KR20190118530A - Plasma monitoring apparatus and method - Google Patents

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주식회사 다원시스
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    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32917—Plasma diagnostics
    • H01J37/32935—Monitoring and controlling tubes by information coming from the object and/or discharge

Abstract

The present invention relates to a device and method for monitoring plasma capable of monitoring the blockage of electrode holes using a camera. The device may comprise: at least one camera capable of photographing a plurality of electrode holes emitting a plasma gas; and an image discriminating unit capable of determining states of the electrode holes using image information obtained from the camera.

Description

플라즈마 모니터링 장치 및 방법{Plasma monitoring apparatus and method}Plasma monitoring apparatus and method

본 발명은 플라즈마 모니터링 장치 및 방법에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로 카메라를 이용하여 전극 홀의 막힘을 모니터링할 수 있는 플라즈마 모니터링 장치 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma monitoring apparatus and method, and more particularly to a plasma monitoring apparatus and method capable of monitoring the blockage of the electrode hole using a camera.

일반적으로 플라즈마(plasma)는 이온이나 전자, 라디칼 등으로 이루어진 이온화된 가스 상태를 말하며, 플라즈마는 매우 높은 온도나 강한 전계 혹은 고주파 전자계(RF)에 의해 생성된다.In general, plasma refers to an ionized gas state composed of ions, electrons, and radicals, and plasma is generated by a very high temperature, a strong electric field, or a high frequency electromagnetic field (RF).

반도체 공정이나 디스플레이 공정에서 사용되는 플라즈마 가스는 일반적으로 강한 전계 혹은 고주파 전자계를 형성할 수 있는 전극 패널에 형성된 복수개의 전극 홀들을 통해 대상 기판 등에 공급될 수 있다.The plasma gas used in the semiconductor process or the display process may generally be supplied to the target substrate through a plurality of electrode holes formed in the electrode panel capable of forming a strong electric field or a high frequency electromagnetic field.

그러나, 종래의 플라즈마 가스 공급 시스템에서는 전극 홀의 막힘을 검사할 수 있는 방법이 없어서 전극 홀이 막히는 경우, 막힘 전극 홀에 대응되는 대상 기판(처리 대상물)이 불균일하게 가공되는 문제점들이 있었다.However, in the conventional plasma gas supply system, there is no method for inspecting the blockage of the electrode hole, so that when the electrode hole is blocked, there is a problem in that the target substrate (processing object) corresponding to the blocked electrode hole is unevenly processed.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 포함하여 여러 문제점들을 해결하기 위한 것으로서, 카메라를 이용하여 전극 홀의 막힘을 모니터링 할 수 있는 플라즈마 모니터링 장치 및 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 그러나 이러한 과제는 예시적인 것으로, 이에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.The present invention has been made to solve various problems including the above problems, and an object of the present invention is to provide a plasma monitoring apparatus and method capable of monitoring a blockage of an electrode hole using a camera. However, these problems are exemplary, and the scope of the present invention is not limited thereby.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 사상에 따른 플라즈마 모니터링 장치는, 플라즈마 가스를 방출하는 복수개의 전극 홀들을 촬영할 수 있는 적어도 하나의 적어도 하나의 카메라; 및 상기 카메라로부터 획득된 영상 정보를 이용하여 상기 전극 홀들의 상태를 판별할 수 있는 영상 판별부;를 포함할 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a plasma monitoring apparatus comprising: at least one camera capable of photographing a plurality of electrode holes emitting plasma gas; And an image discriminator configured to determine the states of the electrode holes using the image information obtained from the camera.

또한, 본 발명에 따르면, 상기 영상 판별부는, 상기 전극 홀의 막힘 여부를 판단하는 기준이 되는 기준 영상을 획득하는 기준 영상 획득부; 상기 기준 영상 내의 검사하고자 하는 관심 영역(ROI; Region of interest)을 지정하는 대상 영역 지정부; 상기 관심 영역 내의 모든 픽셀들의 원홀(one hole)로 인식될 수 있는 밝기 값(Mbright)과 픽셀 개수(Mqty)로 설정된 파라미터 값을 기준으로 상기 전극 홀들에 해당되는 원홀로 인식하는 원홀 인식부; 상기 전극 홀들에 해당되도록 상기 원홀들의 고유 번호를 부여하는 좌표 값 설정부; 상기 카메라로부터 획득된 영상 정보의 판별 데이터 값을 산출하는 판별 데이터 산출부; 및 상기 판별 데이터 값을 기준치와 비교하여 상한 또는 하한을 벗어나는 경우, 알림 정보를 출력하는 데이터 판별부;를 포함할 수 있다.In addition, according to the present invention, the image determination unit, a reference image acquisition unit for obtaining a reference image as a reference for determining whether the electrode hole is blocked; A target region designator for designating a region of interest (ROI) to be examined in the reference image; A one-hole recognition unit recognizing one holes corresponding to the electrode holes based on a brightness value Mbright that can be recognized as one hole of all pixels in the ROI and a parameter value set to the number of pixels Mqty; A coordinate value setting unit for assigning unique numbers of the circle holes to correspond to the electrode holes; A discrimination data calculator for calculating a discrimination data value of the image information obtained from the camera; And a data determination unit configured to output notification information when the determination data value is out of an upper limit or a lower limit by comparing with the reference value.

또한, 본 발명에 따르면, 상기 판별 데이터 산출부는, 상기 원홀을 구성하는 픽셀 중 가장 높은 밝기 값인 최대 밝기 값(Bmax)과, 상기 원홀을 구성하는 픽셀 중 가장 낮은 밝기 값인 최소 밝기 값(Bmin) 및 상기 원홀을 구성하는 픽셀의 밝기 합을 상기 원홀의 픽셀 개수로 나눈 평균 밝기 값(Bave)을 산출하는 원홀 데이터 산출부; 및 상기 원홀들이 집합된 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave) 및 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev)를 산출하는 멀티홀 데이터 산출부;를 포함하고, 상기 데이터 판별부는, 적어도 상기 원홀들의 평균 밝기 값(Bave), 상기 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave), 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev) 및 이들의 조합들 중 어느 하나 이상을 포함한 데이터 값을 상기 기준치와 비교할 수 있다.Further, according to the present invention, the determination data calculation unit may include a maximum brightness value Bmax which is the highest brightness value among the pixels constituting the circle hole, a minimum brightness value Bmin that is the lowest brightness value among the pixels constituting the circle hole, and A one-hole data calculator configured to calculate an average brightness value (Bave) by dividing the sum of the brightnesses of the pixels constituting the one-hole by the number of pixels of the one-hole; And a multi-hole data calculator configured to calculate an average brightness value Mave of the multi-holes in which the circle holes are collected and a standard deviation value Mdev of the multi-holes, wherein the data determination unit includes at least the average brightness of the circle-holes. A data value including at least one of a value Bave, an average brightness value Mave of the multi-holes, a standard deviation value Mdev of the multi-holes, and combinations thereof may be compared with the reference value.

또한, 본 발명에 따르면, 상기 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave)은, (Bave1 + Bave1 +.....BaveN)/N이고, 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev)은, {(Mave-Bave1)2 + (Mave-Bave2)2 +....(Mave-BaveN)2/N}1/2일 수 있다.Further, according to the present invention, the average brightness value Mave of the multi-holes is (Bave1 + Bave1 + ..... BaveN) / N, and the standard deviation value Mdev of the multi-holes is {(Mave -Bave1) 2 + (Mave-Bave2) 2 + .... (Mave-BaveN) 2 / N} 1/2 .

또한, 본 발명에 따르면, 상기 전극 홀들은 대상 기판의 이동 경로의 상방에 배치되어 길이 방향으로 길게 형성된 전극 패널에 M행 N열로 배치되고, 상기 카메라는 상기 대상 기판의 상기 이동 경로의 하방에 배치되어 상기 복수개의 상기 전극 홀들을 구획별로 담당할 수 있는 복수개의 카메라들로 이루어지고, 복수개의 상기 카메라들을 보호할 수 있도록 상기 카메라들을 둘러싸는 형상으로 길이 방향으로 길게 형성되는 케이스;를 더 포함할 수 있다.In addition, according to the present invention, the electrode holes are disposed in the M-row N columns in the electrode panel formed in the longitudinal direction extending above the movement path of the target substrate, the camera is disposed below the movement path of the target substrate And a case formed of a plurality of cameras that are in charge of the plurality of electrode holes for each partition, and formed to extend in a length direction in a shape surrounding the cameras to protect the plurality of cameras. Can be.

또한, 본 발명에 따른 플라즈마 모니터링 장치는, 상기 플라즈마 가스로부터 상기 카메라를 보호하고, 이물질들이 적층되면 교체될 수 있도록 상기 케이스에 조립되는 윈도우 글래스;를 더 포함할 수 있다.In addition, the plasma monitoring apparatus according to the present invention may further include a window glass which is assembled to the case so as to protect the camera from the plasma gas and to be replaced when foreign matters are stacked.

한편, 상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 사상에 따른 플라즈마 모니터링 방법은, 전극 홀의 막힘 여부를 판단하는 기준이 되는 기준 영상을 획득하는 기준 영상 획득 단계; 상기 기준 영상 내의 검사하고자 하는 관심 영역(ROI; Region of interest)을 지정하는 대상 영역 지정 단계; 상기 관심 영역 내의 모든 픽셀들의 원홀(one hole)로 인식될 수 있는 밝기 값(Mbright)과 픽셀 개수(Mqty)로 설정된 파라미터 값을 기준으로 상기 전극 홀들에 해당되는 원홀로 인식하는 원홀 인식 단계; 상기 전극 홀들에 해당되도록 상기 원홀들의 고유 번호를 부여하는 좌표 값 설정 단계; 상기 카메라로부터 획득된 영상 정보의 판별 데이터 값을 산출하는 판별 데이터 산출 단계; 및 상기 판별 데이터 값을 기준치와 비교하여 상한 또는 하한을 벗어나는 경우, 알림 정보를 출력하는 데이터 판별 단계;를 포함할 수 있다.On the other hand, the plasma monitoring method according to the idea of the present invention for solving the above problems, the reference image acquisition step of acquiring a reference image as a reference for determining whether the electrode hole is blocked; Specifying a region of interest (ROI) to be examined in the reference image; A one-hole recognition step of recognizing the one-hole corresponding to the electrode holes based on a parameter value set to a brightness value Mbright and a pixel number Mqty that can be recognized as one holes of all pixels in the ROI; A coordinate value setting step of assigning unique numbers of the circle holes to correspond to the electrode holes; A determination data calculating step of calculating a determination data value of the image information obtained from the camera; And a data determination step of outputting notification information when the determination data value is out of an upper limit or a lower limit by comparing with a reference value.

또한, 본 발명에 따르면, 상기 판별 데이터 산출 단계는, 상기 원홀을 구성하는 픽셀 중 가장 높은 밝기 값인 최대 밝기 값(Bmax)과, 상기 원홀을 구성하는 픽셀 중 가장 낮은 밝기 값인 최소 밝기 값(Bmin) 및 상기 원홀을 구성하는 픽셀의 밝기 합을 상기 원홀의 픽셀 개수로 나눈 평균 밝기 값(Bave)을 산출하는 원홀 데이터 산출 단계; 및 상기 원홀들이 집합된 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave) 및 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev)를 산출하는 멀티홀 데이터 산출 단계;를 포함하고, 상기 데이터 판별 단계는, 적어도 상기 원홀들의 평균 밝기 값(Bave), 상기 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave), 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev) 및 이들의 조합들 중 어느 하나 이상을 포함한 데이터 값을 상기 기준치와 비교할 수 있다.According to the present invention, the determining data calculating step may include a maximum brightness value Bmax, which is the highest brightness value among the pixels constituting the circle hole, and a minimum brightness value Bmin, which is the lowest brightness value among the pixels constituting the circle hole. And calculating an average brightness value (Bave) obtained by dividing the sum of the brightnesses of the pixels constituting the circlehole by the number of pixels of the circlehole. And a multi-hole data calculating step of calculating an average brightness value Mave of the multi-holes in which the circle holes are collected and a standard deviation value Mdev of the multi-holes, wherein the data determining step includes at least the average of the circle holes. A data value including at least one of a brightness value Bave, an average brightness value Mave of the multi-holes, a standard deviation value Mdev of the multi-holes, and combinations thereof may be compared with the reference value.

상기한 바와 같이 이루어진 본 발명의 일부 실시예들에 따르면, 카메라를 이용하여 전극 홀의 막힘을 모니터링 할 수 있고, 전극 홀의 부분 막힘 또는 완전 막힘시 신속하게 알람 신호를 발생시켜서 플라즈마 장비 운영을 원활하게 할 수 있는 효과를 갖는 것이다. 물론 이러한 효과에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다. According to some embodiments of the present invention made as described above, it is possible to monitor the blockage of the electrode hole using a camera, and to quickly generate an alarm signal upon partial blockage or complete blockage of the electrode hole to facilitate the operation of the plasma equipment. It will have the effect. Of course, the scope of the present invention is not limited by these effects.

도 1은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 플라즈마 모니터링 장치를 나타내는 사시도이다.
도 2는 도 1의 플라즈마 모니터링 장치의 부품 분해 사시도이다.
도 3은 도 1의 플라즈마 모니터링 장치의 영상 판별부를 나타내는 블록도이다.
도 4 내지 도 11은 도 1의 플라즈마 모니터링 장치를 이용한 영상 판별 과정을 나타내는 도면들이다.
도 12는 본 발명의 일부 실시예들에 따른 플라즈마 모니터링 방법을 나타내는 순서도이다.
도 13은 도 12의 플라즈마 모니터링 방법의 일례를 나타내는 순서도이다.1 is a perspective view illustrating a plasma monitoring apparatus according to some embodiments of the present invention.
FIG. 2 is an exploded perspective view of parts of the plasma monitoring apparatus of FIG. 1.
3 is a block diagram illustrating an image discriminating unit of the plasma monitoring apparatus of FIG. 1.
4 to 11 are diagrams illustrating an image discrimination process using the plasma monitoring apparatus of FIG. 1.
12 is a flowchart illustrating a plasma monitoring method according to some embodiments of the present invention.
FIG. 13 is a flowchart illustrating an example of the plasma monitoring method of FIG. 12.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 여러 실시예들을 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, various exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명의 실시예들은 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이며, 하기 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다. 오히려 이들 실시예들은 본 개시를 더욱 충실하고 완전하게 하고, 당업자에게 본 발명의 사상을 완전하게 전달하기 위하여 제공되는 것이다. 또한, 도면에서 각 층의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장된 것이다.The embodiments of the present invention are provided to more fully explain the present invention to those skilled in the art, and the following examples can be modified in various other forms, and the scope of the present invention is It is not limited to an Example. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art. In addition, the thickness or size of each layer in the drawings is exaggerated for convenience and clarity of description.

도 1은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 플라즈마 모니터링 장치(100)를 나타내는 사시도이다. 그리고, 도 2는 도 1의 플라즈마 모니터링 장치(100)의 부품 분해 사시도이고, 도 3은 도 1의 플라즈마 모니터링 장치(100)의 영상 판별부(25)를 나타내는 블록도이다.1 is a perspective view illustrating a plasma monitoring apparatus 100 according to some embodiments of the present invention. 2 is an exploded perspective view of parts of the plasma monitoring apparatus 100 of FIG. 1, and FIG. 3 is a block diagram illustrating the image discriminating unit 25 of the plasma monitoring apparatus 100 of FIG. 1.

먼저, 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 플라즈마 모니터링 장치(100)는, 크게 카메라(10)와 영상 판별부(20)와, 케이스(40) 및 윈도우 글래스(50)를 포함할 수 있다.First, as shown in FIGS. 1 to 3, the plasma monitoring apparatus 100 according to some embodiments of the present invention includes a camera 10, an image discriminating unit 20, a case 40, and a window. It may include a glass (50).

예컨대, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 카메라(10)는, 플라즈마 가스를 방출하는 복수개의 전극 홀(H)들을 촬영할 수 있도록 영상 정보를 획득할 수 있는 일종의 영상 획득 장치로서, 대상 기판(1)의 상기 이동 경로의 하방에 배치되어 상기 복수개의 상기 전극 홀(H)들을 구획별로 담당할 수 있는 복수개의 카메라(10)들로 이루어질 수 있다.For example, as illustrated in FIGS. 1 and 2, the camera 10 is a kind of image acquisition device that may acquire image information to capture a plurality of electrode holes H that emit plasma gas. The plurality of cameras 10 may be disposed below the moving path of the substrate 1 to cover the plurality of electrode holes H for each section.

더욱 구체적으로 예를 들면, 상기 카메라(10)는, 상기 대상 기판(1)의 이동 경로의 상방에 배치되어 길이 방향으로 길게 형성된 전극 패널(30)에 M행 N열로 배치된 상기 전극 홀(H)과 대응될 수 있도록 길이 방향으로 일렬 배치될 수 있다.More specifically, for example, the camera 10 may include the electrode holes H arranged in M rows and N columns in an electrode panel 30 that is disposed above the movement path of the target substrate 1 and is formed long in the longitudinal direction. ) May be arranged in a line in the longitudinal direction.

이러한 일렬 배치된 복수개의 상기 카메라(10)들은 스캔 방식으로 플라즈마 가스를 공급할 수 있도록 길이 방향으로 길게 형성된 상기 전극 패널(30)과 대응되는 것으로서, 예컨대, 이동 중인 상기 대상 기판(1)과 다른 대상 기판(1)들 사이의 공간이 오픈되는 동안, 상기 플라즈마 가스를 공급하는 중이거나 또는 플라즈마 가스 공급이 잠시 중단 중인 상기 전극 패널(30)을 촬영할 수 있다. The plurality of cameras 10 arranged in a line correspond to the electrode panel 30 that is formed to be elongated in the longitudinal direction to supply the plasma gas in a scanning manner. For example, the camera 10 may be different from the target substrate 1 in motion. While the space between the substrates 1 is open, the electrode panel 30 may be photographed while supplying the plasma gas or temporarily stopping supply of the plasma gas.

또한, 예컨대, 상기 케이스(40)는, 복수개의 상기 카메라(10)들을 보호할 수 있도록 상기 카메라(10)들을 둘러싸는 형상으로 길이 방향으로 길게 형성되는 것으로서, 상기 카메라(10)들은 상기 케이스(40)의 내부에 수용될 수 있다.In addition, for example, the case 40 is formed to be elongated in the longitudinal direction to surround the cameras 10 so as to protect the plurality of the cameras 10, and the cameras 10 are formed in the case ( 40) can be accommodated inside.

또한, 예컨대, 상기 윈도우 글래스(50)는, 상기 플라즈마 가스로부터 상기 카메라(10)를 보호하고, 이물질들이 적층되면 교체될 수 있도록 상기 케이스(40)의 수광축에 조립될 수 있다.In addition, for example, the window glass 50 may be assembled to the light receiving axis of the case 40 to protect the camera 10 from the plasma gas and to be replaced when foreign matters are stacked.

이러한, 상기 윈도우 글래스(50)는 적어도 일부분이 상기 케이스(40)의 외부로 노출될 수 있고, 트위스트 캡 방식이나 기타 나사 고정 방식 등으로 상기 케이스(40)에 조립되어 사용자가 주변 환경에 의해 오염된 상기 윈도우 글래스(50)를 새것으로 쉽게 교체할 수 있다.The window glass 50 may be at least partially exposed to the outside of the case 40, and may be assembled to the case 40 by a twist cap method or other screw fixing method to contaminate the user with the surrounding environment. The window glass 50 can be easily replaced with a new one.

한편, 예컨대, 상기 영상 판별부(20)는, 상기 카메라(10)로부터 획득된 영상 정보를 이용하여 상기 전극 홀(H)들의 상태를 판별할 수 있는 일종의 영상 판독 장치로서, 예를 들면, 각종 회로나, 집적 회로나, 마이크로 프로세서나, 중앙 처리 장치나, 연산 장치나, 제어 패널이나, 전자 부품이나, 입출력 장치나, 디스플레이 장치나 메모리 장치 등을 포함하는 컴퓨터나 스마트 기기 등의 각종 전자 장치일 수 있다.On the other hand, for example, the image determining unit 20 is a kind of image reading apparatus that can determine the state of the electrode holes (H) by using the image information obtained from the camera 10, for example, various Various electronic devices such as computers, smart devices, including circuits, integrated circuits, microprocessors, central processing units, computing devices, control panels, electronic components, input / output devices, display devices, memory devices, and the like. Can be.

예를 들면, 이러한 상기 영상 판별부(20)는, 각각의 기능을 담당하는 회로부나 집적 회로 칩이나 각종 프로그램에 의해 동작되는 소프트웨어 구동 장치 등에 의해 작동될 수 있다.For example, the image discrimination unit 20 may be operated by a circuit unit in charge of each function, an integrated circuit chip, or a software driving device operated by various programs.

더욱 구체적으로 예를 들면, 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 영상 판별부(20)는, 상기 전극 홀(H)의 막힘 여부를 판단하는 기준이 되는 기준 영상을 획득하는 기준 영상 획득부(21)와, 상기 기준 영상 내의 검사하고자 하는 관심 영역(ROI; Region of interest)을 지정하는 대상 영역 지정부(22)와, 상기 관심 영역 내의 모든 픽셀들의 원홀(one hole)로 인식될 수 있는 밝기 값(Mbright)과 픽셀 개수(Mqty)로 설정된 파라미터 값을 기준으로 상기 전극 홀(H)들에 해당되는 원홀로 인식하는 원홀 인식부(23)와, 상기 전극 홀(H)들에 해당되도록 상기 원홀들의 고유 번호를 부여하는 좌표 값 설정부(24)와, 상기 카메라(10)로부터 획득된 영상 정보의 판별 데이터 값을 산출하는 판별 데이터 산출부(25) 및 상기 판별 데이터 값을 기준치와 비교하여 상한 또는 하한을 벗어나는 경우, 알림 정보를 출력하는 데이터 판별부(26)를 포함할 수 있다.More specifically, for example, as illustrated in FIGS. 1 to 3, the image determining unit 20 acquires a reference image for acquiring a reference image as a reference for determining whether the electrode hole H is blocked. The unit 21, a target region designation unit 22 which designates a region of interest (ROI) to be examined in the reference image, and one hole of all pixels in the region of interest may be recognized. A circle hole recognition unit 23 that recognizes the hole corresponding to the electrode holes H based on a parameter value set to the brightness value Mbright and the number of pixels Mqty, and corresponds to the electrode holes H. A coordinate value setting unit 24 for assigning the unique numbers of the one holes to a predetermined value, a determination data calculation unit 25 for calculating a determination data value of the image information obtained from the camera 10, and the determination data value; Beyond the upper or lower bounds Wu, may include a data judging section 26 which outputs the notification information.

여기서, 예컨대, 상기 판별 데이터 산출부(25)는, 상기 원홀을 구성하는 픽셀 중 가장 높은 밝기 값인 최대 밝기 값(Bmax)과, 상기 원홀을 구성하는 픽셀 중 가장 낮은 밝기 값인 최소 밝기 값(Bmin) 및 상기 원홀을 구성하는 픽셀의 밝기 합을 상기 원홀의 픽셀 개수로 나눈 평균 밝기 값(Bave)을 산출하는 원홀 데이터 산출부(251) 및 상기 원홀들이 집합된 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave) 및 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev)를 산출하는 멀티홀 데이터 산출부(252)를 포함할 수 있다.For example, the determination data calculator 25 may include a maximum brightness value Bmax, which is the highest brightness value among the pixels constituting the circle hole, and a minimum brightness value Bmin, which is the lowest brightness value among the pixels constituting the circle hole. And a one-hole data calculator 251 for calculating an average brightness value (Bave) obtained by dividing the sum of the brightnesses of the pixels constituting the circle hole by the number of pixels of the circle hole, an average brightness value (Mave) of the multi-holes in which the circle holes are collected, and The multi-hole data calculator 252 may calculate a standard deviation value Mdev of the multi-holes.

더욱 구체적으로 예를 들면, 상기 데이터 판별부(26)는, 적어도 상기 원홀들의 평균 밝기 값(Bave), 상기 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave), 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev) 및 이들의 조합들 중 어느 하나 이상을 포함한 데이터 값을 상기 기준치와 비교할 수 있다.More specifically, for example, the data determination unit 26 may include at least the average brightness value Bave of the circle holes, the average brightness value Mave of the multi-holes, the standard deviation value Mdev of the multi-holes, and the like. The data value including any one or more of the combinations of may be compared with the reference value.

여기서, 예컨대, 상기 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave)은, (Bave1 + Bave1 +.....BaveN)/N이고, 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev)은, {(Mave-Bave1)2 + (Mave-Bave2)2 +....(Mave-BaveN)2/N}1/2일 수 있다.Here, for example, the average brightness value Mave of the multi-holes is (Bave1 + Bave1 + ..... BaveN) / N, and the standard deviation value Mdev of the multi-holes is {(Mave-Bave1) 2 + (Mave-Bave2) 2 + .... (Mave-BaveN) 2 / N} 1/2 .

이러한, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 플라즈마 모니터링 장치(100)를 이용한 플라즈마 모니터링 과정을 보다 상세하게 설명하기로 한다.Such a plasma monitoring process using the plasma monitoring apparatus 100 according to some embodiments of the present invention will be described in more detail.

도 4 내지 도 11은 도 1의 플라즈마 모니터링 장치(100)의 영상 판별 과정을 나타내는 도면들이다.4 to 11 are views illustrating an image discrimination process of the plasma monitoring apparatus 100 of FIG. 1.

먼저, 도 4에 도시된 바와 같이, 전극 홀(H)의 막힘 여부를 판단하는 기준이 되는 X 픽셀과 Y 픽셀로 이루어진 기준 영상을 획득할 수 있다. 즉, X와 Y의 곱한 개수로 이루어지는 이들 픽셀들은 촬영된 기준 영상에 의해서 고유한 밝기 값을 가질 수 있고, 이들 동일한 밝기 값을 갖는 픽셀들은 그 개수를 셀 수 있다.First, as shown in FIG. 4, a reference image including an X pixel and a Y pixel as a reference for determining whether the electrode hole H is blocked may be obtained. That is, these pixels consisting of the product of the number of X and Y may have a unique brightness value by the photographed reference image, and the pixels having the same brightness value may count the number.

이어서, 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 기준 영상 내의 검사하고자 하는 관심 영역(A)(ROI; Region of interest)을 지정할 수 있다. 이러한 관심 영역(A)들은 각종 입력 장치나 프로그램 등에 의해 1개만 설정하거나 일부분만 설정하거나 전체를 모두 설정하는 등 매우 다양한 개수 또는 영역을 대상 영역으로 지정할 수 있다.Subsequently, as illustrated in FIG. 5, a region of interest (ROI) to be inspected in the reference image may be designated. Such regions of interest A may be designated as a target region by setting a single one, a partial portion, or a whole by the various input devices or programs.

이어서, 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 관심 영역 내의 실제 전극 홀들의 형태가 (a)의 경우와 (b)의 경우와 같이 동근 원형으로 이루어졌다면, 도 7에 도시된 바와 같이, 모든 픽셀들의 원홀(one hole)로 인식될 수 있는 밝기 값(Mbright)과 픽셀 개수(Mqty)로 설정된 파라미터 값을 기준으로 상기 전극 홀들에 해당되는(a)의 경우 전체적으로 사각형인 원홀(픽셀화된 원홀) 또는 (b)의 경우 전체적으로 마름모꼴인 원홀(픽셀화된 원홀)로 인식할 수 있다.Subsequently, as shown in FIG. 6, if the shape of the actual electrode holes in the region of interest is circular in shape as in the case of (a) and (b), as shown in FIG. In the case of (a) corresponding to the electrode holes based on a parameter value set to the brightness value Mbright and the number of pixels Mqty, which can be recognized as a one hole, an overall rectangular circle hole (pixelated circle hole) or In the case of (b), it can be recognized as a circular hole (pixelated circle hole) as a whole.

따라서, 도 8에 도시된 바와 같이, 예컨대, 상기 영상 판별부(20)의 모니터의 화면 등에는 카메라 1(Cam 1)부터 카메라 12(Cam 12)까지 각각을 담당하는 전극 홀의 영상을 표시할 수 있다.Therefore, as shown in FIG. 8, for example, an image of an electrode hole corresponding to each of camera 1 to camera 12 may be displayed on a screen of a monitor of the image discriminating unit 20. have.

이어서, 도 9에 도시된 바와 같이, 화면에 나타나는 상기 전극 홀(H)들을 가상의 M행 N열로 지정하고, 상기 전극 홀(H)들에 해당되도록 상기 원홀들의 고유 번호를 부여하여 좌표 값을 설정할 수 있다.Next, as shown in FIG. 9, the electrode holes H appearing on the screen are designated as virtual M rows and N columns, and a unique number of the circle holes is assigned to correspond to the electrode holes H, thereby providing a coordinate value. Can be set.

이어서, 도 10에 도시된 바와 같이, 상기 카메라(10)로부터 획득된 영상 정보의 판별 데이터 값을 산출하여 이상이 있는 상기 카메라(10)를 하이라이트 표시(B)할 수 있다.Subsequently, as illustrated in FIG. 10, the discriminating data value of the image information acquired from the camera 10 may be calculated to highlight the abnormality of the camera 10.

이 때, 상기 원홀을 구성하는 픽셀 중 가장 높은 밝기 값인 최대 밝기 값(Bmax)과, 상기 원홀을 구성하는 픽셀 중 가장 낮은 밝기 값인 최소 밝기 값(Bmin) 및 상기 원홀을 구성하는 픽셀의 밝기 합을 상기 원홀의 픽셀 개수로 나눈 평균 밝기 값(Bave)을 산출하고, 상기 원홀들이 집합된 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave) 및 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev)를 산출할 수 있다.In this case, the maximum brightness value Bmax, which is the highest brightness value among the pixels constituting the circle hole, the minimum brightness value Bmin, which is the lowest brightness value among the pixels constituting the circle hole, and the brightness sum of the pixels constituting the circle hole are determined. The average brightness value Bave divided by the number of pixels of the one hole may be calculated, and the average brightness value Mave of the multi-holes in which the circle holes are collected and the standard deviation value Mdev of the multi-holes may be calculated.

따라서, 상기 영상 판별부(20)는, 적어도 상기 원홀들의 평균 밝기 값(Bave), 상기 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave), 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev) 및 이들의 조합들 중 어느 하나 이상을 포함한 데이터 값을 상기 기준치와 비교하여 상한 또는 하한을 벗어나는 경우, 도 11에 도시된 바와 같이, 정확한 좌표 값, 예컨대, 5행 9열과 같이 이상이 발생된 전극 홀의 위치를 알림 정보로 출력할 수 있다.Accordingly, the image determining unit 20 may include at least one of at least an average brightness value of the circle holes, a multi-hole brightness value, and a standard deviation value of the multi holes. When the data value including one or more is out of the upper limit or the lower limit by comparing with the reference value, as shown in FIG. 11, an accurate coordinate value, for example, the position of the electrode hole in which an abnormality occurs, such as 5 rows and 9 columns, is output as notification information. can do.

도 12는 본 발명의 일부 실시예들에 따른 플라즈마 모니터링 방법을 나타내는 순서도이다.12 is a flowchart illustrating a plasma monitoring method according to some embodiments of the present invention.

도 1 내지 도 12에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 플라즈마 모니터링 방법은, 전극 홀(H)의 막힘 여부를 판단하는 기준이 되는 기준 영상을 획득하는 기준 영상 획득 단계(S1)와, 상기 기준 영상 내의 검사하고자 하는 관심 영역(ROI; Region of interest)을 지정하는 대상 영역 지정 단계(S2)와, 상기 관심 영역 내의 모든 픽셀들의 원홀(one hole)로 인식될 수 있는 밝기 값(Mbright)과 픽셀 개수(Mqty)로 설정된 파라미터 값을 기준으로 상기 전극 홀들에 해당되는 원홀로 인식하는 원홀 인식 단계(S3)와, 상기 전극 홀(H)들에 해당되도록 상기 원홀들의 고유 번호를 부여하는 좌표 값 설정 단계(S4)와, 상기 카메라(10)로부터 획득된 영상 정보의 판별 데이터 값을 산출하는 판별 데이터 산출 단계(S5) 및 상기 판별 데이터 값을 기준치와 비교하여 상한 또는 하한을 벗어나는 경우, 알림 정보를 출력하는 데이터 판별 단계(S6)를 포함할 수 있다.1 to 12, in the plasma monitoring method according to some embodiments of the present disclosure, a reference image acquisition step (S1) of acquiring a reference image as a reference for determining whether an electrode hole (H) is blocked is performed. ), A target region designation step S2 for designating a region of interest (ROI) to be examined in the reference image, and a brightness value that can be recognized as one hole of all pixels in the region of interest. A one-hole recognition step S3 of recognizing a circle hole corresponding to the electrode holes based on a parameter value set to Mbright and the number of pixels Mqty, and a unique number of the circle holes to correspond to the electrode holes H. A coordinate value setting step (S4) to be given, a discrimination data calculation step (S5) for calculating the discrimination data value of the image information obtained from the camera 10, and the discrimination data value are compared with a reference value to obtain an upper limit or When outside a, it may comprise a data determination step (S6) to output the notification information.

여기서, 예컨대, 상기 판별 데이터 산출 단계(S5)는, 상기 원홀을 구성하는 픽셀 중 가장 높은 밝기 값인 최대 밝기 값(Bmax)과, 상기 원홀을 구성하는 픽셀 중 가장 낮은 밝기 값인 최소 밝기 값(Bmin) 및 상기 원홀을 구성하는 픽셀의 밝기 합을 상기 원홀의 픽셀 개수로 나눈 평균 밝기 값(Bave)을 산출하는 원홀 데이터 산출 단계(S51) 및 상기 원홀들이 집합된 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave) 및 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev)를 산출하는 멀티홀 데이터 산출 단계(S52)를 포함하고, 상기 데이터 판별 단계(S6)는, 적어도 상기 원홀들의 평균 밝기 값(Bave), 상기 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave), 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev) 및 이들의 조합들 중 어느 하나 이상을 포함한 데이터 값을 상기 기준치와 비교할 수 있다.For example, the determination data calculating step S5 may include a maximum brightness value Bmax, which is the highest brightness value among the pixels constituting the circle hole, and a minimum brightness value Bmin, which is the lowest brightness value among the pixels constituting the circle hole. And calculating an average brightness value (Bave) obtained by dividing the sum of brightnesses of the pixels constituting the circle hole by the number of pixels of the circle hole (S51), an average brightness value Mave of the multi-holes in which the circle holes are collected, and And a multi-hole data calculating step S52 of calculating a standard deviation value Mdev of the multi-holes, wherein the data determining step S6 includes at least an average brightness value of the circle holes and a mean of the multi-holes. A data value including at least one of a brightness value Mave, a standard deviation value Mdev of the multi-holes, and combinations thereof may be compared with the reference value.

도 13은 도 12의 플라즈마 모니터링 방법의 일례를 나타내는 순서도이다.FIG. 13 is a flowchart illustrating an example of the plasma monitoring method of FIG. 12.

도 13에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 플라즈마 모니터링 방법을 보다 상세하게 설명하면, 상기 카메라(10)로부터 영상을 획득하고(S11), 획득된 영상 정보의 판별 데이터 값을 산출한다(S12).As shown in FIG. 13, the plasma monitoring method according to some exemplary embodiments of the present invention will be described in more detail. An image is acquired from the camera 10 (S11), and the determination data value of the obtained image information is obtained. It calculates (S12).

이 때, 상기 원홀을 구성하는 픽셀 중 가장 높은 밝기 값인 최대 밝기 값(Bmax)과, 상기 원홀을 구성하는 픽셀 중 가장 낮은 밝기 값인 최소 밝기 값(Bmin) 및 상기 원홀을 구성하는 픽셀의 밝기 합을 상기 원홀의 픽셀 개수로 나눈 평균 밝기 값(Bave)을 산출할 수 있다.In this case, the maximum brightness value Bmax, which is the highest brightness value among the pixels constituting the circle hole, the minimum brightness value Bmin, which is the lowest brightness value among the pixels constituting the circle hole, and the brightness sum of the pixels constituting the circle hole are determined. An average brightness value Bave divided by the number of pixels of the one hole may be calculated.

또한, 상기 원홀들이 집합된 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave) 및 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev)를 산출할 수 있다.In addition, the average brightness value Mave of the multi-holes in which the circle holes are collected and the standard deviation value Mdev of the multi-holes may be calculated.

이어서, 상기 원홀들의 평균 밝기 값(Bave), 상기 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave), 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev) 및 이들의 조합들 중 어느 하나 이상을 포함한 데이터 값을 상기 기준치와 비교할 수 있다(S13)Subsequently, a data value including any one or more of the average brightness value Bave of the circle holes, the average brightness value Mave of the multi-holes, the standard deviation value Mdev of the multi-holes, and combinations thereof is compared with the reference value. Can be compared (S13)

이 때, 이들 값들의 상한치 이하인지를 판별하여(S13) 이하인 경우, 다시 하한치 이상인지를 판별한다(S14).At this time, it is determined whether they are equal to or less than the upper limit of these values (S13), and when it is less than or equal to (S13), it is again determined whether or not it is greater than or equal to the lower limit.

만약, 이들 값들이 상한치 이상이거나, 하한치 이하인 경우에는 불량으로 판별하여(S17) NG 알림 정보를 출력하고(S18), 그렇지 않은 경우에는 양품으로 판별하여(S15) OK 알림 정보를 출력할 수 있다.If these values are equal to or greater than the upper limit or less than the lower limit, it is determined as bad (S17) and the NG notification information is output (S18). Otherwise, it is determined as good quality (S15) and the OK notification information can be output.

그러므로, 플라즈마 공정이 이루어지는 동안, 카메라를 이용하여 실시간 또는 간헐적으로 전극 홀의 상태를 판별 모니터링 할 수 있고, 전극 홀의 부분 막힘 또는 완전 막힘시 신속하게 알람 신호를 발생시켜서 플라즈마 장비 운영을 원활하게 할 수 있다.Therefore, during the plasma process, the state of the electrode hole can be monitored and monitored in real time or intermittently using the camera, and the alarm signal can be generated quickly when the electrode hole is partially blocked or completely blocked to smoothly operate the plasma equipment. .

그러나, 이러한 플라즈마 모니터링 장치 및 방법은 도면에 국한되지 않고 매우 다양한 형태나 방법으로 구현될 수 있다.However, the plasma monitoring apparatus and method may be implemented in a wide variety of forms or methods without being limited to the drawings.

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, this is merely exemplary, and those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.

1: 대상 기판
10: 카메라
H: 전극홀
20: 영상 판별부
21: 기준 영상 획득부
22: 대상 영역 지정부
23: 원홀 인식부
24: 좌표 값 설정부
25: 판별 데이터 산출부
251: 원홀 데이터 산출부
252: 멀티홀 데이터 산출부
26: 데이터 판별부
30: 전극 패널
40: 케이스
50: 윈도우 글래스
100: 플라즈마 모니터링 장치1: target substrate
10: camera
H: electrode hole
20: image discriminating unit
21: reference image acquisition unit
22: target area designator
23: one-hole recognition unit
24: coordinate value setting unit
25: discrimination data calculation unit
251: one-hole data calculation unit
252: multi-hole data calculation unit
26: data determination unit
30: electrode panel
40: case
50: window glass
100: plasma monitoring device

Claims (8)

플라즈마 가스를 방출하는 복수개의 전극 홀들을 촬영할 수 있는 적어도 하나의 적어도 하나의 카메라; 및
상기 카메라로부터 획득된 영상 정보를 이용하여 상기 전극 홀들의 상태를 판별할 수 있는 영상 판별부;
를 포함하는, 플라즈마 모니터링 장치.At least one camera capable of capturing a plurality of electrode holes emitting plasma gas; And
An image discriminating unit configured to determine the states of the electrode holes using the image information obtained from the camera;
Including, the plasma monitoring device. 제 1 항에 있어서,
상기 영상 판별부는,
상기 전극 홀의 막힘 여부를 판단하는 기준이 되는 기준 영상을 획득하는 기준 영상 획득부;
상기 기준 영상 내의 검사하고자 하는 관심 영역(ROI; Region of interest)을 지정하는 대상 영역 지정부;
상기 관심 영역 내의 모든 픽셀들의 원홀(one hole)로 인식될 수 있는 밝기 값(Mbright)과 픽셀 개수(Mqty)로 설정된 파라미터 값을 기준으로 상기 전극 홀들에 해당되는 원홀로 인식하는 원홀 인식부;
상기 전극 홀들에 해당되도록 상기 원홀들의 고유 번호를 부여하는 좌표 값 설정부;
상기 카메라로부터 획득된 영상 정보의 판별 데이터 값을 산출하는 판별 데이터 산출부; 및
상기 판별 데이터 값을 기준치와 비교하여 상한 또는 하한을 벗어나는 경우, 알림 정보를 출력하는 데이터 판별부;
를 포함하는, 플라즈마 모니터링 장치.The method of claim 1,
The image discriminating unit,
A reference image acquisition unit obtaining a reference image as a reference for determining whether the electrode hole is blocked;
A target region designator for designating a region of interest (ROI) to be examined in the reference image;
A one-hole recognition unit recognizing one holes corresponding to the electrode holes based on a brightness value Mbright that can be recognized as one hole of all pixels in the ROI and a parameter value set to the number of pixels Mqty;
A coordinate value setting unit for assigning unique numbers of the circle holes to correspond to the electrode holes;
A discrimination data calculator for calculating a discrimination data value of the image information obtained from the camera; And
A data determination unit configured to output notification information when the determination data value is out of an upper limit or a lower limit by comparing with the reference value;
Including, the plasma monitoring device. 제 2 항에 있어서,
상기 판별 데이터 산출부는,
상기 원홀을 구성하는 픽셀 중 가장 높은 밝기 값인 최대 밝기 값(Bmax)과, 상기 원홀을 구성하는 픽셀 중 가장 낮은 밝기 값인 최소 밝기 값(Bmin) 및 상기 원홀을 구성하는 픽셀의 밝기 합을 상기 원홀의 픽셀 개수로 나눈 평균 밝기 값(Bave)을 산출하는 원홀 데이터 산출부; 및
상기 원홀들이 집합된 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave) 및 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev)를 산출하는 멀티홀 데이터 산출부;를 포함하고,
상기 데이터 판별부는,
적어도 상기 원홀들의 평균 밝기 값(Bave), 상기 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave), 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev) 및 이들의 조합들 중 어느 하나 이상을 포함한 데이터 값을 상기 기준치와 비교하는, 플라즈마 모니터링 장치.The method of claim 2,
The determination data calculation unit,
The maximum brightness value Bmax, which is the highest brightness value among the pixels constituting the circle hole, the minimum brightness value Bmin, which is the lowest brightness value among the pixels constituting the circle hole, and the sum of the brightnesses of the pixels constituting the circle hole, are determined. A one-hole data calculator configured to calculate an average brightness value (Bave) divided by the number of pixels; And
And a multi-hole data calculator configured to calculate an average brightness value Mave of the multi-holes in which the circle holes are collected and a standard deviation value Mdev of the multi-holes.
The data determination unit,
Comparing a data value including at least one of at least one of the average brightness value Bave of the circle holes, the average brightness value Mave of the multi-holes, the standard deviation value Mdev of the multi-holes, and combinations thereof Plasma monitoring device. 제 3 항에 있어서,
상기 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave)은, (Bave1 + Bave1 +.....BaveN)/N이고,
상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev)은, {(Mave-Bave1)2 + (Mave-Bave2)2 +....(Mave-BaveN)2/N}1/2인, 플라즈마 모니터링 장치.The method of claim 3, wherein
The average brightness value Mave of the multi-holes is (Bave1 + Bave1 + ..... BaveN) / N,
The standard deviation value Mdev of the multi-holes is {(Mave-Bave1) 2 + (Mave-Bave2) 2 + .... (Mave-BaveN) 2 / N} 1/2 . 제 1 항에 있어서,
상기 전극 홀들은 대상 기판의 이동 경로의 상방에 배치되어 길이 방향으로 길게 형성된 전극 패널에 M행 N열로 배치되고,
상기 카메라는 상기 대상 기판의 상기 이동 경로의 하방에 배치되어 상기 복수개의 상기 전극 홀들을 구획별로 담당할 수 있는 복수개의 카메라들로 이루어지고,
복수개의 상기 카메라들을 보호할 수 있도록 상기 카메라들을 둘러싸는 형상으로 길이 방향으로 길게 형성되는 케이스;
를 더 포함하는, 플라즈마 모니터링 장치.The method of claim 1,
The electrode holes are arranged in an M row and N columns in an electrode panel formed above the movement path of the target substrate and formed in the longitudinal direction.
The camera is formed of a plurality of cameras disposed below the movement path of the target substrate to cover the plurality of the electrode holes for each section,
A case extending in a length direction in a shape surrounding the cameras to protect the plurality of cameras;
Further comprising a plasma monitoring device. 제 5 항에 있어서,
상기 플라즈마 가스로부터 상기 카메라를 보호하고, 이물질들이 적층되면 교체될 수 있도록 상기 케이스에 조립되는 윈도우 글래스;
를 더 포함하는, 플라즈마 모니터링 장치.The method of claim 5,
A window glass that is assembled to the case to protect the camera from the plasma gas and to be replaced when foreign materials are stacked;
Further comprising a plasma monitoring device. 전극 홀의 막힘 여부를 판단하는 기준이 되는 기준 영상을 획득하는 기준 영상 획득 단계;
상기 기준 영상 내의 검사하고자 하는 관심 영역(ROI; Region of interest)을 지정하는 대상 영역 지정 단계;
상기 관심 영역 내의 모든 픽셀들의 원홀(one hole)로 인식될 수 있는 밝기 값(Mbright)과 픽셀 개수(Mqty)로 설정된 파라미터 값을 기준으로 상기 전극 홀들에 해당되는 원홀로 인식하는 원홀 인식 단계;
상기 전극 홀들에 해당되도록 상기 원홀들의 고유 번호를 부여하는 좌표 값 설정 단계;
상기 카메라로부터 획득된 영상 정보의 판별 데이터 값을 산출하는 판별 데이터 산출 단계; 및
상기 판별 데이터 값을 기준치와 비교하여 상한 또는 하한을 벗어나는 경우, 알림 정보를 출력하는 데이터 판별 단계;
를 포함하는, 플라즈마 모니터링 방법.A reference image obtaining step of obtaining a reference image as a reference for determining whether the electrode hole is blocked;
Specifying a region of interest (ROI) to be examined in the reference image;
A one-hole recognition step of recognizing the one-hole corresponding to the electrode holes based on a parameter value set to the brightness value Mbright and the number of pixels Mqty that can be recognized as one holes of all pixels in the ROI;
A coordinate value setting step of assigning unique numbers of the circle holes to correspond to the electrode holes;
A determination data calculating step of calculating a determination data value of the image information obtained from the camera; And
A data determination step of outputting notification information when the determination data value is out of an upper limit or a lower limit by comparing with a reference value;
Comprising a plasma monitoring method. 제 7 항에 있어서,
상기 판별 데이터 산출 단계는,
상기 원홀을 구성하는 픽셀 중 가장 높은 밝기 값인 최대 밝기 값(Bmax)과, 상기 원홀을 구성하는 픽셀 중 가장 낮은 밝기 값인 최소 밝기 값(Bmin) 및 상기 원홀을 구성하는 픽셀의 밝기 합을 상기 원홀의 픽셀 개수로 나눈 평균 밝기 값(Bave)을 산출하는 원홀 데이터 산출 단계; 및
상기 원홀들이 집합된 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave) 및 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev)를 산출하는 멀티홀 데이터 산출 단계;를 포함하고,
상기 데이터 판별 단계는,
적어도 상기 원홀들의 평균 밝기 값(Bave), 상기 멀티홀들의 평균 밝기 값(Mave), 상기 멀티홀들의 표준 편차 값(Mdev) 및 이들의 조합들 중 어느 하나 이상을 포함한 데이터 값을 상기 기준치와 비교하는, 플라즈마 모니터링 방법.The method of claim 7, wherein
The determination data calculating step,
The maximum brightness value Bmax, which is the highest brightness value among the pixels constituting the circle hole, the minimum brightness value Bmin, which is the lowest brightness value among the pixels constituting the circle hole, and the sum of the brightnesses of the pixels constituting the circle hole, are determined. A one-hole data calculating step of calculating an average brightness value (Bave) divided by the number of pixels; And
And a multi-hole data calculating step of calculating an average brightness value Mave of the multi-holes in which the circle holes are collected and a standard deviation value Mdev of the multi-holes.
The data determination step,
Comparing a data value including at least one of at least one of the average brightness value Bave of the circle holes, the average brightness value Mave of the multi-holes, the standard deviation value Mdev of the multi-holes, and combinations thereof Plasma monitoring method.
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