 발광 표시 장치로 구현되는 것을 예시한다. 다만, 전자 기기 장치(10f)는 전자 기기 장치(10e)와 비교하여 가변 광 제어 부재(200e)의 배치 위치만 다르며, 동일한 구성을 가지며 동일한 역할을 한다. 이에 따라, 전자 기기 장치(10f)에서 가변 광 제어 부재(200f)에 대해서만 설명하기로 한다.
가변 광 제어 부재(200f)는 도 12의 가변 광 제어 부재(200e)와 유사하다. 다만, 가변 광 제어 부재(200f)는 편광판(400e)의 상부에 배치된다. 이 경우, 렌즈부(231f)의 변형 조절이 용이할 수 있다.
상기와 같이 상기와 같이 본 발명의 또다른 실시예에 따른 전자 기기 장치(10f)는 박막트랜지스터의 제어에 의해 변형 가능한 렌즈부(231f)를 가지는 렌즈층(230f)을 포함하는 가변 광 제어 부재(200f)를 포함함으로써, 광 제공 장치(100e)인 유기 발광 표시 장치로부터 방출되는 광의 투과도를 조절할 수 있다.
따라서, 본 발명의 또다른 실시예에 따른 전자 기기 장치(10f)는 가변 광 제어 부재(200e)의 조절에 의해 광 제공 장치(100e)인 유기 발광 표시 패널로부터 균일한 투과도를 가지는 광을 방출하여 유기 발광 표시 패널에 균일한 휘도를 가지는 영상을 표시하게 함으로써, 표시 품질을 향상시킬 수 있다.
이하, 상술한 본 발명의 다양한 실시예들에 따른 전자 기기 장치를 제조하기 위한 예시적인 방법에 대해 설명하기로 한다.
도 14는 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 기기 장치의 제조 방법을 나타내는 순서도이다.
도 14를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 기기 장치(100)의 제조 방법은 광 제공 장치 준비 단계(S10), 가변 광 제어 부재 배치 단계(S20), 광 투과도 검사 단계(S30) 및 보정 단계(S40)를 포함할 수 있다.
도 1 및 도 14를 참조하면, 광 제공 장치 준비 단계(S10)는 광을 발생시켜 제공하는 광 제공 장치(100)를 준비하는 단계이다. 광 제공 장치(100)는 앞에서 상세하게 설명되었으므로, 중복된 설명은 생략하기로 한다.
도 1 내지 도 4 및 도 14를 참조하면, 가변 광 제어 부재 배치 단계(S20)는 광 제공 장치(100)의 상부에 가변 광 제어 부재(200)를 배치시키는 단계이다.
가변 광 제어 부재(200)는 복수의 단위 영역(UA)이 정의되는 베이스 기판(210)과, 베이스 기판(210) 상에 형성되는 복수의 박막트랜지스터(Tr)와, 베이스 기판(210) 상에 각 단위 영역(UA) 마다 또는 복수의 단위 영역(UA) 중 적어도 두개의 단위 영역(UA) 마다 배치되며 상기 박막트랜지터의 제어에 의해 변형 가능한 렌즈부(231)를 가지는 렌즈층(230)을 포함할 수 있다.
도 14를 참조하면, 광 투과도 검사 단계(S30)는 광 제공 장치(100)로부터 가변 광 제어 부재(100)로 제공되는 광의 투과도를 검사하는 단계이다. 상기 광의 투과도는 광의 휘도를 측정하여 평가될 수 있다. 광의 휘도 측정은 별도의 휘도 측정 장치에 의해 수행될 수 있다.
도 5 및 도 14를 참조하면, 보정 단계(S40)는 상기 검사된 광의 투과도에 따라 렌즈부(231)를 변형하여 광의 투과도를 보정하는 단계이다.
예를 들어, 도 5에 도시된 바와 같이 베이스 기판(210)의 복수의 단위 영역(UA) 중 제1 단위 영역(UA1)으로 제공된 광의 제1 휘도(미리 정해진 휘도)와 제2 단위 영역(UA2; 빗금친 부분)으로 제공되는 광의 제2 휘도가 상이한 경우, 제2 단위 영역(UA2)으로 제공된 광의 제2 휘도를 제1 단위 영역(UA1)으로 제공된 광의 제1 휘도와 동일하게 하도록 제2 단위 영역(UA2)에 위치하는 렌즈부(231)가 박막트랜지스터(Tr)의 제어에 의해 변형될 수 있다. 이에 따라, 광 제공 장치(100)로부터 가변 광 제어 부재(100)로 제공되는 광의 투과도가 균일하도록 보정되어, 광의 휘도가 균일할 수 있다.
한편, 도시되진 않았지만, 광 제공 장치(100)의 상부와 가변 광 제어 부재(200)의 하부 사이에 비변형 상태로 광의 투과도를 조절하는 고정 광 제어 부재(300) 배치하는 단계가 더 포함될 수 있다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
10, 10a, 10b, 10c, 10d, 10e, 10f: 전자 기기 장치
100, 100a, 100b, 100e: 광 제공 장치 200: 고정 광 제어 부재
210, 210a, 210e: 베이스 기판 Tr: 박막트랜지스터
220: 제1 렌즈 제어 전극 230, 230a, 230e: 렌즈층
231, 231a, 231e: 렌즈부 240: 제2 렌즈 제어 전극
300, 300a, 300b, 300c: 고정 광 제어 부재
100, 100a, 100b, 100e: 광 제공 장치 200: 고정 광 제어 부재
210, 210a, 210e: 베이스 기판 Tr: 박막트랜지스터
220: 제1 렌즈 제어 전극 230, 230a, 230e: 렌즈층
231, 231a, 231e: 렌즈부 240: 제2 렌즈 제어 전극
300, 300a, 300b, 300c: 고정 광 제어 부재
Claims (20)
- 광을 제공하는 광 제공 장치;
상기 광 제공 장치로부터 제공되는 상기 광의 투과도를 조절하는 가변 광 제어 부재; 및
상기 광 제공 장치의 상부와 상기 가변 광 제어 부재의 하부 사이에 배치되며, 비변형 상태로 상기 광의 투과도를 제어하는 고정 광 제어 부재를 포함하되,
상기 가변 광 제어 부재는,
복수의 단위 영역이 정의되는 베이스 기판,
상기 베이스 기판 상에 형성되는 복수의 박막트랜지스터, 및
상기 베이스 기판 상에 상기 각 단위 영역 마다 또는 상기 복수의 단위 영역 중 적어도 두개의 단위 영역마다 배치되며 상기 박막트랜지스터의 제어에 의해 변형 가능한 렌즈부를 갖는 렌즈층을 포함하는 전자 기기 장치. - 제1 항에 있어서,
상기 가변 광 제어 부재는
상기 박막트랜지스터와 상기 렌즈부의 일측 사이에 연결된 제1 렌즈 제어 전극; 및
상기 렌즈부의 타측에 연결된 제2 렌즈 제어 전극을 더 포함하는 전자 기기 장치. - 제1 항에 있어서,
상기 렌즈층은 형상 기억 폴리머로 형성되는 전자 기기 장치. - 제1 항에 있어서,
상기 렌즈층은 폴리에스테르 우레탄(polyether urethane), 폴리노르보넨(poly-norbornene), 트랜스-폴리이소프렌(trans-polyisoprene), 폴리우레탄(poly-urethane) 및 폴리에틸렌(poly-ethylene) 중 어느 하나와, 카본 나노 튜브(carbon nanotube) 및 카본 나노파이퍼(carbon nanofiber) 중 어느 하나를 포함하는 전자 기기 장치. - 제1 항에 있어서,
상기 베이스 기판은 유리 기판 또는 절연 기판인 전자 기기 장치. - 삭제
- 제1 항에 있어서,
상기 고정 광 제어 부재는 프리즘 부재, 도광 부재, 확산 부재, 비변형 렌즈 부재, 위상차 보상 부재 및 편광 부재 중 적어도 어느 하나를 포함하는 전자 기기 장치. - 제1 항에 있어서,
상기 가변 광 제어 부재의 상부에 배치되며, 상기 복수의 단위 영역과 대응되는 복수의 화소가 정의되는 액정 표시 패널을 더 포함하는 전자 기기 장치. - 제8 항에 있어서,
상기 광 제공 장치는 광원과, 상기 광원을 구동하는 전원을 공급하는 회로 기판을 포함하며,
상기 고정 광 제어 부재는 상기 광원의 적어도 일 측부에 배치되는 도광판과, 상기 도광판과 상기 가변 광 제어 부재 사이에 배치되는 확산 시트를 포함하는 전자 기기 장치. - 제8 항에 있어서,
상기 광 제공 장치는 광원과, 상기 광원을 구동하는 전원을 공급하는 회로 기판을 포함하며,
상기 고정 광 제어 부재는 상기 광원의 상부와 상기 가변 광 제어 부재 사이에 배치되는 확산판을 포함하는 전자 기기 장치. - 제8 항에 있어서,
상기 광 제공 장치는 광원과, 상기 광원을 구동하는 전원을 공급하는 회로 기판을 포함하며,
상기 고정 광 제어 부재는 상기 광원의 적어도 일 측부에 배치되며 상기 가변 광 제어 부재와 마주보는 도광판을 포함하는 전자 기기 장치. - 제1 항에 있어서,
상기 고정 광 제어 부재와 상기 가변 광 제어 부재 사이에 배치되며, 상기 복수의 단위 영역과 대응되는 복수의 화소가 정의되는 액정 표시 패널을 더 포함하는 전자 기기 장치. - 제1 항에 있어서,
상기 광 제공 장치는 상기 복수의 단위 영역과 대응되는 복수의 화소가 정의되는 유기 발광 표시 패널을 포함하며,
상기 유기 발광 표시 패널은 상기 각 화소마다 형성되는 유기 발광층을 포함하는 전자 기기 장치. - 광을 제공하는 광 제공 장치를 준비하는 단계;
복수의 단위 영역이 정의되는 베이스 기판과, 상기 베이스 기판 상에 형성되는 복수의 박막트랜지스터와, 상기 베이스 기판 상에 상기 각 단위 영역 마다 또는 상기 복수의 단위 영역 중 적어도 두개의 단위 영역마다 배치되며 상기 박막트랜지스터의 제어에 의해 변형 가능한 렌즈부를 가지는 렌즈층을 포함하는 가변 광 제어 부재를 상기 광 제공 장치의 상부에 배치하는 단계;
상기 광 제공 장치로부터 가변 광 제어 부재로 제공되는 광의 투과도를 검사하는 단계; 및
상기 검사된 광의 투과도에 따라 상기 렌즈부를 변형하여 상기 광의 투과도를 보정하는 단계를 포함하는 전자 기기 장치의 제조 방법. - 제14 항에 있어서,
상기 광의 투과도를 보정하는 단계는 상기 복수의 단위 영역 중 제1 휘도를 가지는 제1 단위 영역과 상기 제1 휘도와 상이한 제2 휘도를 가지는 제2 단위 영역이 동일한 휘도를 가지도록 상기 제2 단위 영역에 위치하는 렌즈부의 형상을 변경시키는 과정을 포함하는 전자 기기 장치의 제조 방법. - 제15 항에 있어서,
상기 제2 휘도가 상기 제1 휘도보다 낮은 경우, 상기 제2 단위 영역의 렌즈부가 상기 제1 단위 영역의 렌즈부보다 볼록한 형상을 가지도록 변형되는 전자 기기 장치의 제조 방법. - 제14 항에 있어서,
상기 광 제공 장치의 상부와 상기 가변 광 제어 부재의 하부 사이에 비변형 상태로 상기 광의 투과도를 조절하는 고정 광 제어 부재을 배치하는 단계를 더 포함하며,
상기 고정 광 제어 부재는 프리즘 부재, 도광 부재, 확산 부재, 비변형 렌즈 부재, 위상차 보상 부재 및 편광 부재 중 적어도 어느 하나를 포함하는 전자 기기 장치의 제조 방법. - 제17 항에 있어서,
상기 복수의 단위 영역과 대응되는 복수의 화소가 정의되는 액정 표시 패널이 상기 가변 광 제어 부재의 상부에 배치되며,
상기 광 제공 장치는 광원과, 상기 광원을 구동하는 전원을 공급하는 회로 기판을 포함하는 전자 기기 장치의 제조 방법. - 제17 항에 있어서,
상기 복수의 단위 영역과 대응되는 복수의 화소가 정의되는 액정 표시 패널이 상기 고정 광 제어 부재와 상기 가변 광 제어 부재 사이에 배치되며,
상기 광 제공 장치는 광원과, 상기 광원을 구동하는 전원을 공급하는 회로 기판을 포함하는 전자 기기 장치의 제조 방법. - 제14 항에 있어서,
상기 광 제공 장치는 상기 복수의 단위 영역과 대응되는 복수의 화소가 정의되는 유기 발광 표시 패널을 포함하며,
상기 유기 발광 표시 패널은 상기 각 화소마다 형성되는 유기 발광층을 포함하는 전자 기기 장치의 제조 방법.
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