KR102177046B1 - 에미션 컨트롤 시스템의 이물질 제거 장치 - Google Patents

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Abstract

에미션 컨트롤 시스템의 이물질 제거 장치를 제공한다. 본 발명에 따른 이물질 제거 장치는, 흄 덕트, 흄 덕트에 결합되어 흄 덕트에서 발생된 이물질을 여과하기 위한 격자 구조의 스크린, 및 흄 덕트에 임의 회전 가능하게 설치되어 스크린에 여과된 이물질을 털어내기 위한 털이판을 포함한다.

Description

에미션 컨트롤 시스템의 이물질 제거 장치{DEVICE FOR RENOVING DUST OF EMISSION CONTROL SYSTEM}
본 발명은 에미션 컨트롤 시스템의 이물질 제거 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 코크스는 고로(용강로) 내에서 열원, 환원제, 통기성 등의 중요 역할을 하는 일종의 숯의 일종이다.
코크스의 생산 과정은 코크스로에 점결성이 있는 석탄을 코크스로 상부에서 장입차를 이용해 석탄을 장입한 후 밀폐된 상태에서 설정 온도로 간접 가열하여 일정한 시간 동안 건류 과정을 거친 뒤 압출기에 의해 적열 코크스를 코크스로의 외부로 압출하게 된다.
적열 코크스의 압출 시 외부로 비산되는 분탄, 더스트 등과 같은 이물질은 에미션 컨트롤 시스템(ECS: Emission Control System)의 메인 팬(main fan)을 이용하여 흡입하게 된다.
이때, 트랜스퍼카(TransferCar)의 벨트 리프트 카(Belt Lift Car)와 흄 덕트(Fume Duct) 사이를 벨트(Belt)를 사용하여 씰링(Sealing)을 한다.
그런데, 씰링은 유동적인 상태에서 이루어지므로, 씰링이 완벽하게이루어 지지 못하게 되고, 우천 시 빗물이 흄 덕트 배관 내부로 유입되어 배관 내부가 부식되고 이에 의하여 이물질이 발생된다.
이와 같이 발생된 이물질은 스파크 박스(spark box) 하부에 쌓여 호퍼 하부의 로터리 밸브에 끼이게 되므로 로터리 밸브를 빈번하게 교체해야 하는 문제점이 있었다.
이를 해결하기 위하여 스파크 박스 하부에 이물질 제거용 그레이팅(grating)을 설치하는 경우에도 이물질이 그레이팅에 누적되어 이물질이 로터리 밸브 가동시 처리되지 못하게 된다.
이에 따라, 이물질이 스파크 박스 상부까지 누적되어 에미션 컨트롤 시스템의 메인 팬의 흡입 능력을 저하시켜 적열 코크스의 압출 시 대기 환경사고의 원인이 되었다.
본 발명은 코크스 생산 공정에서 건류 완료된 적열 코크스의 압출 중 흄 덕트에서 발생하는 부식 등에 의한 이물질 등을 용이하게 제거할 수 있도록 한 에미션 컨트롤 시스템의 이물질 제거 장치를 제공하고자 한다.
본 발명의 일 구현예에 따른 에미션 컨트롤 시스템의 이물질 제거 장치는, 에미션 컨트롤 시스템의 스파크 박스에 결합되는 흄 덕트와, 흄 덕트에 결합되어 흄 덕트에서 발생된 이물질을 여과하기 위한 격자 구조의 스크린을 포함할 수 있다.
또한, 에미션 컨트롤 시스템의 이물질 제거 장치는, 흄 덕트에 임의 회전 가능하게 설치되어 스크린에 여과된 이물질을 털어내기 위한 털이판을 포함할 수 있다.
스크린 외주면에는 흄 덕트의 내주면에 돌출된 플랜지와 결합되기 위한 스크린 프레임이 배치될 수 있다.
털이판에는 스크린을 타격하기 위한 해머가 설치되고, 스크린에는 해머가 타격하기 위한 타격판이 설치될 수 있다.
흄 덕트의 하부에는 털이판에 의하여 털어낸 이물질을 배출하기 위한 배출관이 연통 설치될 수 있다.
배출관에는 배출관을 개폐하기 위한 게이트가 설치되고, 게이트에는 게이트를 오픈(open) 상태 또는 클로즈(close) 상태로 제어하기 위한 게이트 제어 장치가 설치될 수 있다.
게이트 제어 장치는, 배출관과 연통 설치되고 게이트가 직선상으로 이동 가능하게 삽입 결합되는 게이트 하우징, 및 게이트의 일단부에 연결되어 게이트를 직선상으로 이동시켜 주기 위한 실린더 로드를 갖는 작동 실린더를 포함할 수 있다.
게이트의 일단부에는 터치바가 연결되고, 터치바와 설정된 간격을 두고 배치되고 게이트의 오픈 상태와 클로즈 상태를 감지하기 위한 제1 감지센서와 제2 감지센서가 설치될 수 있다.
흄 덕트 및 털이판에는 털이판을 임의 회전 가능하게 결합시켜 주기 위한 결합 장치가 설치될 수 있다.
결합 장치는, 흄 덕트의 외측면에 고정 결합되기 위한 고정 브라켓, 고정 브라켓에 형성된 결합구멍에 임의 회전 가능하게 삽입 결합되는 힌지핀, 및 힌지핀의 일단부 외측면에 고정 결합되고 털이판의 외측면에 돌출 형성되는 플랜지를 포함할 수 있다.
배출관의 하부에는 배출관을 통하여 배출되는 이물질을 저장하기 위한 저장관이 연결될 수 있다.
저장관 하부에는 저장관에 저장된 이물질을 외부로 배출하기 위한 배출창이 설치될 수 있다.
본 발명의 구현예에 따르면, 코크스 생산 공정에서 흄 덕트에서 발생하는 부식 등에 의한 이물질 등을 용이하게 제거할 수 있다.
따라서, 코크스 생산 공정에서 건류 완료된 적열 코크스의 압출 중 에미션 컨트롤 시스템의 메인 팬을 이용하여 이물질의 흡입 시 이물질에 의한 호퍼 막힘을 방지할 수 있다.
또한, 에미션 컨트롤 시스템의 메인 팬의 흡입 능력 저하를 방지할 수 있으므로, 코크스 오븐의 대기 환경사고를 예방할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 에미션 컨트롤 시스템의 이물질 제거 장치의 개략도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 에미션 컨트롤 시스템의 이물질 제거 장치의 개략적인 사시도로서, 털이판과 배출창이 열린 상태를 도시한 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 에미션 컨트롤 시스템의 이물질 제거 장치의 개략적인 사시도로서, 털이판과 배출창이 닫힌 상태를 도시한 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 에미션 컨트롤 시스템의 이물질 제거 장치의 개략적인 일부 분해 사시도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 에미션 컨트롤 시스템의 이물질 제거 장치의 일부 정면도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 에미션 컨트롤 시스템의 이물질 제거 장치의 작동 상태를 나타낸 정면도로서, 털이판이 닫힌 상태를 나타낸 도면이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 에미션 컨트롤 시스템의 이물질 제거 장치의 작동 상태를 나타낸 정면도로서, 털이판이 열린 상태를 나타낸 도면이다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예를 설명한다. 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 이해할 수 있는 바와 같이, 후술하는 실시예는 본 발명의 개념과 범위를 벗어나지 않는 한도 내에서 다양한 형태로 변형될 수 있다. 가능한 한 동일하거나 유사한 부분은 도면에서 동일한 도면부호를 사용하여 나타낸다.
이하에서 사용되는 전문용어는 단지 특정 실시예를 언급하기 위한 것이며, 본 발명을 한정하는 것을 의도하지 않는다. 여기서 사용되는 단수 형태들은 문구들이 이와 명백히 반대의 의미를 나타내지 않는 한 복수 형태들도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함하는" 의 의미는 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소 및/또는 성분을 구체화하며, 다른 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소, 성분 및/또는 군의 존재나 부가를 제외시키는 것은 아니다.
이하에서 사용되는 기술용어 및 과학용어를 포함하는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 일반적으로 이해하는 의미와 동일한 의미를 가진다. 사전에 정의된 용어들은 관련기술문헌과 현재 개시된 내용에 부합하는 의미를 가지는 것으로 추가 해석되고, 정의되지 않는 한 이상적이거나 매우 공식적인 의미로 해석되지 않는다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 에미션 컨트롤 시스템의 이물질 제거 장치의 장착 위치를 설명하기 위한 개략적인 도면이다.
도 2 및 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 에미션 컨트롤 시스템의 이물질 제거 장치의 개략적인 사시도로서, 도 2는 털이판과 배출창이 열린 상태를 도시한 도면이고, 도 3은 털이판과 배출창이 닫힌 상태를 도시한 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 에미션 컨트롤 시스템의 이물질 제거 장치의 개략적인 일부 분해 사시도이고, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 에미션 컨트롤 시스템의 이물질 제거 장치의 일부 정면도이다.
도 1 내지 도 5를 참고하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 에미션 컨트롤 시스템의 이물질 제거 장치는 에미션 컨트롤 시스템(10)의 흄 덕트(30)에서 발생하는 이물질을 제거하기 위한 장치이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 에미션 컨트롤 시스템의 이물질 제거 장치에서 흄 덕트(30)는, 에미션 컨트롤 시스템(10)의 스파크 박스(20)에 수평(도 2에서 X 방향)으로 결합될 수 있다.
흄 덕트(30)에는 흄 덕트(30)에서 발생된 이물질(11)(도 7 참고)을 여과하기 위한 스크린(100)이 설치된다. 스크린(100)은 이물질(11)을 흡착하기 위하여 격자(grating)(101) 구조를 가질 수 있다.
스크린(100)은 이물질(11)을 효과적으로 여과할 수 있도록 흄 덕트(30)의 폭 방향(도 2에서 X 또는 Y 방향)을 따라 평행하게 설치되거나, 흄 덕트(30)의 폭 방향(X 또는 Y 방향)에 대하여 일정한 각도(예컨대, 1도 내지 30도)로 경사지게 설치될 수 있다.
흄 덕트(30)에는 스크린(100)에 흡착된 이물질(11)을 털어내기 위한 털이판(200)이 임의 회전 가능하게 설치될 수 있다.
스크린(100)은 스크린(100)에 흡착된 이물질이 털이판(200)에 의하여 용이하게 털어질 수 있도록 반구 형태를 가질 수 있다.
또한, 스크린(100) 외주면에는 흄 덕트(30)와 결합되기 위한 원형상의 스크린 프레임(103)이 배치될 수 있다.
스크린 프레임(103)은 흄 덕트(30)의 내주면에 돌출되는 플랜지(미도시)와 고정될 수 있는데, 이 때 사용되는 고정 수단으로는 스크린 프레임(103) 상에 일정한 간격을 두고 배치되는 복수개의 볼트부재(105)가 적용될 수 있다.
털이판(200)의 일단면에는 털이판(200)이 이물질을 털어낼 수 있도록 스크린(100)을 설정된 크기의 힘으로 타격하기 위한 해머(210)가 설치될 수 있다.
털이판(200)은 스크린(100)의 이물질(11)을 효과적으로 털어낼 수 있도록 흄 덕트(30)의 형상과 동일한 형태의 원형 구조를 가질 수 있다.
해머(210)는 스크린(100)의 타격 시 손상을 방지할 수 있도록 고무 등과 같은 연질 재질로 이루어질 수 있다.
스크린(100)의 타단면에는 해머(210)가 타격하기 위한 타격판(110)이 설치될 수 있다.
타격판(110)은 해머(210)의 타격력을 효과적으로 흡수할 수 있도록 고무 등과 같은 연질 재질로 이루어질 수 있다.
해머(210)는 타격판(110)을 효과적으로 타격하기 위하여 털이판(200)의 하단부에 설치될 수 있다.
흄 덕트(30)의 하부에는 흄 덕트(30)의 폭 방향(Y 방향)을 따라 설치되고, 털이판(200)에 의하여 털어낸 이물질(11)을 배출하기 위한 배출관(300)이 연통 설치될 수 있다.
배출관(300)에는 배출관(300)을 개폐하기 위한 게이트(401)가 설치될 수 있다.
게이트(401)는 흄 덕트(30)의 길이 방향(도 2에서 Z 방향)과 수평 방향으로 직선 운동하는 슬라이딩 방식으로 설치될 수 있다.
게이트(401)는 배출관(300)을 효과적으로 개폐할 수 있도록 설정된 크기와 형상을 가질 수 있다.
또한, 게이트(401)에는 게이트(401)를 오픈(open) 상태 또는 클로즈(close) 상태로 제어하기 위한 게이트 제어 장치(400)가 설치될 수 있다.
게이트 제어 장치(400)는 게이트 하우징(410), 및 작동 실린더(420)를 포함할 수 있다.
게이트 하우징(410)은 배출관(300)과 연통 설치되어 게이트(401)가 직선으로 이동 가능하게 삽입 결합될 수 있다.
또한, 작동 실린더(420)는 게이트(401)의 일단부에 연결되어 게이트(401)를 직선 이동시켜 주기 위한 실린더 로드(421)를 포함할 수 있다.
게이트 하우징(410)에는 게이트(401)가 이동 가능하게 삽입 결합되기 위한 삽입구멍(미도시)이 설정된 크기와 형상으로 배치될 수 있다.
게이트 하우징(410)은 배출관(300)과 수직 방향(도 2에서 Y 방향)으로 연통하게 배치되고, 게이트(401)에 의하여 개폐될 수 있다.
게이트(401)의 일단부에는 게이트 브라켓(430)이 고정 설치되고, 게이트 브라켓(430)에는 터치바(440)가 연결될 수 있다.
또한, 터치바(440)와 설정된 간격을 두고 근접 설치되고, 게이트(401)의 오픈 상태와 클로즈 상태를 감지하기 위한 제1 감지센서(450)와 제2 감지센서(460)를 포함할 수 있다.
도면에서 제1 감지센서(450)와 제2 감지센서(460)는 터치 바(440)와의 위치 관계를 알 수 있도록 도시되었는데, 이들은 임의의 부재(예: 후술할 저장관 600)에 연결되어 고정된 위치를 유지할 수 있다.
흄 덕트(30) 및 털이판(200)에는 에미션 컨트롤 시스템(10)의 메인 팬(40)의 흡입 작동 시, 털이판(200)을 임의 회전 가능하게 결합시켜 주기 위한 결합 장치(500)가 설치될 수 있다.
결합 장치(500)는 고정 브라켓(510), 힌지핀(520), 및 플랜지(530)를 포함할 수 있다.
고정 브라켓(510)은 흄 덕트(30)의 외측면에 고정 결합될 수 있다.
또한, 힌지핀(520)은 고정 브라켓(510)에 형성된 결합구멍(511)에 임의 회전 가능하게 삽입 결합될 수 있다.
플랜지(530)는 털이판(200)의 외측면에 돌출 형성되어 힌지핀(520)의 일단부 외측면에 고정 결합될 수 있다.
고정 브라켓(510)은 흄 덕트(30)의 외측면에 견고하게 결합될 수 있도록 박스 형태를 가질 수 있다.
힌지핀(520)은 털이판(200)의 용이하게 임의 회전시켜 줄 수 있도록 고정 브라켓(510)의 결합구멍(511)에 삽입 결합된 상태에서 결합구멍(511)의 외부로 설정된 길이만큼 돌출될 수 있다.
플랜지(530)는 힌지핀(520)의 외측면에 용접 등에 의하여 고정 결합될 수 있다.
또한, 스크린 프레임(103)에는 타격판(110)이 제1 볼트부재(111)와 제1 너트부재(113) 등에 의하여 분리 가능하게 결합될 수 있다.
스크린 프레임(103)과 타격판(110)에는 제1 볼트부재(111)가 삽입 결합되기 위한 제1 결합구멍(미도시)이 배치될 수 있다.
털이판(200)에는 해머(210)가 제2 볼트부재(211)와 제2 너트부재(213) 등에 의하여 분리 가능하게 결합될 수 있다.
털이판(200)와 해머(210)에는 제2 볼트부재(211)가 삽입 결합되기 위한 제2 결합구멍(미도시)이 배치될 수 있다.
또한, 배출관(300)의 하부에는 설정된 길이를 갖고 연결되고, 배출관(300)을 통하여 배출되는 이물질(11)을 저장하기 위한 저장관(600)을 포함할 수 있다.
저장관(600)에는 설정된 크기와 형태를 갖고 저장관(600)의 내부에 저장된 이물질의 저장 상태나 높이 등을 점검하기 위한 점검창(610)이 구비될 수 있다.
점검창(610)은 저장관(600)의 내부를 용이하게 점검할 수 있도록 투명 재질 또는 반투명 재질로 이루어질 수 있다.
또한, 저장관(600) 하부에는 저장관(600)에 저장된 이물질(11)을 외부로 배출하기 위한 배출창(620)이 설치될 수 있다.
배출창(620)은 용이하게 열고 닫을 수 있도록 여닫이 타입 등으로 설치될 수 있으며, 배출창(620)에는 배출창(620)을 잠금 상태로 유지하기 위한 클램프(630)가 설치될 수 있다.
배출창(620)의 테두리에는 배출창(620)의 씰링을 위하여 고무 패킹(640) 등이 설치될 수 있다.
이하에서, 도 1 내지 도 7을 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 에미션 컨트롤 시스템의 이물질 제거 장치의 작동에 대해서 설명한다.
먼저, 코크스 생산 공정에서 건류 완료된 적열 코크스를 압출할 때 에미션 컨트롤 시스템(ECS)의 메인 팬(40)이 설정된 크기 이하의 저 흡인력으로 작동할 경우에는 도 6에 도시된 바와 같이 털이판(200)이 흄 덕트(30)를 닫아준 클로즈 상태로 된다.
털이판(200)이 클로즈 상태일 경우에는 해머(210)가 스크린(100)의 타격판(110)에 접촉되어 있고, 게이트(401)도 배출관(300)을 닫아 준 상태이다.
즉, 게이트 제어 장치(400)의 작동 실린더(42)의 실린더 로드(421)가 설정된 길이로 수축되면 게이트(401)가 배출관(300)을 닫아주게 된다.
이 경우, 제2 감지센서(460)가 터치 바(440)를 감지하여 게이트(401)의 클로즈 상태임을 감지한다.
이러한 상태에서, 에미션 컨트롤 시스템(ECS)의 메인 팬(40)이 설정된 크기 이상의 고 흡인력으로 작동되면, 도 7에 도시된 바와 같이 털이판(200)이 흄 덕트(30)를 열어준 오픈 상태로 된다.
즉, 털이판(200)은 메인 팬(40)의 흡입력에 의하여 결합 장치(500)의 힌지핀(520)을 중심으로 반시계 방향으로 설정된 각도로 회전되면서 흄 덕트(30)의 하단면이 이루는 직선으로부터 설정된 높이만큼 상승하게 된다.
이 경우, 제1 감지센서(450)가 터치 바(440)를 감지하여 게이트(401)의 오픈 상태임을 감지한다.
또한, 반구 형태의 스크린(100)의 격자(101)에는 흄 덕트(30)의 내부에서 발생된 이물질 등이 흡착된다.
그리고, 적열 코크스의 압축이 완료된 후 에미션 컨트롤 시스템(ECS)의 메인 팬(40)이 흡입력이 설정된 크기 이하로 낮아지게 되면, 털이판(200)이 도 6에 도시된 바와 같이 원래의 위치로 이동하게 된다.
즉, 털이판(200)은 힌지핀(520)을 중심으로 시계 방향으로 설정된 각도로 회전되며, 털이판(200)의 회전에 의하여 해머(210)도 털이판(200)과 같이 회전하게 된다.
해머(210)가 회전됨에 따라 해머(210)는 타격판(110)을 타격하여 타격판(110)에 털이판(200) 및 해머(210)의 자중과 회전력에 의한 충격력을 가하게 된다.
타격판(110)이 해머(210)의 타격에 의하여 충격력을 받게 됨에 따라 스크린(100)도 타격을 받게 되므로 스크린(100)에 흡착되어 있는 이물질(11)이 충격에 의하여 분리되어 하부로 자연 낙하하게 된다.
이때, 게이트 제어 장치(400)의 작동 실린더(420)의 실린더 로드(421)를 오픈 상태로 작동하여 게이트(401)를 오픈 상태로 제어한다.
즉, 게이트 제어 장치(400)의 작동 실린더(42)의 실린더 로드(421)가 설정된 길이로 신장되면 게이트(401)가 배출관(300)을 열어주게 된다.
게이트(401)가 오픈 상태로 제어됨에 따라, 배출관(300)이 열리게 되고, 스크린(100)으로부터 분리되어 자연 낙하하는 이물질(11)은 배출관(300)을 통하여 저장관(600)에 저장된다.
점검창(610)을 통하여 저장관(600)에 저장된 이물질이 설정량 이상인 것으로 확인한 경우, 작업자가 배출창(620)을 열어 저장관(600) 내부의 이물질(11)을 외부로 배출하여 제거할 수 있다.
그리고, 스크린(100)에 흡착되어 있는 이물질(11)이 완전히 제거된 후, 작동 실린더(420)를 작동하여 게이트(401)를 원래의 위치로 닫아주면 되는 것이다.
30: 흄 덕트
100: 스크린
110: 타격판
200: 털이판
210: 해머
300: 배출관
400: 게이트 제어 장치
401: 게이트
410: 게이트 하우징
420: 작동 실린더
500: 결합 장치

Claims (11)

  1. 에미션 컨트롤 시스템의 스파크 박스에 결합되는 흄 덕트,
    상기 흄 덕트에 결합되어 상기 흄 덕트에서 발생된 이물질을 여과하기 위한 격자 구조의 스크린, 및
    상기 흄 덕트에 임의 회전 가능하게 설치되어 상기 스크린에 여과된 이물질을 털어내기 위한 털이판
    을 포함하고,
    상기 털이판에는 상기 스크린을 타격하기 위한 해머가 설치되고,
    상기 스크린에는 상기 해머가 타격하기 위한 타격판이 설치되며,
    상기 해머는 상기 스크린의 타격 시 손상을 방지할 수 있도록 연질 재질로 이루어지며,
    상기 타격판은 상기 해머의 타격력을 흡수할 수 있도록 연질 재질로 이루어지는 에미션 컨트롤 시스템의 이물질 제거 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 스크린 외주면에는 상기 흄 덕트의 내주면에 돌출된 플랜지와 결합되기 위한 스크린 프레임이 배치되는, 에미션 컨트롤 시스템의 이물질 제거 장치.
  3. 삭제
  4. 제1항에 있어서,
    상기 흄 덕트의 하부에는 상기 털이판에 의하여 털어낸 이물질을 배출하기 위한 배출관이 연통 설치되는, 에미션 컨트롤 시스템의 이물질 제거 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 배출관에는 상기 배출관을 개폐하기 위한 게이트가 설치되고,
    상기 게이트에는 상기 게이트를 오픈(open) 상태 또는 클로즈(close) 상태로 제어하기 위한 게이트 제어 장치가 설치되는, 에미션 컨트롤 시스템의 이물질 제거 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 게이트 제어 장치는,
    상기 배출관과 연통 설치되고 상기 게이트가 직선상으로 이동 가능하게 삽입 결합되는 게이트 하우징, 및
    상기 게이트의 일단부에 연결되어 상기 게이트를 직선상으로 이동시켜 주기 위한 실린더 로드를 갖는 작동 실린더를 포함하는, 에미션 컨트롤 시스템의 이물질 제거 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 게이트의 일단부에는 터치바가 연결되고,
    상기 터치바와 설정된 간격을 두고 배치되고, 상기 게이트의 오픈 상태와 클로즈 상태를 감지하기 위한 제1 감지센서와 제2 감지센서가 설치되는, 에미션 컨트롤 시스템의 이물질 제거 장치.
  8. 제1항, 제2항, 제4항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 흄 덕트 및 상기 털이판에는 상기 털이판을 임의 회전 가능하게 결합시켜 주기 위한 결합 장치가 설치되는, 에미션 컨트롤 시스템의 이물질 제거 장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 결합 장치는,
    상기 흄 덕트의 외측면에 고정 결합되기 위한 고정 브라켓,
    상기 고정 브라켓에 형성된 결합구멍에 임의 회전 가능하게 삽입 결합되는 힌지핀, 및
    상기 힌지핀의 일단부 외측면에 고정 결합되고 상기 털이판의 외측면에 돌출 형성되는 플랜지를 포함하는, 에미션 컨트롤 시스템의 이물질 제거 장치.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 배출관의 하부에는 상기 배출관을 통하여 배출되는 이물질을 저장하기 위한 저장관이 연결되는, 에미션 컨트롤 시스템의 이물질 제거 장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 저장관 하부에는 상기 저장관에 저장된 이물질을 외부로 배출하기 위한 배출창이 설치되는, 에미션 컨트롤 시스템의 이물질 제거 장치.
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