KR102177045B1 - Apparatus for removing surface defect of strip - Google Patents
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Abstract
스트립의 표면 결함 제거 장치는 제1 방향으로 연속 이동하는 스트립의 표면의 결함을 검출하는 표면 결함 검출부, 및 상기 표면 결함 검출부와 이격되어 위치하며, 상기 스트립의 표면의 상기 결함을 연마하는 제1 폴리셔 어셈블리를 포함한다.The device for removing surface defects of the strip includes a surface defect detection unit that detects defects on the surface of the strip continuously moving in a first direction, and a first poly that is spaced apart from the surface defect detection unit and polishes the defects on the surface of the strip. Includes a polisher assembly.
Description
본 기재는 스트립의 표면 결함 제거 장치에 관한 것이다.The present description relates to an apparatus for removing surface defects of a strip.
일반적으로, 냉연 공정 또는 열연 공정 등의 압연 공정에서, 스트립(strip)은 압연롤들에 의해 일 방향으로 연속적으로 이동된다.In general, in a rolling process such as a cold rolling process or a hot rolling process, a strip is continuously moved in one direction by rolling rolls.
종래에는, 압연 공정에서 연속적으로 이동되는 스트립의 표면에 결함이 발생되는 경우, 결함이 발생된 스트립의 일 부분을 쉐어(shear)를 이용해 절단하여 제거하였다.Conventionally, when a defect occurs on the surface of a strip that is continuously moved in a rolling process, a portion of the strip where the defect is generated is cut and removed using a shear.
이로 인해, 종래에는 표면 결함이 발생된 스트립으로부터 제조되는 코일(coil)의 제조 효율이 저하되는 문제점이 있다.For this reason, in the related art, there is a problem in that the manufacturing efficiency of a coil manufactured from a strip having surface defects is lowered.
또한, 종래에는 표면 결함이 연속적으로 이동되는 스트립의 중간 부분에 있을 경우, 스트립의 중간 부분이 절단됨으로써, 최종 중량이 적합하지 않은 코일이 제조되는 문제점이 있다.In addition, conventionally, when the surface defect is in the middle portion of the continuously moving strip, the middle portion of the strip is cut, thereby producing a coil having an unsuitable final weight.
일 실시예는, 연속적으로 일 방향으로 이동되는 스트립의 표면 결함을 제거하는 스트립의 표면 결함 제거 장치를 제공하고자 한다.An embodiment is to provide an apparatus for removing surface defects of a strip that continuously removes surface defects of a strip that is moved in one direction.
일 측면은 제1 방향으로 연속 이동하는 스트립의 표면의 결함을 검출하는 표면 결함 검출부, 및 상기 표면 결함 검출부와 이격되어 위치하며, 상기 스트립의 표면의 상기 결함을 연마하는 제1 폴리셔 어셈블리를 포함하며, 상기 제1 폴리셔 어셈블리는 상기 스트립의 표면 상에서 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 배치된 복수의 제1 폴리셔들을 포함하는 스트립의 표면 결함 제거 장치를 제공한다.One side includes a surface defect detection unit for detecting defects on the surface of the strip that continuously moves in a first direction, and a first polisher assembly located apart from the surface defect detection unit and for polishing the defects on the surface of the strip. The first polisher assembly provides an apparatus for removing surface defects of a strip including a plurality of first polishers disposed on a surface of the strip in a second direction crossing the first direction.
상기 표면 결함 검출부는 상기 스트립의 표면 상에서 상기 결함의 상기 제2 방향으로의 위치 및 상기 제1 방향으로의 길이를 검출하며, 상기 제1 폴리셔 어셈블리는 상기 제1 폴리셔들 중 상기 결함의 상기 위치에 대응하는 제1 폴리셔를 상기 결함의 상기 길이로 상기 스트립의 표면에 접촉시킬 수 있다.The surface defect detection unit detects a position of the defect in the second direction and a length in the first direction on the surface of the strip, and the first polisher assembly comprises the defect of the first polishers. A first polisher corresponding to the position can be brought into contact with the surface of the strip with the length of the defect.
상기 제1 폴리셔들은 회전축들은 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향과 수직할 수 있다.The rotation axes of the first polishers may be perpendicular to the first direction and the second direction.
상기 표면 결함 검출부 및 상기 제1 폴리셔 어셈블리와 연결된 제어부를 더 포함하며, 상기 제어부는 상기 표면 결함 검출부로부터 상기 결함의 위치 및 길이에 관련된 정보를 수신하며, 상기 제어부는 상기 제1 폴리셔 어셈블리를 구동하여 상기 제1 폴리셔 어셈블리의 상기 제1 폴리셔들 중 상기 결함의 상기 위치에 대응하는 제1 폴리셔를 상기 결함의 상기 길이로 상기 스트립의 표면에 접촉시킬 수 있다.And a control unit connected to the surface defect detection unit and the first polisher assembly, wherein the control unit receives information related to the location and length of the defect from the surface defect detection unit, and the control unit performs the first polisher assembly. By driving, a first polisher corresponding to the position of the defect among the first polishers of the first polisher assembly may contact the surface of the strip with the length of the defect.
상기 제1 폴리셔 어셈블리와 상기 제1 방향으로 이웃하며, 상기 제2 방향으로 배치된 복수의 제2 폴리셔들을 포함하는 제2 폴리셔 어셈블리, 및 상기 제2 폴리셔 어셈블리와 상기 제1 방향으로 이웃하며, 상기 제2 방향으로 배치된 복수의 제3 폴리셔들을 포함하는 제3 폴리셔 어셈블리를 더 포함하며, 상기 제1 폴리셔들, 상기 제2 폴리셔들, 상기 제3 폴리셔들 각각의 연마 표면 거칠기는 서로 다를 수 있다.A second polisher assembly including a plurality of second polishers adjacent to the first polisher assembly in the first direction and disposed in the second direction, and the second polisher assembly in the first direction. A third polisher assembly comprising a plurality of third polishers adjacent to each other and disposed in the second direction, wherein each of the first polishers, the second polishers, and the third polishers The polishing surface roughness of may be different.
상기 제1 폴리셔들의 연마 표면 거칠기는 상기 제2 폴리셔들 대비 작으며, 상기 제3 폴리셔들의 연마 표면 거칠기는 상기 제2 폴리셔들 대비 클 수 있다.The polishing surface roughness of the first polishers may be smaller than that of the second polishers, and the polishing surface roughness of the third polishers may be greater than that of the second polishers.
상기 제1 폴리셔들의 연마 표면 거칠기는 상기 제2 폴리셔들 대비 크며, 상기 제3 폴리셔들의 연마 표면 거칠기는 상기 제2 폴리셔들 대비 작을 수 있다.The polishing surface roughness of the first polishers may be larger than that of the second polishers, and the polishing surface roughness of the third polishers may be smaller than that of the second polishers.
일 실시예에 따르면, 연속적으로 일 방향으로 이동되는 스트립의 표면 결함을 제거하는 스트립의 표면 결함 제거 장치가 제공된다.According to an embodiment, there is provided an apparatus for removing surface defects of a strip that continuously moves in one direction.
도 1은 제1 실시예에 따른 스트립의 표면 결함 제거 장치를 나타낸 도면이다.
도 2는 도 1의 A 부분을 나타낸 평면도이다.
도 3은 제2 실시예에 따른 스트립의 표면 결함 제거 장치의 일 부분을 나타낸 평면도이다.
도 4는 제3 실시예에 따른 스트립의 표면 결함 제거 장치의 일 부분을 나타낸 평면도이다.1 is a view showing an apparatus for removing surface defects of a strip according to a first embodiment.
2 is a plan view showing portion A of FIG. 1.
3 is a plan view showing a part of an apparatus for removing surface defects of a strip according to a second embodiment.
4 is a plan view showing a part of an apparatus for removing surface defects of a strip according to a third embodiment.
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예들에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예들에 한정되지 않는다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those of ordinary skill in the art may easily implement the present invention. The present invention may be implemented in various different forms and is not limited to the embodiments described herein.
본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙이도록 한다.In order to clearly describe the present invention, parts irrelevant to the description have been omitted, and the same reference numerals are assigned to the same or similar components throughout the specification.
또한, 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.In addition, throughout the specification, when a part "includes" a certain component, it means that other components may be further included rather than excluding other components unless otherwise stated.
이하, 도 1 및 도 2를 참조하여 제1 실시예에 따른 스트립의 표면 결함 제거 장치를 설명한다. 제1 실시예에 따른 스트립의 표면 결함 제거 장치는 냉연 공정의 산세 라인에 위치할 수 있으나, 이에 한정되지 않고 열연 공정에 위치될 수 있다.Hereinafter, an apparatus for removing surface defects of a strip according to a first embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2. The apparatus for removing surface defects of a strip according to the first embodiment may be located in a pickling line in a cold rolling process, but is not limited thereto and may be located in a hot rolling process.
도 1은 제1 실시예에 따른 스트립의 표면 결함 제거 장치를 나타낸 도면이다. 1 is a view showing an apparatus for removing surface defects of a strip according to a first embodiment.
도 1을 참조하면, 냉연 공정의 산세 라인에서 스트립(10)은 제1 방향(X)으로 연속 이동한다. 스트립(10)은 산세 라인의 출측에서 코일(coil)로 제조될 수 있다.Referring to FIG. 1, the
제1 실시예에 따른 스트립의 표면 결함 제거 장치(1000)는 표면 결함 검출부(100), 제1 폴리셔 어셈블리(200), 제어부(300)를 포함한다.The
표면 결함 검출부(100)는 제1 방향(X)으로 연속 이동하는 스트립(10)의 일 부분에 대응하여 위치한다. 표면 결함 검출부(100)는 스트립(10)의 표면의 결함을 검출한다.The surface
도 2는 도 1의 A 부분을 나타낸 평면도이다.2 is a plan view showing portion A of FIG. 1.
도 1 및 도 2를 참조하면, 표면 결함 검출부(100)는 스트립(10)의 표면 상에서 결함(11)의 제2 방향(Y)으로의 위치 및 제1 방향(X)으로의 길이를 검출한다. 1 and 2, the surface
여기서, 제2 방향(Y)은 스트립(10)의 표면 상에서 제1 방향(X)과 교차하는 방향일 수 있으며, 제2 방향(Y)은 스트립(10)의 표면 상에서 제1 방향(X)과 수직할 수 있다.Here, the second direction (Y) may be a direction crossing the first direction (X) on the surface of the
또한, 스트립(10)의 표면의 결함(11)은 제1 방향(X) 또는 제2 방향(Y)으로 연장된 그루브(groove) 형태 또는 돌출 형태일 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다.In addition, the
표면 결함 검출부(100)는 스트립(10)의 표면의 결함(11)의 위치 및 길이에 관련된 정보를 제어부(300)로 전송할 수 있다.The surface
표면 결함 검출부(100)는 스트립(10)의 표면의 결함(11)을 검출할 수 있다면, 공지된 다양한 구성들을 포함할 수 있다. 일례로, 표면 결함 검출부(100)는 광을 이용해 스트립(10)의 표면의 결함(11)을 검출할 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다.The surface
제1 폴리셔 어셈블리(200)는 표면 결함 검출부(100)와 이격되어 위치한다. 제1 폴리셔 어셈블리(200)는 연속 이동하는 스트립(10)의 타 부분에 대응하여 위치한다. 일례로, 제1 폴리셔 어셈블리(200)는 산세 라인의 출측에 위치하는 쉐어(shear)와 이웃하여 위치할 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다.The
제1 폴리셔 어셈블리(200)는 스트립(10)의 표면의 결함(11)을 연마하여 결함(11)을 제거한다.The
제1 폴리셔 어셈블리(200)는 스트립(10)의 표면 상에서 스트립(10)의 이동 방향인 제1 방향(X)과 교차하는 제2 방향(Y)으로 배치된 복수의 제1 폴리셔(210)들을 포함한다.The
복수의 제1 폴리셔(210)들의 회전축(AR)은 제1 방향(X) 및 제2 방향(Y)과 수직하는 제3 방향(Z)으로 연장된다. 즉, 제1 폴리셔(210)들의 회전축(AR)은 제1 방향(X) 및 제2 방향(Y)과 수직하며, 제1 폴리셔(210)들의 회전 방향은 스트립(10)의 이동 방향인 제1 방향(X)과 수직하며, 제1 폴리셔(210)들은 회전하여 스트립(10)의 표면의 결함(11)을 연마한다.The rotation axis AR of the plurality of
제1 폴리셔(210)들의 회전 방향이 스트립(10)의 이동 방향과 수직함으로써, 스트립(10)의 표면 결함(11)이 용이하게 연마되어 제거될 수 있다.Since the rotation direction of the
제1 폴리셔 어셈블리(200)는 제1 폴리셔(210)들 중 스트립(10)의 결함(11)의 위치에 대응하는 제1 폴리셔(210)를 결함(11)의 길이만큼 스트립(10)의 표면에 접촉시켜 스트립(10) 표면의 결함(11)을 연마해 제거할 수 있다.The
또한, 표면 결함 검출부(100)는 스트립(10)의 표면의 결함(11)의 깊이를 검출할 수 있으며, 제1 폴리셔 어셈블리(200)는 결함(11)의 깊이에 따라 결함(11)과 대응하는 제1 폴리셔(210)의 회전 속도를 조절할 수 있다.In addition, the surface
일례로, 도 2를 참조하면, 제1 폴리셔 어셈블리(200)는 1번째 제1 폴리셔(210) 내지 5번째 제1 폴리셔(210) 중 스트립(10)의 결함(11)의 위치에 대응하는 2번째 제1 폴리셔(210)를 결함(11)의 길이만큼 스트립(10)의 표면에 접촉시키고 결함(11)의 깊이에 따라 제1 폴리셔(210)의 회전 속도를 조절하여 결함(11)을 연마 및 제거하고, 이후 2번째 제1 폴리셔(210)를 스트립(10)으로부터 이격시킬 수 있다.As an example, referring to FIG. 2, the
제1 폴리셔 어셈블리(200)는 표면 결함 검출부(100)로부터 정보를 전송 받은 제어부(300)에 의해 제어될 수 있으나, 이에 한정되지 않고 표면 결함 검출부(100)로부터 직접 정보를 전송 받아 구동되거나, 또는 사용자에 의해 제어될 수 있다.The
제어부(300)는 표면 결함 검출부(100) 및 제1 폴리셔 어셈블리(200)와 연결된다.The
제어부(300)는 표면 결함 검출부(100)로부터 스트립(10)의 표면의 결함(11)의 위치, 길이, 및 깊이에 관련된 정보를 수신한다.The
제어부(300)는 표면 결함 검출부(100)로부터 전송 받은 결함(11)의 정보에 기초하여, 제1 폴리셔 어셈블리(200)를 구동하여 제1 폴리셔(210)들 중 스트립(10)의 결함(11)의 위치에 대응하는 제1 폴리셔(210)를 결함(11)의 길이만큼 스트립(10)의 표면에 접촉시키고 결함(11)의 깊이에 따라 제1 폴리셔(210)의 회전 속도를 조절하여 결함(11)을 연마 및 제거할 수 있다.The
일례로, 제1 실시예에 따른 스트립의 표면 결함 제거 장치(1000)는 표면 결함 검출부(100) 또는 검사자가 스트립(10)의 표면의 결함(11)의 위치, 길이, 및 깊이에 관한 정보를 검출하고, 결함(11)의 정보에 기초하여 제어부(300)에 의한 구동 또는 사용자에 의한 구동에 의해 제1 폴리셔 어셈블리(200)의 제1 폴리셔(210)들 중 스트립(10)의 결함(11)의 위치에 대응하는 제1 폴리셔(210)를 결함(11)의 길이만큼 스트립(10)의 표면에 접촉시키고 결함(11)의 깊이에 따라 제1 폴리셔(210)의 회전 속도를 조절하여 결함(11)을 연마 및 제거할 수 있다.For example, in the
이상과 같이, 제1 실시예에 따른 스트립의 표면 결함 제거 장치(1000)는 표면 결함 검출부(100)가 스트립(10)의 표면의 결함(11)의 위치, 길이, 및 깊이에 관한 정보를 검출하고, 결함(11)의 정보에 기초하여 제1 폴리셔 어셈블리(200)의 제1 폴리셔(210)들 중 결함(11)의 위치에 대응하는 제1 폴리셔(210)가 결함(11)을 연마 및 제거한다.As described above, in the
즉, 연속적으로 제1 방향(X)으로 이동되는 스트립(10)의 표면 결함(11)을 제거하여, 스트립(10)으로부터 제조되는 코일(coil)의 제조 효율 및 제조 신뢰성을 향상시키는 스트립의 표면 결함 제거 장치(1000)가 제공된다.That is, the surface of the strip improves the manufacturing efficiency and manufacturing reliability of the coil manufactured from the
이하, 도 3을 참조하여 제2 실시예에 따른 스트립의 표면 결함 제거 장치를 설명한다. 이하에서는 상술한 제1 실시예에 따른 스트립의 표면 결함 제거 장치와 다른 부분에 대해서 설명한다.Hereinafter, an apparatus for removing surface defects of a strip according to a second embodiment will be described with reference to FIG. 3. Hereinafter, portions different from the apparatus for removing surface defects of the strip according to the first embodiment will be described.
도 3은 제2 실시예에 따른 스트립의 표면 결함 제거 장치의 일 부분을 나타낸 평면도이다. 도 3에서는 표면 결함 검출부 및 제어부를 도시하지 않았다.3 is a plan view showing a part of an apparatus for removing surface defects of a strip according to a second embodiment. In Fig. 3, the surface defect detection unit and the control unit are not shown.
도 3을 참조하면, 제2 실시예에 따른 스트립의 표면 결함 제거 장치(1002)는 표면 결함 검출부, 제어부, 제1 폴리셔 어셈블리(202), 제2 폴리셔 어셈블리(602), 제3 폴리셔 어셈블리(702)를 포함한다.Referring to FIG. 3, a surface
제2 폴리셔 어셈블리(602)는 제1 폴리셔 어셈블리(202)와 제1 방향(X)으로 이웃한다.The
제2 폴리셔 어셈블리(602)는 스트립(10)의 표면 상에서 스트립(10)의 이동 방향인 제1 방향(X)과 교차하는 제2 방향(Y)으로 배치된 복수의 제2 폴리셔(612)들을 포함한다.The
복수의 제2 폴리셔(612)들의 회전축(AR)은 제1 방향(X) 및 제2 방향(Y)과 수직하는 제3 방향(Z)으로 연장된다. 즉, 제2 폴리셔(612)들의 회전축(AR)은 제1 방향(X) 및 제2 방향(Y)과 수직하며, 제2 폴리셔(612)들의 회전 방향은 스트립(10)의 이동 방향인 제1 방향(X)과 수직하며, 제2 폴리셔(612)들은 회전하여 스트립(10)의 표면의 결함(11)을 연마한다.The rotation axis AR of the plurality of second polishers 612 extends in a third direction Z perpendicular to the first direction X and the second direction Y. That is, the rotation axis AR of the second polishers 612 is perpendicular to the first direction (X) and the second direction (Y), and the rotation direction of the second polishers 612 is the moving direction of the
제2 폴리셔(612)들의 회전 방향이 스트립(10)의 이동 방향과 수직함으로써, 스트립(10)의 표면 결함(11)이 용이하게 연마되어 제거될 수 있다.Since the rotation direction of the second polishers 612 is perpendicular to the moving direction of the
제2 폴리셔 어셈블리(602)는 제2 폴리셔(612)들 중 스트립(10)의 결함(11)의 위치에 대응하는 제2 폴리셔(612)를 결함(11)의 길이만큼 스트립(10)의 표면에 접촉시켜 결함(11)의 깊이에 따라 제2 폴리셔(612)의 회전 속도를 조절하여 결함(11)을 연마 및 제거할 수 있다.The
제3 폴리셔 어셈블리(702)는 제2 폴리셔 어셈블리(602)와 제1 방향(X)으로 이웃한다.The
제3 폴리셔 어셈블리(702)는 스트립(10)의 표면 상에서 스트립(10)의 이동 방향인 제1 방향(X)과 교차하는 제2 방향(Y)으로 배치된 복수의 제3 폴리셔(712)들을 포함한다.The
복수의 제3 폴리셔(712)들의 회전축(AR)은 제1 방향(X) 및 제2 방향(Y)과 수직하는 제3 방향(Z)으로 연장된다. 즉, 제3 폴리셔(712)들의 회전축(AR)은 제1 방향(X) 및 제2 방향(Y)과 수직하며, 제3 폴리셔(712)들의 회전 방향은 스트립(10)의 이동 방향인 제1 방향(X)과 수직하며, 제3 폴리셔(712)들은 회전하여 스트립(10)의 표면의 결함(11)을 연마한다.The rotation axis AR of the plurality of third polishers 712 extends in a third direction Z perpendicular to the first direction X and the second direction Y. That is, the rotation axis AR of the third polishers 712 is perpendicular to the first direction X and the second direction Y, and the rotation direction of the third polishers 712 is the moving direction of the
제3 폴리셔(712)들의 회전 방향이 스트립(10)의 이동 방향과 수직함으로써, 스트립(10)의 표면 결함(11)이 용이하게 연마되어 제거될 수 있다.Since the rotation direction of the third polishers 712 is perpendicular to the moving direction of the
제3 폴리셔 어셈블리(702)는 제3 폴리셔(712)들 중 스트립(10)의 결함(11)의 위치에 대응하는 제3 폴리셔(712)를 결함(11)의 길이만큼 스트립(10)의 표면에 접촉시켜 결함(11)의 깊이에 따라 제3 폴리셔(712)의 회전 속도를 조절하여 결함(11)을 연마 및 제거할 수 있다.The
제1 폴리셔(212)들, 제2 폴리셔(612)들, 제3 폴리셔(712)들 각각의 연마 표면 거칠기는 서로 다르다.The
제1 폴리셔(212)들의 연마 표면 거칠기는 제2 폴리셔(612)들 대비 작으며, 제3 폴리셔(712)들의 연마 표면 거칠기는 제2 폴리셔(612)들 대비 크다.The polishing surface roughness of the
제2 실시예에 따른 스트립의 표면 결함 제거 장치(1002)는 스트립(10)의 표면의 결함(11)의 깊이에 따라 제1 폴리셔(212)들, 제2 폴리셔(612)들, 제3 폴리셔(712)들을 선택하여 스트립(10)의 표면의 결함(11)을 연마 및 제거할 수 있다.The
일례로, 도 3을 참조하면, 스트립(10)의 결함(11)의 깊이가 작은 깊이일 경우, 스트립의 표면 결함 제거 장치(1002)는 제1 폴리셔 어셈블리(202)의 2번째 제1 폴리셔(212)를 결함(11)의 길이만큼 스트립(10)의 표면에 접촉시키고 결함(11)의 깊이에 따라 제1 폴리셔(212)의 회전 속도를 조절하여 결함(11)을 연마 및 제거하고, 이후 2번째 제1 폴리셔(212)를 스트립(10)으로부터 이격시킬 수 있다.As an example, referring to FIG. 3, when the depth of the
다른 예로, 스트립(10)의 결함(11)의 깊이가 중간 깊이일 경우, 스트립의 표면 결함 제거 장치(1002)는 제2 폴리셔 어셈블리(602)의 2번째 제2 폴리셔(612)를 결함(11)의 길이만큼 스트립(10)의 표면에 접촉시키고 결함(11)의 깊이에 따라 제2 폴리셔(612)의 회전 속도를 조절하여 결함(11)을 연마 및 제거하고, 이후 2번째 제2 폴리셔(612)를 스트립(10)으로부터 이격시킬 수 있다.As another example, when the depth of the
또 다른 예로, 스트립(10)의 결함(11)의 깊이가 큰 깊이일 경우, 스트립의 표면 결함 제거 장치(1002)는 제3 폴리셔 어셈블리(702)의 2번째 제3 폴리셔(712)를 결함(11)의 길이만큼 스트립(10)의 표면에 접촉시키고 결함(11)의 깊이에 따라 제3 폴리셔(712)의 회전 속도를 조절하여 결함(11)을 연마 및 제거하고, 이후 2번째 제3 폴리셔(712)를 스트립(10)으로부터 이격시킬 수 있다.As another example, when the depth of the
이상과 같이, 제2 실시예에 따른 스트립의 표면 결함 제거 장치(1002)는 스트립(10)의 표면의 결함(11)의 위치, 길이, 및 깊이에 대응하여, 제1 폴리셔(212)들, 제2 폴리셔(612)들, 제3 폴리셔(712)들 중 하나를 선택하여 효율적으로 스트립(10)의 표면의 결함(11)을 연마 및 제거할 수 있다.As described above, the
즉, 연속적으로 제1 방향(X)으로 이동되는 스트립(10)의 표면 결함(11)을 제거하여, 스트립(10)으로부터 제조되는 코일의 제조 효율 및 제조 신뢰성을 향상시키는 스트립의 표면 결함 제거 장치(1002)가 제공된다.That is, a strip surface defect removal device that improves manufacturing efficiency and manufacturing reliability of a coil manufactured from the
이하, 도 4를 참조하여 제3 실시예에 따른 스트립의 표면 결함 제거 장치를 설명한다. 이하에서는 상술한 제1 실시예에 따른 스트립의 표면 결함 제거 장치와 다른 부분에 대해서 설명한다.Hereinafter, an apparatus for removing surface defects of a strip according to a third embodiment will be described with reference to FIG. 4. Hereinafter, portions different from the apparatus for removing surface defects of the strip according to the first embodiment will be described.
도 4는 제3 실시예에 따른 스트립의 표면 결함 제거 장치의 일 부분을 나타낸 평면도이다. 도 4에서는 표면 결함 검출부 및 제어부를 도시하지 않았다.4 is a plan view showing a part of an apparatus for removing surface defects of a strip according to a third embodiment. In FIG. 4, the surface defect detection unit and the control unit are not shown.
도 4를 참조하면, 제3 실시예에 따른 스트립의 표면 결함 제거 장치(1003)는 표면 결함 검출부, 제어부, 제1 폴리셔 어셈블리(203), 제2 폴리셔 어셈블리(603), 제3 폴리셔 어셈블리(703)를 포함한다.Referring to FIG. 4, a surface
제2 폴리셔 어셈블리(603)는 제1 폴리셔 어셈블리(203)와 제1 방향(X)으로 이웃한다.The
제2 폴리셔 어셈블리(603)는 스트립(10)의 표면 상에서 스트립(10)의 이동 방향인 제1 방향(X)과 교차하는 제2 방향(Y)으로 배치된 복수의 제2 폴리셔(613)들을 포함한다.The
복수의 제2 폴리셔(613)들의 회전축(AR)은 제1 방향(X) 및 제2 방향(Y)과 수직하는 제3 방향(Z)으로 연장된다. 즉, 제2 폴리셔(613)들의 회전축(AR)은 제1 방향(X) 및 제2 방향(Y)과 수직하며, 제2 폴리셔(613)들의 회전 방향은 스트립(10)의 이동 방향인 제1 방향(X)과 수직하며, 제2 폴리셔(613)들은 회전하여 스트립(10)의 표면의 결함(11)을 연마한다.The rotation axis AR of the plurality of second polishers 613 extends in a third direction Z perpendicular to the first direction X and the second direction Y. That is, the rotation axis AR of the second polishers 613 is perpendicular to the first direction X and the second direction Y, and the rotation direction of the second polishers 613 is the moving direction of the
제2 폴리셔(613)들의 회전 방향이 스트립(10)의 이동 방향과 수직함으로써, 스트립(10)의 표면 결함(11)이 용이하게 연마되어 제거될 수 있다.Since the rotation direction of the second polishers 613 is perpendicular to the moving direction of the
제2 폴리셔 어셈블리(603)는 제2 폴리셔(613)들 중 스트립(10)의 결함(11)의 위치에 대응하는 제2 폴리셔(613)를 결함(11)의 길이만큼 스트립(10)의 표면에 접촉시켜 결함(11)의 깊이에 따라 제2 폴리셔(613)의 회전 속도를 조절하여 결함(11)을 연마 및 제거할 수 있다.The
제3 폴리셔 어셈블리(703)는 제2 폴리셔 어셈블리(603)와 제1 방향(X)으로 이웃한다.The
제3 폴리셔 어셈블리(703)는 스트립(10)의 표면 상에서 스트립(10)의 이동 방향인 제1 방향(X)과 교차하는 제2 방향(Y)으로 배치된 복수의 제3 폴리셔(713)들을 포함한다.The
복수의 제3 폴리셔(713)들의 회전축(AR)은 제1 방향(X) 및 제2 방향(Y)과 수직하는 제3 방향(Z)으로 연장된다. 즉, 제3 폴리셔(713)들의 회전축(AR)은 제1 방향(X) 및 제2 방향(Y)과 수직하며, 제3 폴리셔(713)들의 회전 방향은 스트립(10)의 이동 방향인 제1 방향(X)과 수직하며, 제3 폴리셔(713)들은 회전하여 스트립(10)의 표면의 결함(11)을 연마한다.The rotation axis AR of the plurality of third polishers 713 extends in a third direction Z perpendicular to the first direction X and the second direction Y. That is, the rotation axis AR of the third polishers 713 is perpendicular to the first direction X and the second direction Y, and the rotation direction of the third polishers 713 is the moving direction of the
제3 폴리셔(713)들의 회전 방향이 스트립(10)의 이동 방향과 수직함으로써, 스트립(10)의 표면 결함(11)이 용이하게 연마되어 제거될 수 있다.Since the rotation direction of the third polishers 713 is perpendicular to the moving direction of the
제3 폴리셔 어셈블리(703)는 제3 폴리셔(713)들 중 스트립(10)의 결함(11)의 위치에 대응하는 제3 폴리셔(713)를 결함(11)의 길이만큼 스트립(10)의 표면에 접촉시켜 결함(11)의 깊이에 따라 제3 폴리셔(713)의 회전 속도를 조절하여 결함(11)을 연마 및 제거할 수 있다.The
제1 폴리셔(213)들, 제2 폴리셔(613)들, 제3 폴리셔(713)들 각각의 연마 표면 거칠기는 서로 다르다.The first polishers 213, the second polishers 613, and the third polishers 713 have different polishing surface roughnesses.
제1 폴리셔(213)들의 연마 표면 거칠기는 제2 폴리셔(613)들 대비 크며, 제3 폴리셔(713)들의 연마 표면 거칠기는 제2 폴리셔(613)들 대비 작다.The polishing surface roughness of the first polishers 213 is larger than that of the second polishers 613, and the polishing surface roughness of the third polishers 713 is smaller than that of the second polishers 613.
제3 실시예에 따른 스트립의 표면 결함 제거 장치(1003)는 스트립(10)의 표면의 결함(11)의 위치, 길이, 깊이에 따라 제1 폴리셔(213)들, 제2 폴리셔(613)들, 제3 폴리셔(713)들을 이용해 스트립(10)의 표면의 결함(11)을 순차적으로 연마 및 제거할 수 있다.The
일례로, 도 4를 참조하면, 제3 실시예에 따른 스트립의 표면 결함 제거 장치(1003)는 스트립(10)의 표면의 결함(11)의 위치에 대응하는 제1 폴리셔 어셈블리(203)의 2번째 제1 폴리셔(213), 제2 폴리셔 어셈블리(603)의 2번째 제2 폴리셔(613), 제3 폴리셔 어셈블리(703)의 2번째 제3 폴리셔(713)를 순차적으로 결함(11)의 길이만큼 스트립(10)의 표면에 접촉시키고 결함(11)의 깊이에 따라 2번째 제1 폴리셔(213), 제2 폴리셔(613), 제3 폴리셔(713)의 회전 속도를 조절하여 결함(11)을 순차적으로 연마 및 제거하고, 이후 2번째 제1 폴리셔(213), 제2 폴리셔(613), 제3 폴리셔(713)를 스트립(10)으로부터 순차적으로 이격시킬 수 있다.As an example, referring to FIG. 4, the
이상과 같이, 제3 실시예에 따른 스트립의 표면 결함 제거 장치(1003)는 스트립(10)의 표면의 결함(11)의 위치, 길이, 및 깊이에 대응하여, 제1 폴리셔(213)들, 제2 폴리셔(613)들, 제3 폴리셔(713)들을 이용해 스트립(10)의 표면의 결함(11)을 순차적으로 연마 및 제거할 수 있다.As described above, the
즉, 연속적으로 제1 방향(X)으로 이동되는 스트립(10)의 표면 결함(11)을 제거하여, 스트립(10)으로부터 제조되는 코일의 제조 효율 및 제조 신뢰성을 향상시키는 스트립의 표면 결함 제거 장치(1003)가 제공된다.That is, a strip surface defect removal device that improves manufacturing efficiency and manufacturing reliability of a coil manufactured from the
본 이상에서 본 발명의 실시예들에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.Although the embodiments of the present invention have been described in detail above, the scope of the present invention is not limited thereto, and various modifications and improvements of those skilled in the art using the basic concept of the present invention defined in the following claims are also present. It is within the scope of the invention.
표면 결함 검출부(100), 제1 폴리셔 어셈블리(200), 제1 폴리셔(210), 제어부(300), 제2 폴리셔 어셈블리(602), 제2 폴리셔(612), 제3 폴리셔 어셈블리(702), 제3 폴리셔(712)Surface
Claims (7)
상기 표면 결함 검출부와 이격되어 위치하며, 상기 스트립의 표면의 상기 결함을 연마하는 제1 폴리셔 어셈블리
를 포함하며,
상기 제1 폴리셔 어셈블리는 상기 스트립의 표면 상에서 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 배치된 복수의 제1 폴리셔들을 포함하며,
상기 표면 결함 검출부는 상기 스트립의 표면 상에서 상기 결함의 상기 제2 방향으로의 위치 및 상기 제1 방향으로의 길이를 검출하며,
상기 제1 폴리셔 어셈블리는 상기 제1 폴리셔들 중 상기 결함의 상기 위치에 대응하는 제1 폴리셔를 상기 결함의 상기 길이로 상기 스트립의 표면에 접촉시키는 스트립의 표면 결함 제거 장치.A surface defect detection unit for detecting defects on the surface of the strip continuously moving in the first direction; And
A first polisher assembly positioned to be spaced apart from the surface defect detection unit and for polishing the defect on the surface of the strip
Including,
The first polisher assembly includes a plurality of first polishers disposed on a surface of the strip in a second direction crossing the first direction,
The surface defect detection unit detects a position in the second direction and a length in the first direction of the defect on the surface of the strip,
The first polisher assembly is a device for removing surface defects of a strip for contacting a first polisher corresponding to the location of the defect among the first polishers to the surface of the strip with the length of the defect.
상기 제1 폴리셔들의 회전축들은 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향과 수직하는 스트립의 표면 결함 제거 장치.In claim 1,
An apparatus for removing surface defects of a strip whose rotation axes of the first polishers are perpendicular to the first direction and the second direction.
상기 표면 결함 검출부 및 상기 제1 폴리셔 어셈블리와 연결된 제어부를 더 포함하며,
상기 제어부는 상기 표면 결함 검출부로부터 상기 결함의 위치 및 길이에 관련된 정보를 수신하며,
상기 제어부는 상기 제1 폴리셔 어셈블리를 구동하여 상기 제1 폴리셔 어셈블리의 상기 제1 폴리셔들 중 상기 결함의 상기 위치에 대응하는 제1 폴리셔를 상기 결함의 상기 길이로 상기 스트립의 표면에 접촉시키는 스트립의 표면 결함 제거 장치.In claim 1,
Further comprising a control unit connected to the surface defect detection unit and the first polisher assembly,
The control unit receives information related to the location and length of the defect from the surface defect detection unit,
The control unit drives the first polisher assembly to apply a first polisher corresponding to the position of the defect among the first polishers of the first polisher assembly to the surface of the strip with the length of the defect. Device for removing surface defects on the strip that comes into contact.
상기 제1 폴리셔 어셈블리와 상기 제1 방향으로 이웃하며, 상기 제2 방향으로 배치된 복수의 제2 폴리셔들을 포함하는 제2 폴리셔 어셈블리; 및
상기 제2 폴리셔 어셈블리와 상기 제1 방향으로 이웃하며, 상기 제2 방향으로 배치된 복수의 제3 폴리셔들을 포함하는 제3 폴리셔 어셈블리
를 더 포함하며,
상기 제1 폴리셔들, 상기 제2 폴리셔들, 상기 제3 폴리셔들 각각의 연마 표면 거칠기는 서로 다른 스트립의 표면 결함 제거 장치.In claim 1,
A second polisher assembly adjacent to the first polisher assembly in the first direction and including a plurality of second polishers disposed in the second direction; And
A third polisher assembly including a plurality of third polishers adjacent to the second polisher assembly in the first direction and disposed in the second direction
It further includes,
The first polishers, the second polishers, and the third polishers each have a different polishing surface roughness.
상기 제1 폴리셔들의 연마 표면 거칠기는 상기 제2 폴리셔들 대비 작으며,
상기 제3 폴리셔들의 연마 표면 거칠기는 상기 제2 폴리셔들 대비 큰 스트립의 표면 결함 제거 장치.In clause 5,
The polishing surface roughness of the first polishers is smaller than that of the second polishers,
The polishing surface roughness of the third polishers is larger than that of the second polishers.
상기 제1 폴리셔들의 연마 표면 거칠기는 상기 제2 폴리셔들 대비 크며,
상기 제3 폴리셔들의 연마 표면 거칠기는 상기 제2 폴리셔들 대비 작은 스트립의 표면 결함 제거 장치.In clause 5,
The polishing surface roughness of the first polishers is greater than that of the second polishers,
An apparatus for removing surface defects of strips in which the polishing surface roughness of the third polishers is smaller than that of the second polishers.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020180152150A KR102177045B1 (en) | 2018-11-30 | 2018-11-30 | Apparatus for removing surface defect of strip |
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Publications (2)
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JPH0740063U (en) * | 1993-12-28 | 1995-07-18 | 川崎製鉄株式会社 | Automatic grinding machine for slabs |
KR20060006965A (en) * | 2003-05-12 | 2006-01-20 | 슬립콘 홀딩 인터내셔널 에이피에스 | Abrading machine with abrading discs, which are moved in a reciprocatory movement transverse to the item |
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