KR20200048733A - surface treatment method for glass and surface-treated glass - Google Patents

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KR20200048733A
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Abstract

The present invention relates to a surface treatment method of a glass, capable of providing a glass suitable for use in portable communication devices and, more specifically, to a surface treatment method of a glass, comprising the steps of: forming an aluminum layer on a surface of the glass; and forming a porous layer which forms a plurality of holes in the aluminum layer so that the surface of the glass is exposed.

Description

글래스의 표면 처리 방법 및 표면 처리된 글래스{surface treatment method for glass and surface-treated glass}Surface treatment method for glass and surface-treated glass

본 발명은 글래스의 표면 처리 방법 및 표면 처리된 글래스에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 휴대용 통신기기에 사용되는 글래스의 표면 처리 방법 및 휴대용 통신기기에 사용되는 표면 처리된 글래스에 관한 것이다.The present invention relates to a surface treatment method of glass and a surface treated glass, and more particularly, to a surface treatment method of glass used in a portable communication device and a surface treated glass used in a portable communication device.

휴대용 통신기기의 외관에 다양한 소재가 적용됨에 따라, 내구성을 확보하면서도 질감이나 색감을 확보하는 방안이 다양하게 제시되고 있다.As various materials are applied to the exterior of a portable communication device, various methods for securing texture and color while securing durability have been proposed.

플라스틱 소재의 경우, 사출 표면에 투명 도료를 이용하여 하도 도장을 진행한 후 주석 및 인듐을 증착하는 방법으로 금속질감 및 비전도성을 구현할 수 있다. 이때, 주석 및 인듐 증착 후 유색도료를 도장하여 색상을 구현할 수 있고, 추가로 투명 상도 도료를 도장할 수 있다. 다만, 이 방법은 내구성 문제로 스마트폰에 사용되는 소재의 표면처리로는 선호되지 않는다.In the case of a plastic material, metal texture and non-conductivity can be realized by depositing tin and indium after coating undercoat using a transparent coating on the injection surface. In this case, after depositing tin and indium, a colored paint may be applied to implement a color, and additionally, a transparent top coat may be coated. However, this method is not preferred as a surface treatment of materials used in smartphones due to durability issues.

글래스 소재에 금속질감 및 비전도성을 구현하는 방법으로는 멀티(multi) 증착과 색상 인쇄방식을 겸해서 비전도성 및 색상을 구현하는 방법이 사용되고 있으나 휴대용 통신기기에 적용하고자 하는 다양한 색상을 구현하지 못하는 문제가 있다. 또한, 종래 사용되는 멀티 증착의 경우 글래스 소재의 투광성을 충분히 살릴 수 없는 문제가 있다.As a method of realizing metallic texture and non-conductivity in glass materials, a method of implementing non-conductivity and color in combination with multi-deposition and color printing methods is used, but various colors to be applied to portable communication devices cannot be realized. There is. In addition, in the case of conventionally used multi-evaporation, there is a problem that the transparency of the glass material cannot be sufficiently utilized.

나아가, 휴대용 통신기기의 전면 또는 후면 커버 글라스에 금속을 코팅할 경우에는 전자파 차폐 현상으로 인해 안테나의 성능이 저하되고 통신상에 장애를 가져오게 된다. 따라서 기존의 휴대용 통신기기의 커버 글라스에는 전자파 차폐를 회피하기 위해 비전도성 다층박막으로 이루어진 광학 코팅을 적용해 왔으며, 이러한 비전도성 다층박막으로 이루어진 광학 코팅은 실제의 금속 질감을 구현하기 어렵고 시야 각에 따른 색상의 변화, 무지개 색상 현상이 발생하는 등의 단점이 있다.Furthermore, when the metal is coated on the front or rear cover glass of a portable communication device, the performance of the antenna is deteriorated due to electromagnetic wave shielding, and a communication obstacle is caused. Therefore, an optical coating made of a non-conductive multilayer thin film has been applied to the cover glass of an existing portable communication device in order to avoid electromagnetic shielding. There are disadvantages such as color change and rainbow color phenomenon.

세라믹 소재에 금속질감, 비전도성 및 색상을 구현하는 방법으로는 멀티(multi) 증착이 사용되고 있으나 휴대용 통신기기에 적용하고자 하는 다양한 색상을 구현하지 못하는 문제가 있다. As a method of implementing metal texture, non-conductivity, and color on ceramic materials, multi-deposition is used, but there is a problem that various colors to be applied to portable communication devices cannot be realized.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 개선할 수 있는 글래스의 표면처리 방법 및 그에 따라 제조된 표면 처리된 글래스를 제공하고자 한다. The present invention is to provide a surface treatment method and a surface-treated glass prepared accordingly, which can improve the above problems.

또한, 본 발명은 휴대용 통신기기에 사용하기 적합한 글래스를 제공할 수 있는 글래스의 표면처리 방법 및 그에 따라 제조된 표면 처리된 글래스를 제공하고자 한다. In addition, the present invention is to provide a surface treatment method of the glass and a surface-treated glass prepared accordingly, which can provide a glass suitable for use in a portable communication device.

또한, 본 발명은 휴대용 통신기기에 사용되기에 충분한 투광성을 가질 수 있고, 내구성을 확보하면서도 미려하고 다양한 색상을 구현할 수 있는 글래스의 표면처리 방법 및 표면 처리된 글래스를 제공하고자 한다.In addition, the present invention is to provide a surface treatment method and a glass surface treatment method of the glass that can have sufficient light transmittance to be used in a portable communication device, while ensuring durability and realizing beautiful and various colors.

본 발명자들은 예의 검토한 결과, 글래스의 표면에 알루미늄 층을 형성한 뒤, 상기 알루미늄 층이, 글래스의 표면까지 도달하는 복수의 홀(hole)을 구비한 다공층이 되게 하는 표면 처리를 함으로써, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다. As a result of earnestly examining the present inventors, after forming an aluminum layer on the surface of the glass, the aluminum layer is subjected to a surface treatment to form a porous layer having a plurality of holes reaching to the surface of the glass. It has been found that a problem can be solved, and the present invention has been completed.

즉, 본 발명은, 이하와 같다.That is, the present invention is as follows.

[1] 글래스의 표면에 알루미늄 층을 형성하는 단계; 및 상기 글래스의 표면이 노출되도록 상기 알루미늄 층에 복수개의 홀(hole)을 형성하는 다공층 형성 단계; 를 포함하는 글래스의 표면 처리 방법.[1] forming an aluminum layer on the surface of the glass; And forming a plurality of holes in the aluminum layer so that the surface of the glass is exposed. The surface treatment method of the glass containing.

[2] 상기 다공층은 상기 알루미늄 층을 양극 산화시켜 형성되는 것인, [1] 에 기재된 글래스의 표면 처리 방법.[2] The method for surface treatment of the glass according to [1], wherein the porous layer is formed by anodizing the aluminum layer.

[3] 상기 복수의 홀은 균일한 간격으로 형성되는, [1] 에 기재된 글래스의 표면 처리 방법.[3] The surface treatment method of the glass according to [1], wherein the plurality of holes are formed at uniform intervals.

[4] 상기 알루미늄 층의 두께는 20 ㎛ 내지 50 ㎛ 인, [1] 에 기재된 글래스의 표면 처리 방법.[4] The surface treatment method of the glass according to [1], wherein the thickness of the aluminum layer is 20 μm to 50 μm.

[5] 상기 다공층 형성 단계는, a) 상기 알루미늄 층을 1 차 양극산화하는 단계; 및 b) 1차 양극산화된 알루미늄 층을 2차 양극산화하는 단계; 를 포함하는, [1] 에 기재된 글래스의 표면 처리 방법.[5] The forming of the porous layer may include: a) primary anodizing the aluminum layer; And b) secondary anodizing the primary anodized aluminum layer; The method for surface treatment of the glass according to [1], comprising a.

[6] 상기 2차 양극산화는 상기 1차 양극산화보다 높은 전압으로 수행되는, [5] 에 기재된 글래스의 표면 처리 방법. [6] The method for surface treatment of the glass according to [5], wherein the secondary anodization is performed at a higher voltage than the primary anodization.

[7] 상기 1차 양극산화는 13V 내지 17V 에서 수행되고, 상기 2차 양극산화는 18V 내지 22V 에서 수행되는, [5] 에 기재된 글래스의 표면 처리 방법. [7] The method for surface treatment of the glass according to [5], wherein the primary anodization is performed at 13V to 17V, and the secondary anodization is performed at 18V to 22V.

[8] 상기 1차 양극산화 단계 이후 상기 2차 양극산화 단계 이전에, c) 상기 알루미늄 층에 생성된 불규칙한 배열의 홀을 제거하는 에칭 단계를 포함하는, [5] 에 기재된 글래스의 표면 처리 방법.[8] The method for surface treatment of the glass according to [5], comprising an etching step of removing irregular array holes formed in the aluminum layer after the first anodizing step and before the second anodizing step. .

[9] 상기 알루미늄 층은 마그네트론 스퍼터링(magnetron sputtering) 방식으로 글래스 표면에 형성되는, [1] 에 기재된 글래스의 표면 처리 방법. [9] The method for surface treatment of the glass according to [1], wherein the aluminum layer is formed on a glass surface by a magnetron sputtering method.

[10] 상기 다공층 형성 단계 이후에, 후처리 단계를 더 포함하는, [1] 에 기재된 글래스의 표면 처리 방법.[10] The method for surface treatment of glass according to [1], further comprising a post-treatment step after the step of forming the porous layer.

[11] 상기 후처리 단계는 상기 다공층에 전해착색, 봉공처리 및 전착도장 중 하나 이상을 수행하는 것인, [10] 에 기재된 글래스의 표면 처리 방법.[11] The post-treatment step is to perform at least one of electrolytic coloring, sealing treatment and electrodeposition coating on the porous layer, the surface treatment method of the glass according to [10].

[12] 글래스; 및 상기 글래스 상에 형성되며, 상기 글래스의 표면까지 도달하는 복수개의 홀(hole)을 갖는 다공층; 을 포함하고, 상기 다공층은 산화알루미늄을 포함하는 표면 처리 글래스. [12] glass; And a porous layer formed on the glass and having a plurality of holes reaching the surface of the glass. Included, the porous layer is a surface treatment glass containing aluminum oxide.

[13] 상기 다공층은 알루미늄 층을 양극 산화시켜 형성된 것인, [12] 에 기재된 표면 처리 글래스. [13] The surface-treated glass according to [12], wherein the porous layer is formed by anodizing an aluminum layer.

[14] 상기 복수의 홀은 균일한 간격을 갖는, [12] 에 기재된 표면 처리 글래스.[14] The surface treatment glass according to [12], wherein the plurality of holes have uniform spacing.

[15] 상기 다공층의 두께는 20 ㎛ 내지 50 ㎛ 인, [12] 에 기재된 표면 처리 글래스. [15] The surface-treated glass according to [12], wherein the thickness of the porous layer is 20 μm to 50 μm.

[16] 상기 표면 처리 글래스는 휴대용 통신기기에 사용되는 것인, [12] 에 기재된 표면 처리 글래스.[16] The surface-treated glass according to [12], wherein the surface-treated glass is used in a portable communication device.

본 발명에 의하면, 휴대용 통신기기에 사용하기 적합하도록 글래스를 표면 처리하는 방법 및 표면 처리된 글래스를 제공할 수 있다. According to the present invention, it is possible to provide a method of surface-treating glass and a surface-treated glass to be suitable for use in a portable communication device.

또한, 본 발명에 따르면 스마트폰의 지문인식 모듈, 백커버, 볼륨키 등에 적용할 수 있는 표면 처리된 글래스를 제공할 수 있다. Further, according to the present invention, it is possible to provide a surface-treated glass that can be applied to a fingerprint recognition module, a back cover, a volume key, etc. of a smartphone.

또한, 본 발명의 표면 처리된 글래스는 충분한 투광성을 가질 수 있으며, 내구성 및 내식성이 우수하고, 미려하고 다양한 색상을 구현하면서도 균일한 색상의 구현이 가능하여 휴대용 통신기기 외장재의 품질을 향상시킬 수 있다. In addition, the surface-treated glass of the present invention can have sufficient light transmittance, and have excellent durability and corrosion resistance, and can realize a variety of colors while implementing beautiful and diverse colors, thereby improving the quality of the exterior material of portable communication devices. .

도 1a는, 글래스의 표면에 알루미늄 층이 형성된 것을 나타내는 단면도이다.
도 1b는, 글래스의 표면에 다공층이 형성된 것을 나타내는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시형태에 따른 글래스의 표면 처리 방법에서 다공층을 형성하는 방법을 순차적으로 나타내는 단면도이다.
도 3은 다공층에 염료 착색층이 형성된 것을 나타내는 단면도이다.
도 4는 다공층에 염료 착색층 및 표면층이 형성된 것을 나타내는 단면도이다.
1A is a cross-sectional view showing that an aluminum layer is formed on the surface of the glass.
1B is a cross-sectional view showing that a porous layer is formed on the surface of the glass.
2 is a cross-sectional view sequentially showing a method of forming a porous layer in a method for surface treatment of glass according to an embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view showing that a dye colored layer is formed on the porous layer.
4 is a cross-sectional view showing that a dye coloring layer and a surface layer are formed on the porous layer.

이하에 본 발명의 실시형태를 상세하게 설명하지만, 이하에 기재하는 구성 요건의 설명은 본 발명의 실시양태의 일례이며, 본 발명은 그 요지를 초과하지 않는 한, 이하의 내용에 한정되지 않는다. 또한, 본 발명의 실시형태는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서, 도면에서의 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있으며, 도면상의 동일한 부호로 표시되는 요소는 동일한 요소이다.The embodiments of the present invention will be described in detail below, but the description of the constitutional requirements described below is an example of the embodiments of the present invention, and the present invention is not limited to the following contents unless the gist is exceeded. In addition, embodiments of the present invention are provided to more fully describe the present invention to those skilled in the art. Accordingly, the shape and size of elements in the drawings may be exaggerated for a clearer description, and elements indicated by the same reference numerals in the drawings are the same elements.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. Throughout the specification, when a part “includes” a certain component, this means that other components may be further included rather than excluding other components unless specifically stated to the contrary.

그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하고, 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙이도록 한다.In addition, in order to clearly describe the present invention in the drawings, parts irrelevant to the description are omitted, and thicknesses are enlarged to clearly express various layers and regions, and like reference numerals are attached to similar parts throughout the specification. To do.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시형태를 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

본 발명은, 글래스의 표면에 알루미늄 층을 형성하는 단계 및 상기 알루미늄 층을, 글래스의 표면까지 도달하는 복수개의 홀(hole) 을 구비한 다공층이 되도록 하는 다공층 형성 단계를 포함하는 글래스의 표면 처리 방법에 관한 것이다.The present invention, the surface of the glass comprising a step of forming an aluminum layer on the surface of the glass, and the step of forming the aluminum layer, a porous layer having a plurality of holes (holes) reaching to the surface of the glass It relates to a processing method.

도 1a 는, 글래스(10)의 표면에 알루미늄 층(11)이 형성된 것을 나타내는 단면도이다. 1A is a cross-sectional view showing that the aluminum layer 11 is formed on the surface of the glass 10.

상기 글래스(10)는 특별히 제한되지 않고, 통상적으로 사용되는 글래스 소재를 모두 사용할 수 있으며, 사용되고자 하는 목적에 따라 다양한 형상으로 준비될 수 있다. The glass 10 is not particularly limited, and all commonly used glass materials may be used, and may be prepared in various shapes according to the purpose to be used.

상기 알루미늄 층(11)은 상기 글래스(10)상에 형성된다. 상기 알루미늄 층(11)의 두께는 특별히 제한되지는 않으나, 20 ㎛ 내지 50 ㎛ 의 두께로 형성되는 것이 바람직하다. 상기 알루미늄 층(11)의 두께가 너무 얇은 경우 양극 산화 처리시 다양한 색상을 구현하기 어려우며, 너무 두꺼우면 비용이 증가하는 문제가 있다. The aluminum layer 11 is formed on the glass 10. The thickness of the aluminum layer 11 is not particularly limited, but is preferably formed to a thickness of 20 μm to 50 μm. When the thickness of the aluminum layer 11 is too thin, it is difficult to implement various colors during anodizing, and if it is too thick, there is a problem in that the cost increases.

이때 상기 알루미늄 층의 형성방법은 PVD(physical vapor deposition) 방식이 사용될 수 있으며, 이 중 마그네트론 스퍼터링(magnetron sputtering) 방식이 보다 바람직하다. 알루미늄 층을 마그네트론 스퍼터링으로 형성하는 경우 알루미늄 층의 미세구조 성막속도가 일정하고, 높은 생산성을 가질 수 있다. 또한, 알루미늄 층을 마그네트론 스퍼터링으로 형성하는 경우, 형성된 알루미늄 층은 증착 밀착강도가 크고 고밀도의 균일 조직을 가져 막의 균일도가 큰 이점이 있다. 또한, 마그네트론 스퍼터링으로 형성된 알루미늄 층의 미세구조는 매끄러운 표면과 치밀한 미세구조를 보인다. At this time, the method of forming the aluminum layer may be a PVD (physical vapor deposition) method, of which a magnetron sputtering (magnetron sputtering) method is more preferable. When the aluminum layer is formed by magnetron sputtering, the microstructure deposition rate of the aluminum layer is constant, and high productivity can be obtained. In addition, when the aluminum layer is formed by magnetron sputtering, the formed aluminum layer has an advantage in that the deposition adhesion strength is high and a high-density uniform structure, resulting in a large film uniformity. In addition, the microstructure of the aluminum layer formed by magnetron sputtering shows a smooth surface and a dense microstructure.

도 1b는, 글래스(10)의 표면에 다공층(12)이 형성된 것을 나타내는 단면도이다. 1B is a cross-sectional view showing that the porous layer 12 is formed on the surface of the glass 10.

상기 다공층(12)은 상기 알루미늄 층(11)을 양극산화시켜 형성할 수 있다. 특히, 기공형(porous type) 산화 피막을 형성하는 기공형 양극산화법을 사용할 수 있다. 기공형 양극산화를 실시하는 경우, 알루미늄 층이 산화되면서, 알루미늄 층은 복수의 홀이 형성된 다공층으로 변경될 수 있다. 이로서, 상기 다공층(12)에는 복수의 홀(hole)이 형성될 수 있다. 이때, 알루미늄 층(11)의 양극산화는 산을 이용하여 수행할 수 있다. The porous layer 12 may be formed by anodizing the aluminum layer 11. In particular, the pore-type anodization method for forming a porous type oxide film can be used. When the pore-type anodization is performed, as the aluminum layer is oxidized, the aluminum layer may be changed to a porous layer in which a plurality of holes are formed. As a result, a plurality of holes may be formed in the porous layer 12. At this time, anodization of the aluminum layer 11 may be performed using an acid.

상기 복수의 홀(h)은 균일한 간격으로 형성될 수 있다. 상기 홀을 균일한 간격으로 형성함으로써 글래스 표면 구조의 내구성을 향상시키고 균일한 투광성을 확보할 수 있다. The plurality of holes h may be formed at uniform intervals. By forming the holes at uniform intervals, it is possible to improve the durability of the glass surface structure and ensure uniform light transmission properties.

상기 홀(h)은 나노(nano) 또는 마이크로(micro) 수준의 크기(직경)를 가질 수 있으며, 복수의 홀 사이의 간격은 나노(nano) 또는 마이크로(micro) 수준으로 형성될 수 있다. 형성되는 홀의 크기와 간격은 양극산화 조건, 예를 들어 양극산화 전압, 산 용액의 종류와 농도 및 온도 등을 변화시켜 조절할 수 있다. The hole (h) may have a nano (micro) or micro (micro) level of size (diameter), the gap between the plurality of holes may be formed at a nano (nano) or micro (micro) level. The size and spacing of the holes formed can be controlled by changing anodization conditions, for example, anodization voltage, type and concentration of acid solution, and temperature.

이에 제한되는 것은 아니나, 상기 복수의 홀의 평균 직경은 5 내지 50 nm 인 것이 바람직하다. 상기 홀의 평균 직경은 인접한 100 개 홀들의 직경의 수평균을 계산하여 구할 수 있다. Although not limited thereto, the average diameter of the plurality of holes is preferably 5 to 50 nm. The average diameter of the holes can be obtained by calculating the number average of the diameters of adjacent 100 holes.

이에 제한되는 것은 아니나, 상기 복수의 홀 사이의 간격은 10 내지 100 nm 인 것이 바람직하다. Although not limited thereto, the distance between the plurality of holes is preferably 10 to 100 nm.

이때, 상기 홀(h)은 비전도성 물질인 글래스(10)의 표면까지 도달하여 글래스(10)의 표면이 노출되도록 형성될 수 있다. 상기 다공층(12)에 형성된 복수의 홀(h)이 글래스의 표면까지 도달하도록 상기 알루미늄 층을 양극산화하는 경우, 알루미늄 층의 잔류하는 부분(다공층을 구성하는 부분)이 모두 산화 알루미늄으로 산화될 수 있다. 즉, 다공층(12)은 산화 알루미늄을 포함하고, 바람직하게는, 다공층(12)은 산화 알루미늄으로 이루어 질 수 있다. At this time, the hole (h) may be formed to reach the surface of the glass 10, which is a non-conductive material, so that the surface of the glass 10 is exposed. When the aluminum layer is anodized so that a plurality of holes (h) formed in the porous layer 12 reach the surface of the glass, all of the remaining portions (parts constituting the porous layer) of the aluminum layer are oxidized to aluminum oxide. Can be. That is, the porous layer 12 includes aluminum oxide, and preferably, the porous layer 12 may be made of aluminum oxide.

또한, 상기 글래스(10)의 표면이 노출되도록 홀이 형성되는 경우, 표면 처리된 글래스는 휴대용 통신기기에 사용될 수 있는 충분한 투광성을 확보할 수 있다.In addition, when a hole is formed so that the surface of the glass 10 is exposed, the surface-treated glass can secure sufficient light transmittance that can be used in a portable communication device.

도 2는 본 발명의 일 실시형태에 따른 글래스의 표면 처리 방법에서 다공층을 형성하는 방법을 나타내는 단면도이다. 2 is a cross-sectional view showing a method of forming a porous layer in a method for surface treatment of glass according to an embodiment of the present invention.

우선, 도 2의 (a)에 도시된 바와 같이, 알루미늄 층(11) 상에 마스크(15)를 형성하는 마스킹이 수행된다. 상기 마스크를 이용하여 다공층에 형성될 홀의 크기 및 직경을 조절하고 홀의 정렬을 조절할 수 있다. 상기 마스크(15)는 알루미늄 층을 양극산화하는 과정에서 일부 표면을 보호하는 용도로 사용되기 때문에, 그 재질은 특별히 제한되지 않으며, 드라이 필름 등을 사용할 수 있다. First, as shown in (a) of FIG. 2, masking to form a mask 15 on the aluminum layer 11 is performed. The size and diameter of holes to be formed in the porous layer can be adjusted and alignment of holes can be controlled using the mask. Since the mask 15 is used to protect some surfaces in the process of anodizing the aluminum layer, the material is not particularly limited, and a dry film or the like can be used.

다음으로, 마스크(15)가 형성된 알루미늄 층을 1차 양극산화하여 복수의 홀을 형성한다. 도 2의 (b)는 1차 양극산화 후에 형성된 홀을 대략적으로 표시하는 단면도이다. 1차 양극산화 후 형성된 홀은 글래스의 표면까지 도달하지 않으며, 불규칙한 배열을 갖는 홀이 포함될 수 있다. 이때, 알루미늄 층(11')은 부분적으로 산화되어 알루미늄으로 이루어진 부분과 산화알루미늄으로 이루어진 부분을 모두 포함할 수 있다. Next, the aluminum layer on which the mask 15 is formed is first anodized to form a plurality of holes. 2B is a cross-sectional view schematically showing holes formed after primary anodization. The hole formed after the primary anodization does not reach the surface of the glass, and a hole having an irregular arrangement may be included. At this time, the aluminum layer 11 'may be partially oxidized to include both a portion made of aluminum and a portion made of aluminum oxide.

1차 양극산화 후에 생성된 불규칙한 배열을 갖는 홀을 제거하기 위하여 1차 양극산화된 알루미늄 층을 에칭하여, 도 2의 (c)에 표시된 바와 같이 알루미늄 층(11")에 형성된 홀을 균일하게 정렬할 수 있다. The primary anodized aluminum layer is etched to remove holes having an irregular arrangement created after the primary anodization, so that the holes formed in the aluminum layer 11 "are uniformly aligned as shown in Fig. 2 (c). can do.

다음으로, 도 2의 (d)와 같이, 홀(h)이 글래스(10)의 표면에 도달할 때까지 즉, 글래스(10)의 표면이 홀에 의해 노출될 때까지 알루미늄 층을 2차 양극산화하여 다공층(12)을 형성할 수 있다. Next, as shown in (d) of FIG. 2, the aluminum layer is a secondary anode until the hole h reaches the surface of the glass 10, that is, until the surface of the glass 10 is exposed by the hole. The porous layer 12 can be formed by oxidation.

상기 1차 및 2 차 양극산화는 산을 이용하여 수행할 수 있고, 예를 들어 황산, 인산, 옥살산, 크롬산 등을 이용할 수 있다. The primary and secondary anodization may be performed using an acid, for example, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, and the like.

한편, 상기 1차 양극산화와 상기 2차 양극산화는 서로 다른 조건에서 수행될 수 있다. 상기 2차 양극산화는 상기 1차 양극산화보다 높은 전압 하에서 수행될 수 있다. Meanwhile, the primary anodization and the secondary anodization may be performed under different conditions. The secondary anodization may be performed under a higher voltage than the primary anodization.

바람직하게는, 1차 양극산화는 13V 내지 17V 의 전압에서 수행되고, 상기 2차 양극산화는 18V 내지 22V 의 전압에서 수행될 수 있다. Preferably, the primary anodization may be performed at a voltage of 13V to 17V, and the secondary anodization may be performed at a voltage of 18V to 22V.

이에 제한 되는 것은 아니나, 상기 1차 양극산화는 15 내지 30 분 동안 수행되고, 상기 2차 양극산화는 60 내지 210 분 동안 수행될 수 있다.Although not limited thereto, the primary anodization may be performed for 15 to 30 minutes, and the secondary anodization may be performed for 60 to 210 minutes.

예를 들어, 1차 양극산화로는 정렬되지 않은 홀이 형성되게 된다. 이때, 1차 양극산화 시간이 길어지게 되면 정렬되지 않은 홀의 깊이가 깊어져, 불규칙한 배열의 홀을 제거하는 데 어려움이 있고 이후 2차 양극산화된 표면의 형상에 영향을 미치게 된다. 이에, 1차 양극산화와 2차 양극산화를 상기와 같은 조건에서 수행함으로써 1차 양극산화로 홀의 위치를 조절하고 2차 양극산화로 산화되는 깊이를 조절할 수 있다. 또한, 상기 1차 양극산화와 상기 2차 양극산화를 수행하는 조건을 상기와 같이 함으로써, 보다 균일한 배열의 홀을 얻을 수 있다. For example, the primary anodization furnace leads to unaligned holes. At this time, when the primary anodization time is prolonged, the depth of the unaligned holes becomes deep, which makes it difficult to remove irregularly arranged holes, and then affects the shape of the secondary anodized surface. Thus, by performing the primary anodization and the secondary anodization under the above conditions, it is possible to control the position of the hole by primary anodization and the depth to be oxidized by secondary anodization. In addition, by performing the conditions for performing the primary anodization and the secondary anodization as described above, holes in a more uniform arrangement can be obtained.

본 발명에 따른 글래스의 표면 처리 방법은 다공층을 형성한 이후의, 후처리 단계를 더 포함할 수 있다. 상기 후처리 단계는, 상기 다공층에 전해착색(electric coloring), 봉공처리(sealing) 및 전착도장(electric deposition) 중 하나 이상을 수행하는 것일 수 있다. The method for surface treatment of glass according to the present invention may further include a post-treatment step after forming the porous layer. The post-processing step may be to perform at least one of electro coloring, sealing and electric deposition on the porous layer.

도 3 에 도시된 바와 같이, 다공층(12)에 전해착색을 하여 다공층(12)의 홀에 염료가 착색된 염료 착색층(13)을 형성할 수 있다. 전해착색은 도금 또는 전해로 산화물이나 화학물을 침착하는 전기화학 방법으로 실시할 수 있다. As illustrated in FIG. 3, the dye coloring layer 13 in which the dye is colored may be formed in the holes of the porous layer 12 by electrolytic coloring on the porous layer 12. The electrolytic coloring may be performed by electrochemical method of depositing oxides or chemicals by plating or electrolysis.

또한, 도 4 에 도시된 바와 같이, 전해 착색 이후 봉공처리 또는 전착도장을 수행하여, 다공층(12) 및 염료 착색층(13)상에 표면층(14)을 형성할 수 있다. 상기 표면층(14) 은 봉공층 또는 전착도장층 일 수 있다. In addition, as illustrated in FIG. 4, after electrolytic coloring, sealing treatment or electrodeposition coating may be performed to form the surface layer 14 on the porous layer 12 and the dye coloring layer 13. The surface layer 14 may be a sealing layer or an electrodeposition coating layer.

상기 봉공처리는 수화 봉공, 금속성 봉공, 유기물 봉공, 저온 봉공 등의 방법을 이용할 수 있다. 양극산화로 형성된 다공층은 형성초기에 매우 활성으로서, 그대로 방치해 두면 공기 중의 가스 등을 흡착하여 불활성(오염상태)이 된다. 따라서, 안정된 표면을 얻기 위해 봉공처리를 할 수 있다. 이를 통해 형성된 다공층의 내식성을 향상시키고 수명을 연장할 수 있다.For the sealing treatment, methods such as hydration sealing, metallic sealing, organic sealing, and low temperature sealing may be used. The porous layer formed by anodization is very active at the beginning of formation, and if left unattended, it adsorbs gas and the like in air and becomes inactive (contaminated). Therefore, a sealing treatment can be performed to obtain a stable surface. Through this, it is possible to improve the corrosion resistance of the formed porous layer and extend the life.

상기 전착도장은 일정 농도의 수용성 도료를 채운 탱크 중에 피도장물체와 대극사이에 전류를 통하게 하여 피도장물체에 균일한 도막을 전기적으로 석출시켜 수행될 수 있다. The electrodeposition coating may be performed by electrically depositing a uniform coating film on the object to be coated by passing an electric current between the object to be coated and the counter electrode in a tank filled with a water-soluble coating of a certain concentration.

상기와 같이, 다공층에 형성된 홀에 전해착색을 수행하고 봉공처리 또는 전착도장 처리를 하여 미려하고 다양한 색상이 만들어 지게되며, 착색의 내후성, 내구성 및 다공층의 내식성을 개선할 수 있다. As described above, by performing electrolytic coloring on the hole formed in the porous layer and sealing or electrodeposition coating treatment, beautiful and various colors are produced, and weathering resistance, durability of coloring, and corrosion resistance of the porous layer can be improved.

본 발명에 의하면, 글래스 소재의 표면 처리방법으로 사용되었던 멀티코팅, 인쇄, 도장 방법의 기술적 문제점을 극복할 수 있으며, 글래스 소재에 내식성, 내구성이 우수한 미려하고 다양한 금속 질감의 색상을 구현할 수 있다. According to the present invention, it is possible to overcome the technical problems of the multi-coating, printing, and coating methods used as a surface treatment method for glass materials, and it is possible to implement beautiful and various metal texture colors excellent in corrosion resistance and durability in glass materials.

도 1b를 참조하면, 본 발명의 다른 일 실시형태는, 글래스(10) 및 상기 글래스 상에 형성되며 상기 글래스의 표면까지 도달하는 복수개의 홀(hole)을 갖는 다공층(12)을 포함하고, 상기 다공층(12)은 산화알루미늄을 포함하는 표면 처리 글래스를 제공한다. 상기 다공층은 알루미늄 층을 양극 산화시켜 형성될 수 있다.1B, another embodiment of the present invention includes a glass 10 and a porous layer 12 formed on the glass and having a plurality of holes reaching the surface of the glass, The porous layer 12 provides a surface treated glass containing aluminum oxide. The porous layer may be formed by anodizing the aluminum layer.

바람직하게는, 다공층으로 잔류하는 알루미늄 층 전체가 산화되어 상기 다공층(12)은 산화알루미늄으로 이루어질 수 있다.Preferably, the entire aluminum layer remaining as the porous layer is oxidized so that the porous layer 12 may be made of aluminum oxide.

상기 다공층에 형성된 복수의 홀은 균일한 간격으로 배열될 수 있다.The plurality of holes formed in the porous layer may be arranged at uniform intervals.

상기 다공층의 두께는 이에 제한되는 것은 아니나, 20 ㎛ 내지 50 ㎛ 일 수 있다. The thickness of the porous layer is not limited thereto, but may be 20 μm to 50 μm.

상기 표면 처리 글래스는 휴대용 통신기기에 사용될 수 있으며, 상기 휴대용 통신기기의 예로는 휴대폰, 스마트폰, 테블릿 PC 등을 들 수 있다. 본 발명의 표면 처리 글래스는, 예를 들어, 휴대용 통신기기의 케이스, 지문인식 모듈, 백커버, 볼륨키 등에 사용될 수 있다.The surface-treated glass may be used in a portable communication device, and examples of the portable communication device include a mobile phone, a smart phone, and a tablet PC. The surface treatment glass of the present invention can be used, for example, in a case of a portable communication device, a fingerprint recognition module, a back cover, a volume key, and the like.

또한, 본 발명에 따른 표면 처리 글래스는 휴대용 통신기기의 전면 및 후면 커버 글라스로 사용될 수 있으며, 이 경우 글라스 커버에 금속의 질감과 색상을 그대로 살리면서 전자파를 흡수하지 않아서 설계상의 문제를 해소할 수 있다.In addition, the surface treatment glass according to the present invention can be used as the front and rear cover glass of a portable communication device, and in this case, the design problem can be solved by not absorbing electromagnetic waves while preserving the texture and color of the metal on the glass cover. have.

상기 표면 처리 글래스는 상술한 글래스의 표면 처리 방법에 따라 제조될 수 있으며, 앞서 글래스의 표면 처리 방법에서 설명한 구성과 중복되는 구성에 대한 설명은 생략하도록 한다.The surface-treated glass may be manufactured according to the surface treatment method of the above-described glass, and descriptions of the components overlapping with those described in the surface treatment method of the glass will be omitted.

이하, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은, 그 요지를 초과하지 않는 한, 이하의 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail by examples, but the present invention is not limited by the following examples unless the gist is exceeded.

실시예Example

글래스(상품명: 고릴라4) 소재 표면을 유기용제와 초음파세척 장치를 이용하여 세척한다. 세척된 글래스를 마그네트론 스퍼터링 시스템(Magnetron Sputtering System)에 장착한 후 아르곤(Ar) 가스와 산소(O2) 가스를 투입하고 펄스 직류(Pulsed DC)전압을 인가하여 플라즈마처리(Plasma Treatment)를 실시한다. 마그네트론 스퍼터링 시스템에 아르곤(Ar) 가스를 주입하고 스퍼터 캐소드(Sputter Cathode)에 450V의 직류(DC) 전압을 인가하여 Al 박막을 50㎛ 증착하였다. The surface of the glass (trade name: Gorilla 4) is cleaned using an organic solvent and an ultrasonic cleaning device. After the cleaned glass is mounted on a magnetron sputtering system, argon (Ar) gas and oxygen (O2) gas are added, and pulsed DC voltage is applied to perform plasma treatment. Argon (Ar) gas was injected into the magnetron sputtering system, and a 50 µm Al film was deposited by applying a direct current (DC) voltage of 450 V to the sputter cathode.

글래스 상에 증착된 알루미늄 층에 홀을 형성하기 위한 양극산화에 앞서 알루미늄 층 표면의 유기물 및 불순물을 제거하기 위해 아세톤 용액에 침지하여 10 분간 초음파로 세척하였고, 또한 알루미늄 층의 균일한 표면조도를 구현하고 산화층을 제거하기 위해 과염소산과 에틸알콜을 혼합한 용액에서 150 mA/cm²의 정전류 하에서 3분간 전해연마를 실시하였다. Prior to anodization to form holes in the aluminum layer deposited on the glass, it was immersed in acetone solution to remove organic substances and impurities on the surface of the aluminum layer, and ultrasonically washed for 10 minutes, and also realized a uniform surface roughness of the aluminum layer. In order to remove the oxide layer, electrolytic polishing was performed for 3 minutes under a constant current of 150 mA / cm² in a solution of perchloric acid and ethyl alcohol.

1차 양극산화는 전해질로 1.8M 의 황산을 사용하였으며, 15V 의 전압을 인가하여 1℃ 에서 30분간 수행하였다. 다음으로, 1차 양극산화 후에 생성되는 불규칙한 배열을 갖는 홀을 1.8 wt% 크롬산과 6 wt%의 인산이 들어있는 용액에 1 시간동안 침지하여 제거하였다(에칭 단계). 이후, 2차 양극산화는 전해질로 0.1M 의 인산을 사용하였으며, 20V의 전압을 인가하여 1℃ 에서 3시간 30분간 실시하였다. As the primary anodization, 1.8M sulfuric acid was used as the electrolyte, and a voltage of 15 V was applied to perform it for 30 minutes at 1 ° C. Next, holes having an irregular arrangement formed after the primary anodization were removed by immersion in a solution containing 1.8 wt% chromic acid and 6 wt% phosphoric acid for 1 hour (etching step). Subsequently, the secondary anodization was performed using 0.1 M phosphoric acid as the electrolyte, and a voltage of 20 V was applied for 3 hours and 30 minutes at 1 ° C.

양극산화 완료 후, 0.1M 의 염화구리와 20vol% 염산용액을 이용하여 산화되지 않은 잔류 알루미늄을 제거하였다. 홀의 크기를 균일하게 하기위해 5 wt%의 인산용액에 20분 간 침지하여 포어 와이드닝(pore widening)을 실시하였다. After completion of anodization, residual aluminum that was not oxidized was removed using 0.1 M copper chloride and a 20 vol% hydrochloric acid solution. In order to make the hole uniform, immersion in a 5 wt% phosphoric acid solution for 20 minutes carried out pore widening.

하기 표 1은, 상기와 같은 조건으로 1차 양극산화 및 2차 양극산화를 수행하였을 때 형성되는 기공의 직경과 홀 사이의 간격을 나타내는 것이다.Table 1 below shows the gap between the diameter of the pores and the holes formed when the primary anodization and the secondary anodization were performed under the same conditions as described above.

전해질Electrolyte 적용 전압Applied voltage 진행 시간Running time 기공 직경Pore diameter 홀 사이의 간격Spacing between holes 1차 양극산화Primary anodization 1.8M 황산1.8M sulfuric acid 15V15V 30분30 minutes 14nm14nm 15nm15nm 2차 양극산화Second anodization 0.1M 인산0.1M phosphoric acid 20V20V 210분210 minutes 19nm19nm 45nm45nm

평가evaluation

상기의 실시예의 방법에 따라 표면 처리된 글래스에 대해 투광성, 내구성, 내산성 및 색상 구현성에 대한 평가를 다음의 방법으로 실시하였다. Evaluation of light transmittance, durability, acid resistance, and color implementability was performed on the glass surface-treated according to the method of the above example by the following method.

투광성은 표면 처리전 글래스(상품명: 고릴라4) 의 시편에 대한 빛의 투과율을 측정하여 평가하였으며, 투과율은 히타치사의 U-4100 분광광도계로 측정하였다. The transmittance was evaluated by measuring the transmittance of light to a specimen of glass (trade name: Gorilla 4) before the surface treatment, and the transmittance was measured with a U-4100 spectrophotometer from Hitachi.

내구성 평가 및 색상 구현성 평가는 실시예의 방법에 따라 표면 처리된 각 시편에 대해 전해착색과 봉공처리를 추가로 실시한 뒤 수행되었다. Durability evaluation and color realization evaluation were performed after additionally performing electrolytic coloring and sealing treatment for each surface-treated specimen according to the method of the Examples.

내구성 평가는 표면 처리된 글래스 표면에 1mm 간격의 X-Cut(격자형태로 표면에 흠집을 형성하는 것)을 한 후, OPP 테이프로 착탈을 3회 수행하고, 5wt%의 염화나트륨(Nacl) 수용액을 35℃ 에서 72시간 동안 지속 분무한 후 pH4.6 용액에 48 시간 침지하여 신뢰성 불량 발생 여부를 확인하는 방법으로 수행되었다. For durability evaluation, X-Cut (which forms a flaw on the surface in a grid) at 1 mm intervals on the surface of the treated glass is subjected to desorption with OPP tape three times, and a 5 wt% aqueous solution of sodium chloride (Nacl) is used. After continuously spraying at 35 ° C. for 72 hours, it was immersed in a pH 4.6 solution for 48 hours to perform a method to determine whether reliability was poor.

상기 염화나트륨 수용액을 제조하는데 있어서, 염화나트륨을 탈이온수에 녹이고 염농도 5±0.5 중량%로 조정하였다. 조정결과는 비중계를 사용하여 비중을 측정하고, 35℃에서 1.0259~1.0329의 범위에 있음을 확인하였다. 이경우, 규정된 비중범위를 벗어났을 때는 다시 제조하였다.In preparing the aqueous sodium chloride solution, sodium chloride was dissolved in deionized water and the salt concentration was adjusted to 5 ± 0.5% by weight. As a result of the adjustment, the specific gravity was measured using a hydrometer, and it was confirmed that it was in the range of 1.0259 to 1.0329 at 35 ° C. In this case, when it was outside the specified specific gravity range, it was manufactured again.

색상 구현성은 육안 평가로 실시되었다. Color realization was performed by visual evaluation.

실시예에 따라 형성된 표면 처리된 글래스는 투광성이 92% 이상으로 우수하고, 내구성 평가에서 신뢰성 불량이 발생하지 않았으며, 목표 색상이 정확하고 균일하게 구현되었다. The surface-treated glass formed according to the embodiment had excellent light transmittance of 92% or more, no reliability defects in durability evaluation, and a target color was accurately and uniformly implemented.

본 발명은 상술한 실시형태 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니며, 첨부된 청구범위에 의해 한정하고자 한다. 따라서, 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 형태의 치환, 변형 및 변경이 가능할 것이며, 이 또한 본 발명의 범위에 속한다고 할 것이다.The present invention is not limited by the above-described embodiments and the accompanying drawings, but is intended to be limited by the appended claims. Accordingly, various forms of substitution, modification, and modification will be possible by those skilled in the art without departing from the technical spirit of the present invention as set forth in the claims, and this also belongs to the scope of the present invention. something to do.

10: 글래스
11: 알루미늄 층
12: 다공층
h: 홀
13: 염료 착색층
14: 표면층
15: 마스크
10: glass
11: aluminum layer
12: porous layer
h: hole
13: dye coloring layer
14: surface layer
15: mask

Claims (16)

글래스의 표면에 알루미늄 층을 형성하는 단계; 및
상기 글래스의 표면이 노출되도록 상기 알루미늄 층에 복수의 홀(hole)을 형성하는 다공층 형성 단계;
를 포함하는 글래스의 표면 처리 방법.
Forming an aluminum layer on the surface of the glass; And
A porous layer forming step of forming a plurality of holes in the aluminum layer so that the surface of the glass is exposed;
The surface treatment method of the glass containing.
제1항에 있어서,
상기 다공층은 상기 알루미늄 층을 양극 산화시켜 형성되는 것인 글래스의 표면 처리 방법.
According to claim 1,
The porous layer is a surface treatment method of glass that is formed by anodizing the aluminum layer.
제1항에 있어서,
상기 복수의 홀은 균일한 간격으로 형성되는 글래스의 표면 처리 방법.
According to claim 1,
The plurality of holes are formed at uniform intervals, the surface treatment method of the glass.
제1항에 있어서,
상기 알루미늄 층의 두께는 20 ㎛ 내지 50 ㎛ 인 글래스의 표면 처리 방법.
According to claim 1,
The aluminum layer has a thickness of 20 μm to 50 μm.
제1항에 있어서,
상기 다공층 형성 단계는,
a) 상기 알루미늄 층을 1 차 양극산화하는 단계; 및
b) 1차 양극산화된 알루미늄 층을 2차 양극산화하는 단계; 를 포함하는 글래스의 표면 처리 방법.
According to claim 1,
The step of forming the porous layer,
a) primary anodizing the aluminum layer; And
b) secondary anodizing the primary anodized aluminum layer; The surface treatment method of the glass containing.
제5항에 있어서,
상기 2차 양극산화는 상기 1차 양극산화보다 높은 전압으로 수행되는 글래스의 표면 처리 방법.
The method of claim 5,
The secondary anodization is a surface treatment method of the glass is performed at a higher voltage than the primary anodization.
제5항에 있어서,
상기 1차 양극산화는 13V 내지 17V 에서 수행되고, 상기 2차 양극산화는 18V 내지 22V 에서 수행되는 글래스의 표면 처리 방법.
The method of claim 5,
The primary anodization is performed at 13V to 17V, and the secondary anodization is performed at 18V to 22V.
제5항에 있어서,
상기 1차 양극산화 단계 이후 상기 2차 양극산화 단계 이전에, c) 상기 알루미늄 층에 생성된 불규칙한 배열의 홀을 제거하는 에칭 단계를 포함하는 글래스의 표면 처리방법.
The method of claim 5,
And after the first anodizing step and before the second anodizing step, c) an etching step of removing holes in irregular arrangements formed in the aluminum layer.
제1항에 있어서,
상기 알루미늄 층은 마그네트론 스퍼터링(magnetron sputtering) 방식으로 글래스 표면에 형성되는 글래스의 표면 처리 방법.
According to claim 1,
The aluminum layer is a method of treating a surface of glass formed on a surface of a glass by a magnetron sputtering method.
제1항에 있어서,
상기 다공층 형성 단계 이후에, 후처리 단계를 더 포함하는 글래스의 표면 처리 방법.
According to claim 1,
After the porous layer forming step, the surface treatment method of the glass further comprising a post-treatment step.
제10항에 있어서,
상기 후처리 단계는 상기 다공층에 전해착색, 봉공처리 및 전착도장 중 하나 이상을 수행하는 것인 글래스의 표면 처리 방법.
The method of claim 10,
The post-treatment step is to perform one or more of electrolytic coloring, sealing treatment and electrodeposition coating on the porous layer.
글래스; 및
상기 글래스 상에 형성되며, 상기 글래스의 표면까지 도달하는 복수개의 홀(hole)을 갖는 다공층; 을 포함하고,
상기 다공층은 산화알루미늄을 포함하는 표면 처리 글래스.
Glass; And
A porous layer formed on the glass and having a plurality of holes reaching to the surface of the glass; Including,
The porous layer is a surface treatment glass containing aluminum oxide.
제12항에 있어서,
상기 다공층은 알루미늄 층을 양극 산화시켜 형성된 것인 표면 처리 글래스.
The method of claim 12,
The porous layer is a surface treatment glass formed by anodizing the aluminum layer.
제12항에 있어서,
상기 복수의 홀은 균일한 간격을 갖는 표면 처리 글래스.
The method of claim 12,
The plurality of holes are surface-treated glass having uniform spacing.
제12항에 있어서,
상기 다공층의 두께는 20 ㎛ 내지 50 ㎛ 인 표면 처리 글래스.
The method of claim 12,
The porous layer has a thickness of 20 μm to 50 μm.
제12항에 있어서,
상기 표면 처리 글래스는 휴대용 통신기기의 케이스에 사용되는 것인 표면 처리 글래스.
The method of claim 12,
The surface-treated glass is used for a case of a portable communication device.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20120028674A (en) * 2010-09-15 2012-03-23 삼성전자주식회사 Method of fabricating anodic aluminium oxide
JP2013074276A (en) * 2011-09-29 2013-04-22 Kyocera Corp Manufacturing method of photoelectric conversion element
KR20150139091A (en) * 2014-06-02 2015-12-11 주식회사 케이에이치바텍 Product of color developing surface and Method of manufacturing the same

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