KR102181607B1 - surface treatment method for glass and surface-treated glass - Google Patents

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Abstract

본 발명은 글래스의 표면에 알루미늄 층을 형성하는 단계; 및 상기 글래스의 표면이 노출되도록 상기 알루미늄 층에 복수의 홀(hole)을 형성하는 다공층 형성 단계; 를 포함하는 글래스의 표면 처리 방법에 관한 것이다.The present invention comprises the steps of forming an aluminum layer on the surface of the glass; And forming a plurality of holes in the aluminum layer so that the surface of the glass is exposed. It relates to a method for surface treatment of glass comprising a.

Description

글래스의 표면 처리 방법 및 표면 처리된 글래스{surface treatment method for glass and surface-treated glass}Surface treatment method for glass and surface-treated glass

본 발명은 글래스의 표면 처리 방법 및 표면 처리된 글래스에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 휴대용 통신기기에 사용되는 글래스의 표면 처리 방법 및 휴대용 통신기기에 사용되는 표면 처리된 글래스에 관한 것이다.The present invention relates to a glass surface treatment method and a surface-treated glass, and more particularly, to a surface treatment method of a glass used in a portable communication device and a surface-treated glass used in a portable communication device.

휴대용 통신기기의 외관에 다양한 소재가 적용됨에 따라, 내구성을 확보하면서도 질감이나 색감을 확보하는 방안이 다양하게 제시되고 있다.As various materials are applied to the exterior of a portable communication device, various methods of securing texture and color while securing durability have been proposed.

플라스틱 소재의 경우, 사출 표면에 투명 도료를 이용하여 하도 도장을 진행한 후 주석 및 인듐을 증착하는 방법으로 금속질감 및 비전도성을 구현할 수 있다. 이때, 주석 및 인듐 증착 후 유색도료를 도장하여 색상을 구현할 수 있고, 추가로 투명 상도 도료를 도장할 수 있다. 다만, 이 방법은 내구성 문제로 스마트폰에 사용되는 소재의 표면처리로는 선호되지 않는다.In the case of plastic materials, metal texture and non-conductivity can be realized by depositing tin and indium after undercoating using a transparent paint on the injection surface. At this time, tin and indium may be deposited and then colored paints may be applied to achieve color, and a transparent top coat may be additionally applied. However, this method is not preferred for surface treatment of materials used in smartphones due to durability issues.

글래스 소재에 금속질감 및 비전도성을 구현하는 방법으로는 멀티(multi) 증착과 색상 인쇄방식을 겸해서 비전도성 및 색상을 구현하는 방법이 사용되고 있으나 휴대용 통신기기에 적용하고자 하는 다양한 색상을 구현하지 못하는 문제가 있다. 또한, 종래 사용되는 멀티 증착의 경우 글래스 소재의 투광성을 충분히 살릴 수 없는 문제가 있다.As a method of implementing metallic texture and non-conductivity in glass material, a method of implementing non-conductive and color by combining multi-deposition and color printing is used, but it is a problem that various colors to be applied to portable communication devices cannot be realized. There is. In addition, in the case of conventional multi-deposition, there is a problem in that the light transmission properties of the glass material cannot be sufficiently utilized.

나아가, 휴대용 통신기기의 전면 또는 후면 커버 글라스에 금속을 코팅할 경우에는 전자파 차폐 현상으로 인해 안테나의 성능이 저하되고 통신상에 장애를 가져오게 된다. 따라서 기존의 휴대용 통신기기의 커버 글라스에는 전자파 차폐를 회피하기 위해 비전도성 다층박막으로 이루어진 광학 코팅을 적용해 왔으며, 이러한 비전도성 다층박막으로 이루어진 광학 코팅은 실제의 금속 질감을 구현하기 어렵고 시야 각에 따른 색상의 변화, 무지개 색상 현상이 발생하는 등의 단점이 있다.Further, when a metal is coated on the front or rear cover glass of the portable communication device, the performance of the antenna is degraded due to electromagnetic wave shielding and communication problems are caused. Therefore, an optical coating made of a non-conductive multilayer thin film has been applied to the cover glass of the existing portable communication device to avoid electromagnetic wave shielding, and the optical coating made of such a non-conductive multilayer thin film is difficult to realize the actual metal texture and There are disadvantages such as a change in color and a rainbow color phenomenon.

세라믹 소재에 금속질감, 비전도성 및 색상을 구현하는 방법으로는 멀티(multi) 증착이 사용되고 있으나 휴대용 통신기기에 적용하고자 하는 다양한 색상을 구현하지 못하는 문제가 있다. Although multi-evaporation is used as a method of implementing metal texture, non-conductivity and color in ceramic materials, there is a problem in that various colors to be applied to portable communication devices cannot be implemented.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 개선할 수 있는 글래스의 표면처리 방법 및 그에 따라 제조된 표면 처리된 글래스를 제공하고자 한다. An object of the present invention is to provide a glass surface treatment method capable of improving the above-described problems and a surface-treated glass manufactured according to the method.

또한, 본 발명은 휴대용 통신기기에 사용하기 적합한 글래스를 제공할 수 있는 글래스의 표면처리 방법 및 그에 따라 제조된 표면 처리된 글래스를 제공하고자 한다. In addition, the present invention is to provide a glass surface treatment method capable of providing a glass suitable for use in a portable communication device and a surface-treated glass manufactured according to the method.

또한, 본 발명은 휴대용 통신기기에 사용되기에 충분한 투광성을 가질 수 있고, 내구성을 확보하면서도 미려하고 다양한 색상을 구현할 수 있는 글래스의 표면처리 방법 및 표면 처리된 글래스를 제공하고자 한다.In addition, the present invention is to provide a glass surface treatment method and a surface-treated glass that can have sufficient light transmittance to be used in a portable communication device, and can implement beautiful and various colors while securing durability.

본 발명자들은 예의 검토한 결과, 글래스의 표면에 알루미늄 층을 형성한 뒤, 상기 알루미늄 층이, 글래스의 표면까지 도달하는 복수의 홀(hole)을 구비한 다공층이 되게 하는 표면 처리를 함으로써, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다. As a result of intensive study, the present inventors formed an aluminum layer on the surface of the glass, and then subjected to a surface treatment such that the aluminum layer became a porous layer having a plurality of holes reaching the surface of the glass. It found out that the problem could be solved, and came to complete the present invention.

즉, 본 발명은, 이하와 같다.That is, the present invention is as follows.

[1] 글래스의 표면에 알루미늄 층을 형성하는 단계; 및 상기 글래스의 표면이 노출되도록 상기 알루미늄 층에 복수개의 홀(hole)을 형성하는 다공층 형성 단계; 를 포함하는 글래스의 표면 처리 방법.[1] forming an aluminum layer on the surface of the glass; And forming a plurality of holes in the aluminum layer so that the surface of the glass is exposed. Glass surface treatment method comprising a.

[2] 상기 다공층은 상기 알루미늄 층을 양극 산화시켜 형성되는 것인, [1] 에 기재된 글래스의 표면 처리 방법.[2] The method for surface treatment of glass according to [1], wherein the porous layer is formed by anodizing the aluminum layer.

[3] 상기 복수의 홀은 균일한 간격으로 형성되는, [1] 에 기재된 글래스의 표면 처리 방법.[3] The glass surface treatment method according to [1], wherein the plurality of holes are formed at uniform intervals.

[4] 상기 알루미늄 층의 두께는 20 ㎛ 내지 50 ㎛ 인, [1] 에 기재된 글래스의 표면 처리 방법.[4] The method for surface treatment of a glass according to [1], wherein the aluminum layer has a thickness of 20 µm to 50 µm.

[5] 상기 다공층 형성 단계는, a) 상기 알루미늄 층을 1 차 양극산화하는 단계; 및 b) 1차 양극산화된 알루미늄 층을 2차 양극산화하는 단계; 를 포함하는, [1] 에 기재된 글래스의 표면 처리 방법.[5] The step of forming the porous layer may include: a) primary anodizing the aluminum layer; And b) secondary anodizing the first anodized aluminum layer. The surface treatment method of the glass according to [1], including.

[6] 상기 2차 양극산화는 상기 1차 양극산화보다 높은 전압으로 수행되는, [5] 에 기재된 글래스의 표면 처리 방법. [6] The method for surface treatment of a glass according to [5], wherein the secondary anodization is performed at a higher voltage than that of the primary anodization.

[7] 상기 1차 양극산화는 13V 내지 17V 에서 수행되고, 상기 2차 양극산화는 18V 내지 22V 에서 수행되는, [5] 에 기재된 글래스의 표면 처리 방법. [7] The method for surface treatment of a glass according to [5], wherein the first anodization is performed at 13V to 17V, and the secondary anodization is performed at 18V to 22V.

[8] 상기 1차 양극산화 단계 이후 상기 2차 양극산화 단계 이전에, c) 상기 알루미늄 층에 생성된 불규칙한 배열의 홀을 제거하는 에칭 단계를 포함하는, [5] 에 기재된 글래스의 표면 처리 방법.[8] After the first anodizing step and before the second anodizing step, c) the method for surface treatment of a glass according to [5], comprising an etching step of removing irregularly arranged holes generated in the aluminum layer. .

[9] 상기 알루미늄 층은 마그네트론 스퍼터링(magnetron sputtering) 방식으로 글래스 표면에 형성되는, [1] 에 기재된 글래스의 표면 처리 방법. [9] The method for surface treatment of a glass according to [1], wherein the aluminum layer is formed on the glass surface by a magnetron sputtering method.

[10] 상기 다공층 형성 단계 이후에, 후처리 단계를 더 포함하는, [1] 에 기재된 글래스의 표면 처리 방법.[10] The glass surface treatment method according to [1], further comprising a post-treatment step after the porous layer forming step.

[11] 상기 후처리 단계는 상기 다공층에 전해착색, 봉공처리 및 전착도장 중 하나 이상을 수행하는 것인, [10] 에 기재된 글래스의 표면 처리 방법.[11] The post-treatment step is to perform at least one of electrolytic coloring, sealing treatment, and electrodeposition coating on the porous layer, wherein the method for surface treatment of a glass according to [10].

[12] 글래스; 및 상기 글래스 상에 형성되며, 상기 글래스의 표면까지 도달하는 복수개의 홀(hole)을 갖는 다공층; 을 포함하고, 상기 다공층은 산화알루미늄을 포함하는 표면 처리 글래스. [12] glass; And a porous layer formed on the glass and having a plurality of holes reaching the surface of the glass. Including, wherein the porous layer is a surface-treated glass containing aluminum oxide.

[13] 상기 다공층은 알루미늄 층을 양극 산화시켜 형성된 것인, [12] 에 기재된 표면 처리 글래스. [13] The surface-treated glass according to [12], wherein the porous layer is formed by anodizing an aluminum layer.

[14] 상기 복수의 홀은 균일한 간격을 갖는, [12] 에 기재된 표면 처리 글래스.[14] The surface-treated glass according to [12], wherein the plurality of holes have uniform intervals.

[15] 상기 다공층의 두께는 20 ㎛ 내지 50 ㎛ 인, [12] 에 기재된 표면 처리 글래스. [15] The surface-treated glass according to [12], wherein the porous layer has a thickness of 20 µm to 50 µm.

[16] 상기 표면 처리 글래스는 휴대용 통신기기에 사용되는 것인, [12] 에 기재된 표면 처리 글래스.[16] The surface-treated glass according to [12], wherein the surface-treated glass is used for a portable communication device.

본 발명에 의하면, 휴대용 통신기기에 사용하기 적합하도록 글래스를 표면 처리하는 방법 및 표면 처리된 글래스를 제공할 수 있다. Advantageous Effects of Invention According to the present invention, it is possible to provide a method of surface-treating glass and surface-treated glass so as to be suitable for use in portable communication devices.

또한, 본 발명에 따르면 스마트폰의 지문인식 모듈, 백커버, 볼륨키 등에 적용할 수 있는 표면 처리된 글래스를 제공할 수 있다. In addition, according to the present invention, it is possible to provide a surface-treated glass that can be applied to a fingerprint recognition module, a back cover, and a volume key of a smartphone.

또한, 본 발명의 표면 처리된 글래스는 충분한 투광성을 가질 수 있으며, 내구성 및 내식성이 우수하고, 미려하고 다양한 색상을 구현하면서도 균일한 색상의 구현이 가능하여 휴대용 통신기기 외장재의 품질을 향상시킬 수 있다. In addition, the surface-treated glass of the present invention can have sufficient light transmittance, has excellent durability and corrosion resistance, and can realize a uniform color while implementing a variety of beautiful colors, thereby improving the quality of a portable communication device exterior material. .

도 1a는, 글래스의 표면에 알루미늄 층이 형성된 것을 나타내는 단면도이다.
도 1b는, 글래스의 표면에 다공층이 형성된 것을 나타내는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시형태에 따른 글래스의 표면 처리 방법에서 다공층을 형성하는 방법을 순차적으로 나타내는 단면도이다.
도 3은 다공층에 염료 착색층이 형성된 것을 나타내는 단면도이다.
도 4는 다공층에 염료 착색층 및 표면층이 형성된 것을 나타내는 단면도이다.
1A is a cross-sectional view showing that an aluminum layer is formed on the surface of a glass.
1B is a cross-sectional view showing that a porous layer is formed on the surface of a glass.
2 is a cross-sectional view sequentially showing a method of forming a porous layer in a method for surface treatment of a glass according to an embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view showing that a dye colored layer is formed on a porous layer.
4 is a cross-sectional view showing that a dye colored layer and a surface layer are formed on a porous layer.

이하에 본 발명의 실시형태를 상세하게 설명하지만, 이하에 기재하는 구성 요건의 설명은 본 발명의 실시양태의 일례이며, 본 발명은 그 요지를 초과하지 않는 한, 이하의 내용에 한정되지 않는다. 또한, 본 발명의 실시형태는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서, 도면에서의 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있으며, 도면상의 동일한 부호로 표시되는 요소는 동일한 요소이다.The embodiments of the present invention are described in detail below, but the description of the constitutional requirements described below is an example of the embodiments of the present invention, and the present invention is not limited to the following contents as long as the gist is not exceeded. In addition, embodiments of the present invention are provided in order to more completely explain the present invention to those having average knowledge in the art. Accordingly, the shapes and sizes of elements in the drawings may be exaggerated for clearer explanation, and elements indicated by the same reference numerals in the drawings are the same elements.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. Throughout the specification, when a part "includes" a certain component, it means that other components may be further included rather than excluding other components unless otherwise stated.

그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하고, 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙이도록 한다.In the drawings, portions irrelevant to the description are omitted in order to clearly describe the present invention, and the thickness is enlarged to clearly express various layers and regions, and similar reference numerals are attached to similar portions throughout the specification. Let's do it.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시형태를 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

본 발명은, 글래스의 표면에 알루미늄 층을 형성하는 단계 및 상기 알루미늄 층을, 글래스의 표면까지 도달하는 복수개의 홀(hole) 을 구비한 다공층이 되도록 하는 다공층 형성 단계를 포함하는 글래스의 표면 처리 방법에 관한 것이다.The present invention is a surface of a glass comprising the step of forming an aluminum layer on the surface of the glass, and forming a porous layer such that the aluminum layer becomes a porous layer having a plurality of holes reaching the surface of the glass. It relates to the treatment method.

도 1a 는, 글래스(10)의 표면에 알루미늄 층(11)이 형성된 것을 나타내는 단면도이다. 1A is a cross-sectional view showing that an aluminum layer 11 is formed on the surface of the glass 10.

상기 글래스(10)는 특별히 제한되지 않고, 통상적으로 사용되는 글래스 소재를 모두 사용할 수 있으며, 사용되고자 하는 목적에 따라 다양한 형상으로 준비될 수 있다. The glass 10 is not particularly limited, and all commonly used glass materials may be used, and may be prepared in various shapes according to the intended purpose.

상기 알루미늄 층(11)은 상기 글래스(10)상에 형성된다. 상기 알루미늄 층(11)의 두께는 특별히 제한되지는 않으나, 20 ㎛ 내지 50 ㎛ 의 두께로 형성되는 것이 바람직하다. 상기 알루미늄 층(11)의 두께가 너무 얇은 경우 양극 산화 처리시 다양한 색상을 구현하기 어려우며, 너무 두꺼우면 비용이 증가하는 문제가 있다. The aluminum layer 11 is formed on the glass 10. The thickness of the aluminum layer 11 is not particularly limited, but is preferably formed to a thickness of 20 μm to 50 μm. If the thickness of the aluminum layer 11 is too thin, it is difficult to implement various colors during anodization treatment, and if it is too thick, there is a problem that the cost increases.

이때 상기 알루미늄 층의 형성방법은 PVD(physical vapor deposition) 방식이 사용될 수 있으며, 이 중 마그네트론 스퍼터링(magnetron sputtering) 방식이 보다 바람직하다. 알루미늄 층을 마그네트론 스퍼터링으로 형성하는 경우 알루미늄 층의 미세구조 성막속도가 일정하고, 높은 생산성을 가질 수 있다. 또한, 알루미늄 층을 마그네트론 스퍼터링으로 형성하는 경우, 형성된 알루미늄 층은 증착 밀착강도가 크고 고밀도의 균일 조직을 가져 막의 균일도가 큰 이점이 있다. 또한, 마그네트론 스퍼터링으로 형성된 알루미늄 층의 미세구조는 매끄러운 표면과 치밀한 미세구조를 보인다. At this time, the method of forming the aluminum layer may be a PVD (physical vapor deposition) method, of which magnetron sputtering is more preferable. When the aluminum layer is formed by magnetron sputtering, the microstructure film formation rate of the aluminum layer is constant and high productivity can be obtained. In addition, when the aluminum layer is formed by magnetron sputtering, the formed aluminum layer has a high deposition adhesion strength and a high-density uniform structure, so that the film uniformity is large. In addition, the microstructure of the aluminum layer formed by magnetron sputtering shows a smooth surface and a fine microstructure.

도 1b는, 글래스(10)의 표면에 다공층(12)이 형성된 것을 나타내는 단면도이다. 1B is a cross-sectional view showing that the porous layer 12 is formed on the surface of the glass 10.

상기 다공층(12)은 상기 알루미늄 층(11)을 양극산화시켜 형성할 수 있다. 특히, 기공형(porous type) 산화 피막을 형성하는 기공형 양극산화법을 사용할 수 있다. 기공형 양극산화를 실시하는 경우, 알루미늄 층이 산화되면서, 알루미늄 층은 복수의 홀이 형성된 다공층으로 변경될 수 있다. 이로서, 상기 다공층(12)에는 복수의 홀(hole)이 형성될 수 있다. 이때, 알루미늄 층(11)의 양극산화는 산을 이용하여 수행할 수 있다. The porous layer 12 may be formed by anodizing the aluminum layer 11. In particular, it is possible to use a pore-type anodic oxidation method to form a porous type oxide film. When performing the pore-type anodization, while the aluminum layer is oxidized, the aluminum layer may be changed into a porous layer in which a plurality of holes are formed. As a result, a plurality of holes may be formed in the porous layer 12. At this time, the anodic oxidation of the aluminum layer 11 may be performed using an acid.

상기 복수의 홀(h)은 균일한 간격으로 형성될 수 있다. 상기 홀을 균일한 간격으로 형성함으로써 글래스 표면 구조의 내구성을 향상시키고 균일한 투광성을 확보할 수 있다. The plurality of holes h may be formed at uniform intervals. By forming the holes at uniform intervals, durability of the glass surface structure can be improved and uniform light transmittance can be secured.

상기 홀(h)은 나노(nano) 또는 마이크로(micro) 수준의 크기(직경)를 가질 수 있으며, 복수의 홀 사이의 간격은 나노(nano) 또는 마이크로(micro) 수준으로 형성될 수 있다. 형성되는 홀의 크기와 간격은 양극산화 조건, 예를 들어 양극산화 전압, 산 용액의 종류와 농도 및 온도 등을 변화시켜 조절할 수 있다. The hole h may have a size (diameter) of a nano or micro level, and a gap between the plurality of holes may be formed at a nano or micro level. The size and spacing of the formed holes can be adjusted by changing the anodization conditions, for example, an anodization voltage, the type, concentration, and temperature of the acid solution.

이에 제한되는 것은 아니나, 상기 복수의 홀의 평균 직경은 5 내지 50 nm 인 것이 바람직하다. 상기 홀의 평균 직경은 인접한 100 개 홀들의 직경의 수평균을 계산하여 구할 수 있다. Although not limited thereto, the average diameter of the plurality of holes is preferably 5 to 50 nm. The average diameter of the holes can be obtained by calculating the number average of the diameters of 100 adjacent holes.

이에 제한되는 것은 아니나, 상기 복수의 홀 사이의 간격은 10 내지 100 nm 인 것이 바람직하다. Although not limited thereto, the distance between the plurality of holes is preferably 10 to 100 nm.

이때, 상기 홀(h)은 비전도성 물질인 글래스(10)의 표면까지 도달하여 글래스(10)의 표면이 노출되도록 형성될 수 있다. 상기 다공층(12)에 형성된 복수의 홀(h)이 글래스의 표면까지 도달하도록 상기 알루미늄 층을 양극산화하는 경우, 알루미늄 층의 잔류하는 부분(다공층을 구성하는 부분)이 모두 산화 알루미늄으로 산화될 수 있다. 즉, 다공층(12)은 산화 알루미늄을 포함하고, 바람직하게는, 다공층(12)은 산화 알루미늄으로 이루어 질 수 있다. In this case, the hole h may be formed to reach the surface of the glass 10, which is a non-conductive material, so that the surface of the glass 10 is exposed. When the aluminum layer is anodized so that the plurality of holes h formed in the porous layer 12 reach the surface of the glass, all remaining portions of the aluminum layer (parts constituting the porous layer) are all oxidized to aluminum oxide. Can be. That is, the porous layer 12 includes aluminum oxide, and preferably, the porous layer 12 may be formed of aluminum oxide.

또한, 상기 글래스(10)의 표면이 노출되도록 홀이 형성되는 경우, 표면 처리된 글래스는 휴대용 통신기기에 사용될 수 있는 충분한 투광성을 확보할 수 있다.In addition, when a hole is formed so that the surface of the glass 10 is exposed, the surface-treated glass can secure sufficient light transmittance that can be used in a portable communication device.

도 2는 본 발명의 일 실시형태에 따른 글래스의 표면 처리 방법에서 다공층을 형성하는 방법을 나타내는 단면도이다. 2 is a cross-sectional view showing a method of forming a porous layer in a method for surface treatment of a glass according to an embodiment of the present invention.

우선, 도 2의 (a)에 도시된 바와 같이, 알루미늄 층(11) 상에 마스크(15)를 형성하는 마스킹이 수행된다. 상기 마스크를 이용하여 다공층에 형성될 홀의 크기 및 직경을 조절하고 홀의 정렬을 조절할 수 있다. 상기 마스크(15)는 알루미늄 층을 양극산화하는 과정에서 일부 표면을 보호하는 용도로 사용되기 때문에, 그 재질은 특별히 제한되지 않으며, 드라이 필름 등을 사용할 수 있다. First, as shown in FIG. 2A, masking is performed to form a mask 15 on the aluminum layer 11. Using the mask, the size and diameter of the holes to be formed in the porous layer can be adjusted and the alignment of the holes can be adjusted. Since the mask 15 is used to protect a part of the surface in the process of anodizing the aluminum layer, the material is not particularly limited, and a dry film or the like may be used.

다음으로, 마스크(15)가 형성된 알루미늄 층을 1차 양극산화하여 복수의 홀을 형성한다. 도 2의 (b)는 1차 양극산화 후에 형성된 홀을 대략적으로 표시하는 단면도이다. 1차 양극산화 후 형성된 홀은 글래스의 표면까지 도달하지 않으며, 불규칙한 배열을 갖는 홀이 포함될 수 있다. 이때, 알루미늄 층(11')은 부분적으로 산화되어 알루미늄으로 이루어진 부분과 산화알루미늄으로 이루어진 부분을 모두 포함할 수 있다. Next, the aluminum layer on which the mask 15 is formed is first anodized to form a plurality of holes. 2B is a cross-sectional view schematically showing a hole formed after the first anodization. Holes formed after the first anodization do not reach the surface of the glass, and holes having an irregular arrangement may be included. In this case, the aluminum layer 11 ′ may be partially oxidized to include both a portion made of aluminum and a portion made of aluminum oxide.

1차 양극산화 후에 생성된 불규칙한 배열을 갖는 홀을 제거하기 위하여 1차 양극산화된 알루미늄 층을 에칭하여, 도 2의 (c)에 표시된 바와 같이 알루미늄 층(11")에 형성된 홀을 균일하게 정렬할 수 있다. The first anodized aluminum layer is etched to remove the irregularly arranged holes generated after the first anodization, and the holes formed in the aluminum layer 11" are uniformly aligned as shown in Fig. 2(c). can do.

다음으로, 도 2의 (d)와 같이, 홀(h)이 글래스(10)의 표면에 도달할 때까지 즉, 글래스(10)의 표면이 홀에 의해 노출될 때까지 알루미늄 층을 2차 양극산화하여 다공층(12)을 형성할 수 있다. Next, as shown in (d) of Figure 2, until the hole (h) reaches the surface of the glass 10, that is, until the surface of the glass 10 is exposed by the hole, the aluminum layer is a secondary anode. The porous layer 12 may be formed by oxidation.

상기 1차 및 2 차 양극산화는 산을 이용하여 수행할 수 있고, 예를 들어 황산, 인산, 옥살산, 크롬산 등을 이용할 수 있다. The first and second anodic oxidation may be performed using an acid, and for example, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, and the like may be used.

한편, 상기 1차 양극산화와 상기 2차 양극산화는 서로 다른 조건에서 수행될 수 있다. 상기 2차 양극산화는 상기 1차 양극산화보다 높은 전압 하에서 수행될 수 있다. Meanwhile, the first anodization and the second anodization may be performed under different conditions. The secondary anodization may be performed under a higher voltage than the primary anodization.

바람직하게는, 1차 양극산화는 13V 내지 17V 의 전압에서 수행되고, 상기 2차 양극산화는 18V 내지 22V 의 전압에서 수행될 수 있다. Preferably, the first anodization may be performed at a voltage of 13V to 17V, and the second anodization may be performed at a voltage of 18V to 22V.

이에 제한 되는 것은 아니나, 상기 1차 양극산화는 15 내지 30 분 동안 수행되고, 상기 2차 양극산화는 60 내지 210 분 동안 수행될 수 있다.Although not limited thereto, the first anodization may be performed for 15 to 30 minutes, and the second anodization may be performed for 60 to 210 minutes.

예를 들어, 1차 양극산화로는 정렬되지 않은 홀이 형성되게 된다. 이때, 1차 양극산화 시간이 길어지게 되면 정렬되지 않은 홀의 깊이가 깊어져, 불규칙한 배열의 홀을 제거하는 데 어려움이 있고 이후 2차 양극산화된 표면의 형상에 영향을 미치게 된다. 이에, 1차 양극산화와 2차 양극산화를 상기와 같은 조건에서 수행함으로써 1차 양극산화로 홀의 위치를 조절하고 2차 양극산화로 산화되는 깊이를 조절할 수 있다. 또한, 상기 1차 양극산화와 상기 2차 양극산화를 수행하는 조건을 상기와 같이 함으로써, 보다 균일한 배열의 홀을 얻을 수 있다. For example, unaligned holes are formed by primary anodization. In this case, when the first anodization time is increased, the depth of the unaligned holes becomes deep, making it difficult to remove the irregularly arranged holes, and then affecting the shape of the secondary anodized surface. Accordingly, by performing the first anodization and the second anodization under the above conditions, the position of the hole can be adjusted by the first anodization and the depth of the oxidation by the secondary anodization can be controlled. In addition, by setting the conditions for performing the first anodization and the second anodization as described above, a more uniform arrangement of holes can be obtained.

본 발명에 따른 글래스의 표면 처리 방법은 다공층을 형성한 이후의, 후처리 단계를 더 포함할 수 있다. 상기 후처리 단계는, 상기 다공층에 전해착색(electric coloring), 봉공처리(sealing) 및 전착도장(electric deposition) 중 하나 이상을 수행하는 것일 수 있다. The method for surface treatment of the glass according to the present invention may further include a post-treatment step after forming the porous layer. The post-treatment step may be performing at least one of electric coloring, sealing, and electric deposition on the porous layer.

도 3 에 도시된 바와 같이, 다공층(12)에 전해착색을 하여 다공층(12)의 홀에 염료가 착색된 염료 착색층(13)을 형성할 수 있다. 전해착색은 도금 또는 전해로 산화물이나 화학물을 침착하는 전기화학 방법으로 실시할 수 있다. As shown in FIG. 3, by electrolytic coloring the porous layer 12, the dye colored layer 13 in which the dye is colored in the holes of the porous layer 12 may be formed. Electrolytic coloring can be carried out by plating or electrochemical deposition of oxides or chemicals by electrolysis.

또한, 도 4 에 도시된 바와 같이, 전해 착색 이후 봉공처리 또는 전착도장을 수행하여, 다공층(12) 및 염료 착색층(13)상에 표면층(14)을 형성할 수 있다. 상기 표면층(14) 은 봉공층 또는 전착도장층 일 수 있다. In addition, as shown in FIG. 4, the surface layer 14 can be formed on the porous layer 12 and the dye colored layer 13 by performing sealing treatment or electrodeposition coating after electrolytic coloring. The surface layer 14 may be a sealing layer or an electrodeposition coating layer.

상기 봉공처리는 수화 봉공, 금속성 봉공, 유기물 봉공, 저온 봉공 등의 방법을 이용할 수 있다. 양극산화로 형성된 다공층은 형성초기에 매우 활성으로서, 그대로 방치해 두면 공기 중의 가스 등을 흡착하여 불활성(오염상태)이 된다. 따라서, 안정된 표면을 얻기 위해 봉공처리를 할 수 있다. 이를 통해 형성된 다공층의 내식성을 향상시키고 수명을 연장할 수 있다.The sealing treatment may use a method such as hydration sealing, metallic sealing, organic sealing, low temperature sealing. The porous layer formed by anodization is very active at the beginning of its formation, and when left as it is, it adsorbs gases in the air and becomes inert (contaminated state). Therefore, sealing treatment can be performed to obtain a stable surface. Through this, it is possible to improve the corrosion resistance of the formed porous layer and extend the life.

상기 전착도장은 일정 농도의 수용성 도료를 채운 탱크 중에 피도장물체와 대극사이에 전류를 통하게 하여 피도장물체에 균일한 도막을 전기적으로 석출시켜 수행될 수 있다. The electrodeposition coating may be performed by electrically depositing a uniform coating film on the object to be coated by passing a current between the object to be coated and the counter electrode in a tank filled with a water-soluble paint of a certain concentration.

상기와 같이, 다공층에 형성된 홀에 전해착색을 수행하고 봉공처리 또는 전착도장 처리를 하여 미려하고 다양한 색상이 만들어 지게되며, 착색의 내후성, 내구성 및 다공층의 내식성을 개선할 수 있다. As described above, by performing electrolytic coloring on the holes formed in the porous layer, sealing treatment or electrodeposition coating treatment, beautiful and various colors are made, and weather resistance, durability, and corrosion resistance of the porous layer can be improved.

본 발명에 의하면, 글래스 소재의 표면 처리방법으로 사용되었던 멀티코팅, 인쇄, 도장 방법의 기술적 문제점을 극복할 수 있으며, 글래스 소재에 내식성, 내구성이 우수한 미려하고 다양한 금속 질감의 색상을 구현할 수 있다. According to the present invention, it is possible to overcome the technical problems of the multi-coating, printing, and painting methods used as a surface treatment method of a glass material, and it is possible to implement a beautiful and various metallic texture colors excellent in corrosion resistance and durability to the glass material.

도 1b를 참조하면, 본 발명의 다른 일 실시형태는, 글래스(10) 및 상기 글래스 상에 형성되며 상기 글래스의 표면까지 도달하는 복수개의 홀(hole)을 갖는 다공층(12)을 포함하고, 상기 다공층(12)은 산화알루미늄을 포함하는 표면 처리 글래스를 제공한다. 상기 다공층은 알루미늄 층을 양극 산화시켜 형성될 수 있다.Referring to FIG. 1B, another embodiment of the present invention includes a glass 10 and a porous layer 12 formed on the glass and having a plurality of holes reaching the surface of the glass, The porous layer 12 provides a surface-treated glass containing aluminum oxide. The porous layer may be formed by anodizing the aluminum layer.

바람직하게는, 다공층으로 잔류하는 알루미늄 층 전체가 산화되어 상기 다공층(12)은 산화알루미늄으로 이루어질 수 있다.Preferably, the entire aluminum layer remaining as the porous layer is oxidized so that the porous layer 12 may be made of aluminum oxide.

상기 다공층에 형성된 복수의 홀은 균일한 간격으로 배열될 수 있다.The plurality of holes formed in the porous layer may be arranged at uniform intervals.

상기 다공층의 두께는 이에 제한되는 것은 아니나, 20 ㎛ 내지 50 ㎛ 일 수 있다. The thickness of the porous layer is not limited thereto, but may be 20 µm to 50 µm.

상기 표면 처리 글래스는 휴대용 통신기기에 사용될 수 있으며, 상기 휴대용 통신기기의 예로는 휴대폰, 스마트폰, 테블릿 PC 등을 들 수 있다. 본 발명의 표면 처리 글래스는, 예를 들어, 휴대용 통신기기의 케이스, 지문인식 모듈, 백커버, 볼륨키 등에 사용될 수 있다.The surface-treated glass may be used in a portable communication device, and examples of the portable communication device may include a mobile phone, a smart phone, and a tablet PC. The surface-treated glass of the present invention can be used, for example, in a case of a portable communication device, a fingerprint recognition module, a back cover, and a volume key.

또한, 본 발명에 따른 표면 처리 글래스는 휴대용 통신기기의 전면 및 후면 커버 글라스로 사용될 수 있으며, 이 경우 글라스 커버에 금속의 질감과 색상을 그대로 살리면서 전자파를 흡수하지 않아서 설계상의 문제를 해소할 수 있다.In addition, the surface-treated glass according to the present invention can be used as a front and rear cover glass of a portable communication device, and in this case, the design problem can be solved by not absorbing electromagnetic waves while maintaining the texture and color of metal in the glass cover. have.

상기 표면 처리 글래스는 상술한 글래스의 표면 처리 방법에 따라 제조될 수 있으며, 앞서 글래스의 표면 처리 방법에서 설명한 구성과 중복되는 구성에 대한 설명은 생략하도록 한다.The surface-treated glass may be manufactured according to the above-described surface treatment method of the glass, and a description of a configuration overlapping with that described in the above-described surface treatment method of the glass will be omitted.

이하, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은, 그 요지를 초과하지 않는 한, 이하의 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited by the following examples as long as the gist is not exceeded.

실시예Example

글래스(상품명: 고릴라4) 소재 표면을 유기용제와 초음파세척 장치를 이용하여 세척한다. 세척된 글래스를 마그네트론 스퍼터링 시스템(Magnetron Sputtering System)에 장착한 후 아르곤(Ar) 가스와 산소(O2) 가스를 투입하고 펄스 직류(Pulsed DC)전압을 인가하여 플라즈마처리(Plasma Treatment)를 실시한다. 마그네트론 스퍼터링 시스템에 아르곤(Ar) 가스를 주입하고 스퍼터 캐소드(Sputter Cathode)에 450V의 직류(DC) 전압을 인가하여 Al 박막을 50㎛ 증착하였다. The surface of the glass (brand name: Gorilla 4) is cleaned using an organic solvent and an ultrasonic cleaning device. After installing the cleaned glass on the Magnetron Sputtering System, plasma treatment is performed by introducing argon (Ar) gas and oxygen (O2) gas, and applying a pulsed DC voltage. Argon (Ar) gas was injected into the magnetron sputtering system and a direct current (DC) voltage of 450V was applied to the sputter cathode to deposit an Al thin film of 50 μm.

글래스 상에 증착된 알루미늄 층에 홀을 형성하기 위한 양극산화에 앞서 알루미늄 층 표면의 유기물 및 불순물을 제거하기 위해 아세톤 용액에 침지하여 10 분간 초음파로 세척하였고, 또한 알루미늄 층의 균일한 표면조도를 구현하고 산화층을 제거하기 위해 과염소산과 에틸알콜을 혼합한 용액에서 150 mA/cm²의 정전류 하에서 3분간 전해연마를 실시하였다. Prior to anodization to form holes in the aluminum layer deposited on the glass, it was immersed in an acetone solution to remove organic matter and impurities from the surface of the aluminum layer and washed with ultrasonic waves for 10 minutes, and also realized the uniform surface roughness of the aluminum layer. In order to remove the oxide layer, electrolytic polishing was performed for 3 minutes under a constant current of 150 mA/cm² in a solution of perchloric acid and ethyl alcohol.

1차 양극산화는 전해질로 1.8M 의 황산을 사용하였으며, 15V 의 전압을 인가하여 1℃ 에서 30분간 수행하였다. 다음으로, 1차 양극산화 후에 생성되는 불규칙한 배열을 갖는 홀을 1.8 wt% 크롬산과 6 wt%의 인산이 들어있는 용액에 1 시간동안 침지하여 제거하였다(에칭 단계). 이후, 2차 양극산화는 전해질로 0.1M 의 인산을 사용하였으며, 20V의 전압을 인가하여 1℃ 에서 3시간 30분간 실시하였다. The primary anodic oxidation was performed using 1.8M sulfuric acid as an electrolyte, and applied at 15V for 30 minutes at 1°C. Next, holes having irregular arrangements generated after the first anodization were removed by immersing them in a solution containing 1.8 wt% chromic acid and 6 wt% phosphoric acid for 1 hour (etching step). Thereafter, the secondary anodic oxidation was carried out at 1° C. for 3 hours and 30 minutes by using 0.1M phosphoric acid as an electrolyte, and applying a voltage of 20V.

양극산화 완료 후, 0.1M 의 염화구리와 20vol% 염산용액을 이용하여 산화되지 않은 잔류 알루미늄을 제거하였다. 홀의 크기를 균일하게 하기위해 5 wt%의 인산용액에 20분 간 침지하여 포어 와이드닝(pore widening)을 실시하였다. After completion of the anodization, residual aluminum that was not oxidized was removed using 0.1 M copper chloride and 20 vol% hydrochloric acid solution. In order to make the hole size uniform, pore widening was performed by immersing in 5 wt% phosphoric acid solution for 20 minutes.

하기 표 1은, 상기와 같은 조건으로 1차 양극산화 및 2차 양극산화를 수행하였을 때 형성되는 기공의 직경과 홀 사이의 간격을 나타내는 것이다.Table 1 below shows the diameter of pores and the spacing between the holes formed when the first anodization and the second anodization are performed under the same conditions as described above.

전해질Electrolyte 적용 전압Applied voltage 진행 시간Running time 기공 직경Pore diameter 홀 사이의 간격Spacing between holes 1차 양극산화1st anodization 1.8M 황산1.8M sulfuric acid 15V15V 30분30 minutes 14nm14nm 15nm15nm 2차 양극산화Secondary anodization 0.1M 인산0.1M phosphoric acid 20V20V 210분210 minutes 19nm19nm 45nm45nm

평가evaluation

상기의 실시예의 방법에 따라 표면 처리된 글래스에 대해 투광성, 내구성, 내산성 및 색상 구현성에 대한 평가를 다음의 방법으로 실시하였다. For the glass surface-treated according to the method of the above example, evaluation of light transmission, durability, acid resistance, and color realization was performed by the following method.

투광성은 표면 처리전 글래스(상품명: 고릴라4) 의 시편에 대한 빛의 투과율을 측정하여 평가하였으며, 투과율은 히타치사의 U-4100 분광광도계로 측정하였다. Transmittance was evaluated by measuring the transmittance of light to the specimen of the glass (brand name: Gorilla 4) before surface treatment, and the transmittance was measured with a Hitachi U-4100 spectrophotometer.

내구성 평가 및 색상 구현성 평가는 실시예의 방법에 따라 표면 처리된 각 시편에 대해 전해착색과 봉공처리를 추가로 실시한 뒤 수행되었다. Durability evaluation and color realization evaluation were carried out after additionally performing electrolytic coloring and sealing treatment for each specimen surface-treated according to the method of Examples.

내구성 평가는 표면 처리된 글래스 표면에 1mm 간격의 X-Cut(격자형태로 표면에 흠집을 형성하는 것)을 한 후, OPP 테이프로 착탈을 3회 수행하고, 5wt%의 염화나트륨(Nacl) 수용액을 35℃ 에서 72시간 동안 지속 분무한 후 pH4.6 용액에 48 시간 침지하여 신뢰성 불량 발생 여부를 확인하는 방법으로 수행되었다. To evaluate the durability, X-Cut (which forms scratches on the surface in the form of a grid) on the surface of the surface-treated glass was performed 3 times with an OPP tape, and a 5 wt% aqueous solution of sodium chloride (Nacl) was applied. After continuous spraying at 35° C. for 72 hours, it was immersed in a pH 4.6 solution for 48 hours to check whether or not reliability failure occurred.

상기 염화나트륨 수용액을 제조하는데 있어서, 염화나트륨을 탈이온수에 녹이고 염농도 5±0.5 중량%로 조정하였다. 조정결과는 비중계를 사용하여 비중을 측정하고, 35℃에서 1.0259~1.0329의 범위에 있음을 확인하였다. 이경우, 규정된 비중범위를 벗어났을 때는 다시 제조하였다.In preparing the aqueous sodium chloride solution, sodium chloride was dissolved in deionized water and the salt concentration was adjusted to 5±0.5% by weight. As for the adjustment result, the specific gravity was measured using a hydrometer, and it was confirmed that it was in the range of 1.0259 to 1.0329 at 35°C. In this case, it was manufactured again when it exceeded the specified specific gravity range.

색상 구현성은 육안 평가로 실시되었다. Color realization was conducted by visual evaluation.

실시예에 따라 형성된 표면 처리된 글래스는 투광성이 92% 이상으로 우수하고, 내구성 평가에서 신뢰성 불량이 발생하지 않았으며, 목표 색상이 정확하고 균일하게 구현되었다. The surface-treated glass formed according to the embodiment has excellent transmittance of 92% or more, did not cause any reliability defects in durability evaluation, and the target color was accurately and uniformly implemented.

본 발명은 상술한 실시형태 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니며, 첨부된 청구범위에 의해 한정하고자 한다. 따라서, 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 형태의 치환, 변형 및 변경이 가능할 것이며, 이 또한 본 발명의 범위에 속한다고 할 것이다.The present invention is not limited by the above-described embodiments and the accompanying drawings, but is intended to be limited by the appended claims. Therefore, various types of substitutions, modifications and changes will be possible by those of ordinary skill in the art within the scope not departing from the technical spirit of the present invention described in the claims, and this also belongs to the scope of the present invention something to do.

10: 글래스
11: 알루미늄 층
12: 다공층
h: 홀
13: 염료 착색층
14: 표면층
15: 마스크
10: glass
11: aluminum layer
12: porous layer
h: hall
13: dye coloring layer
14: surface layer
15: mask

Claims (16)

글래스의 표면에 알루미늄 층을 형성하는 단계; 및
상기 글래스의 표면이 노출되도록 상기 알루미늄 층에 복수의 홀(hole)을 형성하는 다공층 형성 단계;
를 포함하는 글래스의 표면 처리 방법으로서,
상기 다공층 형성 단계는,
a) 상기 알루미늄 층을 1 차 양극산화하는 단계; 및
b) 1차 양극산화된 알루미늄 층을 2차 양극산화하는 단계; 를 포함하고,
상기 2차 양극산화는 상기 1차 양극산화보다 높은 전압으로 수행되는 글래스의 표면 처리 방법.
Forming an aluminum layer on the surface of the glass; And
A porous layer forming step of forming a plurality of holes in the aluminum layer so that the surface of the glass is exposed;
As a method for surface treatment of a glass comprising,
The step of forming the porous layer,
a) primary anodizing the aluminum layer; And
b) secondary anodizing the first anodized aluminum layer; Including,
The secondary anodization is performed at a higher voltage than the primary anodization.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 복수의 홀은 균일한 간격으로 형성되는 글래스의 표면 처리 방법.
The method of claim 1,
The method for surface treatment of glass in which the plurality of holes are formed at uniform intervals.
제1항에 있어서,
상기 알루미늄 층의 두께는 20 ㎛ 내지 50 ㎛ 인 글래스의 표면 처리 방법.
The method of claim 1,
The thickness of the aluminum layer is 20 ㎛ to 50 ㎛ of the glass surface treatment method.
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 1차 양극산화는 13V 내지 17V 에서 수행되고, 상기 2차 양극산화는 18V 내지 22V 에서 수행되는 글래스의 표면 처리 방법.
The method of claim 1,
The first anodization is performed at 13V to 17V, the secondary anodization is performed at 18V to 22V.
제1항에 있어서,
상기 1차 양극산화 단계 이후 상기 2차 양극산화 단계 이전에, c) 상기 알루미늄 층에 생성된 불규칙한 배열의 홀을 제거하는 에칭 단계를 포함하는 글래스의 표면 처리방법.
The method of claim 1,
After the first anodizing step and before the second anodizing step, c) an etching step of removing irregularly arranged holes generated in the aluminum layer.
제1항에 있어서,
상기 알루미늄 층은 마그네트론 스퍼터링(magnetron sputtering) 방식으로 글래스 표면에 형성되는 글래스의 표면 처리 방법.
The method of claim 1,
The aluminum layer is a method of surface treatment of glass formed on the surface of the glass by a magnetron sputtering method.
제1항에 있어서,
상기 다공층 형성 단계 이후에, 후처리 단계를 더 포함하는 글래스의 표면 처리 방법.
The method of claim 1,
After the step of forming the porous layer, a method for treating a surface of a glass further comprising a post-treatment step.
제10항에 있어서,
상기 후처리 단계는 상기 다공층에 전해착색, 봉공처리 및 전착도장 중 하나 이상을 수행하는 것인 글래스의 표면 처리 방법.
The method of claim 10,
The post-treatment step is to perform at least one of electrolytic coloring, sealing treatment, and electrodeposition coating on the porous layer.
글래스; 및
상기 글래스 상에 형성되며, 상기 글래스의 표면까지 도달하는 복수개의 홀(hole)을 갖는 다공층; 을 포함하고,
상기 다공층은 산화알루미늄을 포함하는 표면 처리 글래스로서,
상기 다공층은 알루미늄 층을 1 차 양극산화하고, 1차 양극산화된 알루미늄 층을 2차 양극산화하여 형성되고, 상기 2차 양극산화는 상기 1차 양극산화보다 높은 전압으로 수행된 것인, 글래스.
Glass; And
A porous layer formed on the glass and having a plurality of holes reaching the surface of the glass; Including,
The porous layer is a surface-treated glass containing aluminum oxide,
The porous layer is formed by primary anodizing the aluminum layer and secondary anodizing the aluminum layer, wherein the secondary anodization is performed at a higher voltage than the primary anodization. .
삭제delete 제12항에 있어서,
상기 복수의 홀은 균일한 간격을 갖는 표면 처리 글래스.
The method of claim 12,
The plurality of holes are surface-treated glass having uniform spacing.
제12항에 있어서,
상기 다공층의 두께는 20 ㎛ 내지 50 ㎛ 인 표면 처리 글래스.
The method of claim 12,
The thickness of the porous layer is a surface-treated glass of 20 ㎛ to 50 ㎛.
제12항에 있어서,
상기 표면 처리 글래스는 휴대용 통신기기의 케이스에 사용되는 것인 표면 처리 글래스.
The method of claim 12,
The surface-treated glass is used for a case of a portable communication device.
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