KR102202462B1 - Dielectric composition and multilayer ceramic capacitor comprising the same - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 30
- 239000003985 ceramic capacitor Substances 0.000 title claims abstract description 25
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 71
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims abstract description 71
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 46
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 23
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 14
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 13
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 10
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 9
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 8
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 6
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 6
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 5
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 239000003574 free electron Substances 0.000 description 2
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000002075 main ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000011268 mixed slurry Substances 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000010405 reoxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B3/00—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties
- H01B3/02—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of inorganic substances
- H01B3/12—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of inorganic substances ceramics
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/46—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates
- C04B35/462—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates
- C04B35/465—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates based on alkaline earth metal titanates
- C04B35/468—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates based on alkaline earth metal titanates based on barium titanates
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- H—ELECTRICITY
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- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
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Abstract
본 개시는 유전체 조성물 및 이를 포함하는 적층 세라믹 커패시터에 관한 것으로, 본 개시에 따른 유전체 조성물은 모재 주성분 및 부성분을 포함하며, 상기 모재 주성분은 Bam(Ti(1-y)My)O3(0.990<m<1.015, 0.001≤y≤0.010)로 표시되며, 상기 전이금속(M)은 5가 전이금속 및 3가 전이금속 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 한다.The present disclosure relates to a dielectric composition and a multilayer ceramic capacitor including the same, wherein the dielectric composition according to the present disclosure includes a base material main component and subcomponent, and the base material main component is Ba m (Ti (1-y) M y ) O 3 ( 0.990<m<1.015, 0.001≤y≤0.010), and the transition metal M is characterized in that it contains at least one of a pentavalent transition metal and a trivalent transition metal.
Description
본 발명은 높은 유전율 및 우수한 신뢰성을 갖는 유전체 조성물 및 이를 포함하는 적층 세라믹 커패시터에 관한 것이다.The present invention relates to a dielectric composition having high dielectric constant and excellent reliability, and a multilayer ceramic capacitor including the same.
최근 영상 기기의 대형화, 컴퓨터의 CPU 속도 상승 등으로 인해 전자 기기의 발열이 심각해지고 있어, IC(Integrated Circuit; 집적회로)의 안정한 동작을 위해서 높은 온도에서 안정된 용량과 신뢰성을 확보할 수 있는 -X5R(-55℃~85℃까지 동작온도) 또는 X7R(-25℃~125℃까지 동작온도)급 기종에 대한 시장의 요구가 커지고 있다. Due to the recent increase in the size of video equipment and the increase in CPU speed of computers, heat generation of electronic equipment is getting serious, so -X5R that can secure stable capacity and reliability at high temperature for stable operation of IC (Integrated Circuit) There is a growing demand from the market for the (operating temperature from -55℃ to 85℃) or X7R (operating temperature from -25℃ to 125℃) class models.
이와 더불어, 일반적인 전자 제품 시장의 추세인 소형경량화, 다기능화에 부합하기 위해, 적층 세라믹 커패시터(MLCC) 칩 제품의 소형화, 고용량화, 승압화가 계속적으로 요구되고 있다. 따라서, 유전체 층의 박층화와 더불어 우수한 내전압 및 DC 특성이 X5R 또는 X7R급 기종 개발에서 중요하게 고려되고 있다.In addition, in order to meet the trend of miniaturization and weight reduction and multifunctionality, which are the general electronic product market trends, miniaturization, high capacity, and boosting of multilayer ceramic capacitor (MLCC) chip products are continuously required. Therefore, excellent dielectric strength and DC characteristics along with thinning of the dielectric layer are considered important in the development of X5R or X7R class models.
박층화, 승압화는 유전체 층에 걸리는 전계 세기를 높여 DC 특성과 내전압 특성을 악화시킨다. 특히, 박층화에 따른 미세 구조상의 결함이 BDV(Breakdown Voltage), 고온 IR 등의 내전압 특성에 미치는 영향을 더욱 심각하게 한다.Thinning and boosting increase the electric field strength applied to the dielectric layer and deteriorate the DC characteristics and withstand voltage characteristics. In particular, the effect of microstructure defects due to thinning on the breakdown voltage (BDV) and high-temperature IR characteristics is more serious.
이를 방지하기 위해서, 모재 주성분의 미립화가 필수적이나, 모재 주성분의 입자 크기가 작아지면 용량 온도 특성의 구현이 더욱 어려워지고 유전율이 감소한다. In order to prevent this, it is necessary to atomize the main component of the base material, but when the particle size of the main component of the base material decreases, it becomes more difficult to implement the capacitance temperature characteristic and the dielectric constant decreases.
이로 인해, 커패시터의 용량 구현이 되지 않으며, 박층화로 인해 유전율이 구현된다 하더라도 커패시터 내의 전계(electric field)가 강해지게 되어 원하는 신뢰성을 만족하지 못하는 문제점이 있다.For this reason, the capacitance of the capacitor is not implemented, and even if the dielectric constant is implemented due to the thin layer, the electric field in the capacitor becomes strong, and thus the desired reliability is not satisfied.
상기 문제를 해결하기 위해서는, 모재 주성분의 미립화 없이도 우수한 신뢰성 및 유전율을 가지는 유전체 조성물의 개발이 필요하다.In order to solve the above problem, it is necessary to develop a dielectric composition having excellent reliability and dielectric constant without atomization of the main component of the base material.
하기 특허문헌 1은 유전체 조성물 및 이를 포함하는 세라믹 전자부품에 관한 것이다.The following Patent Document 1 relates to a dielectric composition and a ceramic electronic component including the same.
본 발명은 높은 유전율 및 우수한 신뢰성을 갖는 유전체 조성물 및 이를 포함하는 적층 세라믹 커패시터에 관한 것이다.The present invention relates to a dielectric composition having high dielectric constant and excellent reliability, and a multilayer ceramic capacitor including the same.
본 개시의 일 실시 형태에 따른 유전체 조성물은 모재 주성분 및 부성분을 포함하며, 상기 모재 주성분은 Bam(Ti(1-y)My)O3(0.990<m<1.015, 0.001≤y≤0.010)로 표시되며, 상기 전이금속(M)은 5가 전이금속 또는 3가 전이금속을 포함할 수 있다.The dielectric composition according to an embodiment of the present disclosure includes a main component and a sub-component of the base material, and the main component of the base material is Ba m (Ti (1-y) M y ) O 3 (0.990<m<1.015, 0.001≤y≤0.010) The transition metal (M) may include a pentavalent transition metal or a trivalent transition metal.
본 개시의 일 실시 형태에 따른 적층 세라믹 커패시터는 유전체층과 제1 및 제2 내부전극이 교대로 적층된 구조를 포함하는 세라믹 본체; 및 상기 세라믹 본체의 양 단부에 형성되며, 상기 제1 및 제2 내부전극과 전기적으로 연결되는 제1 및 제2 외부전극;을 포함하고, 상기 유전체층은 모재 주성분 및 부성분을 포함하며, 상기 모재 주성분은 Bam(Ti(1-y)My)O3(0.990<m<1.015, 0.001≤y≤0.010)로 표시되며, 전이금속(M)은 5가 전이금속 또는 3가 전이금속을 포함할 수 있다.A multilayer ceramic capacitor according to an embodiment of the present disclosure includes: a ceramic body including a structure in which dielectric layers and first and second internal electrodes are alternately stacked; And first and second external electrodes formed at both ends of the ceramic body and electrically connected to the first and second internal electrodes, wherein the dielectric layer includes a base material main component and a sub-component, and the base material main component Is represented by Ba m (Ti (1-y) M y ) O 3 (0.990<m<1.015, 0.001≤y≤0.010), and transition metal (M) contains a pentavalent transition metal or a trivalent transition metal. I can.
본 개시는 모재 주성분에 전이금속을 도핑하여, 높은 유전율 및 우수한 신뢰성을 갖는 유전체 조성물 및 이를 포함하는 적층 세라믹 커패시터를 제공한다.The present disclosure provides a dielectric composition having a high dielectric constant and excellent reliability by doping a transition metal in a main component of a base material, and a multilayer ceramic capacitor including the same.
도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 적층 세라믹 커패시터를 나타내는 개략적인 사시도이다.
도 2는 도 1의 A-A'를 따라 취한 적층 세라믹 커패시터를 나타내는 개략적인 단면도이다.1 is a schematic perspective view showing a multilayer ceramic capacitor according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view illustrating a multilayer ceramic capacitor taken along line AA′ of FIG. 1.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 개시의 바람직한 실시형태들을 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present disclosure will be described with reference to the accompanying drawings.
그러나, 본 개시의 실시형태는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 개시의 범위가 이하 설명하는 실시 형태로 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 개시의 실시형태는 당해 기술 분야에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 개시를 더욱 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. However, the embodiments of the present disclosure may be modified in various other forms, and the scope of the disclosure is not limited to the embodiments described below. In addition, embodiments of the present disclosure are provided in order to more completely describe the present disclosure to those with average knowledge in the art.
따라서, 도면에서의 요소들의 형상 및 크기 등은 명확한 설명을 위해 과장될 수 있으며, 도면상의 동일한 부호로 표시되는 요소는 동일한 요소이다.Accordingly, the shape and size of elements in the drawings may be exaggerated for clarity, and elements indicated by the same reference numerals in the drawings are the same elements.
본 개시는 유전체 조성물에 관한 것으로, 유전체 조성물을 포함하는 전자부품은 커패시터, 인덕터, 압전체 소자, 바리스터, 또는 서미스터 등이 있으며, 이하에서는 유전체 조성물 및 전자부품의 일례로서 적층 세라믹 커패시터에 관하여 설명한다.The present disclosure relates to a dielectric composition, and electronic components including the dielectric composition include a capacitor, an inductor, a piezoelectric element, a varistor, or a thermistor. Hereinafter, a multilayer ceramic capacitor will be described as an example of the dielectric composition and the electronic component.
본 개시의 일 실시 형태에 따른 유전체 조성물은 모재 주성분 및 부성분을 포함하며, 상기 모재 주성분은 Bam(Ti(1-y)My)O3(0.990<m<1.015, 0.001≤y≤0.010)로 표시되며, 상기 전이금속(M)은 5가 전이금속 또는 3가 전이금속을 포함한다.The dielectric composition according to an embodiment of the present disclosure includes a main component and a sub-component of the base material, and the main component of the base material is Ba m (Ti (1-y) M y ) O 3 (0.990<m<1.015, 0.001≤y≤0.010) The transition metal (M) includes a pentavalent transition metal or a trivalent transition metal.
본 개시에 따른 유전체 조성물은 1180℃ 이하에서 환원분위기 소성이 가능하며, 상온에서 유전율이 6000 이상일 수 있다.The dielectric composition according to the present disclosure may be calcined in a reducing atmosphere at 1180° C. or lower, and may have a dielectric constant of 6000 or more at room temperature.
또한, 본 개시에 따른 유전체 조성물을 이용한 적층 세라믹 커패시터는 -55℃ 내지 85℃까지 동작할 수 있으며, 유전체층 내의 유전체 그레인의 입자 성장 없이도 높은 유전율 및 신뢰성을 확보할 수 있다.In addition, the multilayer ceramic capacitor using the dielectric composition according to the present disclosure can operate up to -55°C to 85°C, and secure high dielectric constant and reliability without growing particles of dielectric grains in the dielectric layer.
이하, 본 개시의 일 실시 형태에 따른 유전체 조성물의 각 성분을 보다 구체적으로 설명하도록 한다.Hereinafter, each component of the dielectric composition according to an embodiment of the present disclosure will be described in more detail.
모재 주성분Main ingredient of base material
본 발명의 일 실시 형태에 따른 유전체 조성물에 있어서, 모재 주성분은 모재 주성분은 Bam(Ti(1-y)My)O3(0.990<m<1.015, 0.001≤y≤0.010)로 표시되며, 상기 전이금속(M)은 5가 전이금속 또는 3가 전이금속을 포함한다.In the dielectric composition according to an embodiment of the present invention, the base material main component is represented by Ba m (Ti (1-y) M y ) O 3 (0.990<m<1.015, 0.001≤y≤0.010), The transition metal (M) includes a pentavalent transition metal or a trivalent transition metal.
상기 m 및 y의 값이 상기 모재 주성분에서 중요한 인자이다.The values of m and y are important factors in the main component of the base material.
상기 m은 0.990 내지 1.015이다.M is 0.990 to 1.015.
상기 m이 0.990 미만이면, 환원성 분위기 소성에서 Ba가 쉽게 환원되어 모재 주성분이 반도성 물로 변할 수 있다.When the m is less than 0.990, Ba is easily reduced in sintering in a reducing atmosphere, so that the main component of the base material may be changed to semiconductive water.
상기 m이 1.015를 초과하면, 소성 온도가 증가하는 문제가 발생할 수 있다.When m exceeds 1.015, a problem of increasing the firing temperature may occur.
상기 모재 주성분은 상기 전이금속이 도핑된 것으로 Bam(Ti(1-y)My)O3로 표시된다.The main component of the base material is doped with the transition metal and is represented by Ba m (Ti (1-y) M y ) O 3 .
상기 전이금속(M)은 5가 전이금속(M5+) 및 3가 전이금속(M3+) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The transition metal (M) may include at least one of a pentavalent transition metal (M 5+ ) and a trivalent transition metal (M 3+ ).
상기 전이금속은 Mn, Cr, V, Ni, Fe, Co 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The transition metal may include at least one of Mn, Cr, V, Ni, Fe, and Co.
상기 5가 전이금속은 티탄산바륨(BT: barium titanate)에 고용되어 자유전자를 생성하며, 상기 3가 전이금속은 상기 티탄산바륨의 불순물로써 작용하여 격자 내부에 홀(hole)을 생성한다. 이때, 자유전자와 홀의 비율이 한쪽으로 치우치게 되면, 최종 제품의 신뢰성에 치명적인 약점으로 작용하게 되어 문제가 발생할 수 있다. The pentavalent transition metal is dissolved in barium titanate (BT) to generate free electrons, and the trivalent transition metal acts as an impurity of the barium titanate to create holes in the lattice. At this time, if the ratio of free electrons and holes is skewed toward one side, it acts as a fatal weakness in the reliability of the final product, and a problem may occur.
또한, 상기 전이금속은 티탄산바륨에 고용되어도 원자가 전자가 변화될 수 있다. 이로 인해, 입자 내에서 구조적으로 에너지를 흡수 또는 방출할 수 있으며, 이러한 거동은 입자 내 트랩 에너지를 상승시킴으로써, 신뢰성 향상을 가능하게 한다.In addition, even if the transition metal is dissolved in barium titanate, valence electrons may be changed. Due to this, energy can be structurally absorbed or released in the particle, and this behavior increases the trap energy in the particle, thereby enabling improved reliability.
그러나, 전이금속의 함량이 일정 범위를 벗어나게 될 경우, 전체 전하 비율의 균형이 무너지게 되어, 상온 또는 고온에서 IR값이 감소할 수 있으며, 이로 인해 신뢰성을 확보하지 못하게 된다.However, when the content of the transition metal is out of a certain range, the balance of the total charge ratio is broken, and the IR value may decrease at room temperature or high temperature, and thus reliability cannot be secured.
본 개시의 유전체 조성물에 따르면, 상기 5가 전이금속의 몰(mole) 농도를 α라 하고, 상기 3가 전이금속의 몰 농도를 β라 할 때, y=α+β 이고, 상기 5가 전이금속에 대한 상기 3가 전이금속의 함량비는 0.4≤α/β≤2.0을 만족할 수 있다.According to the dielectric composition of the present disclosure, when the mole concentration of the pentavalent transition metal is α and the molar concentration of the trivalent transition metal is β, y=α+β, and the pentavalent transition metal The content ratio of the trivalent transition metal to may satisfy 0.4≦α/β≦2.0.
상기 5가 전이금속의 함량은 α≥0을 만족하며, 상기 3가 전이금속의 함량은 β>0을 만족할 수 있다.The content of the pentavalent transition metal may satisfy α≥0, and the content of the trivalent transition metal may satisfy β>0.
유전체 층의 입자 개수가 유전체 층의 유전율에 큰 영향을 미칠 경우, 입자 내 전이금속의 분포는 커패시터의 신뢰성에 큰 영향을 줄 수 있다.When the number of particles in the dielectric layer has a great influence on the dielectric constant of the dielectric layer, the distribution of transition metals in the particles can have a great influence on the reliability of the capacitor.
유전체 층 내 입자의 전이금속 농도가 불연속적이면, 전이금속이 균일하게 고용되지 않은 것이다.If the transition metal concentration of the particles in the dielectric layer is discontinuous, the transition metal is not uniformly dissolved.
상기 5가 전이금속에 대한 상기 3가 전이금속의 함량비가 0.4≤α/β≤2.0을 만족하면, 입자 내 상기 전이금속이 최대로 고용될 수 있어, 입자 내 트랩(trap) 에너지를 증가시킬 수 있으며, 이로 인해 유전체층 의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.When the content ratio of the trivalent transition metal to the pentavalent transition metal satisfies 0.4≤α/β≤2.0, the transition metal in the particles can be dissolved at the maximum, thereby increasing the trap energy in the particles. In this way, the reliability of the dielectric layer can be improved.
상기 5가 전이금속에 대한 상기 3가 전이금속의 함량비가 0.4 미만이면, 입자 내 전이금속의 농도가 불연속적일 수 있으며, 전이금속으로 인한 효과를 얻을 수 없다.When the content ratio of the trivalent transition metal to the pentavalent transition metal is less than 0.4, the concentration of the transition metal in the particles may be discontinuous, and effects due to the transition metal cannot be obtained.
상기 5가 전이금속에 대한 상기 3가 전이금속의 함량비가 2.0을 초과하면, 입자 내 전이금속이 과하게 고용되어, 커패시터의 유전율이 감소할 수 있으며 노화(aging)를 증가시킬 수 있다.When the content ratio of the trivalent transition metal to the pentavalent transition metal exceeds 2.0, the transition metal in the particles is excessively dissolved, so that the dielectric constant of the capacitor may decrease and aging may increase.
상기 y는 5가 전이금속의 함량과 3가 전이금속의 함량의 합으로, 0.001 내지 0.010을 만족할 수 있다.The y is the sum of the content of the pentavalent transition metal and the content of the trivalent transition metal, and may satisfy 0.001 to 0.010.
상기 y가 0.001 미만이면 커패시터의 내환원성의 구현이 어려울 수 있으며, 상기 y가 0.010을 초과하면 커패시터의 노화가 증가되고, 고온 IR 열화가 발생할 수 있으며, 유전율이 감소할 수 있다.If y is less than 0.001, it may be difficult to implement reduction resistance of the capacitor, and if y exceeds 0.010, aging of the capacitor may increase, high temperature IR deterioration may occur, and dielectric constant may decrease.
부성분Minor ingredients
본 개시의 일 실시 형태에 따르면, 상기 유전체 조성물은 모재 주성분과 부성분을 포함하며, 상기 부성분은 상기 모재 주성분 100 몰에 대하여, Mg, Ba 및 Ca 중 적어도 하나를 포함하는 산화물 또는 탄화물인 0.5 내지 1.4 몰의 제1 부성분, Si를 포함하는 산화물 또는 Si를 포함하는 글라스(Glass) 화합물인 제2 부성분, Dy, Y, Sn, Ho 및 Gd 중 적어도 하나를 포함하는 산화물인 0.6 내지 1.5 몰의 제3 부성분 및 Al을 포함하는 산화물인 제4 부성분을 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present disclosure, the dielectric composition includes a main component and a minor component of the base material, and the minor component is 0.5 to 1.4, which is an oxide or carbide containing at least one of Mg, Ba, and Ca based on 100 moles of the base material main component. Mole of the first sub-component, an oxide containing Si or a second sub-component of a glass compound containing Si, and a third of 0.6 to 1.5 mol of an oxide containing at least one of Dy, Y, Sn, Ho and Gd It may include a subcomponent and a fourth subcomponent which is an oxide containing Al.
상기 본 개시의 모재 주성분으로써 커패시터의 내환원성 구현이 가능할 수 있으나, 유전체층이 모재 주성분으로만 구성될 경우, 소결온도가 높아질 수 있으며, 적층 세라믹 커패시터의 중요한 온도 특성을 만족하기 어려울 수 있다.The reduction resistance of the capacitor may be realized as the main component of the base material of the present disclosure. However, when the dielectric layer is composed of only the base material, the sintering temperature may increase, and it may be difficult to satisfy the important temperature characteristics of the multilayer ceramic capacitor.
본 개시에 따르면, 상기의 문제를 해결하기 위해, 상기 부성분은 상기 모재 주성분 100 몰에 대하여, Mg, Ba 및 Ca 중 적어도 하나를 포함하는 산화물 또는 탄화물인 0.5 내지 1.4 몰의 제1 부성분, Si를 포함하는 산화물 또는 Si를 포함하는 글라스(Glass) 화합물인 제2 부성분, Dy, Y, Sn, Ho 및 Gd 중 적어도 하나를 포함하는 산화물인 0.6 내지 1.5 몰의 제3 부성분 및 Al을 포함하는 산화물인 제4 부성분을 포함할 수 있다.According to the present disclosure, in order to solve the above problem, the subcomponent comprises 0.5 to 1.4 moles of the first subcomponent, Si, which is an oxide or carbide containing at least one of Mg, Ba, and Ca with respect to 100 moles of the main component of the base material. Oxide containing or a second subcomponent which is a glass compound containing Si, 0.6 to 1.5 mol of the third subcomponent which is an oxide containing at least one of Dy, Y, Sn, Ho, and Gd, and an oxide containing Al It may contain a fourth accessory ingredient.
상기 제1 부성분은 Mg, Ba 및 Ca 중 적어도 하나를 포함하는 산화물 또는 탄화물일 수 있다.The first accessory ingredient may be an oxide or carbide containing at least one of Mg, Ba, and Ca.
상기 제1 부성분은 유전체 입자의 쉘을 형성하는데 중요한 영향을 주는 원소로써, 소결 안정성 및 유전특성의 구현에 주요한 인자이다.The first subcomponent is an element that has an important influence on forming a shell of the dielectric particles, and is a major factor in realizing sintering stability and dielectric properties.
상기 제1 부성분의 함량은 상기 모재 주성분 100 몰에 대하여, 0.5 내지 1.4 몰일 수 있다.The content of the first subcomponent may be 0.5 to 1.4 moles based on 100 moles of the main component of the base material.
상기 제1 부성분의 함량이 0.5 몰 미만이면 커패시터의 신뢰성 및 소결 안정성이 감소할 수 있으며, 제1 부성분의 함량이 1.4몰을 초과하면, 커패시터 제작시 소성온도가 증가할 수 있으며, 커패시터의 유전율이 감소할 수 있다.If the content of the first sub-component is less than 0.5 mol, the reliability and sintering stability of the capacitor may decrease, and if the content of the first sub-component exceeds 1.4 mol, the firing temperature may increase when manufacturing the capacitor, and the dielectric constant of the capacitor is Can decrease.
제2 부성분은 Si를 포함하는 산화물 또는 Si를 포함하는 글라스(Glass) 화합물일 수 있다.The second subcomponent may be an oxide containing Si or a glass compound containing Si.
제2 부성분은 커패시터 제작시 소성 온도를 제어하는 역할을 할 수 있다.The second subcomponent may play a role of controlling a firing temperature when manufacturing a capacitor.
제2 부성분의 함량은, 상기 제1 부성분의 함량을 a라 하고 제2 부성분의 함량을 b라 할 때, a≤b≤2a를 만족할 수 있다.The content of the second sub-component may satisfy a≦b≦2a when a is the content of the first sub-component and b is the content of the second sub-component.
상기 제2 부성분의 함량이 제1 부성분의 함량 미만이면(a>b), 소성 온도가 상승할 수 있으며, 이로 인해 내부전극의 연결성이 감소되며, 유전율이 감소하는 문제가 발생할 수 있다.If the content of the second sub-component is less than the content of the first sub-component (a>b), the firing temperature may increase, thereby reducing the connectivity of the internal electrodes and reducing the dielectric constant.
제2 부성분의 함량이 제1 부성분의 함량의 2배를 초과하면(b>2a), Si의 2차상이 유전체 입자의 계면에 존재할 수 있으며, 이로 인해 커패시터의 신뢰성이 감소하며 TCC(Temperature Coefficient of Capacitance) 특성을 불안정하게 하는 문제가 발생할 수 있다.If the content of the second sub-component exceeds twice the content of the first sub-component (b>2a), the secondary phase of Si may exist at the interface of the dielectric particles, which reduces the reliability of the capacitor and reduces the temperature coefficient of TCC (Temperature Coefficient of Capacitance) characteristics may be unstable.
상기 제3 부성분은 Dy, Y, Sn, Ho 및 Gd 중 적어도 하나를 포함하는 산화물일 수 있다.The third accessory ingredient may be an oxide containing at least one of Dy, Y, Sn, Ho, and Gd.
상기 제3 부성분은 커패시터의 유전율, 신뢰성 및 TCC 특성과 같은 커패시터의 특성을 구현함에 있어서 가장 중요한 원소이다.The third sub-component is the most important element in implementing characteristics of a capacitor such as dielectric constant, reliability, and TCC characteristics of the capacitor.
상기 제3 부성분의 함량은 상기 모재 주성분 100 몰에 대하여, 0.6 내지 1.5 몰일 수 있다.The content of the third subcomponent may be 0.6 to 1.5 moles based on 100 moles of the main component of the base material.
상기 제3 부성분의 함량이 0.6 몰 미만이면 커패시터의 유전율이 감소하게 되어 고용량 제품 특성이 구현되지 않을 수 있으며, 상기 제3 부성분의 함량이 1.5몰을 초과하면 커패시터의 상온 IR 및 고온 가속 수명이 현저히 감소할 수 있다.If the content of the third sub-component is less than 0.6 mol, the dielectric constant of the capacitor decreases, so that high-capacity product characteristics may not be realized.If the content of the third sub-component exceeds 1.5 mol, the room temperature IR and high-temperature acceleration life of the capacitor are significantly reduced. Can decrease.
상기 제4 부성분은 Al을 포함하는 산화물일 수 있다.The fourth subcomponent may be an oxide containing Al.
상기 제4 부성분은 커패시터 제조 시 소성온도 저하 및 소성 윈도우(window)를 넓혀주는 원소이다.The fourth subcomponent is an element that lowers the firing temperature and widens the firing window when manufacturing the capacitor.
상기 제4 부성분의 함량은 상기 모재 주성분 100 몰에 대하여, 0.1 내지 0.5 몰일 수 있다.The content of the fourth subcomponent may be 0.1 to 0.5 moles based on 100 moles of the main component of the base material.
도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 적층 세라믹 커패시터(100)를 나타내는 개략적인 사시도이고, 도 2는 도 1의 A-A'를 따라 취한 적층 세라믹 커패시터(100)를 나타내는 개략적인 단면도이다.1 is a schematic perspective view illustrating a multilayer
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 적층 세라믹 커패시터(100)는 유전체층(111)과 제1 및 제2 내부 전극(121, 122)이 교대로 적층된 구조를 포함하는 세라믹 본체(110)를 가진다. 1 and 2, a multilayer
세라믹 본체(110)의 양 단부에는 세라믹 본체(110)의 내부에 교대로 배치된 제1 및 제2 내부 전극(121, 122)과 각각 도통하는 제1 및 제2 외부 전극(131, 132)이 형성되어 있다.At both ends of the
세라믹 본체(110)의 형상에 특별히 제한은 없지만, 일반적으로 직방체 형상일 수 있다. 또한, 그 치수도 특별히 제한은 없고, 용도에 따라 적절한 치수로 할 수 있다.Although there is no particular limitation on the shape of the
유전체층(111)의 두께는 커패시터의 용량 설계에 맞추어 임의로 변경할 수 있으며, 본 개시의 일 실시예에서 소성 후 유전체층의 두께는 1층당 바람직하게는 0.2㎛ 이상일 수 있다.The thickness of the
상기 유전체층의 두께가 0.2㎛ 미만이면, 한 층 내 존재하는 결정립 수가 작아 신뢰성이 저하될 수 있다.When the thickness of the dielectric layer is less than 0.2 μm, the number of crystal grains in one layer is small, and reliability may be degraded.
제1 및 제2 내부 전극(121, 122)은 각 단면이 세라믹 본체(110)의 대향하는 양 단부의 표면에 교대로 노출되도록 적층되어 있다. The first and second
상기 제1 및 제2 외부 전극(131, 132)은 세라믹 본체(110)의 양 단부에 형성되고, 교대로 배치된 제1 및 제2 내부 전극(121, 122)의 노출 단면에 전기적으로 연결되어 커패시터 회로를 구성한다.The first and second
상기 제1 및 제2 내부 전극(121, 122)에 함유되는 도전성 재료는 특별히 한정되지 않지만, 본 발명의 일 실시형태에 따른 유전체층의 구성 재료가 상유전체 재료와 강유전체 재료의 혼합 또는 고용된 형태를 가지므로, 귀금속을 이용할 수 있다.The conductive material contained in the first and second
상기 도전성 재료로서 이용하는 귀금속으로는 팔라듐(Pd) 또는 팔라듐(Pd) 합금일 수 있다. The noble metal used as the conductive material may be a palladium (Pd) or a palladium (Pd) alloy.
팔라듐(Pd) 합금으로는, 망간(Mn), 크롬(Cr), 코발트(Co) 및 알루미늄(Al)에서 선택되는 1종 이상의 원소와 팔라듐(Pd)의 합금일 수 있고, 합금 중의 팔라듐(Pd) 함유량은 95중량% 이상일 수 있다.The palladium (Pd) alloy may be an alloy of at least one element selected from manganese (Mn), chromium (Cr), cobalt (Co) and aluminum (Al) and palladium (Pd), and palladium (Pd) in the alloy ) The content may be 95% by weight or more.
상기 도전성 재료로서 이용하는 귀금속으로는 은(Ag) 또는 은(Ag) 합금일 수도 있다.The noble metal used as the conductive material may be a silver (Ag) or a silver (Ag) alloy.
상기 제1 및 제2 내부 전극(121, 122)의 두께는 용도 등에 따라 적절히 결정할 수 있으며 특별히 제한되는 것은 아니나, 예를 들면, 0.1 내지 5㎛ 또는 0.1 내지 2.5㎛일 수 있다.The thickness of the first and second
상기 제1 및 제2 외부 전극(131, 132)에 함유되는 도전성 재료는 특별히 한정되지 않지만, 니켈(Ni), 구리(Cu), 또는 이들 합금을 이용할 수 있다. The conductive material contained in the first and second
상기 제1 및 제2 외부 전극(131, 132)의 두께는 용도 등에 따라 적절히 결정할 수 있으며 특별히 제한되는 것은 아니나, 예를 들면 10 내지 50㎛ 일 수 있다.The thickness of the first and second
상기 세라믹 본체(110)를 구성하는 유전체층(111)은 본 발명의 일 실시형태에 따른 유전체 조성물을 포함할 수 있다.The
본 발명의 일 실시 형태에 따른 유전체 조성물은 모재 주성분과 부성분을 포함하며, 모재 주성분 및 부성분을 포함하며, 상기 모재 주성분은 Bam(Ti(1-y)My)O3(0.990<m<1.015, 0.001≤y≤0.010)로 표시되며, 전이금속(M)은 5가 전이금속 및 3가 전이금속 중 적어도 하나를 포함한다.The dielectric composition according to an embodiment of the present invention includes a main component and a sub-component of a base material, and includes a main and sub-component of a base material, and the main component of the base material is Ba m (Ti (1-y) M y ) O 3 (0.990 <m< 1.015, 0.001≦y≦0.010), and the transition metal M includes at least one of a pentavalent transition metal and a trivalent transition metal.
상기 전이금속은 Mn, Cr, V, Ni, Fe, Co 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The transition metal may include at least one of Mn, Cr, V, Ni, Fe, and Co.
상기 5가 전이금속의 몰(mole) 농도를 α라 하고, 상기 3가 전이금속의 몰 농도를 β라 할 때, y=α+β 이고, 상기 5가 전이금속에 대한 상기 3가 전이금속의 함량비는 0.4≤α/β≤2.0을 만족할 수 있다.When the molar concentration of the pentavalent transition metal is α and the molar concentration of the trivalent transition metal is β, y=α+β, and the trivalent transition metal with respect to the pentavalent transition metal The content ratio may satisfy 0.4≦α/β≦2.0.
상기 부성분은 상기 모재 주성분 100 몰에 대하여, Mg, Ba 및 Ca 중 적어도 하나를 포함하는 산화물 또는 탄화물인 0.5 내지 1.4 몰의 제1 부성분, Si를 포함하는 산화물 또는 Si를 포함하는 글라스(Glass) 화합물인 제2 부성분, Dy, Y, Sn, Ho 및 Gd 중 적어도 하나를 포함하는 산화물인 0.6 내지 1.5 몰의 제3 부성분 및 Al을 포함하는 산화물인 제4 부성분을 포함할 수 있다.The sub-component is a first sub-component of 0.5 to 1.4 mol of an oxide or carbide containing at least one of Mg, Ba, and Ca based on 100 mol of the main component of the base material, an oxide containing Si, or a glass compound containing Si The phosphorus second subcomponent, Dy, Y, Sn, Ho, and Gd may include 0.6 to 1.5 moles of a third subcomponent, which is an oxide including at least one, and a fourth subcomponent which is an oxide including Al.
상기 제1 부성분의 함량을 a라 하고, 제2 부성분의 함량을 b라 할 때, 상기 제2 부성분의 함량은 a≤b≤2a를 만족할 수 있다.When the content of the first sub-component is a and the content of the second sub-component is b, the content of the second sub-component may satisfy a≦b≦2a.
제4 부성분의 함량은 0.1 내지 0.5 몰일 수 있다.The content of the fourth accessory ingredient may be 0.1 to 0.5 mol.
상기 유전체 조성물에 대한 구체적인 설명은 상술한 본 개시의 일 실시 형태에 따른 유전체 조성물의 특징과 동일하므로 여기서는 생략하도록 한다.A detailed description of the dielectric composition is the same as the features of the dielectric composition according to the exemplary embodiment described above, and thus will be omitted herein.
이하, 실시예 및 비교예를 통하여 본 개시를 더욱 상세히 설명하지만, 이는 발명의 구체적인 이해를 돕기 위한 것으로 본 개시의 범위가 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present disclosure will be described in more detail through examples and comparative examples, but this is to help a specific understanding of the invention, and the scope of the present disclosure is not limited by the examples.
(실시예)(Example)
유전체 조성물은 모재 주성분 및 부성분의 조성 및 함량을 하기 표1과 같이 조절하였다.In the dielectric composition, the composition and content of the main and sub-components of the base material were adjusted as shown in Table 1 below.
슬러리 제작 시 모재 주성분 및 부성분 파우더를 지르코니아 볼을 혼합/분산 메디아로 사용하고, 에탄올/톨루엔과 분산제 및 바인더를 혼합 후 APEX mill을 사용하여 혼합하였다. When preparing the slurry, zirconia balls were used as a mixing/dispersing media for the base material main component and minor component powder, and ethanol/toluene, a dispersant, and a binder were mixed and then mixed using an APEX mill.
제조된 혼합 슬러리는 소형 블레이트(blade) 방식의 성형 코터(coater)를 이용하여 1.0μm 내지 3μm의 두께로 성형 시트를 제조하였다.The prepared mixed slurry was formed into a molded sheet having a thickness of 1.0 μm to 3 μm using a small blade type coater.
성형 시트에 니켈(Ni) 내부전극을 인쇄하였으며, 상하 커버는 커버용 시트(~3μm 두께)를 수십 층으로 적층하여 제작하였고, 내부전극이 인쇄된 시트들을 가압하여 적층하여 바(bar)를 제작하였다. 압착바는 절단기를 이용하여 3216(길이×폭이 약 3.2mm×1.6mm) 크기의 칩으로 절단하였다. Nickel (Ni) internal electrodes were printed on the molding sheet, and the top and bottom covers were made by stacking dozens of layers of cover sheets (~3μm thick), and the sheets with the internal electrodes printed were laminated by pressing to produce a bar. I did. The pressing bar was cut into 3216 (length × width approximately 3.2 mm × 1.6 mm) chips using a cutter.
절단된 칩을 가소한 뒤에 환원 분위기(0.1% H2/99.9% N2, H2O/H2/N2 분위기)에서 1050 ~ 1150℃의 온도에서 1시간 소성 후, 1000℃에서 2시간 동안 재산화 열처리를 하였다.After calcining the cut chips, calcined for 1 hour at a temperature of 1050 to 1150°C in a reducing atmosphere (0.1% H 2 /99.9% N 2 , H 2 O/H 2 /N 2 atmosphere), and then at 1000°C for 2 hours Reoxidation heat treatment was performed.
상기 소성된 칩에 대하여 구리(Cu) 페이스트로 터미네이션 공정 및 전극 소성을 거쳐 외부전극을 완성하였다.The fired chip was subjected to a termination process and electrode firing with a copper (Cu) paste to complete an external electrode.
상기와 같이 완성된 적층 세라믹 커패시터에 대해 상온 정전 용량, 유전손실, TCC 특성, 고온 신뢰성 등을 평가하였다.Room temperature capacitance, dielectric loss, TCC characteristics, and high temperature reliability were evaluated for the multilayer ceramic capacitor completed as described above.
적층 세라믹 커패시터(MLCC) 칩의 상온 정전 용량 및 유전 손실은 LCR-meter를 이용하여 1 kHz, AC 0.5V/㎛ 조건에서 측정하였다.Room temperature capacitance and dielectric loss of a multilayer ceramic capacitor (MLCC) chip were measured at 1 kHz and AC 0.5V/µm using an LCR-meter.
온도에 따른 정전용량의 변화는 -55℃에서 85℃의 온도 범위에서 1 kHz, AC 1.0 V/㎛ 조건으로 용량 값을 측정, 25℃ 상온 대비 용량 변화율을 계산하였다.As for the change in capacitance with temperature, the capacity value was measured under conditions of 1 kHz and AC 1.0 V/㎛ in the temperature range of -55°C to 85°C, and the rate of change in capacity compared to room temperature at 25°C was calculated.
정전 용량과 적층 세라믹 커패시터(MLCC) 칩의 유전체 두께, 내부전극 면적, 적층수로부터 적층 세라믹 커패시터(MLCC) 칩의 유전율(상대유전율)을 계산하였다. The dielectric constant (relative dielectric constant) of the multilayer ceramic capacitor (MLCC) chip was calculated from the capacitance, the dielectric thickness of the multilayer ceramic capacitor (MLCC) chip, the internal electrode area, and the number of stacks.
고온 IR 승압 시험은 130℃에서 1Vr= 10V/㎛의 조건에서 수행하여 고온 신뢰성을 평가하였다.The high-temperature IR boost test was performed at 130° C. under the condition of 1Vr=10V/µm to evaluate the high-temperature reliability.
β 0.0005α 0.0003
β 0.0005
β 0.0005α 0.0005
β 0.0005
β 0.0020α 0.0020
β 0.0020
β 0.0050α 0.0050
β 0.0050
β 0.0020α 0.0010
β 0.0020
β 0.0030α 0.0010
β 0.0030
β 0.0010α 0.0020
β 0.0010
β 0.0010α 0.0030
β 0.0010
β 0.0010α 0.0010
β 0.0010
β 0.0010α 0.0010
β 0.0010
β 0.0010α 0.0010
β 0.0010
β 0.0005α 0.0003
β 0.0005
β 0.0010α 0.0010
β 0.0010
β 0.0010α 0.0010
β 0.0010
β 0.0010α 0.0010
β 0.0010
β 0.0010α 0.0010
β 0.0010
β 0.0010α 0.0010
β 0.0010
β 0.0010α 0.0010
β 0.0010
β 0.0010α 0.0010
β 0.0010
β 0.0010α 0.0010
β 0.0010
BaO 0.004CaO 0.006
BaO 0.004
β 0.0010α 0.0010
β 0.0010
BaO 0.004MgO 0.006
BaO 0.004
β 0.0010α 0.0010
β 0.0010
MgO 0.004CaO 0.006
MgO 0.004
β 0.0010α 0.0010
β 0.0010
β 0.0010α 0.0010
β 0.0010
β 0.0010α 0.0010
β 0.0010
β 0.0010α 0.0010
β 0.0010
β 0.0010α 0.0010
β 0.0010
CgO 0.008BaO 0.008
CgO 0.008
*: 비교예*: Comparative example
(85℃)TCC(%)
(85℃)
(130℃)High temperature acceleration life (Vr)
(130℃)
(85℃)TCC
(85℃)
(130℃)High temperature acceleration life
(130℃)
○: 양호, ×: 불량을 나타냄.*: 비교예○: good, ×: indicates poor. *: Comparative example
상기 표 2를 참조하면, 본 개시의 일 실시 형태에 따른 유전체 조성물을 포함하는 적층 세라믹 커패시터는 유전율이 6000 이상을 가지며, 안정적인 고온가속수명인 4Vr 이상의 값을 가지는 경향을 보이므로, 높은 유전율 및 우수한 신뢰성 확보가 가능함을 알 수 있다.Referring to Table 2, since the multilayer ceramic capacitor including the dielectric composition according to an embodiment of the present disclosure has a dielectric constant of 6000 or more, and tends to have a value of 4Vr or more, which is a stable high-temperature acceleration life, high dielectric constant and excellent It can be seen that reliability can be secured.
반면, 비교예 1의 경우 0.001≤y≤0.010의 범위를 만족하지 못하는 경우로서, 고온가속수명이 저하되는 부작용이 있음을 알 수 있다.On the other hand, in the case of Comparative Example 1, when the range of 0.001≤y≤0.010 is not satisfied, it can be seen that there is a side effect of lowering the high temperature acceleration life.
비교예 6 및 8은 0.4≤α/β≤2.0을 만족하지 못한 경우이다.In Comparative Examples 6 and 8, 0.4≦α/β≦2.0 was not satisfied.
*비교예 6은 α/β이 0.4 미만일 경우 즉, 5가 전이금속의 몰농도에 비해 3가의 전이금속이 상대적으로 많은 경우로서, 커패시터의 유전율이 확보되지 못한 것을 알 수 있다.*Comparative Example 6 is a case where α/β is less than 0.4, that is, when there are relatively many trivalent transition metals compared to the molar concentration of the pentavalent transition metal, and it can be seen that the dielectric constant of the capacitor is not secured.
비교예 8은 α/β이 2.0을 초과하는 경우로서, 고온 신뢰성이 확보되지 못한 것을 알 수 있다.In Comparative Example 8, when α/β exceeded 2.0, it can be seen that high temperature reliability was not secured.
비교예 9, 13 및 27은 상기 모재 주성분 1몰에 대하여 제1 부성분의 함량 범위 0.005 내지 0.014 몰을 만족하지 못한 경우를 나타낸다.Comparative Examples 9, 13, and 27 show a case where the content range of 0.005 to 0.014 moles of the first subcomponent is not satisfied with respect to 1 mole of the main component of the base material.
비교예 9는 제1 부성분의 함량이 0.005 몰 미만인 경우로서, 커패시터의 고온 신뢰성이 저하되며, 소결 안정성의 저하로 인하여 소결온도가 상승한 것을 알 수 있다.In Comparative Example 9, when the content of the first subcomponent is less than 0.005 mol, it can be seen that the high temperature reliability of the capacitor is deteriorated, and the sintering temperature is increased due to the decrease in sintering stability.
비교예 13 및 27은 제1 부성분의 함량이 0.014 몰을 초과한 경우로서, 소결온도가 높아지고, 유전율이 6000 미만으로 높은 유전율을 확보하지 못한 것을 알 수 있다.In Comparative Examples 13 and 27, when the content of the first subcomponent exceeded 0.014 mol, the sintering temperature was increased and the dielectric constant was less than 6000, indicating that a high dielectric constant was not secured.
비교예 23 은 제2 부성분의 함량이 제1 부성분의 함량보다 적은 경우로서, 소성온도가 상승한 것을 알 수 있다.In Comparative Example 23, when the content of the second sub-component is less than the content of the first sub-component, it can be seen that the firing temperature is increased.
비교예 26은 제2 부성분의 함량이 제1 부성분의 함량의 2배를 초과한 경우로서, 고온 신뢰성이 저하되고 TCC 특성이 불안정한 것을 알 수 있다.In Comparative Example 26, when the content of the second subcomponent exceeds twice the content of the first subcomponent, it can be seen that the high temperature reliability is deteriorated and the TCC characteristics are unstable.
비교에 14 및 19는 상기 모재 주성분 1몰에 대하여 제3 부성분의 함량 범위 0.006 내지 0.015 몰을 만족하지 못한 경우를 나타낸다.In comparison, 14 and 19 show cases where the content range of 0.006 to 0.015 moles of the third subcomponent is not satisfied with respect to 1 mole of the main component of the base material.
비교예 14는 제3 부성분의 함량이 0.006 몰 미만인 경우로서 커패시터의 유전율이 감소된 것을 알 수 있으며, 비교예 19는 제3 부성분의 함량이 0.015 몰을 초과한 경우로서 고속 가속 수명이 현저히 감소된 것을 알 수 있다.In Comparative Example 14, when the content of the third accessory ingredient was less than 0.006 mol, the dielectric constant of the capacitor was decreased, and Comparative Example 19 was the case where the content of the third accessory ingredient exceeded 0.015 mol, and the high-speed acceleration life was significantly reduced. Can be seen.
본 개시는 상술한 실시형태 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니며 첨부된 청구범위에 의해 한정하고자 한다.The present disclosure is not limited by the above-described embodiments and the accompanying drawings, but is intended to be limited by the appended claims.
따라서, 청구범위에 기재된 본 개시의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 형태의 치환, 변형 및 변경이 가능할 것이며, 이 또한 본 개시의 범위에 속한다고 할 것이다.Therefore, various types of substitutions, modifications and changes will be possible by those of ordinary skill in the art within the scope not departing from the technical spirit of the present disclosure described in the claims, and this also belongs to the scope of the present disclosure. something to do.
100: 적층 세라믹 커패시터 110: 세라믹 본체
111: 유전체층 121, 122: 제1 및 제2 내부전극
131, 132: 제1 및 제2 외부전극 100: multilayer ceramic capacitor 110: ceramic body
111:
131, 132: first and second external electrodes
Claims (12)
상기 모재 주성분은 Bam(Ti(1-y)My)O3(0.990<m<1.015, 0.001≤y≤0.010)로 표시되며, 상기 전이금속(M)은 5가 전이금속 및 3가 전이금속 중 적어도 하나를 포함하고,
상기 부성분은 상기 모재 주성분 100 몰에 대하여,
Mg, Ba 및 Ca 중 적어도 하나를 0.5 내지 1.4 몰의 범위로 포함하는 제1 부성분 및
Dy, Y, Sn, Ho 및 Gd 중 적어도 하나를 0.6 내지 1.5 몰의 범위로 포함하는 제3 부성분을 포함하는 유전체 조성물.
It contains the main component and subcomponent of the parent material,
The main component of the base material is represented by Ba m (Ti (1-y) M y ) O 3 (0.990<m<1.015, 0.001≤y≤0.010), and the transition metal (M) is a pentavalent transition metal and a trivalent transition Contains at least one of metals,
The subcomponent is based on 100 moles of the main component of the base material,
A first subcomponent comprising at least one of Mg, Ba, and Ca in the range of 0.5 to 1.4 moles, and
A dielectric composition comprising a third subcomponent including at least one of Dy, Y, Sn, Ho, and Gd in the range of 0.6 to 1.5 moles.
상기 부성분은
Si를 포함하는 산화물 또는 Si를 포함하는 글라스(Glass) 화합물인 제2 부성분 및
Al을 포함하는 산화물인 제4 부성분을 포함하는 유전체 조성물.
According to claim 1
The sub-component is
A second subcomponent that is an oxide containing Si or a glass compound containing Si, and
A dielectric composition comprising a fourth subcomponent that is an oxide containing Al.
상기 전이금속은 Mn, Cr, V, Ni, Fe, Co 중 적어도 하나를 포함하는 유전체 조성물.
The method of claim 1,
The transition metal is a dielectric composition comprising at least one of Mn, Cr, V, Ni, Fe, and Co.
상기 5가 전이금속의 몰(mole) 농도를 α라 하고, 상기 3가 전이금속의 몰 농도를 β라 할 때, y=α+β 이고, 상기 5가 전이금속에 대한 상기 3가 전이금속의 함량비는 0.4≤α/β≤2.0을 만족하는 유전체 조성물.
The method of claim 1,
When the molar concentration of the pentavalent transition metal is α and the molar concentration of the trivalent transition metal is β, y=α+β, and the trivalent transition metal with respect to the pentavalent transition metal A dielectric composition having a content ratio of 0.4≦α/β≦2.0.
상기 제1 부성분의 함량을 a라 하고, 제2 부성분의 함량을 b라 할 때, 상기 제2 부성분의 함량은 a≤b≤2a를 만족하는 유전체 조성물.
The method of claim 2,
When the content of the first sub-component is a and the content of the second sub-component is b, the content of the second sub-component satisfies a≦b≦2a.
제4 부성분의 함량은 모재 주성분 100 몰에 대하여 0.1 내지 0.5 몰인 유전체 조성물.
The method of claim 2,
The content of the fourth subcomponent is 0.1 to 0.5 moles based on 100 moles of the main component of the base material.
상기 세라믹 본체의 양 단부에 형성되며, 상기 제1 및 제2 내부전극과 전기적으로 연결되는 제1 및 제2 외부전극;을 포함하고,
상기 유전체층은 모재 주성분 및 부성분을 포함하며, 상기 모재 주성분은 Bam(Ti(1-y)My)O3(0.990<m<1.015, 0.001≤y≤0.010)로 표시되며, 전이금속(M)은 5가 전이금속 및 3가 전이금속 중 적어도 하나를 포함하며,
상기 부성분은 상기 모재 주성분 100 몰에 대하여,
Mg, Ba 및 Ca 중 적어도 하나를 0.5 내지 1.4 몰의 범위로 포함하는 제1 부성분 및
Dy, Y, Sn, Ho 및 Gd 중 적어도 하나를 0.6 내지 1.5 몰의 범위로 포함하는 제3 부성분을 포함하는 적층 세라믹 커패시터.
A ceramic body including a structure in which dielectric layers and first and second internal electrodes are alternately stacked; And
First and second external electrodes formed at both ends of the ceramic body and electrically connected to the first and second internal electrodes; and
The dielectric layer includes a main component and a subcomponent of a base material, and the main component of the base material is represented by Ba m (Ti (1-y) M y ) O 3 (0.990<m<1.015, 0.001≤y≤0.010), and a transition metal (M ) Includes at least one of a pentavalent transition metal and a trivalent transition metal,
The subcomponent is based on 100 moles of the main component of the base material,
A first subcomponent comprising at least one of Mg, Ba, and Ca in the range of 0.5 to 1.4 moles, and
A multilayer ceramic capacitor comprising a third subcomponent including at least one of Dy, Y, Sn, Ho, and Gd in a range of 0.6 to 1.5 moles.
상기 부성분은 Si를 포함하는 산화물 또는 Si를 포함하는 글라스(Glass) 화합물인 제2 부성분 및 Al을 포함하는 산화물인 제4 부성분을 포함하는 적층 세라믹 커패시터.
The method of claim 7,
The subcomponent is a multilayer ceramic capacitor including a second subcomponent which is an oxide containing Si or a glass compound containing Si and a fourth subcomponent which is an oxide containing Al.
상기 전이금속은 Mn, Cr, V, Ni, Fe, Co 중 적어도 하나를 포함하는 적층 세라믹 커패시터.
The method of claim 7,
The transition metal is a multilayer ceramic capacitor including at least one of Mn, Cr, V, Ni, Fe, and Co.
상기 5가 전이금속의 몰(mole) 농도를 α라 하고, 상기 3가 전이금속의 몰 농도를 β라 할 때, y=α+β 이고, 상기 5가 전이금속에 대한 상기 3가 전이금속의 함량비는 0.4≤α/β≤2.0을 만족하는 적층 세라믹 커패시터.
The method of claim 7,
When the molar concentration of the pentavalent transition metal is α and the molar concentration of the trivalent transition metal is β, y=α+β, and the trivalent transition metal with respect to the pentavalent transition metal A multilayer ceramic capacitor having a content ratio of 0.4≤α/β≤2.0
상기 제1 부성분의 함량을 a라 하고, 제2 부성분의 함량을 b라 할 때, 상기 제2 부성분의 함량은 a≤b≤2a를 만족하는 적층 세라믹 커패시터.
The method of claim 8,
When the content of the first sub-component is a and the content of the second sub-component is b, the content of the second sub-component satisfies a≦b≦2a.
제4 부성분의 함량은 모재 주성분 100 몰에 대하여 0.1 내지 0.5 몰인 적층 세라믹 커패시터.
The method of claim 8,
The content of the fourth subcomponent is 0.1 to 0.5 moles based on 100 moles of the base material main component.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
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Family
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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---|---|---|---|---|
KR910008614B1 (en) * | 1988-07-27 | 1991-10-19 | 플리스-스타우퍼 에이지 | Direct processing of polymer with pulverrulent additives in injection moulding machine |
JP5883217B2 (en) * | 2009-11-06 | 2016-03-09 | Tdk株式会社 | Hexagonal barium titanate powder, method for producing the same, dielectric ceramic composition, and electronic component |
JP5234035B2 (en) * | 2010-03-24 | 2013-07-10 | 株式会社村田製作所 | Dielectric ceramic and multilayer ceramic capacitors |
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-
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- 2020-09-24 KR KR1020200124123A patent/KR102202462B1/en active IP Right Grant
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