KR102237698B1 - 오버레이 마크의 비대칭부 검출 방법 및 이를 포함하는 오버레이 계측 방법 - Google Patents

오버레이 마크의 비대칭부 검출 방법 및 이를 포함하는 오버레이 계측 방법 Download PDF

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Abstract

오버레이 마크의 비대칭부 검출 방법에 따르면, 기준 오버레이 마크의 기준 모델 프로파일(model profile)을 기준으로 서로 다른 크기들을 갖는 복수개의 가상 비대칭부들을 갖는 복수개의 가상 오버레이 마크들을 형성한다. 상기 가상 오버레이 마크들 각각의 정보를 획득한다. 상기 가상 오버레이 마크들의 정보들 중에서 실제 오버레이 마크의 정보와 일치하는 정보를 확인하기 위해 상기 가상 오버레이 마크들의 정보를 상기 실제 오버레이 마크의 정보와 비교한다. 따라서, 실제 오버레이 마크의 비대칭부의 크기 및 위치를 정확하게 검출할 수 있다.

Description

오버레이 마크의 비대칭부 검출 방법 및 이를 포함하는 오버레이 계측 방법{METHOD OF DETECTING AN ASYMMETRIC PORTION OF AN OVERLAY MARK AND METHOD OF MEASURING AN OVERLAY INCLUDING THE SAME}
본 발명은 오버레이 마크의 비대칭부 검출 방법 및 이를 포함하는 오버레이 계측 방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 오버레이 마크에 형성된 비대칭적인 부분을 검출하는 방법, 및 이러한 방법을 포함하는 오버레이 계측 방법에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 기판 상에는 복수개의 막들이 순차적으로 적층된다. 각 막들이 미리 설정된 위치에 정확하게 형성되어야만, 원하는 반도체 장치를 제조할 수 있다.
따라서, 막들이 정확하게 정렬되었는지를 확인하기 위해서, 오버레이 마크들이 사용된다. 오버레이 마크들이 갖는 오버레이를 측정하여, 막들의 정렬 여부를 확인할 수 있다.
관련 기술에 따르면, 정확한 오버레이를 계측하기 위해서는 오버레이 마크의 대칭성이 우선되어야 한다. 오버레이 마크가 중심점을 기준으로 비대칭이면, 오버레이 마크의 중심점이 원래 위치에서 비대칭부 방향으로 이동된다. 이로 인하여 계측된 오버레이는 오버레이 마크의 실제 오버레이와는 달라지게 된다. 결과적으로, 오류의 오버레이를 이용해서 막에 대한 보정 공정에서도 오류가 발생된다.
본 발명은 오버레이 마크의 비대칭부를 검출하는 방법을 제공한다.
또한, 본 발명은 상기된 방법을 포함하는 오버레이 계측 방법도 제공한다.
본 발명의 일 견지에 따른 오버레이 마크의 비대칭부 검출 방법에 따르면, 기준 오버레이 마크의 기준 모델 프로파일(model profile)을 기준으로 서로 다른 크기들을 갖는 복수개의 가상 비대칭부들을 갖는 복수개의 가상 오버레이 마크들을 형성한다. 상기 가상 오버레이 마크들 각각의 정보를 획득한다. 상기 가상 오버레이 마크들의 정보들 중에서 실제 오버레이 마크의 정보와 일치하는 정보를 확인하기 위해 상기 가상 오버레이 마크들의 정보를 상기 실제 오버레이 마크의 정보와 비교한다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 가상 오버레이 마크들을 형성하는 단계는 상기 기준 모델 프로파일의 제 1 측면 하단으로부터 이격된 제 1 위치로부터 상기 기준 모델 프로파일의 상부면을 지나 상기 제 1 측면과 반대되는 상기 기준 모델 프로파일의 제 2 측면을 따라 가상 비대칭 라인을 형성하는 단계, 및 상기 가상 비대칭 라인을 상기 제 2 측면의 하단으로부터 이격된 제 2 위치까지 쉬프트시키는 단계를 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 제 1 측면의 하단으로부터 상기 제 1 위치까지의 거리는 상기 제 2 측면의 하단으로부터 상기 제 2 위치까지의 거리와 동일할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 가상 비대칭 라인을 쉬프트시키는 단계는 상기 가상 비대칭 라인을 일정 간격씩 쉬프트시키는 단계를 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 검출 방법은 상기 실제 오버레이 마크에 상기 실제 비대칭부가 존재하는지 여부를 파악하는 단계를 더 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 실제 비대칭부를 파악하는 단계는 상기 실제 오버레이 마크의 실제 모델 프로파일을 증폭하는 단계, 및 상기 증폭된 실제 모델 프로파일의 중심점이 변화되는지 여부를 확인하는 단계를 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 실제 오버레이 마크의 실제 모델 프로파일을 증폭하는 단계는 상기 실제 오버레이 마크의 실제 모델 프로파일에 정수들을 제곱하는 단계를 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 가상 비대칭부들의 정보들은 상기 가상 비대칭부들 각각의 크기 및 위치를 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 가상 비대칭부의 크기는 상기 가상 비대칭부의 수평 길이를 포함할 수 있다.
본 발명의 다른 견지에 따른 오버레이 계측 방법에 따르면, 기준 오버레이 마크의 기준 모델 프로파일(model profile)을 기준으로 서로 다른 크기들을 갖는 복수개의 가상 비대칭부들을 갖는 복수개의 가상 오버레이 마크들을 형성한다. 상기 가상 오버레이 마크들 각각의 정보를 획득한다. 상기 가상 오버레이 마크들의 정보들 중에서 실제 오버레이 마크의 정보와 일치하는 정보를 확인하기 위해 상기 가상 오버레이 마크들의 정보를 상기 실제 오버레이 마크의 정보와 비교한다. 상기 일치된 정보를 이용해서 상기 실제 오버레이 마크의 오버레이를 계측한다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 실제 오버레이 마크의 오버레이를 계측하는 단계는 상기 실제 오버레이 마크가 갖는 실제 비대칭부를 배제시키는 단계를 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 계측 방법은 상기 실제 오버레이 마크에 상기 실제 비대칭부가 존재하는지 여부를 파악하는 단계를 더 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 실제 비대칭부를 파악하는 단계는 상기 실제 오버레이 마크의 실제 모델 프로파일을 증폭하는 단계, 및 상기 증폭된 실제 모델 프로파일의 중심점이 변화되는지 여부를 확인하는 단계를 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 실제 오버레이 마크의 실제 모델 프로파일을 증폭하는 단계는 상기 실제 오버레이 마크의 실제 모델 프로파일에 정수들을 제곱하는 단계를 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 가상 비대칭부들의 정보들은 상기 가상 비대칭부들 각각의 크기 및 위치, 및 상기 가상 오버레이 마크들 각각의 중심점을 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 가상 비대칭부의 크기는 상기 가상 비대칭부의 수평 길이를 포함할 수 있다.
상기된 본 발명에 따르면, 실제 오버레이 마크의 비대칭부의 크기 및 위치를 정확하게 검출할 수 있다. 따라서, 실제 오버레이 마크의 오버레이 계측은 비대칭부를 실제 오버레이 마크로부터 배제한 상태에서 수행되므로, 정확한 오버레이를 계측할 수 있다. 결과적으로, 이러한 정확한 오버레이를 이용하는 보정 공정에서도 오류가 발생되지 않는다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 오버레이 계측 방법을 순차적으로 나타낸 흐름도이다.
도 2는 기준 오버레이 마크의 프로파일을 나타낸 그래프이다.
도 3은 도 2의 그래프에서 획득한 모델 프로파일을 나타낸 그래프이다.
도 4 및 도 5는 도 3의 모델 프로파일에 가상 비대칭부들을 갖는 가상 오버레이 마크들을 형성하는 것을 나타낸 그래프들이다.
도 6 및 도 7은 가상 비대칭부들로 인한 가상 오버레이 마크들의 중심점 변화를 나타낸 그래프들이다.
도 8 및 도 9는 실제 비대칭부를 갖는 실제 오버레이 마크를 나타낸 단면도들이다.
도 10은 실제 비대칭부로 인한 실제 오버레이 마크의 중심점 변화를 나타낸 그래프이다.
도 11 및 도 12는 실제 비대칭부의 배제에 의한 실제 오버레이 마크의 중심점 변화를 비교해서 나타낸 그래프들이다.
도 13 및 도 14는 피치에 따른 마진 감소 해결을 위해 도메인 확장을 적용한 것을 나타낸 그래프들이다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명한다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 오버레이 계측 방법을 순차적으로 나타낸 흐름도이고, 도 2는 기준 오버레이 마크의 프로파일을 나타낸 그래프이며, 도 3은 도 2의 그래프에서 획득한 모델 프로파일을 나타낸 그래프이고, 도 4 및 도 5는 도 3의 모델 프로파일에 가상 비대칭부들을 갖는 가상 오버레이 마크들을 형성하는 것을 나타낸 그래프들이며, 도 6 및 도 7은 가상 비대칭부들로 인한 가상 오버레이 마크들의 중심점 변화를 나타낸 그래프들이고, 도 8 및 도 9는 실제 비대칭부를 갖는 실제 오버레이 마크를 나타낸 단면도들이며, 도 10은 실제 비대칭부로 인한 실제 오버레이 마크의 중심점 변화를 나타낸 그래프이고, 도 11 및 도 12는 실제 비대칭부의 배제에 의한 실제 오버레이 마크의 중심점 변화를 비교해서 나타낸 그래프들이고, 도 13 및 도 14는 피치에 따른 마진 감소 해결을 위해 도메인 확장을 적용한 것을 나타낸 그래프들이다.
도 1을 참조하면, 단계 ST100에서, 기준 오버레이 마크의 프로파일을 획득한다. 본 실시예에서, 도 2에 도시된 바와 같이, 기준 오버레이 마크는 기준 오버레이 마크의 중심점을 기준으로 대칭되는 형상을 갖는다. 즉, 기준 오버레이 마크는 비대칭부를 갖지 않는다.
단계 ST102에서, 측정된 프로파일로부터 모델 프로파일(R)을 획득한다. 도 3을 참조하면, 모델 프로파일(R)은 측정된 프로파일 중의 어느 하나이다. 모델 프로파일(R)은 기준 오버레이 마크의 중심점을 기준으로 좌우가 정확하게 대칭되는 형상을 갖는다. 따라서, 모델 프로파일(R)은 비대칭부를 갖지 않는다.
단계 ST104에서, 모델 프로파일(R)에 가상 비대칭부들을 갖는 가상 오버레이 마크들을 형성한다. 도 4를 참조하면, 가상 비대칭 라인(V)을 모델 프로파일(R)에 형성한다. 가상 비대칭 라인(V)은 기준 모델 프로파일(R)의 좌측면인 제 1 측면 하단으로부터 이격된 제 1 위치로부터 기준 모델 프로파일(R)의 상부면을 지나 제 1 측면과 반대되는 상기 기준 모델 프로파일(R)의 제 2 측면을 따라 연장된다. 가상 비대칭 라인(V)의 좌측 하단은 모델 프로파일(R)의 좌측 하단으로부터 이격된 제 1 위치에 위치하고 있으므로, 가상 비대칭 라인(V)에 의해 형성된 가상 오버레이 마크는 모델 프로파일(R)보다 좌측으로 돌출된 좌측 비대칭부를 갖게 된다.
도 5를 참조하면, 가상 비대칭 라인(V)을 제 1 측면의 반대측인 모델 프로파일(R)의 우측면인 제 2 측면을 향해서 일정 간격씩 쉬프트시킨다. 가상 비대칭 라인(V)이 우측으로 이동되므로, 가상 오버레이 마크의 좌측 비대칭부의 크기는 점진적으로 감소되고 반면에 가상 오버레이 마크의 우측 비대칭부의 크기가 점진적으로 증가된다. 가상 비대칭 라인(V)을 제 2 측면의 하단으로부터 이격된 제 2 위치까지 쉬프트시킨다. 가상 비대칭 라인(V)의 우측 하단은 모델 프로파일(R)의 우측 하단으로부터 이격된 제 2 위치에 위치하고 있으므로, 가상 비대칭 라인(V)에 의해 형성된 가상 오버레이 마크는 모델 프로파일(R)보다 우측으로 돌출된 우측 비대칭부를 갖게 된다.
본 실시예에서, 모델 프로파일(R)의 좌측 하단으로부터 제 1 위치까지의 거리는 모델 프로파일(R)의 우측 하단으로부터 제 2 위치까지의 거리와 실질적으로 동일하다. 즉, 모델 프로파일(R)의 중심점으로부터 제 1 위치까지의 거리는 모델 프로파일(R)의 중심점으로부터 제 2 위치까지의 거리와 실질적으로 동일하다. 제 1 위치와 제 2 위치는 실제 오버레이 마크에 형성될 수 있는 실제 비대칭부의 최대 크기, 즉 최대 수평 길이를 고려해서 설정될 수 있다.
단계 ST106에서, 가상 비대칭 라인(V)을 쉬프트시키는 것에 의해서 형성된 복수개의 가상 오버레이 마크들의 정보들을 획득한다. 가상 비대칭 라인(V)을 미리 설정된 일정 간격씩 쉬프트시키므로, 각 위치에서의 가상 오버레이 마크가 갖는 가상 비대칭부의 크기, 위치, 및 가상 오버레이 마크의 중심점을 알 수 있다. 가상 비대칭부의 크기는 가상 비대칭부의 수평 길이를 포함한다. 가상 오버레이 마크의 높이는 고정된 수치이므로, 가상 비대칭부의 수평 길이와 가상 오버레이 마크의 높이로부터 가상 비대칭부의 개략적인 크기를 산출할 수 있다. 도 6에 도시된 바와 같이, 가상 비대칭 라인(V)을 우측으로 쉬프트시키는 것에 의해서 좌측 비대칭부의 수평 길이가 점진적으로 줄어들게 된다. 반면에, 도 7에 도시된 바와 같이, 가상 비대칭 라인(V)을 우측으로 쉬프트시키는 것에 의해서 우측 비대칭부의 수평 길이는 점진적으로 증가하게 된다.
단계 ST108에서, 실제 오버레이 마크(M)의 정보를 획득한다. 도 8을 참조하면, 실제 오버레이 마크(M)는 실제 비대칭부(A)를 갖는다. 실제 비대칭부(A)는 실제 오버레이 마크(M)의 좌측면에 형성된다. 도 9를 참조하면, 2개의 실제 오버레이 마크(M)들을 중첩시키면, 실제 비대칭부(A)에 의해서 실제 오버레이 마크(M)의 중심점은 원래의 중심점보다 약간 좌측으로 이동된다. 실제 오버레이 마크(M)의 오버레이를 계측한다. 따라서, 실제 오버레이 마크(M)의 정보는 계측된 오버레이, 실제 오버레이, 및 실제 비대칭부(A)의 수평 길이 등을 포함한다. 실제 오버레이는 실제 비대칭부(A)가 없는 경우에 측정된 오버레이이다.
단계 ST110에서, 실제 오버레이 마크(M)의 실제 비대칭부(A)를 검출한다. 즉, 실제 비대칭부(A)가 실제 오버레이 마크(M)에 존재하는지 여부를 파악한다. 실제 오버레이 마크(M)의 실제 프로파일을 증폭시킨다. 본 실시예에서, 실제 오버레 마크(M)의 실제 프로파일에 정수(N)들을 제곱한다. 도 10을 참조하면, 정수가 증가함에 따라 팩터(factor)가 변화됨을 알 수 있다. 팩터는 계측된 오버레이와 실제 오버레이 사이의 차이를 실제 비대칭부(A)의 길이로 나눈 값이다. 이러한 팩터는 실제 오버레이 마크(M)의 중심점 프로파일을 나타낸다. 실제 오버레이 마크(M)가 실제 비대칭부(A)를 갖고 있지 않다면, 도 10의 수평 직선과 같이 팩터는 거의 변화되지 않는다. 반면에, 실제 오버레이 마크(M)가 실제 비대칭부(A)를 갖고 있으면, 도 10의 곡선과 같이 정수(N)가 증가함에 따라 팩터도 변화된다. 즉, 실제 비대칭부(A)를 갖는 실제 오버레이 마크(M)의 중심점 프로파일은 변화된다. 이러한 팩터 변화를 근거로 실제 오버레이 마크(M)가 실제 비대칭부(A)를 갖고 있는지 여부를 정확하게 파악할 수 있다.
단계 ST112에서, 실제 오버레이 마크(M)의 정보를 가상 오버레이 마크들의 정보들과 비교한다. 전술한 바와 같이, 가상 오버레이 마크들은 실제 오버레이 마크(M)에 형성될 수 있는 여러 가지 가상 비대칭부들을 갖고 있다. 따라서, 가상 오버레이 마크들의 정보에는 실제 비대칭부(A)를 갖는 실제 오버레이 마크(M)의 정보도 포함하고 있다. 따라서, 도 11에 도시된 바와 같이, 가상 오버레이 마크들의 정보 중에서 실제 오버레이 마크(M)의 정보와 거의 일치하는 정보를 파악한다. 일치된 정보가 실제 오버레이 마크(M)가 갖는 비대칭부(A)에 대한 정보에 해당된다. 따라서, 일치된 정보는 비대칭부(A)의 수평 길이, 위치, 및 실제 오버레이 마크(M)의 중심점을 포함한다.
단계 ST114에서, 일치된 정보를 이용해서 실제 오버레이 마크(M)의 오버레이를 계측한다. 오버레이 계측에는 실제 비대칭부(A)가 배제된다. 따라서, 실제 오버레이 마크(M)의 실제 중심점을 기준으로 오버레이가 계측된다. 도 12를 참조하면, 실제 오버레이 마크(M)로부터 실제 비대칭부(A)가 배제되었으므로, 실제 오버레이 마크(M)의 중심점은 거의 변화되지 않는다. 따라서, 계측된 오버레이의 신뢰성이 크게 개선될 수 있다.
본 실시예에서, 가상 비대칭부들을 갖는 가상 오버레이 마크들에 대한 정보들은 실제 오버레이 마크들 사이의 피치에 의존한다. 가상 비대칭부들은 상기 피치 내에 위치한다. 따라서, 도 13에 도시된 바와 같이, 실제 오버레이 마크들 사이의 피치가 좁으면, 가상 비대칭부들의 수가 줄어들게 된다. 결과적으로, 가상 비대칭부에 대한 정보가 줄어들게 되어, 실제 오버레이 마크의 실제 비대칭부와 매칭되는 정보를 획득하는 것도 어려워진다.
이를 해결하기 위해서, 도 14에 도시된 바와 같이, 도 13의 도메인을 팽창시킨다. 그러면, 팽창된 도메인으로부터 상대적으로 많은 가상 비대칭부들의 정보를 획득할 수 있다.
상술한 바와 같이 본 실시예들에 따르면, 실제 오버레이 마크의 비대칭부의 크기 및 위치를 정확하게 검출할 수 있다. 따라서, 실제 오버레이 마크의 오버레이 계측은 비대칭부를 실제 오버레이 마크로부터 배제한 상태에서 수행되므로, 정확한 오버레이를 계측할 수 있다. 결과적으로, 이러한 정확한 오버레이를 이용하는 보정 공정에서도 오류가 발생되지 않는다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만 해당 기술 분야의 숙련된 당업자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
M ; 실제 오버레이 마크 A ; 실제 비대칭부
R ; 기준 모델 프로파일 V ; 가상 비대칭 라인

Claims (10)

  1. 기준 오버레이 마크의 기준 모델 프로파일(model profile)을 기준으로 서로 다른 크기들을 갖는 복수개의 가상 비대칭부들을 갖는 복수개의 가상 오버레이 마크들을 형성하는 단계;
    상기 가상 오버레이 마크들 각각의 정보를 획득하는 단계; 및
    상기 가상 오버레이 마크들의 정보들 중에서 실제 오버레이 마크의 정보와 일치하는 정보를 확인하기 위해 상기 가상 오버레이 마크들의 정보를 상기 실제 오버레이 마크의 정보와 비교하는 단계를 포함하고,
    상기 가상 오버레이 마크들을 형성하는 단계는
    상기 기준 모델 프로파일의 제 1 측면 하단으로부터 이격된 제 1 위치로부터 상기 기준 모델 프로파일의 상부면을 지나 상기 제 1 측면과 반대되는 상기 기준 모델 프로파일의 제 2 측면을 따라 가상 비대칭 라인을 형성하는 단계; 및
    상기 가상 비대칭 라인을 상기 제 2 측면의 하단으로부터 이격된 제 2 위치까지 쉬프트시키는 단계를 포함하는 오버레이 마크의 비대칭부 검출 방법.
  2. 삭제
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 측면의 하단으로부터 상기 제 1 위치까지의 거리는 상기 제 2 측면의 하단으로부터 상기 제 2 위치까지의 거리와 동일한 오버레이 마크의 비대칭부 검출 방법.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 가상 비대칭 라인을 쉬프트시키는 단계는 상기 가상 비대칭 라인을 일정 간격씩 쉬프트시키는 단계를 포함하는 오버레이 마크의 비대칭부 검출 방법.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 실제 오버레이 마크에 실제 비대칭부가 존재하는지 여부를 파악하는 단계를 더 포함하는 오버레이 마크의 비대칭부 검출 방법.
  6. 제 5 항에 있어서, 상기 실제 비대칭부를 파악하는 단계는
    상기 실제 오버레이 마크의 실제 모델 프로파일에 정수들을 제곱하는 단계; 및
    상기 정수들을 제곱한 실제 모델 프로파일의 중심점이 변화되는지 여부를 확인하는 단계를 포함하는 오버레이 마크의 비대칭부 검출 방법.
  7. 제 1 항에 있어서, 상기 가상 비대칭부들의 정보들은 상기 가상 비대칭부들 각각의 크기 및 위치를 포함하는 오버레이 마크의 비대칭부 검출 방법.
  8. 기준 오버레이 마크의 기준 모델 프로파일(model profile)을 기준으로 서로 다른 크기들을 갖는 복수개의 가상 비대칭부들을 갖는 복수개의 가상 오버레이 마크들을 형성하는 단계;
    상기 가상 오버레이 마크들 각각의 정보를 획득하는 단계;
    상기 가상 오버레이 마크들의 정보들 중에서 실제 오버레이 마크의 정보와 일치하는 정보를 확인하기 위해 상기 가상 오버레이 마크들의 정보를 상기 실제 오버레이 마크의 정보와 비교하는 단계; 및
    상기 일치된 정보를 이용해서 상기 실제 오버레이 마크의 오버레이를 계측하는 단계를 포함하고,
    상기 실제 오버레이 마크의 오버레이를 계측하는 단계는 상기 실제 오버레이 마크가 갖는 실제 비대칭부를 배제시키는 단계를 포함하는 오버레이 계측 방법.
  9. 삭제
  10. 제 8 항에 있어서, 상기 가상 비대칭부들의 정보들은 상기 가상 비대칭부들 각각의 크기 및 위치, 및 상기 가상 오버레이 마크들 각각의 중심점을 포함하는 오버레이 계측 방법.
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