KR102197096B1

KR102197096B1 - 증착시스템

Info

Publication number: KR102197096B1
Application number: KR1020180050432A
Authority: KR
Inventors: 정광호; 최명운; 전태정
Original assignee: 주식회사 야스
Priority date: 2018-05-02
Filing date: 2018-05-02
Publication date: 2020-12-30
Also published as: KR20190126493A

Abstract

본 발명의 목적은 RGB OLED 패널의 생산을 증대시킬 수 있는 개선된 증착 시스템을 제공하고자 하는 것이다.
상기 목적에 따라 본 발명은 인라인 형태의 RGB OLED 제조 시스템을 제공한다.
본 발명은 인라인 증착시스템을 구성하고 여기서 증착 구역을 나누어 R,G,B 증착 구역으로 할당하고, 각각의 증착 구역에 FMM 마스크를 배치하여 파인메탈 마스크가 각 증착 구역에서 폐회로를 순환하는 방식으로 연속재활용되게 하였다.
따라서 본 발명은 각 증착 구역별로 마스크와 기판을 정렬 및 합착 시켜주는 얼라인 유닛과 마스크와 기판을 떨어뜨려주는 세퍼레이터 유닛을 배치하였다.

Description

증착시스템{DEPOSITION SYSTEM}

본 발명은 OLED 증착기 시스템에 관한 것으로서, 좀 더 특별하게는, RGB OLED 소자 증착이 가능한 인라인 증착 시스템에 관한 것이다.

증착기란 반도체 제조용 기판의 표면에 CVD, PVD 등의 방법으로 물질을 증발시켜 얇은 박막을 형성하는 장치를 말한다. OLED 제조의 경우 유기물, 무기물, 메탈 등을 증발시켜 기판 표면에 박막을 형성하는 공정을 주로 사용한다.

OLED 디스플레이는 미래의 차세대 디스플레이로서 점차 수요가 확대되고 있어 생산량의 효율적 증대가 필요하다. 현재 RGB OLED 구조를 갖는 패널은 주로 생산량과 생산성이 낮은 클러스터 장비를 통하여 제조되어지고 있다. 클러스터 방식의 단점은 배치(Batch) 공정에 따른 낮은 생산량이라 할 수 있다. 클러스터 시스템의 경우, FMM(Fine Metal Mask)와 얼라이너가 각 클러스터마다 배치되고 기판마다 하나의 증착층을 형성하기 위해 매번 마스크와 얼라인을 실시해야 한다. 증착 과정에서 얼라인의 안정성은 있지만 여러번의 마스크 얼라인 과정을 실시하여야 하므로 공정에 장시간이 소요되고 설비 또한 복잡하나 생산량이 극히 적다. 또한, 유리 기판을 로봇이 이송하기 때문에 파손율이 높아 더더욱 생산량을 늘이기 어렵다.

등록특허 10-1481096와 같은 방식으로 클러스터 특성의 단점을 개선하는 기술도 있으나, 수요확대에 대응하기는 역부족인 기술로 보인다.

한편, R, G, B OLED 증착 시스템에서 점점 더 대면적화된 기판을 사용함에 따라 증착구간에서 안정적으로 대면적 기판을 이동시키는 것 또한 해당 시스템에서 해결해야할 과제이다.

이에 따라 본 발명의 목적은 RGB OLED 패널의 생산을 증대시킬 수 있는 개선된 증착 시스템을 제공하고자 하는 것이다.

상기 목적에 따라 본 발명은 인라인 형태의 RGB OLED 제조 시스템을 제공한다.

본 발명은 인라인 증착시스템을 구성하고 여기서 증착 구역을 나누어 R,G,B 증착 구역으로 할당하고, 각각의 증착 구역에 FMM 마스크를 배치하여 파인메탈 마스크가 각 증착 구역에서 폐회로를 순환하는 방식으로 연속재활용되게 하였다.

따라서 본 발명은 각 증착 구역별로 마스크와 기판을 정렬 및 합착 시켜주는 얼라인 유닛과 마스크와 기판을 떨어뜨려주는 세퍼레이터 유닛을 배치하였다.

또한, 본 발명은 대면적 기판의 안정적인 이송을 위해, 자력부재를 내장한 마스크 프레임(Mask Frame)과 자력에 의해 마스크 프레임에 부착되는 마스크 시이트(Mask Sheet), 그리고 대면적 기판을 평평하게 고정시켜줄 수 있는 대면적 척( Chuck)을 적용하였다. 상기에서 척은 정전척, 점착척, 진공척, 축전기척, 정전 부상척, 자석척 등 다양하게 적용될 수 있다.

본 발명에 따르면, R, G, B 화소 형성을 위한 증착 구역을 각각 인라인으로 형성하고 각각의 R, G, B 화소 형성 구역을 인라인으로 배치하여 전체적으로 R, G, B OLED 증착시스템을 인라인으로 구성하여, 증착 공정이 빠르게 진행될 수 있게 하였다.

상기에서 각각의 R, G, B 화소 형성 구역마다 실시되어야 하는 다수의 공정들이 상당한 반복 주기 동안 하나의 파인메탈마스크를 적용하여 수행되므로 클러스터에 포함된 챔버마다 마스크를 배치하여 빈번하게 이루어지던 마스크 얼라인과 마스크 합착 공정이 대폭 줄어들어 공정 진행 속도가 빨라지고 생산성이 크게 향상된다. 즉, R, G, B 화소 형성 구역당 얼라인 유닛이 배치되고, 기판과 마스크가 얼라인 및 합착되면, 해당 화소 형성 구역에서 더이상의 마스크 교체 없이 증착 공정이 진행되며, 화소 형성을 마친 후 기판과 마스크를 분리하여 기판을 다음번 공정 구역으로 진행하고, 마스크는 해당 공정 구역에서 분리 회수되어 재활용되므로 택 타임이 길게 걸리던 얼라인 공정 실시 횟수가 획기적으로 줄어 그만큼 생산성이 향상된다.

또한, 본 발명은 마스크 시이트를 마스크 프레임에 탈부착하는 공정 및 마스크 프레임과 기판을 탈부착하는 공정이 스위칭 마그넷을 적용하여 실시됨으로써 대면적 기판의 용이하고도 안정적인 척/디척 및 이송이 가능하며 이송 중 기판 슬립문제를 해결하였다.

또한, 종래 클러스터 시스템에서는 각 발광층 증착 후 공통층이 증착되기 까지 일정 시간이 지연되는 문제가 있지만, 이와 달리 본 발명의 인라인 방식에서는 FMM(Fine Metal Mask)이 발광층부터 공통층까지 일괄 사용되기 때문에 공통층과 발광층은 연속적으로 증착이 이루어지며, 각 발광층의 특성에 맞는 공통층이 제작되고, 공통층의 조절이 용이한 장점이 있다.

도 1은 본 발명의 인라인 화소형성시스템의 레이아웃으로, FMM가 마스크 프레임에 일체형으로 구성될 경우에 해당한다.
도 2는 본 발명의 인라인 화소 형성 시스템의 레이아웃으로 FMM가 시이트로되어 마스크 프레임에 분리가능한 경우이다.
도 3은 도 2의 부분확대도이다.
도 4는 본 발명에 따른 마스크 프레임과 마스크 시이트의 합착 및 기판 척과 마스크와의 합착 구성을 설명하기 위한 개념적인 사시도이다.
도 5는 도 4의 단면 구성도이다.
도 6은 본 발명에 따른 마스크 프레임과 마스크 시이트의 분리과정을 설명하기 위한 개념적인 사시도이다.
도 7은 본 발명에 적용된 스위칭 마그넷 모듈의 원리를 설명하는 설명도이다.
도 8은 클러스터(Cluster) 방식에서의 OLED 소자 구조와 인라인(In-Line) 방식에서의 OLED 소자 구조의 차이이자 특징을 설명하는 개념도이다.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 상세히 설명한다.

도 1은 본 발명의 인라인 화소형성시스템(100-1)의 레이아웃이다.

도 1에서 기판은 왼편에서 반입되어 라인을 따라 공정을 거친 후 오른 편으로 반출된다. 기판의 반입과 반출의 방향은 뒤집어 배열할 수 있을 것이다. 기판이 반입되는 부분에는 기판 플립을 위한 챔버를 비롯한 몇몇 챔버를 두어 기판 반입부를 구성한다. 기판 반입부 이후 화소형성부가 배열되고, 전극형성부 그리고 기판 반출을 위한 몇몇 챔버가 배열되어 기판 반출부를 이룬다.

R, G, B 화소형성부는 직선상으로 배열되며, 이후 전극형성부가 동일 선상에 배열된다. 인라인 시스템에서는 기판을 척킹하여 이송하는 척이 기판의 출발점에서부터 종착점까지 기판과 같은 동선을 따라 이동한 다음, 회수라인(척 리턴 라인(101))을 통해 원위치된다. 편의상 척의 동선부분을 척 물류 라인이라 한다.

마스크는 기판과 함께 이동하지만 한 종류의 화소형성부에서만 기판과 동선을 함께하고, 마스크 리턴 라인(105)을 통해 회수되고 원위치된다. 화소형성부마다 설치된 마스크 리턴 라인을 포함한 마스크 동선구간을 편의상 마스크 물류라인이라 한다.

마스크는 미리정해진 사용횟수에 도달하게되면 마스크 리턴 라인에서 마스크 세정장치(107)로 반출되어 세정 진행되고 다시 마스크 리턴라인(105)로 반입되게 된다.

도 2는 도 1 의 부분확대 도면으로 도 2를 보면, 기판은 척(Chuck) 챔버로 반입되고 척 리턴 라인(101)을 통해 척도 상기 척 챔버로 반입되어 기판이 척에 척킹된다. 기판/척(기판이 척킹된 척을 뜻한다)은 플립 인버터로 진행하여 플립되고 또 패스챔버를 거쳐 얼라인 챔버(120)에 도달한다. 상기 얼라인 챔버(120)에서 기판과 마스크가 얼라인되고 합착된 후, 버퍼 챔버를 거쳐 증착부(evaporator)에 진입하여 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층, 전하생성층 등등의 유기물 및 무기물을 증착하여 화소를 형성한다. 다음, 마스크 분리 챔버(130)에 진입하여 마스크와 기판을 분리하고 기판/척은 다음 화소형성부로 진입하고, 분리된 마스크는 마스크 리턴 라인(105)를 통해 다시 얼라인 챔버(120)로 돌아와 재활용되고, 일정 사용횟수를 초과한 마스크는 마스크 세정장치에서 세정을 진행하게된다.

즉, 본 발명의 인라인 화소형성시스템은 하나의 마스크가 기판에 합착되어 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층, 전하생성층을 형성하는 과정에 일관되게 사용되므로 각 증착층 형성시마다 마스크를 바꾸어 얼라인하던 기존의 클러스터 시스템과 달리 얼라인 과정을 한번만 거치게 된다. 얼라인 공정에 들어가는 시간이 길다는 점을 감안할 때 이와 같은 방식은 공정 시간을 크게 단축시켜 생산량을 크게 증대할 수 있을 뿐만 아니라 각 기능 층(Functional Layer) 증착사이의 시간을 최소화 할 수 있으며, 하나의 레이어 증착후 진공에 노출되는 시간이 줄어 들게 하여 소자 성능을 개선 할 수 있다. 또한 마스크 교체 및 얼라인 과정에서 발생하는 파티클 발생이 차단 되어 불량률 감소에 효과가 있다.

마스크를 각 증착층 형성시마다 교체하지 않고 화소형성을 마친 후 기판에서 마스크에서 분리시켜 마스크를 회수라인을 통해 회수한 다음 재사용하게 되므로 마스크 리턴라인(105)을 필히 구성하여야 한다. 도 2 및 도 3에서는 마스크 리턴라인(105)을 증착라인에 병설하여 구성하였다.

한편, 본 발명에 적용되는 마스크는 마스크 프레임에 마스크 시이트가 분리/합착되는 레이아웃(layout)을 구비할 수 있다(100-2). 마스크 프레임과 마스크 시이트의 합착되는 동작 대해서는 도 5 내지 도 7을 참조하여 후술될 것이다.

마스크 분리챔버(130)에서는 기판과 마스크가 분리되고, 기판은 인라인 방향으로 진행하고, 마스크를 충분히 반복 사용하여 마스크 시이트를 교체 해야하는 경우, 마스크는 마스크 버퍼를 거쳐 마스크 시이트 분리부(110)로 가서 마스크 시이트를 마스크 프레임으로부터 분리한다. 마스크 시이트는 화소패턴이 있는 파인메탈마스크(FMM) 시이트를 뜻한다. 마스크 시이트가 마스크 프레임에서 분리된 후, 마스크 프레임은 마스크 언로드락 챔버(109)로 가서 마스크 리턴라인(105)을 통해 마스크 로드락 챔버(104)로 오고, 마스크 시이트는 마스크 시이트 언로드락 챔버(108)을 거쳐 마스크 시이트 클리너에서 세정된 다음, 마스크 시이트 로드락 챔버(103)로 온다. 상기 마스크 로드락 챔버(104)와 마스크 시이트 로드락 챔버(103)는 모두 마스크 시이트 얼라이너(102)에서 통합되어 여기서 다시 마스크 프레임과 마스크 시이트가 얼라인되고 합착되어 마스크가 구성된다. 마스크는 마스크 버퍼 챔버를 거쳐 다시 얼라인 챔버(120)로 진입하여 새로운 기판에 대해 얼라인되고 합착된다. 이후 공정의 진행은 상술한 바와 동일하다.

마스크 프레임 회수를 위한 라인과 마스크 시이트 회수를 위한 라인은 병설 또는 상하로 구성되며, 여러번 재활용되다가 오염된 마스크 시이트나 마스크 프레임은 각각 척 리턴라인(101)에 병설된 마스크 시이트 세정부(106) 및 마스크 프레임 세정부(107)로 이송되어 세정된 후 각각의 리턴라인으로 재진입한다. 이때 변형된 것은 외부로 방출되고 새 것이 진입할 수도 있다.

화소 형성 공정을 모두 마친 기판은 오픈 마스크를 이용하는 전극형성공정에서 전극이 증착되고 여기서도 기판과 분리된 마스크는 리턴 라인으로 회수되어 재활용되며, 기판/척은 계속 진행하여 플립되고 기판과 척이 분리된 후 척은 리턴라인(101)으로 회수되고 기판은 봉지공정을 실시하기 위해 다른 공정 라인으로 반출된다.

상술한 인라인 화소형성 시스템은 생산성을 크게 향상시키는 장점이 있지만, 기존 클러스터 시스템에 비해 마스크와 기판의 합착 상태, 즉 얼라인 상태가 불안정할 수 있다. 클러스터 시스템은 각 증착 챔버 마다 마스크가 비치되어 기판과 얼라인 합착되어 정지 상태에서 하나의 증착층만 형성하고 이송되지 않기 때문에 얼라인의 안정성이 우수하다. 따라서 인라인 시스템에서 얼라인의 안정성을 위한 대책을 강구할 필요가 있다.

본 발명은 마스크와 기판의 얼라인 및 합착 상태의 안정적인 유지를 위해, 도 5 내지 도 7에서와 같이 스위칭 마그넷 모듈을 적용하여 마스크 프레임과 마스크 시이트를 탈부착시키고 기판 척과 마스크의 탈부착 역시 스위칭 마그넷 모듈에 의해 탈부착시켜 마스크 프레임과 마스크 시이트 간 그리고 기판과 마스크 간의 미끄러짐 현상을 방지하여 얼라인 상태를 안정적으로 유지할 수 있게 하였다.

스위칭 마그넷 모듈을 적용한 기판 홀딩 장치에 대해서는 본 출원인에 의해 출원된 10-2017-0105132호에 상세히 나와있다. 또한, 도 6에 그 원리를 설명하였다. 스위칭 마그넷 모듈에 대한 메커니즘과 기능은 본 발명에도 그대로 적용된다.

스위칭 마그넷 모듈은 전기적인 신호, 즉, 토글 스위칭으로 영구자석으로 된마그넷 유닛의 자력을 온/오프 시킬 수 있어 전자석에 비해 전력소모와 열발생이 매우 적고 자력의 제어가 명확하다. 즉, 스위칭 마그넷 모듈은 열손실없는 초저전력 마그넷 스위치가 될 수 있다.

본 실시예에서는 상기 스위칭 마그넷 모듈(41)을 마스크 프레임(4)에 설치하여 마스크 시이트(3)를 자력으로 탈부착한다. 또한, 기판(2)/척(1)의 척(1)에도 스위칭 마그넷 모듈을 설치하여 마스크 시이트(3) 및/또는 마스크 프레임(4)과 척(1)의 탈부착을 자력으로 실시한다. 스위칭 마그넷 모듈을 온 시켜 마스크 시이트(3)를 마스크 프레임(4)에 부착 고정하고 척(1)의 스위칭 마그넷 모듈을 온 시켜 척(1)을 마스크 시이트(3) 및/또는 마스크 프레임(4)과 합착하면 합착 상태가 지속되어 기판을 이송하는 과정에서 기판/척 또는 마스크 시이트가 마스크 프레임에 대해 미끄러져 일어나는 얼라인 일탈의 문제를 해소할 수 있다.

도 2의 인라인 화소형성시스템에 기판이 진입하기 전에 별도의 챔버에서 기판과 척은 얼라인 및 합착되며 척은 점착척, 정전척, 진공척, 자석척, 축전기 척 등 다양한 것 중 하나를 택할 수 있다. 기판/척은 합착된 상태로 물류시스템(인라인 화소형성시스템을 뜻함)에 합류된다. 즉, 패스 챔버를 통해 진입되어 얼라인 챔버(120)에서 마스크와 얼라인되고 합착된다.

마스크는 마스크 프레임(4)과 마스크 시이트(3)가 얼라인되고 합착된 것으로, 마스크 프레임(4)에는 테두리를 따라 스위칭 마그넷 모듈(41)이 배치되고 마스크 시이트(3)는 자력에 의해 인력을 받을 수 있는 물체로 구성되고 자성체 홀더에 의해 이송되며, 마스크 로드락 챔버(104)를 통해 마스크 시이트 얼라이너(102)로 진입한 마스크 프레임(4) 위에 프리 얼라인된다. 마스크 프레임의 코너 상면에 위치한 마스크 핀(42)과 마스크 시이트(3) 코너에 형성된 핀홀(31)을 통해 얼라인되고, 이후 스위칭 마그넷 모듈에 의해 합착된다. 마스크는 기판/척과 얼라인 챔버(120)에서 얼라인되고 합착되며, 이때에도 상기 마스크 핀(42)과 핀홀(31)을 이용하여 얼라인 상태를 체크할 수 있다. 척(1)에도 스위칭 마그넷 모듈을 설치하여 기판/척(1)과 마스크의 합착을 자기력으로 유지시킨다. 상술한 바와 같이 기판과 마스크가 합착된 상태로 여러 증착 구간을 이동하여도 기판과 마스크의 상대적인 미끄러짐 현상이 없어 이동 중에도 얼라인 상태를 그대로 유지할 수 있다.

증착 공정을 마친 후 버퍼 챔버를 지나 마스크 분리챔버(130)에 도달하여 기판/척과 마스크가 분리되며, 이때 척에 설치된 스위칭 마그넷 모듈을 오프시켜 마스크 프레임과 척이 쉽게 분리되게 한다. 기판/척은 다음 번 화소형성을 위해 직진하고, 마스크는 분기된 마스크 버퍼로 가서 여기를 거쳐 마스크 시이트 분리챔버(110)로 가서 마스크 프레임으로부터 마스크 시이트를 분리할 수도 있다.

마스크 시이트(3)를 마스크 프레임(4)으로부터 분리하면 마스크 시이트(3)를 인수하여 이동시켜야 할 도구가 필요하며, 본 실시예에서는 마스크 시이트 스틱커(5)를 준비하였다. 마스크 시이트 스틱커(5)는 스위칭 마그넷 모듈(51)를 구비하여 마스크 시이트(3)를 자기력으로 인수한다.

도 5와 같이, 마스크 시이트 스틱커(5)가 하강하여, 마스크 시이트(3)가 중앙에 위치한 상태에서 마스크 프레임(4) 위에 합착한다. 합착된 상태에서 마스크 프레임(4)에 설치된 스위칭 마그넷 모듈(41)을 오프시켜 자력을 소거하고, 마스크 시이트 스틱커(5)의 스위칭 마그넷 모듈(51)을 온 시켜 마스크 시이트(3)가 마스크 시이트 스틱커(5) 쪽에 부착되게 한다음, 마스크 시이트 스틱커(5)가 상승하여 마스크 시이트(3)와 함께 마스크 시이트 언로드락 챔버(108)로 진행하고 마스크 프레임(4)은 마스크 언로드락 챔버(109)로 진행한다.

마스크 프레임(4)에 마스크 시이트(3)를 부착하는 경우 상기 동작의 역순으로 진행 한다. 즉, 스위칭 마그넷 모듈의 온/오프를 제어하여 마스크 시이트를 마스크 시이트 스틱커(5)로부터 마스크 프레임으로 인수한다.

도 8 에서와 같이 기존 클러스터방식에서 제작되는 RGB OLED 소자 구조와 인라인 방식으로 제작되는 RGB OLED 소자의 구조에 차이점이 존재한다. 먼저 발광층은 (RED,GREEN,BLUE)로 정의하고, 공통층은 (HIL,HTL,ETL,EIL)임을 정의한다. 기존 클러스터 방식에서는, 공통층은 오픈마스크(Open Mask)에서 일괄적으로 증착이 이루어 지고, 발광층은 FMM 마스크(Mask)를 활용하여 독립적으로 증착이 이루어 진다. 위 과정에서 각 발광층 증착 후 공통층이 증착되기 까지 일정 시간이 지연되는 특징이 있다. 이와 달리 본 발명의 특징인 인라인 방식에서는 도 2와 같이 FMM(Fine Metal Mask)이 발광층부터 공통층까지 일괄 사용되기 때문에 공통층과 발광층은 연속적으로 증착이 이루어지며, 또한 각 발광층의 특성에 맞는 공통층이 제작되며, 공통층의 조절이 용이한 장점이 있다.

본 발명의 권리는 위에서 설명된 실시 예에 한정되지 않고 청구범위에 기재

된 바에 의해 정의되며, 본 발명의 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 청구범위에 기재된 권리범위 내에서 다양한 변형과 개작을 할 수 있다는 것은 자명하다.

인라인 화소 형성 시스템(100)
척 리턴 라인(101)
마스크 시이트 얼라이너(102)
마스크 시이트 로드락 챔버(103)
마스크 로드락 챔버(104)
마스크 리턴 라인(105)
마스크 프레임 세정부(106)
마스크 시이트 세정부(107)
마스크 언로드락 챔버(108)
마스크 언로드락 챔버(109)
마스크 시이트 분리부(110)
얼라인 챔버(120)
마스크 분리 챔버(130)
척(1)
기판(2)
마스크 시이트(3)
마스크 프레임(4)
마스크 시이트 스틱커(5)
스위칭 마그넷 모듈(41)
스위칭 마그넷 모듈(51)

Claims

기판이 일측에서 반입되고 타측으로 반출되는 인라인 증착시스템으로서,
기판이 반입되는 기판 반입부;
상기 기판 반입부에 직선상으로 연결되는 R, G, B 화소형성부;
상기 R, G, B 화소형성부와 전극 증착부를 지나 상기 기판 반입부 반대편에 설치되는 기판 반출부;
상기 기판 반입부와 기판 반출부를 연결하는 기판 척 리턴 라인; 및
상기 R, G, B 화소형성부의 R 화소형성부, G 화소형성부, 및 B 화소형성부 마다 각각 설치되는 각 화소형성부의 양측 단부를 연결하는 마스크 리턴 라인;을 포함하고,
상기 화소형성부는, 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층, 전하생성층을 포함한 유기물 및 무기물을 증착하여 화소를 형성하되, 하나의 동일한 파인메탈마스크(FMM)가 기판에 합착되어 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층, 전하생성층을 형성하는 과정에 일관되게 사용되어 마스크는 기판과 함께 이동하며 R 화소형성부, G 화소형성부, 및 B 화소형성부 중 한 종류의 화소형성부에서만 기판과 동선을 함께하고,
상기 마스크 리턴 라인을 통해 회수되는 것을 특징으로 하는 인라인 증착시스템.
제1항에 있어서, 마스크 리턴 라인과 나란하게 배열된 마스크 시이트 리턴 라인을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 인라인 증착시스템.
제2항에 있어서, 상기 마스크 시이트 리턴 라인은,
마스크 프레임으로부터 마스크 시이트가 분리되는 마스크 시이트 분리 챔버;
상기 마스크 시이트 분리 챔버를 지나 배치되는 마스크 시이트 클리너; 및
상기 마스크 시이트 클리너를 지나 배치되는 마스크 시이트 얼라이너 챔버;를 포함하고,
상기 마스크 리턴 라인의 일측 단부는 상기 마스크 시이트 분리 챔버에 인접하고 타측 단부는 상기 마스크 시이트 얼라이너 챔버에 인접한 것을 특징으로 하는 인라인 증착시스템.
제2항에 있어서, 마스크는 마스크 프레임과 마스크 시이트를 포함하고,
마스크 프레임은 스위칭 마그넷 모듈을 구비하고, 마스크 시이트는 자성에 반응하는 소재로 이루어져 마스크 프레임과 마스크 시이트의 부착은 스위칭 마그넷 모듈을 온(ON)시켜 자력을 발현시켜 이루어지고 마스크 프레임과 마스크 시이트의 분리는 스위칭 마그넷 모듈을 오프(OFF)시켜 자력을 소거하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 인라인 증착시스템.
제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 마스크 시이트 리턴 라인에 마스크 시이트 세정부가 연결되어 배치되고, 상기 마스크 리턴 라인에 마스크 프레임 세정부가 연결되어 배치된 것을 특징으로 하는 인라인 증착시스템.
제4항에 있어서, 마스크 시이트 분리 챔버에 스위칭 마그넷 모듈을 구비한 마스크 시이트 스틱커가 배치되어 마스크 프레임으로부터 분리되는 마스크 시이트를 인수하며, 마스크 프레임의 스위칭 마그넷 모듈은 오프시키고 마스크 시이트 스틱커의 스위칭 마그넷 모듈은 온 시켜 마스크 시이트를 마스크 프레임으로부터 마스크 시이트 스틱커로 옮기고, 마스크 시이트 스틱커에 부착된 마스크 시이트를 마스크 시이트 클리너에서 세정한 다음, 마스크 시이트 얼라이너 챔버로 이송하고, 마스크 리턴 라인에서 마스크 시이트 얼라이너 챔버로 반입된 마스크 프레임에게 세정된 마스크 시이트를 마스크 시이트 스틱커로부터 다시 인계하는 것을 특징으로 하는 인라인 증착시스템.
제1항 또는 제2항에 있어서, R 화소형성부, G 화소형성부, 및 B 화소형성부 각각은,
기판이 진입되는 곳에 기판과 마스크의 얼라인을 위해 배치되는 얼라인 챔버;
상기 얼라인 챔버를 지나 배치되는 화소증착부; 및
상기 화소증착부를 지나 배치되며, 기판이 척킹된 척과 마스크를 분리하는 마스크 분리 챔버;를 포함하는 것을 특징으로 하는 인라인 증착시스템.
제1항 또는 제2항에 있어서, 기판은 척에 의해 척킹되어 이송되며, 기판이 척킹된 척은 스위칭 마그넷 모듈을 구비하여 기판 척과 마스크는 스위칭 마그넷 모듈을 온시켜 합착되고 스위칭 마그넷 모듈을 오프시켜 분리되는 것을 특징으로 하는 인라인 증착시스템.
애노드;
상기 애노드 위에 형성되는 공통층;
상기 공통층 위에 형성되는 R, G, B 화소 발광층;
상기 화소 발광층 위에 형성되는 공통층; 및
상기 공통층 위에 형성되는 캐소드;를 포함하고,
상기 R, G, B 화소 발광층과 상기 공통층들을 동일한 파인메탈마스크(FMM)에 의해 형성하여, 상기 R, G, B 화소 발광층 각각에 대해 공통층이 분리형성되어 있는 것을 특징으로 하는 OLED.