KR102145464B1 - Uv curable ink of high refractive index for inkjet printing and method for preparing light extraction substrate for organic light emitting device using the same - Google Patents

Uv curable ink of high refractive index for inkjet printing and method for preparing light extraction substrate for organic light emitting device using the same Download PDF

Info

Publication number
KR102145464B1
KR102145464B1 KR1020180089990A KR20180089990A KR102145464B1 KR 102145464 B1 KR102145464 B1 KR 102145464B1 KR 1020180089990 A KR1020180089990 A KR 1020180089990A KR 20180089990 A KR20180089990 A KR 20180089990A KR 102145464 B1 KR102145464 B1 KR 102145464B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
meth
acrylate
weight
inkjet
glycol
Prior art date
Application number
KR1020180089990A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20200014606A (en
Inventor
이철태
윤대중
최정규
Original Assignee
주식회사 이엠에스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 이엠에스 filed Critical 주식회사 이엠에스
Priority to KR1020180089990A priority Critical patent/KR102145464B1/en
Publication of KR20200014606A publication Critical patent/KR20200014606A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102145464B1 publication Critical patent/KR102145464B1/en

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/30—Inkjet printing inks
    • C09D11/38—Inkjet printing inks characterised by non-macromolecular additives other than solvents, pigments or dyes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/30—Inkjet printing inks
    • C09D11/36—Inkjet printing inks based on non-aqueous solvents
    • H01L51/0005—
    • H01L51/0096—
    • H01L51/56—
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10—Deposition of organic active material
    • H10K71/12—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating
    • H10K71/13—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing
    • H10K71/135—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing using ink-jet printing
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K77/00—Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
    • H10K77/10—Substrates, e.g. flexible substrates
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549—Organic PV cells

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Ink Jet Recording Methods And Recording Media Thereof (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

본 발명은 잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크 및 이를 이용한 유기발광소자용 광추출 기판의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는, 산화 무기물 필러, 반응성 모노머 및 희석 용매를 특정 함량으로 포함함으로써 기판에 굴절률 및 투과율이 우수한 광 추출층을 형성할 수 있고, 광 추출층을 형성함에 있어서 잉크젯 공정을 이용할 수 있어 소재의 모양에 제한이 적으면서 고정 비용과 초기 투자비용을 절감시킬 수 있는 잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크 및 이를 이용한 유기발광소자용 광추출 기판의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a UV curable high refractive ink for inkjet and a light extraction substrate for an organic light emitting device using the same, and more specifically, a refractive index and a substrate by including an oxidizing inorganic filler, a reactive monomer, and a diluting solvent in a specific amount. UV-curable high refractive ink for inkjet that can form a light extraction layer with excellent transmittance and can use an inkjet process to form the light extraction layer, so that there are few restrictions on the shape of the material, while reducing the fixed cost and initial investment cost. And it relates to a method of manufacturing a light extraction substrate for an organic light emitting device using the same.

Description

잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크 및 이를 이용한 유기발광소자용 광추출 기판의 제조 방법{UV CURABLE INK OF HIGH REFRACTIVE INDEX FOR INKJET PRINTING AND METHOD FOR PREPARING LIGHT EXTRACTION SUBSTRATE FOR ORGANIC LIGHT EMITTING DEVICE USING THE SAME}UV CURABLE INK OF HIGH REFRACTIVE INDEX FOR INKJET PRINTING AND METHOD FOR PREPARING LIGHT EXTRACTION SUBSTRATE FOR ORGANIC LIGHT EMITTING DEVICE USING THE SAME}

본 발명은 잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크 및 이를 이용한 유기발광소자용 광추출 기판의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는, 산화 무기물 필러, 반응성 모노머 및 희석 용매를 특정 함량으로 포함함으로써 기판에 굴절률 및 투과율이 우수한 광 추출층을 형성할 수 있고, 광 추출층을 형성함에 있어서 잉크젯 공정을 이용할 수 있어 소재의 모양에 제한이 적으면서 고정 비용과 초기 투자비용을 절감시킬 수 있는 잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크 및 이를 이용한 유기발광소자용 광추출 기판의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a UV curable high refractive ink for inkjet and a light extraction substrate for an organic light emitting device using the same, and more specifically, a refractive index and a substrate by including an oxidizing inorganic filler, a reactive monomer, and a diluting solvent in a specific amount. UV-curable high refractive ink for inkjet that can form a light extraction layer with excellent transmittance and can use an inkjet process to form the light extraction layer, so that there are few restrictions on the shape of the material, while reducing the fixed cost and initial investment cost. And it relates to a method of manufacturing a light extraction substrate for an organic light emitting device using the same.

일반적으로, 발광장치는 크게 유기물을 이용하여 발광층을 형성하는 유기 발광장치와 무기물을 이용하여 발광층을 형성하는 무기 발광장치로 구분할 수 있다. 이중, 유기 발광장치를 이루는 유기발광소자는 전자주입전극(cathode)으로부터 주입된 전자와 정공주입전극(anode)으로부터 주입된 정공이 유기 발광층에서 결합하여 엑시톤(exiton)을 형성하고, 이 엑시톤이 에너지를 방출하면서 발광하는 자체 발광형 소자로서, 저전력 구동, 자체발광, 넓은 시야각, 높은 해상도와 천연색 실현, 빠른 응답 속도 등의 장점을 가지고 있다.In general, light-emitting devices can be broadly divided into organic light-emitting devices that form an emission layer using organic materials and inorganic light-emitting devices that form light-emitting layers using inorganic materials. Among them, in the organic light emitting device constituting the organic light emitting device, the electrons injected from the electron injection electrode and the holes injected from the hole injection electrode are combined in the organic emission layer to form an exciton, and the excitons are energy As a self-luminous device that emits light while emitting light, it has advantages such as low power driving, self-luminescence, wide viewing angle, high resolution and natural color realization, and fast response speed.

최근에는 이러한 유기발광소자를 휴대용 정보기기, 카메라, 시계, 사무용기기, 자동차 등의 정보 표시 창, 텔레비전, 디스플레이 또는 조명용 등에 적용하기 위한 연구가 활발히 진행되고 있다.Recently, researches have been actively conducted to apply such organic light emitting devices to information display windows such as portable information devices, cameras, watches, office devices, automobiles, televisions, displays, or lighting.

한편, 유기발광소자의 박막 층상 구조로 인하여 발광층에서 생성된 빛의 80% 이상이 소자의 내부 또는 계면에서 반사 또는 흡수되어 전면으로 나오지 못하고 손실된다. 이러한 낮은 광 효율로 인하여 원하는 휘도를 구현하기 위하여 전력 소모량이 증가하고, 소자의 수명이 감소하게 된다. 이를 개선하기 위하여 광 효율 개선을 위한 연구는 중요한 과제이다.On the other hand, due to the thin-film layered structure of the organic light-emitting device, more than 80% of the light generated in the light-emitting layer is reflected or absorbed in the interior or interface of the device, and is lost without coming out to the front. Due to such low light efficiency, power consumption increases and lifespan of the device decreases in order to realize desired luminance. In order to improve this, research for improving light efficiency is an important task.

기존에는 필름이나 유리기판에 스캐터링(scattering) 효과를 이용하여 광 추출층을 제조하였으며, 예컨대 대한민국 공개특허공보 제10-2009-0128487호나 제10-2010-0138939호에는 광산란층이 형성된 기판을 개시하고 있으나, 이 경우 두께가 두껍고 투과율이 낮아 광 추출 효과가 떨어지는 문제가 있다. Conventionally, a light extraction layer was manufactured using a scattering effect on a film or a glass substrate. For example, Korean Patent Publication Nos. 10-2009-0128487 or 10-2010-0138939 disclose a substrate having a light scattering layer. However, in this case, the thickness is thick and the transmittance is low, so that the light extraction effect is deteriorated.

또한, 광 효율 개선층을 형성하기 위해 기판 표면에 금속산화물을 Gas등을 이용하여 무기물을 증착하는 CVD, 스퍼터링(sputtering) 공법들이 사용된 바 있으나, 이러한 방법의 무기물 코팅은 높은 공정 비용과 초기 투자비가 많이 드는 단점이 있다.In addition, CVD and sputtering methods have been used to deposit inorganic materials using gas, etc. on the surface of the substrate to form the light efficiency improvement layer, but inorganic coatings of these methods have high process cost and initial investment. There is a disadvantage that it costs a lot.

따라서, 광 효율 개선을 구현하기 위한 고효율의 광 추출층을 제조할 수 있는 경제성 있는 방안으로 잉크젯을 고려할 수 있을 것이다. Accordingly, inkjet may be considered as an economical method capable of manufacturing a highly efficient light extraction layer for implementing light efficiency improvement.

그러나 잉크젯을 이용하여 광추출층의 제조는 공정의 양면적 모순성을 극복해야하는 난제를 가지고 있다. 잉크젯을 이용하여 광추출층이라는 막의 형성을 위해서는 통상적으론 막을 이루는 잉크가 일정 점도 이상의 고점도을 유지하여야 막의 형성이 가능해진다. 그러나 잉크젯은 주입되는 잉크가 막형성이 가능한 수준의 점도가 되어서는 잉크젯 노즐이 막혀버리기 때문에 잉크젯공정의 작동이 근원적으로 불가능하다. 그러므로 본 발명에서의 잉크젯용 UV경화성 고굴절 잉크는 이러한 모순된 기능을 극복할수 있는 잉크이어야 한다. 마치 만년필에서 사용되는 잉크는 만년필속에 보관되는 상태에서는 건조되지 않아야 하지만 만년필을 쓰여지는 시점에는 빠르게 건조되어야 하는 모순을 극복한 것과 같은 것이다.However, the manufacture of the light extraction layer using inkjet has a difficult problem to overcome the contradictions of both sides of the process. In order to form a film called a light extraction layer by using inkjet, the film is usually formed only when the ink forming the film maintains a high viscosity of a certain viscosity or higher. However, the inkjet process is essentially impossible because the inkjet nozzle is clogged when the injected ink reaches a level at which film formation is possible. Therefore, the UV curable high refractive ink for inkjet in the present invention should be an ink capable of overcoming such contradictory functions. It is like overcoming the contradiction that the ink used in the fountain pen should not be dried when stored in the fountain pen, but it should be dried quickly when the fountain pen is written.

그러므로 본 발명의 광추출층을 만들수 있는 잉크젯 공정이 이루어지기 위해서는 잉크젯에 적용될 수 있는 잉크의 개발이 반드시 이루어져야 할 핵심적 요소이다.Therefore, in order to achieve the inkjet process capable of making the light extraction layer of the present invention, the development of ink applicable to the inkjet is a key element that must be made.

본 발명의 목적은, 산화 무기물 필러, 반응성 모노머 및 희석 용매를 특정 함량으로 포함함으로써 잉크젯공정의 난점을 극복하며 기판에 굴절률 및 투과율이 우수한 광 추출층을 형성할 수 있고, 광 추출층을 형성함에 있어서 잉크젯 공정을 이용할 수 있어 소재의 모양에 제한이 적으면서 고정 비용과 초기 투자비용을 절감시킬 수 있는 잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크 및 이를 이용한 유기발광소자용 광추출 기판의 제조 방법을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to overcome the difficulties of the inkjet process by including an inorganic oxide filler, a reactive monomer, and a diluting solvent in a specific amount, to form a light extraction layer having excellent refractive index and transmittance on a substrate, and to form a light extraction layer. Therefore, it is possible to use an inkjet process, thereby providing a UV curable high refractive ink for inkjet that can reduce fixed costs and initial investment costs while having less restrictions on the shape of a material, and a method of manufacturing a light extraction substrate for an organic light emitting device using the same.

상기한 기술적 과제를 해결하고자 본 발명은, 조성물 총 100 중량%를 기준으로, 희석 용매 40 내지 60 중량%; 산화 무기물 필러 5 내지 15 중량%; 단관능 아크릴 모노머 10 내지 20 중량%; 다관능 아크릴 모노머 5 내지 15 중량%; 및 올리고머 5 내지 15 중량%를 포함하는 것을 특징으로 하는, 잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크를 제공한다.The present invention to solve the above technical problem, based on the total composition 100% by weight, 40 to 60% by weight of a diluted solvent; 5 to 15% by weight of an oxidized inorganic filler; 10 to 20% by weight of monofunctional acrylic monomer; 5 to 15% by weight of polyfunctional acrylic monomer; And it provides a UV curable high refractive ink for inkjet, characterized in that it comprises 5 to 15% by weight of oligomer.

본 발명의 다른 측면에 따르면, 잉크젯 장비를 이용하여 잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크를 베이스 기판 상에 코팅하여 박막을 형성하는 단계; 형성된 박막을 소프트 베이킹하는 단계; 및 UV 광원을 이용하여 박막을 경화시켜 광 추출층을 얻는 단계; 를 포함하고, 상기 잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크는 조성물 총 100 중량%를 기준으로, 희석 용매 40 내지 60 중량%; 산화 무기물 필러 5 내지 15 중량%; 단관능 아크릴 모노머 10 내지 20 중량%; 다관능 아크릴 모노머 5 내지 15 중량%; 및 올리고머 5 내지 15 중량%를 포함하는 것을 특징으로 하는, 유기발광소자용 광추출 기판의 제조 방법이 제공된다.According to another aspect of the present invention, forming a thin film by coating an inkjet UV curable high refractive ink on a base substrate using an inkjet equipment; Soft baking the formed thin film; And curing the thin film using a UV light source to obtain a light extraction layer. Including, the inkjet UV curable high refractive ink based on the total composition of 100% by weight, 40 to 60% by weight of a diluted solvent; 5 to 15% by weight of an oxidized inorganic filler; 10 to 20% by weight of monofunctional acrylic monomer; 5 to 15% by weight of polyfunctional acrylic monomer; And there is provided a method of manufacturing a light extraction substrate for an organic light emitting device, characterized in that it comprises 5 to 15% by weight of oligomer.

본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 본 발명에 따른 방법으로 제조된 유기발광소자용 광추출 기판이 제공된다. According to another aspect of the present invention, there is provided a light extraction substrate for an organic light emitting device manufactured by the method according to the present invention.

본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 본 발명에 따른 유기발광소자용 광추출 기판을 포함하는 유기발광소자가 제공된다.According to another aspect of the present invention, an organic light emitting device including a light extraction substrate for an organic light emitting device according to the present invention is provided.

본 발명에 따른 잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크는 산화 무기물 필러, 반응성 모노머 및 희석 용매를 특정 함량으로 포함하기 때문에, 잉크젯 장비를 이용하여 본 발명의 상기 고굴절 잉크를 베이스 기판 상에 코팅함으로써 두께가 10 ㎛ 이하 박막의 유기발광소자용 광추출 기판을 상온에서 제조할 수 있다. 본 발명의 제조 방법은 제조공정이 간단하고, 손실이 적어 원가 절감이 가능하다. 또한 종래의 공법에 비해 얇은 박막을 형성할 수 있으므로, 높은 투과율과 우수한 평탄도를 확보할 수 있어 우수한 광추출 효율을 얻을 수 있다.Since the UV curable high refractive ink for inkjet according to the present invention contains an oxidizing inorganic filler, a reactive monomer, and a diluting solvent in a specific content, the thickness is 10 μm by coating the high refractive ink of the present invention on a base substrate using an inkjet equipment. Hereinafter, a light extraction substrate for an organic light emitting device of a thin film may be manufactured at room temperature. In the manufacturing method of the present invention, the manufacturing process is simple and the loss is small, so that cost reduction is possible. In addition, since a thin film can be formed compared to a conventional method, high transmittance and excellent flatness can be secured, thereby obtaining excellent light extraction efficiency.

이하, 본 발명을 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명의 잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크는 유기발광소자의 광 효율을 개선시킬 수 있는 광 추출층의 제조를 위한 것이다. The UV curable high refractive ink for inkjet of the present invention is for preparing a light extraction layer capable of improving the light efficiency of an organic light emitting device.

일 구체예에서, 본 발명의 잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크는 조성물 총 100 중량%를 기준으로, 희석 용매 40 내지 60 중량%; 산화 무기물 필러 5 내지 15 중량%; 단관능 아크릴 모노머 10 내지 20 중량%; 다관능 아크릴 모노머 5 내지 15 중량%; 및 올리고머 5 내지 15 중량%를 포함한다. In one embodiment, the UV curable high refractive ink for inkjet of the present invention is based on the total composition of 100% by weight, 40 to 60% by weight of a diluted solvent; 5 to 15% by weight of an oxidized inorganic filler; 10 to 20% by weight of monofunctional acrylic monomer; 5 to 15% by weight of polyfunctional acrylic monomer; And 5 to 15% by weight of oligomers.

상기와 같은 성분 및 함량을 갖는 본 발명의 잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크는, 잉크젯 공정에 적절한 점도를 가지고 있으므로, 잉크젯 장비를 이용하여 베이스 기판 상에 두께가 10 ㎛ 이하 박막의 광 추출층을 형성할 수 있으므로, 높은 투과율과 우수한 평탄도를 확보할 수 있다. 또한, 잉크젯 공정을 활용함으로써 제조공정을 단순화시킬 수 있으며, 손실이 적어 원가 절감을 통해 경제성을 향상시킬 수 있다. Since the UV curable high refractive ink for inkjet of the present invention having the above components and contents has a viscosity suitable for the inkjet process, the light extraction layer having a thickness of 10 μm or less can be formed on the base substrate by using inkjet equipment. Therefore, high transmittance and excellent flatness can be secured. In addition, by using the inkjet process, the manufacturing process can be simplified, and the loss is small, and thus economic efficiency can be improved through cost reduction.

본 발명의 잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크는 조성물 총 100 중량%를 기준으로, 희석 용매 40 내지 60 중량%, 바람직하게는 42 내지 58 중량%, 45 내지 55 중량%를 포함할 수 있다. 희석 용매의 함량이 40 중량% 미만인 경우 잉크젯 공정에서 노즐이 막히는 문제가 발생할 수 있고, 함량이 60 중량%를 초과하는 경우에는 비산 및 위성의 드랍(drop)이 발생할 수 있다. The UV curable high refractive ink for inkjet of the present invention may include 40 to 60% by weight of a diluent solvent, preferably 42 to 58% by weight, and 45 to 55% by weight, based on 100% by weight of the total composition. If the content of the diluted solvent is less than 40% by weight, the nozzle may be clogged in the inkjet process, and when the content exceeds 60% by weight, scattering and satellite drop may occur.

상기 함량의 희석 용매를 포함하는 본 발명의 잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크는 점도가 5 내지 30 cps, 예컨대 5 내지 25 cps, 5 내지 20 cps, 5 내지 15 cps, 또는 5 내지 10 cps 일 수 있다. 고굴절 잉크의 점도가 상기 수치 범위인 경우에는 잉크젯 공정 하에 별도의 문제가 발생하지 않으면서 기판 상에 고굴절 잉크를 코팅할 수 있으며, 점도가 상기 수치 범위를 벗어나는 경우 잉크젯 공정에서 노즐이 막히거나, 비산 및 위성의 드랍(drop)이 발생할 수 있다. The UV curable high refractive ink for inkjet of the present invention containing the above content of the diluted solvent may have a viscosity of 5 to 30 cps, such as 5 to 25 cps, 5 to 20 cps, 5 to 15 cps, or 5 to 10 cps. If the viscosity of the high refractive ink is within the above numerical range, the high refractive ink can be coated on the substrate without causing any problems under the inkjet process.If the viscosity is outside the above numerical range, the nozzle may be clogged or scattered in the inkjet process. And satellites may drop.

본 발명의 희석 용매는 단일 용매를 사용하거나, 또는 2 이상의 용매를 혼합하여 사용할 수 있다. The diluting solvent of the present invention may be used by using a single solvent or a mixture of two or more solvents.

일 구체예에서, 상기 희석 용매는, 고비점 용매와 저비점 용매가 중량비 2:1 내지 4:1의 비, 바람직하게는 2.3:1 내지 3.8:1, 보다 바람직하게는 2.5:1 내지 3.5:1, 더욱 바람직하게는 2.8:1 내지 3.3:1로 혼합된 것일 수 있다. 예를 들면, 조성물 총 100 중량%를 기준으로, 고비점 용매의 함량은 30 내지 40 중량%, 바람직하게는 32 내지 38 중량%, 보다 바람직하게는 34 내지 38 중량%일 수 있고, 저비점 용매의 함량은 10 내지 20 중량%, 바람직하게는 10 내지 16 중량%, 보다 바람직하게는 10 내지 14 중량%일 수 있다. 희석 용매가 상기 비율로 혼합되지 않는 경우에는 용매가 자연 증발되어 손실되거나, 제팅성 확보가 어려울 수 있다. In one embodiment, the diluted solvent is a high boiling point solvent and a low boiling point solvent in a weight ratio of 2:1 to 4:1, preferably 2.3:1 to 3.8:1, more preferably 2.5:1 to 3.5:1 , More preferably 2.8:1 to 3.3:1 may be mixed. For example, based on the total 100% by weight of the composition, the content of the high boiling point solvent may be 30 to 40% by weight, preferably 32 to 38% by weight, more preferably 34 to 38% by weight, and the low boiling point solvent The content may be 10 to 20% by weight, preferably 10 to 16% by weight, more preferably 10 to 14% by weight. If the diluted solvent is not mixed in the above ratio, the solvent may be naturally evaporated and lost, or it may be difficult to secure jetting properties.

본 발명에서 “고비점 용매”는 비점이 150℃이상인 용매로서, 부틸 셀루솔브, 에틸셀루솔브, 아세테이트(예를 들면 카비톨 아세테이트 (Carbitol acetate) 등) 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 사용할 수 있고, 바람직하게는 카비톨 아세테이트를 사용할 수 있으며, “저비점 용매”는 비점이 100℃이하인 용매로서, 아세톤, 초산에틸, 이소프로필알코올(IPA), 메틸에틸케톤(MEK), 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르(PGME) 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 사용할 수 있고, 바람직하게는 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르(PGME)을 사용할 수 있다. 고비점 용매와 저비점 용매의 중량비가 4:1을 초과하는 경우에는 잉크젯 공정에서 노즐이 막히는 문제가 발생할 수 있고, 중량비가 2:1 미만인 경우에는 비산 및 위성의 드랍(drop)이 발생할 수 있다. In the present invention, the “high boiling point solvent” is a solvent having a boiling point of 150°C or higher, and is selected from the group consisting of butyl cellosolve, ethyl cellosolve, acetate (eg, carbitol acetate, etc.), and combinations thereof. It can be used, and preferably carbitol acetate can be used, and the "low boiling point solvent" is a solvent having a boiling point of 100°C or less, and is acetone, ethyl acetate, isopropyl alcohol (IPA), methyl ethyl ketone (MEK), propylene glycol mono Methyl ether (PGME) and combinations thereof may be used, and propylene glycol monomethyl ether (PGME) may be preferably used. When the weight ratio of the high boiling point solvent and the low boiling point solvent exceeds 4:1, a problem of clogging of the nozzle may occur in the inkjet process, and when the weight ratio is less than 2:1, scattering and drops of the satellite may occur.

본 발명의 잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크는 조성물 총 100 중량%를 기준으로, 산화 무기물 필러 5 내지 15 중량%, 바람직하게는 7 내지 13 중량%, 더욱 바람직하게는 8 내지 12 중량%를 포함할 수 있다. 산화 무기물 필러의 함량이 5 중량% 미만인 경우 잉크젯의 젯팅성은 양호하나 원하는 굴절률을 얻을 수 없고, 15 중량%를 초과하는 경우에는 노즐이 막히는 문제가 발생할 수 있다. The UV curable high refractive ink for inkjet of the present invention may contain 5 to 15% by weight, preferably 7 to 13% by weight, more preferably 8 to 12% by weight, based on the total 100% by weight of the composition. have. When the content of the inorganic oxide filler is less than 5% by weight, the jetting property of the inkjet is good, but the desired refractive index cannot be obtained, and when it exceeds 15% by weight, a problem of clogging the nozzle may occur.

일 구체예에서, 산화 무기물 필러는 SiO2, TiO2, ZrO2, ZnO2, SnO2 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 사용할 수 있고, 바람직하게는 ZrO2을 사용할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. In one embodiment, the inorganic oxide filler may be used as SiO 2 , TiO 2 , ZrO 2 , ZnO 2 , SnO 2 and those selected from the group consisting of a combination thereof, and preferably ZrO 2 , but limited thereto. It doesn't work.

본 발명의 잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크는 조성물 총 100 중량%를 기준으로, 단관능 아크릴 모노머 10 내지 20 중량%, 바람직하게는 10 내지 18 중량%, 보다 바람직하게는 10 내지 15 중량%를 포함할 수 있다. 상기 단관능 아크릴 모노머는 하나의 아크릴 관능기를 보유한 모노머 경화제를 의미하며, 단관능 아크릴 모노머의 함량이 10 중량% 미만인 경우 산화물 무기물 필러가 고르게 분산되지 않을 우려가 있고, 20 중량%를 초과하는 경우 굴절률이 낮아지거나 경화감도가 저하될 문제가 있을 수 있다. The UV curable high refractive ink for inkjet of the present invention contains 10 to 20% by weight, preferably 10 to 18% by weight, and more preferably 10 to 15% by weight, based on 100% by weight of the total composition. I can. The monofunctional acrylic monomer refers to a monomer curing agent having one acrylic functional group, and when the content of the monofunctional acrylic monomer is less than 10% by weight, there is a concern that the oxide inorganic filler may not be evenly dispersed, and when it exceeds 20% by weight, the refractive index There may be a problem that this decreases or the curing sensitivity decreases.

일 구체예에서, 단관능 아크릴 모노머는, 메틸 (메타)아크릴레이트, 에틸 (메타)아크릴레이트, 프로필 (메타)아크릴레이트, 옥틸(메타)아크릴레이트, 데실 (메타)아크릴레이트, 도데실 (메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴 (메타)아크릴레이트, 시클로헥실 (메타)아크릴레이트, 이소보닐 (메타)아크릴레이트, 벤질 (메타)아크릴레이트, 페닐 (메타)아크릴레이트, 바이페닐메틸 (메타)아크릴레이트, 페녹시에틸 (메타)아크릴레이트, 페녹시디에틸렌 글리콜 (메타)아크릴레이트, 페녹시테트라에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 페녹시폴리에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 노닐페녹시에틸 (메타)아크릴레이트, 노닐페녹시테트라에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 페닐페놀 (메타)아크릴레이트, 메톡시디에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 에톡시디에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 부톡시에틸 (메타)아크릴레이트, 부톡시트리에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실폴리에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 노닐페닐폴리프로필렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 메톡시디프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 글리시딜 (메타)아크릴레이트,글리세롤 (메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 변성 페녹시 (메타)아크릴레이트 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 사용할 수 있고, 바람직하게는 페닐페놀 아크릴레이트을 사용할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. In one embodiment, the monofunctional acrylic monomer is methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) )Acrylate, stearyl (meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, phenyl (meth)acrylic Rate, biphenylmethyl (meth)acrylate, phenoxyethyl (meth)acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth)acrylate, phenoxytetraethylene glycol (meth)acrylate, phenoxypolyethylene glycol (meth)acrylate , Nonylphenoxyethyl (meth)acrylate, nonylphenoxytetraethylene glycol (meth)acrylate, phenylphenol (meth)acrylate, methoxydiethylene glycol (meth)acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth)acrylate , Butoxyethyl (meth)acrylate, butoxytriethylene glycol (meth)acrylate, 2-ethylhexyl polyethylene glycol (meth)acrylate, nonylphenyl polypropylene glycol (meth)acrylate, methoxydipropylene glycol (meth) )Acrylate, glycidyl (meth)acrylate, glycerol (meth)acrylate, polyethylene glycol (meth)acrylate, polypropylene glycol (meth)acrylate, modified phenoxy (meth)acrylate, and combinations thereof What is selected from the group consisting of may be used, preferably phenylphenol acrylate may be used, but is not limited thereto.

본 발명의 잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크는 조성물 총 100 중량%를 기준으로, 다관능 아크릴 모노머 5 내지 15 중량%, 바람직하게는 5 내지 12 중량%, 보다 바람직하게는 6 내지 10 중량%를 포함할 수 있다. 상기 다관능 아크릴 모노머는 2~3 개의 아크릴 관능기를 보유한 모노머 경화제를 의미하며, 다관능 아크릴 모노머의 함량이 5 중량% 미만인 경우 경화 감도가 저하 될 수 있고, 15 중량%를 초과하는 경우 잉크의 점도가 증가 하여 잉크젯 공정 성능이 저하되는 문제가 있을 수 있다. The UV curable high refractive ink for inkjet of the present invention may contain 5 to 15% by weight, preferably 5 to 12% by weight, and more preferably 6 to 10% by weight of a polyfunctional acrylic monomer, based on 100% by weight of the total composition. I can. The polyfunctional acrylic monomer refers to a monomer curing agent having 2 to 3 acrylic functional groups, and when the content of the polyfunctional acrylic monomer is less than 5% by weight, the curing sensitivity may decrease, and when it exceeds 15% by weight, the viscosity of the ink There may be a problem that the inkjet process performance is deteriorated due to an increase in.

일 구체예에서, 다관능 아크릴 모노머는, 디(메타)아크릴화 이소시아누레이트, 트리(메타)아크릴화 이소시아누레이트, 1,3-디부틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 1,9-노난디올 디(메타)아크릴레이트, EO(에틸렌옥사이드) 변성 비스페놀A 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, ECH(에피클로로히드린)변성 헥사히드로프탈산 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, EO 변성 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 히드록시피바린산 에스테르 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 스테아린산 변성 펜타에리스리톨 디(메타)아크릴레이트, 폴리(에틸렌글리콜-테트라메틸렌글리콜) 디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, ECH 변성 프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸디메탄올(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리글리세롤 디(메타)아크릴레이트, ECH 변성글리세롤 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트, EO 변성 인산 트리(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판 트리(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 트리메티롤 프로판 트리(메타)아크릴레이트, EO 변성 트리메티롤프로판 트리(메타)아크릴레이트 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 사용할 수 있고, 바람직하게는 트리아크릴화 이소시아누레이트을 사용할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. In one embodiment, the polyfunctional acrylic monomer is, di(meth)acrylated isocyanurate, tri(meth)acrylated isocyanurate, 1,3-dibutylene glycol di(meth)acrylate, 1,4- Butanedioldi(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, 1,9-nonandiol di(meth)acrylate, EO(ethylene oxide) modified bisphenol A di(meth)acrylate, di Ethylene glycol di(meth)acrylate, ECH(epichlorohydrin) modified hexahydrophthalic acid di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, EO modified neopentyl glycol di(meth)acrylate, capro Lactone-modified hydroxypibaric acid ester neopentyl glycol di(meth)acrylate, stearic acid-modified pentaerythritol di(meth)acrylate, poly(ethylene glycol-tetramethylene glycol) di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth) )Acrylate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, ECH-modified propylene glycol di(meth)acrylate, tricyclodecanedimethanol(meth)acrylate, tripropylene glycol di(meth)acrylate, triglycerol di( Meth)acrylate, ECH-modified glycerol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, EO-modified phosphoric acid tri(meth)acrylate, trimethyrolpropane tri(meth)acrylate, caprolactone-modified trimethylate Tyrol propane tri(meth)acrylate, EO-modified trimethyrolpropane tri(meth)acrylate, and combinations thereof may be used, preferably triacrylated isocyanurate may be used, but this Not limited.

본 발명의 잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크는 조성물 총 100 중량%를 기준으로, 올리고머 5 내지 15 중량%, 바람직하게는 5 내지 12 중량%, 보다 바람직하게는 8 내지 12 중량%를 포함할 수 있다. 상기 올리고머는 하나 또는 2개의 아크릴 관능기를 보유한 올리고머를 의미하며, 올리고머의 함량이 5 중량% 미만인 경우 경화 감도가 저하 될 수 있고, 15 중량%를 초과하는 경우 잉크의 점도가 증가 하여 잉크젯 공정시 노즐 막힘 문제가 있을 수 있다.The UV curable high refractive ink for inkjet of the present invention may contain 5 to 15% by weight of oligomer, preferably 5 to 12% by weight, and more preferably 8 to 12% by weight, based on 100% by weight of the total composition. The oligomer refers to an oligomer having one or two acrylic functional groups, and when the content of the oligomer is less than 5% by weight, the curing sensitivity may decrease, and when the content of the oligomer exceeds 15% by weight, the viscosity of the ink increases. There may be a clogging problem.

일 구체예에서, 올리고머는, 우레탄계 올리고머, 폴리에스테르계 올리고머, 폴리에테르계 올리고머, 아크릴계 올리고머, 에폭시계 올리고머 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 사용할 수 있고, 바람직하게는 변성 폴리에폭시 아크릴레이트 올리고머를 사용할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. In one embodiment, the oligomer may be selected from the group consisting of urethane-based oligomers, polyester-based oligomers, polyether-based oligomers, acrylic oligomers, epoxy-based oligomers, and combinations thereof, preferably modified polyepoxy acrylate Oligomers may be used, but are not limited thereto.

본 발명의 잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크는 가교제 5 내지 15 중량%; 광개시제 2 내지 20 중량%; 계면활성제 0.01 중량% 이상 1 중량% 미만 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상을 추가로 포함할 수 있다. UV curable high refractive ink for inkjet of the present invention is a crosslinking agent 5 to 15% by weight; 2 to 20% by weight of a photoinitiator; It may further include one or more selected from the group consisting of 0.01% by weight or more and less than 1% by weight of a surfactant, and combinations thereof.

본 발명의 잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크는 조성물 총 100 중량%를 기준으로, 가교제 5 내지 15 중량%, 바람직하게는 5 내지 12 중량%, 보다 바람직하게는 5 내지 10 중량%를 포함할 수 있다. 상기 가교제는 4개 이상의 아크릴 관능기를 보유한 경화제를 의미하며, 가교제의 함량이 5 중량% 미만인 경우 경화 감도가 저하 될 수 있고, 15 중량%를 초과하는 경우 잉크의 점도가 증가 하여 잉크젯 공정 성능이 저하되는 문제가 있을 수 있다.The UV curable high refractive ink for inkjet of the present invention may contain 5 to 15% by weight of a crosslinking agent, preferably 5 to 12% by weight, and more preferably 5 to 10% by weight, based on 100% by weight of the total composition. The crosslinking agent refers to a curing agent having 4 or more acrylic functional groups, and when the content of the crosslinking agent is less than 5% by weight, the curing sensitivity may decrease, and when it exceeds 15% by weight, the viscosity of the ink increases and the inkjet process performance decreases. There may be a problem.

일 구체예에서, 가교제는, 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨에톡시 테트라(메타)아크릴레이트 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 사용할 수 있고, 바람직하게는 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트을 사용할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. In one embodiment, the crosslinking agent is dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, pentaerythritol ethoxy tetra(meth)acrylate, and their What is selected from the group consisting of a combination may be used, and preferably dipentaerythritol hexaacrylate may be used, but is not limited thereto.

본 발명의 잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크는 조성물 총 100 중량%를 기준으로, 광개시제 2 내지 20 중량%, 바람직하게는 2 내지 10 중량%, 보다 바람직하게는 2 내지 5 중량%를 포함할 수 있다. 상기 광개시제의 함량이 2 중량% 미만인 경우 경화반응이 충분히 일어나지 못할 우려가 있고, 20 중량%를 초과하는 경우 개시제가 잉크내에 모두 용해되지 않거나 점도가 증가하여 잉크젯 공정성이 저하될 우려가 있다.The UV curable high refractive ink for inkjet of the present invention may contain 2 to 20% by weight, preferably 2 to 10% by weight, and more preferably 2 to 5% by weight of a photoinitiator, based on 100% by weight of the total composition. When the content of the photoinitiator is less than 2% by weight, the curing reaction may not sufficiently occur, and when the content of the photoinitiator exceeds 20% by weight, the initiator may not be completely dissolved in the ink or the viscosity may increase, leading to a decrease in inkjet processability.

일 구체예에서, 광개시제는 벤조페논, 4-페닐벤조페논, 벤조일 안식향산, 2,2-디에톡시아세토페논, 비스디에틸아미노벤조페논, 벤질, 벤조인, 벤조일이소프로필에테르, 벤질디메틸케탈, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 티옥산톤, 2-메틸티옥산톤, 2,4-디메틸티옥산톤, 이소프로필티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 2,4-디이소프로필티옥산톤, 1-(4-이소프로필페닐)2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 1-(4-(2-히드록시에톡시)-페닐)-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 캠퍼퀴논, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드, 2-메틸-1-(4-(메틸티오)페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-1-부타논-1,2-디메틸아미노-2-(4-메틸-벤질)-1-(4-모르폴린-4-일-페닐)-부탄-1-온, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸-펜틸포스핀옥사이드 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 사용할 수 있고, 바람직하게는 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드나 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. In one embodiment, the photoinitiator is benzophenone, 4-phenylbenzophenone, benzoyl benzoic acid, 2,2-diethoxyacetophenone, bisdiethylaminobenzophenone, benzyl, benzoin, benzoylisopropyl ether, benzyldimethylketal, 1 -Hydroxycyclohexylphenyl ketone, thioxanthone, 2-methyl thioxanthone, 2,4-dimethyl thioxanthone, isopropyl thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, 2,4-diiso Propylthioxanthone, 1-(4-isopropylphenyl)2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1-(4-(2-hydroxyethoxy)-phenyl)-2-hydroxy- 2-methyl-1-propan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, camphorquinone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis(2 ,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide, 2-methyl-1-(4-(methylthio)phenyl)-2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino- 1-(4-morpholinophenyl)-1-butanone-1,2-dimethylamino-2-(4-methyl-benzyl)-1-(4-morpholin-4-yl-phenyl)-butane- 1-one, bis(2,6-dimethoxybenzoyl)-2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide and combinations thereof may be used, preferably 2,4,6 -Trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, or a mixture thereof may be used, but is not limited thereto.

본 발명의 잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크는 조성물 총 100 중량%를 기준으로, 계면활성제 1 중량% 미만, 예컨대 0.01 중량% 이상 1 중량% 미만, 바람직하게는 0.01 내지 0.5 중량%, 보다 바람직하게는 0.01 내지 0.1 중량%를 포함할 수 있다. 상기 계면활성제의 함량이 0.01 중량% 미만인 경우 박막형성시 코팅 불량이 발생될수 있으며, 1 중량% 이상인 경우 조성물의 상용성이 감소하여 오히려 점도가 증가하거나 경화후 박막의 헤이즈를 발생 시킬수 있다. The UV curable high refractive ink for inkjet of the present invention is less than 1% by weight of surfactant, such as 0.01% by weight or more and less than 1% by weight, preferably 0.01 to 0.5% by weight, more preferably 0.01% by weight based on the total 100% by weight of the composition. It may contain to 0.1% by weight. If the content of the surfactant is less than 0.01% by weight, coating defects may occur when forming a thin film, and if the content is more than 1% by weight, the compatibility of the composition decreases, resulting in an increase in viscosity or haze of the thin film after curing.

일 구체예에서, 계면활성제는 폴리아크릴레이트계 계면활성제, 실리콘 함유 계면활성제, 아크릴계 계면활성제 등을 사용할 수 있으며, 구체적으로는 BYK사의 BYK-306, BYK-310, BYK-320, BYK-331, BYK-333, BYK-342, BYK-350, BYK-354, BYK-355, BYK-356, BYK-358N, BYK-359, BYK-361N, BYK-381, BYK-370, BYK-371, BYK-378, BYK-388, BYK-392, BYK-394, BYK-399, BYK-3440, BYK-3441, BYK-UV3500, BYK-UV3530, BYK-UV3570, 또는 테고 사의 Rad 2100, Rad 2011, Glide 100, Glide 410, Glide 450, 또는 스미토모 스리엠 사의 Fluorad FC-93, FC-95, FC-98, FC-129, FC-135, FC-170C, FC-430, 또는 듀퐁 사의 Zonyl FS-300, FSN, FSN-100, FSO 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 사용할 수 있고, 바람직하게는 BYK사의 BYK-358N 을 사용할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. In one embodiment, the surfactant may be a polyacrylate-based surfactant, a silicone-containing surfactant, an acrylic surfactant, etc., specifically BYK's BYK-306, BYK-310, BYK-320, BYK-331, BYK-333, BYK-342, BYK-350, BYK-354, BYK-355, BYK-356, BYK-358N, BYK-359, BYK-361N, BYK-381, BYK-370, BYK-371, BYK- 378, BYK-388, BYK-392, BYK-394, BYK-399, BYK-3440, BYK-3441, BYK-UV3500, BYK-UV3530, BYK-UV3570, or Tego's Rad 2100, Rad 2011, Glide 100, Glide 410, Glide 450, or Sumitomo 3M's Fluorad FC-93, FC-95, FC-98, FC-129, FC-135, FC-170C, FC-430, or DuPont's Zonyl FS-300, FSN, FSN-100, FSO, and combinations thereof may be used, preferably BYK's BYK-358N may be used, but is not limited thereto.

본 발명의 잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크는 굴절률이 1.5 내지 1.8, 바람직하게는 1.55 내지 1.75, 보다 바람직하게는 1.6 내지 1.7일 수 있다. 굴절률이 상기 수치 범위를 벗어나는 경우 효과적인 광효율 개선이 되지 않을 우려가 있다. The UV curable high refractive ink for inkjet of the present invention may have a refractive index of 1.5 to 1.8, preferably 1.55 to 1.75, more preferably 1.6 to 1.7. If the refractive index is out of the above numerical range, there is a concern that effective light efficiency may not be improved.

본 발명의 다른 측면에 따르면, 유기발광소자의 광 효율을 개선할 수 있는, 잉크젯을 이용한 유기발광소자용 광추출 기판의 제조 방법이 제공된다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a light extraction substrate for an organic light emitting device using an ink jet, which can improve the light efficiency of the organic light emitting device.

일 구체예에서, 잉크젯 장비를 이용하여 잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크를 베이스 기판 상에 코팅하여 박막을 형성하는 단계; 형성된 박막을 소프트 베이킹하는 단계; 및 UV 광원을 이용하여 박막을 경화시켜 광 추출층을 얻는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하며, 상기 잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크는 조성물 총 100 중량%를 기준으로, 희석 용매 40 내지 60 중량%; 산화 무기물 필러 5 내지 15 중량%; 단관능 아크릴 모노머 10 내지 20 중량%; 다관능 아크릴 모노머 5 내지 15 중량%; 및 올리고머 5 내지 15 중량%를 포함하는, 유기발광소자용 광추출 기판의 제조 방법이 제공된다. In one embodiment, forming a thin film by coating an inkjet UV curable high refractive ink on a base substrate using an inkjet device; Soft baking the formed thin film; And obtaining a light extraction layer by curing the thin film using a UV light source, wherein the inkjet UV-curable high refractive ink comprises: 40 to 60% by weight of a dilution solvent based on a total of 100% by weight of the composition; 5 to 15% by weight of an oxidized inorganic filler; 10 to 20% by weight of monofunctional acrylic monomer; 5 to 15% by weight of polyfunctional acrylic monomer; And there is provided a method of manufacturing a light extraction substrate for an organic light emitting device comprising 5 to 15% by weight of oligomer.

상기 베이스 기판으로는 UV 경화가 가능한 유기필름인 고분자 계열의 물질이 사용되거나, 화학강화유리인 소다라임 유리(SiO2-CaO-Na2O) 또는 알루미노실리케이트계 유리(SiO2-Al2O3-Na2O)가 사용될 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.As the base substrate, a polymer-based material, which is an organic film capable of UV curing, is used, or soda lime glass (SiO 2 -CaO-Na 2 O) or aluminosilicate glass (SiO 2 -Al 2 O) is a chemically strengthened glass. 3 -Na 2 O) may be used, but is not limited thereto.

일 구체예에서, 박막의 용매 제거를 위한 소프트 베이킹은 50 내지 150℃, 바람직하게는 60 내지 120℃, 보다 바람직하게는 70 내지 100℃에서, 5 내지 20분, 바람직하게는 5 내지 15분, 보다 바람직하게는 5 내지 10분 동안 수행될 수 있다. In one embodiment, the soft baking for solvent removal of the thin film is 50 to 150 °C, preferably 60 to 120 °C, more preferably 70 to 100 °C, 5 to 20 minutes, preferably 5 to 15 minutes, More preferably, it may be performed for 5 to 10 minutes.

본 발명의 제조 방법에서 사용되는 UV 광원으로는 특별히 한정하지 않으며, 예를 들어 수은 증기 아크, 탄소 아크, Xe 아크, LED 경화기 등을 사용할 수 있고, 250 ~ 410 nm 광원을 사용하여 박막을 경화시킬 수 있으며, 경화 도즈량은 1000 ~ 20000 mJ/cm2 일 수 있다.The UV light source used in the manufacturing method of the present invention is not particularly limited, and for example, a mercury vapor arc, carbon arc, Xe arc, LED curing machine, etc. may be used, and the thin film may be cured using a 250 ~ 410 nm light source. And the curing dose may be 1000 to 20000 mJ/cm 2 .

본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 본 발명의 방법으로 제조된 유기발광소자용 광추출 기판이 제공된다. According to another aspect of the present invention, a light extraction substrate for an organic light emitting device manufactured by the method of the present invention is provided.

또한, 본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 본 발명에 따른 유기발광소자용 광추출 기판을 포함하는 유기발광소자가 제공된다. 본 발명의 유기발광소자는 다양한 제품, 예를 들면 휴대용 정보기기, 카메라, 시계, 사무용기기, 자동차 등의 정보 표시 창, 텔레비전, 디스플레이 또는 조명용 등에 적용될 수 있다.In addition, according to another aspect of the present invention, there is provided an organic light-emitting device including a light extraction substrate for an organic light-emitting device according to the present invention. The organic light emitting device of the present invention can be applied to various products, for example, portable information devices, cameras, clocks, office devices, information display windows such as automobiles, televisions, displays, or lighting.

이하, 실시예 및 비교예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명한다. 그러나 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의하여 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail through Examples and Comparative Examples. However, the scope of the present invention is not limited by these examples.

[실시예][Example]

<잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크의 제조><Production of UV curable high refractive ink for inkjet>

하기 표 1과 같은 성분의 잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크를 제조하였으며, 제조된 고굴절 잉크의 점도, 표면 장력 및 비중을 측정하여 하기 표 1에 기재하였다. A UV curable high refractive ink for inkjet having the components shown in Table 1 was prepared, and the viscosity, surface tension, and specific gravity of the prepared high refractive ink were measured and described in Table 1 below.

점도는 Vibro viscometer SV-1A (AND사)를 사용하여 측정하였고, 표면 장력은 Du Nouy tensionmeter(Itho Seisakusho사)를 사용하여 KS M 1071-4에 따라 측정하였으며, 비중은 Pycnometer를 사용하여 KS M 3821에 따라 측정하였다. Viscosity was measured using a Vibro viscometer SV-1A (AND), and the surface tension was measured according to KS M 1071-4 using a Du Nouy tensionmeter (Itho Seisakusho), and the specific gravity was KS M 3821 using a Pycnometer. It was measured according to.

Figure 112018076306667-pat00001
Figure 112018076306667-pat00001

* 고비점 용매 - 카비톨 아세테이트 (Carbitol acetate)* High boiling point solvent-Carbitol acetate

저비점 용매 - 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르(PGME) Low Boiling Solvent-Propylene Glycol Monomethyl Ether (PGME)

산화 무기물 필러 - 산화 지르코늄 입자 (ZrO2)Oxide inorganic filler-zirconium oxide particles (ZrO 2 )

단관능 아크릴 모노머 - 페닐페놀 아크릴레이트 Monofunctional Acrylic Monomer-Phenylphenol Acrylate

다관능 아크릴 모노머 - 트리아크릴화 이소시아누레이트 Polyfunctional Acrylic Monomer-Triacrylated Isocyanurate

올리고머 - 변성 폴리에폭시 아크릴레이트 올리고머 Oligomer-modified polyepoxy acrylate oligomer

가교제 - 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트 Crosslinking agent-dipentaerythritol hexaacrylate

광개시제 - a) 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드 / b) 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온 Photoinitiator-a) 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide / b) 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one

계면활성제 - BYK-358N Surfactant-BYK-358N

<유기발광소자용 광추출 기판의 제조><Manufacture of light extraction substrate for organic light emitting device>

잉크젯 장비를 사용하여, 상기에서 제조한 실시예 1 내지 3의 잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크를 베이스 기판 상에 코팅하여 박막을 형성하였다. Using an inkjet equipment, the UV curable high refractive ink for inkjets of Examples 1 to 3 prepared above was coated on a base substrate to form a thin film.

박막을 형성한 후, 80℃에서 5 내지 10분간 소프트 베이킹하여 용매를 제거하고, UV 광원(365 nm 광원, 경화 도즈량 3000 mJ/cm2)을 이용하여 박막을 경화시켜 유기발광소자용 광추출 기판을 제조하였다. After forming a thin film, at 80° C. for 5 to 10 minutes The solvent was removed by soft baking, and the thin film was cured using a UV light source (365 nm light source, curing dose of 3000 mJ/cm 2 ) to prepare a light extraction substrate for an organic light emitting device.

제조된 유기발광소자용 광추출 기판에 대해 굴절률, 투과율, 헤이즈 및 Yellow Index를 측정하여 하기 표 2에 기재하였다. Refractive index, transmittance, haze, and yellow index were measured for the light extraction substrate for an organic light emitting device and are shown in Table 2 below.

굴절률은 Prism coupler (Metricon사) 을 사용하여 측정하였고, 투과율은 Spectrophotometer COH-5500(Nippon densshoku사)을 사용하여 KS M ISO13468-1에 따라 측정하였다. 또한, 헤이즈는 Spectrophotometer COH-5500을 사용하여 KS M ISO14782에 따라 측정하였으며, Yellow Index는 Spectrophotometer COH-5500을 사용하여 ASTM E303-05에 따라 측정하였다. The refractive index was measured using a Prism coupler (Metricon), and the transmittance was measured according to KS M ISO13468-1 using a Spectrophotometer COH-5500 (Nippon Densshoku). In addition, haze was measured according to KS M ISO14782 using a spectrophotometer COH-5500, and the yellow index was measured according to ASTM E303-05 using a spectrophotometer COH-5500.

Figure 112018076306667-pat00002
Figure 112018076306667-pat00002

상기 표 2에 나타난 바와 같이, 본 발명에 따른 실시예 1 내지 3의 잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크의 경우, 잉크젯 장비에 사용될 수 있는 적절한 조성을 가짐에 따라 베이스 기판 상에 박막을 코팅하는 것이 가능하였으며, 이를 통해 제조된 유기발광소자용 광추출 기판은 두께가 10 ㎛ 이하의 박막이 형성됨을 통해 굴절률이 1.6 내지 1.7이면서, 약 95%의 우수한 투과율을 나타냄을 확인할 수 있었다. 또한, 잉크젯 장비의 활용을 통해 소재인 기판의 모양에 제한이 적으면서 고정 비용과 초기 투자비용을 절감시킬 수 있다. As shown in Table 2, in the case of the UV curable high refractive inks for inkjets of Examples 1 to 3 according to the present invention, it was possible to coat a thin film on the base substrate according to having an appropriate composition that can be used in inkjet equipment, It was confirmed that the light extraction substrate for an organic light emitting device manufactured through this was formed with a thin film having a thickness of 10 μm or less, and thus exhibited excellent transmittance of about 95% while having a refractive index of 1.6 to 1.7. In addition, it is possible to reduce fixed costs and initial investment costs while limiting the shape of the substrate as a material through the use of inkjet equipment.

반면, 비교예 2 및 3의 경우, 잉크젯 장비의 노즐이 막히는 문제가 발생하여, 잉크젯 공정을 사용하여 유기발광소자용 광추출 기판을 제조하는 것이 불가하였고, 비교예 1 및 4의 경우에는 비산 및 위성의 드랍이 발생하는 문제가 있음을 확인하였다.On the other hand, in the case of Comparative Examples 2 and 3, the problem of clogging the nozzle of the inkjet device occurred, and thus it was impossible to manufacture the light extraction substrate for the organic light emitting device using the inkjet process, and in the case of Comparative Examples 1 and 4, scattering and It has been confirmed that there is a problem that the satellite drops.

Claims (16)

조성물 총 100 중량%를 기준으로, 희석 용매 45 내지 55 중량%; 산화 무기물 필러 5 내지 15 중량%; 단관능 아크릴 모노머 7 내지 17 중량%; 다관능 아크릴 모노머 6 내지 10 중량%; 및 올리고머 8 내지 12 중량%를 포함하며,
상기 희석 용매는, 고비점 용매와 저비점 용매가 중량비 2.8:1 내지 3.3:1의 비로 혼합된 것이며,
상기 고비점 용매는 부틸 셀루솔브, 에틸셀루솔브, 아세테이트 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것이고,
상기 저비점 용매는 아세톤, 초산에틸, 이소프로필알코올(IPA), 메틸에틸케톤(MEK), 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르(PGME) 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것이며,
단관능 아크릴 모노머는, 벤질 (메타)아크릴레이트, 페닐 (메타)아크릴레이트, 바이페닐메틸 (메타)아크릴레이트, 페녹시에틸 (메타)아크릴레이트, 페녹시디에틸렌 글리콜 (메타)아크릴레이트, 페녹시테트라에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 페녹시폴리에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 페닐페놀 (메타)아크릴레이트 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되고,
점도가 5 내지 10 cps이고, 굴절률이 1.6 내지 1.7인 것을 특징으로 하는,
잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크.45 to 55% by weight of diluent solvent, based on 100% by weight of the total composition; 5 to 15% by weight of an oxidized inorganic filler; 7 to 17% by weight of monofunctional acrylic monomer; 6 to 10% by weight of polyfunctional acrylic monomer; And 8 to 12% by weight of oligomers,
The diluted solvent is a mixture of a high boiling point solvent and a low boiling point solvent in a weight ratio of 2.8:1 to 3.3:1,
The high boiling point solvent is selected from the group consisting of butyl cellosolve, ethyl cellosolve, acetate, and combinations thereof,
The low boiling point solvent is selected from the group consisting of acetone, ethyl acetate, isopropyl alcohol (IPA), methyl ethyl ketone (MEK), propylene glycol monomethyl ether (PGME), and combinations thereof,
Monofunctional acrylic monomers include benzyl (meth)acrylate, phenyl (meth)acrylate, biphenylmethyl (meth)acrylate, phenoxyethyl (meth)acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth)acrylate, and phenoxy It is selected from the group consisting of tetraethylene glycol (meth) acrylate, phenoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, phenylphenol (meth) acrylate, and combinations thereof,
Characterized in that the viscosity is 5 to 10 cps, the refractive index is 1.6 to 1.7,
UV curable high refractive ink for inkjet. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서, 산화 무기물 필러는 SiO2, TiO2, ZrO2, ZnO2, SnO2 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는,
잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크.The method of claim 1, wherein the inorganic oxide filler is selected from the group consisting of SiO 2 , TiO 2 , ZrO 2 , ZnO 2 , SnO 2 and combinations thereof,
UV curable high refractive ink for inkjet. 삭제delete 제1항에 있어서, 다관능 아크릴 모노머는,
디(메타)아크릴화 이소시아누레이트, 트리(메타)아크릴화 이소시아누레이트, 1,3-디부틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 1,9-노난디올 디(메타)아크릴레이트, EO(에틸렌옥사이드) 변성 비스페놀A 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, ECH(에피클로로히드린)변성 헥사히드로프탈산 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, EO 변성 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 히드록시피바린산 에스테르 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 스테아린산 변성 펜타에리스리톨 디(메타)아크릴레이트, 폴리(에틸렌글리콜-테트라메틸렌글리콜) 디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, ECH 변성 프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸디메탄올(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리글리세롤 디(메타)아크릴레이트, ECH 변성글리세롤 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트, EO 변성 인산 트리(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판 트리(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 트리메티롤 프로판 트리(메타)아크릴레이트, EO 변성 트리메티롤프로판 트리(메타)아크릴레이트 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는,
잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크.The method of claim 1, wherein the polyfunctional acrylic monomer,
Di(meth)acrylated isocyanurate, tri(meth)acrylated isocyanurate, 1,3-dibutylene glycol di(meth)acrylate, 1,4-butanedioldi(meth)acrylate, 1,6 -Hexanediol di(meth)acrylate, 1,9-nonanediol di(meth)acrylate, EO(ethylene oxide) modified bisphenol A di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, ECH( Epichlorohydrin) modified hexahydrophthalic acid di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, EO modified neopentyl glycol di(meth)acrylate, caprolactone modified hydroxypibaric acid ester neopentyl glycol Di(meth)acrylate, stearic acid-modified pentaerythritol di(meth)acrylate, poly(ethylene glycol-tetramethylene glycol) di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, polypropylene glycol di(meth) Acrylate, ECH modified propylene glycol di(meth)acrylate, tricyclodecanedimethanol(meth)acrylate, tripropylene glycol di(meth)acrylate, triglycerol di(meth)acrylate, ECH modified glycerol tri(meth) )Acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, EO modified phosphoric acid tri(meth)acrylate, trimethyrolpropane tri(meth)acrylate, caprolactone modified trimethyrol propane tri(meth)acrylate, EO modified It characterized in that it is selected from the group consisting of trimethylolpropane tri(meth)acrylate and combinations thereof,
UV curable high refractive ink for inkjet. 제1항에 있어서, 가교제 5 내지 15 중량%; 광개시제 2 내지 20 중량%; 계면활성제 0.01 중량% 이상 1 중량% 미만 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는,
잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크.According to claim 1, 5 to 15% by weight of the crosslinking agent; 2 to 20% by weight of a photoinitiator; It characterized in that it further comprises at least one selected from the group consisting of 0.01% by weight or more and less than 1% by weight of surfactant and combinations thereof,
UV curable high refractive ink for inkjet. 제8항에 있어서, 가교제는,
디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨에톡시 테트라(메타)아크릴레이트 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는,
잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크.The method of claim 8, wherein the crosslinking agent,
Dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, pentaerythritol ethoxy tetra(meth)acrylate, and combinations thereof Characterized by,
UV curable high refractive ink for inkjet. 제8항에 있어서, 올리고머는,
우레탄계 올리고머, 폴리에스테르계 올리고머, 폴리에테르계 올리고머, 아크릴계 올리고머, 에폭시계 올리고머 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는,
잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크.The method of claim 8, wherein the oligomer,
Characterized in that selected from the group consisting of urethane-based oligomers, polyester-based oligomers, polyether-based oligomers, acrylic oligomers, epoxy-based oligomers, and combinations thereof,
UV curable high refractive ink for inkjet. 제8항에 있어서, 광개시제는,
벤조페논, 4-페닐벤조페논, 벤조일 안식향산, 2,2-디에톡시아세토페논, 비스디에틸아미노벤조페논, 벤질, 벤조인, 벤조일이소프로필에테르, 벤질디메틸케탈, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 티옥산톤, 2-메틸티옥산톤, 2,4-디메틸티옥산톤, 이소프로필티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 2,4-디이소프로필티옥산톤, 1-(4-이소프로필페닐)2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 1-(4-(2-히드록시에톡시)-페닐)-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 캠퍼퀴논, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드, 2-메틸-1-(4-(메틸티오)페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-1-부타논-1,2-디메틸아미노-2-(4-메틸-벤질)-1-(4-모르폴린-4-일-페닐)-부탄-1-온, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸-펜틸포스핀옥사이드 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는,
잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크.The method of claim 8, wherein the photoinitiator,
Benzophenone, 4-phenylbenzophenone, benzoyl benzoic acid, 2,2-diethoxyacetophenone, bisdiethylaminobenzophenone, benzyl, benzoin, benzoylisopropyl ether, benzyldimethylketal, 1-hydroxycyclohexylphenylketone , Thioxanthone, 2-methyl thioxanthone, 2,4-dimethyl thioxanthone, isopropyl thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, 2,4-diisopropyl thioxanthone, 1- (4-isopropylphenyl)2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1-(4-(2-hydroxyethoxy)-phenyl)-2-hydroxy-2-methyl-1-propane 1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, camphorquinone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl )-Phenylphosphine oxide, 2-methyl-1-(4-(methylthio)phenyl)-2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholy Nophenyl)-1-butanone-1,2-dimethylamino-2-(4-methyl-benzyl)-1-(4-morpholin-4-yl-phenyl)-butan-1-one, bis(2 ,6-dimethoxybenzoyl)-2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide and a combination thereof, characterized in that selected from the group consisting of,
UV curable high refractive ink for inkjet. 삭제delete 잉크젯 장비를 이용하여 잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크를 베이스 기판 상에 코팅하여 박막을 형성하는 단계;
형성된 박막을 소프트 베이킹하는 단계; 및
UV 광원을 이용하여 박막을 경화시켜 광 추출층을 얻는 단계;
를 포함하고,
상기 잉크젯용 UV 경화성 고굴절 잉크는, 조성물 총 100 중량%를 기준으로, 희석 용매 45 내지 55 중량%; 산화 무기물 필러 5 내지 15 중량%; 단관능 아크릴 모노머 7 내지 17 중량%; 다관능 아크릴 모노머 6 내지 10 중량%; 및 올리고머 8 내지 12 중량%를 포함하며,
상기 희석 용매는, 고비점 용매와 저비점 용매가 중량비 2.8:1 내지 3.3:1의 비로 혼합된 것이며,
상기 고비점 용매는 부틸 셀루솔브, 에틸셀루솔브, 아세테이트 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것이고,
상기 저비점 용매는 아세톤, 초산에틸, 이소프로필알코올(IPA), 메틸에틸케톤(MEK), 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르(PGME) 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것이며,
단관능 아크릴 모노머는, 벤질 (메타)아크릴레이트, 페닐 (메타)아크릴레이트, 바이페닐메틸 (메타)아크릴레이트, 페녹시에틸 (메타)아크릴레이트, 페녹시디에틸렌 글리콜 (메타)아크릴레이트, 페녹시테트라에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 페녹시폴리에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 페닐페놀 (메타)아크릴레이트 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되고,
점도가 5 내지 10 cps이고, 굴절률이 1.6 내지 1.7인 것을 특징으로 하는,
유기발광소자용 광추출 기판의 제조 방법.Forming a thin film by coating an inkjet UV curable high refractive ink on a base substrate using an inkjet equipment;
Soft baking the formed thin film; And
Curing the thin film using a UV light source to obtain a light extraction layer;
Including,
The inkjet UV curable high refractive ink, based on a total of 100% by weight of the composition, 45 to 55% by weight of a diluted solvent; 5 to 15% by weight of an oxidized inorganic filler; 7 to 17% by weight of monofunctional acrylic monomer; 6 to 10% by weight of polyfunctional acrylic monomer; And 8 to 12% by weight of oligomers,
The diluted solvent is a mixture of a high boiling point solvent and a low boiling point solvent in a weight ratio of 2.8:1 to 3.3:1,
The high boiling point solvent is selected from the group consisting of butyl cellosolve, ethyl cellosolve, acetate, and combinations thereof,
The low boiling point solvent is selected from the group consisting of acetone, ethyl acetate, isopropyl alcohol (IPA), methyl ethyl ketone (MEK), propylene glycol monomethyl ether (PGME), and combinations thereof,
Monofunctional acrylic monomers include benzyl (meth)acrylate, phenyl (meth)acrylate, biphenylmethyl (meth)acrylate, phenoxyethyl (meth)acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth)acrylate, and phenoxy It is selected from the group consisting of tetraethylene glycol (meth) acrylate, phenoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, phenylphenol (meth) acrylate, and combinations thereof,
Characterized in that the viscosity is 5 to 10 cps, the refractive index is 1.6 to 1.7,
Method of manufacturing a light extraction substrate for an organic light emitting device. 제13항에 있어서,
소프트 베이킹은 50 내지 150℃에서 5 내지 20분 동안 수행되는 것을 특징으로 하는,
유기발광소자용 광추출 기판의 제조 방법.The method of claim 13,
Soft baking is characterized in that it is carried out for 5 to 20 minutes at 50 to 150 ℃,
Method of manufacturing a light extraction substrate for an organic light emitting device. 제13항 또는 제14항에 따른 방법으로 제조된 것을 특징으로 하는 유기발광소자용 광추출 기판.A light extraction substrate for an organic light emitting device, characterized in that manufactured by the method according to claim 13 or 14. 제15항에 따른 유기발광소자용 광추출 기판을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기발광소자.An organic light emitting device comprising the light extraction substrate for an organic light emitting device according to claim 15.
KR1020180089990A 2018-08-01 2018-08-01 Uv curable ink of high refractive index for inkjet printing and method for preparing light extraction substrate for organic light emitting device using the same KR102145464B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180089990A KR102145464B1 (en) 2018-08-01 2018-08-01 Uv curable ink of high refractive index for inkjet printing and method for preparing light extraction substrate for organic light emitting device using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180089990A KR102145464B1 (en) 2018-08-01 2018-08-01 Uv curable ink of high refractive index for inkjet printing and method for preparing light extraction substrate for organic light emitting device using the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20200014606A KR20200014606A (en) 2020-02-11
KR102145464B1 true KR102145464B1 (en) 2020-08-18

Family

ID=69569055

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180089990A KR102145464B1 (en) 2018-08-01 2018-08-01 Uv curable ink of high refractive index for inkjet printing and method for preparing light extraction substrate for organic light emitting device using the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102145464B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2023140203A (en) * 2022-03-22 2023-10-04 株式会社リコー Curable composition, three-dimensional object producing method, three-dimensional object producing apparatus, and artificial tooth object

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015534100A (en) * 2012-08-24 2015-11-26 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Variable refractive index light extraction layer and manufacturing method thereof
WO2016060476A1 (en) 2014-10-16 2016-04-21 (주)엘지하우시스 Optical film coating composition and optical film comprising same

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8851649B2 (en) * 2011-05-13 2014-10-07 Eckart Gmbh UV ink jet printing ink composition
KR20130026269A (en) * 2011-09-05 2013-03-13 동우 화인켐 주식회사 Hard coating film, polarizing plate and image display device using the same
KR101468064B1 (en) * 2013-05-10 2014-12-02 서울대학교산학협력단 Method of organic light-emitting diode comprising a film-type light extraction enhancing layer

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015534100A (en) * 2012-08-24 2015-11-26 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Variable refractive index light extraction layer and manufacturing method thereof
WO2016060476A1 (en) 2014-10-16 2016-04-21 (주)엘지하우시스 Optical film coating composition and optical film comprising same

Also Published As

Publication number Publication date
KR20200014606A (en) 2020-02-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102015287B (en) Flexible substrate
KR101796359B1 (en) UV curable white ink composition for inkjet, method for manufacturing a white bezel pattern using the same and electric device comprising the white bezel pattern
JP5583595B2 (en) Energy ray curable inkjet ink composition
CN1884401A (en) Ultraviolet light cured printing ink
US9034212B2 (en) Composition for forming electron emission source, electron emission source including the composition, method of preparing the electron emission source, and field emission device including the electron emission source
TWI696671B (en) Compositon for hard coating, optical film and display device using the same
US20220002574A1 (en) Solvent-free formulations and nanocomposites
TWI501870B (en) Gas barrier film with protecting coating layer comprising inorganic particle
EP1724316A1 (en) Active energy ray-curable coating composition and method for forming protective coating film
KR102145464B1 (en) Uv curable ink of high refractive index for inkjet printing and method for preparing light extraction substrate for organic light emitting device using the same
CN109957282A (en) A kind of double lamps solidification white UV ink-jet ink and preparation method thereof
JP2013241613A (en) Ink composition for roll printing, colored ink, black matrix, color filter, and display device
KR20150142512A (en) UV-curable ink composition for inkjetting having improved adhesiveness
JP2020511735A (en) Inkjet printing system and technology to increase light output efficiency of light emitting elements
JP6292937B2 (en) Film-forming coating agent and cured product thereof
KR20130076774A (en) Display substrate and method for preparing the same
EP3526294B1 (en) Novel sol-gel ink for screen printing
KR20200043202A (en) Ink composition for ink-jet
KR20110043881A (en) Brightness enhancement sheet, back light unit and liquid crystal display device including the same
KR102625481B1 (en) UV Curable Coating Composition
WO2022080359A1 (en) Wavelength conversion member molding composition, color resist, color filter, method for manufacturing color resist, light emitting device, and method for manufacturing light emitting device
KR102300896B1 (en) Hard coating film and method for preparating the hard coating film
JP2012067226A (en) Ink composition, inkjet recording method, and printed matter
US20240093047A1 (en) Laminate having inorganic nanoparticle-containing wear-resistant layer and inorganic nanoparticle-containing radiation-curable ink having low viscosity
KR20220163611A (en) UV curable infrared transmitting black ink composition for inkjet

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant