KR102220078B1

KR102220078B1 - 통계 데이터 데시메이션을 위한 통계의 계산

Info

Publication number: KR102220078B1
Application number: KR1020130156796A
Authority: KR
Inventors: 앤드류 에스. 퐁; 주니어 존 씨. 발코어
Original assignee: 램 리써치 코포레이션
Priority date: 2012-12-14
Filing date: 2013-12-16
Publication date: 2021-02-25
Also published as: KR20140077866A; CN103869769A; CN103869769B

Abstract

통계 테이터 데시메이션을 위한 시스템들 및 방법들이 설명된다. 방법은, 무선 주파수 (RF) 시스템으로부터 변수를 수신하는 단계, RF 시스템의 모델을 통해 변수를 전파하는 단계, 및 카운트를 생성하기 위해 변수에 대한 모델의 출력을 카운팅하는 단계를 포함한다. 방법은, 카운트가 카운트 임계치를 충족시키는지를 결정하는 단계, 카운트가 카운트 임계치를 충족시킨다고 결정할 시에 모델의 출력에서 변수의 통계값을 생성하는 단계, 및 변수를 조정하기 위해 통계값을 RF 시스템에 전송하는 단계를 더 포함한다.

Description

통계 데이터 데시메이션을 위한 통계의 계산{COMPUTATION OF STATISTICS FOR STATISTICAL DATA DECIMATION}

본 발명의 실시형태들은, 플라즈마 시스템에서 통계 데이터 결정 및 통계값의 사용을 수행하는 것에 관한 것이다.

플라즈마 시스템에서, 무선 주파수 (RF) 신호는 생성기에 의해 생성된다. 신호는 플라즈마 반응기 내에서 플라즈마를 생성하기 위해 플라즈마 반응기에 전달된다. 플라즈마 반응기에서 생성된 플라즈마는 다양한 애플리케이션들, 예를 들어, 웨이퍼 세정, 웨이퍼 상의 재료들을 증착, 웨이퍼를 에칭 등을 위해 사용된다.

애플리케이션들을 제어하기 위해 플라즈마의 속성들을 제어하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 에칭 레이트를 달성하기 위해 플라즈마 균일도를 제어하는 것이 바람직하다. 다른 예로서, 증착 레이트를 달성하기 위해 플라즈마의 전력을 제어하는 것이 바람직하다.

속성을 제어하기 위해, 속성은 플라즈마 시스템 내의 센서를 사용하여 측정된다.

이러한 맥락에서, 본 발명에 설명된 실시형태들이 등장한다.

본 발명의 실시형태들은, 플라즈마 시스템 내의 모델과 연관된 데이터의 양을 감소시키기 위해 통계값을 생성하기 위한 장치, 방법들 및 컴퓨터 프로그램들을 제공한다. 본 발명의 실시형태들이 다수의 방식들, 예를 들어, 프로세스, 장치, 시스템, 디바이스, 또는 컴퓨터-판독가능 매체 상의 방법으로 구현될 수 있음을 인식해야 한다. 수 개의 실시형태들이 후술된다.

몇몇 실시형태들에서, 통계값은 플라즈마 챔버를 제어하거나 RF 신호를 생성하기 위해 사용된다. 예를 들어, 플라즈마 챔버를 제어하기 위해 컴퓨터-생성된 모델의 출력에서 변수의 모든 값들을 분석하는 것 대신에, 통계값이 그 값들로부터 생성되며, 통계값이 미리-결정된 범위 내에 있는지를 결정한다. 통계값이 미리-결정된 범위 내에 있다고 결정할 시에, 플라즈마 챔버는 제어되지 않으며, 예를 들어, 플라즈마 챔버로 공급되는 RF 신호는 변경되지 않고, 기타 등등이 행해진다. 한편, 통계값이 미리-결정된 범위 외부에 있다고 결정할 시에, 플라즈마 챔버는 통계값을 사용하여 제어되지 않으며, 예를 들어, 플라즈마 챔버로 공급된 RF 신호는 통계값에 기초하여 생성되고, 기타 등등이 행해진다.

다양한 실시형태들에서, 방법은, 무선 주파수 (RF) 시스템으로부터 변수를 수신하는 단계, RF 시스템의 모델을 통해 변수를 전파하는 단계, 및 카운트를 생성하기 위해 변수에 대한 모델의 출력을 카운팅하는 단계를 포함한다. 방법은 카운트가 카운트 임계치를 충족시키는지를 결정하는 단계, 카운트가 카운트 임계치를 충족시키는지를 결정할 시에 모델의 출력에서 변수의 통계값을 생성하는 단계, 및 변수를 조정하기 위해 RF 시스템에 통계값을 전송하는 단계를 더 포함한다.

다양한 실시형태들에서, 방법은 무선 주파수 (RF) 생성기로부터 변수와 연관된 데이터를 수신하는 단계를 포함한다. RF 생성기는, 임피던스 매칭 회로를 통해 플라즈마 챔버로 공급될 RF 신호를 생성하기 위해 구성된다. 변수는, RF 생성기, 임피던스 매칭 회로, 및 플라즈마 챔버를 포함하는 RF 시스템과 연관된다. 방법은, 수신 데이터에 기초하여 컴퓨터-생성된 모델의 출력에서 값들을 생성하는 단계, 컴퓨터-생성된 모델로부터 출력된 값들의 양을 카운팅하는 단계, 양이 카운트 임계치를 초과하는지를 결정하는 단계, 양이 카운트 임계치를 초과한다고 결정하는 것에 응답하여 컴퓨터-생성된 모델로부터 출력된 값으로부터 통계값을 생성하는 단계, 및 RF 생성기에 의해 생성된 RF 신호를 조정하기 위해 RF 생성기에 통계값을 전송하는 단계를 더 포함한다.

몇몇 실시형태들에서, 방법은, 무선 주파수 (RF) 생성기로부터 변수와 연관된 데이터를 수신하는 단계를 포함한다. RF 생성기는, 임피던스 매칭 회로를 통해 플라즈마 챔버로 공급될 RF 신호를 생성하기 위하여 사용된다. 변수는, RF 생성기, 임피던스 매칭 회로, 및 플라즈마 챔버를 포함하는 RF 시스템과 연관된다. 방법은, 수신 데이터에 기초하여 컴퓨터-생성된 모델의 출력에서 값들을 생성하는 단계, 컴퓨터-생성된 모델로부터 출력된 값들의 양을 카운팅하는 단계, 양이 카운트 임계치를 초과하는지를 결정하는 단계, 양이 카운트 임계치를 초과한다고 결정하는 것에 응답하여 컴퓨터-생성된 모델로부터 출력된 값들로부터 통계값을 생성하는 단계, 통계값이 미리-결정된 범위 외부에 있는지를 결정하는 단계, 통계값이 미리-결정된 범위 외부에 있다고 결정하는 것에 응답하여 밀-결정된 범위 내에 있도록 통계값을 조정하는 단계, 및 RF 생성기에 의해 생성된 RF 신호를 조정하기 위해 RF 생성기를 제어하도록 RF 생성기에 조정된 통계값을 전송하는 단계를 포함한다.

다수의 실시형태들에서, 방법은 무선 주파수 (RF) 생성기로부터의 변수와 연관된 데이터를 수신하는 단계를 포함한다. RF 생성기는 임피던스 매칭 회로를 통해 플라즈마 챔버로 공급될 RF 신호를 생성하기 위해 사용된다. 변수는 RF 생성기, 임피던스 매칭 회로, 및 플라즈마 챔버를 포함하는 RF 시스템과 연관된다. 방법은, 수신 데이터에 기초하여 컴퓨터-생성된 모델의 출력에서 값들을 생성하는 단계, 컴퓨터-생성된 모델로부터 출력된 값들의 양을 카운팅하는 단계, 양이 카운트 임계치를 초과하는지를 결정하는 단계, 및 양이 카운트 임계치를 초과한다고 결정하는 것에 응답하여 컴퓨터-생성된 모델로부터 출력된 값들로부터 통계값을 생성하는 단계를 더 포함한다. 방법은, 통계값이 미리-결정된 범위 외부에 있는지를 결정하는 단계, 통계값이 미리-결정된 범위 외부에 있다고 결정하는 것에 응답하여 실패 (fault) 의 표시를 생성하는 단계, 및 실패 표시를 RF 생성기에 전송하는 단계를 포함한다.

본 발명에 설명된 하나 이상의 실시형태들의 몇몇 이점들은, 플라즈마 챔버를 제어하기 위해 컴퓨터-생성된 모델의 출력에서 변수의 모든 값들 대신 통계값의 사용을 포함한다. 예를 들어, 값들이 미리-결정됨 범위 내에 있는지를 결정하는 것 대신에, 통계값이 미리-결정된 범위 내에 있는지가 결정된다. 통계값이 미리-결정된 범위 내에 있다고 결정할 시에, 플라즈마 챔버를 추가적으로 제어하기 위해 변화가 행해지지 않는다. 한편, 통계값이 미리-결정된 범위 외부에 있다고 결정할 시에, 변경된 통계값을 달성하기 위해 플라즈마 챔버를 제어하도록 통계값에 대한 변화가 행해진다.

컴퓨터-생성된 모델의 출력에서 모든 값들 대신에 통계값의 사용은, 값들을 프로세싱하는 것과 연관된 프로세싱 비욜들을 절약한다. 예를 들어, 다수의 서버들, 예를 들어, 서버 팜 (farm) 등을 사용하는 것 대신에, 통계값을 생성하고 그 값들에 기초하여 플라즈마 챔버를 제어하도록 값들을 프로세싱하기 위해, 다수의 프로세서들, 예를 들어, 하나, 2개 등은, 통계값을 생성하고 통계값에 기초하여 플라즈마 챔버를 제어하는데 충분하다.

본 발명에 설명된 하나 이상의 실시형태들의 다른 이점들은, 변수의 통계값을 생성한 이후 수신되는 데이터를 데시메이팅 (decimate) 하는 것을 포함한다. 데이터의 데시메이션은, 호스트 제어기의 저장 디바이스 내에 비워진 위치들을 생성한다. 비워진 위치들은 플라즈마 시스템과 연관된 변수에 관한 더 많은 데이터를 수신하는데 사용된다.

다른 양태들이 첨부한 도면들과 함께 취해진 다음의 상세한 설명으로부터 명백해질 것이다.

실시형태들은, 첨부한 도면들과 함께 취해진 다음의 설명을 참조하여 최상으로 이해될 수도 있다.

도 1은 본 발명에 설명된 실시형태에 따른, 변수의 통계값을 생성하기 위한 플라즈마 시스템의 블록도이다.
도 2는 본 발명에 설명된 실시형태에 따른, 변수의 통계값을 생성하기 위한 다른 플라즈마 시스템의 다이어그램이다.
도 3은 본 발명에 설명된 실시형태에 따른, 도 1 또는 도 2의 플라즈마 시스템의 호스트 시스템의 다이어그램이다.
도 4는 본 발명에 설명된 일 실시형태에 따른, 도 1 또는 도 2의 플라즈마 시스템의 다른 호스트 시스템의 다이어그램이다.
도 5는 본 발명에 설명된 일 실시형태에 따른, 메모리 위치에 액세스하기 위한 포인터들의 사용을 예시하기 위한 저장 디바이스의 다이어그램이다.
도 6은 본 발명에 설명된 일 실시형태에 따른, 삽입 정렬 (sort) 동작의 다이어그램이다.
도 7은 본 발명에 설명된 일 실시형태에 따른, 병합 정렬 동작을 예시하기 위한 메모리 어레이들의 다이어그램이다.
도 8은 본 발명에 설명된 일 실시형태에 따른, 병합 정렬 동작 내의 비교 동작을 예시하기 위한 저장 디바이스의 다이어그램이다.
도 9는 본 발명에 설명된 일 실시형태에 따른, 도 1 또는 도 2의 플라즈마 시스템의 통계 결정 (DS) 모듈의 다이어그램이다.
도 10은 본 발명에 설명된 일 실시형태에 따른, 도 1 또는 도 2의 플라즈마 시스템의 SD 모듈의 다이어그램이다.
도 11은 본 발명에 설명된 일 실시형태에 따른, 플라즈마 시스템에서 바이어스를 보상하고 및/또는 실패를 검출하기 위한 시간 슬라이스 샘플링 방법의 일 실시형태의 다이어그램이다.
도 12는 본 발명에 설명된 일 실시형태에 따른, 이동 분산을 생성하는데 사용되는 SD 모듈의 블록도이다.
도 13은 본 발명에 설명된 일 실시형태에 따른 통계값을 생성하기 위한 방법의 흐름도이다.

다음의 실시형태들은 통계 데이터 데시메이션을 수행하기 위한 시스템들 및 방법들을 설명한다. 본 발명의 실시형태들이 이들 특정한 세부사항들 중 몇몇 또는 전부 없이도 실시될 수도 있다. 다른 예시들에서, 잘 알려진 프로세스 동작들은 본 발명의 실시형태들을 불필요하게 불명료하게 하지 않기 위해 상세히 설명되지 않는다.

도 1은 변수의 통계값을 생성하기 위한 플라즈마 시스템 (100) 의 일 실시형태의 블록도이다. 플라즈마 시스템 (100) 은 호스트 시스템 (140), x메가헤르츠 (MHz) 무선 주파수 (RF) 생성기, y MHz RF 생성기, 및 z MHz RF 생성기를 포함한다. 각각의 RF 생성기는 제어기를 포함한다. 예를 들어, x MHz RF 생성기는 x 제어기를 포함하고, y MHz RF 생성기는 y 제어기를 포함하며, z MHz RF 생성기는 z 제어기를 포함한다. x MHz, y MHz, 또는 z MHz의 예들은 2MHz, 27MHz, 및 60MHz 를 포함한다. 몇몇 실시형태들에서, xMHz는 2MHz이고, yMHz는 27MHz이며, zMHz는 60MHz이다. 또한, 호스트 시스템 (140) 은 호스트 제어기 (150) 를 포함한다.

몇몇 실시형태들에서, 제어기는 프로세서 및 저장 디바이스를 포함한다. 수 개의 실시형태들에서, 프로세서는 중앙 프로세싱 유닛 (CPU), 또는 마이크로프로세서, 또는 주문형 집적회로 (ASIC), 또는 프로그래밍가능 로직 디바이스 (PLD) 등이다. 저장 디바이스의 예들은 판독-전용 메모리 (ROM), 랜덤 액세스 메모리 (RAM), 또는 이들의 조합을 포함한다. 다양한 실시형태들에서, 저장 디바이스는 플래시 메모리, 또는 저장 디스크들의 리던던트한 어레이 (RAID), 또는 하드 디스크 등이다.

x 제어기는, 시리얼 접속, 또는 병렬 접속, 또는 병렬 시리얼 병렬 인터페이스 (PSPI) 를 포함하는 케이블 (144) 을 통해 호스트 시스템 (140) 에 커플링된다. 유사하게, y MHz RF 생성기는 케이블을 통해 호스트 시스템에 커플링되고, z MHz RF 생성기는 케이블을 통해 호스트 시스템 (140) 에 커플링된다. RF 생성기를 호스트 시스템 (140) 에 커플링시키는 각각의 케이블은, 시리얼 접속, 또는 병렬 접속, 또는 병렬 시리얼 병렬 인터페이스 (PSPI) 를 포함한다.

플라즈마 시스템 (100) 은 임피던스 매칭 회로 (106) 및 플라즈마 챔버 (111) 를 더 포함한다. 임피던스 매칭 회로 (106) 는 RF 송신 라인 (132) 을 통해 플라즈마 챔버 (111) 에 접속된다. 몇몇 실시형태들에서, RF 송신 라인 (132) 의 일부는, RF 터널에 의해 둘러싸인 절연체에 의해 둘러싸인 RF 케이블을 포함하고, 척 (152) 으로 유도되는 RF 송신 라인 (132) 의 다른 부분은 RF 실린더에 의해 둘러싸인다.

임피던스 매칭 회로는, 임피던스 매칭 회로에 접속된 로드의 임피던스를 임피던스 매칭 회로에 접속된 소스의 임피던스와 매칭시킨다. 소스는, RF 에너지를 소비하는 로드에 RF 에너지를 제공한다. 소스의 예들은 x, y, 및 z RF 생성기들 중 하나 이상, 및 RF 생성기들을 임피던스 매칭 회로 (106) 에 커플링시키는 RF 케이블들 중 하나 이상을 포함한다. 몇몇 실시형태들에서, 소스는, 임피던스 매칭 회로 (106) 와 x, y, 및 z MHz RF 생성기들 중 하나 이상 사이에 커플링된 플라즈마 시스템 (100) 의 다른 디바이스들 (미도시), 예를 들어, RF 케이블을 통해 공급된 RF 신호를 필터링하는데 사용되는 필터 등을 포함한다. 로드의 예들은 플라즈마 챔버 (111) 및 RF 송신 라인 (132) 을 포함한다. 로드의 다른 예들은 다른 디바이스들 (미도시), 예를 들어, 임피던스 매칭 회로 (106) 와 플라즈마 챔버 (111) 사이에 커플링된 플라즈마 시스템 (100) 의 RF 송신 라인 (132) 을 통해 공급된 RF 신호를 필터링하기 위한 필터 등을 포함한다.

플라즈마 챔버 (111) 는 RF 송신 라인 (132) 에 접속된 척 (152), 예를 들어, 정전척 (ESC), 자기 척 등을 포함한다. 플라즈마 챔버 (111) 는 척 (152) 에 대면하는 상부 전극 (154) 을 더 포함한다. 예를 들어, 상부 전극 (154) 의 하부 표면 (156) 은 척 (152) 의 상부 표면 (158) 에 걸쳐 위치되고 그 표면에 대면한다. 다양한 실시형태들에서, 상부 전극 (154) 은 접지된다. 척 (152) 은, 금속, 예를 들어, 애노드화된 알루미늄, 알루미늄의 합금 등으로 제작된 하부 전극을 포함한다. 또한, 상부 전극 (154) 은 금속, 예를 들어, 알루미늄, 알루미늄의 합금 등으로 제작된다.

워크피스 (160), 예를 들어, 반도체 웨이퍼, 집적 회로가 전개되는 반도체 웨이퍼 등은, 워크피스 (160) 의 프로세싱을 위해 상부 표면 (158) 상에 배치된다. 워크피스 (160) 를 프로세싱하는 예들은 워크피스 (160) 를 세정하는 것, 또는 워크피스 (160) 를 에칭하는 것, 또는 워크 피스 (160) 상에 막들, 예를 들어, 산화물 막들 등을 증착하는 것, 또는 이들의 조합 등을 포함한다. 워크피스 (160) 상에 전개된 집적 회로는, 예를 들어, 셀 전화기들, 태블릿들, 스마트폰들, 컴퓨터들, 랩탑들, 네트워킹 장비 등과 같은 다양한 컴퓨팅 디바이스들에서 사용된다.

몇몇 실시형태들에서, 플라즈마 챔버 (111) 는 다른 컴포넌트들 (미도시), 예를 들어, 상부 전극 (154) 을 둘러싸는 상부 유전체 링, 상부 유전체 링을 둘러싸는 상부 전극 확장부, 척 (152) 을 둘러싸는 하부 유전체 링, 척 (152) 을 둘러싸는 하부 전극 확장부, 상부 플라즈마 배제 구역 (PEZ) 링, 하부 PEZ 링 등을 포함한다.

다양한 실시형태들에서, 상부 전극 (154) 은 중앙 가스 피드, 예를 들어, 가스 공급 라인 (미도시) 등에 커플링된 하나 이상의 홀들을 포함한다. 중앙 가스 피드는 가스 소스 (미도시) 로부터 하나 이상의 프로세스 가스들을 수신한다. 프로세스 가스들의 예들은 O₂와 같은 산소-함유 가스를 포함한다. 프로세스 가스의 다른 예들은 플루오르-함유 가스, 예를 들어, 테트라플루오르메탄 (CF₄), 술퍼 헥사플루오라이드 (SF₆), 헥사플루오르에탄 (C₂F₆) 등을 포함한다. 상부 전극 (154) 은 접지된다. 하부 전극 (152) 은 임피던스 매칭 회로 (106) 를 통해 x MHz RF 생성기에, 임피던스 매칭 회로 (106) 를 통해 y MHz RF 생성기에, 및 임피던스 매칭 회로 (106) 를 통해 z MHz RF 생성기에 커플링된다.

프로세스 가스가 상부 전극 (154) 과 척 (152) 사이에 공급된 경우, 및 x, y, 및 z MHz RF 생성기들 중 하나 이상이 임피던스 매칭 회로 (106) 를 통해 척 (152) 에 하나 이상의 RF 신호 전력을 공급하는 경우, 프로세스 가스는 플라즈마 챔버 (111) 내에서 플라즈마를 생성하도록 점화된다. 예를 들어, x MHz 생성기는 RF 신호 (104) 를 RF 케이블 (130) 을 통해 임피던스 매칭 회로 (106) 에 공급한다. 임피던스 매칭 회로 (106) 는, 변경된 RF 신호를 생성하기 위해 x, y, 및 z RF 생성기들 중 대응하는 하나로부터 수신된 하나 이상의 RF 신호들을 변경시키고, 척 (152) 과 상부 전극 (154) 사이의 갭 내에서 플라즈마를 생성하기 위해 프로세스 가스를 점화시키도록 RF 송신 라인 (132) 을 통해 변경된 RF 신호를 제공한다. 다른 예로서, y MHz RF 생성기는, RF 신호를 변경시키는 임피던스 매칭 회로 (106) 에 y MHz RF 생성기를 커플링시키는 RF 케이블을 통하여 RF 신호를 공급한다. 이러한 예에서, 변경된 RF 신호는, 플라즈마를 생성하기 위해 임피던스 매칭 회로 (106) 및 RF 송신 라인 (132) 을 통해 척 (152) 으로 추가적으로 전송된다.

플라즈마를 생성하기 위한 플라즈마 시스템 (100) 의 동작 동안, 각각의 RF 제어기는, 플라즈마 시스템 (100) 내의 포인트에 커플링된 센서 (미도시) 로부터 변수의 데이터의 양을 수신한다. 예를 들어, x 제어기는 RF 케이블 (130) 에 접속된 전압 및 전류 프로브로부터 변수의 값들을 수신한다. 다른 예로서, y 제어기는, y MHz RF 생성기를 임피던스 매칭 회로 (106) 에 접속시키는 RF 케이블에 접속된 전압 및 전류 프로브로부터 변수의 값들을 수신한다. 다른 예로서, y 제어기는 RF 송신 라인 (132) 에 접속된 전압 프로브로부터변수의 값들을 수신한다. 또 다른 예로서, z 제어기는, 플라즈마 챔버 내의 윈도우를 통해 플라즈마에 광학적으로 커플링된 광학 센서의 값들을 수신한다.

변수의 예들은, 플라즈마 시스템 (100) 의 일 포인트에서의 RF 신호의 전력, 또는 플라즈마의 전력, 또는 RF 신호의 주파수, 또는 로드 임피던스의 실수부, 또는 로드 임피던스의 허수부, 또는 그 포인트에서의 전압 크기, 또는 그 포인트에서의 전류 크기, 또는 그 포인트에서의 복소 전압과 복소 전류 사이의 위상, 또는 그 포인트에서의 웨이퍼 바이어스, 또는 그 포인트에서의 이온 에너지, 또는 그 포인트에서의 플라즈마 전위, 또는 그 포인트에서의 복소 전류, 또는 그 포인트에서의 복소 전압, 또는 그 포인트에서의 로드 임피던스, 또는 이들의 조합을 포함한다.

로드 임피던스의 예들은 플라즈마 시스템 (100) 의 하나 이상의 컴포넌트들의 임피던스를 포함한다. 예를 들어, 로드 임피던스는 플라즈마 시스템 (100) 내의 포인트에서의 임피던스이다. 다른 예로서, 로드 임피던스는 RF 케이블 (130), 임피던스 매칭 회로 (106) 에 y MHz RF 생성기를 커플링시키는 RF 케이블, 임피던스 매칭 회로 (106) 에 z MHz RF 생성기를 커플링시키는 RF 케이블, 임피던스 매칭 회로 (106), RF 송신 라인 (132), 및 플라즈마 챔버 (111) 중 하나 이상의 임피던스이다.

몇몇 실시형태들에서, 플라즈마 시스템 (100) 내의 포인트는, x MHz RF 생성기의 출력에서의 일 포인트, y MHz RF 생성기의 출력에서의 포인트, 또는 z MHz RF 생성기의 출력에서의 일 포인트, 또는 RF 케이블 (130) 상의 포인트, 또는 임피던스 매칭 회로 (106) 에 y MHz RF 생성기를 커플링시키는 RF 케이블 상의 일 포인트, 또는 임피던스 매칭 회로 (106) 에 z MHz RF 생성기를 커플링시키는 RF 케이블 상의 일 포인트, 또는 임피던스 매칭 회로 (106) 의 입력에서의 일 포인트, 또는 임피던스 매칭 회로 (106) 의 출력에서의 일 포인트, 또는 RF 송신 라인 (132) 에서의 일 포인트, 또는 척 (152) 에서의 일 포인트를 포함한다.

다양한 실시형태들에서, x MHz RF 생성기의 출력은 임피던스 매칭 회로 (106) 의 입력에 RF 케이블 (130) 을 통해 커플링되고, y MHz RF 생성기의 출력은 임피던스 매칭 회로 (106) 의 입력에 RF 케이블을 통해 커플링되며, z MHz RF 생성기의 출력은 임피던스 매칭 회로 (106) 의 입력에 RF 케이블을 통해 커플링된다. 수 개의 실시형태들에서, 임피던스 매칭 회로 (106) 의 출력은 RF 송신 라인 (132) 을 통해 척 (152) 에 커플링된다.

호스트 제어기 (150) 는 하나 이상의 컴포넌트들, 예를 들어, 변수 요청기 (170), 변수 수신기 (110), 모델 (113), 모델값 생성기 (115), 데이터 양 계산기 (112), 제한 크로스오버 결정 모듈 (114), 통계 데이터 데시메이션 (SDD) 모듈 (172), 스위치 모듈 (180), RF 제어 블록 (197), 및 전송기 (174) 를 포함한다. SDD 모듈 (172) 은 통계 결정 (SD) 모듈 (116) 및 데이터 삭제 모듈 (120) 을 포함한다.

몇몇 실시형태들에서, 여기에 설명된 바와 같이, 호스트 제어기의 하나 이상의 컴포넌트들은, 예를 들어, 저장 디바이스 등과 같은 비-일시적인 컴퓨터-판독가능 매체 상의 컴퓨터 프로그램으로서 구현된다. 다양한 실시형태들에서, 호스트 제어기의 하나 이상의 컴포넌트들은 하드웨어, 예를 들어, 주문형 집적 회로 등으로서 구현된다. 예를 들어, 스위칭 모듈 (180) 은 트랜지스터 또는 트랜지스터들의 그룹이다. 수 개의 실시형태들에서, 여기에 설명된 바와 같이, 호스트 제어기의 하나 이상의 컴포넌트들은 하드웨어 및 컴퓨터 프로그램의 조합으로서 구현된다.

변수 요청기 (170) 는 x 제어기로부터 변수의 데이터를 케이블 (144) 의 통신 채널을 통해 요청한다. 몇몇 실시형태들에서, 변수 요청기 (170) 는, x 제어기가 변수의 데이터를 변수 수신기 (110) 에 전송하게 하도록 x 제어기에 변수 수신기 (110) 의 어드레스, 예를 들어, 포트 어드레스 등을 전송한다.

다수의 실시형태들에서, 호스트 제어기 (150) 는 변수 요청기 (170) 를 배제하고, x 제어기는 변수 수신기 (110) 에 변수의 데이터를 주기적으로 전송한다. 요청을 수신할 시에, x 제어기는 변수 수신기 (110) 에 케이블 (144) 의 통신 채널 (102) 을 통해 변수의 데이터를 전송한다.

몇몇 실시형태들에서, 변수 요청기 (170) 및 변수 수신기 (110) 는 하나의 컴포넌트로서 구현된다.

유사하게, 수 개의 실시형태들에서, 변수 수신기 (110) 는 x 제어기, y 제어기, 및 z 제어기의 조합으로부터 변수의 데이터를 수신한다.

변수 수신기 (110) 는 x, y, 및 z MHz RF 생성기들 중 하나 이상으로부터 변수의 데이터를 수신하고, 데이터를 모델 (113) 에 전송한다. 모델 (113) 의 예들은 RF 케이블 모델, 또는 임피던스 매칭 모델, 또는 RF 송신 모델, 또는 척 모델, 또는 RF 케이블 모델 및 임피던스 매칭 모델의 결합, 또는 RF 케이블 모델 및 임피던스 매칭 모델 및 RF 송신 모델의 결합, 또는 RF 케이블 모델 및 임피던스 매칭 모델 및 RF 송신 모델 및 척 모델의 결합 등을 포함한다.

플라즈마 시스템의 컴포넌트의 모델은 컴포넌트의 컴퓨터-생성된 모델이다. 예를 들어, RF 송신 모델은 RF 송신 라인 (132) (도 1) 의 컴퓨터-생성된 모델이다. 다른 예로서, RF 송신 모델은, RF 송신 라인 (132) 의 전기 컴포넌트들, 예를 들어, 커패시터들, 또는 인덕터들 등을 포함하는 전기 회로를 포함한다. 도시하기 위해, RF 송신 라인 (132) 이 L 헨리의 인덕턴스를 갖는 인덕터, 및 C 패럿의 커패시턴스를 갖는 커패시터를 포함하는 경우, RF 송신 모델은 L 헨리의 인덕턴스를 갖는 인덕터 및 C 패럿의 커패시턴스를 갖는 커패시터를 포함한다. 또한, RF 송신 모델에서, 전기 회로 내의 컴포넌트들은, RF 송신 라인 (132) 의 전기 회로의 전기 컴포넌트들이 접속되는 것과 동일한 방식, 예를 들어, 직렬, 병렬 등으로 접속된다. 예를 들어, 인덕터가 RF 송신 라인 (132) 내의 커패시터와 병렬로 접속된 경우, RF 송신 모델은 인덕터와 병렬인 인덕터 접속기를 포함한다.

유사하게, 임피던스 매칭 모델은, RF 송신 라인 (132) 으로부터 RF 송신 모델을 생성하는 것과 유사한 방식으로 임피던스 매칭 회로 (106) 에 기초하여 생성된다. 또한, RF 케이블 모델은, RF 송신 라인 (132) 으로부터 RF 송신 모델을 생성하는 것과 유사한 방식으로 RF 케이블, 예를 들어, RF 케이블 (130) (도 2) 등에 기초하여 생성된다. 또한, 척 모델은 RF 송신 라인 (132) 으로부터 RF 송신 모델을 생성하는 것과 유사한 방식으로 척 (152) 에 기초하여 생성된다.

몇몇 실시형태들에서, 모델 (113) 은 호스트 제어기의 프로세서에 의해 생성된다.

모델을 생성하는 예들은, 명칭이 "Using Modeling to Determine Wafer Bias Associated with a Plasma System" 이고 2013년 1월 13일자로 출원되었으며, 여기에 그 전체가 참조로서 포함되는 출원 번호 제 13/756,390호에서 제공된다.

모델값 생성기 (115) 는, 변수 수신기 (110) 에 의해 수신된 값들, 및 특징들, 예를 들어, 모델 (113) 의 커패시턴스, 또는 인덕턴스, 또는 임피던스, 또는 복소 전류, 또는 복수 전류 등에 기초하여 모델 (113) 의 출력에서 변수의 값들을 생성한다. 예를 들어, 모델값 생성기 (115) 는, 임피던스 매칭 모델의 출력에서 임피던스 값을 생성하기 위해 RF 케이블 모델 및 임피던스 매칭 모델의 컴포넌트들을 통하여 x 제어기로부터 수신된 임피던스 값을 전파한다. 몇몇 실시형태들에서, x 제어기로부터 수신된 임피던스 값은 x MHz RF 생성기의 출력에서의 임피던스 값이다. 다른 예로서, 모델값 생성기 (115) 는, RF 송신 모델의 출력에서 복소 전압 및 전류값을 생성하기 위하여, RF 케이블 모델, 임피던스 매칭 모델, 및 RF 송신 모델의 컴포넌트들을 통해 y 제어기로부터 수신된 복소 전류 및 전압값을 전파한다. 또 다른 예에서, 모델값 생성기 (115) 는, 척 모델의 출력에서 복소 전압 및 전류를 생성하기 위하여, RF 케이블 모델, 임피던스 매칭 모델, RF 송신 모델, 및 척 모델의 컴포넌트들을 통해 y 제어기로부터 수신된 전력값을 전파한다.

몇몇 실시형태들에서, 변수의 값은, 모델의 컴포넌트의 값 및 특징들, 예를 들어, 임피던스 값, 전력 소비값, 전압값, 전류값 등의 지향 합이 계산되는 경우, 변수의 값이 전파된다. 지향 합의 예는 출원 번호 13/756,390에서 제공된다.

다양한 실시형태들에서, 모델값 생성기 (115) 는 하나 이상의 변수들의 값들로부터 하나의 변수의 값을 생성한다. 예를 들어, 모델값 생성기 (115) 는 출력에서의 복소 전압 및 전류의 전압 크기, 출력에서의 복소 전압 및 전류의 전류 크기, 및 출력에서의 복소 전압 및 전류의 전력 크기로부터 모델 (113) 의 출력에서의 웨이퍼 바이어스의 값을 생성한다. 웨이퍼 바이어스를 생성하는 다른 예들은 출원 번호 13/756,390에서 제공된다. 다른 예로서, 모델값 생성기 (115) 는 출력에서의 웨이퍼 바이어스 및 출력에서의 제로-피크 전압으로부터 모델 (113) 의 출력에서 이온 에너지의 값을 생성한다. 이온 에너지를 생성하는 다른 예들은, 명칭이 "Using Modeling to Determine Ion Energy Associated with a Plasma System" 이고 2013년 3월 15일자로 출원되었으며, 여기에 그 전체가 참조로서 포함되는 출원 번호 제 61/799,969호에서 제공된다.

몇몇 실시형태들에서, x, y, 및 z MHz RF 생성기들 중 하나 이상으로부터 변수 수신기 (110) 에 의해 수신된 각각의 값에 대해, 모델 (113) 의 출력에서의 값이 계산된다.

모델 (113) 의 출력에서의 변수의 데이터는 모델값 생성기 (115) 로부터 데이터 양 계산기 (112) 로 전송된다. 데이터 양 계산기 (112) 는 모델값 생성기 (115) 로부터 수신된 변수의 값들의 수를 카운팅하고, 카운트를 제한 크로스오버 결정 모듈 (114) 에 전송한다.

몇몇 실시형태들에서, 데이터 양 계산기 (112) 는, 변수 수신기 (110) 의 최대 저장 용량을 초과하지 않는 변수값들의 수를 계산한다.

제한 크로스오버 결정 모듈 (114) 은, 데이터 양 계산기 (112) 로부터 수신된 값들의 수가, 제한 크로스오버 결정 모듈 (114) 에 사전-저장된 임계치보다 큰지를 결정한다. 임계치의 예들은 1000개의 값들, 또는 10,000개의 값들, 또는 100,000개의 값들 등을 포함한다. 임계치의 다른 예들은 500-1000개의 값들, 또는 1000-10,000개의 값들, 또는 10,000-100,000개의 값들, 또는 100,000-1,000,000개의 값들, 또는 1,000,000-10,000,000개의 값들을 포함한다.

값들의 수가 임계치보다 크다고 결정할 시에, 신호는, 값들로부터 통계 값의 생성을 시작하기 위해 제한 크로스오버 결정 모듈 (114) 로부터 SD 모듈 (116) 로 전송된다. 한편, 값들의 수가 임계치를 초과하지 않는다고 결정할 시에, 신호는 제한 크로스오버 결정 모듈 (114) 로부터 SD 모듈 (116) 로 전송되지 않고, SD 모듈 (116) 은 값들로부터 통계값의 생성을 시작하지 않는다.

몇몇 실시형태들에서, 임계치는 호스트 제어기 (150) 의 저장 디바이스의 저장 용량에 기초하여 생성된다. 예를 들어, SD 모듈 (116) 이 변수의 n 값들을 각각 저장하는 2개의 버퍼들을 포함한 경우, 임계치는 n 값이다. 2개의 버퍼들 중 제 1 버퍼가 풀인 경우, SD 모듈 (116) 은 제 1 버퍼로부터 2개의 버퍼들 중 하나로 데이터를 카피하고, 데이터의 통계값의 계산을 시작한다. SD 모듈 (16) 은 제 1 버퍼 내의 값들에 기초하여 통계값을 계산한다. 다양한 실시형태들에서, 카피 이후, 제 1 버퍼 내의 데이터는 모델값 생성기 (115) 에 의해 생성된 데이터로 오버라이팅 (overwrite) 된다.

수 개의 실시형태들에서, 데이터 양 계산기 (112) 대신, 비율 계산기가 호스트 제어기 (150) 내에 위치된다. 비율 계산기는 컴퓨터 프로그램, 하드웨어, 또는 이들의 조합으로서 구현된다. 비율 계산기는, 시간 윈도우 내에서 호스트 제어기 (150) 의 프로세서에 의해 프로세싱되는 값들의 수에 대한, 시간 윈도우 내의 모델값 생성기 (115) 로부터 수신된 값들의 수의 비율을 계산한다. 이들 실시형태들에서, 제한 크로스오버 결정 모듈 (114) 은, 제한 크로스오버 결정 모듈 (114) 의 저장 디바이스 내에 사전-저장된 제한보다 계산된 비율이 큰지를 결정한다. 계산된 비율이 제한보다 작다고 결정할 시에, 통계값은 모델값 생성기 (115) 에 의해 생성된 값들로부터 생성되지 않는다. 한편, 계산된 비율이 제한보다 크거나 동일하다고 결정할 시에, 통계값은 모델값 생성기 (115) 에 의해 생성된 값들로부터 생성된다.

몇몇 실시형태들에서, 호스트 제어기 (150) 의 프로세서의 프로세싱 속도 (시간 윈도우 내에서 프로세싱된 값들의 수와 동일함) 는, 수 개의 인자들, 예를 들어, 모델값 생성기 (115) 로부터 수신된 값들로부터 통계값에 액세스 및 계산하는데 걸리는 시간, 또는 압력을 생성하기 위한 신호가 프로세서에 의해 전송된 이후 플라즈마 챔버 (111) 에서 압력을 달성하는데 걸리는 시간, 또는 플라즈마 챔버 (111) 내의 압력의 값들을 감지 및 수신하는데 걸리는 시간, 또는 온도를 생성하기 위한 신호가 프로세서에 의해 전송된 이후 플라즈마 챔버 (111) 에서 온도를 달성하는데 걸리는 시간, 또는 플라즈마 챔버 (111) 내의 온도의 값들을 감지 및 수신하는데 걸리는 시간, 또는 갭을 생성하기 위한 시간이 프로세서에 의해 전송된 이후 플라즈마 챔버 (111) 에서 상부 전극 (154) 과 척 (152) 사이의 갭을 생성하는데 걸리는 시간, 또는 플라즈마 챔버 (111) 내의 갭의 값들을 감지 및 수신하는데 걸리는 시간, 또는 이들의 조합에 기초하여 결정된다. 예를 들어, 호스트 제어기 (150) 의 프로세서는, 압력값이 압력 센서 (미도시) 에 의해 감지되고 프로세서에 의해 수신될 때까지 압력값을 프로세싱하기를 대기한다. 이러한 대기는 프로세서의 프로세싱 속도를 감소시킨다. 다른 예로서, 호스트 제어기 (150) 의 프로세서는, 압력 및 온도를 달성하기 위한 신호가 프로세서에 의해 전송된 이후, 압력 및 온도가 플라즈마 챔버 (111) 내에서 달성될 때까지, 상부 전극 (154) 과 척 (152) 사이의 갭을 변경시키기 위해 신호를 전송하기를 대기한다. 이러한 대기는 프로세서의 프로세싱 속도를 감소시킨다.

SD 모듈 (116) 은, 데이터 양 계산기 (112) 에 의해 모델값 생성기 (115) 로부터 수신된 변수의 데이터의 양이 임계치를 초과한다는 신호를 제한 크로스오버 결정 모듈 (114) 로부터 수신하는 것에 응답하여, 변수의 데이터로부터 통계값을 결정한다. 예를 들어, SD 모듈 (116) 은, 예를 들어, 삽입 정렬 동작, 또는 병합 정렬 동작, 또는 이동 사분범위 (IQR) 계산 동작, 또는 사분범위 계산 동작, 또는 최대값 계산 동작, 또는 최소값 계산 동작, 또는 평균값 계산 동작, 또는 중간값 계산 방법, 또는 분산값 계산 방법, 또는 표준 편차값 계산 방법, 또는 이동 평균값 계산 방법, 또는 이동 중간값 계산 방법, 또는 이동 분산값 계산 방법, 또는 이동 표준 편차값 계산 방법, 또는 모드, 또는 이동 모드, 또는 이들의 조합 등과 같은 통계 동작을 적용하여, 변수의 값들로부터 통계값을 생성한다.

통계값의 생성 이후, SD 모듈 (116) 은 변수 수신기 (110) 를 데이터 삭제 모듈 (120) 과 커플링시키기 위해 스위치 모듈 (180) 을 폐쇄한다. 스위치 모듈 (180) 이 폐쇄된 경우, 데이터 삭제 모듈 (120) 은 데이터 수신기 (110) 의 저장 디바이스 내에 저장된 데이터에 액세스하고, 저장 디바이스 내에 저장된 데이터를 삭제, 예를 들어, 소거, 리셋 등을 행하여, 변수 수신기 (110) 가 x, y, 및 z 제어기들 중 하나 이상으로부터 변수의 부가적인 데이터를 수신 및 저장하게 한다. 이러한 방식으로, 큰 양의 데이터를 저장하기 위해 큰 수의 변수 수신기들을 구현하는 것과 연관된 비용은 감소된다. 변수 수신기 (110) 내에 저장된 변수의 데이터를 삭제함으로써, 변수 수신기 (110) 는 변수의 데이터의 저장을 위해 다수회 사용된다.

몇몇 실시형태들에서, 통계값은 SD 모듈 (116) 에 의해 RF 제어 블록 (197) 으로 제공된다. RF 제어 블록 (197) 은, SD 모듈 (116) 로부터 수신된 변수 또는 다른 변수의 통계값으로부터 변수의 통계값을 결정한다. 예를 들어, RF 제어 블록 (197) 은, SD 모듈 (116) 로부터 수신된 변수의 통계값으로부터 통계값 전력 및/또는 주파수의 통계값을 결정한다. 다른 예로서, RF 제어 블록 (197) 은, SD 모듈 (116) 로부터 수신된 것과 동일하도록 주파수의 통계값을 결정한다. 다른 예로서, RF 제어 블록 (197) 은 모델 (113) 의 출력에서 웨이퍼 바이어스의 통계값을 수신하고, 출력에서의 복소 전압 및 전류의 전압 크기, 출력에서의 복소 전압 및 전류의 전류 크기, 및 출력에서의 복소 전압 및 전류의 전력 크기를 결정한다. 이러한 예에서, 출력에서의 복소 전압 및 전류의 전압 크기, 출력에서의 복소 전압 및 전류의 전류 크기, 및 출력에서의 복소 전압 및 전류의 전력 크기는, 출력에서의 웨이퍼 바이어스의 값을 충족시킨다. 다른 예로서, RF 제어 블록 (197) 은, 모델 (113) 의 출력에서 이온 에너지의 통계값을 수신하고, 출력에서의 웨이퍼 바이어스 값 및 출력에서의 제로-피크 전압값을 결정한다. 이러한 예에서, 웨이퍼 바이어스 값 및 제로-피크 전압은 이온 에너지의 값을 충족시킨다. RF 제어 블록 (197) 은 RF 제어 블록 (197) 에 의해 결정된 변수의 통계값을 전송기 (174) 에 전송한다.

다양한 실시형태들에서, SD 모듈 (116) 은, RF 제어 블록 (197) 에 통계값을 전송하는 것에 부가하거나 그 전송 없이 전송기 (174) 에 변수의 통계값을 전송한다.

전송기 (174) 는, 대응하는 통신 채널들을 통해 RF 제어 블록 (197) 으로부터 및/또는 SD 모듈 (116) 로부터 수신된 변수의 통계값을 x, y, 및 z 제어기들 중 하나 이상으로 전송한다. 예를 들어, 전송기 (174) 는 x 제어기로 통신 채널 (184) 을 통해 변수의 통계값을 전송하고, y 제어기로 통신 채널을 통해 변수의 통계값을 전송하며, z 제어기로 통신 채널을 통해 변수의 통계값을 전송한다. 다른 예로서, 전송기 (174) 는, x 제어기로부터 수신된 변수의 데이터로부터 생성된 변수의 통계값을 통신 채널 (184) 을 통해 x 제어기로 전송한다. 또 다른 예로서, 전송기 (174) 는 y 제어기로부터 수신된 변수의 데이터로부터 생성된 변수의 통계값을, y 제어기에 커플링된 통신 채널을 통해 y 제어기로 전송한다.

RF 생성기의 제어기는, 전송기 (174) 로부터 변수의 통계값을 수신하고, RF 생성기의 RF 공급부, 예를 들어, RF 공급부 (186) 등에 통계값을 제공한다. RF 공급부는, 전송기 (174) 로부터 수신된 변수의 통계값을 갖는 RF 신호, 예를 들어, RF 신호 (124) 등을 생성하는 드라이버, 예를 들어, 트랜지스터들, 트랜지스터들의 그룹 등을 포함한다. RF 신호는 드라이버에 접속된 RF 증폭기에 의해 증폭되고, RF 증폭기에 커플링된 RF 케이블을 통해 임피던스 매칭 회로 (106) 로 전송된다.

임피던스 매칭 회로 (106) 는, RF 신호를 생성하기 위해 RF 생성기로부터 RF 케이블, 예를 들어, RF 케이블 (130) 등을 통해 수신되는 RF 신호를 변경시키기 위한 소스의 임피던스와 로드의 임피던스를 매칭시키고, 변경된 RF 신호를 RF 송신 라인 (132) 을 통해 척 (152) 으로 전송한다. 프로세스 가스가 플라즈마 챔버 (111) 내에서 공급되고 변경된 RF 신호가 척 (152) 에 의해 수신된 경우, 플라즈마는 플라즈마 챔버 (111) 내에서 생성된다. 몇몇 실시형태들에서, 변경된 RF 신호가 수신되기 전에 플라즈마가 생성된 경우, 플라즈마의 속성들, 예를 들어, 임피던스, 전력, 주파수 등은, 임피던스 매칭 회로 (106) 로부터 변경된 RF 신호의 수신 시에 변경된다.

몇몇 실시형태들에서, SD 모듈 (116) 은 x 제어기, y 제어기, 및 z 제어기 중 하나 이상으로부터 수신된 변수의 데이터로부터 통계값을 결정한다.

다수의 실시형태들에서, 도 1에 도시된 것 이외에 다수의 RF 생성기들이 사용된다. 예를 들어, 플라즈마 시스템 (100) 은 2개의 RF 생성기들 또는 4개의 RF 생성기들을 포함한다.

몇몇 실시형태들에서, x, y, 및/또는 z 제어기들로부터 하나 이상의 변수들의 값들을 수신하는 것 대신에, 호스트 제어기 (150) 는 하나 이상의 센서들로부터 값들을 수신한다. x, y, 및/또는 z 제어기들은 호스트 제어기 (150) 와 하나 이상의 센서들 사이에 중개자들로서 작동하지 않는다.

다양한 실시형태들에서, 변수 요청기 (170), 변수 수신기 (110), 모델 (113), 모델값 생성기 (115), 데이터 양 계산기 (112), 제한 크로스오버 결정 모듈 (114), 통계 결정 모듈 (116), 스위치 모듈 (180), 데이터 삭제 모듈 (120), RF 제어 블록 (197), 및 전송기 (174) 각각은 별개의 프로세서들로서 구현된다. 예를 들어, 변수 요청기 (170) 는 하나의 프로세서로서 구현되고, 데이터 양 계산기 (112) 는 다른 프로세서로서 구현된다.

다수의 실시형태들에서, 변수 요청기 (170), 변수 수신기 (110), 모델 (113), 모델값 생성기 (115), 데이터 양 계산기 (112), 제한 크로스오버 결정 모듈 (114), 통계 결정 모듈 (116), 스위치 모듈 (180), 데이터 삭제 모듈 (120), RF 제어 블록 (197), 및 전송기 (174) 중 하나 이상은 하나의 프로세서로서 구현되고, 변수 요청기 (170), 변수 수신기 (110), 모델 (113), 모델값 생성기 (115), 데이터 양 계산기 (112), 제한 크로스오버 결정 모듈 (114), 통계 결정 모듈 (116), 스위치 모듈 (180), 데이터 삭제 모듈 (120), RF 제어 블록 (197), 및 전송기 (174) 중 임의의 나머지는 다른 프로세서로서 구현된다.

몇몇 실시형태들에서, 상부 전극 (154) 을 접지시키는 것 대신에, 상부 전극 (154) 은 RF 전력을 제공받는다. 다양한 실시형태들에서, 상부 전극 (154) 을 접지시키는 것 대신에, 척 (152) 의 하부 전극이 접지되고, RF 송신 라인은 상부 전극 (154) 으로의 RF 전력을 제공받는다.

다양한 실시형태들에서, 통계값은 SD 모듈 (116) 의 저장 디바이스에 저장된다. SD 모듈 (116) 의 저장 디바이스의 사이즈는 변수 수신기 (110) 의 저장 디바이스의 사이즈보다 작다. 예를 들어, SD 모듈 (116) 의 저장 디바이스는 단일 메모리 위치를 포함하고, 변수 수신기 (110) 의 저장 디바이스는 다수의 메모리 위치들을 포함한다. 다른 예로서, SD 모듈 (116) 의 저장 디바이스는 변수 수신기 (110) 의 저장 디바이스의 수보다 더 적은 수의 메모리 위치들을 포함한다.

몇몇 실시형태들에서, 호스트 제어기 (150) 는, 통계값을 생성하고 플라즈마 챔버 (111) 를 제어하기 위해 다수의 프로세서들, 예를 들어, 1개, 2개, 3개 등을 포함하며, 프로세서들의 수는 비용-효율적이다. 예를 들어, 플라즈마 챔버 (111) 를 제어하기 위해 별개의 프로세서 또는 별개의 서버를 사용하는 것, 예를 들어, 플라즈마 챔버 (111) 내의 온도를 제어하기 위해 하나의 프로세서를 사용하는 것, 플라즈마 챔버 (111) 내의 갭을 제어하기 위해 다른 프로세서를 사용하는 것, 플라즈마 챔버 (111) 내의 압력을 제어하기 위해 다른 프로세서를 사용하는 것, 플라즈마 챔버 (111) 에 의해 수신된 신호의 주파수를 제어하기 위해 또 다른 프로세서를 사용하는 것, 신호의 전력을 제어하기 위해 또 다른 프로세서를 사용하는 것, 또는 이들의 조합 등 대신에, 하나의 프로세서가 통계값을 생성하고 플라즈마 챔버 (111) 를 제어하기 위해 사용된다. 프로세서는 통계값에 기초하여 플라즈마 챔버 (111) 를 제어한다.

플라즈마 챔버 (111) 를 제어하는 예들은, RF 생성기에 의해 생성된 RF 신호의 주파수를 변경시키는 것, 또는 RF 신호의 전력을 변경시키는 것, 또는 플라즈마 챔버 (111) 내의 온도를 변경시키는 것, 또는 플라즈마 챔버 (111) 내의 갭을 변경시키는 것, 또는 플라즈마 챔버 (111) 내의 압력을 변경시키는 것, 또는 그의 조합을 포함한다.

몇몇 실시형태들에서, 호스트 제어기 (150) 의 프로세서는, 가스 저장소 (미도시) 로부터 상부 전극 (154) 의 가스 유입구들로의 가스의 공급을 용이하게 하는 가스 공급 밸브 (미도시) 를 제어한다. 예를 들어, 호스트 제어기 (150) 의 프로세서는, 가스, 예를 들어, 프로세스 가스 등의 플라즈마 챔버 (111) 로의 공급을 제어하기 위한 양에 의해 가스 공급 밸브를 개방 또는 폐쇄하기 위해 전류를 공급하는 드라이버, 예를 들어, 트랜지스터, 트랜지스터들의 그룹을 제어한다. 또한, 공급의 제어는 프로세서로 하여금, 가스가 공급되는 플라즈마 챔버 (111) 내의 압력을 제어하게 한다.

다양한 실시형태들에서, 상부 전극 (154) 은 모터-구동된 스크류 메커니즘 (미도시) 을 사용하여 위로 또는 아래로 상승된다. 호스트 제어기 (150) 의 프로세서는, 상부 전극 (154) 과 척 (152) 사이의 갭을 제어, 예를 들어, 변경, 증가, 감소 등을 행하기 위해 상부 전극 (154) 을 위로 또는 아래로 이동시키도록 드라이버, 예를 들어, 트랜지스터, 트랜지스터들의 그룹 등을 통해 모터-구동된 스크류 메커니즘을 제어한다.

수 개의 실시형태들에서, 히터는 척 (152) 내에 포함되고, 히터는 플라즈마 챔버 (111) 내의 온도를 제어, 예를 들어, 변경, 증가, 감소 등을 행하도록 드라이버, 예를 들어, 트랜지스터, 트랜지스터들의 그룹 등을 통해 호스트 제어기 (150) 의 프로세서에 의해 제어된다.

다수의 실시형태들에서, 열 전달 메커니즘, 예를 들어, 더트 (duct) 등은 플라즈마 챔버 (111) 내에 제공되고, 냉각 액체의 흐름은 플라즈마 챔버 (111) 내의 온도를 제어하기 위해 밸브 및 드라이버, 예를 들어, 트랜지스터, 트랜지스터들의 그룹 등을 통해 호스트 제어기 (150) 의 프로세서에 의해 제어된다.

도 2는 변수의 통계값을 생성하기 위한 플라즈마 시스템 (151) 의 일 실시형태의 다이어그램이다. 플라즈마 시스템 (151) 은 플라즈마 챔버 (111), 임피던스 매칭 회로 (106), x, y, 및 z MHz RF 생성기들, 및 호스트 시스템 (190) 을 포함한다. 호스트 시스템 (190) 은 호스트 제어기 (192) 를 포함한다.

몇몇 실시형태들에서, 플라즈마 시스템 (151) 은, 플라즈마 시스템 (151) 이 호스트 시스템 (140) (도 1) 대신 호스트 시스템 (190) 을 포함한다는 것을 제외하고, 플라즈마 시스템 (100) (도 1) 과 동일하다. 예를 들어, 플라즈마 시스템 (151) 은, 플라즈마 시스템 (151) 이 호스트 제어기 (150) (도 1) 대신에 호스트 제어기 (192) 를 포함한다는 것을 제외하고, 플라즈마 시스템 (100) (도 1) 과 구조적으로 동일하다.

호스트 제어기 (192) 는, 호스트 제어기 (192) 가 바이어스 보상 모듈 (196), 이벤트 검출 모듈 (198), 및 통신 블록 (191) 을 포함한다는 것을 제외하고 호스트 제어기 (150) (도 1) 와 동일하다. RF 제어 블록 (197) 은 바이어스 보상 모듈 (196) 및 이벤트 검출 모듈 (198) 에 접속된다. SD 모듈 (116) 은 바이어스 보상 모듈 (196) 및 이벤트 검출 모듈 (198) 에 접속된다.

바이어스 보상 모듈 (196) 은, RF 제어 블록 (197) 또는 SD 블록 (116) 으로부터 수신된 변수의 통계값이, 바이어스 보상 모듈 (196) 의 저장 디바이스에 사전-저장되는 미리-결정된 범위 내에 있는지를 결정한다.

몇몇 실시형태들에서, 바이어스 보상 모듈 (196) 은 변수의 다수의 통계값들에 대한 다수의 미리-결정된 범위들을 갖는다. 예를 들어, 바이어스 보상 모듈 (196) 의 저장 디바이스는, x 제어기로부터 수신된 변수의 데이터로부터 생성되는 변수의 통계값에 대한 제 1 미리-결정된 범위를 저장한다. 다른 예로서, 바이어스 보상 모듈 (196) 의 저장 디바이스는, y 제어기로부터 수신된 변수의 데이터로부터 생성되는 변수의 통계값에 대한 제 2 미리-결정된 범위를 저장한다. 다양한 실시형태들에서, 제 1 미리-결정된 범위는 제 2 미리-결정된 범위와 동일하다. 몇몇 실시형태들에서, 제 1 미리-결정된 범위는 제 2 미리-결정된 범위와 상이하다.

변수의 통계값이 미리-결정된 범위 내에 있다고 결정할 시에, 바이어스 보상 모듈 (196) 은, x, y, 및 z 제어기들 중 대응하는 하나에 하나 이상의 통신 링크들을 통해 통계값을 전송하는 전송기 (174) 에 통계값을 전송한다. 한편, 변수의 통계값이 미리-결정된 범위 내에 있지 않다고 결정할 시에, 바이어스 보상 모듈 (196) 은 미리-결정된 범위 내에 있도록 통계값을 조정, 예를 들어, 변경, 수정, 증가, 감소, 튜닝 등을 행하고, 조정된 통계값을 전송기 (174) 에 제공한다.

전송기 (174) 는 x, y, 및 z 제어기들 중 대응하는 하나 이상에 하나 이상의 통신 채널들을 통해 변수의 조정된 통계값을 전송한다.

RF 생성기의 제어기는, 전송기 (174) 에 제어기를 커플링시키는 통신 채널을 통해 전송기 (174) 로부터 변수의 조정된 통계값을 수신하고, 조정된 통계값을 RF 생성기의 RF 공급부에 제공한다. 예를 들어, x 제어기는 변수의 조정된 통계값을 수신하고, 조정된 통계값을 RF 공급부 (186) 에 제공한다. RF 생성기의 RF 공급부는, 조정된 통계값을 포함하는 RF 신호, 예를 들어, RF 신호 (155) 등을 생성한다. 예를 들어, RF 신호 (155) 는 조정된 통계값의 전력을 갖는다. 다른 예로서, RF 신호 (155) 는 조정된 통계값의 주파수를 갖는다.

상술된 것과 유사한 방식으로, 임피던스 매칭 회로 (106) 는, x, y, 및 z MHz RF 생성기들 중 대응하는 하나 이상에 커플링되는 대응하는 하나 이상의 RF 케이블들로부터 하나 이상의 RF 신호들을 수신한다. 임피던스 매칭 회로 (106) 는, 수신된 하나 이상의 RF 신호들에 기초하여 변경된 RF 신호를 생성하고, 변경된 RF 신호를 RF 케이블 (132) 을 통해 척 (152) 에 전송한다. 수신된 변경된 RF 신호에 기초하여, 플라즈마는 플라즈마 챔버 (111) 내에서 생성되거나, 플라즈마가 변경된 RF 신호의 수신 시에 이미 생성된 경우, 플라즈마의 속성들은 변경된 RF 신호에 기초하여 변경된다.

이벤트 검출 모듈 (198) 은 RF 제어 블록 (197) 또는 SD 모듈 (116) 로부터 변수의 통계값을 수신하며, 이벤트 검출 모듈 (198) 의 저장 디바이스에 사전-저장된 미리-결정된 범위 내에 통계값이 있는지를 결정한다. 몇몇 실시형태들에서, 사전-결정된 정도는 미리-결정된 범위와 동일하다. 다양한 실시형태들에서, 사전-결정된 정도는 미리-결정된 범위와는 상이한 범위이다.

몇몇 실시형태들에서, 이벤트 검출 모듈 (198) 은 변수의 다수의 통계값들에 대한 다수의 미리-결정된 정도들을 갖는다. 예를 들어, 이벤트 검출 모듈 (198) 의 저장 디바이스는, x 제어기로부터 수신된 변수의 데이터로부터 생성되는 변수의 통계값에 대한 제 1 미리-결정된 정도를 저장한다. 다른 예로서, 이벤트 검출 모듈 (198) 의 저장 디바이스는, y 제어기로부터 수신된 변수의 데이터로부터 생성되는 변수의 통계값에 대한 제 2 미리-결정된 정도를 저장한다. 다양한 실시형태들에서, 제 1 미리-결정된 정도는 제 2 미리-결정된 정도와 동일하다. 몇몇 실시형태들에서, 제 1 미리-결정된 정도는 제 2 미리-결정된 정도와는 상이하다.

변수의 통계값이 미리-결정된 정도 내에 있다고 결정할 시에, 실패 신호가 이벤트 검출 모듈 (198) 에 의해 생성되지 않는다. 한편, 변수의 통계값이 미리-결정된 정도 외부에 있다고 결정할 시에, 실패 신호는 이벤트 검출 모듈 (198) 에 의해 생성되고, 전송기 (174) 에 제공된다.

전송기 (174) 는 대응하는 x, y, 및 z 제어기들에 하나 이상의 통신 채널들을 통해 실패 신호를 전송한다. 예를 들어, 전송기 (174) 는 x 제어기에 통신 채널 (202) 을 통해 실패 신호를 전송하고, y 제어기에 통신 채널을 통해 실패 신호를 전송한다.

RF 생성기의 제어기는 실패 신호를 수신하고, 실패 신호에 응답한다. 예를 들어, RF 생성기의 제어기는, 임피던스 매칭 회로 (106) 로의 전송을 위한 RF 신호의 생성을 중지하기 위해 RF 생성기의 RF 공급부에 신호를 전송한다. 다른 예로서, RF 생성기의 제어기는, 바이어스에 대해 보상되는 조정된 통계값이 바이어스 보상 모듈 (196) 로부터 전송기 (174) 를 통해 수신될 때까지, 임피던스 매칭 회로 (106) 로의 전송을 위한 RF 신호의 생성을 중지하기 위해, RF 생성기의 RF 공급부에 신호를 전송한다.

몇몇 실시형태들에서, 이벤트 검출 모듈 (198) 은, 변수의 통계값에서 실패를 원격 컴퓨터 시스템에 통지하기 위해 원격 컴퓨터 시스템에 통신 블록 (191) 을 통해 실패 검출 신호를 전송한다. 통신 블록 (191) 의 예들은, 예를 들어, 네트워크 인터페이스 어댑터 또는 네트워크 인터페이스 카드와 같은 네트워크 인터페이스 제어기를 포함한다.

원격 컴퓨터 시스템의 예들은 사용자에 의해 동작되는 컴퓨터, 서버, 프로세서, 셀 전화기, 스마트폰, 태블릿 등을 포함한다. 사용자는 원격 컴퓨터 시스템의 디스플레이 디바이스, 예를 들어, 음극선 튜브 디스플레이, 액정 디스플레이 디바이스, 광 방출 다이오드 디스플레이 디바이스, 플라즈마 디스플레이 디바이스 등 상에서 통지를 보고, 실패를 해결하기 위한 동작을 취하도록 결정한다.

다양한 실시형태들에서, SD 모듈 (116) 은 원격 컴퓨터 시스템에 변수의 통계값을 전송하기 위해 통신 블록 (191) 에 접속된다.

다양한 실시형태들에서, 변수 요청기 (170), 변수 수신기 (110), 데이터 양 계산기 (112), 모델 (113), 제한 크로스오버 결정 모듈 (114), 모델값 생성기 (115), 통계 결정 모듈 (116), 스위치 모듈 (180), 데이터 삭제 모듈 (120), 바이어스 보상 모듈 (196), 이벤트 검출 모듈 (198), RF 제어 블록 (197), 전송기 (174), 및 통신 블록 (191) 각각은 별개의 프로세서들로서 구현된다. 예를 들어, 변수 요청기 (170) 는 하나의 프로세서로서 구현되고, 데이터 양 계산기 (112) 는 다른 프로세서로서 구현된다.

다수의 실시형태들에서, 변수 요청기 (170), 변수 수신기 (110), 데이터 양 계산기 (112), 모델 (113), 제한 크로스오버 결정 모듈 (114), 모델값 생성기 (115), 통계 결정 모듈 (116), 스위치 모듈 (180), 데이터 삭제 모듈 (120), 바이어스 보상 모듈 (196), 이벤트 검출 모듈 (198), RF 제어 블록 (197), 전송기 (174), 및 통신 블록 (191) 중 하나 이상은 하나의 프로세서로서 구현되고, 변수 요청기 (170), 변수 수신기 (110), 데이터 양 계산기 (112), 모델 (113), 제한 크로스오버 결정 모듈 (114), 모델값 생성기 (115), 통계 결정 모듈 (116), 스위치 모듈 (180), 데이터 삭제 모듈 (120), 바이어스 보상 모듈 (196), 이벤트 검출 모듈 (198), RF 제어 블록 (197), 전송기 (174), 및 통신 블록 (191) 의 임의의 나머지는 다른 프로세서로서 구현된다.

몇몇 실시형태들에서, 호스트 제어기 (192) 는 데이터 삭제 모듈 (120) 및 스위치 (180) 를 배제한다. 이들 실시형태들에서, 데시메이션이 호스트 시스템 (190) 에서 수행되지 않는다. 이들 실시형태들에서, 변수의 모든 값들은 호스트 시스템 (190) 의 하나 이상의 저장 디바이스들 내에 저장되거나, 통신 블록 (191) 을 통하여 저장을 위해 원격 컴퓨터 시스템에 전송되거나, 가상 머신으로 통신 블록 (191) 을 통하여 저장을 위해 전송된다.

도 3은 호스트 시스템 (190) (도 2) 의 일 예인 호스트 시스템 (400) 의 일 실시형태의 다이어그램이다. 호스트 시스템 (400) 은 필드 프로그래밍가능 게이트 어레이 (FPGA) (402) 및 마이크로프로세서 (404) 를 포함한다. FPGA (402) 대신에, 임의의 다른 집적 회로, 예를 들어, ASIC가 사용될 수도 있음을 유의해야 한다. 또한, 마이크로프로세서 (404) 대신에, 임의의 다른 집적 회로, 예를 들어, FPGA, ASIC 등이 사용될 수도 있다.

FPGA (402) 는, 하나 이상의 PSPI들을 포함하는 다수의 직렬 병렬 인터페이스 (SPI) (MSPI) (406) 를 포함한다. MSPI (406) 는 PSPI에 대해 각각 9개의 핀들을 포함하는 27개의 핀들을 포함한다. 예를 들어, MSPI (406) 는, x 제어기에 접속된 PSPI, y 제어기에 접속된 PSPI, 및 z 제어기에 접속된 PSPI를 포함한다 (도 2). MSPI (406) 는 데이터, 예를 들어, x, y, 및 z 제어기들의 직렬 데이터 출력 (SDO) 포트들로부터 다시 (back) 판독된 전력, x, y, 및 z 제어기들의 SDO 포트들로부터 다시 판독된 주파수, x, y, 및 z 제어기들의 SDO 포트들로부터 다시 판독된 플라즈마 임피던스의 실수 부분, x, y, 및 z 제어기들의 SDO 포트들로부터 다시 판독된 플라즈마 임피던스의 허수 부분, 및 x, y, 및 z 제어기들의 PSPI들로부터의 다른 변수들 등을 수신하고, 소프트-코어 디지털 신호 프로세서 (DSP) (408) 및/또는 고속 포트 (410) 에 데이터를 전송한다.

소프트-코어 DSP (408) 는 모델 (131) 및 모델값 생성기 (115) 를 포함한다. 예를 들어, FPGA (402) 는, RF 송신 라인 (132) 의 전기 컴포넌트들, 예를 들어, 커패시터들, 또는 인덕터들 등을 포함하는 전기 회로를 구현한다. 또한, FPGA (402) 는, RF 송신 라인 (132) 의 전기 회로의 전기 컴포넌트들이 접속되는 것과 동일한 방식, 예를 들어, 직렬, 병렬 등으로 전기 회로 내의 컴포넌트들을 접속시킨다.

MSPI (406) 에 의해 수신된 변수들의 데이터는 MSPI (406) 로부터 소프트-코어 DSP (408) 에 전송된다. 소프트-코어 DSP (408) 의 모델값 생성기 (115) 는, MSPI (406) 로부터 수신된 값들에 기초하여 모델 (113) 의 출력에서 변수들의 값들을 생성하고, 생성된 값들을 고속 포트 (410) 및 고속 버스 (412) 를 통해 마이크로프로세서 (404) 의 고속 버스 포트 (415) 에 전송한다. 고속 버스의 예들은 500MHz, 또는 400MHz, 또는 300MHz, 또는 600MHz, 또는 5MHz와 500MHz 사이 등으로 데이터를 전송하는 버스를 포함한다. 변수들의 데이터는, SDD (172) 의 일 예인 SDD 로직 블록 (416) 으로 고속 포트 (415) 를 통해 통신된다 (도 2).

몇몇 실시형태들에서, 로직 블록은, 하나 이상의 프로세서들에 의해 실행되는 컴퓨터 프로그램이며, 예를 들어, SDD 로직 블록 (416) 은 마이크로프로세서 (404) 에 의해 실행된다. 수 개의 실시형태들에서, 로직 블록은 집적 회로 내의 하드웨어로서 구현된다. 다양한 실시형태들에서, 로직 블록은 컴퓨터 프로그램 및 하드웨어의 조합으로서 구현된다.

SDD 로직 블록 (416) 은, 통계값을 생성하기 위해 소프트-코어 DSP (408) 로부터 고속 포트 (415) 를 통해 수신되는 변수들의 데이터에 통계 변환을 적용한다. 예를 들어, SDD 로직 블록 (416) 은, 통계값을 생성하기 위해 소프트-코어 DSP (408) 로부터 고속 포트 (415) 를 통해 수신되는 변수들의 데이터로부터 평균, 중간값, 또는 모드, 또는 표준 편차, 또는 최대값, 최소값, 또는 사분범위 (IQR) 등을 생성한다. 다른 예로서, SDD 로직 블록 (416) 은 소프트-코어 DSP (408) 로부터 수신된 전력의 다수의 값들의 이동 평균을 생성한다. 또 다른 예로서, SDD 로직 블록 (416) 은 소프트-코어 DSP (408) 로부터 수신된 플라즈마 임피던스의 실수 부분의 다수의 값들의 이동 중간값을 생성한다. 다른 예로서, SDD 로직 블록 (416) 은 통계값을 생성하기 위해 소프트-코어 DSP (408) 로부터의 변수들의 데이터 값들로부터 이동 IQR, 또는 IQR, 또는 최대값, 또는 최소값, 또는 평균값, 또는 중간값, 또는 분산, 또는 표준 편차, 또는 이동 평균, 또는 이동 중간값, 또는 이동 분산, 또는 이동 표준 편차, 또는 모드, 또는 이동 모드, 또는 이들의 조합 등을 생성한다.

다수의 실시형태들에서, SDD 로직 블록 (416) 은, 변수의 통계값을 제외하고 시간 윈도우에 걸쳐 수신된 변수의 하나 이상의 값들을 삭제한다. 예를 들어, SDD 로직 블록 (416) 은 저장 디바이스로부터, 호스트 시스템 (400) 내에서, 값들의 중간값을 제외하고 플라즈마 임피던스의 허수 부분의 값들을 삭제한다. 다른 예로서, SDD 로직 블록 (416) 은 저장 디바이스로부터, 호스트 시스템 (400) 내에서, 값들의 모드를 제외하고 주파수의 값들을 삭제한다.

몇몇 실시형태들에서, 호스트 시스템 (400) 에서 데시메이션이 수행되지 않는다. 이들 실시형태들에서, 변수의 모든 값들은 호스트 시스템 (400) 의 하나 이상의 저장 디바이스들 내에 저장되거나, VME 통신 블록 (422) 을 통해 저장을 위하여 원격 컴퓨터 시스템에 전송되거나, VME 통신 블록 (422) 을 통해 저장을 위하여 가상 머신에 전송되거나, 기타 등등이 행해진다. VME 통신 블록 (422) 의 예들은 이더넷 통신 블록, 이더CAT 통신 블록, 유니버셜 시리얼 버스 (USB) 포트, 네트워크 인터페이스 제어기, 시리얼 포트, 및 병렬 포트를 포함한다. VME 통신 블록은 통신 블록 (191) 의 일 예이다 (도 2).

바이어스 보상 모듈 (196) (도 2) 의 일 예인 바이어스 보상 모듈 (418) 은, 바이어스를 보상하기 위해 SDD 로직 블록 (416) 으로부터 수신된 통계값에 기초하여 바이어스의 양을 결정한다. 예를 들어, 통계값이 미리-결정된 범위 외부에 있다고 결정할 시에, 바이어스 보상 모듈 (418) 은 미리-결정된 범위 내에 있도록 통계값을 조정한다.

몇몇 실시형태들에서, 바이어스 보상 모듈 (418) 은 고속 포트 (415), 고속 버스 (412), 고속 포트 (410), MSPI (406), 및 통신 채널을 통해 조정된 통계값을 RF 생성기의 제어기에 제공한다. 다양한 실시형태들에서, 바이어스 보상 모듈 (418) 은 VME 통신 블록 (422) 을 통해 조정된 통계값을 RF 생성기의 포트, 예를 들어, 이더넷 포트, 이더CAT 포트, USB 포트, 병렬 포트, 시리얼 포트 등에 또는 원격 컴퓨터 시스템의 포트에 제공한다.

마이크로프로세서 (404) 는, 플라즈마 시스템 (151) 내의 포인트에서 (도 2), 예를 들어, 플라즈마 챔버 (111) 내의 포인트, 또는 임피던스 매칭 회로 (106) 내의 포인트, 또는 RF 송신 라인 (132) 상의 포인트 (도 2), 또는 x MHz RF 생성기 내의 포인트, y MHz RF 생성기 내의 포인트, 또는 z MHz RF 생성기 내의 포인트, 또는 임피던스 매칭 회로 (106) 에 RF 생성기를 커플링시키는 RF 케이블 상의 포인트 등에서 이벤트, 예를 들어, 실패 등을 검출하는 이벤트/실패 검출 모듈 (420) 을 포함한다. 예를 들어, SD 로직 블록 (416) 으로부터 수신된 통계값이 미리-결정된 범위 외부에 있다고 결정할 시에, 이벤트/실패 검출 모듈 (420) 은, 이벤트가 플라즈마 시스템 (151) (도 2) 내에서 발생한다고 결정한다. 이벤트의 발생의 표시는 VME 통신 블록 (422) 을 통해 이벤트/실패 검출 모듈 (420) 로부터 하나 이상의 디바이스들, 예를 들어, x MHz RF 생성기, y MHz RF 생성기, z MHz RF 생성기, 원격 컴퓨터 시스템 등에 전송된다. 이벤트/실패 검출 모듈 (420) 은 이벤트/실패 검출 모듈 (198) (도 2) 의 일 예이다.

도 4는 호스트 시스템 (190) (도 2) 의 다른 예인 호스트 시스템 (405) 의 일 실시형태의 블록도이다. 호스트 시스템 (450) 은, 호스트 시스템 (450) 이 마이크로프로세서 (454) 및 FPGA (403) 를 포함한다는 것을 제외하고 호스트 시스템 (400) (도 4) 과 유사하다. 마이크로프로세서 (452) 는, 마이크로프로세서 (452) 가 변수 모듈 (454) 을 포함한다는 것을 제외하고 마이크로프로세서 (404) (도 3) 와 유사하다. 또한, FPGA (403) 는, FPGA (403) 가 소프트-코어 DSP (408) (도 3) 를 배제한다는 것을 제외하고, FPGA (402) 와 유사하다.

변수 모듈 (454) 의 모델값 생성기 (115) 는 고속 포트 (410), 고속 버스 (412), 및 고속 포트 (415) 를 통해 MSPI (406) 로부터 하나 이상의 변수들의 데이터를 수신한다. 변수 모듈 (454) 의 모델값 생성기 (115) 는, MSPI (406) 로부터 수신된 변수들의 데이터 및 특징들, 예를 들어, 모델 (113) 의 커패시턴스, 임피던스 등에 기초하여 모델 (113) 의 출력에서 변수들의 데이터를 결정한다. 예를 들어, MSPI (406) 을 통해 수신된 플라즈마 임피던스가 Z1이고 RF 송신 모델의 엘리먼트들의 임피던스가 Z2인 경우, 모델값 생성기 (115) 는 Z1 및 Z2의 지향 합산이도록 RF 송신 모델의 출력에서 임피던스를 결정한다. 다른 예로서, 3개의 통신 채널들을 통해 수신된 복소 전압 및 전류가 복소 V&I1이고, RF 송신 모델의 복소 전압 및 전류가 복소 V&I2인 경우, 모델값 생성기 (115) 는 V&I1 및 V&I2의 지향 합산이도록 RF 송신 모델의 출력에서 복소 V&I를 결정한다.

SDD 로직 블록 (416) 은, 변수 모듈 (454) 에 의해 생성된 변수들의 데이터를 수신하고, 상술된 것과 유사한 방식으로 데이터로부터 통계값을 결정한다. 또한, 바이어스 보상 모듈 (418) 은 SDD 로직 블록 (416) 으로부터 통계값을 수신하고, 통계값에 기초하여 플라즈마 챔버 (111) (도 1) 에 적용할 바이어스를 결정한다. 예를 들어, 통계값이 미리-결정된 범위 외부에 있다고 결정할 시에, 바이어스 보상 모듈 (418) 은 미리-결정된 범위 내에 있도록 통계값을 조정한다.

바이어스 보상 모듈 (418) 은, 상술된 것과 유사한 방식으로 조정된 통계값을 x, y, 및 z 제어기들 중 하나 이상의 하나 이상의 PSPI들로 전송한다 (도 2). 예를 들어, 바이어스 보상 모듈 (418) 은, 전력의 조정된 통계값 및 주파수의 조정된 통계값을 결정하고, 고속 포트 (415), 고속 버스 (412), 고속 포트 (410), MSPI (406), 및 통신 채널들을 통해 조정된 통계값들을 x 제어기에 제공한다. 몇몇 실시형태들에서, 바이어스 보상 모듈 (418) 은 VME 통신 블록 (422) 을 통해 조정된 통계값을 RF 생성기의 포트, 예를 들어, 이더넷 포트, 이더CAT 포트, USB 포트, 병렬 포트, 시리얼 포트 등에 또는 원격 컴퓨터 시스템의 포트에 전송한다.

이벤트/실패 검출 모듈 (420) 은, SDD 로직 블록 (416) 으로부터 수신된 통계값에 기초하여 플라즈마 시스템 (151) (도 2) 내에서 이벤트를 검출한다. 예를 들어, 통계값이 미리-결정된 정도 외부에 있다고 결정할 시에, 이벤트/실패 검출 모듈 (420) 은, 이벤트가 플라즈마 시스템 (151) 내에서 발생한다고 결정한다. 통계값은, 변수 모듈 (454) 에 의해 생성된 변수들의 데이터로부터 생성된다.

이벤트의 발생의 표시는 이벤트/실패 검출 모듈 (420) 로부터 VME 통신 블록 (422) 을 통해 하나 이상의 디바이스들, 예를 들어, 원격 컴퓨터 시스템, x MHz RF 생성기, y MHz RF 생성기, z MHz RF 생성기 등에 전송된다. 사용자는 원격 컴퓨터 시스템의 디스플레이 디바이스 상에서 표시를 보고, 실패를 해결하기 위한 동작을 취하도록 결정할 수도 있다.

도 5는 메모리 위치에 액세스하기 위한 포인터들의 사용을 도시하기 위한 저장 디바이스 (500) 의 일 실시형태의 다이어그램이다. 저장 디바이스 (500) 는 변수 수신기 (110) (도 1 & 도 2) 내에 존재한다. 몇몇 실시형태들에서, 저장 디바이스 (500) 는 데이터 양 계산기 (112) 또는 제한 크로스오버 결정 모듈 (114), 또는 SD 모듈 (116) 내에 존재한다.

저장 디바이스 (500) 는 메모리 어레이 1 및 메모리 어레이 2를 포함한다. 메모리 어레이 1는 변수의 데이터를 저장하고, 메모리 어레이 2는 메모리 어레이 1 내의 위치들의 메모리 어드레스들을 저장한다. 변수의 데이터의 예들은 인덱스 0, 인덱스 1, 인덱스 2, 인덱스 3, 및 인덱스 4로서 도시되어 있다.

도시된 바와 같이, 변수의 데이터는 메모리 어레이 1 내에서 수신되고, 메모리 어드레스들 0x0, 0x1, 0x2, 0x3, 및 0x4에 저장된다. 변수의 데이터가 메모리 어레이 1 내에서 수신된 경우, 데이터에 대한 포인터는 프로세서, 예를 들어 데이터 양 계산기 (112) 의 프로세서, 또는 제한 크로스오버 결정 모듈 (114) 의 프로세서, 또는 SD 모듈 (116) 의 프로세서 등에 의해 메모리 어레이 2 내에서 생성된다. 0x0 포인터는 메모리 어드레스 0x5에 저장되고, 값 인덱스 0을 포인팅한다. 0x1 포인터는 메모리 어드레스 0x6에 저장되고, 값 인덱스 1을 포인팅한다. 또한, 0x2 포인터는 메모리 어드레스 0x7에 저장되고 값 인덱스 2를 포인팅하고, 0x3 포인터는 메모리 어드레스 0x8에 저장되고 값 인덱스 3을 포인팅하며, 0x4 포인터는 메모리 어드레스 0x9에 저장되고, 값 인덱스 4를 포인팅한다.

5개의 값들이 도 5에 도시되어 있지만, 몇몇 실시형태들에서, 5개보다 더 많은 또는 더 적은 값들이 메모리 어레이 1에 저장된다.

몇몇 실시형태들에서, 포인터들이 메모리 어드레스에서 변수의 데이터를 액세스, 변경, 또는 삭제하기 위해 그 메모리 어드레스를 포인팅하는데 사용됨을 유의해야 한다. 다양한 실시형태들에서, 포인터는 저장 디바이스 내의 값의 위치를 변경시키는데 사용된다. 저장 디바이스 내의 각각의 위치, 예를 들어, 메모리 어레이, 메모리 어레들의 그룹 등은 메모리 어드레스에 의해 식별된다.

도 6은 삽입 정렬 동작의 일 실시형태의 다이어그램이다. 변수의 데이터는, 메모리 어레이 1의 일 예인 메모리 어레이 (502) 내에 저장된다 (도 5). 예를 들어, 1, 2, 5, 3 및 4는 메모리 어레이 (502) 내에 저장된 변수의 값들이다. 삽입 정렬 동작에서, 모든 값들 중 가장 낮은 값으로부터 모든 값들 중 가장 높은 값으로 메모리 어레이 (502) 의 값들을 정렬시키기 위해, 메모리 어레이 (502) 의 각각의 값과 메모리 어레이 (502) 의 나머지 값들 사이에서 비교가 수행된다. 예를 들어, 5는 2와 비교된다. 5가 2보다 크므로, 메모리 어레이 (502) 내의 좌측으로부터의 제 3 위치를 포인팅하는 포인터가 여전히 제 3 위치를 포인팅한다고 결정한다. 다른 예로서, 5는 1과 비교된다. 5가 1보다 크므로, 메모리 어레이 (502) 내의 좌측으로부터의 제 3 위치를 포인팅하는 포인터가 여전히 제 3 위치를 포인팅한다고 결정한다. 또 다른 예로서, 3은 5와 비교되며, 3이 5보다 작다고 결정된다. 또한, 메모리 어레이 (502) 내의 좌측으로부터의 제 3 위치를 포인팅하는 포인터는 메모리 어레이 (502) 내의 좌측으로부터의 제 4 위치에 대한 포인트로 변경되고, 제 4 위치를 포인팅하는 포인터는 이제 제 3 위치를 포인팅하는 포인트로 변경된다. 이러한 예에서, 3은 메모리 어레이 (502) 내의 5로 장소들을 스위칭하게 된다.

값들로부터 최소값 및 최대값을 결정하기 위해 값들 중 가장 낮은 값으로부터 값들 중 가장 높은 값으로 메모리 어레이 (502) 내의 값들을 정렬시키기 위한 정렬이 수행된다.

5개의 값들이 도 6에 도시되었지만, 몇몇 실시형태들에서, 5개보다 더 크거나 더 작은 값들이 메모리 어레이 (502) 에 저장된다.

도 7은 병합 정렬 동작을 도시하기 위한 3개의 메모리 어레이들 (504, 506, 및 508) 의 일 실시형태의 다이어그램이다. 메모리 어레이들 (504, 506, 및 508) 은 저장 디바이스 (510) 의 부분들이다. 저장 디바이스 (510) 는 변수 수신기 (110) (도 1 & 도 2) 내에 존재한다. 몇몇 실시형태들에서, 저장 디바이스 (510) 는 데이터 양 계산기 (112), 또는 제한 크로스오버 결정 모듈 (114), 또는 SD 모듈 (116) 내에 존재한다. 다양한 실시형태들에서, 메모리 어레이들 (504 및 506) 은 변수 수신기 (110) 의 저장 디바이스 내에 존재하고, 병합된 메모리 어레이 (508) 는 SD 모듈 (116) 의 저장 디바이스 내에 존재한다.

메모리 어레이들 (504 및 506) 내의 변수의 값들은, 삽입 정렬 동작을 수행한 이후 생성된다. 예를 들어, 메모리 어레이 (504) 내의 변수의 값들은, 메모리 어레이 (504) 내의 모든 값들 중 가장 낮은 값으로부터 메모리 어레이 (504) 내의 모든 값들의 가장 높은 값으로 정렬된다. 다른 예로서, 메모리 어레이 (506) 내의 변수의 값들은 메모리 어레이 (506) 내의 모든 값들 중 가장 낮은 값으로부터 메모리 어레이 (506) 내의 모든 값들 중 가장 높은 값으로 정렬된다.

변수의 데이터는 메모리 어레이들 (504 및 506) 내에서 수신된다. 병합 정렬 동작 동안, 메모리 어레이 (504) 의 모든 값들 중 최대값이 결정되고, 메모리 어레이 (506) 의 모든 값들 중 최소값이 결정된다. 메모리 어레이 (506) 내의 최소값이 메모리 어레이 (504) 의 최대값보다 큰지가 추가적으로 결정된다.

메모리 어레이 (506) 내의 최소값이 메모리 어레이 (504) 내의 최대값보다 크지 않다고 결정할 시에, 메모리 어레이 (504) 의 각각의 값은 메모리 어레이 (506) 내의 각각의 값과 비교된다. 한편, 메모리 어레이 (506) 내의 최소값이 메모리 어레이 (504) 내의 최대값보다 크다고 결정할 시에, 메모리 어레이들 (504 및 506) 의 값들 사이에서 비교가 수행된다. 비교가 수행되지 않은 경우, 메모리 어레이들 (504 및 506) 의 모든 값들을 포함하는 병합된 메모리 어레이 (508) 가 생성된다. 예를 들어, 메모리 어레이들 (504 및 506) 의 값들은, 메모리 어레이들 (504 및 506) 내의 값들의 일 순서로 병합된 메모리 어레이 (508) 내에 기입된다.

다양한 실시형태들에서, 값 "7" 이 저장된 메모리 어레이 (506) 의 메모리 어드레스는, 값 "6" 이 저장된 메모리 어드레스 (504) 의 메모리 어드레스 직후, 예를 들어, 그의 우측 다음, 그에 연속하여 등에 존재한다. 몇몇 실시형태들에서, 값 "7" 이 저장된 메모리 어레이 (506) 의 메모리 어레이는, 값 "6" 이 저장된 메모리 어레이 (504) 의 메모리 어드레스 이후, 예를 들어, 그 직후는 아니지만, 그의 다음 우측이 아니거나, 그의 2개의 메모리 어드레스들 내이거나, 그의 다수의 메모리 어드레스들 내에 존재한다.

다양한 실시형태들에서, 메모리 어레이들 (504 및 506) 은 비워진 메모리 어드레스들의 수, 예를 들어, 1, 2 등에 의해 분리된다.

각각의 메모리 어레이 (504 및 506) 가 6개의 값들을 포함하지만, 몇몇 실시형태들에서, 각각의 메모리 어레이 (504 및 506) 가 변수의 값들의 상이한 수를 포함함을 유의해야 한다.

다양한 실시형태들에서, 병합된 메모리 어레이 (508) 는, 메모리 어레이들 (504 및 506) 내의 메모리 어드레스들의 총 수의 사이즈와 동일한 사이즈, 예를 들어, 메모리 어드레스들의 수 등을 갖는다.

도 8은 병합 정렬 동작 내의 비교 동작을 도시하기 위한 저장 디바이스 (550) 의 일 실시형태의 다이어그램이다. 저장 디바이스 (550) 는 메모리 어레이들 (552 및 554), 및 병합된 메모리 어레이 (556) 를 포함한다. 메모리 어레이들 (552, 554, 및 556) 은, 변수 수신기 (11) (도 1 & 도 2) 내에 위치된 저장 디바이스 (550) 의 부분들이다. 몇몇 실시형태들에서, 저장 디바이스 (550) 는 데이터 양 계산기 (112), 또는 제한 크로스오버 결정 모듈 (114), 또는 SD 모듈 (116) 내에 존재한다. 다양한 실시형태들에서, 메모리 어레이들 (552 및 554) 은 변수 수신기 (110) 의 저장 디바이스 내에 존재하고, 병합된 메모리 어레이 (556) 는 SD 모듈 (116) 의 저장 디바이스 내에 존재한다.

메모리 어레이들 (552 및 554) 의 값들 사이의 하나씩의 비교를 수행하는 동안, 메모리 어레이 (552) 의 메모리 어드레스 내의 값이 메모리 어레이 (554) 의 메모리 어드레스 내의 값보다 작은지가 결정된다. 예를 들어, 메모리 어레이 (552) 의 값 "4" 이 메모리 어레이 (554) 의 값 "3" 보다 작은지가 결정된다. 다른 예로서, 메모리 어레이 (552) 내의 변수의 각각의 값은, 메모리 어레이들 (552 및 554) 내의 메모리 어드레스들의 순서로 메모리 어레이 (554) 내의 변수의 각각의 값과 비교된다. 비교의 순서를 추가적으로 예시하기 위해, 메모리 어레이 (552) 의 메모리 어드레스 (MA1) 내의 값 "1" 은, 메모리 어레이 (554) 의 메모리 어드레스들 (MA5, MA6, MA7, 및 MA8) 내의 값들 "3", "5", "6", 및 "8" 과 비교된다. 그 후, 메모리 어레이 (552) 의 메모리 어드레스 (MA2) 내의 값 "2" 은, 메모리 어레이 (554) 의 메모리 어드레스들 (MA5, MA6, MA7, 및 MA8) 내의 값들 "3", "5", "6" 및 "8" 과 비교된다. 메모리 어드레스 (MA1) 는 메모리 어드레스 (MA2) 보다 작다.

메모리 어레이들 (552 및 554) 중 하나의 메모리 어드레스 내의 값이 메모리 어레이들 (552 및 554) 중 나머지의 메모리 어드레스 내의 값보다 작다고 결정할 시에, 병합된 메모리 어레이 (556) 내의 비워진 메모리 어드레스로 더 작은 값을 삽입, 예를 들어, 기입 등을 행하도록 결정된다. 예를 들어, 메모리 어레이 (554) 내의 값 "3" 이 메모리 어레이 (552) 내의 값 "4" 보다 작다고 결정할 시에, 값 "3" 은 병합된 메모리 어레이 (556) 의 메모리 어드레스 (558) 로 기입된다. 다른 예로서, 메모리 어레이 (552) 내의 값 "4" 이 메모리 어레이 (554) 내의 값 "5" 보다 작다고 결정할 시에, 값 "4" 은 병합된 메모리 어레이 (556) 의 메모리 어드레스 (560) 로 기입된다. 병합된 메모리 어레이 (556) 내의 비워진 메모리 어드레스는, 병합된 메모리 어레이 (556) 의 점유된 메모리 어드레스에 연속한다.

병합 정렬 동작 동안, 메모리 어레이들 (552 및 554) 의 값들 사이에서 비교가 수행된 이후, 병합된 어레이 (556) 으로 기입되지 않은 메모리 어레이 (554) 의 임의의 값은 메모리 어레이 (554) 의 나머지 기입되지 않은 값들과 비교된다. 예를 들어, 메모리 어레이 (554) 의 값 "5" 은 메모리 어레이 (554) 의 값 "6" 과 비교된다. 병합된 메모리 어레이 (556) 로 아직 기입되지 않은 값들을 포함하는 메모리 어레이 (554) 의 메모리 어드레스들의 순서로 비교가 수행된다. 예를 들어, 값들 "5", "6", 및 "8" 이 병합된 메모리 어레이 (556) 로 기입되지 않은 경우, 값들 "5", "6", 및 "8" 이 메모리 어레이 (554) 에 저장된 메모리 어드레스들로부터의 가장 작은 메모리 어드레스 내의 값 "5" 는 값들 "6" 및 "8" 과 비교된다. 값 "6" 의 메모리 어드레스는 메모리 어레이 (554) 내의 값 "8" 의 메모리 어드레스보다 작다.

병합 정렬 동작 동안, 기입되지 않은 값들을 비교하는 동안에, 기입되지 않은 값들 중 더 작은 값이 병합된 메모리 어레이 (556) 로 기입된다. 예를 들어, 메모리 어레이 (554) 내의 값들 "5" 및 "6" 사이에서 비교가 수행된 경우, 값 "5" 가 병합된 메모리 어레이 (556) 로 기입된다. 다른 예로서, 메모리 어레이 (554) 내의 값들 "6" 및 "8" 사이에서 비교가 수행된 경우, 값 "6" 이 메모리 어레이 (556) 으로 기입된다. 기입되지 않은 값들의 비교 이후 임의의 나머지 값은, 값을 이용하여 기입된 메모리 어드레스에 연속하는 병합된 메모리 어레이 (556) 의 비워진 어드레스로 기입된다. 예를 들어, 메모리 어레이 (554) 의 값 "8" 은 메모리 어레이 (556) 의 메모리 어드레스 (562) 로 기입된다.

병합 정렬 동작의 종료 시에, 병합된 메모리 어레이 (556) 는 메모리 어레이들 (552 및 554) 내의 모든 값들 중 가장 낮은 값으로부터 메모리 어레이들 (552 및 554) 의 모든 값들 중 가장 높은 값으로 정렬된다.

각각의 메모리 어레이 (552 및 554) 가 4개의 값들을 포함하지만, 몇몇 실시형태들에서, 각각의 메모리 어레이 (552 및 554) 는 변수의 상이한 수의 값들을 포함함을 유의해야 한다.

다양한 실시형태들에서, 메모리 어레이들 (552 및 554) 은 비워진 메모리 어드레스들의 수, 예를 들어, 1, 2 등에 의해 분리된다. 몇몇 실시형태들에서, 메모리 어드레스 (MA5) 는 메모리 어레이 (552) 의 메모리 어드레스 (MA4) 에 연속한다.

다양한 실시형태들에서, 병합된 메모리 어레이 (556) 는 메모리 어레이들 (552 및 554) 내의 메모리 어드레스들의 총 수의 사이즈와 동일한 사이즈를 갖는다.

도 9는 SD 모듈 (116) (도 1 및 도 2) 의 일 예인 SD 모듈 (580) 의 일 실시형태의 다이어그램이다. SD 모듈 (580) 은 이동 IQR 모듈, IQR 모듈, 삽입 정렬 모듈, 병합 정렬 모듈, 모드 모듈, 이동 모드 모듈, 평균 모듈, 중간값 모듈, 분산 모듈, 표준 편차 모듈, 이동 평균 모듈, 이동 중간값 모듈, 이동 분산 모듈, 및 이동 표준 편차 모듈을 포함한다.

이동 IQR 모듈은 메모리 어레이, 예를 들어, 메모리 어레이 (502) (도 6), 또는 메모리 어레이 (504) (도 7), 또는 메모리 어레이 (506) (도 7), 또는 병합된 메모리 어레이 (508) (도 7), 또는 메모리 어레이 (552) (도 8), 또는 메모리 어레이 (554) (도 8), 또는 병합된 메모리 어레이 (556) (도 8) 등 내의 변수의 값들의 이동 IQR을 결정한다. 유사하게, IQR 모듈은 메모리 어레이 내의 변수의 값들의 IQR을 계산한다. 또한, 삽입 정렬 모듈은 메모리 어레이 내의 변수의 값들에 삽입 정렬 동작을 적용한다. 병합 정렬 모듈은 메모리 어레이 내의 변수의 값들에 병합 정렬 동작을 적용한다. 모드 모듈은 메모리 어레이 내의 변수의 값들의 모드를 결정한다. 유사하게, 이동 모드 모듈은 메모리 어레이 내의 변수의 값들의 이동 모드를 결정한다. 평균 모듈은 메모리 어레이 내의 변수의 값들의 평균을 계산한다. 중간값 모듈은 메모리 어레이 내의 변수의 값들의 중간값을 생성한다.

분산 모듈은 메모리 어레이 내의 값들의 분산을 계산하고, 표준 편차 모듈은 메모리 어레이 내의 값들의 표준 편차를 결정한다. 이동 평균 모듈은 메모리 어레이 내의 변수의 값들의 이동 평균을 계산하고, 이동 중간값 모듈은 메모리 어레이 내의 변수의 값들의 이동 중간값을 결정한다. 이동 분산 모듈은 메모리 어레이 내의 값들의 이동 분산을 계산하고, 이동 분산 모듈은 메모리 어레이 내의 값들의 이동 분산을 결정한다. 이동 표준 편차는 메모리 어레이 내의 값들의 이동 표준 편차를 생성한다.

이동 통계값, 예를 들어, 이동 IQR 값, 또는 이동 모드 값, 또는 이동 평균값, 또는 이동 중간값, 또는 이동 분산값, 또는 이동 표준 편차값 등은, 메모리 어레이, 예를 들어, SD 모듈 (116) (도 1 & 도 2) 에 의해, 모델값 생성기 (115) (도 1 & 도 2) 로부터 등에 의해 수신된 값들로서 변수의 값들을 동적으로 고려하는 값이다. 예를 들어, 메모리 어레이 (502) 의 값들 "3" 및 "4" 이 수신되지 않는 시간에서 메모리 어레이 (502) (도 6) 내의 값들 "1", "2", 및 "5" 의 이동 평균은, 값들 "1", "2", "5", "3" 및 "4" 의 이동 평균과는 상이하다. 다른 예로서, 병합된 메모리 어레이 (556) 의 나머지 값들 "3" 및 "4" 이 병합된 메모리 어레이 (556) 내에서 생성되지 않는 시간에 병합된 메모리 어레이 (556) (도 8) 내의 값들 "1", 2", 및 "3" 의 이동 표준 편차는, 병합된 메모리 어레이 (556) 의 값들 "1", "2", "3", "3" 및 "4" 의 이동 평균과는 상이하다.

다양한 실시형태들에서, 모델값 생성기 (115) 로부터의 SD 모듈 (116) 의 버퍼 내의 값들의 수신 레이트는, 변수 수신기 (110) (도 1& 도 2) 에 의한 값들의 수신 레이트와 동일하다.

몇몇 실시형태들에서, SD 모듈 (580) 은 이동 IQR 모듈, 또는 IQR 모듈, 또는 삽입 정렬 모듈, 또는 병합 정렬 모듈, 또는 모드 모듈, 또는 이동 모드 모듈, 또는 평균 모듈, 또는 중간값 모듈, 또는 분산 모듈, 또는 표준 편차 모듈, 또는 이동 평균 모듈, 또는 이동 중간값 모듈, 또는 이동 분산 모듈, 또는 이동 표준 편차 모듈, 또는 이들의 조합을 포함한다. 예를 들어, SD 모듈 (580) 은 이동 IQR 모듈 및 삽입 정렬 모듈을 포함한다. 다른 예로서, SD 모듈 (580) 은 병합 정렬 모듈 및 이동 평균 모듈 및 이동 표준 편차 모듈을 포함한다.

다양한 실시형태들에서, 이동 IQR 모듈, 및 IQR 모듈, 및 삽입 정렬 모듈, 및 병합 정렬 모듈, 및 모드 모듈, 및 이동 모드 모듈, 및 평균 모듈, 및 중간값 모듈, 및 분산 모듈, 및 표준 편차 모듈, 및 이동 평균 모듈, 및 이동 중간값 모듈, 및 이동 분산 모듈, 및 이동 표준 편차 모듈 각각은 별개의 프로세서들로서 구현된다. 예를 들어, 이동 IQR 모듈은 하나의 프로세서로서 구현되고, 모드 모듈은 다른 프로세서로서 구현된다.

다수의 실시형태들에서, 이동 IQR 모듈, IQR 모듈, 삽입 정렬 모듈, 병합 정렬 모듈, 모드 모듈, 이동 모드 모듈, 평균 모듈, 중간값 모듈, 분산 모듈, 표준 편차 모듈, 이동 평균 모듈, 이동 중간값 모듈, 이동 분산 모듈, 및 이동 표준 편차 모듈 중 하나 이상은 하나의 프로세서로서 구현되고, 이동 IQR 모듈, IQR 모듈, 삽입 정렬 모듈, 병합 정렬 모듈, 모드 모듈, 이동 모드 모듈, 평균 모듈, 중간값 모듈, 분산 모듈, 표준 편차 모듈, 이동 평균 모듈, 이동 중간값 모듈, 이동 분산 모듈, 및 이동 표준 편차 모듈 중 임의의 나머지는 다른 프로세서로서 구현된다.

이동 IQR 모듈, IQR 모듈, 삽입 정렬 모듈, 병합 정렬 모듈, 모드 모듈, 이동 모드 모듈, 평균 모듈, 중간값 모듈, 분산 모듈, 표준 편차 모듈, 이동 평균 모듈, 이동 중간값 모듈, 이동 분산 모듈, 및 이동 표준 편차 모듈 각각은 비-일시적인 컴퓨터-판독가능 매체에 저장된 컴퓨터 프로그램, 또는 하드웨어, 또는 하드웨어와 컴퓨터 프로그램의 조합으로서 구현된다.

몇몇 실시형태들에서, 평균은 삽입 정렬 동작을 수행하는 것과 병렬로 계산된다. 예를 들어, 변수의 값들은 값들의 최소값으로부터 값들의 최대값까지 값들을 정렬시키는 것과 병렬로 합산된다.

수 개의 실시형태들에서, IQR 또는 중간값은, 삽입 정렬 동작을 수행한 이후 결정된다. 삽입 정렬 동작이 수행된 이후, 변수의 값들은 값들의 가장 낮은 값으로부터 값들의 가장 높은 값으로 정렬된다. 값들의 수가 홀수인 경우, 정렬된 값들의 중간에 위치된 값이 중간값이다. 값들의 수가 짝수인 경우, 정렬된 값들의 중간에 위치된 2개의 값들의 평균이 중간값이다. 계산된 중간값은 IQR을 결정하는데 사용된다.

다양한 실시형태들에서, 평균은 병합 정렬 동작을 수행하는 것과 병렬로 계산된다. 평균은 병합 정렬 동작 이후 정렬된 모든 값들로부터 계산된다.

수 개의 실시형태들에서, IQR 또는 중간값이 병합 정렬 동작을 수행한 이후 결정된다. 병합 정렬 동작이 수행된 이후, 변수의 값들은 값들의 가장 낮은 값으로부터 값들의 가장 높은 값으로 정렬된다. 값들의 수가 홀수인 경우, 정렬된 값들의 중간의 값이 중간값이다. 값들의 수가 짝수인 경우, 정렬된 값들의 중간에 위치된 2개의 값들의 평균이 중간값이다. 계산된 중간값은 IQR을 결정하는데 사용된다.

도 10은 SD 모듈 (116) (도 1 및 도 2) 의 일 예인 SD 모듈 (590) 의 일 실시형태의 다이어그램이다. SD 모듈 (590) 은 이동 IQR 모듈, IQR 모듈, 삽입 정렬 모듈, 병합 정렬 모듈, 모드 모듈, 이동 모드 모듈, 평균 모듈, 중간값 모듈, 분산 모듈, 표준 편차 모듈, 이동 평균 모듈, 이동 중간값 모듈, 이동 분산 모듈, 및 이동 표준 편차 모듈을 포함한다.

또한, SD 모듈 (590) 에서, 병합 정렬 모듈은 이동 IQR 모듈, IQR 모듈, 삽입 정렬 모듈, 모드 모듈, 이동 모드 모듈, 평균 모듈, 중간값 모듈, 분산 모듈, 표준 편차 모듈, 이동 평균 모듈, 이동 중간값 모듈, 이동 분산 모듈, 및 이동 표준 편차 모듈에 접속된다.

이동 IQR 모듈은 병합된 메모리 어레이, 예를 들어, 병합된 메모리 어레이 (508) (도 7) 또는 병합된 메모리 어레이 (556) (도 8) 등 내의 값들의 이동 IQR을 계산한다. 유사하게, IQR 모듈은 병합된 메모리 어레이 내의 값들의 IQR을 계산한다. 또한, 평균 모듈은 병합된 메모리 어레이 내의 값들의 평균을 계산한다. 중간값 모듈은 병합된 메모리 어레이 내의 값들의 중간값을 생성한다. 모드 모듈은 병합된 메모리 어레이 내의 값들의 모드를 생성하고, 이동 모드 모듈은 병합된 메모리 어레이 내의 값들의 이동 모드를 계산한다. 또한, 분산 모듈은 병합된 메모리 어레이 내의 값들의 분산을 계산한다. 표준 편차 모듈은 병합된 메모리 어레이 내의 값들의 표준 편차를 계산하고, 이동 평균 모듈은 병합된 메모리 어레이 내의 값들의 이동 평균을 계산한다. 이동 중간값 모듈은 병합된 메모리 어레이 내의 값들의 이동 중간값을 결정하고, 이동 분산 모듈은 병합된 메모리 어레이 내의 값들의 이동 분산을 계산한다. 이동 표준 편차 모듈은 병합된 메모리 어레이 내의 값들의 이동 표준 편차를 생성한다.

몇몇 실시형태들에서, SD 모듈 (590) 은 이동 IQR 모듈, 또는 IQR 모듈, 또는 삽입 정렬 모듈, 또는 병합 정렬 모듈, 또는 모드 모듈, 또는 이동 모드 모듈, 또는 평균 모듈, 또는 중간값 모듈, 또는 분산 모듈, 또는 표준 편차 모듈, 또는 이동 평균 모듈, 또는 이동 중간값 모듈, 또는 이동 분산 모듈, 또는 이동 표준 편차 모듈, 또는 이들의 조합을 포함한다.

도 11은 시간 슬라이스 샘플링 방법을 적용하기 위한 시스템 (601) 의 일 실시형태의 다이어그램이다. 시스템 (601) 은 바이어스 보상 모듈 (196) 및 이벤트 검출 모듈 (198) 을 포함한다. 바이어스 보상 모듈 (196) 및/또는 이벤트 검출 모듈 (198) 은 SD 모듈 (116) (도 1 & 도 2) 로부터 변수의 값의 생성 시간을 수신한다. 예를 들어, 시간 t1은 SD 모듈 (116) 에 의한 변수값 V21의 생성 시간이다. 다른 예로서, 시간 t2는 SD 모듈 (116) 에 의한 변수값 V22의 생성 시간이고, 시간 t3은 SD 모듈 (116) 에 의한 변수값 V23의 생성 시간이며, 시간 t4은 SD 모듈 (116) 에 의한 변수값 V24) 의 생성 시간이다. 또 다른 예로서, 시간 t5는 SD 모듈 (116) 에 의한 변수값 V25의 생성 시간이고, SD 모듈 (116) 에 의한 변수값 V11의 생성 시간이다. 시간 t1 내지 시간 t5는 SD 모듈 (115) 에 의해 계산된다. 몇몇 실시형태들에서, 시간 t1은 변수값 V15 및 변수 V21의 생성 시간이다.

몇몇 실시형태들에서, 변수값들 V11, V12, V13, V14, 및 V15는 변수 1인 제 1 변수의 값들이다. 변수값들 V21, V22, V23, V24, 및 V25는 변수 2인 제 2 변수의 값들이다. 변수 1은 변수 2와 상이하다. 예를 들어, 변수 1은 전력이고 변수 2는 전압이다. 다른 예로서, 변수 1은 전류이고 변수 2는 전압이다.

다양한 실시형태들에서, 변수 1 및 변수 2는 동일한 값이고, 상이한 RF 생성기들로부터의 값들에 기초하여 생성된다. 예를 들어, 변수 1은 x MHz RF 생성기의 전압값들로부터 생성되고, 변수 2는 y MHz RF 생성기의 전압값들로부터 생성된다. 다른 예로서, 변수 1은 y MHz RF 생성기의 주파수 값들로부터 생성되고, 변수 2는 z MHz RF 생성기의 주파수 값들로부터 생성된다.

변수들 V11 내지 V15는 SD 모듈 (116) (도 1 & 도 2) 의 메모리 어레이, 예를 들어, 삽입 정렬된 어레이, 병합된 어레이 등에 저장된다. 예를 들어, 변수값들 V11 내지 V15는 값들의 가장 낮은 값으로부터 값들의 가장 높은 값으로 정렬된다. 이러한 예에서, V11은 가장 낮은 값이고 V15는 가장 높은 값이다. 또한, 변수들 V21 내지 V25는 SD 모듈 (116) (도 1 & 도 2) 의 메모리 어레이, 예를 들어, 삽입 정렬된 어레이, 병합된 어레이 등에 저장된다. 예를 들어, 변수값들 V21 내지 V25는 값들의 가장 낮은 값으로부터 값들의 가장 높은 값으로 정렬된다. 이러한 예에서, V21은 가장 낮은 값이고 V25는 가장 높은 값이다. 또한, 시간들 t1 내지 t5는 바이어스 보상 모듈 (196) 및/또는 이벤트 검출 모듈 (198) 의 메모리 어레이 (607) 에 저장된다. 시간들 t1 내지 t5는 메모리 어레이 (607) 에서의 저장을 위해 SD 모듈 (116) 로부터 바이어스 보상 모듈 (196) 및/또는 이벤트 검출 모듈 (198) 에 의해 수신된다.

바이어스 보상 모듈 (196) 은, 변수값 V21의 생성 시간 t1이 변수값 V15의 생성 시간과 동일한지를 결정한다. V21의 변수값의 생성 시간 t1이 변수값 V15의 생성 시간과 동일하다고 결정할 시에, 변수값들 V21 및 V15는 바이어스가 플라즈마 시스템에 존재하는지를 결정하는데 사용된다. 예를 들어, 변수값 V21이 미리-결정된 범위 외부에 있고 변수값 V15가 미리-결정된 범위 외부에 있다고 결정할 시에, 바이어스가 존재한다고 결정된다. 이러한 예에서, 값들 V15 및 V21 양자는 바이어스가 조정된 통계값들을 생성하기 위해 바이어스 보상 모듈 (196) 에 의하여 조정된다. 다른 예로서, 변수값 V21이 미리-결정된 범위 내에 있고, 변수값 V15가 미리-결정된 범위 내에 있다고 결정할 시에, 바이어스가 플라즈마 시스템 내에 존재한다고 결정된다. 또 다른 예로서, 변수값 V21이 미리-결정된 범위 내에 있고, 변수값 V15가 미리-결정된 범위 외부에 있다고 결정할 시에, 바이어스가 존재하지 않거나 바이어스가 플라즈마 시스템 내에 존재한다고 결정된다.

유사하게, 바이어스 보상 모듈 (196) 은, 변수값 V25의 생성 시간 t5이 변수값 V11의 생성 시간과 동일한지를 결정한다. 변수값 V25의 생성 시간 t5가 변수값 V11의 생성 시간과 동일하다고 결정할 시에, 변수값들 V25 및 V11은 바이어스가 플라즈마 시스템에 존재하는지를 결정하는데 사용된다.

또한, 몇몇 실시형태들에서, 이벤트 검출 모듈 (198) 은, 변수값 V21의 생성 시간 t1이 변수값 V15의 생성 시간과 동일한지를 결정한다. 변수값 V21의 생성 시간 t1이 변수값 V15의 생성 시간과 동일하다고 결정할 시에, 변수값들 V21 및 V15는 플라즈마 시스템에 실패가 존재하는지를 결정하는데 사용된다. 예를 들어, 변수값 V21이 미리-결정된 정도 외부에 존재하고, 변수값 V15가 미리-결정된 정도 외부에 있다고 결정할 시에, 실패가 존재한다고 결정한다. 다른 예로서, 변수값 V21이 미리-결정된 정도 내에 있고, 변수값 V15가 미리-결정된 정도 내에 있다고 결정할 시에, 실패가 플라즈마 시스템 내에 존재하지 않는다고 결정된다. 또 다른 예로서, 변수값 V21이 미리-결정된 정도 내에 존재하고, 변수값 V15가 미리-결정된 정도 외부에 있다고 결정할 시에, 플라즈마 시스템 내에 실패가 존재하지 않거나 실패가 존재한다고 결정된다.

유사하게, 이벤트 검출 모듈 (198) 은, 변수값 V25의 생성 시간 t5가 변수값 V11의 생성 시간과 동일한지를 결정한다. 변수값 V25의 생성 시간 t5가 변수값 V11의 생성 시간과 동일하다고 결정할 시에, 변수값들 V25 및 V11은 실패가 플라즈마 시스템에 존재하는지를 결정하는데 사용된다.

도 12는 이동 분산 (602) 을 생성하는데 사용되는 SD 모듈 (600) 의 일 실시형태의 블록도이다. SD 모듈 (600) 은 다수의 가산기들 (A1, A2,A3, A4, 및 A5), 승산기 (MU1), 제산기들 (D1 및 D2), 및 제곱근 계산기 (SQRT1) 를 포함한다. SD 모듈 (600) 은 SD 모듈 (116) (도 1 & 도 2) 의 일 예이다.

SD 모듈 (600) 은, 메모리 어레이, 예를 들어, 메모리 어레이 (502) (도 6), 또는 메모리 어레이 (504) (도 7), 또는 메모리 어레이 (506) (도 7), 또는 병합된 메모리 어레이 (508) (도 7), 또는 메모리 어레이 (552) (도 8), 또는 메모리 어레이 (554) (도 8), 또는 병합된 메모리 어레이 (556) (도 8) 등 내의 변수의 값들의 현재 평균을 계산하는 현재 평균 계산기를 포함한다. 또한, 현재 평균이 계산되는 메모리 어레이 내의 현재 데이터 포인트 x, 예를 들어, 메모리 어레이 내의 값, 병합된 메모리 어레이 내의 값 등에 대해, 현재 평균은 분산의 델타값을 생성하기 위해 현재 데이터 포인트로부터 가산기 (A1) 에 의해 감산된다. 가산기 (A2) 는 결과를 생성하기 위해 현재 평균과 델타값을 가산하고, 그 결과는, 현재 평균값이 생성되는 메모리 어레이 내의 데이터 포인트들의 총 수 n에 의해 제산된다. 데이터 포인트 계산기는 데이터 포인트들의 총 수를 계산한다. 데이터 포인트들의 총 수에 의한 결과의 제산은 변수의 다음의 평균값을 생성하도록 제산기 (D1) 에 의해 수행된다. 몇몇 실시형태들에서, 다음의 평균값은 통계값이다.

다음의 평균값은, 결과를 생성하기 위해 현재 데이터 포인트 x로부터 가산기 (A4) 에 의해 감산되고, 결과는 결과값을 생성하기 위해 델타값과 승산기 (MU1) 에 의해 승산된다. 결과값은, 다음의 순시 평균 (M2) 을 생성하도록 가산기 (A5) 에 의해 현재 순시 평균 (M2) 에 가산된다. 몇몇 실시형태들에서, 다음의 순시 평균 (M2) 은 통계값이다.

다음의 순시값 (M2) 은, 이동 분산 (602) 을 생성하기 위해 메모리 어레이 내의 데이터 포인트들의 총 수보다 작은 수인 수에 의해 제산기 (D2) 에 의하여 제산된다. 다양한 실시형태들에서, 이동 분산 (602) 은 통계값이다.

이동 분산 (602) 의 제곱근은, 이동 표준 편차 (604) 를 생성하기 위해 제곱근 계산기 (SQRT1) 에 의해 계산된다. 수 개의 실시형태들에서, 이동 표준 편차 (604) 는 통계값이다.

메모리 어레이 내의 각각의 상이한 값에 대해, 다음의 평균값, 다음의 순시 평균, 및 이동 분산 (602) 이 상이함을 유의해야 한다. 이동 분산 (602) 은 메모리 어레이 내의 값에서의 변화에 따라 변한다.

이동 분산 (602) 을 생성하기 위한 의사 코드가 아래에 제공된다.

의사 코드에서, 데이터 포인트들의 총 수 n, 현재 평균, 및 현재 순시 평균은 제로로 초기화된다.

도 13은 통계값을 생성하기 위한 방법 (700) 의 일 실시형태의 흐름도이다. 방법 (700) 에서, 변수가 RF 시스템, 예를 들어, x 제어기, 또는 y 제어기, 또는 z 제어기, 또는 이들의 조합 등으로부터 호스트 제어기, 예를 들어, 호스트 제어기 (150) (도 1), 또는 호스트 제어기 (192) (도 2) 등으로 입력된다. 동작 (702) 에서, 변수는 모델 (113) (도 1 내지 도 4) 을 통해 전파된다. 예를 들어, 지향 합산이 계산된다. 이러한 예에서, 지향 합산은, 변수의 값들, 및 변수의 값이 전파되는 모델 (113) 의 컴포넌트들의 값의 합이다. 몇몇 실시형태들에서, 동작 (702) 은 모델값 생성기 (115) (도 1 내지 도 4) 에 의해 수행된다.

방법 (700) 은 변수에 대한 모델 (113) 의 출력을 카운팅하는 동작 (704) 을 더 포함한다. 예를 들어, 모델 (113) 을 통해 변수를 전파한 이후 생성되는 값들의 수가 카운팅된다. 값들은 모델 (113) 의 출력에서 생성되며, 데이터 양 계산기 (112) (도 1 및 도 2) 에 의해 계산된다. 몇몇 실시형태들에서, 카운팅되는 모델 (113) 의 출력은 지향 합산을 포함한다.

방법 (700) 의 동작 (706) 에서, 제한 크로스오버 결정 모듈 (114) 의 저장 디바이스에 저장된 값들의 미리-저장된 수인 카운트 임계치를 카운트가 충족시키는지가 제한 크로스오버 결정 모듈 (114) 에 의해 결정된다. 동작 (704) 의 카운팅은, 카운트가 카운트 임계치를 충족하지 않는 때, 예를 들어, 카운트 임계치보다 작거나 기타 등등까지 계속된다. 한편, 카운트가 카운트 임계치를 충족한 경우, 예를 들어, 카운트 임계치보다 크거나 동일하거나 기타 등등인 경우, 동작 (708) 에서, 통계값은, 모델값 생성기 (115) 에 의해 계산되는 모델 (113) 의 출력으로부터 생성된다. 예를 들어, 통계값은 값들의 지향 합산들로부터 생성된다.

통계값은 SD 모듈 (116) (도 1 및 도 2) 에 의해 생성된다. 동작 (710) 에서, 통계값은 전송기 (174) (도 1 및 도 2) 에 의해 RF 시스템에 전송되어, 변수를 조정한다. 예를 들어, 통계값은 통계값에 기초하여 RF 신호를 생성하기 위해, x, y, 및/또는 z 제어기들로 전송된다.

상술된 실시형태들이 병렬 플레이트 플라즈마 챔버를 참조하여 설명되었지만, 일 실시형태에서, 상술된 실시형태들이 다른 타입들의 플라즈마 챔버들, 예를 들어, 유도성 커플링된 플라즈마 (ICP) 반응기를 포함하는 플라즈마 챔버, 전자-사이클로트론 공진 (ECR) 반응기를 포함하는 플라즈마 챔버 등에 적용됨을 유의한다. 예를 들어, x MHz, y MHz, 및 z MHz RF 생성기들은 ICP 플라즈마 챔버 내의 인덕터에 커플링된다.

몇몇 실시형태들에서, 킬로헤르츠 (kHz) RF 생성기는 MHz RF 생성기 대신에 사용된다. 예를 들어, x MHz RF 생성기 대신에, 400kHz RF 생성기가 사용된다.

다양한 실시형태들에서, MHz RF 생성기는 MHz의 동작 주파수를 갖고, kHz RF 생성기는 kHz의 동작 주파수를 갖는다.

여기에 설명된 몇몇 실시형태들은, 핸드-헬드 디바이스들, 마이크로프로세서 시스템들, 마이크로프로세서-기반 또는 프로그래밍가능 소비자 전자기기들, 미니컴퓨터들, 메인프레임 컴퓨터들 등을 포함하는 다양한 컴퓨터 시스템 구성들을 이용하여 실시된다. 여기에 설명된 실시형태들 중 일부는, 태스크들이 네트워크를 통해 링크되는 원격 프로세싱 디바이스들에 의해 수행되는 분산된 컴퓨팅 환경들에서 실시된다.

상기 실시형태들을 유념하여, 여기에 설명된 실시형태들 중 몇몇이 컴퓨터 시스템들에 저장된 데이터를 수반하는 다양한 컴퓨터-구현된 동작들을 이용함을 이해해야 한다. 이들 동작들은 물리적 양들의 물리적 조작을 요구하는 동작들이다. 실시형태들 중 일부를 형성하는 여기에 설명된 동작들 중 임의의 동작은, 유용한 머신 동작들이다. 여기에 설명된 실시형태들 중 일부는 또한, 이들 동작들을 수행하기 위한 디바이스 또는 장치에 관한 것이다. 몇몇 실시형태들에서, 장치는 특수한 목적 컴퓨터를 위해 특수하게 구성된다. 특수한 목적 컴퓨터로서 정의된 경우, 컴퓨터는 특수한 목적의 일부가 아닌 다른 프로세싱, 프로그램 실행 또는 루틴들을 수행하면서, 특수한 목적을 위해 여전히 동작할 수 있다. 다양한 실시형태들에서, 동작들은, 컴퓨터 메모리, 캐시에 저장되거나 네트워크를 통해 획득되는 하나 이상의 컴퓨터 프로그램들에 의해 선택적으로 활성화되거나 구성된 범용 컴퓨터에 의해 프로세싱된다. 데이터가 네트워크를 통해 획득된 경우, 데이터는 네트워크 상의 다른 컴퓨터들, 예를 들어, 컴퓨팅 리소스들의 클라우드에 의해 프로세싱된다.

실시형태들 중 몇몇은 비-일시적인 컴퓨터-판독가능 매체 상의 컴퓨터-판독가능 코드로서 제조된다. 비-일시적인 컴퓨터-판독가능 매체는, 데이터를 저장할 수 있는 임의의 데이터 저장 디바이스이며, 그 데이터는 그 후, 컴퓨터 시스템에 의해 판독될 수 있다. 비-일시적인 컴퓨터-판독가능 매체의 예들은 하드 드라이브들, 네트워크 부착된 저장부 (NAS), ROM, RAM, 컴팩트 디스크-ROM들 (CD-ROM들), CD-레코딩가능물들 (CD-R들), CD-재기입가능물들 (CD-RW들), 자기 테이프들 및 다른 광학 및 비-광학 데이터 저장 디바이스들을 포함한다. 몇몇 실시형태들에서, 비-일시적인 컴퓨터-판독가능 매체는, 컴퓨터-판독가능 코드가 분산된 방식으로 저장 및 실행되도록 네트워크-커플링된 컴퓨터 시스템을 통해 분산된 컴퓨터-판독가능 유형의 매체를 포함한다.

방법 동작들이 특수한 순서로 설명되었지만, 몇몇 실시형태들에서, 오버레이 동작들의 프로세싱이 원하는 방식으로 수행되는 한, 다른 하우스키핑 동작들이 동작들 사이에서 수행되거나, 동작들이 약간 상이한 시간들에서 발생하도록 그들이 조정되거나, 프로세싱과 연관된 다양한 간격들에서 프로세싱 동작들의 발생을 허용하는 시스템에서 분산된다는 것을 이해해야 한다.

몇몇 실시형태들에서, 임의의 실시형태로부터의 하나 이상의 특성들은, 본 발명에서 설명된 다양한 실시형태들에서 설명된 범위를 벗어나지 않으면서, 임의의 다른 실시형태의 하나 이상의 특성들과 결합된다.

전술한 실시형태들이 이해의 명확화의 목적들을 위해 일부 상세하게 설명되었지만, 특정한 변경들 및 변형들이 첨부된 청구항들의 범위 내에서 실시될 수 있음은 명백할 것이다. 따라서, 본 발명의 실시형태들이 제한이 아닌 예시적인 것으로 고려될 것이며, 실시형태들은 여기에 주어진 세부사항들로 제한되지 않고, 첨부된 청구항들의 범위 및 등가물들 내에서 변형될 수도 있다.

Claims

변수의 통계값에 기초하여 무선 주파수 (RF) 시스템을 제어하는 방법으로서,
RF 시스템으로부터 변수를 수신하는 단계;
상기 RF 시스템의 모델을 통해 상기 변수를 전파하는 단계;
카운트를 생성하기 위해 상기 모델의 출력에서 상기 변수의 값들의 수를 카운팅하는 단계;
상기 변수의 상기 값들의 상기 수의 상기 카운트가 카운트 임계치를 충족시키는지를 결정하는 단계;
상기 변수의 상기 값들의 상기 수의 상기 카운트가 상기 카운트 임계치를 충족시킨다고 결정할 시에, 상기 모델의 상기 출력에서 상기 변수의 통계값을 생성하는 단계; 및
상기 변수를 조정하기 위해 상기 RF 시스템에 상기 통계값을 전송하는 단계를 포함하는, 방법.
제 1 항에 있어서,
상기 변수는 전력, 또는 주파수, 또는 전압 크기, 또는 전류 크기, 또는 복소 전압과 복소 전류 사이의 위상, 또는 복소 전류, 또는 복소 전압, 또는 이들의 조합을 포함하는, 방법.
제 1 항에 있어서,
상기 RF 시스템은 RF 생성기를 포함하는, 방법.
제 1 항에 있어서,
상기 모델은 컴퓨터-생성된 모델이며,
상기 모델을 통해 상기 변수를 전파하는 단계는, 상기 모델의 컴포넌트들과 연관된 변수값들과 상기 변수의 값의 지향 합산 (directional sum) 을 생성하는 단계를 포함하는, 방법.
삭제
제 1 항에 있어서,
상기 통계값은 상기 값들의 이동 사분범위 (interquartile range), 또는 상기 값들의 사분범위, 또는 상기 값들의 최대값, 또는 상기 값들의 최소값, 또는 상기 값들의 평균, 또는 상기 값들의 중간값, 또는 상기 값들의 분산, 또는 상기 값들의 표준 편차, 또는 상기 값들의 이동 평균, 또는 상기 값들의 이동 중간값, 또는 상기 값들의 이동 분산, 또는 상기 값들의 이동 표준 편차, 또는 상기 값들의 모드, 또는 상기 값들의 이동 모드, 또는 이들의 조합을 포함하는, 방법.
변수의 통계값에 기초하여 무선 주파수 (RF) 생성기를 제어하는 방법으로서,
RF 생성기로부터 변수와 연관된 데이터를 수신하는 단계로서, 상기 RF 생성기는, 플라즈마 챔버에 임피던스 매칭 회로를 통해 공급될 RF 신호를 생성하도록 구성되고, 상기 변수는 RF 시스템과 연관되며, 상기 RF 시스템은, 상기 RF 생성기, 상기 임피던스 매칭 회로, 및 상기 플라즈마 챔버를 포함하는, 상기 무선 주파수 (RF) 생성기로부터 변수와 연관된 데이터를 수신하는 단계;
상기 수신 데이터에 기초하여 컴퓨터-생성된 모델로부터 출력된 값들을 생성하는 단계;
상기 컴퓨터-생성된 모델로부터 출력된 상기 값들의 양을 카운팅하는 단계;
상기 양이 카운트 임계치를 초과하는지를 결정하는 단계;
상기 양이 상기 카운트 임계치를 초과한다고 결정하는 것에 응답하여, 상기 컴퓨터-생성된 모델로부터 출력된 상기 값들로부터 상기 통계값을 생성하는 단계; 및
상기 RF 생성기에 의해 생성된 RF 신호를 조정하기 위해 상기 RF 생성기로 상기 통계값을 전송하는 단계를 포함하는, 방법.
제 7 항에 있어서,
상기 조정된 RF 신호는 RF 케이블, 상기 임피던스 매칭 회로, 및 RF 송신 라인을 통해 상기 플라즈마 챔버로 제공되며,
상기 RF 케이블은 상기 임피던스 매칭 회로에 상기 RF 생성기를 커플링시키고,
상기 RF 송신 라인은 상기 임피던스 매칭 회로를 상기 플라즈마 챔버에 커플링시키는, 방법.
제 7 항에 있어서,
상기 변수는 전력, 또는 주파수, 또는 전압 크기, 또는 전류 크기, 또는 복소 전압과 복소 전류 사이의 위상, 또는 복소 전류, 또는 복소 전압, 또는 이들의 조합을 포함하는, 방법.
제 7 항에 있어서,
상기 임피던스 매칭 회로는 소스의 임피던스와 로드의 임피던스를 매칭시키며,
상기 소스는, 상기 RF 생성기, 및 상기 RF 생성기를 상기 임피던스 매칭 회로에 커플링시키는 RF 케이블을 포함하고,
상기 로드는 상기 플라즈마 챔버 및 RF 송신 라인을 포함하고,
상기 RF 송신 라인은 상기 플라즈마 챔버를 상기 임피던스 매칭 회로에 커플링시키는, 방법.
제 7 항에 있어서,
상기 플라즈마 챔버는 척, 및 상기 척에 대면하는 상부 전극을 포함하는, 방법.
제 7 항에 있어서,
상기 변수는, 상기 RF 시스템 내의 일 포인트에서의 복소 전압 및 전류를 포함하는, 방법.
제 7 항에 있어서,
상기 양은 복수의 값들을 포함하며,
상기 통계값은, 상기 값들의 이동 사분범위, 또는 상기 값들의 사분범위, 또는 상기 값들의 최대값, 또는 상기 값들의 최소값, 또는 상기 값들의 평균, 또는 상기 값들의 중간값, 또는 상기 값들의 분산, 또는 상기 값들의 표준 편차, 또는 상기 값들의 이동 평균, 또는 상기 값들의 이동 중간값, 또는 상기 값들의 이동 분산, 또는 상기 값들의 이동 표준 편차, 또는 상기 값들의 모드, 또는 상기 값들의 이동 모드, 또는 이들의 조합을 포함하는, 방법.
제 7 항에 있어서,
상기 통계값을 생성한 이후, 상기 수신된 데이터를 데시메이팅 (decimate) 하는 단계를 더 포함하는, 방법.
제 7 항에 있어서,
상기 컴퓨터-생성된 모델의 출력에서 값들을 생성하는 단계는, 상기 컴퓨터-생성된 모델의 컴포넌트들을 통해 상기 수신 데이터를 전파하는 단계를 포함하는, 방법.
변수의 통계값에 기초하여 무선 주파수 (RF) 생성기를 제어하는 방법으로서,
RF 생성기로부터 변수와 연관된 데이터를 수신하는 단계로서, 상기 RF 생성기는, 플라즈마 챔버에 임피던스 매칭 회로를 통해 공급될 RF 신호를 생성하고, 상기 변수는 RF 시스템과 연관되며, 상기 RF 시스템은, 상기 RF 생성기, 상기 임피던스 매칭 회로, 및 상기 플라즈마 챔버를 포함하는, 상기 무선 주파수 (RF) 생성기로부터 변수와 연관된 데이터를 수신하는 단계;
상기 수신 데이터에 기초하여 컴퓨터-생성된 모델의 출력에서 값들을 생성하는 단계;
상기 컴퓨터-생성된 모델로부터 출력된 상기 값들의 양을 카운팅하는 단계;
상기 양이 임계치를 초과하는지를 결정하는 단계;
상기 양이 상기 임계치를 초과한다고 결정하는 것에 응답하여, 상기 컴퓨터-생성된 모델로부터 출력된 상기 값들로부터 통계값을 생성하는 단계;
상기 통계값이 미리-결정된 범위 외부에 있는지를 결정하는 단계;
상기 통계값이 상기 미리-결정된 범위 외부에 있다고 결정하는 것에 응답하여, 상기 미리-결정된 범위 내에 있도록 상기 통계값을 조정하는 단계; 및
상기 RF 생성기에 의해 생성된 RF 신호를 조정하기 위해 상기 RF 생성기를 제어하도록 상기 RF 생성기에 상기 조정된 통계값을 전송하는 단계를 포함하는, 방법.
제 16 항에 있어서,
상기 조정된 RF 신호는 RF 케이블, 상기 임피던스 매칭 회로, 및 RF 송신 라인을 통해 상기 플라즈마 챔버로 제공되며,
상기 RF 케이블은 상기 임피던스 매칭 회로에 상기 RF 생성기를 커플링시키고,
상기 RF 송신 라인은 상기 임피던스 매칭 회로를 상기 플라즈마 챔버에 커플링시키는, 방법.
제 16 항에 있어서,
상기 변수는 전력, 또는 주파수, 또는 전압 크기, 또는 전류 크기, 또는 복소 전압과 복소 전류 사이의 위상, 또는 복소 전류, 또는 복소 전압, 또는 이들의 조합을 포함하는, 방법.
제 16 항에 있어서,
상기 임피던스 매칭 회로는 소스의 임피던스와 로드의 임피던스를 매칭시키며,
상기 소스는, 상기 RF 생성기, 및 상기 RF 생성기를 상기 임피던스 매칭 회로에 커플링시키는 RF 케이블을 포함하고,
상기 로드는 상기 플라즈마 챔버 및 RF 송신 라인을 포함하고,
상기 RF 송신 라인은 상기 플라즈마 챔버를 상기 임피던스 매칭 회로에 커플링시키는, 방법.
제 16 항에 있어서,
상기 플라즈마 챔버는 척, 및 상기 척에 대면하는 상부 전극을 포함하는, 방법.
제 16 항에 있어서,
상기 변수는, 상기 RF 시스템 내의 일 포인트에서의 복소 전압 및 전류를 포함하는, 방법.
변수의 통계값에 기초하여 실패 (fault)를 결정하는 방법으로서,
무선 주파수 (RF) 생성기로부터 변수와 연관된 데이터를 수신하는 단계로서, 상기 RF 생성기는, 플라즈마 챔버에 임피던스 매칭 회로를 통해 공급될 RF 신호를 생성하고, 상기 변수는 RF 시스템과 연관되며, 상기 RF 시스템은, 상기 RF 생성기, 상기 임피던스 매칭 회로, 및 상기 플라즈마 챔버를 포함하는, 상기 무선 주파수 (RF) 생성기로부터 변수와 연관된 데이터를 수신하는 단계;
상기 수신 데이터에 기초하여 컴퓨터-생성된 모델의 출력에서 값들을 생성하는 단계;
상기 컴퓨터-생성된 모델로부터 출력된 상기 값들의 양을 카운팅하는 단계;
상기 양이 카운트 임계치를 초과하는지를 결정하는 단계;
상기 양이 상기 카운트 임계치를 초과한다고 결정하는 것에 응답하여, 상기 컴퓨터-생성된 모델로부터 출력된 상기 값들로부터 통계값을 생성하는 단계;
상기 통계값이 미리-결정된 정도 (extent) 외부에 있는지를 결정하는 단계;
상기 통계값이 상기 미리-결정된 정도 외부에 있다고 결정하는 것에 응답하여, 실패 (fault) 의 표시를 생성하는 단계; 및
상기 실패의 표시를 상기 RF 생성기에 전송하는 단계를 포함하는, 방법.
제 22 항에 있어서,
상기 통계값이 미리-결정된 범위 내에 있는지를 결정하는 단계;
상기 통계값이 상기 미리-결정된 범위 외부에 있다고 결정하는 것에 응답하여, 상기 미리-결정된 범위 내에 있도록 상기 통계값을 조정하는 단계; 및
상기 임피던스 매칭 회로를 통해 상기 플라즈마 챔버에 제공할 조정된 RF 신호를 생성하기 위해 상기 RF 생성기를 제어하도록 상기 RF 생성기에 상기 조정된 통계값을 전송하는 단계를 더 포함하는, 방법.
제 22 항에 있어서,
상기 조정된 RF 신호는 RF 케이블, 상기 임피던스 매칭 회로, 및 RF 송신 라인을 통해 상기 플라즈마 챔버로 제공되며,
상기 RF 케이블은 상기 임피던스 매칭 회로에 상기 RF 생성기를 커플링시키고,
상기 RF 송신 라인은 상기 임피던스 매칭 회로를 상기 플라즈마 챔버에 커플링시키는, 방법.
제 22 항에 있어서,
상기 변수는 전력, 또는 주파수, 또는 로드 임피던스의 실수 부분, 또는 상기 로드 임피던스의 허수 부분, 또는 전압 크기, 또는 전류 크기, 또는 복소 전압과 복소 전류 사이의 위상, 또는 웨이퍼 바이어스, 또는 이온 에너지, 또는 플라즈마 전위, 또는 복소 전류, 또는 복소 전압, 또는 로드 임피던스, 또는 이들의 조합을 포함하는, 방법.
제 22 항에 있어서,
상기 변수는, 상기 RF 시스템 내의 일 포인트에서 복소 전압 및 전류를 포함하는, 방법.
RF (radio frequency) 신호를 생성하도록 구성된 RF 생성기;
상기 RF 신호를 수신하기 위해 RF 케이블을 통해 상기 RF 생성기에 연결된 임피던스 매칭 회로로서, 상기 임피던스 매칭 회로는 상기 RF 신호로부터 변경된 신호를 생성하도록 구성되는, 상기 임피던스 매칭 회로;
전극을 포함하는 플라즈마 챔버로서, 상기 전극은 상기 변경된 신호를 수신하기 위해 RF 송신 라인을 통해 상기 임피던스 매칭 회로에 연결되는, 상기 플라즈마 챔버; 및
상기 RF 생성기에 커플링된 호스트 제어기를 포함하고,
상기 호스트 제어기는,
상기 RF 생성기로부터 변수를 수신하고;
상기 RF 케이블, 상기 임피던스 매칭 회로, 상기 RF 송신 라인, 및 상기 전극 중 적어도 하나의 모델을 통해 상기 변수를 전파하고;
카운트를 생성하기 위해 상기 변수에 대한 상기 모델의 출력을 카운팅하고;
상기 카운트가 카운트 임계치를 충족시키는지를 결정하고;
상기 카운트가 상기 카운트 임계치를 충족시킨다고 결정할 시에, 상기 모델의 상기 출력에서 상기 변수의 통계값을 생성하고; 그리고
상기 변수를 조정하기 위해 상기 RF 생성기에 상기 통계값을 전송하도록 구성되는, 시스템.
제 27 항에 있어서,
상기 변수는 전력, 또는 주파수, 또는 전압 크기, 또는 전류 크기, 또는 복소 전압과 복소 전류 사이의 위상, 또는 복소 전류, 또는 복소 전압, 또는 이들의 조합을 포함하는, 시스템.
제 27 항에 있어서,
상기 모델은 컴퓨터-생성된 모델이며,
상기 모델을 통해 상기 변수를 전파하기 위해, 상기 호스트 제어기는, 상기 모델의 컴포넌트들과 연관된 변수값들과 상기 변수의 값의 지향 합산을 생성하도록 구성되는, 시스템.
제 27 항에 있어서,
상기 모델의 상기 출력은 상기 변수의 복수의 값들을 포함하는, 시스템.
제 30 항에 있어서,
상기 통계값은 상기 복수의 값들의 이동 사분범위, 또는 상기 복수의 값들의 사분범위, 또는 상기 복수의 값들의 최대값, 또는 상기 복수의 값들의 최소값, 또는 상기 복수의 값들의 평균, 또는 상기 복수의 값들의 중간값, 또는 상기 복수의 값들의 분산, 또는 상기 복수의 값들의 표준 편차, 또는 상기 복수의 값들의 이동 평균, 또는 상기 복수의 값들의 이동 중간값, 또는 상기 복수의 값들의 이동 분산, 또는 상기 복수의 값들의 이동 표준 편차, 또는 상기 복수의 값들의 모드, 또는 상기 복수의 값들의 이동 모드, 또는 이들의 조합을 포함하는, 시스템.
RF (radio frequency) 신호를 생성하도록 구성된 RF 생성기;
상기 RF 신호를 수신하기 위해 RF 케이블을 통해 상기 RF 생성기에 연결된 임피던스 매칭 회로로서, 상기 임피던스 매칭 회로는 상기 RF 신호로부터 변경된 신호를 생성하도록 구성되는, 상기 임피던스 매칭 회로;
전극을 포함하는 플라즈마 챔버로서, 상기 전극은 상기 변경된 신호를 수신하기 위해 RF 송신 라인을 통해 상기 임피던스 매칭 회로에 연결되는, 상기 플라즈마 챔버; 및
상기 RF 생성기에 커플링된 호스트 제어기를 포함하고,
상기 호스트 제어기는,
상기 RF 생성기로부터 변수와 연관된 데이터를 수신하도록 구성되고;
상기 데이터에 기초하여 컴퓨터-생성된 모델로부터 출력된 값들을 생성하도록 구성되고, ―상기 컴퓨터-생성된 모델은 상기 RF 케이블, 상기 임피던스 매칭 회로, 상기 RF 송신 라인, 및 상기 전극 중 적어도 하나에 기초하여 생성됨―;
상기 컴퓨터-생성된 모델로부터 출력된 상기 값들의 양을 카운팅하도록 구성되고;
상기 양이 카운트 임계치를 초과하는지를 결정하도록 구성되고;
상기 양이 상기 카운트 임계치를 초과한다고 결정하는 것에 응답하여, 상기 컴퓨터-생성된 모델로부터 출력된 상기 값들로부터 통계값을 생성하도록 구성되고; 그리고
상기 RF 생성기에 의해 생성된 상기 RF 신호를 조정하기 위해 상기 RF 생성기로 상기 통계값을 전송하도록 구성되는, 시스템.
제 32 항에 있어서,
상기 변수는 전력, 또는 주파수, 또는 전압 크기, 또는 전류 크기, 또는 복소 전압과 복소 전류 사이의 위상, 또는 복소 전류, 또는 복소 전압, 또는 이들의 조합을 포함하는, 시스템.
제 32 항에 있어서,
상기 임피던스 매칭 회로는 소스의 임피던스와 로드의 임피던스를 매칭시키며,
상기 소스는, 상기 RF 생성기 및 상기 RF 케이블을 포함하고,
상기 로드는 상기 플라즈마 챔버 및 상기 RF 송신 라인을 포함하는, 시스템.
제 32 항에 있어서,
상기 전극은 하부 전극이고,
상기 플라즈마 챔버는 상부 전극, 및 상기 상부 전극에 대면하는 척을 포함하고, 상기 척은 상기 하부 전극을 포함하는, 시스템.
제 32 항에 있어서,
상기 변수는, 상기 RF 생성기와 상기 임피던스 매칭 회로 사이의 상기 RF 케이블 상의 일 포인트에서의 복소 전압 및 전류를 포함하는, 시스템.
제 32 항에 있어서,
상기 양은 복수의 상기 값들을 포함하며,
상기 통계값은, 상기 값들의 이동 사분범위, 또는 상기 값들의 사분범위, 또는 상기 값들의 최대값, 또는 상기 값들의 최소값, 또는 상기 값들의 평균, 또는 상기 값들의 중간값, 또는 상기 값들의 분산, 또는 상기 값들의 표준 편차, 또는 상기 값들의 이동 평균, 또는 상기 값들의 이동 중간값, 또는 상기 값들의 이동 분산, 또는 상기 값들의 이동 표준 편차, 또는 상기 값들의 모드, 또는 상기 값들의 이동 모드, 또는 이들의 조합을 포함하는, 시스템.
제 32 항에 있어서,
상기 호스트 제어기는 상기 통계값을 생성한 후 수신된 상기 데이터를 데시메이팅하도록 구성되는, 시스템.
RF (radio frequency) 신호를 생성하도록 구성된 RF 생성기;
상기 RF 신호를 수신하기 위해 RF 케이블을 통해 상기 RF 생성기에 연결된 임피던스 매칭 회로로서, 상기 임피던스 매칭 회로는 상기 RF 신호로부터 변경된 신호를 생성하도록 구성되는, 상기 임피던스 매칭 회로;
전극을 포함하는 플라즈마 챔버로서, 상기 전극은 상기 변경된 신호를 수신하기 위해 RF 송신 라인을 통해 상기 임피던스 매칭 회로에 연결되는, 상기 플라즈마 챔버; 및
상기 RF 생성기에 커플링된 호스트 제어기를 포함하고,
상기 호스트 제어기는,
상기 RF 생성기로부터 변수와 연관된 데이터를 수신하도록 구성되고;
상기 데이터에 기초하여 컴퓨터-생성된 모델의 출력에서 값들을 생성하도록 구성되고, ―상기 컴퓨터-생성된 모델은 상기 RF 케이블, 상기 임피던스 매칭 회로, 상기 RF 송신 라인, 및 상기 전극 중 적어도 하나에 기초하여 생성됨―;
상기 컴퓨터-생성된 모델로부터 출력된 상기 값들의 양을 카운팅하도록 구성되고;
상기 양이 임계치를 초과하는지를 결정하도록 구성되고;
상기 양이 상기 임계치를 초과한다고 결정하는 것에 응답하여, 상기 컴퓨터-생성된 모델로부터 출력된 상기 값들로부터 통계값을 생성하도록 구성되고;
상기 통계값이 미리-결정된 범위 외부에 있는지를 결정하도록 구성되고;
상기 통계값이 상기 미리-결정된 범위 외부에 있다고 결정하는 것에 응답하여, 상기 미리-결정된 범위 내에 있도록 상기 통계값을 조정하도록 구성되고, ―상기 통계값은 조정된 통계값을 출력하도록 조정됨―; 그리고
상기 RF 생성기에 의해 생성된 상기 RF 신호를 조정하기 위해 상기 RF 생성기를 제어하기 위해 상기 RF 생성기로 상기 조정된 통계값을 전송하도록 구성되는, 시스템.
제 39 항에 있어서,
상기 변수는 전력, 또는 주파수, 또는 전압 크기, 또는 전류 크기, 또는 복소 전압과 복소 전류 사이의 위상, 또는 복소 전류, 또는 복소 전압, 또는 이들의 조합을 포함하는, 시스템.
제 39 항에 있어서,
상기 임피던스 매칭 회로는 소스의 임피던스와 로드의 임피던스를 매칭시키며,
상기 소스는, 상기 RF 생성기 및 상기 RF 케이블을 포함하고,
상기 로드는 상기 플라즈마 챔버 및 상기 RF 송신 라인을 포함하는, 시스템.
제 39 항에 있어서,
상기 전극은 하부 전극이고,
상기 플라즈마 챔버는 척, 및 상기 척에 대면하는 상부 전극을 포함하고, 상기 척은 상기 하부 전극을 포함하는, 시스템.
제 39 항에 있어서,
상기 변수는 상기 RF 케이블 상의 일 포인트에서의 복소 전압 및 전류를 포함하는, 시스템.
RF (radio frequency) 신호를 생성하도록 구성된 RF 생성기;
상기 RF 신호를 수신하기 위해 RF 케이블을 통해 상기 RF 생성기에 연결된 임피던스 매칭 회로로서, 상기 임피던스 매칭 회로는 상기 RF 신호로부터 변경된 신호를 생성하도록 구성되는, 상기 임피던스 매칭 회로;
전극을 포함하는 플라즈마 챔버로서, 상기 전극은 상기 변경된 신호를 수신하기 위해 RF 송신 라인을 통해 상기 임피던스 매칭 회로에 연결되는, 상기 플라즈마 챔버; 및
상기 RF 생성기에 커플링된 호스트 제어기를 포함하고,
상기 호스트 제어기는,
상기 RF 생성기로부터 변수와 연관된 데이터를 수신하도록 구성되고;
상기 데이터에 기초하여 컴퓨터-생성된 모델의 출력에서 값들을 생성하도록 구성되고, ―상기 컴퓨터-생성된 모델은 상기 RF 케이블, 상기 임피던스 매칭 회로, 상기 RF 송신 라인, 및 상기 전극 중 적어도 하나에 기초하여 생성됨―;
상기 컴퓨터-생성된 모델로부터 출력된 상기 값들의 양을 카운팅하도록 구성되고;
상기 양이 카운트 임계치를 초과하는지를 결정하도록 구성되고;
상기 양이 상기 카운트 임계치를 초과한다고 결정하는 것에 응답하여, 상기 컴퓨터-생성된 모델로부터 출력된 상기 값들로부터 통계값을 생성하도록 구성되고;
상기 통계값이 미리-결정된 정도 외부에 있는지를 결정하도록 구성되고;
상기 통계값이 상기 미리-결정된 정도 외부에 있다고 결정하는 것에 응답하여, 실패의 표시를 생성하도록 구성되고; 그리고
상기 실패의 표시를 상기 RF 생성기에 전송하도록 구성되는, 시스템.
제 44 항에 있어서,
상기 호스트 제어기는,
상기 통계값이 미리-결정된 범위 내에 있는지를 결정하도록 구성되고;
상기 통계값이 상기 미리-결정된 범위 외부에 있다고 결정하는 것에 응답하여, 상기 미리-결정된 범위 내에 있도록 상기 통계값을 조정하도록 구성되고, ―상기 통계값은 조정된 통계값을 출력하도록 조정됨―; 그리고
상기 임피던스 매칭 회로를 통해 상기 플라즈마 챔버로 제공할 조정된 RF 신호를 생성하기 위해 상기 RF 생성기를 제어하기 위해 상기 RF 생성기로 상기 조정된 통계값을 전송하도록 구성되는, 시스템.
제 44 항에 있어서,
상기 변수는 전력, 또는 주파수, 또는 로드 임피던스의 실수 부분, 또는 상기 로드 임피던스의 허수 부분, 또는 전압 크기, 또는 전류 크기, 또는 복소 전압과 복소 전류 사이의 위상, 또는 웨이퍼 바이어스, 또는 이온 에너지, 또는 플라즈마 전위, 또는 복소 전류, 또는 복소 전압, 또는 로드 임피던스, 또는 이들의 조합을 포함하는, 시스템.
제 44 항에 있어서,
상기 변수는 상기 RF 케이블 상의 일 포인트에서의 복소 전압 및 전류를 포함하는, 시스템.
로직으로서,
RF 생성기로부터 변수를 수신하고;
RF 케이블, 임피던스 매칭 회로, RF 송신 라인, 및 전극 중 적어도 하나의 모델을 통해 상기 변수를 전파하고;
카운트를 생성하기 위해 상기 모델의 출력에서 상기 변수의 값들의 수를 카운팅하고;
상기 변수의 상기 값들의 상기 수의 상기 카운트가 카운트 임계치를 충족시키는지를 결정하고;
상기 변수의 상기 값들의 상기 수의 상기 카운트가 상기 카운트 임계치를 충족시킨다고 결정할 시에, 상기 모델의 출력에서 상기 변수의 통계값을 생성하고; 그리고
상기 변수를 조정하기 위해 상기 RF 생성기에 상기 통계값을 전송하도록 구성되는, 상기 로직; 및
상기 모델을 저장하도록 구성된 메모리 디바이스를 포함하는, 제어기.
제 48 항에 있어서,
상기 변수는 전력, 또는 주파수, 또는 전압 크기, 또는 전류 크기, 또는 복소 전압과 복소 전류 사이의 위상, 또는 복소 전류, 또는 복소 전압, 또는 이들의 조합을 포함하는, 제어기.
제 48 항에 있어서,
상기 모델은 컴퓨터-생성된 모델이며,
상기 모델을 통해 상기 변수를 전파하기 위해, 상기 로직은, 상기 모델의 컴포넌트들과 연관된 변수값들과 상기 변수의 값의 지향 합산을 생성하도록 구성되는, 제어기.
제 48 항에 있어서,
상기 변수의 상기 값들은 상기 카운트를 생성하도록 상기 모델의 상기 출력에서 생성되는, 제어기.
제 51 항에 있어서,
상기 통계값은 상기 값들의 이동 사분범위, 또는 상기 값들의 사분범위, 또는 상기 값들의 최대값, 또는 상기 값들의 최소값, 또는 상기 값들의 평균, 또는 상기 값들의 중간값, 또는 상기 값들의 분산, 또는 상기 값들의 표준 편차, 또는 상기 값들의 이동 평균, 또는 상기 값들의 이동 중간값, 또는 상기 값들의 이동 분산, 또는 상기 값들의 이동 표준 편차, 또는 상기 값들의 모드, 또는 상기 값들의 이동 모드, 또는 이들의 조합을 포함하는, 제어기.
로직으로서,
RF 생성기로부터 변수와 연관된 데이터를 수신하도록 구성되고;
상기 데이터에 기초하여 컴퓨터-생성된 모델의 출력에서 값들을 생성하도록 구성되고, ―상기 컴퓨터-생성된 모델은 RF 케이블, 임피던스 매칭 회로, RF 송신 라인, 및 전극 중 적어도 하나에 기초하여 생성됨―;
상기 컴퓨터-생성된 모델로부터 출력된 상기 값들의 양을 카운팅하도록 구성되고;
상기 양이 카운트 임계치를 초과하는지를 결정하도록 구성되고;
상기 양이 상기 카운트 임계치를 초과한다고 결정하는 것에 응답하여, 상기 컴퓨터-생성된 모델로부터 출력된 상기 값들로부터 통계값을 생성하도록 구성되고; 그리고
상기 RF 생성기에 의해 생성된 상기 RF 신호를 조정하기 위해 상기 RF 생성기로 상기 통계값을 전송하도록 구성된, 상기 로직; 및
상기 컴퓨터-생성된 모델을 저장하도록 구성된 메모리 디바이스를 포함하는, 제어기.
제 53 항에 있어서,
상기 변수는 전력, 또는 주파수, 또는 전압 크기, 또는 전류 크기, 또는 복소 전압과 복소 전류 사이의 위상, 또는 복소 전류, 또는 복소 전압, 또는 이들의 조합을 포함하는, 제어기.
제 53 항에 있어서,
상기 임피던스 매칭 회로는 소스의 임피던스와 로드의 임피던스를 매칭시키며,
상기 소스는, 상기 RF 생성기 및 상기 RF 케이블을 포함하고,
상기 로드는 플라즈마 챔버 및 상기 RF 송신 라인을 포함하는, 제어기.
제 53 항에 있어서,
상기 전극은 플라즈마 챔버의 하부 전극이고,
상기 플라즈마 챔버는 상부 전극, 및 상기 상부 전극에 대면하는 척을 포함하고, 상기 척은 상기 하부 전극을 포함하는, 제어기.
제 53 항에 있어서,
상기 변수는 상기 RF 생성기와 상기 임피던스 매칭 회로 사이의 상기 RF 케이블 상의 일 포인트에서의 복소 전압 및 전류를 포함하는, 제어기.
제 53 항에 있어서,
상기 양은 복수의 상기 값들을 포함하고,
상기 통계값은 상기 값들의 이동 사분범위, 또는 상기 값들의 사분범위, 또는 상기 값들의 최대값, 또는 상기 값들의 최소값, 또는 상기 값들의 평균, 또는 상기 값들의 중간값, 또는 상기 값들의 분산, 또는 상기 값들의 표준 편차, 또는 상기 값들의 이동 평균, 또는 상기 값들의 이동 중간값, 또는 상기 값들의 이동 분산, 또는 상기 값들의 이동 표준 편차, 또는 상기 값들의 모드, 또는 상기 값들의 이동 모드, 또는 이들의 조합을 포함하는, 제어기.
제 53 항에 있어서,
상기 로직은 상기 통계값을 생성한 후 상기 수신된 데이터를 데시메이팅하도록 구성되는, 제어기.
로직으로서,
RF 생성기로부터 변수와 연관된 데이터를 수신하도록 구성되고;
상기 데이터에 기초하여 컴퓨터-생성된 모델의 출력에서 값들을 생성하도록 구성되고, ―상기 컴퓨터-생성된 모델은 RF 케이블, 임피던스 매칭 회로, RF 송신 라인, 및 전극 중 적어도 하나에 기초하여 생성됨―;
상기 컴퓨터-생성된 모델로부터 출력된 상기 값들의 양을 카운팅하도록 구성되고;
상기 양이 임계치를 초과하는지를 결정하도록 구성되고;
상기 양이 상기 임계치를 초과한다고 결정하는 것에 응답하여, 상기 컴퓨터-생성된 모델로부터 출력된 상기 값들로부터 통계값을 생성하도록 구성되고;
상기 통계값이 미리-결정된 범위 외부에 있는지를 결정하도록 구성되고;
상기 통계값이 상기 미리-결정된 범위 외부에 있다고 결정하는 것에 응답하여, 상기 미리-결정된 범위 내에 있도록 상기 통계값을 조정하도록 구성되고, ―상기 통계값은 조정된 통계값을 생성하도록 조정됨―; 그리고
상기 RF 생성기에 의해 생성된 상기 RF 신호를 조정하기 위해 상기 RF 생성기를 제어하기 위해 상기 RF 생성기로 상기 조정된 통계값을 전송하도록 구성되는, 상기 로직; 및
상기 컴퓨터-생성된 모델을 저장하도록 구성된 메모리 디바이스를 포함하는, 제어기.
제 60 항에 있어서,
상기 변수는 전력, 또는 주파수, 또는 전압 크기, 또는 전류 크기, 또는 복소 전압과 복소 전류 사이의 위상, 또는 복소 전류, 또는 복소 전압, 또는 이들의 조합을 포함하는, 제어기.
제 60 항에 있어서,
상기 임피던스 매칭 회로는 소스의 임피던스와 로드의 임피던스를 매칭시키며,
상기 소스는, 상기 RF 생성기 및 상기 RF 케이블을 포함하고,
상기 로드는 플라즈마 챔버 및 상기 RF 송신 라인을 포함하는, 제어기.
제 60 항에 있어서,
상기 전극은 플라즈마 챔버의 하부 전극이고,
상기 플라즈마 챔버는 척, 및 상기 척에 대면하는 상부 전극을 포함하고, 상기 척은 상기 하부 전극을 포함하는, 제어기.
제 60 항에 있어서,
상기 변수는 상기 RF 케이블 상의 일 포인트에서의 복소 전압 및 전류를 포함하는, 제어기.
로직으로서,
RF 생성기로부터 변수와 연관된 데이터를 수신하도록 구성되고;
상기 데이터에 기초하여 컴퓨터-생성된 모델의 출력에서 값들을 생성하도록 구성되고, ―상기 컴퓨터-생성된 모델은 RF 케이블, 임피던스 매칭 회로, RF 송신 라인, 및 전극 중 적어도 하나에 기초하여 생성됨―;
상기 컴퓨터-생성된 모델로부터 출력된 상기 값들의 양을 카운팅하도록 구성되고;
상기 양이 카운트 임계치를 초과하는지를 결정하도록 구성되고;
상기 양이 상기 카운트 임계치를 초과한다고 결정하는 것에 응답하여, 상기 컴퓨터-생성된 모델로부터 출력된 상기 값들로부터 통계값을 생성하도록 구성되고;
상기 통계값이 미리-결정된 정도 외부에 있는지를 결정하도록 구성되고;
상기 통계값이 상기 미리-결정된 정도 외부에 있다고 결정하는 것에 응답하여, 실패의 표시를 생성하도록 구성되고; 그리고
상기 실패의 표시를 상기 RF 생성기에 전송하도록 구성되는, 상기 로직; 및
상기 컴퓨터-생성된 모델을 저장하도록 구성된 메모리 디바이스를 포함하는, 제어기.
제 65 항에 있어서,
상기 로직은,
상기 통계값이 미리-결정된 범위 내에 있는지를 결정하도록 구성되고;
상기 통계값이 상기 미리-결정된 범위 외부에 있다고 결정하는 것에 응답하여, 상기 미리-결정된 범위 내에 있도록 상기 통계값을 조정하도록 구성되고, ―상기 통계값은 조정된 통계값을 생성하도록 조정됨―; 그리고
상기 임피던스 매칭 회로를 통해 플라즈마 챔버로 제공할 조정된 RF 신호를 생성하기 위해 상기 RF 생성기를 제어하기 위해 상기 RF 생성기로 상기 조정된 통계값을 전송하도록 구성되는, 제어기.
제 65 항에 있어서,
상기 변수는 전력, 또는 주파수, 또는 로드 임피던스의 실수 부분, 또는 로드 임피던스의 허수 부분, 또는 전압 크기, 또는 전류 크기, 또는 복소 전압과 복소 전류 사이의 위상, 또는 웨이퍼 바이어스, 또는 이온 에너지, 또는 플라즈마 전위, 또는 복소 전류, 또는 복소 전압, 또는 로드 임피던스, 또는 이들의 조합을 포함하는, 제어기.
제 65 항에 있어서,
상기 변수는 상기 RF 케이블 상의 일 포인트에서의 복소 전압 및 전류를 포함하는, 제어기.