KR102187547B1 - Precision Discharge Control Dispenser with Plasma Pre-treatment - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 플라즈마 전처리 기능을 구비한 정밀토출 제어 디스펜서에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 페이스트가 도포될 작업물의 표면에 플라즈마를 국부적으로 조사하여 전처리하고, 디스펜서를 이용하여 공정상에 사용되는 페이스트의 유량 및 토출량을 디스펜서 내부에서 제어하여 작업물 상에 도포하는 디스펜서에 관한 것이다.The present invention relates to a precise discharge control dispenser having a plasma pretreatment function, and more specifically, a pretreatment by locally irradiating plasma on the surface of a work to be applied with a paste, and the flow rate of the paste used in the process using the dispenser And a dispenser that controls the discharge amount inside the dispenser to apply it onto the work piece.
회로기판, 디스플레이 패널 또는 반도체 패키징 등의 생산 공정이 수행되는데 있어서, 종래 기술에 따르면 접착하고자 하는 각각의 부품 또는 기판과 부품 사이에 일정한 점도를 갖는 페이스트의 도포량을 제어하여 토출하는 디스펜서가 사용되고 있으며, 이에 따라 디스펜서의 주요 기능에 해당하는, 토출되는 페이스트의 유량을 안정적으로 제어하는 등의 페이스트 자체를 정밀하게 제어하는 기능을 구비한 디스펜서가 등장하게 되었다.In the production process such as circuit board, display panel, or semiconductor packaging is performed, according to the prior art, a dispenser that controls and discharges the amount of paste having a certain viscosity between each component to be bonded or between the substrate and the component is used. Accordingly, a dispenser having a function of precisely controlling the paste itself, such as stably controlling the flow rate of the discharged paste, corresponding to the main function of the dispenser has emerged.
상기와 같은 디스펜서는 페이스트를 디스펜싱 하는 기능만을 수행할 뿐 일반적으로 디스펜싱 공정 전에 진행되는 작업물의 표면에 대한 전처리공정 기능을 수행하지 않는다. 디스펜싱이 이루어질 부품 또는 기판의 표면에 불순물이 존재하는 경우, 페이스트가 디스펜싱되기 어렵고, 디스펜싱된 페이스트의 접촉특성이 저하될 수 있다. 이와 같이, 효율적인 공정 운용과 공정 불량률을 감소시키기 위해 작업물의 표면에 대한 전처리공정이 필요한 실정이다.The dispenser as described above performs only a function of dispensing a paste, and does not generally perform a pretreatment process function for the surface of a work performed before the dispensing process. When impurities are present on the surface of a component or substrate to be dispensed, the paste is difficult to be dispensed, and contact characteristics of the dispensed paste may be deteriorated. In this way, in order to efficiently operate the process and reduce the process defect rate, a pretreatment process for the surface of the work piece is required.
한편, 기존에 수행되고 있는 플라즈마 전처리공정은, 플라즈마를 해당 부품 또는 기판의 전체에 조사한다. 다만, 이와 같은 경우 대면적 플라즈마 전처리장치를 추가로 설치해야 하므로 공정 비용이 높아지는 문제점이 존재한다. 또한, 플라즈마를 해당 부품 또는 기판의 전체에 조사함으로써 페이스트가 도포되지 않는 주변 소자 및 재료 등에 충격이 발생할 수 있고, 불필요하게 전처리된 영역이 시간이 지남에 따라 산화되는 문제점이 존재한다. 이로 인해, 공정에 따라 페이스트가 도포되는 국부영역에만 플라즈마를 조사하여 전처리해야 하는 경우에 이를 충족시키기 어려운 문제가 있는 실정이다.On the other hand, in the plasma pretreatment process that has been performed, plasma is irradiated to the entire component or substrate. However, in this case, there is a problem in that the process cost increases because a large-area plasma pretreatment device must be additionally installed. In addition, by irradiating the plasma to the entire component or substrate, there is a problem in that an impact may occur on peripheral devices and materials to which the paste is not applied, and unnecessarily pretreated areas are oxidized over time. For this reason, there is a problem in that it is difficult to meet the pre-treatment by irradiating plasma only to the local area where the paste is applied according to the process.
본 발명은 플라즈마 전처리 기능을 구비한 정밀토출 제어 디스펜서에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 페이스트가 도포될 작업물의 표면에 플라즈마를 국부적으로 조사하여 전처리하고, 디스펜서를 이용하여 공정상에 사용되는 페이스트의 유량 및 토출량을 디스펜서 내부에서 제어하여 작업물 상에 도포하는 디스펜서를 제공하는 것이다.The present invention relates to a precise discharge control dispenser having a plasma pretreatment function, and more specifically, a pretreatment by locally irradiating plasma on the surface of a work to be applied with a paste, and the flow rate of the paste used in the process using the dispenser And a dispenser that controls the discharge amount inside the dispenser and applies it onto the work piece.
상기와 같은 과제를 해결하기 위하여, 본 발명의 일 실시예서는 플라즈마 전처리 기능을 구비한 정밀토출 제어 디스펜서로서, 일단에 연결된 제1튜브로부터 유입한 공기를 압축하여 타단에 연결된 제2튜브로 배출하는 공기펌프모듈; 일단에 연결된 상기 제2튜브로부터 유입되는 공기의 압력에 의해, 내부에 저장된 페이스트를 타단에 연결된 제3튜브로 공급하는 페이스트주입모듈; 일단에 연결된 상기 제3튜브로부터 공급된 상기 페이스트의 유량을 조절하여 타단에 연결된 제4튜브로 배출하는 페이스트유량제어모듈; 일단에 연결된 상기 제4튜브로부터 배출되는 상기 페이스트의 유량에 따라, 하측 일단에 형성된 기설정된 지름 이하의 토출구멍을 통하여 토출되는 상기 페이스트를 작업물에 도포하는 페이스트도포노즐; 상기 페이스트토포노즐의 측면에 나란하게 배치되고, 상기 작업물의 표면에 플라즈마를 국부적으로 조사하여 상기 페이스트가 도포되는 상기 작업물의 표면을 전처리하는 플라즈마전처리모듈; 및 상기 공기펌프모듈, 상기 페이스트유량제어모듈 및 상기 플라즈마전처리모듈을 제어하는 제어부; 를 제공한다.In order to solve the above problems, an embodiment of the present invention is a precision discharge control dispenser having a plasma pretreatment function, which compresses air introduced from a first tube connected to one end and discharges it to a second tube connected to the other end. Air pump module; A paste injection module for supplying the paste stored therein to a third tube connected to the other end by the pressure of air flowing in from the second tube connected to one end; A paste flow rate control module for controlling the flow rate of the paste supplied from the third tube connected to one end and discharging the paste to the fourth tube connected to the other end; A paste application nozzle for applying the paste discharged through a discharge hole having a predetermined diameter or less formed at a lower end according to the flow rate of the paste discharged from the fourth tube connected to one end to a workpiece; A plasma pretreatment module arranged parallel to the side of the paste topo nozzle and pre-treating the surface of the work to which the paste is applied by locally irradiating plasma to the surface of the work; And a control unit for controlling the air pump module, the paste flow rate control module, and the plasma pretreatment module. Provides.
본 발명의 일 실시예에서는, 상기 플라즈마전처리모듈은, 봉 형태의 제1전극; 상기 제1전극을 둘러싸는 형태로 배치되고, 외부로부터 가스가 주입되는 가스주입홀이 형성되고, 외부에 접지된 제2전극; 상기 제1전극에 교류전원을 공급하는 전원공급부; 상기 제2전극의 하측에 배치되고, 하측 일단에 형성된 기설정된 지름 이하의 구멍을 통하여 상기 가스와 전자의 접촉에 의하여 발생되는 플라즈마를 국부적으로 배출하는 노즐부;를 포함하는 플라즈마조사모듈; 을 제공한다.In an embodiment of the present invention, the plasma pretreatment module includes: a first electrode in the form of a rod; A second electrode disposed in a shape surrounding the first electrode, a gas injection hole through which gas is injected from the outside, and grounded to the outside; A power supply unit supplying AC power to the first electrode; A plasma irradiation module including a nozzle unit disposed under the second electrode and configured to locally discharge plasma generated by contact of the gas and electrons through a hole having a predetermined diameter or less formed at a lower end thereof; Provides.
본 발명의 일 실시예에서는, 상기 플라즈마전처리모듈은, 상기 플라즈마조사모듈의 일부가 삽입되어 상기 플라즈마조사모듈을 삽입된 방향의 전후 방향으로 이동시키는 전후이동모듈; 상기 전후이동모듈의 하면에 배치되어 상기 플라즈마조사모듈이 삽입된 방향을 포함하는 가상의 평면에 대하여 수직인 방향으로 상기 전후이동모듈을 이동시키는 수직이동모듈; 및 상기 수직이동모듈의 하면에 배치되어 상기 수직이동모듈의 이동 방향에 수직인 가상의 평면상에서 상기 수직이동모듈을 회전 운동시키는 회전이동모듈; 을 제공한다.In one embodiment of the present invention, the plasma pretreatment module includes: a front-rear moving module in which a part of the plasma irradiation module is inserted to move the plasma irradiation module in a front-rear direction of the inserted direction; A vertical movement module disposed on a lower surface of the front-rear movement module to move the front-rear movement module in a direction perpendicular to a virtual plane including a direction in which the plasma irradiation module is inserted; And a rotational movement module disposed on a lower surface of the vertical movement module to rotate the vertical movement module on a virtual plane perpendicular to a movement direction of the vertical movement module. Provides.
본 발명의 일 실시예에서는, 상기 전후이동모듈은, 상기 플라즈마조사모듈이 삽입된 방향의 전후 방향으로 이동되는 제1슬라이딩홈; 및 상기 수직이동모듈과 체결되는 복수의 체결구멍; 을 포함하고, 상기 수직이동모듈은, 상기 복수의 체결구멍에 삽입되는 복수의 제1체결부재; 상기 제1슬라이딩홈의 일단과 연결되는 제2슬라이딩홈; 및 상기 회전이동모듈에 체결되는 1 이상의 제2체결부재; 를 포함하고, 상기 회전이동모듈은, 상기 제2체결부재가 삽입되는 1 이상의 체결홈; 을 제공한다.In an embodiment of the present invention, the front-rear moving module includes: a first sliding groove moved in a front-rear direction of a direction in which the plasma irradiation module is inserted; And a plurality of fastening holes fastened to the vertical movement module. Including, the vertical movement module, a plurality of first fastening members inserted into the plurality of fastening holes; A second sliding groove connected to one end of the first sliding groove; And at least one second fastening member fastened to the rotational moving module. Including, the rotation moving module, at least one fastening groove into which the second fastening member is inserted; Provides.
본 발명의 일 실시예에서는, 상기 제어부는, 상기 공기펌프모듈, 상기 페이스트유량제어모듈 및 상기 플라즈마전처리모듈을 제어하기 위한 상기 사용자의 입력을 수신하는 입력수신부; 상기 공기펌프모듈을 제어하여 상기 제2튜브로 배출하는 공기의 압력을 제어하는 공기펌프모듈제어부; 및 상기 페이스트유량제어모듈을 제어하여 상기 페이스트도포노즐에서 토출되는 페이스트의 유량을 제어하는 페이스트유량제어모듈제어부; 를 제공한다.In one embodiment of the present invention, the control unit includes: an input receiving unit for receiving an input from the user for controlling the air pump module, the paste flow rate control module, and the plasma pretreatment module; An air pump module control unit controlling the air pump module to control a pressure of air discharged to the second tube; And a paste flow rate control module control unit controlling the paste flow rate control module to control the flow rate of the paste discharged from the paste application nozzle. Provides.
본 발명의 일 실시예에서는, 상기 제어부는, 상기 페이스트유량제어모듈에 의하여 상기 페이스트가 도포되는 상기 작업물의 표면의 국부 영역에 대해서 상기 플라즈마를 조사하도록 플라즈마전처리모듈을 제어하는 플라즈마전처리모듈제어부; 를 제공한다.In an embodiment of the present invention, the control unit includes: a plasma pretreatment module control unit configured to control the plasma pretreatment module to irradiate the plasma to a local area of the surface of the workpiece to which the paste is applied by the paste flow control module; Provides.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 사용자의 입력에 따라 공기펌프모듈이 공기의 압력을 제어함으로써, 페이스트주입모듈이 내부에 저장된 페이스트를 기설정된 유량 이하로 공급할 수 있는 효과를 발휘할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the air pump module controls the air pressure according to the user's input, so that the paste injection module can supply the paste stored therein at a predetermined flow rate or less.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 사용자의 입력에 따라 페이스트유량제어모듈이 페이스트수송탄성튜브의 체적을 제어함으로써, 페이스트주입모듈이 페이스트를 기설정된 유량 이하로 공급할 수 있는 효과를 발휘할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the paste flow rate control module controls the volume of the paste transport elastic tube according to a user's input, so that the paste injection module can provide an effect of supplying the paste below a preset flow rate.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 공기펌프모듈이 공기의 압력을 제어함으로써 페이스트주입모듈이 공급하는 페이스트의 유량을 1차적으로 제어하고, 페이스트유량제어모듈이 페이스트수송탄성튜브의 체적을 제어함으로써 페이스트의 유량을 2차적으로 제어할 수 있는 효과를 발휘할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the air pump module primarily controls the flow rate of the paste supplied by the paste injection module by controlling the air pressure, and the paste flow rate control module controls the volume of the paste transport elastic tube. It can exert the effect of being able to control the flow rate of the secondarily.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 디스펜서가 공기펌프모듈, 페이스트주입모듈, 및 페이스트유량제어모듈의 연속적인 공정을 수행함으로써, 전체적인 공정의 수율 및 생산성을 높일 수 있는 효과를 발휘할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the dispenser performs a continuous process of the air pump module, the paste injection module, and the paste flow rate control module, thereby exhibiting an effect of increasing the yield and productivity of the overall process.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 복수의 로봇팔(arm)에 의한 1차적인 움직임 제어 및 플라즈마전처리모듈에 포함되는 복수의 이동모듈에 의한 2차적인 세부 움직임 제어를 통해, 플라즈마전처리모듈을 작업물의 표면으로 정확하게 이동할 수 있는 효과를 발휘할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the plasma preprocessing module is operated through primary movement control by a plurality of robot arms and secondary detailed movement control by a plurality of movement modules included in the plasma preprocessing module. It can exert the effect of being able to move accurately to the surface of the water.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 플라즈마조사모듈을 구성하는 제2전극이 외부에 접지됨으로써, 사용자가 디스펜서를 안전하게 작동할 수 있는 효과를 발휘할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, since the second electrode constituting the plasma irradiation module is externally grounded, the user can safely operate the dispenser.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제1전극의 일단에 연결된 전원의 주파수 위상 변화에 따라 제1전극 및 제2전극의 극성이 빠르게 변화함으로써, 이온이 전극 표면에 축적되는 것을 방지하고 플라즈마가 지속적으로 발생될 수 있는 효과를 발휘할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the polarity of the first electrode and the second electrode rapidly changes according to the frequency phase change of the power source connected to one end of the first electrode, thereby preventing ions from accumulating on the electrode surface and continuing It can exert an effect that can be caused by.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 노즐부에 의해 플라즈마전처리모듈로부터 조사되는 플라즈마가 주변 소자 및 재료 등을 불필요하게 조사하지 않음으로써 작업 수율을 개선할 수 있는 효과를 발휘할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the plasma irradiated from the plasma pretreatment module by the nozzle unit does not unnecessarily irradiate the surrounding elements and materials, thereby improving the work yield.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 전후이동모듈, 수직이동모듈, 및 회전이동모듈에 의하여 플라즈마조사모듈이 복수의 방향으로 이동함에 따라, 페이스트가 도포될 작업물의 표면으로 보다 정밀하게 이동할 수 있는 효과를 발휘할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, as the plasma irradiation module moves in a plurality of directions by the back-and-forth movement module, the vertical movement module, and the rotational movement module, the paste can be moved more precisely to the surface of the work piece to be applied Can exert.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 플라즈마전처리모듈제어부가 기저장된 매핑정보를 활용함으로써, 다양한 작동 환경에서도 최적화된 플라즈마 전처리 공정을 수행할 수 있는 효과를 발휘할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the plasma pretreatment module control unit utilizes pre-stored mapping information, thereby exhibiting an effect of performing an optimized plasma pretreatment process even in various operating environments.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 페이스트도포노즐의 측면에 배치된 플라즈마전처리모듈이 작업물 표면의 국부영역에 플라즈마를 조사함으로써, 도포된 페이스트의 접착특성이 향상되고 주변 소자 및 재료 등에 불필요한 충격이 발생되거나 산화막이 생성되는 것을 방지할 수 있는 효과를 발휘할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the plasma pretreatment module disposed on the side of the paste application nozzle irradiates plasma to a local area of the work piece, thereby improving the adhesion properties of the applied paste and preventing unnecessary impacts on surrounding elements and materials. It is possible to exert an effect of preventing generation or formation of an oxide film.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 디스펜서가 공기펌프모듈제어부, 페이스트유량제어모듈제어부, 플라즈마전처리모듈제어부, 및 3축스테이지모듈제어부에 의해 연속적으로 제어됨에 따라, 플라즈마 전처리 기능을 구비한 디스펜서의 동작 정확성 및 완제품에 대한 신뢰성을 확보할 수 있는 효과를 발휘할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, as the dispenser is continuously controlled by the air pump module control unit, the paste flow rate control module control unit, the plasma pretreatment module control unit, and the three-axis stage module control unit, the operation of the dispenser having a plasma pretreatment function It can exert the effect of securing the accuracy and reliability of the finished product.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 디스펜서의 전체적인 구성을 개략적으로 도시한다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 페이스트유량제어모듈의 내부구성을 개략적으로 도시한다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 공정 상에서 구동되는 페이스트도포노즐 및 플라즈마전처리모듈의 구성을 개략적으로 도시한다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마조사모듈의 단면도를 개략적으로 도시한다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마전처리모듈의 구성을 개략적으로 도시한다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 제어부의 내부구성을 개략적으로 도시한다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 3축스테이지모듈의 동작을 예시적으로 도시한다.1 schematically shows the overall configuration of a dispenser according to an embodiment of the present invention.
2 schematically shows the internal configuration of the paste flow rate control module according to an embodiment of the present invention.
3 schematically shows the configuration of a paste application nozzle and a plasma pretreatment module driven in a process according to an embodiment of the present invention.
4 schematically shows a cross-sectional view of a plasma irradiation module according to an embodiment of the present invention.
5 schematically shows the configuration of a plasma pretreatment module according to an embodiment of the present invention.
6 schematically shows the internal configuration of a control unit according to an embodiment of the present invention.
FIG. 7 exemplarily shows the operation of the 3-axis stage module according to an embodiment of the present invention.
이하에서는, 다양한 실시예들 및/또는 양상들이 이제 도면들을 참조하여 개시된다. 하기 설명에서는 설명을 목적으로, 하나이상의 양상들의 전반적 이해를 돕기 위해 다수의 구체적인 세부사항들이 개시된다. 그러나, 이러한 양상(들)은 이러한 구체적인 세부사항들 없이도 실행될 수 있다는 점 또한 본 발명의 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 인식될 수 있을 것이다. 이후의 기재 및 첨부된 도면들은 하나 이상의 양상들의 특정한 예시적인 양상들을 상세하게 기술한다. 하지만, 이러한 양상들은 예시적인 것이고 다양한 양상들의 원리들에서의 다양한 방법들 중 일부가 이용될 수 있으며, 기술되는 설명들은 그러한 양상들 및 그들의 균등물들을 모두 포함하고자 하는 의도이다.In the following, various embodiments and/or aspects are now disclosed with reference to the drawings. In the following description, for purposes of explanation, a number of specific details are disclosed to aid in an overall understanding of one or more aspects. However, it will also be appreciated by those of ordinary skill in the art that this aspect(s) may be practiced without these specific details. The following description and the annexed drawings set forth in detail certain illustrative aspects of one or more aspects. However, these aspects are exemplary and some of the various methods in the principles of the various aspects may be used, and the descriptions described are intended to include all such aspects and their equivalents.
또한, 다양한 양상들 및 특징들이 다수의 디바이스들, 컴포넌트들 및/또는 모듈들 등을 포함할 수 있는 시스템에 의하여 제시될 것이다. 다양한 시스템들이, 추가적인 장치들, 컴포넌트들 및/또는 모듈들 등을 포함할 수 있다는 점 그리고/또는 도면들과 관련하여 논의된 장치들, 컴포넌트들, 모듈들 등 전부를 포함하지 않을 수도 있다는 점 또한 이해되고 인식되어야 한다.Further, various aspects and features will be presented by a system that may include multiple devices, components and/or modules, and the like. It is also noted that various systems may include additional devices, components and/or modules, and/or may not include all of the devices, components, modules, etc. discussed in connection with the figures. It must be understood and recognized.
본 명세서에서 사용되는 "실시예", "예", "양상", "예시" 등은 기술되는 임의의 양상 또는 설계가 다른 양상 또는 설계들보다 양호하다거나, 이점이 있는 것으로 해석되지 않을 수도 있다. 아래에서 사용되는 용어들 '~부', '컴포넌트', '모듈', '시스템', '인터페이스' 등은 일반적으로 컴퓨터 관련 엔티티(computer-related entity)를 의미하며, 예를 들어, 하드웨어, 하드웨어와 소프트웨어의 조합, 소프트웨어를 의미할 수 있다.As used herein, “an embodiment,” “example,” “aspect,” “example,” and the like may not be construed as having any aspect or design described as being better or advantageous than other aspects or designs. . The terms'~part','component','module','system', and'interface' used below generally mean a computer-related entity, for example, hardware, hardware It can mean a combination of software and software, or software.
또한, "포함한다" 및/또는 "포함하는"이라는 용어는, 해당 특징 및/또는 구성요소가 존재함을 의미하지만, 하나이상의 다른 특징, 구성요소 및/또는 이들의 그룹의 존재 또는 추가를 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.In addition, the terms "comprising" and/or "comprising" mean that the corresponding feature and/or element is present, but excludes the presence or addition of one or more other features, elements, and/or groups thereof. It should be understood as not.
또한, 제1, 제2 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. 및/또는 이라는 용어는 복수의 관련된 기재된 항목들의 조합 또는 복수의 관련된 기재된 항목들 중의 어느 항목을 포함한다.In addition, terms including ordinal numbers such as first and second may be used to describe various elements, but the elements are not limited by the terms. These terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another component. For example, without departing from the scope of the present invention, a first element may be referred to as a second element, and similarly, a second element may be referred to as a first element. The term and/or includes a combination of a plurality of related listed items or any of a plurality of related listed items.
또한, 본 발명의 실시예들에서, 별도로 다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 발명의 실시예에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.In addition, in the embodiments of the present invention, unless otherwise defined, all terms used herein including technical or scientific terms are commonly understood by those of ordinary skill in the art to which the present invention belongs. It has the same meaning as. Terms as defined in a commonly used dictionary should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related technology, and unless explicitly defined in the embodiments of the present invention, an ideal or excessively formal meaning Is not interpreted as.
먼저 디스펜서(dispenser)는 타겟량에 해당하는 액체 정량을 공급하는 컨트롤러 및 그 주변기기를 포함하는 시스템을 말하는 것으로, 상기 액체의 미세 pitch 및 정량 토출을 구현하는데 그 목적이 있다. 상기 디스펜서는 반도체 패키지 혹은 디스플레이 모듈 등의 제조에 사용되거나, 반도체 패키지 혹은 상기 디스플레이 모듈 등을 포함하는 전자기기의 제조에 활용될 수 있다. 즉, 상기 디스펜서는 반도체 패키지의 봉지재, 디스플레이 모듈의 봉지재 및 상기 전자기기의 부품간 접합제 등을 사용하는 공정에서 활용될 수 있다. First, a dispenser refers to a system including a controller for supplying a fixed amount of liquid corresponding to a target amount and a peripheral device thereof, and its purpose is to implement a fine pitch and quantitative discharge of the liquid. The dispenser may be used for manufacturing a semiconductor package or a display module, or may be used for manufacturing an electronic device including a semiconductor package or the display module. That is, the dispenser may be used in a process of using an encapsulant of a semiconductor package, an encapsulant of a display module, and a bonding agent between parts of the electronic device.
본 발명은 이와 같은 상기 디스펜서를 이용하여 공정상에 사용되는 페이스트를 작업물 상에 도포하는데 있어서, 압전소자를 이용하여 상기 디스펜서 내부에서 유동하는 상기 페이스트의 유량을 제어하여 상기 디스펜서로부터 상기 작업물 상에 토출되는 상기 페이스트의 도포량을 제어하며, 상기 페이스트가 도포될 상기 작업물의 표면에 플라즈마를 국부적으로 조사하여 전처리하는 디스펜서를 제공하는 데에 그 목적이 있다.In the present invention, in applying the paste used in the process using the dispenser as described above, the flow rate of the paste flowing inside the dispenser is controlled using a piezoelectric element to It is an object of the present invention to provide a dispenser that controls the amount of the paste to be applied to and pre-treats the surface of the workpiece to which the paste is to be applied by locally irradiating plasma.
본 발명에서 사용되는 상기 페이스트는, 상술한 바와 같이 봉지재 및 부품간 접합제 등을 포함하고, 상기 디스펜서에서 사용되는 점도를 갖는 유동성을 갖는 액체를 의미한다. 다만, 상기 페이스트는 상술한 봉지재 및 접합제에 한정되지 않고, 디스펜서를 이용하는 공정에서, 상기 디스펜서를 통해 토출될 수 있는 모든 형태의 유동성을 갖는 액체를 의미한다.The paste used in the present invention refers to a liquid having a viscosity and a fluidity used in the dispenser, including an encapsulant and a bonding agent between parts as described above. However, the paste is not limited to the above-described encapsulant and bonding agent, and refers to a liquid having all forms of fluidity that can be discharged through the dispenser in a process using a dispenser.
이하에서는 이와 같은 목적을 구현하기 위한 상기 디스펜서의 구성 및 상기 디스펜서의 실시예를 설명하도록 한다.Hereinafter, a configuration of the dispenser and an embodiment of the dispenser for realizing the above purpose will be described.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 디스펜서의 전체적인 구성을 개략적으로 도시한다.1 schematically shows the overall configuration of a dispenser according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 플라즈마 전처리 기능을 구비한 정밀토출 제어 디스펜서로서, 일단에 연결된 제1튜브(a)로부터 유입한 공기를 압축하여 타단에 연결된 제2튜브(b)로 배출하는 공기펌프모듈(200); 일단에 연결된 상기 제2튜브(b)로부터 유입되는 공기의 압력에 의해, 내부에 저장된 페이스트를 타단에 연결된 제3튜브(c)로 공급하는 페이스트주입모듈(300); 일단에 연결된 상기 제3튜브(c)로부터 공급된 상기 페이스트의 유량을 조절하여 타단에 연결된 제4튜브(d)로 배출하는 페이스트유량제어모듈(500); 일단에 연결된 상기 제4튜브(d)로부터 배출되는 상기 페이스트의 유량에 따라, 하측 일단에 형성된 기설정된 지름 이하의 토출구멍을 통하여 토출되는 상기 페이스트를 작업물(700)에 도포하는 페이스트도포노즐(600); 상기 페이스트토포노즐의 측면에 나란하게 배치되고, 상기 작업물(700)의 표면에 플라즈마를 국부적으로 조사하여 상기 페이스트가 도포되는 상기 작업물(700)의 표면을 전처리하는 플라즈마전처리모듈(400); 및 상기 공기펌프모듈(200), 상기 페이스트유량제어모듈(500) 및 상기 플라즈마전처리모듈(400)을 제어하는 제어부(100); 를 포함할 수 있다. Referring to FIG. 1, as a precision discharge control dispenser having a plasma pretreatment function, an air pump module that compresses air introduced from a first tube (a) connected to one end and discharges it to a second tube (b) connected to the other end ( 200); A paste injection module 300 for supplying the paste stored therein to the third tube c connected to the other end by the pressure of the air flowing in from the second tube b connected to one end; A paste flow rate control module 500 for controlling the flow rate of the paste supplied from the third tube c connected to one end and discharging the paste to the fourth tube d connected to the other end; According to the flow rate of the paste discharged from the fourth tube d connected to one end, a paste application nozzle for applying the paste discharged through a discharge hole having a predetermined diameter or less formed at the lower end to the work piece 700 ( 600); Plasma pretreatment module 400 which is arranged side by side on the side of the paste topo nozzle, and pre-treats the surface of the work 700 to which the paste is applied by locally irradiating plasma to the surface of the work 700; And a control unit 100 for controlling the air pump module 200, the paste flow rate control module 500, and the plasma pretreatment module 400. It may include.
본 발명의 일 실시예에 따른 상기 디스펜서는, 제1튜브(a) 내지 제4튜브(d)를 포함하고, 상기 제1튜브(a) 내지 상기 제4튜브(d)는 상기 디스펜서의 각각의 구성요소를 연결하여 일정 점도를 갖는 상기 페이스트와 같은 유체가 내부에서 유동할 수 있다. 또한, 상기 디스펜서를 구성하는 상기 공기펌프모듈(200), 상기 페이스트주입모듈(300), 상기 페이스트유량제어모듈(500), 및 상기 페이스트도포노즐(600)은 순서대로 각각 상기 제1튜브(a) 내지 상기 제4튜브(d)를 통하여 서로 연결될 수 있다.The dispenser according to an embodiment of the present invention includes a first tube (a) to a fourth tube (d), and the first tube (a) to the fourth tube (d) are each of the dispenser. By connecting the components, a fluid such as the paste having a certain viscosity may flow inside. In addition, the
한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 페이스트주입모듈(300)은, 내부에 상기 페이스트를 저장하고, 상기 페이스트주입모듈(300)의 일단에 연결된 제2튜브(b)로부터 유입되는 공기의 압력에 의해, 내부에 저장된 상기 페이스트를 타단에 연결된 제3튜브(c)로 공급할 수 있다. 상기 제2튜브(b)로부터 유입되는 공기는 상기 제2튜브(b)에 연결된 상기 공기펌프모듈(200)로부터 제공된다.Meanwhile, the
상기 페이스트는 상기 디스펜서를 이용한 공정에서 사용되는 유동성을 갖는 액체 형태의 물질로서, 1~100,000 [cPs]의 점성을 갖는다. 또한, 상기 페이스트는, 상기 페이스트주입모듈(300)에 저장될 수 있고, 저장된 상기 페이스트는 상기 제3튜브(c)로 공급될 수 있다. 바람직하게는, 상기 공기펌프모듈(200)이 공기의 압력을 제어하여 상기 제2튜브(b)로 배출하고, 상기 제2튜브(b)를 통해 유입된 공기의 압력에 의해 상기 페이스트주입모듈(300)이 내부에 저장된 상기 페이스트를 상기 제3튜브(c)로 공급할 수 있다. 더욱 바람직하게는, 사용자의 입력에 따라 상기 공기펌프모듈(200)이 공기의 압력을 제어하고 제어된 공기의 압력을 상기 공기펌프모듈(200)과 상기 페이스트주입모듈(300)을 서로 연결하는 상기 제2튜브(b)에 가함으로써, 상기 페이스트주입모듈(300)이 내부에 저장된 상기 페이스트의 유량을 제어하여 상기 제3튜브(c)로 공급할 수 있다.The paste is a liquid material with fluidity used in the process using the dispenser and has a viscosity of 1 to 100,000 [cPs]. In addition, the paste may be stored in the
이에 따라, 본 발명의 일 실시예에서는, 사용자의 입력에 따라 상기 공기펌프모듈(200)이 공기의 압력을 제어함으로써 상기 페이스트주입모듈(300)이 내부에 저장된 상기 페이스트를 기설정된 유량 이하로 공급할 수 있는 효과를 발휘할 수 있다.Accordingly, in one embodiment of the present invention, the
한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 페이스트유량제어모듈(500)은, 상기 제3튜브(c)로부터 유입된 페이스트를 상기 제4튜브(d)로 공급할 수 있다. Meanwhile, the paste flow
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 페이스트유량제어모듈(500)은, 외부의 압력에 의해 체적이 변하고, 일단에 연결된 상기 제3튜브(c)로부터 공급되는 상기 페이스트가 유동하여 타단에 연결된 상기 제4튜브(d)로 배출되도록 가이드하는 페이스트수송탄성튜브(520); 상기 페이스트수송탄성튜브(520)의 외측 둘레면을 감싸는 형태로 형성되어 상기 페이스트수송탄성튜브(520)를 지지하는 페이스트수송탄성튜브지지대(510); 및 상기 페이스트수송탄성튜브(520) 외측 둘레면 상에 위치하고, 상기 제어부(100)에 의하여 인가되는 전원에 의한 형상의 변형으로 상기 페이스트수송탄성튜브(520)에 압력을 가하여 상기 페이스트수송탄성튜브(520)의 체적을 조절하는 가압부재유닛(530);을 포함하고, 상기 가압부재유닛(530)은 압전소자를 포함할 수 있다. Referring to FIG. 1, in the paste flow
이와 같은 구성을 통해, 본 발명의 일 실시예에서는, 상기 페이스트유량제어모듈(500)은 상기 페이스트수송탄성튜브(520)의 체적을 조절하여 상기 페이스트를 상기 제4튜브(d)로 공급할 수 있으며, 상기 페이스트수송탄성튜브(520)는 사용자의 입력에 의해 제어될 수 있다. 바람직하게는, 사용자의 입력에 따라 상기 페이스트유량제어모듈(500)이 상기 페이스트수송탄성튜브(520)의 체적을 제어함으로써, 상기 페이스트주입모듈(300)이 상기 페이스트를 기설정된 유량 이하로 공급할 수 있는 효과를 발휘할 수 있다.Through this configuration, in one embodiment of the present invention, the paste flow
이에 따라, 본 발명의 일 실시예에서는, 상기 공기펌프모듈(200)이 공기의 압력을 제어함으로써 상기 페이스트주입모듈(300)이 공급하는 상기 페이스트의 유량을 1차적으로 제어하고, 상기 페이스트유량제어모듈(500)이 상기 페이스트수송탄성튜브(520)의 체적을 제어함으로써 상기 페이스트의 유량을 2차적으로 제어할 수 있는 효과를 발휘할 수 있다. 또한, 상기 디스펜서가 상기 공기펌프모듈(200), 상기 페이스트주입모듈(300), 및 상기 페이스트유량제어모듈(500)의 연속적인 공정을 수행함으로써, 전체적인 공정의 수율 및 생산성을 높일 수 있는 효과를 발휘할 수 있다.Accordingly, in an embodiment of the present invention, the
한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 페이스트도포노즐(600)은, 상기 제4튜브(d)의 일단에 연결되고, 상기 제4튜브(d)의 타단에 연결된 상기 페이스트유량제어모듈(500)로부터 상기 페이스트를 공급받을 수 있다. 바람직하게는, 상기 페이스트유랑제어모듈(500)로부터 상기 제4튜브(d)로 공급되는 상기 페이스트는 상기 제4튜브(d)의 일단에 연결된 상기 페이스트도포노즐(600)로 유동하고, 상기 페이스트도포노즐(600)은 상기 제4튜브(d)로부터 공급받은 상기 페이스트의 유량에 따라 하측 일단에 형성된 기설정된 지름 이하의 토출구멍을 통하여 상기 페이스트를 작업물(700) 상에 토출하여 도포할 수 있다. On the other hand, the
이에 따라, 상기 공기펌프모듈(200)에서 조절된 공기의 압력과 상기 페이스트유량제어모듈(500)에서 조절된 상기 페이스트수송탄성튜브(520)의 체적에 의해, 상기 페이스트도포노즐(600)이 상기 토출구멍을 통해 상기 페이스트를 토출하여 도포할 수 있다.Accordingly, by the pressure of the air adjusted by the
한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 플라즈마전처리모듈(400)은, 상기 페이스트도포노즐(600)의 측면에 나란하게 배치되고, 상기 페이스트가 도포될 상기 작업물(700)의 표면에 플라즈마를 국부적으로 조사하여 전처리하는 공정을 수행할 수 있도록 한다. 상기 플라즈마전처리모듈(400)이 상기 플라즈마를 국부적으로 조사하는 기술은 도 4에서 후술하기로 한다. 한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 이미지센서(460)는, 상기 페이스트도포노즐(600)의 측면에서, 상기 페이스트가 도포될 상기 작업물(700) 표면의 국부영역에 대한 상기 이미지를 획득할 수 있다.On the other hand, the
한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 3축스테이지모듈(900)이, 상단에 위치한 상기 작업물(700)을 서로 직교하는 3축에 따라 이동시킴으로써, 상기 페이스트도포노즐(600)과 상기 플라즈마전처리모듈(400)을 작업위치로 이동시킬 수 있다. 바람직하게는, 상기 3축스테이지모듈(900)은 사용자의 입력에 따라, 상단에 위치한 상기 작업물(700)을 서로 직교하는 3개의 축에 따라서 이동함으로써 상기 페이스트가 토출되어 도포되는 상기 페이스트도포노즐(600) 아래의 도포 위치로 이동하고, 상기 작업물(700)과 상기 페이스트도포노즐(600) 사이의 간격을 조절할 수 있다. 또한, 상기 3축스테이지모듈(900)은 사용자의 입력에 따라, 상단에 위치한 상기 작업물(700)을 서로 직교하는 3개의 축에 따라서 이동함으로써 상기 플라즈마가 국부적으로 조사되는 상기 플라즈마전처리모듈(400) 아래의 조사 위치로 이동하고, 상기 작업물(700)과 상기 플라즈마전처리모듈(400)의 노즐부(414) 사이의 간격을 조절할 수 있다.On the other hand, the three-
한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 제어부(100)는, 사용자의 입력에 따라 상기 공기펌프모듈(200), 상기 페이스트유량제어모듈(500), 상기 플라즈마전처리모듈(400), 및 상기 3축스테이지모듈(900)을 제어할 수 있다. 상기 제어부(100)가 각 모듈을 제어하는 기술은 도 6에서 후술하기로 한다.Meanwhile, the
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 페이스트유량제어모듈(500)의 내부구성을 개략적으로 도시한다. 2 schematically shows the internal configuration of the paste flow
앞서 도 1에서 전술한 바와 같이, 상기 페이스트유량제어모듈(500)은 상기 페이스트수송탄성튜브지지대(510), 상기 페이스트수송탄성튜브(520), 및 상기 가압부재유닛(530)을 포함할 수 있다. 바람직하게는, 탄성을 가진 소재로 제작된 상기 페이스트수송탄성튜브(520), 상기 페이스트수송탄성튜브(520)를 외주면을 감싸는 형태로 내부에 수용하는 상기 페이스트수송탄성튜브지지대(510), 및 상기 페이스트수송탄성튜브지지대(510)의 외측 둘레면 상에 위치하여 상기 제어부(100)로부터 인가되는 전원에 의해 상기 페이스트수송탄성튜브(520)에 압력을 가할 수 있는 상기 가압부재유닛(530)을 포함할 수 있다. As previously described in FIG. 1, the paste flow
본 발명의 일 실시예에 따른 상기 페이스트수송탄성튜브(520)는, 탄성을 가진 소재로 제작되어 외부의 압력에 의하여 체적이 변할 수 있고, 외부의 압력에 의해 체적이 감소함으로써 상기 페이스트수송탄성튜브(520)에서 유동하는 상기 페이스트가 상기 제3튜브(c) 및 상기 제4튜브(d)로 밀려날 수 있고, 상기 제4튜브(d)로 공급되는 상기 페이스트의 유량이 제어될 수 있다. 바람직하게는, 상기 페이스트수송탄성튜브(520)는 탄성물질을 이용하여 제작되거나, 혹은 튜브 내부에 탄성물질을 코팅하여 제작될 수 있다. 더 바람직하게는, 상기 탄성물질은, 사용환경을 고려하여 사용자에 의하여 선택될 수 있는, 탄성세라믹, 실리콘(Si), 플라스틱을 포함하는 탄성을 지닌 소재를 이용하여 제작될 수 있다.The paste transport
한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 페이스트수송탄성튜브지지대(510)는, 상기 페이스트수송탄성튜브(520)의 외측 둘레면을 감싸는 형태로 형성될 수 있다. 상기 페이스트수송탄성튜브지지대(510)는 상기 페이스트수송탄성튜브(520)와 달리 탄성이 없는 소재로 제작되어 외부에서 상기 페이스트수송탄성튜브(520)를 지지함으로써, 상기 페이스트수송탄성튜브(520)의 내부에서 상기 페이스트가 유동할 수 있는 경로를 유지할 수 있도록 한다. 또한, 상기 페이스트수송탄성튜브지지대(510)의 외부 형상은 사용자의 필요에 따라 제작될 수 있다.Meanwhile, the paste transport
한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 가압부재유닛(530)은, 상기 페이스트수송탄성튜브지지대(510)의 외측 둘레면 상에 위치하여 사용자의 입력에 따라 상기 페이스트수송탄성튜브(520)에 압력을 가할 수 있고, 상기 가압부재유닛(530)을 삽입하기 위한 가압부재투입구가 형성될 수 있다. On the other hand, the pressing
상기 가압부재투입구는 상기 페이스트수송탄성튜브지지대(510)의 외부 형상에 따라 다양한 형태를 가질 수 있다. The pressing member inlet may have various shapes depending on the external shape of the paste transport
상기 가압부재유닛(530)은 인가되는 전원에 의하여 형상이 변할 수 있는 상기 압전소자를 이용하여 제작될 수 있다. 상기 압전소자는 전원이 가해짐으로써 그 모양이 변형될 수 있다. 바람직하게는, 사용자의 입력에 의하여 상기 가압부재유닛(530)에 인가되는 전원은 기설정된 주파수를 갖는 교류형태의 전원이 인가될 수 있다. 사용자는 상기 교류형태의 전원의 주파수, 전압, 혹은 전류의 크기를 제어함으로써, 상기 가압부재유닛(530)의 모양을 제어할 수 있고, 모양이 제어된 상기 가압부재유닛(530)에 의해 상기 페이스트수송탄성튜브(520)에 가해지는 압력을 제어할 수 있다. 더욱 바람직하게는, 상기 교류형태의 전원이 상기 가압부재유닛(530)에 인가됨으로써 상기 가압부재유닛(530)의 체적을 조절할 수 있고, 체적이 변화된 상기 가압부재유닛(530)이 상기 페이스트수송탄성튜브(520)에 압력을 가하여 상기 페이스트수송탄성튜브(520) 내부에서 유동하는 상기 페이스트의 유량이 제어될 수 있다. 이에 따라, 상기 디스펜서는 타겟으로 하는 상기 페이스트의 정량을 작업물(700) 상에 공급할 수 있고, 미세 pitch 및 정량 토출을 구현할 수 있다. 또한, 상기 페이스트유량제어모듈(500)을 구성하는 상기 페이스트수송탄성튜브(520), 상기 페이스트수송탄성튜브지지대(510), 및 상기 가압부재유닛(530)은 사용자에 의하여 필요에 따라 다양한 형태로 제작될 수 있다.The pressing
본 발명의 일 실시예에서, 상기와 같은 구성요소들의 조합에 따라, 상기 페이스트유량제어모듈(500)은, 상기 페이스트주입모듈(300)로부터 공급받은 상기 페이스트를 상기 페이스트유량제어모듈(500)의 내부에 위치한 상기 페이스트수송탄성튜브(520)로 공급할 수 있고, 사용자의 입력에 따라 체적이 조절된 상기 페이스트수송탄성튜브(520)에 의해 상기 페이스트의 유량을 제어할 수 있다. 바람직하게는, 상기 페이스트유량제어모듈(500)의 내부에 위치하는 상기 페이스트수송탄성튜브(520)가, 상기 페이스트유량제어모듈(500)의 일단에 연결된 상기 제3튜브(c)로부터 유입된 상기 페이스트의 유량을 조절할 수 있고, 상기 페이스트를 상기 제4튜브(d)로 공급할 수 있다. 더욱 바람직하게는, 상기 페이스트수송탄성튜브지지대(510)의 외측 둘레면 상에 위치한 상기 가압부재유닛(530)이, 사용자의 입력에 따라 상기 페이스트수송탄성튜브(520)의 체적을 제어함에 따라 상기 페이스트의 유량을 조절하고, 상기 페이스트를 상기 페이스트유량제어모듈(500)의 타단에 연결된 상기 제4튜브(d)로 공급할 수 있다.In an embodiment of the present invention, according to a combination of the above components, the paste flow
이에 따라, 사용자의 입력에 따라 상기 페이스트유량제어모듈(500)이 상기 페이스트수송탄성튜브(520)의 체적을 제어함으로써, 상기 페이스트주입모듈(300)이 상기 페이스트를 기설정된 유량 이하로 공급할 수 있는 효과를 발휘할 수 있다.Accordingly, the paste flow
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 공정 상에서 구동되는 페이스트도포노즐(600) 및 플라즈마전처리모듈(400)의 구성을 개략적으로 도시한다.3 schematically shows the configuration of a
도 3을 참조하면, 상기 디스펜서는, 공정을 수행하는 복수의 설비의 위치에 따라 레일부에 거치되어 슬라이딩할 수 있는 제1판형부재(470)에 결합될 수 있다. 상기 제1판형부재(470)에 결합된 상기 디스펜서는 상기 레일부에 거치된 상기 제1판형부재(470)에 의해 슬라이딩하여 특정 위치로 이동할 수 있다. 바람직하게는, 상기 제1판형부재(470)는 1 이상의 모듈 및 1 이상의 결합구멍을 포함하고, 상기 디스펜서는 상기 1 이상의 모듈 및 상기 1 이상의 결합구멍에 삽입되어 거치될 수 있다. 이에 따라, 상기 디스펜서는, 상기 제1판형부재(470)에 의해 이동함에 따라 상기 작업물(700)에 표면 전처리 및/또는 디스펜싱을 수행하는 데에 있어서 용이하게 상기 작업물(700)로 이동할 수 있다.Referring to FIG. 3, the dispenser may be coupled to a first plate-shaped
한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 페이스트도포노즐(600)은, 상기 3축스테이지모듈(900)의 상단부에 위치하는 작업대(800) 상에 놓인 작업물(700) 위에 배치되고, 상기 페이스트를 토출하여 상기 작업물(700) 위에 도포할 수 있다. 전술한 도 1에서 상기 페이스트도포노즐(600)과 연결되는 상기 제4튜브(d)는 도 3에서는 별도로 도시되어 있지 않으나, 상기 제4튜브(d)는 상기 페이스트도포노즐(600)의 일단과 연결되어 상기 제1판형부재(470)의 후면부까지 이어서 형성될 수 있다. 상기 제4튜브(d)의 타단이 상기 페이스트유량제어모듈(500)에 연결될 수 있고, 상기 제3튜브(c), 상기 페이스트주입모듈(300), 상기 제2튜브(b), 상기 공기펌프모듈(200), 및 상기 제1튜브(a)가 순서대로 연결되어 형성될 수 있다. 또한, 상기 페이스트도포노즐(600) 및 상기 작업물(700)과의 간격을 제어하기 위하여 상기 작업물(700)의 위치는 상기 3축스테이지모듈(900)에 의해 제어될 수 있다. 또한, 상기 페이스트도포노즐(600)은 제1로봇팔(arm)에 거치되고, 상기 제1로봇팔(arm)은 서보모터(servo motor)에 의해 구동되어 거치된 상기 페이스트도포노즐(600)의 위치를 제어할 수 있다.Meanwhile, the
한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 플라즈마전처리모듈(400)은, 상기 페이스트도포노즐(600)의 측면에 나란하게 배치되어, 상기 페이스트도포노즐(600)에 의해 도포될 상기 작업물(700)의 표면에 상기 플라즈마를 조사하여 전처리할 수 있다. 후술하는 상기 플라즈마전처리모듈(400)에 포함된 전원공급부(413)가 도 3에 별도로 도시되어 있지 않으나, 상기 전원공급부(413)는 상기 제1판형부재(470)의 후면부에 배치되어 플라즈마조사모듈(410)의 일단과 연결될 수 있다. 또한, 상기 플라즈마전처리모듈(400)의 노즐부(414) 및 상기 작업물(700)과의 간격을 제어하기 위하여 상기 작업물(700)의 위치는 상기 3축스테이지모듈(900)에 의해 제어될 수 있다. 또한, 상기 플라즈마전처리모듈(400)은 제2로봇팔(arm)에 거치되고, 상기 제2로봇팔(arm)은 서보모터(servo motor)에 의해 구동되어 거치된 상기 플라즈마전처리모듈(400)의 위치를 제어할 수 있다.On the other hand, the
한편, 본 발명의 일 실시예에서, 상기 제1로봇팔(arm) 및 상기 제2로봇팔(arm)이 상기 제1판형부재(470)에 결합되는 상기 제2판형부재(471)에 나란하게 거치될 수 있고, 상기 제1로봇팔(arm) 및 상기 제2로봇팔(arm)이 상기 제2판형부재(471)에 나란하게 거치됨으로써 상기 페이스트도포노즐(600) 및 상기 플라즈마전처리모듈(400)을 동일한 방향으로 1차적으로 이동할 수 있다. 바람직하게는, 상기 페이스트도포노즐(600) 및 상기 플라즈마전처리모듈(400)이 배치되는 간격, 즉, 상기 제1로봇팔(arm) 및 상기 제2로봇팔(arm) 사이의 간격은 후술하는 상기 플라즈마전처리모듈(400)에 포함되는 복수의 이동모듈에 의해 구동되는 상기 플라즈마전처리모듈(400)의 자체적인 가동범위를 고려하여 결정될 수 있다. 더욱 바람직하게는, 상기 페이스트도포노즐(600) 및 상기 플라즈마전처리모듈(400)이 상기 제2판형부재(471)에 나란하게 거치됨으로써, 상기 작업물(700)의 표면 위로 함께 이동할 수 있고, 상기 플라즈마전처리모듈(400)의 세부적인 움직임은 후술하는 복수의 이동모듈에 의해 구동될 수 있다.Meanwhile, in an embodiment of the present invention, the first robot arm and the second robot arm are parallel to the second plate-shaped
이에 따라, 복수의 로봇팔(arm)에 의한 1차적인 움직임 제어 및 상기 플라즈마전처리모듈(400)에 포함되는 복수의 이동모듈에 의한 2차적인 세부 움직임 제어를 통해, 상기 플라즈마전처리모듈(400)을 상기 작업물(700)의 표면으로 정확하게 이동할 수 있는 효과를 발휘할 수 있다. Accordingly, the
한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 디스펜서는, 상기 작업물(700)에 포함된 1 이상의 식별자를 촬영부를 통해 인식할 수 있고, 인식된 상기 식별자에 기초하여 상기 3축스테이지모듈(900)을 통해 상기 작업물(700)의 위치 및 방향을 정렬하는 작업물정렬모듈; 및 상기 작업물(700)까지의 거리정보를 레이저 변위 센서(Laser Displacement Sensor)를 통해 도출하는 레이저변위측정부; 를 더 포함할 수 있다. Meanwhile, the dispenser according to an embodiment of the present invention may recognize one or more identifiers included in the
상기 레이저변위측정부에 의해 도출된 상기 거리정보는 상기 페이스트도포노즐(600) 및 상기 작업물(700)과의 간격을 더욱 정밀하게 제어하는데 사용될 수 있고, 상기 플라즈마전처리모듈(400)의 노즐부(414) 및 상기 작업물(700)과의 간격을 더욱 정밀하게 제어하는데 사용될 수 있다. The distance information derived by the laser displacement measurement unit can be used to more precisely control the distance between the
또한, 상기 디스펜서는 상기 작업물(700)의 표면의 이미지를 획득하는 이미지센서(460); 를 더 포함할 수 있다. In addition, the dispenser includes an
상기 이미지센서(460)는, 상기 페이스트가 도포될 상기 작업물(700) 표면의 국부영역에 대한 상기 이미지를 획득할 수 있다. 획득한 상기 이미지는 후술하는 표면오염도판단부(160)에 전송되고, 상기 표면오염도판단부(160)가 상기 국부영역에 대한 오염정도를 판단할 수 있다. 또한, 상기 이미지센서(460)로부터 획득한 상기 이미지가 상기 국부영역의 오염정도에 따른 상기 플라즈마의 조사시간 및 세기에 대한 테이블 및 매핑정보를 수집하는 데에 활용될 수도 있다.The
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마조사모듈(410)의 단면도를 개략적으로 도시한다. 4 schematically shows a cross-sectional view of a
도 4를 참조하면, 상기 플라즈마전처리모듈(400)은, 봉 형태의 제1전극(411); 상기 제1전극(411)을 둘러싸는 형태로 배치되고, 외부로부터 가스가 주입되는 가스주입홀(412.1)이 형성되고, 외부에 접지된 제2전극(412); 상기 제1전극(411)에 교류전원을 공급하는 전원공급부(413); 상기 제2전극(412)의 하측에 배치되고, 하측 일단에 형성된 기설정된 지름 이하의 구멍을 통하여 상기 가스와 전자의 접촉에 의하여 발생되는 플라즈마를 국부적으로 배출하는 노즐부(414); 를 포함하는 플라즈마조사모듈(410); 을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 4, the
본 발명의 일 실시예에 따른 상기 플라즈마는, 전자와 가스 원자 혹은 가스 분자의 접촉으로 인해 상기 가스 원자 혹은 가스 분자를 이온화 함으로써 발생된, 전도성이 있는 이온화된 기체일 수 있다. 바람직하게는, 상기 전자가 외부에서 인가되는 전원에 의해 제1전극(411)으로부터 챔버 내부로 방출되고, 방출된 상기 전자가 외부에서 주입되는 상기 가스 원자 혹은 가스 분자와 접촉하여 이온화 함으로써 상기 플라즈마가 생성될 수 있다. The plasma according to an embodiment of the present invention may be a conductive ionized gas generated by ionizing the gas atom or gas molecule due to contact between electrons and gas atoms or gas molecules. Preferably, the electrons are discharged into the chamber from the
한편, 외부에서 인가되는 전원은 직류전원 또는 교류전원으로부터 공급받은 전원일 수 있고, 이는 상기 플라즈마의 발생 방식에 따라 결정될 수 있다. 바람직하게는, 상기 전원은, 상기 플라즈마가 조사되는 작업물(700)의 재료에 따라 결정될 수 있다. 더욱 바람직하게는, 상기 작업물(700)이 도체인 경우 상기 직류전원을 사용할 수 있고, 상기 작업물(700)이 부도체인 경우 상기 교류전원을 사용할 수 있다. Meanwhile, the power applied from the outside may be a DC power source or a power source supplied from an AC power source, and this may be determined according to the plasma generation method. Preferably, the power source may be determined according to the material of the
예를 들어, 외부로부터 직류전원이 인가되어 생성된 플라즈마를 부도체인 작업물(700)에 조사하는 경우, 초기에는 상기 직류전원이 일단에 연결된 음극으로부터 상기 전자가 방출되어 챔버 내부를 부유하고 있는 가스 원자 혹은 가스 분자와 접촉하여 양이온화 시킴으로써 플라즈마를 생성시킬 수 있다. 다만, 시간이 지날수록 상기 양이온이 상기 음극의 표면에 쌓이게 되고, 상기 전자의 연속적인 방출을 방해할 수 있다. 상기 전자의 방출이 줄어듦에 따라, 상기 전자가 상기 가스 원자 혹은 가스 분자와 접촉하는 빈도 수가 줄어들어 상기 플라즈마가 수 초 내로 사라질 수 있다. For example, when direct current power is applied from the outside and the generated plasma is irradiated to the
한편, 상기 플라즈마를 발생시킬 때에는 대기압보다 낮은 압력, 바람직하게는 1 mTorr 내지 100 Torr 사이의 압력에서 발생시키는 것이 일반적이나, 낮은 압력을 유지하기 위해서는 진공 용기를 제작해야 하고 진공을 유지하기 위한 진공 펌프를 장착해야 하는 등 여러 가지 제약 조건이 수반될 수 있다. 본 발명의 일 실시예에서는, 대기압에서 상기 플라즈마를 발생시킴으로써 상기와 같은 제약 조건을 해소할 수 있다. 상기 대기압은 750 내지 770 mmHg, 750 내지 770 Torr, 0.9 내지 1.1 기압, 및/또는 0.9 내지 1.1 atm일 수 있고, 별도의 진공 용기 및/또는 별도의 진공 펌프가 필요 없기 때문에 본 발명의 일 실시예가 상기와 같은 제약 조건을 해소함과 동시에 생산 단가의 측면에서도 유리할 수 있다. 또한, 상기 대기압에서의 플라즈마 방전은, 대기압 중에서 상기 플라즈마가 쉽게 발생될 수 있어 옷감이나 금속 물질 등의 표면 처리에 응용될 수 있다. 다만, 상기 표면 처리는 상기 옷감이나 금속 물질 등에 국한되지 않고, 공정상의 필요에 따라 표면 처리가 필요한 모든 물질을 포함할 수 있다. 또한 대기압 플라즈마 기술이 친수성, 소수성 표면개질, 금속나노튜브제조 등의 나노기술, 치아미백, 암세포 치료, 살균 등 바이오분야, 환경오염 가스 제거기술, 상하수처리 시 유해물질 제거, 및 이산화탄소 저감 기술 등 다양한 분야에서 활용될 수 있다.On the other hand, when the plasma is generated, it is generally generated at a pressure lower than atmospheric pressure, preferably between 1 mTorr and 100 Torr, but in order to maintain the low pressure, a vacuum vessel must be manufactured and a vacuum pump for maintaining the vacuum There may be several constraints, such as the need to be equipped with. In an embodiment of the present invention, by generating the plasma at atmospheric pressure, the above constraint can be solved. The atmospheric pressure may be 750 to 770 mmHg, 750 to 770 Torr, 0.9 to 1.1 atm, and/or 0.9 to 1.1 atm, and since a separate vacuum container and/or a separate vacuum pump is not required, an embodiment of the present invention is It can be advantageous in terms of production cost while solving the above constraints. In addition, the plasma discharge at atmospheric pressure can be applied to surface treatment of cloth or metal materials, since the plasma can be easily generated under atmospheric pressure. However, the surface treatment is not limited to the cloth or metal material, and may include all materials requiring surface treatment according to process needs. In addition, atmospheric pressure plasma technology is a variety of nanotechnology such as hydrophilic, hydrophobic surface modification, metal nanotube manufacturing, tooth whitening, cancer cell treatment, sterilization and other bio fields, environmental pollutant gas removal technology, toxic substances removal during water and sewage treatment, and carbon dioxide reduction technology. Can be used in the field.
한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 제1전극(411)은, 봉 형태를 가질 수 있으나 이에 한정되지 않고 사용 환경에 따라 그 형태가 변경될 수 있다. Meanwhile, the
또한, 상기 제1전극(411)은, 상기 제1전극(411)의 일단의 외주면을 둘러싸는 형태로 배치되는 절연부재; 를 포함할 수 있다. 즉, 상기 절연부재가 중심부에 관통홀을 포함하고, 상기 관통홀을 통해 상기 제1전극(411)이 상기 절연부재에 끼워질 수 있다. 또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 제1전극(411)이 끼워진 상기 절연부재는, 상기 제2전극(412)의 상측 외부면에 고정되어 상기 제1전극(411)과 상기 제2전극(412)을 서로 절연시킬 수 있다.In addition, the
한편, 상기 제1전극(411)은 표면에 자연적 또는 인위적으로 산화피막을 형성할 수 있는 합금으로 제조될 수 있다. 바람직하게는, 상기 합금은 알루미늄, 티타늄, 마그네슘, 아연, 및 탄탈륨 등이 포함될 수 있으나, 이에 한정되지 않고 산화피막을 형성할 수 있는 다양한 종류의 금속이 사용될 수 있다.Meanwhile, the
한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 제2전극(412)이, 상기 제1전극(411)을 둘러싸는 형태로 배치될 수 있다. 또한, 상기 제2전극(412)이 상기 제1전극(411)을 중심부 내측에 수용할 수 있고, 상기 제2전극(412)과 상기 제1전극(411)이 서로 이격되어 배치될 수 있다.Meanwhile, the
상기 제2전극(412)은 상측 외부면에 외부로부터 가스가 주입되는 가스주입홀(412.1); 을 포함할 수 있다. 바람직하게는, 상기 가스주입홀(412.1)은 상기 제2전극(412)의 상측 외부면에 배치될 수 있고, 상기 상측 외부면은 좌측 상단 및/또는 우측 상단이 포함될 수 있다. 다만, 이에 한정되지 않고 사용 환경에 따라 중심부 상단 등 그 위치가 변경될 수 있다. 한편, 상기 가스주입홀(412.1)로부터 1 이상의 가스가 주입될 수 있고, 상기 가스는 공기, 바람직하게는, 질소, 산소, 헬륨 혹은 이의 혼합물이 사용될 수 있지만 이에 한정되지는 않을 수 있다.The
이와 같이, 상기 제2전극(412)이 중심부 내측에 상기 제1전극(411)을 기설정된 거리만큼 이격하여 수용함에 따라 이격된 공간이 발생될 수 있고, 상기 이격된 공간으로 상기 가스주입홀(412.1)로부터 주입되는 1 이상의 가스를 수용할 수 있다. In this way, as the
한편, 상기 제2전극(412)이 외부에 접지될 수 있다. 접지는 전원을 공급받는 기기 혹은 설비 등을 대지와 전기적으로 결합시키는 작업으로, 상기 접지를 통해 누전으로 인한 감전 사고를 방지할 수 있다. 바람직하게는, 외부로부터 전원을 공급받는 상기 플라즈마조사모듈(410)이 절연 피복 등의 불량으로 누전이 발생되는 경우, 상기 플라즈마조사모듈(410)을 접지함으로써 상기 누전으로 인한 감전 사고를 방지할 수 있다. 더욱 바람직하게는, 상기 플라즈마조사모듈(410)에 구비된 상기 제2전극(412)이 전도성을 갖는 상기 플라즈마를 내부에 수용함에 따라 전극 표면을 따라 전기가 통할 수 있으며, 상기 제2전극(412)을 외부에 접지함에 따라 누전으로 인한 감전 사고를 방지할 수 있다.Meanwhile, the
이와 같이, 상기 플라즈마조사모듈(410)을 구성하는 상기 제2전극(412)이 외부에 접지됨으로써, 사용자가 상기 디스펜서를 안전하게 작동할 수 있는 효과를 발휘할 수 있다. In this way, since the
한편, 상기 제2전극(412)은 표면에 자연적 또는 인위적으로 산화피막을 형성할 수 있는 합금으로 제조될 수 있다. 바람직하게는, 상기 합금은 알루미늄, 티타늄, 마그네슘, 아연, 및 탄탈륨 등이 포함될 수 있으나, 이에 한정되지 않고 산화피막을 형성할 수 있는 다양한 종류의 금속이 사용될 수 있다.Meanwhile, the
한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 전원공급부(413)가, 전술한 바와 같이, 상기 제1전극(411)의 일단에 연결되어 상기 제1전극(411)에 상기 교류전원을 공급할 수 있다. 상기 교류전원은 RF powder를 포함할 수 있으나, 이에 한정하지 않고 사용 환경에 따라 다양한 교류전원이 사용될 수 있다. 상기 교류전원은 주파수를 가질 수 있고, 상기 주파수는 가정에서 사용하는 전원의 주파수보다 다소 높아 매우 빠른 속도로 스위칭 될 수 있다. 바람직하게는, 상기 주파수는 2 MHz 내지 60 MHz일 수 있다. 더욱 바람직하게는, 상기 주파수는 13.56 MHz일 수 있으나, 이에 한정되지 않고 사용 환경에 따라 변경될 수 있다.Meanwhile, the
상기와 같이, 상기 교류전원으로부터 상기 주파수를 갖는 전원이 상기 제1전극(411)의 일단으로 인가됨으로써, 상기 주파수의 위상에 따라 상기 제1전극(411) 및/또는 상기 제2전극(412)이 캐소드전극 및/또는 애노드전극으로 변경될 수 있다. 바람직하게는, 본 발명의 일 실시예에서, 상기 주파수의 위상이 음(-)의 부호인 경우 상기 제1전극(411)은 상기 캐소드전극이 될 수 있고, 상기 제2전극(412)은 상기 애노드전극이 될 수 있다. 또한, 본 발명의 일 실시예에서, 상기 주파수의 위상이 양(+)의 부호인 경우 상기 제1전극(411)은 상기 애노드전극이 될 수 있고, 상기 제2전극(412)은 상기 캐소드전극이 될 수 있다. As described above, by applying the power having the frequency from the AC power source to one end of the
이와 같이, 상기 전원의 상기 주파수의 위상 변화에 따라 상기 제1전극(411) 및/또는 상기 제2전극(412)이 상기 캐소드전극 및/또는 상기 애노드전극으로 변경될 수 있다.In this way, the
본 발명의 일 실시예에서, 상기와 같은 구성에 의해, 상기 제1전극(411)의 일단에 연결된 전원의 주파수 위상 변화에 따라 상기 제1전극(411) 및 상기 제2전극(412)의 극성이 빠르게 변화함으로써, 이온이 전극 표면에 축적되는 것을 방지하고 상기 플라즈마가 지속적으로 발생될 수 있는 효과를 발휘할 수 있다.In one embodiment of the present invention, by the configuration as described above, the polarity of the
한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 노즐부(414)는, 상기 제2전극(412)의 하측에 배치되고, 하측 일단에 기설정된 지름 이하의 하측관통홀(414.1)을 포함할 수 있다. 상기와 같은 과정에서 발생되는 상기 플라즈마가 상기 제2전극(412) 내부에 수용될 수 있고, 상기 제2전극(412) 내부에 수용된 상기 플라즈마가 상기 노즐부(414)에 구비된 상기 하측관통홀(414.1)을 통과하여 외부로 배출될 수 있다.Meanwhile, the
이를 통해, 상기 노즐부(414)에 의해 상기 플라즈마전처리모듈(400)로부터 조사되는 상기 플라즈마가 주변 소자 및 재료 등을 불필요하게 조사하지 않음으로써 작업 수율을 개선할 수 있는 효과를 발휘할 수 있다.Through this, the plasma irradiated from the
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마전처리모듈(400)의 구성을 개략적으로 도시한다.5 schematically shows the configuration of the
도 5를 참조하면, 상기 플라즈마전처리모듈(400)은, 상기 플라즈마조사모듈(410)의 일부가 삽입되어 상기 플라즈마조사모듈(410)을 삽입된 방향의 전후 방향으로 이동시키는 전후이동모듈(420); 상기 전후이동모듈(420)의 하면에 배치되어 상기 플라즈마조사모듈(410)이 삽입된 방향을 포함하는 가상의 평면에 대하여 수직인 방향으로 상기 전후이동모듈(420)을 이동시키는 수직이동모듈(430); 및 상기 수직이동모듈(430)의 하면에 배치되어 상기 수직이동모듈(430)의 이동 방향에 수직인 가상의 평면상에서 상기 수직이동모듈(430)을 회전 운동시키는 회전이동모듈(440); 을 더 포함할 수 있다.Referring to FIG. 5, the
구체적으로, 상기 전후이동모듈(420)은, 상기 플라즈마조사모듈(410)이 삽입된 방향의 전후 방향으로 이동되는 제1슬라이딩홈(미도시); 및 상기 수직이동모듈(430)과 체결되는 복수의 체결구멍(421); 을 포함하고, 상기 수직이동모듈(430)은, 상기 복수의 체결구멍(421)에 삽입되는 복수의 제1체결부재(431); 상기 제1슬라이딩홈(미도시)의 일단과 연결되는 제2슬라이딩홈(미도시); 및 상기 회전이동모듈(440)에 체결되는 1 이상의 제2체결부재(미도시); 를 포함하고, 상기 회전이동모듈(440)은, 상기 제2체결부재(미도시)가 삽입되는 1 이상의 체결홈(441); 을 포함할 수 있다.Specifically, the front-
본 발명의 일 실시예에 따른 상기 전후이동모듈(420)이, 상기 제1슬라이딩홈(미도시)을 포함함으로써, 상기 플라즈마전처리모듈(400)을 구성하는 상기 플라즈마조사모듈(410)을 상기 제1슬라이딩홈(미도시)에 끼울 수 있다. 상기 제1슬라이딩홈(미도시)에 끼워진 상기 플라즈마조사모듈(410)은 제1방향으로 이동할 수 있고, 상기 제1방향은, 상기 플라즈마조사모듈(410)이 상기 제1슬라이딩홈(미도시)에 끼워진 방향을 기준으로 하는 전후방향일 수 있다. 도 5에 도시된 본 발명의 일 실시예에서는, y축 방향을 기준으로 하여 왕복으로 움직일 수 있는 플라즈마조사모듈(410)을 도시하고 있다. 상기 플라즈마조사모듈(410)이 상기 제1방향으로 이동함으로써, 상기 제1슬라이딩홈(미도시)의 일단과 연결된 제2슬라이딩홈(미도시)의 상단까지 이동할 수 있거나, 상기 제1슬라이딩홈(미도시)의 하단까지 이동할 수 있다. The back-and-forth
또한, 상기 전후이동모듈(420)은, 상기 플라즈마조사모듈(410)이 상기 제1방향으로의 이동을 완료한 경우, 상기 플라즈마조사모듈(410)을 고정할 수 있는 고정부재(450); 를 더 포함할 수 있다. In addition, the front-
상기 고정부재(450)는 상기 플라즈마조사모듈(410)을 효과적으로 고정할 수 있도록 상기 고정부재(450)의 일단이 요철을 갖도록 형성되거나, 고무와 같은 마찰력이 높은 소재를 사용하여 제작될 수 있다. 이에 따라, 상기 제1슬라이딩홈(미도시)에 끼워진 상기 플라즈마조사모듈(410)이 상기 제1방향으로 이동함으로써, 상기 제2슬라이딩홈(미도시)의 상단까지 이동할 수 있거나, 상기 고정부재(450)의 상단까지 이동할 수 있다.The fixing
한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 수직이동모듈(430)이, 상기 제2슬라이딩홈(미도시)을 포함함으로써, 상기 플라즈마전처리모듈(400)을 구성하는 상기 플라즈마조사모듈(410)을 상기 제1방향에 따라 상기 제2슬라이딩홈(미도시)에 끼울 수 있다. 상기 제2슬라이딩홈(미도시)에 끼워진 상기 플라즈마조사모듈(410)은 제2방향으로 이동할 수 있고, 상기 제2방향은 상기 플라즈마조사모듈(410)이 상기 제2슬라이딩홈(미도시)에 끼워진 방향을 기준으로 하는 가상의 평면에 대하여 수직방향일 수 있다. 도 5에 도시된 본 발명의 일 실시예에서는, xy평면에 대하여 수직인 z축 방향을 기준으로 하여 왕복으로 움직일 수 있는 플라즈마조사모듈(410)을 도시하고 있다. 상기 플라즈마조사모듈(410)이 상기 제2방향으로 이동함으로써, 상기 가상의 평면에 대하여 상측으로 이동할 수 있거나, 상기 가상의 평면에 대하여 하측으로 이동할 수 있다.On the other hand, the
상기 플라즈마조사모듈(410)이 상기 제1방향 및 상기 제2방향으로 이동할 수 있기 위해서, 상기 수직이동모듈(430)과 상기 전후이동모듈(420)은 체결되어야 한다. 바람직하게는, 상기 전후이동모듈(420)이 상기 1 이상의 체결구멍(421)을 포함하고 상기 수직이동모듈(430)이 상기 1 이상의 체결구멍(421)에 삽입될 수 있는 복수의 제1체결부재(431)를 포함함에 따라, 상기 전후이동모듈(420)과 상기 수직이동모듈(430)이 서로 체결되어 상기 플라즈마조사모듈(410)이 상기 제1방향 및 상기 제2방향으로 이동할 수 있다.In order for the
한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 회전이동모듈(440)이, 상기 수직이동모듈(430)의 하면에 배치되어 상기 플라즈마전처리모듈(400)을 구성하는 상기 플라즈마조사모듈(410)을 기설정된 각도로 이동할 수 있다. 바람직하게는, 상기 제1슬라이딩홈(미도시) 및 상기 제2슬라이딩홈(미도시)에 끼워진 상기 플라즈마조사모듈(410)이 상기 회전이동모듈(440)에 의해 회전 운동을 수행하여 제3방향으로 이동할 수 있다. 상기 제3방향은 상기 수직이동모듈(430)의 이동 방향에 수직하는 가상의 평면에 대하여 시계방향 및 반시계방향으로 회전하는 방향일 수 있다. 도 5에 도시된 본 발명의 일 실시예에서는, xy평면에 대하여 시계방향 및 반시계방향으로 움직일 수 있는 플라즈마조사모듈(410)을 도시하고 있다.On the other hand, the
상기 플라즈마조사모듈(410)이 상기 제3방향으로 이동할 수 있기 위해서, 상기 회전이동모듈(440)과 상기 수직이동모듈(430)은 체결되어야 한다. 바람직하게는, 상기 수직이동모듈(430)이 1 이상의 제2체결부재(미도시)를 포함하고 상기 회전이동모듈(440)이 상기 1 이상의 체결홈(441)을 포함함에 따라, 상기 수직이동모듈(430)과 상기 회전이동모듈(440)이 서로 체결되어 상기 플라즈마조사모듈(410)이 상기 제1방향, 상기 제2방향, 및 상기 제3방향으로 이동할 수 있다.In order for the
이와 같이, 본 발명의 일 실시예에서, 상기 전후이동모듈(420)이 상기 1 이상의 체결구멍(421)을 포함하고 상기 수직이동모듈(430)이 복수의 상기 제1체결부재(431)를 포함함으로써 상기 전후이동모듈(420)과 상기 수직이동모듈(430)을 체결할 수 있고, 상기 수직이동모듈(430)이 복수의 상기 제2체결부재(미도시)를 포함하고 상기 회전이동모듈(440)이 상기 1 이상의 체결홈(441)을 포함함으로써 상기 수직이동모듈(430)과 상기 회전이동모듈(440)을 체결할 수 있다. 이를 통해, 상기 플라즈마조사모듈(410)이 상기 전후이동모듈(420)에 의한 상기 제1방향, 상기 수직이동모듈(430)에 의한 상기 제2방향, 및 상기 회전이동모듈(440)에 의한 상기 제3방향으로 이동할 수 있다.As described above, in one embodiment of the present invention, the front-
바람직하게는, 상기 전후이동모듈(420), 상기 수직이동모듈(430), 및 상기 회전이동모듈(440)에 의하여 상기 플라즈마조사모듈(410)이 복수의 방향으로 이동함에 따라, 상기 페이스트가 도포될 작업물(700)의 표면으로 보다 정밀하게 이동할 수 있는 효과를 발휘할 수 있다. Preferably, as the
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 제어부(100)의 내부구성을 개략적으로 도시한다.6 schematically shows the internal configuration of the
도 6을 참조하면, 상기 제어부(100)는, 상기 공기펌프모듈(200), 상기 페이스트유량제어모듈(500) 및 상기 플라즈마전처리모듈(400)을 제어하기 위한 상기 사용자의 입력을 수신하는 입력수신부(110); 상기 공기펌프모듈(200)을 제어하여 상기 제2튜브(b)로 배출하는 공기의 압력을 제어하는 공기펌프모듈제어부(120); 및 상기 페이스트유량제어모듈(500)을 제어하여 상기 페이스트도포노즐(600)에서 토출되는 페이스트의 유량을 제어하는 페이스트유량제어모듈제어부(130); 를 포함할 수 있다. 또한, 상기 제어부(100)는, 3축스테이지모듈(900)을 제어하여 상기 작업물(700)의 위치를 제어하는 3축스테이지모듈제어부(140); 를 더 포함할 수 있다.Referring to FIG. 6, the
본 발명의 일 실시예에 따른 상기 공기펌프모듈제어부(120)는, 상기 입력수신부(110)를 통해 수신한 사용자의 입력에 따라 상기 공기펌프모듈(200)을 제어하여 상기 제2튜브(b)로 배출하는 공기의 압력을 조절할 수 있다. The air pump
바람직하게는, 상기 입력수신부(110)를 통해 수신한 사용자의 입력에 기초하여, 상기 공기펌프모듈제어부(120)가 상기 제2튜브(b)로 배출하는 공기의 압력을 조절함으로써, 상기 페이스트주입모듈(300)에 의해 상기 제3튜브(c)로 배출되는 상기 페이스트의 유량을 1차적으로 제어할 수 있다.Preferably, based on the user's input received through the
본 발명의 일 실시예에 따른 상기 페이스트유량제어모듈제어부(130)는, 상기 입력수신부(110)에서 수신한 사용자의 입력에 따라 상기 페이스트유량제어모듈(500)을 제어하여 상기 페이스트수송탄성튜브(520)의 체적을 조절할 수 있다. The paste flow rate control
바람직하게는, 상기 입력수신부(110)를 통해 수신한 사용자의 입력에 기초하여, 상기 페이스트유량제어모듈제어부(130)가 상기 가압부재유닛(530)에 의해 상기 페이스트수송탄성튜브(520)의 체적을 조절함으로써, 상기 페이스트수송탄성튜브(520)에 의해 상기 제4튜브(d)로 배출되는 상기 페이스트의 유량을 2차적으로 제어할 수 있다.Preferably, based on the user's input received through the
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 3축스테이지모듈제어부(140)는, 상기 입력수신부(110)에서 수신하는 상기 사용자의 입력에 따라 상기 3축스테이지모듈(900)을 제어하여 상기 페이스트도포노즐(600), 상기 플라즈마전처리모듈(400)의 상기 노즐부(414), 및 작업물(700) 사이의 간격 및 위치를 제어할 수 있다. 바람직하게는, 상기 입력수신부(110)를 통해 수신한 사용자의 입력에 기초하여, 상기 3축스테이지모듈제어부(140)가 상기 페이스트도포노즐(600)의 상기 토출구멍과 상기 작업물(700) 사이의 간격을 제어함으로써 상기 토출구멍으로부터 상기 작업물(700)에 도포되는 페이스트의 도포량을 제어할 수 있고, 상기 플라즈마전처리모듈(400)의 상기 노즐부(414)와 상기 작업물(700) 사이의 간격을 제어함으로써 상기 플라즈마의 세기를 제어할 수 있다.Further, the three-axis stage
한편, 도 6을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 제어부(100)는, 상기 페이스트유량제어모듈(500)에 의하여 상기 페이스트가 도포되는 상기 작업물(700)의 표면의 국부 영역에 대해서 플라즈마를 조사하도록 플라즈마전처리모듈(400)을 제어하는 플라즈마전처리모듈제어부(150); 를 더 포함할 수 있다.Meanwhile, referring to FIG. 6, the
본 발명의 일 실시예에 따른 상기 디스펜서는, 상기 작업물(700)의 표면의 이미지를 획득하는 이미지센서(460); 를 더 포함할 수 있고, 상기 제어부(100)는 상기 이미지센서(460)에 의하여 획득된 이미지에 기초하여, 상기 플라즈마전처리모듈(400)에 의하여 상기 플라즈마가 조사될 상기 작업물(700)의 표면의 국부영역의 오염정도를 판단하는 표면오염도판단부(160);를 더 포함하고, 상기 플라즈마전처리모듈제어부(150)는 상기 작업물(700) 표면의 오염정도에 따른 상기 플라즈마전처리모듈(400)에서 조사되는 플라즈마의 조사시간, 세기, 및 거리에 대한 기저장된 매핑정보에 기초하여, 상기 플라즈마전처리모듈(400)의 구동을 제어할 수 있고, 상기 거리는 상기 플라즈마전처리모듈(400)의 노즐부(414)와 상기 작업물(700) 표면 사이의 거리 혹은 상기 노즐부(414)와 상기 페이스트도포노즐(600) 사이의 거리일 수 있다.The dispenser according to an embodiment of the present invention includes an
본 발명의 일 실시예에 따른 상기 플라즈마전처리모듈제어부(150)는, 상기 입력수신부(110)로부터 수신된 상기 페이스트가 도포될 작업물(700) 표면의 오염정도와 상기 페이스트의 종류에 따라, 상기 플라즈마전처리모듈(400)에서 조사되는 상기 플라즈마의 조사시간, 세기, 및 상기 거리를 조절할 수 있다.The plasma pretreatment
바람직하게는, 상기 플라즈마전처리모듈제어부(150)는, 상기 표면오염도판단부(160)에 의해 상기 이미지센서(460)로부터 상기 작업물(700) 표면의 오염정보를 판단하여 테이블에서 특정 정보를 매핑하여 상기 플라즈마의 조사시간 및 세기를 조절할 수 있고, 사용자의 입력에 의해 상기 입력수신부(110)로부터 상기 페이스트의 종류를 수신하여 복수의 이동모듈을 이용하여 상기 노즐부(414)와 상기 작업물(700) 표면 사이의 거리 및 상기 노즐부(414)와 상기 페이스트도포노즐(600) 사이의 거리를 조절할 수 있다.Preferably, the plasma pretreatment
더욱 바람직하게는, 상기 플라즈마전처리모듈제어부(150)가, 상기 오염정보에 따른 상기 플라즈마의 조사시간 및 세기에 대한 기저장된 매핑정보에 기초하여 상기 플라즈마의 조사시간 및 세기를 조절할 수 있고, 상기 입력수신부로(110)부터 수신된 상기 페이스트의 종류에 따른 상기 노즐부(414)와 상기 작업물(700) 표면 사이의 거리 및 상기 노즐부(414)와 상기 페이스트도포노즐(600) 사이의 거리에 대한 기저장된 매핑정보에 기초하여 상기 복수의 이동모듈을 이용하여 상기 거리를 조절할 수 있다.More preferably, the plasma pretreatment
본 발명의 일 실시예에 따른 상기 오염정도는, 상기 이미지센서(460)가 획득한 상기 작업물(700) 표면의 이미지에 기초하여, 상기 제어부(100)에 구비된 상기 표면오염도판단부(160)가 상기 작업물(700) 표면의 국부영역에 대한 오염정도를 판단할 수 있다.The degree of contamination according to an embodiment of the present invention is based on the image of the surface of the
본 발명의 일 실시예에 따른 상기 테이블은, 작업물(700) 표면의 오염정도에 따른 상기 플라즈마의 조사시간 및 세기에 대한 정보; 를 포함할 수 있다. 상기 플라즈마전처리모듈(400)의 작동 환경에 따라, 상기 플라즈마전처리모듈제어부(150)가 상기 정보에 기초하여 특정 정보들을 매핑하여 매핑정보를 형성하고, 상기 매핑정보에 기초하여 상기 플라즈마전처리모듈(400)로부터 조사되는 상기 플라즈마의 조사시간 및 세기를 제어할 수 있다.The table according to an embodiment of the present invention includes information on the irradiation time and intensity of the plasma according to the degree of contamination of the surface of the
예를 들어, 본 발명의 일 실시예에서는, 상기 작업물(700) 표면의 오염정도가 심한 경우, 상기 테이블에 기저장된 정보에 의해 상기 플라즈마전처리모듈제어부(150)가 상기 플라즈마전처리모듈(400)로부터 조사되는 상기 플라즈마의 조사시간을 길고 상기 플라즈마의 세기를 세게 제어할 수 있다. For example, in one embodiment of the present invention, when the degree of contamination on the surface of the
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 테이블은, 상기 페이스트의 종류에 따른 상기 플라즈마전처리모듈(400)의 상기 노즐부(414)와 상기 작업물(700) 표면까지의 거리 및 상기 노즐부(414)와 상기 페이스트도포노즐(600) 사이의 거리에 대한 정보; 를 포함할 수 있다. 상기 플라즈마전처리모듈제어부(150)가 상기 정보에 기초하여 특정 정보들을 매핑하여 매핑정보를 형성하고, 상기 매핑정보에 기초하여 상기 복수의 이동모듈을 이용하여 상기 플라즈마전처리모듈(400)의 상기 노즐부(414)와 상기 작업물(700) 표면까지의 거리 및 상기 노즐부(414)와 상기 페이스트도포노즐(600) 사이의 거리를 제어할 수 있다. 즉, 상기 플라즈마전처리모듈제어부(150)가 상기 매핑정보를 기초하여 상기 플라즈마전처리모듈(400)의 움직임을 제어할 수도 있다.In addition, the table according to an embodiment of the present invention includes a distance between the
예를 들어, 본 발명의 일 실시예에서는, 사용자의 입력에 의해 접촉각 특성이 좋은 페이스트가 도포되는 경우, 상기 플라즈마전처리모듈제어부(150)가 상기 테이블에 기저장된 정보에 의해 상기 플라즈마전처리모듈(400)을 복수의 이동모듈을 이용하여 상기 페이스트가 도포될 작업물(700) 표면에 가깝게 이동할 수 있도록 제어하거나 상기 페이스트도포노즐(600)에 가깝게 이동할 수 있도록 제어할 수 있다. 바람직하게는, 상기 플라즈마전처리모듈제어부(150)가 상기 테이블에서 특정 정보가 매핑된 매핑정보에 기초하여, 상기 전후이동모듈(420)에 의해 상기 플라즈마전처리모듈(400)을 상기 작업물(700) 표면에 가깝게 이동하도록 제어하거나 상기 페이스트도포노즐(600)에 가깝게 이동하도록 제어할 수 있다.For example, in an embodiment of the present invention, when a paste having good contact angle characteristics is applied by a user's input, the plasma pretreatment
본 발명의 일 실시예에 따른 상기 접촉각 특성은, 상기 페이스트가 소수성인지 혹은 친수성인지에 따라 결정될 수 있다. 바람직하게는, 상기 페이스트가 소수성인 경우 상기 접촉각 특성이 좋을 수 있고, 좋은 접촉각 특성을 가진 상기 페이스트는 상기 작업물(700) 표면에 도포될 때 페이스트 입자가 퍼지지 않고 응집되어 도포될 수 있다.The contact angle characteristic according to an embodiment of the present invention may be determined according to whether the paste is hydrophobic or hydrophilic. Preferably, when the paste is hydrophobic, the contact angle characteristics may be good, and the paste having good contact angle characteristics may be applied by agglomeration without spreading paste particles when applied to the surface of the
한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 테이블은, 상기 플라즈마전처리모듈제어부(150)에 기저장될 수 있고, 상기 제어부(100)에 별도로 포함되는 메모리부에 기저장될 수 있다. 상기 메모리부에 저장된 상기 테이블은 상기 플라즈마전처리모듈제어부(150)에 의해 호출될 수도 있다.Meanwhile, the table according to an embodiment of the present invention may be pre-stored in the plasma pre-processing
이와 같이, 본 발명의 일 실시예에서는, 상기 플라즈마전처리모듈제어부(150)는, 상기 작업물(700) 표면의 오염정도, 및 상기 페이스트의 종류에 따라, 상기 플라즈마의 조사시간, 세기, 및 상기 거리에 대한 매핑정도에 기초하여 상기 플라즈마전처리모듈(400)을 제어할 수 있다. 이를 통해, 상기 플라즈마전처리모듈(400)에 의한 전처리 공정을 보다 효과적으로 수행할 수 있도록 하고, 상기 작업물(700)의 표면 이외의 불필요한 부분에 상기 플라즈마를 조사하는 것을 방지할 수 있다.As described above, in one embodiment of the present invention, the plasma pretreatment
바람직하게는, 상기 플라즈마전처리모듈제어부(150)가 상기 기저장된 매핑정보를 활용함으로써, 다양한 작동 환경에서도 최적화된 플라즈마 전처리 공정을 수행할 수 있는 효과를 발휘할 수 있다.Preferably, the plasma pretreatment
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 3축스테이지모듈(900)의 동작을 예시적으로 도시한다.FIG. 7 exemplarily shows the operation of the 3-
도 7을 참고하면, 상기 3축스테이지모듈(900) 상에는 작업대(800) 및 작업물(700)이 위치할 수 있다. 상기 3축스테이지모듈제어부(140)는, 상술한 바와 같이, 상기 입력수신부(110)에서 수신하는 사용자의 입력에 따라 상기 3축스테이지모듈(900)을 제어할 수 있다. 상기 3축스테이지모듈제어부(140)의 작동에 따라, 상기 3축스테이지모듈(900)은 서로 직교하는 3개의 축을 따라서, 상단에 위치한 작업대(800)와 작업물(700)을 이동시킬 수 있다.Referring to FIG. 7, a work table 800 and a
본 발명의 일 실시예에 따른 상기 3축스테이지모듈(900)이, 상기 작업물(700)을 상기 페이스트가 도포되는 상기 페이스트도포노즐(600) 아래의 위치로 이동하여 상기 작업물(700)과 상기 페이스트도포노즐(600) 사이의 간격을 조절할 수 있다.The three-
상기 페이스트의 도포량은, 상술한 바와 같이 상기 공기펌프모듈(200) 및 상기 페이스트유량제어모듈(500)에 의하여 제어될 수 있지만, 상기 3축스테이지모듈(900)에 의해서도 제어될 수 있다. 바람직하게는, 상기 페이스트의 도포량이 상기 3축스테이지모듈(900)의 이동속도에 따라 제어될 수 있으며, 부가적으로는, 상기 페이스트를 토출하는 상기 페이스트도포노즐(600)이 거치되는 상기 제1로봇팔에 의해서도 상기 페이스트도포노즐(600)에 구비된 상기 토출구멍과 상기 작업물(700) 사이의 간격이 제어될 수 있다.The application amount of the paste may be controlled by the
본 발명의 일 실시예에 따른 상기 3축스테이지모듈(900)이, 상기 작업물(700)을 상기 플라즈마가 조사되는 상기 플라즈마전처리모듈(400)의 상기 노즐부(414) 아래의 위치로 이동하여 상기 작업물(700)과 상기 노즐부(414) 사이의 간격을 조절할 수 있다. 바람직하게는, 상기 플라즈마 조사에 의한 전처리 정도가, 상기 3축스테이지모듈(900)의 이동속도에 따라 제어될 수 있으며, 부가적으로는, 상기 플라즈마를 조사하는 상기 플라즈마전처리모듈(400)이 거치되는 상기 제2로봇팔에 의해서도 상기 플라즈마전처리모듈(400)과 상기 작업물(700) 사이의 간격이 제어될 수 있다.The three-
이와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 3축스테이지모듈(900)이, 상기 페이스트도포노즐(600)로부터 토출되어 도포되는 상기 페이스트의 도포량과 상기 플라즈마전처리모듈(400)로부터 조사되는 상기 플라즈마의 조사량을 제어할 수 있다. 바람직하게는, 상기 3축스테이지모듈제어부(140)가 상기 입력수신부(110)로부터 사용자의 입력을 수신하여 상기 3축스테이지모듈(900)을 제어할 수 있다.As described above, the 3-
이를 통해, 본 발명의 일 실시예에서는, 상기 공기펌프모듈제어부(120), 상기 페이스트유량제어모듈제어부(130), 상기 플라즈마전처리모듈제어부(150), 및 3축스테이지모듈제어부(140)의 연속적인 제어시스템에 의해 플라즈마 전처리 기능을 구비한 상기 디스펜서의 동작 정확성 및 완제품에 대한 신뢰성을 확보할 수 있는 효과를 발휘할 수 있다.Through this, in an embodiment of the present invention, the air pump
상기와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 디스펜서는, 상기 페이스트도포노즐(600)의 측면에 배치된 상기 플라즈마전처리모듈(400)이 상기 작업물(700) 표면의 국부영역에 상기 플라즈마를 조사함으로써, 도포된 상기 페이스트의 접착특성이 향상되고 주변 소자 및 재료 등에 불필요한 충격이 발생되거나 산화막이 생성되는 것을 방지할 수 있는 효과를 발휘할 수 있다.As described above, in the dispenser according to an embodiment of the present invention, the
또한, 상기 디스펜서가 상기 공기펌프모듈제어부(120), 상기 페이스트유량제어모듈제어부(130), 상기 플라즈마전처리모듈제어부(150), 및 상기 3축스테이지모듈제어부(140)에 의해 연속적으로 제어됨에 따라, 플라즈마 전처리 기능을 구비한 상기 디스펜서의 동작 정확성 및 완제품에 대한 신뢰성을 확보할 수 있는 효과를 발휘할 수 있다.In addition, as the dispenser is continuously controlled by the air pump
본 발명의 일 실시예에 따르면, 사용자의 입력에 따라 공기펌프모듈이 공기의 압력을 제어함으로써, 페이스트주입모듈이 내부에 저장된 페이스트를 기설정된 유량 이하로 공급할 수 있는 효과를 발휘할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the air pump module controls the air pressure according to the user's input, so that the paste injection module can supply the paste stored therein at a predetermined flow rate or less.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 사용자의 입력에 따라 페이스트유량제어모듈이 페이스트수송탄성튜브의 체적을 제어함으로써, 페이스트주입모듈이 페이스트를 기설정된 유량 이하로 공급할 수 있는 효과를 발휘할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the paste flow rate control module controls the volume of the paste transport elastic tube according to a user's input, so that the paste injection module can provide an effect of supplying the paste below a preset flow rate.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 공기펌프모듈이 공기의 압력을 제어함으로써 페이스트주입모듈이 공급하는 페이스트의 유량을 1차적으로 제어하고, 페이스트유량제어모듈이 페이스트수송탄성튜브의 체적을 제어함으로써 페이스트의 유량을 2차적으로 제어할 수 있는 효과를 발휘할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the air pump module primarily controls the flow rate of the paste supplied by the paste injection module by controlling the air pressure, and the paste flow rate control module controls the volume of the paste transport elastic tube. It can exert the effect of being able to control the flow rate of the secondarily.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 디스펜서가 공기펌프모듈, 페이스트주입모듈, 및 페이스트유량제어모듈의 연속적인 공정을 수행함으로써, 전체적인 공정의 수율 및 생산성을 높일 수 있는 효과를 발휘할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the dispenser performs a continuous process of the air pump module, the paste injection module, and the paste flow rate control module, thereby exhibiting an effect of increasing the yield and productivity of the overall process.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 복수의 로봇팔(arm)에 의한 1차적인 움직임 제어 및 플라즈마전처리모듈에 포함되는 복수의 이동모듈에 의한 2차적인 세부 움직임 제어를 통해, 플라즈마전처리모듈을 작업물의 표면으로 정확하게 이동할 수 있는 효과를 발휘할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the plasma preprocessing module is operated through primary movement control by a plurality of robot arms and secondary detailed movement control by a plurality of movement modules included in the plasma preprocessing module. It can exert the effect of being able to move accurately to the surface of the water.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 플라즈마조사모듈을 구성하는 제2전극이 외부에 접지됨으로써, 사용자가 디스펜서를 안전하게 작동할 수 있는 효과를 발휘할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, since the second electrode constituting the plasma irradiation module is externally grounded, the user can safely operate the dispenser.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제1전극의 일단에 연결된 전원의 주파수 위상 변화에 따라 제1전극 및 제2전극의 극성이 빠르게 변화함으로써, 이온이 전극 표면에 축적되는 것을 방지하고 플라즈마가 지속적으로 발생될 수 있는 효과를 발휘할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the polarity of the first electrode and the second electrode rapidly changes according to the frequency phase change of the power source connected to one end of the first electrode, thereby preventing ions from accumulating on the electrode surface and continuing It can exert an effect that can be caused by.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 노즐부에 의해 플라즈마전처리모듈로부터 조사되는 플라즈마가 주변 소자 및 재료 등을 불필요하게 조사하지 않음으로써 작업 수율을 개선할 수 있는 효과를 발휘할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the plasma irradiated from the plasma pretreatment module by the nozzle unit does not unnecessarily irradiate the surrounding elements and materials, thereby improving the work yield.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 전후이동모듈, 수직이동모듈, 및 회전이동모듈에 의하여 플라즈마조사모듈이 복수의 방향으로 이동함에 따라, 페이스트가 도포될 작업물의 표면으로 보다 정밀하게 이동할 수 있는 효과를 발휘할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, as the plasma irradiation module moves in a plurality of directions by the back-and-forth movement module, the vertical movement module, and the rotational movement module, the paste can be moved more precisely to the surface of the work piece to be applied Can exert.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 플라즈마전처리모듈제어부가 기저장된 매핑정보를 활용함으로써, 다양한 작동 환경에서도 최적화된 플라즈마 전처리 공정을 수행할 수 있는 효과를 발휘할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the plasma pretreatment module control unit utilizes pre-stored mapping information, thereby exhibiting an effect of performing an optimized plasma pretreatment process even in various operating environments.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 페이스트도포노즐의 측면에 배치된 플라즈마전처리모듈이 작업물 표면의 국부영역에 플라즈마를 조사함으로써, 도포된 페이스트의 접착특성이 향상되고 주변 소자 및 재료 등에 불필요한 충격이 발생되거나 산화막이 생성되는 것을 방지할 수 있는 효과를 발휘할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the plasma pretreatment module disposed on the side of the paste application nozzle irradiates plasma to a local area of the work piece, thereby improving the adhesion properties of the applied paste and preventing unnecessary impacts on surrounding elements and materials. It is possible to exert an effect of preventing generation or formation of an oxide film.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 디스펜서가 공기펌프모듈제어부, 페이스트유량제어모듈제어부, 플라즈마전처리모듈제어부, 및 3축스테이지모듈제어부에 의해 연속적으로 제어됨에 따라, 플라즈마 전처리 기능을 구비한 디스펜서의 동작 정확성 및 완제품에 대한 신뢰성을 확보할 수 있는 효과를 발휘할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, as the dispenser is continuously controlled by the air pump module control unit, the paste flow rate control module control unit, the plasma pretreatment module control unit, and the three-axis stage module control unit, the operation of the dispenser having a plasma pretreatment function It can exert the effect of securing the accuracy and reliability of the finished product.
이상과 같이 실시예들이 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기의 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 예를 들어, 설명된 기술들이 설명된 방법과 다른 순서로 수행되거나, 및/또는 설명된 시스템, 구조, 장치, 회로 등의 구성요소들이 설명된 방법과 다른 형태로 결합 또는 조합되거나, 다른 구성요소 또는 균등물에 의하여 대치되거나 치환되더라도 적절한 결과가 달성될 수 있다.As described above, although the embodiments have been described by the limited embodiments and drawings, various modifications and variations are possible from the above description by those of ordinary skill in the art. For example, the described techniques are performed in a different order from the described method, and/or components such as a system, structure, device, circuit, etc. described are combined or combined in a form different from the described method, or other components Alternatively, even if substituted or substituted by an equivalent, an appropriate result can be achieved.
그러므로, 다른 구현들, 다른 실시예들 및 특허청구범위와 균등한 것들도 후술하는 특허청구범위의 범위에 속한다.Therefore, other implementations, other embodiments, and claims and equivalents fall within the scope of the claims to be described later.
100: 제어부
110: 입력수신부 120: 공기펌프모듈제어부
130: 페이스트유량제어모듈제어부 140: 3축스테이지모듈제어부
150: 플라즈마전처리모듈제어부 160: 표면오염도판단부
200: 공기펌프모듈
300: 페이스트주입모듈
400: 플라즈마전처리모듈
410: 플라즈마조사모듈 411: 제1전극
412: 제2전극 412.1: 가스주입홀
413: 전원공급부 414: 노즐부
414.1: 하측관통홀
420: 전후이동모듈 421: 체결구멍
430: 수직이동모듈 431: 제1체결부재
440: 회전이동모듈 441: 체결홈
450: 고정부재 460: 이미지센서
470: 제1판형부재 471: 제2판형부재
500: 페이스트유량제어모듈
510: 페이스트수송탄성튜브지지대 520: 페이스트수송탄성튜브
530: 가압부재유닛
600: 페이스트도포노즐
700: 작업물
800: 작업대
900: 3축스테이지모듈100: control unit
110: input receiving unit 120: air pump module control unit
130: paste flow control module control unit 140: 3-axis stage module control unit
150: plasma pretreatment module control unit 160: surface contamination determination unit
200: air pump module
300: paste injection module
400: plasma pretreatment module
410: plasma irradiation module 411: first electrode
412: second electrode 412.1: gas injection hole
413: power supply unit 414: nozzle unit
414.1: lower through hole
420: forward and backward movement module 421: fastening hole
430: vertical movement module 431: first fastening member
440: rotation moving module 441: fastening groove
450: fixing member 460: image sensor
470: first plate member 471: second plate member
500: paste flow control module
510: paste transport elastic tube support 520: paste transport elastic tube
530: pressing member unit
600: paste application nozzle
700: work piece
800: worktable
900: 3-axis stage module
Claims (6)
일단에 연결된 제1튜브로부터 유입한 공기를 압축하여 타단에 연결된 제2튜브로 배출하는 공기펌프모듈;
일단에 연결된 상기 제2튜브로부터 유입되는 공기의 압력에 의해, 내부에 저장된 페이스트를 타단에 연결된 제3튜브로 공급하는 페이스트주입모듈;
일단에 연결된 상기 제3튜브로부터 공급된 상기 페이스트의 유량을 조절하여 타단에 연결된 제4튜브로 배출하는 페이스트유량제어모듈;
일단에 연결된 상기 제4튜브로부터 배출되는 상기 페이스트의 유량에 따라, 하측 일단에 형성된 기설정된 지름 이하의 토출구멍을 통하여 토출되는 상기 페이스트를 작업물에 도포하는 페이스트도포노즐;
상기 페이스트도포노즐의 측면에 나란하게 배치되고, 상기 작업물의 표면에 플라즈마를 국부적으로 조사하여 상기 페이스트가 도포되는 상기 작업물의 표면을 전처리하는 플라즈마전처리모듈; 및
상기 공기펌프모듈, 상기 페이스트유량제어모듈 및 상기 플라즈마전처리모듈을 제어하는 제어부; 를 포함하고,
상기 플라즈마전처리모듈은,
플라즈마를 배출하는 플라즈마조사모듈;
상기 플라즈마조사모듈의 일부가 삽입되어 상기 플라즈마조사모듈을 삽입된 방향의 전후 방향으로 이동시키는 전후이동모듈;
상기 전후이동모듈의 하면에 배치되어 상기 플라즈마조사모듈이 삽입된 방향을 포함하는 가상의 평면에 대하여 수직인 방향으로 상기 전후이동모듈을 이동시키는 수직이동모듈; 및
상기 수직이동모듈의 하면에 배치되어 상기 수직이동모듈의 이동 방향에 수직인 가상의 평면상에서 상기 수직이동모듈을 회전 운동시키는 회전이동모듈;을 포함하고,
상기 전후이동모듈은,
상기 플라즈마조사모듈이 삽입된 방향의 전후 방향으로 이동되는 제1슬라이딩홈;
상기 플라즈마조사모듈이 상기 전후 방향으로의 이동을 완료한 경우에 상기 플라즈마조사모듈을 고정할 수 있는 고정부재; 및
상기 수직이동모듈과 체결되는 복수의 체결구멍;을 포함하고,
상기 수직이동모듈은,
상기 복수의 체결구멍에 삽입되는 복수의 제1체결부재;
상기 제1슬라이딩홈의 일단과 연결되는 제2슬라이딩홈; 및
상기 회전이동모듈에 체결되는 1 이상의 제2체결부재; 를 포함하고,
상기 회전이동모듈은,
상기 제2체결부재가 삽입되는 1 이상의 체결홈;을 포함하고,
상기 제어부는,
이미지센서로부터 획득한 상기 작업물 표면의 이미지에 기초하여 상기 작업물 표면의 국부 영역에 대한 오염정도를 판단하는 표면오염도판단부; 및
오염정도에 따른 플라즈마의 조사시간 및 세기에 대한 매핑정보가 기저장된 테이블에서 상기 표면오염도판단부에서 판단한 오염정도에 상응하는 매핑정보에 기초하여 상기 페이스트유량제어모듈에 의하여 상기 페이스트가 도포되는 상기 작업물의 표면의 국부 영역에 대해서 상기 플라즈마의 조사시간 및 세기를 제어하는 플라즈마전처리모듈제어부;를 포함하는, 디스펜서.
As a precise discharge control dispenser with plasma pretreatment function,
An air pump module for compressing air introduced from a first tube connected to one end and discharging it to a second tube connected to the other end;
A paste injection module for supplying the paste stored therein to a third tube connected to the other end by the pressure of air flowing in from the second tube connected to one end;
A paste flow rate control module for controlling the flow rate of the paste supplied from the third tube connected to one end and discharging the paste to the fourth tube connected to the other end;
A paste application nozzle for applying the paste discharged through a discharge hole having a predetermined diameter or less formed at a lower end according to the flow rate of the paste discharged from the fourth tube connected to one end to a workpiece;
A plasma pretreatment module arranged parallel to the side of the paste application nozzle and pre-treating the surface of the work to which the paste is applied by locally irradiating plasma on the surface of the work; And
A control unit for controlling the air pump module, the paste flow rate control module, and the plasma pretreatment module; Including,
The plasma pretreatment module,
A plasma irradiation module for discharging plasma;
A front-rear moving module in which a part of the plasma irradiation module is inserted to move the plasma irradiation module in a front-rear direction of the inserted direction;
A vertical movement module disposed on a lower surface of the front-rear movement module to move the front-rear movement module in a direction perpendicular to a virtual plane including a direction in which the plasma irradiation module is inserted; And
A rotational movement module disposed on a lower surface of the vertical movement module to rotate the vertical movement module on a virtual plane perpendicular to the movement direction of the vertical movement module; and
The back and forth movement module,
A first sliding groove that moves in a front-rear direction of a direction in which the plasma irradiation module is inserted;
A fixing member capable of fixing the plasma irradiation module when the plasma irradiation module completes the movement in the front-rear direction; And
Includes; a plurality of fastening holes fastened to the vertical movement module,
The vertical movement module,
A plurality of first fastening members inserted into the plurality of fastening holes;
A second sliding groove connected to one end of the first sliding groove; And
At least one second fastening member fastened to the rotational moving module; Including,
The rotational movement module,
Includes; at least one fastening groove into which the second fastening member is inserted,
The control unit,
A surface contamination level determining unit that determines a degree of contamination of a local area of the work piece surface based on the image of the work piece surface obtained from an image sensor; And
The task in which the paste is applied by the paste flow rate control module based on mapping information corresponding to the degree of contamination determined by the surface contamination level determining unit in a table in which mapping information on the plasma irradiation time and intensity according to the contamination level is previously stored. Dispenser comprising; plasma pretreatment module control unit for controlling the irradiation time and intensity of the plasma with respect to a local area of the surface of the water.
상기 플라즈마전처리모듈은,
봉 형태의 제1전극;
상기 제1전극을 둘러싸는 형태로 배치되고, 외부로부터 가스가 주입되는 가스주입홀이 형성되고, 외부에 접지된 제2전극;
상기 제1전극에 교류전원을 공급하는 전원공급부; 및
상기 제2전극의 하측에 배치되고, 하측 일단에 형성된 기설정된 지름 이하의 구멍을 통하여 상기 가스와 전자의 접촉에 의하여 발생되는 플라즈마를 국부적으로 배출하는 노즐부; 를 포함하는 상기 플라즈마조사모듈;을 더 포함하는, 디스펜서.
The method according to claim 1,
The plasma pretreatment module,
A rod-shaped first electrode;
A second electrode disposed in a shape surrounding the first electrode, a gas injection hole through which gas is injected from the outside, and grounded to the outside;
A power supply unit supplying AC power to the first electrode; And
A nozzle unit disposed under the second electrode and locally discharged plasma generated by contact of the gas and electrons through a hole having a predetermined diameter or less formed at a lower end thereof; The plasma irradiation module comprising a; further comprising, the dispenser.
상기 제어부는,
상기 공기펌프모듈, 상기 페이스트유량제어모듈, 및 상기 플라즈마전처리모듈을 제어하기 위한 사용자의 입력을 수신하는 입력수신부;
상기 공기펌프모듈을 제어하여 상기 제2튜브로 배출하는 공기의 압력을 제어하는 공기펌프모듈제어부; 및
상기 페이스트유량제어모듈을 제어하여 상기 페이스트도포노즐에서 토출되는 페이스트의 유량을 제어하는 페이스트유량제어모듈제어부;를 더 포함하는, 디스펜서.The method according to claim 1,
The control unit,
An input receiving unit for receiving an input from a user for controlling the air pump module, the paste flow rate control module, and the plasma pretreatment module;
An air pump module control unit controlling the air pump module to control a pressure of air discharged to the second tube; And
The dispenser further comprising a; paste flow rate control module control unit for controlling the flow rate of the paste discharged from the paste application nozzle by controlling the paste flow rate control module.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020190114645A KR102187547B1 (en) | 2019-09-18 | 2019-09-18 | Precision Discharge Control Dispenser with Plasma Pre-treatment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020190114645A KR102187547B1 (en) | 2019-09-18 | 2019-09-18 | Precision Discharge Control Dispenser with Plasma Pre-treatment |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR102187547B1 true KR102187547B1 (en) | 2020-12-07 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020190114645A KR102187547B1 (en) | 2019-09-18 | 2019-09-18 | Precision Discharge Control Dispenser with Plasma Pre-treatment |
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| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR102187547B1 (en) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013174014A (en) * | 2012-02-23 | 2013-09-05 | Forschungszentrum Juelich Gmbh | Method for constructing thermal barrier coating |
| KR101511609B1 (en) * | 2014-02-18 | 2015-04-22 | 주식회사 모든기술 | The apparatus for coating the panel |
| WO2018141802A1 (en) * | 2017-01-31 | 2018-08-09 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Atmospheric pressure plasma method for producing plasma polymer coatings |
| KR101914166B1 (en) * | 2018-04-03 | 2018-11-01 | 주식회사 팀즈 | A Dispenser with Piezoelectric Effect Elements controlling the amount of the discharged paste |
-
2019
- 2019-09-18 KR KR1020190114645A patent/KR102187547B1/en active IP Right Grant
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| KR101914166B1 (en) * | 2018-04-03 | 2018-11-01 | 주식회사 팀즈 | A Dispenser with Piezoelectric Effect Elements controlling the amount of the discharged paste |
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