KR102135145B1 - 섬유 염색 공정 중 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진처리용 시스템 - Google Patents

섬유 염색 공정 중 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진처리용 시스템 Download PDF

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Abstract

본 발명은 섬유 염색 공정 중 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진처리용 시스템에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 섬유 염색 공정 중 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진처리용 시스템으로서, 섬유 염색의 텐터 공정에서 발생되는 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진의 오염된 배가스에 물 또는 물과 흡수제를 분사하여 오염된 배가스와 물 또는 물과 흡수제를 접촉 반응시켜 오염물질을 1차로 흡수 제거하는 습식 스크라버; 및 상기 습식 스크라버의 후단에 설치되며, 상기 습식 스크라버로부터 1차로 흡수 제거되고 미처리된 수분 및 유분 미스트가 포함된 백연의 배가스를 원심력 집진과 관성력 집진 및 여과 집진을 하나의 챔버로 수행하는 복합형 집진장치를 포함하는 것을 그 구성상의 특징으로 한다.
본 발명에서 제안하고 있는 섬유 염색 공정 중 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진처리용 시스템에 따르면, 섬유 염색의 텐터 공정에서 발생되는 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진의 오염된 배가스에 물 또는 물과 흡수제를 분사하여 오염된 배가스와 물 또는 물과 흡수제를 접촉 반응시켜 오염물질을 1차로 흡수 제거하는 습식 스크라버와, 습식 스크라버의 후단에 설치되며, 습식 스크라버로부터 1차로 흡수 제거되고 미처리된 수분 및 유분 미스트가 포함된 백연의 배가스를 원심력 집진과 관성력 집진 및 여과 집진을 하나의 챔버로 수행하는 복합형 집진장치를 포함하여 구성함으로써, 백연의 원인이 되는 수증기 자체가 생성되지 않기 때문에 백연을 완벽하게 처리할 수 있음은 물론, 하나의 챔버로 섬유 염색의 텐터 공정에서 발생되는 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진의 오염된 배가스의 효과적인 복합 처리가 가능하도록 할 수 있다.
또한, 본 발명의 섬유 염색 공정 중 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진처리용 시스템에 따르면, 습식 스크라버와 하나의 챔버 구조로 이루어지는 복합형 집진장치를 통해 기존 습식 스크라버 후단에서 발생되는 백연을 처리하고, 이어 원심력 집진과 관성력 집진 및 여과 집진이 가능하도록 함으로써, 유분 및 수분이 다량 함유된 분진을 함유하는 배가스를 배출하는 섬유 가공의 텐터 공정에 적용하여 보다 효과적으로 배가스에 포함된 유분, 수분의 분진을 제거할 수 있음은 물론, 원심력과 관성력의 1, 2차 집진 처리 이후에 이루어지는 여과 집진을 통한 여과포의 부하를 감소시키고, 그에 따른 여과 필터의 장수명이 가능하도록 할 수 있다.

Description

섬유 염색 공정 중 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진처리용 시스템{A DUST TREATMENT SYSTEM WITH WATER AND OIL MIST DURING TEXTILE DYEING PROCESS}
본 발명은 섬유 염색 공정 중 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진처리용 시스템에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 섬유 염색의 텐터 공정에서 발생되는 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진의 오염된 배가스를 습식 스크라버를 통해 1차로 제거하고, 습식 스크라버에서 미처리된 수분 및 유분 미스트가 포함된 백연의 배가스를 원심력, 관성력, 및 여과 집진을 통해 분진 및 백연을 효과적으로 제거할 수 있도록 하는 섬유 염색 공정 중 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진처리용 시스템에 관한 것이다.
다양한 산업공정 중 수분과 유분 미스트가 다량 함유된 분진이 포함된 유해가스 처리를 위해서 다양한 방식의 집진장치가 이용되고 있다. 하지만 섬유 염색 공정 중 텐터 공정에서는 유연제 또는 광택제 등을 사용하여 섬유의 기능성 및 내구성을 강화하는 공정으로 180~230도의 고온으로 섬유를 가공하는 공정으로, 이때 주로 발생되는 주요 대기오염물질의 형태는 입자상 오염물질로 섬유 부스러기 등이 발생되며, 악취물질로는 알데하이드류, 지방산류 등이 발생된다.
이러한 공정에서 집진기 중 탁월한 효과를 발휘할 수 있는 여과 집진 시스템을 사용하지 못하는 주된 요인은, 수분 또는 유분의 미스트가 다량으로 함유되어 있어 여과포 성능을 저해하는 주요 인자로 작용되고 있기 때문이다. 또한, 텐터 공정 중 백연 물질인 유증기(옥타날, 노나랄 등)이 발생되어 기존의 여과 집진기 및 캔들 필터 시스템을 사용하지 못하는 경우가 대부분이다.
도 1은 종래의 텐터 공정에 습식 스크라버 적용 시에 백연이 발생되는 개략적인 구성을 도시한 도면이고, 도 2는 종래의 텐터 공정에 전기 집진기 적용의 개략적인 구성을 도시한 도면이며, 도 3은 종래의 텐터 공정에 습식 스크라버와 전기 집진기의 직렬연결 사용의 개략적인 구성을 도시한 도면이다. 도 1에 도시된 바와 같이, 일반적으로 섬유 염색 공정 중 발생되는 분진을 처리하기 위한 집진장치 중 가장 널리 사용되는 방식은 습식 스크라버 형태를 취하고 있다. 이러한 종래의 습식 스크라버는 인입되는 오염 가스에 물 또는 물과 흡수제를 분사시켜 충진 물 표면에서 오염 가스와 물이 접촉 반응되어 오염물질을 흡수 제거하도록 하고 있으나, 텐터 공정에 습식 스크라버만을 채택하면 고온의 배가스는 물에 의해 온도가 떨어지게 되고, 이때 유증기로 인해 백연이 발생하게 되는 문제가 있다.
또한, 섬유 염색 공정에서 발생되는 배가스를 처리하기 위하여 도 2에 도시된 바와 같이, 전기 집진기가 사용되는 경우, 비교적 높은 집진 효율을 나타낼 수 있지만, 전기적 하전으로 인해 유증기에서 화재가 발생할 요소가 있으며, 오존에 의한 2차 악취가 발생될 수 있다. 특히, 대부분의 섬유 염색 공장이 영세한 실정이어서 초기에 투자비가 비싼 것이 단점으로 대두되고 있어 텐터 공정에서 극히 일부만 이 전기 집진기를 이용하고 있는 실정에 있다. 또한, 일부 텐터 고정에서는 위에 설명한 습식 스크라버 또는 전기 집진기의 두 가지 형태의 단점을 보완하기 위하여 도 3에 도시된 바와 같이, 습식 스크라버와 전기 집진기를 직렬로 사용하는 경우도 있으나, 이는 1차로 습식 스크라버에서 처리한 배가스를 2차로 전기 집진기에서 처리하는 방식으로 영세한 산업체에서 이와 같은 방식을 적용하기란 쉽지 않은 것이 현실이다.
본 발명은 기존에 제안된 방법들의 상기와 같은 문제점들을 해결하기 위해 제안된 것으로서, 섬유 염색의 텐터 공정에서 발생되는 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진의 오염된 배가스에 물 또는 물과 흡수제를 분사하여 오염된 배가스와 물 또는 물과 흡수제를 접촉 반응시켜 오염물질을 1차로 흡수 제거하는 습식 스크라버와, 습식 스크라버의 후단에 설치되며, 습식 스크라버로부터 1차로 흡수 제거되고 미처리된 수분 및 유분 미스트가 포함된 백연의 배가스를 원심력 집진과 관성력 집진 및 여과 집진을 하나의 챔버로 수행하는 복합형 집진장치를 포함하여 구성함으로써, 백연의 원인이 되는 수증기 자체가 생성되지 않기 때문에 백연을 완벽하게 처리할 수 있음은 물론, 하나의 챔버로 섬유 염색의 텐터 공정에서 발생되는 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진의 오염된 배가스의 효과적인 복합 처리가 가능하도록 하는, 섬유 염색 공정 중 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진처리용 시스템을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
또한, 본 발명은, 습식 스크라버와 하나의 챔버 구조로 이루어지는 복합형 집진장치를 통해 기존 습식 스크라버 후단에서 발생되는 백연을 처리하고, 이어 원심력 집진과 관성력 집진 및 여과 집진이 가능하도록 함으로써, 유분 및 수분이 다량 함유된 분진을 함유하는 배가스를 배출하는 섬유 가공의 텐터 공정에 적용하여 보다 효과적으로 배가스에 포함된 유분, 수분의 분진을 제거할 수 있음은 물론, 원심력과 관성력의 1, 2차 집진 처리 이후에 이루어지는 여과 집진을 통한 여과포의 부하를 감소시키고, 그에 따른 여과 필터의 장수명이 가능하도록 하는, 섬유 염색 공정 중 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진처리용 시스템을 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 따른 섬유 염색 공정 중 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진처리용 시스템은,
섬유 염색 공정 중 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진처리용 시스템으로서,
섬유 염색의 텐터 공정에서 발생되는 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진의 오염된 배가스에 물 또는 물과 흡수제를 분사하여 오염된 배가스와 물 또는 물과 흡수제를 접촉 반응시켜 오염물질을 1차로 흡수 제거하는 습식 스크라버; 및
상기 습식 스크라버의 후단에 설치되며, 상기 습식 스크라버로부터 1차로 흡수 제거되고 미처리된 수분 및 유분 미스트가 포함된 백연의 배가스를 원심력 집진과 관성력 집진 및 여과 집진을 하나의 챔버로 수행하는 복합형 집진장치를 포함하는 것을 그 구성상의 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 습식 스크라버는,
섬유 염색의 텐터 공정에서 발생되는 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진의 오염된 고온의 배가스의 온도를 떨어뜨리고, 유증기로 인해 발생되는 수분 및 유분 미스트가 포함된 백연의 배가스를 상기 복합형 집진장치로 제공할 수 있다.
바람직하게는, 상기 복합형 집진장치는,
집진기 케이싱의 하부로 분진 배출 호퍼가 일체로 형성되고, 상기 분진 배출 호퍼의 하부에 분진 배출 박스가 구비되는 집진기 본체;
상기 집진기 본체의 집진기 케이싱의 하단 테두리를 따라 형성되며, 인입 덕트를 통해 유입되는 상기 습식 스크라버로부터 1차로 흡수 제거되고 미처리된 수분 및 유분 미스트가 포함된 백연의 배가스를 선회류 유도 깃을 통해 선회류를 증가시킨 원심력으로 분진을 1차로 포집하여 집진 처리하는 원심력 집진기;
상기 원심력 집진기의 선회류 유도 깃에 대향하여 내부에 배치되는 충돌식 베플 형태로 형성되며, 상기 원심력 집진기의 선회류 유도 깃을 통해 유도되는 배가스를 관성력으로 2차로 포집하여 집진 처리하는 관성력 집진기; 및
상기 원심력 집진기와 관성력 집진기를 통해 1, 2차 집진 처리된 후 미처리된 미세 분진을 복수의 3중 여과 필터를 통해 3차로 포집하여 여과 집진하는 여과 집진기를 포함하여 구성할 수 있다.
더욱 바람직하게는, 상기 원심력 집진기는,
원심력에 의해 1차로 포집된 분진을 상기 분진 배출 호퍼를 통해 분진 배출 박스로 배출할 수 있다.
더욱 바람직하게는, 상기 관성력 집진기는,
상기 원심력 집진기의 선회류 유도 깃에 대향하여 내부에 배치되는 충돌식 베플이 복수의 타공이 형성된 철판으로 이루어지고, 유속을 감소시키는 충돌식 베풀의 타공판 구멍을 통해 가스의 흐름이 변화되어 미세분진 및 조대 분진이 충돌하고, 수분 및 유분이 관성력 집진의 타공판을 통해 2차 관성 집진이 이루어질 수 있다.
더욱 더 바람직하게는, 상기 충돌식 베플은,
복수의 타공이 형성되는 철판으로 이루어지되, 타공의 형태는 마름모꼴, 사각형, 원형의 형태 중 어느 하나로 구성될 수 있다.
더욱 바람직하게는, 상기 여과 집진기는,
상기 원심력 집진기와 관성력 집진기를 통해 1, 2차 집진 처리된 후 미처리된 미세 분진을 복수의 3중 여과 필터를 통해 3차로 포집하여 여과 집진하고, 포집된 분진은 상기 분진 배출 호퍼를 통해 분진 배출 박스로 배출하며, 분진과 수분 및 유분이 제거된 클린 가스는 상기 집진기 본체의 집진기 케이싱의 상부 일 측에 형성되는 아웃 덕트를 통해 외부로 배출시킬 수 있다.
더욱 더 바람직하게는, 상기 복수의 3중 여과 필터는,
가수성이 우수한 폴리프로필렌(polypropylene) 미세 섬유를 이용하여 초미세구조로 제조되는 원통 형상의 3중 구조의 복합 적층 필터 형태로 구성될 수 있다.
본 발명에서 제안하고 있는 섬유 염색 공정 중 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진처리용 시스템에 따르면, 섬유 염색의 텐터 공정에서 발생되는 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진의 오염된 배가스에 물 또는 물과 흡수제를 분사하여 오염된 배가스와 물 또는 물과 흡수제를 접촉 반응시켜 오염물질을 1차로 흡수 제거하는 습식 스크라버와, 습식 스크라버의 후단에 설치되며, 습식 스크라버로부터 1차로 흡수 제거되고 미처리된 수분 및 유분 미스트가 포함된 백연의 배가스를 원심력 집진과 관성력 집진 및 여과 집진을 하나의 챔버로 수행하는 복합형 집진장치를 포함하여 구성함으로써, 백연의 원인이 되는 수증기 자체가 생성되지 않기 때문에 백연을 완벽하게 처리할 수 있음은 물론, 하나의 챔버로 섬유 염색의 텐터 공정에서 발생되는 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진의 오염된 배가스의 효과적인 복합 처리가 가능하도록 할 수 있다.
또한, 본 발명의 섬유 염색 공정 중 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진처리용 시스템에 따르면, 습식 스크라버와 하나의 챔버 구조로 이루어지는 복합형 집진장치를 통해 기존 습식 스크라버 후단에서 발생되는 백연을 처리하고, 이어 원심력 집진과 관성력 집진 및 여과 집진이 가능하도록 함으로써, 유분 및 수분이 다량 함유된 분진을 함유하는 배가스를 배출하는 섬유 가공의 텐터 공정에 적용하여 보다 효과적으로 배가스에 포함된 유분, 수분의 분진을 제거할 수 있음은 물론, 원심력과 관성력의 1, 2차 집진 처리 이후에 이루어지는 여과 집진을 통한 여과포의 부하를 감소시키고, 그에 따른 여과 필터의 장수명이 가능하도록 할 수 있다.
도 1은 종래의 텐터 공정에 습식 스크라버 적용 시에 백연이 발생되는 개략적인 구성을 도시한 도면.
도 2는 종래의 텐터 공정에 전기 집진기 적용의 개략적인 구성을 도시한 도면.
도 3은 종래의 텐터 공정에 습식 스크라버와 전기 집진기의 직렬 연결 사용의 개략적인 구성을 도시한 도면.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 섬유 염색 공정 중 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진처리용 시스템의 개략적인 구성을 도시한 도면.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 섬유 염색 공정 중 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진처리용 시스템의 복합형 집진장치의 사시도 구성을 도시한 도면.
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 섬유 염색 공정 중 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진처리용 시스템의 복합형 집진장치의 단면도 구성을 도시한 도면.
도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 섬유 염색 공정 중 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진처리용 시스템에서, 복합형 집진장치의 관성력 집진기에 적용되는 충돌식 베플의 구성을 도시한 도면.
도 8은 본 발명의 일실시예에 따른 섬유 염색 공정 중 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진처리용 시스템에서, 복합형 집진장치의 여과 집진기에 사용되는 3중 여과 필터의 전개 단면 구성을 도시한 도면.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있도록 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 다만, 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명함에 있어, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 유사한 기능 및 작용을 하는 부분에 대해서는 도면 전체에 걸쳐 동일한 부호를 사용한다.
덧붙여, 명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 ‘연결’ 되어 있다고 할 때, 이는 ‘직접적으로 연결’ 되어 있는 경우뿐만 아니라, 그 중간에 다른 소자를 사이에 두고 ‘간접적으로 연결’ 되어 있는 경우도 포함한다. 또한, 어떤 구성요소를 ‘포함’ 한다는 것은, 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있다는 것을 의미한다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 섬유 염색 공정 중 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진처리용 시스템의 개략적인 구성을 도시한 도면이고, 도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 섬유 염색 공정 중 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진처리용 시스템의 복합형 집진장치의 사시도 구성을 도시한 도면이며, 도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 섬유 염색 공정 중 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진처리용 시스템의 복합형 집진장치의 단면도 구성을 도시한 도면이고, 도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 섬유 염색 공정 중 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진처리용 시스템에서, 복합형 집진장치의 관성력 집진기에 적용되는 충돌식 베플의 구성을 도시한 도면이며, 도 8은 본 발명의 일실시예에 따른 섬유 염색 공정 중 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진처리용 시스템에서, 복합형 집진장치의 여과 집진기에 사용되는 3중 여과 필터의 전개 단면 구성을 도시한 도면이다. 도 4 내지 도 8에 각각 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 섬유 염색 공정 중 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진처리용 시스템(10)은, 습식 스크라버(100), 및 복합형 집진장치(200)를 포함하여 구성될 수 있다.
습식 스크라버(100)는, 섬유 염색의 텐터 공정에서 발생되는 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진의 오염된 배가스에 물 또는 물과 흡수제를 분사하여 오염된 배가스와 물 또는 물과 흡수제를 접촉 반응시켜 오염물질을 1차로 흡수 제거하는 구성이다. 이러한 습식 스크라버(100)는 섬유 염색의 텐터 공정에서 발생되는 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진의 오염된 고온의 배가스의 온도를 떨어뜨리고, 유증기로 인해 발생되는 수분 및 유분 미스트가 포함된 백연의 배가스를 후술하게 될 복합형 집진장치(200)로 제공하게 된다.
복합형 집진장치(200)는, 습식 스크라버(100)의 후단에 설치되며, 습식 스크라버(100)로부터 1차로 흡수 제거되고 미처리된 수분 및 유분 미스트가 포함된 백연의 배가스를 원심력 집진과 관성력 집진 및 여과 집진을 하나의 챔버로 수행하는 구성이다. 이러한 복합형 집진장치(200)는 도 5 및 도 6에 각각 도시된 바와 같이, 집진기 케이싱(211)의 하부로 분진 배출 호퍼(212)가 일체로 형성되고, 분진 배출 호퍼(212)의 하부에 분진 배출 박스(213)가 구비되는 집진기 본체(210)와, 집진기 본체(210)의 집진기 케이싱(211)의 하단 테두리를 따라 형성되며, 인입 덕트(221)를 통해 유입되는 상기 습식 스크라버(100)로부터 1차로 흡수 제거되고 미처리된 수분 및 유분 미스트가 포함된 백연의 배가스를 선회류 유도 깃(222)을 통해 선회류를 증가시킨 원심력으로 분진을 1차로 포집하여 집진 처리하는 원심력 집진기(220)와, 원심력 집진기(220)의 선회류 유도 깃(222)에 대향하여 내부에 배치되는 충돌식 베플(231) 형태로 형성되며, 원심력 집진기(220)의 선회류 유도 깃(222)을 통해 유도되는 배가스를 관성력으로 2차로 포집하여 집진 처리하는 관성력 집진기(230)와, 원심력 집진기(220)와 관성력 집진기(230)를 통해 1, 2차 집진 처리된 후 미처리된 미세 분진을 복수의 3중 여과 필터(241)를 통해 3차로 포집하여 여과 집진하는 여과 집진기(240)를 포함하여 구성될 수 있다.
또한, 원심력 집진기(220)는 원심력에 의해 1차로 포집된 분진을 상기 분진 배출 호퍼(212)를 통해 분진 배출 박스(213)로 배출할 수 있다. 이러한 원심력 집진기(220)는 선회류 유도 깃(122), 즉 집진기 케이싱(211)의 하단 테두리를 따라 형성되는 외부의 막힌 철판으로 구성되어 유입되는 가스의 선회류 유도로로 기능하게 된다. 여기서, 분진 배출 박스(213)로 배출되는 분진은 작업자에 의해 외부로 유출 처리될 수 있다.
관성력 집진기(230)는 원심력 집진기(220)의 선회류 유도 깃(222)에 대향하여 내부에 배치되는 충돌식 베플(231)이 복수의 타공이 형성된 철판으로 이루어지고, 유속을 감소시키는 충돌식 베풀(231)의 타공판 구멍을 통해 가스의 흐름이 변화되어 미세분진 및 조대 분진이 충돌하고, 수분 및 유분이 관성력 집진의 타공판을 통해 2차 관성 집진이 이루어질 수 있다. 이러한 충돌식 베플(231)은 도 7에 도시된 바와 같이, 복수의 타공이 형성되는 철판으로 이루어지되, 타공의 형태는 마름모꼴, 사각형, 원형의 형태 중 어느 하나로 구성될 수 있다.
또한, 관성력 집진기(230)는 충돌식 베플(231)의 타공판에 포집된 수분 및 유분을 포함한 분진을 분진 배출 호퍼(212)를 통해 분진 배출 박스(213)로 배출하며, 관성력 집진기(230)에 의해 분진 배출 박스(213)로 배출된 분진은 이후 작업자에 의해 외부로 유출 처리될 수 있다.
여과 집진기(240)는 원심력 집진기(220)와 관성력 집진기(230)를 통해 1, 2차 집진 처리된 후 미처리된 미세 분진을 복수의 3중 여과 필터(241)를 통해 3차로 포집하여 여과 집진하고, 포집된 분진은 상기 분진 배출 호퍼(212)를 통해 분진 배출 박스(213)로 배출하며, 분진과 수분 및 유분이 제거된 클린 가스는 상기 집진기 본체(210)의 집진기 케이싱(211)의 상부 일 측에 형성되는 아웃 덕트(215)를 통해 외부로 배출시킬 수 있다. 여기서, 복수의 3중 여과 필터(241)는 도 8에 도시된 바와 같이, 가수성이 우수한 폴리프로필렌(polypropylene) 미세 섬유를 이용하여 초미세구조로 제조되는 원통 형상의 3중 구조의 복합 적층 필터 형태로 구성될 수 있다.
또한, 여과 집진기(240)는 원심력과 관성 충돌식 집진의 1, 2차 집진으로도 미처리된 미세 분진을 복수의 3중 여과 필터(241)의 여과포를 통해 완벽하게 제거할 수 있게 된다.
또한, 복합형 집진장치(200)는 장시간 사용되어 복수의 3중 여과 필터(241)의 여과포에 차압이 상승하게 되면, 에어 리시브 탱크(216)를 통해 유입되는 압축공기를 이용하여 다이아프램 밸브(217)와 블로워 파이프(218)를 통해 복수의 3중 여과 필터(241)를 적절하게 클리닝 작업하여 여과포의 수명이 증대될 수 있도록 할 수 있다. 이때, 복수의 3중 여과 필터(241) 표면에 점착되어 있던 분진은 분진 배출 호퍼(212)를 통해 분진 배출 박스(213)에 배출되고, 이후 작업자에 의해 외부로 유출 처리될 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 섬유 염색 공정 중 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진처리용 시스템은, 섬유 염색의 텐터 공정에서 발생되는 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진의 오염된 배가스에 물 또는 물과 흡수제를 분사하여 오염된 배가스와 물 또는 물과 흡수제를 접촉 반응시켜 오염물질을 1차로 흡수 제거하는 습식 스크라버와, 습식 스크라버의 후단에 설치되며, 습식 스크라버로부터 1차로 흡수 제거되고 미처리된 수분 및 유분 미스트가 포함된 백연의 배가스를 원심력 집진과 관성력 집진 및 여과 집진을 하나의 챔버로 수행하는 복합형 집진장치를 포함하여 구성함으로써, 백연의 원인이 되는 수증기 자체가 생성되지 않기 때문에 백연을 완벽하게 처리할 수 있음은 물론, 하나의 챔버로 섬유 염색의 텐터 공정에서 발생되는 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진의 오염된 배가스의 효과적인 복합 처리가 가능하도록 할 수 있으며, 특히, 습식 스크라버와 하나의 챔버 구조로 이루어지는 복합형 집진장치를 통해 기존 습식 스크라버 후단에서 발생되는 백연을 처리하고, 이어 원심력 집진과 관성력 집진 및 여과 집진이 가능하도록 함으로써, 유분 및 수분이 다량 함유된 분진을 함유하는 배가스를 배출하는 섬유 가공의 텐터 공정에 적용하여 보다 효과적으로 배가스에 포함된 유분, 수분의 분진을 제거할 수 있음은 물론, 원심력과 관성력의 1, 2차 집진 처리 이후에 이루어지는 여과 집진을 통한 여과포의 부하를 감소시키고, 그에 따른 여과 필터의 장수명이 가능하도록 할 수 있게 된다.
이상 설명한 본 발명은 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 다양한 변형이나 응용이 가능하며, 본 발명에 따른 기술적 사상의 범위는 아래의 특허청구범위에 의하여 정해져야 할 것이다.
10: 본 발명의 일실시예에 따른 분진처리용 시스템
100: 습식 스크라버
200: 복합형 집진장치
210: 집진기 본체
211: 집진기 케이싱
212: 분진 배출 호퍼
213: 분진 배출 박스
214: 상부 케이싱
215: 아웃 덕트
216: 에어 리시브 탱크
217: 다이아프램 밸브
218: 블로워 파이프
220: 원심력 집진기
221: 인입 덕트
222: 선회류 유도 깃
230: 관성력 집진기
231: 충돌식 베플
240: 여과 집진기
241: 복수의 3중 여과 필터

Claims (8)

  1. 섬유 염색 공정 중 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진처리용 시스템(10)으로서,
    섬유 염색의 텐터 공정에서 발생되는 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진의 오염된 배가스에 물 또는 물과 흡수제를 분사하여 오염된 배가스와 물 또는 물과 흡수제를 접촉 반응시켜 오염물질을 1차로 흡수 제거하는 습식 스크라버(100); 및
    상기 습식 스크라버(100)의 후단에 설치되며, 상기 습식 스크라버(100)로부터 1차로 흡수 제거되고 미처리된 수분 및 유분 미스트가 포함된 백연의 배가스를 원심력 집진과 관성력 집진 및 여과 집진을 하나의 챔버로 수행하는 복합형 집진장치(200)를 포함하되,
    상기 습식 스크라버(100)는,
    섬유 염색의 텐터 공정에서 발생되는 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진의 오염된 고온의 배가스의 온도를 떨어뜨리고, 유증기로 인해 발생되는 수분 및 유분 미스트가 포함된 백연의 배가스를 상기 복합형 집진장치(200)로 제공하고,
    상기 복합형 집진장치(200)는,
    집진기 케이싱(211)의 하부로 분진 배출 호퍼(212)가 일체로 형성되고, 상기 분진 배출 호퍼(212)의 하부에 분진 배출 박스(213)가 구비되는 집진기 본체(210)와, 상기 집진기 본체(210)의 집진기 케이싱(211)의 하단 테두리를 따라 형성되며, 인입 덕트(221)를 통해 유입되는 상기 습식 스크라버(100)로부터 1차로 흡수 제거되고 미처리된 수분 및 유분 미스트가 포함된 백연의 배가스를 선회류 유도 깃(222)을 통해 선회류를 증가시킨 원심력으로 분진을 1차로 포집하여 집진 처리하는 원심력 집진기(220)와, 상기 원심력 집진기(220)의 선회류 유도 깃(222)에 대향하여 내부에 배치되는 충돌식 베플(231) 형태로 형성되며, 상기 원심력 집진기(220)의 선회류 유도 깃(222)을 통해 유도되는 배가스를 관성력으로 2차로 포집하여 집진 처리하는 관성력 집진기(230)와, 상기 원심력 집진기(220)와 관성력 집진기(230)를 통해 1, 2차 집진 처리된 후 미처리된 미세 분진을 복수의 3중 여과 필터(241)를 통해 3차로 포집하여 여과 집진하는 여과 집진기(240)를 포함하여 구성하며,
    상기 관성력 집진기(230)는,
    상기 원심력 집진기(220)의 선회류 유도 깃(222)에 대향하여 내부에 배치되는 충돌식 베플(231)이 복수의 타공이 형성된 철판으로 이루어지고, 유속을 감소시키는 충돌식 베풀(231)의 타공판 구멍을 통해 가스의 흐름이 변화되어 미세분진 및 조대 분진이 충돌하고, 수분 및 유분이 관성력 집진의 타공판을 통해 2차 관성 집진이 이루어지고,
    상기 여과 집진기(240)는,
    상기 원심력 집진기(220)와 관성력 집진기(230)를 통해 1, 2차 집진 처리된 후 미처리된 미세 분진을 복수의 3중 여과 필터(241)를 통해 3차로 포집하여 여과 집진하고, 포집된 분진은 상기 분진 배출 호퍼(212)를 통해 분진 배출 박스(213)로 배출하며, 분진과 수분 및 유분이 제거된 클린 가스는 상기 집진기 본체(210)의 집진기 케이싱(211)의 상부 일 측에 형성되는 아웃 덕트(215)를 통해 외부로 배출시키는 것을 특징으로 하는, 섬유 염색 공정 중 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진처리용 시스템.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 제1항에 있어서, 상기 원심력 집진기(220)는,
    원심력에 의해 1차로 포집된 분진을 상기 분진 배출 호퍼(212)를 통해 분진 배출 박스(213)로 배출하는 것을 특징으로 하는, 섬유 염색 공정 중 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진처리용 시스템.
  5. 삭제
  6. 제1항에 있어서, 상기 충돌식 베플(231)은,
    복수의 타공이 형성되는 철판으로 이루어지되, 타공의 형태는 마름모꼴, 사각형, 원형의 형태 중 어느 하나로 구성되는 것을 특징으로 하는, 섬유 염색 공정 중 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진처리용 시스템.
  7. 삭제
  8. 제1항에 있어서, 상기 복수의 3중 여과 필터(241)는,
    가수성이 우수한 폴리프로필렌(polypropylene) 미세 섬유를 이용하여 초미세구조로 제조되는 원통 형상의 3중 구조의 복합 적층 필터 형태로 구성되는 것을 특징으로 하는, 섬유 염색 공정 중 수분 및 유분 미스트가 포함된 분진처리용 시스템.
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