KR102192182B1 - Multi axis stage apparatus - Google Patents

Multi axis stage apparatus Download PDF

Info

Publication number
KR102192182B1
KR102192182B1 KR1020200084774A KR20200084774A KR102192182B1 KR 102192182 B1 KR102192182 B1 KR 102192182B1 KR 1020200084774 A KR1020200084774 A KR 1020200084774A KR 20200084774 A KR20200084774 A KR 20200084774A KR 102192182 B1 KR102192182 B1 KR 102192182B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
plate
tilting
axis
base
axis direction
Prior art date
Application number
KR1020200084774A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
이병대
이기현
김황환
이상록
이진영
Original Assignee
(주)이즈미디어
(주)제일에프에이
이진영
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)이즈미디어, (주)제일에프에이, 이진영 filed Critical (주)이즈미디어
Priority to KR1020200084774A priority Critical patent/KR102192182B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102192182B1 publication Critical patent/KR102192182B1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01MTESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01M99/00Subject matter not provided for in other groups of this subclass
    • G01M99/005Testing of complete machines, e.g. washing-machines or mobile phones
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01MTESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01M11/00Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
    • G01M11/02Testing optical properties
    • G01M11/04Optical benches therefor

Abstract

The present invention relates to a multi-axis stage apparatus. According to the present invention, the multi-axis stage apparatus comprises: a base; a rotation control unit which includes a rotation plate placed on an upper side of the base, which has an accommodation hole formed in the center, and a rotation guide placed in the accommodation hole to support the rotation plate to be rotatable around a Z-axis at right angles to an upper surface of the base; and a tilting position determination unit which includes a tilting plate placed on an upper side of the rotation plate, and a ring-shaped tilting guide which supports the tilting plate to be rotatable around an X-axis and a Y-axis at right angles on a surface parallel to an upper surface of the base. In the center of the tilting guide, an accommodation space is placed. The rotation guide is placed in the accommodation space of the tilting guide. The present invention aims to provide a multi-axis stage apparatus which is able to minimize the thickness.

Description

다축 스테이지 장치{MULTI AXIS STAGE APPARATUS}Multi-axis stage device {MULTI AXIS STAGE APPARATUS}

본 발명은 다축 스테이지 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 두께를 최소화할 수 있을 뿐만 아니라, 초기 셋팅 위치가 임의로 변경되는 것을 방지하는 동시에 사용 후 초기 셋팅 위치로 용이하게 되돌릴 수 있는 다축 스테이지 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a multi-axis stage device, and more particularly, to a multi-axis stage device capable of minimizing the thickness, preventing the initial setting position from being arbitrarily changed, and easily returning to the initial setting position after use. will be.

일반적으로 다양한 광학제품, 전자제품 등과 같이 정밀도가 높은 제품들은 제조가 완료된 후 정상품인지를 확인하기 위해 별도의 검사 스테이지에서 검사를 수행하게 되는 경우가 많다.In general, products with high precision, such as various optical products and electronic products, are often inspected in a separate inspection stage after completion of manufacturing to confirm whether they are genuine products.

그리고 상기 검사 스테이지는 제품을 정밀하게 검사하기 위해, 제품이 안착되는 스테이지의 X, Y, Z축 방향 위치와 X, Y축 방향 기울기 및 Z축 회전 각도를 조정할 수 있어야 한다. In addition, the inspection stage must be capable of adjusting the position of the stage in which the product is mounted in the X, Y, and Z directions, the inclination in the X and Y directions, and the rotation angle of the Z axis in order to accurately inspect the product.

하지만, 대한민국 등록특허 10-2059833와 같은 종래의 검사 스테이지는, 베이스, X축 선형이동유닛, Y축 선형이동유닛, Y축 틸팅유닛, X축 틸팅유닛 및 Z축 로테이딩유닛이 각각 Z축 방향으로 단순 적층되므로, Z축 방향 크기를 높이가 높은 문제가 있다. However, in the conventional inspection stage such as Korean Patent Registration No. 10-2059833, the base, the X-axis linear movement unit, the Y-axis linear movement unit, the Y-axis tilting unit, the X-axis tilting unit, and the Z-axis rotating unit are each in the Z-axis direction. Since it is simply stacked, there is a problem that the size in the Z-axis direction is high.

이와 같이 검사 스테이지의 Z축 방향 높이가 높게 설정되는 경우에는, 검사 스테이지가 놓여지는 바닥 구조물과 스테이지 상에 안착된 제품의 검사를 위한 검사장비 사이의 간격을 스테이지의 높이만큼 추가로 확보해야 하므로 검사장비의 크기가 증가하게 될 뿐만 아니라, 협소한 공간 내에서는 위치정렬을 위한 스테이지의 적용이 곤란한 문제가 있다. If the height of the inspection stage in the Z-axis direction is set to be high, the distance between the floor structure on which the inspection stage is placed and the inspection equipment for inspection of the products seated on the stage must be additionally secured. In addition to increasing the size of the equipment, there is a problem in that it is difficult to apply a stage for alignment in a narrow space.

특허문헌 1. 대한민국 등록특허 10-2059833 (2019년12월27일)Patent Document 1. Korean Patent Registration 10-2059833 (December 27, 2019)

따라서, 본 발명의 목적은 이와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 두께를 최소화할 수 있는 다축 스테이지 장치를 제공함에 있다.Accordingly, an object of the present invention is to solve such a conventional problem, and to provide a multiaxial stage device capable of minimizing the thickness.

또한, 초기 셋팅 위치가 임의로 변경되는 것을 방지하는 동시에 사용 후 초기 셋팅 위치로 용이하게 되돌릴 수 있는 다축 스테이지 장치를 제공함에 있다.In addition, it is to provide a multi-axis stage device capable of easily returning to the initial setting position after use while preventing the initial setting position from being arbitrarily changed.

상기 목적은, 본 발명에 따라, 베이스; 상기 베이스의 상측에 배치되고 중앙에 수용홀이 관통 형성된 회전플레이트, 상기 수용홀 내에 배치되고 상기 회전플레이트를 상기 베이스의 상면과 직교하는 Z축을 중심으로 회전가능하게 지지하는 회전가이드를 포함하는 회전조절부; 상기 회전플레이트의 상측에 배치되는 틸팅플레이트, 상기 틸팅플레이트를 상기 베이스의 상면과 나란한 면 상에서 서로 직교하는 X축 및 Y축을 중심으로 회동 가능하게 지지하는 링형 틸팅가이드를 포함하는 틸팅조절부;를 포함하고, 상기 틸팅가이드의 중앙에는 수용공간이 마련되고, 상기 회전가이드는 상기 틸팅가이드의 수용공간 내에 배치되는 것을 특징으로 하는 다축 스테이지 장치에 의해 달성된다.The object is, according to the invention, the base; Rotation control including a rotation plate disposed on the upper side of the base and having a receiving hole formed therethrough in the center, a rotation guide disposed in the receiving hole and rotatably supporting the rotation plate about a Z-axis perpendicular to the upper surface of the base part; Including; a tilting control unit including a tilting plate disposed on the upper side of the rotation plate, and a ring-shaped tilting guide for supporting the tilting plate so as to be rotatable about the X-axis and Y-axis that are orthogonal to each other on a surface parallel to the upper surface of the base. And, a receiving space is provided in the center of the tilting guide, and the rotation guide is achieved by a multi-axis stage device, characterized in that it is disposed in the receiving space of the tilting guide.

여기서, 상기 회전가이드는 상기 수용홀의 내벽면에 외륜이 지지되는 링형 베어링과, 상기 링형 베어링의 내륜에 지지되고 상기 베이스에 고정되는 중공 슬리브를 포함하는 것이 바람직하다.Here, it is preferable that the rotation guide includes a ring-shaped bearing in which an outer ring is supported on an inner wall surface of the receiving hole, and a hollow sleeve supported by an inner ring of the ring-shaped bearing and fixed to the base.

또한, 상기 회전플레이트의 상면에는 상기 틸팅가이드가 수용될 수 있는 링형 수용홈이 마련되는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that a ring-shaped receiving groove to accommodate the tilting guide is provided on the upper surface of the rotating plate.

또한, 상기 틸팅가이드는 상기 수용홈 내에 수용되는 가이드링, 상기 수용홈 내에 수용된 상태에서 상기 회전플레이트에 고정되고 X축 방향으로 배치되는 제1틸팅축을 통해 상기 가이드링을 회동 가능하게 지지하는 제1연결블록, 상기 링형 수용홈 내에 수용된 상태에서 상기 틸팅플레이트에 고정되고 Y축 방향으로 배치되는 제2틸팅축을 통해 상기 가이드링을 회동 가능하게 지지하는 제2연결블록을 포함하는 것이 바람직하다.In addition, the tilting guide is a guide ring accommodated in the receiving groove, a first tilting shaft that is fixed to the rotating plate in a state received in the receiving groove and is rotatably supported by a first tilting shaft disposed in the X-axis direction. It is preferable to include a connection block, a second connection block that is fixed to the tilting plate in a state accommodated in the ring-shaped receiving groove and rotatably supports the guide ring through a second tilting shaft disposed in the Y-axis direction.

또한, 상기 베이스와 틸팅플레이트의 판면에는 정렬용 샤프트가 삽입될 수 있는 삽입공이 각각 마련되고, 상기 삽입공은 상기 베이스와 회전플레이트 및 틸팅플레이트의 초기 셋팅 위치에서 Z축 방향에 대하여 서로 정렬되는 것이 바람직하다.In addition, insertion holes into which an alignment shaft can be inserted are provided on the plate surfaces of the base and the tilting plate, and the insertion holes are aligned with each other in the Z-axis direction at the initial setting positions of the base, the rotating plate, and the tilting plate. desirable.

또한, 상기 삽입공은 상기 회전플레이트의 수용홀에 대응하는 위치에 마련되는 것이 바람직하다.In addition, the insertion hole is preferably provided at a position corresponding to the receiving hole of the rotating plate.

또한, 상기 베이스와 회전플레이트 사이에 마련되고, 상기 X축, Y축 및 Z축 중 적어도 어느 하나의 방향으로 상기 베이스에 대한 회전플레이트의 상대 위치를 조절하는 위치조절부;를 더 포함하는 것이 바람직하다.In addition, it is provided between the base and the rotation plate, the position control unit for adjusting the relative position of the rotation plate to the base in at least one of the X-axis, Y-axis and Z-axis; preferably further comprises a; Do.

또한, 상기 위치조절부는 상기 베이스와 회전플레이트 사이에서 상기 회전플레이트의 Z축 방향 위치를 조절하는 상하조절부, 상기 회전플레이트의 X축 방향 위치를 조절하는 좌우조절부 및 상기 회전플레이트의 Y축 방향 위치를 조절하는 전후조절부 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것이 바람직하다.In addition, the position control unit is a vertical adjustment unit for adjusting the position in the Z-axis direction of the rotating plate between the base and the rotating plate, a left and right adjustment unit for adjusting the position of the rotating plate in the X axis direction, and the Y-axis direction of the rotating plate It is preferable to include at least one of the front and rear adjustment units for adjusting the position.

또한, 상기 베이스와 위치조절부에는 정렬용 샤프트가 삽입될 수 있는 삽입공이 각각 마련되고, 상기 삽입공은 상기 베이스와 위치조절부의 초기 셋팅 위치에서 Z축 방향에 대하여 서로 정렬되는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the base and the position adjustment unit are provided with insertion holes into which the alignment shaft is inserted, and the insertion holes are aligned with each other in the Z-axis direction at the initial setting position of the base and the position adjustment unit.

또한, 상기 상하조절부는 상기 베이스와 회전플레이트 사이에 배치되는 제1플레이트, 상기 베이스 상에서 X축 또는 Y축 방향으로 이동하는 제1-1이동블록, Z축 방향에 대하여 상기 제1-1이동블록과 중첩 배치되고 상기 제1플레이트에 고정되는 제1-2이동블록을 포함하고, 상기 제1-1이동블록과 제1-2이동블록의 서로 마주하는 면에는 상기 제1-1이동블록의 이동방향에 대하여 기울기를 갖는 경사면이 마련되는 것이 바람직하다.In addition, the vertical adjustment unit is a first plate disposed between the base and the rotating plate, the first-first moving block moving in the X-axis or Y-axis direction on the base, and the first-first moving block with respect to the Z-axis direction. And a 1-2 movable block disposed overlapping with and fixed to the first plate, and a movement of the 1-1 movable block on a surface facing each other between the 1-1 movable block and the 1-2 movable block It is preferable that an inclined surface having an inclination with respect to the direction is provided.

또한, 상기 제1-1이동블록과 제1-2이동블록에는 정렬용 샤프트가 삽입될 수 있는 삽입공이 각각 마련되고, 상기 삽입공은 상기 베이스와 상하조절부의 초기 셋팅 위치에서 Z축 방향에 대하여 서로 정렬되는 것이 바람직하다.In addition, each of the 1-1 movable block and the 1-2 movable block is provided with an insertion hole into which an alignment shaft can be inserted, and the insertion hole is provided with respect to the Z-axis direction at the initial setting position of the base and the vertical adjustment unit. It is desirable to be aligned with each other.

본 발명에 따르면, 두께를 최소화할 수 있는 다축 스테이지 장치가 제공된다.According to the present invention, there is provided a multiaxial stage device capable of minimizing the thickness.

또한, 초기 셋팅 위치가 임의로 변경되는 것을 방지하는 동시에 사용 후 초기 셋팅 위치로 용이하게 되돌릴 수 있는 다축 스테이지 장치가 제공된다.In addition, there is provided a multi-axis stage device capable of easily returning to the initial setting position after use while preventing the initial setting position from being arbitrarily changed.

도 1은 본 발명 다축 스테이지 장치의 사시도,
도 2 및 도 3은 본 발명 다축 스테이지 장치의 분해사시도,
도 4는 도 3에 도시된 제1위치결정부의 분해사시도,
도 5는 도 3에 도시된 회전위치결정부의 발췌사시도,
도 6은 도 2에 도시된 틸팅가이드의 분해사시도,
도 7은 도 2에 도시된 틸팅위치결정부의 분해사시도,
도 8 및 도 9는 본 발명 다축 스테이지 장치의 측단면도,
도 10은 본 발명 다축 스테이지 장치의 상하조절부의 작용도,
도 11은 본 발명 다축 스테이지 장치의 전후조절부 및 좌우조절부의 작용도
도 12는 본 발명 다축 스테이지 장치의 회전조절부의 작용도,
도 13는 본 발명 다축 스테이지 장치의 틸팅조절부의 평면도,
도 14는 본 발명 다축 스테이지 장치의 틸팅조절부의 작용도,
도 15는 본 발명 다축 스테이지 장치의 틸팅조절부의 기울기 조절 방향을 설명하기 위한 개략도이고,
도 16은 본 발명 다축 스테이지 장치의 초기위치 고정부의 작용도이다.
1 is a perspective view of a multi-axis stage device according to the present invention,
2 and 3 are exploded perspective views of the multi-axis stage device of the present invention,
4 is an exploded perspective view of the first positioning unit shown in FIG. 3;
5 is a perspective view of an excerpt of the rotation positioning unit shown in FIG. 3;
6 is an exploded perspective view of the tilting guide shown in FIG. 2;
7 is an exploded perspective view of the tilting positioning unit shown in FIG. 2;
8 and 9 are side cross-sectional views of the multi-axial stage device of the present invention,
10 is an operation diagram of the vertical adjustment unit of the multi-axis stage device of the present invention,
11 is a functional diagram of the front and rear adjustment unit and the left and right adjustment unit of the multi-axis stage device of the present invention
12 is an operation diagram of the rotation control unit of the multi-axis stage device of the present invention,
13 is a plan view of a tilting control unit of the multi-axis stage device of the present invention,
14 is an operation diagram of the tilting control unit of the multi-axis stage device of the present invention,
15 is a schematic view for explaining the tilt adjustment direction of the tilting adjustment unit of the multi-axis stage device of the present invention,
16 is an operation diagram of an initial position fixing portion of the multi-axis stage device of the present invention.

설명에 앞서, 여러 실시예에 있어서, 동일한 구성을 가지는 구성요소에 대해서는 동일한 부호를 사용하여 대표적으로 제1실시예에서 설명하고, 그 외의 실시예에서는 제1실시예와 다른 구성에 대해서 설명하기로 한다.Prior to the description, in various embodiments, components having the same configuration are typically described in the first embodiment by using the same reference numerals, and in other embodiments, configurations different from the first embodiment will be described. do.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 제1실시예에 따른 다축 스테이지 장치에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, a multiaxial stage device according to a first embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

첨부도면 중 도 1은 본 발명 다축 스테이지 장치의 사시도, 도 2 및 도 3은 본 발명 다축 스테이지 장치의 분해사시도, 도 4는 도 3에 도시된 제1위치결정부의 분해사시도, 도 5는 도 3에 도시된 회전위치결정부의 발췌사시도, 도 6은 도 2에 도시된 틸팅가이드의 분해사시도, 도 7은 도 2에 도시된 틸팅위치결정부의 분해사시도이다. In the accompanying drawings, FIG. 1 is a perspective view of a multiaxial stage device according to the present invention, FIGS. 2 and 3 are an exploded perspective view of the multiaxial stage device according to the present invention, FIG. 4 is an exploded perspective view of the first positioning unit shown in FIG. 3, and FIG. Fig. 6 is an exploded perspective view of the tilting guide shown in Fig. 2, and Fig. 7 is an exploded perspective view of the tilting positioning unit shown in Fig. 2.

상기 도면에 도시된 바와 같은 본 발명의 제1실시예에 따른 다축 스테이지 장치는 베이스(110), 위치조절부, 회전조절부(150), 틸팅조절부(160) 및 초기위치 고정부(170)를 포함한다.The multi-axis stage device according to the first embodiment of the present invention as shown in the drawing includes a base 110, a position control unit, a rotation control unit 150, a tilt control unit 160, and an initial position fixing unit 170. Includes.

상기 베이스(110)는 전체 장치의 하부를 지지하는 역할을 하는 것으로서, 본 실시예의 도면에서는 사각 플레이트 형상을 이루는 것으로 예를 들어 도시하였으나 이에 제한하는 것은 아니다.The base 110 serves to support the lower portion of the entire device, and in the drawings of the present embodiment, it is illustrated as having a rectangular plate shape, but is not limited thereto.

상기 위치조절부는 상기 베이스(110)와 회전조절부(150) 사이에 마련되고, 상기 베이스(110)에 대한 회전조절부(150)의 상대 위치를 X축, Y축 및 Z축 방향으로 조절하는 것으로서, 상기 베이스(110)의 상측에 배치되고 상기 회전조절부(150)의 Z축 방향 위치를 조절하는 상하조절부(120), 상기 상하조절부(120)의 상측에 배치되고 상기 회전조절부(150)의 Y축 방향 위치를 조절하는 전후조절부(130) 및 상기 전후조절부(130)의 상측에 배치되고 상기 회전조절부(150)의 X축 방향 위치를 조절하는 좌우조절부(140)를 포함한다. 한편, 본 실시예에서는 좌우 방향을 X축, 전후 방향을 Y축, 상하 방향을 Z축으로 예를 들어 설명하였으나 이에 제한하는 것은 아니다.The position control unit is provided between the base 110 and the rotation control unit 150, and adjusts the relative position of the rotation control unit 150 with respect to the base 110 in the X-axis, Y-axis and Z-axis directions. As such, a vertical adjustment unit 120 disposed on the upper side of the base 110 and adjusting the position of the rotation adjustment unit 150 in the Z-axis direction, and the rotation adjustment unit 120 disposed on the upper side of the vertical adjustment unit 120 The front and rear adjustment unit 130 for adjusting the position in the Y-axis direction of 150, and the left and right adjustment unit 140 disposed above the front and rear adjustment unit 130 to adjust the position of the rotation control unit 150 in the X-axis direction. ). On the other hand, in the present embodiment, the left-right direction is the X-axis, the front-rear direction is the Y-axis, and the vertical direction is the Z-axis, but is not limited thereto.

상기 상하조절부(120)는 상기 베이스(110)의 상측에서 베이스(110)와 나란하게 배치되는 제1플레이트(121), 상기 제1플레이트(121)를 상기 베이스(110)에 대하여 Z축 방향으로 이동 가능한 상태로 지지하는 제1가이드(122) 및 상기 제1플레이트(121)의 Z축 방향 위치를 조절하는 제1위치결정부(123)를 포함한다. 여기서, 상기 제1위치결정부(123)는 Y축 방향 길이를 조절할 수 있는 제1조절부(123a), 상기 제1조절부(123a)의 선단에 지지되고 상기 베이스(110) 상에 Y축 방향으로 이동 가능하게 배치되는 제1-1이동블록(123b), 상기 제1-1이동블록(123b)의 상측에 배치되고 상기 제1플레이트(121)의 저면에 고정되는 제1-2이동블록(123c)을 포함하며, 상기 제1-1이동블록(123b)과 제1-2이동블록(123c)은 서로 마주하는 면이 Y축 방향에 대하여 기울기를 갖는 경사면으로 이루어질 수 있다. 즉, 상기 제1위치결정부(123)의 제1조절부(123a)를 Y축 방향으로 신장시키면, 제1-1이동블록(123b)이 Y축 방향으로 이동하게 되고, 이에 따라 제1플레이트(121)에 고정된 제1-2이동블록(123c)이 경사면을 따라 Z축 방향으로 이동하게 되므로, 상기 베이스(110)에 대한 제1플레이트(121)의 Z축 방향 상대 위치를 조절할 수 있다. The up and down adjustment unit 120 is a first plate 121 arranged in parallel with the base 110 from the upper side of the base 110, the first plate 121 in the Z-axis direction with respect to the base 110 And a first guide 122 supporting the first plate 121 in a movable state and a first positioning unit 123 adjusting a position of the first plate 121 in the Z-axis direction. Here, the first positioning unit 123 is supported by a first adjusting unit 123a capable of adjusting the length in the Y-axis direction, and supported by the tip of the first adjusting unit 123a, and on the base 110 A 1-1 movable block 123b disposed to be movable in a direction, a 1-2 movable block disposed above the 1-1 movable block 123b and fixed to the bottom surface of the first plate 121 Including (123c), the first-first moving block (123b) and the first-second moving block (123c) may be formed of an inclined surface facing each other having an inclination with respect to the Y-axis direction. That is, when the first adjusting part 123a of the first positioning part 123 is extended in the Y-axis direction, the 1-1 movable block 123b moves in the Y-axis direction, and accordingly, the first plate Since the 1-2 movable block 123c fixed to 121 moves in the Z-axis direction along the inclined surface, the relative position of the first plate 121 in the Z-axis direction with respect to the base 110 can be adjusted. .

한편, 상기 상하조절부(120)는 제1플레이트(121)와 베이스(110) 사이에 배치되고, 상기 제1플레이트(121)를 베이스(110)에 근접하는 방향으로 탄성력을 제공할 수 있는 제1탄성부재(124)를 포함할 수 있으며, 상기 제1탄성부재(124)는 상기 제1플레이트(121)의 모서리에 대응하는 위치에 각각 배치되는 것이 바람직하다.On the other hand, the vertical adjustment unit 120 is disposed between the first plate 121 and the base 110, the first plate 121 to provide an elastic force in a direction close to the base 110. One elastic member 124 may be included, and the first elastic members 124 are preferably disposed at positions corresponding to the corners of the first plate 121.

상기 전후조절부(130)는 상기 제1플레이트(121)의 상측에서 제1플레이트(121)와 나란하게 배치되는 제2플레이트(131), 상기 제2플레이트(131)를 상기 제1플레이트(121)에 대하여 Y축 방향(전후 방향)으로 이동 가능한 상태로 지지하는 제2가이드(132) 및 상기 제2플레이트(131)의 Y축 방향 위치를 조절하는 제2위치결정부(133)를 포함한다. 여기서, 상기 제2위치결정부(133)는 Y축 방향 길이를 조절할 수 있는 제2조절부(133a), 상기 플레이트(131)에 고정된 상태로 상기 제2조절부(133a)의 선단에 지지되는 제2이동블록(133b)을 포함한다. 즉, 상기 제2위치결정부(133)의 제2조절부(133a)를 Y축 방향으로 신장시키면, 제2이동블록(133b)이 Y축 방향으로 이동하게 되므로, 상기 제1플레이트(121)에 대한 제2플레이트(131)의 Y축 방향 상대 위치를 조절할 수 있다. The front-rear adjustment part 130 is a second plate 131 arranged in parallel with the first plate 121 on the upper side of the first plate 121, the second plate 131 is the first plate 121 ) And a second guide 132 that supports it in a state movable in the Y-axis direction (forward and backward) and a second positioning unit 133 that adjusts the position of the second plate 131 in the Y-axis direction. . Here, the second positioning unit 133 is a second adjusting unit 133a capable of adjusting the length in the Y-axis direction, and supported at the tip of the second adjusting unit 133a while being fixed to the plate 131 It includes a second moving block (133b). That is, when the second adjusting part 133a of the second positioning part 133 is extended in the Y-axis direction, the second moving block 133b moves in the Y-axis direction, so that the first plate 121 The relative position of the second plate 131 with respect to the Y-axis direction may be adjusted.

상기 좌우조절부(140)는 상기 제2플레이트(131)의 상측에서 제2플레이트(131)와 나란하게 배치되는 제3플레이트(141), 상기 제3플레이트(141)를 상기 제2플레이트(131)에 대하여 X축 방향(좌우 방향)으로 이동 가능한 상태로 지지하는 제3가이드(142) 및 상기 제3플레이트(141)의 X축 방향 위치를 조절하는 제3위치결정부(143)를 포함한다. 여기서, 상기 제3위치결정부(143)는 X축 방향 길이를 조절할 수 있는 제3조절부(143a), 상기 제3플레이트(141)에 고정된 상태로 상기 제3조절부(143a)의 선단에 지지되는 제3이동블록(143b)을 포함한다. 즉, 상기 제3위치결정부(143)의 제3조절부(143a)를 X축 방향으로 신장시키면, 제3이동블록(143b)이 X축 방향으로 이동하게 되므로, 상기 제2플레이트(131)에 대한 제3플레이트(141)의 X축 방향 상대 위치를 조절할 수 있다. The left and right adjustment parts 140 may be configured to move the third plate 141 and the third plate 141 arranged in parallel with the second plate 131 from the upper side of the second plate 131 to the second plate 131. ), and a third guide 142 supporting in a state movable in the X-axis direction (left-right direction) and a third positioning unit 143 for adjusting the position of the third plate 141 in the X-axis direction. . Here, the third positioning unit 143 includes a third adjusting unit 143a capable of adjusting the length in the X-axis direction, and the tip of the third adjusting unit 143a while being fixed to the third plate 141 It includes a third moving block (143b) supported on. That is, when the third adjusting part 143a of the third positioning part 143 is extended in the X-axis direction, the third moving block 143b moves in the X-axis direction, so that the second plate 131 The relative position of the third plate 141 in the X-axis direction can be adjusted.

한편, 상기 상하조절부(120), 전후조절부(130) 및 좌우조절부(140)에 각각 마련되는 제1가이드(122), 제2가이드(132) 및 제3가이드(142)는 LM가이드로 이루어질 수 있고, 상기 제1조절부(123a), 제2조절부(133a) 및 제3조절부(143a)는 마이크로미터 헤드로 이루어질 수 있다.On the other hand, the first guide 122, the second guide 132 and the third guide 142 provided in the up and down adjustment unit 120, the front and rear adjustment unit 130, and the left and right adjustment unit 140, respectively, are LM guides The first control unit 123a, the second control unit 133a, and the third control unit 143a may be formed of a micrometer head.

상기 회전조절부(150)는 상기 제3플레이트(141)의 상측에서 제3플레이트(141)와 나란하게 배치되는 회전플레이트(151), 상기 회전플레이트(151)를 상기 제3플레이트(141)의 상면과 직교하는 Z축을 중심으로 회전가능하게 지지하는 회전가이드(152) 및 상기 회전플레이트(151)의 Z축 회전 각도를 조절하는 회전위치결정부(153)를 포함한다. The rotation control unit 150 includes a rotation plate 151 arranged in parallel with the third plate 141 on the upper side of the third plate 141, and the rotation plate 151 of the third plate 141. It includes a rotation guide 152 for rotatably supporting the Z-axis perpendicular to the upper surface and a rotation positioning unit 153 for adjusting the Z-axis rotation angle of the rotation plate 151.

여기서, 상기 회전플레이트(151)는 상기 회전가이드(152)를 수용할 수 있는 원통형 수용홀(151a)이 중앙에 관통 형성되고, 상기 회전플레이트(151)의 상면에는 상기 원통형 수용홀(151a)과 동심을 이루며 상기 틸팅조절부(160)가 수용될 수 있는 링형 수용홈(151b)이 함몰 형성된다.Here, the rotation plate 151 has a cylindrical receiving hole 151a through which the rotation guide 152 can be accommodated in the center, and the cylindrical receiving hole 151a and the upper surface of the rotation plate 151 Concentrically, a ring-shaped receiving groove 151b in which the tilting control unit 160 can be accommodated is recessed.

또한, 상기 회전가이드(152)는 상기 수용홀(151a)의 내벽면에 외륜이 지지되는 링형 베어링(152a)과, 상기 베어링(152a)의 내륜에 지지되고 상기 제3플레이트(141)에 고정되는 중공 슬리브(152b)를 포함한다. 즉, 상기 회전플레이트(151)는 상기 베어링(152a)의 중심을 Z축 방향으로 관통하는 회전축(R)을 중심으로 상기 제3플레이트(141)에 대하여 회전할 수 있도록 지지된다. 한편, 상기 수용홀(151a)의 하단 내주에는 상기 베어링(152a)의 외륜 하단을 지지하는 지지턱이 형성되고, 상기 슬리브(152b)의 상단 외주에는 상기 베어링(152a)의 내륜 상단을 지지하는 지지턱이 형성될 수 있다. In addition, the rotation guide 152 includes a ring-shaped bearing 152a in which an outer ring is supported on an inner wall surface of the receiving hole 151a, and is supported on an inner ring of the bearing 152a and fixed to the third plate 141. And a hollow sleeve 152b. That is, the rotation plate 151 is supported so as to rotate with respect to the third plate 141 about a rotation shaft R that passes through the center of the bearing 152a in the Z-axis direction. Meanwhile, a support jaw for supporting the lower end of the outer ring of the bearing 152a is formed in the lower inner circumference of the receiving hole 151a, and a support for supporting the upper end of the inner ring of the bearing 152a at the upper outer circumference of the sleeve 152b A jaw can be formed.

또한, 상기 회전위치결정부(153)는 상기 제3플레이트(141) 상에 배치되고 Y축 방향 길이를 조절할 수 있는 제4조절부(153a), 상기 회전플레이트(151)에 고정된 상태로 상기 제4조절부(153a)의 선단에 지지되는 제4이동블록(153b) 및 상기 제4이동블록(153b)을 사이에 두고 상기 제4조절부(153a)와 대향하도록 배치되고 상기 제4이동블록(153b)을 상기 제4조절부(153a)를 향해 탄성지지하는 탄성지지부(154)를 포함할 수 있다. 여기서, 상기 탄성지지부(154)는 선단부가 상기 제4이동블록(153b)에 접촉하는 지지바(154a)와, 상기 지지바(154a)의 후단부를 탄성지지하는 스프링(154b)과, 상기 지지바(154a)와 동일 축선 상에서 축방향으로 이동 가능하게 배치되고 이동 위치에 따라 상기 지지바(154a)의 후단에 선택적으로 접촉할 수 있는 고정바(154c)를 포함한다. 또한, 상기 제4이동블록(153b)은 상기 제4조절부(153a)와 지지바(154a) 사이에 개재되는 구형의 연결편을 포함할 수 있다. In addition, the rotation positioning unit 153 is disposed on the third plate 141 and is a fourth adjustment unit 153a capable of adjusting the length in the Y-axis direction, and the rotational plate 151 is fixed to the The fourth moving block 153b and the fourth moving block 153b are disposed to face the fourth adjusting unit 153a with the fourth moving block 153b supported on the front end of the fourth adjusting unit 153a interposed therebetween, and the fourth moving block It may include an elastic support portion 154 for elastically supporting (153b) toward the fourth adjustment portion (153a). Here, the elastic support part 154 includes a support bar 154a having a front end in contact with the fourth moving block 153b, a spring 154b for elastically supporting a rear end of the support bar 154a, and the support bar It includes a fixing bar (154c) disposed to be movable in the axial direction on the same axis as (154a) and selectively contacting the rear end of the support bar (154a) according to the moving position. In addition, the fourth moving block 153b may include a spherical connecting piece interposed between the fourth adjusting portion 153a and the support bar 154a.

즉, 상기 회전위치결정부(153)의 제4조절부(153a)를 Y축 방향으로 신장시키면 제4이동블록(153b)이 Y축 방향으로 이동하게 되므로, 제4이동블록(153b)과 연결된 회전플레이트(151)의 Z축 회전 각도를 조절할 수 있다. That is, when the fourth adjustment unit 153a of the rotation positioning unit 153 is extended in the Y-axis direction, the fourth movable block 153b moves in the Y-axis direction, so that the fourth movable block 153b is connected to the fourth movable block 153b. The Z-axis rotation angle of the rotating plate 151 can be adjusted.

한편, 상기 제3플레이트(141)와 회전플레이트(151) 사이에는, 상기 회전플레이트(151)의 Z축 회전 과정에서 회전플레이트(151)의 저면이 상기 제3플레이트(141)의 상면과 직접 접촉하는 것을 방지하는 동시에, 상기 제3플레이트(141)의 상측에서 회전하는 회전플레이트(151)를 안정적으로 지지할 수 있는 링형의 슬립 패드가 배치될 수 있다. Meanwhile, between the third plate 141 and the rotating plate 151, the bottom surface of the rotating plate 151 directly contacts the upper surface of the third plate 141 during the Z-axis rotation of the rotating plate 151 At the same time, a ring-shaped slip pad capable of stably supporting the rotating plate 151 rotating above the third plate 141 may be disposed.

상기 틸팅조절부(160)는 상기 회전플레이트(151)의 상측에서 회전플레이트(151)와 나란하게 배치되는 것으로서 작업 대상물의 하부를 지지하는 틸팅플레이트(161), 상기 회전플레이트(151)의 상측에서 상기 틸팅플레이트(161)를 X축 및 Y축을 중심으로 각각 회동 가능하게 지지하는 링형 틸팅가이드(162), 상기 틸팅플레이트(161)의 일측 변의 양측 모서리에 대응하는 위치에 각각 배치되고 상기 틸팅플레이트(161)의 X축 회동 위치 및 Y축 회동 위치를 조절하는 틸팅위치결정부(163) 및 상기 틸팅플레이트(161)의 타측 변의 양측 모서리에 대응하는 위치에 각각 배치되고 상기 틸팅플레이트(161)를 회전플레이트(151)로부터 멀어지는 방향으로 탄성지지하는 제2탄성부재(164)를 포함한다. The tilting adjustment unit 160 is disposed in parallel with the rotating plate 151 on the upper side of the rotating plate 151, and is a tilting plate 161 supporting the lower portion of the work object, and at the upper side of the rotating plate 151 A ring-shaped tilting guide 162 that supports the tilting plate 161 so as to be rotatable around the X-axis and the Y-axis, respectively, and are disposed at positions corresponding to both corners of one side of the tilting plate 161, respectively, and the tilting plate ( The tilting positioning unit 163 for adjusting the X-axis rotation position and the Y-axis rotation position of 161 and the tilting plate 161 are disposed at positions corresponding to both corners of the other side, and rotate the tilting plate 161 It includes a second elastic member 164 elastically supported in a direction away from the plate 151.

상기 틸팅가이드(162)는 상기 회전플레이트(151)의 수용홈(151b) 내에 수용되고 상기 회전가이드(152)가 수용될 수 있는 수용공간이 중앙에 마련된 가이드링(162a), 상기 수용홈(151b) 내에 수용된 상태에서 상기 회전플레이트(151)에 고정되고 X축 방향으로 배치되는 제1틸팅축(TX)을 통해 상기 가이드링(162a)을 회동 가능하게 지지하는 제1연결블록(162b) 및 상기 링형 수용홈(151b) 내에 수용된 상태에서 상기 틸팅플레이트(161)에 고정되고 Y축 방향으로 배치되는 제2틸팅축(TY)을 통해 상기 가이드링(162a)을 회동 가능하게 지지하는 제2연결블록(162c)을 포함한다. 상기 제1틸팅축(TX)과 제2틸팅축(TY)의 중심축은 상기 회전가이드(152)의 회전축(R) 상에서 교차하도록 설정되는 것이 바람직하다.The tilting guide 162 is accommodated in the receiving groove 151b of the rotating plate 151, and a guide ring 162a having an accommodation space in which the rotation guide 152 can be accommodated, and the receiving groove 151b ), the first connection block (162b) and the first connection block (162b) for rotatably supporting the guide ring (162a) through a first tilting shaft (TX) that is fixed to the rotation plate 151 and disposed in the X-axis direction. A second connection block that supports the guide ring 162a rotatably through a second tilting shaft TY that is fixed to the tilting plate 161 and disposed in the Y-axis direction in a state accommodated in the ring-shaped receiving groove 151b (162c). It is preferable that the central axis of the first tilting axis TX and the second tilting axis TY intersect on the rotation axis R of the rotation guide 152.

상기 틸팅위치결정부(163)는 상기 회전플레이트(151)에 지지되고 X축 또는 Y축 방향 길이를 조절할 수 있는 제5조절부(163a), 상기 제5조절부(163a)의 선단에 지지되고 상기 회전플레이트(151)의 상면에 형성된 안착홈 내에 수평 방향으로 이동 가능하게 수용되고 이동방향에 대하여 기울기를 갖는 경사면이 상면에 형성된 제5이동블록(163b), 상기 안착홈 내에 형성된 안내홈을 따라 Z축 방향으로 이동 가능하게 배치되고 하단부는 상기 경사면에 지지되고 상단부는 상기 틸팅플레이트(161)의 저면에 밀착되는 제어구(163c) 및 상기 안착홈 내에서 상기 제5이동블록(163b)을 상기 제5조절부(163a)를 향해 탄성지지하는 스프링(163d)을 포함한다. The tilting positioning unit 163 is supported by the rotation plate 151 and is supported at the tip of the fifth adjustment unit 163a and the fifth adjustment unit 163a, which can adjust the length in the X-axis or Y-axis direction. A fifth moving block (163b) formed on the upper surface with an inclined surface having a horizontal direction and an inclination with respect to the moving direction in the seating groove formed on the upper surface of the rotating plate 151, along the guide groove formed in the seating groove Arranged to be movable in the Z-axis direction, the lower end is supported on the inclined surface, the upper end of the control device (163c) in close contact with the bottom of the tilting plate 161 and the fifth moving block (163b) in the seating groove It includes a spring (163d) for elastically supporting the fifth adjustment portion (163a).

한편, 상기 제4조절부(153a) 및 제5조절부(163a)는 마이크로미터 헤드로 이루어질 수 있다.Meanwhile, the fourth adjustment unit 153a and the fifth adjustment unit 163a may be formed of micrometer heads.

상기 제2탄성부재(164)는 상기 틸팅플레이트(161)를 회전플레이트(151)로부터 멀어지는 방향으로 탄성지지하는 것으로서, 상기 회전플레이트(151) 상에 Z축 방향으로 배치되는 스프링(164b) 및 상기 스프링(164b)에 의해 틸팅플레이트(161)를 향해 탄성 가압되는 가압구(164a)를 포함한다.The second elastic member 164 elastically supports the tilting plate 161 in a direction away from the rotation plate 151, and a spring 164b disposed on the rotation plate 151 in the Z-axis direction and the It includes a pressing tool (164a) elastically pressed toward the tilting plate (161) by the spring (164b).

한편, 상기 틸팅조절부(160)는, 상기 틸팅플레이트(161)의 경사각도가 임의로 변경되는 것을 방지하기 위해 상기 회전플레이트(151)의 일측 변과 마주하는 타측 변의 양측 모서리에 대응하는 위치에서 상기 틸팅플레이트(161)와 회전플레이트(151) 사이 간격을 고정하는 스토퍼(165)를 포함할 수 있다. 이러한 스토퍼(165)는 조절부(165a), 경사면을 갖는 이동블록(165b), 상기 이동블록(165b)의 경사면을 따라 Z축 방향으로 이동하는 제어구(165c) 및 스프링(165d)을 포함하는 등, 상기 틸팅위치결정부(163)와 유사한 구성을 가지며, 상기 조절부(165a)는 상기 회전플레이트(151) 상에 나사결합되어 회전방향에 따라 축방향 위치가 조절되는 스크류의 형태로 이루어질 수 있다.On the other hand, the tilting adjustment unit 160, in order to prevent the tilt angle of the tilting plate 161 from being arbitrarily changed, at a position corresponding to both corners of the other side facing one side of the rotating plate 151 It may include a stopper 165 fixing the gap between the tilting plate 161 and the rotating plate 151. The stopper 165 includes an adjustment unit 165a, a moving block 165b having an inclined surface, a control tool 165c moving in the Z-axis direction along the inclined surface of the moving block 165b, and a spring 165d. Etc., has a similar configuration to the tilting positioning unit 163, and the adjusting unit 165a is screwed onto the rotation plate 151 to adjust the axial position according to the rotation direction. have.

상기 초기위치 고정부(170)는 상기 베이스(110), 상기 상하조절부(120)의 제1플레이트(121), 상기 제1위치결정부(123)의 제1-1이동블록(123b) 및 제1-2이동블록(123c), 상기 좌우조절부(140)의 제2플레이트(131), 상기 전후조절부(130)의 제3플레이트(141) 및 상기 틸팅조절부(160)의 틸팅플레이트(161)를 각각 Z축 방향으로 관통하는 다수의 삽입공(H)과, 상기 다수의 삽입공(H)이 Z축 방향으로 정렬된 상태에서 복수의 삽입공(H)을 따라 삽입될 수 있는 정렬용 샤프트(S)를 포함한다. The initial position fixing part 170 includes the base 110, the first plate 121 of the vertical adjustment part 120, the 1-1 moving block 123b of the first positioning part 123, and The 1-2 moving block 123c, the second plate 131 of the left and right adjustment unit 140, the third plate 141 of the front and rear adjustment unit 130, and the tilting plate of the tilting adjustment unit 160 A plurality of insertion holes (H) passing through each of the 161 in the Z-axis direction, and the plurality of insertion holes (H) can be inserted along the plurality of insertion holes (H) aligned in the Z-axis direction. It includes an alignment shaft (S).

상기와 같은 다수의 삽입공(H)은 상기 베이스(110), 상하조절부(120), 전후조절부(130), 좌우조절부(140), 회전조절부(150) 및 틸팅조절부(160)의 초기 셋팅 위치에서 Z축 방향에 대하여 서로 정렬될 수 있는 위치에 마련된다. The plurality of insertion holes (H) as described above are the base 110, the up and down adjustment unit 120, the front and rear adjustment unit 130, the left and right adjustment unit 140, the rotation control unit 150 and the tilting control unit 160 ) Is provided at a position that can be aligned with each other in the Z-axis direction at the initial setting position.

여기서, 상기 초기 셋팅 위치는 상하조절부(120)의 제1위치결정부(123), 전후조절부(130)의 제2위치결정부(133), 좌우조절부(140)의 제3위치결정부(143), 회전조절부(150)의 회전위치결정부(153) 및 틸팅조절부(160)의 틸팅위치결정부(163)의 조절 위치가 각각 ±0인 상태를 의미한다. Here, the initial setting position is the first positioning unit 123 of the vertical adjustment unit 120, the second positioning unit 133 of the front and rear adjustment unit 130, the third positioning of the left and right adjustment unit 140 It means a state in which the adjustment positions of the rotation positioning unit 153 of the unit 143, the rotation adjustment unit 150, and the tilting positioning unit 163 of the tilting adjustment unit 160 are each ±0.

지금부터는 본 발명 다축 스테이지 장치의 제1실시예의 작동에 대하여 설명한다.Hereinafter, the operation of the first embodiment of the multi-axial stage device of the present invention will be described.

첨부도면 중 도 8 및 도 9는 본 발명 다축 스테이지 장치의 측단면도, 도 10은 본 발명 다축 스테이지 장치의 상하조절부의 작용도, 도 11은 본 발명 다축 스테이지 장치의 전후조절부 및 좌우조절부의 작용도, 도 12는 본 발명 다축 스테이지 장치의 회전조절부의 작용도, 도 13는 본 발명 다축 스테이지 장치의 틸팅조절부의 평면도, 도 14는 본 발명 다축 스테이지 장치의 틸팅조절부의 작용도, 도 15는 본 발명 다축 스테이지 장치의 틸팅조절부의 기울기 조절 방향을 설명하기 위한 개략도이고, 도 16은 본 발명 다축 스테이지 장치의 초기위치 고정부의 작용도이다. In the accompanying drawings, FIGS. 8 and 9 are side sectional views of the multi-axial stage device of the present invention, FIG. 10 is a view showing the operation of the vertical adjustment unit of the multi-axial stage apparatus of the present invention, and FIG. FIG. 12 is a view showing the operation of the rotation control unit of the multi-axial stage device of the present invention, FIG. 13 is a plan view of the tilting control unit of the multi-axial stage device of the present invention, and FIG. 14 is a view showing the operation of the tilting control unit of the multi-axial stage device of the present invention. It is a schematic diagram for explaining the tilt adjustment direction of the tilting adjustment unit of the multi-axial stage device of the present invention, and Fig. 16 is a function diagram of the initial position fixing part of the multi-axial stage device of the present invention.

먼저, 도 8은 도 1의 A-A'선 단면을 나타낸 것이고, 도 9는 도 1의 B-B'선 단면을 나타낸 것으로서, 본 실시예의 다축 스테이지 장치는 베이스(110), 상하조절부(120), 전후조절부(130), 좌우조절부(140), 회전조절부(150) 및 틸팅조절부(160)가 Z축 방향으로 차례로 적층된 형태를 가지며, 최하단에 위치하는 베이스(110)는 하부 구조물에 지지되고, 최상단에 위치하는 틸팅조절부(160)의 틸팅플레이트(161)는 작업 대상물의 하부를 지지한다. First, FIG. 8 is a cross-sectional view taken along line A-A' of FIG. 1, and FIG. 9 is a cross-sectional view taken along line B-B' of FIG. 1. 120), the front and rear control unit 130, the left and right control unit 140, the rotation control unit 150 and the tilting control unit 160 are sequentially stacked in the Z-axis direction, the base 110 located at the bottom end Is supported by the lower structure, and the tilting plate 161 of the tilting adjustment unit 160 positioned at the top end supports the lower portion of the work object.

여기서, 작업 대상물이 지지되는 상기 틸팅플레이트(161)의 Z축, Y축 및 X축 방향 위치는 상하조절부(120), 전후조절부(130) 및 좌우조절부(140)에 의해 조절될 수 있고, Z축 회전 각도는 상기 회전조절부(150)에 의해 조절될 수 있으며, X축 회동에 대한 기울기 및 Y축 회동에 대한 기울기는 상기 틸팅조절부(160)에 의해 조절될 수 있다. Here, the position of the tilting plate 161 in which the work object is supported in the Z-axis, Y-axis and X-axis directions may be adjusted by the vertical adjustment unit 120, the front and rear adjustment units 130, and the left and right adjustment units 140. In addition, the Z-axis rotation angle may be adjusted by the rotation adjustment unit 150, and the inclination for the X-axis rotation and the Y-axis rotation may be adjusted by the tilting adjustment unit 160.

상기 상하조절부(120)의 제1플레이트(121)는 베이스(110)의 상측에서 제1가이드(122)에 의해 Z축 방향 이동이 안내된다. 이러한 상태에서 도 10에 도시된 바와 같이 제1위치결정부(123)의 제1조절부(123a)를 신장시키면, 제1-1이동블록(123b)이 Y축 방향으로 이동하는 동시에, 제1플레이트(121)에 고정된 제1-2이동블록(123c)이 경사면을 따라 Z축 방향으로 상승하므로, 상기 제1위치결정부(123)를 통해 제1플레이트(121)의 Z축 방향 위치를 조절할 수 있다. The first plate 121 of the vertical adjustment unit 120 is guided in the Z-axis direction by the first guide 122 from the upper side of the base 110. In this state, when the first adjustment unit 123a of the first positioning unit 123 is elongated as shown in FIG. 10, the 1-1 movable block 123b moves in the Y-axis direction, and the first Since the 1-2 movable block 123c fixed to the plate 121 rises along the inclined surface in the Z-axis direction, the position of the first plate 121 in the Z-axis direction through the first positioning unit 123 Can be adjusted.

상기 제1플레이트(121)와 베이스(110) 사이에 배치되는 제1탄성부재(124)는 제1위치결정부(123)에 의해 제1플레이트(121)가 Z축 방향으로 상승하는 과정에서 인장되고, 제1위치결정부(123)에 의해 제1플레이트(121)가 Z축 방향으로 하강하는 과정에서 수축한다. 이에 따라 상기 제1조절부(123a)와 제1-1이동블록(123b)의 연결부위가 밀착된 상태를 유지할 수 있으므로, 상기 제1위치결정부(123)의 조립공차나 백래쉬 등에 의한 오차의 발생을 방지할 수 있다. The first elastic member 124 disposed between the first plate 121 and the base 110 is stretched while the first plate 121 is raised in the Z-axis direction by the first positioning unit 123 Then, the first plate 121 contracts in the process of descending in the Z-axis direction by the first positioning unit 123. Accordingly, the connection portion between the first adjustment unit 123a and the 1-1 movable block 123b can be kept in close contact, so that an error due to an assembly tolerance or backlash of the first positioning unit 123 It can be prevented from occurring.

상기 전후조절부(130)의 제2플레이트(131)는 제1플레이트(121)의 상측에서 제2가이드(132)에 의해 Y축 방향 이동이 안내된다. 즉, 도 11의 (a)와 같은 상태로부터 도 11의 (b)와 같이 제1플레이트(121)에 지지된 제2위치결정부(133)의 제2조절부(133a)를 Y축 방향으로 신장시키면, 제2조절부(133a)에 연결된 제2이동블록(133b)이 제2플레이트(131)와 함께 Y축 방향으로 이동함에 따라, 제2플레이트(131)의 Y축 방향 위치를 조절할 수 있다.The second plate 131 of the front and rear adjustment unit 130 is guided in the Y-axis direction by the second guide 132 from the upper side of the first plate 121. That is, from the state as shown in (a) of FIG. 11 to the second adjusting part (133a) of the second positioning part 133 supported on the first plate 121 as shown in (b) of FIG. 11 in the Y-axis direction. When elongated, as the second moving block 133b connected to the second adjusting unit 133a moves in the Y-axis direction together with the second plate 131, the position of the second plate 131 in the Y-axis direction can be adjusted. have.

마찬가지로, 상기 좌우조절부(140)의 제3플레이트(141)는 제2플레이트(131)의 상측에서 제3가이드(142)에 의해 X축 방향 이동이 안내된다. 즉, 도 11의 (b)와 같은 상태로부터 도 11의 (c)와 같이 제2플레이트(131)에 지지된 제3위치결정부(143)의 제3조절부(143a)를 X축 방향으로 신장시키면, 제3조절부(143a)에 연결된 제3이동블록(143b)이 제3플레이트(141)와 함께 X축 방향으로 이동함에 따라, 제3플레이트(141)의 X축 방향 위치를 조절할 수 있다.Likewise, the third plate 141 of the left and right adjustment unit 140 is guided in the X-axis direction by the third guide 142 from the upper side of the second plate 131. That is, from the state as shown in (b) of FIG. 11 to the third adjusting part (143a) of the third positioning part 143 supported by the second plate 131 as shown in (c) of FIG. 11 in the X-axis direction. When extended, as the third moving block 143b connected to the third adjusting unit 143a moves in the X-axis direction together with the third plate 141, the position of the third plate 141 in the X-axis direction can be adjusted. have.

상기 회전조절부(150)의 회전플레이트(151)는 도 8 및 도 9와 같이 제3플레이트(141)의 상측에서 회전가이드(152)에 의해 Z축 회전이 안내된다. 즉, 도 12의 (a)와 같은 상태로부터 도 12의 (b)와 같이 회전위치결정부(153)의 제4조절부(153a)를 신장시키면, 회전플레이트(151)에 고정된 상태에서 상기 제4조절부(153a)에 접촉하고 있는 제4이동블록(153b)의 위치가 이동함에 따라, 상기 회전플레이트(151)가 회전가이드(152)의 회전축(R)을 기준으로 하여 일측 방향으로 회전하게 된다. The rotation plate 151 of the rotation control unit 150 is guided by a rotation guide 152 from the upper side of the third plate 141 as shown in FIGS. 8 and 9. That is, if the fourth adjustment unit 153a of the rotation positioning unit 153 is extended from the state as shown in FIG. 12(a) to as shown in FIG. 12(b), the rotation plate 151 is fixed to the As the position of the fourth moving block 153b in contact with the fourth adjustment unit 153a moves, the rotation plate 151 rotates in one direction based on the rotation axis R of the rotation guide 152 Is done.

이때, 상기 제4이동블록(153b)의 반대쪽 측면은 탄성지지부(154)의 지지바(154a)가 접촉되고, 지지바(154a)는 스프링(154b)에 의해 탄성 가압되므로, 상기 제4이동블록(153b)은 제4조절부(153a)에 밀착된 상태가 유지될 수 있다. 이에 따라 제4조절부(153a)가 수축하는 경우, 제4이동블록(153b)이 제4조절부(153a)에 밀착하는 방향으로 이동하게 되므로, 상기 회전플레이트(151)가 회전가이드(152)의 회전축(R)을 기준으로 하여 반대 방향으로 회전하게 된다.At this time, the support bar 154a of the elastic support part 154 is in contact with the opposite side of the fourth moving block 153b, and the support bar 154a is elastically pressed by the spring 154b, so that the fourth moving block (153b) may be maintained in close contact with the fourth adjustment unit (153a). Accordingly, when the fourth adjustment unit 153a contracts, the fourth moving block 153b moves in a direction in close contact with the fourth adjustment unit 153a, so that the rotation plate 151 is moved to the rotation guide 152 It rotates in the opposite direction based on the rotation axis (R) of.

한편, 상기 제4이동블록(153b)은 탄성지지부(154)의 스프링(154b)에 의해 제4조절부(153a)에 밀착된 상태가 유지되므로, 상기 회전플레이트(151)는 상기 스프링(154b)을 탄성 압축하는 방향으로 작용하는 외력에 의해 임의로 회전할 수 있다. Meanwhile, since the fourth moving block 153b is kept in close contact with the fourth adjusting unit 153a by the spring 154b of the elastic support unit 154, the rotating plate 151 is the spring 154b. It can be rotated arbitrarily by an external force acting in the direction of elastic compression.

이때, 도 12의 (c)와 같이 상기 탄성지지부(154)의 지지바(154a) 후방에 위치하는 고정바(154c)를 축방향으로 이동시켜 지지바(154a)의 후단부에 접촉시키면, 제4이동블록(153b)의 타측에 접촉하고 있는 지지바(154a)의 축방향 위치를 고정할 수 있으므로, 회전플레이트(151)가 외력에 의해 임의로 회전하는 것을 방지할 수 있다. At this time, as shown in (c) of FIG. 12, when the fixing bar 154c located behind the support bar 154a of the elastic support part 154 is moved in the axial direction and contacts the rear end of the support bar 154a, the first 4 Since the axial position of the support bar 154a in contact with the other side of the moving block 153b can be fixed, it is possible to prevent the rotation plate 151 from rotating arbitrarily by an external force.

상기 틸팅조절부(160)의 틸팅플레이트(161)는 도 8 및 도 9와 같이 회전플레이트(151)의 상측에서 틸팅가이드(162)에 의해 X축 회동 및 Y축 회동이 안내된다. The tilting plate 161 of the tilting adjustment unit 160 is guided by the tilting guide 162 from the top of the rotating plate 151 as shown in FIGS. 8 and 9 to rotate the X axis and the rotation of the Y axis.

상기 틸팅가이드(162)는 상기 회전플레이트(151)의 상면에 마련된 링형 수용홈(151b) 내에 수용되고, 상기 틸팅가이드(162)의 중앙 수용공간에는 상기 회전조절부(150)의 회전가이드(152)가 수용된다. 즉 회전가이드(152)와 틸팅가이드(162)가 Z축 방향으로 적층되지 않고 회전플레이트(151)와 틸팅플레이트(161) 사이의 동일 평면 상에 중첩 배치됨에 따라, 상기 회전조절부(150)와 틸팅조절부(160)의 Z축 방향 두께를 최소화할 수 있다. The tilting guide 162 is accommodated in a ring-shaped receiving groove 151b provided on the upper surface of the rotating plate 151, and the rotating guide 152 of the rotating control unit 150 is in a central receiving space of the tilting guide 162. ) Is accepted. That is, as the rotation guide 152 and the tilting guide 162 are not stacked in the Z-axis direction and are overlapped on the same plane between the rotating plate 151 and the tilting plate 161, the rotation control unit 150 and the It is possible to minimize the thickness of the tilting adjustment unit 160 in the Z-axis direction.

상기 틸팅플레이트(161)는 상기 틸팅플레이트(161)와 회전플레이트(151) 사이에 배치된 가이드링(162a)에 X축 방향으로 회동 가능하게 연결된 제1연결블록(162b)의 제1틸팅축(TX)을 중심으로 회동할 수 있는 동시에, 가이드링(162a)에 Y축 방향으로 회동 가능하게 연결된 제2연결블록(162c)의 제2틸팅축(TY)을 중심으로 회동할 수 있다. 즉, 상기 틸팅플레이트(161)는 상기 틸팅가이드(162)에 의해 상기 회전플레이트(151)의 상측에서 상기 제1틸팅축(TX)과 제2틸팅축(TY)의 중심축의 교차점인 중심점(P)을 기준으로 X축 및 Y축 방향 기울기가 조절될 수 있다.The tilting plate 161 is a first tilting shaft of a first connection block 162b connected to a guide ring 162a disposed between the tilting plate 161 and the rotating plate 151 so as to be rotatable in the X-axis direction. TX), and at the same time, it may rotate about the second tilting axis TY of the second connection block 162c, which is rotatably connected to the guide ring 162a in the Y-axis direction. That is, the tilting plate 161 is a center point P, which is an intersection of the center axes of the first tilting axis TX and the second tilting axis TY from the upper side of the rotation plate 151 by the tilting guide 162. ), the X-axis and Y-axis direction tilt can be adjusted.

도 14는 도 13의 C-C'선 단면도로서, 상기 틸팅플레이트(161)는 도 13 및 도 14에 도시된 바와 같이, 일측 모서리 하부에 배치되는 틸팅위치결정부(163)에 의해 높이가 조절되고, 상기 기준점(P)을 중심으로 맞은편 모서리의 하부에 배치되는 제2탄성부재(164)에 의해 상측 방향으로 탄성지지된다. 즉, 상기 틸팅위치결정부(163)의 제5조절부(163a)를 축방향으로 신장시키면, 제5이동블록(163b)의 경사면에 안착된 제어구(163c)가 상측 방향으로 이동하면서 틸팅플레이트(161)의 모서리를 상측 방향으로 밀어올리고, 이에 따라 상기 틸팅플레이트(161)가 기준점(P)을 중심으로 회동하게 된다. 이때 반대쪽 모서리에 위치하는 제2탄성부재(164)의 가압구(164a)는 틸팅플레이트(161)의 회동에 의해 하강하게 되고, 상기 가압구(164a)를 지지하는 스프링(164b)은 탄성압축된다. 14 is a cross-sectional view taken along line C-C' of FIG. 13, and the height of the tilting plate 161 is adjusted by a tilting positioning unit 163 disposed under one edge, as shown in FIGS. 13 and 14 It is elastically supported in the upward direction by a second elastic member 164 disposed below the opposite edge around the reference point P. That is, when the fifth adjustment unit 163a of the tilting positioning unit 163 is extended in the axial direction, the control unit 163c seated on the inclined surface of the fifth moving block 163b moves upward and the tilting plate The edge of 161 is pushed upward, and accordingly, the tilting plate 161 rotates around the reference point P. At this time, the pressing hole 164a of the second elastic member 164 located at the opposite corner is lowered by the rotation of the tilting plate 161, and the spring 164b supporting the pressing hole 164a is elastically compressed. .

상기와 같은 틸팅위치결정부(163)는 상기 틸팅플레이트(161)의 일측 변의 양측 모서리에 대응하는 위치에 각각 배치되므로, 상기 틸팅플레이트(161)는 기준점(P)과 한 쌍의 틸팅위치결정부(163)에 의해 3점 지지되며, 상기 한 쌍의 틸팅위치결정부(163)에 의해 틸팅플레이트(161)의 기울기가 결정될 수 있다. Since the tilting positioning unit 163 as described above is disposed at positions corresponding to both corners of one side of the tilting plate 161, the tilting plate 161 is a reference point P and a pair of tilting positioning units Three points are supported by 163, and the tilt of the tilting plate 161 may be determined by the pair of tilting positioning units 163.

즉, 도 15의 (a)와 같이 일측 틸팅위치결정부(163)를 상승시키면 틸팅플레이트(161)가 기준점(P)과 타측 틸팅위치결정부(163')를 연결하는 라인을 중심으로 회동하고, 도 15의 (b)와 같이 타측 틸팅위치결정부(163')를 상승시키면 틸팅플레이트(161)가 기준점(P)과 일측 틸팅위치결정부(163)를 연결하는 라인을 중심으로 회동한다. 즉 양측 틸팅위치결정부(163,163') 중 어느 하나를 조절하는 경우에는 상기 틸팅플레이트(161)의 X축 방향 기울기와 Y축 방향 기울기를 동시에 조절할 수 있다. 또한, 도 15의 (c)와 같이 타측 틸팅위치결정부(163')를 하강시키고 일측 틸팅위치결정부(163)를 상승시키면 상기 틸팅플레이트(161)가 기준점(P)을 기준으로 X축 회동하므로 틸팅플레이트(161)의 Y축 방향에 대한 기울기를 조절할 수 있고, 도 15의 (d)와 같이 양측 틸팅위치결정부(163,163')를 모두 상승시키면 상기 틸팅플레이트(161)가 기준점(P)을 기준으로 Y축 회동하므로, 틸팅플레이트(161)의 X축 방향에 대한 기울기를 조절할 수 있다. That is, when the one side tilting positioning unit 163 is raised as shown in FIG. 15A, the tilting plate 161 rotates around the line connecting the reference point P and the other tilting positioning unit 163'. As shown in (b) of FIG. 15, when the other tilting positioning unit 163' is raised, the tilting plate 161 rotates around a line connecting the reference point P and the one tilting positioning unit 163. That is, when one of the two tilting positioning units 163 and 163 ′ is adjusted, the tilt in the X-axis direction and the inclination in the Y-axis direction of the tilting plate 161 may be simultaneously adjusted. In addition, when the other side tilting positioning unit 163' is lowered and one side tilting positioning unit 163 is raised as shown in Fig. 15(c), the tilting plate 161 rotates in the X-axis based on the reference point P. Therefore, the tilt of the tilting plate 161 in the Y-axis direction can be adjusted, and when both tilting positioning units 163 and 163' are raised as shown in Fig. 15(d), the tilting plate 161 becomes the reference point (P). Since the Y-axis is rotated based on, the tilt of the tilting plate 161 in the X-axis direction can be adjusted.

한편, 상기와 같이 틸팅위치결정부(163)에 의해 상기 틸팅플레이트(161)의 기울기가 조절된 상태에서, 상기 틸팅플레이트(161)의 타측 변은 제2탄성부재(164)에 의해 탄력적으로 지지되는 상태가 되므로, 틸팅플레이트(161)의 타측 변을 아래로 가압하는 외력에 의해 틸팅플레이트(161)의 기울기가 임의로 변경될 수 있다. Meanwhile, while the tilt of the tilting plate 161 is adjusted by the tilting positioning unit 163 as described above, the other side of the tilting plate 161 is elastically supported by the second elastic member 164. In this case, the tilt of the tilting plate 161 may be arbitrarily changed by an external force pressing the other side of the tilting plate 161 downward.

따라서, 틸팅플레이트(161)의 기울기를 조절한 후에는, 스토퍼(165)를 이용하여 틸팅플레이트(161)의 타측 하부를 지지하여 Z축 방향 위치를 고정하면, 외력에 의해 틸팅플레이트(161)의 기울기가 임의로 변경되는 것을 방지할 수 있다. Therefore, after adjusting the inclination of the tilting plate 161, by fixing the position in the Z-axis direction by supporting the lower portion of the other side of the tilting plate 161 using the stopper 165, the tilting plate 161 It is possible to prevent the slope from changing arbitrarily.

본 실시예에 따르면, 베이스(110), 상하조절부(120), 전후조절부(130), 좌우조절부(140), 회전조절부(150) 및 틸팅조절부(160)의 초기 셋팅 위치가 초기위치 고정부(170)에 의해 고정될 수 있다. According to this embodiment, the initial setting position of the base 110, the vertical adjustment unit 120, the front and rear adjustment unit 130, the left and right adjustment unit 140, the rotation adjustment unit 150 and the tilting adjustment unit 160 It may be fixed by the initial position fixing part 170.

도 16에 도시된 바와 같이, Z축 방향으로 적층 구성되는 베이스(110), 제1플레이트(121), 제1-1이동블록(123b) 및 제1-2이동블록(123c), 제2플레이트(131), 제3플레이트(141) 및 틸팅플레이트(161)에는 Z축 방향으로 관통하는 삽입공(H)이 각각 형성되고, 상기 다수의 삽입공(H)은 상기 베이스(110), 제1위치조절부, 제2위치조절부, 제3위치조절부, 회전조절부(150) 및 틸팅조절부(160)의 초기 셋팅 위치에서 Z축 방향에 대해 일렬로 정렬된다. As shown in FIG. 16, the base 110, the first plate 121, the 1-1 movable block 123b, the 1-2 movable block 123c, and the second plate are stacked in the Z-axis direction. (131), the third plate 141 and the tilting plate 161 are respectively formed with insertion holes (H) penetrating in the Z-axis direction, and the plurality of insertion holes (H) are the base 110, the first The position control unit, the second position control unit, the third position control unit, the rotation control unit 150 and the tilt control unit 160 are aligned in a line with respect to the Z-axis direction at the initial setting positions.

따라서, 상기와 같이 초기 셋팅 위치에서 Z축 방향으로 정렬된 삽입공(H)에 정렬용 샤프트(S)를 삽입하는 경우, 초기 셋팅 위치가 임의로 변경되는 것을 방지할 수 있을 뿐만 아니라, 사용 후 초기 셋팅 위치로 용이하게 되돌릴 수 있는 효과를 얻을 수 있다. Therefore, when inserting the alignment shaft (S) into the insertion hole (H) aligned in the Z-axis direction at the initial setting position as described above, it is possible to prevent the initial setting position from being arbitrarily changed, as well as the initial setting after use. The effect of easily returning to the setting position can be obtained.

한편, 삽입공(H) 및 정렬용 샤프트(S)는 회전조절부(150)의 회전중심으로부터 벗어난 위치에 배치되는 것이 바람직하며, 상기 삽입공(H) 및 정렬용 샤프트(S)는 복수 마련되고, 서로 나란하게 배치되는 것이 바람직하다.On the other hand, the insertion hole (H) and the shaft for alignment (S) is preferably disposed at a position away from the rotation center of the rotation control unit 150, the insertion hole (H) and the shaft for alignment (S) is provided in plurality And it is preferable to be arranged side by side with each other.

본 발명의 권리범위는 상술한 실시예에 한정되는 것이 아니라 첨부된 특허청구범위 내에서 다양한 형태의 실시예로 구현될 수 있다. 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 변형 가능한 다양한 범위까지 본 발명의 청구범위 기재의 범위 내에 있는 것으로 본다.The scope of the present invention is not limited to the above-described embodiments, but may be implemented in various forms within the scope of the appended claims. Without departing from the gist of the present invention claimed in the claims, any person of ordinary skill in the art to which the present invention belongs is considered to be within the scope of the description of the claims of the present invention to various ranges that can be modified.

110:베이스, 120:상하조절부, 121:제1플레이트,
122:제1가이드, 123:제1위치결정부, 123a:제1조절부,
123b:제1-1이동블록, 123c:제1-2이동블록, 124:제1탄성부재,
130:전후조절부, 131:제2플레이트, 132:제2가이드,
133:제2위치결정부, 133a:제2조절부, 133b:제2이동블록,
140:좌우조절부, 141:제3플레이트, 142:제3가이드,
143:제3위치결정부, 143a:제3조절부, 143b:제3이동블록,
150:회전조절부, 151:회전플레이트, 151a:수용홀,
151b:수용홈, 152:회전가이드, 152a:베어링,
152b:슬리브, 153:회전위치결정부, 153a:제4조절부,
153b:제4이동블록, 154:탄성지지부, 154a:지지바,
154b:스프링, 154c:고정바, 160:틸팅조절부,
161:틸팅플레이트, 162:틸팅가이드, 162a:가이드링,
162b:제1연결블록, TX:제1틸팅축, 162c:제2연결블록,
TY:제2틸팅축, 163:틸팅위치결정부, 163a:제5조절부,
163b:제5이동블록, 163c:제어구, 163d:스프링,
164:제2탄성부재, 164a가압구, 164b:스프링,
165:스토퍼, 170:초기위치 고정부, S:정렬용 샤프트,
H:삽입공
110: base, 120: up and down adjustment unit, 121: first plate,
122: first guide, 123: first positioning unit, 123a: first adjusting unit,
123b: 1-1 movable block, 123c: 1-2 movable block, 124: first elastic member,
130: front and rear adjustment unit, 131: second plate, 132: second guide,
133: second positioning unit, 133a: second adjusting unit, 133b: second moving block,
140: left and right adjustment unit, 141: third plate, 142: third guide,
143: third positioning unit, 143a: third adjusting unit, 143b: third moving block,
150: rotation control unit, 151: rotation plate, 151a: receiving hole,
151b: receiving groove, 152: rotating guide, 152a: bearing,
152b: sleeve, 153: rotation positioning unit, 153a: fourth adjustment unit,
153b: fourth moving block, 154: elastic support, 154a: support bar,
154b: spring, 154c: fixing bar, 160: tilting control unit,
161: tilting plate, 162: tilting guide, 162a: guide ring,
162b: first connection block, TX: first tilting axis, 162c: second connection block,
TY: second tilting axis, 163: tilting positioning unit, 163a: fifth adjustment unit,
163b: 5th moving block, 163c: control unit, 163d: spring,
164: second elastic member, 164a pressurization port, 164b: spring,
165: stopper, 170: initial position fixing part, S: alignment shaft,
H: Insertion hole

Claims (11)

베이스;
상기 베이스의 상측에 배치되고 중앙에 수용홀이 관통 형성된 회전플레이트, 상기 수용홀 내에 배치되고 상기 회전플레이트를 상기 베이스의 상면과 직교하는 Z축을 중심으로 회전가능하게 지지하는 회전가이드를 포함하는 회전조절부;
상기 회전플레이트의 상측에 배치되는 틸팅플레이트, 상기 틸팅플레이트를 상기 베이스의 상면과 나란한 면 상에서 서로 직교하는 X축 및 Y축을 중심으로 회동 가능하게 지지하는 링형 틸팅가이드를 포함하는 틸팅조절부;를 포함하고,
상기 틸팅가이드의 중앙에는 수용공간이 마련되고, 상기 회전가이드는 상기 틸팅가이드의 수용공간 내에 배치되고,
상기 회전플레이트의 상면에는 상기 틸팅가이드가 수용될 수 있는 링형 수용홈이 마련되는 것을 특징으로 하는 다축 스테이지 장치.
Base;
Rotation control including a rotation plate disposed on the upper side of the base and having a receiving hole formed therethrough in the center, a rotation guide disposed in the receiving hole and rotatably supporting the rotation plate about a Z-axis perpendicular to the upper surface of the base part;
Including; a tilting control unit including a tilting plate disposed on the upper side of the rotating plate, and a ring-shaped tilting guide for supporting the tilting plate so as to be rotatable around the X-axis and Y-axis perpendicular to each other on a surface parallel to the upper surface of the base; and,
An accommodation space is provided in the center of the tilting guide, and the rotation guide is disposed within the accommodation space of the tilting guide,
A multi-axis stage device, characterized in that a ring-shaped receiving groove in which the tilting guide can be accommodated is provided on an upper surface of the rotating plate.
제 1항에 있어서,
상기 회전가이드는 상기 수용홀의 내벽면에 외륜이 지지되는 링형 베어링과, 상기 링형 베어링의 내륜에 지지되고 상기 베이스에 고정되는 중공 슬리브를 포함하는 것을 특징으로 하는 다축 스테이지 장치.
The method of claim 1,
The rotation guide includes a ring-shaped bearing in which an outer ring is supported on an inner wall surface of the receiving hole, and a hollow sleeve supported by an inner ring of the ring-shaped bearing and fixed to the base.
삭제delete 제 1항에 있어서,
상기 틸팅가이드는
상기 수용홈 내에 수용되는 가이드링,
상기 수용홈 내에 수용된 상태에서 상기 회전플레이트에 고정되고 X축 방향으로 배치되는 제1틸팅축을 통해 상기 가이드링을 회동 가능하게 지지하는 제1연결블록,
상기 링형 수용홈 내에 수용된 상태에서 상기 틸팅플레이트에 고정되고 Y축 방향으로 배치되는 제2틸팅축을 통해 상기 가이드링을 회동 가능하게 지지하는 제2연결블록을 포함하는 것을 특징으로 하는 다축 스테이지 장치.
The method of claim 1,
The tilting guide
A guide ring accommodated in the receiving groove,
A first connection block for rotatably supporting the guide ring through a first tilting shaft disposed in the X-axis direction and fixed to the rotation plate in a state received in the receiving groove,
And a second connection block rotatably supporting the guide ring through a second tilting shaft disposed in the Y-axis direction and fixed to the tilting plate in a state received in the ring-shaped receiving groove.
제 1항에 있어서,
상기 베이스와 틸팅플레이트의 판면에는 정렬용 샤프트가 삽입될 수 있는 삽입공이 각각 마련되고,
상기 삽입공은 상기 베이스와 회전플레이트 및 틸팅플레이트의 초기 셋팅 위치에서 Z축 방향에 대하여 서로 정렬되는 것을 특징으로 하는 다축 스테이지 장치.
The method of claim 1,
Insertion holes into which an alignment shaft can be inserted are provided on the plate surfaces of the base and the tilting plate, respectively,
The insertion hole is a multi-axis stage device, characterized in that aligned with each other with respect to the Z-axis direction at the initial setting position of the base and the rotating plate and the tilting plate.
제 5항에 있어서,
상기 삽입공은 상기 회전플레이트의 수용홀에 대응하는 위치에 마련되는 것을 특징으로 하는 다축 스테이지 장치.
The method of claim 5,
The insertion hole is a multi-axis stage device, characterized in that provided in a position corresponding to the receiving hole of the rotating plate.
제 1항에 있어서,
상기 베이스와 회전플레이트 사이에 마련되고, 상기 X축, Y축 및 Z축 중 적어도 어느 하나의 방향으로 상기 베이스에 대한 회전플레이트의 상대 위치를 조절하는 위치조절부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 다축 스테이지 장치.
The method of claim 1,
A position adjusting unit provided between the base and the rotating plate and adjusting a relative position of the rotating plate with respect to the base in at least one of the X-axis, Y-axis and Z-axis; characterized in that it further comprises Multi-axis stage device.
제 7항에 있어서,
상기 위치조절부는 상기 베이스와 회전플레이트 사이에서 상기 회전플레이트의 Z축 방향 위치를 조절하는 상하조절부, 상기 회전플레이트의 X축 방향 위치를 조절하는 좌우조절부 및 상기 회전플레이트의 Y축 방향 위치를 조절하는 전후조절부 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 다축 스테이지 장치.
The method of claim 7,
The position control unit adjusts the vertical position of the rotating plate between the base and the rotating plate in the Z-axis direction, a left-right adjusting unit adjusting the position of the rotating plate in the X-axis direction, and the position in the Y-axis direction of the rotating plate. Multi-axis stage device comprising at least one of the front and rear adjustment units to adjust.
제 8항에 있어서,
상기 베이스와 위치조절부에는 정렬용 샤프트가 삽입될 수 있는 삽입공이 각각 마련되고,
상기 삽입공은 상기 베이스와 위치조절부의 초기 셋팅 위치에서 Z축 방향에 대하여 서로 정렬되는 것을 특징으로 하는 다축 스테이지 장치.
The method of claim 8,
Insertion holes into which the alignment shaft can be inserted are provided in the base and the position control unit, respectively,
The insertion hole is a multi-axis stage device, characterized in that aligned with each other in the Z-axis direction at the initial setting position of the base and the position control unit.
제 7항에 있어서,
상기 위치조절부는 상기 베이스와 회전플레이트 사이에서 상기 회전플레이트의 Z축 방향 위치를 조절하는 상하조절부를 포함하고,
상기 상하조절부는 상기 베이스와 회전플레이트 사이에 배치되는 제1플레이트, 상기 베이스 상에서 X축 또는 Y축 방향으로 이동하는 제1-1이동블록, Z축 방향에 대하여 상기 제1-1이동블록과 중첩 배치되고 상기 제1플레이트에 고정되는 제1-2이동블록을 포함하고, 상기 제1-1이동블록과 제1-2이동블록의 서로 마주하는 면에는 상기 제1-1이동블록의 이동방향에 대하여 기울기를 갖는 경사면이 마련되는 것을 특징으로 하는 다축 스테이지 장치.
The method of claim 7,
The position adjustment unit includes a vertical adjustment unit for adjusting a position in the Z-axis direction of the rotation plate between the base and the rotation plate,
The vertical adjustment unit is a first plate disposed between the base and the rotating plate, the first-first moving block moving in the X-axis or Y-axis direction on the base, and the first-first moving block with respect to the Z-axis direction overlapping It includes a 1-2 movable block disposed and fixed to the first plate, and the movable block 1-1 and the movable block 1-2 are opposite to each other in a moving direction of the movable block 1-1. A multiaxial stage device, characterized in that an inclined surface having an inclination is provided.
제 10항에 있어서,
상기 제1-1이동블록과 제1-2이동블록에는 정렬용 샤프트가 삽입될 수 있는 삽입공이 각각 마련되고, 상기 삽입공은 상기 베이스와 상하조절부의 초기 셋팅 위치에서 Z축 방향에 대하여 서로 정렬되는 것을 특징으로 하는 다축 스테이지 장치.
The method of claim 10,
The 1-1 movable block and the 1-2 movable block are provided with insertion holes into which an alignment shaft can be inserted, and the insertion holes are aligned with respect to the Z-axis direction at the initial setting positions of the base and the vertical adjustment unit. Multi-axis stage device, characterized in that.
KR1020200084774A 2020-07-09 2020-07-09 Multi axis stage apparatus KR102192182B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200084774A KR102192182B1 (en) 2020-07-09 2020-07-09 Multi axis stage apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200084774A KR102192182B1 (en) 2020-07-09 2020-07-09 Multi axis stage apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR102192182B1 true KR102192182B1 (en) 2020-12-17

Family

ID=74089976

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200084774A KR102192182B1 (en) 2020-07-09 2020-07-09 Multi axis stage apparatus

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102192182B1 (en)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20120017281A (en) * 2010-08-18 2012-02-28 호서대학교 산학협력단 Align stage system
KR101993372B1 (en) * 2019-03-22 2019-06-26 주식회사 삼승엔지니어링 Multiaxial Stage for Inspection
KR102011605B1 (en) * 2018-11-06 2019-08-14 (주)이즈미디어 Moving stage for inspection equipment
KR102059833B1 (en) 2019-03-22 2019-12-27 주식회사 삼승엔지니어링 Multiaxial Stage for Inspection

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20120017281A (en) * 2010-08-18 2012-02-28 호서대학교 산학협력단 Align stage system
KR102011605B1 (en) * 2018-11-06 2019-08-14 (주)이즈미디어 Moving stage for inspection equipment
KR101993372B1 (en) * 2019-03-22 2019-06-26 주식회사 삼승엔지니어링 Multiaxial Stage for Inspection
KR102059833B1 (en) 2019-03-22 2019-12-27 주식회사 삼승엔지니어링 Multiaxial Stage for Inspection

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6126359B2 (en) Sphere shape measuring device
EP2943742B1 (en) Method and arrangement for determining errors in a rotation position determination system
JP4633484B2 (en) Optical element support mechanism
US11262380B2 (en) Wafer prober
KR102011605B1 (en) Moving stage for inspection equipment
JP4584029B2 (en) Calibration jig and calibration method for CMM
US7099008B2 (en) Alignment adjuster of probe, measuring instrument and alignment adjusting method of probe
JP6460670B2 (en) Spherical shape measuring method and apparatus
KR102192182B1 (en) Multi axis stage apparatus
US8209766B2 (en) Scanning probe microscope capable of measuring samples having overhang structure
US5986753A (en) Wafer holding and orienting fixture for optical profilometry
US5007175A (en) System for materializing a point in space, applications thereof and a tooling assembly for said system
JP2016205592A (en) Slide guide unit and measurement device
US5163649A (en) Multi-axis positional gimbal
CN108196133B (en) System and method for adjusting space alignment of three-axis turntable and spherical scanning device
JP4986530B2 (en) Shape measuring method and measuring jig
US7409914B2 (en) Aligning components of a measuring system
US5135196A (en) Multi-axis positional gimbal
JP2019174169A (en) Three-dimensional gauge and three-dimensional position error measurement method of machine
JP2002244018A (en) Mechanism for adjusting distance and angle of mirror
CN111998776A (en) Two-dimensional platform orthogonality detection device and detection method thereof
JP2007036020A (en) Positioning method and holding member
CN218864994U (en) Visualization test equipment
KR0180610B1 (en) Probe card tester
JP3335098B2 (en) Position accuracy inspection device for shape measuring machine

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant