KR102154264B1 - 양친매성 고분자를 이용한 소수성 비드의 표면 개질 방법 - Google Patents

양친매성 고분자를 이용한 소수성 비드의 표면 개질 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 양친매성 고분자를 이용한 소수성 비드의 표면 개질 방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 분산도가 향상된 소수성 비드를 제조하기 위한, 고정화기로서 도데실 그룹, 및 기능기로서 PEG 그룹을 갖는 양친매성 고분자를 이용한 소수성 비드의 표면 개질 방법에 관한 것이다.

Description

양친매성 고분자를 이용한 소수성 비드의 표면 개질 방법{Method of modifying the surface of hydrophobic bead with amphiphilic polymer}
본 발명은 양친매성 고분자를 이용한 소수성 비드의 표면 개질 방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 분산도가 향상된 소수성 비드를 제조하기 위한, 고정화기로서 도데실 그룹, 및 기능기로서 PEG 그룹을 갖는 양친매성 고분자를 이용한 소수성 비드의 표면 개질 방법에 관한 것이다.
일반적으로 고분자 및 카본 계열의 비드의 경우 소수성의 특징으로 수용액 상에서 서로 뭉치는 응집 현상이 발생해 분산도가 떨어지는 단점이 있다. 분산도가 떨어지게 되면 고농도의 소수성 계열의 비드를 수용액 상에서 활용이 어려움이 있다.
표면개질은 고분자 및 카본 표면의 물리·화학적 특성을 변화시키는 일반적인 방법 중 하나로서 표면 특성을 변화시켜 새로운 기능을 부여하거나 표면의 성능을 향상시키기 위한 방법으로 사용되어 왔다. 일반적인 표면 개질 방법으로는, 예를 들면 세라믹 소재의 표면을 실란 커플링제로 처리하거나 플라즈마 중합 코팅 방법에 의해 세라믹 소재의 표면을 개질시키는 방법이 있다 (한국공개 특허 제2002-00074562호, 제2002-00022085호 및 제2006-0034906호, 문헌 [A. Ansarifar et al., International Journal of Adhesion & Adhesive, 9-22, 24 (2004)] 및 [A. Olah et al., Appl. Surf. Sci., In press (2004)] 참조). 그러나, 상기 방법들은 유기용제를 사용하기 때문에 환경오염을 유발하거나 처리공정이 복잡하고 처리시간이 길게 걸리는 등 제조공정상 비효율적이고, 표면처리 강도가 미약하며, 노화현상이 빠르게 발생한다는 단점이 있다.
이에 본 발명자들은 소수성 비드, 예를 들면 폴리스티렌/폴리메틸메타크릴레이트(PS/PMMA)의 표면을 표면-반응성 부위(surface-anchoring group)로서 도데실 그룹(dodecyl group) 및 친수 특성 조절을 위한 기능성 그룹으로서 PEG 그룹(Polyethylene glycol moiety)을 갖는 양친매성 고분자를 이용하여 개질하는 경우 분산도가 향상될 수 있음을 확인하고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
본 발명은 i) 고정화기로서 도데실 그룹(dodecyl group), 및 ii) 기능기로서 PEG 그룹(Polyethylene glycol moiety)을 갖는 양친매성 고분자를 이용한 소수성 고분자의 표면 개질 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 명세서에서 사용된 용어 “고정화기(anchoring group)”는 소수성 고분자 표면에 공유결합을 통해 고정화될 수 있는 물질을 의미한다.
본 명세서에서 사용된 용어 “기능기(functional group)”는 소수성 고분자의 표면의 친수/소수 특성을 조절하기 위한 물질을 의미한다.
제1구현예에 따르면,
A) 고정화기로서 도데실 그룹(dodecyl group), 및
B) 기능기로서 PEG 그룹(Polyethylene glycol moiety)을 갖는 소수성 비드의 표면 개질을 위한 양친매성 고분자를 제공하고자 한다.
본 발명에 따른 소수성 비드의 표면 개질을 위한 양친매성 고분자에 있어서, 상기 도데실 그룹 및 PEG 그룹의 몰비는 1:1인 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 소수성 비드의 표면 개질을 위한 양친매성 고분자에 있어서, 상기 소수성 비드는 풀러렌(Fullerene), PS/PMMA(polystyrene-polymethylmethacrylate), QD(Quantum dot), 산화철 자성입자, CNT(Carbon nanotube) 또는 그래핀인 것을 특징으로 한다.
제2구현예에 따르면,
a) 중합개시제, 고정화기로서 도데실 그룹(dodecyl group) 및 기능기로서 PEG 그룹(Polyethylene glycol moiety)을 유기용매에 용해시켜 갖는 양친매성 고분자를 제조하는 단계; 및
b) 소수성 비드의 표면을 단계 (a)에서 제조된 양친매성 고분자로 처리하는 단계를 포함하는 분산도 개선을 위한 소수성 비드의 표면 개질 방법을 제공하고자 한다.
본 발명에 따른 분산도 개선을 위한 소수성 비드의 표면 개질 방법에 있어서, 상기 도데실 그룹 및 PEG 그룹의 몰비는 1:1인 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 분산도 개선을 위한 소수성 비드의 표면 개질 방법에 있어서, 상기 단계 (b)에서 소수성 비드와 양친매성 고분자의 농도 비율은 4:1 내지 8:1인 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 분산도 개선을 위한 소수성 비드의 표면 개질 방법에 있어서, 상기 소수성 비드는 풀러렌(Fullerene), PS/PMMA(polystyrene-polymethylmethacrylate), QD(Quantum dot), 산화철 자성입자, CNT(Carbon nanotube) 또는 그래핀인 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 분산도 개선을 위한 소수성 비드의 표면 개질 방법에 있어서, 상기 중합개시제는 과황산칼륨(Potasium Persulfate, KPS), 과황산암모늄(Ammonium Persulfate, APS), 과황산나트륨(Sodium Persulfate, SPS), 아조이소부틸로나이트릴(Azoisobutylonitrile, AIBN) 및 벤조일페록사이드(Benzoil Peroxide, BPO)로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 분산도 개선을 위한 소수성 비드의 표면 개질 방법에 있어서, 상기 유기용매는 클로로포름, 클로로벤젠, 디클로로벤젠, 트리클로로벤젠, 테트라하이드로퓨란(THF), 디메틸포름아마이드(DMF), 디메틸아세트아마이드(DMAC), 디메틸술폭사이드(DMSO), 톨루엔 및 알코올계 용매로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 한다.
도 1은 실시예 1에 따라 제조된 양친매성 고분자의 1H NMR 분광기 (500 MHz) 분석 결과를 나타낸다.
도 2는 실시예 2에 따라 제조된 양친매성 고분자의 GPC 분석 결과를 나타낸다.
도 3은 실시예 2에 따라 표면 처리된 PS/PMMA의 접촉각을 나타낸다.
이하, 실시예를 통하여 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 이들 실시예는 단지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 국한되지 않는다는 것은 당업계에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어서 자명할 것이다.
<실시예>
실시예 1.소수성 비드의 표면 개질용 양친매성 고분자의 합성
소수성 비드의 표면 개질을 위한 양친매성 고분자 Poly(PEGMA-r-DMA)를 제조하였다. DMA(5 mmol), PEGMA(5 mmol) 및 AIBN을 바이알(vial)안에 넣고 THF로 용해시킨 후, 혼합물에 30초간 아르곤 가스를 연속적으로 흘려보냄으로써 산소를 제거하였다. 그 다음, 바이알을 테프론이 부착된 뚜껑으로 밀봉하고, 중합반응을 70℃에서 24 시간 동안 수행하고, 고분자의 합성 유무를 1H NMR 분광기(400 MHz)로 확인하고(도 1), 합성된 고분자의 분자량을 GPC를 이용하여 분석하여 분자량 38888의 고분자가 합성되었음을 확인하였다(도 2).
실시예 2. 본 발명에 따른 양친매성 고분자를 이용한 PS/PMMA 비드의 표면 개질
상기 실시예 1에서 제조한 양친매성 고분자와 PS/PMMA 비드의 증량비(g)를 하기의 표 1에 나타낸 바와 같이 달리하여 PS/PMMA 비드의 표면 개질을 수행하였다. 우선, 상기 실시예 1에서 제조된 양친매성 고분자 내의 THF 용매를 vacuum pump를 이용하여 제거하였다. THF가 제거된 고분자가 들어있는 바이알에 DIW와 마그네틱바를 넣어주고 입구를 막았다 30분간 stirring 한 후 바이알에 PS/PMMA bead를 첨가하였다. 다음으로 바이알을 Multi channel stirrer에 20시간 동안 PS bead : 500rpm, PMMA bead : 700~750rpm으로 Stirring하였다. Stirring 시킨 후 Washing 한 후 DIW를 제거하고 Petri Dish에 덜어내어 펼쳐 오븐에서 건조 시켰다. 건조 시킨 PS/PMMA bead를 Slide Glass에 양편테이프를 붙이고 그 위에 건조한 Bead들을 붙였다. 그 다음, 접촉각 측정기에 설치된 바늘을 이용하여 물방울을 형성하고 고분자 라이브러리의 각각을 실시예 1에서 제조한 양친매성 고분자로 코팅된 PS/PMMA bead에 dropping 시키고, dropping을 통해 발생한 물방울의 접촉각을 측정함으로서 표면의 효율성(친수성 또는 소수성)을 평가하였다.
Group 1 Group 2 Group 3 Group 4 Group 5
bead : 고분자 1:1 2:1 4:1 8:1 16:1
그 결과, PS/PMMA bead와 실시예 1에 따른 양친매성 고분자의 농도 비율 1:1 로 코팅한 경우 접촉각은 표면 개질 전 108.4°에서 81.69°로 감소하였다. PS/PMMA bead와 실시예 1에 따른 양친매성 고분자의 농도 비율이 2:1인 경우 80.03°, PS/PMMA bead와 실시예 1에 따른 양친매성 고분자의 농도 비율이 4:1이 경우 74.36°의 접촉각을 얻음으로써 농도에 따라 접촉각이 감소하는 경향을 나타내었다. 한편, PS/PMMA bead와 실시예 1에 따른 양친매성 고분자의 농도 비율이 8:1인 경우 첩촉각은 77.88°로 농도 비율이 4:1인 경우에 비해 조금 증가하였으며, PS/PMMA bead와 실시예 1에 따른 양친매성 고분자의 농도 비율이 16:1인 경우 첩촉각은 90.01°로 크게 증가하는 경향을 나타내었다. 따라서, PS/PMMA bead 와 실시예 1에 따른 양친매성 고분자의 농도 비율은 4:1 내지 8:1인 경우 접촉각이 가장 감소한다는 것이 확인되었다 (도 4).
이제까지 본 발명에 대하여 그 바람직한 실시예들을 중심으로 살펴보았다. 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 변형된 형태로 구현될수 있음을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 개시된 실시예들은 한정적인 관점이 아니라 설명적인 관점에서 고려되어야 한다. 본 발명의 범위는 전술한 설명이 아니라 특허청구범위에 나타나 있으며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 차이점은 본 발명에 포함된 것으로 해석되어야 할 것이다.

Claims (8)

  1. A) 고정화기로서 도데실 그룹(dodecyl group), 및
    B) 기능기로서 PEG 그룹(Polyethylene glycol moiety)을 갖는 소수성 비드의 표면 개질을 위한 양친매성 고분자로서,
    상기 도데실 그룹 및 PEG 그룹의 몰비는 1:1이고,
    상기 소수성 비드와 양친매성 고분자의 농도 비율은 4:1 내지 8:1이고,
    상기 소수성 비드는 풀러렌(Fullerene), PS/PMMA(polystyrene-polymethylmethacrylate), QD(Quantum dot), CNT(Carbon nanotube) 또는 그래핀인 것을 특징으로 하는 것인, 양친매성 고분자.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. a) 중합개시제, 고정화기로서 도데실 그룹(dodecyl group) 및 기능기로서 PEG 그룹(Polyethylene glycol moiety)을 유기용매에 용해시켜 갖는 양친매성 고분자를 제조하는 단계; 및
    b) 소수성 비드의 표면을 단계 (a)에서 제조된 양친매성 고분자로 처리하는 단계를 포함하는 분산도 개선을 위한 소수성 비드의 표면 개질 방법으로,
    상기 도데실 그룹 및 PEG 그룹의 몰비는 1:1이고,
    상기 소수성 비드와 양친매성 고분자의 농도 비율은 4:1 내지 8:1이고,
    상기 소수성 비드는 풀러렌(Fullerene), PS/PMMA(polystyrene-polymethylmethacrylate), QD(Quantum dot), CNT(Carbon nanotube) 또는 그래핀인 것을 특징으로 하는 것인, 분산도 개선을 위한 소수성 비드의 표면 개질 방법.
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 제4항에 있어서,
    상기 중합개시제는 과황산칼륨(Potasium Persulfate, KPS), 과황산암모늄(Ammonium Persulfate, APS), 과황산나트륨(Sodium Persulfate, SPS), 아조이소부틸로나이트릴(Azoisobutylonitrile, AIBN) 및 벤조일페록사이드(Benzoil Peroxide, BPO)로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 것인, 분산도 개선을 위한 소수성 비드의 표면 개질 방법.
  8. 제4항에 있어서,
    상기 유기용매는 클로로포름, 클로로벤젠, 디클로로벤젠, 트리클로로벤젠, 테트라하이드로퓨란(THF), 디메틸포름아마이드(DMF), 디메틸아세트아마이드(DMAC), 디메틸술폭사이드(DMSO), 톨루엔 및 알코올계 용매로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 것인, 분산도 개선을 위한 소수성 비드의 표면 개질 방법.
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