KR102153087B1 - Composition for cleaning substrate of display device and preparing method of display device using the same - Google Patents
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- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1316—Methods for cleaning the liquid crystal cells, or components thereof, during manufacture: Materials therefor
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- C11D2111/22—
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- G02F2001/1316—
Abstract
본 발명은, 소수성 유기 이물질 제거능력이 향상되고, 제거된 유기 이물질의 용해성이 높아 잔상 성능이 향상되며, 금속에 대한 부식성을 최소화할 수 있는 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물 및 이를 이용한 디스플레이 장치의 제조방법에 관한 것으로, 상기 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물은 1종 이상의 아민 화합물; 선형 또는 고리형의 아마이드 용매 및 양자성 유기 용매를 포함한 유기용매; 및 부식 방지제를 포함하고, 상기 유기용매의 함량이 50 중량% 내지 99 중량%일 수 있다.The present invention improves the ability to remove hydrophobic organic foreign matter, improves the afterimage performance due to high solubility of the removed organic foreign matter, and manufactures a substrate cleaning composition for a display device capable of minimizing corrosiveness to metal, and a display device using the same The method relates to a method, wherein the composition for cleaning a substrate of the display device comprises at least one amine compound; Organic solvents including linear or cyclic amide solvents and protic organic solvents; And a corrosion inhibitor, and the content of the organic solvent may be 50% to 99% by weight.
Description
본 발명은 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물 및 이를 이용한 디스플레이 장치의 제조방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 소수성 유기 이물질 제거능력이 향상되고, 제거된 유기 이물질의 용해성이 높으며, 금속에 대한 부식성을 최소화할 수 있는 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물 및 이를 이용한 디스플레이 장치의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a composition for cleaning a substrate of a display device and a method of manufacturing a display device using the same. More specifically, the present invention relates to a composition for cleaning a substrate of a display device capable of improving the ability to remove hydrophobic organic foreign matter, high solubility of the removed organic foreign matter, and minimizing corrosiveness to metal, and a method of manufacturing a display device using the same. .
최근 액정 디스플레이가 대형화되면서 모바일폰이나 노트북 등의 개인용에서 점차 벽걸이 TV 등의 가정용으로 용도가 확장됨에 따라 액정 디스플레이에 대해서는 고화질, 고품위화 및 광시야각이 요구되고 있다. 특히 박막트랜지스터에 의해서 구동되는 박막트랜지스터 액정 디스플레이(TFT-LCD)는 개개의 화소를 독립적으로 구동시키기 때문에 액정의 응답속도가 매우 뛰어나 고화질의 동화상을 구현할 수 있어 점차 응용범위가 확장되고 있다. Recently, as liquid crystal displays have become large, high-definition, high-quality, and wide viewing angles are required for liquid crystal displays as their use is gradually expanded from personal use such as mobile phones or notebook computers to home use such as wall-mounted TVs. In particular, a thin film transistor liquid crystal display (TFT-LCD) driven by a thin film transistor independently drives individual pixels, so the response speed of the liquid crystal is very good, and a high-definition moving image can be realized, and the application range is gradually expanding.
이러한 TFT-LCD에서 액정이 광스위치로서 사용될 수 있기 위해서는 디스플레이 셀의 가장 안쪽의 박막트랜지스터가 형성된 층 위에 액정이 일정 방향으로 초기 배향되어야만 하는데, 이를 위해 액정 배향막이 사용되고 있다. In such a TFT-LCD, in order for the liquid crystal to be used as an optical switch, the liquid crystal must be initially aligned in a predetermined direction on the layer on which the thin film transistor is formed at the innermost side of the display cell. For this purpose, a liquid crystal alignment layer is used.
통상, 이러한 배향을 위해서는, 액정층 상부 또는 하부에 배향막을 형성하고, 이러한 배향막에 물리적 또는 광학적 배향을 유도하여, 이렇게 배향된 배향막의 영향으로 상부의 액정층에 포함된 액정이 배향될 수 있다. In general, for such alignment, an alignment layer is formed on or under the liquid crystal layer, and physical or optical alignment is induced in the alignment layer, so that the liquid crystal included in the upper liquid crystal layer may be aligned under the influence of the alignment layer.
이와 같은 배향막 형성의 방법으로는 유리 등의 기판에 폴리이미드와 같은 고분자 막을 도포하는 코팅 공정이 대부분 사용되고 있다. 그러나, 기판 표면의 소수성 유기 이물질이 잔존하는 상태에서 고분자 막을 코팅하는 경우, 표면의 친수성이 감소함에 따라 표면 에너지 감소로 인해 코팅력이 감소하여, 핀홀 및 얼룩 불량 발생률이 높아지는 문제가 발생하였다.As such a method of forming an alignment layer, a coating process in which a polymer layer such as polyimide is applied to a substrate such as glass is mostly used. However, in the case of coating the polymer film while the hydrophobic organic foreign material remains on the surface of the substrate, as the hydrophilicity of the surface decreases, the coating power decreases due to the decrease in surface energy, thereby increasing the rate of occurrence of pinholes and stain defects.
또한, LCD 제품의 경우 오랜시간 동안 정지화상을 동작해야 하는데, 기판 표면의 소수성 유기 이물질이 잔존하는 상태에서 고분자 막을 코팅하는 경우, 정지화상으로 인해 생기는 잔상으로 인해, 고품질의 디스플레이 구현이 어려운 한계가 있었다.In addition, in the case of LCD products, a still image must be operated for a long time. However, when a polymer film is coated with a hydrophobic organic foreign substance remaining on the substrate surface, it is difficult to implement a high-quality display due to the afterimage caused by the still image. there was.
이를 해결하기 위해, 고분자 막을 도포하기 전 기판 표면을 중성세제 또는 알칼리 세정제로 처리하여 기판 표면에 잔존하는 이물질을 제거하는 방법이 제안되었다. 하지만, 중성세제와 알칼리 세정제는 소수성 유기 이물질을 제거하는 능력이 약하며, 제거된 이물질이 잘 용해되지 않아 표면 흡착으로 인한 잔상 불량, 핀홀 및 얼룩 불량 발생률이 증가하는 한계가 있었다. To solve this problem, a method of removing foreign substances remaining on the surface of the substrate by treating the surface of the substrate with a neutral detergent or an alkaline detergent before applying the polymer film has been proposed. However, neutral detergents and alkaline cleaners have a weak ability to remove hydrophobic organic foreign matters, and the removed foreign matters do not dissolve well, so there is a limit to an increase in the incidence of afterimage defects, pinholes and stain defects due to surface adsorption.
뿐만 아니라, 최근 디스플레이 장치 제조시 적용되는 배선 metal repair 공정에서 외부로 노출된 repair metal에 대하여 중성세제 또는 알칼리 세정제가 부식 반응을 유발하는 한계도 있었다. In addition, there is a limit in which a neutral detergent or an alkali detergent induces a corrosion reaction for a repair metal exposed to the outside in a wiring metal repair process applied in the manufacture of a display device.
이에, 소수성 유기 이물질 제거능력이 향상되고, 제거된 유기 이물질의 용해성이 높아 잔상 문제가 개선되며, 금속에 대한 부식성을 최소화할 수 있는 새로운 기판 세정용 조성물의 개발이 요구되고 있다.Accordingly, there is a need to develop a new substrate cleaning composition capable of improving the ability to remove hydrophobic organic foreign matters, improving the afterimage problem due to high solubility of the removed organic foreign matters, and minimizing corrosiveness to metals.
본 발명은 소수성 유기 이물질 제거능력이 향상되고, 제거된 유기 이물질의 용해성이 높아 잔상 성능이 향상되며, 금속에 대한 부식성을 최소화할 수 있는 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물을 제공하기 위한 것이다. An object of the present invention is to provide a composition for cleaning a substrate of a display device capable of improving the ability to remove hydrophobic organic foreign matters, improving the afterimage performance due to high solubility of the removed organic foreign matters, and minimizing corrosiveness to metals.
또한, 본 발명은 상기 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물을 이용한 디스플레이 장치의 제조방법을 제공하기 위한 것이다.In addition, the present invention is to provide a method of manufacturing a display device using the composition for cleaning a substrate of the display device.
본 명세서에서는, 1종 이상의 아민 화합물; 선형 또는 고리형의 아마이드 용매 및 양자성 유기 용매를 포함한 유기용매; 및 부식 방지제를 포함하고, 상기 유기용매의 함량이 50 중량% 내지 99 중량%인, 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물이 제공된다. In the present specification, at least one amine compound; Organic solvents including linear or cyclic amide solvents and protic organic solvents; And it includes a corrosion inhibitor, the content of the organic solvent is 50% by weight to 99% by weight, there is provided a composition for cleaning a substrate of a display device.
본 명세서에서는 또한, 상기 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물을 이용하여 기판을 세정하는 단계; 및 상기 세정된 기판상에 배향막용 조성물을 도포하는 단계를 포함하는, 디스플레이 장치의 제조방법이 제공된다. In the present specification, further, a step of cleaning a substrate using a composition for cleaning a substrate of the display device; And there is provided a method of manufacturing a display device comprising the step of applying a composition for an alignment layer on the cleaned substrate.
이하 발명의 구체적인 구현예에 따른 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물 및 이를 이용한 디스플레이 장치의 제조방법에 대하여 보다 상세하게 설명하기로 한다. Hereinafter, a composition for cleaning a substrate of a display device and a method of manufacturing a display device using the composition according to a specific embodiment of the present invention will be described in more detail.
본 명세서에서, '사슬형'은 탄소 원자가 사슬 모양으로 이어진 화학구조로서, 곧은 사슬 모양의 것과 분지한 모양의 것을 모두 포함하며, 고리 모양 구조와 대비하는 화학구조를 의미한다.In the present specification,'chain type' refers to a chemical structure in which carbon atoms are connected in a chain shape, and includes both straight chain shape and branched shape, and means a chemical structure in contrast to a cyclic structure.
발명의 일 구현예에 따르면, 1종 이상의 아민 화합물; 선형 또는 고리형의 아마이드 용매 및 양자성 유기 용매를 포함한 유기용매; 및 부식 방지제를 포함하고, 상기 유기용매의 함량이 50 중량% 내지 99 중량%인, 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물이 제공될 수 있다. According to one embodiment of the invention, at least one amine compound; Organic solvents including linear or cyclic amide solvents and protic organic solvents; And a corrosion inhibitor, wherein the organic solvent has a content of 50% to 99% by weight, and a composition for cleaning a substrate of a display device may be provided.
본 발명자들은 상기 일 구현예의 특징적인 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물은, 유기용매 함량이 극대화되어, 디스플레이 장치의 기판상에 잔존하는 소수성 유기 이물질에 대한 제거능력이 보다 향상될 뿐 아니라, 제거된 소수성 유기 이물질의 용해력 또한 향상되어 상기 양자성 유기 용매에 상기 아민 화합물 들의 용해도가 향상되어, 높아 잔상 성능이 향상되며 기판 상의 폴리이미드 코팅 효율이 높아진다는 점을 실험을 통하여 확인하고 발명을 완성하였다. The present inventors argue that the composition for cleaning a substrate of a display device according to the above embodiment has a maximized organic solvent content, thereby further improving the removal ability of the hydrophobic organic foreign matter remaining on the substrate of the display device, as well as the removed hydrophobicity. The solubility of the organic foreign matter was also improved, and the solubility of the amine compounds in the protonic organic solvent was improved, so that the afterimage performance was improved, and the polyimide coating efficiency on the substrate was improved through experiments, and the invention was completed.
종래에는 기판 세정을 위한 세정액에서 유기 용매보다 과량으로 물을 첨가하는 조성이 일반적으로 사용되었지만, 이와 같이 과량의 물을 첨가하게 될 경우 유기용매 함량 감소에 따른 소수성 유기물질에 대한 용해도가 감소하여 기판 표면의 유기 이물질에 대한 제거능력이 충분히 구현되기 어려운 한계가 있었다.Conventionally, a composition in which water is added in excess of the organic solvent in the cleaning liquid for substrate cleaning was generally used. However, if an excessive amount of water is added as described above, the solubility in the hydrophobic organic material decreases due to the decrease in the organic solvent content, and thus the substrate There is a limitation in that it is difficult to sufficiently implement the removal ability for organic foreign substances on the surface.
이에, 상기 일 구현예의 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물에서는 물의 함량을 최소화하거나 또는 아예 물을 포함시키지 않는 방법을 통해 종래기술에 비해 현저한 유기 이물질 제거능력 향상 효과 및 이로 인한 기판 상의 고분자 코팅성 증가 및 잔상 개선의 효과를 구현할 수 있었다.Accordingly, in the composition for cleaning the substrate of the display device of the exemplary embodiment, compared to the prior art, through a method of minimizing the content of water or not including water at all, the effect of improving the ability to remove organic foreign matters and thereby increasing the polymer coating property on the substrate and The effect of afterimage improvement could be realized.
또한, 상기 일 구현예의 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물은 끓는점이 높은 성분을 사용함에 따라, 디스플레이 장치의 제조공정중에서 증발에 의한 손실량을 최소화할 수 있어, 공정효율을 높일 수 있는 장점이 있다. 구체적으로, 상기 일 구현예의 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물에 포함된 아민 및 유기 용매는 약 160 ℃ 이상의 끓는점을 나타내어 종래 사용되던 다량의 물을 포함하는 세정용 조성물(끓는점 : 약 100 ℃)에 비해 높은 끓는점을 나타낼 수 있다.In addition, since the composition for cleaning the substrate of the display device according to the exemplary embodiment uses a component having a high boiling point, it is possible to minimize the amount of loss due to evaporation during the manufacturing process of the display device, thereby improving process efficiency. Specifically, the amine and the organic solvent contained in the substrate cleaning composition of the display device of the embodiment exhibited a boiling point of about 160° C. or higher, compared to the conventional cleaning composition containing a large amount of water (boiling point: about 100° C.). It can show a high boiling point.
구체적으로, 상기 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물은 선형 또는 고리형의 아마이드 용매 및 양자성 유기 용매를 포함한 유기용매를 전체 조성물 대비 50 중량% 내지 99 중량%, 또는 60 중량% 내지 99 중량%, 또는 79 중량% 내지 99 중량% 함량으로 포함할 수 있다. 즉, 상기 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물은 비수계성인 유기 용매로서, 선형 또는 고리형의 아마이드 용매와 함께 양자성 유기 용매를 혼합하여 사용하고 있으며, 선형 또는 고리형의 아마이드 용매와 양자성 유기 용매의 사용량의 총 합계가 전체 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물 중량 대비 50 중량% 내지 99 중량%, 또는 60 중량% 내지 99 중량%, 또는 79 중량% 내지 99 중량%를 만족할 수 있다.Specifically, the composition for cleaning the substrate of the display device is 50% to 99% by weight, or 60% to 99% by weight, or an organic solvent including a linear or cyclic amide solvent and a proton organic solvent, or It may be included in an amount of 79% to 99% by weight. That is, the substrate cleaning composition of the display device is a non-aqueous organic solvent, a linear or cyclic amide solvent and a proton organic solvent are mixed and used, and a linear or cyclic amide solvent and a proton organic solvent are used. The total amount of used may satisfy 50 wt% to 99 wt%, or 60 wt% to 99 wt%, or 79 wt% to 99 wt% based on the weight of the substrate cleaning composition of the entire display device.
여기서, 선형 또는 고리형의 아마이드 용매와 양자성 유기 용매간의 구체적인 혼합 비율은 상기 선형 또는 고리형의 아마이드 용매 100 중량부 대비 양자성 유기 용매 50 중량부 내지 600 중량부일 수 있다. 상기 선형 또는 고리형의 아마이드 용매 100 중량부 대비 양자성 유기 용매가 600 중량부를 초과할 경우, 상기 양자성 유기 용매가 지나치게 과량으로 첨가됨에 따라, 유기 이물질에 대한 용해력이 감소하여 공정시 이물질이 발생하는 등의 기술적 문제가 발생할 수 있다. Here, a specific mixing ratio between the linear or cyclic amide solvent and the protic organic solvent may be 50 parts by weight to 600 parts by weight of the proton organic solvent relative to 100 parts by weight of the linear or cyclic amide solvent. When the proton organic solvent exceeds 600 parts by weight relative to 100 parts by weight of the linear or cyclic amide solvent, as the proton organic solvent is added in an excessive amount, the dissolving power for the organic foreign substance decreases, resulting in foreign substances during the process. There may be technical problems such as that.
상기 선형 아마이드 용매는 탄소수 1 내지 5의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기가 질소에 1 내지 2치환된 아마이드 화합물을 포함할 수 있다. 상기 탄소수 1 내지 5의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기가 질소에 1내지 2치환된 아마이드 화합물은 상기 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물 내에서 아민 화합물을 양호하게 용해시킬 수 있으며, 상기 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물이 기판 상에 효과적으로 스며들게 하여, 세정력을 향상시킬 수 있다.The linear amide solvent may include an amide compound in which a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms is 1 to 2 substituted with nitrogen. The amide compound in which the linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms is 1 to 2 substituted with nitrogen can satisfactorily dissolve the amine compound in the substrate cleaning composition of the display device, and for cleaning the substrate of the display device The composition can effectively permeate onto the substrate, thereby improving the cleaning power.
구체적으로 상기 탄소수 1 내지 5의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기가 질소에 1내지 2치환된 아마이드 화합물은 하기 화학식 1의 구조를 가질 수 있다.Specifically, the amide compound in which a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms is 1 to 2 substituted with nitrogen may have a structure represented by Formula 1 below.
[화학식1][Formula 1]
상기 화학식 1에서 R1은 수소, 메틸기, 에틸기, 프로필기이고, R2 및 R3 중 적어도 하나는 탄소수 1 내지 5의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기이고, 나머지는 수소이다. 상기 탄소수 1 내지 5의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기의 예가 한정되는 것은 아니나, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 이소부틸기, 펜틸기 등을 사용할 수 있다. In Formula 1, R 1 is hydrogen, a methyl group, an ethyl group, or a propyl group, at least one of R 2 and R 3 is a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and the rest are hydrogen. Examples of the linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms are not limited, but for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, isobutyl group, pentyl group, and the like may be used.
보다 구체적으로, 상기 탄소수 1 내지 5의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기가 질소에 1내지 2치환된 아마이드 화합물의 예를 들면, N-메틸포름아마이드(NMF), N,N'-디에틸포름아마이드(DEF), N,N'-디메틸프로피온아마이드(DMP)등을 사용할 수 있다. More specifically, examples of the amide compound in which the linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms is 1 to 2 substituted with nitrogen, for example, N-methylformamide (NMF), N,N'-diethylformamide ( DEF), N,N'-dimethylpropionamide (DMP), etc. can be used.
특히, 상기 선형 아마이드 용매로 바람직하게는 N,N'-디에틸포름아마이드(DEF)를 사용할 수 있으며, 상기 N,N'-디에틸포름아마이드(DEF)는 N-메틸포름아마이드(NMF) 또는 디메틸아세트아마이드 (DMAC) 등과 달리 생식 또는 생체 독성을 실질적으로 나타내지 않고, 아민 화합물의 경시적 분해를 거의 유발시키지 않아 상기 일 구현예의 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물이 장기간 동안 우수한 세정력을 유지하게 할 수 있다. In particular, N,N'-diethylformamide (DEF) may be preferably used as the linear amide solvent, and the N,N'-diethylformamide (DEF) is N-methylformamide (NMF) or Unlike dimethylacetamide (DMAC), it does not substantially exhibit reproductive or biotoxicity, and hardly induces decomposition over time of the amine compound, so that the composition for cleaning the substrate of the display device of the embodiment can maintain excellent cleaning power for a long period of time. have.
참고로, 디메틸포름아마이드(DMF) 및 디메틸아세트아마이드 (DMAC)의 경우, 생식 또는 생체 독성 문제로 인해 디스플레이 또는 소자 공정 중에 사용이 규제되고 있으며, 특히, DMF는 생식독성 및 특정 표적 장기 독성 물질로서 백혈병에 관련된 것으로 확인되어 사용이 규제되고 있다. 이에 비해, 상기 N,N'-디에틸포름아마이드(DEF)는 이러한 생식 및 생체 독성을 나타내지 않으면서도, 우수한 세정력 등 뛰어난 물성을 달성할 수 있다.For reference, in the case of dimethylformamide (DMF) and dimethylacetamide (DMAC), their use is regulated during display or device processing due to reproductive or biotoxicity issues.In particular, DMF is a reproductive toxicity and specific target organ toxicity substance. It has been identified as being related to leukemia and its use is regulated. In contrast, the N,N'-diethylformamide (DEF) can achieve excellent physical properties such as excellent detergency while not exhibiting such reproductive and biotoxicity.
상기 선형 아마이드 용매로 N,N'-디에틸포름아마이드를 사용하는 경우, 상기 N,N'-디에틸포름아마이드 100 중량부 대비 양자성 유기 용매의 함량이 50 중량부 내지 600 중량부, 또는 150 중량부 내지 200 중량부일 수 있다.When using N,N'-diethylformamide as the linear amide solvent, the content of the proton organic solvent relative to 100 parts by weight of the N,N'-diethylformamide is 50 to 600 parts by weight, or 150 It may be from parts by weight to 200 parts by weight.
한편, 상기 고리형 아마이드 용매의 예로는 N-메틸피롤리돈, 피롤리돈, N-에틸피롤리돈 등의 피롤리돈 용매를 사용할 수 있다. Meanwhile, as an example of the cyclic amide solvent, a pyrrolidone solvent such as N-methylpyrrolidone, pyrrolidone, and N-ethylpyrrolidone may be used.
상기 선형 또는 고리형의 아마이드 용매는 전체 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물에 대해 10중량% 내지 80중량%, 또는 15중량% 내지 70중량%로 포함될 수 있다. 상기 함량 범위에 따라, 상기 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물의 우수한 세정력 등이 확보될 수 있고, 상기 세정력이 경시적으로 장기간 동안 유지될 수 있다.The linear or cyclic amide solvent may be included in an amount of 10% to 80% by weight, or 15% to 70% by weight based on the composition for cleaning the substrate of the entire display device. Depending on the content range, excellent cleaning power of the composition for cleaning the substrate of the display device can be ensured, and the cleaning power can be maintained for a long time over time.
한편, 상기 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물은 양자성 유기 용매를 포함할 수 있다. 상기 양자성 유기 용매는 상기 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물이 기판 상에 보다 잘 스며들게 하여 상기 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물의 우수한 세정력을 보조할 수 있으며, 기판 상의 얼룩을 효과적으로 제거해 상기 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물의 린스력을 향상시킬 수 있다.Meanwhile, the composition for cleaning a substrate of the display device may include a proton organic solvent. The quantum organic solvent allows the substrate cleaning composition of the display device to more permeate onto the substrate, thereby assisting the excellent cleaning power of the substrate cleaning composition of the display device, and effectively removes stains on the substrate to the substrate of the display device. It is possible to improve the rinse power of the cleaning composition.
상기 양자성 유기 용매는 알킬렌글리콜 또는 알킬렌글리콜 모노알킬에테르를 포함할 수 있다. 보다 구체적으로 상기 알킬렌글리콜 모노알킬에테르는 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌글리콜 모노부틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노프로필에테르, 디에틸렌글리콜 모노부틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노프로필에테르, 디프로필렌글리콜 모노부틸에테르, 트리에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 트리에틸렌글리콜 모노프로필에테르, 트리에틸렌글리콜 모노부틸에테르, 트리프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노에틸에테르, 트리프로필렌글리콜 모노프로필에테르, 트리프로필렌글리콜 모노부틸에테르 또는 이들의 2종 이상의 혼합물을 포함할 수 있다.The protic organic solvent may include alkylene glycol or alkylene glycol monoalkyl ether. More specifically, the alkylene glycol monoalkyl ether is diethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, diethylene Glycol monoethyl ether, diethylene glycol monopropyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol Monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, triethylene glycol monopropyl ether, triethylene glycol monobutyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monoethyl ether, tripropylene glycol monopropyl ether, tripropylene glycol mono It may contain butyl ether or a mixture of two or more thereof.
또한, 상기 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물의 우수한 젖음성 및 이에 따른 향상된 세정력과, 린스력 등을 고려하여, 상기 알킬렌글리콜 모노알킬에테르로는 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르(MDG), 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르(EDG) 또는 디에틸렌글리콜 모노부틸에테르(BDG) 등을 사용할 수 있다. In addition, in consideration of the excellent wettability of the substrate cleaning composition of the display device and the resulting improved cleaning power and rinsing power, the alkylene glycol monoalkyl ethers include diethylene glycol monomethyl ether (MDG), diethylene glycol mono Ethyl ether (EDG) or diethylene glycol monobutyl ether (BDG) may be used.
또한, 상기 양자성 유기 용매는 전체 조성물에 대해 10 중량% 내지 80 중량%, 또는 30 중량% 내지 80 중량%의 함량으로 포함될 수 있다. 상기 함량 범위를 만족함에 따라, 상기 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물의 우수한 세정력 등이 확보될 수 있고, 상기 세정력 및 린스력이 경시적으로 장기간 동안 유지될 수 있다.In addition, the protonic organic solvent may be included in an amount of 10% to 80% by weight, or 30% to 80% by weight based on the total composition. As the content range is satisfied, excellent cleaning power of the composition for cleaning a substrate of the display device can be secured, and the cleaning power and rinsing power can be maintained for a long period of time.
또한, 상기 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물은 1종 이상의 아민 화합물을 포함할 수 있다. 상기 아민 화합물은 세정력을 나타내는 성분으로서, 디스플레이 장치의 기판 상에 잔존하는 유기 이물질을 녹여 이를 제거하는 역할을 할 수 있다. 상기 1종 이상의 아민 화합물은 사슬형 아민 화합물 또는 고리형 아민 화합물을 포함할 수 있다.In addition, the composition for cleaning a substrate of the display device may include one or more amine compounds. The amine compound is a component exhibiting cleaning power, and may serve to dissolve and remove organic foreign matter remaining on the substrate of the display device. The at least one amine compound may include a chain amine compound or a cyclic amine compound.
상기 사슬형 아민 화합물은 (2-아미노에톡시)-1-에탄올, 아미노에틸에탄올아민, 디에탄올아민, N-메틸 디에탄올아민, 디에틸렌 트리아민, 다이에탄올아민, 디에틸아미노에탄올, 트리에탄올아민 및 트리에틸렌 테트라아민으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 중량평균 분자량(GPC측정) 95 g/mol이상의 사슬형 아민 화합물; 또는 1-아미노이소프로판올, 모노메탄올 아민, 모노에탄올 아민, 2-메틸아미노에탄올, 3-아미노프로판올 및 N-메틸에틸아민으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 중량평균 분자량 90 g/mol이하의 사슬형 아민 화합물을 포함할 수 있다.The chain amine compound is (2-aminoethoxy)-1-ethanol, aminoethylethanolamine, diethanolamine, N-methyl diethanolamine, diethylene triamine, diethanolamine, diethylaminoethanol, triethanolamine And a chain amine compound having at least one weight average molecular weight (GPC measurement) 95 g/mol or more selected from the group consisting of triethylene tetraamine; Or 1-aminoisopropanol, monomethanol amine, monoethanol amine, 2-methylaminoethanol, 3-aminopropanol and N-methylethylamine; at least one chain amine having a weight average molecular weight of 90 g/mol or less selected from the group consisting of It may contain a compound.
상기 고리형 아민 화합물은 1-이미다졸리딘 에탄올(1-Imidazolidine ethanol; IME, LGA), 아미노 에틸 피페라진 (Amino ethyl piperazine; AEP), 히드록시 에틸피페라진 (hydroxyl ethylpiperazine; HEP) 또는 이들의 2종 이상의 혼합물을 포함할 수 있다.The cyclic amine compound is 1-imidazolidine ethanol (IME, LGA), amino ethyl piperazine (AEP), hydroxyl ethylpiperazine (HEP), or their It may contain a mixture of two or more.
상기 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물은 상기 1종 이상의 아민 화합물을 전체 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물 대비 0.1 중량% 내지 20 중량%로 포함할 수 있다. 상기 1종 이상의 아민 화합물이 전체 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물에 대해 0.1중량% 미만이면, 상기 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물의 세정력이 감소할 수 있다. 또한, 상기 아민 화합물이 전체 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물에 대해 20중량% 초과이면, 디스플레이 장치 제조시 적용되는 배선 metal repair 공정에서 외부로 노출된 repair metal에 대하여 부식이 초래될 수 있고, 이를 억제하기 위해 많은 양의 부식 방지제를 사용할 필요가 생길 수 있다. 이 경우, 많은 양의 부식 방지제에 의해 기판 표면에 상당량의 부식 방지제가 흡착 및 잔류하여 전기적 특성이 저하될 수 있다.The composition for cleaning a substrate of the display device may include the at least one amine compound in an amount of 0.1% to 20% by weight relative to the composition for cleaning the substrate of the entire display device. If the at least one amine compound is less than 0.1% by weight based on the composition for cleaning the substrate of the entire display device, the cleaning power of the composition for cleaning the substrate of the display device may be reduced. In addition, if the amine compound exceeds 20% by weight of the composition for cleaning the substrate of the entire display device, corrosion may be caused to the repair metal exposed to the outside in the wiring metal repair process applied during the manufacturing of the display device, and this is suppressed. It may be necessary to use a large amount of corrosion inhibitor to do so. In this case, a significant amount of the corrosion inhibitor adsorbs and remains on the surface of the substrate by a large amount of the corrosion inhibitor, thereby deteriorating electrical properties.
또한, 상기 일 구현예의 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물은 평균 끓는점이 160℃ 내지 230℃일 수 있다. 상기 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물은 끓는점이 높은 성분을 사용함에 따라, 평균 끓는점이 향상되어 디스플레이 장치의 제조공정중에서 증발에 의한 손실량을 최소화할 수 있어, 공정효율을 높일 수 있는 장점이 있다. 상기 평균 끓는점이란 1기압하에서 상기 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물의 50%가 기체상태로 분리되어 나오는 온도를 의미한다.In addition, the composition for cleaning a substrate of the display device of the embodiment may have an average boiling point of 160°C to 230°C. As the composition for cleaning the substrate of the display device uses a component having a high boiling point, the average boiling point is improved, thereby minimizing the amount of loss due to evaporation during the manufacturing process of the display device, thereby improving process efficiency. The average boiling point refers to a temperature at which 50% of the substrate cleaning composition of the display device is separated into a gaseous state under 1 atmosphere.
종래와 같이, 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물 중에 다량의 물을 포함하는 경우, 평균 끓는점이 약 100 ℃ 로 낮아져 디스플레이 장치의 제조공정에 적용시 증발로 의한 손실이 많아질 수 있다.As in the prior art, when a large amount of water is included in the composition for cleaning a substrate of a display device, the average boiling point is lowered to about 100° C., and thus loss due to evaporation may increase when applied to a manufacturing process of a display device.
또한, 상기 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물은 부식 방지제를 포함할 수 있다. 이러한 부식 방지제는 상기 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물을 사용한 기판 상의 이물질 제거시 금속 성분에 대한 부식을 억제할 수 있다. In addition, the composition for cleaning a substrate of the display device may include a corrosion inhibitor. Such a corrosion inhibitor may suppress corrosion of a metal component when removing foreign substances on a substrate using the substrate cleaning composition of the display device.
상기 부식방지제로는 벤즈이미다졸계 화합물, 트리아졸계 화합물 및 테트라졸계 화합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 사용할 수 있다. As the corrosion inhibitor, at least one selected from the group consisting of benzimidazole-based compounds, triazole-based compounds, and tetrazole-based compounds may be used.
상기 벤즈이미다졸계 화합물의 예가 크게 한정되는 것은 아니나, 예를 들어 벤즈이미다졸, 2-히드록시벤즈이미다졸, 2-메틸벤즈이미다졸, 2-(히드록시메틸)벤즈이미다졸, 2-머캡토벤즈이미다졸 등을 사용할 수 있고, 상기 테트라졸계 화합물의 예로는, 5-아미노테트라졸 또는 이의 수화물 등을 들 수 있다.Examples of the benzimidazole-based compound are not greatly limited, for example, benzimidazole, 2-hydroxybenzimidazole, 2-methylbenzimidazole, 2-(hydroxymethyl)benzimidazole, 2-mer Captobenzimidazole or the like can be used, and examples of the tetrazole-based compound include 5-aminotetrazole or a hydrate thereof.
상기 트리아졸계 화합물은 하기 화학식 2의 화합물을 포함할 수 있다.The triazole-based compound may include a compound of Formula 2 below.
[화학식 2][Formula 2]
상기 화학식 2에서, R4는 수소 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기이고, a는 1 내지 4의 정수이다.In Formula 2, R 4 is hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and a is an integer of 1 to 4.
이러한 부식 방지제의 예가 크게 한정되는 것은 아니나, 예를 들어 벤조트리아졸 또는 테트라하이드로톨릴트리아졸 등의 트리아졸계 화합물, 5-아미토테트라졸 또는 이의 수화물과 같은 테트라졸계 화합물, 또는 상기 화학식2에서 R4는 메틸기이고, a는 1인 화합물 등을 들 수 있고, 상기 부식 방지제를 사용하여, 금속 성분의 부식을 효과적으로 억제하면서도, 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물의 세정력 등을 우수하게 유지할 수 있다.Examples of such corrosion inhibitors are not largely limited, for example, triazole compounds such as benzotriazole or tetrahydrotolyltriazole, tetrazole compounds such as 5-amitotetrazole or a hydrate thereof, or R4 in Formula 2 Is a methyl group, a is a compound of 1, and the like, and by using the above corrosion inhibitor, it is possible to effectively suppress corrosion of metal components, while maintaining excellent cleaning power of the composition for cleaning a substrate of a display device.
또한, 상기 부식 방지제는 전체 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물에 대해 0.01 중량% 내지 1중량로 포함될 수 있다. 상기 부식 방지제의 함량이 전체 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물에 대해 0.01중량% 미만이면, 부식을 효과적으로 억제하기 어려울 수 있다. 또한, 상기 부식 방지제의 함량이 전체 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물에 대해 0.5중량% 초과이면, 기판 상에 상당량의 부식 방지제가 흡착 및 잔류하여 전기적 특성을 저하시킬 수 있다. In addition, the corrosion inhibitor may be included in an amount of 0.01% to 1% by weight based on the composition for cleaning the substrate of the entire display device. If the content of the corrosion inhibitor is less than 0.01% by weight based on the composition for cleaning the substrate of the entire display device, it may be difficult to effectively suppress corrosion. In addition, if the content of the corrosion inhibitor is more than 0.5% by weight based on the substrate cleaning composition of the entire display device, a significant amount of the corrosion inhibitor may be adsorbed and remain on the substrate, thereby deteriorating electrical properties.
상기 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물은 필요에 따라 통상적인 첨가제를 추가로 더 포함할 수 있고, 상기 첨가제의 구체적인 종류나 함량에 대해서는 특별한 제한이 없다.The composition for cleaning a substrate of the display device may further include a conventional additive as necessary, and there is no particular limitation on the specific type or content of the additive.
또한, 상기 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물은 상술한 각 성분을 혼합하는 일반적인 방법에 따라 제조될 수 있고, 상기 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물의 구체적인 제조 방법에 대해서는 특별한 제한이 없다. In addition, the substrate cleaning composition of the display device may be prepared according to the general method of mixing each component described above, and there is no particular limitation on a specific method of manufacturing the substrate cleaning composition of the display device.
상기 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물이 적용되는 디스플레이 장치의 예가 크게 한정되는 것은 아니며, 예를 들어, 반도체, LED 칩 등을 들 수 있다.The example of the display device to which the composition for cleaning the substrate of the display device is applied is not limited, and examples thereof include a semiconductor and an LED chip.
한편, 발명의 다른 구현예에 따르면, 상기 일 구현예의 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물을 이용하여 기판을 세정하는 단계; 및 상기 세정된 기판상에 배향막용 조성물을 도포하는 단계를 포함하는 디스플레이 장치의 제조방법이 제공될 수 있다.On the other hand, according to another embodiment of the present invention, the step of cleaning a substrate using the substrate cleaning composition of the display device of the embodiment; And applying a composition for an alignment layer on the cleaned substrate.
상기 다른 구현예의 디스플레이 장치의 제조방법은, 기판상에 배향막용 조성물을 도포하는 단계 이전에, 상기 일 구현예의 디스플레이 기판 세정용 조성물을 이용하여 기판을 세정하는 단계를 거침에 따라, 기판 표면의 유기 이물질이 제거되어 표면 친수성 향상에 따른 표면 에너지 증가로 인해, 배향막용 조성물의 코팅성이 향상될 수 있다. 이에 따라, 최종적으로 제조된 디스플레이 장치는 핀홀 및 얼룩 불량이 현저히 감소되는 효과가 구현될 수 있다.The manufacturing method of the display device of the other embodiment is, prior to the step of applying the composition for an alignment layer on the substrate, by cleaning the substrate using the composition for cleaning the display substrate of the embodiment, organic The coating property of the composition for an alignment layer may be improved due to an increase in surface energy due to the improvement of surface hydrophilicity by removing foreign substances. Accordingly, in the finally manufactured display device, an effect of remarkably reducing pinhole and spot defects can be realized.
상기 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물에 관한 내용은 상기 일 구현예에 관하여 상술한 내용을 포함한다. The content of the composition for cleaning a substrate of the display device includes the above-described content of the embodiment.
상기 다른 구현예의 디스플레이 장치의 제조방법은 상기 일 구현예의 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물을 이용하여 기판을 세정하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 일 구현예의 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물을 이용하여 기판을 세정하는 방법의 구체적인 예는 크게 한정되는 것이 아니며, 일반적으로 사용되는 공지된 다양한 세정방법을 제한 없이 적용할 수 있다. 상기 기판으로는 디스플레이 장치에 사용되는 기판이면 본 발명이 속한 기술분야에서 사용되는 다양한 기판이 모두 사용될 수 있다.The method of manufacturing a display device according to another embodiment may include cleaning a substrate using the composition for cleaning a substrate of the display device according to the embodiment. A specific example of a method of cleaning a substrate by using the substrate cleaning composition of the display device of the embodiment is not limited, and various commonly used known cleaning methods may be applied without limitation. As the substrate, any of a variety of substrates used in the technical field to which the present invention pertains may be used as long as it is a substrate used in a display device.
또한, 상기 다른 구현예의 디스플레이 장치의 제조방법은 상기 세정된 기판상에 배향막용 조성물을 도포하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 배향막용 조성물의 예가 크게 한정되는 것은 아니며, 러빙 등을 통한 물리적 배향용 조성물 또는 UV 조사 등을 통한 광학적 배향용 조성물을 모두 포함할 수 있다.In addition, the method of manufacturing a display device according to another exemplary embodiment may include applying a composition for an alignment layer on the cleaned substrate. The example of the composition for the alignment layer is not limited to a large extent, and may include both a composition for physical alignment through rubbing or a composition for optical alignment through UV irradiation.
본 발명에 따르면, 소수성 유기 이물질 제거능력이 향상되고, 제거된 유기 이물질의 용해성이 높아 잔상 성능이 향상되며, 금속에 대한 부식성을 최소화할 수 있는 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물 및 이를 이용한 디스플레이 장치의 제조방법이 제공될 수 있다.According to the present invention, a composition for cleaning a substrate of a display device capable of improving the removal ability of a hydrophobic organic foreign matter, improving the afterimage performance due to high solubility of the removed organic foreign matter, and minimizing corrosiveness to metal, and a display device using the same. A manufacturing method may be provided.
발명을 하기의 실시예에서 보다 상세하게 설명한다. 단, 하기의 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐, 본 발명의 내용이 하기의 실시예에 의하여 한정되는 것은 아니다.The invention will be described in more detail in the following examples. However, the following examples are merely illustrative of the present invention, and the contents of the present invention are not limited by the following examples.
<< 실시예Example 1 내지 3, 1 to 3, 비교예Comparative example 1 내지 4: 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물의 제조> 1 to 4: Preparation of a composition for cleaning a substrate of a display device>
하기 표 1의 조성에 따라, 각 성분을 혼합하여 실시예 1 내지 3, 비교예 1 내지 4에 따른 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물을 각각 제조하였다. 상기 제조된 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물의 구체적인 조성은 하기 표1에 기재된 바와 같다. According to the composition of Table 1 below, each component was mixed to prepare a substrate cleaning composition for a display device according to Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 4, respectively. The specific composition of the substrate cleaning composition of the prepared display device is as shown in Table 1 below.
구분
division
(wt%)Example 1
(wt%)
(wt%)Example 2
(wt%)
(wt%)Example 3
(wt%)
(wt%)Comparative Example 1
(wt%)
(wt%)Comparative Example 2
(wt%)
(wt%)Comparative Example 3
(wt%)
(wt%)Comparative Example 4
(wt%)
* IME: 1-이미다졸리딘 에탄올* IME: 1-imidazolidine ethanol
* AEE: (2-아미노에톡시)-1-에탄올 * AEE: (2-aminoethoxy)-1-ethanol
* AIP: (1-아미노)-아이소프로판올 * AIP: (1-amino)-isopropanol
* DEA: 디에탄올아민* DEA: diethanolamine
* MDEA: N-메틸디에탄올아민* MDEA: N-methyldiethanolamine
* NMF: N-메틸포름아마이드* NMF: N-methylformamide
* DEF: N,N'-디에틸포름아마이드* DEF: N,N'-diethylformamide
* DMP: N,N'-디메틸프로피온아마이드* DMP: N,N'-dimethylpropionamide
* NMP: N-메틸피롤리돈* NMP: N-methylpyrrolidone
* BDG: 디에틸렌글리콜 모노부틸에테르* BDG: Diethylene glycol monobutyl ether
* EDG: 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르* EDG: Diethylene glycol monoethyl ether
* MDG: 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르* MDG: Diethylene glycol monomethyl ether
* KOH : 수산화칼륨* KOH: Potassium hydroxide
* 계면활성제: 폴리옥시에틸렌 폴리옥시프로필렌 알킬 에테르(FN10)* Surfactant: Polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ether (FN10)
* DIW: 증류수* DIW: distilled water
<< 실험예Experimental example : : 실시예Example 및 And 비교예에서In Comparative Example 얻어진 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물의 물성 측정> Measurement of physical properties of the substrate cleaning composition of the obtained display device>
상기 실시예 및 비교에에서 얻어진 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물 또는 상기 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물이 처리된 기판의 물성을 하기 방법으로 측정하였으며, 그 결과를 표에 나타내었다.The physical properties of the substrate cleaning composition of the display device obtained in the above Examples and Comparative Examples or the substrate treated with the substrate cleaning composition of the display device were measured by the following method, and the results are shown in the table.
1. 실리콘 세정력 1. Silicon cleaning power
실리콘 그리스 10g, 테트라하이드로퓨란(THF) 50g을 혼합한 후 일반적인 TFT glass '상판' 10cm x 10cm에 3.5mL 도포하고, 스핀 코팅 장치에서 400rpm의 속도 하에 코팅하여 실리콘 세정력 평가용 시편을 제조하였다. After mixing 10 g of silicone grease and 50 g of tetrahydrofuran (THF), 3.5 mL was applied to a general TFT glass'top plate' 10 cm x 10 cm, and coated at a speed of 400 rpm in a spin coating device to prepare a sample for evaluating silicone cleaning power.
이후, 상기 실시예 및 비교예에서 얻어진 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물을 각각 300g씩 준비하고, 30 ℃ 온도로 유지시킨다음, 상기 실리콘 세정력 평가용 시편을 처리한 다음, 증류수로 60초간 세척 후 공기로 건조시켰다. 이때 상기 코팅된 실리콘이 완전히 박리 및 제거되는 세정 완료 시간을 측정하여 실리콘 세정력을 평가하였다. 실리콘의 박리 여부는 광학 현미경으로 실리콘 잔막 여부를 관찰하는 방법을 사용하였다. Thereafter, 300 g of the substrate cleaning composition of the display device obtained in the above Examples and Comparative Examples were each prepared, maintained at a temperature of 30° C., the silicon cleaning power evaluation specimen was treated, and then washed with distilled water for 60 seconds and then air And dried. At this time, the cleaning power was evaluated by measuring the cleaning completion time at which the coated silicone was completely peeled off and removed. To determine whether the silicon was peeled off, a method of observing whether a silicon film was left behind was used with an optical microscope.
위와 같은 방법으로 실시예 1 내지 3, 비교예 1, 2, 4의 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물의 실리콘 세정력을 평가하여 하기 표 2에 나타내었다. The silicon cleaning power of the substrate cleaning composition of the display devices of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1, 2 and 4 was evaluated by the above method, and is shown in Table 2 below.
상기 표2에 나타난 바와 같이, 실시예 1 내지 3의 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물은 30초 미만의 매우 빠른 세정완료시간을 나타내어, 100초 이상의 긴 세정완료시간이 요구되는 비교예의 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물에 비해 우수한 실리콘 세정력을 나타냄을 확인할 수 있었다.As shown in Table 2, the substrate cleaning composition of the display device of Examples 1 to 3 exhibited a very fast cleaning completion time of less than 30 seconds, and thus a substrate of a display device of a comparative example requiring a long cleaning completion time of 100 seconds or more. It was confirmed that it exhibits superior silicone cleaning power compared to the cleaning composition.
2. 표면 친수성2. Surface hydrophilicity
일반적인 TFT glass 최종막에 해당하는 '상판'과, 일반적인 TFT 기판 최종막에 해당하는 '하판'에 대하여, 30 ℃ 온도로 유지시킨 상기 실시예 1 내지 2 및 비교예 1, 3에서 얻어진 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물을 각각 300g씩에 60초간 침지시킨 다음, 증류수로 60초간 세척 후 공기로 건조시켰다.For the'upper plate' corresponding to the general TFT glass final film and the'lower plate' corresponding to the general TFT substrate final film, the display devices obtained in Examples 1 to 2 and Comparative Examples 1 and 3 were maintained at a temperature of 30°C. The substrate cleaning composition was immersed in 300 g each for 60 seconds, washed with distilled water for 60 seconds, and then dried with air.
이후, 실린지를 이용하여 증류수 3㎕를 적하하고, 물방울의 접촉각을 측정하고, 그 결과를 하기 표3에 기재하였다. Thereafter, 3 µl of distilled water was added dropwise using a syringe, and the contact angle of the water droplets was measured, and the results are shown in Table 3 below.
3Comparative example
3
접촉각(도)Top
Contact angle (degree)
* 참고예 : 세정되지 않은 시편* Reference Example: Uncleaned specimen
상기 표 3에 나타난 바와 같이, 실시예1 내지 2의 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물이 처리된 기판은 상판과 하판 모두 60도 미만, 구체적으로 52도 내지 56도의 낮은 접촉각을 나타내어 표면이 높은 친수성을 나타냄을 확인할 수 있었다.As shown in Table 3, the substrates treated with the substrate cleaning composition of the display devices of Examples 1 to 2 exhibited a low contact angle of less than 60 degrees, specifically 52 degrees to 56 degrees, for both the upper and lower panels, so that the surface has high hydrophilicity. It could be confirmed that it was shown.
반면, 비교예 및 참고예의 경우, 60도 내지 81도로 실시예에 비해 높은 접촉각을 나타냄을 확인할 수 있었다. 이러한 결과로부터, 실시예의 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물을 처리할 경우, 기판 표면의 유기물질의 제거능력이 향상됨에 따라, 표면의 친수성 또한 증가하게 됨이 확인되었다.On the other hand, in the case of the comparative example and the reference example, it was confirmed that the contact angle was higher than that of the example at 60 degrees to 81 degrees. From these results, it was confirmed that when the composition for cleaning the substrate of the display device of the embodiment was treated, the hydrophilicity of the surface was also increased as the removal ability of organic substances on the substrate surface was improved.
3. PI 퍼짐성 3. PI spreadability
일반적인 TFT glass 최종막에 해당하는 '상판'과, 일반적인 TFT 기판 최종막에 해당하는 '하판'에 대하여, 30 ℃ 온도로 유지시킨 상기 실시예1 내지 2 및 비교예1에서 얻어진 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물을 각각 300g씩에 60초간 침지시킨 다음, 증류수로 60초간 세척 후 공기로 건조시켰다.The substrate cleaning of the display device obtained in Examples 1 to 2 and Comparative Example 1 was maintained at a temperature of 30°C with respect to the'upper plate' corresponding to the general TFT glass final film and the'lower plate' corresponding to the general TFT substrate final film The solvent composition was immersed in 300 g each for 60 seconds, washed with distilled water for 60 seconds, and then dried with air.
이후, 잉크젯프린터로 PI(배향막)을 10pm의 일정 간격으로 적하하고, 광학현미경으로 배향막의 지름을 측정하고, 그 결과를 하기 표4에 기재하였다. Thereafter, PI (alignment film) was dripped at regular intervals of 10 pm with an inkjet printer, and the diameter of the alignment film was measured with an optical microscope, and the results are shown in Table 4 below.
배향막 지름(㎛)Top
Alignment film diameter (㎛)
배향막 지름(㎛)Lower plate
Alignment film diameter (㎛)
* 참고예 : 세정되지 않은 시편* Reference Example: Uncleaned specimen
상기 표 4에 나타난 바와 같이, 실시예1 내지 2의 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물이 처리된 기판은 상판과 하판 모두 70㎛ 이상, 구체적으로 80㎛ 내지 85㎛의 긴 배향막 지름을 나타내어 향상된 퍼짐성을 나타냄을 확인할 수 있었다.As shown in Table 4, the substrates treated with the substrate cleaning composition of the display devices of Examples 1 to 2 exhibited a long alignment layer diameter of 70 μm or more, specifically 80 μm to 85 μm, and improved spreadability. It could be confirmed that it was shown.
반면, 비교예1 및 참고예의 경우, 44㎛ 내지 67㎛로 실시예에 비해 짧은 배향막 지름을 나타냄을 확인할 수 있었다. 이러한 결과로부터, 실시예의 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물을 처리할 경우, 기판 표면의 유기물질의 제거능력이 향상으로 표면의 친수성이 증가함에 따라, 배향막의 퍼짐성 또한 향상됨이 확인되었다.On the other hand, in the case of Comparative Example 1 and Reference Example, it was confirmed that the diameter of the alignment film was shorter than that of the Example in 44 μm to 67 μm. From these results, it was confirmed that when the composition for cleaning the substrate of the display device of the embodiment was treated, as the hydrophilicity of the surface was increased due to the improvement of the removal ability of organic substances on the substrate surface, the spreadability of the alignment layer was also improved.
4. 잔상 특성4. Afterimage characteristics
상기 실시예 2 및 비교예 4의 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물이 처리된 기판에 대하여, 흑백 모자이크 패턴 무늬를 패널(panel)에 인가하여, 흑백 스케일(총 255 scale) 중 회색 스케일(127 scale)을 걸고, 전압을 오프(off)시킨 후에 3 스케일로 돌아오는 시간을 측정하여 잔상 특성을 평가하였다.With respect to the substrates treated with the substrate cleaning composition of the display device of Example 2 and Comparative Example 4, a black and white mosaic pattern pattern was applied to the panel, and the gray scale (127 scale) of the black and white scale (total 255 scale) Was applied, the voltage was turned off, and the time to return to the 3 scale was measured to evaluate the afterimage characteristics.
상기 표 5에 나타난 바와 같이, 실시예2의 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물이 처리된 기판은 3 스케일까지의 소요 시간이 1분 이내로 빠르게 돌아오지만, 비교예4의 경우 소요 시간이 3분으로 실시예2에 비해 길게 측정되었다. As shown in Table 5, in the case of the substrate treated with the composition for cleaning the substrate of the display device of Example 2, the required time to 3 scale returns within 1 minute, but in the case of Comparative Example 4, the required time is 3 minutes. It was measured longer than in Example 2.
이에 따라, 실시예2의 디스플레이 기판 세정용 조성물을 처리할 경우 기판 표면의 유기물질의 제거능력이 향상되어, TFT 패널에 유기물이 남지 않아 액정 구동이 원활하게 되고 잔류 전하가 남지 않게 되어 잔상 특성이 개선됨을 확인할 수 있었다.Accordingly, when the composition for cleaning the display substrate of Example 2 is treated, the ability to remove organic substances on the surface of the substrate is improved, so that organic substances are not left on the TFT panel, so that the liquid crystal drive is smooth and residual charges are not left, resulting in an afterimage characteristic. It was confirmed that it was improved.
Claims (16)
상기 유기용매의 함량이 50 중량% 내지 99 중량%이고,
상기 고리형 아민 화합물은 1-이미다졸리딘 에탄올, 아미노 에틸 피페라진 및 히드록시 에틸피페라진으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함하며,
배향막을 형성하기 전의 기판의 세정에 사용하기 위한,
디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물.
One or more cyclic amine compounds; Organic solvents including linear or cyclic amide solvents and protic organic solvents; And a corrosion inhibitor; Including, the average boiling point is 160 ℃ to 230 ℃,
The content of the organic solvent is 50% to 99% by weight,
The cyclic amine compound includes one or more compounds selected from the group consisting of 1-imidazolidine ethanol, amino ethyl piperazine, and hydroxy ethyl piperazine,
For use in cleaning the substrate before forming the alignment film,
A composition for cleaning a substrate of a display device.
상기 선형 또는 고리형의 아마이드 용매 100 중량부 대비 양자성 유기 용매의 함량이 50 중량부 내지 600 중량부인, 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물.
The method of claim 1,
A composition for cleaning a substrate of a display device, wherein the content of the proton organic solvent is 50 parts by weight to 600 parts by weight relative to 100 parts by weight of the linear or cyclic amide solvent.
상기 선형 아마이드 용매는 탄소수 1 내지 5의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기가 질소에 1 내지 2치환된 아마이드 화합물을 포함하는, 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물.
The method of claim 1,
The linear amide solvent comprises an amide compound in which a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms is 1 to 2 substituted with nitrogen.
상기 선형 아마이드 용매는 N,N'-디에틸포름아마이드를 포함하는, 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물.
The method of claim 1,
The linear amide solvent comprises N,N'-diethylformamide. A composition for cleaning a substrate of a display device.
상기 N,N'-디에틸포름아마이드 100 중량부 대비 양자성 유기 용매의 함량이 50 중량부 내지 600 중량부인, 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물.
The method of claim 4,
A composition for cleaning a substrate of a display device, wherein the content of the proton organic solvent is 50 parts by weight to 600 parts by weight relative to 100 parts by weight of the N,N'-diethylformamide.
상기 1종 이상의 아민 화합물의 함량이 0.1 중량% 내지 20 중량%인, 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물.
The method of claim 1,
The content of the at least one amine compound is 0.1% by weight to 20% by weight, a composition for cleaning a substrate of a display device.
상기 부식 방지제의 함량이 0.01 중량% 내지 1 중량%인, 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물.
The method of claim 1,
The content of the corrosion inhibitor is 0.01% by weight to 1% by weight, a composition for cleaning a substrate of a display device.
상기 양자성 유기 용매는 알킬렌글리콜 또는 알킬렌글리콜 모노알킬에테르를 포함하는, 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물.
The method of claim 1,
The protonic organic solvent comprises an alkylene glycol or an alkylene glycol monoalkyl ether, a composition for cleaning a substrate of a display device.
상기 부식방지제는 벤즈이미다졸계 화합물, 트리아졸계 화합물 및 테트라졸계 화합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는, 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물.
The method of claim 1,
The corrosion inhibitor comprises at least one selected from the group consisting of a benzimidazole-based compound, a triazole-based compound and a tetrazole-based compound, a composition for cleaning a substrate of a display device.
상기 트리아졸계 화합물은 하기 화학식2의 화합물을 포함하는, 디스플레이 장치의 기판 세정용 조성물:
[화학식 2]
상기 화학식 2에서, R4는 수소 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기이고,
a는 1 내지 4의 정수이다.
The method of claim 14,
The triazole-based compound comprises a compound of the following formula (2), a composition for cleaning a substrate of a display device:
[Formula 2]
In Formula 2, R 4 is hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms,
a is an integer of 1 to 4.
상기 세정된 기판상에 배향막용 조성물을 도포하는 단계를 포함하는,
디스플레이 장치의 제조방법.
Cleaning a substrate before forming an alignment layer using the composition for cleaning a substrate of a display device according to any one of claims 1 to 7 and 13 to 15; And
Including the step of applying a composition for an alignment layer on the cleaned substrate,
Method of manufacturing a display device.
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