KR102152405B1 - Plasma monitoring apparatus and method - Google Patents

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    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32917—Plasma diagnostics
    • H01J37/32935—Monitoring and controlling tubes by information coming from the object and/or discharge

Abstract

본 발명은 카메라를 이용하여 전극 홀의 막힘을 모니터링할 수 있는 플라즈마 모니터링 장치 및 방법에 관한 것으로서, 플라즈마 가스를 방출하는 복수개의 전극 홀들을 촬영할 수 있는 적어도 하나의 적어도 하나의 카메라; 및 상기 카메라로부터 획득된 영상 정보를 이용하여 상기 전극 홀들의 상태를 판별할 수 있는 영상 판별부;를 포함할 수 있다.The present invention relates to a plasma monitoring apparatus and method capable of monitoring blockage of electrode holes using a camera, comprising: at least one camera capable of photographing a plurality of electrode holes emitting plasma gas; And an image determination unit capable of determining the states of the electrode holes by using the image information obtained from the camera.

Description

플라즈마 모니터링 장치 및 방법{Plasma monitoring apparatus and method}Plasma monitoring apparatus and method TECHNICAL FIELD

본 발명은 플라즈마 모니터링 장치 및 방법에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로 카메라를 이용하여 전극 홀의 막힘을 모니터링할 수 있는 플라즈마 모니터링 장치 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma monitoring apparatus and method, and more particularly, to a plasma monitoring apparatus and method capable of monitoring clogging of electrode holes using a camera.

일반적으로 플라즈마(plasma)는 이온이나 전자, 라디칼 등으로 이루어진 이온화된 가스 상태를 말하며, 플라즈마는 매우 높은 온도나 강한 전계 혹은 고주파 전자계(RF)에 의해 생성된다.In general, plasma refers to an ionized gas state consisting of ions, electrons, radicals, etc., and plasma is generated by a very high temperature, strong electric field, or high frequency electromagnetic field (RF).

반도체 공정이나 디스플레이 공정에서 사용되는 플라즈마 가스는 일반적으로 강한 전계 혹은 고주파 전자계를 형성할 수 있는 전극 패널에 형성된 복수개의 전극 홀들을 통해 대상 기판 등에 공급될 수 있다.Plasma gas used in a semiconductor process or a display process may generally be supplied to a target substrate through a plurality of electrode holes formed in an electrode panel capable of forming a strong electric field or a high frequency electromagnetic field.

그러나, 종래의 플라즈마 가스 공급 시스템에서는 전극 홀의 막힘을 검사할 수 있는 방법이 없어서 전극 홀이 막히는 경우, 막힘 전극 홀에 대응되는 대상 기판(처리 대상물)이 불균일하게 가공되는 문제점들이 있었다.However, in the conventional plasma gas supply system, there is no method for inspecting the clogging of the electrode hole, so when the electrode hole is clogged, there is a problem that the target substrate (process object) corresponding to the clogged electrode hole is unevenly processed.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 포함하여 여러 문제점들을 해결하기 위한 것으로서, 카메라를 이용하여 전극 홀의 막힘을 모니터링 할 수 있는 플라즈마 모니터링 장치 및 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 그러나 이러한 과제는 예시적인 것으로, 이에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.An object of the present invention is to solve various problems including the above problems, and an object thereof is to provide a plasma monitoring apparatus and method capable of monitoring clogging of electrode holes using a camera. However, these problems are exemplary, and the scope of the present invention is not limited thereby.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 사상에 따른 플라즈마 모니터링 장치는, 플라즈마 가스를 방출하는 복수개의 전극 홀들을 촬영할 수 있는 적어도 하나의 적어도 하나의 카메라; 및 상기 카메라로부터 획득된 영상 정보를 이용하여 상기 전극 홀들의 상태를 판별할 수 있는 영상 판별부;를 포함할 수 있다.A plasma monitoring apparatus according to the present invention for solving the above problem includes at least one camera capable of photographing a plurality of electrode holes emitting plasma gas; And an image determination unit capable of determining the states of the electrode holes by using the image information obtained from the camera.

또한, 본 발명에 따르면, 상기 영상 판별부는, 상기 전극 홀의 막힘 여부를 판단하는 기준이 되는 기준 영상을 획득하는 기준 영상 획득부; 상기 기준 영상 내의 검사하고자 하는 관심 영역(ROI; Region of interest)을 지정하는 대상 영역 지정부; 상기 관심 영역 내의 모든 픽셀들의 원홀(one hole)로 인식될 수 있는 밝기 값(Mbright)과 픽셀 개수(Mqty)로 설정된 파라미터 값을 기준으로 상기 전극 홀들에 해당되는 원홀로 인식하는 원홀 인식부; 상기 전극 홀들에 해당되도록 상기 원홀들의 고유 번호를 부여하는 좌표 값 설정부; 상기 카메라로부터 획득된 영상 정보의 판별 데이터 값을 산출하는 판별 데이터 산출부; 및 상기 판별 데이터 값을 기준치와 비교하여 상한 또는 하한을 벗어나는 경우, 알림 정보를 출력하는 데이터 판별부;를 포함할 수 있다.In addition, according to the present invention, the image determination unit includes: a reference image acquisition unit for acquiring a reference image serving as a reference for determining whether the electrode hole is blocked; A target region designation unit for designating a region of interest (ROI) to be examined in the reference image; A one hole recognition unit for recognizing a one hole corresponding to the electrode holes based on a parameter value set as a brightness value Mbright and a number of pixels Mqty, which can be recognized as one hole of all pixels in the region of interest; A coordinate value setting unit that assigns unique numbers of the one holes to correspond to the electrode holes; A discrimination data calculation unit that calculates a discrimination data value of image information obtained from the camera; And a data determination unit that compares the determination data value with a reference value and outputs notification information when it exceeds the upper or lower limit.

또한, 본 발명에 따르면, 상기 판별 데이터 산출부는, 상기 원홀을 구성하는 픽셀 중 가장 높은 밝기 값인 최대 밝기 값(Bmax)과, 상기 원홀을 구성하는 픽셀 중 가장 낮은 밝기 값인 최소 밝기 값(Bmin) 및 상기 원홀을 구성하는 픽셀의 밝기 합을 상기 원홀의 픽셀 개수로 나눈 평균 밝기 값(Bave)을 산출하는 원홀 데이터 산출부; 및 상기 원홀들이 집합된 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave) 및 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev)를 산출하는 멀티홀 데이터 산출부;를 포함하고, 상기 데이터 판별부는, 적어도 상기 원홀들의 평균 밝기 값(Bave), 상기 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave), 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev) 및 이들의 조합들 중 어느 하나 이상을 포함한 데이터 값을 상기 기준치와 비교할 수 있다.In addition, according to the present invention, the discrimination data calculation unit includes a maximum brightness value (Bmax), which is the highest brightness value among pixels constituting the one hole, and a minimum brightness value (Bmin), which is the lowest brightness value among pixels constituting the one hole, and A one-hole data calculator configured to calculate an average brightness value (Bave) obtained by dividing the sum of brightness of pixels constituting the one hole by the number of pixels in the one hole; And a multi-hole data calculator configured to calculate an average brightness value (Mave) of the multi-holes in which the one-holes are aggregated and a standard deviation value (Mdev) of the multi-holes; wherein the data determination unit includes at least an average brightness value of the one-holes. A data value including at least one of a value (Bave), an average brightness value (Mave) of the multi-holes, a standard deviation value (Mdev) of the multi-holes, and combinations thereof may be compared with the reference value.

또한, 본 발명에 따르면, 상기 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave)은, (Bave1 + Bave2 +.....BaveN)/N이고, 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev)은, {(Mave-Bave1)2 + (Mave-Bave2)2 +....(Mave-BaveN)2/N}1/2일 수 있다.Further, according to the present invention, the average brightness value (Mave) of the multi-holes is (Bave1 + Bave2 +.....BaveN)/N, and the standard deviation value (Mdev) of the multi-holes is {(Mave) -Bave1) 2 + (Mave-Bave2) 2 +....(Mave-BaveN) 2 /N} It may be 1/2 .

또한, 본 발명에 따르면, 상기 전극 홀들은 대상 기판의 이동 경로의 상방에 배치되어 길이 방향으로 길게 형성된 전극 패널에 M행 N열로 배치되고, 상기 카메라는 상기 대상 기판의 상기 이동 경로의 하방에 배치되어 상기 복수개의 상기 전극 홀들을 구획별로 담당할 수 있는 복수개의 카메라들로 이루어지고, 복수개의 상기 카메라들을 보호할 수 있도록 상기 카메라들을 둘러싸는 형상으로 길이 방향으로 길게 형성되는 케이스;를 더 포함할 수 있다.In addition, according to the present invention, the electrode holes are arranged in M rows and N columns on an electrode panel that is arranged above the movement path of the target substrate and formed long in the length direction, and the camera is arranged below the movement path of the target substrate. A case consisting of a plurality of cameras capable of taking charge of the plurality of electrode holes by division, and being formed to extend in the longitudinal direction in a shape surrounding the cameras so as to protect the plurality of cameras; I can.

또한, 본 발명에 따른 플라즈마 모니터링 장치는, 상기 플라즈마 가스로부터 상기 카메라를 보호하고, 이물질들이 적층되면 교체될 수 있도록 상기 케이스에 조립되는 윈도우 글래스;를 더 포함할 수 있다.In addition, the plasma monitoring apparatus according to the present invention may further include a window glass assembled to the case to protect the camera from the plasma gas and to be replaced when foreign substances are stacked.

한편, 상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 사상에 따른 플라즈마 모니터링 방법은, 전극 홀의 막힘 여부를 판단하는 기준이 되는 기준 영상을 획득하는 기준 영상 획득 단계; 상기 기준 영상 내의 검사하고자 하는 관심 영역(ROI; Region of interest)을 지정하는 대상 영역 지정 단계; 상기 관심 영역 내의 모든 픽셀들의 원홀(one hole)로 인식될 수 있는 밝기 값(Mbright)과 픽셀 개수(Mqty)로 설정된 파라미터 값을 기준으로 상기 전극 홀들에 해당되는 원홀로 인식하는 원홀 인식 단계; 상기 전극 홀들에 해당되도록 상기 원홀들의 고유 번호를 부여하는 좌표 값 설정 단계; 상기 카메라로부터 획득된 영상 정보의 판별 데이터 값을 산출하는 판별 데이터 산출 단계; 및 상기 판별 데이터 값을 기준치와 비교하여 상한 또는 하한을 벗어나는 경우, 알림 정보를 출력하는 데이터 판별 단계;를 포함할 수 있다.On the other hand, the plasma monitoring method according to the idea of the present invention for solving the above problem, the reference image acquisition step of obtaining a reference image as a reference for determining whether an electrode hole is blocked; A target region designating step of designating a region of interest (ROI) to be examined in the reference image; A one-hole recognition step of recognizing a one hole corresponding to the electrode holes based on a parameter value set as a brightness value Mbright and a number of pixels Mqty that can be recognized as one hole of all pixels in the region of interest; Setting a coordinate value of assigning unique numbers of the one holes to correspond to the electrode holes; A discrimination data calculation step of calculating a discrimination data value of image information obtained from the camera; And a data determination step of comparing the determination data value with a reference value and outputting notification information when it exceeds the upper or lower limit.

또한, 본 발명에 따르면, 상기 판별 데이터 산출 단계는, 상기 원홀을 구성하는 픽셀 중 가장 높은 밝기 값인 최대 밝기 값(Bmax)과, 상기 원홀을 구성하는 픽셀 중 가장 낮은 밝기 값인 최소 밝기 값(Bmin) 및 상기 원홀을 구성하는 픽셀의 밝기 합을 상기 원홀의 픽셀 개수로 나눈 평균 밝기 값(Bave)을 산출하는 원홀 데이터 산출 단계; 및 상기 원홀들이 집합된 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave) 및 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev)를 산출하는 멀티홀 데이터 산출 단계;를 포함하고, 상기 데이터 판별 단계는, 적어도 상기 원홀들의 평균 밝기 값(Bave), 상기 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave), 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev) 및 이들의 조합들 중 어느 하나 이상을 포함한 데이터 값을 상기 기준치와 비교할 수 있다.In addition, according to the present invention, the step of calculating the discrimination data includes a maximum brightness value (Bmax), which is the highest brightness value among pixels constituting the one hole, and a minimum brightness value (Bmin), which is the lowest brightness value among pixels constituting the one hole. And calculating an average brightness value (Bave) obtained by dividing a sum of brightness of pixels constituting the one hole by the number of pixels in the one hole. And a multi-hole data calculation step of calculating an average brightness value (Mave) of the multi-holes in which the one-holes are aggregated and a standard deviation value (Mdev) of the multi-holes; wherein the data determination step includes at least an average of the one-holes. A data value including at least one of a brightness value (Bave), an average brightness value (Mave) of the multi-holes, a standard deviation value (Mdev) of the multi-holes, and combinations thereof may be compared with the reference value.

상기한 바와 같이 이루어진 본 발명의 일부 실시예들에 따르면, 카메라를 이용하여 전극 홀의 막힘을 모니터링 할 수 있고, 전극 홀의 부분 막힘 또는 완전 막힘시 신속하게 알람 신호를 발생시켜서 플라즈마 장비 운영을 원활하게 할 수 있는 효과를 갖는 것이다. 물론 이러한 효과에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다. According to some embodiments of the present invention made as described above, it is possible to monitor the clogging of the electrode hole using a camera, and when the electrode hole is partially clogged or completely clogged, an alarm signal is quickly generated to facilitate plasma equipment operation. It has an effect that can be done. Of course, the scope of the present invention is not limited by these effects.

도 1은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 플라즈마 모니터링 장치를 나타내는 사시도이다.
도 2는 도 1의 플라즈마 모니터링 장치의 부품 분해 사시도이다.
도 3은 도 1의 플라즈마 모니터링 장치의 영상 판별부를 나타내는 블록도이다.
도 4 내지 도 11은 도 1의 플라즈마 모니터링 장치를 이용한 영상 판별 과정을 나타내는 도면들이다.
도 12는 본 발명의 일부 실시예들에 따른 플라즈마 모니터링 방법을 나타내는 순서도이다.
도 13은 도 12의 플라즈마 모니터링 방법의 일례를 나타내는 순서도이다.1 is a perspective view showing a plasma monitoring apparatus according to some embodiments of the present invention.
2 is an exploded perspective view of parts of the plasma monitoring device of FIG. 1.
3 is a block diagram illustrating an image determination unit of the plasma monitoring device of FIG. 1.
4 to 11 are diagrams illustrating an image discrimination process using the plasma monitoring device of FIG. 1.
12 is a flowchart illustrating a plasma monitoring method according to some embodiments of the present invention.
13 is a flowchart showing an example of the plasma monitoring method of FIG. 12.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 여러 실시예들을 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, various exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명의 실시예들은 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이며, 하기 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다. 오히려 이들 실시예들은 본 개시를 더욱 충실하고 완전하게 하고, 당업자에게 본 발명의 사상을 완전하게 전달하기 위하여 제공되는 것이다. 또한, 도면에서 각 층의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장된 것이다.The embodiments of the present invention are provided to more completely describe the present invention to those of ordinary skill in the art, and the following examples may be modified in various other forms, and the scope of the present invention is as follows. It is not limited to the examples. Rather, these embodiments are provided to make the present disclosure more faithful and complete, and to completely convey the spirit of the present invention to those skilled in the art. In addition, in the drawings, the thickness or size of each layer is exaggerated for convenience and clarity of description.

도 1은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 플라즈마 모니터링 장치(100)를 나타내는 사시도이다. 그리고, 도 2는 도 1의 플라즈마 모니터링 장치(100)의 부품 분해 사시도이고, 도 3은 도 1의 플라즈마 모니터링 장치(100)의 영상 판별부(25)를 나타내는 블록도이다.1 is a perspective view illustrating a plasma monitoring apparatus 100 according to some embodiments of the present invention. In addition, FIG. 2 is an exploded perspective view of parts of the plasma monitoring apparatus 100 of FIG. 1, and FIG. 3 is a block diagram illustrating an image discriminating unit 25 of the plasma monitoring apparatus 100 of FIG. 1.

먼저, 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 플라즈마 모니터링 장치(100)는, 크게 카메라(10)와 영상 판별부(20)와, 케이스(40) 및 윈도우 글래스(50)를 포함할 수 있다.First, as shown in FIGS. 1 to 3, the plasma monitoring apparatus 100 according to some embodiments of the present invention includes a camera 10, an image discriminating unit 20, a case 40, and a window. It may include a glass (50).

예컨대, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 카메라(10)는, 플라즈마 가스를 방출하는 복수개의 전극 홀(H)들을 촬영할 수 있도록 영상 정보를 획득할 수 있는 일종의 영상 획득 장치로서, 대상 기판(1)의 상기 이동 경로의 하방에 배치되어 상기 복수개의 상기 전극 홀(H)들을 구획별로 담당할 수 있는 복수개의 카메라(10)들로 이루어질 수 있다.For example, as shown in FIGS. 1 and 2, the camera 10 is a kind of image acquisition device capable of acquiring image information so that a plurality of electrode holes H emitting plasma gas can be photographed. It may be formed of a plurality of cameras 10 disposed below the movement path of the substrate 1 and capable of handling the plurality of electrode holes H by division.

더욱 구체적으로 예를 들면, 상기 카메라(10)는, 상기 대상 기판(1)의 이동 경로의 상방에 배치되어 길이 방향으로 길게 형성된 전극 패널(30)에 M행 N열로 배치된 상기 전극 홀(H)과 대응될 수 있도록 길이 방향으로 일렬 배치될 수 있다.More specifically, for example, the camera 10 includes the electrode holes H arranged in M rows and N columns in the electrode panel 30 disposed above the movement path of the target substrate 1 and formed to be elongated in the length direction. ) May be arranged in a row in the longitudinal direction to correspond to.

이러한 일렬 배치된 복수개의 상기 카메라(10)들은 스캔 방식으로 플라즈마 가스를 공급할 수 있도록 길이 방향으로 길게 형성된 상기 전극 패널(30)과 대응되는 것으로서, 예컨대, 이동 중인 상기 대상 기판(1)과 다른 대상 기판(1)들 사이의 공간이 오픈되는 동안, 상기 플라즈마 가스를 공급하는 중이거나 또는 플라즈마 가스 공급이 잠시 중단 중인 상기 전극 패널(30)을 촬영할 수 있다. The plurality of cameras 10 arranged in a row correspond to the electrode panel 30 formed to be elongated in the longitudinal direction so as to supply plasma gas in a scan method, for example, a target different from the target substrate 1 in motion. While the space between the substrates 1 is open, the electrode panel 30 may be photographed while the plasma gas is being supplied or the plasma gas supply is temporarily stopped.

또한, 예컨대, 상기 케이스(40)는, 복수개의 상기 카메라(10)들을 보호할 수 있도록 상기 카메라(10)들을 둘러싸는 형상으로 길이 방향으로 길게 형성되는 것으로서, 상기 카메라(10)들은 상기 케이스(40)의 내부에 수용될 수 있다.In addition, for example, the case 40 is formed to be elongated in the longitudinal direction in a shape surrounding the cameras 10 so as to protect the plurality of cameras 10, and the cameras 10 include the case ( 40) can be accommodated inside.

또한, 예컨대, 상기 윈도우 글래스(50)는, 상기 플라즈마 가스로부터 상기 카메라(10)를 보호하고, 이물질들이 적층되면 교체될 수 있도록 상기 케이스(40)의 수광축에 조립될 수 있다.Further, for example, the window glass 50 may be assembled on the light receiving shaft of the case 40 to protect the camera 10 from the plasma gas and to be replaced when foreign substances are stacked.

이러한, 상기 윈도우 글래스(50)는 적어도 일부분이 상기 케이스(40)의 외부로 노출될 수 있고, 트위스트 캡 방식이나 기타 나사 고정 방식 등으로 상기 케이스(40)에 조립되어 사용자가 주변 환경에 의해 오염된 상기 윈도우 글래스(50)를 새것으로 쉽게 교체할 수 있다.At least a portion of the window glass 50 may be exposed to the outside of the case 40, and it is assembled to the case 40 by a twist cap method or other screw fixing method, so that the user is contaminated by the surrounding environment. The old window glass 50 can be easily replaced with a new one.

한편, 예컨대, 상기 영상 판별부(20)는, 상기 카메라(10)로부터 획득된 영상 정보를 이용하여 상기 전극 홀(H)들의 상태를 판별할 수 있는 일종의 영상 판독 장치로서, 예를 들면, 각종 회로나, 집적 회로나, 마이크로 프로세서나, 중앙 처리 장치나, 연산 장치나, 제어 패널이나, 전자 부품이나, 입출력 장치나, 디스플레이 장치나 메모리 장치 등을 포함하는 컴퓨터나 스마트 기기 등의 각종 전자 장치일 수 있다.Meanwhile, for example, the image determination unit 20 is a kind of image reading device capable of determining the state of the electrode holes H using image information obtained from the camera 10, for example, various Various electronic devices such as computers and smart devices including circuits, integrated circuits, microprocessors, central processing units, arithmetic units, control panels, electronic components, input/output devices, display devices, memory devices, etc. Can be

예를 들면, 이러한 상기 영상 판별부(20)는, 각각의 기능을 담당하는 회로부나 집적 회로 칩이나 각종 프로그램에 의해 동작되는 소프트웨어 구동 장치 등에 의해 작동될 수 있다.For example, the image discriminating unit 20 may be operated by a circuit unit in charge of each function, an integrated circuit chip, or a software driving device operated by various programs.

더욱 구체적으로 예를 들면, 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 영상 판별부(20)는, 상기 전극 홀(H)의 막힘 여부를 판단하는 기준이 되는 기준 영상을 획득하는 기준 영상 획득부(21)와, 상기 기준 영상 내의 검사하고자 하는 관심 영역(ROI; Region of interest)을 지정하는 대상 영역 지정부(22)와, 상기 관심 영역 내의 모든 픽셀들의 원홀(one hole)로 인식될 수 있는 밝기 값(Mbright)과 픽셀 개수(Mqty)로 설정된 파라미터 값을 기준으로 상기 전극 홀(H)들에 해당되는 원홀로 인식하는 원홀 인식부(23)와, 상기 전극 홀(H)들에 해당되도록 상기 원홀들의 고유 번호를 부여하는 좌표 값 설정부(24)와, 상기 카메라(10)로부터 획득된 영상 정보의 판별 데이터 값을 산출하는 판별 데이터 산출부(25) 및 상기 판별 데이터 값을 기준치와 비교하여 상한 또는 하한을 벗어나는 경우, 알림 정보를 출력하는 데이터 판별부(26)를 포함할 수 있다.More specifically, for example, as shown in FIGS. 1 to 3, the image determination unit 20 acquires a reference image that becomes a reference image for determining whether the electrode hole H is blocked. The unit 21, a target region designation unit 22 that designates a region of interest (ROI) to be inspected in the reference image, and a one hole of all pixels in the region of interest can be recognized. A one-hole recognition unit 23 that recognizes as a one-hole corresponding to the electrode holes H based on a parameter value set as a brightness value Mbright and the number of pixels Mqty, and the electrode holes H A coordinate value setting unit 24 for assigning a unique number of the one holes, a determination data calculation unit 25 for calculating a discrimination data value of the image information obtained from the camera 10, and the discrimination data value It may include a data determination unit 26 for outputting notification information when the comparison exceeds the upper or lower limit.

여기서, 예컨대, 상기 판별 데이터 산출부(25)는, 상기 원홀을 구성하는 픽셀 중 가장 높은 밝기 값인 최대 밝기 값(Bmax)과, 상기 원홀을 구성하는 픽셀 중 가장 낮은 밝기 값인 최소 밝기 값(Bmin) 및 상기 원홀을 구성하는 픽셀의 밝기 합을 상기 원홀의 픽셀 개수로 나눈 평균 밝기 값(Bave)을 산출하는 원홀 데이터 산출부(251) 및 상기 원홀들이 집합된 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave) 및 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev)를 산출하는 멀티홀 데이터 산출부(252)를 포함할 수 있다.Here, for example, the discrimination data calculation unit 25 includes a maximum brightness value (Bmax), which is the highest brightness value among pixels constituting the one hole, and a minimum brightness value (Bmin), which is the lowest brightness value among pixels constituting the one hole. And a one-hole data calculator 251 for calculating an average brightness value (Bave) obtained by dividing the sum of brightness of the pixels constituting the one hole by the number of pixels in the one hole, and the average brightness value (Mave) of the multi-holes in which the one holes are aggregated, and It may include a multi-hole data calculator 252 for calculating the standard deviation value Mdev of the multi-holes.

더욱 구체적으로 예를 들면, 상기 데이터 판별부(26)는, 적어도 상기 원홀들의 평균 밝기 값(Bave), 상기 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave), 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev) 및 이들의 조합들 중 어느 하나 이상을 포함한 데이터 값을 상기 기준치와 비교할 수 있다.More specifically, for example, the data discrimination unit 26 includes at least an average brightness value of the one holes (Bave), an average brightness value of the multi-holes (Mave), a standard deviation value of the multi-holes (Mdev), and A data value including any one or more of combinations of may be compared with the reference value.

여기서, 예컨대, 상기 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave)은, (Bave1 + Bave2 +.....BaveN)/N이고, 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev)은, {(Mave-Bave1)2 + (Mave-Bave2)2 +....(Mave-BaveN)2/N}1/2일 수 있다.Here, for example, the average brightness value (Mave) of the multi-holes is (Bave1 + Bave2 +.....BaveN)/N, and the standard deviation value (Mdev) of the multi-holes is ((Mave-Bave1) It may be 2 + (Mave-Bave2) 2 +....(Mave-BaveN) 2 /N} 1/2 .

이러한, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 플라즈마 모니터링 장치(100)를 이용한 플라즈마 모니터링 과정을 보다 상세하게 설명하기로 한다.The plasma monitoring process using the plasma monitoring apparatus 100 according to some embodiments of the present invention will be described in more detail.

도 4 내지 도 11은 도 1의 플라즈마 모니터링 장치(100)의 영상 판별 과정을 나타내는 도면들이다.4 to 11 are diagrams illustrating an image determination process of the plasma monitoring apparatus 100 of FIG. 1.

먼저, 도 4에 도시된 바와 같이, 전극 홀(H)의 막힘 여부를 판단하는 기준이 되는 X 픽셀과 Y 픽셀로 이루어진 기준 영상을 획득할 수 있다. 즉, X와 Y의 곱한 개수로 이루어지는 이들 픽셀들은 촬영된 기준 영상에 의해서 고유한 밝기 값을 가질 수 있고, 이들 동일한 밝기 값을 갖는 픽셀들은 그 개수를 셀 수 있다.First, as shown in FIG. 4, a reference image composed of X pixels and Y pixels that serve as criteria for determining whether the electrode hole H is blocked may be obtained. That is, these pixels formed by the product of the product of X and Y may have unique brightness values according to the captured reference image, and pixels having the same brightness values may be counted.

이어서, 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 기준 영상 내의 검사하고자 하는 관심 영역(A)(ROI; Region of interest)을 지정할 수 있다. 이러한 관심 영역(A)들은 각종 입력 장치나 프로그램 등에 의해 1개만 설정하거나 일부분만 설정하거나 전체를 모두 설정하는 등 매우 다양한 개수 또는 영역을 대상 영역으로 지정할 수 있다.Subsequently, as illustrated in FIG. 5, a region of interest (ROI) to be inspected in the reference image may be designated. These regions of interest A may be set as a target region in a wide variety of numbers or regions, such as setting only one region, setting only a portion, or setting all regions by various input devices or programs.

이어서, 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 관심 영역 내의 실제 전극 홀들의 형태가 (a)의 경우와 (b)의 경우와 같이 동근 원형으로 이루어졌다면, 도 7에 도시된 바와 같이, 모든 픽셀들의 원홀(one hole)로 인식될 수 있는 밝기 값(Mbright)과 픽셀 개수(Mqty)로 설정된 파라미터 값을 기준으로 상기 전극 홀들에 해당되는(a)의 경우 전체적으로 사각형인 원홀(픽셀화된 원홀) 또는 (b)의 경우 전체적으로 마름모꼴인 원홀(픽셀화된 원홀)로 인식할 수 있다.Subsequently, as shown in FIG. 6, if the shape of the actual electrode holes in the region of interest is rounded as in cases (a) and (b), as shown in FIG. 7, all pixels In the case of (a) corresponding to the electrode holes based on the parameter values set as the brightness value (Mbright) and the number of pixels (Mqty) that can be recognized as one hole, the overall square one hole (pixelated one hole) or In the case of (b), it can be recognized as an overall rhombic one hole (pixelated one hole).

따라서, 도 8에 도시된 바와 같이, 예컨대, 상기 영상 판별부(20)의 모니터의 화면 등에는 카메라 1(Cam 1)부터 카메라 12(Cam 12)까지 각각을 담당하는 전극 홀의 영상을 표시할 수 있다.Therefore, as shown in FIG. 8, for example, on the screen of the monitor of the image discriminating unit 20, an image of an electrode hole in charge of each of the camera 1 (Cam 1) to the camera 12 (Cam 12) can be displayed. have.

이어서, 도 9에 도시된 바와 같이, 화면에 나타나는 상기 전극 홀(H)들을 가상의 M행 N열로 지정하고, 상기 전극 홀(H)들에 해당되도록 상기 원홀들의 고유 번호를 부여하여 좌표 값을 설정할 수 있다.Next, as shown in FIG. 9, the electrode holes H appearing on the screen are designated as virtual M rows and N columns, and the coordinate values are assigned by assigning unique numbers of the one holes to correspond to the electrode holes H. Can be set.

이어서, 도 10에 도시된 바와 같이, 상기 카메라(10)로부터 획득된 영상 정보의 판별 데이터 값을 산출하여 이상이 있는 상기 카메라(10)를 하이라이트 표시(B)할 수 있다.Subsequently, as illustrated in FIG. 10, by calculating the discrimination data value of the image information obtained from the camera 10, the camera 10 having an abnormality may be highlighted (B).

이 때, 상기 원홀을 구성하는 픽셀 중 가장 높은 밝기 값인 최대 밝기 값(Bmax)과, 상기 원홀을 구성하는 픽셀 중 가장 낮은 밝기 값인 최소 밝기 값(Bmin) 및 상기 원홀을 구성하는 픽셀의 밝기 합을 상기 원홀의 픽셀 개수로 나눈 평균 밝기 값(Bave)을 산출하고, 상기 원홀들이 집합된 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave) 및 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev)를 산출할 수 있다.In this case, a maximum brightness value (Bmax), which is the highest brightness value among pixels constituting the one hole, and a minimum brightness value (Bmin), which is the lowest brightness value among pixels constituting the one hole, and the sum of brightness of pixels constituting the one hole An average brightness value (Bave) divided by the number of one-hole pixels may be calculated, and an average brightness value (Mave) of the multi-holes in which the one-holes are aggregated, and a standard deviation value (Mdev) of the multi-holes may be calculated.

따라서, 상기 영상 판별부(20)는, 적어도 상기 원홀들의 평균 밝기 값(Bave), 상기 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave), 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev) 및 이들의 조합들 중 어느 하나 이상을 포함한 데이터 값을 상기 기준치와 비교하여 상한 또는 하한을 벗어나는 경우, 도 11에 도시된 바와 같이, 정확한 좌표 값, 예컨대, 5행 9열과 같이 이상이 발생된 전극 홀의 위치를 알림 정보로 출력할 수 있다.Accordingly, the image discriminating unit 20 may at least one of the average brightness values of the one holes (Bave), the average brightness values of the multi-holes (Mave), the standard deviation values of the multi-holes (Mdev), and combinations thereof. When the data value including one or more is compared with the reference value and exceeds the upper or lower limit, as shown in FIG. 11, the exact coordinate value, for example, the position of the electrode hole where the abnormality has occurred, such as 5 rows and 9 columns, is output as notification information. can do.

도 12는 본 발명의 일부 실시예들에 따른 플라즈마 모니터링 방법을 나타내는 순서도이다.12 is a flowchart illustrating a plasma monitoring method according to some embodiments of the present invention.

도 1 내지 도 12에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 플라즈마 모니터링 방법은, 전극 홀(H)의 막힘 여부를 판단하는 기준이 되는 기준 영상을 획득하는 기준 영상 획득 단계(S1)와, 상기 기준 영상 내의 검사하고자 하는 관심 영역(ROI; Region of interest)을 지정하는 대상 영역 지정 단계(S2)와, 상기 관심 영역 내의 모든 픽셀들의 원홀(one hole)로 인식될 수 있는 밝기 값(Mbright)과 픽셀 개수(Mqty)로 설정된 파라미터 값을 기준으로 상기 전극 홀들에 해당되는 원홀로 인식하는 원홀 인식 단계(S3)와, 상기 전극 홀(H)들에 해당되도록 상기 원홀들의 고유 번호를 부여하는 좌표 값 설정 단계(S4)와, 상기 카메라(10)로부터 획득된 영상 정보의 판별 데이터 값을 산출하는 판별 데이터 산출 단계(S5) 및 상기 판별 데이터 값을 기준치와 비교하여 상한 또는 하한을 벗어나는 경우, 알림 정보를 출력하는 데이터 판별 단계(S6)를 포함할 수 있다.1 to 12, in the plasma monitoring method according to some embodiments of the present invention, a reference image acquisition step (S1) of acquiring a reference image serving as a reference for determining whether the electrode hole H is blocked. ), a target region designation step (S2) of designating a region of interest (ROI) to be inspected in the reference image, and a brightness value that can be recognized as a one hole of all pixels in the region of interest A one-hole recognition step (S3) of recognizing a one-hole corresponding to the electrode holes based on a parameter value set as (Mbright) and the number of pixels (Mqty), and a unique number of the one-holes to correspond to the electrode holes (H). The coordinate value setting step (S4) to be assigned, the discrimination data calculation step (S5) of calculating the discrimination data value of the image information obtained from the camera 10, and the discrimination data value is compared with a reference value to exceed the upper or lower limit. In this case, a data determination step S6 of outputting notification information may be included.

여기서, 예컨대, 상기 판별 데이터 산출 단계(S5)는, 상기 원홀을 구성하는 픽셀 중 가장 높은 밝기 값인 최대 밝기 값(Bmax)과, 상기 원홀을 구성하는 픽셀 중 가장 낮은 밝기 값인 최소 밝기 값(Bmin) 및 상기 원홀을 구성하는 픽셀의 밝기 합을 상기 원홀의 픽셀 개수로 나눈 평균 밝기 값(Bave)을 산출하는 원홀 데이터 산출 단계(S51) 및 상기 원홀들이 집합된 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave) 및 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev)를 산출하는 멀티홀 데이터 산출 단계(S52)를 포함하고, 상기 데이터 판별 단계(S6)는, 적어도 상기 원홀들의 평균 밝기 값(Bave), 상기 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave), 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev) 및 이들의 조합들 중 어느 하나 이상을 포함한 데이터 값을 상기 기준치와 비교할 수 있다.Here, for example, the determination data calculation step (S5) includes a maximum brightness value (Bmax), which is the highest brightness value among pixels constituting the one hole, and a minimum brightness value (Bmin), which is the lowest brightness value among pixels constituting the one hole. And calculating an average brightness value (Bave) obtained by dividing the sum of the brightness of the pixels constituting the one hole by the number of pixels in the one hole (S51), and the average brightness value (Mave) of the multi-holes in which the one holes are aggregated, and A multi-hole data calculation step (S52) of calculating a standard deviation value (Mdev) of the multi-holes, and the data determination step (S6) includes at least an average brightness value (Bave) of the one holes, and an average of the multi-holes A data value including at least one of a brightness value Mave, a standard deviation value Mdev of the multi-holes, and combinations thereof may be compared with the reference value.

도 13은 도 12의 플라즈마 모니터링 방법의 일례를 나타내는 순서도이다.13 is a flowchart showing an example of the plasma monitoring method of FIG. 12.

도 13에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 플라즈마 모니터링 방법을 보다 상세하게 설명하면, 상기 카메라(10)로부터 영상을 획득하고(S11), 획득된 영상 정보의 판별 데이터 값을 산출한다(S12).As shown in FIG. 13, when the plasma monitoring method according to some embodiments of the present invention is described in more detail, an image is acquired from the camera 10 (S11), and the discrimination data value of the acquired image information is Calculate (S12).

이 때, 상기 원홀을 구성하는 픽셀 중 가장 높은 밝기 값인 최대 밝기 값(Bmax)과, 상기 원홀을 구성하는 픽셀 중 가장 낮은 밝기 값인 최소 밝기 값(Bmin) 및 상기 원홀을 구성하는 픽셀의 밝기 합을 상기 원홀의 픽셀 개수로 나눈 평균 밝기 값(Bave)을 산출할 수 있다.In this case, a maximum brightness value (Bmax), which is the highest brightness value among pixels constituting the one hole, and a minimum brightness value (Bmin), which is the lowest brightness value among pixels constituting the one hole, and the sum of brightness of pixels constituting the one hole An average brightness value (Bave) divided by the number of pixels in the one hole may be calculated.

또한, 상기 원홀들이 집합된 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave) 및 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev)를 산출할 수 있다.In addition, an average brightness value Mave of the multi-holes in which the one-holes are aggregated and a standard deviation value Mdev of the multi-holes may be calculated.

이어서, 상기 원홀들의 평균 밝기 값(Bave), 상기 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave), 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev) 및 이들의 조합들 중 어느 하나 이상을 포함한 데이터 값을 상기 기준치와 비교할 수 있다(S13)Subsequently, a data value including at least one of the average brightness value of the one holes (Bave), the average brightness value of the multi-holes (Mave), the standard deviation value of the multi-holes (Mdev), and combinations thereof is determined as the reference value. Can be compared (S13)

이 때, 이들 값들의 상한치 이하인지를 판별하여(S13) 이하인 경우, 다시 하한치 이상인지를 판별한다(S14).At this time, it is determined whether these values are equal to or less than the upper limit (S13), and if the values are less than or equal to the lower limit, it is determined again (S14).

만약, 이들 값들이 상한치 이상이거나, 하한치 이하인 경우에는 불량으로 판별하여(S17) NG 알림 정보를 출력하고(S18), 그렇지 않은 경우에는 양품으로 판별하여(S15) OK 알림 정보를 출력할 수 있다.If these values are more than the upper limit or less than the lower limit, it is determined as defective (S17) and NG notification information is output (S18), otherwise, it is determined as good product (S15), and OK notification information may be output.

그러므로, 플라즈마 공정이 이루어지는 동안, 카메라를 이용하여 실시간 또는 간헐적으로 전극 홀의 상태를 판별 모니터링 할 수 있고, 전극 홀의 부분 막힘 또는 완전 막힘시 신속하게 알람 신호를 발생시켜서 플라즈마 장비 운영을 원활하게 할 수 있다.Therefore, during the plasma process, the state of the electrode hole can be discriminated and monitored in real time or intermittently using a camera, and when the electrode hole is partially or completely blocked, an alarm signal can be quickly generated to facilitate plasma equipment operation. .

그러나, 이러한 플라즈마 모니터링 장치 및 방법은 도면에 국한되지 않고 매우 다양한 형태나 방법으로 구현될 수 있다.However, such a plasma monitoring apparatus and method is not limited to the drawings and may be implemented in a wide variety of forms or methods.

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.The present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, but these are merely exemplary, and those of ordinary skill in the art will appreciate that various modifications and equivalent other embodiments are possible therefrom. Therefore, the true technical protection scope of the present invention should be determined by the technical spirit of the appended claims.

1: 대상 기판
10: 카메라
H: 전극홀
20: 영상 판별부
21: 기준 영상 획득부
22: 대상 영역 지정부
23: 원홀 인식부
24: 좌표 값 설정부
25: 판별 데이터 산출부
251: 원홀 데이터 산출부
252: 멀티홀 데이터 산출부
26: 데이터 판별부
30: 전극 패널
40: 케이스
50: 윈도우 글래스
100: 플라즈마 모니터링 장치1: target substrate
10: camera
H: electrode hole
20: image discrimination unit
21: reference image acquisition unit
22: target area designation unit
23: one hole recognition unit
24: coordinate value setting unit
25: discrimination data calculation unit
251: one hole data calculation unit
252: multi-hole data calculation unit
26: data determination unit
30: electrode panel
40: case
50: window glass
100: plasma monitoring device

Claims (8)

플라즈마 가스를 방출하는 복수개의 전극 홀들을 촬영할 수 있는 적어도 하나의 카메라; 및
상기 카메라로부터 획득된 영상 정보를 이용하여 상기 전극 홀들의 상태를 판별할 수 있는 영상 판별부;를 포함하고,
상기 영상 판별부는,
상기 전극 홀의 막힘 여부를 판단하는 기준이 되는 기준 영상을 획득하는 기준 영상 획득부;
상기 기준 영상 내의 검사하고자 하는 관심 영역(ROI; Region of interest)을 지정하는 대상 영역 지정부;
상기 관심 영역 내의 모든 픽셀들의 원홀(one hole)로 인식될 수 있는 밝기 값(Mbright)과 픽셀 개수(Mqty)로 설정된 파라미터 값을 기준으로 상기 전극 홀들에 해당되는 원홀로 인식하는 원홀 인식부;
상기 전극 홀들에 해당되도록 상기 원홀들의 고유 번호를 부여하는 좌표 값 설정부;
상기 카메라로부터 획득된 영상 정보의 판별 데이터 값을 산출하는 판별 데이터 산출부; 및
상기 판별 데이터 값을 기준치와 비교하여 상한 또는 하한을 벗어나는 경우, 알림 정보를 출력하는 데이터 판별부;를 포함하고,
상기 판별 데이터 산출부는,
상기 원홀을 구성하는 픽셀 중 가장 높은 밝기 값인 최대 밝기 값(Bmax)과, 상기 원홀을 구성하는 픽셀 중 가장 낮은 밝기 값인 최소 밝기 값(Bmin) 및 상기 원홀을 구성하는 픽셀의 밝기 합을 상기 원홀의 픽셀 개수로 나눈 평균 밝기 값(Bave)을 산출하는 원홀 데이터 산출부; 및
상기 원홀들이 집합된 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave) 및 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev)를 산출하는 멀티홀 데이터 산출부;를 포함하고,
상기 데이터 판별부는,
적어도 상기 원홀들의 평균 밝기 값(Bave), 상기 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave), 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev) 및 이들의 조합들 중 어느 하나 이상을 포함한 데이터 값을 상기 기준치와 비교하는, 플라즈마 모니터링 장치.At least one camera capable of photographing a plurality of electrode holes emitting plasma gas; And
Includes; an image discrimination unit capable of discriminating the state of the electrode holes by using the image information obtained from the camera,
The image determination unit,
A reference image acquisition unit acquiring a reference image serving as a reference for determining whether the electrode hole is blocked;
A target region designation unit for designating a region of interest (ROI) to be examined in the reference image;
A one-hole recognition unit that recognizes as one hole corresponding to the electrode holes based on a parameter value set as a brightness value Mbright and a number of pixels Mqty that can be recognized as one hole of all pixels in the region of interest;
A coordinate value setting unit that assigns unique numbers of the one holes to correspond to the electrode holes;
A discrimination data calculation unit that calculates a discrimination data value of image information obtained from the camera; And
Including; a data determination unit for comparing the discrimination data value with a reference value and outputting notification information when it exceeds the upper or lower limit,
The discrimination data calculation unit,
The maximum brightness value (Bmax), which is the highest brightness value among pixels constituting the one hole, and the minimum brightness value (Bmin), which is the lowest brightness value among pixels constituting the one hole, and the brightness sum of the pixels constituting the one hole are calculated as the sum of the brightness values of the one hole. A one-hole data calculator that calculates an average brightness value (Bave) divided by the number of pixels; And
A multi-hole data calculator configured to calculate an average brightness value (Mave) of the multi-holes in which the one-holes are aggregated and a standard deviation value (Mdev) of the multi-holes; and
The data determination unit,
A data value including at least one of the average brightness values of the one holes (Bave), the average brightness values of the multi-holes (Mave), the standard deviation values of the multi-holes (Mdev), and combinations thereof are compared with the reference value That, plasma monitoring device. 삭제delete 삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave)은, (Bave1 + Bave2 +.....BaveN)/N이고,
상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev)은, {(Mave-Bave1)2 + (Mave-Bave2)2 +....(Mave-BaveN)2/N}1/2인, 플라즈마 모니터링 장치.The method of claim 1,
The average brightness value (Mave) of the multi-holes is (Bave1 + Bave2 +.....BaveN)/N,
The standard deviation value (Mdev) of the multi-holes is {(Mave-Bave1) 2 + (Mave-Bave2) 2 +....(Mave-BaveN) 2 /N} 1/2 . 제 1 항에 있어서,
상기 전극 홀들은 대상 기판의 이동 경로의 상방에 배치되어 길이 방향으로 길게 형성된 전극 패널에 M행 N열로 배치되고,
상기 카메라는 상기 대상 기판의 상기 이동 경로의 하방에 배치되어 상기 복수개의 상기 전극 홀들을 구획별로 담당할 수 있는 복수개의 카메라들로 이루어지고,
복수개의 상기 카메라들을 보호할 수 있도록 상기 카메라들을 둘러싸는 형상으로 길이 방향으로 길게 형성되는 케이스;
를 더 포함하는, 플라즈마 모니터링 장치.The method of claim 1,
The electrode holes are disposed above the movement path of the target substrate and are disposed in M rows and N columns on the electrode panel formed to be elongated in the length direction,
The camera is formed of a plurality of cameras disposed below the movement path of the target substrate and capable of taking the plurality of electrode holes by division,
A case extending in a longitudinal direction in a shape surrounding the cameras to protect the plurality of cameras;
The plasma monitoring device further comprising. 제 5 항에 있어서,
상기 플라즈마 가스로부터 상기 카메라를 보호하고, 이물질들이 적층되면 교체될 수 있도록 상기 케이스에 조립되는 윈도우 글래스;
를 더 포함하는, 플라즈마 모니터링 장치.The method of claim 5,
A window glass assembled in the case to protect the camera from the plasma gas and to be replaced when foreign substances are stacked;
The plasma monitoring device further comprising. 전극 홀의 막힘 여부를 판단하는 기준이 되는 기준 영상을 획득하는 기준 영상 획득 단계;
상기 기준 영상 내의 검사하고자 하는 관심 영역(ROI; Region of interest)을 지정하는 대상 영역 지정 단계;
상기 관심 영역 내의 모든 픽셀들의 원홀(one hole)로 인식될 수 있는 밝기 값(Mbright)과 픽셀 개수(Mqty)로 설정된 파라미터 값을 기준으로 상기 전극 홀들에 해당되는 원홀로 인식하는 원홀 인식 단계;
상기 전극 홀들에 해당되도록 상기 원홀들의 고유 번호를 부여하는 좌표 값 설정 단계;
카메라로부터 획득된 영상 정보의 판별 데이터 값을 산출하는 판별 데이터 산출 단계; 및
상기 판별 데이터 값을 기준치와 비교하여 상한 또는 하한을 벗어나는 경우, 알림 정보를 출력하는 데이터 판별 단계;를 포함하고,
상기 판별 데이터 산출 단계는,
상기 원홀을 구성하는 픽셀 중 가장 높은 밝기 값인 최대 밝기 값(Bmax)과, 상기 원홀을 구성하는 픽셀 중 가장 낮은 밝기 값인 최소 밝기 값(Bmin) 및 상기 원홀을 구성하는 픽셀의 밝기 합을 상기 원홀의 픽셀 개수로 나눈 평균 밝기 값(Bave)을 산출하는 원홀 데이터 산출 단계; 및
상기 원홀들이 집합된 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave) 및 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev)를 산출하는 멀티홀 데이터 산출 단계;를 포함하고,
상기 데이터 판별 단계는,
적어도 상기 원홀들의 평균 밝기 값(Bave), 상기 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave), 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev) 및 이들의 조합들 중 어느 하나 이상을 포함한 데이터 값을 상기 기준치와 비교하는, 플라즈마 모니터링 방법.A reference image acquisition step of obtaining a reference image that becomes a reference for determining whether an electrode hole is blocked;
A target region designating step of designating a region of interest (ROI) to be examined in the reference image;
A one-hole recognition step of recognizing a one hole corresponding to the electrode holes based on a parameter value set as a brightness value Mbright and a number of pixels Mqty that can be recognized as one hole of all pixels in the region of interest;
Setting a coordinate value of assigning unique numbers of the one holes to correspond to the electrode holes;
A discrimination data calculation step of calculating discrimination data values of image information obtained from the camera; And
Comprising a data determination step of comparing the discrimination data value with a reference value and outputting notification information when it exceeds the upper or lower limit,
The determination data calculation step,
The maximum brightness value (Bmax), which is the highest brightness value among the pixels constituting the one-hole, the minimum brightness value (Bmin), which is the lowest brightness value among the pixels constituting the one-hole, and the brightness sum of the pixels constituting the one-hole One-hole data calculation step of calculating an average brightness value (Bave) divided by the number of pixels; And
A multi-hole data calculation step of calculating an average brightness value (Mave) of the multi-holes in which the one-holes are aggregated and a standard deviation value (Mdev) of the multi-holes; Including,
The data determination step,
A data value including at least one of the average brightness values of the one holes (Bave), the average brightness values of the multi-holes (Mave), the standard deviation values of the multi-holes (Mdev), and combinations thereof is compared with the reference value That, plasma monitoring method. 삭제delete
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