KR102158105B1 - Measuring apparatus for measuring transmittance and flatness of EUV light for pellicle and measuring method using the same - Google Patents

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Abstract

본 발명에 따른 펠리클(pellicle)의 투과율 및 평탄도를 측정하는 측정 장치(10)는 상기 EUV 광의 광량과 펠리클(20)에 의해 투과된 EUV 광의 광량을 측정하는 측정부(100)와, 상기 측정부(100)가 내부에 구비되어 진공을 유지하는 진공챔버(200)와, 상기 측정부(100)에 의해 측정된 광량을 검출하는 검출부(300)를 포함하여 이루어진다. The measuring device 10 for measuring transmittance and flatness of a pellicle according to the present invention includes a measuring unit 100 for measuring the amount of EUV light and the amount of EUV light transmitted by the pellicle 20, and the measurement The unit 100 includes a vacuum chamber 200 provided therein to maintain a vacuum, and a detection unit 300 for detecting the amount of light measured by the measurement unit 100.

Figure R1020180111763
Figure R1020180111763

Description

EUV 광용 펠리클의 투과율 및 평탄도를 측정하는 측정 장치 및 이를 이용한 측정 방법{Measuring apparatus for measuring transmittance and flatness of EUV light for pellicle and measuring method using the same}Measuring apparatus for measuring transmittance and flatness of EUV light for pellicle and measuring method using the same}

본 발명은 EUV(Extreme ultraviolet) 광용 펠리클의 투과율 및 평탄도를 측정하는 측정 장치 및 이를 이용한 측정 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a measuring device for measuring the transmittance and flatness of a pellicle for extreme ultraviolet (EUV) light, and a measuring method using the same.

반도체 소자의 고집적화가 진행될수록 반도체 소자의 선폭이 줄어들게 되고, 반도체 소자의 선폭이 줄어들수록 리소그래피(Lithography) 고정에 사용되는 노광원의 파장도 줄어들게 된다.As the semiconductor device is highly integrated, the line width of the semiconductor device decreases, and as the line width of the semiconductor device decreases, the wavelength of the exposure source used for lithography fixing decreases.

예를 들면, 종래에는 I라인(line) 또는 G라인과 같은 비교적 긴파장의 노광원을 이용하여 노광공정을 수행하였지만, 현재에는 주로 248,193nm 파장을 쓰는 KrF, ArF 노광원을 이용하여 노광공정을 수행하고 있다. For example, conventionally, the exposure process was performed using an exposure source having a relatively long wavelength such as an I line or a G line. Is performing.

최근에는 그 이하의 파장, 즉 13.4nm 파장의 EUV 광원을 이용한 공정이 개발되고 있다. Recently, a process using an EUV light source having a wavelength of less than that, that is, a wavelength of 13.4 nm, has been developed.

KrF, ArF 노광공정에서는 빛이 마스크를 투과하여 웨이퍼에 패턴을 형성하는 방법을 이용하는 반면, EUV의 경우에는 빛이 마스크에서 대부분 흡수되기 때문에 투과 마스크가 아닌 EUV 빛이 반사하는 반마스크를 이용하여 노광공정을 수행한다.In the KrF, ArF exposure process, light passes through the mask to form a pattern on the wafer, whereas in the case of EUV, most of the light is absorbed by the mask, so exposure using a semi-mask reflected by EUV light instead of a transmission mask. Carry out the process.

즉, EUV용 마스크는 반사층과 흡수층 패턴으로 구성되는데 반사층에 의해 반사된 EUV 광원이 패터닝에 직접 기여하게 되고, 흡수층 패턴에 도달한 빛은 흡수되어 패터닝에 기여하지 못하게 된다. That is, the EUV mask is composed of a reflective layer and an absorbing layer pattern. The EUV light source reflected by the reflective layer directly contributes to patterning, and light reaching the absorbing layer pattern is absorbed and does not contribute to patterning.

EUV용 마스크의 블랭크는 미세 구조를 갖는 구조체인 데다 EUV 광의 파장이 지극히 짧기 때문에 EUV용 마스크는 입자 오염으로부터 보호하도록 펠리클(pellicle)이 구비되며, 이런 이유로, 극자외선에 대한 높은 투과도 및 얇은 두께 특성을 갖는 펠리클 개발에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. Since the EUV mask blank is a structure having a fine structure and the wavelength of EUV light is extremely short, the EUV mask is equipped with a pellicle to protect it from particle contamination. For this reason, high transmittance to extreme ultraviolet rays and thin thickness characteristics Research on the development of pellicles with

현재 반도체 제조 공정의 공정 효율을 향상시키기 위해, 고출력의 광원을 극자외선 리소그래피 노광장비에 적용하려는 연구가 계속되고 있으며, 노광공정의 생산성을 향상시키기 위해 높은 투과도를 갖는 고성능의 극자외선 노광 공정용 펠리클에 대한 요구가 증가하고 있다. In order to improve the process efficiency of the current semiconductor manufacturing process, research to apply a high-power light source to extreme ultraviolet lithography exposure equipment is continuing, and a high-performance extreme ultraviolet exposure process pellicle with high transmittance to improve the productivity of the exposure process. There is an increasing demand for

따라서 펠리클의 투과도 및 평탄도를 측정하여 불량 여부를 평가하기 위한 펠리클의 검사 장치 및 검사 방법에 대한 연구가 필요한 실정이다. Therefore, there is a need for research on a pellicle inspection apparatus and inspection method to evaluate the defect or not by measuring the transmittance and flatness of the pellicle.

대한민국 등록특허공보 등록번호 제10-1738887호Korean Registered Patent Publication No. 10-1738887 대한민국 공개특허공보 공개번호 제10-2017-0110759호Republic of Korea Patent Application Publication No. 10-2017-0110759

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 펠리클의 전면적에 대한 투과도 및 평탄도를 측정하여 불량 여부를 평가하기 위한 펠리클의 투과율 및 평탄도를 측정하는 측정 장치 및 이를 이용한 측정 방법을 제공하고자 하는데 그 목적이 있다.The present invention is to solve the above-described problems, and to provide a measuring device for measuring the transmittance and flatness of a pellicle for evaluating defects by measuring the transmittance and flatness of the entire area of the pellicle, and a measuring method using the same. There is a purpose.

그러나 본 발명의 목적은 상기에 언급된 목적으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.However, the object of the present invention is not limited to the above-mentioned object, and another object that is not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 펠리클(pellicle)의 투과율 및 평탄도를 측정하는 측정 장치(10)는 상기 EUV 광의 광량과 펠리클(20)에 의해 투과된 EUV 광의 광량을 측정하는 측정부(100)와, 상기 측정부(100)가 내부에 구비되어 진공을 유지하는 진공챔버(200)와, 상기 측정부(100)에 의해 측정된 광량을 검출하는 검출부(300)를 포함하여 이루어진다.In order to achieve the above object, the measuring device 10 for measuring the transmittance and flatness of a pellicle according to the present invention is a measuring unit that measures the amount of EUV light and the amount of EUV light transmitted by the pellicle 20 A vacuum chamber 200 having the measurement unit 100 provided therein to maintain a vacuum, and a detection unit 300 for detecting the amount of light measured by the measurement unit 100 are included.

또한, 상기 측정부(100)는 상기 EUV 광이 출력되는 광원부(110)와, 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광의 기준광량을 실시간으로 측정하는 제1광학부(120)와, 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광이 상기 펠리클(20)을 통해 투과된 비교광량을 실시간으로 측정하는 제2광학부(130)와, 상기 펠리클(20)을 지지하면서 x, y 축으로 이동되어 펠리클(20)의 전면적에 대해 스캐닝할 수 있도록 하는 스테이지부(140)를 포함하여 이루어진다.In addition, the measurement unit 100 includes a light source unit 110 to which the EUV light is output, a first optical unit 120 that measures a reference amount of light of EUV light output from the light source unit 110 in real time, and the light source unit ( A second optical unit 130 that measures the amount of comparative light transmitted through the pellicle 20 in real time by the EUV light output from 110), and the pellicle 20 is moved to the x, y axis while supporting the pellicle 20 It includes a stage unit 140 that enables scanning of the entire area of 20).

또한, 상기 제1광학부(120)는 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광을 반사시키거나 통과시키는 초퍼 휠(chopper wheel)(121)과, 상기 광원부(110)에서 출력되어 상기 초퍼 휠(121)에 의해 반사된 EUV 광을 수집하여 측정하는 제1감지기(122)를 포함하여 이루어진다.In addition, the first optical unit 120 includes a chopper wheel 121 that reflects or passes the EUV light output from the light source unit 110, and the chopper wheel 121 is output from the light source unit 110 It comprises a first detector 122 for collecting and measuring the EUV light reflected by 121).

그리고 상기 제2광학부(130)는 상기 광원부(110)에서 출력되어 상기 초퍼 휠(121)을 통과한 EUV 광을 상기 펠리클(20)로 반사시키는 반사거울(131)과, 상기 펠리클(20)을 통해 투과된 EUV 광을 수집하여 측정하는 제2감지기(132)를 포함하여 이루어진다.In addition, the second optical unit 130 reflects the EUV light output from the light source unit 110 and passed through the chopper wheel 121 to the pellicle 20, and the pellicle 20 It comprises a second detector 132 for collecting and measuring the EUV light transmitted through.

또한, 상기 검출부(300)는 상기 제1감지기(122) 및 제2감지기(132)에서 검출된 값을 비교하여 상기 펠리클(20)의 투과율을 측정하는 제1연산부(310)와, 상기 제1연산부(310)에서 측정된 펠리클(20)의 전면적에 대한 투과율을 통해 상기 펠리클(20)의 평탄도(uniformity)를 측정하는 제2연산부(320)를 포함하여 이루어진다.In addition, the detection unit 300 includes a first calculation unit 310 configured to measure the transmittance of the pellicle 20 by comparing values detected by the first sensor 122 and the second sensor 132, and the first It comprises a second calculation unit 320 for measuring the uniformity (uniformity) of the pellicle 20 through the transmittance of the entire area of the pellicle 20 measured by the calculation unit 310.

또한, 상기 제1광학부(120)는 상기 초퍼 휠(121)을 회전시키는 구동모터(미도시)를 더 포함한다.In addition, the first optical unit 120 further includes a driving motor (not shown) that rotates the chopper wheel 121.

그리고 상기 초퍼 휠(121)은 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광을 상기 제1감지기(122)로 반사시키는 반사영역(121a)과, 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광이 상기 반사거울(131)로 입사되도록 통과되는 관통영역(121b)이 형성된다.In addition, the chopper wheel 121 reflects the EUV light output from the light source unit 110 to the first detector 122 and the EUV light output from the light source unit 110 is the reflective mirror. A through region 121b that passes through so as to be incident on 131 is formed.

이때, 상기 초퍼 휠(121)은 광축과 수직한 면에 대해 4˚~8˚ 기울어져 구비될 수 있다. In this case, the chopper wheel 121 may be provided to be inclined by 4° to 8° with respect to a surface perpendicular to the optical axis.

또한, 상기 초퍼 휠(121)은 원형의 형상이되, 상기 반사영역(121a)과 관통영역(121b)은 번갈아 형성되어 상기 초퍼 휠(121)이 회전함에 따라 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광이 상기 반사영역(121a)과 관통영역(121b)에 순차 반복적으로 입사된다. In addition, the chopper wheel 121 has a circular shape, but the reflective area 121a and the penetrating area 121b are alternately formed so that the EUV output from the light source unit 110 as the chopper wheel 121 rotates. Light is sequentially and repeatedly incident on the reflective region 121a and the through region 121b.

또한, 상기 반사영역(121a)에는 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광을 반사시키는 반사체가 부착되고, 상기 관통영역(121b)에는 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광이 통과되도록 관통구멍이 형성된다.In addition, a reflector that reflects EUV light output from the light source unit 110 is attached to the reflective area 121a, and a through hole is provided in the through area 121b to allow the EUV light output from the light source unit 110 to pass. Is formed.

또한, 상기 초퍼 휠(121)에는 초퍼 휠(121)의 중심을 기준으로 방사상 등간격으로 가상의 구획선이 4개 형성될 때, 각각의 구획선에 의해 형성된 4개의 영역에는 2개의 반사영역(121a-1,121a-2)과 2개의 관통영역(121b-1,121b-2)이 형성되고, 제1반사영역(121a-1)과 제2반사영역(121a-2) 사이에 제1관통영역(121b-1)과 제2관통영역(121b-2)이 형성되도록 배치된다. In addition, when four virtual division lines are formed in the chopper wheel 121 at radially equal intervals based on the center of the chopper wheel 121, the four areas formed by each division line have two reflective areas 121a- 1,121a-2) and two through areas 121b-1 and 121b-2 are formed, and a first through area 121b- is formed between the first and second reflective areas 121a-1 and 121a-2. 1) and the second through region 121b-2 are disposed to be formed.

또한, 상기 스테이지부(140)는 상기 펠리클(20)을 지지하는 스테이지(141)와, 상기 스테이지(141)를 x축으로 구동하는 x축 구동부(142)와, 상기 스테이지(141)를 y축으로 구동하는 y축 구동부(143)를 포함하되, 상기 스테이지(141)에는 진공용 관통공(141a)이 형성되어 상기 관통공(141a) 상에 상기 펠리클(20)이 구비된다. In addition, the stage unit 140 includes a stage 141 supporting the pellicle 20, an x-axis driving unit 142 for driving the stage 141 in an x-axis, and a y-axis of the stage 141 It includes a y-axis driving unit 143 that is driven by, and the stage 141 has a vacuum through hole 141a formed thereon, and the pellicle 20 is provided on the through hole 141a.

또한, 상기 제2감지기(132)는 상기 스테이지(141)의 진공용 관통공(141a)과 대응되도록 상기 스테이지부(140)의 하부측에 구비된다.In addition, the second detector 132 is provided on the lower side of the stage part 140 to correspond to the vacuum through hole 141a of the stage 141.

또한, 상기 구동모터에는 모터 회전축의 회전각도 및 회전수를 검출하는 엔코더가 장착되되, 상기 스테이지부(140)는, 상기 초퍼 휠(121)이 회전되어 반사영역(121a)에 EUV 광이 입사될 때의 엔코더 신호값을 통해 상기 x축 및 y축 구동부(142,143)를 구동시키는 스테이지 구동 제어부(미도시)를 더 포함한다.In addition, the drive motor is equipped with an encoder that detects the rotation angle and rotation speed of the motor rotation shaft, and the stage unit 140 rotates the chopper wheel 121 so that EUV light is incident on the reflection area 121a. It further includes a stage driving control unit (not shown) for driving the x-axis and y-axis driving units 142 and 143 based on the encoder signal value at that time.

또한, 상기 검출부(300)는, 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광으로부터 상기 제1감지기(122)에서 측정된 광량과 상기 펠리클(20)이 장착되지 않은 상태에서 상기 제2감지기(132)에서 측정된 광량을 비교하여 각각의 광량에 대한 측정값이 동일하도록 보정값을 생성하는 보정값 생성부(미도시)를 더 포함한다.In addition, the detection unit 300 includes the amount of light measured by the first detector 122 from the EUV light output from the light source unit 110 and the second detector 132 in a state in which the pellicle 20 is not mounted. It further includes a correction value generating unit (not shown) that compares the amount of light measured at and generates a correction value so that the measured value for each light amount is the same.

또한, 상기 측정 장치를 이용한 펠리클(pellicle)의 투과율을 측정하는 측정 방법은 a, 상기 진공챔버(200)의 내부를 진공으로 형성하는 단계와, b, 상기 스테이지(141)에 상기 펠리클(20)을 장착하는 단계와, c, 상기 광원부(110)로부터 EUV 광이 출력되는 단계와, d, 상기 초퍼 휠(121)에 의해 순차 반복적으로 투과 및 반사되어 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광을 제1감지기(122)와 제2감지기(132)에 전사시키는 단계와, e, 상기 검출부(300)의 제1연산부(310)를 통해 상기 펠리클(20)의 전면적에 대한 투과율을 측정하는 단계를 포함하여 이루어진다.In addition, the measuring method of measuring the transmittance of a pellicle using the measuring device includes: a, forming the inside of the vacuum chamber 200 with a vacuum, and b, the pellicle 20 in the stage 141 And, c, outputting EUV light from the light source unit 110, and d, sequentially and repeatedly transmitted and reflected by the chopper wheel 121 to receive EUV light output from the light source unit 110. The steps of transferring to the first detector 122 and the second detector 132, and e, measuring the transmittance of the entire area of the pellicle 20 through the first calculation unit 310 of the detection unit 300 Including.

또한, 상기 d 단계는, d-1. 상기 펠리클(20)의 투과율을 측정하기 위한 초기상태로 세팅하는 단계와, d-2, 상기 초퍼 휠(121)의 관통영역(121b)에 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광이 통과되는 단계와, d-3, 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광이 상기 초퍼 휠(121)의 반사영역(121a)에 입사되도록 초퍼 휠(121)을 회전시키는 단계와, d-4, 상기 스테이지 구동 제어부의 제어를 통해 상기 x축 또는 y축 구동부(142,143)를 구동시켜 상기 스테이지(141)를 이동시키는 단계와, d-5. 상기 초퍼 휠(121)의 반사영역(121a)에 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광이 입사되는 단계와, d-6, 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광이 상기 초퍼 휠(121)의 관통영역(121a)에 입사되도록 초퍼 휠(121)을 회전시키는 단계와, d-7, 상기 d-2 단계와 d-6 단계를 반복실행 하는 단계를 포함한다.In addition, the d step, d-1. Setting the transmittance of the pellicle 20 to an initial state for measuring the transmittance of the pellicle 20, and d-2, passing the EUV light output from the light source unit 110 to the through region 121b of the chopper wheel 121 And, d-3, rotating the chopper wheel 121 so that the EUV light output from the light source unit 110 is incident on the reflective area 121a of the chopper wheel 121, and d-4, driving the stage Moving the stage 141 by driving the x-axis or y-axis driving units 142 and 143 under the control of a controller, and d-5. The step in which the EUV light output from the light source unit 110 is incident on the reflective area 121a of the chopper wheel 121, and d-6, the EUV light output from the light source unit 110 is applied to the chopper wheel 121 Rotating the chopper wheel 121 so as to be incident on the penetrating region 121a, and repeating steps d-7, d-2 and d-6.

또한, 상기 d-1 단계는 d-1-1, 상기 펠리클(20)을 일정간격으로 구획하여 x축, y축에 대한 좌표(Xi,Yj)를 설정하는 단계와, d-1-2, 상기 스테이지(141)를 구동시켜 상기 펠리클(20)의 제1좌표(X1,Y1)에 EUV 광이 투과되도록 세팅하는 단계와, d-1-3, 상기 초퍼 휠(121)의 관통영역(121a)에 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광이 입사되도록 세팅하는 단계를 포함한다.In addition, the step d-1 is a step of setting the coordinates (Xi, Yj) for the x-axis and y-axis by dividing the d-1-1 and the pellicle 20 at regular intervals, and d-1-2, Driving the stage 141 to set the first coordinates (X1, Y1) of the pellicle 20 so that EUV light is transmitted, d-1-3, the through area 121a of the chopper wheel 121 ) And setting the EUV light output from the light source unit 110 to be incident.

또한, 상기 d-2 단계는 d-2-1, 상기 관통영역(121b)에 입사된 EUV 광이 통과되는 단계와, d-2-2, 상기 관통영역(121b)에 통과된 EUV 광이 상기 반사거울(131)에 입사되는 단계와, d-2-3, 상기 반사거울(131)에 입사된 EUV 광이 반사되어 상기 펠리클(20)로 입사되는 단계와, d-2-4, 상기 펠리클(20)로 입사된 EUV 광은 펠리클(20)을 투과하여 상기 스테이지(141)의 하부측에 구비된 상기 제2감지기(132)로 입사되는 단계와, d-2-5, 상기 제2감지기(132)에서 검출된 광량을 측정하는 단계를 포함한다.In addition, in step d-2, d-2-1, the EUV light incident on the through region 121b is passed, and d-2-2, the EUV light passed through the through region 121b is The step of entering the reflective mirror 131, d-2-3, the step of reflecting the EUV light incident on the reflective mirror 131 and entering the pellicle 20, d-2-4, the pellicle The EUV light incident on the pellicle 20 passes through the pellicle 20 and enters the second detector 132 provided on the lower side of the stage 141, and d-2-5, the second detector. And measuring the amount of light detected at (132).

또한, 상기 d-3 단계는 d-3-1, 상기 반사영역(121a)에 입사된 EUV 광이 반사되는 단계와, d-3-2, 상기 반사영역(121a)에서 반사된 EUV 광이 상기 제1감지기(122)로 입사되는 단계와, d-3-3, 상기 제1감지기(122)에서 검출된 광량을 측정하는 단계를 포함한다. In addition, the step d-3 is d-3-1, a step in which EUV light incident on the reflective area 121a is reflected, and d-3-2, the EUV light reflected in the reflective area 121a is The step of entering the first detector 122, d-3-3, and measuring the amount of light detected by the first detector 122.

또한, 상기 e 단계 이후에, f, 상기 검출부(300)의 제2연산부(320)를 통해 펠리클(20)의 평면도를 측정하는 단계를 더 포함한다. Further, after the step e, f, measuring the plan view of the pellicle 20 through the second calculation unit 320 of the detection unit 300 is further included.

또한, 상기 b 단계 이전에, b-1, 상기 초퍼 휠(121)의 반사영역(121a)에 상기 광원부(110)로부터 EUV 광이 출력되는 단계와, b-2, 상기 반사영역(121a)에 의해 반사된 EUV 광의 광량을 제1감지기(122)를 통해 측정하는 단계와, b-3, 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광이 상기 초퍼 휠(121)의 관통영역(121b)에 입사되도록 초퍼 휠(121)을 회전시키는 단계와, b-4, 상기 반사거울(131)에 의해 반사된 EUV 광의 광량을 제2감지기(132)를 통해 측정하는 단계와, b-5, 상기 보정값 생성부를 통해 상기 반사거울(131)과 반사영역(121a)에 의해 반사된 EUV 광의 광량을 비교하여 보정값을 생성하는 단계를 포함한다.In addition, before step b, b-1, the step of outputting EUV light from the light source unit 110 to the reflective area 121a of the chopper wheel 121, and b-2, in the reflective area 121a. Measuring the amount of EUV light reflected by the first detector 122, b-3, so that the EUV light output from the light source unit 110 is incident on the through region 121b of the chopper wheel 121 The step of rotating the chopper wheel 121, b-4, measuring the amount of EUV light reflected by the reflective mirror 131 through the second detector 132, b-5, generating the correction value And generating a correction value by comparing the amount of EUV light reflected by the reflective mirror 131 and the reflective region 121a through the unit.

또한, 상기 e 단계는, e-1, 상기 제1연산부(310)는 상기 보정값 생성부에서 생성된 보정값을 적용하여 상기 펠리클(20)의 투과율을 측정하는 단계를 포함한다.In addition, step e includes the step of measuring the transmittance of the pellicle 20 by applying the correction value generated by the correction value generating unit e-1, and the first operation unit 310.

본 발명의 특징 및 이점들은 첨부 도면에 의거한 다음의 상세한 설명으로 더욱 명백해질 것이다.Features and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description based on the accompanying drawings.

이에 앞서 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이고 사전적인 의미로 해석되어서는 아니 되며, 발명자가 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합되는 의미와 개념으로 해석되어야 한다.Prior to this, terms or words used in the present specification and claims should not be interpreted in a conventional and dictionary meaning, and the inventor may appropriately define the concept of the term in order to describe his or her invention in the best way. It should be interpreted as a meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention based on the principle that there is.

이상에서 살펴본 바와 같이 본 발명에 따르면, EUV 광용 펠리클(pellicle)의 투과율 및 평탄도를 측정하는 측정 장치 및 이를 이용한 측정 방법에 의해서 펠리클의 투과율과 평탄도를 용이하고 효율적으로 측정할 수 있는 효과가 있다.As described above, according to the present invention, the transmittance and flatness of the pellicle can be easily and efficiently measured by a measuring device for measuring transmittance and flatness of a pellicle for EUV light and a measuring method using the same. have.

도 1은 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 측정 장치의 개략적인 구성도,
도 2 내지 3은 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 측정 장치의 개략적인 작동상태를 나타낸 구성도,
도 4는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 초퍼 휠의 정면도,
도 5는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 측정 장치의 개략적인 작동 시스템을 나타낸 블록도,
도 6 내지 9는 본 발명의 발람직한 일실시예에 따른 EUV 광용 펠리클(pellicle)의 투과율 및 평탄도를 측정하는 측정 방법을 나타낸 순서도이다. 1 is a schematic configuration diagram of a measuring device according to an embodiment of the present invention,
2 to 3 are configuration diagrams showing a schematic operating state of the measuring device according to an embodiment of the present invention,
4 is a front view of a chopper wheel according to an embodiment of the present invention,
5 is a block diagram showing a schematic operating system of a measuring device according to an embodiment of the present invention;
6 to 9 are flow charts showing a measurement method for measuring transmittance and flatness of a pellicle for EUV light according to an exemplary embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부된 도면을 참조하여 설명하기로 한다. 이 과정에서 도면에 도시된 선들의 두께나 구성요소의 크기 등은 설명의 명료성과 편의상 과장되게 도시되어 있을 수 있다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In this process, the thickness of the lines or the size of components shown in the drawings may be exaggerated for clarity and convenience of description.

또한, 후술되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로서 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례에 따라 달라질 수 있다. 그러므로 이러한 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 하여 내려져야 할 것이다.In addition, terms to be described later are terms defined in consideration of functions in the present invention and may vary according to the intention or custom of users or operators. Therefore, definitions of these terms should be made based on the contents throughout the present specification.

아울러, 아래의 실시 예는 본 발명의 권리범위를 한정하는 것이 아니라 본 발명의 청구범위에 제시된 구성요소의 예시적인 사항에 불과하며, 본 발명의 명세서 전반에 걸친 기술사상에 포함되고 청구범위의 구성요소에서 균등물로서 치환 가능한 구성요소를 포함하는 실시 예는 본 발명의 권리범위에 포함될 수 있다.In addition, the following examples are not intended to limit the scope of the present invention, but are merely illustrative of the elements presented in the claims of the present invention, and are included in the technical idea throughout the specification of the present invention and the composition of the claims. Embodiments including elements that can be substituted as equivalents in elements may be included in the scope of the present invention.

첨부된 도 1은 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 측정 장치의 개략적인 구성도, 도 2 내지 3은 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 측정 장치의 개략적인 작동상태를 나타낸 구성도, 도 4는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 초퍼 휠의 정면도, 도 5는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 측정 장치의 개략적인 작동 시스템을 나타낸 블록도, 도 6 내지 9는 본 발명의 발람직한 일실시예에 따른 EUV 광용 펠리클(pellicle)의 투과율 및 평탄도를 측정하는 측정 방법을 나타낸 순서도이다. 1 is a schematic configuration diagram of a measuring device according to a preferred embodiment of the present invention, Figures 2 to 3 is a configuration diagram showing a schematic operating state of the measuring device according to a preferred embodiment of the present invention, Figure 4 Is a front view of a chopper wheel according to a preferred embodiment of the present invention, Figure 5 is a block diagram showing a schematic operation system of a measuring device according to a preferred embodiment of the present invention, Figures 6 to 9 are preferred embodiments of the present invention It is a flow chart showing a measuring method for measuring the transmittance and flatness of the EUV light pellicle according to an embodiment.

도 1 이하에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 측정 장치(10)는 EUV 광의 광량과 펠리클(20)에 의해 투과된 EUV 광의 광량을 측정하는 측정부(100)와, 상기 측정부(100)가 내부에 구비되어 진공을 유지하는 진공챔버(200)와, 상기 측정부(100)에 의해 측정된 광량을 검출하는 검출부(300)를 포함하여 이루어져 EUV 광용 펠리클(pellicle)의 투과율 및 평탄도를 측정한다. 1, the measuring device 10 according to the present invention includes a measuring unit 100 for measuring the amount of EUV light and the amount of EUV light transmitted by the pellicle 20, and the measuring unit 100 Is provided inside the vacuum chamber 200 for maintaining a vacuum, and a detection unit 300 for detecting the amount of light measured by the measurement unit 100 to determine the transmittance and flatness of a pellicle for EUV light. Measure.

이때, 상기 측정부(100)는 상기 EUV 광이 출력되는 광원부(110)와, 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광의 기준광량(L1)을 실시간으로 측정하는 제1광학부(120)와, 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광이 상기 펠리클(20)을 통해 투과된 비교광량(L2)을 실시간으로 측정하는 제2광학부(130)와, 상기 펠리클(20)을 지지하면서 x, y 축으로 이동되어 펠리클(20)의 전면적에 대해 스캐닝할 수 있도록 하는 스테이지부(140)를 포함하여 이루어진다. In this case, the measurement unit 100 includes a light source unit 110 to which the EUV light is output, and a first optical unit 120 that measures a reference amount of light L1 of the EUV light output from the light source unit 110 in real time, A second optical unit 130 that measures the amount of comparative light L2 transmitted through the pellicle 20 through the EUV light output from the light source unit 110 in real time, and x, y while supporting the pellicle 20 It includes a stage unit 140 that is moved to the axis so that the entire area of the pellicle 20 can be scanned.

또한, 상기 제1광학부(120)는 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광을 반사시키거나 통과시키는 초퍼 휠(chopper wheel)(121)과, 상기 광원부(110)에서 출력되어 상기 초퍼 휠(121)에 의해 반사된 EUV 광을 수집하여 측정하는 제1감지기(122)를 포함하여 이루어진다.In addition, the first optical unit 120 includes a chopper wheel 121 that reflects or passes the EUV light output from the light source unit 110, and the chopper wheel 121 is output from the light source unit 110 It comprises a first detector 122 for collecting and measuring the EUV light reflected by 121).

그리고 상기 제2광학부(130)는 상기 광원부(110)에서 출력되어 상기 초퍼 휠(121)을 통과한 EUV 광을 상기 펠리클(20)로 반사시키는 반사거울(131)과, 상기 펠리클(20)을 통해 투과된 EUV 광을 수집하여 측정하는 제2감지기(132)를 포함하여 이루어진다. In addition, the second optical unit 130 reflects the EUV light output from the light source unit 110 and passed through the chopper wheel 121 to the pellicle 20, and the pellicle 20 It comprises a second detector 132 for collecting and measuring the EUV light transmitted through.

또한, 상기 검출부(300)는 상기 제1감지기(122) 및 제2감지기(132)에서 검출된 값을 비교하여 상기 펠리클(20)의 투과율을 측정하는 제1연산부(310)와, 상기 제1연산부(310)에서 측정된 펠리클(20)의 전면적에 대한 투과율을 통해 상기 펠리클(20)의 평탄도(uniformity)를 측정하는 제2연산부(320)를 포함하여 이루어진다.In addition, the detection unit 300 includes a first calculation unit 310 configured to measure the transmittance of the pellicle 20 by comparing values detected by the first sensor 122 and the second sensor 132, and the first It comprises a second calculation unit 320 for measuring the uniformity (uniformity) of the pellicle 20 through the transmittance of the entire area of the pellicle 20 measured by the calculation unit 310.

또한, 상기 투과율은 아래의 [수학식1]을 만족한다.In addition, the transmittance satisfies the following [Equation 1].

[수학식1][Equation 1]

투과율(T1)=[비교광량(L2)/기준광량(L1)]*100%Transmittance (T1)=[Comparative amount of light (L2)/Standard amount of light (L1)]*100%

또한, 상기 검출부(300)는 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광으로부터 상기 제1감지기(122)에서 측정된 광량(L1)과 상기 펠리클(20)이 장착되지 않은 상태에서 상기 제2감지기(132)에서 측정된 광량(L3)을 비교하여 각각의 광량에 대한 측정값이 동일하도록 보정값을 생성하는 보정값 생성부(미도시)를 더 포함할 수 있다.In addition, the detection unit 300 includes the amount of light L1 measured by the first detector 122 from the EUV light output from the light source unit 110 and the second detector (in a state where the pellicle 20 is not mounted). It may further include a correction value generator (not shown) that compares the light amount L3 measured at 132 and generates a correction value so that the measured value for each light amount is the same.

즉, 상기 펠리클(20)이 장착되지 않은 상태에서 상기 제1감지기(122)와 제2감지기(132)에 측정된 광량을 비교함으로써 상기 초퍼 휠(121)의 반사영역(121a)과 상기 반사거울(131) 각각의 반사율에 따른 차이를 보정하는 보정값을 생성할 수 있다.That is, by comparing the amount of light measured by the first detector 122 and the second detector 132 in a state in which the pellicle 20 is not mounted, the reflective area 121a of the chopper wheel 121 and the reflective mirror (131) A correction value for correcting a difference according to each reflectance may be generated.

따라서 상기 제1연산부(310)는 상기 보정값 생성부에서 생성된 보정값을 적용하여 상기 펠리클(20)의 투과율을 측정할 수 있다.Accordingly, the first calculating unit 310 may measure the transmittance of the pellicle 20 by applying the correction value generated by the correction value generating unit.

예를 들어, 상기 보정값은 아래의 [수학식2]를 만족할 때,For example, when the correction value satisfies the following [Equation 2],

[수학식2][Equation 2]

보정값(C)=L1-L3Correction value (C) = L1-L3

상기 보정값이 적용된 투과율은 아래의 [수학식3]을 만족한다.The transmittance to which the correction value is applied satisfies [Equation 3] below.

[수학식3][Equation 3]

투과율(T2)=(비교광량(L2)+C/기준광량(L1))*100%Transmittance (T2) = (Comparative amount of light (L2)+C/Standard amount of light (L1))*100%

한편, 상기 스테이지부(140)는 상기 펠리클(20)을 지지하는 스테이지(141)와, 상기 스테이지(141)를 x축으로 구동하는 x축 구동부(142)와, 상기 스테이지(141)를 y축으로 구동하는 y축 구동부(143)를 포함하여 이루어지고 상기 스테이지(141)에는 진공용 관통공(141a)이 형성되어 상기 관통공(141a) 상에 상기 펠리클(20)이 구비된다. Meanwhile, the stage unit 140 includes a stage 141 supporting the pellicle 20, an x-axis driving unit 142 driving the stage 141 in an x-axis, and a y-axis of the stage 141 It includes a y-axis driving unit 143 that is driven by the stage 141 and a vacuum through hole 141a is formed in the stage 141 to provide the pellicle 20 on the through hole 141a.

따라서 상기 제2감지기(132)는 상기 스테이지(141)의 진공용 관통공(141a)과 대응되도록 상기 스테이지부(140)의 하부측에 구비된다.Accordingly, the second detector 132 is provided on the lower side of the stage part 140 to correspond to the vacuum through hole 141a of the stage 141.

즉, 상기 측정부(100)는 상기 광원부(110)가 일측에 배치되어 타측방향으로 EUV 광이 출력되고, 상기 EUV 광이 입사되도록 상기 광원부(110)의 타측에 상기 반사거울(131)이 배치된다.That is, in the measurement unit 100, the light source unit 110 is disposed on one side so that EUV light is output in the other direction, and the reflection mirror 131 is disposed on the other side of the light source unit 110 so that the EUV light is incident. do.

또한, 상기 광원부(110)와 반사거울(131) 사이에 상기 초퍼 휠(121)이 배치되어 상기 초퍼 휠(121)의 타측에 상기 반사거울(131)이 구비된다. In addition, the chopper wheel 121 is disposed between the light source unit 110 and the reflective mirror 131, and the reflective mirror 131 is provided on the other side of the chopper wheel 121.

이때, 상기 초퍼 휠의 축방향 중심축은 상기 광원부(110)와 반사거울(131) 사이에 형성된 임의의 광축과 이격되어 배치된다.At this time, the central axis in the axial direction of the chopper wheel is disposed to be spaced apart from an arbitrary optical axis formed between the light source unit 110 and the reflective mirror 131.

따라서 상기 초퍼 휠(121)의 소정의 일측면에 광원부(110)에서 나오는 EUV광이 입사된다. Accordingly, EUV light emitted from the light source unit 110 is incident on one side of the chopper wheel 121.

또한, 상기 반사거울(131)의 하부측에 상기 스테이지부(140)가 배치되며, 상기 스테이지부(140)에 상기 펠리클(20)이 구비된다.In addition, the stage part 140 is disposed under the reflective mirror 131, and the pellicle 20 is provided in the stage part 140.

그리고 상기 스테이지부(140)의 하부측에 상기 제2감지기(132)가 배치되어 상기 펠리클(20)을 투과한 EUV광이 상기 제2감지기(132)로 입사된다.Further, the second detector 132 is disposed under the stage unit 140 so that the EUV light transmitted through the pellicle 20 is incident on the second detector 132.

또한, 상기 초퍼 휠(121)에서 반사된 EUV 광이 입사되도록 상기 제1감지기(122)는 상기 초퍼 휠(121)의 일측 소정 위치에서 상기 광원부(110)와 이격되도록 배치된다. In addition, the first detector 122 is disposed to be spaced apart from the light source unit 110 at a predetermined position on one side of the chopper wheel 121 so that the EUV light reflected from the chopper wheel 121 is incident.

한편, 상기 제1광학부(120)는 상기 초퍼 휠(121)을 회전시키는 구동모터(미도시)를 더 포함한다.Meanwhile, the first optical unit 120 further includes a driving motor (not shown) for rotating the chopper wheel 121.

그리고 상기 초퍼 휠(121)은 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광을 상기 제1감지기(122)로 반사시키는 반사영역(121a)과, 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광이 상기 반사거울(131)로 입사되도록 통과되는 관통영역(121b)이 형성된다.In addition, the chopper wheel 121 reflects the EUV light output from the light source unit 110 to the first detector 122 and the EUV light output from the light source unit 110 is the reflective mirror. A through region 121b that passes through so as to be incident on 131 is formed.

또한, 상기 초퍼 휠(121)은 원형의 형상으로 구비되는 것이 바람직하며, 상기 반사영역(121a)과 관통영역(121b)은 번갈아 형성되어, 상기 초퍼 휠(121)이 회전함에 따라 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광이 상기 반사영역(121a)과 관통영역(121b)에 순차 반복적으로 입사된다. In addition, the chopper wheel 121 is preferably provided in a circular shape, and the reflective area 121a and the penetrating area 121b are formed alternately, so that the light source unit 110 is rotated as the chopper wheel 121 rotates. The EUV light output from) is sequentially and repeatedly incident on the reflective region 121a and the through region 121b.

이때, 상기 반사영역(121a)과 관통영역(121b)은 다수개 형성되어 순차 반복적으로 형성된다.In this case, a plurality of the reflective regions 121a and the through regions 121b are formed and sequentially and repeatedly formed.

본 발명의 일실시예로써 상기 초퍼 휠(121)에는 초퍼 휠(121)의 중심을 기준으로 방사상 등간격으로 가상의 구획선이 4개 형성될 때, 각각의 구획선에 의해 형성된 4개의 영역에는 2개의 반사영역(121a-1,121a-2)과 2개의 관통영역(121b-1,121b-2)이 형성되고, 제1반사영역(121a-1)과 제2반사영역(121a-2) 사이에 제1관통영역(121b-1)과 제2관통영역(121b-2)이 형성되도록 배치되는 것이 바람직하다. As an embodiment of the present invention, when four virtual division lines are formed at equal intervals radially with respect to the center of the chopper wheel 121 on the chopper wheel 121, the four areas formed by each division line have two The reflective areas 121a-1 and 121a-2 and the two through areas 121b-1 and 121b-2 are formed, and a first reflective area 121a-1 and the second reflective area 121a-2 are formed. It is preferable that the through region 121b-1 and the second through region 121b-2 are formed.

또한, 상기 구획선은 4개 이상 형성되어 상기 초퍼 휠(121)을 더 많은 반사영역(121a)과 관통영역(121b) 구분하여 구성할 수 있다.In addition, four or more division lines may be formed to divide the chopper wheel 121 into more reflective areas 121a and through areas 121b.

즉, 상기 초퍼 휠(121)의 반사영역(121a)과 관통영역(121b)의 개수와 회전수를 증가시킴으로써 더 많은 반사빔과 관통빔을 비교 측정할 수 있다.That is, by increasing the number and number of rotations of the reflective area 121a and the through area 121b of the chopper wheel 121, more reflected and through beams can be compared and measured.

이때, 상기 반사영역(121a)에는 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광을 반사시키는 반사체가 부착되고, 상기 관통영역(121b)에는 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광이 통과되도록 관통구멍이 형성된다.In this case, a reflector for reflecting the EUV light output from the light source unit 110 is attached to the reflective area 121a, and a through hole is provided in the through area 121b to allow the EUV light output from the light source unit 110 to pass. Is formed.

또한, 상기 반사체는 상기 반사거울(131)과 동일 사양으로서 반사량은 동일하다. In addition, the reflector has the same specifications as the reflective mirror 131 and has the same amount of reflection.

또한, 상기 초퍼 휠(121)은 광축과 수직한 면에 대해 4˚~8˚ 기울어져 구비될 수 있으며, 상기 초퍼 휠(121)은 6˚ 기울어져 구비되는 것이 바람직하다.In addition, the chopper wheel 121 may be provided at an angle of 4° to 8° with respect to a surface perpendicular to the optical axis, and the chopper wheel 121 is preferably provided at an angle of 6°.

따라서 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광은 초퍼 휠(121)에 4˚~8˚의 각도로 입사되며, 상기 반사영역(121a)의 반사체에 반사된 EUV 광은 -4˚~-8˚의 각도로 반사되어 상기 제1감지기(122)에 입사된다. Accordingly, the EUV light output from the light source unit 110 is incident on the chopper wheel 121 at an angle of 4° to 8°, and the EUV light reflected by the reflector in the reflective area 121a is -4° to -8° It is reflected at an angle of and is incident on the first detector 122.

또한, 상기 구동모터에는 모터 회전축의 회전각도 및 회전수를 검출하는 엔코더가 장착되되, 상기 스테이지부(140)는, 상기 초퍼 휠(121)이 회전되어 반사영역(121a)에 EUV 광이 입사될 때의 엔코더 신호값을 통해 상기 x축 및 y축 구동부(142,143)를 구동시키는 스테이지 구동 제어부(미도시)를 더 포함하여 이루어진다.In addition, the drive motor is equipped with an encoder that detects the rotation angle and rotation speed of the motor rotation shaft, and the stage unit 140 rotates the chopper wheel 121 so that EUV light is incident on the reflection area 121a. It further includes a stage driving control unit (not shown) for driving the x-axis and y-axis driving units 142 and 143 through the encoder signal value.

따라서 상기 구동모터에는 엔코더(encoder)가 장착되어 제어함으로써 초퍼 휠(121)을 동등한 툴로 회전시켜 EUV 광의 투과 및 반사에 대한 동기를 일정하게 맞출 수 있다. Accordingly, an encoder is mounted and controlled in the driving motor, so that the chopper wheel 121 can be rotated with an equivalent tool so that the synchronization for transmission and reflection of EUV light can be uniformly adjusted.

즉 상기 초퍼 휠(121)을 반사영역(121a)과 관통영역(121b)으로 구획한 후, 회전시킴으로써 실시간으로 기준광량과 비교 광량을 측정하여 비교함으로써 펠리클(20)의 투과도를 측정할 수 있다. That is, the chopper wheel 121 is divided into a reflective area 121a and a penetrating area 121b, and then rotated to measure and compare the reference light amount and the comparative light amount in real time, thereby measuring the transmittance of the pellicle 20.

또한, 상기 스테이지(141)를 x축, y축 방향으로 구동시키면서 상기 펠리클(20)의 전면적에 대한 투과율을 측정할 수 있음과 동시에, 펠리클(20)의 전면적에 대한 투과율을 통해 평면도(uniformity) 또한 측정할 수 있다. In addition, it is possible to measure the transmittance of the entire area of the pellicle 20 while driving the stage 141 in the x-axis and y-axis directions, and uniformity through the transmittance of the entire area of the pellicle 20 It can also be measured.

즉, 일실시예로써 상기 펠리클(20)을 전면적에 대해 일정간격으로 구획하여 x축, y축에 대한 좌표[(Xi,Yj), 이때 (i=1,2,…,n),(j=1,2,…,m)]을 설정하고, 좌표(X1,Y1)의 위치에서 비교광량(L2)을 측정한 후, 상기 초퍼 휠(121)을 1/4(90˚) 회전하여 기준광량(L1)을 측정하여 펠리클(20)의 (X1,Y1)에 대응되는 위치에서의 투과율을 측정한다.That is, as an embodiment, by dividing the pellicle 20 at regular intervals with respect to the entire area, the coordinates for the x-axis and y-axis [(Xi,Yj), where (i=1,2,...,n),(j =1,2,...,m)], measure the comparative light amount (L2) at the coordinates (X1, Y1), and rotate the chopper wheel 121 by 1/4 (90˚) The amount of light (L1) is measured to measure the transmittance at a position corresponding to (X1, Y1) of the pellicle 20.

그리고 좌표 (X1,Y1)에서의 기준광량(L1)을 측정할 때, 상기 스테이지(141)를 이동시키며, 좌표 (X1,Y1)에서의 기준광량(L1)을 측정한 후, 초퍼 휠(121)을 1/4(90˚) 회전하여 좌표 (X2,Y1)에 대응되는 구역의 비교광량(L2)을 측정한다.And when measuring the reference light amount L1 at the coordinates (X1, Y1), the stage 141 is moved, and after measuring the reference light amount L1 at the coordinates (X1, Y1), the chopper wheel 121 ) Is rotated by 1/4 (90˚) to measure the comparative light intensity (L2) of the area corresponding to the coordinates (X2,Y1).

또한, 좌표 (X2,Y1)에 대응되는 구역의 비교광량(L2)을 측정한 후, 상기 초퍼 휠(121)을 1/4(90˚) 회전하여 기준광량(L1)을 측정하여 펠리클(20)의 (X2,Y1)에 대응되는 위치에서의 투과율을 측정하며, 상기와 같은 과정을 반복함으로써 상기 펠리클(20)의 전면적에 대한 투과율을 측정할 수 있다.In addition, after measuring the comparative light amount (L2) of the area corresponding to the coordinates (X2, Y1), rotate the chopper wheel 121 by 1/4 (90°) to measure the reference light amount (L1), and the pellicle 20 The transmittance at a position corresponding to (X2, Y1) of) is measured, and the transmittance of the entire area of the pellicle 20 can be measured by repeating the above process.

따라서 펠리클(20)의 투과율을 측정할 때, 실시간으로 비교광량(L2)→기준광량(L1)을 반복 측정(바로 이전의 레이저를 이용하여 광량을 비교)하기 때문에 레이저의 시간에 따른 광량변화의 오차를 줄여 측정된 투과율을 정확성과 신뢰성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.Therefore, when measuring the transmittance of the pellicle 20, since the comparison light amount (L2) → reference light amount (L1) is repeatedly measured in real time (the amount of light is compared using the previous laser) There is an effect of reducing the error and improving the accuracy and reliability of the measured transmittance.

즉, 상기 펠리클(20)의 투과율이 작으면 반도체 공정에 있어 효율이 떨어지고, 평면도가 좋지 않으면 펠리클(20)을 통하여 EUV용 마스크(mask)로 입사되는 빔의 광량이 각기 달라 마스크(mask)에서 반사되는 빔의 양이 달라져 웨이퍼(wafer)에 도달하는 광량이 변화하여 패턴형상에 영향을 끼치게 된다. That is, if the transmittance of the pellicle 20 is low, the efficiency in the semiconductor process decreases, and if the flatness is not good, the amount of light incident on the EUV mask through the pellicle 20 is different from each other. The amount of reflected beam is changed, so that the amount of light reaching the wafer is changed, which affects the pattern shape.

따라서 본 발명은 초퍼 휠(121)을 회전시켜 광원부(110)로부터 출력되는 EUV광을 반사시키거나 통과시켜 기준광량→비교광량→기준광량→비교광량→기준광량…을 순차 반복적으로 기준광량과 비교광량의 데이터를 실시간으로 비교함으로써 펠리클(20)의 투과도를 측정하여 측정 정확도와 신뢰성을 향상시킬 수 있다. Therefore, the present invention rotates the chopper wheel 121 to reflect or pass the EUV light output from the light source unit 110 so that the reference light amount → the comparative light amount → the reference light amount → the comparative light amount → the reference light amount ... The transmittance of the pellicle 20 is measured by sequentially and repeatedly comparing data of the reference light amount and the comparative light amount in real time, thereby improving measurement accuracy and reliability.

한편, 상기 측정 장치를 이용한 펠리클(pellicle)의 투과율을 측정하는 측정 방법은 a, 상기 진공챔버(200)의 내부를 진공으로 형성하는 단계(S110)와, b, 상기 스테이지(141)에 상기 펠리클(20)을 장착하는 단계(S120)와, c, 상기 광원부(110)로부터 EUV 광이 출력되는 단계(S130)와, d, 상기 초퍼 휠(121)에 의해 순차 반복적으로 투과 및 반사되어 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광을 제1감지기(122)와 제2감지기(132)에 전사시키는 단계(S140)와, e, 상기 검출부(300)의 제1연산부(310)를 통해 상기 펠리클(20)의 전면적에 대한 투과율을 측정하는 단계(S150)를 포함하여 이루어진다.On the other hand, the measuring method of measuring the transmittance of a pellicle using the measuring device includes: a, forming the inside of the vacuum chamber 200 with a vacuum (S110), and b, the stage 141 with the pellicle (20) mounting (S120), c, outputting EUV light from the light source unit 110 (S130), and d, sequentially and repeatedly transmitted and reflected by the chopper wheel 121 to the light source unit Transferring the EUV light output from (110) to the first detector 122 and the second detector 132 (S140) and e, through the first calculation unit 310 of the detection unit 300, the pellicle ( 20) and measuring the transmittance of the entire area (S150).

또한, 상기 d 단계(S140)는, d-1. 상기 펠리클(20)의 투과율을 측정하기 위한 초기상태로 세팅하는 단계(S141)와, d-2, 상기 초퍼 휠(121)의 관통영역(121b)에 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광이 통과되는 단계(S142)와, d-3, 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광이 상기 초퍼 휠(121)의 반사영역(121a)에 입사되도록 초퍼 휠(121)을 회전시키는 단계(S143)와, d-4, 상기 스테이지 구동 제어부의 제어를 통해 상기 x축 또는 y축 구동부(142,143)를 구동시켜 상기 스테이지(141)를 이동시키는 단계(S144)와, d-5. 상기 초퍼 휠(121)의 반사영역(121a)에 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광이 입사되는 단계(S145)와, d-6, 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광이 상기 초퍼 휠(121)의 관통영역(121a)에 입사되도록 초퍼 휠(121)을 회전시키는 단계(S146)와, d-7, 상기 d-2 단계와 d-6 단계를 반복실행 하는 단계를 포함한다.In addition, the d step (S140), d-1. Setting the transmittance of the pellicle 20 to an initial state (S141), and d-2, the EUV light output from the light source unit 110 in the through region 121b of the chopper wheel 121 Passing (S142) and d-3, rotating the chopper wheel 121 so that the EUV light output from the light source unit 110 is incident on the reflective area 121a of the chopper wheel 121 (S143) And, d-4, step of moving the stage 141 by driving the x-axis or y-axis driving units 142 and 143 through the control of the stage driving control unit (S144), and d-5. In step S145, the EUV light output from the light source unit 110 is incident on the reflective area 121a of the chopper wheel 121, and d-6, the EUV light output from the light source unit 110 is converted into the chopper wheel. (S146) rotating the chopper wheel 121 so as to be incident on the penetrating region 121a of (121), and repeating steps d-7, d-2 and d-6.

또한, 상기 d-1 단계(S141)는 d-1-1, 상기 펠리클(20)을 일정간격으로 구획하여 x축, y축에 대한 좌표(Xi,Yj)를 설정하는 단계와, d-1-2, 상기 스테이지(141)를 구동시켜 상기 펠리클(20)의 제1좌표(X1,Y1)에 EUV 광이 투과되도록 세팅하는 단계와, d-1-3, 상기 초퍼 휠(121)의 관통영역(121a)에 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광이 입사되도록 세팅하는 단계를 포함한다.In addition, the step d-1 (S141) is d-1-1, the step of setting the coordinates (Xi, Yj) for the x-axis and y-axis by dividing the pellicle 20 at regular intervals, d-1 -2, setting the first coordinates (X1, Y1) of the pellicle 20 to transmit EUV light by driving the stage 141, and d-1-3, penetrating the chopper wheel 121 And setting the EUV light output from the light source unit 110 to be incident on the region 121a.

또한, 상기 d-2 단계(S142)는 d-2-1, 상기 관통영역(121b)에 입사된 EUV 광이 통과되는 단계(S142-1)와, d-2-2, 상기 관통영역(121b)에 통과된 EUV 광이 상기 반사거울(131)에 입사되는 단계(S142-2)와, d-2-3, 상기 반사거울(131)에 입사된 EUV 광이 반사되어 상기 펠리클(20)로 입사되는 단계(S142-3)와, d-2-4, 상기 펠리클(20)로 입사된 EUV 광은 펠리클(20)을 투과하여 상기 스테이지(141)의 하부측에 구비된 상기 제2감지기(132)로 입사되는 단계(S142-4)와, d-2-5, 상기 제2감지기(132)에서 검출된 광량을 측정하는 단계(S142-5)를 포함한다.In addition, the step d-2 (S142) is d-2-1, the step of passing EUV light incident on the through region 121b (S142-1), and d-2-2, the through region 121b ), the EUV light passed through the reflective mirror 131 is incident on the reflective mirror 131 (S142-2), and d-2-3, the EUV light incident on the reflective mirror 131 is reflected to the pellicle 20. In step S142-3, d-2-4, the EUV light incident on the pellicle 20 passes through the pellicle 20, and the second detector provided on the lower side of the stage 141 ( Step 132) (S142-4), d-2-5, and measuring the amount of light detected by the second detector 132 (S142-5).

또한, 상기 d-3 단계(S143)는 d-3-1, 상기 반사영역(121a)에 입사된 EUV 광이 반사되는 단계(S143-1)와, d-3-2, 상기 반사영역(121a)에서 반사된 EUV 광이 상기 제1감지기(122)로 입사되는 단계(S143-2)와, d-3-3, 상기 제1감지기(122)에서 검출된 광량을 측정하는 단계(S143-3)를 포함한다. In addition, the d-3 step (S143) includes d-3-1, the step of reflecting EUV light incident on the reflective area 121a (S143-1), and d-3-2, the reflective area 121a ), the EUV light reflected from the first detector 122 is incident (S143-2), d-3-3, and measuring the amount of light detected by the first detector 122 (S143-3) ).

또한, 상기 e 단계(S150) 이후에, f, 상기 검출부(300)의 제2연산부(320)를 통해 펠리클(20)의 평면도를 측정하는 단계를 더 포함한다. In addition, after step e (S150), f, measuring the plane of the pellicle 20 through the second calculation unit 320 of the detection unit 300 is further included.

또한, 상기 b 단계(S120) 이전에, b-1, 상기 초퍼 휠(121)의 반사영역(121a)에 상기 광원부(110)로부터 EUV 광이 출력되는 단계와, b-2, 상기 반사영역(121a)에 의해 반사된 EUV 광의 광량을 제1감지기(122)를 통해 측정하는 단계와, b-3, 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광이 상기 초퍼 휠(121)의 관통영역(121b)에 입사되도록 초퍼 휠(121)을 회전시키는 단계와, b-4, 상기 반사거울(131)에 의해 반사된 EUV 광의 광량을 제2감지기(132)를 통해 측정하는 단계와, b-5, 상기 보정값 생성부를 통해 상기 반사거울(131)과 반사영역(121a)에 의해 반사된 EUV 광의 광량을 비교하여 보정값을 생성하는 단계를 포함한다.In addition, before step b (S120), b-1, the step of outputting EUV light from the light source unit 110 to the reflective area 121a of the chopper wheel 121, b-2, the reflective area ( Measuring the amount of EUV light reflected by 121a) through the first detector 122, and b-3, the EUV light output from the light source unit 110 is passed through the chopper wheel 121 in the through area 121b The step of rotating the chopper wheel 121 to be incident on, b-4, measuring the amount of EUV light reflected by the reflective mirror 131 through the second detector 132, b-5, the And generating a correction value by comparing the amount of EUV light reflected by the reflection mirror 131 and the reflection region 121a through a correction value generator.

또한, 상기 e 단계(S150)는, e-1, 상기 제1연산부(310)는 상기 보정값 생성부에서 생성된 보정값을 적용하여 상기 펠리클(20)의 투과율을 측정하는 단계를 포함한다.In addition, step e (S150) includes the step of measuring the transmittance of the pellicle 20 by applying the correction value generated by the correction value generating unit e-1, in the first operation unit 310.

이상 본 발명을 구체적인 실시 예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함이 명백하다.Although the present invention has been described in detail through specific embodiments, this is for explaining the present invention in detail, and the present invention is not limited thereto, and within the technical idea of the present invention, those of ordinary skill in the art It is clear that modifications or improvements are possible.

본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 모두 본 발명의 범주에 속하는 것으로 본 발명의 구체적인 보호 범위는 첨부된 특허청구범위에 의해 명확해질 것이다.All simple modifications to changes of the present invention belong to the scope of the present invention, and the specific scope of protection of the present invention will be made clear by the appended claims.

10 : 측정 장치 20 : 펠리클(pellicle)
100 : 측정부 110 : 광원부
120 : 제1광학부 121 : 초퍼 휠
121a : 반사영역 121b : 관통영역
122 : 제1감지기 130 : 제2광학부
131 : 반사거울 132 : 제2감지기
140 : 스테이지부 141 : 스테이지
141a : 진공용 관통공 142 : x축 구동부
143 : y축 구동부 200 : 진공챔버
300 : 검출부 310 : 제1연산부
320 : 제2연산부 10: measuring device 20: pellicle
100: measurement unit 110: light source unit
120: first optical unit 121: chopper wheel
121a: reflective area 121b: penetrating area
122: first detector 130: second optical department
131: reflective mirror 132: second detector
140: stage unit 141: stage
141a: vacuum through hole 142: x-axis drive unit
143: y-axis driving unit 200: vacuum chamber
300: detection unit 310: first calculation unit
320: second calculation unit

Claims (15)

EUV(Extreme ultraviolet) 광용 펠리클(pellicle)의 투과율 및 평탄도를 측정하는 측정 장치에 있어서,
상기 측정 장치(10)는,
상기 EUV 광의 광량과 펠리클(20)에 의해 투과된 EUV 광의 광량을 측정하는 측정부(100)와,
상기 측정부(100)가 내부에 구비되어 진공을 유지하는 진공챔버(200)와,
상기 측정부(100)에 의해 측정된 광량을 검출하는 검출부(300)를 포함하고
상기 측정부(100)는,
상기 EUV 광이 출력되는 광원부(110)와,
상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광의 기준광량을 실시간으로 측정하는 제1광학부(120)와,
상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광이 상기 펠리클(20)을 통해 투과된 비교광량을 실시간으로 측정하는 제2광학부(130)와,
상기 펠리클(20)을 지지하면서 x, y 축으로 이동되어 펠리클(20)의 전면적에 대해 스캐닝할 수 있도록 하는 스테이지부(140)를 포함하며
상기 제1광학부(120)는,
상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광을 반사시키거나 통과시키는 초퍼 휠(chopper wheel)(121)과, 상기 광원부(110)에서 출력되어 상기 초퍼 휠(121)에 의해 반사된 EUV 광을 수집하여 측정하는 제1감지기(122)를 포함하여 이루어지되,
상기 제2광학부(130)는,
상기 광원부(110)에서 출력되어 상기 초퍼 휠(121)을 통과한 EUV 광을 상기 펠리클(20)로 반사시키는 반사거울(131)과, 상기 펠리클(20)을 통해 투과된 EUV 광을 수집하여 측정하는 제2감지기(132)를 포함하고
상기 검출부(300)는,
상기 제1감지기(122) 및 제2감지기(132)에서 검출된 값을 비교하여 상기 펠리클(20)의 투과율을 측정하는 제1연산부(310)와,
상기 제1연산부(310)에서 측정된 펠리클(20)의 전면적에 대한 투과율을 통해 상기 펠리클(20)의 평탄도(uniformity)를 측정하는 제2연산부(320)를 포함하며
상기 제1광학부(120)는,
상기 초퍼 휠(121)을 회전시키는 구동모터(미도시)를 더 포함하되, 상기 초퍼 휠(121)은,
상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광을 상기 제1감지기(122)로 반사시키는 반사영역(121a)과,
상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광이 상기 반사거울(131)로 입사되도록 통과되는 관통영역(121b)이 형성되고
상기 스테이지부(140)는,
상기 펠리클(20)을 지지하는 스테이지(141)와,
상기 스테이지(141)를 x축으로 구동하는 x축 구동부(142)와,
상기 스테이지(141)를 y축으로 구동하는 y축 구동부(143)를 포함하되,
상기 스테이지(141)에는 진공용 관통공(141a)이 형성되어 상기 관통공(141a) 상에 상기 펠리클(20)이 구비되며
상기 제2감지기(132)는 상기 스테이지(141)의 진공용 관통공(141a)과 대응되도록 상기 스테이지부(140)의 하부측에 구비되고
상기 구동모터에는 모터 회전축의 회전각도 및 회전수를 검출하는 엔코더가 장착되되, 상기 스테이지부(140)는,
상기 초퍼 휠(121)이 회전되어 반사영역(121a)에 EUV 광이 입사될 때의 엔코더 신호값을 통해 상기 x축 및 y축 구동부(142,143)를 구동시키는 스테이지 구동 제어부(미도시)를 더 포함하고
상기 검출부(300)는,
상기 반사영역(121a)에 의해 반사된 EUV 광이 제1감지기(122)를 통해 측정된 광량과, 상기 펠리클(20)이 장착되지 않은 상태에서 상기 반사거울(131)에 의해 반사된 EUV 광이 제2감지기(132)를 통해 측정된 광량을 통해,
상기 반사영역(121a)과 상기 반사거울(131)에서 반사된 광량이 동일하도록 보정값을 생성하는 보정값 생성부(미도시)를 더 포함하되,
상기 제1연산부(310)는 상기 보정값 생성부에서 생성된 보정값을 적용하여 상기 펠리클(20)의 투과율을 측정하되
상기 보정값(C)=L1-L3 이며,
상기 보정값이 적용된 투과율(T2)=((L2+C)/L1)*100% 으로 결정하고
(여기서 L1: 기준광량, L2: 비교광량, L3: 제2감지기(132)에서 측정된 광량)
상기 펠리클(20)을 전면적에 대해 일정간격으로 구획하여 x축, y축에 대한 좌표[(Xi,Yj), 여기서 (i=1,2,…,n),(j=1,2,…,m)]을 설정하고, 좌표(X1,Y1)의 위치에서 비교광량(L2)을 측정한 후, 상기 초퍼 휠(121)을 1/4(90˚) 회전하여 기준광량(L1)을 측정하여 펠리클(20)의 (X1,Y1)에 대응되는 위치에서의 투과율을 측정하며,
상기 펠리클의 좌표 (X1,Y1)에 대한 기준광량(L1)을 측정할 때는, 상기 스테이지(141)를 펠리클의 좌표 (X1,Y1)에서 (X2,Y1)로 이동시킬때 좌표 (X1,Y1)에서의 기준광량(L1)을 측정한 후, 초퍼 휠(121)을 1/4(90˚)회전하여 좌표 (X2,Y1)에 대응되는 구역의 비교광량(L2)을 측정하며,상기 초퍼 휠(121)을 1/4(90˚) 회전하여 좌표 (X2,Y1)에 대응되는 기준광량(L1)을 측정하여 펠리클(20)의 (X2,Y1)에 대응되는 위치에서의 투과율을 측정하며, 상기와 같은 과정을 반복함으로써 상기 펠리클(20)의 전면적에 대한 투과율을 측정하고
이에 따라 초퍼 휠(121)을 회전시켜 광원부(110)로부터 출력되는 EUV광을 반사시키거나 통과시켜 펠리클의 각 좌표에서의 기준광량→비교광량→기준광량→비교광량→기준광량…을 순차 반복적으로 기준광량과 비교광량의 데이터를 실시간으로 비교함으로써 펠리클(20)의 투과도를 측정하는 것을 특징으로 하는 측정장치.
In a measuring device for measuring the transmittance and flatness of a pellicle for extreme ultraviolet (EUV) light,
The measuring device 10,
A measuring unit 100 for measuring the amount of EUV light and the amount of EUV light transmitted by the pellicle 20,
A vacuum chamber 200 in which the measuring unit 100 is provided to maintain a vacuum,
Including a detection unit 300 for detecting the amount of light measured by the measurement unit 100,
The measurement unit 100,
A light source unit 110 to which the EUV light is output,
A first optical unit 120 that measures a reference amount of light of EUV light output from the light source unit 110 in real time,
A second optical unit 130 for measuring the amount of comparative light transmitted through the pellicle 20 through the EUV light output from the light source unit 110 in real time;
It includes a stage unit 140 that supports the pellicle 20 and moves in the x, y axis to scan the entire area of the pellicle 20, and
The first optical unit 120,
A chopper wheel 121 for reflecting or passing the EUV light output from the light source unit 110 and the EUV light output from the light source unit 110 and reflected by the chopper wheel 121 are collected. It is made including a first detector 122 to measure,
The second optical unit 130,
A reflective mirror 131 that reflects EUV light output from the light source unit 110 and passed through the chopper wheel 121 to the pellicle 20, and the EUV light transmitted through the pellicle 20 are collected and measured. Including a second detector 132 to
The detection unit 300,
A first calculation unit 310 for measuring the transmittance of the pellicle 20 by comparing the values detected by the first and second detectors 122 and 132;
And a second calculation unit 320 for measuring the uniformity of the pellicle 20 through the transmittance of the pellicle 20 measured by the first calculation unit 310, and
The first optical unit 120,
Further comprising a drive motor (not shown) for rotating the chopper wheel 121, wherein the chopper wheel 121,
A reflective area 121a for reflecting the EUV light output from the light source unit 110 to the first detector 122,
A through region 121b through which EUV light output from the light source unit 110 is incident on the reflective mirror 131 is formed,
The stage unit 140,
A stage 141 supporting the pellicle 20,
An x-axis driving unit 142 that drives the stage 141 along the x-axis,
Including a y-axis driving unit 143 for driving the stage 141 in the y-axis,
The stage 141 is provided with a vacuum through hole 141a, and the pellicle 20 is provided on the through hole 141a,
The second detector 132 is provided on the lower side of the stage unit 140 to correspond to the vacuum through hole 141a of the stage 141
The drive motor is equipped with an encoder that detects the rotation angle and rotation speed of the motor rotation shaft, the stage unit 140,
The chopper wheel 121 further includes a stage driving control unit (not shown) for driving the x-axis and y-axis driving units 142 and 143 through an encoder signal value when EUV light is incident on the reflective area 121a and
The detection unit 300,
The EUV light reflected by the reflective area 121a is measured through the first detector 122 and the EUV light reflected by the reflective mirror 131 when the pellicle 20 is not mounted Through the amount of light measured through the second detector 132,
Further comprising a correction value generating unit (not shown) for generating a correction value so that the amount of light reflected from the reflective area 121a and the reflective mirror 131 is the same,
The first calculation unit 310 measures the transmittance of the pellicle 20 by applying the correction value generated by the correction value generation unit.
The correction value (C) = L1-L3,
Transmittance (T2) = ((L2+C)/L1)*100% to which the correction value is applied, and
(Where L1: reference light amount, L2: comparative light amount, L3: light amount measured by the second detector 132)
The pellicle 20 is divided at regular intervals with respect to the entire area, and coordinates [(Xi,Yj) for the x-axis and y-axis, where (i=1,2,...,n),(j=1,2,... ,m)], measure the comparative light amount (L2) at the coordinates (X1, Y1), and then rotate the chopper wheel 121 1/4 (90˚) to measure the reference light amount (L1). To measure the transmittance at the position corresponding to (X1,Y1) of the pellicle 20,
When measuring the reference light amount (L1) with respect to the coordinates (X1, Y1) of the pellicle, the coordinates (X1, Y1) when moving the stage 141 from the coordinates (X1, Y1) of the pellicle to (X2, Y1) After measuring the reference light amount (L1) at ), rotate the chopper wheel 121 by 1/4 (90°) to measure the comparative light amount (L2) of the area corresponding to the coordinates (X2, Y1), and the chopper By rotating the wheel 121 by 1/4 (90˚), measuring the reference light amount (L1) corresponding to the coordinates (X2, Y1) to measure the transmittance at the position corresponding to (X2, Y1) of the pellicle 20 And, by repeating the above process, the transmittance of the entire area of the pellicle 20 is measured and
Accordingly, by rotating the chopper wheel 121 to reflect or pass the EUV light output from the light source unit 110, the reference light amount at each coordinate of the pellicle → comparative light amount → reference light amount → comparative light amount → reference light amount... A measuring device, characterized in that the transmittance of the pellicle 20 is measured by sequentially and repeatedly comparing data of the reference light amount and the comparative light amount in real time.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 초퍼 휠(121)은 광축과 수직한 면에 대해 4˚~8˚ 기울어져 구비된 것을 특징으로 하는 측정 장치.The method of claim 1,
The chopper wheel 121 is a measuring device, characterized in that provided inclined to 4˚ ~ 8˚ with respect to a plane perpendicular to the optical axis. 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 제2감지기(132)는 상기 스테이지(141)의 진공용 관통공(141a)과 대응되도록 상기 스테이지부(140)의 하부측에 구비된 것을 특징으로 하는 측정 장치. The method of claim 1,
The second detector 132 is a measuring device, characterized in that provided on the lower side of the stage unit 140 to correspond to the vacuum through hole (141a) of the stage (141). 삭제delete 삭제delete 제1항의 측정 장치를 이용한 펠리클(pellicle)의 투과율 측정 방법에 있어서,
a, 상기 진공챔버(200)의 내부를 진공으로 형성하는 단계와,
b, 상기 스테이지(141)에 상기 펠리클(20)을 장착하는 단계와,
c, 상기 광원부(110)로부터 EUV 광이 출력되는 단계와,
d, 상기 초퍼 휠(121)에 의해 순차 반복적으로 투과 및 반사되어 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광을 제1감지기(122)와 제2감지기(132)에 전사시키는 단계와,
e, 상기 검출부(300)의 제1연산부(310)를 통해 상기 펠리클(20)의 전면적에 대한 투과율을 측정하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 측정 방법.
In the method for measuring transmittance of a pellicle using the measuring device of claim 1,
a, forming the inside of the vacuum chamber 200 with a vacuum,
b, mounting the pellicle 20 on the stage 141,
c, the step of outputting EUV light from the light source unit 110,
d, transferring the EUV light sequentially and repeatedly transmitted and reflected by the chopper wheel 121 and output from the light source unit 110 to the first detector 122 and the second detector 132,
e, measuring a transmittance of the entire area of the pellicle 20 through the first calculation unit 310 of the detection unit 300.
제11항에 있어서, 상기 d 단계는,
d-1. 상기 펠리클(20)의 투과율을 측정하기 위한 초기상태로 세팅하는 단계와,
d-2, 상기 초퍼 휠(121)의 관통영역(121b)에 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광이 통과되는 단계와,
d-3, 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광이 상기 초퍼 휠(121)의 반사영역(121a)에 입사되도록 초퍼 휠(121)을 회전시키는 단계와,
d-4, 상기 스테이지 구동 제어부의 제어를 통해 상기 x축 또는 y축 구동부(142,143)를 구동시켜 상기 스테이지(141)를 이동시키는 단계와,
d-5. 상기 초퍼 휠(121)의 반사영역(121a)에 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광이 입사되는 단계와,
d-6, 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광이 상기 초퍼 휠(121)의 관통영역(121a)에 입사되도록 초퍼 휠(121)을 회전시키는 단계와,
d-7, 상기 d-2 단계와 d-6 단계를 반복실행 하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 측정 방법.
The method of claim 11, wherein step d,
d-1. Setting the transmittance of the pellicle 20 to an initial state for measuring the transmittance,
d-2, the step of passing the EUV light output from the light source unit 110 through the through region 121b of the chopper wheel 121,
d-3, rotating the chopper wheel 121 so that the EUV light output from the light source unit 110 is incident on the reflective area 121a of the chopper wheel 121,
d-4, moving the stage 141 by driving the x-axis or y-axis driving units 142 and 143 through the control of the stage driving control unit,
d-5. The EUV light output from the light source unit 110 is incident on the reflective area 121a of the chopper wheel 121,
d-6, rotating the chopper wheel 121 so that the EUV light output from the light source unit 110 is incident on the penetrating region 121a of the chopper wheel 121,
and repeating steps d-7 and d-2 and d-6.
제12항에 있어서, 상기 e 단계 이후에,
f, 상기 검출부(300)의 제2연산부(320)를 통해 펠리클(20)의 평면도를 측정하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 측정 방법.
The method of claim 12, wherein after step e,
f, measuring a plan view of the pellicle 20 through the second calculation unit 320 of the detection unit 300.
제12항에 있어서, 상기 b 단계 이전에,
b-1, 상기 초퍼 휠(121)의 반사영역(121a)에 상기 광원부(110)로부터 EUV 광이 출력되는 단계와,
b-2, 상기 반사영역(121a)에 의해 반사된 EUV 광의 광량을 제1감지기(122)를 통해 측정하는 단계와,
b-3, 상기 광원부(110)에서 출력된 EUV 광이 상기 초퍼 휠(121)의 관통영역(121b)에 입사되도록 초퍼 휠(121)을 회전시키는 단계와,
b-4, 상기 반사거울(131)에 의해 반사된 EUV 광의 광량을 제2감지기(132)를 통해 측정하는 단계와,
b-5, 상기 보정값 생성부를 통해 상기 반사거울(131)과 반사영역(121a)에 의해 반사된 EUV 광의 광량을 비교하여 보정값을 생성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 측정 방법.
The method of claim 12, before step b,
b-1, the step of outputting EUV light from the light source unit 110 to the reflective area 121a of the chopper wheel 121,
b-2, measuring the amount of EUV light reflected by the reflective area 121a through the first detector 122,
b-3, rotating the chopper wheel 121 so that the EUV light output from the light source unit 110 enters the through region 121b of the chopper wheel 121,
b-4, measuring the amount of EUV light reflected by the reflective mirror 131 through the second detector 132,
b-5, generating a correction value by comparing the amount of EUV light reflected by the reflection mirror 131 and the reflection region 121a through the correction value generator.
제14항에 있어서, 상기 e 단계는,
e-1, 상기 제1연산부(310)는 상기 보정값 생성부에서 생성된 보정값을 적용하여 상기 펠리클(20)의 투과율을 측정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 측정 방법.The method of claim 14, wherein step e,
e-1, the first calculating unit 310 measuring the transmittance of the pellicle 20 by applying the correction value generated by the correction value generating unit.
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