KR102179611B1 - Laminated polarizing film, manufacturing method therefor, laminated optical film, and image display device - Google Patents

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Abstract

본 발명의 적층 편광 필름은, 편광 필름과, 편광자 이외의 광학 필름이, 저탄성 접착제층 (a) 을 개재하여 적층되어 있는 적층 편광 필름으로서, 상기 편광 필름은, 편광자의 적어도 일방의 면에 접착제층 (b) 을 개재하여 투명 보호 필름이 적층되어 있고, 또한 당해 투명 보호 필름에 상기 저탄성 접착제층 (a) 이 적층되어 있고, 상기 저탄성 접착제층 (a) 의 25 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률이 3.0 × 105 ∼ 1.0 × 108 ㎩ 이고, 또한 상기 저탄성 접착제층 (a) 의 두께가 0.1 ∼ 5 ㎛ 이다. 본 발명의 적층 편광 필름은, 내충격성 및 가열 좌굴성이 양호하다.The laminated polarizing film of the present invention is a laminated polarizing film in which a polarizing film and an optical film other than a polarizer are laminated via a low-elastic adhesive layer (a), wherein the polarizing film is an adhesive on at least one side of the polarizer A transparent protective film is laminated through the layer (b), and the low-elastic adhesive layer (a) is laminated on the transparent protective film, and the storage elastic modulus at 25°C of the low-elastic adhesive layer (a) This is 3.0 × 10 5 to 1.0 × 10 8 Pa, and the thickness of the low elastic adhesive layer (a) is 0.1 to 5 µm. The laminated polarizing film of the present invention has good impact resistance and heat buckling property.

Description

적층 편광 필름, 그 제조 방법, 적층 광학 필름 및 화상 표시 장치{LAMINATED POLARIZING FILM, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, LAMINATED OPTICAL FILM, AND IMAGE DISPLAY DEVICE}A laminated polarizing film, its manufacturing method, a laminated optical film, and an image display device TECHNICAL FIELD [LAMINATED POLARIZING FILM, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, LAMINATED OPTICAL FILM, AND IMAGE DISPLAY DEVICE]

본 발명은, 편광 필름과 편광자 이외의 광학 필름을 저탄성 접착제층을 개재하여 적층한 적층 편광 필름 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 당해 적층 필름은 이것 단독으로, 또는 추가로 광학 필름을 적층한 적층 광학 필름으로 해서 액정 표시 장치 (LCD), 유기 EL 표시 장치, CRT, PDP 등의 화상 표시 장치를 형성할 수 있다.The present invention relates to a laminated polarizing film obtained by laminating a polarizing film and an optical film other than a polarizer through a low elasticity adhesive layer, and a manufacturing method thereof. The said laminated film can form image display devices, such as a liquid crystal display device (LCD), an organic EL display device, CRT, and PDP, as this alone or as a laminated optical film in which an optical film is laminated.

액정 표시 장치 등은, 그 화상 형성 방식으로부터 액정 셀의 양측에 편광 소자를 배치하는 것이 필요 불가결하고, 일반적으로는 편광 필름이 첩착 (貼着) 되고 있다. 또 액정 패널에는 편광 필름 외에, 디스플레이의 표시 품위를 향상시키기 위해서 여러 가지 광학 필름이 사용된다. 예를 들어, 광학 필름으로는, 착색 방지로서의 위상차 필름, 액정 디스플레이의 시야각을 개선하기 위한 시야각 확대 필름, 나아가서는 디스플레이의 콘트라스트를 높이기 위한 휘도 향상 필름 등이 사용된다.In a liquid crystal display device or the like, it is indispensable to arrange polarizing elements on both sides of a liquid crystal cell from the image forming method, and generally, a polarizing film is adhered. Moreover, in addition to a polarizing film, various optical films are used for a liquid crystal panel in order to improve the display quality of a display. For example, as the optical film, a retardation film for preventing coloring, a viewing angle enlargement film for improving the viewing angle of a liquid crystal display, and further, a luminance enhancing film for increasing the contrast of the display are used.

상기 편광 필름과 광학 필름 (예를 들어, 위상차 필름) 을 조합하여 적층 편광 필름으로서 사용하는 경우에는, 통상 점착제층을 개재하여 상기 편광 필름과 광학 필름이 적층되고 있었다 (예를 들어, 특허문헌 1). 특허문헌 1 에서는, 점착제층으로서, 광 누출 방지 등의 관점에서 23 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률이 0.3 ㎫ 이상을 갖는 것이 제안되어 있다. 또, 특허문헌 1 에서는, 점착제층의 박리력을 만족시키기 위해서, 두께 5 ∼ 100 ㎛ 의 점착제층이 사용되고 있다.When the said polarizing film and an optical film (for example, a retardation film) are combined and used as a laminated polarizing film, the said polarizing film and an optical film were usually laminated via an adhesive layer (for example, Patent Document 1 ). In Patent Document 1, it is proposed that the pressure-sensitive adhesive layer has a storage elastic modulus at 23°C of 0.3 MPa or more from the viewpoint of preventing light leakage. In addition, in Patent Document 1, in order to satisfy the peeling force of the pressure-sensitive adhesive layer, an adhesive layer having a thickness of 5 to 100 µm is used.

일본 공개특허공보 2008-032852호Japanese Patent Application Publication No. 2008-032852

상기 적층 편광 필름에 사용되는 위상차 필름은, 필름 내에 있어서 분자가 면배향하고 있으므로, 낙하 등의 충격에 의해 벽개하기 쉽다. 그 때문에, 예를 들어 편광 필름과 위상차 필름의 적층물은, 내충격성이 충분하지 않았다.In the retardation film used for the laminated polarizing film, since molecules are surface-oriented in the film, they are easily cleaved by impact such as dropping. Therefore, for example, the impact resistance of the laminated product of a polarizing film and a retardation film was not sufficient.

또, 상기 적층 편광 필름은, 액정 셀에 첩합 (貼合) 한 패널의 상태에 있어서, 가열 시험이나 동결 사이클 시험 (히트 쇼크 사이클 시험) 등에 제공된다. 그러나, 특허문헌 1 에 기재된 점착제층에서는, 상기 시험에 의해 발생하는 편광 필름의 치수 변화에 점착제층이 추종하는 것이 어려워, 시험 후의 적층 편광 필름을 크로스 니콜 상태에서 관찰하면 줄무늬 불균일 등의 표시 결함을 볼 수 있었다. 그 때문에, 적층 광학 필름에는, 상기 시험 후에 있어서도 적층 편광 필름을 크로스 니콜 상태에서 줄무늬 편차 등이 생기지 않을 것 (이하, 가열 좌굴성이라고 한다) 이 요구된다.Moreover, the said laminated polarizing film is provided for a heating test, a freezing cycle test (heat shock cycle test), etc. in the state of a panel bonded to a liquid crystal cell. However, in the pressure-sensitive adhesive layer described in Patent Document 1, it is difficult for the pressure-sensitive adhesive layer to follow the dimensional change of the polarizing film generated by the test, and when the laminated polarizing film after the test is observed in a cross-Nichol state, display defects such as uneven streaks are observed. I could see. Therefore, the laminated optical film is required that the laminated polarizing film is not subjected to streak variation or the like in a cross-Nichol state even after the above test (hereinafter, referred to as heat buckling property).

본 발명은, 편광 필름과 편광 필름 이외의 광학 필름을 적층한 적층 편광 필름으로서, 내충격성 및 가열 좌굴성이 양호한 적층 편광 필름 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a laminated polarizing film obtained by laminating a polarizing film and an optical film other than a polarizing film, and a laminated polarizing film having good impact resistance and heat buckling property, and a method for producing the same.

또한 본 발명은, 상기 적층 편광 필름을 사용한 적층 광학 필름, 나아가서는 상기 적층 편광 필름 또는 적층 광학 필름을 사용한 화상 표시 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.It is another object of the present invention to provide a laminated optical film using the laminated polarizing film, and furthermore, an image display device using the laminated polarizing film or laminated optical film.

본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위하여 예의 검토를 하기 편광 필름 등에 의해, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 발견해 본 발명을 완성하는 데에 도달하였다.In order to solve the above problem, the inventors of the present invention have found that the above problem can be solved using the following polarizing film or the like, and have come to complete the present invention.

즉 본 발명은, 편광 필름과, 편광자 이외의 광학 필름이, 접착제층 (a) 을 개재하여 적층되어 있는 적층 편광 필름으로서, That is, the present invention is a laminated polarizing film in which a polarizing film and an optical film other than a polarizer are laminated via an adhesive layer (a),

상기 편광 필름은, 편광자의 적어도 일방의 면에 접착제층 (b) 을 개재하여 투명 보호 필름이 적층되어 있고, 또한 당해 투명 보호 필름에 상기 저탄성 접착제층 (a) 이 적층되어 있고, In the polarizing film, a transparent protective film is laminated on at least one surface of the polarizer through an adhesive layer (b), and the low-elastic adhesive layer (a) is laminated on the transparent protective film,

상기 저탄성 접착제층 (a) 의 25 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률이 3.0 × 105 ∼ 1.0 × 108 ㎩ 이고, The storage elastic modulus at 25°C of the low elastic adhesive layer (a) is 3.0 × 10 5 to 1.0 × 10 8 Pa,

또한, 상기 저탄성 접착제층 (a) 의 두께가 0.1 ∼ 5 ㎛ 인 것을 특징으로 하는 적층 편광 필름에 관한 것이다.Further, it relates to a laminated polarizing film characterized in that the thickness of the low-elastic adhesive layer (a) is 0.1 to 5 µm.

상기 적층 광학 필름에 있어서, 상기 광학 필름으로서 위상차 필름을 사용할 수 있다.In the laminated optical film, a retardation film can be used as the optical film.

상기 적층 광학 필름에 있어서, 상기 저탄성 접착제층 (a) 이, 활성 에너지선 경화형 접착제에 활성 에너지선을 조사해 얻어지는 경화물층인 것이 바람직하다.In the laminated optical film, it is preferable that the low-elastic adhesive layer (a) is a cured product layer obtained by irradiating an active energy ray-curable adhesive with an active energy ray.

상기 적층 광학 필름에 있어서, 상기 활성 에너지선 경화형 접착제가, 실질적으로 유기 용제를 함유하지 않고, 또한 점도 1 ∼ 100 cp/25 ℃ 의 액상물인 것이 바람직하다.In the laminated optical film, it is preferable that the active energy ray-curable adhesive is substantially free of an organic solvent and is a liquid product having a viscosity of 1 to 100 cp/25°C.

상기 적층 광학 필름에 있어서, 상기 활성 에너지선 경화형 접착제가, 경화성 성분으로서 라디칼 중합성 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.In the laminated optical film, it is preferable that the active energy ray-curable adhesive contains a radical polymerizable compound as a curable component.

상기 적층 광학 필름에 있어서, 상기 라디칼 중합성 화합물이, 단관능 라디칼 중합성 화합물과 다관능 라디칼 중합성 화합물 (A) 를 함유하는 것이 바람직하다. 또, 상기 라디칼 중합성 화합물의 전체량을 100 중량% 로 했을 때, 다관능 라디칼 중합성 화합물 (A) 의 비율이 1 ∼ 65 중량% 인 것이 바람직하다. 또, 상기 다관능 라디칼 중합성 화합물 (A) 는, 중량 평균 분자량이 200 ∼ 4000 인 2 관능 (메트)아크릴레이트인 것이 바람직하다.In the laminated optical film, it is preferable that the radical polymerizable compound contains a monofunctional radical polymerizable compound and a polyfunctional radical polymerizable compound (A). Moreover, when the total amount of the radical polymerizable compound is 100% by weight, it is preferable that the ratio of the polyfunctional radically polymerizable compound (A) is 1 to 65% by weight. Moreover, it is preferable that the said polyfunctional radical polymerizable compound (A) is a bifunctional (meth)acrylate having a weight average molecular weight of 200 to 4000.

상기 적층 광학 필름에 있어서, 상기 라디칼 중합성 화합물이, 탄소수 2 ∼ 18 의 알킬기를 갖는 알킬(메트)아크릴레이트 (B) 를 함유하는 것이 바람직하다.In the laminated optical film, it is preferable that the radical polymerizable compound contains an alkyl (meth)acrylate (B) having an alkyl group having 2 to 18 carbon atoms.

상기 적층 광학 필름에 있어서, 상기 라디칼 중합성 화합물이, 수산기를 갖는 (메트)아크릴레이트 (C) 를 함유하는 것이 바람직하다. 상기 수산기를 갖는 (메트)아크릴레이트 (C) 가, 중량 평균 분자량이 160 ∼ 3000 인 수산기 함유 단관능 (메트)아크릴레이트인 것이 바람직하다.In the laminated optical film, it is preferable that the radical polymerizable compound contains a (meth)acrylate (C) having a hydroxyl group. It is preferable that the (meth)acrylate (C) having a hydroxyl group is a hydroxyl group-containing monofunctional (meth)acrylate having a weight average molecular weight of 160 to 3000.

상기 적층 광학 필름에 있어서, 상기 활성 에너지선 경화형 접착제가, 실란 커플링제 (D) 를 함유하는 것이 바람직하다. 상기 실란 커플링제 (D) 는, 라디칼 중합성의 관능기를 갖지 않는 실란 커플링제인 것이 바람직하다.In the laminated optical film, it is preferable that the active energy ray-curable adhesive contains a silane coupling agent (D). It is preferable that the said silane coupling agent (D) is a silane coupling agent which does not have a radical polymerizable functional group.

상기 적층 광학 필름에 있어서, 상기 활성 에너지선 경화형 접착제가, (메트)아크릴 모노머를 중합하여 이루어지는 아크릴계 올리고머 (E) 를 함유하는 것이 바람직하다.In the laminated optical film, it is preferable that the active energy ray-curable adhesive contains an acrylic oligomer (E) obtained by polymerizing a (meth)acrylic monomer.

상기 적층 광학 필름에 있어서, 상기 활성 에너지선 경화형 접착제가, 활성 메틸렌기를 갖는 라디칼 중합성 화합물 (F) 와, 수소 인발 작용이 있는 라디칼 중합 개시제 (G) 를 함유하는 것이 바람직하다. 상기 활성 메틸렌기는 아세토아세틸기인 것이 바람직하다. 상기 활성 메틸렌기를 갖는 라디칼 중합성 화합물 (F) 가, 아세토아세톡시알킬(메트)아크릴레이트인 것이 바람직하다.In the laminated optical film, it is preferable that the active energy ray-curable adhesive contains a radically polymerizable compound (F) having an active methylene group and a radical polymerization initiator (G) having a hydrogen extraction function. It is preferable that the active methylene group is an acetoacetyl group. It is preferable that the radical polymerizable compound (F) having an active methylene group is acetoacetoxyalkyl (meth)acrylate.

상기 적층 광학 필름에 있어서, 상기 라디칼 중합 개시제 (G) 가, 티오크산톤계 라디칼 중합 개시제인 것이 바람직하다.In the laminated optical film, it is preferable that the radical polymerization initiator (G) is a thioxanthone radical polymerization initiator.

상기 적층 광학 필름에 있어서, 상기 접착제층 (b) 은, 85 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률이 1.0 × 106 ∼ 1.0 × 1010 ㎩ 이고, 또한 두께가 0.03 ∼ 3 ㎛ 를 만족하는 접착제층 (b1) 을 사용할 수 있다.In the laminated optical film, the adhesive layer (b) has a storage elastic modulus at 85° C. of 1.0×10 6 to 1.0×10 10 Pa and a thickness of 0.03 to 3 μm. You can use

또, 상기 적층 광학 필름에 있어서, 상기 편광 필름은, 상기 편광자의 양면에, 상기 접착제층 (b) 을 개재하여 상기 투명 보호 필름이 형성되어 있는 경우에는, 상기 접착제층 (b) 으로는, 모두 85 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률이 1.0 × 106 ∼ 1.0 × 1010 ㎩ 이고, 또한 두께가 0.03 ∼ 3 ㎛ 를 만족하는 접착제층 (b1) 을 사용할 수 있다.Moreover, in the said laminated optical film, when the said transparent protective film is formed on both surfaces of said polarizer through said adhesive layer (b), as said adhesive layer (b), all An adhesive layer (b1) having a storage elastic modulus at 85°C of 1.0×10 6 to 1.0×10 10 Pa and a thickness of 0.03 to 3 μm can be used.

또, 상기 적층 광학 필름에 있어서, 상기 편광 필름은, 상기 편광자의 양면에, 상기 접착제층 (b) 을 개재하여 상기 투명 보호 필름이 형성되어 있는 경우에는, 편면의 상기 접착제층 (b) 으로는, 85 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률이 1.0 × 106 ∼ 1.0 × 1010 ㎩ 이고, 또한 두께가 0.03 ∼ 3 ㎛ 를 만족하는 접착제층 (b1) 을 사용하고, 다른 편면의 상기 접착제층 (b) 으로는, 85 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률 1.0 × 104 ∼ 1.0 × 108 ㎩ 이고, 두께가 0.1 ∼ 25 ㎛ 를 만족하는 접착제층 (b2) 을 사용할 수 있다.Further, in the laminated optical film, when the transparent protective film is formed on both surfaces of the polarizer through the adhesive layer (b), the adhesive layer (b) on one side is , Using an adhesive layer (b1) satisfying a storage modulus of 1.0 × 10 6 to 1.0 × 10 10 Pa at 85°C and a thickness of 0.03 to 3 μm, and the adhesive layer (b) on the other side The adhesive layer (b2) satisfies the storage modulus at 85°C of 1.0×10 4 to 1.0×10 8 Pa and a thickness of 0.1 to 25 μm can be used.

상기 적층 광학 필름에 있어서, 상기 편광자는, 두께가 1 ∼ 10 ㎛ 인 것이 바람직하다.In the said laminated optical film, it is preferable that the said polarizer has a thickness of 1-10 micrometers.

상기 적층 광학 필름에 있어서, 상기 투명 보호 필름은, 적어도 편면의 투명 보호 필름으로서 위상차 필름을 사용할 수 있다.In the laminated optical film, as the transparent protective film, a retardation film may be used as a transparent protective film on at least one side.

상기 적층 광학 필름은, 상기 편광 필름과 상기 광학 필름을 강제 박리했을 때에, 상기 저탄성 접착제층 (a) 이 응집 파괴하는 것이 바람직하다.In the laminated optical film, when the polarizing film and the optical film are forcibly peeled, it is preferable that the low-elastic adhesive layer (a) is cohesively destroyed.

상기 적층 광학 필름은, 상기 편광 필름과 상기 광학 필름을 강제 박리했을 때의 박리력이 1 ∼ 5 N/15 ㎜ 인 것이 바람직하다.The laminated optical film preferably has a peeling force of 1 to 5 N/15 mm when the polarizing film and the optical film are forcibly peeled off.

또 본 발명은, 상기 적층 편광 필름의 제조 방법으로서, In addition, the present invention is a method for producing the laminated polarizing film,

상기 편광 필름에 있어서의 상기 저탄성 접착제층 (a) 이 적층되는 측의 투명 보호 필름 및 상기 광학 필름의 적어도 일방의 면에, 상기 저탄성 접착제층 (a) 을 형성하는 활성 에너지선 경화형 접착제를 도공하는 도공 공정과, An active energy ray-curable adhesive for forming the low-elastic adhesive layer (a) on at least one surface of the transparent protective film on the side of the polarizing film on which the low-elastic adhesive layer (a) is laminated and the optical film With the coating process to apply,

상기 편광 필름 및 상기 광학 필름을 첩합하는 첩합 공정과, A bonding step of bonding the polarizing film and the optical film, and

상기 활성 에너지선을 조사해, 상기 활성 에너지선 경화형 접착제를 경화시킴으로써 얻어진 저탄성 접착제층 (a) 을 개재하여, 상기 편광 필름 및 상기 광학 필름을 접착시키는 접착 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 적층 편광 필름의 제조 방법에 관한 것이다.A laminated polarizing film comprising a bonding step of adhering the polarizing film and the optical film through the low elastic adhesive layer (a) obtained by irradiating the active energy ray to cure the active energy ray-curable adhesive. It relates to a method of manufacturing.

상기 적층 편광 필름의 제조 방법에 있어서, 상기 활성 에너지선은, 파장 범위 380 ∼ 440 ㎚ 의 적산 조도와 파장 범위 250 ∼ 370 ㎚ 의 적산 조도의 비가 100 : 0 ∼ 100 : 50 인 것이 바람직하다.In the manufacturing method of the laminated polarizing film, the active energy ray preferably has a ratio of the integrated illuminance in the wavelength range of 380 to 440 nm and the integrated illuminance in the wavelength range of 250 to 370 nm in a range of 100:0 to 100:50.

또 본 발명은, 상기 적층 편광 필름이 적어도 1 장 적층되어 있는 것을 특징으로 하는 적층 광학 필름에 관한 것이다.Further, the present invention relates to a laminated optical film, wherein at least one laminated polarizing film is laminated.

또 본 발명은, 상기 적층 편광 필름, 또는 상기 적층 광학 필름이 사용되고 있는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치에 관한 것이다.Further, the present invention relates to an image display device in which the laminated polarizing film or the laminated optical film is used.

본 발명의 적층 편광 필름은, 편광 필름과 편광자 이외의 광학 필름을, 저탄성 접착제층 (a) 에 의해 적층하고 있다. 접착제층은, 필름끼리를 적층해 고착하는 것을 목적으로 하고 있고, 필름끼리를 적층한 후에 재박리가 가능한 것을 전제로 형성되는 점착제층과는 상위하다. 상기 저탄성 접착제층 (a) 은, 편광 필름과 광학 필름을 강고하게 접착하고 있다. 이와 같은 저탄성 접착제층 (a) 은, 박층 (0.1 ∼ 5 ㎛) 의 두께에 있어서도 필름 간의 박리력을 소정 이상으로 유지할 수 있고, 또한 가열 좌굴성을 만족할 수 있다. 또한, 박층 (0.1 ∼ 5 ㎛) 의 점착제층에서는, 박리력을 만족할 수 없다. 점착제층은 두께를 두껍게 함으로써 소정의 박리력이 얻어지지만, 점착제층은 두께가 두꺼워지면, 가열 시험이나 동결 사이클 시험에 의한 편광 필름의 치수 변화에 점착제층이 추종하는 것이 어려워져, 가열 좌굴성을 만족할 수 없다.In the laminated polarizing film of the present invention, a polarizing film and an optical film other than a polarizer are laminated by a low-elastic adhesive layer (a). The adhesive layer is for the purpose of laminating and fixing the films, and is different from the adhesive layer formed on the premise that re-peelability is possible after laminating the films. The low-elastic adhesive layer (a) is firmly bonding a polarizing film and an optical film. Such a low-elastic adhesive layer (a) can maintain the peeling force between films at a predetermined or higher level even in the thickness of a thin layer (0.1 to 5 µm), and can also satisfy heat buckling property. In addition, the peeling force cannot be satisfied in the pressure-sensitive adhesive layer of a thin layer (0.1 to 5 µm). The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is increased to obtain a predetermined peeling force, but when the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is increased, it becomes difficult for the pressure-sensitive adhesive layer to follow the dimensional change of the polarizing film due to a heating test or a freezing cycle test, resulting in heat buckling properties. Can't be satisfied

또, 본 발명의 저탄성 접착제층 (a) 은, 25 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률을 3.0 × 105 ∼ 1.0 × 108 ㎩ 로 제어하고 있으므로, 저탄성 접착제층 (a) 이 박층임에도 불구하고, 적층 편광 필름은 내충격성이 양호하다.In addition, since the low elasticity adhesive layer (a) of the present invention controls the storage elastic modulus at 25°C to 3.0×10 5 to 1.0×10 8 Pa, despite the low elasticity adhesive layer (a) being a thin layer, The laminated polarizing film has good impact resistance.

또 본 발명의 적층 편광 필름은, 편광 필름을 구성하는 편광자의 두께가 1 ∼ 10 ㎛ 인 박형 편광자인 경우에 가열 좌굴성, 내충격성의 점에서 특히 유효하다. 박형 편광자는 상기 치수 변화가 작기 때문에, 투명 보호 필름이나 편광자 이외의 광학 필름에 대한 치수 변화가 상대적으로 커져, 두께가 10 ㎛ 이상인 편광자에 비해 가열 좌굴성이 열등한 경향이 있다. 또, 박형 편광자는, 두께가 10 ㎛ 이상인 편광자에 비해 높은 탄성률을 가지므로, 두께가 10 ㎛ 이상인 편광자에 비해 충격 흡수성이 열등한 경향이 있다. 본 발명의 적층 편광 필름에 의하면, 저탄성 접착제층 (a) 을 가지므로, 박형 편광자를 사용하는 경우에 있어서도, 가열 좌굴성 내충격성을 만족시킬 수 있다.In addition, the laminated polarizing film of the present invention is particularly effective in terms of heat buckling properties and impact resistance in the case of a thin polarizer having a polarizer constituting the polarizing film having a thickness of 1 to 10 µm. Since the dimensional change of the thin polarizer is small, the dimensional change of the transparent protective film or the optical film other than the polarizer is relatively large, and heat buckling property tends to be inferior to the polarizer having a thickness of 10 μm or more. Moreover, since a thin polarizer has a higher elastic modulus than a polarizer having a thickness of 10 µm or more, the impact absorption property tends to be inferior to that of a polarizer having a thickness of 10 µm or more. According to the laminated polarizing film of the present invention, since it has a low-elastic adhesive layer (a), even when a thin polarizer is used, heat buckling resistance impact resistance can be satisfied.

도 1a 는 본 발명의 적층 편광 필름의 일 실시형태를 나타내는 단면도이다.
도 1b 는 본 발명의 적층 편광 필름의 일 실시형태를 나타내는 단면도이다.
도 2 는 본 발명의 적층 편광 필름의 일 실시형태를 나타내는 단면도이다.
도 3 은 본 발명의 적층 편광 필름의 일 실시형태를 나타내는 단면도이다.
도 4 는 본 발명의 적층 편광 필름의 일 실시형태를 나타내는 단면도이다.
1A is a cross-sectional view showing an embodiment of a laminated polarizing film of the present invention.
1B is a cross-sectional view showing an embodiment of the laminated polarizing film of the present invention.
2 is a cross-sectional view showing an embodiment of the laminated polarizing film of the present invention.
3 is a cross-sectional view showing an embodiment of the laminated polarizing film of the present invention.
4 is a cross-sectional view showing an embodiment of the laminated polarizing film of the present invention.

본 발명의 적층 편광 필름의 실시형태에 대해, 도면을 참조하면서 이하에 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION It demonstrates below, referring drawings about the embodiment of the laminated polarizing film of this invention.

도 1 내지 도 4 는, 본 발명의 적층 편광 필름의 일 실시형태를 나타내는 단면도이다. 도 1a 에 나타내는 적층 편광 필름은, 편광자 (1) 의 양면에 접착제층 (b) 을 개재하여 투명 보호 필름 (2) 이 형성되어 있는 편광 필름 (P) 을 갖고, 당해 편광 필름 (P) 의 편측의 투명 보호 필름 (2) 에, 저탄성 접착제층 (a) 을 개재하여 광학 필름 (3) 이 형성되어 있다. 도 1b 에 나타내는 적층 편광 필름은, 편광자 (1) 의 편면에만 접착제층 (b) 을 개재하여 투명 보호 필름 (2) 이 형성되어 있는 편광 필름 (P) 을 갖고, 당해 편광 필름 (P) 에 있어서의 투명 보호 필름 (2) 에, 저탄성 접착제층 (a) 을 개재하여 광학 필름 (3) 이 형성되어 있다. 또한, 도 1a 에서는, 편광 필름 (P) 의 편측의 투명 보호 필름 (2) 에만 저탄성 접착제층 (a) 을 개재하여 광학 필름 (3) 이 형성되어 있지만, 양측의 투명 보호 필름 (2) 에 저탄성 접착제층 (a) 을 개재하여 광학 필름 (3) 을 형성할 수 있다. 도 2 내지 도 4 의 적층 편광 필름은, 도 1a 에 기재된 편광 필름 (P) 을 편광 필름 (P1) 내지 (P3) 의 양태로 사용한 경우를 나타낸다.1 to 4 are cross-sectional views showing one embodiment of the laminated polarizing film of the present invention. The laminated polarizing film shown in FIG. 1A has a polarizing film (P) in which a transparent protective film (2) is formed on both surfaces of a polarizer (1) via an adhesive layer (b), and one side of the polarizing film (P) The optical film 3 is formed through the low-elastic adhesive layer (a) in the transparent protective film 2 of. The laminated polarizing film shown in FIG. 1B has a polarizing film (P) in which a transparent protective film (2) is formed only on one side of the polarizer (1) through an adhesive layer (b), and in the polarizing film (P) The optical film 3 is formed through the low-elastic adhesive layer (a) in the transparent protective film 2 of. In addition, in FIG. 1A, the optical film 3 is formed only in the transparent protective film 2 on one side of the polarizing film P through the low-elastic adhesive layer (a), but in the transparent protective film 2 on both sides. The optical film 3 can be formed through the low elastic adhesive layer (a). The laminated polarizing film of FIGS. 2 to 4 shows a case where the polarizing film (P) described in FIG. 1A is used in an aspect of the polarizing films (P1) to (P3).

상기 저탄성 접착제층 (a) 은, 25 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률이 3.0 × 105 ∼ 1.0 × 108 ㎩ 이다. 상기 저탄성 접착제층 (a) 의 25 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률을 상기 범위로 제어함으로써, 내충격성 및 가열 좌굴성이 양호한 적층 편광 필름이 얻어진다. 25 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률이 3.0 × 105 ㎩ 보다 낮은 경우에는, 저탄성 접착제층 (a) 의 충분한 응집력이 얻어지지 않아 접착성이 저하하기 때문에 바람직하지 않다. 한편, 25 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률이 1.0 × 108 ㎩ 보다 높은 경우에는, 충격 흡수성이 열등하므로 내충격성의 점에서 바람직하지 않다. 25 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률은 1.0 × 106 ∼ 1.0 × 107 ㎩ 인 것이 바람직하다.The low-elastic adhesive layer (a) has a storage elastic modulus at 25°C of 3.0×10 5 to 1.0×10 8 Pa. By controlling the storage elastic modulus at 25°C of the low elastic adhesive layer (a) within the above range, a laminated polarizing film having good impact resistance and heat buckling property can be obtained. When the storage elastic modulus at 25°C is lower than 3.0×10 5 Pa, sufficient cohesive strength of the low elastic adhesive layer (a) is not obtained, and the adhesiveness is lowered, which is not preferable. On the other hand, when the storage elastic modulus at 25°C is higher than 1.0×10 8 Pa, the shock absorption property is inferior, and thus it is not preferable from the viewpoint of impact resistance. The storage elastic modulus at 25°C is preferably 1.0×10 6 to 1.0×10 7 Pa.

또, 상기 저탄성 접착제층 (a) 은, 85 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률이 3.0 × 105 ∼ 1.0 × 108 ㎩ 인 것이 바람직하다. 상기 저탄성 접착제층 (a) 의 85 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률을 상기 범위로 제어함으로써, 가열 내구성을 만족시키는 데에 바람직하다. 특히, 85 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률을 3.0 × 105 ㎩ 보다 높아지도록 함으로써, 편광 필름이나 광학 필름의 잔존 수분이 가스화하는 증기압에서 기인하는 발포나 벗겨짐의 발생을 억제하는 데에 바람직하다. 또, 85 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률을 1.0 × 108 ㎩ 보다 낮아지도록 함으로써 편광 필름이나 광학 필름의 치수 변화에 접착제층을 추종시켜 벗겨짐의 발생을 억제하는 데에 바람직하다. 85 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률은 1.0 × 106 ∼ 1.0 × 107 ㎩ 인 것이 바람직하다.Further, the low elasticity adhesive layer (a) preferably has a storage elastic modulus at 85°C of 3.0×10 5 to 1.0×10 8 Pa. It is preferable to satisfy the heating durability by controlling the storage modulus at 85°C of the low elastic adhesive layer (a) within the above range. In particular, by making the storage modulus at 85°C higher than 3.0×10 5 Pa, it is preferable to suppress the occurrence of foaming or peeling caused by vapor pressure at which the residual moisture of the polarizing film or the optical film gasifies. Moreover, by making the storage modulus at 85 degreeC lower than 1.0 × 10 8 Pa, it is preferable to follow the adhesive layer to the dimensional change of a polarizing film and an optical film, and suppress the occurrence of peeling. The storage modulus at 85°C is preferably 1.0×10 6 to 1.0×10 7 Pa.

상기 저탄성 접착제층 (a) 의 두께는 0.1 ∼ 5 ㎛ 이다. 상기 저탄성 접착제층 (a) 은 박층의 형성이 가능하고, 박층임에도 불구하고 상기 저장 탄성률을 만족할 수 있으며, 가열 좌굴성이 양호한 적층 편광 필름이 얻어진다. 두께가 0.1 ㎛ 미만인 경우에는, 저탄성 접착제층 (a) 의 응집력이 충분히 얻어지지 않아 접착력이 저하하기 때문에 바람직하지 않다. 한편, 두께가 5 ㎛ 를 초과하는 경우에는, 가열 좌굴성이 악화되기 때문에 바람직하지 않다. 상기 저탄성 접착제층 (a) 의 두께는 박층의 관점에서 0.4 ∼ 3 ㎛ 가 바람직하고, 나아가서는 0.7 ∼ 2 ㎛ 가 바람직하다.The thickness of the low-elastic adhesive layer (a) is 0.1 to 5 µm. The low-elastic adhesive layer (a) is capable of forming a thin layer, can satisfy the storage modulus in spite of being a thin layer, and obtain a laminated polarizing film having good heat buckling property. When the thickness is less than 0.1 µm, the cohesive force of the low-elastic adhesive layer (a) is not sufficiently obtained, and the adhesion is lowered, which is not preferable. On the other hand, when the thickness exceeds 5 µm, heat buckling property deteriorates, which is not preferable. The thickness of the low-elastic adhesive layer (a) is preferably 0.4 to 3 µm, and further preferably 0.7 to 2 µm from the viewpoint of a thin layer.

한편, 편광 필름 (P) 또는 (P') 에 있어서, 편광자 (1) 와 투명 보호 필름 (2) 을 적층하는 접착제층 (b) 의 두께는, 통상 접착성의 관점에서 0.1 ∼ 25 ㎛ 이다.On the other hand, in the polarizing film (P) or (P'), the thickness of the adhesive layer (b) which laminates the polarizer 1 and the transparent protective film 2 is usually 0.1 to 25 µm from the viewpoint of adhesiveness.

도 2 의 적층 편광 필름에 있어서의 편광 필름 (P1) 은, 편광자 (1) 의 양면의 접착제층 (b) 으로서 모두 접착제층 (b1) 을 사용한 경우이다. 접착제층 (b1) 은, 85 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률이 1.0 × 106 ∼ 1.0 × 1010 ㎩ 이고, 또한 두께가 0.03 ∼ 3 ㎛ 를 만족하는 것을 사용할 수 있다. 접착제층 (b1) 의 저장 탄성률, 두께를 상기 범위로 제어하는 것은, 히트 쇼크 사이클 시험 시의 편광자 크랙을 억제할 수 있는 점에서 바람직하다. 상기 접착제층 (b1) 은, 85 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률이 1.0 × 107 ∼ 5.0 × 109 ㎩ 인 것이 바람직하고, 나아가서는 1.0 × 108 ∼ 1.0 × 109 ㎩ 인 것이 바람직하다. 또, 상기 접착제층 (b1) 의 두께는 박층의 관점에서 0.04 ∼ 2 ㎛ 가 바람직하고, 나아가서는 0.05 ∼ 1.5 ㎛ 가 바람직하다.The polarizing film (P1) in the laminated polarizing film of FIG. 2 is a case where the adhesive layer (b1) is used as both the adhesive layers (b) on both sides of the polarizer (1). The adhesive layer (b1) can be used having a storage elastic modulus at 85°C of 1.0×10 6 to 1.0×10 10 Pa and a thickness satisfying 0.03 to 3 μm. It is preferable to control the storage modulus and thickness of the adhesive layer (b1) within the above ranges from the viewpoint of suppressing polarizer cracks during the heat shock cycle test. The adhesive layer (b1) preferably has a storage elastic modulus at 85° C. of 1.0×10 7 to 5.0×10 9 Pa, and further preferably 1.0×10 8 to 1.0×10 9 Pa. Further, the thickness of the adhesive layer (b1) is preferably 0.04 to 2 µm, and further preferably 0.05 to 1.5 µm from the viewpoint of a thin layer.

또, 상기 접착제층 (b1) 은, 25 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률이 5.0 × 107 ∼ 1.0 × 1010 ㎩, 1.0 × 108 ∼ 7.0 × 109 ㎩ 인 것이 바람직하고, 나아가서는 5.0 × 108 ∼ 5.0 × 109 ㎩ 인 것이 바람직하다.In addition, the adhesive layer (b1) preferably has a storage elastic modulus at 25°C of 5.0×10 7 to 1.0×10 10 Pa, 1.0×10 8 to 7.0×10 9 Pa, and further 5.0×10 8 It is preferably -5.0 × 10 9 Pa.

도 3, 도 4 의 적층 편광 필름에 있어서의 편광 필름 (P2), (P3) 은, 편광자 (1) 의 편면의 접착제층 (b) 으로서 접착제층 (b1) 을, 다른 편면의 상기 접착제층 (b) 으로서 접착제층 (b2) 을 사용한 경우이다. 도 3 에서는, 상기 저탄성 접착제층 (a) 이 적층되는 측의 투명 보호 필름 (2) 을 적층하는 접착제층 (b) 으로서 접착제층 (b1) 을, 도 4 에서는, 상기 저탄성 접착제층 (a) 이 적층되는 측의 투명 보호 필름 (2) 을 적층하는 접착제층 (b) 으로서 접착제층 (b2) 이 사용되고 있다.The polarizing films (P2) and (P3) in the laminated polarizing films of FIGS. 3 and 4 have an adhesive layer (b1) as an adhesive layer (b) on one side of the polarizer 1, and the adhesive layer ( This is the case where the adhesive layer (b2) is used as b). In FIG. 3, an adhesive layer (b1) is used as the adhesive layer (b) for laminating the transparent protective film 2 on the side on which the low elasticity adhesive layer (a) is laminated, and in FIG. 4, the low elasticity adhesive layer (a) The adhesive layer (b2) is used as the adhesive layer (b) for laminating the transparent protective film 2 on the side to which) is laminated.

도 3, 도 4 의 접착제층 (b1) 에 대해서도, 도 2 의 접착제층 (b1) 과 마찬가지로 85 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률이 1.0 × 106 ∼ 1.0 × 1010 ㎩ 이고, 또한 두께가 0.03 ∼ 3 ㎛ 를 만족하는 것을 사용할 수 있다. 또, 상기 접착제층 (b1) 은, 25 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률이 5.0 × 107 ∼ 1.0 × 1010 ㎩ 인 것이 바람직하다. 상기 접착제층 (b1) 의 저장 탄성률, 두께의 바람직한 범위는 도 2 기재의 설명과 동일하다.Also in the adhesive layer (b1) of FIG. 3 and FIG. 4, the storage elastic modulus at 85°C is 1.0 × 10 6 to 1.0 × 10 10 Pa, and the thickness is 0.03 to 3, similarly to the adhesive layer (b1) of FIG. What satisfies ㎛ can be used. In addition, the adhesive layer (b1) preferably has a storage elastic modulus at 25 ℃ of 5.0 × 10 7 ~ 1.0 × 10 10 ㎩. The preferred ranges of the storage modulus and thickness of the adhesive layer (b1) are the same as those described in FIG. 2.

도 3, 도 4 의 접착제층 (b2) 은, 85 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률 1.0 × 104 ∼ 1.0 × 108 ㎩ 이고, 두께가 0.1 ∼ 25 ㎛ 를 만족하는 것을 사용할 수 있다. 상기 접착제층 (b2) 은, 85 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률이 5.0 × 104 ∼ 5.0 × 107 ㎩ 인 것이 바람직하고, 나아가서는 3.0 × 105 ∼ 1.0 × 107 ㎩ 인 것이 바람직하다. 상기 접착제층 (b2) 의 두께는 0.5 ∼ 15 ㎛ 가 바람직하고, 나아가서는 0.8 ∼ 5 ㎛ 가 바람직하다.3, the adhesive layer (b2) of Figure 4, the storage modulus 1.0 × 10 4 ~ 1.0 × 10 8 ㎩ in 85 ℃, can be used to meet the thickness of 0.1 ~ 25 ㎛. The adhesive layer (b2) preferably has a storage elastic modulus at 85°C of 5.0×10 4 to 5.0×10 7 Pa, and more preferably 3.0×10 5 to 1.0×10 7 Pa. The thickness of the adhesive layer (b2) is preferably 0.5 to 15 µm, and further preferably 0.8 to 5 µm.

또, 상기 접착제층 (b2) 은, 25 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률이 1.0 × 104 ∼ 1.0 × 108 ㎩, 5.0 × 104 ∼ 7.0 × 107 ㎩ 인 것이 바람직하고, 나아가서는 1.0 × 105 ∼ 1.0 × 107 ㎩ 인 것이 바람직하다.Further, the adhesive layer (b2) preferably has a storage elastic modulus at 25°C of 1.0 × 10 4 to 1.0 × 10 8 Pa, 5.0 × 10 4 to 7.0 × 10 7 Pa, and furthermore 1.0 × 10 5 It is preferably-1.0 × 10 7 Pa.

상기 접착제층 (b1), (b2) 의 저장 탄성률, 두께를 상기 범위로 제어하는 것은 히트 쇼크 사이클 시험 시의 편광자 크랙을 억제할 수 있는 점, 내충격성을 보다 만족하는 점에서 바람직하다.Controlling the storage elastic modulus and thickness of the adhesive layers (b1) and (b2) within the above ranges is preferable in that it is possible to suppress a polarizer crack during a heat shock cycle test, and that impact resistance is more satisfied.

또한, 도 1b 의 적층 편광 필름에 있어서의 편광 필름 (P) 에서는, 편광자 (1) 의 편면에만 접착제층 (b) 을 개재하여 투명 보호 필름 (2) 이 형성되어 있다. 도 1b 의 편광 필름 (P) 에 있어서의 접착제층 (b) 으로는, 당해 편광 필름 (P) 을 가열 시험이나 동결 사이클 시험에 제공한 경우에 편광자 (1) 의 신축을 억제하고, 또 크닉 등의 발생을 억제하는 관점에서, 고탄성률을 갖는 상기 접착제층 (b1) 을 사용하는 것이 바람직하다.In addition, in the polarizing film P in the laminated polarizing film of FIG. 1B, the transparent protective film 2 is formed only on one side of the polarizer 1 via the adhesive layer (b). As the adhesive layer (b) in the polarizing film (P) of FIG. 1B, when the polarizing film (P) is provided for a heating test or a freezing cycle test, the expansion and contraction of the polarizer 1 is suppressed, and further, knick, etc. From the viewpoint of suppressing the occurrence of, it is preferable to use the adhesive layer (b1) having a high modulus of elasticity.

<저탄성 접착제층 (a)><Low elasticity adhesive layer (a)>

저탄성 접착제층 (a) 은, 저탄성 접착제의 경화에 의한 고체화에 의해 형성되는 경화물층이다. 저탄성 접착제에는, 25 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률이 3.0 × 105 ∼ 1.0 × 108 ㎩ 인 경화물층을 형성할 수 있는 액상의 조성물이 사용된다. 상기 저탄성 접착제는, 두 개의 피착체의 면과 면을 첩합하여 일체화하기 위해서 사용된다. 두 개의 피착체의 첩합을 실시하는 경우에는, 두 개의 피착체의 일방 또는 양방에 상기 조성물을 도포한 후에, 첩합을 실시하고, 그 후 에너지를 가함으로써 상기 조성물을 경화시켜, 고체화한 저탄성 접착제층 (a) 이 형성된다.The low-elastic adhesive layer (a) is a cured product layer formed by solidification by curing a low-elastic adhesive. As the low-elastic adhesive, a liquid composition capable of forming a cured product layer having a storage elastic modulus at 25°C of 3.0 × 10 5 to 1.0 × 10 8 Pa is used. The low-elastic adhesive is used to bond and integrate the two adherends. In the case of bonding of two adherends, after applying the composition to one or both of the two adherends, bonding is performed, and thereafter, by applying energy, the composition is cured and solidified. Layer (a) is formed.

저탄성 접착제층 (a) 은, 상기와 같이 25 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률이 3.0 × 105 ∼ 1.0 × 108 ㎩ 이고, 당해 저탄성 접착제층 (a) 의 형성에는, 상기 저장 탄성률을 만족할 수 있는 접착제가 사용된다. 상기 저탄성 접착제층 (a) 은 광학적으로 투명하면 특별히 제한되지 않고 수계, 용제계, 핫멜트계, 활성 에너지선 경화형의 각종 형태의 것이 사용된다.The low-elastic adhesive layer (a) has a storage elastic modulus at 25° C. as described above and has a storage elastic modulus of 3.0 × 10 5 to 1.0 × 10 8 Pa, and can satisfy the storage elastic modulus in formation of the low-elastic adhesive layer (a). Adhesive is used. The low-elastic adhesive layer (a) is not particularly limited as long as it is optically transparent, and various types of water-based, solvent-based, hot-melt-based, and active energy ray-curable ones are used.

상기 저탄성 접착제층 (a) 은, 예를 들어 활성 에너지선 경화형 접착제에 활성 에너지선을 조사해 얻어지는 경화물층으로서 형성하는 것이 바람직하다. 상기 활성 에너지선 경화형 접착제는, 전자선 경화형, 자외선 경화형 접착제를 사용할 수 있다. 자외선 경화형 접착제로는, 크게 라디칼 중합 경화형 접착제와 카티온 중합형 접착제로 구분할 수 있다.It is preferable to form the said low elastic adhesive layer (a) as a hardened|cured material layer obtained by irradiating an active energy ray-curable adhesive with an active energy ray, for example. As the active energy ray-curable adhesive, an electron beam-curable or ultraviolet-curable adhesive may be used. As ultraviolet curable adhesives, radical polymerization curable adhesives and cationic polymerization adhesives can be broadly classified.

라디칼 중합 경화형 접착제의 경화성 성분으로는, (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물, 비닐기를 갖는 라디칼 중합성 화합물을 들 수 있다. 이들 경화성 성분은, 단관능 또는 2 관능 이상의 다관능의 어느 것이라도 사용할 수 있다. 또 이들 경화성 성분은, 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이들 경화성 성분으로는, 예를 들어 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물이 바람직하다.Examples of the curable component of the radical polymerization curable adhesive include a compound having a (meth)acryloyl group and a radical polymerizable compound having a vinyl group. Any of monofunctional or bifunctional or more polyfunctional can be used as these curable components. Moreover, these curable components can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. As these curable components, a compound having a (meth)acryloyl group is preferable, for example.

카티온 중합 경화형 접착제의 경화성 성분으로는, 에폭시기, 옥세타닐기, 또는 비닐기를 갖는 화합물을 들 수 있다. 에폭시기를 갖는 화합물은, 분자 내에 적어도 1 개의 에폭시기를 갖는 것이면 특별히 한정되지 않고, 일반적으로 알려져 있는 각종 경화성 에폭시 화합물을 사용할 수 있다. 바람직한 에폭시 화합물로서, 분자 내에 적어도 2 개의 에폭시기와 적어도 1 개의 방향 고리를 갖는 화합물 (이하, 「방향족계 에폭시 화합물」이라고 부른다) 이나, 분자 내에 적어도 2 개의 에폭시기를 갖고, 그 중 적어도 1 개는 지환식 고리를 구성하는 이웃하는 2 개의 탄소 원자와의 사이에 형성되어 있는 화합물 등을 예로서 들 수 있다.Examples of the curable component of the cation polymerization curable adhesive include an epoxy group, an oxetanyl group, or a compound having a vinyl group. The compound having an epoxy group is not particularly limited as long as it has at least one epoxy group in the molecule, and various generally known curable epoxy compounds can be used. As a preferred epoxy compound, a compound having at least two epoxy groups in the molecule and at least one aromatic ring (hereinafter referred to as ``aromatic epoxy compound'') or at least two epoxy groups in the molecule, at least one of which is an alicyclic Examples thereof include compounds formed between adjacent two carbon atoms constituting the formula ring.

상기 활성 에너지선 경화형 접착제는, 실질적으로 유기 용제를 함유하지 않고, 또한 점도 1 ∼ 100 cp/25 ℃ 의 액상물이 사용된다. 이러한 액상물을 사용함으로써, 두께가 0.1 ∼ 5 ㎛ 인 박층의 저탄성 접착제층 (a) 을 형성할 수 있다. 저탄성 접착제층 (a) 의 형성에 상기 액상물의 접착제가 사용되는 점은, 점착제층의 형성에 사용하는 점착제가 액상물을 나타내지 않는 점과 상위하고, 이 점으로부터도 접착제층과 점착제층의 상위는 분명하다. 상기 점도는 5 ∼ 100 cp/25 ℃ 가 바람직하고, 나아가서는 10 ∼ 70 cp/25 ℃ 가 바람직하다. 상기 「실질적으로 유기 용제를 함유하지 않고」란, 활성 에너지선 경화형 접착제가, 활성 에너지선 경화형 접착제의 전체량에 대해 유기 용제를 10 중량% 이하의 범위로 함유할 수 있는 것을 의미한다. 또한, 유기 용제의 함유량은 5 중량% 이하가 바람직하고, 나아가서는 3 중량% 이하가 바람직하다. 여기서 유기 용제란 인화점 40 ℃ 이하의 액체이다. 활성 에너지선 경화형 접착제는, 유기 용제를 함유하지 않아도 된다.The active energy ray-curable adhesive contains substantially no organic solvent, and a liquid substance having a viscosity of 1 to 100 cp/25°C is used. By using such a liquid substance, it is possible to form a thin-layer low-elastic adhesive layer (a) having a thickness of 0.1 to 5 µm. The point that the liquid adhesive is used in the formation of the low elastic adhesive layer (a) differs from that the adhesive used for forming the adhesive layer does not exhibit a liquid substance, and from this point also the difference between the adhesive layer and the adhesive layer. Is clear. The viscosity is preferably 5 to 100 cp/25°C, and more preferably 10 to 70 cp/25°C. The "substantially free from organic solvent" means that the active energy ray-curable adhesive can contain an organic solvent in a range of 10% by weight or less with respect to the total amount of the active energy ray-curable adhesive. In addition, the content of the organic solvent is preferably 5% by weight or less, and more preferably 3% by weight or less. Here, the organic solvent is a liquid with a flash point of 40°C or less. The active energy ray-curable adhesive does not need to contain an organic solvent.

상기 활성 에너지선 경화형 접착제로는, 경화성 성분으로서 라디칼 중합성 화합물을 함유하는 것을 사용하는 것이 바람직하다. 상기 라디칼 중합성 화합물로는, 단관능 라디칼 중합성 화합물과 다관능 라디칼 중합성 화합물 (A) 의 어느 것이라도 사용할 수 있다. 당해 활성 에너지선 경화형 접착제는, 라디칼 중합성 화합물의 전체량을 100 중량% 로 했을 때, 다관능 라디칼 중합성 화합물 (A) 를 5 중량% 를 초과하고 50 중량% 이하의 비율로 함유하는 것이 바람직하다. 당해 활성 에너지선 경화형 접착제는, 저탄성 접착제층 (a) 이 상기 저장 탄성률을 만족하는 범위에 있어서, 다른 라디칼 중합성 화합물을 함유할 수 있다.As the active energy ray-curable adhesive, it is preferable to use one containing a radical polymerizable compound as a curable component. As the radical polymerizable compound, any of a monofunctional radical polymerizable compound and a polyfunctional radical polymerizable compound (A) can be used. When the total amount of the radical polymerizable compound is 100% by weight, the active energy ray-curable adhesive preferably contains a polyfunctional radical polymerizable compound (A) in a proportion of more than 5% by weight and 50% by weight or less. Do. The active energy ray-curable adhesive may contain another radically polymerizable compound in a range in which the low elastic adhesive layer (a) satisfies the above storage modulus.

<다관능 라디칼 중합성 화합물 (A)><Multifunctional radical polymerizable compound (A)>

다관능 라디칼 중합성 화합물 (A) 는, (메트)아크릴로일기 또는 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 갖는 라디칼 중합성의 관능기를 적어도 2 개 갖는 화합물이다. 다관능 라디칼 중합성 화합물 (A) 로는, 예를 들어 테트라에틸렌글루콜디아크릴레이트 (호모폴리머의 Tg : 50 ℃, 이하 Tg 라고만 기재한다), 폴리에틸렌글루콜디아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디아크릴레이트 (n = 3, Tg 69 ℃), (n = 7, Tg : -8 ℃), (n = 12, Tg : -32 ℃) 등의 폴리알킬렌글리콜계 디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트 (Tg : 117 ℃), 3-메틸-1,5-펜탄디올디아크릴레이트 (Tg : 105 ℃), 1,6-헥산디올디아크릴레이트 (Tg : 63 ℃), 1,9-노난디올디아크릴레이트 (Tg : 68 ℃), 2-메틸-1,8-옥탄디올디아크릴레이트와 1,9-노난디올디아크릴레이트 혼합물 (Tg : 88 ℃), 디메틸올-트리시클로데칸디아크릴레이트 (Tg : 75 ℃), 비스페놀 A 의 EO 부가물 디아크릴레이트 (Tg : 75 ℃), 비스페놀 F EO 변성 (n = 2) 디아크릴레이트 (Tg : 75 ℃), 비스페놀 A EO 변성 (n = 2) 디아크릴레이트 (Tg : 75 ℃), 이소시아누르산 EO 변성 디아크릴레이트 (Tg : 166 ℃), 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 (Tg : 250 ℃ 이상), 트리메틸올프로판 PO 변성 트리아크릴레이트 (n = 1, Tg : 120 ℃), (n = 2, Tg : 50 ℃), 트리메틸올프로판 EO 변성 트리아크릴레이트 (n = 1, Tg 미측정), (n = 2, Tg : 53 ℃), 이소시아누르산 EO 변성 디 및 트리아크릴레이트 (디 : 30 - 40 %, Tg : 250 ℃ 이상), (디 : 3 - 13 %, Tg : 250 ℃ 이상), 펜타에리트리톨트리 및 테트라아크릴레이트 (트리 : 65 - 70 %, Tg : 250 ℃ 이상), (트리 : 55 - 63 %, Tg : 250 ℃ 이상), (트리 : 40 - 60 %, Tg : 250 ℃ 이상), (트리 : 25 - 40 %, Tg : 250 ℃ 이상), (트리 : 10 % 미만, Tg : 250 ℃ 이상), 디트리메틸올프로판테트라아크릴레이트 (Tg : 250 ℃ 이상), 디펜타에리트리톨펜타 및 헥사아크릴레이트 (펜타 : 50 - 60 %, Tg : 250 ℃ 이상), (펜타 : 40 - 50 %, Tg : 250 ℃ 이상), (펜타 : 30 - 40 %, Tg : 250 ℃ 이상), (펜타 : 25 - 35 %, Tg : 250 ℃ 이상), (펜타 : 10 - 20 %, Tg : 250 ℃ 이상), 및 이들에 대응하는 (메트)아크릴레이트를 들 수 있다. 그 외 각종 폴리우레탄(메트)아크릴레이트나 폴리에스테르(메트)아크릴레이트, 폴리에폭시(메트)아크릴레이트 등의 올리고머(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 또한, 다관능 라디칼 중합성 화합물 (A) 로는 시판품도 바람직하게 사용할 수 있고, 예를 들어 라이트 아크릴레이트 4EG-A, 라이트 아크릴레이트 9EG-A, 라이트 아크릴레이트 NP-A, 라이트 아크릴레이트 MPD-A, 라이트 아크릴레이트 1.6HX-A, 라이트 아크릴레이트 1.9ND-A, 라이트 아크릴레이트 MOD-A, 라이트 아크릴레이트 DCP-A, 라이트 아크릴레이트 BP-4EAL 이상 (쿄에이샤 화학사 제조), 아로닉스 M-208, M-211B, M-215, M-220, M-225, M-270, M-240, M-309, M-310, M-321, M-350, M-360, M-313, M-315, M-306, M-305, M-303, M-452, M-450, M-408, M-403, M-400, M-402, M-404, M-406, M-405, M-1100, M-1200, M-6100, M-6200, M-6250, M-6500, M-7100, M-7300, M-8030, M-8060, M-8100, M-8530, M-8560, M-9050 (동아 합성사 제조), SR-531 (SARTOMER 사 제조), CD-536 (SARTOMER 사 제조) 등을 들 수 있다. 다관능 라디칼 중합성 화합물 (A) 는, 호모폴리머의 Tg 가 -40 ∼ 100 ℃ 를 만족하는 것이 바람직하다.The polyfunctional radically polymerizable compound (A) is a compound having at least two radically polymerizable functional groups having an unsaturated double bond such as a (meth)acryloyl group or a vinyl group. Examples of the polyfunctional radical polymerizable compound (A) include tetraethylene glycol diacrylate (Tg of homopolymer: 50°C, hereinafter only described as Tg), polyethylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate (n = 3, Tg 69 ℃), (n = 7, Tg: -8 ℃), (n = 12, Tg: -32 ℃) polyalkylene glycol-based diacrylate, neopentyl glycol diacrylate (Tg : 117 ℃), 3-methyl-1,5-pentanediol diacrylate (Tg: 105 ℃), 1,6-hexanediol diacrylate (Tg: 63 ℃), 1,9-nonanediol diacrylate (Tg: 68 ℃), 2-methyl-1,8-octanediol diacrylate and 1,9-nonanediol diacrylate mixture (Tg: 88 ℃), dimethylol-tricyclodecane diacrylate (Tg: 75 ℃), bisphenol A EO adduct diacrylate (Tg: 75 ℃), bisphenol F EO modified (n = 2) diacrylate (Tg: 75 ℃), bisphenol A EO modified (n = 2) diacrylic Rate (Tg: 75°C), isocyanuric acid EO-modified diacrylate (Tg: 166°C), trimethylolpropane triacrylate (Tg: 250°C or higher), trimethylolpropane PO-modified triacrylate (n = 1 , Tg: 120 ℃), (n = 2, Tg: 50 ℃), trimethylolpropane EO modified triacrylate (n = 1, Tg not measured), (n = 2, Tg: 53 ℃), isocyanur Acid EO-modified di and triacrylate (di: 30-40%, Tg: 250°C or higher), (di: 3-13%, Tg: 250°C or higher), pentaerythritol tri and tetraacrylate (tri: 65 -70%, Tg: 250℃ or more), (Tree: 55-63%, Tg: 250℃ or more), (Tree: 40-60%, Tg: 250℃ or more), (Tree: 25-40%, Tg : 250°C or more), (Tree: less than 10%, Tg: 250°C or more), Ditrimethylolpropanetetraacrylate (Tg: 250 ℃ or higher), dipentaerythritol penta and hexaacrylate (penta: 50-60%, Tg: 250 ℃ or higher), (penta: 40-50%, Tg: 250 ℃ or higher), (penta: 30-40%, Tg: 250 ℃ or higher), (penta: 25-35%, Tg: 250 ℃ or higher), (penta: 10-20%, Tg: 250 ℃ or higher), and (Meth)acrylates corresponding to these are mentioned. In addition, oligomer (meth)acrylates, such as various polyurethane (meth)acrylate, polyester (meth)acrylate, and polyepoxy (meth)acrylate, etc. are mentioned. In addition, as the polyfunctional radical polymerizable compound (A), a commercial item can also be preferably used, for example, light acrylate 4EG-A, light acrylate 9EG-A, light acrylate NP-A, light acrylate MPD-A , Light acrylate 1.6HX-A, light acrylate 1.9ND-A, light acrylate MOD-A, light acrylate DCP-A, light acrylate BP-4EAL or higher (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Aaronics M- 208, M-211B, M-215, M-220, M-225, M-270, M-240, M-309, M-310, M-321, M-350, M-360, M-313, M-315, M-306, M-305, M-303, M-452, M-450, M-408, M-403, M-400, M-402, M-404, M-406, M- 405, M-1100, M-1200, M-6100, M-6200, M-6250, M-6500, M-7100, M-7300, M-8030, M-8060, M-8100, M-8530, M-8560, M-9050 (manufactured by Dong-A Synthetic Corporation), SR-531 (manufactured by SARTOMER), CD-536 (manufactured by SARTOMER), and the like. As for the polyfunctional radical polymerizable compound (A), it is preferable that Tg of a homopolymer satisfies -40-100 degreeC.

다관능 라디칼 중합성 화합물 (A) 로는 가교점간 거리가 긴 것이 보다 바람직하다. 가교점간 거리를 길게 함으로써 저탄성 접착제층 (a) 의 벌크 변형량이 커져, 내충격성이 특히 우수한 적층 편광 필름을 얻을 수 있다. 가교점간 거리가 긴 다관능 라디칼 중합성 화합물 (A) 로는, (메트)아크릴로일기를 2 개 갖는 2 관능 (메트)아크릴레이트가 바람직하다. 2 관능 (메트)아크릴레이트의 중량 평균 분자량은 200 ∼ 4000 인 것이 바람직하고, 400 ∼ 2000 인 것이 보다 바람직하며, 500 ∼ 1000 인 것이 가장 바람직하다. 중량 평균 분자량이 지나치게 큰 경우, 활성 에너지선 경화형 접착제의 점도가 높아지고, 도포 두께가 불균일해져 외관의 불량이 생기거나, 첩합 공정에서 기포가 들어가 외관의 불량이 생기거나 하는 경향이 있다. 상기 관점에서, 2 관능 (메트)아크릴레이트는 리니어 구조인 것이 바람직하다. 또한, (메트)아크릴로일기를 3 개 이상 갖는 3 관능 (메트)아크릴레이트는, 2 관능 (메트)아크릴레이트에 비해 가교점간 거리가 짧아진다. 본 발명의 효과 (내충격성) 관점에서는, 2 관능 (메트)아크릴레이트가 바람직하다.As the polyfunctional radical polymerizable compound (A), it is more preferable that the distance between crosslinking points is long. By increasing the distance between crosslinking points, the amount of bulk deformation of the low-elastic adhesive layer (a) increases, and a laminated polarizing film having particularly excellent impact resistance can be obtained. As the polyfunctional radical polymerizable compound (A) having a long distance between crosslinking points, a bifunctional (meth)acrylate having two (meth)acryloyl groups is preferable. The weight average molecular weight of the bifunctional (meth)acrylate is preferably from 200 to 4000, more preferably from 400 to 2000, and most preferably from 500 to 1000. When the weight average molecular weight is too large, the viscosity of the active energy ray-curable adhesive increases, the coating thickness becomes non-uniform, resulting in poor appearance, or there is a tendency that bubbles enter in the bonding step to cause poor appearance. From the above viewpoint, it is preferable that the bifunctional (meth)acrylate has a linear structure. In addition, a trifunctional (meth)acrylate having three or more (meth)acryloyl groups has a shorter distance between crosslinking points than a bifunctional (meth)acrylate. From the viewpoint of the effect (impact resistance) of the present invention, a bifunctional (meth)acrylate is preferable.

상기 중량 평균 분자량이 200 ∼ 4000 인 2 관능 (메트)아크릴레이트로는, 예를 들어 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 폴리알킬렌글리콜계 디(메트)아크릴레이트, 폴리에스테르(메트)아크릴레이트, 폴리우레탄(메트)아크릴레이트, 폴리에폭시(메트)아크릴레이트 등의 올리고머(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the difunctional (meth)acrylate having a weight average molecular weight of 200 to 4000 include polyalkylene glycol di(meth)acrylates such as polyethylene glycol di(meth)acrylate and polypropylene glycol di(meth)acrylate. ) Oligomer (meth)acrylates, such as acrylate, polyester (meth)acrylate, polyurethane (meth)acrylate, and polyepoxy (meth)acrylate, etc. are mentioned.

다관능 라디칼 중합성 화합물 (A) 의 비율은, 활성 에너지선 경화형 접착제 중의 라디칼 중합성 화합물의 전체량을 100 중량% 로 했을 때, 1 ∼ 65 중량% 인 것이 바람직하다. 상기 비율을 1 중량% 이상으로 하는 것은, 저탄성 접착제층 (a) 의 내충격성, 가열 좌굴성, 편광자 크랙을 만족하는 데에 바람직하다.The ratio of the polyfunctional radically polymerizable compound (A) is preferably 1 to 65% by weight when the total amount of the radically polymerizable compound in the active energy ray-curable adhesive is 100% by weight. It is preferable to set the said ratio to 1 weight% or more in order to satisfy|fill the impact resistance, heat buckling property, and polarizer crack of the low elastic adhesive layer (a).

상기 다관능 라디칼 중합성 화합물 (A) 로는, 전부 또는 일부로서 상기 중량 평균 분자량이 200 ∼ 4000 인 2 관능 (메트)아크릴레이트를 사용할 수 있다. 상기 중량 평균 분자량이 200 ∼ 4000 인 2 관능 (메트)아크릴레이트의 비율은, 활성 에너지선 경화형 접착제 중의 라디칼 중합성 화합물의 전체량을 100 중량% 로 했을 때, 1 ∼ 65 중량% 인 것이 바람직하고, 2 ∼ 50 중량% 인 것이 보다 바람직하며, 3 ∼ 20 중량% 인 것이 가장 바람직하다. 상기 비율이 많은 경우, 저탄성 접착제층 (a) 의 벌크 변형량이 작아져, 박리력이 작아지거나, 내충격성이 저하하거나 하는 경향이 있다.As the polyfunctional radical polymerizable compound (A), all or part of the bifunctional (meth)acrylate having the weight average molecular weight of 200 to 4000 can be used. The ratio of the bifunctional (meth)acrylate having a weight average molecular weight of 200 to 4000 is preferably 1 to 65% by weight, when the total amount of the radical polymerizable compound in the active energy ray-curable adhesive is 100% by weight, It is more preferable that it is 2-50 weight%, and it is most preferable that it is 3-20 weight%. When the above ratio is large, the amount of bulk deformation of the low-elastic adhesive layer (a) becomes small, the peeling force decreases, and the impact resistance tends to decrease.

<탄소수 2 ∼ 18 의 알킬기를 갖는 알킬(메트)아크릴레이트 (B)><Alkyl (meth)acrylate (B) having an alkyl group having 2 to 18 carbon atoms>

상기 저탄성 접착제층 (a) 의 형성에 사용하는 활성 에너지선 경화형 접착제는, 라디칼 중합성 화합물의 단관능 라디칼 중합성 화합물로서, 탄소수 2 ∼ 18 의 알킬기를 갖는 알킬(메트)아크릴레이트 (B) 를 함유할 수 있다. 알킬(메트)아크릴레이트 (B) 로는, 직사슬형 또는 분기 사슬형의 알킬기의 탄소수 1 ∼ 18 의 것을 예시할 수 있다. 예를 들어, 상기 알킬기로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, 아밀기, 헥실기, 시클로헥실기, 헵틸기, 2-에틸헥실기, 이소옥틸기, 노닐기, 데실기, 이소데실기, 도데실기, 이소미리스틸기, 라우릴기, 트리데실기, 펜타데실기, 헥사데실기, 헵타데실기, 스테아릴기, 이소스테아릴기 등을 예시할 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 조합하여 사용할 수 있다. 알킬(메트)아크릴레이트 (B) 는, 알킬기의 탄소수가 3 ∼ 18 인 것이 바람직하다. 알킬(메트)아크릴레이트 (B) 는, 낙하 시험에서의 벗겨짐에 대한 내구성, 내수성의 점에서 호모폴리머의 Tg 가 -80 ∼ 60 ℃ 를 만족하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 메틸아크릴레이트 (Tg : 8 ℃), 에틸아크릴레이트 (Tg : -20 ℃), n-프로필아크릴레이트 (Tg : 8 ℃), n-부틸아크릴레이트 (Tg : -45 ℃), 이소부틸아크릴레이트 (Tg : -26 ℃), t-부틸아크릴레이트 (Tg : 14 ℃), 이소아밀아크릴레이트 (Tg : -45 ℃), 시클로헥실아크릴레이트 (Tg : 8 ℃), 2-에틸헥실아크릴레이트 (Tg : -55 ℃), n-옥틸아크릴레이트 (Tg : -65 ℃), 이소옥틸아크릴레이트 (Tg : -58 ℃), 이소노닐아크릴레이트 (Tg : -58 ℃), 라우릴아크릴레이트 (Tg : 15 ℃), 스테아릴아크릴레이트 (Tg : 30 ℃), 이소스테아릴아크릴레이트 (Tg : -18 ℃) 등의 알킬아크릴레이트를 사용하는 것이 바람직하다.The active energy ray-curable adhesive used to form the low-elastic adhesive layer (a) is a monofunctional radical polymerizable compound of a radical polymerizable compound, and is an alkyl (meth)acrylate (B) having an alkyl group having 2 to 18 carbon atoms. It may contain. As the alkyl (meth)acrylate (B), those having 1 to 18 carbon atoms of a linear or branched alkyl group can be illustrated. For example, examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, amyl group, hexyl group, cyclohexyl group, heptyl group, 2-ethylhexyl group, isooctyl group, Nonyl group, decyl group, isodecyl group, dodecyl group, isomyristol group, lauryl group, tridecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group, stearyl group, isostearyl group, etc. I can. These can be used alone or in combination. It is preferable that the alkyl (meth)acrylate (B) has 3 to 18 carbon atoms in the alkyl group. As for the alkyl (meth)acrylate (B), it is preferable that Tg of a homopolymer satisfies -80 to 60°C from the viewpoints of durability against peeling in a drop test and water resistance. For example, methyl acrylate (Tg: 8 °C), ethyl acrylate (Tg: -20 °C), n-propyl acrylate (Tg: 8 °C), n-butyl acrylate (Tg: -45 °C), Isobutyl acrylate (Tg: -26 ℃), t-butyl acrylate (Tg: 14 ℃), isoamyl acrylate (Tg: -45 ℃), cyclohexyl acrylate (Tg: 8 ℃), 2-ethyl Hexyl acrylate (Tg: -55 ℃), n-octyl acrylate (Tg: -65 ℃), isooctyl acrylate (Tg: -58 ℃), isononyl acrylate (Tg: -58 ℃), lauryl It is preferable to use an alkyl acrylate such as acrylate (Tg: 15°C), stearyl acrylate (Tg: 30°C), and isostearyl acrylate (Tg: -18°C).

알킬(메트)아크릴레이트 (B) 의 비율은, 활성 에너지선 경화형 접착제 중의 라디칼 중합성 화합물의 전체량을 100 중량% 로 했을 때, 내충격성, 가열 좌굴성을 만족시키는 관점에서, 60 중량% 이하의 비율로 사용하는 것이 바람직하다. 상기 비율은 10 ∼ 50 중량% 가 바람직하고, 나아가서는 20 ∼ 40 중량% 인 것이 바람직하다. The ratio of the alkyl (meth)acrylate (B) is 60% by weight or less from the viewpoint of satisfying the impact resistance and heating buckling property when the total amount of the radical polymerizable compound in the active energy ray-curable adhesive is 100% by weight. It is preferable to use it in a ratio of. The ratio is preferably 10 to 50% by weight, and more preferably 20 to 40% by weight.

<수산기를 갖는 (메트)아크릴레이트 (C)><(meth)acrylate (C) having a hydroxyl group>

상기 저탄성 접착제층 (a) 의 형성에 사용하는 활성 에너지선 경화형 접착제는, 라디칼 중합성 화합물의 단관능 라디칼 중합성 화합물로서, 수산기를 갖는 (메트)아크릴레이트 (C) 를 함유할 수 있다. 수산기를 갖는 (메트)아크릴레이트 (C) 로는, (메트)아크릴로일기 및 수산기를 갖는 것을 사용할 수 있다. 수산기를 갖는 (메트)아크릴레이트 (C) 의 구체예로는, 예를 들어 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 3-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 4-하이드록시부틸(메트)아크릴레이트, 6-하이드록시헥실(메트)아크릴레이트, 8-하이드록시옥틸(메트)아크릴레이트, 10-하이드록시데실(메트)아크릴레이트, 12-하이드록시라우릴(메트)아크릴레이트 등의 알킬기의 탄소수 2 ∼ 12 의 하이드록시알킬(메트)아크릴레이트나, (4-하이드록시메틸시클로헥실)-메틸아크릴레이트 등을 들 수 있다. 수산기를 갖는 (메트)아크릴레이트 (C) 는, 낙하 시험에서의 벗겨짐에 대한 내구성의 점에서 호모폴리머의 Tg 가 -80 ∼ 40 ℃ 를 만족하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 아크릴산하이드록시에틸 (Tg : -15 ℃), 아크릴산하이드록시프로필 (Tg : -7℃), 아크릴산하이드록시부틸 (Tg : -32 ℃) 등을 사용하는 것이 바람직하다.The active energy ray-curable adhesive used for formation of the low-elastic adhesive layer (a) may contain (meth)acrylate (C) having a hydroxyl group as a monofunctional radical polymerizable compound of the radical polymerizable compound. As the (meth)acrylate (C) having a hydroxyl group, one having a (meth)acryloyl group and a hydroxyl group can be used. As a specific example of the (meth)acrylate (C) having a hydroxyl group, for example, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) Alkyl groups such as acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate, 8-hydroxyoctyl (meth)acrylate, 10-hydroxydecyl (meth)acrylate, and 12-hydroxylauryl (meth)acrylate C2-C12 hydroxyalkyl (meth)acrylate, (4-hydroxymethylcyclohexyl)-methylacrylate, etc. are mentioned. In the (meth)acrylate (C) having a hydroxyl group, it is preferable that the Tg of the homopolymer satisfies -80 to 40°C in terms of durability against peeling in a drop test. For example, it is preferable to use hydroxyethyl acrylate (Tg: -15°C), hydroxypropyl acrylate (Tg: -7°C), hydroxybutyl acrylate (Tg: -32°C), and the like.

상기 수산기를 갖는 (메트)아크릴레이트 (C) 로는, 수산기와 (메트)아크릴로일기 간의 사슬 길이가 긴 것을 사용할 수 있다. 수산기와 (메트)아크릴로일기 간의 사슬 길이가 긴 것에 의해, 수산기가 보다 피착 필름에 배향하기 쉬워지고, 수산기의 극성에 의한 접착성 부여가 보다 효과적으로 실시되는 점에서 바람직하다. 수산기를 갖고, 또한 수산기와 (메트)아크릴로일기 간의 사슬 길이가 긴, 수산기를 갖는 (메트)아크릴레이트 (C) 로는, 중량 평균 분자량이 160 ∼ 3000 인 수산기 함유 단관능 (메트)아크릴레이트인 것이 바람직하다. 상기 수산기 함유 단관능 (메트)아크릴레이트의 중량 평균 분자량은 200 ∼ 2000 인 것이 보다 바람직하고, 300 ∼ 1000 인 것이 가장 바람직하다. 중량 평균 분자량이 160 ∼ 3000 인 수산기 함유 단관능 (메트)아크릴레이트에 관해서, 수산기와 (메트)아크릴로일기 간의 사슬 길이가 긴 것이 바람직하고, 수산기와 (메트)아크릴로일기가 양 말단 (특히 리니어 구조로) 에 있는 것이 바람직하다.As the (meth)acrylate (C) having a hydroxyl group, one having a long chain length between a hydroxyl group and a (meth)acryloyl group can be used. When the chain length between the hydroxyl group and the (meth)acryloyl group is long, the hydroxyl group is more likely to be oriented to the adhered film, and it is preferable that the polarity of the hydroxyl group provides more effective adhesion. As the (meth)acrylate (C) having a hydroxyl group and having a long chain length between the hydroxyl group and the (meth)acryloyl group and having a hydroxyl group, a hydroxyl group-containing monofunctional (meth)acrylate having a weight average molecular weight of 160 to 3000 It is desirable. The weight average molecular weight of the hydroxyl group-containing monofunctional (meth)acrylate is more preferably 200 to 2000, and most preferably 300 to 1000. Regarding the hydroxyl group-containing monofunctional (meth)acrylate having a weight average molecular weight of 160 to 3000, the chain length between the hydroxyl group and the (meth)acryloyl group is preferably long, and the hydroxyl group and the (meth)acryloyl group are at both ends (especially It is preferable to have a linear structure).

상기 수산기를 갖는 (메트)아크릴레이트 (C) 의 중량 평균 분자량이 지나치게 큰 경우, 활성 에너지선 경화형 접착제의 점도가 높아지고, 도포 두께가 불균일해져 외관의 불량이 생기거나, 첩합 공정에서 기포가 들어가 외관의 불량이 생기거나 하기 때문에 바람직하지 않다. 또, 수산기수가 상대적으로 감소하기 때문에, 수산기의 극성에 의한 접착성 부여 효과가 얻어지기 어려워지기 때문에 바람직하지 않다. 중량 평균 분자량이 160 ∼ 3000 인 수산기 함유 단관능 (메트)아크릴레이트로는, 앞서 서술한 하이드록시알킬(메트)아크릴레이트 중에서 중량 평균 분자량이 160 ∼ 3000 을 만족하는 것, 폴리에틸렌글리콜모노(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜모노(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜·폴리프로필렌글리콜모노(메트)아크릴레이트 등의 폴리알킬렌글리콜모노(메트)아크릴레이트나, 앞서 서술한 하이드록시알킬(메트)아크릴레이트나 (4-하이드록시메틸시클로헥실)-메틸아크릴레이트의 카프로락톤 변성물 등을 들 수 있다. 카프로락톤 변성물로는, 하이드록시에틸(메트)아크릴레이트의 카프로락톤 부가물이 바람직하게 사용되고, 카프로락톤의 부가량은 1 ∼ 5 몰인 것이 특히 바람직하다. When the weight average molecular weight of the (meth)acrylate (C) having a hydroxyl group is too large, the viscosity of the active energy ray-curable adhesive increases, the coating thickness becomes non-uniform, resulting in poor appearance, or bubbles enter in the bonding process, resulting in appearance It is not preferable because it may cause a defect. Moreover, since the number of hydroxyl groups is relatively reduced, the effect of imparting adhesiveness due to the polarity of the hydroxyl groups becomes difficult to obtain, which is not preferable. As a hydroxyl group-containing monofunctional (meth)acrylate having a weight average molecular weight of 160 to 3000, a weight average molecular weight of 160 to 3000 is satisfied among the hydroxyalkyl (meth)acrylates described above, and polyethylene glycol mono(meth) Polyalkylene glycol mono (meth) acrylates such as acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, polyethylene glycol polypropylene glycol mono (meth) acrylate, and hydroxyalkyl (meth) acrylates described above B. Caprolactone modified product of (4-hydroxymethylcyclohexyl)-methylacrylate, etc. are mentioned. As the caprolactone modified product, a caprolactone adduct of hydroxyethyl (meth)acrylate is preferably used, and the amount of caprolactone added is particularly preferably 1 to 5 mol.

수산기를 갖는 (메트)아크릴레이트 (C) 의 비율은, 활성 에너지선 경화형 접착제 중의 라디칼 중합성 화합물의 전체량을 100 중량% 로 했을 때, 내충격성, 가열 좌굴성을 만족시키는 관점에서, 70 중량% 이하의 비율로 사용하는 것이 바람직하다. 상기 비율이 많은 경우, 수산기의 친수성의 영향이 커져, 가습 환경하에서의 벗겨짐 등 내수성이 악화되기 때문에 바람직하지 않다. 수산기를 갖는 (메트)아크릴레이트 (C) 로서 하이드록시알킬(메트)아크릴레이트나, (4-하이드록시메틸시클로헥실)-메틸아크릴레이트를 사용하는 경우에는, 상기 비율은 10 ∼ 60 중량% 가 바람직하고, 나아가서는 20 ∼ 50 중량% 인 것이 바람직하다. 또, 수산기를 갖는 (메트)아크릴레이트 (C) 로서 중량 평균 분자량이 160 ∼ 3000 인 수산기 함유 단관능 (메트)아크릴레이트를 사용하는 경우에는, 활성 에너지선 경화형 접착제 중의 라디칼 중합성 화합물의 전체량을 100 중량% 로 했을 때, 1 ∼ 70 중량% 인 것이 바람직하고, 30 ∼ 60 중량% 인 것이 보다 바람직하다. The ratio of the (meth)acrylate (C) having a hydroxyl group is 70 weight from the viewpoint of satisfying the impact resistance and heat buckling property when the total amount of the radical polymerizable compound in the active energy ray-curable adhesive is 100% by weight. It is preferable to use it in a ratio of% or less. When the above ratio is large, the influence of the hydrophilicity of the hydroxyl group increases, and the water resistance such as peeling in a humidified environment deteriorates, which is not preferable. In the case of using hydroxyalkyl (meth)acrylate or (4-hydroxymethylcyclohexyl)-methylacrylate as the (meth)acrylate (C) having a hydroxyl group, the ratio is 10 to 60% by weight. It is preferable, and further, it is preferable that it is 20-50 weight%. In the case of using a hydroxyl group-containing monofunctional (meth)acrylate having a weight average molecular weight of 160 to 3000 as the (meth)acrylate (C) having a hydroxyl group, the total amount of the radical polymerizable compound in the active energy ray-curable adhesive When it is set as 100 weight%, it is preferable that it is 1 to 70 weight%, and it is more preferable that it is 30 to 60 weight%.

<중량 평균 분자량의 측정> <Measurement of weight average molecular weight>

상기 2 관능 (메트)아크릴레이트, 수산기 함유 단관능 (메트)아크릴레이트의 중량 평균 분자량은, GPC (겔 퍼미에이션 크로마토그래피) 에 의해 측정할 수 있다.The weight average molecular weight of the bifunctional (meth)acrylate and the hydroxyl group-containing monofunctional (meth)acrylate can be measured by GPC (gel permeation chromatography).

· 검출기 : 시차굴절계 (RI)Detector: Differential Refractometer (RI)

· 표준 시료 : 폴리스티렌· Standard sample: Polystyrene

<기타 라디칼 중합성 화합물><Other radical polymerizable compounds>

상기 저탄성 접착제층 (a) 의 형성에 사용하는 활성 에너지선 경화형 접착제는, 라디칼 중합성 화합물로서 상기 이외의 기타 라디칼 중합성 화합물을 함유할 수 있다. 기타 라디칼 중합성 화합물로는, 접착제층의 접착성, 내구성 및 내수성을 보다 밸런스 양호하게 향상시키는 관점에서, 극성기를 갖는 것이 바람직하다. 기타 라디칼 중합성 화합물의 단관능 라디칼 중합성 화합물로는, 예를 들어 하이드록시에틸아크릴아미드, N-메틸올아크릴아미드, 아크릴로일모르폴린, N-메톡시메틸아크릴아미드, N-에톡시메틸아크릴아미드, N-비닐카프로락탐 등을 들 수 있다.The active energy ray-curable adhesive used for formation of the low-elastic adhesive layer (a) may contain other radical polymerizable compounds other than the above as a radical polymerizable compound. As other radically polymerizable compounds, it is preferable to have a polar group from the viewpoint of improving the adhesiveness, durability, and water resistance of the adhesive layer in a more balanced manner. As monofunctional radical polymerizable compounds of other radically polymerizable compounds, for example, hydroxyethylacrylamide, N-methylolacrylamide, acryloylmorpholine, N-methoxymethylacrylamide, N-ethoxymethyl Acrylamide, N-vinyl caprolactam, etc. are mentioned.

기타 라디칼 중합성 화합물의 비율은, 활성 에너지선 경화형 접착제 중의 라디칼 중합성 화합물의 전체량을 100 중량% 로 했을 때, 접착제층의 접착성, 내구성 및 내수성의 관점에서 30 중량% 이하의 비율로 사용하는 것이 바람직하다. 상기 비율은 2 ∼ 25 중량% 가 바람직하고, 나아가서는 5 ∼ 20 중량% 인 것이 바람직하다.The ratio of other radical polymerizable compounds is used in a ratio of 30% by weight or less from the viewpoint of adhesion, durability and water resistance of the adhesive layer when the total amount of the radical polymerizable compound in the active energy ray-curable adhesive is 100% by weight. It is desirable to do. The ratio is preferably 2 to 25% by weight, and more preferably 5 to 20% by weight.

<중합기를 갖지 않는 실란 커플링제 (D)><Silane coupling agent (D) not having a polymerization group>

상기 저탄성 접착제층 (a) 의 형성에 사용하는 활성 에너지선 경화형 접착제는, 라디칼 중합성 화합물 외에 실란 커플링제 (D) 를 함유할 수 있다. 실란 커플링제 (D) 로는, 라디칼 중합성의 관능기를 갖지 않는 실란 커플링제가 바람직하다. 라디칼 중합성의 관능기를 갖지 않는 실란 커플링제는 편광자 표면에 작용해, 추가적인 내수성을 부여할 수 있다.The active energy ray-curable adhesive used for formation of the low-elastic adhesive layer (a) may contain a silane coupling agent (D) in addition to the radical polymerizable compound. As the silane coupling agent (D), a silane coupling agent having no radical polymerizable functional group is preferable. The silane coupling agent which does not have a radical polymerizable functional group acts on the surface of the polarizer and can impart additional water resistance.

라디칼 중합성의 관능기를 갖지 않는 실란 커플링제의 구체예로는, 아미노기를 갖는 실란 커플링제를 들 수 있다. 아미노기를 갖는 실란 커플링제의 구체예로는, γ-아미노프로필트리메톡시실란, γ-아미노프로필트리에톡시실란, γ-아미노프로필트리이소프로폭시실란, γ-아미노프로필메틸디메톡시실란, γ-아미노프로필메틸디에톡시실란, γ-(2-아미노에틸)아미노프로필트리메톡시실란, γ-(2-아미노에틸)아미노프로필메틸디메톡시실란, γ-(2-아미노에틸)아미노프로필트리에톡시실란, γ-(2-아미노에틸)아미노프로필메틸디에톡시실란, γ-(2-아미노에틸)아미노프로필트리이소프로폭시실란, γ-(2-(2-아미노에틸)아미노에틸)아미노프로필트리메톡시실란, γ-(6-아미노헥실)아미노프로필트리메톡시실란, 3-(N-에틸아미노)-2-메틸프로필트리메톡시실란, γ-우레이도프로필트리메톡시실란, γ-우레이도프로필트리에톡시실란, N-페닐-γ-아미노프로필트리메톡시실란, N-벤질-γ-아미노프로필트리메톡시실란, N-비닐벤질-γ-아미노프로필트리에톡시실란, N-시클로헥실아미노메틸트리에톡시실란, N-시클로헥실아미노메틸디에톡시메틸실란, N-페닐아미노메틸트리메톡시실란, (2-아미노에틸)아미노메틸트리메톡시실란, N,N'-비스[3-(트리메톡시실릴)프로필]에틸렌디아민 등의 아미노기 함유 실란류 ; N-(1,3-디메틸부틸리덴)-3-(트리에톡시실릴)-1-프로판아민 등의 케티민형 실란류를 들 수 있다.As a specific example of the silane coupling agent which does not have a radical polymerizable functional group, a silane coupling agent which has an amino group is mentioned. Specific examples of the silane coupling agent having an amino group include γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriisopropoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ -Aminopropylmethyldiethoxysilane, γ-(2-aminoethyl)aminopropyltrimethoxysilane, γ-(2-aminoethyl)aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-(2-aminoethyl)aminopropyltrie Oxysilane, γ-(2-aminoethyl)aminopropylmethyldiethoxysilane, γ-(2-aminoethyl)aminopropyltriisopropoxysilane, γ-(2-(2-aminoethyl)aminoethyl)aminopropyl Trimethoxysilane, γ-(6-aminohexyl)aminopropyltrimethoxysilane, 3-(N-ethylamino)-2-methylpropyltrimethoxysilane, γ-ureidopropyltrimethoxysilane, γ- Ureidopropyltriethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-benzyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-vinylbenzyl-γ-aminopropyltriethoxysilane, N- Cyclohexylaminomethyltriethoxysilane, N-cyclohexylaminomethyldiethoxymethylsilane, N-phenylaminomethyltrimethoxysilane, (2-aminoethyl)aminomethyltrimethoxysilane, N,N'-bis[ Amino group-containing silanes such as 3-(trimethoxysilyl)propyl]ethylenediamine; Ketimine-type silanes, such as N-(1,3-dimethylbutylidene)-3-(triethoxysilyl)-1-propanamine, are mentioned.

아미노기를 갖는 실란 커플링제로는, γ-아미노프로필트리메톡시실란, γ-(2-아미노에틸)아미노프로필트리메톡시실란, γ-(2-아미노에틸)아미노프로필메틸디메톡시실란, γ-(2-아미노에틸)아미노프로필트리에톡시실란, γ-(2-아미노에틸)아미노프로필메틸디에톡시실란, N-(1,3-디메틸부틸리덴)-3-(트리에톡시실릴)-1-프로판아민이 바람직하다.Examples of the silane coupling agent having an amino group include γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-(2-aminoethyl)aminopropyltrimethoxysilane, γ-(2-aminoethyl)aminopropylmethyldimethoxysilane, and γ- (2-aminoethyl)aminopropyltriethoxysilane, γ-(2-aminoethyl)aminopropylmethyldiethoxysilane, N-(1,3-dimethylbutylidene)-3-(triethoxysilyl)- 1-propanamine is preferred.

아미노기를 갖는 실란 커플링제 이외의, 라디칼 중합성의 관능기를 갖지 않는 실란 커플링제의 구체예로는, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메르캅토프로필메틸디메톡시실란, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란, 비스(트리에톡시실릴프로필)테트라술파이드, 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란, 이미다졸실란 등을 들 수 있다.Specific examples of the silane coupling agent having no radically polymerizable functional group other than the silane coupling agent having an amino group include 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, and 3-mercaptopropyltri Methoxysilane, bis(triethoxysilylpropyl)tetrasulfide, 3-isocyanate propyltriethoxysilane, imidazole silane, etc. are mentioned.

또, 실란 커플링제 (D) 로는, 활성 에너지선 경화성의 화합물로서 비닐트리클로르실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 2-(3,4에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, p-스티릴트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필메틸디메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필메틸디에톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-아크릴옥시프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다.In addition, as the silane coupling agent (D), as an active energy ray-curable compound, vinyl trichlorsilane, vinyl trimethoxysilane, vinyl triethoxysilane, 2-(3,4 epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldime Methoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, and 3-acryloxypropyltrimethoxysilane. .

실란 커플링제 (D) 는, 1 종만을 사용해도 되고, 복수종을 조합하여 사용하여도 된다. 라디칼 중합성의 관능기를 갖지 않는 실란 커플링제 (D) 의 배합량은, 활성 에너지선 경화형 접착제 중의 라디칼 중합성 화합물의 전체량 100 중량부에 대해 통상 20 중량부 이하이고, 0.01 ∼ 20 중량부의 범위가 바람직하며, 0.05 ∼ 15 중량부인 것이 바람직하고, 0.1 ∼ 10 중량부인 것이 더 바람직하다. 20 중량부를 초과하는 배합량의 경우, 접착제의 보존 안정성이 악화될 우려가 있다.As for the silane coupling agent (D), only 1 type may be used and multiple types may be combined and used for it. The blending amount of the silane coupling agent (D) not having a radically polymerizable functional group is usually 20 parts by weight or less, preferably 0.01 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the radical polymerizable compound in the active energy ray-curable adhesive. It is preferably 0.05 to 15 parts by weight, and more preferably 0.1 to 10 parts by weight. In the case of a blending amount exceeding 20 parts by weight, the storage stability of the adhesive may be deteriorated.

<(메트)아크릴 모노머를 중합하여 이루어지는 아크릴계 올리고머 (E)><Acrylic oligomer (E) obtained by polymerizing a (meth)acrylic monomer>

상기 저탄성 접착제층 (a) 의 형성에 사용하는 활성 에너지선 경화형 접착제는, 라디칼 중합성 화합물 외에, (메트)아크릴 모노머를 중합하여 이루어지는 아크릴계 올리고머 (E) 를 함유할 수 있다. 활성 에너지선 경화형 접착제 중에 아크릴계 올리고머 (E) 를 함유함으로써, 그 조성물에 활성 에너지선을 조사·경화시킬 때의 경화 수축을 저감해, 접착제와, 편광 필름 (P) 및 광학 필름 (3) 등의 피착체의 계면 응력을 저감할 수 있다. 그 결과, 접착제층과 피착체의 접착성 저하를 억제할 수 있다.The active energy ray-curable adhesive used to form the low-elastic adhesive layer (a) may contain, in addition to a radical polymerizable compound, an acrylic oligomer (E) obtained by polymerizing a (meth)acrylic monomer. By containing the acrylic oligomer (E) in the active energy ray-curable adhesive, curing shrinkage when irradiating and curing the composition with an active energy ray is reduced, such as an adhesive, a polarizing film (P), and an optical film (3). The interfacial stress of the adherend can be reduced. As a result, it is possible to suppress a decrease in adhesion between the adhesive layer and the adherend.

활성 에너지선 경화형 접착제는, 도공 시의 작업성이나 균일성을 고려한 경우, 저점도인 것이 바람직하기 때문에, (메트)아크릴 모노머를 중합하여 이루어지는 아크릴계 올리고머 (E) 도 저점도인 것이 바람직하다. 저점도이고, 또한 접착제층의 경화 수축을 방지할 수 있는 아크릴계 올리고머로는, 중량 평균 분자량 (Mw) 이 15000 이하인 것이 바람직하고, 10000 이하인 것이 보다 바람직하며, 5000 이하인 것이 특히 바람직하다. 한편, 경화물층 (접착제층) 의 경화 수축을 충분히 억제하기 위해서는, 아크릴계 올리고머 (E) 의 중량 평균 분자량 (Mw) 이 500 이상인 것이 바람직하고, 1000 이상인 것이 보다 바람직하며, 1500 이상인 것이 특히 바람직하다. 아크릴계 올리고머 (E) 를 구성하는 (메트)아크릴 모노머로는, 구체적으로는 예를 들어 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, n-프로필(메트)아크릴레이트, 이소프로필(메트)아크릴레이트, 2-메틸-2-니트로프로필(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, S-부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, n-펜틸(메트)아크릴레이트, t-펜틸(메트)아크릴레이트, 3-펜틸(메트)아크릴레이트, 2,2-디메틸부틸(메트)아크릴레이트, n-헥실(메트)아크릴레이트, 세틸(메트)아크릴레이트, n-옥틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 4-메틸-2-프로필펜틸(메트)아크릴레이트, N-옥타데실(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산 (탄소수 1 - 20) 알킬에스테르류, 또한 예를 들어 시클로알킬(메트)아크릴레이트 (예를 들어, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 시클로펜틸(메트)아크릴레이트 등), 아르알킬(메트)아크릴레이트 (예를 들어, 벤질(메트)아크릴레이트 등), 다고리형 (메트)아크릴레이트 (예를 들어, 2-이소보르닐(메트)아크릴레이트, 2-노르보르닐메틸(메트)아크릴레이트, 5-노르보르넨-2-일-메틸(메트)아크릴레이트, 3-메틸-2-노르보르닐메틸(메트)아크릴레이트 등), 하이드록실기 함유 (메트)아크릴산에스테르류 (예를 들어, 하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 2,3-디하이드록시프로필메틸-부틸(메트)메타크릴레이트 등), 알콕시기 또는 페녹시기 함유 (메트)아크릴산에스테르류 (2-메톡시에틸(메트)아크릴레이트, 2-에톡시에틸(메트)아크릴레이트, 2-메톡시메톡시에틸(메트)아크릴레이트, 3-메톡시부틸(메트)아크릴레이트, 에틸카르비톨(메트)아크릴레이트, 페녹시에틸(메트)아크릴레이트 등), 에폭시기 함유 (메트)아크릴산에스테르류 (예를 들어, 글리시딜(메트)아크릴레이트 등), 할로겐 함유 (메트)아크릴산에스테르류 (예를 들어, 2,2,2-트리플루오로에틸(메트)아크릴레이트, 2,2,2-트리플루오로에틸에틸(메트)아크릴레이트, 테트라플루오로프로필(메트)아크릴레이트, 헥사플루오로프로필(메트)아크릴레이트, 옥타플루오로펜틸(메트)아크릴레이트, 헵타데카플루오로데실(메트)아크릴레이트 등), 알킬아미노알킬(메트)아크릴레이트 (예를 들면, 디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트 등) 등을 들 수 있다. 이들 (메트)아크릴레이트는, 단독 사용 또는 2 종류 이상 병용할 수 있다. 아크릴계 올리고머 (E) 의 구체예로는, 동아 합성사 제조 「ARUFON」, 소켄 화학사 제조 「액트플로우」, BASF 재팬사 제조 「JONCRYL」등을 들 수 있다.Since the active energy ray-curable adhesive is preferably of low viscosity in consideration of workability and uniformity at the time of coating, the acrylic oligomer (E) obtained by polymerizing a (meth)acrylic monomer is also preferably of low viscosity. As an acrylic oligomer having a low viscosity and capable of preventing curing shrinkage of the adhesive layer, the weight average molecular weight (Mw) is preferably 15000 or less, more preferably 10000 or less, and particularly preferably 5000 or less. On the other hand, in order to sufficiently suppress the curing shrinkage of the cured product layer (adhesive layer), the weight average molecular weight (Mw) of the acrylic oligomer (E) is preferably 500 or more, more preferably 1000 or more, and particularly preferably 1500 or more. . As the (meth)acrylic monomer constituting the acrylic oligomer (E), specifically, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) Acrylate, 2-methyl-2-nitropropyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, S-butyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylic Rate, n-pentyl (meth)acrylate, t-pentyl (meth)acrylate, 3-pentyl (meth)acrylate, 2,2-dimethylbutyl (meth)acrylate, n-hexyl (meth)acrylate, Cetyl (meth)acrylate, n-octyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, 4-methyl-2-propylpentyl (meth)acrylate, N-octadecyl (meth)acrylate, etc. (Meth)acrylic acid (C1-C20) alkyl esters of, for example, cycloalkyl (meth)acrylate (for example, cyclohexyl (meth)acrylate, cyclopentyl (meth)acrylate, etc.), are Alkyl (meth) acrylate (e.g., benzyl (meth) acrylate, etc.), polycyclic (meth) acrylate (e.g., 2-isobornyl (meth) acrylate, 2-norbornyl methyl ( Meth)acrylate, 5-norbornen-2-yl-methyl (meth)acrylate, 3-methyl-2-norbornylmethyl (meth)acrylate, etc.), hydroxyl group-containing (meth)acrylic acid esters (For example, hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2,3-dihydroxypropylmethyl-butyl (meth)methacrylate, etc.), alkoxy group or phenoxy group Containing (meth)acrylic acid esters (2-methoxyethyl (meth)acrylate, 2-ethoxyethyl (meth)acrylate, 2-methoxymethoxyethyl (meth)acrylate, 3-methoxybutyl (meth) )Acrylate, ethylcarbitol (meth)acrylate, phenoxyethyl (meth)acrylate, etc.), epoxy group-containing (meth)acrylic esters (eg glycidyl (meth)acrylate, etc.), halogen-containing (Meth)acrylic acid esters (e.g., 2,2,2-trifluoroethyl (meth)acrylate, 2,2, 2-trifluoroethylethyl (meth)acrylate, tetrafluoropropyl (meth)acrylate, hexafluoropropyl (meth)acrylate, octafluoropentyl (meth)acrylate, heptadecafluorodecyl (meth) ) Acrylate), alkylaminoalkyl (meth)acrylate (for example, dimethylaminoethyl (meth)acrylate), and the like. These (meth)acrylates can be used alone or in combination of two or more. Specific examples of the acrylic oligomer (E) include "ARUFON" manufactured by Dong-A Synthetic Corporation, "Actflow" manufactured by Soken Chemical Corporation, and "JONCRYL" manufactured by BASF Japan.

아크릴계 올리고머 (E) 의 배합량은, 활성 에너지선 경화형 접착제 중의 라디칼 중합성 화합물의 전체량 100 중량부에 대해 통상 30 중량부 이하인 것이 바람직하다. 조성물 중의 아크릴계 올리고머 (E) 의 함유량이 지나치게 많으면, 그 조성물에 활성 에너지선을 조사했을 때의 반응 속도의 저하가 격심하여, 경화 불량이 되는 경우가 있다. 한편, 경화물층 (접착제층 a) 의 경화 수축을 충분히 억제하기 위해서는, 조성물 중 아크릴계 올리고머 (E) 를 3 중량부 이상 함유하는 것이 바람직하고, 5 중량부 이상 함유하는 것이 보다 바람직하다.It is preferable that the blending amount of the acrylic oligomer (E) is usually 30 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the total amount of the radical polymerizable compound in the active energy ray-curable adhesive. When the content of the acrylic oligomer (E) in the composition is too large, the decrease in the reaction rate when the composition is irradiated with an active energy ray is severe, resulting in poor curing. On the other hand, in order to sufficiently suppress the curing shrinkage of the cured product layer (adhesive layer a), it is preferable to contain 3 parts by weight or more of the acrylic oligomer (E) in the composition, and more preferably 5 parts by weight or more.

<활성 메틸렌기를 갖는 라디칼 중합성 화합물 (F) 와, 수소 인발 작용이 있는 라디칼 중합 개시제 (G)><The radical polymerizable compound (F) having an active methylene group and a radical polymerization initiator (G) having a hydrogen extraction function>

상기 저탄성 접착제층 (a) 의 형성에 사용하는 활성 에너지선 경화형 접착제는, 라디칼 중합성 화합물 외에, 추가로 활성 메틸렌기를 갖는 라디칼 중합성 화합물 (F) 와, 수소 인발 작용이 있는 라디칼 중합 개시제 (G) 를 함유할 수 있다. 이러한 구성에 의하면, 특히 고습도 환경 또는 수중으로부터 인출한 직후 (비건조 상태) 여도, 저탄성 접착제층 (a) 의 접착성이 현저히 향상된다. 이 이유는 분명하지 않지만, 이하의 원인이 생각된다. 요컨대, 활성 메틸렌기를 갖는 라디칼 중합성 화합물 (F) 는, 저탄성 접착제층 (a) 을 구성하는 다른 라디칼 중합성 화합물과 함께 중합하면서, 저탄성 접착제층 (a) 중의 베이스 폴리머의 주사슬 및/또는 측사슬에 혼입되어 저탄성 접착제층 (a) 을 형성한다. 이러한 중합 과정에 있어서, 수소 인발 작용이 있는 라디칼 중합 개시제 (G) 가 존재하면, 저탄성 접착제층 (a) 을 구성하는 베이스 폴리머가 형성되면서, 활성 메틸렌기를 갖는 라디칼 중합성 화합물 (F) 로부터 수소가 인발되고, 메틸렌기에 라디칼이 발생한다. 그리고, 라디칼이 발생한 메틸렌기와 PVA 등의 편광자의 수산기가 반응해, 저탄성 접착제층 (a) 과 편광자 (1) 사이에 공유결합이 형성된다. 그 결과, 특히 비건조 상태여도, 편광 필름이 갖는 접착제층의 접착성이 현저하게 향상되는 것이라고 추측된다.The active energy ray-curable adhesive used to form the low-elastic adhesive layer (a), in addition to the radical polymerizable compound, further includes a radical polymerizable compound (F) having an active methylene group, and a radical polymerization initiator having a hydrogen drawing action ( G) may contain. According to this configuration, the adhesion of the low-elastic adhesive layer (a) is remarkably improved, especially even immediately after pulling out from a high humidity environment or water (non-dried state). Although this reason is not clear, the following causes are considered. In short, the radical polymerizable compound (F) having an active methylene group is polymerized with other radical polymerizable compounds constituting the low elastic adhesive layer (a), while the main chain of the base polymer in the low elastic adhesive layer (a) and/ Alternatively, it is incorporated into the side chain to form a low elastic adhesive layer (a). In such a polymerization process, if a radical polymerization initiator (G) having a hydrogen drawing function is present, hydrogen from the radical polymerizable compound (F) having an active methylene group is formed while the base polymer constituting the low elastic adhesive layer (a) is formed. Is drawn out, and a radical is generated in the methylene group. Then, the methylene group in which the radical is generated and the hydroxyl group of a polarizer such as PVA react, and a covalent bond is formed between the low-elastic adhesive layer (a) and the polarizer (1). As a result, even in a non-dried state, it is estimated that the adhesiveness of the adhesive layer which the polarizing film has is significantly improved.

활성 메틸렌기를 갖는 라디칼 중합성 화합물 (F) 는, 말단 또는 분자 중에 (메트)아크릴기 등의 활성 이중 결합기를 갖고, 또한 활성 메틸렌기를 갖는 화합물이다. 활성 메틸렌기로는, 예를 들어 아세토아세틸기, 알콕시말로닐기, 또는 시아노아세틸기 등을 들 수 있다. 활성 메틸렌기를 갖는 라디칼 중합성 화합물 (F) 의 구체예로는, 예를 들어 2-아세토아세톡시에틸(메트)아크릴레이트, 2-아세토아세톡시프로필(메트)아크릴레이트, 2-아세토아세톡시-1-메틸에틸(메트)아크릴레이트 등의 아세토아세톡시알킬(메트)아크릴레이트 ; 2-에톡시말로닐옥시에틸(메트)아크릴레이트, 2-시아노아세톡시에틸(메트)아크릴레이트, N-(2-시아노아세톡시에틸)아크릴아미드, N-(2-프로피오닐아세톡시부틸)아크릴아미드, N-(4-아세토아세톡시메틸벤질)아크릴아미드, N-(2-아세토아세틸아미노에틸)아크릴아미드 등을 들 수 있다.The radically polymerizable compound (F) having an active methylene group is a compound having an active double bond group such as a (meth)acrylic group at the terminal or in the molecule and further having an active methylene group. As an active methylene group, an acetoacetyl group, an alkoxymalonyl group, a cyanoacetyl group, etc. are mentioned, for example. Specific examples of the radical polymerizable compound (F) having an active methylene group include, for example, 2-acetoacetoxyethyl (meth)acrylate, 2-acetoacetoxypropyl (meth)acrylate, and 2-acetoacetoxy- Acetoacetoxyalkyl (meth)acrylate such as 1-methylethyl (meth)acrylate; 2-Ethoxymalonyloxyethyl (meth)acrylate, 2-cyanoacetoxyethyl (meth)acrylate, N-(2-cyanoacetoxyethyl)acrylamide, N-(2-propionylacetoxy Butyl)acrylamide, N-(4-acetoacetoxymethylbenzyl)acrylamide, N-(2-acetoacetylaminoethyl)acrylamide, and the like.

수소 인발 작용이 있는 라디칼 중합 개시제 (G) 로서, 예를 들어 티오크산톤계 라디칼 중합 개시제, 벤조페논계 라디칼 중합 개시제 등을 들 수 있다. 티오크산톤계 라디칼 중합 개시제로는, 하기 일반식 (1) 로 나타내는 화합물 ;Examples of the radical polymerization initiator (G) having a hydrogen drawing action include a thioxanthone radical polymerization initiator, a benzophenone radical polymerization initiator, and the like. As a thioxanthone-based radical polymerization initiator, a compound represented by the following general formula (1);

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112016056357434-pct00001
Figure 112016056357434-pct00001

(식 중, R1 및 R2 는 -H, -CH2bH3, -iPr 또는 Cl 을 나타내고, R1 및 R2 는 동일 또는 상이해도 된다) 을 들 수 있다.(In the formula, R 1 and R 2 represent -H, -CH 2b H 3 , -iPr or Cl, and R 1 and R 2 may be the same or different).

일반식 (1) 로 나타내는 화합물의 구체예로는, 예를 들어 티오크산톤, 디메틸티오크산톤, 디에틸티오크산톤, 이소프로필티오크산톤, 클로로티오크산톤 등을 들 수 있다. 일반식 (1) 로 나타내는 화합물 중에서도, R1 및 R2 가 -CH2bH3 인 디에틸티오크산톤이 특히 바람직하다.As a specific example of the compound represented by General formula (1), thioxanthone, dimethyl thioxanthone, diethyl thioxanthone, isopropyl thioxanthone, chloro thioxanthone, etc. are mentioned, for example. Among the compounds represented by the general formula (1), diethylthioxanthone in which R 1 and R 2 are -CH 2b H 3 is particularly preferable.

또, 상기 활성 에너지선 경화형 접착제에 있어서, 광중합 개시제로서 일반식 (1) 의 광중합 개시제에 더해, 추가로 하기 일반식 (2) 로 나타내는 화합물 ;Moreover, in the said active energy ray-curable adhesive, in addition to the photoinitiator of general formula (1) as a photoinitiator, it is a compound further represented by the following general formula (2);

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112016056357434-pct00002
Figure 112016056357434-pct00002

(식 중, R3, R4 및 R5 는 -H, -CH3bH2bH3, -iPr 또는 Cl 을 나타내고, R3, R4 및 R5 는 동일 또는 상이해도 된다) 을 함유하는 것이 바람직하다. 상기 일반식 (1) 및 일반식 (2) 의 광중합 개시제를 병용함으로써, 이들 광 증감 반응에 의해 반응이 고효율화해, 접착제층의 접착성이 특히 향상된다.(In the formula, R 3 , R 4 and R 5 represent -H, -CH 3b H 2b H 3 , -iPr or Cl, and R 3 , R 4 and R 5 may be the same or different) desirable. By using the photopolymerization initiator of the general formula (1) and the general formula (2) together, the reaction becomes highly efficient due to these photosensitization reactions, and the adhesiveness of the adhesive layer is particularly improved.

상기 서술한 바와 같이, 본 발명에 있어서는, 수소 인발 작용이 있는 라디칼 중합 개시제 (G) 의 존재하에서, 활성 메틸렌기를 갖는 라디칼 중합성 화합물 (F) 의 메틸렌기에 라디칼을 발생시키고, 이러한 메틸렌기와 수산기가 반응해, 공유결합을 형성한다. 따라서, 활성 메틸렌기를 갖는 라디칼 중합성 화합물 (F) 는, 활성 메틸렌기를 갖는 라디칼 중합성 화합물 (F) 의 메틸렌기에 라디칼을 발생시키고, 이러한 공유결합을 충분히 형성하기 위해서, 활성 에너지선 경화형 접착제 중의 라디칼 중합성 화합물의 전체량을 100 중량부로 했을 때, 1 ∼ 30 중량부 함유하는 것이 바람직하고, 나아가서는 3 ∼ 30 중량부 함유하는 것이 보다 바람직하다. 활성 메틸렌기를 갖는 라디칼 중합성 화합물 (F) 가 1 중량부 미만이면, 비건조 상태에서의 접착성의 향상 효과가 낮고, 내수성이 충분히 향상되지 않는 경우가 있고, 50 중량부를 초과하면, 접착제층의 경화 불량이 발생하는 경우가 있다. 또, 수소 인발 작용이 있는 라디칼 중합 개시제 (G) 는, 상기 활성 에너지선 경화형 접착제 중의 라디칼 중합성 화합물의 전체량 100 중량부에 대해 0.1 ∼ 10 중량부 함유하는 것이 바람직하고, 나아가서는 0.3 ∼ 9 중량부 함유하는 것이 보다 바람직하다. 수소 인발 작용이 있는 라디칼 중합 개시제 (G) 가 0.1 중량부 미만이면, 수소 인발 반응이 충분히 진행되지 않는 경우가 있고, 10 중량부를 초과하면, 조성물 중에서 완전히 용해되지 않는 경우가 있다.As described above, in the present invention, in the presence of a radical polymerization initiator (G) having a hydrogen drawing action, a radical is generated in the methylene group of the radically polymerizable compound (F) having an active methylene group, and such methylene group and hydroxyl group Reacts and forms a covalent bond. Therefore, the radical polymerizable compound (F) having an active methylene group generates a radical in the methylene group of the radical polymerizable compound (F) having an active methylene group, and in order to sufficiently form such a covalent bond, the radical in the active energy ray-curable adhesive When the total amount of the polymerizable compound is 100 parts by weight, it is preferable to contain 1 to 30 parts by weight, and more preferably 3 to 30 parts by weight. If the radical polymerizable compound (F) having an active methylene group is less than 1 part by weight, the effect of improving the adhesion in a non-dried state is low, and water resistance may not be sufficiently improved, and if it exceeds 50 parts by weight, curing of the adhesive layer There is a case of failure. In addition, the radical polymerization initiator (G) having a hydrogen drawing action is preferably contained in an amount of 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the radical polymerizable compound in the active energy ray-curable adhesive, and furthermore, 0.3 to 9 It is more preferable to contain it in parts by weight. When the radical polymerization initiator (G) having a hydrogen drawing action is less than 0.1 part by weight, the hydrogen drawing reaction may not proceed sufficiently, and if it exceeds 10 parts by weight, it may not be completely dissolved in the composition.

<광산 발생제 (H)><mine generator (H)>

상기 저탄성 접착제층 (a) 의 형성에 사용하는 활성 에너지선 경화형 접착제는, 라디칼 중합성 화합물 외에, 추가로 광산 발생제 (H) 를 함유할 수 있다. 활성 에너지선 경화형 수지 조성물 중에 광산 발생제를 함유하는 경우, 광산 발생제를 함유하지 않는 경우에 비해, 접착제층의 내수성 및 내구성을 비약적으로 향상시킬 수 있다. 광산 발생제 (H) 는, 하기 일반식 (3) 으로 나타낼 수 있다.The active energy ray-curable adhesive used for formation of the low-elastic adhesive layer (a) may further contain a photoacid generator (H) in addition to the radical polymerizable compound. When a photoacid generator is contained in an active energy ray-curable resin composition, the water resistance and durability of an adhesive layer can be improved drastically compared with the case where a photoacid generator is not contained. The photoacid generator (H) can be represented by the following general formula (3).

일반식 (3)General Formula (3)

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112016056357434-pct00003
Figure 112016056357434-pct00003

(단, L 는, 임의의 오늄 카티온을 나타낸다. 또, X- 는, PF6 -, SbF6 -, AsF6 -, SbCl6 -, BiCl5 -, SnCl6 -, ClO4 -, 디티오카르바메이트 아니온, SCN- 로부터 이루어지는 군에서 선택되는 카운터 아니온을 나타낸다.)(Where, L + is representative of any of the onium cation addition, X -. Is, PF 6 -, SbF 6 - , AsF 6 -, SbCl 6 -, BiCl 5 -, SnCl 6 -, ClO 4 -, dt O carbamate anion, SCN - represents a counter anion selected from the group consisting of from a).

일반식 (3) 을 구성하는 오늄 카티온 L 로서 바람직한 오늄 카티온의 구조로는, 하기 일반식 (4) ∼ 일반식 (12) 에서 선택되는 오늄 카티온을 들 수 있다.As the structure of the onium cation preferable as the onium cation L + constituting the general formula (3), onium cation selected from the following general formulas (4) to (12) can be mentioned.

일반식 (4)General Formula (4)

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112016056357434-pct00004
Figure 112016056357434-pct00004

일반식 (5)General Formula (5)

[화학식 5][Formula 5]

Figure 112016056357434-pct00005
Figure 112016056357434-pct00005

일반식 (6)General Formula (6)

[화학식 6][Formula 6]

Figure 112016056357434-pct00006
Figure 112016056357434-pct00006

일반식 (7)General Formula (7)

[화학식 7][Formula 7]

Figure 112016056357434-pct00007
Figure 112016056357434-pct00007

일반식 (8)General Formula (8)

[화학식 8][Formula 8]

Figure 112016056357434-pct00008
Figure 112016056357434-pct00008

일반식 (9)General Formula (9)

[화학식 9][Formula 9]

Figure 112016056357434-pct00009
Figure 112016056357434-pct00009

일반식 (10)General Formula (10)

[화학식 10][Formula 10]

Figure 112016056357434-pct00010
Figure 112016056357434-pct00010

일반식 (11)General Formula (11)

[화학식 11][Formula 11]

Figure 112016056357434-pct00011
Figure 112016056357434-pct00011

일반식 (12)General Formula (12)

[화학식 12][Formula 12]

Figure 112016056357434-pct00012
Figure 112016056357434-pct00012

(상기 일반식 (4) - (12) 중, 단 R1, R2 및 R3 은, 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 혹은 미치환의 알킬기, 치환 혹은 미치환의 알케닐기, 치환 혹은 미치환의 아릴기, 치환 혹은 미치환의 복소 고리기, 치환 혹은 미치환의 알콕실기, 치환 혹은 미치환의 아릴옥시기, 치환 혹은 미치환의 복소 고리 옥시기, 치환 혹은 미치환의 아실기, 치환 혹은 미치환의 카르보닐옥시기, 치환 혹은 미치환의 옥시카르보닐기, 또는 할로겐 원자에서 선택되는 기를 나타낸다. R4 는, R1, R2 및 R3 에 기재한 기와 동일한 기를 나타낸다. R5 는, 치환 혹은 미치환의 알킬기, 치환 혹은 미치환의 알킬티오기를 나타낸다. R6 및 R7 은, 각각 독립적으로 치환 혹은 미치환의 알킬기, 치환 혹은 미치환의 알콕실기를 나타낸다. R 은, 할로겐 원자, 수산기, 카르복실기, 메르캅토기, 시아노기, 니트로기, 치환 혹은 미치환의 카르바모일기, 치환 혹은 미치환의 알킬기, 치환 혹은 미치환의 알케닐기, 치환 혹은 미치환의 아릴기, 치환 혹은 미치환의 복소 고리기, 치환 혹은 미치환의 알콕실기, 치환 혹은 미치환의 아릴옥시기, 치환 혹은 미치환의 복소 고리 옥시기, 치환 혹은 미치환의 알킬티오기, 치환 혹은 미치환의 아릴티오기, 치환 혹은 미치환의 복소 고리 티오기, 치환 혹은 미치환의 아실기, 치환 혹은 미치환의 카르보닐옥시기, 치환 혹은 미치환의 옥시카르보닐기 중 어느 것을 나타낸다. Ar4, Ar5 는, 치환 혹은 미치환의 아릴기, 치환 혹은 미치환의 복소 고리기 중 어느 것을 나타낸다. X 는, 산소 혹은 황 원자를 나타낸다. i 는 0 ∼ 5 의 정수를 나타낸다. j 는 0 ∼ 4 의 정수를 나타낸다. k 는 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다. 또, 인접한 R 끼리, Ar4와 Ar5, R2 와 R3, R2 와 R4, R3 과 R4, R1 과 R2, R1 과 R3, R1 과 R4, R1 과 R, 혹은 R1 과 R5 는, 서로 결합한 고리형 구조여도 된다.)(In the formulas (4)-(12), provided that R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted Aryl group, substituted or unsubstituted heterocyclic group, substituted or unsubstituted alkoxyl group, substituted or unsubstituted aryloxy group, substituted or unsubstituted heterocyclic oxy group, substituted or unsubstituted acyl group, substituted or unsubstituted Represents a substituted carbonyloxy group, a substituted or unsubstituted oxycarbonyl group, or a group selected from halogen atoms R 4 represents the same group as the groups described for R 1 , R 2 and R 3. R 5 represents a substituted or unsubstituted oxycarbonyl group. Represents an unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted alkylthio group R 6 and R 7 each independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted alkoxyl group R is a halogen atom, a hydroxyl group, or Carboxyl group, mercapto group, cyano group, nitro group, substituted or unsubstituted carbamoyl group, substituted or unsubstituted alkyl group, substituted or unsubstituted alkenyl group, substituted or unsubstituted aryl group, substituted or unsubstituted hetero Cyclic group, substituted or unsubstituted alkoxyl group, substituted or unsubstituted aryloxy group, substituted or unsubstituted heterocyclic oxy group, substituted or unsubstituted alkylthio group, substituted or unsubstituted arylthio group, substituted or Represents any of an unsubstituted heterocyclic thio group, a substituted or unsubstituted acyl group, a substituted or unsubstituted carbonyloxy group, and a substituted or unsubstituted oxycarbonyl group Ar 4 and Ar 5 are substituted or unsubstituted Represents either an aryl group or a substituted or unsubstituted heterocyclic group, X represents an oxygen or sulfur atom, i represents an integer of 0 to 5. j represents an integer of 0 to 4. k represents an integer of 0 to 4 Represents an integer of 3. In addition, adjacent R to each other, Ar 4 and Ar 5 , R 2 and R 3 , R 2 and R 4 , R 3 and R 4 , R 1 and R 2 , R 1 and R 3 , R 1 And R 4 , R 1 and R, or R 1 And R 5 may be a cyclic structure bonded to each other.)

일반식 (4) 에 해당하는 오늄 카티온 (술포늄 카티온) :Onium cation (sulfonium cation) corresponding to general formula (4):

디메틸페닐술포늄, 디메틸(o-플루오로페닐)술포늄, 디메틸(m-클로로페닐)술포늄, 디메틸(p-브로모페닐)술포늄, 디메틸(p-시아노페닐)술포늄, 디메틸(m-니트로페닐)술포늄, 디메틸(2,4,6-트리브로모페닐)술포늄, 디메틸(펜타플루오로페닐)술포늄, 디메틸(p-(트리플루오로메틸)페닐)술포늄, 디메틸(p-하이드록시페닐)술포늄, 디메틸(p-메르캅토페닐)술포늄, 디메틸(p-메틸술피닐페닐)술포늄, 디메틸(p-메틸술포닐페닐)술포늄, 디메틸(o-아세틸페닐)술포늄, 디메틸(o-벤조일페닐)술포늄, 디메틸(p-메틸페닐)술포늄, 디메틸(p-이소프로필페닐)술포늄, 디메틸(p-옥타데실페닐)술포늄, 디메틸(p-시클로헥실페닐)술포늄, 디메틸(p-메톡시페닐)술포늄, 디메틸(o-메톡시카르보닐페닐)술포늄, 디메틸(p-페닐술파닐페닐)술포늄, (7-메톡시-2-옥소-2H-크로멘-4-일)디메틸술포늄, (4-메톡시나프탈렌-1-일)디메틸술포늄, 디메틸(p-이소프로폭시카르보닐페닐)술포늄, 디메틸(2-나프틸)술포늄, 디메틸(9-안트릴)술포늄, 디에틸페닐술포늄, 메틸에틸페닐술포늄, 메틸디페닐술포늄, 트리페닐술포늄, 디이소프로필페닐술포늄, 디페닐(4-페닐술파닐-페닐)-술포늄, 4,4'-비스(디페닐술포늄)디페닐술파이드, 4,4'-비스[디[(4-(2-하이드록시-에톡시)-페닐)]술포늄]]디페닐술파이드, 4,4'-비스(디페닐술포늄)비페닐렌, 디페닐(o-플루오로페닐)술포늄, 디페닐(m-클로로페닐)술포늄, 디페닐(p-브로모페닐)술포늄, 디페닐(p-시아노페닐)술포늄, 디페닐(m-니트로페닐)술포늄, 디페닐(2,4,6-트리브로모페닐)술포늄, 디페닐(펜타플루오로페닐)술포늄, 디페닐(p-(트리플루오로메틸)페닐)술포늄, 디페닐(p-하이드록시페닐)술포늄, 디페닐(p-메르캅토페닐)술포늄, 디페닐(p-메틸술피닐페닐)술포늄, 디페닐(p-메틸술포닐페닐)술포늄, 디페닐(o-아세틸페닐)술포늄, 디페닐(o-벤조일페닐)술포늄, 디페닐(p-메틸페닐)술포늄, 디페닐(p-이소프로필페닐)술포늄, 디페닐(p-옥타데실페닐)술포늄, 디페닐(p-시클로헥실페닐)술포늄, 디페닐(p-메톡시페닐)술포늄, 디페닐(o-메톡시카르보닐페닐)술포늄, 디페닐(p-페닐술파닐페닐)술포늄, (7-메톡시-2-옥소-2H-크로멘-4-일)디페닐술포늄, (4-메톡시나프탈렌-1-일)디페닐술포늄, 디페닐(p-이소프로폭시카르보닐페닐)술포늄, 디페닐(2-나프틸)술포늄, 디페닐(9-안트릴)술포늄, 에틸디페닐술포늄, 메틸에틸(o-톨릴)술포늄, 메틸디(p-톨릴)술포늄, 트리(p-톨릴)술포늄, 디이소프로필(4-페닐술파닐페닐)술포늄, 디페닐(2-티에닐)술포늄, 디페닐(2-푸릴)술포늄, 디페닐(9-에틸-9H카르바졸-3-일)술포늄 등을 들 수 있지만, 이것들에 한정되는 것은 아니다.Dimethylphenylsulfonium, dimethyl(o-fluorophenyl)sulfonium, dimethyl(m-chlorophenyl)sulfonium, dimethyl(p-bromophenyl)sulfonium, dimethyl(p-cyanophenyl)sulfonium, dimethyl( m-nitrophenyl)sulfonium, dimethyl(2,4,6-tribromophenyl)sulfonium, dimethyl(pentafluorophenyl)sulfonium, dimethyl(p-(trifluoromethyl)phenyl)sulfonium, dimethyl (p-hydroxyphenyl)sulfonium, dimethyl(p-mercaptophenyl)sulfonium, dimethyl(p-methylsulfinylphenyl)sulfonium, dimethyl(p-methylsulfonylphenyl)sulfonium, dimethyl(o-acetyl) Phenyl) sulfonium, dimethyl (o-benzoylphenyl) sulfonium, dimethyl (p-methylphenyl) sulfonium, dimethyl (p-isopropylphenyl) sulfonium, dimethyl (p-octadecylphenyl) sulfonium, dimethyl (p- Cyclohexylphenyl)sulfonium, dimethyl(p-methoxyphenyl)sulfonium, dimethyl(o-methoxycarbonylphenyl)sulfonium, dimethyl(p-phenylsulfanylphenyl)sulfonium, (7-methoxy-2 -Oxo-2H-chromen-4-yl)dimethylsulfonium, (4-methoxynaphthalen-1-yl)dimethylsulfonium, dimethyl (p-isopropoxycarbonylphenyl)sulfonium, dimethyl (2-naph) Tyl) sulfonium, dimethyl (9-anthryl) sulfonium, diethylphenylsulfonium, methylethylphenylsulfonium, methyldiphenylsulfonium, triphenylsulfonium, diisopropylphenylsulfonium, diphenyl (4- Phenylsulfanyl-phenyl)-sulfonium, 4,4'-bis(diphenylsulfonium)diphenylsulfide, 4,4'-bis[di[(4-(2-hydroxy-ethoxy)-phenyl] )]Sulfonium]]diphenylsulfide, 4,4'-bis(diphenylsulfonium)biphenylene, diphenyl(o-fluorophenyl)sulfonium, diphenyl(m-chlorophenyl)sulfonium, Diphenyl (p-bromophenyl) sulfonium, diphenyl (p-cyanophenyl) sulfonium, diphenyl (m-nitrophenyl) sulfonium, diphenyl (2,4,6-tribromophenyl) alcohol Phonium, diphenyl (pentafluorophenyl) sulfonium, diphenyl (p-(trifluoromethyl) phenyl) sulfonium, diphenyl (p-hydroxyphenyl) sulfonium, diphenyl (p-mercaptophenyl) Sulfonium, diphenyl (p-methylsulfinylphenyl) sulfonium, diphenyl (p-methylsulfonylphenyl) sulfonium, diphenyl (o-acetylphenyl) sulfonium, diphenyl (o-benzoylphenyl) sulfonium , Diphenyl (p-methylphenyl) sulfonium, diphenyl (p-isopropylphenyl) sulfonium, diphenyl (p-octadecylphenyl) sulfonium, diphenyl (p-cyclohexylphenyl) sulfo Nium, diphenyl (p-methoxyphenyl) sulfonium, diphenyl (o-methoxycarbonylphenyl) sulfonium, diphenyl (p-phenylsulfanylphenyl) sulfonium, (7-methoxy-2-oxo -2H-chromen-4-yl)diphenylsulfonium, (4-methoxynaphthalen-1-yl)diphenylsulfonium, diphenyl(p-isopropoxycarbonylphenyl)sulfonium, diphenyl(2 -Naphthyl)sulfonium, diphenyl(9-anthryl)sulfonium, ethyldiphenylsulfonium, methylethyl(o-tolyl)sulfonium, methyldi(p-tolyl)sulfonium, tri(p-tolyl) Sulfonium, diisopropyl(4-phenylsulfanylphenyl)sulfonium, diphenyl(2-thienyl)sulfonium, diphenyl(2-furyl)sulfonium, diphenyl(9-ethyl-9Hcarbazole-3) -Il)sulfonium, etc. are mentioned, but are not limited to these.

일반식 (5) 에 해당하는 오늄 카티온 (술폭소늄 카티온) :Onium cation (sulfoxonium cation) corresponding to general formula (5):

디메틸페닐술폭소늄, 디메틸(o-플루오로페닐)술폭소늄, 디메틸(m-클로로페닐)술폭소늄, 디메틸(p-브로모페닐)술폭소늄, 디메틸(p-시아노페닐)술폭소늄, 디메틸(m-니트로페닐)술폭소늄, 디메틸(2,4,6-트리브로모페닐)술폭소늄, 디메틸(펜타플루오로페닐)술폭소늄, 디메틸(p-(트리플루오로메틸)페닐)술폭소늄, 디메틸(p-하이드록시페닐)술폭소늄, 디메틸(p-메르캅토페닐)술폭소늄, 디메틸(p-메틸술피닐페닐)술폭소늄, 디메틸(p-메틸술포닐페닐)술폭소늄, 디메틸(o-아세틸페닐)술폭소늄, 디메틸(o-벤조일페닐)술폭소늄, 디메틸(p-메틸페닐)술폭소늄, 디메틸(p-이소프로필페닐)술폭소늄, 디메틸(p-옥타데실페닐)술폭소늄, 디메틸(p-시클로헥실페닐)술폭소늄, 디메틸(p-메톡시페닐)술폭소늄, 디메틸(o-메톡시카르보닐페닐)술폭소늄, 디메틸(p-페닐술파닐페닐)술폭소늄, (7-메톡시-2-옥소-2H-크로멘-4-일)디메틸술폭소늄, (4-메톡시나프탈렌-1-일)디메틸술폭소늄, 디메틸(p-이소프로폭시카르보닐페닐)술폭소늄, 디메틸(2-나프틸)술폭소늄, 디메틸(9-안트릴)술폭소늄, 디에틸페닐술폭소늄, 메틸에틸페닐술폭소늄, 메틸디페닐술폭소늄, 트리페닐술폭소늄, 디이소프로필페닐술폭소늄, 디페닐(4-페닐술파닐-페닐)-술폭소늄, 4,4'-비스(디페닐술폭소늄)디페닐술파이드, 4,4'-비스[디[(4-(2-하이드록시-에톡시)-페닐)]술폭소늄]디페닐술파이드, 4,4'-비스(디페닐술폭소늄)비페닐렌, 디페닐(o-플루오로페닐)술폭소늄, 디페닐(m-클로로페닐)술폭소늄, 디페닐(p-브로모페닐)술폭소늄, 디페닐(p-시아노페닐)술폭소늄, 디페닐(m-니트로페닐)술폭소늄, 디페닐(2,4,6-트리브로모페닐)술폭소늄, 디페닐(펜타플루오로페닐)술폭소늄, 디페닐(p-(트리플루오로메틸)페닐)술폭소늄, 디페닐(p-하이드록시페닐)술폭소늄, 디페닐(p-메르캅토페닐)술폭소늄, 디페닐(p-메틸술피닐페닐)술폭소늄, 디페닐(p-메틸술포닐페닐)술폭소늄, 디페닐(o-아세틸페닐)술폭소늄, 디페닐(o-벤조일페닐)술폭소늄, 디페닐(p-메틸페닐)술폭소늄, 디페닐(p-이소프로필페닐)술폭소늄, 디페닐(p-옥타데실페닐)술폭소늄, 디페닐(p-시클로헥실페닐)술폭소늄, 디페닐(p-메톡시페닐)술폭소늄, 디페닐(o-메톡시카르보닐페닐)술폭소늄, 디페닐(p-페닐술파닐페닐)술폭소늄, (7-메톡시-2-옥소-2H-크로멘-4-일)디페닐술폭소늄, (4-메톡시나프탈렌-1-일)디페닐술폭소늄, 디페닐(p-이소프로폭시카르보닐페닐)술폭소늄, 디페닐(2-나프틸)술폭소늄, 디페닐(9-안트릴))술폭소늄, 에틸디페닐술폭소늄, 메틸에틸(o-톨릴)술폭소늄, 메틸디(p-톨릴)술폭소늄, 트리(p-톨릴)술폭소늄, 디이소프로필(4-페닐술파닐페닐)술폭소늄, 디페닐(2-티에닐)술폭소늄, 디페닐(2-푸릴)술폭소늄, 디페닐(9-에틸-9H카르바졸-3-일)술폭소늄 등을 들 수 있지만, 이것들에 한정되는 것은 아니다.Dimethylphenylsulfoxonium, dimethyl(o-fluorophenyl)sulfoxonium, dimethyl(m-chlorophenyl)sulfoxonium, dimethyl(p-bromophenyl)sulfoxonium, dimethyl(p-cyanophenyl)sulfur Foxonium, dimethyl(m-nitrophenyl)sulfoxonium, dimethyl(2,4,6-tribromophenyl)sulfoxonium, dimethyl(pentafluorophenyl)sulfoxonium, dimethyl(p-(trifluoro Methyl)phenyl)sulfoxonium, dimethyl(p-hydroxyphenyl)sulfoxonium, dimethyl(p-mercaptophenyl)sulfoxonium, dimethyl(p-methylsulfinylphenyl)sulfoxonium, dimethyl(p-methyl Sulfonylphenyl)sulfoxonium, dimethyl(o-acetylphenyl)sulfoxonium, dimethyl(o-benzoylphenyl)sulfoxonium, dimethyl(p-methylphenyl)sulfoxonium, dimethyl(p-isopropylphenyl)sulfoxonium Nium, dimethyl (p-octadecylphenyl) sulfoxonium, dimethyl (p-cyclohexylphenyl) sulfoxonium, dimethyl (p-methoxyphenyl) sulfoxonium, dimethyl (o-methoxycarbonylphenyl) sulfoxy Nium, dimethyl (p-phenylsulfanylphenyl) sulfoxonium, (7-methoxy-2-oxo-2H-chromen-4-yl) dimethylsulfoxonium, (4-methoxynaphthalen-1-yl) Dimethylsulfoxonium, dimethyl(p-isopropoxycarbonylphenyl)sulfoxonium, dimethyl(2-naphthyl)sulfoxonium, dimethyl(9-anthryl)sulfoxonium, diethylphenylsulfoxonium, methyl Ethylphenylsulfoxonium, methyldiphenylsulfoxonium, triphenylsulfoxonium, diisopropylphenylsulfoxonium, diphenyl(4-phenylsulfanyl-phenyl)-sulfoxonium, 4,4'-bis( Diphenylsulfoxonium)diphenylsulfide, 4,4'-bis[di[(4-(2-hydroxy-ethoxy)-phenyl)]sulfoxonium]diphenylsulfide, 4,4'- Bis(diphenylsulfoxonium)biphenylene, diphenyl(o-fluorophenyl)sulfoxonium, diphenyl(m-chlorophenyl)sulfoxonium, diphenyl(p-bromophenyl)sulfoxonium, Diphenyl (p-cyanophenyl) sulfoxonium, diphenyl (m-nitrophenyl) sulfoxonium, diphenyl (2,4,6-tribromophenyl) sulfoxonium, diphenyl (pentafluorophenyl) ) Sulfoxonium, diphenyl (p-(trifluoromethyl) phenyl) sulfoxonium, diphenyl (p-hydroxyphenyl) sulfoxonium, diphenyl (p-mercaptophenyl) sulfoxonium, diphenyl (p-methylsulfinylphenyl) sulfoxonium, diphenyl (p-methylsulfonylphenyl) sulfoxonium, diphenyl (o-acetylphenyl) sulfoxonium, diphenyl (o-benzoylphenyl) sulfoxonium, Diphenyl (p-methylphenyl) sulfoxonium, diphenyl (p-isopropylphenyl) sulfoxonium, diphenyl (p-octadecylphenyl) sulfoxonium, diphenyl (p-cyclohexylphenyl) sulfoxonium, diphenyl (p-methoxyphenyl) sulfoxonium, Diphenyl (o-methoxycarbonylphenyl) sulfoxonium, diphenyl (p-phenylsulfanylphenyl) sulfoxonium, (7-methoxy-2-oxo-2H-chromen-4-yl) diphenyl Sulfoxonium, (4-methoxynaphthalen-1-yl)diphenylsulfoxonium, diphenyl(p-isopropoxycarbonylphenyl)sulfoxonium, diphenyl(2-naphthyl)sulfoxonium, di Phenyl (9-anthryl)) sulfoxonium, ethyldiphenylsulfoxonium, methylethyl (o-tolyl) sulfoxonium, methyldi (p-tolyl) sulfoxonium, tri (p-tolyl) sulfoxonium , Diisopropyl(4-phenylsulfanylphenyl)sulfoxonium, diphenyl(2-thienyl)sulfoxonium, diphenyl(2-furyl)sulfoxonium, diphenyl(9-ethyl-9Hcarbazole- 3-yl) sulfoxonium etc. are mentioned, but it is not limited to these.

일반식 (6) 에 해당하는 오늄 카티온 (포스포늄 카티온) : Onium cation (phosphonium cation) corresponding to general formula (6):

포스포늄 카티온의 예 : Examples of phosphonium cation:

트리메틸페틸포스포늄, 트리에틸페닐포스포늄, 테트라페닐포스포늄, 트리페닐(p-플루오로페닐)포스포늄, 트리페닐(o-클로로페닐)포스포늄, 트리페닐(m-브로모페닐)포스포늄, 트리페닐(p-시아노페닐)포스포늄, 트리페닐(m-니트로페닐)포스포늄, 트리페닐(p-페닐술파닐페닐)포스포늄, (7-메톡시-2-옥소-2H-크로멘-4-일)트리페닐포스포늄, 트리페닐(o-하이드록시페닐)포스포늄, 트리페닐(o-아세틸페닐)포스포늄, 트리페닐(m-벤조일페닐)포스포늄, 트리페닐(p-메틸페닐)포스포늄, 트리페닐(p-이소프로폭시페닐)포스포늄, 트리페닐(o-메톡시카르보닐페닐)포스포늄, 트리페닐(1-나프틸)포스포늄, 트리페닐(9-안트릴)포스포늄, 트리페닐(2-티에닐)포스포늄, 트리페닐(2-푸릴)포스포늄, 트리페닐(9-에틸-9H카르바졸-3-일)포스포늄 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.Trimethylphenylphosphonium, triethylphenylphosphonium, tetraphenylphosphonium, triphenyl (p-fluorophenyl) phosphonium, triphenyl (o-chlorophenyl) phosphonium, triphenyl (m-bromophenyl) phosphonium , Triphenyl (p-cyanophenyl) phosphonium, triphenyl (m-nitrophenyl) phosphonium, triphenyl (p-phenylsulfanylphenyl) phosphonium, (7-methoxy-2-oxo-2H-chrome Men-4-yl) triphenylphosphonium, triphenyl (o-hydroxyphenyl) phosphonium, triphenyl (o-acetylphenyl) phosphonium, triphenyl (m-benzoylphenyl) phosphonium, triphenyl (p- Methylphenyl)phosphonium, triphenyl(p-isopropoxyphenyl)phosphonium, triphenyl(o-methoxycarbonylphenyl)phosphonium, triphenyl(1-naphthyl)phosphonium, triphenyl(9-anthryl) ) Phosphonium, triphenyl (2-thienyl) phosphonium, triphenyl (2-furyl) phosphonium, triphenyl (9-ethyl-9H carbazol-3-yl) phosphonium, etc. are mentioned. It is not limited.

일반식 (7) 에 해당하는 오늄 카티온 (피리디늄 카티온) :Onium cation (pyridinium cation) corresponding to general formula (7):

피리디늄 카티온의 예 : Examples of pyridinium cation:

N-페닐피리디늄, N-(o-클로로페닐)피리디늄, N-(m-클로로페닐)피리디늄, N-(p-시아노페닐)피리디늄, N-(o-니트로페닐)피리디늄, N-(p-아세틸페닐)피리디늄, N-(p-이소프로필페닐)피리디늄, N-(p-옥타데실옥시페닐)피리디늄, N-(p-메톡시카르보닐페닐)피리디늄, N-(9-안트릴)피리디늄, 2-클로로-1-페닐피리디늄, 2-시아노-1-페닐피리디늄, 2-메틸-1-페닐피리디늄, 2-비닐-1-페닐피리디늄, 2-페닐-1-페닐피리디늄, 1,2-디페닐피리디늄, 2-메톡시-1-페닐피리디늄, 2-페녹시-1-페닐피리디늄, 2-아세틸-1-(p-톨릴)피리디늄, 2-메톡시카르보닐-1-(p-톨릴)피리디늄, 3-플루오로-1-나프틸피리디늄, 4-메틸-1-(2-푸릴)피리디늄, N-메틸피리디늄, N-에틸피리디늄 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.N-phenylpyridinium, N-(o-chlorophenyl)pyridinium, N-(m-chlorophenyl)pyridinium, N-(p-cyanophenyl)pyridinium, N-(o-nitrophenyl)pyridinium , N-(p-acetylphenyl)pyridinium, N-(p-isopropylphenyl)pyridinium, N-(p-octadecyloxyphenyl)pyridinium, N-(p-methoxycarbonylphenyl)pyridinium , N-(9-anthryl)pyridinium, 2-chloro-1-phenylpyridinium, 2-cyano-1-phenylpyridinium, 2-methyl-1-phenylpyridinium, 2-vinyl-1-phenyl Pyridinium, 2-phenyl-1-phenylpyridinium, 1,2-diphenylpyridinium, 2-methoxy-1-phenylpyridinium, 2-phenoxy-1-phenylpyridinium, 2-acetyl-1- (p-tolyl)pyridinium, 2-methoxycarbonyl-1-(p-tolyl)pyridinium, 3-fluoro-1-naphthylpyridinium, 4-methyl-1-(2-furyl)pyridinium , N-methylpyridinium, N-ethylpyridinium, and the like, but are not limited thereto.

일반식 (8) 에 해당하는 오늄 카티온 (퀴놀리늄 카티온) : Onium cation (quinolinium cation) corresponding to general formula (8):

퀴놀리늄 카티온의 예 :Examples of quinolinium cation:

N-메틸퀴놀리늄, N-에틸퀴놀리늄, N-페닐퀴놀리늄, N-나프틸퀴놀리늄, N-(o-클로로페닐)퀴놀리늄, N-(m-클로로페닐)퀴놀리늄, N-(p-시아노페닐)퀴놀리늄, N-(o-니트로페닐)퀴놀리늄, N-(p-아세틸페닐)퀴놀리늄, N-(p-이소프로필페닐)퀴놀리늄, N-(p-옥타데실옥시페닐)퀴놀리늄, N-(p-메톡시카르보닐페닐)퀴놀리늄, N-(9-안트릴)퀴놀리늄, 2-클로로-1-페닐퀴놀리늄, 2-시아노-1-페닐퀴놀리늄, 2-메틸-1-페닐퀴놀리늄, 2-비닐-1-페닐퀴놀리늄, 2-페닐-1-페닐퀴놀리늄, 1,2-디페닐퀴놀리늄, 2-메톡시-1-페닐퀴놀리늄, 2-페녹시-1-페닐퀴놀리늄, 2-아세틸-1-페닐퀴놀리늄, 2-메톡시카르보닐-1-페닐퀴놀리늄, 3-플루오로-1-페닐퀴놀리늄, 4-메틸-1-페닐퀴놀리늄, 2-메톡시-1-(p-톨릴)퀴놀리늄, 2-페녹시-1-(2-푸릴)퀴놀리늄, 2-아세틸-1-(2-티에닐)퀴놀리늄, 2-메톡시카르보닐-1-메틸퀴놀리늄, 3-플루오로-1-에틸퀴놀리늄, 4-메틸-1-이소프로필퀴놀리늄 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.N-methylquinolinium, N-ethylquinolinium, N-phenylquinolinium, N-naphthylquinolinium, N-(o-chlorophenyl)quinolinium, N-(m-chlorophenyl)quinoli Nium, N-(p-cyanophenyl)quinolinium, N-(o-nitrophenyl)quinolinium, N-(p-acetylphenyl)quinolinium, N-(p-isopropylphenyl)quinoli Nium, N-(p-octadecyloxyphenyl)quinolinium, N-(p-methoxycarbonylphenyl)quinolinium, N-(9-anthryl)quinolinium, 2-chloro-1-phenyl Quinolinium, 2-cyano-1-phenylquinolinium, 2-methyl-1-phenylquinolinium, 2-vinyl-1-phenylquinolinium, 2-phenyl-1-phenylquinolinium, 1 ,2-diphenylquinolinium, 2-methoxy-1-phenylquinolinium, 2-phenoxy-1-phenylquinolinium, 2-acetyl-1-phenylquinolinium, 2-methoxycarbonyl -1-phenylquinolinium, 3-fluoro-1-phenylquinolinium, 4-methyl-1-phenylquinolinium, 2-methoxy-1-(p-tolyl)quinolinium, 2-phenoxy Cy-1-(2-furyl)quinolinium, 2-acetyl-1-(2-thienyl)quinolinium, 2-methoxycarbonyl-1-methylquinolinium, 3-fluoro-1- Ethylquinolinium, 4-methyl-1-isopropylquinolinium, and the like, but are not limited thereto.

일반식 (9) 에 해당하는 오늄 카티온 (이소퀴놀리늄 카티온) :Onium cation (isoquinolinium cation) corresponding to general formula (9):

이소퀴놀리늄 카티온의 예 :Examples of isoquinolinium cation:

N-페닐이소퀴놀리늄, N-메틸이소퀴놀리늄, N-에틸이소퀴놀리늄, N-(o-클로로페닐)이소퀴놀리늄, N-(m-클로로페닐)이소퀴놀리늄, N-(p-시아노페닐)이소퀴놀리늄, N-(o-니트로페닐)이소퀴놀리늄, N-(p-아세틸페닐)이소퀴놀리늄, N-(p-이소프로필페닐)이소퀴놀리늄, N-(p-옥타데실옥시페닐)이소퀴놀리늄, N-(p-메톡시카르보닐페닐)이소퀴놀리늄, N-(9-안트릴)이소퀴놀리늄, 1,2-디페닐이소퀴놀리늄, N-(2-푸릴)이소퀴놀리늄, N-(2-티에닐)이소퀴놀리늄, N-나프틸이소퀴놀리늄 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.N-phenylisoquinolinium, N-methylisoquinolinium, N-ethylisoquinolinium, N-(o-chlorophenyl)isoquinolinium, N-(m-chlorophenyl)isoquinolinium, N-(p-cyanophenyl)isoquinolinium, N-(o-nitrophenyl)isoquinolinium, N-(p-acetylphenyl)isoquinolinium, N-(p-isopropylphenyl)iso Quinolinium, N-(p-octadecyloxyphenyl)isoquinolinium, N-(p-methoxycarbonylphenyl)isoquinolinium, N-(9-anthryl)isoquinolinium, 1, 2-diphenylisoquinolinium, N-(2-furyl)isoquinolinium, N-(2-thienyl)isoquinolinium, N-naphthylisoquinolinium, etc. are mentioned. It is not limited.

일반식 (10) 에 해당하는 오늄 카티온 (벤조옥사졸륨 카티온, 벤조티아졸륨 카티온) : Onium cation (benzoxazolium cation, benzothiazolium cation) corresponding to the general formula (10):

벤조옥사졸륨 카티온의 예 :Examples of benzoxazolium cation:

N-메틸벤조옥사졸륨, N-에틸벤조옥사졸륨, N-나프틸벤조옥사졸륨, N-페닐벤조옥사졸륨, N-(p-플루오로페닐)벤조옥사졸륨, N-(p-클로로페닐)벤조옥사졸륨, N-(p-시아노페닐)벤조옥사졸륨, N-(o-메톡시카르보닐페닐)벤조옥사졸륨, N-(2-푸릴)벤조옥사졸륨, N-(o-플루오로페닐)벤조옥사졸륨, N-(p-시아노페닐)벤조옥사졸륨, N-(m-니트로페닐)벤조옥사졸륨, N-(p-이소프로폭시카르보닐페닐)벤조옥사졸륨, N-(2-티에닐)벤조옥사졸륨, N-(m-카르복시페닐)벤조옥사졸륨, 2-메르캅토-3-페닐벤조옥사졸륨, 2-메틸-3-페닐벤조옥사졸륨, 2-메틸티오-3-(4-페닐술파닐페닐)벤조옥사졸륨, 6-하이드록시-3-(p-톨릴)벤조옥사졸륨, 7-메르캅토-3-페닐벤조옥사졸륨, 4,5-디플루오로-3-에틸벤조옥사졸륨 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.N-methylbenzooxazolium, N-ethylbenzooxazolium, N-naphthylbenzooxazolium, N-phenylbenzooxazolium, N-(p-fluorophenyl)benzooxazolium, N-(p-chlorophenyl) Benzooxazolium, N-(p-cyanophenyl)benzoxazolium, N-(o-methoxycarbonylphenyl)benzoxazolium, N-(2-furyl)benzooxazolium, N-(o-fluoro Phenyl) benzoxazolium, N-(p-cyanophenyl) benzoxazolium, N-(m-nitrophenyl) benzoxazolium, N-(p-isopropoxycarbonylphenyl) benzoxazolium, N-( 2-thienyl)benzoxazolium, N-(m-carboxyphenyl)benzoxazolium, 2-mercapto-3-phenylbenzooxazolium, 2-methyl-3-phenylbenzooxazolium, 2-methylthio-3 -(4-phenylsulfanylphenyl)benzoxazolium, 6-hydroxy-3-(p-tolyl)benzooxazolium, 7-mercapto-3-phenylbenzooxazolium, 4,5-difluoro-3 -Ethyl benzoxazolium, etc. are mentioned, but it is not limited to these.

벤조티아졸륨 카티온의 예 : Examples of benzothiazolium cation:

N-메틸벤조티아졸륨, N-에틸벤조티아졸륨, N-페닐벤조티아졸륨, N-(1-나프틸)벤조티아졸륨, N-(p-플루오로페닐)벤조티아졸륨, N-(p-클로로페닐)벤조티아졸륨, N-(p-시아노페닐)벤조티아졸륨, N-(o-메톡시카르보닐페닐)벤조티아졸륨, N-(p-톨릴)벤조티아졸륨, N-(o-플루오로페닐)벤조티아졸륨, N-(m-니트로페닐)벤조티아졸륨, N-(p-이소프로폭시카르보닐페닐)벤조티아졸륨, N-(2-푸릴)벤조티아졸륨, N-(4-메틸티오페닐)벤조티아졸륨, N-(4-페닐술파닐페닐)벤조티아졸륨, N-(2-나프틸)벤조티아졸륨, N-(m-카르복시페닐)벤조티아졸륨, 2-메르캅토-3-페닐벤조티아졸륨, 2-메틸-3-페닐벤조티아졸륨, 2-메틸티오-3-페닐벤조티아졸륨, 6-하이드록시-3-페닐벤조티아졸륨, 7-메르캅토-3-페닐벤조티아졸륨, 4,5-디플루오로-3-페닐벤조티아졸륨 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. N-methylbenzothiazolium, N-ethylbenzothiazolium, N-phenylbenzothiazolium, N-(1-naphthyl)benzothiazolium, N-(p-fluorophenyl)benzothiazolium, N-(p -Chlorophenyl)benzothiazolium, N-(p-cyanophenyl)benzothiazolium, N-(o-methoxycarbonylphenyl)benzothiazolium, N-(p-tolyl)benzothiazolium, N-( o-fluorophenyl)benzothiazolium, N-(m-nitrophenyl)benzothiazolium, N-(p-isopropoxycarbonylphenyl)benzothiazolium, N-(2-furyl)benzothiazolium, N -(4-methylthiophenyl)benzothiazolium, N-(4-phenylsulfanylphenyl)benzothiazolium, N-(2-naphthyl)benzothiazolium, N-(m-carboxyphenyl)benzothiazolium, 2-mercapto-3-phenylbenzothiazolium, 2-methyl-3-phenylbenzothiazolium, 2-methylthio-3-phenylbenzothiazolium, 6-hydroxy-3-phenylbenzothiazolium, 7-mer Capto-3-phenylbenzothiazolium, 4,5-difluoro-3-phenylbenzothiazolium, etc. may be mentioned, but the present invention is not limited thereto.

일반식 (11) 에 해당하는 오늄 카티온 (푸릴 혹은 티에닐요오드늄 카티온) :Onium cation (furyl or thienyliodonium cation) corresponding to the general formula (11):

디푸릴요오드늄, 디티에닐요오드늄, 비스(4,5-디메틸-2-푸릴)요오드늄, 비스(5-클로로-2-티에닐)요오드늄, 비스(5-시아노-2-푸릴)요오드늄, 비스(5-니트로-2-티에닐)요오드늄, 비스(5-아세틸-2-푸릴)요오드늄, 비스(5-카르복시-2-티에닐)요오드늄, 비스(5-메톡시카르보닐-2-푸릴)요오드늄, 비스(5-페닐-2-푸릴)요오드늄, 비스(5-(p-메톡시페닐)-2-티에닐)요오드늄, 비스(5-비닐-2-푸릴)요오드늄, 비스(5-에티닐-2-티에닐)요오드늄, 비스(5-시클로헥실-2-푸릴)요오드늄, 비스(5-하이드록시-2-티에닐)요오드늄, 비스(5-페녹시-2-푸릴)요오드늄, 비스(5-메르캅토-2-티에닐)요오드늄, 비스(5-부틸티오-2-티에닐)요오드늄, 비스(5-페닐티오-2-티에닐)요오드늄 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.Difuryliodonium, dithienyliodonium, bis(4,5-dimethyl-2-furyl)iodonium, bis(5-chloro-2-thienyl)iodonium, bis(5-cyano-2-furyl) ) Iodonium, bis(5-nitro-2-thienyl)iodonium, bis(5-acetyl-2-furyl)iodonium, bis(5-carboxy-2-thienyl)iodonium, bis(5-me Toxycarbonyl-2-furyl)iodonium, bis(5-phenyl-2-furyl)iodonium, bis(5-(p-methoxyphenyl)-2-thienyl)iodonium, bis(5-vinyl- 2-furyl)iodonium, bis(5-ethynyl-2-thienyl)iodonium, bis(5-cyclohexyl-2-furyl)iodonium, bis(5-hydroxy-2-thienyl)iodonium , Bis(5-phenoxy-2-furyl)iodonium, bis(5-mercapto-2-thienyl)iodonium, bis(5-butylthio-2-thienyl)iodonium, bis(5-phenyl Thio-2-thienyl)iodonium, etc. are mentioned, but it is not limited to these.

일반식 (12) 에 해당하는 오늄 카티온 (디아릴요오드늄 카티온) :Onium cation (diaryliodonium cation) corresponding to the general formula (12):

디페닐요오드늄, 비스(p-톨릴)요오드늄, 비스(p-옥틸페닐)요오드늄, 비스(p-옥타데실페닐)요오드늄, 비스(p-옥틸옥시페닐)요오드늄, 비스(p-옥타데실옥시페닐)요오드늄, 페닐(p-옥타데실옥시페닐)요오드늄, 4-이소프로필-4'-메틸디페닐요오드늄, (4-이소부틸페닐)-p-톨릴요오드늄, 비스(1-나프틸)요오드늄, 비스(4-페닐술파닐페닐)요오드늄, 페닐(6-벤조일-9-에틸-9H-카르바졸-3-일)요오드늄, (7-메톡시-2-옥소-2H-크로멘-3-일)-4'-이소프로필페닐요오드늄 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. Diphenyliodonium, bis(p-tolyl)iodonium, bis(p-octylphenyl)iodonium, bis(p-octadecylphenyl)iodonium, bis(p-octyloxyphenyl)iodonium, bis(p- Octadecyloxyphenyl) iodonium, phenyl (p-octadecyloxyphenyl) iodonium, 4-isopropyl-4'-methyldiphenyliodonium, (4-isobutylphenyl)-p-tolyliodonium, bis( 1-naphthyl)iodonium, bis(4-phenylsulfanylphenyl)iodonium, phenyl(6-benzoyl-9-ethyl-9H-carbazol-3-yl)iodonium, (7-methoxy-2- Oxo-2H-chromen-3-yl)-4'-isopropylphenyliodonium, and the like, but are not limited thereto.

다음으로, 일반식 (3) 중의 카운터 아니온 X- 에 대해 설명한다.Next, the counter anion X - in General Formula (3) will be described.

일반식 (3) 중의 카운터 아니온 X- 는 원리적으로 특별히 한정되는 것은 아니지만, 비구핵성 아니온이 바람직하다. 카운터 아니온 X- 가 비구핵성 아니온인 경우, 분자 내에 공존하는 카티온이나 병용되는 각종 재료에 있어서의 구핵 반응이 일어나기 어렵기 때문에, 결과적으로 일반식 (2) 로 표기되는 광산 발생제 자신이나 그것을 사용한 조성물의 시간 경과적 안정성을 향상시킬 수 있다. 여기서 말하는 비구핵성 아니온이란, 구핵 반응을 일으키는 능력이 낮은 아니온을 가리킨다. 이와 같은 아니온으로는, PF6 -, SbF6 -, AsF6 -, SbCl6 -, BiCl5 -, SnCl6 -, ClO4 -, 디티오카르바메이트 아니온, SCN- 등을 들 수 있다.The counter anion X - in General Formula (3) is not particularly limited in principle, but a non-nucleophilic anion is preferable. When the counter anion X - is a non-nucleophilic anion, it is difficult to cause a nucleophilic reaction in a cation coexisting in a molecule or various materials used in combination. As a result, the photoacid generator itself represented by the general formula (2) The stability over time of the composition using it can be improved. The non-nucleophilic anion here refers to an anion having a low ability to cause a nucleophilic reaction. In this anion, such as it is, PF 6 -, and the like -, SbF 6 -, AsF 6 -, SbCl 6 -, BiCl 5 -, SnCl 6 -, ClO 4 -, dithiocarbamate anion, SCN .

상기한 예시 아니온 중에서, 일반식 (3) 중의 카운터 아니온 X- 로서 특히 바람직한 것으로는, PF6 -, SbF6 -, 및 AsF6 - 를 들 수 있고, 특히 바람직하게는 PF6 -, SbF6 - 를 들 수 있다.As particularly preferred as is, PF 6 - - counter anion X in from the one illustrated anionic, formula (3), SbF 6 -, and AsF 6 - may be mentioned, and particularly preferably PF 6 -, SbF 6 - is mentioned.

따라서, 본 발명의 광산 발생제 (H) 를 구성하는 바람직한 오늄염의 구체예로는, 상기 예시의 일반식 (3) ∼ 일반식 (12) 로 나타내는 오늄 카티온의 구조의 구체예와 PF6 -, SbF6 -, AsF6 -, SbCl6 -, BiCl5 -, SnCl6 -, ClO4 -, 디티오카르바메이트 아니온, SCN- 에서 선택되는 아니온으로 이루어지는 오늄염이다.Thus, specific examples of the structure of the Preferred onium salts embodiment constituting the photo-acid generator (H) of the present invention, the onium cation represented by formula (3) to Formula (12) in the illustrated example and PF 6 - , SbF 6 -, AsF 6 - , SbCl 6 -, BiCl 5 -, SnCl 6 -, ClO 4 - is an anion selected from the consisting of O salt -, dithiocarbamate anion, SCN.

구체적으로는, 「사이라큐어 UVI-6992」, 「사이라큐어 UVI-6974」(이상, 다우 케미컬 닛폰 주식회사 제조), 「아데카옵토머 SP150」, 「아데카옵토머 SP152」, 「아데카옵토머 SP170」, 「아데카옵토머 SP172」(이상, 주식회사 ADEKA 제조), 「IRGACURE 250」(치바 스페셜티 케미컬즈사 제조), 「CI-5102」, 「CI-2855」(이상, 닛폰소다사 제조), 「산에이드 SI-60L」, 「산에이드 SI-80L」, 「산에이드 SI-100L」, 「산에이드 SI-110L」, 「산에이드 SI-180L」(이상, 산신 화학사 제조), 「CPI-100P」, 「CPI-100A」(이상, 산아프로 주식회사 제조), 「WPI-069」, 「WPI-113」, 「WPI-116」, 「WPI-041」, 「WPI-044」, 「WPI-054」, 「WPI-055」, 「WPAG-281」, 「WPAG-567」, 「WPAG-596」(이상, 와코 준야쿠사 제조) 을 본 발명의 광산 발생제 (H) 의 바람직한 구체예로서 들 수 있다.Specifically, "Syracure UVI-6992", "Syracure UVI-6974" (above, manufactured by Dow Chemical Nippon Co., Ltd.), "Adeka Optomer SP150", "Adeka Optomer SP152", "Adeka Optomer SP170", "Adeka Optomer SP172" (above, manufactured by ADEKA Corporation), "IRGACURE 250" (manufactured by Chiba Specialty Chemicals), "CI-5102", "CI-2855" (above, manufactured by Nippon Soda Corporation) ), ``San-Aid SI-60L'', ``San-Aid SI-80L'', ``San-Aid SI-100L'', ``San-Aid SI-110L'', ``San-Aid SI-180L'' (above, manufactured by Sanshin Chemical), `` CPI-100P", "CPI-100A" (above, manufactured by San Apro Co., Ltd.), "WPI-069", "WPI-113", "WPI-116", "WPI-041", "WPI-044", " WPI-054", "WPI-055", "WPAG-281", "WPAG-567", "WPAG-596" (above, manufactured by Wako Junyaku Corporation) are preferred specific examples of the photoacid generator (H) of the present invention It can be mentioned as.

광산 발생제 (H) 의 함유량은, 활성 에너지선 경화형 접착제 중의 라디칼 중합성 화합물의 전체량 100 중량부에 대해 0.01 ∼ 10 중량부인 것이 바람직하고, 0.05 ∼ 5 중량부인 것이 보다 바람직하며, 0.1 ∼ 3 중량부인 것이 특히 바람직하다.The content of the photoacid generator (H) is preferably 0.01 to 10 parts by weight, more preferably 0.05 to 5 parts by weight, and more preferably 0.1 to 3 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the radical polymerizable compound in the active energy ray-curable adhesive. It is particularly preferably in parts by weight.

상기 활성 에너지선 경화형 접착제에 있어서, 활성 에너지선 경화형 접착제 중에 광산 발생제 (H) 와 알콕시기, 에폭시기 어느 것을 포함하는 화합물 (I) 을 병용하는 것이 바람직하다.In the active energy ray-curable adhesive, it is preferable to use a photoacid generator (H) and a compound (I) containing either an alkoxy group or an epoxy group in the active energy ray-curable adhesive.

(에폭시기를 갖는 화합물 및 고분자)(I)(Compound and polymer having an epoxy group) (I)

분자 내에 1 개 이상의 에폭시기를 갖는 화합물 또는 분자 내에 2 개 이상의 에폭시기를 갖는 고분자 (에폭시 수지) 를 사용하는 경우에는, 에폭시기와의 반응성을 갖는 관능기를 분자 내에 2 개 이상 갖는 화합물을 병용해도 된다. 여기서 에폭시기와의 반응성을 갖는 관능기란, 예를 들어 카르복실기, 페놀성 수산기, 메르캅토기, 1 급 또는 2 급의 방향족 아미노기 등을 들 수 있다. 이들 관능기는, 3 차원 경화성을 고려해, 1 분자 중에 2 개 이상 갖는 것이 특히 바람직하다.When a compound having one or more epoxy groups in the molecule or a polymer (epoxy resin) having two or more epoxy groups in the molecule is used, a compound having two or more functional groups having reactivity with an epoxy group may be used in combination. Here, the functional group having reactivity with the epoxy group includes, for example, a carboxyl group, a phenolic hydroxyl group, a mercapto group, and a primary or secondary aromatic amino group. It is particularly preferable to have two or more of these functional groups in one molecule in consideration of three-dimensional curability.

분자 내에 1 개 이상의 에폭시기를 갖는 고분자로는, 예를 들어 에폭시 수지를 들 수 있고, 비스페놀 A 와 에피클로르하이드린으로부터 유도되는 비스페놀 A 형 에폭시 수지, 비스페놀 F 와 에피클로르하이드린으로부터 유도되는 비스페놀 F 형 에폭시 수지, 비스페놀 S 형 에폭시 수지, 페놀노볼락형 에폭시 수지, 크레졸노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀 A 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀 F 노볼락형 에폭시 수지, 지환식 에폭시 수지, 디페닐에테르형 에폭시 수지, 하이드로퀴논형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 플루오렌형 에폭시 수지, 3 관능형 에폭시 수지나 4 관능형 에폭시 수지 등의 다관능형 에폭시 수지, 글리시딜에스테르형 에폭시 수지, 글리시딜아민형 에폭시 수지, 히단토인형 에폭시 수지, 이소시아누레이트형 에폭시 수지, 지방족 사슬형 에폭시 수지 등이 있고, 이들 에폭시 수지는 할로겐화되어 있어도 되고, 수소 첨가되어 있어도 된다. 시판되고 있는 에폭시 수지 제품으로는, 예를 들어 재팬 에폭시 레진 주식회사 제조의 JER 코트 828, 1001, 801N, 806, 807, 152, 604, 630, 871, YX8000, YX8034, YX4000, DIC 주식회사 제조의 에피클론 830, EXA835LV, HP4032D, HP820, 주식회사 ADEKA 제조의 EP4100 시리즈, EP4000 시리즈, EPU 시리즈, 다이셀 화학 주식회사 제조의 셀록사이드 시리즈 (2021, 2021P, 2083, 2085, 3000 등), 에포리드 시리즈, EHPE 시리즈, 신닛테츠 화학사 제조의 YD 시리즈, YDF 시리즈, YDCN 시리즈, YDB 시리즈, 페녹시 수지 (비스페놀류와 에피클로르하이드린으로부터 합성되는 폴리하이드록시폴리에테르로 양 말단에 에폭시기를 갖는다 ; YP 시리즈 등), 나가세 켐텍스사 제조의 데나콜 시리즈, 쿄에이샤 화학사 제조의 에포라이트 시리즈 등을 들 수 있지만 이들에 한정되는 것은 아니다. 이들 에폭시 수지는, 2 종 이상을 병용해도 된다. 또한, 접착제층의 유리 전이 온도 Tg 를 계산할 때에는, 에폭시기를 갖는 화합물 및 고분자 (H) 를 계산에는 넣지 않는 것으로 한다. Examples of the polymer having one or more epoxy groups in the molecule include epoxy resins, bisphenol A type epoxy resins derived from bisphenol A and epichlorhydrin, bisphenol F derived from bisphenol F and epichlorhydrin. Type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, bisphenol A novolac type epoxy resin, bisphenol F novolak type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, diphenyl ether type epoxy Resin, hydroquinone type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, fluorene type epoxy resin, polyfunctional type epoxy resin such as trifunctional type epoxy resin or tetrafunctional type epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin , Glycidylamine type epoxy resin, hydantoin type epoxy resin, isocyanurate type epoxy resin, aliphatic chain type epoxy resin, and the like, and these epoxy resins may be halogenated or hydrogenated. Commercially available epoxy resin products include, for example, JER Coat 828, 1001, 801N, 806, 807, 152, 604, 630, 871, YX8000, YX8034, YX4000, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., Epiclon manufactured by DIC Corporation. 830, EXA835LV, HP4032D, HP820, ADEKA Co., Ltd. EP4100 series, EP4000 series, EPU series, Daicel Chemical Co., Ltd. Celoxide series (2021, 2021P, 2083, 2085, 3000, etc.), Eporide series, EHPE series, YD series, YDF series, YDCN series, YDB series, phenoxy resin (polyhydroxypolyether synthesized from bisphenols and epichlorhydrin, and has epoxy groups at both ends; YP series, etc.) manufactured by Shinnittetsu Chemical Co., Ltd., Nagase The Denacol series manufactured by Chemtex Co., Ltd., and the Epolite series manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. can be exemplified, but are not limited thereto. These epoxy resins may use 2 or more types together. In addition, when calculating the glass transition temperature Tg of the adhesive layer, it is assumed that the compound having an epoxy group and the polymer (H) are not counted.

(알콕실기를 갖는 화합물 및 고분자)(I)(Compound and polymer having an alkoxyl group) (I)

분자 내에 알콕실기를 갖는 화합물로는, 분자 내에 1 개 이상의 알콕실기를 갖는 것이면 특별히 제한 없고, 공지된 것을 사용할 수 있다. 이와 같은 화합물로는, 멜라민 화합물, 아미노 수지 등을 대표적으로 들 수 있다.The compound having an alkoxyl group in the molecule is not particularly limited as long as it has one or more alkoxyl groups in the molecule, and known compounds can be used. As such a compound, a melamine compound, an amino resin, etc. are typically mentioned.

알콕시기, 에폭시기 어느 것을 포함하는 화합물 (I) 의 배합량은, 활성 에너지선 경화형 접착제 중의 라디칼 중합성 화합물의 전체량 100 중량부에 대해 통상 30 중량부 이하이고, 조성물 중의 화합물 (I) 의 함유량이 지나치게 많으면, 접착성이 저하하고, 낙하 시험에 대한 내충격성이 악화되는 경우가 있다. 조성물 중의 화합물 (I) 의 함유량은, 20 중량부 이하인 것이 보다 바람직하다. 한편, 경화물층 (접착제층 (2a)) 의 내수성의 점에서, 조성물 중에 화합물 (I) 을 2 중량부 이상 함유하는 것이 바람직하고, 5 중량부 이상 함유하는 것이 보다 바람직하다.The compounding amount of the compound (I) containing either an alkoxy group or an epoxy group is usually 30 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the total amount of the radical polymerizable compound in the active energy ray-curable adhesive, and the content of the compound (I) in the composition is If it is too large, adhesiveness may fall and impact resistance to a drop test may deteriorate. It is more preferable that the content of the compound (I) in the composition is 20 parts by weight or less. On the other hand, from the viewpoint of water resistance of the cured product layer (adhesive layer (2a)), it is preferable to contain 2 parts by weight or more of the compound (I) in the composition, and more preferably 5 parts by weight or more.

본 발명의 저탄성 접착제층 (a) 에 관련된 활성 에너지선 경화형 접착제를 전자선 경화형으로 사용하는 경우, 조성물 중에 광중합 개시제를 함유시키는 것은 특별히 필요하지 않지만, 자외선 경화형으로 사용하는 경우에는, 광중합 개시제를 사용하는 것이 바람직하고, 특히 380 ㎚ 이상의 광에 대해 고감도인 광중합 개시제를 사용하는 것이 바람직하다. 380 ㎚ 이상의 광에 대해 고감도인 광중합 개시제에 대해서는 후술한다.When the active energy ray-curable adhesive related to the low-elastic adhesive layer (a) of the present invention is used as an electron beam-curable type, it is not particularly necessary to contain a photopolymerization initiator in the composition, but when used as an ultraviolet-curable type, a photopolymerization initiator is used. It is preferable to use a photopolymerization initiator that is highly sensitive to light of 380 nm or more. A photopolymerization initiator that is highly sensitive to light of 380 nm or more will be described later.

본 발명의 저탄성 접착제층 (a) 에 관련된 활성 에너지선 경화형 접착제에서는, 광중합 개시제로서 상기 일반식 (1) 로 나타내는 화합물 ;In the active energy ray-curable adhesive according to the low elastic adhesive layer (a) of the present invention, as a photoinitiator, a compound represented by the general formula (1);

[화학식 13][Formula 13]

Figure 112016056357434-pct00013
Figure 112016056357434-pct00013

(식 중, R1 및 R2 는 -H, -CH2bH3, -iPr 또는 Cl 을 나타내고, R1 및 R2 는 동일 또는 달라도 된다) 을 단독으로 사용하거나, 혹은 일반식 (1) 로 나타내는 화합물과 후술하는 380 ㎚ 이상의 광에 대해 고감도인 광중합 개시제를 병용하는 것이 바람직하다. 일반식 (1) 로 나타내는 화합물을 사용한 경우, 380 ㎚ 이상의 광에 대해 고감도인 광중합 개시제를 단독으로 사용한 경우에 비해 접착성이 우수하다. 일반식 (1) 로 나타내는 화합물 중에서도, R1 및 R2 가 -CH2bH3 인 디에틸티오크산톤이 특히 바람직하다. 조성물 중의 일반식 (1) 로 나타내는 화합물의 조성 비율은, 활성 에너지선 경화형 접착제 중의 라디칼 중합성 화합물의 전체량 100 중량부에 대해 0.1 ∼ 5.0 중량부인 것이 바람직하고, 0.5 ∼ 4.0 중량부인 것이 보다 바람직하며, 0.9 ∼ 3.0 중량부인 것이 더 바람직하다.(In the formula, R 1 and R 2 represent -H, -CH 2b H 3 , -iPr or Cl, and R 1 and R 2 may be the same or different), or as a general formula (1) It is preferable to use together the compound shown and a photoinitiator which is highly sensitive to light of 380 nm or more described later. When the compound represented by the general formula (1) is used, it is superior in adhesion compared to the case where a photoinitiator having high sensitivity to light of 380 nm or more is used alone. Among the compounds represented by the general formula (1), diethylthioxanthone in which R 1 and R 2 are -CH 2b H 3 is particularly preferable. The composition ratio of the compound represented by the general formula (1) in the composition is preferably 0.1 to 5.0 parts by weight, and more preferably 0.5 to 4.0 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the radical polymerizable compound in the active energy ray-curable adhesive. And, it is more preferably 0.9 to 3.0 parts by weight.

또, 필요에 따라 중합 개시 보조제를 첨가하는 것이 바람직하다. 중합 개시 보조제로는, 트리에틸아민, 디에틸아민, N-메틸디에탄올아민, 에탄올아민, 4-디메틸아미노벤조산, 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀 등을 들 수 있고, 4-디메틸아미노벤조산에틸이 특히 바람직하다. 중합 개시 보조제를 사용하는 경우, 그 첨가량은 활성 에너지선 경화형 접착제 중의 라디칼 중합성 화합물의 전체량 100 중량부에 대해 통상 0 ∼ 5 중량부, 바람직하게는 0 ∼ 4 중량부, 가장 바람직하게는 0 ∼ 3 중량부이다.Moreover, it is preferable to add a polymerization initiation aid as needed. Examples of the polymerization initiation aid include triethylamine, diethylamine, N-methyldiethanolamine, ethanolamine, 4-dimethylaminobenzoic acid, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, and 4-dimethylaminobenzoic acid. Somatomeal and the like, and ethyl 4-dimethylaminobenzoate is particularly preferred. When a polymerization initiation aid is used, the addition amount is usually 0 to 5 parts by weight, preferably 0 to 4 parts by weight, most preferably 0, based on 100 parts by weight of the total amount of the radical polymerizable compound in the active energy ray-curable adhesive. It is-3 parts by weight.

또, 필요에 따라 공지된 광중합 개시제를 병용할 수 있다. 광중합 개시제로는, 380 ㎚ 이상의 광에 대해 고감도인 광중합 개시제를 사용하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논-1, 2-(디메틸아미노)-2-[(4-메틸페닐)메틸]-1-[4-(4-모르폴리닐)페닐]-1-부타논, 2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐-포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드, 비스(H5-2,4-시클로펜타디엔-1-일)-비스(2,6-디플루오로-3-(1H-피롤-1-일)-페닐)티타늄 등을 들 수 있다.Moreover, a known photopolymerization initiator can be used together as needed. As a photoinitiator, it is preferable to use a photoinitiator which is highly sensitive to light of 380 nm or more. Specifically, 2-methyl-1-(4-methylthiophenyl)-2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-buta Non-1, 2-(dimethylamino)-2-[(4-methylphenyl)methyl]-1-[4-(4-morpholinyl)phenyl]-1-butanone, 2,4,6-trimethylbenzoyl -Diphenyl-phosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide, bis(H5-2,4-cyclopentadien-1-yl)-bis(2,6-difluoro Ro-3-(1H-pyrrol-1-yl)-phenyl) titanium and the like.

특히, 광중합 개시제로서 일반식 (1) 의 광중합 개시제에 더해, 추가로 하기 일반식 (2) 로 나타내는 화합물 ; In particular, as a photoinitiator, in addition to the photoinitiator of the general formula (1), a compound further represented by the following general formula (2);

[화학식 14][Formula 14]

Figure 112016056357434-pct00014
Figure 112016056357434-pct00014

(식 중, R3, R4 및 R5 는 -H, -CH3bH2bH3, -iPr 또는 Cl 을 나타내고, R3, R4 및 R5 는 동일 또는 달라도 된다) 을 사용하는 것이 바람직하다. 일반식 (2) 로 나타내는 화합물로는, 시판품이기도 한 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온 (상품명 : IRGACURE 907 제조사 : BASF) 을 바람직하게 사용할 수 있다. 그 외, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논-1 (상품명 : IRGACURE 369 제조사 : BASF), 2-(디메틸아미노)-2-[(4-메틸페닐)메틸]-1-[4-(4-모르폴리닐)페닐]-1-부타논 (상품명 : IRGACURE 379 제조사 : BASF) 이 감도가 높기 때문에 바람직하다.(In the formula, R 3 , R 4 and R 5 represent -H, -CH 3b H 2b H 3 , -iPr or Cl, and R 3 , R 4 and R 5 may be the same or different) It is preferable to use Do. As the compound represented by the general formula (2), 2-methyl-1-(4-methylthiophenyl)-2-morpholinopropan-1-one (trade name: IRGACURE 907 manufacturer: BASF), which is also a commercial product, is preferably used. Can be used. In addition, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butanone-1 (trade name: IRGACURE 369 manufacturer: BASF), 2-(dimethylamino)-2-[(4- Methylphenyl)methyl]-1-[4-(4-morpholinyl)phenyl]-1-butanone (trade name: IRGACURE 379 manufacturer: BASF) is preferable because of its high sensitivity.

또, 본 발명의 저탄성 접착제층 (a) 에 관련된 활성 에너지선 경화형 접착제에는, 본 발명의 목적, 효과를 저해하지 않는 범위에 있어서, 기타 임의 성분으로서 각종 첨가제를 배합할 수 있다. 이러한 첨가제로는, 에폭시 수지, 폴리아미드, 폴리아미드이미드, 폴리우레탄, 폴리부타디엔, 폴리클로로프렌, 폴리에테르, 폴리에스테르, 스티렌-부타디엔 블록 공중합체, 석유 수지, 자일렌 수지, 케톤 수지, 셀룰로오스 수지, 불소계 올리고머, 실리콘계 올리고머, 폴리술파이드계 올리고머 등의 폴리머 혹은 올리고머 ; 페노티아진, 2,6-디-T-부틸-4-메틸페놀 등의 중합 금지제 ; 중합 개시 보조제 ; 레벨링제 ; 젖음성 개량제 ; 계면활성제 ; 가소제 ; 자외선 흡수제 ; 무기 충전제 ; 안료 ; 염료 등을 들 수 있다.Further, in the active energy ray-curable adhesive according to the low-elastic adhesive layer (a) of the present invention, various additives can be blended as other optional components within a range that does not impair the object and effect of the present invention. Examples of such additives include epoxy resin, polyamide, polyamideimide, polyurethane, polybutadiene, polychloroprene, polyether, polyester, styrene-butadiene block copolymer, petroleum resin, xylene resin, ketone resin, cellulose resin, Polymers or oligomers such as fluorine-based oligomers, silicone-based oligomers, and polysulfide-based oligomers; Polymerization inhibitors such as phenothiazine and 2,6-di-T-butyl-4-methylphenol; Polymerization initiation aid; Leveling agent; Wettability improving agent; Surfactants ; Plasticizer; Ultraviolet absorber; Inorganic filler; Pigment; Dye, etc. are mentioned.

본 발명에 관련된 활성 에너지선 경화형 접착제는, 활성 에너지선을 조사함으로써 경화되어, 저탄성 접착제층 (a) 을 형성한다.The active energy ray-curable adhesive according to the present invention is cured by irradiating with an active energy ray to form a low elastic adhesive layer (a).

활성 에너지선으로는, 전자선, 파장 범위 380 ㎚ ∼ 450 ㎚ 의 가시광선을 포함하는 것을 사용할 수 있다. 또한, 가시광선의 장파장 한계는 780 ㎚ 정도이지만, 450 ㎚ 를 초과하는 가시광선은 중합 개시제의 흡수에 기여하지 않는 한편으로, 발열을 일으키는 원인이 될 수 있다. 이 때문에, 본 발명에 있어서는, 밴드 패스 필터를 사용하여 450 ㎚ 를 초과하는 장파장측의 가시광선을 차단하는 것이 바람직하다.As the active energy ray, one containing an electron beam and a visible ray having a wavelength range of 380 nm to 450 nm can be used. Further, the long wavelength limit of visible light is about 780 nm, but visible light exceeding 450 nm does not contribute to absorption of the polymerization initiator and may cause heat generation. For this reason, in the present invention, it is preferable to use a band pass filter to block visible light on the long wavelength side exceeding 450 nm.

전자선의 조사 조건은, 상기 활성 에너지선 경화형 접착제를 경화시킬 수 있는 조건이면, 임의의 적절한 조건을 채용할 수 있다. 예를 들어, 전자선 조사는, 가속 전압이 바람직하게는 5 ㎸ ∼ 300 ㎸ 이고, 더 바람직하게는 10 ㎸ ∼ 250 ㎸ 이다. 가속 전압이 5 ㎸ 미만인 경우, 전자선이 접착제까지 도달하지 않아 경화 부족이 될 우려가 있고, 가속 전압이 300 ㎸ 를 초과하면, 시료를 통과하는 침투력이 지나치게 강해, 편광 필름 (P) 및 광학 필름 (3) 에 데미지를 줄 우려가 있다. 조사선량으로는, 5 ∼ 100 kGy, 더 바람직하게는 10 ∼ 75 kGy 이다. 조사선량이 5 kGy 미만인 경우에는, 접착제가 경화 부족이 되고, 100 kGy 를 초과하면, 편광 필름 (P) 및 광학 필름 (3) 에 데미지를 주어, 기계적 강도의 저하나 황변을 일으켜 소정 광학 특성을 얻을 수 없다.As the electron beam irradiation conditions, any suitable conditions can be adopted as long as the active energy ray-curable adhesive can be cured. For example, in electron beam irradiation, the acceleration voltage is preferably 5 kV to 300 kV, and more preferably 10 kV to 250 kV. When the acceleration voltage is less than 5 kV, there is a fear that the electron beam does not reach the adhesive, resulting in insufficient curing, and when the acceleration voltage exceeds 300 kV, the penetrating force passing through the sample is too strong, and the polarizing film (P) and the optical film ( There is a risk of damaging 3). The irradiation dose is 5 to 100 kGy, more preferably 10 to 75 kGy. When the irradiation dose is less than 5 kGy, the adhesive becomes insufficient in curing, and when it exceeds 100 kGy, damage is given to the polarizing film (P) and the optical film (3), causing a decrease in mechanical strength or yellowing, resulting in a predetermined optical property. Can't get

전자선 조사는, 통상 불활성 가스 중에서 조사를 실시하지만, 필요하다면 대기 중이나 산소를 조금 도입한 조건에서 실시해도 된다. 투명 보호 필름의 재료에 따라 다르지만, 산소를 적절히 도입함으로써 최초로 전자선이 닿는 투명 보호 필름면에 일부러 산소 저해를 발생시켜, 투명 보호 필름에의 데미지를 방지할 수 있고, 접착제에만 효율적으로 전자선을 조사시킬 수 있다.The electron beam irradiation is usually irradiated in an inert gas, but if necessary, it may be carried out in the atmosphere or under the condition of introducing a little oxygen. It depends on the material of the transparent protective film, but by appropriately introducing oxygen, oxygen is deliberately inhibited on the surface of the transparent protective film to which the electron beam first touches, thereby preventing damage to the transparent protective film, and efficiently irradiating electron beams only with the adhesive. I can.

단, 본 발명에 관련된 적층 편광 필름의 제조 방법에서는, 편광 필름 (P) 과 광학 필름 (3) 간의 저탄성 접착제층 (a) 의 접착 성능을 높이면서, 편광 필름 (P) 의 컬을 방지하기 위해서, 활성 에너지선으로서 파장 범위 380 ㎚ ∼ 450 ㎚ 의 가시광선을 포함하는 것, 특히로는 파장 범위 380 ㎚ ∼ 450 ㎚ 의 가시광선의 조사량이 가장 많은 활성 에너지선을 사용하는 것이 바람직하다. 편광 필름 (P) 의 투명 보호 필름이나 광학 필름 (3) 에, 자외선 흡수능을 부여한 필름 (자외선 불투과형 필름) 을 사용하는 경우에는, 상기 투명 보호 필름이나 광학 필름 (3) 에 의해 흡수된 380 ㎚ 보다 단파장의 광은 열로 변환되어, 투명 보호 필름이나 광학 필름 (3) 이 발열해, 적층 편광 필름의 컬·주름 등 불량의 원인이 된다. 그 때문에, 본 발명에 있어서는, 활성 에너지선 발생 장치로서 380 ㎚ 보다 단파장의 광을 발광하지 않는 장치를 사용하는 것이 바람직하고, 보다 구체적으로는 파장 범위 380 ∼ 440 ㎚ 의 적산 조도와 파장 범위 250 ∼ 370 ㎚ 의 적산 조도의 비가 100 : 0 ∼ 100 : 50 인 것이 바람직하고, 100 : 0 ∼ 100 : 40 인 것이 보다 바람직하다. 이와 같은 적산 조도의 관계를 만족하는 활성 에너지선으로는, 갈륨 봉입 메탈 할라이드 램프, 파장 범위 380 ∼ 440 ㎚ 를 발광하는 LED 광원이 바람직하다. 혹은, 저압 수은등, 중압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 백열 전구, 크세논 램프, 할로겐 램프, 카본 아크등, 메탈 할라이드 램프, 형광등, 텅스텐 램프, 갈륨 램프, 엑시머 레이저 또는 태양광을 광원으로 하고, 밴드 패스 필터를 사용하여 380 ㎚ 보다 단파장의 광을 차단해 사용할 수도 있다. 편광 필름 (P) 과 광학 필름 (3) 과의 간의 저탄성 접착제층 (a) 과의 간의 접착제층의 접착 성능을 높이면서, 편광 필름의 컬을 방지하기 위해서는, 400 ㎚ 보다 단파장의 광을 차단 가능한 밴드 패스 필터를 사용해 얻어진 활성 에너지선, 또는 LED 광원을 사용해 얻어지는 파장 405 ㎚ 의 활성 에너지선을 사용하는 것이 바람직하다.However, in the manufacturing method of the laminated polarizing film according to the present invention, while increasing the adhesion performance of the low elastic adhesive layer (a) between the polarizing film (P) and the optical film (3), to prevent curling of the polarizing film (P). For this purpose, it is preferable to use an active energy ray containing visible light having a wavelength range of 380 nm to 450 nm, and particularly, an active energy ray having the greatest irradiation amount of visible light having a wavelength range of 380 nm to 450 nm. When using the film (ultraviolet non-transmissive film) to which the ultraviolet absorption ability was given to the transparent protective film or optical film 3 of the polarizing film (P), 380 nm absorbed by the transparent protective film or the optical film (3) Light with a shorter wavelength is converted into heat, and the transparent protective film and the optical film 3 generate heat, causing a defect such as curls and wrinkles of the laminated polarizing film. Therefore, in the present invention, it is preferable to use a device that does not emit light with a wavelength shorter than 380 nm as the active energy ray generating device, and more specifically, the integrated illuminance in the wavelength range 380 to 440 nm and the wavelength range 250 to It is preferable that it is 100:0-100:50, and it is more preferable that it is 100:0-100:40 ratio of the integrated roughness of 370 nm. As an active energy ray that satisfies such a relationship of integrated illuminance, a gallium-encapsulated metal halide lamp and an LED light source emitting light in a wavelength range of 380 to 440 nm are preferable. Alternatively, a low-pressure mercury lamp, a medium-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, an incandescent lamp, a xenon lamp, a halogen lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a fluorescent lamp, a tungsten lamp, a gallium lamp, an excimer laser or sunlight as a light source, and a band A pass filter may be used to block light with a wavelength shorter than 380 nm. In order to prevent curling of the polarizing film while improving the adhesive performance of the adhesive layer between the polarizing film (P) and the optical film (3), the low-elasticity adhesive layer (a), blocking light of a wavelength shorter than 400 nm It is preferable to use an active energy ray obtained using a possible band pass filter or an active energy ray having a wavelength of 405 nm obtained using an LED light source.

가시광선 경화형에 있어서, 가시광선을 조사하기 전에 활성 에너지선 경화형 접착제를 가온하는 것 (조사 전 가온) 이 바람직하고, 그 경우 40 ℃ 이상으로 가온하는 것이 바람직하고, 50 ℃ 이상으로 가온하는 것이 보다 바람직하다. 또, 가시광선을 조사 후에 활성 에너지선 경화형 접착제를 가온하는 것 (조사 후 가온) 도 바람직하고, 그 경우 40 ℃ 이상으로 가온하는 것이 바람직하고, 50 ℃ 이상으로 가온하는 것이 보다 바람직하다.In the visible ray-curable type, it is preferable to warm the active energy ray-curable adhesive before irradiation with visible light (heating before irradiation), and in that case, heating to 40°C or higher is preferable, and heating to 50°C or higher is more preferable. desirable. In addition, heating the active energy ray-curable adhesive after irradiation with visible light (heating after irradiation) is also preferable. In that case, heating to 40°C or higher is preferable, and heating to 50°C or higher is more preferable.

저탄성 접착제층 (a) 에 관련된 활성 에너지선 경화형 접착제는, 상기 서술한 일반식 (1) 의 광중합 개시제를 함유함으로써, UV 흡수능을 갖는 광학 필름 (3) 너머로 자외선을 조사해, 저탄성 접착제층 (a) 을 경화 형성시킬 수 있다. 광학 필름 (3) 으로는, 파장 365 ㎚ 의 광선 투과율이 5 % 미만인 것을 사용할 수 있다.The active energy ray-curable adhesive related to the low-elastic adhesive layer (a) contains the photopolymerization initiator of the general formula (1) described above, so that ultraviolet rays are irradiated over the optical film 3 having UV-absorbing ability, and the low-elastic adhesive layer ( a) can be formed to harden. As the optical film 3, what has a light transmittance of less than 5% at a wavelength of 365 nm can be used.

광학 필름 (3) 에의 UV 흡수능 부여 방법으로는, 광학 필름 (3) 중에 자외선 흡수제를 함유시키는 방법이나, 광학 필름 (3) 표면에 자외선 흡수제를 함유하는 표면 처리층을 적층시키는 방법을 들 수 있다.As a method of imparting UV absorbing ability to the optical film 3, a method of including an ultraviolet absorber in the optical film 3, or a method of laminating a surface treatment layer containing an ultraviolet absorber on the surface of the optical film 3 is mentioned. .

자외선 흡수제의 구체예로는, 예를 들어 종래 공지된 옥시벤조페논계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물, 살리실산에스테르계 화합물, 벤조페논계 화합물, 시아노아크릴레이트계 화합물, 니켈 착염계 화합물, 트리아진계 화합물 등을 들 수 있다.Specific examples of the ultraviolet absorber include, for example, conventionally known oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, nickel complex salt compounds, and triazine compounds. And the like.

본 발명에 관련된 적층 편광 필름의 제조 방법은,The manufacturing method of the laminated polarizing film according to the present invention,

상기 편광 필름 (P) 에 있어서의 상기 저탄성 접착제층 (a) 이 적층되는 측의 투명 보호 필름 (2) 및 상기 광학 필름 (3) 의 적어도 일방의 면에, 상기 저탄성 접착제층 (a) 을 형성하는 활성 에너지선 경화형 접착제를 도공하는 도공 공정과,On at least one surface of the transparent protective film (2) and the optical film (3) on the side on which the low-elastic adhesive layer (a) in the polarizing film (P) is laminated, the low-elastic adhesive layer (a) A coating step of applying an active energy ray-curable adhesive to form a,

상기 편광 필름 (P) 및 상기 광학 필름 (3) 을 첩합하는 첩합 공정과,A bonding step of bonding the polarizing film (P) and the optical film (3) together,

상기 활성 에너지선을 조사해, 상기 활성 에너지선 경화형 접착제를 경화시킴으로써 얻어진 저탄성 접착제층 (a) 을 개재하여, 상기 편광 필름 (P) 및 상기 광학 필름 (3) 을 접착시키는 접착 공정을 포함한다.It includes an adhesion step of adhering the polarizing film (P) and the optical film (3) through the low elastic adhesive layer (a) obtained by irradiating the active energy ray and curing the active energy ray-curable adhesive.

편광 필름 (P) 에 있어서의 투명 보호 필름 (2) 및 광학 필름 (3) 은, 상기 활성 에너지선 경화형 접착제를 도공하기 전에, 표면 개질 처리를 실시해도 된다. 구체적인 처리로는, 코로나 처리, 플라즈마 처리, 비누화 처리, 엑시머 처리 또는 프레임 처리에 의한 처리 등을 들 수 있다.The transparent protective film (2) and the optical film (3) in the polarizing film (P) may be subjected to a surface modification treatment before coating the active energy ray-curable adhesive. Specific treatments include corona treatment, plasma treatment, saponification treatment, excimer treatment, or frame treatment.

활성 에너지선 경화형 접착제의 도공 방식은, 조성물의 점도나 목적으로 하는 두께에 따라 적절히 선택된다. 도공 방식의 예로서, 예를 들어 리버스 코터, 그라비어 코터 (다이렉트, 리버스나 오프셋), 바리버스 코터, 롤 코터, 다이 코터, 바 코터, 로드 코터 등을 들 수 있다. 그 외, 도공에는, 디핑 방식 등의 방식을 적절히 사용할 수 있다.The coating method of the active energy ray-curable adhesive is appropriately selected depending on the viscosity of the composition and the desired thickness. Examples of the coating method include a reverse coater, a gravure coater (direct, reverse or offset), a varverse coater, a roll coater, a die coater, a bar coater, a rod coater, and the like. In addition, a method such as a dipping method can be appropriately used for coating.

상기와 같이 도공한 접착제를 개재하여, 편광 필름 (P) 과 광학 필름 (3) 을 첩합한다. 편광 필름 (P) 과 광학 필름 (3) 의 첩합은, 롤 라미네이터 등에 의해 실시할 수 있다.The polarizing film (P) and the optical film (3) are bonded through the adhesive applied as described above. The bonding of the polarizing film (P) and the optical film 3 can be performed by a roll laminator or the like.

편광 필름 (P) 과 광학 필름 (3) 을 첩합한 후에, 활성 에너지선 (전자선, 자외선 및 가시광선 등) 을 조사해, 활성 에너지선 경화형 접착제를 경화시켜 저탄성 접착제층 (a) 을 형성한다. 활성 에너지선 (전자선, 자외선 및 가시광선 등) 의 조사 방향은, 임의의 적절한 방향으로부터 조사할 수 있다. 바람직하게는, 광학 필름 (3) 측으로부터 조사한다. 편광 필름 (P) 측으로부터 조사하면, 편광 필름 (P) 이 활성 에너지선 (전자선, 자외선 및 가시광선 등) 에 의해 열화할 우려가 있다.After bonding the polarizing film (P) and the optical film (3), an active energy ray (electron ray, ultraviolet ray, visible ray, etc.) is irradiated to cure the active energy ray-curable adhesive to form a low elastic adhesive layer (a). The irradiation direction of active energy rays (electron rays, ultraviolet rays, visible rays, etc.) can be irradiated from any suitable direction. Preferably, it irradiates from the optical film (3) side. When irradiated from the polarizing film (P) side, the polarizing film (P) may be deteriorated by active energy rays (electron rays, ultraviolet rays, visible rays, etc.).

본 발명에 관련된 적층 편광 필름을 연속 라인으로 제조하는 경우, 라인 속도는, 접착제의 경화 시간에 따라 다르지만, 바람직하게는 1 ∼ 500 m/min, 보다 바람직하게는 5 ∼ 300 m/min, 더 바람직하게는 10 ∼ 100 m/min 이다. 라인 속도가 지나치게 작은 경우에는, 생산성이 부족하거나, 또는 편광 필름 (P) 및 광학 필름 (3) 에 대한 데미지가 지나치게 커, 내구성 시험 등에 견딜 수 있는 편광 필름을 제작할 수 없다. 라인 속도가 지나치게 큰 경우에는, 접착제의 경화가 불충분해져, 목적으로 하는 접착성이 얻어지지 않는 경우가 있다.In the case of producing the laminated polarizing film according to the present invention in a continuous line, the line speed varies depending on the curing time of the adhesive, but is preferably 1 to 500 m/min, more preferably 5 to 300 m/min, more preferably It is preferably 10 to 100 m/min. When the line speed is too small, productivity is insufficient, or damage to the polarizing film (P) and the optical film (3) is excessively large, and a polarizing film that can withstand a durability test or the like cannot be produced. When the line speed is too large, the curing of the adhesive becomes insufficient, and the target adhesiveness may not be obtained.

<편광 필름><polarizing film>

상기와 같이, 편광 필름 (P) 은, 편광자 (1) 의 적어도 편면에 접착제층 (b) 을 개재하여 투명 보호 필름 (2) 이 형성되어 있다.As described above, as for the polarizing film P, the transparent protective film 2 is formed on at least one surface of the polarizer 1 through the adhesive layer (b).

<편광자><polarizer>

편광자 (1) 는, 특별히 제한되지 않고, 각종의 것을 사용할 수 있다. 편광자로는, 예를 들어 폴리비닐알코올계 필름, 부분 포르말화 폴리비닐알코올계 필름, 에틸렌·아세트산비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에, 요오드나 이색성 염료 등의 이색성 재료를 흡착시켜 1 축 연신한 것, 폴리비닐알코올의 탈수 처리물이나 폴리염화비닐의 탈염산 처리물 등 폴리엔계 배향 필름 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 폴리비닐알코올계 필름과 요오드 등의 이색성 물질로 이루어지는 편광자가 바람직하다. 이들 편광자의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 일반적으로 80 ㎛ 정도 이하이다.The polarizer 1 is not particularly limited, and various things can be used. As a polarizer, dichroic materials such as iodine and dichroic dyes are adsorbed to hydrophilic polymer films such as polyvinyl alcohol-based films, partially formalized polyvinyl alcohol-based films, and ethylene/vinyl acetate copolymer-based partial saponification films. Polyene-based oriented films, such as the thing which was made and uniaxially stretched, the dehydration-processed product of polyvinyl alcohol, and the dehydrochloric acid-treated product of polyvinyl chloride, etc. are mentioned. Among these, a polarizer made of a polyvinyl alcohol-based film and a dichroic substance such as iodine is preferable. The thickness of these polarizers is not particularly limited, but is generally about 80 μm or less.

폴리비닐알코올계 필름을 요오드로 염색해 1 축 연신한 편광자는, 예를 들어 폴리비닐알코올을 요오드의 수용액에 침지함으로써 염색하고, 원래 길이의 3 ∼ 7 배로 연신함으로써 제작할 수 있다. 필요에 따라 붕산이나 요오드화칼륨 등의 수용액에 침지할 수도 있다. 또한 필요에 따라 염색 전에 폴리비닐알코올계 필름을 물에 침지해 수세해도 된다. 폴리비닐알코올계 필름을 수세함으로써 폴리비닐알코올계 필름 표면의 오염이나 블로킹 방지제를 세정할 수 있는 외에, 폴리비닐알코올계 필름을 팽윤시킴으로써 염색의 불균일 등의 불균일을 방지하는 효과도 있다. 연신은 요오드로 염색한 후에 실시해도 되고, 염색하면서 연신해도 되며, 또 연신하고 나서 요오드로 염색해도 된다. 붕산이나 요오드화칼륨 등의 수용액 중이나 수욕 중에서도 연신할 수 있다.A polarizer obtained by uniaxially stretching a polyvinyl alcohol-based film by dyeing it with iodine can be produced by, for example, dyeing by immersing polyvinyl alcohol in an aqueous solution of iodine and stretching it to 3 to 7 times the original length. If necessary, it may be immersed in an aqueous solution such as boric acid or potassium iodide. Further, if necessary, before dyeing, the polyvinyl alcohol-based film may be immersed in water and washed with water. By washing the polyvinyl alcohol-based film with water, it is possible to wash the surface of the polyvinyl alcohol-based film with an anti-contamination or blocking agent, and by swelling the polyvinyl alcohol-based film, there is an effect of preventing non-uniformity such as non-uniformity in dyeing. Stretching may be performed after dyeing with iodine, may be stretched while dyeing, or may be dyed with iodine after stretching. It can be stretched in an aqueous solution such as boric acid or potassium iodide or in a water bath.

또 편광자로는 두께가 10 ㎛ 이하인 박형 편광자를 사용할 수 있다. 박형화의 관점에서 말하면 당해 두께는 1 ∼ 7 ㎛ 인 것이 바람직하다. 이와 같은 박형 편광자는, 두께 불균일이 적고, 시인성이 우수하며, 또 치수 변화가 적기 때문에 내구성이 우수하고, 나아가서는 편광 필름으로서의 두께도 박형화가 도모되는 점이 바람직하다. 또, 박형 편광자는 가열 건조 시의 수분율 저하가 용이하기 때문에, 수분율이 15 % 이하인 편광자로서 바람직하게 사용 가능하다.Further, as a polarizer, a thin polarizer having a thickness of 10 μm or less can be used. Speaking from the viewpoint of thinning, the thickness is preferably 1 to 7 µm. It is preferable that such a thin polarizer has little thickness unevenness, is excellent in visibility, and has little dimensional change, so it is excellent in durability, and furthermore, the thickness as a polarizing film is also reduced in thickness. Moreover, since the water content of a thin polarizer is easily lowered during heating and drying, it can be preferably used as a polarizer having a water content of 15% or less.

박형 편광자로는, 대표적으로는 일본 공개특허공보 소51-069644호나 일본 공개특허공보 2000-338329호나, WO2010/100917호 팜플렛, PCT/JP2010/001460 의 명세서, 또는 일본 특허출원 2010-269002호 명세서나 일본 특허출원 2010-263692호 명세서에 기재되어 있는 박형 편광막을 들 수 있다. 이들 박형 편광막은, 폴리비닐알코올계 수지 (이하, PVA 계 수지라고도 한다) 층과 연신용 수지 기재를 적층체의 상태로 연신하는 공정과 염색하는 공정을 포함하는 제법에 의해 얻을 수 있다. 이 제법이면, PVA 계 수지층이 얇아도, 연신용 수지 기재에 지지되어 있는 것에 의해 연신에 의한 파단 등의 문제 없이 연신할 수 있게 된다.As a thin polarizer, representatively, Japanese Patent Application Laid-Open No. 51-069644 or Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-338329, a pamphlet of WO2010/100917, a specification of PCT/JP2010/001460, or a specification of Japanese Patent Application No. 2010-269002 or The thin polarizing film described in the specification of Japanese Patent Application No. 2010-263692 is mentioned. These thin polarizing films can be obtained by a manufacturing method including a step of stretching a polyvinyl alcohol-based resin (hereinafter, also referred to as a PVA-based resin) layer and a resin substrate for stretching in the state of a laminate and a step of dyeing. According to this manufacturing method, even if the PVA-based resin layer is thin, it can be stretched without problems such as fracture due to stretching by being supported by the resin substrate for stretching.

상기 박형 편광막으로는, 적층체 상태로 연신하는 공정과 염색하는 공정을 포함하는 제법 중에서도, 고배율로 연신할 수 있어 편광 성능을 향상시킬 수 있는 점에서, WO2010/100917호 팜플렛, PCT/JP2010/001460 의 명세서, 또는 일본 특허출원 2010-269002호 명세서나 일본 특허출원 2010-263692호 명세서에 기재가 있는 붕산 수용액 중에서 연신하는 공정을 포함하는 제법으로 얻어지는 것이 바람직하고, 특히 일본 특허출원 2010-269002호 명세서나 일본 특허출원 2010-263692호 명세서에 기재가 있는 붕산 수용액 중에서 연신하기 전에 보조적으로 공중 연신하는 공정을 포함하는 제법에 의해 얻어지는 것이 바람직하다.As the thin polarizing film, among the manufacturing methods including the step of stretching and dyeing in the state of a laminate, since it can be stretched at a high magnification to improve polarization performance, WO2010/100917 pamphlet, PCT/JP2010/ It is preferable that it is obtained by a manufacturing method including a step of stretching in an aqueous boric acid solution described in the specification of 001460 or the specification of Japanese Patent Application 2010-269002 or the specification of Japanese Patent Application 2010-269002, and in particular, Japanese Patent Application 2010-269002 It is preferably obtained by a manufacturing method including a step of auxiliary air stretching before stretching in an aqueous boric acid solution described in the specification or Japanese Patent Application No. 2010-263692.

상기 PCT/JP2010/001460 의 명세서에 기재된 박형 고기능 편광막은, 수지 기재에 일체로 제막되는, 이색성 물질을 배향시킨 PVA 계 수지로 이루어지는 두께가 7 ㎛ 이하인 박형 고기능 편광막이고, 단체 투과율이 42.0 % 이상 및 편광도가 99.95 % 이상인 광학 특성을 갖는다.The thin high-performance polarizing film described in the specification of PCT/JP2010/001460 is a thin high-functional polarizing film having a thickness of 7 μm or less made of a PVA-based resin in which a dichroic substance is oriented, which is integrally formed on a resin substrate, and has a single transmittance of 42.0%. It has an optical property of 99.95% or more of ideal and polarization degree.

상기 박형 고기능 편광막은, 적어도 20 ㎛ 의 두께를 갖는 수지 기재에, PVA 계 수지의 도포 및 건조에 의해 PVA 계 수지층을 생성하고, 생성된 PVA 계 수지층을 이색성 물질의 염색액에 침지하여 PVA 계 수지층에 이색성 물질을 흡착시키고, 이색성 물질을 흡착시킨 PVA 계 수지층을, 붕산 수용액 중에 있어서, 수지 기재와 일체로 총 연신 배율을 원래 길이의 5 배 이상이 되도록 연신함으로써 제조할 수 있다.The thin high-function polarizing film is formed by applying and drying a PVA-based resin on a resin substrate having a thickness of at least 20 µm to generate a PVA-based resin layer, and immersing the resulting PVA-based resin layer in a dyeing solution of a dichroic material A PVA-based resin layer with a dichroic material adsorbed on the PVA-based resin layer, and a PVA-based resin layer with a dichroic material adsorbed thereon, in a boric acid aqueous solution, can be prepared by stretching the total draw ratio to be 5 times or more of the original length integrally with the resin substrate. I can.

또, 이색성 물질을 배향시킨 박형 고기능 편광막을 포함하는 적층체 필름을 제조하는 방법으로서, 적어도 20 ㎛ 의 두께를 갖는 수지 기재와, 수지 기재의 편면에 PVA 계 수지를 포함하는 수용액을 도포 및 건조시킴으로써 형성된 PVA 계 수지층을 포함하는 적층체 필름을 생성하는 공정과, 수지 기재와 수지 기재의 편면에 형성된 PVA 계 수지층을 포함하는 상기 적층체 필름을, 이색성 물질을 포함하는 염색액 중에 침지함으로써, 적층체 필름에 포함되는 PVA 계 수지층에 이색성 물질을 흡착시키는 공정과, 이색성 물질을 흡착시킨 PVA 계 수지층을 포함하는 상기 적층체 필름을, 붕산 수용액 중에 있어서, 총 연신 배율이 원래 길이의 5 배 이상이 되도록 연신하는 공정과, 이색성 물질을 흡착시킨 PVA 계 수지층이 수지 기재와 일체로 연신된 것에 의해, 수지 기재의 편면에, 이색성 물질을 배향시킨 PVA 계 수지층으로 이루어지는, 두께가 7 ㎛ 이하, 단체 투과율이 42.0 % 이상 또한 편광도가 99.95 % 이상인 광학 특성을 갖는 박형 고기능 편광막을 제막시킨 적층체 필름을 제조하는 공정을 포함함으로써, 상기 박형 고기능 편광막을 제조할 수 있다.In addition, as a method of manufacturing a laminate film comprising a thin high-performance polarizing film in which a dichroic substance is oriented, a resin substrate having a thickness of at least 20 µm and an aqueous solution containing a PVA-based resin are applied and dried on one side of the resin substrate. The process of producing a laminate film including a PVA-based resin layer formed by doing so, and the laminate film including a resin substrate and a PVA-based resin layer formed on one side of the resin substrate are immersed in a dye solution containing a dichroic substance. By doing so, the process of adsorbing a dichroic substance to the PVA-based resin layer included in the laminate film, and the laminate film including the PVA-based resin layer adsorbed with the dichroic substance, in a boric acid aqueous solution, the total draw ratio is A PVA-based resin layer in which a dichroic substance is oriented on one side of the resin substrate by stretching the original length to be 5 or more times and the PVA-based resin layer adsorbing the dichroic substance is stretched integrally with the resin substrate. The thin high-performance polarizing film can be produced by including the step of producing a laminate film formed by forming a thin high-function polarizing film having optical properties having a thickness of 7 μm or less, a single transmittance of 42.0% or more and a polarization degree of 99.95% or more have.

상기 일본 특허출원 2010-269002호 명세서나 일본 특허출원 2010-263692호 명세서 박형 편광막은, 이색성 물질을 배향시킨 PVA 계 수지로 이루어지는 연속 웹의 편광막이고, 비정성 에스테르계 열가소성 수지 기재에 제막된 PVA 계 수지층을 포함하는 적층체가 공중 보조 연신과 붕산 수중 연신으로 이루어지는 2 단 연신 공정으로 연신됨으로써, 10 ㎛ 이하의 두께로 된 것이다. 이러한 박형 편광막은, 단체 투과율을 T, 편광도를 P 로 했을 때, P > -(100.929T - 42.4 - 1) × 100 (단, T < 42.3), 및 P ≥ 99.9 (단, T ≥ 42.3) 의 조건을 만족하는 광학 특성을 갖도록 된 것이 바람직하다.The Japanese Patent Application No. 2010-269002 or Japanese Patent Application No. 2010-263692 The thin polarizing film is a polarizing film of a continuous web made of PVA-based resin in which a dichroic substance is oriented, and is formed on an amorphous ester-based thermoplastic resin substrate. The layered product including the PVA-based resin layer was stretched in a two-stage stretching step consisting of air-assisted stretching and boric acid underwater stretching, thereby obtaining a thickness of 10 μm or less. In such a thin polarizing film, when the single transmittance is T and the polarization degree is P, P> -(100.929T-42.4-1) × 100 (however, T <42.3), and P ≥ 99.9 (however, T ≥ 42.3) It is desirable to have optical properties that satisfy the conditions.

구체적으로는, 상기 박형 편광막은, 연속 웹의 비정성 에스테르계 열가소성 수지 기재에 제막된 PVA 계 수지층에 대한 공중 고온 연신에 의해, 배향된 PVA 계 수지층으로 이루어지는 연신 중간 생성물을 생성하는 공정과, 연신 중간 생성물에 대한 이색성 물질의 흡착에 의해, 이색성 물질 (요오드 또는 요오드와 유기 염료의 혼합물이 바람직하다) 을 배향시킨 PVA 계 수지층으로 이루어지는 착색 중간 생성물을 생성하는 공정과, 착색 중간 생성물에 대한 붕산 수중 연신에 의해, 이색성 물질을 배향시킨 PVA 계 수지층으로 이루어지는 두께가 10 ㎛ 이하인 편광막을 생성하는 공정을 포함하는 박형 편광막의 제조 방법에 의해 제조할 수 있다.Specifically, the thin polarizing film comprises a step of producing a stretched intermediate product comprising an oriented PVA-based resin layer by aerial high-temperature stretching of a PVA-based resin layer formed on an amorphous ester-based thermoplastic resin substrate of a continuous web, and , A process of producing a colored intermediate product comprising a PVA-based resin layer in which a dichroic material (iodine or a mixture of iodine and an organic dye is preferred) is oriented by adsorption of the dichroic material to the stretched intermediate product, and the coloring intermediate It can be produced by a method for producing a thin polarizing film including a step of producing a polarizing film having a thickness of 10 μm or less comprising a PVA-based resin layer in which a dichroic substance is oriented by stretching the product in water with boric acid.

이 제조 방법에 있어서, 공중 고온 연신과 붕산 수중 연신에 의한 비정성 에스테르계 열가소성 수지 기재에 제막된 PVA 계 수지층의 총 연신 배율이, 5 배 이상이 되도록 하는 것이 바람직하다. 붕산 수중 연신을 위한 붕산 수용액의 액온은, 60 ℃ 이상으로 할 수 있다. 붕산 수용액 중에서 착색 중간 생성물을 연신하기 전에, 착색 중간 생성물에 대해 불용화 처리를 실시하는 것이 바람직하고, 그 경우 액온이 40 ℃ 를 초과하지 않는 붕산 수용액에 상기 착색 중간 생성물을 침지함으로써 실시하는 것이 바람직하다. 상기 비정성 에스테르계 열가소성 수지 기재는, 이소프탈산을 공중합시킨 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트, 시클로헥산디메탄올을 공중합시킨 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트 또는 다른 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트를 포함하는 비정성 폴리에틸렌테레프탈레이트로 할 수 있고, 투명 수지로 이루어지는 것이 바람직하고, 그 두께는 제막되는 PVA 계 수지층의 두께의 7 배 이상으로 할 수 있다. 또, 공중 고온 연신의 연신 배율은 3.5 배 이하가 바람직하고, 공중 고온 연신의 연신 온도는 PVA 계 수지의 유리 전이 온도 이상, 구체적으로는 95 ℃ ∼ 150 ℃ 의 범위인 것이 바람직하다. 공중 고온 연신을 자유단 1 축 연신으로 실시하는 경우, 비정성 에스테르계 열가소성 수지 기재에 제막된 PVA 계 수지층의 총 연신 배율이, 5 배 이상 7.5 배 이하인 것이 바람직하다. 또, 공중 고온 연신을 고정단 1 축 연신으로 실시하는 경우, 비정성 에스테르계 열가소성 수지 기재에 제막된 PVA 계 수지층의 총 연신 배율이, 5 배 이상 8.5 배 이하인 것이 바람직하다.In this production method, it is preferable that the total draw ratio of the PVA-based resin layer formed on the amorphous ester-based thermoplastic resin substrate by aerial high-temperature stretching and boric acid-in-water stretching is 5 times or more. The liquid temperature of the aqueous boric acid solution for stretching boric acid in water can be 60°C or higher. Before stretching the colored intermediate product in an aqueous boric acid solution, it is preferable to perform an insolubilization treatment on the colored intermediate product, and in that case, it is preferable to immerse the colored intermediate product in an aqueous boric acid solution whose liquid temperature does not exceed 40°C. Do. The amorphous ester-based thermoplastic resin substrate may be an amorphous polyethylene terephthalate comprising a copolymerized polyethylene terephthalate copolymerized with isophthalic acid, a copolymerized polyethylene terephthalate copolymerized with cyclohexanedimethanol, or another copolymerized polyethylene terephthalate, It is preferably made of a transparent resin, and its thickness can be made 7 times or more of the thickness of the PVA-based resin layer to be formed. Moreover, the draw ratio of the aerial high-temperature stretching is preferably 3.5 times or less, and the stretching temperature of the aerial high-temperature stretching is preferably not less than the glass transition temperature of the PVA-based resin, and specifically in the range of 95°C to 150°C. In the case of performing aerial high-temperature stretching by uniaxial stretching at the free end, the total draw ratio of the PVA-based resin layer formed on the amorphous ester-based thermoplastic resin substrate is preferably 5 times or more and 7.5 times or less. Moreover, when performing aerial high temperature stretching by fixed stage uniaxial stretching, it is preferable that the total draw ratio of the PVA-type resin layer formed into a film on the amorphous ester-type thermoplastic resin base material is 5 times or more and 8.5 times or less.

더 구체적으로는, 다음과 같은 방법에 의해, 박형 편광막을 제조할 수 있다.More specifically, a thin polarizing film can be manufactured by the following method.

이소프탈산을 6 ㏖% 공중합시킨 이소프탈산 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트 (비정성 PET) 의 연속 웹의 기재를 제작한다. 비정성 PET 의 유리 전이 온도는 75 ℃ 이다. 연속 웹의 비정성 PET 기재와 폴리비닐알코올 (PVA) 층으로 이루어지는 적층체를, 이하와 같이 제작한다. 또한 PVA 의 유리 전이 온도는 80 ℃ 이다. A base material of a continuous web of isophthalic acid copolymerized polyethylene terephthalate (amorphous PET) obtained by copolymerizing 6 mol% of isophthalic acid was prepared. The glass transition temperature of amorphous PET is 75°C. A laminate comprising a continuous web of amorphous PET substrate and a polyvinyl alcohol (PVA) layer was prepared as follows. Moreover, the glass transition temperature of PVA is 80 degreeC.

200 ㎛ 두께의 비정성 PET 기재와, 중합도 1000 이상, 비누화도 99 % 이상인 PVA 분말을 물에 용해한 4 ∼ 5 % 농도의 PVA 수용액을 준비한다. 다음으로, 200 ㎛ 두께의 비정성 PET 기재에 PVA 수용액을 도포하고, 50 ∼ 60 ℃ 의 온도에서 건조시켜, 비정성 PET 기재에 7 ㎛ 두께의 PVA 층이 제막된 적층체를 얻는다.A PVA aqueous solution having a concentration of 4 to 5% in which an amorphous PET substrate having a thickness of 200 µm and a PVA powder having a polymerization degree of 1000 or more and a saponification degree of 99% or more is dissolved in water is prepared. Next, a PVA aqueous solution was applied to a 200 µm-thick amorphous PET substrate and dried at a temperature of 50 to 60°C to obtain a laminate in which a 7 µm-thick PVA layer was formed on the amorphous PET substrate.

7 ㎛ 두께의 PVA 층을 포함하는 적층체를, 공중 보조 연신 및 붕산 수중 연신의 2 단 연신 공정을 포함하는 이하의 공정을 거쳐, 3 ㎛ 두께의 박형 고기능 편광막을 제조한다. 제 1 단의 공중 보조 연신 공정에 의해 7 ㎛ 두께의 PVA 층을 포함하는 적층체를 비정성 PET 기재와 일체로 연신해, 5 ㎛ 두께의 PVA 층을 포함하는 연신 적층체를 생성한다. 구체적으로는, 이 연신 적층체는, 7 ㎛ 두께의 PVA 층을 포함하는 적층체를 130 ℃ 의 연신 온도 환경으로 설정된 오븐에 배치된 연신 장치에 걸고, 연신 배율이 1.8 배가 되도록 자유단 1 축으로 연신한 것이다. 이 연신 처리에 의해, 연신 적층체에 포함되는 PVA 층을, PVA 분자가 배향된 5 ㎛ 두께의 PVA 층으로 변화시킨다.A laminate comprising a 7 µm-thick PVA layer is subjected to the following steps including a two-stage stretching step of air-assisted stretching and boric acid underwater stretching, to produce a thin, high-performance polarizing film having a thickness of 3 µm. A laminate comprising a PVA layer having a thickness of 7 µm is stretched integrally with an amorphous PET substrate by the air-assisted stretching step of the first step to produce a stretched laminate comprising a PVA layer having a thickness of 5 µm. Specifically, in this stretched laminate, a laminate comprising a 7 µm-thick PVA layer was hung on a stretching device disposed in an oven set in a stretching temperature environment of 130°C, and the stretch ratio was increased to 1.8 times with one free end axis. It is stretched. By this stretching treatment, the PVA layer contained in the stretched laminate is changed into a 5 µm-thick PVA layer in which PVA molecules are oriented.

다음으로, 염색 공정에 의해, PVA 분자가 배향된 5 ㎛ 두께의 PVA 층에 요오드를 흡착시킨 착색 적층체를 생성한다. 구체적으로는, 이 착색 적층체는, 연신 적층체를 액온 30 ℃ 의 요오드 및 요오드화칼륨을 포함하는 염색액에, 최종적으로 생성되는 고기능 편광막을 구성하는 PVA 층의 단체 투과율이 40 ∼ 44 % 가 되도록 임의의 시간 침지함으로써, 연신 적층체에 포함되는 PVA 층에 요오드를 흡착시킨 것이다. 본 공정에 있어서 염색액은, 물을 용매로 해서, 요오드 농도를 0.12 ∼ 0.30 중량% 의 범위 내로 하고, 요오드화칼륨 농도를 0.7 ∼ 2.1 중량% 의 범위 내로 한다. 요오드와 요오드화칼륨의 농도의 비는 1 대 7 이다. 또한, 요오드를 물에 용해하기 위해서는 요오드화칼륨을 필요로 한다. 보다 상세하게는, 요오드 농도 0.30 중량%, 요오드화칼륨 농도 2.1 중량% 인 염색액에 연신 적층체를 60 초간 침지함으로써, PVA 분자가 배향된 5 ㎛ 두께의 PVA 층에 요오드를 흡착시킨 착색 적층체를 생성한다.Next, a colored laminate in which iodine is adsorbed onto a 5 μm-thick PVA layer in which PVA molecules are oriented is produced by a dyeing process. Specifically, in this colored laminate, the stretched laminate was placed in a dyeing solution containing iodine and potassium iodide at a liquid temperature of 30° C. so that the single transmittance of the PVA layer constituting the finally produced high-functional polarizing film was 40 to 44%. By immersion for an arbitrary time, iodine was adsorbed to the PVA layer contained in the stretched laminate. In this step, the dyeing solution uses water as a solvent, the iodine concentration is in the range of 0.12 to 0.30% by weight, and the potassium iodide concentration is in the range of 0.7 to 2.1% by weight. The ratio of concentrations of iodine and potassium iodide is 1 to 7. In addition, potassium iodide is required to dissolve iodine in water. More specifically, by immersing the stretched laminate for 60 seconds in a dye solution having an iodine concentration of 0.30% by weight and a potassium iodide concentration of 2.1% by weight, a colored laminate in which iodine is adsorbed on a 5 μm-thick PVA layer in which PVA molecules are oriented was prepared. Generate.

또한, 제 2 단의 붕산 수중 연신 공정에 의해, 착색 적층체를 비정성 PET 기재와 일체로 추가로 연신하여, 3 ㎛ 두께의 고기능 편광막을 구성하는 PVA 층을 포함하는 광학 필름 적층체를 생성한다. 구체적으로는, 이 광학 필름 적층체는, 착색 적층체를 붕산과 요오드화칼륨을 포함하는 액온 범위 60 ∼ 85 ℃ 의 붕산 수용액으로 설정된 처리 장치에 배치된 연신 장치에 걸고, 연신 배율이 3.3 배가 되도록 자유단 1 축으로 연신한 것이다. 보다 상세하게는, 붕산 수용액의 액온은 65 ℃ 이다. 그것은 또, 붕산 함유량을 물 100 중량부에 대해 4 중량부로 하고, 요오드화칼륨 함유량을 물 100 중량부에 대해 5 중량부로 한다. 본 공정에 있어서는, 요오드 흡착량을 조정한 착색 적층체를 먼저 5 ∼ 10 초간 붕산 수용액에 침지한다. 그러한 후에, 그 착색 적층체를 그대로 처리 장치에 배치된 연신 장치인 주속 (周速) 이 상이한 복수의 조의 롤 사이로 통과시키고, 30 ∼ 90 초에 걸쳐 연신 배율이 3.3 배가 되도록 자유단 1 축으로 연신한다. 이 연신 처리에 의해, 착색 적층체에 포함되는 PVA 층을, 흡착된 요오드가 폴리요오드 이온 착물로서 일방향으로 고차로 배향한 3 ㎛ 두께의 PVA 층으로 변화시킨다. 이 PVA 층이 광학 필름 적층체의 고기능 편광막을 구성한다.In addition, the colored laminate is further stretched integrally with the amorphous PET substrate by the second step of the boric acid underwater stretching process, thereby producing an optical film laminate comprising a PVA layer constituting a high-functional polarizing film having a thickness of 3 μm. . Specifically, this optical film layered product is free to attach the colored layered product to a stretching device disposed in a treatment device set with an aqueous boric acid solution in a liquid temperature range of 60 to 85°C containing boric acid and potassium iodide, and the draw ratio is 3.3 times. It is stretched with only one axis. More specifically, the solution temperature of the aqueous boric acid solution is 65°C. In addition, the boric acid content is 4 parts by weight based on 100 parts by weight of water, and the potassium iodide content is 5 parts by weight based on 100 parts by weight of water. In this step, the colored layered product in which the amount of iodine adsorption was adjusted is first immersed in an aqueous boric acid solution for 5 to 10 seconds. After that, the colored layered product is passed through a plurality of sets of rolls having different circumferential speeds, which are stretching devices arranged in the processing device as it is, and stretched with one free end so that the draw ratio is 3.3 times over 30 to 90 seconds. do. By this stretching treatment, the PVA layer contained in the colored layered product is changed into a 3 µm-thick PVA layer in which the adsorbed iodine is oriented at a high degree in one direction as a polyiodine ion complex. This PVA layer constitutes a highly functional polarizing film of an optical film laminate.

광학 필름 적층체의 제조에 필수 공정은 아니지만, 세정 공정에 의해, 광학 필름 적층체를 붕산 수용액으로부터 꺼내고, 비정성 PET 기재에 제막된 3 ㎛ 두께의 PVA 층의 표면에 부착된 붕산을 요오드화칼륨 수용액으로 세정하는 것이 바람직하다. 그러한 후에, 세정된 광학 필름 적층체를 60 ℃ 의 온풍에 의한 건조 공정에 의해 건조시킨다. 또한 세정 공정은, 붕산 석출 등의 외관 불량을 해소하기 위한 공정이다.Although it is not an essential step for the manufacture of the optical film laminate, the optical film laminate is taken out from the aqueous boric acid solution by the cleaning process, and the boric acid adhering to the surface of the 3 μm-thick PVA layer formed on the amorphous PET substrate is added to the aqueous potassium iodide solution. It is preferable to wash with. After that, the washed optical film layered product is dried by a drying step with a warm air at 60°C. In addition, the washing step is a step for eliminating appearance defects such as precipitation of boric acid.

마찬가지로 광학 필름 적층체의 제조에 필수 공정은 아니지만, 첩합 및/또는 전사 공정에 의해, 비정성 PET 기재에 제막된 3 ㎛ 두께의 PVA 층의 표면에 접착제를 도포하면서, 80 ㎛ 두께의 트리아세틸셀룰로오스 필름을 첩합한 후, 비정성 PET 기재를 박리해, 3 ㎛ 두께의 PVA 층을 80 ㎛ 두께의 트리아세틸셀룰로오스 필름에 전사할 수도 있다.Similarly, although it is not an essential process for the production of an optical film laminate, an 80 μm-thick triacetylcellulose is applied by applying an adhesive to the surface of the 3 μm-thick PVA layer formed on an amorphous PET substrate by a bonding and/or transfer process. After bonding the films, the amorphous PET substrate may be peeled off, and the 3 µm-thick PVA layer may be transferred to an 80 µm-thick triacetylcellulose film.

[기타 공정][Other processes]

상기 박형 편광막의 제조 방법은, 상기 공정 이외에, 기타 공정을 포함할 수 있다. 기타 공정으로는, 예를 들어 불용화 공정, 가교 공정, 건조 (수분율의 조절) 공정 등을 들 수 있다. 기타 공정은, 임의의 적절한 타이밍에 실시할 수 있다.The manufacturing method of the thin polarizing film may include other processes in addition to the above processes. As other processes, an insolubilization process, a crosslinking process, a drying (control of a moisture content) process, etc. are mentioned, for example. Other steps can be performed at any appropriate timing.

상기 불용화 공정은, 대표적으로는 붕산 수용액에 PVA 계 수지층을 침지시킴으로써 실시한다. 불용화 처리를 실시함으로써, PVA 계 수지층에 내수성을 부여할 수 있다. 당해 붕산 수용액의 농도는, 물 100 중량부에 대해 바람직하게는 1 중량부 ∼ 4 중량부이다. 불용화욕 (붕산 수용액) 의 액온은, 바람직하게는 20 ℃ ∼ 50 ℃ 이다. 바람직하게는, 불용화 공정은, 적층체 제작 후, 염색 공정이나 수중 연신 공정 전에 실시한다.The insolubilization step is typically performed by immersing the PVA-based resin layer in an aqueous boric acid solution. Water resistance can be imparted to the PVA-based resin layer by performing the insolubilization treatment. The concentration of the aqueous boric acid solution is preferably 1 to 4 parts by weight based on 100 parts by weight of water. The liquid temperature of the insolubilization bath (boric acid aqueous solution) is preferably from 20°C to 50°C. Preferably, the insolubilization process is performed after the production of the laminated body and before the dyeing process or the underwater stretching process.

상기 가교 공정은, 대표적으로는 붕산 수용액에 PVA 계 수지층을 침지시킴으로써 실시한다. 가교 처리를 실시함으로써, PVA 계 수지층에 내수성을 부여할 수 있다. 당해 붕산 수용액의 농도는, 물 100 중량부에 대해 바람직하게는 1 중량부 ∼ 4 중량부이다. 또, 상기 염색 공정 후에 가교 공정을 실시하는 경우, 추가로 요오드화물을 배합하는 것이 바람직하다. 요오드화물을 배합함으로써, PVA 계 수지층에 흡착시킨 요오드의 용출을 억제할 수 있다. 요오드화물의 배합량은, 물 100 중량부에 대해 바람직하게는 1 중량부 ∼ 5 중량부이다. 요오드화물의 구체예는 상기 서술한 바와 같다. 가교욕 (붕산 수용액) 의 액온은, 바람직하게는 20 ℃ ∼ 50 ℃ 이다. 바람직하게는, 가교 공정은 상기 제 2 붕산 수중 연신 공정 전에 실시한다. 바람직한 실시형태에 있어서는, 염색 공정, 가교 공정 및 제 2 붕산 수중 연신 공정을 이 순서로 실시한다. The crosslinking step is typically performed by immersing the PVA-based resin layer in an aqueous boric acid solution. Water resistance can be imparted to the PVA-based resin layer by performing crosslinking treatment. The concentration of the aqueous boric acid solution is preferably 1 to 4 parts by weight based on 100 parts by weight of water. Moreover, when performing a crosslinking process after the said dyeing process, it is preferable to mix|blend an iodide further. By blending iodide, elution of iodine adsorbed to the PVA-based resin layer can be suppressed. The blending amount of iodide is preferably 1 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of water. Specific examples of the iodide are as described above. The liquid temperature of the crosslinking bath (boric acid aqueous solution) is preferably from 20°C to 50°C. Preferably, the crosslinking step is performed before the second boric acid underwater stretching step. In a preferred embodiment, the dyeing step, the crosslinking step, and the second boric acid-in-water stretching step are performed in this order.

<투명 보호 필름><Transparent protective film>

투명 보호 필름 (2) 을 구성하는 재료로는, 예를 들어 투명성, 기계적 강도, 열 안정성, 수분 차단성, 등방성 등이 우수한 열가소성 수지가 사용된다. 이와 같은 열가소성 수지의 구체예로는, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리에테르술폰 수지, 폴리술폰 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리올레핀 수지, (메트)아크릴 수지, 고리형 폴리올레핀 수지 (노르보르넨계 수지), 폴리아릴레이트 수지, 폴리스티렌 수지, 폴리비닐알코올 수지, 및 이들의 혼합물을 들 수 있다. 투명 보호 필름 중에는 임의의 적절한 첨가제가 1 종류 이상 포함되어 있어도 된다. 첨가제로는, 예를 들어 자외선 흡수제, 산화 방지제, 활제, 가소제, 이형제, 착색 방지제, 난연제, 핵제, 대전 방지제, 안료, 착색제 등을 들 수 있다. 투명 보호 필름 중의 상기 열가소성 수지의 함유량은, 바람직하게는 50 ∼ 100 중량%, 보다 바람직하게는 50 ∼ 99 중량%, 더 바람직하게는 60 ∼ 98 중량%, 특히 바람직하게는 70 ∼ 97 중량% 이다. 투명 보호 필름 중의 상기 열가소성 수지의 함유량이 50 중량% 이하인 경우, 열가소성 수지가 본래 갖는 고투명성 등을 충분히 발현시킬 수 없을 우려가 있다.As a material constituting the transparent protective film 2, for example, a thermoplastic resin excellent in transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture barrier property, isotropic property, and the like is used. Specific examples of such a thermoplastic resin include cellulose resins such as triacetyl cellulose, polyester resins, polyethersulfone resins, polysulfone resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polyimide resins, polyolefin resins, and (meth)acrylic. Resins, cyclic polyolefin resins (norbornene resins), polyarylate resins, polystyrene resins, polyvinyl alcohol resins, and mixtures thereof. One or more types of arbitrary suitable additives may be contained in the transparent protective film. Examples of the additives include ultraviolet absorbers, antioxidants, lubricants, plasticizers, mold release agents, color inhibitors, flame retardants, nucleating agents, antistatic agents, pigments, colorants, and the like. The content of the thermoplastic resin in the transparent protective film is preferably 50 to 100% by weight, more preferably 50 to 99% by weight, still more preferably 60 to 98% by weight, particularly preferably 70 to 97% by weight. . When the content of the thermoplastic resin in the transparent protective film is 50% by weight or less, there is a fear that the high transparency inherent in the thermoplastic resin cannot be sufficiently expressed.

또 투명 보호 필름 (2) 을 형성하는 재료로는, 투명성, 기계적 강도, 열 안정성, 수분 차단성, 등방성 등이 우수한 것이 바람직하고, 특히 투습도가 150 g/㎡/24 h 이하인 것이 보다 바람직하고, 140 g/㎡/24 h 이하인 것이 특히 바람직하며, 120 g/㎡/24 h 이하인 것 더 바람직하다. 투습도는, 실시예에 기재된 방법에 의해 구해진다.Moreover, as a material for forming the transparent protective film 2, those excellent in transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture barrier properties, isotropic properties, etc. are preferable, and in particular, a moisture permeability of 150 g/m 2 /24 h or less is more preferable, It is particularly preferably 140 g/m 2 /24 h or less, and more preferably 120 g/m 2 /24 h or less. The moisture permeability is determined by the method described in Examples.

상기 편광 필름에 있어서, 투습도가 150 g/㎡/24 h 이하인 투명 보호 필름을 사용한 경우에는, 편광 필름 중에 공기 중의 수분이 들어가기 어려워, 편광 필름 자체의 수분율 변화를 억제할 수 있다. 그 결과, 보존 환경에 의해 생기는 편광 필름의 컬이나 치수 변화를 억제할 수 있다.In the above-described polarizing film, when a transparent protective film having a moisture permeability of 150 g/m 2 /24 h or less is used, moisture in air is difficult to enter into the polarizing film, and a change in moisture content of the polarizing film itself can be suppressed. As a result, curling and dimensional change of the polarizing film caused by the storage environment can be suppressed.

상기 투명 보호 필름 (2) 의 편광자 (1) 를 접착시키지 않는 면에는, 하드 코트층, 반사 방지층, 스티킹 방지층, 확산층 내지 안티글레어층 등의 기능층을 형성할 수 있다. 또한, 상기 하드 코트층, 반사 방지층, 스티킹 방지층, 확산층이나 안티글레어층 등의 기능층은, 투명 보호 필름 (2) 그 자체에 형성할 수 있는 외에, 별도로 투명 보호 필름 (2) 과는 별체의 것으로 해서 형성할 수도 있다.Functional layers, such as a hard coat layer, an antireflection layer, an anti-sticking layer, and a diffusion layer or an anti-glare layer, can be formed on the surface of the transparent protective film 2 on which the polarizer 1 is not adhered. In addition, functional layers such as the hard coat layer, anti-reflection layer, anti-sticking layer, diffusion layer or anti-glare layer can be formed on the transparent protective film 2 itself, and separately from the transparent protective film 2 It can also be formed as one of.

투명 보호 필름 (2) 의 두께는, 적절히 결정할 수 있지만, 일반적으로는 강도나 취급성 등의 작업성, 박층성 등의 점에서 1 ∼ 500 ㎛ 정도이고, 1 ∼ 300 ㎛ 가 바람직하고, 5 ∼ 200 ㎛ 가 보다 바람직하다. 나아가서는 10 ∼ 200 ㎛ 가 바람직하고, 20 ∼ 80 ㎛ 가 바람직하다.The thickness of the transparent protective film 2 can be appropriately determined, but generally it is about 1 to 500 µm, preferably 1 to 300 µm, and is preferably 5 to 500 µm in terms of workability such as strength and handling properties, and thin layer properties. 200 µm is more preferable. Furthermore, 10 to 200 µm is preferable, and 20 to 80 µm is preferable.

또한, 편광자 (1) 의 양면에 형성되는 상기 투명 보호 필름 (2) 은, 그 표리에 동일한 폴리머 재료로 이루어지는 투명 보호 필름을 사용해도 되고, 상이한 폴리머 재료 등으로 이루어지는 투명 보호 필름을 사용해도 된다.In addition, for the transparent protective film 2 formed on both sides of the polarizer 1, a transparent protective film made of the same polymer material may be used for the front and back, or a transparent protective film made of a different polymer material or the like may be used.

상기 투명 보호 필름으로서, 정면 위상차가 40 ㎚ 이상 및/또는, 두께 방향 위상차가 80 ㎚ 이상인 위상차를 갖는 위상차 필름을 사용할 수 있다. 정면 위상차는, 통상 40 ∼ 200 ㎚ 의 범위로, 두께 방향 위상차는, 통상 80 ∼ 300 ㎚ 의 범위로 제어된다. 투명 보호 필름으로서 위상차 필름을 사용하는 경우에는, 당해 위상차 필름이 투명 보호 필름으로서도 기능하기 때문에 박형화를 도모할 수 있다.As the transparent protective film, a retardation film having a front retardation of 40 nm or more and/or a retardation in the thickness direction of 80 nm or more may be used. The front retardation is usually controlled in the range of 40 to 200 nm, and the thickness direction retardation is usually controlled in the range of 80 to 300 nm. When using a retardation film as a transparent protective film, since the said retardation film also functions as a transparent protective film, thickness reduction can be aimed at.

위상차 필름으로는, 고분자 소재를 1 축 또는 2 축 연신 처리하여 이루어지는 복굴절성 필름, 액정 폴리머의 배향 필름, 액정 폴리머의 배향층을 필름으로 지지한 것 등을 들 수 있다. 위상차 필름의 두께도 특별히 제한되지 않지만, 20 ∼ 150 ㎛ 정도가 일반적이다.Examples of the retardation film include a birefringent film obtained by uniaxially or biaxially stretching a polymer material, an alignment film of a liquid crystal polymer, and a film supporting an alignment layer of a liquid crystal polymer. The thickness of the retardation film is also not particularly limited, but is generally about 20 to 150 µm.

또한, 도 1a, b, 도 2 내지 도 4 에서 나타내는 적층 편광 필름에 있어서는, 투명 보호 필름 (2) 으로서 위상차 필름을 사용할 수 있다. 또, 편광자 (1) 양측의 투명 보호 필름 (2) 은 편측 또는 양측 모두 위상차 필름으로 할 수도 있다. 특히, 도 3 및 도 4 에 있어서, 접착제층 (b2) 측의 투명 보호 필름으로서 위상차 필름을 사용하는 것이 바람직하다. 특히, 양측의 투명 보호 필름 (2) 으로서 위상차 필름을 사용하는 경우에는, 도 4 의 양태가 바람직하다.In addition, in the laminated polarizing film shown in FIGS. 1A and B and FIGS. 2 to 4, a retardation film can be used as the transparent protective film 2. Moreover, the transparent protective film 2 on both sides of the polarizer 1 can also be made into a retardation film on one side or both sides. In particular, in FIGS. 3 and 4, it is preferable to use a retardation film as the transparent protective film on the side of the adhesive layer (b2). In particular, when using a retardation film as the transparent protective film 2 on both sides, the aspect of FIG. 4 is preferable.

<접착제층 (b)><Adhesive layer (b)>

상기 접착제층 (b) 은 광학적으로 투명하면, 특별히 제한되지 않아 수계, 용제계, 핫멜트계, 활성 에너지선 경화형의 각종 형태의 것이 사용된다. 접착제층 (b) 은, 상기와 같이, 소정 두께이고, 소정의 저장 탄성률을 만족하는 것이 바람직하다.The adhesive layer (b) is not particularly limited as long as it is optically transparent, and various types of water-based, solvent-based, hot-melt-based, and active energy ray-curable ones are used. As described above, the adhesive layer (b) preferably has a predetermined thickness and satisfies a predetermined storage modulus.

수계의 경화형 접착제로서, 예를 들어 비닐 폴리머계, 젤라틴계, 비닐계 라텍스계, 폴리우레탄계, 이소시아네이트계, 폴리에스테르계, 에폭시계 등을 예시할 수 있다. 이와 같은 수계 접착제로 이루어지는 접착제층은, 수용액의 도포 건조층 등으로서 형성할 수 있지만, 그 수용액의 조제 시에는, 필요에 따라 가교제나 다른 첨가제, 산 등의 촉매도 배합할 수 있다.Examples of the aqueous curable adhesive include vinyl polymer, gelatin, vinyl latex, polyurethane, isocyanate, polyester, and epoxy. The adhesive layer made of such a water-based adhesive can be formed as a coating dry layer or the like of an aqueous solution, but when the aqueous solution is prepared, a crosslinking agent, other additives, and a catalyst such as an acid may be mixed as necessary.

상기 수계의 경화형 접착제로는, 비닐 폴리머를 함유하는 접착제 등을 사용하는 것이 바람직하고, 비닐 폴리머로는, 폴리비닐알코올계 수지가 바람직하다. 또 폴리비닐알코올계 수지로는, 아세토아세틸기를 갖는 폴리비닐알코올계 수지를 포함하는 접착제가 내구성을 향상시키는 점에서 보다 바람직하다. 또, 폴리비닐알코올계 수지에 배합할 수 있는 가교제로는, 폴리비닐알코올계 수지와 반응성을 갖는 관능기를 적어도 2 개 갖는 화합물을 바람직하게 사용할 수 있다. 예를 들어, 붕산이나 붕사, 카르복실산 화합물, 알킬디아민류 ; 이소시아네이트류 ; 에폭시류 ; 모노알데하이드류 ; 디알데하이드류 ; 아미노-포름알데하이드 수지 ; 또한 2 가 금속, 또는 3 가 금속의 염 및 그 산화물을 들 수 있다. 폴리비닐알코올계 수지에는, 수용성 규산염을 배합할 수 있다. 수용성 규산염으로서 규산리튬, 규산나트륨, 규산칼륨 등을 들 수 있다.As the water-based curable adhesive, it is preferable to use an adhesive or the like containing a vinyl polymer, and as the vinyl polymer, a polyvinyl alcohol-based resin is preferable. Further, as the polyvinyl alcohol-based resin, an adhesive containing a polyvinyl alcohol-based resin having an acetoacetyl group is more preferable in terms of improving durability. Moreover, as a crosslinking agent which can be blended into the polyvinyl alcohol-based resin, a compound having at least two functional groups reactive with the polyvinyl alcohol-based resin can be preferably used. For example, boric acid, borax, carboxylic acid compounds, and alkyldiamines; Isocyanates; Epoxys; Monoaldehydes; Dialdehydes; Amino-formaldehyde resin; Further, a divalent metal or a salt of a trivalent metal and an oxide thereof may be mentioned. A water-soluble silicate can be blended into the polyvinyl alcohol-based resin. Lithium silicate, sodium silicate, potassium silicate, etc. are mentioned as a water-soluble silicate.

또, 활성 에너지선 경화형 접착제로는 각종 형태의 것이 이용되고, 전자선 경화형, 자외선 경화형 등의 활성 에너지선 경화형의 접착제를 예시할 수 있다. 자외선 경화형 접착제로는, 크게 라디칼 중합 경화형 접착제와 카티온 중합형 접착제로 구분할 수 있다. 그 외, 라디칼 중합 경화형 접착제는 열 경화형 접착제로서 사용할 수 있다. 접착제층 (b) 의 형성에 사용하는 활성 에너지선 경화형 접착제로는, 상기 저탄성 접착제층 (a) 의 형성에 사용하는 활성 에너지선 경화형 접착제를 사용할 수 있다.Moreover, various types of adhesives are used as the active energy ray-curable adhesive, and active energy ray-curable adhesives such as electron beam curing type and ultraviolet curing type can be exemplified. As ultraviolet curable adhesives, radical polymerization curable adhesives and cationic polymerization adhesives can be broadly classified. In addition, a radical polymerization curable adhesive can be used as a heat curable adhesive. As the active energy ray-curable adhesive used for forming the adhesive layer (b), an active energy ray-curable adhesive used for forming the low-elastic adhesive layer (a) can be used.

상기 접착제층 (b) 중에서도, 접착제층 (b1) 은, 폴리비닐알코올계의 접착제가 바람직하다. 또, 접착제층 (b2) 은, 활성 에너지선 경화형 접착제가 바람직하다.Among the adhesive layers (b), the adhesive layer (b1) is preferably a polyvinyl alcohol-based adhesive. Moreover, as for the adhesive layer (b2), an active energy ray-curable adhesive is preferable.

상기 저탄성 접착제층 (a) 또는 접착제층 (b) 을 형성하는 접착제는, 필요하면 적절히 첨가제를 포함하는 것이어도 된다. 첨가제의 예로는, 실란 커플링제, 티탄 커플링제 등의 커플링제, 에틸렌옥사이드로 대표되는 접착 촉진제, 투명 필름과의 젖음성을 향상시키는 첨가제, 아크릴옥시기 화합물이나 탄화수소계 (천연, 합성 수지) 등으로 대표되고, 기계적 강도나 가공성 등을 향상시키는 첨가제, 자외선 흡수제, 노화 방지제, 염료, 가공 보조제, 이온 트랩제, 산화 방지제, 점착 부여제, 충전제 (금속 화합물 필러 이외), 가소제, 레벨링제, 발포 억제제, 대전 방지제, 내열 안정제, 내가수분해 안정제 등의 안정제 등을 들 수 있다.The adhesive for forming the low elasticity adhesive layer (a) or the adhesive layer (b) may contain an additive as appropriate if necessary. Examples of additives include coupling agents such as a silane coupling agent and a titanium coupling agent, an adhesion promoter typified by ethylene oxide, an additive that improves wettability with a transparent film, an acryloxy group compound or a hydrocarbon type (natural, synthetic resin), etc. Representative additives that improve mechanical strength and processability, UV absorbers, anti-aging agents, dyes, processing aids, ion trapping agents, antioxidants, tackifiers, fillers (other than metal compound fillers), plasticizers, leveling agents, foam inhibitors , Stabilizers such as an antistatic agent, a heat-resistant stabilizer, and a hydrolysis-resistant stabilizer.

본 발명의 적층 편광 필름은, 편광 필름 (P) 와 광학 필름 (3) 이 저탄성 접착제층 (a) 을 개재하여 첩합되지만, 투명 보호 필름 (2) 및/또는 광학 필름 (3) 에는, 접착 용이층을 형성할 수 있다. 또, 편광 필름 (P) 에 있어서 편광자 (1) 및/또는 투명 보호 필름 (2) 에 접착 용이층을 형성할 수 있다.In the laminated polarizing film of the present invention, the polarizing film (P) and the optical film (3) are bonded through the low-elastic adhesive layer (a), but are bonded to the transparent protective film (2) and/or the optical film (3). An easy layer can be formed. Moreover, in the polarizing film (P), the easily bonding layer can be formed in the polarizer (1) and/or the transparent protective film (2).

접착 용이층은, 예를 들어 폴리에스테르 골격, 폴리에테르 골격, 폴리카보네이트 골격, 폴리우레탄 골격, 실리콘계, 폴리아미드 골격, 폴리이미드 골격, 폴리비닐알코올 골격 등을 갖는 각종 수지에 의해 형성할 수 있다. 이들 폴리머 수지는 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 또 접착 용이층의 형성에는 다른 첨가제를 첨가해도 된다. 구체적으로는 나아가서는 점착 부여제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 내열 안정제 등의 안정제 등을 사용해도 된다. 접착 용이층은 건조 후의 두께는, 바람직하게는 0.01 ∼ 5 ㎛, 더 바람직하게는 0.02 ∼ 2 ㎛, 더욱 바람직하게는 0.05 ∼ 1 ㎛ 이다. 또한, 접착 용이층은 복수층 형성할 수 있지만, 이 경우에도 접착 용이층의 총 두께는 상기 범위가 되도록 하는 것이 바람직하다.The easily bonding layer can be formed of, for example, various resins having a polyester skeleton, a polyether skeleton, a polycarbonate skeleton, a polyurethane skeleton, a silicone system, a polyamide skeleton, a polyimide skeleton, a polyvinyl alcohol skeleton, and the like. These polymer resins may be used alone or in combination of two or more. Further, other additives may be added to the formation of the easily bonding layer. Specifically, a stabilizer such as a tackifier, an ultraviolet absorber, an antioxidant, and a heat-resistant stabilizer may be used. The thickness of the easily bonding layer after drying is preferably 0.01 to 5 µm, more preferably 0.02 to 2 µm, and still more preferably 0.05 to 1 µm. In addition, although a plurality of layers of the easily bonding layer can be formed, it is preferable that the total thickness of the easily bonding layer be within the above range even in this case.

<광학 필름><optical film>

광학 필름 (3) 으로는, 편광자 (1) 이외의, 예를 들어 위상차 필름 (1/2 이나 1/4 등의 파장판을 포함한다), 시각 보상 필름, 휘도 향상 필름, 반사판이나 반투과판 등의 액정 표시 장치 등의 형성에 사용되는 경우가 있는 광학층이 되는 것을 예시할 수 있다. 상기 광학 필름 (3) 은, 2 층 이상을 사용할 수 있다. 2 층 이상의 광학 필름을 사용하는 경우에 있어서, 2 층째의 광학 필름의 적층에도, 상기 저탄성 접착제층 (a) 을 사용할 수 있다. 상기 광학 필름 (3) 으로는, 위상차 필름이 바람직하다.As the optical film 3, other than the polarizer 1, for example, a retardation film (including a wavelength plate such as 1/2 or 1/4), a visual compensation film, a brightness enhancing film, a reflecting plate or a semi-transmissive plate What becomes an optical layer which may be used for formation of a liquid crystal display device, etc. can be illustrated. Two or more layers can be used for the said optical film (3). In the case of using two or more layers of optical films, the low-elastic adhesive layer (a) can also be used for lamination of the second optical film. As the optical film (3), a retardation film is preferable.

상기 위상차 필름으로는, 상기와 마찬가지의, 정면 위상차가 40 ㎚ 이상 및/또는 두께 방향 위상차가 80 ㎚ 이상인 위상차를 갖는 것을 사용할 수 있다. 정면 위상차는, 통상 40 ∼ 200 ㎚ 의 범위로, 두께 방향 위상차는, 통상 80 ∼ 300 ㎚ 의 범위로 제어된다.As the above-described retardation film, one having a retardation of 40 nm or more and/or 80 nm or more of a front retardation similar to the above and/or a thickness direction retardation may be used. The front retardation is usually controlled in the range of 40 to 200 nm, and the thickness direction retardation is usually controlled in the range of 80 to 300 nm.

위상차 필름으로는, 고분자 소재를 1 축 또는 2 축 연신 처리하여 이루어지는 복굴절성 필름, 액정 폴리머의 배향 필름, 액정 폴리머의 배향층을 필름으로 지지한 것 등을 들 수 있다. 위상차 필름의 두께도 특별히 제한되지 않지만, 20 ∼ 150 ㎛ 정도가 일반적이다.Examples of the retardation film include a birefringent film obtained by uniaxially or biaxially stretching a polymer material, an alignment film of a liquid crystal polymer, and a film supporting an alignment layer of a liquid crystal polymer. The thickness of the retardation film is also not particularly limited, but is generally about 20 to 150 µm.

본 발명의 적층 편광 필름에는, 액정 셀 등의 다른 부재와 접착하기 위한 점착제층을 형성할 수도 있다. 점착제층을 형성하는 점착제는 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어 아크릴계 중합체, 실리콘계 폴리머, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 폴리아미드, 폴리에테르, 불소계나 고무계 등의 폴리머를 베이스 폴리머로 하는 것을 적절히 선택해 사용할 수 있다. 특히, 아크릴계 점착제와 같이 광학적 투명성이 우수하고, 적당한 젖음성과 응집성과 접착성의 점착 특성을 나타내고, 내후성이나 내열성 등이 우수한 것을 바람직하게 사용할 수 있다.In the laminated polarizing film of the present invention, a pressure-sensitive adhesive layer for bonding to other members such as a liquid crystal cell can also be formed. The pressure-sensitive adhesive for forming the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, but for example, an acrylic polymer, a silicone polymer, polyester, polyurethane, polyamide, polyether, a fluorine-based or rubber-based polymer may be appropriately selected and used as a base polymer. . In particular, those having excellent optical transparency, suitable wettability, cohesiveness and adhesive properties, such as excellent weather resistance and heat resistance, can be preferably used like acrylic pressure-sensitive adhesives.

점착제층은, 상이한 조성 또는 종류 등의 것의 중첩층으로서 적층 편광 필름 또는 적층 광학 필름의 편면 또는 양면에 형성할 수도 있다. 또 양면에 형성하는 경우에, 적층 편광 필름 또는 적층 광학 필름의 표리에 있어서 상이한 조성이나 종류나 두께 등의 점착제층으로 할 수도 있다. 점착제층의 두께는, 사용 목적이나 접착력 등에 따라 적절히 결정할 수 있고, 일반적으로는 1 ∼ 500 ㎛ 이고, 1 ∼ 200 ㎛ 가 바람직하며, 특히 1 ∼ 100 ㎛ 가 바람직하다.The pressure-sensitive adhesive layer may be formed on one side or both sides of a laminated polarizing film or a laminated optical film as a superposed layer of different compositions or types. Moreover, in the case of forming on both sides, it is also possible to use pressure-sensitive adhesive layers such as different compositions, types, and thicknesses on the front and back of a laminated polarizing film or a laminated optical film. The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer can be appropriately determined depending on the purpose of use, adhesive strength, etc., and is generally 1 to 500 µm, preferably 1 to 200 µm, and particularly preferably 1 to 100 µm.

점착제층의 노출면에 대해서는, 실용에 제공하기까지의 동안 그 오염 방지 등을 목적으로 세퍼레이터가 가착되어 커버가 된다. 이로써, 통례의 취급 상태에서 점착제층에 접촉하는 것을 방지할 수 있다. 세퍼레이터로는, 상기 두께 조건을 제외하고, 예를 들어 플라스틱 필름, 고무 시트, 종이, 천, 부직포, 네트, 발포 시트나 금속박, 그들의 라미네이트체 등의 적절한 박엽체를, 필요에 따라 실리콘계나 장사슬 알킬계, 불소계나 황화몰리브덴 등의 적절히 박리제로 코트 처리한 것 등의, 종래에 준한 적절한 것을 이용할 수 있다.With respect to the exposed surface of the pressure-sensitive adhesive layer, a separator is temporarily attached for the purpose of preventing contamination and the like while providing it to practical use to form a cover. Thereby, it is possible to prevent contact with the pressure-sensitive adhesive layer in the usual handling state. As the separator, except for the above-described thickness conditions, for example, suitable thin-leaf bodies such as plastic films, rubber sheets, paper, cloth, nonwoven fabrics, nets, foam sheets and metal foils, and laminates thereof may be used as necessary, such as silicone or long chains. An appropriate conventional one, such as an alkyl-based, fluorine-based, or molybdenum sulfide, suitably coated with a release agent, can be used.

본 발명의 적층 편광 필름 또는 적층 광학 필름은 액정 표시 장치 등의 각종 장치의 형성 등에 바람직하게 사용할 수 있다. 액정 표시 장치의 형성은, 종래에 준해 실시할 수 있다. 즉 액정 표시 장치는 일반적으로, 액정 셀과 적층 편광 필름 또는 적층 광학 필름, 및 필요에 따른 조명 시스템 등의 구성 부품을 적절히 조립하여 구동 회로를 장착하는 것 등에 의해 형성되지만, 본 발명에 있어서는 본 발명에 의한 적층 편광 필름 또는 적층 광학 필름을 사용하는 점을 제외하고 특별히 한정은 없고, 종래에 준할 수 있다. 액정 셀에 대해도, 예를 들어 TN 형이나 STN 형, π 형 등의 임의의 타입의 것을 이용할 수 있다.The laminated polarizing film or laminated optical film of the present invention can be preferably used for formation of various devices such as a liquid crystal display device. Formation of a liquid crystal display device can be performed according to the conventional method. That is, in general, a liquid crystal display device is formed by properly assembling a liquid crystal cell, a laminated polarizing film or a laminated optical film, and constituent parts such as a lighting system as necessary to attach a driving circuit, etc., but in the present invention There is no limitation in particular except for using the laminated polarizing film or the laminated optical film by, and it may follow conventionally. As for the liquid crystal cell, for example, any type such as TN type, STN type, or π type can be used.

액정 셀의 편측 또는 양측에 적층 편광 필름 또는 적층 광학 필름을 배치한 액정 표시 장치나, 조명 시스템에 백라이트 혹은 반사판을 사용한 것 등의 적절한 액정 표시 장치를 형성할 수 있다. 그 경우, 본 발명에 의한 적층 편광 필름 또는 적층 광학 필름은 액정 셀의 편측 또는 양측에 설치할 수 있다. 양측에 적층 편광 필름 또는 적층 광학 필름을 설치하는 경우, 그것들은 동일한 것이어도 되고, 상이한 것이어도 된다. 또한, 액정 표시 장치의 형성 시에는, 예를 들어 확산판, 안티글레어층, 반사 방지막, 보호판, 프리즘 어레이, 렌즈 어레이 시트, 광 확산판, 백라이트 등의 적절한 부품을 적절한 위치에 1 층 또는 2 층 이상 배치할 수 있다.An appropriate liquid crystal display device such as a liquid crystal display device in which a laminated polarizing film or a laminated optical film is disposed on one or both sides of a liquid crystal cell, or a backlight or a reflector in an illumination system can be formed. In that case, the laminated polarizing film or laminated optical film according to the present invention can be provided on one side or both sides of the liquid crystal cell. When a laminated polarizing film or a laminated optical film is provided on both sides, they may be the same or different. In addition, when forming a liquid crystal display, for example, a diffusion plate, an anti-glare layer, an anti-reflection film, a protective plate, a prism array, a lens array sheet, a light diffusion plate, a backlight, etc. It can be placed above.

실시예Example

이하에, 본 발명의 실시예를 기재하지만, 본 발명의 실시형태는 이들에 한정되지 않는다.Hereinafter, examples of the present invention will be described, but embodiments of the present invention are not limited thereto.

<저장 탄성률의 측정> <Measurement of storage modulus>

실시예 및 비교예에서 사용한 접착제층 또는 점착제층에 대해 하기 방법에 의해 저장 탄성률을 구하였다.For the adhesive layer or pressure-sensitive adhesive layer used in Examples and Comparative Examples, the storage modulus was determined by the following method.

[저장 탄성률의 측정 방법][Measurement method of storage modulus]

저장 탄성률은, 레오메트릭사 제조의 점탄성 스펙트로미터 (상품명 : RSA-II) 를 사용하여 실시하였다. 측정 조건은, 주파수 1 ㎐, 샘플 두께 2 ㎜, 압착 가중 100 g, 승온 속도 5 ℃/min 에서의 -50 ℃ ∼ 200 ℃ 의 범위에 있어서, 25 ℃ 및 85 ℃ 에서의 값을 측정값으로 하였다.The storage modulus was carried out using a viscoelastic spectrometer (trade name: RSA-II) manufactured by Rheometric Corporation. Measurement conditions were the values at 25°C and 85°C in the range of -50°C to 200°C at a frequency of 1 Hz, a sample thickness of 2 mm, a compression weight of 100 g, and a heating rate of 5°C/min. .

<투명 보호 필름의 투습도><Moisture permeability of transparent protective film>

투습도의 측정은, JIS Z0208 의 투습도 시험 (컵법) 에 준해 측정하였다. 직경 60 ㎜ 로 절단한 샘플을 약 15 g 의 염화칼슘을 넣은 투습컵에 세트하고, 온도 40 ℃, 습도 90 %R.H. 의 항온기에 넣고, 24 시간 방치한 전후의 염화칼슘의 중량 증가를 측정함으로써 투습도 (g/㎡/24 h) 를 구하였다.The measurement of moisture permeability was measured according to the moisture permeability test (cup method) of JIS Z0208. A sample cut into a diameter of 60 mm was set in a moisture-permeable cup containing about 15 g of calcium chloride, and a temperature of 40°C and a humidity of 90% R.H. The moisture permeability (g/m 2 /24 h) was calculated|required by measuring the weight increase of calcium chloride before and after put into the thermostat of and left for 24 hours.

<투명 보호 필름><Transparent protective film>

투명 보호 필름 (2a) : 두께 50 ㎛ 의 락톤 고리 구조를 갖는 (메트)아크릴 수지 (투습도 96 g/㎡/24 h) 에 코로나 처리를 실시해 사용하였다.Transparent protective film (2a): A (meth)acrylic resin having a lactone ring structure having a thickness of 50 µm (moisture permeability 96 g/m 2 /24 h) was subjected to corona treatment and used.

투명 보호 필름 (2b) : 두께 18 ㎛ 의 고리형 폴리올레핀 필름 (닛폰 제온사 제조 : ZEONOR) 에 코로나 처리를 실시해 사용하였다.Transparent protective film (2b): A 18-micrometer-thick cyclic polyolefin film (made by Nippon Xeon Corporation: ZEONOR) was subjected to corona treatment and used.

<폴리비닐알코올계 접착제><Polyvinyl alcohol adhesive>

아세토아세틸 (AA) 기를 함유하는 PVA 계 수지(평균 중합도 : 1200, 비누화도 : 98.5 몰%, AA 기 변성도 : 5 몰%, (표 1 중에서는 AA 변성 PVA 로 나타낸다)) 100 부에 대해, 메틸올멜라민 20 부를, 30 ℃ 의 온도 조건하에, 순수에 용해하여, 고형분 농도 0.5 % 로 조정한 수용액을 조제하였다. 이것을 접착제로 해서, 30 ℃ 의 온도 조건하에 사용하였다.About 100 parts of PVA-based resin containing acetoacetyl (AA) group (average degree of polymerization: 1200, degree of saponification: 98.5 mol%, degree of modification of AA group: 5 mol%, (represented by AA-modified PVA in Table 1)), 20 parts of methylolmelamine was dissolved in pure water under a temperature condition of 30°C to prepare an aqueous solution adjusted to a solid content concentration of 0.5%. This was used as an adhesive, and was used under a temperature condition of 30°C.

<통상적인 편광자의 제작><Production of conventional polarizer>

평균 중합도 2400, 비누화도 99.9 몰%, 두께 75 ㎛ 의 폴리비닐알코올 필름을, 30 ℃ 의 온수 중에 60 초간 침지해 팽윤시켰다. 이어서, 0.3 중량% (중량비 : 요오드/요오드화칼륨 = 0.5/8) 의 30 ℃ 의 요오드 용액 중에서 1 분간 염색하면서, 3.5 배까지 연신하였다. 그 후, 65 ℃ 의 4 중량% 의 붕산 수용액 중에 0.5 분간 침지하면서 종합 연신 배율이 6 배까지 연신하였다. 연신 후, 70 ℃ 의 오븐으로 3 분간 건조를 실시해, 두께 26 ㎛ 의 편광자를 얻었다.A polyvinyl alcohol film having an average degree of polymerization of 2400, a degree of saponification of 99.9 mol%, and a thickness of 75 µm was immersed in hot water at 30° C. for 60 seconds to swell. Then, it extended|stretched to 3.5 times, dyeing for 1 minute in a 30 degreeC iodine solution of 0.3 weight% (weight ratio: iodine/potassium iodide = 0.5/8). Thereafter, the total draw ratio was stretched to 6 times while being immersed in a 65°C 4% by weight boric acid aqueous solution for 0.5 minutes. After extending|stretching, it dried for 3 minutes in a 70 degreeC oven, and the 26 micrometers-thick polarizer was obtained.

<도 2 에 기재된 편광 필름 (P1) 의 제작><Production of polarizing film (P1) described in FIG. 2>

상기 편광자의 양면에, 상기 폴리비닐알코올계 접착제를 도포하면서 상기 투명 보호 필름 (2a) 및 (2b) 를 첩합한 후, 50 ℃ 에서 5 분간의 건조를 실시해 편광 필름을 제작하였다. 투명 보호 필름 (2a) 및 (2b) 에 형성된 접착제층 (b1) 의 두께는 모두 0.1 ㎛ 이고, 25 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률은 1.5 × 109 ㎩, 85 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률은 1.0 × 108 ㎩ 였다.After bonding the transparent protective films (2a) and (2b) to both surfaces of the polarizer while applying the polyvinyl alcohol-based adhesive, it was dried at 50° C. for 5 minutes to prepare a polarizing film. The thickness of the adhesive layer (b1) formed on the transparent protective films (2a) and (2b) was both 0.1 µm, the storage modulus at 25°C was 1.5×10 9 Pa, and the storage elastic modulus at 85°C was 1.0×10 It was 8 Pa.

<박형 편광자의 제작><Production of thin polarizer>

박형 편광막을 제작하기 위해, 먼저 비정성 PET 기재에 9 ㎛ 두께의 PVA 층이 제막된 적층체를 연신 온도 130 ℃ 의 공중 보조 연신에 의해 연신 적층체를 생성하고, 다음으로 연신 적층체를 염색에 의해 착색 적층체를 생성하고, 추가로 착색 적층체를 연신 온도 65 ℃ 의 붕산 수중 연신에 의해 총 연신 배율이 5.94 배가 되도록 비정성 PET 기재와 일체로 연신된 4 ㎛ 두께의 PVA 층을 포함하는 광학 필름 적층체를 생성하였다. 이와 같은 2 단 연신에 의해 비정성 PET 기재에 제막된 PVA 층의 PVA 분자가 고차로 배향되고, 염색에 의해 흡착된 요오드가 폴리요오드 이온 착물로서 일방향으로 고차로 배향된 고기능 편광막을 구성하는, 두께 5 ㎛ 의 PVA 층을 포함하는 광학 필름 적층체를 생성할 수 있었다.In order to produce a thin polarizing film, first, a laminate in which a 9 μm-thick PVA layer was formed on an amorphous PET substrate was formed by air-assisted stretching at a stretching temperature of 130°C to produce a stretched laminate, and then the stretched laminate was subjected to dyeing. Optical comprising a 4 µm-thick PVA layer integrally stretched with an amorphous PET substrate so that the colored laminate was stretched in water with boric acid at a stretching temperature of 65°C so that the total draw ratio was 5.94 times. A film laminate was produced. By such two-stage stretching, the PVA molecules of the PVA layer formed on the amorphous PET substrate are oriented at a high degree, and the iodine adsorbed by dyeing is a polyiodine ion complex, constituting a highly functional polarizing film with a high order in one direction. An optical film laminate comprising a 5 µm PVA layer could be produced.

<도 3 에 기재된 편광 필름 (P2) 의 제작> <Production of the polarizing film (P2) described in FIG. 3>

상기 광학 필름 적층체의 편광막의 표면에, 상기 폴리비닐알코올계 접착제를 도포하면서, 상기 투명 보호 필름 (2a) 을 첩합한 후, 50 ℃ 에서 5 분간의 건조를 실시하였다. 투명 보호 필름 (2a) 에 형성된 접착제층 (b1) 의 두께는 1 ㎛ 이고, 25 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률은 1.5 × 109 ㎩, 85 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률은 1.0 × 108 ㎩ 였다.After bonding the transparent protective film (2a) to the surface of the polarizing film of the optical film laminate while applying the polyvinyl alcohol-based adhesive, drying was performed at 50°C for 5 minutes. The thickness of the adhesive layer (b1) formed on the transparent protective film 2a was 1 µm, the storage modulus at 25°C was 1.5×10 9 Pa, and the storage elastic modulus at 85°C was 1.0×10 8 Pa.

이어서, 비정성 PET 기재를 박리하고, 그 박리면에, 하기에 나타내는 활성화 에너지선 경화형계의 접착제 (하기 실시예 1 의 저탄성 접착제층 (a) 에 관련된 활성 에너지선 경화형 접착제와 동일) 를 도포하고, 상기 투명 보호 필름 (2b) 을 첩합한 후에 자외선에 의해 경화시켜, 박형 편광막을 사용한 편광 필름을 제작하였다. 투명 보호 필름 (2b) 에 형성된 접착제층 (b2) 의 두께는, 5 ㎛ 이고, 25 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률은 8.0 × 106 ㎩, 85 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률은 8.0 × 106 ㎩ 였다.Subsequently, the amorphous PET substrate was peeled off, and an activated energy ray-curable adhesive shown below (same as the active energy ray-curable adhesive related to the low-elastic adhesive layer (a) of Example 1 below) was applied to the peeling surface. And, after bonding the said transparent protective film 2b, it cured with ultraviolet-ray, and the polarizing film using the thin polarizing film was produced. The thickness of the adhesive layer (b2) formed on the transparent protective film 2b was 5 µm, the storage elastic modulus at 25°C was 8.0×10 6 Pa, and the storage elastic modulus at 85°C was 8.0×10 6 Pa.

<활성 에너지선><Active energy ray>

활성 에너지선으로서 자외선 (갈륨 봉입 메탈 할라이드 램프) 조사 장치 : Fusion UV Systems, Inc 사 제조 Light HAMMER10 밸브 : V 밸브 피크 조도 : 1600 ㎽/㎠, 적산 조사량 1000/mJ/㎠ (파장 380 ∼ 440 ㎚) 를 사용하였다. 또한, 자외선의 조도는, Solatell 사 제조 Sola-Check 시스템을 사용해 측정하였다.Ultraviolet (gallium-enclosed metal halide lamp) irradiation device as an active energy ray: Fusion UV Systems, Inc. Light HAMMER10 valve: V valve peak illuminance: 1600 mW/㎠, accumulated irradiation dose 1000/mJ/㎠ (wavelength 380 to 440 nm) Was used. In addition, the irradiance of ultraviolet rays was measured using the Sola-Check system manufactured by Solatell.

<점도의 측정><Measurement of viscosity>

실시예 및 비교예에서 사용한 활성 에너지선 경화형 접착제 또는 점착제의 점도 (cp/25 ℃) 는 E 형 회전식 점도계에 의해 측정한 값이다. 측정 결과는 표 1 에 나타낸다. The viscosity (cp/25°C) of the active energy ray-curable adhesive or pressure-sensitive adhesive used in Examples and Comparative Examples is a value measured by an E-type rotary viscometer. The measurement results are shown in Table 1.

실시예 1 ∼ 4 및 비교예 1 Examples 1 to 4 and Comparative Example 1

(저탄성 접착제층 (a) 에 관련된 활성 에너지선 경화형 접착제의 조정)(Adjustment of active energy ray-curable adhesive related to low elastic adhesive layer (a))

표 1 에 기재된 배합표에 따라, 각 성분을 혼합해 50 ℃ 에서 1 시간 교반해, 활성 에너지선 경화형 접착제를 얻었다. 표 중의 활성 에너지선 경화형 접착제의 수치는 중량부를 나타낸다.According to the formulation table shown in Table 1, each component was mixed and stirred at 50° C. for 1 hour to obtain an active energy ray-curable adhesive. The numerical value of the active energy ray-curable adhesive in the table represents parts by weight.

(위상차 필름)(Phase difference film)

아크릴계 위상차 필름 (JSR 사 제조 아톤, 40 ㎛ 두께, 정면 위상차 140 ㎚) 을 사용하였다.An acrylic retardation film (Atone manufactured by JSR, 40 mu m thickness, front retardation 140 nm) was used.

(적층 편광 필름의 제법)(The manufacturing method of a laminated polarizing film)

위상차 필름의 코로나 표면에, 표 1 에 기재된 저탄성 접착제층 (a) 에 관련된 활성 에너지선 경화형 접착제를 MCD 코터 (후지 기계사 제조)(셀 형상 : 허니콤, 그라비어 롤 선수 : 1000 개/INCH, 회전 속도 140 %/라인 속도 대비) 를 사용하여, 표 1 에 나타내는 두께가 되도록 도포하였다.On the corona surface of the retardation film, an active energy ray-curable adhesive related to the low-elastic adhesive layer (a) shown in Table 1 was applied to an MCD coater (manufactured by Fuji Machinery) (cell shape: honeycomb, gravure roll player: 1000 pieces/INCH, It applied so that it might become the thickness shown in Table 1 using rotation speed 140%/line speed comparison).

상기 위상차 필름의 접착제 도포면을, 편광 필름 (P1) 또는 (P2) 에 첩합하였다. 편광 필름 (P1) 에서는 투명 보호 필름 (2b) 의 측에, 편광 필름 (P2) 에서는 투명 보호 필름 (2a) 의 측에 첩합하였다. 그 후, 첩합한 위상차 필름측으로부터, IR 히터를 사용하여 50 ℃ 로 가온하고, 상기 자외선을 조사해, 저탄성 접착제층 (a) 에 관련된 활성 에너지선 경화형 접착제를 경화시킨 후, 70 ℃ 에서 3 분간 열풍 건조시켜, 적층 편광 필름을 얻었다. 첩합의 라인 속도는 15 m/min 으로 실시하였다.The adhesive coated surface of the retardation film was bonded to the polarizing film (P1) or (P2). In the polarizing film (P1), it adhered to the side of the transparent protective film (2b), and in the polarizing film (P2) to the side of the transparent protective film (2a). Thereafter, from the side of the bonded retardation film, it was heated to 50° C. using an IR heater, irradiated with the above ultraviolet rays to cure the active energy ray-curable adhesive related to the low elastic adhesive layer (a), and then at 70° C. for 3 minutes. It dried with hot air and obtained the laminated polarizing film. The line speed of bonding was performed at 15 m/min.

비교예 2, 3Comparative Examples 2 and 3

<(메트)아크릴계 폴리머의 조제><Preparation of (meth)acrylic polymer>

교반 날개, 온도계, 질소 가스 도입관, 냉각기를 구비한 4 구 플라스크에, 부틸아크릴레이트 92 부, N-아크릴로일모르폴린 5 부, 아크릴산 2.9 부, 2-하이드록실에틸아크릴레이트 0.1 부, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.1 중량부, 아세트산에틸 200 중량부를 주입하고, 완만하게 교반하면서 질소 가스를 도입해 질소 치환한 후, 플라스크 내의 액온을 55 ℃ 부근으로 유지하고 8 시간 중합 반응을 실시해, 아크릴계 폴리머 용액을 조제하였다. 상기 아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량은 220만이었다.In a four-necked flask equipped with a stirring blade, thermometer, nitrogen gas inlet pipe, and cooler, 92 parts of butyl acrylate, 5 parts of N-acryloylmorpholine, 2.9 parts of acrylic acid, 0.1 part of 2-hydroxylethyl acrylate, polymerization 0.1 parts by weight of 2,2'-azobisisobutyronitrile and 200 parts by weight of ethyl acetate were injected as initiators, and nitrogen gas was introduced to replace nitrogen with gentle stirring, and then the liquid temperature in the flask was maintained at around 55°C. Time polymerization reaction was performed, and an acrylic polymer solution was prepared. The weight average molecular weight of the acrylic polymer was 2.2 million.

<점착제층이 형성된 편광 필름의 제작><Production of a polarizing film with an adhesive layer>

상기에서 얻어진 아크릴계 폴리머 용액의 고형분 100 부에 대해, 가교제로서 톨릴렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 부가물로 이루어지는 폴리이소시아네이트계 가교제 (닛폰 폴리우레탄 공업사 제조, 코로네이트 L) 0.2 부를 배합한 아크릴계 점착제 용액을 조제하였다. 이어서, 상기 아크릴계 점착제 용액을, 실리콘 처리를 실시한 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름 (미츠비시 화학 폴리에스테르 필름사 제조, 두께 : 38 ㎛) 의 편면에, 건조 후의 점착제층의 두께가 표 1 에 나타내는 바와 같이 되도록 (비교예 2 에서는 5.5 ㎛ ; 비교예 3 에서는 4.0 ㎛) 도포하고, 150 ℃ 에서 3 분간 건조를 실시해, 점착제층을 형성하였다.To 100 parts of the solid content of the acrylic polymer solution obtained above, 0.2 parts of a polyisocyanate crosslinking agent (Coronate L, manufactured by Nippon Polyurethane Industrial Co., Ltd.) consisting of a trimethylolpropane adduct of tolylene diisocyanate as a crosslinking agent was added to prepare an acrylic pressure-sensitive adhesive solution. I did. Next, the acrylic pressure-sensitive adhesive solution was applied to one side of a silicone-treated polyethylene terephthalate (PET) film (manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester Film, thickness: 38 μm), and the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer after drying was shown in Table 1. It applied (5.5 µm in Comparative Example 2; 4.0 µm in Comparative Example 3) and dried at 150°C for 3 minutes to form a pressure-sensitive adhesive layer.

<적층 편광 필름의 제작><Production of laminated polarizing film>

상기 점착제층을 편광 필름 (P1) 또는 (P2) 에 첩합하였다. 편광 필름 (P1) 에서는 투명 보호 필름 (2b) 의 측에, 편광 필름 (P2) 에서는 투명 보호 필름 (2a) 의 측에 점착제층을 첩합하였다. 그 후, PET 필름을 박리하고, 위상차 필름을 첩합해 적층 편광 필름을 얻었다.The pressure-sensitive adhesive layer was bonded to the polarizing film (P1) or (P2). In the polarizing film (P1), the adhesive layer was pasted on the side of the transparent protective film 2b, and in the polarizing film (P2) on the side of the transparent protective film 2a. Then, the PET film was peeled, the retardation film was bonded together to obtain a laminated polarizing film.

각 예에서 얻어진 적층 편광 필름에 대해 하기 평가를 실시하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.The following evaluation was performed about the laminated polarizing film obtained in each example. Table 1 shows the results.

<내충격성><Impact resistance>

적층 편광 필름의 위상차 필름면에 점착제층을 적층하고, 편광자의 연신 방향으로 50 ㎜, 수직 방향으로 100 ㎜ 의 장방형으로 컷하였다. 두께 0.5 ㎜, 세로 120 ㎜, 가로 60 ㎜ 의 유리판에 상기 적층 편광 필름을 라미네이트해 샘플을 제작하였다. 또한, 유리판의 이면에는 파괴 방지를 위해서 셀로판 테이프를 전체면에 붙여 두었다.The pressure-sensitive adhesive layer was laminated on the retardation film surface of the laminated polarizing film, and cut into a rectangle of 50 mm in the stretching direction of the polarizer and 100 mm in the vertical direction. A sample was prepared by laminating the laminated polarizing film on a glass plate having a thickness of 0.5 mm, a length of 120 mm, and a width of 60 mm. Further, on the back surface of the glass plate, cellophane tape was attached to the entire surface to prevent destruction.

제작한 샘플을 높이 1 m 로부터 자연 낙하시켰다. 그 낙하를 100 회 반복하고 나서의 단부 (端部) 의 박리 상태를 육안으로 관찰하였다.The produced sample was naturally dropped from 1 m in height. After repeating the dropping 100 times, the state of peeling of the end portion was observed visually.

○ : 벗겨짐은 확인되지 않는다.○: Peeling was not confirmed.

△ : 단부로부터 벗겨짐이 1 ㎜ 미만.?: Peeling from the end is less than 1 mm.

× : 단부로부터 벗겨짐이 1 ㎜ 이상.X: 1 mm or more of peeling off from the end.

<가열 좌굴성><Heating buckling property>

적층 편광 필름의 위상차 필름면에 점착제층을 적층하고, 편광자의 연신 방향으로 200 ㎜, 수직 방향으로 400 ㎜ 의 장방형으로 컷하였다. 액정 셀 (「소니사 제조 32 인치 액정 텔레비젼 BRAVIA (등록상표) KDL-32F1」로부터 액정 셀을 꺼내 사용하였다) 의 양면에, 상기 점착제층을 개재하여 상기 적층 편광 필름을 크로스 니콜 상태가 되도록 라미네이트해 액정 패널을 제작하였다. 당해 액정 패널에 대해 하기 시험을 실시하였다.The pressure-sensitive adhesive layer was laminated on the retardation film surface of the laminated polarizing film, and cut into a rectangle of 200 mm in the stretching direction of the polarizer and 400 mm in the vertical direction. On both sides of a liquid crystal cell (a liquid crystal cell was taken out and used from "32-inch liquid crystal television BRAVIA (registered trademark) KDL-32F1 manufactured by Sony Corporation"), the laminated polarizing film was laminated so as to be in a cross-Nichol state through the pressure-sensitive adhesive layer, The panel was produced. The following test was performed about this liquid crystal panel.

1 : 가열 시험 (85 ℃ 에서 각각 12 시간) 1: Heating test (12 hours each at 85°C)

2 : -40 ℃ ⇔ 85 ℃ 의 히트 사이클 시험을 실시하고, 100 사이클 2: -40 degreeC ⇔ 85 degreeC heat cycle test is performed, and 100 cycles

시험 후에, 액정 패널을 육안 관찰하고 하기 기준에 근거해 줄무늬 불균일을 평가하였다.After the test, the liquid crystal panel was visually observed, and the stripe non-uniformity was evaluated based on the following criteria.

○ : 줄무늬 불균일의 발생은 보이지 않는다.○: The occurrence of uneven streaks is not observed.

× : 줄무늬 불균일이 발생하였다.X: Stripe unevenness occurred.

<박리력 : 강제 박리><Peeling force: Forced peeling>

적층 편광 필름을 편광자의 연신 방향과 평행하게 200 ㎜, 직행 방향으로 20 ㎜ 의 크기로 잘라내고, 편광 필름과 위상차 필름 사이에 커터 나이프로 슬릿을 넣은 후, 적층 편광 필름을 유리판에 첩합하였다. 텐실론에 의해, 90 도 방향으로 편광 필름과 위상차 필름을 박리 속도 500 ㎜/min 으로 박리하고, 그 박리 강도를 측정하였다. 또, 박리 후의 박리면의 적외 흡수 스펙트럼을 ATR 법에 의해 측정하고, 박리 계면을 하기 기준에 근거해 평가하였다.The laminated polarizing film was cut out to a size of 200 mm in parallel with the stretching direction of the polarizer and 20 mm in the direct direction, and a slit was put between the polarizing film and the retardation film with a cutter knife, and then the laminated polarizing film was bonded to the glass plate. With Tensilon, the polarizing film and the retardation film were peeled off in the direction of 90 degrees at a peel rate of 500 mm/min, and the peel strength was measured. Moreover, the infrared absorption spectrum of the peeling surface after peeling was measured by the ATR method, and the peeling interface was evaluated based on the following criteria.

1 : 저탄성 접착제층 (a) 의 응집 파괴.1: Cohesive failure of the low elastic adhesive layer (a).

2 : 위상차 필름의 응집 파괴.2: Cohesive failure of the retardation film.

상기 기준에 있어서, 2 는, 접착력이 필름의 응집력 이상이기 때문에, 접착력이 매우 우수한 것을 의미한다. 한편, 1 은, 편광 필름/접착제층/위상차 필름의 계면의 접착력이 부족한 (접착력이 열등하다) 것을 의미한다. In the above criteria, 2 means that the adhesive strength is very excellent because the adhesive strength is more than the cohesive strength of the film. On the other hand, 1 means that the adhesive force of the interface of a polarizing film/adhesive layer/phase difference film is insufficient (adhesive force is inferior).

<박리성 : 박리력><Peelability: Peel force>

적층 편광 필름을 편광자의 연신 방향과 평행하게 200 ㎜, 직행 방향으로 15 ㎜ 의 크기로 잘라내고, 편광 필름과 위상차 필름 사이에 커터 나이프로 슬릿을 넣은 후, 적층 편광 필름을 유리판에 첩합하였다. 텐실론에 의해, 90 도 방향으로 편광 필름과 위상차 필름을 박리 속도 300 ㎜/min 으로 박리하고, 그 박리 강도 (N/15 ㎜) 를 측정하였다.The laminated polarizing film was cut out to a size of 200 mm in parallel with the stretching direction of the polarizer and 15 mm in the direct direction, and a slit was put between the polarizing film and the retardation film with a cutter knife, and then the laminated polarizing film was bonded to the glass plate. The polarizing film and the retardation film were peeled off at a peeling speed of 300 mm/min in the direction of 90 degrees by Tensilon, and the peeling strength (N/15 mm) was measured.

Figure 112016056357434-pct00015
Figure 112016056357434-pct00015

표 1 중의 비교예 2, 3 은, 저탄성 접착제층 (a) 과 대비하는 점착제층이고, 참고를 위해서 점착제층을 형성하는 아크릴계 폴리머를 구성하는 모노머 성분의 비율을 기재하였다.Comparative Examples 2 and 3 in Table 1 are pressure-sensitive adhesive layers in comparison with the low-elastic adhesive layer (a), and for reference, the ratio of the monomer components constituting the acrylic polymer forming the pressure-sensitive adhesive layer is described.

(A) : 다관능 라디칼 중합성 화합물 (A): Polyfunctional radical polymerizable compound

아로닉스 M-270 은, 폴리프로필렌글리콜디아크릴레이트 (동아 합성사 제조) 를 나타낸다.Aaronix M-270 represents polypropylene glycol diacrylate (manufactured by Dong-A Synthetic Corporation).

TPGDA : 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트를 나타낸다.TPGDA: represents tripropylene glycol diacrylate.

라이트 아크릴레이트 9EG-A 는, 에틸렌글리콜 (부가 몰수의 평균값 9) 디아크릴레이트 (쿄에이샤 화학사 제조) 를 나타낸다.Light acrylate 9EG-A represents ethylene glycol (average value 9 of the number of moles added) diacrylate (manufactured by Kyoe Chemical Co., Ltd.).

(B) : 탄소수 2 ∼ 12 의 알킬기를 갖는 알킬(메트)아크릴레이트 (B): Alkyl (meth)acrylate having an alkyl group having 2 to 12 carbon atoms

BA 는, n-부틸아크릴레이트 ; BA is n-butyl acrylate;

(C) : 수산기를 갖는 (메트)아크릴레이트 (C): (meth)acrylate having a hydroxyl group

2HEA 는, 2-하이드록시에틸아크릴레이트 ;2HEA is 2-hydroxyethyl acrylate;

4HBA 는, 4-하이드록시부틸아크릴레이트 ;4HBA is 4-hydroxybutyl acrylate;

PLACCEL FA1DDM 은, 2HEA 의 카프로락톤 1 몰 부가물 (다이셀사 제조) 을 나타낸다.PLACCEL FA1DDM represents a 2HEA caprolactone 1 mol adduct (made by Daicel Corporation).

(기타) : 상기 이외의 라디칼 중합성 화합물 (Others): radical polymerizable compounds other than the above

HEAA 는, 하이드록시에틸아크릴아미드 (코진사 제조) ;HEAA is hydroxyethylacrylamide (manufactured by Kojin Corporation);

ACMO 는, 아크릴로일모르폴린 (코진사 제조) 을 나타낸다.ACMO represents acryloylmorpholine (manufactured by Kojin Corporation).

(E) : (메트)아크릴 모노머를 중합하여 이루어지는 아크릴계 올리고머 (E): Acrylic oligomer obtained by polymerizing (meth)acrylic monomer

UP-1190 은, (메트)아크릴 모노머를 중합하여 이루어지는 아크릴계 올리고머 (ARUFON UP-1190, 동아 합성사 제조) 를 나타낸다.UP-1190 represents an acrylic oligomer (ARUFON UP-1190, manufactured by Dong-A Synthetic Corporation) obtained by polymerizing a (meth)acrylic monomer.

(F) : 활성 메틸렌기를 갖는 라디칼 중합성 화합물 (F): Radical polymerizable compound having an active methylene group

AAEM 은, 2-아세토아세톡시에틸메타크릴레이트 (닛폰 합성 화학사 제조) 를 나타낸다. AAEM represents 2-acetoacetoxyethyl methacrylate (made by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.).

(G) : 수소 인발 작용이 있는 라디칼 중합 개시제(G): Radical polymerization initiator with hydrogen drawing action

KAYACURE DETX-S 는, 수소 인발 작용이 있는 라디칼 중합 개시제 (디에틸티오크산톤, KAYACURE DETX-S, 닛폰 화약사 제조) 를 나타낸다.KAYACURE DETX-S represents a radical polymerization initiator (diethyl thioxanthone, KAYACURE DETX-S, manufactured by Nippon Explosives Co., Ltd.) having a hydrogen drawing action.

(광중합 개시제 : 기타)(일반식 (2) 로 나타내는 화합물) (Photopolymerization initiator: other) (compound represented by general formula (2))

IRGACURE 907 은, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온 (IRGACURE 907, BASF 사 제조) 을 나타낸다. IRGACURE 907 represents 2-methyl-1-(4-methylthiophenyl)-2-morpholinopropan-1-one (IRGACURE 907, manufactured by BASF).

1 : 편광자
2 : 투명 보호 필름
P : 편광 필름
3 : 광학 필름 (위상차 필름)
a : 저탄성 접착제층
b : 접착제층
1: polarizer
2: transparent protective film
P: polarizing film
3: Optical film (phase difference film)
a: low elasticity adhesive layer
b: adhesive layer

Claims (29)

편광 필름과, 편광자 이외의 광학 필름이, 저탄성 접착제층 (a) 을 개재하여 적층되어 있는 적층 편광 필름으로서,
상기 편광 필름은, 편광자의 적어도 일방의 면에 접착제층 (b) 을 개재하여 투명 보호 필름이 적층되어 있고, 또한 상기 투명 보호 필름에 상기 저탄성 접착제층 (a) 이 적층되어 있고,
상기 저탄성 접착제층 (a) 의 25 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률이 3.0 × 105 ∼ 1.0 × 108 ㎩ 이고,
또한, 상기 저탄성 접착제층 (a) 의 두께가 0.1 ∼ 5 ㎛ 인 것을 특징으로 하는 적층 편광 필름.
As a laminated polarizing film in which a polarizing film and an optical film other than a polarizer are laminated via a low elastic adhesive layer (a),
In the polarizing film, a transparent protective film is laminated on at least one surface of the polarizer via an adhesive layer (b), and the low-elastic adhesive layer (a) is laminated on the transparent protective film,
The storage elastic modulus at 25°C of the low elastic adhesive layer (a) is 3.0 × 10 5 to 1.0 × 10 8 Pa,
Further, the laminated polarizing film, wherein the thickness of the low-elastic adhesive layer (a) is 0.1 to 5 µm.
제 1 항에 있어서,
상기 광학 필름이 위상차 필름인 것을 특징으로 하는 적층 편광 필름.
The method of claim 1,
The laminated polarizing film, characterized in that the optical film is a retardation film.
제 1 항에 있어서,
상기 저탄성 접착제층 (a) 이, 활성 에너지선 경화형 접착제에 활성 에너지선을 조사해 얻어지는 경화물층인 것을 특징으로 하는 적층 편광 필름.
The method of claim 1,
The laminated polarizing film, characterized in that the low-elastic adhesive layer (a) is a cured product layer obtained by irradiating an active energy ray-curable adhesive with an active energy ray.
제 3 항에 있어서,
상기 활성 에너지선 경화형 접착제가, 실질적으로 유기 용제를 함유하지 않고, 또한 점도 1 ∼ 100 cp/25 ℃ 의 액상물인 것을 특징으로 하는 적층 편광 필름.
The method of claim 3,
A laminated polarizing film, wherein the active energy ray-curable adhesive contains substantially no organic solvent and is a liquid substance having a viscosity of 1 to 100 cp/25°C.
제 3 항에 있어서,
상기 활성 에너지선 경화형 접착제가, 경화성 성분으로서 라디칼 중합성 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 적층 편광 필름.
The method of claim 3,
A laminated polarizing film, wherein the active energy ray-curable adhesive contains a radical polymerizable compound as a curable component.
제 5 항에 있어서,
상기 라디칼 중합성 화합물이, 단관능 라디칼 중합성 화합물과 다관능 라디칼 중합성 화합물 (A) 를 함유하는 것을 특징으로 하는 적층 편광 필름.
The method of claim 5,
A laminated polarizing film, wherein the radical polymerizable compound contains a monofunctional radical polymerizable compound and a polyfunctional radical polymerizable compound (A).
제 6 항에 있어서,
상기 라디칼 중합성 화합물의 전체량을 100 중량% 로 했을 때, 다관능 라디칼 중합성 화합물 (A) 의 비율이, 1 ∼ 65 중량% 인 것을 특징으로 하는 적층 편광 필름.
The method of claim 6,
When the total amount of the radical polymerizable compound is 100% by weight, the ratio of the polyfunctional radically polymerizable compound (A) is 1 to 65% by weight.
제 6 항에 있어서,
상기 다관능 라디칼 중합성 화합물 (A) 가, 중량 평균 분자량이 200 ∼ 4000 인 2 관능 (메트)아크릴레이트인 것을 특징으로 하는 적층 편광 필름.
The method of claim 6,
The multifunctional radical polymerizable compound (A) is a bifunctional (meth)acrylate having a weight average molecular weight of 200 to 4000.
제 6 항에 있어서,
상기 라디칼 중합성 화합물이, 탄소수 2 ∼ 18 의 알킬기를 갖는 알킬(메트)아크릴레이트 (B) 를 함유하는 것을 특징으로 하는 적층 편광 필름.
The method of claim 6,
A laminated polarizing film, wherein the radically polymerizable compound contains an alkyl (meth)acrylate (B) having an alkyl group having 2 to 18 carbon atoms.
제 6 항에 있어서,
상기 라디칼 중합성 화합물이, 수산기를 갖는 (메트)아크릴레이트 (C) 를 함유하는 것을 특징으로 하는 적층 편광 필름.
The method of claim 6,
The laminated polarizing film, wherein the radical polymerizable compound contains a (meth)acrylate (C) having a hydroxyl group.
제 10 항에 있어서,
상기 수산기를 갖는 (메트)아크릴레이트 (C) 가, 중량 평균 분자량이 160 ∼ 3000 인 수산기 함유 단관능 (메트)아크릴레이트인 것을 특징으로 하는 적층 편광 필름.
The method of claim 10,
The (meth)acrylate (C) having a hydroxyl group is a hydroxyl group-containing monofunctional (meth)acrylate having a weight average molecular weight of 160 to 3000.
제 3 항에 있어서,
상기 활성 에너지선 경화형 접착제가, 실란 커플링제 (D) 를 함유하는 것을 특징으로 하는 적층 편광 필름.
The method of claim 3,
The laminated polarizing film, wherein the active energy ray-curable adhesive contains a silane coupling agent (D).
제 12 항에 있어서,
상기 실란 커플링제 (D) 가, 라디칼 중합성의 관능기를 갖지 않는 실란 커플링제인 것을 특징으로 하는 적층 편광 필름.
The method of claim 12,
The laminated polarizing film, wherein the silane coupling agent (D) is a silane coupling agent having no radical polymerizable functional group.
제 3 항에 있어서,
상기 활성 에너지선 경화형 접착제가, (메트)아크릴 모노머를 중합하여 이루어지는 아크릴계 올리고머 (E) 를 함유하는 것을 특징으로 하는 적층 편광 필름.
The method of claim 3,
A laminated polarizing film, wherein the active energy ray-curable adhesive contains an acrylic oligomer (E) obtained by polymerizing a (meth)acrylic monomer.
제 3 항에 있어서,
상기 활성 에너지선 경화형 접착제가, 활성 메틸렌기를 갖는 라디칼 중합성 화합물 (F) 와, 수소 인발 작용이 있는 라디칼 중합 개시제 (G) 를 함유하는 것을 특징으로 하는 적층 편광 필름.
The method of claim 3,
A laminated polarizing film, wherein the active energy ray-curable adhesive contains a radically polymerizable compound (F) having an active methylene group and a radical polymerization initiator (G) having a hydrogen drawing action.
제 15 항에 있어서,
상기 활성 메틸렌기가 아세토아세틸기인 것을 특징으로 하는 적층 편광 필름.
The method of claim 15,
A laminated polarizing film, wherein the active methylene group is an acetoacetyl group.
제 15 항에 있어서,
상기 활성 메틸렌기를 갖는 라디칼 중합성 화합물 (F) 가, 아세토아세톡시알킬(메트)아크릴레이트인 것을 특징으로 하는 적층 편광 필름.
The method of claim 15,
A laminated polarizing film, wherein the radically polymerizable compound (F) having an active methylene group is acetoacetoxyalkyl (meth)acrylate.
제 15 항에 있어서,
상기 라디칼 중합 개시제 (G) 가, 티오크산톤계 라디칼 중합 개시제인 것을 특징으로 하는 적층 편광 필름.
The method of claim 15,
The said radical polymerization initiator (G) is a thioxanthone type radical polymerization initiator, The laminated polarizing film characterized by the above-mentioned.
제 1 항에 있어서,
상기 접착제층 (b) 은, 85 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률이 1.0 × 106 ∼ 1.0 × 1010 ㎩ 이고, 또한 두께가 0.03 ∼ 3 ㎛ 를 만족하는 접착제층 (b1) 인 것을 특징으로 하는 적층 편광 필름.
The method of claim 1,
The adhesive layer (b) is an adhesive layer (b1) having a storage elastic modulus at 85°C of 1.0 × 10 6 to 1.0 × 10 10 Pa and a thickness of 0.03 to 3 μm. film.
제 1 항에 있어서,
상기 편광 필름은, 상기 편광자의 양면에, 상기 접착제층 (b) 을 개재하여 상기 투명 보호 필름이 형성되어 있고,
상기 접착제층 (b) 은, 모두 85 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률이 1.0 × 106 ∼ 1.0 × 1010 ㎩ 이고, 또한 두께가 0.03 ∼ 3 ㎛ 를 만족하는 접착제층 (b1) 인 것을 특징으로 하는 적층 편광 필름.
The method of claim 1,
In the polarizing film, the transparent protective film is formed on both surfaces of the polarizer through the adhesive layer (b),
The adhesive layer (b) is an adhesive layer (b1) having a storage elastic modulus at 85°C of 1.0 × 10 6 to 1.0 × 10 10 Pa and a thickness of 0.03 to 3 μm. Polarizing film.
제 1 항에 있어서,
상기 편광 필름은, 상기 편광자의 양면에, 상기 접착제층 (b) 을 개재하여 상기 투명 보호 필름이 형성되어 있고,
편면의 상기 접착제층 (b) 은, 85 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률이 1.0 × 106 ∼ 1.0 × 1010 ㎩ 이고, 또한 두께가 0.03 ∼ 3 ㎛ 를 만족하는 접착제층 (b1) 이고,
다른 편면의 상기 접착제층 (b) 은, 85 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률 1.0 × 104 ∼ 1.0 × 108 ㎩ 이고, 두께가 0.1 ∼ 25 ㎛ 를 만족하는 접착제층 (b2) 인 것을 특징으로 하는 적층 편광 필름.
The method of claim 1,
In the polarizing film, the transparent protective film is formed on both surfaces of the polarizer through the adhesive layer (b),
The adhesive layer (b) on one side is an adhesive layer (b1) having a storage elastic modulus at 85°C of 1.0×10 6 to 1.0×10 10 Pa, and a thickness of 0.03 to 3 μm,
The adhesive layer (b) on the other side is an adhesive layer (b2) having a storage modulus of 1.0 × 10 4 to 1.0 × 10 8 Pa at 85°C and a thickness of 0.1 to 25 μm. Polarizing film.
제 1 항에 있어서,
상기 편광자는, 두께가 1 ∼ 10 ㎛ 인 것을 특징으로 하는 적층 편광 필름.
The method of claim 1,
The laminated polarizing film, wherein the polarizer has a thickness of 1 to 10 µm.
제 1 항에 있어서,
상기 투명 보호 필름은, 적어도 편면의 투명 보호 필름이 위상차 필름인 것을 특징으로 하는 적층 편광 필름.
The method of claim 1,
In the transparent protective film, at least one transparent protective film is a retardation film.
제 1 항에 있어서,
상기 편광 필름과 상기 광학 필름을 강제 박리했을 때에, 상기 저탄성 접착제층 (a) 이 응집 파괴하는 것을 특징으로 하는 적층 편광 필름.
The method of claim 1,
When the polarizing film and the optical film are forcibly peeled off, the low-elastic adhesive layer (a) is cohesively destroyed.
제 1 항에 있어서,
상기 편광 필름과 상기 광학 필름을 강제 박리했을 때의 박리력이 1 ∼ 5 N/15 ㎜ 인 것을 특징으로 하는 적층 편광 필름.
The method of claim 1,
A laminated polarizing film, wherein a peeling force when the polarizing film and the optical film are forcibly peeled is 1 to 5 N/15 mm.
제 1 항 내지 제 25 항 중 어느 한 항에 기재된 적층 편광 필름의 제조 방법으로서,
상기 편광 필름에 있어서의 상기 저탄성 접착제층 (a) 이 적층되는 측의 투명 보호 필름 및 상기 광학 필름의 적어도 일방의 면에, 상기 저탄성 접착제층 (a) 을 형성하는 활성 에너지선 경화형 접착제를 도공하는 도공 공정과,
상기 편광 필름 및 상기 광학 필름을 첩합하는 첩합 공정과,
상기 활성 에너지선을 조사해, 상기 활성 에너지선 경화형 접착제를 경화시킴으로써 얻어진 저탄성 접착제층 (a) 을 개재하여, 상기 편광 필름 및 상기 광학 필름을 접착시키는 접착 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 적층 편광 필름의 제조 방법.
As the manufacturing method of the laminated polarizing film in any one of Claims 1-25,
An active energy ray-curable adhesive for forming the low-elastic adhesive layer (a) on at least one surface of the transparent protective film on the side of the polarizing film on which the low-elastic adhesive layer (a) is laminated and the optical film With the coating process to apply,
A bonding step of bonding the polarizing film and the optical film, and
A laminated polarizing film comprising a bonding step of adhering the polarizing film and the optical film through the low elastic adhesive layer (a) obtained by irradiating the active energy ray to cure the active energy ray-curable adhesive. Manufacturing method.
제 26 항에 있어서,
상기 활성 에너지선은, 파장 범위 380 ∼ 440 ㎚ 의 적산 조도와 파장 범위 250 ∼ 370 ㎚ 의 적산 조도의 비가 100 : 0 ∼ 100 : 50 인, 적층 편광 필름의 제조 방법.
The method of claim 26,
The active energy ray has a ratio of an integrated illuminance in a wavelength range of 380 to 440 nm and an integrated illuminance in a wavelength range of 250 to 370 nm in a range of 100:0 to 100:50.
제 1 항 내지 제 25 항 중 어느 한 항에 기재된 적층 편광 필름이 적어도 1 장 적층되어 있는 것을 특징으로 하는 적층 광학 필름. A laminated optical film in which at least one laminated polarizing film according to any one of claims 1 to 25 is laminated. 제 1 항 내지 제 25 항 중 어느 한 항에 기재된 적층 편광 필름이 이용되고 있는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치.An image display device in which the laminated polarizing film according to any one of claims 1 to 25 is used.
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