KR102133422B1 - Cleaning System for Filtering Membrane and Cleaning Method Thereof - Google Patents

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KR102133422B1
KR102133422B1 KR1020190087305A KR20190087305A KR102133422B1 KR 102133422 B1 KR102133422 B1 KR 102133422B1 KR 1020190087305 A KR1020190087305 A KR 1020190087305A KR 20190087305 A KR20190087305 A KR 20190087305A KR 102133422 B1 KR102133422 B1 KR 102133422B1
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filtration
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KR1020190087305A
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한창호
강성민
강신경
김종훈
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회명솔레니스 (주)
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    • B01D—SEPARATION
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B01D—SEPARATION
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    • B01D2321/16—Use of chemical agents
    • B01D2321/168—Use of other chemical agents

Abstract

The present invention relates to a filtration membrane cleaning system capable of maximizing the cleaning efficiency of contaminated water by mixing a cleaning agent and nanobubbles in production water to clean a filtration membrane, and a cleaning method using the same. Specifically, the filtration membrane cleaning system comprises: a filtering device for filtering contaminated water passing through the filtration membrane; and a cleaning device for cleaning the filtration membrane by circulating the production water generated in the filtering device (100).

Description

여과막 세정 시스템 및 이를 이용한 세정 방법 {Cleaning System for Filtering Membrane and Cleaning Method Thereof}Filtering membrane cleaning system and cleaning method using the same {Cleaning System for Filtering Membrane and Cleaning Method Thereof}

본 발명은 생산수에 세정제와 나노버블을 혼합하여 여과막을 세정함에 따라 오염수의 세정 효율을 극대화할 수 있는 여과막 세정 시스템 및 이를 이용한 세정 방법에 대한 것이다. The present invention relates to a filter membrane cleaning system capable of maximizing the cleaning efficiency of contaminated water and a cleaning method using the same by mixing a cleaning agent and nanobubbles in production water and cleaning the filter membrane.

특허문헌 001은 상기 여과막을 세정하는 방법은 유체처리를 중단하는 공정과 상기 여과막 외부에 존재하는 농축수를 드레인하는 공정 및 상기 여과막 내부에서 여과막의 세공으로 통해 여과막 외부로 세정수를 역류시키는 공정을 포함하여 이루어진 여과막의 세정 방법을 제공하며, 이때, 상기 여과막 외부로 역류된 세정수를 드레인하는 공정을 추가로 포함한다. 그리고 여과막 외부로 역류된 세정수를 드레인하는 공정은 상기 세정수를 역류시키는 공정 중에 수행하며, 상기 여과막 외부로 역류된 세정수를 드레인하는 공정은 상기 세정수를 역류시키는 공정 이후에 수행할 수 있으며, 이때, 상기 세정수를 역류시키는 공정 중에 상기 여과막으로 공기를 분출하는 산기 세정을 병행하는 기술을 제시하고 있다.Patent document 001 is a method of cleaning the filter membrane, the process of stopping the fluid treatment, the process of draining the concentrated water existing outside the filter membrane, and the process of backwashing water through the pores of the filter membrane inside the filter membrane It provides a method for cleaning a filter membrane made of, including, at this time, further comprising a step of draining the washing water flowing back to the filter membrane. And the process of draining the washing water backflowed out of the filtration membrane is performed during the process of backwashing the washing water, and the process of draining the washing water backflowed out of the filtering membrane can be performed after the process of backwashing the washing water, At this time, at this time, during the process of refluxing the washing water, a technique of concurrently performing acid cleaning that blows air through the filtration membrane has been proposed.

특허문헌 002는 가압식 막여과 세정 시스템은 원수를 저장하는 원수조, 상기 원수에 포함된 조류의 양을 측정하는 조류 측정부, 상기 원수를 공급받아 여과하여 막여과 처리수를 생산하는 여과막 모듈, 상기 여과막 모듈을 세정하기 위한 염을 저장하는 염저장부, 상기 염과 상기 막여과 처리수를 공급받아 혼합하여 제1 염화 나트륨 용액을 생산하는 염처리수조, 상기 염과 상기 막여과 처리수를 공급받아 혼합하여 제2 염화나트륨 용액을 생산하는 염순환수조 및 상기 조류의 양이 기설정된 양 이상인 경우 상기 제1 염화나트륨 용액 및 제2 염화나트륨 용액을 이용하여 상기 여과막 모듈을 세척하는 제어장치로 구성되는 기술을 제시하고 있다.Patent document 002 is a pressurized membrane filtration cleaning system, a raw water tank for storing raw water, an algae measuring unit for measuring the amount of algae contained in the raw water, a filter membrane module for receiving the raw water and filtering to produce membrane filtration treatment water, the A salt storage unit for storing a salt for cleaning the filtration membrane module, a salt treatment water tank that receives and mixes the salt and the membrane filtration treatment water to produce a first sodium chloride solution, and receives the salt and the membrane filtration treatment water Presenting a technology consisting of a salt circulation water tank to produce a second sodium chloride solution by mixing and a control device for washing the filter membrane module using the first sodium chloride solution and the second sodium chloride solution when the amount of the algae is greater than a predetermined amount, and have.

특허문헌 003 여과막 세정장치는, 여과막을 내장한 여과용기와 세정액에다 공기를 가압하여 용해시킨 세정용액을 형성하고, 상기 세정용액을 상기 여과용기에 공급하는 세정용액 제조부와 및 상기 여과용기에 공급할 상기 세정액을 저장하고, 상기 여과용기를 통과하여 배출되는 상기 세정용액을 받아들이는 저장조를 포함하는 것을 특징으로 한다. 또한, 본 발명의 다른 실시예에 따른 여과막 세정장치는, 여과막을 내장한 여과용기와 세정액에다 공기를 가압하여 용해시킨 세정용액을 형성하고, 상기 세정용액을 상기 여과용기에 공급하는 세정용액 제조부와 상기 여과용기에 공급할 상기 세정액을 저장하는 저장조와 및 상기 여과용기를 통과하여 배출되는 상기 세정용액을 받아들이고, 상기 세정용액 중 오염물질을 제거하는 오염물질 분리부를 구성하는 기술을 제시하고 있다. Patent document 003, a filtration membrane cleaning apparatus, forms a filtration vessel incorporating a filtration membrane and a rinsing liquid dissolved by pressurizing air to the rinsing liquid, and supplies the rinsing liquid to a rinsing liquid production unit and the filtration vessel to supply the rinsing liquid to the filtration vessel And a storage tank for storing the cleaning solution and receiving the cleaning solution discharged through the filtration container. In addition, the filtration membrane cleaning apparatus according to another embodiment of the present invention, a filtration membrane having a filtration membrane and a cleaning solution manufacturing unit for forming a cleaning solution dissolved by pressurizing air to the cleaning solution and supplying the cleaning solution to the filtration container And a storage tank for storing the cleaning liquid to be supplied to the filtration container, and a contaminant separating unit that receives the cleaning solution discharged through the filtration container and removes contaminants from the cleaning solution.

특허문헌 004는 유체처리 과정에서 무기물 및 유기물을 포함하는 오염물질에 의해 오염된 여과막을 세정하는 방법에 있어서, 상기 여과막을 세정하는 방법은 상기 여과막으로부터 유기물을 제거하기 위해서, 상기 여과막을 pH 6 ~ 9 범위의 제1세정액으로 세정하는 공정 및 상기 여과막으로부터 무기물을 제거하기 위해서, 상기 여과막을 산성의 제2세정액으로 세정하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 여과막의 세정 방법을 제공하는 기술을 제시하고 있다.Patent Document 004 is a method of cleaning a filter membrane contaminated by contaminants containing inorganic and organic substances in a fluid treatment process, and the method of cleaning the filter membrane removes the organic substance from the filter membrane by removing the filter membrane from pH 6 to Presenting a technique for providing a cleaning method of a filtration membrane, comprising the step of cleaning with a first cleaning liquid in the range of 9 and removing the inorganic substance from the filtration membrane, the step of washing the filtration membrane with an acidic second cleaning liquid. have.

KR 10-2010-0138515 A (2010년12월31일)KR 10-2010-0138515 A (December 31, 2010) KR 10-1556267 B1 (2015년09월22일)KR 10-1556267 B1 (September 22, 2015) KR 10-2017-0137320 A (2017년12월13일)KR 10-2017-0137320 A (December 13, 2017) KR 10-2010-0115715 A (2010년10월28일)KR 10-2010-0115715 A (October 28, 2010)

본 발명은 생산수에 세정제와 나노버블을 혼합하여 여과막을 세정함에 따라 오염수의 세정 효율을 극대화할 수 있는 여과막 세정 시스템 및 이를 이용한 세정 방법에 대한 것이다. The present invention relates to a filter membrane cleaning system capable of maximizing the cleaning efficiency of contaminated water and a cleaning method using the same by mixing a cleaning agent and nanobubbles in production water and cleaning the filter membrane.

종래발명들의 문제점을 해결하기 위한 것이며, 본 발명은 여과막(150)을 관통하는 오염수(10)를 여과하는 여과장치(100); 상기 여과장치(100)에서 생성된 생산수(20)를 순환하여 상기 여과막(150)을 세정하는 세정장치(200);를 포함하는 구성으로 이루어진다.To solve the problems of the prior invention, the present invention is a filtration device (100) for filtering the contaminated water (10) passing through the filtration membrane (150); It comprises a configuration including; a cleaning device (200) for circulating the product water (20) generated by the filtration device (100) to clean the filtration membrane (150).

본 발명은 여과막 세정 시스템에 대한 발명이며, 앞에서 제시한 여과장치(100); 세정장치(200);로 이루어지는 발명에 상기 세정장치(200)는 상기 생산수(20)가 저장되는 세정탱크(300); 상기 세정탱크(300)에 형성되며, 세정제가 공급되는 세정제공급장치(400);를 부가한다.The present invention is an invention for a filtration membrane cleaning system, the filtration device 100 presented above; Cleaning device 200; In the present invention, the cleaning device 200 includes a cleaning tank 300 in which the production water 20 is stored; It is formed on the cleaning tank 300, and the cleaning agent supply device 400 to which the cleaning agent is supplied is added.

본 발명은 여과막 세정 시스템에 대한 발명이며, 앞에서 제시한 여과장치(100); 세정장치(200);로 이루어지는 발명에 상기 세정탱크(300)에서 공급되는 세정수(30)에 공기를 혼합하는 에어세정장치(500);를 부가한다.The present invention is an invention for a filtration membrane cleaning system, the filtration device 100 presented above; A cleaning device 200; an air cleaning device 500 for mixing air in the cleaning water 30 supplied from the cleaning tank 300 to the invention consisting of;

본 발명은 여과막 세정 시스템을 이용한 세정 방법에 대한 발명이며, (a) 오염수(10)를 여과하여 생산수(20)를 생성하는 생성단계(S1100); (b) 상기 생산수(20)가 세정탱크(300)에 저장되는 저장단계(S1200); (c) 상기 생산수(20)로 세정제가 공급되는 공급단계(S1300); (c) 자체 순환되는 생산수(20)에 세척액을 혼합하는 혼합단계(S1400); (d) 에어세정장치(500)로 생산수(20)가 관통하는 에어세정단계(S1500); (e) 세정된 생산수(20)가 여과막(150)을 세정하는 세정단계(S1600);를 포함하는 구성으로 이루어진다. The present invention is an invention for a cleaning method using a filtration membrane cleaning system, (a) a generation step of filtering the contaminated water 10 to produce the production water 20 (S1100); (b) a storage step in which the production water 20 is stored in the washing tank 300 (S1200); (c) a supply step in which a cleaning agent is supplied to the production water 20 (S1300); (c) a mixing step of mixing the washing liquid with the self-circulating production water 20 (S1400); (d) an air cleaning step (S1500) through which the production water 20 passes through the air cleaning device 500; (e) a washing step (S1600) in which the washed production water 20 washes the filtration membrane 150.

본 발명의 여과막 세정 시스템은 오염수를 역삼투법에 의하여 효과적으로 여과하여 생산수를 생성할 수 있다.The filtration membrane cleaning system of the present invention can effectively filter contaminated water by a reverse osmosis method to produce production water.

본 발명의 여과막 세정 시스템은 유기 세정제와 슬라임 세정제를 생산수에 공급하며, 이는 여과막의 유기물 세정을 극대화 시킬 수 있다.The filtration membrane cleaning system of the present invention supplies an organic detergent and a slime detergent to the production water, which can maximize the organic substance cleaning of the filtration membrane.

본 발명의 생산수는 세정제와 더불어 CIP 세척액을 혼합하며, 자체 순환으로 PH 11 ~ 12로 유지할 수 있다.The production water of the present invention is mixed with the cleaning agent and the CIP cleaning solution, and can be maintained at PH 11 to 12 by self-circulation.

본 발명의 여과막 세정 시스템은 세정제가 혼합된 생산수가 순환과정 중 에어세정장치에 관통되며, 생산수에 나노버블이 혼합되어 세정효과를 높일 수 있다.In the filtration membrane cleaning system of the present invention, the production water in which the detergent is mixed passes through the air cleaning device during the circulation process, and nanobubbles are mixed in the production water to increase the cleaning effect.

본 발명의 에어세정장치는 생산수에 혼합되는 나노버블을 확인하는 확인창이 형성되며, 생산수를 확인하며 나노버블의 양을 조절할 수 있다.In the air cleaning device of the present invention, a confirmation window for confirming nanobubbles mixed with the production water is formed, and the amount of nanobubbles can be adjusted while confirming the production water.

도 1은 본 발명의 여과막 세정 시스템의 공정도.
도 2는 도 1에 도시된 여과장치를 나타낸 공정도.
도 3 내지 도 4는 도 1에 도시된 세정장치를 나타낸 공정도.
도 5는 본 발명의 에어세정장치를 나타낸 단면사시도.
도 6은 본 발명의 에어세정장치를 나타낸 사시도.
도 7은 본 발명의 여과막 세정 시스템을 이용한 세정 방법을 나타낸 순서도.1 is a process diagram of the filtration membrane cleaning system of the present invention.
Figure 2 is a process diagram showing the filtration device shown in Figure 1;
3 to 4 is a process diagram showing the cleaning device shown in FIG.
Figure 5 is a cross-sectional perspective view showing the air cleaning device of the present invention.
Figure 6 is a perspective view showing the air cleaning device of the present invention.
7 is a flow chart showing a cleaning method using the filtration membrane cleaning system of the present invention.

이하, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세히 설명하기 위하여, 본 발명의 가장 바람직한 실시 예를 상세하게 설명한다.Hereinafter, the most preferred embodiment of the present invention will be described in detail in order to describe in detail that a person skilled in the art to which the present invention pertains can easily implement the present invention.

아래의 실시예에서 인용하는 번호는 인용대상에만 한정되지 않으며, 모든 실시예에 적용될 수 있다. 실시예에서 제시한 구성과 동일한 목적 및 효과를 발휘하는 대상은 균등한 치환대상에 해당된다. 실시예에서 제시한 상위개념은 기재하지 않은 하위개념 대상을 포함한다. The numbers cited in the following examples are not limited to the citation targets, and may be applied to all examples. An object exhibiting the same purpose and effect as the configuration presented in the Examples corresponds to an equivalent substitution object. The higher concept presented in the examples includes lower concept objects that are not described.

(실시예 1-1) 본 발명은 여과막 세정 시스템에 있어서, 여과막(150)을 관통하는 오염수(10)를 여과하는 여과장치(100);, 상기 여과장치(100)에서 생성된 생산수(20)를 순환하여 상기 여과막(150)을 세정하는 세정장치(200);를 포함한다.(Example 1-1) In the present invention, in the filtration membrane cleaning system, the filtration apparatus 100 for filtering contaminated water 10 passing through the filtration membrane 150; and the production water produced by the filtration apparatus 100 ( 20) by circulating 20 to clean the filter membrane 150.

(실시예 1-2) 본 발명의 여과막 세정 시스템은 실시예 1-1에 있어서, 상기 여과장치(100)는 오염수(10)가 여과되는 제 1여과필터(110);를 포함한다.(Example 1-2) In the filtration membrane cleaning system of the present invention, in Example 1-1, the filtration device 100 includes a first filtration filter 110 through which contaminated water 10 is filtered.

(실시예 1-3) 본 발명의 여과막 세정 시스템은 실시예 1-2에 있어서, 상기 제 1여과필터(110)와 이격되어 형성되며, 여과되지 않은 오염수(10)를 나노단위로 여과하는 제 2여과필터(120);를 포함한다.(Example 1-3) The filtration membrane cleaning system of the present invention is formed in Example 1-2, spaced apart from the first filtration filter 110, and filters unfiltered contaminated water 10 in nano units. And a second filtration filter 120.

본 발명은 여과막 세정 시스템에 대한 것이며, 구체적으로 오염수(10)를 여과하여 생산수(20)를 생산하는 수처리 시스템의 여과막(150)을 세정하기 위한 것이다. 본 발명의 수처리 여과막 세정 시스템은 해수 및 이온 성분이 포함된 오염수(10)가 여과막(150)을 관통하여 생성되는 생산수(20)를 생산하는 여과장치(100)가 형성되며, 여과장치(100)에서 생성된 생산수(20)의 일부를 저장하여 세정제와 혼합시켜 순환시킴에 따라 여과막(150)을 세척하는 세정장치(200)가 형성된다. 여기서, 생산수(20)는 수중의 이온(ion)성분이 제거된 상태를 말하며, 수중에 존재하는 이온 성분은 양이온(CATION/금속이온)과 음이온(ANION/비금속이온) 의 두가지 형태로 구분된다. 이중 양이온은 칼슘, 마그네슘, 칼륨, 나트륨, 철 등의 금속이온으로 형성되며, 음이온은 황산, 염소, 규소 등의 비금속이온으로 형성된다. 여과장치(100)는 오염수(10)가 여과되는 제 1여과필터(110)가 형성되며, 제 1여과필터(110)와 이격되는 위치에 제 1여과필터(110)에서 여과되지 않은 오염수(10)를 여과하는 제 2여과필터 (120)가 형성된다. 제 1여과필터(110)와 제 2여과필터(120)는 멤브레인(Membrane) 필터로 형성되며, 멤브레인은 원하는 물질만 통과시키고 그렇지 않은 것은 막아내는 여과막(150)에 대한 것이다. 그리하여 제 1여과필터(110)는 생산수(20)를 여과하기 위하여 생산수(20)를 이송시키는 이송펌프(160)가 형성되며, 제 1여과필터(110)는 7개의 여과막(150)이 2개가 형성되고, 제 2여과필터(120)는 7개의 여과막(150)으로 형성된다. 그리고 제 1여과필터(110)와 제 2여과필터(120)는 역삼투법(RO: Reverse Osmosis)으로 오염수(10)를 여과하는 것으로 역삼투법이란 유체 평행 상태에서 고농도 용액측에 삼투압 이상의 압력을 가하게 되면 삼투현상과는 반대로 고농도의 용액에서 순수한 물이 저농도 용액측으로 흘러 들어가는 것을 말한다. 이와 같이 오염수(10)를 여과하는 여과장치(100)의 여과막(150)을 세정하기 위하여 여과장치(100)에서 생성된 생산수(20)의 일부는 세정제와 혼합되어 순환시킴에 따라 여과막(150)을 관통하도록 유도한다. 따라서, 여과막 세정 시스템은 여과장치(100)에서 이온 성분이 여과된 생산수(20)가 저장되며, 생산수(20)에 세정제가 혼합된 세정수(30)가 순환펌프(310) 및 거름장치(320)에 의하여 이송함에 따라 여과막(150)을 세정하는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a filtration membrane cleaning system, specifically to clean the filtration membrane 150 of a water treatment system that produces the produced water 20 by filtering the contaminated water 10. In the water treatment filtration membrane cleaning system of the present invention, a filtration device 100 is formed to produce the production water 20 in which the contaminated water 10 containing seawater and ionic components passes through the filtration membrane 150, and the filtration device ( A washing apparatus 200 for washing the filter membrane 150 is formed by storing a part of the product water 20 generated in 100) and mixing it with a cleaning agent to circulate. Here, the production water 20 refers to a state in which the ionic component in the water is removed, and the ionic component present in the water is divided into two types: cation (CATION/metal ion) and anion (ANION/non-metal ion). . Double cations are formed of metal ions such as calcium, magnesium, potassium, sodium, and iron, and anions are formed of non-metal ions such as sulfuric acid, chlorine, and silicon. The filtration device 100 is formed with a first filtration filter 110 in which the contaminated water 10 is filtered, and contaminated water that is not filtered in the first filtration filter 110 in a position spaced apart from the first filtration filter 110. A second filtration filter 120 for filtering (10) is formed. The first filtration filter 110 and the second filtration filter 120 are formed of a membrane filter, and the membrane is for the filtration membrane 150 to pass only the desired material and to prevent it. Thus, the first filtration filter 110 is formed with a transfer pump 160 for transferring the production water 20 to filter the production water 20, and the first filtration filter 110 has seven filtration membranes 150. Two are formed, and the second filtration filter 120 is formed of seven filtration membranes 150. In addition, the first filtration filter 110 and the second filtration filter 120 filter contaminated water 10 by a reverse osmosis (RO) method. When a reverse osmosis method applies a pressure higher than the osmotic pressure to a high concentration solution side in a fluid parallel state In contrast to the osmotic phenomenon, it means that pure water flows from a high concentration solution to a low concentration solution. In order to clean the filtration membrane 150 of the filtration apparatus 100 that filters the contaminated water 10 as described above, a part of the production water 20 generated in the filtration apparatus 100 is mixed with a cleaning agent and circulated to filter the membrane ( 150). Therefore, in the filtration membrane cleaning system, the production water 20 in which the ionic components are filtered is stored in the filtration device 100, and the washing water 30 in which the cleaning agent is mixed in the production water 20 has a circulation pump 310 and a filtering device. It characterized in that the filtration membrane 150 is washed as it is transferred by (320).

(실시예 1-4) 본 발명의 여과막 세정 시스템은 실시예 1-3에 있어서, 상기 제 2여과필터(120)의 일단부에 연결되며, 상기 제 2여과필터(120)로 압력을 공급하는 압력펌프(121);, 상기 제 2여과필터(120)의 타단부에 연결되며, 압력을 회수하는 에너지회수장치(122);를 포함한다. (Example 1-4) The filtration membrane cleaning system of the present invention is connected to one end of the second filtration filter 120 in Example 1-3, and supplies pressure to the second filtration filter 120. It includes; a pressure pump 121; an energy recovery device 122 connected to the other end of the second filtration filter 120 to recover pressure.

본 발명은 제 2여과필터(120)에 대한 것이며, 역삼투법에 의하여 제 1여과필터(110)에서 여과되지 않은 오염수(10)를 여과할 수 있다. 본 발명의 제 2여과필터(120)는 제 1여과필터(110)와 이격되어 형성되며, 제 1여과필터(110)에서 여과되지 않은 오염수(10)를 나노 단위로 여과하는 것이다. 이러한 제 2여과필터(120)는 제 2여과필터(120)의 일단부에 연결되며, 제 2여과필터(120)로 압력을 공급하는 압력펌프(122)와 제 2여과필터(120)의 타단부에 연결되며, 압력을 회수하는 에너지회수장치(123)가 형성된다. 압력펌프(122)는 제 2여과필터(120)로 공기를 공급함에 따라 역삼투법에 의하여 생산수(20)가 역으로 여과되어 필터링되며, 제 1여과필터(110)와 제 2여과필터(120) 사이에 형성된다. 그리고 압력펌프(122)에 의하여 역삼투법(RO)에 의하여 오염수(10)가 여과되면 여과된 오염수(10)는 후술되는 제 3여과필터(130)로 공급되고, 여과되지 않은 오염수(10)는 에너지회수장치(123)로 이송된다. 이때, 에너지회수장치(123)로 이송된 농축수는 농축수 처리조에서 외부로 방류된다. 그리고 에너지회수장치(123)에서 회수된 압력은 압력펌프(121)로 공급되어 제 2여과필터(120)로 공급된다. 따라서, 제 2여과필터(120)는 제 1여과필터(110)에서 여과되지 않은 생산수(20)를 역삼투법(RO)에 의하여 여과되어 방류를 하거나 제 3여과필터(130)로 공급될 수 있다. The present invention relates to the second filtration filter 120, it is possible to filter the contaminated water 10 is not filtered in the first filtration filter 110 by a reverse osmosis method. The second filtration filter 120 of the present invention is formed to be spaced apart from the first filtration filter 110, and filters the contaminated water 10 not filtered by the first filtration filter 110 in nano units. The second filtration filter 120 is connected to one end of the second filtration filter 120, and the pressure pump 122 for supplying pressure to the second filtration filter 120 and the other of the second filtration filter 120 Is connected to the end, the energy recovery device 123 for recovering the pressure is formed. As the pressure pump 122 supplies air to the second filtration filter 120, the production water 20 is reversely filtered and filtered by the reverse osmosis method, and the first filtration filter 110 and the second filtration filter 120 are provided. Is formed between. And when the contaminated water 10 is filtered by the reverse osmosis method (RO) by the pressure pump 122, the filtered contaminated water 10 is supplied to the third filtration filter 130 to be described later, and the unfiltered contaminated water 10 ) Is transferred to the energy recovery device 123. At this time, the concentrated water transferred to the energy recovery device 123 is discharged from the concentrated water treatment tank to the outside. And the pressure recovered from the energy recovery device 123 is supplied to the pressure pump 121 and is supplied to the second filtration filter 120. Therefore, the second filtration filter 120 may be filtered and discharged from the first filtration filter 110 by the reverse osmosis method RO, or may be supplied to the third filtration filter 130. .

(실시예 1-5) 본 발명의 여과막 세정 시스템은 실시예 3-1에 있어서, 상기 여과장치(100)는 상기 제 1여과필터(110)와 상기 제 2여과필터(120)에서 여과된 오염수(10)를 여과하는 제 3여과필터(130);,상기 제 3여과필터(130)에서 여과되지 않은 오염수(10)를 여과하는 제 4여과필터(140);를 포함한다.(Example 1-5) In the filtration membrane cleaning system of the present invention, in Example 3-1, the filtration device 100 is contaminated by the first filtration filter 110 and the second filtration filter 120 It includes; a third filtration filter 130 for filtering the water 10; and a fourth filtration filter 140 for filtering the contaminated water 10 not filtered in the third filtration filter 130.

본 발명은 여과장치(100)에 대한 것이다. 본 발명의 여과장치(100)는 제 1여과필터(110)와 제 2여과필터(120)에서 여과된 오염수(10)를 여과할 수 있다. 이때, 제 3여과필터(130)는 이송펌프(160)에 의하여 제 1여과필터(110)와 제 2여과필터(120)에서 여과된 오염수(10)가 이송된다. 그리고 제 3여과필터(130)는 6개의 여과막(150)이 5개가 형성되며, 제 3여과필터(130)에서 여과된 오염수(10)는 최종적으로 생산수(20)로 전환되며, 여과되지 않은 오염수(10)는 제 4여과필터(140)로 공급된다. 이때, 제 4여과필터(140)는 6개의 여과막(150)이 2개로 형성되며, 제 4여과필터(140)에서 여과된 오염수(10)는 제 3여과필터(130)에서 여과된 생산수(20)와 동일하게 생산수(20)로 전환된다. 또한, 제 4여과필터(140)에서 여과되지 않은 오염수(10)는 에너지회수장치(123)와 동일하게 방류된다. 이와 같이, 제 1여과필터(110)에서 제 4여과필터(140)까지 오염수(10)를 여과하면 각각의 여과필터는 오염물질에 의하여 막히게 되어 압력이 높아질 수 있다. 구체적으로 초기 상태에서의 제 1여과필터(110)에서의 공급압력은 10.4bar, 유입 전도도는 2064 uS/cm, 유입온도는 24.4℃로 형성되나 40일 오염수(10)를 여과하면 제 1여과필터(110)에서의 공급압력은 14.5bar, 유입 전도도는 2199 uS/cm, 유입온도는 25.9℃로 형성된다. 이와 같이 제 1여과필터(110)뿐만 아니라 제 2여과필터(120) 내지 제 4여과필터(140)도 압력 및 수량이 높아지게 되므로 각각의 여과필터를 세정하여야 한다. 따라서, 생산수(20)는 제 1여과필터(110)와 제 2여과필터(120)에서 여과되어 이송되면 제 3여과필터(130)와 제 4여과필터(140)를 거쳐 생산수(20)로 여과되는 것이다.The present invention relates to a filtration device (100). The filtration device 100 of the present invention can filter the contaminated water 10 filtered by the first filtration filter 110 and the second filtration filter 120. At this time, the third filtration filter 130 is transferred to the contaminated water 10 filtered by the first filtration filter 110 and the second filtration filter 120 by the transfer pump 160. In the third filtration filter 130, six filtration membranes 150 are formed, and the contaminated water 10 filtered by the third filtration filter 130 is finally converted into production water 20, and is not filtered. The uncontaminated water 10 is supplied to the fourth filtration filter 140. At this time, in the fourth filtration filter 140, six filtration membranes 150 are formed in two, and the contaminated water 10 filtered in the fourth filtration filter 140 is the production water filtered in the third filtration filter 130. In the same way as in (20), it is converted into production water (20). In addition, the contaminated water 10 not filtered by the fourth filtration filter 140 is discharged in the same manner as the energy recovery device 123. As described above, when the contaminated water 10 is filtered from the first filtration filter 110 to the fourth filtration filter 140, each filtration filter may be blocked by contaminants and the pressure may be increased. Specifically, the supply pressure of the first filtration filter 110 in the initial state is 10.4 bar, the inflow conductivity is 2064 uS/cm, and the inflow temperature is formed at 24.4°C, but when the contaminated water 10 is filtered for 40 days, the first filtration is performed. The supply pressure from the filter 110 is 14.5 bar, the inlet conductivity is 2199 uS/cm, and the inlet temperature is 25.9°C. In this way, not only the first filtration filter 110 but also the second filtration filter 120 to the fourth filtration filter 140 increases in pressure and quantity, so each filtration filter must be cleaned. Therefore, the production water 20 is filtered through the first filtration filter 110 and the second filtration filter 120 and transferred, and then the production water 20 passes through the third filtration filter 130 and the fourth filtration filter 140. It is filtered with.

(실시예 1-6) 본 발명의 여과막 세정 시스템은 실시예 1-5에 있어서, 상기 세정장치(200)는 상기 여과막(150)의 전면 및 후면으로 상기 생산수(20)를 관통시켜 여과하는 것;을 포함한다. (Example 1-6) In the filtration membrane cleaning system of the present invention, in Example 1-5, the cleaning device 200 passes through the production water 20 through the front and rear surfaces of the filtration membrane 150 to filter. Includes;

본 발명은 세정장치(200)에 대한 것이며, 세정장치(200)는 여과장치(100)에 형성되는 복수의 여과필터를 세정하기 위한 것이다. 본 발명의 세정장치(200)는 여과장치(100)의 여과필터에 형성되는 여과막(150)을 세정하기 위한 것이며, 제 1여과필터(110), 제 2여과필터(120), 제 3여과필터(130), 제 4여과필터(140)에 복수로 형성되는 여과막(150)을 세정제가 혼합된 세정수(30)가 관통함에 따라 세정한다. 이때. 세정장치(200)는 여과막(150)을 세정하기 위하여 세정수(30)가 여과막(150)의 전면에서 후면으로 순환되도록 설치하도록 설치되나 생산수(20)의 유입구와 배출구를 다르게 설치하여 여과막(150)의 후면에서 전면으로 세정수(20)가 순환되도록 설치할 수 있다. 그에 따라, 여과막(150)의 전면과 후면에 부착된 이물질을 효과적으로 제거할 수 있으며, 여과막(150)의 여과 효율을 높일 수 있다. 또한, 여과필터의 상부와 하부에 각각 세정수(30)가 관통하도록 세정장치(200)가 설치될 수 있으며, 상부와 하부는 양방향으로 세정수(30)를 순환시켜 여과막(150)을 세정한다. 따라서, 세정장치(200)는 여과장치(100)의 여과필터와 접하는 유입구와 배출구의 위치에 따라 일방향 및 양방향으로 세정제가 혼합된 생산수(20)를 순환시켜 여과필터를 세정할 수 있는 특징으로 가진다.The present invention relates to a cleaning device 200, and the cleaning device 200 is for cleaning a plurality of filtration filters formed in the filtering device 100. The cleaning device 200 of the present invention is for cleaning the filtration membrane 150 formed on the filtration filter of the filtration device 100, the first filtration filter 110, the second filtration filter 120, the third filtration filter 130, the filtration membrane 150 formed in plural in the fourth filtration filter 140 is washed as the washing water 30 mixed with the cleaning agent penetrates. At this time. The washing device 200 is installed so that the washing water 30 is circulated from the front to the back of the filtering membrane 150 in order to clean the filtering membrane 150, but the filtering membrane ( 150) may be installed to circulate the washing water 20 from the rear to the front. Accordingly, foreign matters attached to the front and rear surfaces of the filter membrane 150 can be effectively removed, and the filtering efficiency of the filter membrane 150 can be increased. In addition, a cleaning device 200 may be installed in the upper and lower portions of the filtration filter to allow the cleaning water 30 to pass through, and the upper and lower parts circulate the cleaning water 30 in both directions to clean the filter membrane 150. . Therefore, the cleaning device 200 is a feature that can clean the filtration filter by circulating the production water 20 in which the cleaning agent is mixed in one direction and in both directions depending on the position of the inlet and outlet contacting the filtration filter of the filtration device 100 Have

(실시예 2-1) 본 발명은 여과막 세정 시스템에 대한 것이며, 앞에 제시된 실시예에 있어서, 상기 세정장치(200)는 상기 생산수(20)가 저장되는 세정탱크(300);, 상기 세정탱크(300)에 형성되며, 세정제가 공급되는 세정제공급장치(400);를 포함한다.(Embodiment 2-1) The present invention relates to a filtration membrane cleaning system, and in the embodiment presented above, the cleaning device 200 includes a cleaning tank 300 in which the production water 20 is stored; and the cleaning tank It is formed on 300, the cleaning agent supply device 400 is supplied with a cleaning agent; includes.

(실시예 2-2) 본 발명의 여과막 세정 시스템은 실시예 2-1에 있어서, 상기 세정탱크(300)에서 상기 세정제가 혼합된 세정수(30)를 이송하는 순환펌프(310);를 포함한다.(Example 2-2) The filtration membrane cleaning system of the present invention includes, in Example 2-1, a circulation pump 310 for transferring the washing water 30 in which the cleaning agent is mixed in the cleaning tank 300; do.

(실시예 2-3) 본 발명의 여과막 세정 시스템은 실시예 2-2에 있어서, 상기 이송펌프(160)에 의하여 이송되는 세정수(30)의 파티클을 여과하는 거름장치(320);를 포함한다.(Example 2-3) The filtration membrane cleaning system of the present invention includes, in Example 2-2, a filtering device 320 for filtering particles of the washing water 30 transferred by the transfer pump 160; do.

본 발명은 여과막 세정 시스템에 대한 것이며, 구체적으로 여과막(150)에 의하여 이온 성분이 제거된 생산수(20)에 세정제가 혼합되어 멤브레인 필터의 여과막(150)을 세정할 수 있는 여과막 세정 시스템에 대한 것이다. 본 발명의 여과막 세정 시스템은 생산수(20)를 저장하며, 생산수(20)에 세정제가 혼합되어 형성되는 세정수(30)가 형성되는 세정탱크(300)가 형성된다. 세정탱크(300)에 공급되는 생산수(20)는 수중의 이온(ion)성분이 제거된 상태를 말하며, 수중에 존재하는 이온성분은 양이온(CATION/금속이온)과 음이온(ANION/비금속이온) 의 두가지 형태로 구분된다. 이중 양이온은 칼슘, 마그네슘, 칼륨, 나트륨, 철 등의 금속이온으로 형성되며, 음이온은 황산, 염소, 규소 등의 비금속이온으로 형성된다. 그리고 세정탱크(300)는 여과장치(100)에서 생산된 생산수(20)를 1m3 저장하며, 내부에 생산수(20)에 혼합되는 세정제를 공급하는 세정제공급장치(400)가 형성된다. 세정제공급장치(400)는 생산수(20)에 형성되는 박테리아와 세균 등의 오염물질을 세정하기 위하여 세정제가 공급된다. 세정제공급장치(400)는 세정탱크(300) 내부에 구비되거나 외부에 형성되며, 사용자가 직접 세정제를 세정탱크(300)에 공급할 수 있다. 이와 같이 세정제공급장치(400)를 통해 세정제가 혼합되는 세정수(30)는 순환펌프(310)에 의하여 순환되며, 순환펌프(310)에 의하여 이송되는 세정수(30)는 거름장치(320)에서 일정 크기 이상의 파티클을 여과할 수 있다. 따라서, 여과막 세정 시스템은 이온성분이 제거된 생산수(20)가 저장되며, 생산수(20)에 세정제가 혼합된 세정수(30)가 순환펌프(310) 및 거름장치(320)에 의하여 이송함에 따라 여과막(150)을 세정하는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a filtration membrane cleaning system, specifically, to a filtration membrane cleaning system capable of cleaning the filtration membrane 150 of the membrane filter by mixing a cleaning agent in the product water 20 in which ionic components are removed by the filtration membrane 150 will be. The filtration membrane cleaning system of the present invention stores the production water 20, and a cleaning tank 300 is formed in which the washing water 30 formed by mixing the cleaning agent with the production water 20 is formed. The production water 20 supplied to the washing tank 300 refers to a state in which the ion component in the water is removed, and the ionic component present in the water is a cation (metal ion) and an anion (ANION/non-metal ion). It is divided into two forms. Double cations are formed of metal ions such as calcium, magnesium, potassium, sodium, and iron, and anions are formed of non-metal ions such as sulfuric acid, chlorine, and silicon. In addition, the cleaning tank 300 stores 1 m 3 of production water 20 produced by the filtration device 100, and a cleaning agent supply device 400 for supplying a cleaning agent mixed in the production water 20 is formed. The cleaning agent supply device 400 is supplied with cleaning agents to clean contaminants such as bacteria and bacteria formed in the production water 20. The cleaning agent supply device 400 is provided inside the cleaning tank 300 or is formed on the outside, and the user can directly supply the cleaning agent to the cleaning tank 300. The cleaning water 30 in which the cleaning agent is mixed through the cleaning agent supply device 400 is circulated by the circulation pump 310, and the cleaning water 30 transferred by the circulation pump 310 is the filtering device 320. In can filter particles over a certain size. Therefore, in the filtration membrane cleaning system, the production water 20 from which the ionic component is removed is stored, and the washing water 30 in which the cleaning agent is mixed with the production water 20 is transferred by the circulation pump 310 and the filtering device 320. It characterized in that the washing the filtration membrane 150 according to.

(실시예 2-4) 본 발명의 여과막 세정 시스템은 실시예 2-1에 있어서, 상기 세정제공급장치(400)에 형성되며, 여과막(150)의 유기물을 제거하는 유기 세정제가 공급되는 유기세정제 공급장치;, 슬라임 세정제가 공급되는 슬라임세정제 공급장치;를 포함한다.(Example 2-4) The filtration membrane cleaning system of the present invention is formed in the cleaning agent supply device 400 in Example 2-1, and supplies an organic cleaning agent supplied with an organic cleaning agent for removing organic substances from the filtering film 150 It includes; a device;, a slime cleaner supply device to which the slime cleaner is supplied.

(실시예 2-5) 본 발명의 여과막 세정 시스템은 실시예 2-4에 있어서, 상기 유기 세정제와 상기 슬라임 세정제는 4:1의 비율로 공급되는 것;을 포함한다.(Example 2-5) The filtration membrane cleaning system of the present invention includes, in Example 2-4, the organic detergent and the slime detergent being supplied in a ratio of 4:1.

(실시예 2-6) 본 발명의 여과막 세정 시스템은 실시예 2-5에 있어서, 상기 세정제공급장치(400)에서 공급되며, 세정수(30)의 PH농도를 11 ~ 12로 유지하기 위하여 혼합되는 세척액(CIP Chemical);을 포함한다.(Example 2-6) The filtration membrane cleaning system of the present invention is supplied from the cleaning agent supply device 400 in Example 2-5, and is mixed to maintain the pH concentration of the cleaning water 30 at 11-12. It includes; washing liquid (CIP Chemical).

본 발명은 세제공급장치에 대한 것이며, 구체적으로 세정태크에 저장된 생산수(20)에 세정제를 혼합하여 세정수(30)를 형성하는 것이다. 본 발명의 세정제공급장치(400)는 여과막(150)의 유기물을 제거하는 유기 세정제가 공급되는 유기세정제 공급장치와 슬라임 세정제가 공급되는 슬라임세정제 공급장치가 형성된다. 유기세정제 공급장치는 여과막(150)의 유기물 오염이 일반적일 때는 2% 유기 세정제를 공급하며, 유기물 오염이 심할 경우 4% 유기 세정제가 공급된다. 이러한 유기 세정제는 RO 유기 세정재로 형성되며, 슬라임 세정제는 공업용 수처리 약품으로 형성됨이 바람직하다. 이때, 유기 세정와 슬라임 세정제는 4 : 1비율로 형성되며, 세정수(30)의 자체 순환으로 세척액(CIP Chemical)이 혼합된다. 이와 같은 세척액은 세정제공급장치(400)에서 공급되며, 생산수(20)의 PH농도를 11 ~ 12로 유지할 수 있다. 따라서, 세정제공급장치(400)는 여과막(150)을 세정하기 위하여 세정탱크(300) 내부에서 생산수(20)에 세정재와 세척액을 혼합하는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a detergent supply device, and specifically to form a washing water 30 by mixing the washing agent with the production water 20 stored in the washing tag. In the cleaning agent supply device 400 of the present invention, an organic cleaning agent supply device for supplying an organic cleaning agent for removing organic substances from the filtration membrane 150 and a slime cleaning agent supply device for supplying a slime cleaning agent are formed. The organic cleaning agent supply device supplies 2% organic cleaning agent when the organic contamination of the filtration membrane 150 is common, and 4% organic cleaning agent is supplied when the organic contamination is severe. The organic detergent is formed of an RO organic detergent, and the slime detergent is preferably formed of an industrial water treatment chemical. At this time, the organic cleaning and slime cleaning agent is formed in a ratio of 4: 1, the washing liquid (CIP Chemical) is mixed by self-circulation of the washing water 30. The cleaning solution is supplied from the cleaning agent supply device 400, and can maintain the pH concentration of the production water 20 at 11-12. Accordingly, the cleaning agent supply device 400 is characterized by mixing the cleaning material and the cleaning solution in the production water 20 inside the cleaning tank 300 to clean the filtration membrane 150.

(실시예 3-1) 본 발명은 여과막 세정 시스템에 대한 것이며, 앞에 제시된 실시예에 있어서, 상기 세정탱크(300)에서 공급되는 세정수(30)에 공기를 혼합하는 에어세정장치(500);를 포함한다.(Embodiment 3-1) The present invention relates to a filtration membrane cleaning system, and in the above-described embodiment, an air cleaning device 500 for mixing air into the washing water 30 supplied from the cleaning tank 300; It includes.

(실시예 3-2) 본 발명의 여과막 세정 시스템은 실시예 3-1에 있어서, 상기 에어세정장치(500)에 결합되며, 공기를 공급하는 콘프레셔(510);, 상기 콘프레셔(510)에서 공급되는 공기를 압축하는 압력탱크(520);를 포함한다.(Example 3-2) The filtration membrane cleaning system of the present invention is, in Example 3-1, coupled to the air cleaning device 500, a compressor 510 for supplying air; and the compressor 510 It includes; pressure tank 520 for compressing the air supplied from the.

(실시예 3-3) 본 발명의 여과막 세정 시스템은 실시예 3-2에 있어서, 상기 에어세정장치(500)에서 세정수(30)에 공급되는 에어를 확인하는 확인창(530);을 포함한다.(Example 3-3) The filtration membrane cleaning system of the present invention includes, in Example 3-2, a confirmation window 530 for confirming air supplied to the washing water 30 in the air cleaning apparatus 500; do.

본 발명은 에어세정장치(500)에 대한 것이며, 구체적으로 세정탱크(300)에서 세정제와 세척액이 혼합된 세정수(30)를 순환시켜 여과막(150)을 세정하는 CIP 공정을 1시간 가량 반복하여 실시한다. 본 발명의 에어세정장치(500)는 ZPM(Zeta Potential Mixer)으로 세정수(30)에 나노 버블이 생성되어 여과막(150)을 세정하는 것이다. 이러한 에어세정장치(500)는 세정수(30)의 캐비테이션 현상에 따라 공기의 낮은 압력으로 인하여 기포가 발생하는 것이다. 이와 같이 스테인레스, 티타늄 등의 철재 및 플라스틱 등의 합성수지로 형성되는 에어세정장치(500)를 관통하여 세정수(30)에 나노버블(550)을 발생시키는 것으로 공기를 공급하는 콘프레셔(510)와 공기를 압축하는 압력탱크(520)가 형성된다. 그리고 세정제가 혼합된 세정수(30)는 에어세정장치(500)를 관통할 때 세정수(30)에 에어가 공급되는 지를 확인하기 위한 확인창(530)이 형성된다. 이와 같이 에어세정장치(500)는 필터가 기계적으로 크립토 스포 리듐 (cryptosporidium oocysts), 박테리아 플록 (floc) 및 심지어 단일 박테리아를 파괴 한 후에 물은 기계적으로 소독되고 염소의 성능은 증폭시킬 수 있다. 또한, 에어세정장치(500)(ZPM)은 용해 된 성분을 몰 입자로 전환시키며, 침전시키기 위해 응고 및 응집 반응을 증폭시킨다. 캐비테이션에 의해 생성 된 나노 버블은 박테리아, 바이러스, 포자 및 원생 동물과 같은 고체의 표면에 부착되어 세정합니다. 그리고 캐비테이션에 의하여 방출 된 에너지는 병원균의 세포막을 통해 박테리아 또는 기생충을 제거한다. 이와 같은 캐비테이션은 APF와 NoPhos를 사용하여 응고에 필요한 완벽한 혼합 및 난류 환경을 제공한다. 따라서, 에어세정장치(500)는 세정제가 혼합된 세정수(30)가 관통할 때 캐비테이션에 의하여 나노버블(550)이 형성됨에 따라 여과막(150)을 관통할 때 세정 효과를 극대화 시킬 수 있는 특징이 있다.The present invention relates to an air cleaning device 500, specifically, repeating the CIP process for cleaning the filter membrane 150 by circulating the washing water 30 in which the cleaning agent and the cleaning solution are mixed in the cleaning tank 300 for about 1 hour. Conduct. In the air cleaning apparatus 500 of the present invention, nano bubbles are generated in the washing water 30 using a ZPM (Zeta Potential Mixer) to clean the filtration membrane 150. The air cleaning device 500 generates air bubbles due to the low pressure of air according to the cavitation phenomenon of the washing water 30. The compressor 510 for supplying air by generating nanobubbles 550 in the washing water 30 by penetrating the air cleaning device 500 formed of a synthetic resin such as stainless steel, titanium, and other synthetic resins. A pressure tank 520 for compressing air is formed. In addition, a washing window 30 for confirming whether air is supplied to the washing water 30 is formed when the washing water 30 mixed with the cleaning agent passes through the air cleaning device 500. In this way, the air cleaning device 500 can mechanically disinfect water and amplify chlorine performance after the filter mechanically destroys cryptosporidium oocysts, bacterial floc, and even single bacteria. In addition, the air cleaning device 500 (ZPM) converts the dissolved components into molar particles, and amplifies the coagulation and coagulation reactions to precipitate. The nanobubbles created by cavitation adhere to and clean the surface of solids such as bacteria, viruses, spores and protozoa. And the energy released by cavitation removes bacteria or parasites through the cell membrane of the pathogen. Such cavitation uses APF and NoPhos to provide the perfect mixing and turbulence environment required for solidification. Therefore, the air cleaning device 500 can maximize the cleaning effect when passing through the filter membrane 150 as the nanobubbles 550 are formed by cavitation when the cleaning water 30 mixed with the cleaning agent penetrates. There is this.

(실시예 3-4) 본 발명의 여과막 세정 시스템은 실시예 2-1에 있어서, 상기 에어세정장치(500)는 세정수(30)가 관통되는 케이스(540);, 상기 케이스(540) 내부에 형성되며, 세정수(30)를 정화하는 복수의 플랜지(541);를 포함한다.(Example 3-4) In the filtration membrane cleaning system of the present invention, in Example 2-1, the air cleaning device 500 includes a case 540 through which washing water 30 passes; and, inside the case 540 It is formed on, a plurality of flanges 541 to purify the washing water 30; includes.

(실시예 3-5) 본 발명의 여과막 세정 시스템은 실시예 2-1에 있어서, 상기 에어세정장치(500)에 형성되며, 공기가 주입되는 주입관(542);을 포함한다.(Example 3-5) The filtration membrane cleaning system of the present invention includes, in Example 2-1, an injection pipe 542 formed in the air cleaning apparatus 500 and into which air is injected.

본 발명은 에어세정장치(500)에 대한 것이며, 구체적으로 에어세정장치(500)는 세정제가 혼합된 세정수(30)가 관통할 때 콘프레셔(510) 및 압력탱크(520)가 연결되어 공기를 주입할 수 있다. 본 발명의 에어세정장치(500)는 세정수(30)가 관통될 때 스크류가 발생하도록 복수의 플랜지(541)가 형성되며, 복수의 플랜지(541)가 내부에 형성되는 케이스(540)가 형성된다. 그리고 케이스(540)는 콘프레셔(510) 및 압력탱크(520)가 연결되어 공기가 주입되는 주입관(542)이 형성된다. 이와 같은 에어세정장치(500)는 케이스(540)의 내부에 복수의 플랜지(541)가 형성되며, 세정수(30)는 캐비테이션을 일으키고 기생충을 죽이는 데 도움이 되는 고속으로 회전함에 따라 스크류가 발생된다. 그리고 에어세정장치(500)는 여과막(150)의 제타 전위를 떨어뜨리는 데 도움이 되며, 이는 고체의 응집을 일으킴에 따라 산화 환원 전위를 증가시킬 수 있다. 따라서, 케이스(540)는 내부에 복수의 플랜지(541)가 형성됨에 따라 스크류가 발생하여 여과막(150)의 다양한 병원균을 제거할 수 있다. The present invention relates to an air cleaning device 500, and specifically, the air cleaning device 500 is connected to the air when the washing water 30 mixed with the cleaning agent passes through the compressor 510 and the pressure tank 520. Can be injected. In the air cleaning device 500 of the present invention, a plurality of flanges 541 are formed so that a screw is generated when the washing water 30 is penetrated, and a case 540 in which a plurality of flanges 541 are formed is formed. do. In addition, the case 540 is connected to the compressor 510 and the pressure tank 520 to form an injection pipe 542 into which air is injected. In the air cleaning apparatus 500, a plurality of flanges 541 are formed inside the case 540, and the washing water 30 rotates at a high speed that helps to cause cavitation and kill parasites. do. In addition, the air cleaning device 500 helps to reduce the zeta potential of the filtration membrane 150, which can increase the redox potential as a result of solid agglomeration. Thus, the case 540 is a plurality of flanges 541 are formed therein, a screw is generated to remove various pathogens of the filtration membrane 150.

(실시예 4-1) 본 발명은 여과막 세정 시스템을 이용한 세정 방법에 대한 것이며, 실시예 3-1에 있어서, (a) 오염수(10)를 여과하여 생산수(20)를 생성하는 생성단계(S1100); (b). 상기 생산수(20)가 세정탱크(300)에 저장되는 저장단계(S1200); (c) 상기 생산수(20)로 세정제가 공급되는 공급단계(S1300); (c) 자체 순환되는 생산수(20)에 세척액을 혼합하는 혼합단계(S1400); (d) 에어세정장치(500)로 생산수(20)가 관통하는 에어세정단계(S1500); (e) 세정된 생산수(20)가 여과막(150)을 세정하는 세정단계(S1600);를 포함한다.(Example 4-1) The present invention relates to a cleaning method using a filtration membrane cleaning system, and in Example 3-1, (a) a generating step of filtering the contaminated water 10 to produce the produced water 20 (S1100); (b). A storage step in which the production water 20 is stored in the cleaning tank 300 (S1200); (c) a supply step in which a cleaning agent is supplied to the production water 20 (S1300); (c) a mixing step of mixing the washing liquid with the self-circulating production water 20 (S1400); (d) an air cleaning step (S1500) through which the production water 20 passes through the air cleaning device 500; (e) a washing step (S1600) in which the washed production water 20 washes the filtration membrane 150.

(실시예 4-2) 본 발명의 여과막 세정 시스템을 이용한 세정 방법은 실시예 4-1에 있어서, 상기 공급단계(S1300)는 세정제공급장치(400)에서 유기 세정제와 슬라임 세정제가 공급되는 것;을 포함한다.(Example 4-2) The cleaning method using the filtration membrane cleaning system of the present invention is in Example 4-1, wherein the supplying step (S1300) is that the organic cleaning agent and the slime cleaning agent are supplied from the cleaning agent supply device 400; It includes.

(실시예 4-3) 본 발명의 여과막 세정 시스템을 이용한 수처리 방법은 실시예 4-2에 있어서, 상기 혼합단계(S1400)는 상기 생산수(20)의 PH 농도가 11 ~ 12로 유지되도록 세척액을 혼합하는 것;을 포함한다.(Example 4-3) The water treatment method using the filtration membrane cleaning system of the present invention is in Example 4-2, wherein the mixing step (S1400) is a washing solution so that the pH concentration of the product water 20 is maintained at 11-12. Mixing; includes.

(실시예 4-4) 본 발명의 여과막 세정 시스템을 이용한 수처리 방법은 실시예 4-3에 있어서, 상기 에어세정단계(S1500)는 생산수(20)에 나노버블(550)을 공급하는 것;을 포함한다.(Example 4-4) The water treatment method using the filtration membrane cleaning system of the present invention is in Example 4-3, wherein the air cleaning step (S1500) is to supply nanobubbles 550 to the production water 20; It includes.

본 발명은 세정 방법에 대한 것이며, 여과막 세정 시스템에 의하여 생산수(20)로 여과막(150)을 세정하는 것이다. 본 발명의 세정방법은 오염수(10)를 여과장치(100)로 이송시켜 제 1여과필터(110), 제 2여과필터(120), 제 3여과필터(130), 제 4여과필터(140)를 관통하여 생산수(20)가 생성되는 생성단계(S1100)가 형성되며, 생성단계(S1100)에서 생성된 생산수(20)가 세정탱크(300)에 저장되는 저장단계(S1200)가 형성되며, 세정탱크(300) 내부에는 세정제가 공급되는 세정제공급장치(400)가 형성된다. 그리고 세정제공급장치(400)에 의하여 세정제가 공급되는 공급단계(S1300)는 유기 세정제와 슬라임 세정제가 4 : 1의 비율로 공급된다. 이때, 여과막(150)의 유기물 오염도가 일반적일 때는 2%의 유기 세정제를 사용하나 오염도가 심할 경우 4%의 유기 세정제가 사용된다. 그리고 세정제공급장치(400)에서 생산수(20)에 세정제가 혼합된 세정수(30)는 순환펌프(310)에 의하여 에어세정장치(500)로 이송되며, 에어세정장치(500)에서 세정수(30)가 관통하는 에어세정단계(S1500)가 형성된다. 에어세정단계(S1500)에서 세정수(30)는 에어세정장치(500)를 관통하며, 에어세정장치(500) 내부로 유입되는 나노버블(550)이 세정수(30)에 혼합된다. 에어세정장치(500)는 콘프레셔(510) 및 압력탱크(520)에 의하여 나노버블(550)이 공급되며, 에어세정장치(500) 내부의 플랜지(541)에 의하여 세정수(30)에 스크류가 발생한다. 에어세정단계(S1500) 후, 세정수(30)는 세정장치(200)와 결합된 제 1여과필터(110), 나노필터(121), 제 3여과필터(130), 제 4여과필터(140) 중 하나를 관통하며, 여과막(150)을 세정하는 세정단계(S1600)가 형성된다. 이때, 세정장치(200)와 결합되는 여과필터는 양방향으로 세정수(30)가 순환되며, 이는 여과필터 내부의 여과막(150)을 양방향으로 세정함에 따라 세정 효율을 높일 수 있다. 따라서, 여과장치(100)에 의하여 생성된 생산수(20)는 세정제가 공급되어 나노버블(550)에 의하여 여과막(150)을 효과적으로 세정하는 특징을 가진다.The present invention relates to a cleaning method, and to clean the filter membrane 150 with the production water 20 by a filter membrane cleaning system. The cleaning method of the present invention transfers the contaminated water (10) to the filtration device 100, the first filtration filter 110, the second filtration filter 120, the third filtration filter 130, the fourth filtration filter 140 ) Is formed through a production step (S1100) in which the production water 20 is generated, and a storage step (S1200) in which the production water 20 generated in the production step (S1100) is stored in the cleaning tank 300. In the cleaning tank 300, a cleaning agent supply device 400 through which a cleaning agent is supplied is formed. And in the supplying step (S1300) of the cleaning agent supplied by the cleaning agent supply device 400, the organic cleaning agent and the slime cleaning agent are supplied in a ratio of 4:1. At this time, when the degree of contamination of the organic matter of the filtration membrane 150 is general, 2% of organic detergent is used, but when the degree of contamination is severe, 4% of organic detergent is used. In addition, the cleaning water 30 in which the cleaning agent is mixed with the production water 20 in the cleaning agent supply device 400 is transferred to the air cleaning device 500 by the circulation pump 310, and the cleaning water in the air cleaning device 500 An air cleaning step (S1500) through which the 30 passes is formed. In the air cleaning step (S1500), the cleaning water 30 penetrates the air cleaning device 500, and the nanobubbles 550 flowing into the air cleaning device 500 are mixed in the cleaning water 30. The air cleaning device 500 is supplied with a nanobubble 550 by a compressor 510 and a pressure tank 520, and is screwed into the washing water 30 by a flange 541 inside the air cleaning device 500. Occurs. After the air cleaning step (S1500), the washing water 30 is the first filtration filter 110, the nano filter 121, the third filtration filter 130, the fourth filtration filter 140 combined with the cleaning device 200 ), a washing step (S1600) for cleaning the filtration membrane 150 is formed. At this time, the filtration filter coupled with the cleaning device 200 circulates the washing water 30 in both directions, which can increase the cleaning efficiency by cleaning the filtration membrane 150 inside the filtration filter in both directions. Therefore, the production water 20 produced by the filtration device 100 has a characteristic that the cleaning agent is supplied to effectively clean the filtration membrane 150 by the nanobubble 550.

10: 오염수 20: 생산수
30: 세정수 100: 여과장치
110: 제 1여과필터 120: 제 2여과필터
121: 압력펌프 122: 에너지회수장치
130: 제 3여과필터 140: 제 4여과필터
150: 여과막 160: 이송펌프
200: 세정장치 300: 세정탱크
310: 순환펌프 320: 거름장치
400: 세정제공급장치 500: 에어세정장치
510: 콘프레셔 520: 압력탱크
530: 확인창 540: 케이스
541: 플랜지 542: 주입관
550: 나노버블 S1100: 생성단계
S1200: 저장단계 S1300: 공급단계
S1400: 혼합단계 S1500: 에어세정단계
S1600: 세정단계10: Polluted water 20: Production water
30: washing water 100: filtration device
110: first filtration filter 120: second filtration filter
121: pressure pump 122: energy recovery device
130: third filtration filter 140: fourth filtration filter
150: filtration membrane 160: transfer pump
200: cleaning device 300: cleaning tank
310: circulating pump 320: filter
400: cleaning agent supply device 500: air cleaning device
510: compressor 520: pressure tank
530: confirmation window 540: case
541: flange 542: injection tube
550: nanobubble S1100: generation stage
S1200: storage phase S1300: supply phase
S1400: Mixing step S1500: Air cleaning step
S1600: washing step

Claims (4)

여과막(150)을 관통하는 오염수(10)를 여과하는 여과장치(100);
상기 여과장치(100)에서 생성된 생산수(20)를 순환하여 상기 여과막(150)을
세정하는 세정장치(200);
상기 세정장치(200)는 상기 생산수(20)가 저장되는 세정탱크(300);
상기 세정탱크(300)에 형성되며, 세정제가 공급되는 세정제공급장치(400);
상기 세정탱크(300)에서 상기 세정제가 혼합된 세정수(30)를 여과막(150)으로 순환시키는 순환펌프(310);
상기 순환펌프(310)에 의하여 이송되는 세정수(30)의 파티클을 여과하는 거름장치(320);
상기 세정탱크(300)에서 공급되는 세정수(30)에 공기를 혼합하는 에어세정장치(500);
상기 에어세정장치(500)는 세정수(30)가 관통되는 케이스(540);
상기 케이스(540) 내부에 형성되며, 세정수(30)를 정화하는 복수의 플랜지(541);
상기 에어세정장치(500)에 형성되며, 공기가 주입되는 주입관(542);
상기 여과장치(100)는 오염수(10)가 여과되는 제 1여과필터(110);
상기 제 1여과필터(110)와 이격되어 형성되며, 여과되지 않은 오염수(10)를
나노단위로 여과하는 제 2여과필터(120);
상기 제 2여과필터(120)의 일단부에 연결되며, 상기 제 2여과필터(120)로 압
력을 공급하는 압력펌프(121);
상기 제 2여과필터(120)의 타단부에 연결되며, 압력을 회수하는 에너지회수
장치(122);
상기 세정장치(200)는 여과막(150)의 상부와 하부로 세정수(30)를 관통시키고, 여과막(150)의 상부와 하부를 관통하는 세정수(30)는 각각 양방향으로 순환하며 여과막(150)을 세정하도록 하는 것; 을 포함하는 여과막 세정 시스템.
A filtration device 100 for filtering the contaminated water 10 passing through the filtration membrane 150;
The filtration membrane 150 is circulated by circulating the product water 20 generated in the filtration device 100.
A cleaning device 200 for cleaning;
The cleaning device 200 includes a cleaning tank 300 in which the production water 20 is stored;
A cleaning agent supply device 400 formed on the cleaning tank 300 and supplied with a cleaning agent;
A circulation pump 310 for circulating the washing water 30 in which the cleaning agent is mixed in the cleaning tank 300 to the filtration membrane 150;
A filtering device (320) for filtering particles of the washing water (30) transferred by the circulation pump (310);
An air cleaning device 500 for mixing air with the washing water 30 supplied from the washing tank 300;
The air cleaning device 500 includes a case 540 through which washing water 30 passes;
A plurality of flanges 541 formed inside the case 540 to purify the washing water 30;
It is formed on the air cleaning device 500, the injection pipe 542 into which air is injected;
The filtering device 100 includes a first filtration filter 110 through which contaminated water 10 is filtered;
It is formed spaced apart from the first filtration filter 110, and the unfiltered contaminated water (10)
A second filtration filter 120 for filtering in nano units;
It is connected to one end of the second filtration filter 120, and is pressed by the second filtration filter 120.
Pressure pump 121 for supplying power;
It is connected to the other end of the second filtration filter 120, the energy recovery to recover the pressure
Device 122;
The washing device 200 penetrates the washing water 30 to the top and bottom of the filtration membrane 150, and the washing water 30 passing through the top and bottom of the filtration membrane 150 circulates in both directions, respectively, and the filtration membrane 150 ) To clean; Filtration membrane cleaning system comprising a.
삭제delete 삭제delete (a) 오염수(10)를 여과하여 생산수(20)를 생성하는 생성단계(S1100);
(b) 상기 생산수(20)가 세정탱크(300)에 저장되는 저장단계(S1200);
(c1) 상기 생산수(20)로 세정제가 공급되는 공급단계(S1300);
(c2) 자체 순환되는 생산수(20)에 세척액을 혼합하는 혼합단계(S1400);
(d1) 에어세정장치(500)로 생산수(20)가 관통하는 에어세정단계(S1500);
(e) 세정된 생산수(20)가 여과막(150)을 세정하는 세정단계(S1600);
상기 공급단계(S1300)는 세정제공급장치(400)에서 유기 세정제와 슬라임 세
정제가 공급되는 것;
상기 혼합단계(S1400)는 상기 생산수(20)의 PH 농도가 11 ~ 12로 유지되도록
세척액을 혼합하는 것;
상기 혼합단계(S1400)는 상기 세척액이 혼합된 생산수를 거름장치(320)로 여과하는 것;
상기 에어세정단계(S1500)는 생산수(20)에 나노버블(550)을 공급하
고, 나노버블이 포함된 생산수(20)를 에어세정장치(500) 내부의 플랜지(541)에 의하여 스크류를 발생시키는 것;
상기 세정단계(S1600)는 여과막(150)의 상부와 하부로 생산수(20)를 관통시키고, 여과막(150)의 상부와 하부를 관통하는 생산수(20)는 각각 양방향으로 순환하며 여과막(150)을 세정하도록 하는 것;을 포함하는 여과막 세정 시스템을 이용한 세정 방법.


(a) a generation step of filtering the polluted water 10 to produce the production water 20 (S1100);
(b) a storage step in which the production water 20 is stored in the washing tank 300 (S1200);
(c1) a supply step in which a cleaning agent is supplied to the production water 20 (S1300);
(c2) a mixing step of mixing the washing liquid with self-circulating production water 20 (S1400);
(d1) air cleaning step (S1500) through which the production water 20 passes through the air cleaning device 500;
(e) a washing step in which the washed product water 20 washes the filtration membrane 150 (S1600);
In the supply step (S1300), the organic detergent and the slime are washed in the detergent supply device 400.
Tablets being supplied;
In the mixing step (S1400), the PH concentration of the production water 20 is maintained at 11-12.
Mixing the washing liquid;
The mixing step (S1400) is to filter the production water mixed with the washing liquid through a filtering device 320;
The air cleaning step (S1500) is to supply the nanobubble (550) to the production water (20)
High, to generate a screw by the flange 541 inside the air cleaning device 500, the production water 20 containing nanobubbles;
In the washing step (S1600), the production water 20 penetrates the upper and lower portions of the filtration membrane 150, and the production water 20 passing through the upper and lower portions of the filtration membrane 150 circulates in both directions, respectively, and the filtration membrane 150 ) To be cleaned; The cleaning method using a filtration membrane cleaning system comprising a.


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