KR102147873B1 - 플라즈마 안테나 모듈 - Google Patents

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KR102147873B1
KR102147873B1 KR1020200039832A KR20200039832A KR102147873B1 KR 102147873 B1 KR102147873 B1 KR 102147873B1 KR 1020200039832 A KR1020200039832 A KR 1020200039832A KR 20200039832 A KR20200039832 A KR 20200039832A KR 102147873 B1 KR102147873 B1 KR 102147873B1
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coil assembly
coupling
antenna module
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채희성
김형원
정희석
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주식회사 기가레인
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    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32082Radio frequency generated discharge
    • H01J37/321Radio frequency generated discharge the radio frequency energy being inductively coupled to the plasma
    • H01J37/3211Antennas, e.g. particular shapes of coils
    • HELECTRICITY
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    • H01Q1/26Supports; Mounting means by structural association with other equipment or articles with electric discharge tube
    • HELECTRICITY
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    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
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Abstract

본 발명은 플라즈마 안테나 모듈에 관한 것이다. 구체적으로 본 발명의 일 실시예에 따르면, 적어도 일부가 가상의 평면 상에서 연장되는 이너 코일 조립체; 상기 가상의 평면에 수직인 방향에서 보았을 때 상기 이너 코일 조립체와 이격되어 상기 이너 코일 조립체를 둘러싸는 방향으로 연장되는 형상을 가지는 아우터 코일 조립체; 및 상기 아우터 코일 조립체 및 상기 이너 코일 조립체를 지지하는 지지부를 포함하고, 상기 지지부는, 상기 아우터 코일 조립체를 지지하는 아우터 지지체; 및 상기 이너 코일 조립체를 지지하는 제1 이너 지지체를 포함하고, 상기 아우터 코일 조립체에 대한 상기 이너 코일 조립체의 상대적인 위치의 조절을 위해 상기 아우터 지지체에 대한 상기 제1 이너 지지체의 위치가 변경 가능하도록 구성되는, 플라즈마 안테나 모듈이 제공될 수 있다.

Description

플라즈마 안테나 모듈{PLASMA ANTENA MODULE}
본 발명은 플라즈마 안테나 모듈에 대한 발명이다.
일반적으로 반도체 소자는 기판에 여러 가지 공정을 수행함으로써 제작될 수 있다. 예를 들어, 기판 처리를 위한 여러 가지 공장은 식각(Etching), 증착(Deposition), 열처리(Thermal) 및 임프린트 리소그래피(Imprint Lithography) 등의 공정을 포함할 수 있다. 특히, 식각 공정에서는 플라즈마 처리 장치를 이용하여 발생한 플라즈마(Plasma)를 통해 기판을 식각하는 작업을 수행할 수 있다.
한편, 플라즈마 처리 장치는 크게 유도 결합형 플라즈마 발생원(Inductively Coupled Plasma Source, ICP) 타입과 용량 결합형 플라즈마 발생원(Capacitively Coupled Plasma Source, CCP) 타입 및 전자 공명 플라즈마 발생원(Electro Cyclotron Resonance Plasma Source, ECR) 타입 및 헬리콘 플라즈마 발생원(Helicon Plasma Source) 타입이 있다.
이러한 플라즈마 처리 장치는 플라즈마 안테나 모듈에 전류가 공급되면 공정 가스를 고주파 전류와 반응시킴으로써 플라즈마 상태로 변환시킬 수 있으며, 형성된 플라즈마를 이용하여 기판을 처리(예를 들어, 식각, 증착 등)할 수 있다. 이때, 플라즈마의 밀도는 기판의 처리 속도를 결정하는 중요한 요소 중 하나일 수 있다.
그러나, 플라즈마의 밀도는 플라즈마를 처리하는 환경 조건(예를 들어, 전류의 크기, 위치 등)에 따라 변할 수 있으며, 플라즈마 밀도에 따라 기판을 처리하는 속도가 상이해질 수 있다. 예를 들어, 기판의 일부는 플라즈마 밀도가 높은 곳에 위치하여 빠른 속도로 처리되고, 기판의 다른 일부는 플라즈마 밀도가 낮은 곳에 위치하여 낮은 속도로 처리될 수 있다. 이처럼, 플라즈마 밀도가 기판 위치에 따라 상이하게 형성되어 기판이 균일하게 처리되지 않을 수 있다. 따라서, 플라즈마 장치 내에 형성된 플라즈마의 밀도를 기판 위치와 상관없이 균일하게 함으로써 균일한 속도로 기판을 처리할 수 있는 장치의 필요성이 있다.
본 발명의 실시예들은 상기와 같은 배경에 착안하여 발명된 것으로서, 플라즈마 장치 내에 형성된 플라즈마의 밀도를 균일하게 함으로써 위치와 상관없이 균일한 속도로 웨이퍼를 처리할 수 있는 플라즈마 안테나 모듈을 제공하고자 한다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 적어도 일부가 가상의 평면 상에서 연장되는 이너 코일 조립체; 상기 가상의 평면에 수직인 방향에서 보았을 때 상기 이너 코일 조립체와 이격되어 상기 이너 코일 조립체를 둘러싸는 방향으로 연장되는 형상을 가지는 아우터 코일 조립체; 및 상기 아우터 코일 조립체 및 상기 이너 코일 조립체를 지지하는 지지부를 포함하고, 상기 지지부는, 상기 아우터 코일 조립체를 지지하는 아우터 지지체; 및 상기 이너 코일 조립체를 지지하는 제1 이너 지지체를 포함하고, 상기 아우터 코일 조립체에 대한 상기 이너 코일 조립체의 상대적인 위치의 조절을 위해 상기 아우터 지지체에 대한 상기 제1 이너 지지체의 위치가 변경 가능하도록 구성되는, 플라즈마 안테나 모듈이 제공될 수 있다.
또한, 상기 지지부는, 일측은 상기 아우터 지지체와 결합될 수 있으며, 타측은 상기 제1 이너 지지체와 결합될 수 있는 연결 지지체를 포함하고, 상기 아우터 지지체에 대한 상기 제1 이너 지지체의 상기 가상의 평면과 나란한 방향으로의 상대적인 위치의 조절을 위해, 상기 연결 지지체와 상기 아우터 지지체간에 결합되는 위치가 변경 가능하게 구성되는, 플라즈마 안테나 모듈이 제공될 수 있다.
또한, 상기 아우터 지지체와 상기 연결 지지체를 결합하기 위한 결합부재를 더 포함하고, 상기 연결 지지체에는 상기 결합부재가 삽입되기 위한 결합 홀이 형성되는, 플라즈마 안테나 모듈이 제공될 수 있다.
또한, 상기 연결 지지체에는 상기 결합 홀이 복수 개로 형성되며, 복수 개의 상기 결합 홀은, 상기 가상의 평면과 나란한 방향으로 배열되되, 복수 개의 상기 결합 홀 중 어느 하나를 중심으로 방사형으로 이격되도록 배열된, 플라즈마 안테나 모듈이 제공될 수 있다.
또한, 상기 이너 코일 조립체와 전기적으로 연결될 수 있는 메인 연결부재를 더 포함하고, 상기 지지부는, 상기 이너 코일 조립체를 지지하는 제2 이너 지지체를 더 포함하고, 상기 제2 이너 지지체는 상기 메인 연결부재와의 전기적으로 연결되기 위해 상기 결합부재가 삽입될 수 있는 관통 홀이 형성된, 플라즈마 안테나 모듈이 제공될 수 있다.
또한, 상기 메인 연결부재와 상기 이너 코일 조립체가 전기적으로 연결될 수 있도록 매개하는 인덕터를 더 포함하고, 상기 제2 이너 지지체는 상기 인덕터를 통하여 상기 메인 연결부재에 결합된, 플라즈마 안테나 모듈이 제공될 수 있다.
또한, 상기 연결 지지체에는 상기 결합 홀이 복수 개로 형성되며, 상기 제2 이너 지지체에는 복수 개의 상기 결합 홀 사이의 이격 거리와 동일한 이격 거리를 가지도록 상기 관통 홀이 복수 개로 형성된, 플라즈마 안테나 모듈이 제공될 수 있다.
또한, 복수 개의 상기 결합 홀 및 복수 개의 상기 관통 홀의 적어도 일부는 서로 대응하는 위치로 배열되는, 플라즈마 안테나 모듈이 제공될 수 있다.
또한, 상기 제1 이너 지지체에는 가이드 돌기가 돌출 형성되고, 상기 연결 지지체에는 상기 가이드 돌기가 삽입될 수 있으며, 상기 가이드 돌기의 일 방향으로의 이동을 안내하는 가이드 홈이 형성되며, 상기 제1 이너 지지체는 상기 가이드 돌기가 상기 가이드 홈의 상기 일 방향을 따라 이동하여 상기 연결 지지체에 고정 지지됨으로써 상기 연결 지지체에 대한 상대적인 상기 일 방향으로의 위치 조절이 가능하게 구성되는, 플라즈마 안테나 모듈이 제공될 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 플라즈마 장치 내에 형성된 플라즈마의 밀도를 균일하게 함으로써 기판 위치와 상관없이 균일한 속도로 웨이퍼를 처리할 수 있는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 안테나 모듈의 사시도이다.
도 2는 도 1의 저면 사시도이다.
도 3은 도 1의 분해 사시도이다.
도 4는 도 1의 정면도이다.
도 5는 도 1의 A의 확대도이다.
도 6은 도 1의 연결 지지체가 제1 이너 지지체에 대하여 상승하였을 때, A부분의 확대도이다.
도 7은 도 1의 저면도이다.
도 8은 도 1의 연결 지지체, 제1 이너 지지체 및 제2 이너 지지체가 이동하였을 때의 저면도이다.
이하에서는 본 발명의 사상을 구현하기 위한 구체적인 실시예에 대하여 도면을 참조하여 상세히 설명하도록 한다.
아울러 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다.
또한, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 '연결', '지지', '유입', '공급', '유동', '결합'된다고 언급된 때에는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결, 지지, 유입, 공급, 유동, 결합될 수도 있지만 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.
본 명세서에서 사용된 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로 본 발명을 한정하려는 의도로 사용된 것은 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한 복수의 표현을 포함한다.
또한, 제1, 제2 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 해당 구성요소들은 이와 같은 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 이 용어들은 하나의 구성요소들을 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.
명세서에서 사용되는 "포함하는"의 의미는 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소 및/또는 성분을 구체화하며, 다른 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소, 성분 및/또는 군의 존재나 부가를 제외시키는 것은 아니다.
또한, 본 명세서에서 상측, 하측 등의 표현은 도면에 도시를 기준으로 설명한 것이며 해당 대상의 방향이 변경되면 다르게 표현될 수 있음을 미리 밝혀둔다. 한편 본 명세서의, 상하 방향은 도 1의 상하 방향일 수 있다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 안테나 모듈(1)의 구체적인 구성에 대하여 설명한다.
이하, 도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 안테나 모듈(1)은 챔버(미도시) 내의 공정 가스를 고주파 전류와 반응시킴으로써, 공정 가스를 플라즈마로 변환시킬 수 있다. 이러한 플라즈마 안테나 모듈(1)은 챔버의 상측에 배치될 수 있으며, 전원 공급부(2)로부터 전원을 공급받을 수 있다. 또한, 플라즈마 안테나 모듈(1)은 전류가 균일하게 흐르게 함으로써, 챔버 내에 균일한 플라즈마 밀도를 제공할 수 있다. 이러한 플라즈마 안테나 모듈(1)은 연결부(100), 접지 모듈(200), 아우터 코일 조립체(300), 이너 코일 조립체(400), 인덕터(500), 지지부(600), 이음부재(700) 및 결합부(800)를 포함할 수 있다.
플라즈마 안테나 모듈(1)은 아우터 코일 조립체(300) 및 이너 코일 조립체(400)가 챔버(미도시)와 마주하도록 배치될 수 있다. 예를 들어, 플라즈마 안테나 모듈(1)은 아우터 코일 조립체(300) 및 이너 코일 조립체(400)의 상측이 하측을 향하도록 도 1에 도시된 방향과 반대로 뒤집어져 챔버의 상측에 배치될 수 있다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 연결부(100)는 전원 공급부(2)로부터 전달받은 전류를 아우터 코일 조립체(300) 및 이너 코일 조립체(400)로 전달할 수 있다. 이러한 연결부(100)는 아우터 코일 조립체(300) 및 이너 코일 조립체(400)와 전기적으로 연결되며, 아우터 코일 조립체(300)와 이너 코일 조립체(400)를 병렬적으로 연결시킬 수 있다. 이러한 연결부(100)는 메인 연결부재(110), 아우터 연결부재(120), 이너 연결부재(130)를 포함할 수 있다.
메인 연결부재(110)는 아우터 코일 조립체(300)와 전원 공급부(2)를 전기적으로 연결할 수 있으며, 이너 코일 조립체(400)와 전원 공급부(2)를 전기적으로 연결할 수 있다.
아우터 연결부재(120)는 메인 연결부재(110)로부터 전달받은 전류를 아우터 코일 조립체(300)로 전달하도록 구성될 수 있다. 이러한 아우터 연결부재(120)는 제1 아우터 코일(310)과 연결되는 제1 아우터 연결부재(121), 제2 아우터 코일(320)과 연결되는 제2 아우터 연결부재(122) 및 제3 아우터 코일(330)과 연결되는 제3 아우터 연결부재(123)를 포함할 수 있다.
도 4를 참조하면, 이너 연결부재(130)는 후술할 제2 이너 지지체(640)를 통하여 메인 연결부재(110)로부터 전달받은 전류를 이너 코일 조립체(400)로 전달하도록 구성될 수 있다. 또한, 이너 연결부재(130)는 제1 이너 코일(410)과 연결되는 제1 이너 연결부재(131) 및 제2 이너 코일(420)과 연결되는 제2 이너 연결부재(132)를 포함할 수 있다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 접지 모듈(200)은 아우터 코일 조립체(300) 및 이너 코일 조립체(400)가 전기적으로 접지(grounding)되도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 접지 모듈(200)은 아우터 코일 조립체(300) 및 이너 코일 조립체(400)를 땅(ground)과 같이 전위가 0인 지점과 연결시킬 수 있다. 이러한 접지 모듈(200)은 아우터 접지부(210) 및 이너 접지부(220)를 포함할 수 있다.
아우터 접지부(210)는 아우터 코일 조립체(300)가 전기적으로 접지되도록 구성될 수 있다. 이러한 아우터 접지부(210)의 일측은 아우터 코일 조립체(300)와 연결될 수 있으며, 타측은 외부와 연결될 수 있다. 또한, 아우터 접지부(210)는 제1 아우터 코일(310)과 연결되는 제1 아우터 그라운드(211), 제2 아우터 코일(320)과 연결되는 제2 아우터 그라운드(212) 및 제3 아우터 코일(330)과 연결되는 제3 아우터 그라운드(213)을 포함할 수 있다.
이너 접지부(220)는 이너 코일 조립체(400)가 전기적으로 접지되도록 구성될 수 있다. 이러한 이너 접지부(220)의 일측은 이너 코일 조립체(400)와 연결될 수 있으며, 타측은 외부와 연결될 수 있다. 또한, 이너 접지부(220)는 제1 이너 코일(410)과 연결되는 제1 이너 그라운드(221) 및 제2 이너 코일(420)과 연결되는 제2 이너 그라운드(222)를 포함할 수 있다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 아우터 코일 조립체(300)는 챔버 내부의 공정 가스를 플라즈마로 변형시키기 위한 전기장을 형성하도록 구성될 수 있다. 이러한 아우터 코일 조립체(300)는 챔버 내부에 균일한 플라즈마 밀도를 제공할 수 있다. 이러한 아우터 코일 조립체(300)의 적어도 일부는 가상의 평면 상에서 연장될 수 있다. 예를 들어, 아우터 코일 조립체(300)는 지면에 대하여 평행인 가상의 평면 상에서 연장 형성될 수 있다. 또한, 아우터 코일 조립체(300)는 가상의 평면에 수직인 방향에서 보았을 때, 이너 코일 조립체(400)와 이격되어 이너 코일 조립체(400)를 둘러싸는 방향으로 연장될 수 있다. 다시 말해, 아우터 코일 조립체(300)는 지면에서 수직인 방향에서 보았을 때, 이너 코일 조립체(400)의 외측에 배치되도록 형성될 수 있다. 아우터 코일 조립체(300)는 루프 형상을 가지기 위하여 적어도 일부가 굴곡진 형상을 가지는 제1 아우터 코일(310), 제2 아우터 코일(320) 및 제3 아우터 코일(330)을 포함할 수 있다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 이너 코일 조립체(400)는 챔버 내부의 공정 가스를 플라즈마로 변형시키기 위한 전기장을 형성하도록 구성될 수 있다. 이러한 이너 코일 조립체(400)는 챔버 내부에 균일한 플라즈마 밀도를 제공할 수 있다. 이러한 이너 코일 조립체(400)의 적어도 일부는 가상의 평면 상에서 연장될 수 있다. 예를 들어, 이너 코일 조립체(400)는 지면에 대하여 평행인 가상의 평면 상에서 연장 형성될 수 있다. 또한, 이너 코일 조립체(400)는 지면에 대하여 수직인 방향에서 보았을 때, 아우터 코일 조립체(300)의 내측에 배치되도록 형성될 수 있다. 더 자세한 예시로, 이너 코일 조립체(400)는 지면에 대하여 아우터 코일 조립체(300)와 동일한 높이를 가지도록 배치될 수 있다. 다만, 이는 예시에 불과하고, 이너 코일 조립체(400)는 아우터 코일 조립체(300)와 상이한 높이를 가지는 것도 가능하다. 또한, 이너 코일 조립체(400)는 아우터 코일 조립체(300)와 전원 공급부(2)에 병렬로 연결될 수 있다. 이러한 이너 코일 조립체(400)는 루프 형상을 가지기 위하여 적어도 일부가 굴곡진 형상을 가지는 제1 이너 코일(410) 및 제2 이너 코일(420)을 포함할 수 있다.
인덕터(500)는 아우터 코일 조립체(300)와 전기적으로 연결될 수 있으며, 이너 코일 조립체(400)와 전기적으로 연결될 수 있다. 또한, 인덕터(500)는 인덕터(500)의 인덕턴스를 변경함으로써 아우터 코일 조립체(300) 및 이너 코일 조립체(400)에 흐르는 전류의 크기를 조절하도록 구성될 수 있다. 또한, 인덕터(500)는 제2 이너 지지체(640)가 메인 연결부재(110)에 지지되도록 구성될 수 있다. 다시 말해, 인덕터(500)는 메인 연결부재(110)와 제2 이너 지지체(640)가 전기적으로 연결될 수 있도록 매개할 수 있다. 또한, 제2 이너 지지체(640)는 인덕터(500)를 통하여 메인 연결부재(110)에 결합될 수 있다. 이러한 인덕터(500)의 일측 단부는 제2 이너 지지체(640)를 지지할 수 있으며, 인덕터(500)의 타측 단부는 메인 연결부재(110)에 고정 지지될 수 있다. 또한, 인덕터(500)의 일측 단부는 제2 이너 지지체(640)에 형성된 후술할 관통 홀(641)과 결합될 수 있다. 예를 들어, 인덕터(500)는 일측 단부에 형성된 홀이 제2 결합 부재(820)에 의해 제2 이너 지지체(640)와 결합될 수 있다. 한편, 인덕터(500)의 일측은 메인 연결부재(110)와 전기적으로 연결될 수 있으며, 타측은 제2 이너 지지체(640)와 전기적으로 연결될 수 있다.
한편, 본 명세서에서 메인 연결부재(110)와 제2 이너 지지체(640) 사이는 인덕터(500)에 의해 전기적으로 연결되는 것으로 표현하였으나, 인덕터(500)는 도체인 브라켓 등으로 대체될 수도 있다. 또한, 인덕터(500)는 제2 이너 지지체(640)와 결합되기 위한 지지대(505)를 더 포함할 수 있다. 이러한 지지대(505)는 인덕터(500)의 일측 단부와 제2 이너 지지체(640) 사이에 배치될 수 있다. 이처럼, 인덕터(500)는 지지대(505)를 통하여 제2 이너 지지체(640)에 결합될 수 있다. 다만, 이는 예시에 불과하고 인덕터(500)가 제2 이너 지지체(640)와 직접적으로 결합되는 것도 가능하다.
도 1 내지 도 4를 다시 참조하면, 지지부(600)는 아우터 코일 조립체(300), 이너 코일 조립체(400) 및 인덕터(500) 중 하나 이상을 지지할 수 있다. 이러한 지지부(600)는 아우터 지지체(610), 연결 지지체(620), 제1 이너 지지체(630) 및 제2 이너 지지체(640)를 포함할 수 있다.
아우터 지지체(610)는 아우터 코일 조립체(300)를 지지할 수 있다. 이러한 아우터 지지체(610)는 플라즈마 처리 장치 내의 고정부(미도시)에 의해 고정 지지될 수 있다. 또한, 아우터 지지체(610)는 복수 개로 제공될 수 있으며, 복수 개의 아우터 지지체(610)는 아우터 코일 조립체(300)를 지지할 수 있다. 이러한 아우터 지지체(610)에는 아우터 지지체(610)가 연결 지지체(620)와 결합되기 위한 체결 홀(611)이 형성될 수 있다.
체결 홀(611)에는 후술할 제1 결합 부재(810)가 삽입될 수 있다. 예를 들어, 체결 홀(611)에는 제1 결합 부재(810)의 수나사산과 맞물릴 수 있는 암나사산이 형성될 수 있다. 따라서, 제1 결합 부재(810)가 체결 홀(611) 및 후술할 결합 홀(621)에 삽입되어 체결 홀(611) 및 결합 홀(621)과 체결되었을 때, 아우터 지지체(610)는 연결 지지체(620)와 결합될 수 있다.
연결 지지체(620)는 아우터 지지체(610)에 지지될 수 있으며, 제1 이너 지지체(630)를 지지할 수 있다. 이러한 연결 지지체(620)의 일부는 아우터 지지체(610)에 결합 가능하게 제공될 수 있다. 다시 말해, 연결 지지체(620)의 일부는 제1 결합 부재(810)를 통하여 아우터 지지체(610)에 결합될 수 있다. 또한, 연결 지지체(620)의 다른 일부는 아우터 지지체(610)에 결합되는 일부에 대하여 절곡 형성될 수 있으며, 제1 이너 지지체(630)를 지지할 수 있다. 이러한 연결 지지체(620)에는 제1 결합 부재(810)가 삽입될 수 있는 결합 홀(621) 및 후술할 가이드 돌기(631)가 삽입될 수 있는 가이드 홈(622)이 형성될 수 있다.
결합 홀(621)은 복수 개로 제공될 수 있으며, 복수 개의 결합 홀(621)은 연결 지지체(620)에 이너 코일 조립체(400)가 연장되는 가상의 평면과 나란한 방향으로 배열될 수 있다. 또한, 복수 개의 결합 홀(621)은 복수 개의 결합 홀(621) 중 어느 하나를 중심으로 방사형으로 이격되도록 배열될 수 있다. 이러한 복수 개의 결합 홀(621) 중 어느 하나에는 제1 결합 부재(810)가 삽입될 수 있다. 한편, 복수 개의 결합 홀(621) 중 어느 하나는 연결 지지체(620)가 아우터 지지체(610)에 결합되기 위하여 아우터 지지체(610)의 체결 홀(611)과 대응되는 위치에 놓일 수 있다. 이때, 제1 결합 부재(810)가 체결 홀(611) 및 결합 홀(621)을 관통하여 삽입됨으로써 연결 지지체(620)와 아우터 지지체(610)는 서로 결합될 수 있다.
한편, 연결 지지체(620)는 아우터 지지체(610)에 대한 제1 이너 지지체(630)의 상대적인 위치 조절을 위하여 아우터 지지체(610)에 대한 결합 위치가 변경 가능하게 구성될 수 있다. 예를 들어, 연결 지지체(620)가 아우터 지지체(610)에 결합되는 위치에 따라 지면과 평행한 가상의 평면 상에서의 아우터 지지체(610)에 대한 제1 이너 지지체(630)의 수평 위치는 조절될 수 있다.
이처럼, 아우터 지지체(610)가 고정된 채로 연결 지지체(620)의 위치가 조절됨으로써, 이너 코일 조립체(400)는 아우터 코일 조립체(300)와 독립적으로 이동될 수 있다.
또한, 연결 지지체(620)와 아우터 지지체(610)의 결합 위치가 조절됨으로써, 아우터 코일 조립체(300)에 대한 이너 코일 조립체(400)의 상대적인 수평 위치가 조절될 수 있다.
또한, 아우터 코일 조립체(300)에 대하여 이너 코일 조립체(400)가 일측으로 이동함으로써 코일 조립체의 무게중심은 일측으로 이동될 수 있으며, 챔버 내부의 플라즈마 밀도가 조절될 수 있다.
도 5를 참조하면, 가이드 홈(622)은 제1 이너 지지체(630)의 가이드 돌기(631)가 삽입될 수 있도록 연결 지지체(620)에 형성될 수 있다. 또한, 가이드 홈(622)은 제1 이너 지지체(630)의 가이드 돌기(631)가 연결 지지체(620)에 고정 지지되는 부분을 제공할 수 있다. 또한, 가이드 홈(622)은 일 방향(예를 들어, 도 6의 상하 방향)을 따라 연장 형성될 수 있으며, 가이드 돌기(631)의 이동을 안내할 수 있다.
제1 이너 지지체(630)는 이너 코일 조립체(400)를 지지할 수 있다. 이러한 제1 이너 지지체(630)의 일측 단부는 복수 개의 연결 지지체(620) 중 어느 하나와 연결될 수 있으며, 제1 이너 지지체(630)의 타측 단부는 복수 개의 연결 지지체(620) 중 다른 하나와 연결될 수 있다. 또한, 제1 이너 지지체(630)는 아우터 코일 조립체(300)에 대한 이너 코일 조립체(400)의 상대적인 위치를 조절하기 위해 아우터 지지체(610)에 대한 위치가 변경 가능하도록 구성될 수 있다. 이러한 제1 이너 지지체(630)에는 연결 지지체(620)의 가이드 홈(622)에 슬라이드 이동 가능하게 제공되는 가이드 돌기(631)가 구비될 수 있다.
도 6을 참조하면, 가이드 돌기(631)는 가이드 홈(622)의 내측에 삽입되어 이동할 수 있다. 또한, 가이드 돌기(631)는 제1 이너 지지체(630)가 연결 지지체(620)에 고정 지지될 수 있도록 가이드 홈(622)을 통하여 연결 지지체(620)에 고정 지지될 수 있다. 이러한 가이드 돌기(631)는 가이드 홈(622)이 연장되는 방향을 따라 이동할 수 있다. 예를 들어, 연결 지지체(620)에 대한 제1 이너 지지체(630)의 상대적인 높이를 조절하기 위하여 가이드 돌기(631)는 가이드 홈(622)의 내측에서 일 방향으로 이동할 수 있다.
제2 이너 지지체(640)는 이너 코일 조립체(400)를 지지할 수 있으며, 이너 코일 조립체(400)와 전기적으로 연결될 수 있다. 이러한 제2 이너 지지체(640)의 일 단부는 제1 이너 연결부재(131)을 통하여 제1 이너 코일(410)과 연결될 수 있으며, 제2 이너 지지체(640)의 타 단부는 제2 이너 연결부재(132)를 통하여 제2 이너 코일(420)과 연결될 수 있다. 또한, 제2 이너 지지체(640)의 중심부는 인덕터(500)을 통해 메인 연결부재(110)에 고정 지지될 수 있으며, 메인 연결부재(110)와 전기적으로 연결될 수 있다. 한편, 제2 이너 지지체(640)에는 제2 이너 지지체(640)와 인덕터(500)의 결합을 위한 관통 홀(641)이 형성될 수 있다.
관통 홀(641)은 복수 개로 제공될 수 있으며, 복수 개의 관통 홀(641) 중 어느 하나에는 제2 결합 부재(820)가 삽입될 수 있다. 또한, 복수 개의 관통 홀(641)은 복수 개의 결합 홀(621) 사이의 이격 거리와 동일한 거리만큼 이격되도록 제2 이너 지지체(640)에 형성될 수 있다. 예를 들어, 복수 개의 관통 홀(641)의 적어도 일부는 복수 개의 결합 홀(621)과 서로 대응하는 위치로 배열될 수 있다.
한편, 제2 이너 지지체(640)는 인덕터(500)에 대한 상대적인 위치 조절을 위하여 인덕터(500)에 대한 결합 위치가 변경 가능하게 구성될 수 있다. 예를 들어, 제2 이너 지지체(640)가 인덕터(500)에 결합되는 위치에 따라 지면과 평행한 가상의 평면 상에서의 인덕터(500)에 대한 제2 이너 지지체(640)의 수평 위치는 조절될 수 있다.
이음부재(700)는 인덕터(500)에 흐르는 전류의 경로를 변경함으로써 아우터 코일 조립체(300) 및 이너 코일 조립체(400)에 흐르는 전류의 크기를 조절하기 위해 인덕터(500)에 결합되는 위치가 변경될 수 있도록 구성될 수 있다.
도 4 및 도 7을 참조하면, 결합부(800)는 아우터 지지체(610)와 연결 지지체(620)를 결합할 수 있는 제1 결합 부재(810) 및 제2 이너 지지체(640)와 인덕터(500)를 결합할 수 있는 제2 결합 부재(820)를 포함할 수 있다.
제1 결합 부재(810)는 복수 개의 결합 홀(621) 중 어느 하나를 관통하여 체결 홀(611)에 맞물림으로써 아우터 지지체(610)와 연결 지지체(620)를 결합시킬 수 있다. 또한, 제1 결합 부재(810)는 연결 지지체(620)가 아우터 지지체(610)에 결합되는 위치에 따라 삽입되는 결합 홀(621)이 변경될 수 있다. 예를 들어, 도 7에서와 같이 제1 결합 부재(810)는 복수 개의 결합 홀(621) 중 중심부에 형성된 결합 홀(621)에 삽입되어 체결 홀(611)에 맞물릴 수 있다. 다른 예로, 도 8에서와 같이 아우터 지지체(610)에 대하여 연결 지지체(620) 및 제1 이너 지지체(630)가 우측으로 이동하면 제1 결합 부재(810)는 복수 개의 결합 홀(621) 중 좌측에 형성된 결합 홀(621)에 삽입되어 체결 홀(611)에 맞물릴 수 있다.
제2 결합 부재(820)는 복수 개의 관통 홀(641) 중 어느 하나를 관통하여 인덕터(500)에 맞물림으로써 인덕터(500)와 제2 이너 지지체(640)를 결합시킬 수 있다. 또한, 제2 결합 부재(820)는 제2 이너 지지체(640)가 인덕터(500)에 결합되는 위치에 따라 삽입되는 관통 홀(641)이 변경될 수 있다. 예를 들어, 도 7에서와 같이 제2 결합 부재(820)는 복수 개의 관통홀 중 중심부에 형성된 관통 홀(641)에 삽입되어 인덕터(500)에 맞물릴 수 있다. 다른 예로, 도 8에서와 같이 인덕터(500)에 대하여 제2 이너 지지체(640)가 우측으로 이동하면 제2 결합 부재(820)는 복수 개의 관통 홀(641) 중 좌측에 형성된 관통 홀(641)에 삽입되어 인덕터(500)에 맞물릴 수 있다. 이러한 제2 결합 부재(820)가 복수 개의 관통 홀(641)에 삽입되는 위치는 제1 결합 부재(810)가 복수 개의 결합 홀(621)에 삽입되는 위치와 대응될 수 있다. 따라서, 연결 지지체(620), 제1 이너 지지체(630) 및 제2 이너 지지체(640)는 동일한 방향으로 동일한 거리만큼 이동하여 아우터 지지체(610) 및 인덕터(500)에 지지될 수 있다. 이로 인해, 아우터 코일 조립체(300)에 대한 이너 코일 조립체(400)의 상대적인 위치는 조절될 수 있다.
이상 본 발명의 실시예들을 구체적인 실시 형태로서 설명하였으나, 이는 예시에 불과한 것으로서, 본 발명은 이에 한정되지 않는 것이며, 본 명세서에 개시된 기초 사상에 따르는 최광의 범위를 갖는 것으로 해석되어야 한다. 당업자는 개시된 실시형태들을 조합/치환하여 적시되지 않은 형상의 패턴을 실시할 수 있으나, 이 역시 본 발명의 범위를 벗어나지 않는 것이다. 이외에도 당업자는 본 명세서에 기초하여 개시된 실시형태를 용이하게 변경 또는 변형할 수 있으며, 이러한 변경 또는 변형도 본 발명의 권리범위에 속함은 명백하다.
1: 플라즈마 안테나 모듈 2: 전원 공급부
100: 연결부 110: 메인 연결부재
120: 아우터 연결 부재 121: 제1 아우터 연결부재
122: 제2 아우터 연결부재 123: 제3 아우터 연결부재
130: 이너 연결부재 131: 제1 이너 연결부재
132: 제2 이너 연결부재 200: 접지 모듈
210: 아우터 접지부 211: 제1 아우터 그라운드
212: 제2 아우터 그라운드 213: 제3 아우터 그라운드
220: 이너 접지부 221: 제1 이너 그라운드
222: 제2 이너 그라운드 300: 아우터 코일 조립체
310: 제1 아우터 코일 320: 제2 아우터 코일
330: 제3 아우터 코일 400: 이너 코일 조립체
410: 제1 이너 코일 420: 제2 이너 코일
500: 인덕터 600: 지지부
610: 아우터 지지체 611: 체결 홀
620: 연결 지지체 621: 결합 홀
630: 제1 이너 지지체 631: 가이드 돌기
640: 제2 이너 지지체 641: 관통 홀
700: 이음 부재 800: 결합부
810: 제1 결합 부재 820: 제2 결합 부재

Claims (9)

  1. 플라즈마 안테나 모듈에 있어서,
    적어도 일부가 가상의 평면 상에서 연장되는 이너 코일 조립체;
    상기 가상의 평면에 수직인 방향에서 보았을 때 상기 이너 코일 조립체와 이격되어 상기 이너 코일 조립체를 둘러싸는 방향으로 연장되는 형상을 가지는 아우터 코일 조립체; 및
    상기 아우터 코일 조립체 및 상기 이너 코일 조립체를 지지하는 지지부를 포함하고,
    상기 지지부는,
    상기 아우터 코일 조립체를 지지하는 아우터 지지체;
    상기 이너 코일 조립체를 지지하는 제1 이너 지지체; 및
    일측은 상기 아우터 지지체와 결합될 수 있으며, 타측은 상기 제1 이너 지지체와 결합될 수 있는 연결 지지체를 포함하고,
    상기 플라즈마 안테나 모듈은 상기 아우터 지지체와 상기 연결 지지체를 결합하기 위한 결합부재를 더 포함하고,
    상기 연결 지지체에는 상기 결합부재가 선택적으로 삽입되기 위한 복수 개의 결합 홀이 형성되고,
    복수 개의 상기 결합 홀은,
    상기 가상의 평면과 나란한 방향으로 배열되되, 복수 개의 상기 결합 홀 중 어느 하나를 중심으로 방사형으로 이격되도록 배열되고,
    상기 아우터 코일 조립체에 대한 상기 이너 코일 조립체의 상대적인 위치의 조절을 위해 상기 아우터 지지체에 대한 상기 제1 이너 지지체의 상기 가상의 평면과 나란한 방향으로의 상대적인 위치가 조절 가능하도록, 상기 결합부재가 복수 개의 결합홀 중 어느 결합홀에 삽입되는지에 따라 상기 연결 지지체와 상기 아우터 지지체간에 결합되는 위치가 변경되는,
    플라즈마 안테나 모듈.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 이너 코일 조립체와 전기적으로 연결될 수 있는 메인 연결부재를 더 포함하고,
    상기 지지부는,
    상기 이너 코일 조립체를 지지하는 제2 이너 지지체를 더 포함하고,
    상기 제2 이너 지지체는 상기 메인 연결부재와의 전기적으로 연결되기 위해 상기 결합부재가 삽입될 수 있는 관통 홀이 형성된,
    플라즈마 안테나 모듈.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 메인 연결부재와 상기 이너 코일 조립체가 전기적으로 연결될 수 있도록 매개하는 인덕터를 더 포함하고,
    상기 제2 이너 지지체는 상기 인덕터를 통하여 상기 메인 연결부재에 결합된,
    플라즈마 안테나 모듈.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 연결 지지체에는 상기 결합 홀이 복수 개로 형성되며,
    상기 제2 이너 지지체에는 복수 개의 상기 결합 홀 사이의 이격 거리와 동일한 이격 거리를 가지도록 상기 관통 홀이 복수 개로 형성된,
    플라즈마 안테나 모듈.
  8. 제 7 항에 있어서,
    복수 개의 상기 결합 홀 및 복수 개의 상기 관통 홀의 적어도 일부는 서로 대응하는 위치로 배열되는,
    플라즈마 안테나 모듈.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1 이너 지지체에는 가이드 돌기가 돌출 형성되고,
    상기 연결 지지체에는 상기 가이드 돌기가 삽입될 수 있으며, 상기 가이드 돌기의 일 방향으로의 이동을 안내하는 가이드 홈이 형성되며,
    상기 제1 이너 지지체는 상기 가이드 돌기가 상기 가이드 홈의 상기 일 방향을 따라 이동하여 상기 연결 지지체에 고정 지지됨으로써 상기 연결 지지체에 대한 상대적인 상기 일 방향으로의 위치 조절이 가능하게 구성되는,
    플라즈마 안테나 모듈.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160099074A (ko) * 2016-08-08 2016-08-19 에이피티씨 주식회사 향상된 시디 균일도를 갖는 적응형 플라즈마 소스 및 이를 이용한 적응형 플라즈마 챔버
KR20200003561A (ko) * 2018-07-02 2020-01-10 주식회사 기가레인 기계적으로 플라즈마 밀도를 제어하는 기판 처리 장치

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160099074A (ko) * 2016-08-08 2016-08-19 에이피티씨 주식회사 향상된 시디 균일도를 갖는 적응형 플라즈마 소스 및 이를 이용한 적응형 플라즈마 챔버
KR20200003561A (ko) * 2018-07-02 2020-01-10 주식회사 기가레인 기계적으로 플라즈마 밀도를 제어하는 기판 처리 장치

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114599142A (zh) * 2022-03-07 2022-06-07 盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司 等离子体调节装置、方法、生成装置和半导体加工装置

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