KR102133213B1 - 표시 장치용 기판, 이의 제조 방법, 및 이를 구비하는 표시 장치 - Google Patents

표시 장치용 기판, 이의 제조 방법, 및 이를 구비하는 표시 장치 Download PDF

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Abstract

표시 장치용 기판, 이의 제조 방법, 및 이를 구비하는 표시 장치가 제공된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치용 기판은 베이스 기판, 및 베이스 기판 내부에 위치하는 복수의 제1 광학 패턴을 포함하되, 복수의 제1 광학 패턴은 베이스 기판의 일면과 평행한 제1 방향을 따라 동일한 간격으로 이격되어 배치된다.

Description

표시 장치용 기판, 이의 제조 방법, 및 이를 구비하는 표시 장치 {Substrate for display device, method of manufacturing the same, and display device including the same}
본 발명은 표시 장치용 기판, 이의 제조 방법, 및 이를 구비하는 표시 장치에 관한 것이다.
액정 표시 장치(Liquid Crystal Display), 전기 영동 표시 장치(Electrophoretic Display), 유기 발광 표시 장치(Organic Light Emitting Display), FED 표시 장치(Field Emission Display), SED 표시 장치(Surface-conduction Electron-emitter Display), 플라즈마 표시 장치(Plasma Display), 음극선관 표시 장치(Cathode Ray Tube Display) 등과 같은 표시 장치는 적어도 하나 이상의 기판을 포함한다. 이러한 기판 상에 표시 장치의 다양한 소자들이 실장된다.
최근에는 표시 장치의 슬림화 요구로 인하여, 기판도 단순히 다양한 소자들을 지지하는 기능뿐만 아니라, 다른 광학적 특성을 가지는 것이 요구되고 있다. 기판이 광학적 특성을 지니기 위한 일반적인 방법은 기판을 패터닝하는 것이다.
일반적으로, 기판을 패터닝하기 위해서는 포토리소그래피(Photolithography) 공정을 이용한다. 포토리소그래피 공정은 기판 위에 포토레지스트(Photoresist)를 도포하고, 이를 노광 및 현상하며, 포토레지스트가 제거되어 노출된 기판을 식각한 후에 잔류하는 포토레지스트를 세정하는 공정을 포함한다. 이에 더하여, 공정 중간에 포토레지스트의 결합력을 강화시키기 위하여 소프트 베이킹(Soft baking) 및 하드 베이킹(Hard baking) 공정이 삽입될 수 있다.
이러한 포토리소그래피 공정은 여러 단계의 공정들을 포함하므로, 각 공정의 불량률에 따라 최종 공정의 불량률이 높아지게 된다. 또한, 다양한 재료들이 필요하므로, 재료적인 측면에서 비용이 많이 든다. 또한, 기판의 양면을 패터닝한다면, 이러한 복잡한 포토리소그래피 공정을 두 번 반복해야하는 번거로움이 있다. 또한, 포토리소그래피 공정은 기판의 표면을 패터닝하는 공정이므로, 기판의 표면에 굴곡이 생겨, 기판 상에 구조물을 형성할 때에 어려움이 발생할 수 있다.
이에, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 내부에 규칙적으로 배열된 복수의 광학 패턴을 포함하는 표시 장치용 기판을 제공하고자 하는 것이다.
또한, 본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 간단한 공정 및 저비용으로 복수의 광학 패턴을 용이하게 형성할 수 있는 표시 장치용 기판의 제조 방법을 제공하고자 하는 것이다.
또한, 본 발명이 해결하고자 하는 또 다른 과제는 내부에 규칙적으로 배열된 복수의 광학 패턴을 포함하는 표시 장치용 기판을 포함하는 표시 장치를 제공하고자 하는 것이다.
본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치용 기판은 베이스 기판, 및 베이스 기판 내부에 위치하는 복수의 제1 광학 패턴을 포함하되, 복수의 제1 광학 패턴은 베이스 기판의 일면과 평행한 제1 방향을 따라 동일한 간격으로 이격되어 배치된다.
상기 복수의 제1 광학 패턴 각각과 베이스 기판의 계면은 요철 형상을 포함할 수 있다.
상기 복수의 제1 광학 패턴의 굴절률은 베이스 기판의 굴절률보다 낮을 수 있다.
여기에서, 상기 복수의 제1 광학 패턴 각각의 굴절률은 복수의 제1 광학 패턴 각각의 중심부에서 에지부로 갈수록 높아질 수 있다.
상기 복수의 제1 광학 패턴의 투명도는 베이스 기판의 투명도보다 낮을 수 있다.
여기에서, 상기 복수의 제1 광학 패턴의 투명도는 복수의 제1 광학 패턴 각각의 중심부에서 에지부로 갈수록 높아질 수 있다.
상기 복수의 제1 광학 패턴 각각은 구형일 수 있다.
여기에서, 상기 복수의 제1 광학 패턴은 베이스 기판의 일면과 평행하고 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 동일한 간격으로 이격되어 배치될 수 있다.
또한, 상기 복수의 제1 광학 패턴은 매트릭스 형태로 배열될 수 있다.
상기 복수의 제1 광학 패턴 각각은 원통형일 수 있다.
여기에서, 상기 복수의 제1 광학 패턴은 베이스 기판의 일면과 평행하고 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 연장될 수 있다.
또한, 상기 표시 장치용 기판은 제2 방향을 따라 동일한 간격으로 이격되고, 제1 방향을 따라 연장되며, 복수의 제1 광학 패턴과 교차하는 복수의 제2 광학 패턴을 더 포함할 수 있다.
상기 다른 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치용 기판의 제조 방법은 투명 기판의 일면 상에 광학 간섭계를 배치하는 단계, 및 광학 간섭계를 투명 기판에 대하여 상대적으로 이동시키며 복수의 제1 광학 패턴을 형성하는 단계를 포함하되, 복수의 제1 광학 패턴은 투명 기판의 일면과 평행한 제1 방향을 따라 동일한 간격으로 이격되어 배치된다.
상기 광학 간섭계는 투명 기판의 내부에 복수의 레이저 광을 중첩되어 형성된 간섭 레이저 광을 조사할 수 있다.
여기에서, 상기 간섭 레이저 광은 제1 방향을 따라 마루와 골이 반복되는 간섭 파동을 형성할 수 있고, 간섭 파동의 파장은 제1 방향으로 배열되고 서로 인접한 복수의 제1 광학 패턴의 이격 거리와 동일할 수 있다.
상기 광학 간섭계의 이동 방향은 제1 방향과 실질적으로 수직일 수 있다.
상기 광학 간섭계는 일정 주기로 온과 오프를 반복할 수 있다.
상기 광학 간섭계는 이동 중에 오프되지 않을 수 있다.
여기에서, 상기 표시 장치용 기판의 제조 방법은 복수의 제1 광학 패턴을 형성하는 단계 후에, 광학 간섭계를 제1 방향을 따라 투명 기판에 대하여 상대적으로 이동시키며 복수의 제2 광학 패턴을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있고, 복수의 제2 광학 패턴은 투명 기판의 일면과 평행하고 제1 방향과 수직하는 제2 방향을 따라 동일한 간격으로 이격되어 배치될 수 있다.
상기 또 다른 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 제1 기판, 제1 기판 상에 위치하는 표시 소자, 및 표시 소자 상에 위치하는 제2 기판을 포함하되, 제1 기판 및 제2 기판 중 적어도 하나는 내부에 복수의 광학 패턴을 포함하고, 복수의 광학 패턴은 제1 기판 또는 제2 기판의 일면과 평행한 제1 방향을 따라 동일한 간격으로 이격되어 배치된다.
기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.
본 발명의 실시예들에 의하면 적어도 다음과 같은 효과가 있다.
즉, 산란 패턴 기능을 수행하는 광학 패턴이 표시 장치용 기판의 내부에 포함됨으로써, 표시 장치용 기판의 평평한 표면의 활용성을 증대시킬 수 있다.
또한, 간단한 공정 및 저비용으로 복수의 광학 패턴을 용이하게 형성할 수 있다.
또한, 광학 간섭계 및 투명 기판만으로 복수의 광학 패턴을 형성함으로써, 다른 재료에 의한 기판 또는 기판 상에 형성될 구조물의 오염 문제 등이 발생할 염려가 없다.
본 발명에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며, 더욱 다양한 효과들이 본 명세서 내에 포함되어 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치용 기판의 사시도이다.
도 2는 도 1의 표시 장치용 기판의 평면도이다.
도 3은 도 2의 Ⅱ-Ⅱ선을 따라 절단한 단면도이다.
도 4 내지 6은 도 1의 표시 장치용 기판의 제조 방법을 설명하기 위한 도면들이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치용 기판의 사시도이다.
도 8은 도 7의 표시 장치용 기판의 평면도이다.
도 9는 도 7의 표시 장치용 기판의 제조 방법을 설명하기 위한 사시도이다.
도 10은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치용 기판의 사시도이다.
도 11은 도 10의 표시 장치용 기판의 평면도이다.
도 12는 도 10의 표시 장치용 기판의 제조 방법을 설명하기 위한 사시도이다.
도 13은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치용 기판의 사시도이다.
도 14는 도 13의 표시 장치용 기판의 평면도이다.
도 15는 도 13의 표시 장치용 기판의 제조 방법을 설명하기 위한 사시도이다.
도 16은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 단면도이다.
도 17은 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치의 단면도이다.
도 18은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치의 단면도이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
소자(elements) 또는 층이 다른 소자 또는 층"위(on)"로 지칭되는 것은 다른 소자 바로 위에 또는 중간에 다른 층 또는 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
비록 제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있음은 물론이다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들에 대하여 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치용 기판(100)의 사시도이다. 도 2는 도 1의 표시 장치용 기판(100)의 평면도이다. 도 3은 도 2의 Ⅱ-Ⅱ선을 따라 절단한 단면도이다.
본 명세서에서 서술하는 표시 장치는 다양한 종류의 표시 장치를 모두 포괄하는 의미일 수 있다. 예시적인 실시예에서, 표시 장치는 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display), 전기 영동 표시 장치(Electrophoretic Display), 유기 발광 표시 장치(Organic Light Emitting Display), FED 표시 장치(Field Emission Display), SED 표시 장치(Surface-conduction Electron-emitter Display), 플라즈마 표시 장치(Plasma Display), 음극선관 표시 장치(Cathode Ray Tube Display) 중 하나일 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니고, 다양한 종류의 표시 장치 중 하나일 수 있다.
표시 장치용 기판(100)은 상술한 표시 장치에 포함되는 기판일 수 있다. 예시적인 실시예에서, 표시 장치용 기판(100)은 표시 장치의 표시 패널에 포함되는 기판일 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니고, 터치 스크린 패널(Touch Screen Panel, TSP) 등에 포함되는 기판일 수도 있다.
표시 장치용 기판(100)은 베이스 기판(110) 및 광학 패턴(130)을 포함할 수 있다.
베이스 기판(110)은 투명한 절연성 기판일 수 있다. 예시적인 실시예에서, 베이스 기판(110)은 유리 기판, 석영 기판, 투명 수지 기판 등으로 이루어질 수 있다. 또한, 베이스 기판(110)은 가요성을 가지는 고내열성 고분자를 포함할 수도 있다. 예시적인 실시예에서, 베이스 기판(110)은 폴리에테르술폰(PES, polyethersulphone), 폴리아크릴레이트(PAR, polyacrylate), 폴리에테르 이미드(PEI, polyetherimide), 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN, polyethyelenen napthalate), 폴리에틸렌 테레프탈레이드(PET, polyethyeleneterepthalate), 폴리페닐렌설파이드(polyphenylene sulfide: PPS), 폴리아릴레이트(polyallylate), 폴리이미드(polyimide: PI), 폴리카보네이트(PC), 셀룰로오스 트리 아세테이트(cellulose triacetate), 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트(cellulose acetate propionate: CAP), 폴리아릴렌에테르 술폰(poly(aryleneether sulfone)) 및 이들의 조합으로 이루어진 그룹에서 선택된 어느 하나를 포함할 수 있다.
베이스 기판(110)의 외관은 직육면체의 플레이트 형상일 수 있다. 구체적으로, 베이스 기판(110)은 상면, 하면, 및 측면을 포함할 수 있다. 상면 및 하면은 서로 대향할 수 있다. 예시적인 실시예에서, 상면 및 하면은 서로 평행할 수 있다. 또한, 상면 및 하면은 완전히 동일한 형상을 가질 수 있다. 또한, 상면 및 하면은 서로 완전히 중첩될 수 있다. 또한, 상면 및 하면 중 적어도 어느 하나는 평평할 수 있다. 도 1에 도시된 예시적인 실시예에서, 상면 및 하면은 모두 평평하나, 이에 한정되는 것은 아니고, 상면 및 하면 중 적어도 하나가 굴곡지거나 특정한 패턴을 포함할 수 있다. 측면은 상면 및 하면을 연결할 수 있다. 측면은 상면 및 하면의 테두리를 연결할 수 있다. 예시적인 실시예에서, 베이스 기판(110)이 직육면체의 플레이트 형상일 경우, 측면은 4개의 면으로 나뉠 수 있다. 즉, 도 1을 참조하면, 측면은 상측, 하측, 좌측, 및 우측에 위치하는 4개의 면을 포함할 수 있다.
베이스 기판(110)은 레이저 광(310, 도 4 참조)에 의하여 개질되지 않은 투명 기판(110a, 도 4 참조)의 일 부분일 수 있다. 즉, 레이저 광(310)에 의하여 투명 기판(100a) 내부에 광학 패턴(130)이 형성될 경우, 베이스 기판(110)은 광학 패턴(130)이 형성되지 않은 투명 기판(100a)의 일 부분일 수 있다. 바꾸어 말하면, 광학 패턴(130)이 형성된 부분을 패턴부라고 할 때, 베이스 기판(110)은 비패턴부일 수 있다. 이에 대한 상세한 설명은 후술하도록 한다.
광학 패턴(130)은 베이스 기판(110)의 내부에 위치할 수 있다. 예시적인 실시예에서, 광학 패턴(130)은 개략적인 구형일 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니고, 표시 장치용 기판(100)의 목적에 따라 다양한 형상을 가질 수 있다. 광학 패턴(130)이 개략적인 구형일 경우, 광학 패턴(130)은 중심점(CP)을 가질 수 있고, 이러한 중심점(CP)은 베이스 기판(110)의 두께의 약 1/2 지점에 위치할 수 있다. 그러나, 이에 한정되는 것은 아니고, 광학 패턴(130)의 중심점(CP)은 베이스 기판(110)의 두께의 1/3 또는 1/4 지점에 위치할 수도 있다.
광학 패턴(130)의 표면은 요철 형상을 포함할 수 있다. 바꾸어 말하면, 광학 패턴(130)과 베이스 기판(110)의 계면은 랜덤하게 배치된 볼록부와 오목부를 포함할 수 있다. 예시적인 실시예에서, 광학 패턴(130)은 레이저 광(310)에 의한 열에 의하여 투명 기판(100a)의 내부가 개질된 부분이기 때문에, 그 표면이 균일하지 않을 수 있다.
이와 같이, 광학 패턴(130)이 표면에 요철 형상을 포함함으로써, 광학 패턴(130)에 조사되는 광을 난반사시킬 수 있다. 바꾸어 말하면, 광학 패턴(130)에 조사되는 광을 산란시킬 수 있다. 즉, 광학 패턴(130)을 포함하는 표시 장치용 기판(100)은 내부에 산란 패턴 기능을 수행하는 광학 패턴(130)을 포함함으로써, 표면에 별도의 산란 패턴을 포함할 필요가 없을 수 있다. 이에 따라, 원하는 구조물을 평평한 표면 상에 형성할 수 있어, 표시 장치용 기판(100)의 활용성이 증대될 수 있다.
광학 패턴(130)의 굴절률은 베이스 기판(110)의 굴절률보다 낮을 수 있다. 예시적인 실시예에서, 광학 패턴(130)의 굴절률은 베이스 기판(110)의 굴절률보다 평균적으로 약 0.02 정도 낮을 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니고, 평균적으로 약 0.01 내지 0.1 정도 낮을 수 있다.
광학 패턴(130)의 굴절률은 광학 패턴(130)의 중심점(CP)에서 에지부로 갈수록 높아질 수 있다. 구체적으로, 광학 패턴(130)의 굴절률은 광학 패턴(130)의 중심점(CP)에서 에지부로 갈수록 베이스 기판(110)의 굴절률에 근접할 수 있다. 여기에서, 광학 패턴(130)의 에지부는 광학 패턴(130)의 표면, 즉, 광학 패턴(130)과 베이스 기판(110)의 계면을 의미하는 것일 수 있다. 예시적인 실시예에서, 광학 패턴(130)의 중심점(CP)에서의 굴절률은 베이스 기판(110)보다 약 0.02 정도 낮을 수 있지만, 광학 패턴(130)의 중심점(CP)에서 광학 패턴(130)의 표면부로 갈수록 굴절률이 점점 작아져, 광학 패턴(130)의 표면부에서의 굴절률은 베이스 기판(110)의 굴절률과 실질적으로 동일할 수 있다. 이 경우, 광학 패턴(130)의 평균 굴절률은 베이스 기판(110)보다 약 0.01 정도 낮을 수 있다. 다른 예시적인 실시예에서, 광학 패턴(130)의 중심점(CP)에서의 굴절률은 베이스 기판(110)보다 약 0.04 정도 낮을 수 있지만, 광학 패턴(130)의 중심점(CP)에서 광학 패턴(130)의 표면부로 갈수록 굴절률이 점점 작아져, 광학 패턴(130)의 표면부에서의 굴절률은 베이스 기판(110)의 굴절률과 실질적으로 동일할 수 있다. 이 경우, 광학 패턴(130)의 평균 굴절률은 베이스 기판(110)보다 약 0.02 정도 낮을 수 있다. 그러나, 이에 한정되는 것은 아니고, 후술하는 레이저 광(310)의 세기 또는 레이저 광(310)의 조사 시간 등을 조절하여 광학 패턴(130)의 굴절률을 조절할 수 있다.
광학 패턴(130)의 투명도는 베이스 기판(110)의 투명도보다 낮을 수 있다. 예시적인 실시예에서, 광학 패턴(130)은 베이스 기판(110)보다 가시 광선 영역의 광의 투과도가 낮을 수 있다. 그러나, 광학 패턴(130)은 광을 완전히 차단하는 패턴은 아니고, 일정 정도의 불투명성을 가지는 패턴일 수 있다.
광학 패턴(130)의 투명도는 광학 패턴(130)의 중심점(CP)에서 에지부로 갈수록 높아질 수 있다. 구체적으로, 광학 패턴(130)의 투명도는 광학 패턴(130)의 중심점(CP)에서 에지부로 갈수록 베이스 기판(110)의 투명도에 근접할 수 있다. 예시적인 실시예에서, 이러한 광학 패턴(130)의 투명도는 후술하는 레이저 광(310)의 세기 또는 레이저 광(310)의 조사 시간 등을 달리함으로써 조절할 수 있다.
이와 같이, 광학 패턴(130)의 굴절률 및/또는 투명도가 광학 패턴(130)과 인접한 베이스 기판(110)의 굴절률 및/또는 투명도보다 낮음으로써, 광학 패턴(130)에 조사되는 광의 진행 방향을 변경시킬 수 있다. 즉, 광학 패턴(130)에 조사되는 광을 산란시킬 수 있다. 상술한 바와 같이, 산란 패턴 기능을 수행하는 광학 패턴(130)이 베이스 기판(110)의 내부에 포함됨으로써, 베이스 기판(110)의 표면을 다른 용도로 이용할 수 있다.
광학 패턴(130)은 복수일 수 있다. 복수의 광학 패턴(130)은 베이스 기판(110)의 일면과 평행한 제1 방향을 따라 동일한 간격으로 이격되어 배치될 수 있다. 즉, 제1 방향으로 배열되고 서로 인접한 복수의 광학 패턴(130)의 이격 거리(dx)는 모두 동일할 수 있다. 예시적인 실시예에서, 제1 방향은 베이스 기판(110)의 단변과 평행한 방향일 수 있다. 도 1에 도시된 예시적인 실시예에서, 제1 방향은 x 방향일 수 있다.
복수의 광학 패턴(130)은 베이스 기판(110)의 일면과 평행하고, 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 동일한 간격으로 배치될 수 있다. 즉, 제2 방향으로 배열되고 서로 인접한 복수의 광학 패턴(130)의 이격 거리(dy)는 모두 동일할 수 있다. 예시적인 실시예에서, 제2 방향은 베이스 기판(110)의 장변과 평행한 방향일 수 있다. 도 1에 도시된 예시적인 실시예에서, 제2 방향은 y 방향일 수 있다. 또한, 제1 방향과 제2 방향은 서로 수직할 수 있다.
복수의 광학 패턴(130)은 매트릭스 형태로 배열될 수 있다. 도 1 및 도 2에 도시된 예시적인 실시예에서, 복수의 광학 패턴(130)은 6 x 4의 매트릭스 형태로 배열될 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니고, n x m의 매트릭스 형태(n 및 m은 2 이상의 정수)로 배열될 수 있다.
복수의 광학 패턴(130)은 모두 동일한 평면 상에 배치될 수 있다. 도 3의 예시적인 실시예에서, 복수의 광학 패턴(130)의 중심점(CP)는 모두 동일한 평면(점선 부분) 상에 배치될 수 있다. 예시적인 실시예에서, 복수의 광학 패턴(130)의 중심점(CP)은 베이스 기판(110)의 하면을 기준으로 모두 동일한 높이에 형성될 수 있다.
이와 같이, 표시 장치용 기판(100)이 복수의 광학 패턴(130)을 포함함으로써, 상술한 광 산란 기능을 더욱 증대시킬 수 있다. 즉, 베이스 기판(110) 내부에 포함되는 복수의 광학 패턴(130)만으로 충분한 광 산란 효과를 얻을 수 있기 때문에, 베이스 기판(110)의 표면 상에 별도의 산란 패턴을 형성할 필요가 없어질 수 있다. 이에 따라, 표시 장치용 기판(100)의 활용도가 증대될 수 있다.
도 4 내지 6은 도 1의 표시 장치용 기판(100)의 제조 방법을 설명하기 위한 도면들이다. 설명의 편의 상, 도 1 내지 도 3에 도시된 도면에 나타낸 각 엘리먼트와 실질적으로 동일한 엘리먼트는 동일 부호로 나타내고, 중복 설명을 생략한다.
먼저, 도 4를 참조하면, 표시 장치용 기판(100)의 제조 방법은 투명 기판(100a)의 일면 상에 광학 간섭계(300)를 배치하는 단계, 및 광학 간섭계(300)를 투명 기판(100a)에 대하여 상대적으로 이동시키며 복수의 광학 패턴(130)을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
여기에서, 투명 기판(100a)은 투명한 절연성 기판일 수 있다. 예시적인 실시예에서, 투명 기판(100a)은 유리 기판, 석영 기판, 투명 수지 기판 등으로 이루어질 수 있다. 또한, 베이스 기판(110)은 가요성을 가지는 고내열성 고분자를 포함할 수도 있다. 또한, 투명 기판(100a)은 베이스 기판(110)과 동일한 물질로 이루어질 수 있다. 또한, 투명 기판(100a)은 직육면체의 플레이트 형상일 수 있다.
또한, 광학 간섭계(300)는 복수의 레이저 광(310)에 의한 간섭 현상을 이용하는 광 방출 기기일 수 있다. 예시적인 실시예에서, 광학 간섭계(300)는 두 개의 레이저 광(310)을 방출하여 이들의 간섭 현상을 이용할 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니고, 세 개 이상의 레이저 광(310)을 방출하여 이들의 간섭 현상을 이용할 수도 있다. 또한, 광학 간섭계(300)는 광 경로에 의한 위상차 에너지를 이용하는 방식과 슬릿(Slit) 회절 광학계를 이용하는 방식 등이 이용될 수 있지만, 이러한 방식들에 한정되는 것은 아니다.
또한, 광학 간섭계(300)를 투명 기판(100a)에 대하여 상대적으로 이동시키는 것은 광학 간섭계(300)가 투명 기판(100a)의 일면을 모두 스캔할 수 있도록 광학 간섭계(300) 또는 투명 기판(100a)을 이동시키는 것을 의미할 수 있다. 예시적인 실시예에서, 광학 간섭계(300)를 투명 기판(100a)에 대하여 상대적으로 이동시키는 것은 투명 기판(100a)을 고정하고, 광학 간섭계(300)를 제2 방향으로 이동하는 것일 수 있다. 다른 예시적인 실시예에서, 광학 간섭계(300)를 투명 기판(100a)에 대하여 상대적으로 이동시키는 것은 광학 간섭계(300)를 고정하고, 투명 기판(100a)을 제2 방향으로 이동하는 것일 수 있다. 그러나, 이에 한정되는 것은 아니며, 광학 간섭계(300) 및 투명 기판(100a)이 모두 이동할 수도 있다.
광학 간섭계(300)는 복수의 레이저 광(310)이 중첩되어 형성된 간섭 레이저 광을 투명 기판(100a)에 조사할 수 있다. 예시적인 실시예에서, 복수의 레이저 광(310) 및 이들이 중첩되어 형성된 간섭 레이저 광은 펄스(Pulsed) 레이저 광일 수 있다. 또한, 복수의 레이저 광(310) 및 이들이 중첩되어 형성된 간섭 레이저 광은 나노초 레이저 광일 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니고, 펨토초 또는 피코초 레이저 광일 수 있다. 이러한 복수의 레이저 광(310) 및 이들이 중첩되어 형성된 간섭 레이저 광은 투명 기판(100a)의 표면에는 영향을 주지 않고 투명 기판(100a)의 내부만 선택적으로 개질할 수 있다. 또한, 복수의 레이저 광(310) 및 이들이 중첩되어 형성된 간섭 레이저 광은 라인 형태의 광일 수 있다. 즉, 복수의 레이저 광(310) 및 이들이 중첩되어 형성된 간섭 레이저 광이 투명 기판(100a)의 일면에 조사되는 영역은 면이 아닌 라인일 수 있다. 예시적인 실시예에서, 복수의 레이저 광(310) 및 이들이 중첩되어 형성된 간섭 레이저 광이 투명 기판(100a)의 일면에 조사되는 라인은 제1 방향과 평행할 수 있다.
광학 간섭계(300)를 이용한 복수의 광학 패턴(130)의 형성 공정을 더욱 상세히 설명하기 위하여 도 5를 참조한다. 도 5를 참조하면, 복수의 레이저 광(310)은 제1 레이저 광(310a) 및 제2 레이저 광(310b)을 포함할 수 있다. 제1 레이저 광(310a) 및 제2 레이저 광(310b)은 서로 대향하는 광학 간섭계(300)의 제1 부분 및 제2 부분에서 각각 투명 기판(100a) 방향으로 조사될 수 있다. 이때, 제1 레이저 광(310a)의 입사각(θ)와 제2 레이저 광(310b)의 입사각(θ)는 서로 동일함이 바람직하다.
이러한 제1 레이저 광(310a) 및 제2 레이저 광(310b)은 투명 기판(100a)과 인접한 부분에서 서로 중첩하여 간섭 레이저 광으로 변환될 수 있다. 구체적으로, 제1 레이저 광(310a) 및 제2 레이저 광(310b)이 중첩되는 부분에서, 제1 레이저 광(310a)의 파동의 마루와 제2 레이저 광(310b)의 파동의 마루가 만나서 진폭이 더 커지는 보강 간섭이 발생할 수 있다. 또한, 제1 레이저 광(310a) 및 제2 레이저 광(310b)이 중첩되는 부분에서, 제1 레이저 광(310a)의 파동의 골과 제2 레이저 광(310b)의 파동의 골이 만나서 진폭이 거의 없어지는 상쇄 간섭이 발생할 수 있다. 이러한 보강 간섭 및 상쇄 간섭에 의하여 간섭 레이저 광은 제1 레이저 광(310a) 및 제2 레이저 광(310b)의 파동과 상이한 새로운 파동을 포함할 수 있는데, 이를 간섭 파동(330)이라고 할 수 있다.
간섭 파동(330)은 제1 방향을 따라 마루와 골이 반복될 수 있다. 이러한 간섭 파동(330)의 파장(P)은 하기의 수학식에 따른다.
[수학식]
P= λ/2sinθ
상기 수학식에서 λ는 제1 레이저 광(310a) 및 제2 레이저 광(310b)의 파장을 나타내며, θ는 제1 레이저 광(310a) 및 제2 레이저 광(310b)의 입사각을 나타낸다.
여기에서, 간섭 파동(330)의 파장(P)은 제1 방향으로 배열되고 서로 인접한 복수의 광학 패턴(130)의 이격 거리(dx)와 동일할 수 있다. 즉, 복수의 광학 패턴(130)은 간섭 파동(330)의 마루에 대응되도록 형성될 수 있다. 즉, 제1 레이저 광(310a) 및 제2 레이저 광(310b)의 파장(λ) 및/또는 제1 레이저 광(310a) 및 제2 레이저 광(310b)의 입사각(θ)을 조절함으로써, 제1 방향으로의 서로 인접한 복수의 광학 패턴(130)의 이격 거리(dx)를 조절할 수 있다.
또한, 간섭 레이저 광은 투명 기판(100a)의 두께의 1/2 지점에 포커싱될 수 있다. 간섭 레이저 광이 포커싱된 부분에 광학 패턴(130)의 중심점(CP)이 형성될 수 있다.
이와 같이, 광학 간섭계(300)를 이용하여 투명 기판(100a)을 베이스 기판(110) 및 복수의 광학 패턴(130)으로 구분시킬 수 있다.
이하, 광학 간섭계(300)의 구동 및 이동에 관하여 더욱 상세히 설명하기 위하여 도 6을 참조한다. 도 6을 참조하면, 제2 방향으로 이동하는 광학 간섭계(300)는 일정 주기로 온과 오프(Off)를 반복할 수 있다. 예시적인 실시예에서, 광학 간섭계(300)는 온 상태에서 레이저 광(310)을 투명 기판(100a)에 스팟 조사한 후, 일정 거리 이동할 동안에는 오프 상태일 있다. 그 후, 다시 온 상태로 변환한 후에 레이저 광(310)을 투명 기판(100a)에 스팟 조사하고, 또 다시 일정 거리 이동할 동안에는 오프 상태로 변환할 수 있다. 여기에서, 오프 상태에서 이동한 일정 거리는 제2 방향으로 배열되고 서로 인접한 복수의 광학 패턴(130)의 이격 거리(dy)와 동일할 수 있다. 즉, 광학 간섭계(300)의 오프 상태에서 이동한 거리를 조절함으로써, 제2 방향으로의 복수의 광학 패턴(130)의 이격 거리(dy)를 조절할 수 있다.
이와 같이, 광학 간섭계(300)를 통한 레이저 광(310)의 스팟 조사를 통하여, 복수의 광학 패턴(130) 각각의 형상을 구형으로 만들 수 있다.
이와 같은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치용 기판(100)의 제조 방법에 따르면, 광학 간섭계(300)를 한 번만 스캔함으로써, 베이스 기판(110) 내부에 매트릭스 형태로 배열된 복수의 광학 패턴(130)을 용이하게 형성할 수 있다. 즉, 간단한 공정 및 저비용으로 복수의 광학 패턴(130)을 용이하게 형성할 수 있다. 또한, 광학 간섭계(300) 및 투명 기판(100a)만으로 복수의 광학 패턴(130)을 형성함으로써, 다른 재료에 의한 기판 또는 기판 상에 형성될 구조물의 오염 문제 등이 발생할 염려가 없다.
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치용 기판(100) 및 이의 제조 방법에 따르면, 적어도 하나의 광학 패턴(130)을 베이스 기판(110) 내부에 형성하였지만, 이에 한정되는 것은 아니고, 베이스 기판(110)의 표면에 형성할 수도 있다. 즉, 광학 간섭계(300)의 레이저 광(310)이 포커싱되는 지점을 조정하여 기판의 표면 개질을 할 수도 있다. 예시적인 실시예에서, 이와 같이 광학 간섭계(300)를 통한 기판의 표면 개질을 한다면, 기판 상에 무반사(Antireflection, AR) 코팅을 하는 대신 기판 자체에 무반사 기능을 넣을 수 있다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치용 기판(101)의 사시도이다. 도 8은 도 7의 표시 장치용 기판(101)의 평면도이다. 설명의 편의 상, 상술한 도면에 나타낸 각 엘리먼트와 실질적으로 동일한 엘리먼트는 동일 부호로 나타내고, 중복 설명을 생략한다.
도 7 및 도 8을 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치용 기판(101)의 복수의 광학 패턴(131)은 원통형일 수 있다. 바꾸어 말하면, 복수의 광학 패턴(131)은 선형일 수 있다. 예시적인 실시예에서, 복수의 광학 패턴(131)은 제2 방향을 따라 연장될 수 있다. 즉, 복수의 광학 패턴(131)은 제2 방향을 따라 연속적으로 형성될 수 있다. 이러한 복수의 광학 패턴(131)은 중심선을 가지고, 서로 인접한 복수의 광학 패턴(131)의 중심선의 이격 거리(dx)는 일정할 수 있다.
베이스 기판(111)은 이러한 선형 광학 패턴(131)을 둘러싸되, 양 측면에 광학 패턴(131)의 단부를 노출시킬 수 있다. 그러나, 이에 한정되는 것은 아니고, 베이스 기판(111)은 광학 패턴(131)의 일부를 노출시키지 않고 완전히 둘러쌀 수도 있다.
도 9는 도 7의 표시 장치용 기판(101)의 제조 방법을 설명하기 위한 사시도이다. 설명의 편의 상, 상술한 도면에 나타낸 각 엘리먼트와 실질적으로 동일한 엘리먼트는 동일 부호로 나타내고, 중복 설명을 생략한다.
도 9를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에서와 달리, 광학 간섭계(300)는 이동 중에 오프되지 않을 수 있다. 바꾸어 말하면, 광학 간섭계(300)는 이동 중에 항상 온 상태일 수 있다. 이와 같이, 광학 간섭계(300)가 이동 중에 항상 온 상태라면, 광학 간섭계(300)의 이동 방향을 따라 선형의 광학 패턴(131)이 형성될 수 있다.
도 10은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치용 기판(102)의 사시도이다. 도 11은 도 10의 표시 장치용 기판(102)의 평면도이다. 설명의 편의 상, 상술한 도면에 나타낸 각 엘리먼트와 실질적으로 동일한 엘리먼트는 동일 부호로 나타내고, 중복 설명을 생략한다.
도 10 및 도 11을 참조하면, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치용 기판(102)은 베이스 기판(112) 및 베이스 기판(112)의 내부에 위치하는 광학 패턴(132)을 포함하고, 광학 패턴(132)은 제1 광학 패턴(132a) 및 제2 광학 패턴(132b)을 포함할 수 있다.
제1 광학 패턴(132a)은 도 7 내지 도 9에 도시된 광학 패턴(131)과 실질적으로 동일할 수 있다.
제2 광학 패턴(132b)은 제2 방향을 따라 동일한 간격으로 이격되고, 제1 방향을 따라 연장될 수 있다. 또한, 제2 광학 패턴(132b)은 제1 광학 패턴(132a)과 교차할 수 있다. 예시적인 실시예에서, 제1 광학 패턴(132a)과 제2 광학 패턴(132b)은 동일한 평면 상에 형성될 수 있다.
제1 광학 패턴(132a)과 제2 광학 패턴(132b)이 교차하는 부분(A)의 굴절률은 제1 광학 패턴(132a)과 제2 광학 패턴(132b)이 교차하지 않는 부분 중 제1 광학 패턴(132a) 또는 제2 광학 패턴(132b)이 위치하는 부분의 굴절률보다 낮을 수 있다. 또한, 제1 광학 패턴(132a)과 제2 광학 패턴(132b)이 교차하는 부분(A)의 투명도는 제1 광학 패턴(132a)과 제2 광학 패턴(132b)이 교차하지 않는 부분 중 제1 광학 패턴(132a) 또는 제2 광학 패턴(132b)이 위치하는 부분의 투명도보다 낮을 수 있다.
베이스 기판(112)의 네 측면은 제1 광학 패턴(132a) 및 제2 광학 패턴(132b)의 단부를 모두 노출할 수 있다. 그러나, 이에 한정되는 것은 아니고, 제1 광학 패턴(132a) 및 제2 광학 패턴(132b)의 단부를 모두 커버할 수도 있다.
도 12는 도 10의 표시 장치용 기판(102)의 제조 방법을 설명하기 위한 사시도이다. 설명의 편의 상, 상술한 도면에 나타낸 각 엘리먼트와 실질적으로 동일한 엘리먼트는 동일 부호로 나타내고, 중복 설명을 생략한다.
도 12를 참조하면, 도 9의 공정을 통하여 제1 광학 패턴(132a)을 형성한 후, 광학 간섭계(300)를 제1 방향으로 이동하며 제2 광학 패턴(132b)을 형성할 수 있다. 이때, 제2 광학 패턴(132b)이 제1 광학 패턴(132a)과 교차할 수 있도록, 광학 간섭계(300)의 간섭 레이저 광의 포커싱 지점을 조절할 수 있다. 이와 같이, 제1 광학 패턴(132a)과 제2 광학 패턴(132b)이 교차하는 부분에서는 레이저 광(310)에 의한 개질이 두 번 이루어지게 되므로, 그에 따른 특성 변화가 다른 부분에 비하여 클 수 있다.
도 13은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치용 기판(103)의 사시도이다. 도 14는 도 13의 표시 장치용 기판(103)의 평면도이다. 설명의 편의 상, 상술한 도면에 나타낸 각 엘리먼트와 실질적으로 동일한 엘리먼트는 동일 부호로 나타내고, 중복 설명을 생략한다.
도 13 및 도 14를 참조하면, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치용 기판(103)은 베이스 기판(113) 및 이에 포함되는 복수의 광학 패턴(133)을 포함하되, 복수의 광학 패턴(133) 각각은 곡선 형상을 가질 수 있다. 예시적인 실시예에서, 복수의 광학 패턴(133) 각각은 물결 형상을 가질 수 있다. 바꾸어 말하면, 복수의 광학 패턴(133) 각각은 지그재그 형상을 가질 수 있다.
도 15는 도 13의 표시 장치용 기판(103)의 제조 방법을 설명하기 위한 사시도이다. 설명의 편의 상, 상술한 도면에 나타낸 각 엘리먼트와 실질적으로 동일한 엘리먼트는 동일 부호로 나타내고, 중복 설명을 생략한다.
도 15를 참조하면, 물결 형상의 복수의 광학 패턴(133)을 형성하기 위하여, 광학 간섭계(300)의 이동 경로를 조절할 수 있다. 즉, 광학 간섭계(300)는 제2 방향으로 이동하되, 제1 방향 및 제1 방향의 반대 방향으로의 진동을 가질 수 있다. 즉, 광학 간섭계(300)의 이동 경로는 광학 패턴(133)의 형상에 대응될 수 있다. 이와 같이, 복수의 광학 패턴(133)의 형상은 광학 간섭계(300)의 이동 경로 및 구동 방식에 따라 달라질 수 있다.
이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치를 설명하기 위하여 도 16을 참조한다. 도 16은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 단면도이다.
본 명세서에서는 여러 표시 장치 중 유기 발광 표시 장치를 일 예로 하여 설명하지만, 이에 한정되는 것은 아니고, 다른 표시 장치, 예컨대, 액정 표시 장치 및 전기 영동 표시 장치 등에도 본 발명의 사상을 적용할 수 있음은 물론이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치(500)는 제1 기판(510), 버퍼층(515), 반도체 패턴(520), 게이트 절연막(525), 게이트 전극(530), 층간 절연막(535), 소스 전극(540), 드레인 전극(545), 중간막(550), 평탄화막(555), 제1 전극(560), 화소 정의막(565), 유기 발광층(570), 제2 전극(575), 보호막(580), 제2 기판(585)을 포함할 수 있다.
제1 기판(510)은 상술한 본 발명의 실시예들에 따른 표시 장치용 기판(100, 101, 102, 103) 중 어느 하나와 실질적으로 동일할 수 있다. 즉, 제1 기판(510)은 내부에 광학 패턴(OP)을 포함할 수 있고, 광학 패턴(OP)은 상술한 본 발명의 실시예들에 따른 광학 패턴(130, 131, 132, 133) 중 어느 하나일 수 있다.
버퍼층(515)은 제1 기판(510) 상에 형성될 수 있다. 버퍼층(515)은 제1 기판(510)으로부터 금속 원자들, 불순물들 등이 확산되는 현상을 방지하는 기능을 수행할 수 있다. 버퍼층(515)은 실리콘 화합물로 이루어질 수 있다.
반도체 패턴(520)은 버퍼층(515) 상에 형성될 수 있다. 반도체 패턴(520)은 비정질 실리콘, 미결정 실리콘, 다결정 실리콘, 산화물 반도체, 및 이들의 조합 중 어느 하나로 이루어질 수 있다.
게이트 절연막(525)은 버퍼층(515) 상에 반도체 패턴(520)을 커버하도록 형성될 수 있다. 게이트 절연막(525)은 실리콘 산화물, 금속 산화물 등으로 이루어질 수 있다.
게이트 전극(530)은 게이트 절연막(525) 상에 형성될 수 있다. 게이트 전극(530)은 게이트 절연막(525) 중에서 아래에 반도체층이 위치하는 부분 상에 형성될 수 있다. 게이트 전극(530)은 금속, 합금, 금속 질화물, 도전성 금속 산화물, 투명 도전성 물질 등을 포함할 수 있다.
층간 절연막(535)은 게이트 절연막(525) 상에 게이트 전극(530)을 덮도록 형성될 수 있다. 층간 절연막(535)은 게이트 전극(530)의 프로파일을 따라 게이트 절연막(525) 상에 실질적으로 균일한 두께로 형성될 수 있다. 층간 절연막(535)은 실리콘 화합물로 이루어질 수 있다.
소스 전극(540)과 드레인 전극(545)은 층간 절연막(535) 상에 형성될 수 있다. 소스 전극(540) 및 드레인 전극(545)은 게이트 전극(530)을 중심으로 소정의 간격으로 이격되며, 게이트 전극(530)에 인접하여 배치될 수 있다. 소스 전극(540) 및 드레인 전극(545)은 층간 절연막(535) 및 게이트 절연막(525)을 관통하여 소스 영역 및 드레인 영역에 각기 접촉될 수 있다. 소스 전극(540) 및 드레인 전극(545)은 각기 금속, 합금, 금속 질화물, 도전성 금속 산화물, 투명 도전성 물질 등을 포함할 수 있다.
중간막(550)은 소스 전극(540)과 드레인 전극(545)을 모두 커버하도록 형성될 수 있다. 중간막(550)은 소스 및 드레인 전극(545)을 커버하도록 충분한 두께로 형성될 수 있다. 중간막(550)은 실리콘 산화물, 실리콘 질화물, 또는 이들의 조합으로 이루어질 수 있다.
평탄화막(555)은 중간막(550) 상에 형성될 수 있다. 평탄화막(555)은 중간막(550)을 완전하게 덮을 수 있는 충분한 두께를 가질 수 있다. 평탄화막(555)은 유기 물질 또는 무기 물질 등을 사용하여 형성될 수 있다.
제1 전극(560)은 평탄화막(555)에 형성된 드레인 전극(545)의 일부를 노출시키는 홀을 채워 드레인 전극(545)과 접속되고, 평탄화막(555)의 표면 상으로 연장되어 형성될 수 있다. 제1 전극(560)은 전도성 물질을 포함할 수 있다.
화소 정의막(565)은 평탄화막(555)과 제1 전극(560) 상에 형성될 수 있다. 화소 정의막(565)은 제1 전극(560)을 노출시키는 적어도 하나의 개방 영역을 포함할 수 있다. 화소 정의막(565)은 유기 물질, 무기 물질 등을 사용하여 형성될 수 있다. 예를 들면, 화소 정의막(565)은 포토레지스트, 폴리아크릴계 수지, 폴리이미드계 수지, 아크릴계 수지 등의 유기 물질이나 실리콘 화합물과 같은 무기 물질을 포함할 수 있다.
유기 발광층(570)은 화소 정의막(565)에 의하여 정의된 개방 영역 상에 위치할 수 있다. 또한, 유기 발광층(570)은 상술한 제1 전극(560) 및 후술하는 제2 전극(575) 사이에 개재될 수 있다. 유기 발광층(570)은 발광층(EL), 정공 주입층(HIL), 정공 수송층(HTL), 전자 수송층(ETL), 전자 주입층(EIL) 등을 포함하는 다층 구조를 가질 수 있다. 이러한 유기 발광층(570)에 전계가 인가되면, 유기 발광층(570)은 특정한 색의 광을 방출할 수 있다.
제2 전극(575)은 유기 발광층(570)과 화소 정의막(565) 상에 균일한 두께로 형성될 수 있다. 제2 전극(575)은 제1 전극(560)과 상이한 전도성 물질로 이루어질 수 있다. 이와 같은 제1 전극(560), 유기 발광층(570), 및 제2 전극(575)은 기본적인 유기 발광 표시 소자를 이룰 수 있다.
보호막(580)은 제2 전극(575) 상에 형성될 수 있다. 보호막(580)은 제2 전극(575) 및 제2 전극(575) 하부의 구조물들을 외부 환경으로부터 보호하는 기능을 수행할 수 있다. 보호막(580)을 실리콘 화합물 등으로 이루어질 수 있다.
제2 기판(585)은 보호막(580) 상에 형성될 수 있다. 제2 기판(585)은 보호막(580)과 접촉할 수 있지만, 도면에 도시된 바와 같이, 일정 거리 이격되어 위치할 수 있다. 제2 기판(585)도 보호막(580)과 같이 외부의 환경으로부터 유기 발광 표시 소자 등을 보호하는 역할을 수행할 수 있다.
이와 같은 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치(500)는 배면 발광형 유기 발광 표시 장치일 수 있다. 즉, 유기 발광층(570)에서 방출된 광은 제1 기판(510)을 통하여 외부로 방출될 수 있다. 이때, 제1 기판(510)의 내부에 형성된 복수의 광학 패턴(OP)에 의하여 광이 산란될 수 있으므로, 유기 발광 표시 장치(500)의 측면 시야각이 향상될 수 있다.
도 17은 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치(501)의 단면도이다. 설명의 편의 상, 상술한 도면에 나타낸 각 엘리먼트와 실질적으로 동일한 엘리먼트는 동일 부호로 나타내고, 중복 설명을 생략한다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치(501)의 제1 기판(511)은 내부에 복수의 광학 패턴(OP)을 포함하지 않을 수 있다. 대신에, 제2 기판(586)이 내부에 복수의 광학 패턴(OP)을 포함할 수 있다.
이와 같은 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치(501)는 전면 발광형 유기 발광 표시 장치일 수 있다. 즉, 유기 발광층(570)에서 방출된 광은 제2 기판(586)을 통하여 외부로 방출될 수 있다. 이때, 제2 기판(586)의 내부에 형성된 복수의 광학 패턴(OP)에 의하여 광이 산란될 수 있으므로, 유기 발광 표시 장치(501)의 측면 시야각이 향상될 수 있다.
도 18은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치(502)의 단면도이다. 설명의 편의 상, 상술한 도면에 나타낸 각 엘리먼트와 실질적으로 동일한 엘리먼트는 동일 부호로 나타내고, 중복 설명을 생략한다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치(502)의 제1 기판(510) 및 제2 기판(586)은 모두 내부에 복수의 광학 패턴(OP)을 포함할 수 있다.
이와 같은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치(502)는 양면 발광형 유기 발광 표시 장치일 수 있다. 즉, 유기 발광층(570)에서 방출된 광은 제1 기판(510) 및 제2 기판(586) 모두를 통하여 외부로 방출될 수 있다. 이때, 제1 기판(510) 및 제2 기판(586)의 내부에 형성된 복수의 광학 패턴(OP)에 의하여 광이 산란될 수 있으므로, 유기 발광 표시 장치(502)의 측면 시야각이 향상될 수 있다.
이상에서 본 발명의 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 본 발명의 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
100, 101, 102, 103: 표시 장치용 기판
100a: 투명 기판
110, 111, 112, 113: 베이스 기판
130, 131, 132, 133: 광학 패턴
132a: 제1 광학 패턴 132b: 제2 광학 패턴
300: 광학 간섭계 310: 레이저 광
310a: 제1 레이저 광 310b: 제2 레이저 광
330: 간섭 파동 500, 501, 502: 유기 발광 표시 장치
510, 511: 제1 기판 515: 버퍼층
520: 반도체 패턴 525: 게이트 절연막
530: 게이트 전극 535: 층간 절연막
540: 소스 전극 545: 드레인 전극
550: 중간막 555: 평탄화막
560: 제1 전극 565: 화소 정의막
570: 유기 발광층 575: 제2 전극
580: 보호막 585, 586: 제2 기판

Claims (20)

  1. 베이스 기판; 및
    상기 베이스 기판 내부에 위치하는 복수의 제1 광학 패턴을 포함하되,
    상기 복수의 제1 광학 패턴은 상기 베이스 기판의 일면과 평행한 제1 방향을 따라 동일한 간격으로 이격되어 배치되고,
    상기 복수의 제1 광학 패턴 각각은 원통형이고,
    상기 복수의 제1 광학 패턴은 상기 베이스 기판의 일면과 평행하고 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 연장되고,
    상기 제2 방향을 따라 동일한 간격으로 이격되고, 상기 제1 방향을 따라 연장되며, 상기 복수의 제1 광학 패턴과 교차하는 복수의 제2 광학 패턴을 더 포함하는 표시 장치용 기판.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 복수의 제1 광학 패턴 각각과 상기 베이스 기판의 계면은 요철 형상을 포함하는 표시 장치용 기판.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 복수의 제1 광학 패턴의 굴절률은 상기 베이스 기판의 굴절률보다 낮은 표시 장치용 기판.
  4. 제 3항에 있어서,
    상기 복수의 제1 광학 패턴 각각의 굴절률은 상기 복수의 제1 광학 패턴 각각의 중심부에서 에지부로 갈수록 높아지는 표시 장치용 기판.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 복수의 제1 광학 패턴의 투명도는 상기 베이스 기판의 투명도보다 낮은 표시 장치용 기판.
  6. 제 5항에 있어서,
    상기 복수의 제1 광학 패턴의 투명도는 상기 복수의 제1 광학 패턴 각각의 중심부에서 에지부로 갈수록 높아지는 표시 장치용 기판.
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. 삭제
  11. 삭제
  12. 삭제
  13. 투명 기판의 일면 상에 광학 간섭계를 배치하는 단계; 및
    상기 광학 간섭계를 상기 투명 기판에 대하여 상대적으로 이동시키며 복수의 제1 광학 패턴을 형성하는 단계를 포함하되,
    상기 복수의 제1 광학 패턴은 상기 투명 기판의 일면과 평행한 제1 방향을 따라 동일한 간격으로 이격되어 배치되고,
    상기 광학 간섭계는 상기 투명 기판의 내부에 복수의 레이저 광을 중첩되어 형성된 간섭 레이저 광을 조사하는 표시 장치용 기판의 제조 방법.
  14. 삭제
  15. 제 13항에 있어서,
    상기 간섭 레이저 광은 상기 제1 방향을 따라 마루와 골이 반복되는 간섭 파동을 형성하고,
    상기 간섭 파동의 파장은 상기 제1 방향으로 배열되고 서로 인접한 상기 복수의 제1 광학 패턴의 이격 거리와 동일한 표시 장치용 기판의 제조 방법.
  16. 제 13항에 있어서,
    상기 광학 간섭계의 이동 방향은 상기 제1 방향과 실질적으로 수직인 표시 장치용 기판의 제조 방법.
  17. 제 13항에 있어서,
    상기 광학 간섭계는 일정 주기로 온과 오프를 반복하는 표시 장치용 기판의 제조 방법.
  18. 제 13항에 있어서,
    상기 광학 간섭계는 이동 중에 오프되지 않는 표시 장치용 기판의 제조 방법.
  19. 투명 기판의 일면 상에 광학 간섭계를 배치하는 단계; 및
    상기 광학 간섭계를 상기 투명 기판에 대하여 상대적으로 이동시키며 복수의 제1 광학 패턴을 형성하는 단계를 포함하되,
    상기 복수의 제1 광학 패턴은 상기 투명 기판의 일면과 평행한 제1 방향을 따라 동일한 간격으로 이격되어 배치되고,
    상기 광학 간섭계는 이동 중에 오프되지 않고, 상기 복수의 제1 광학 패턴을 형성하는 단계 후에,
    상기 광학 간섭계를 상기 제1 방향을 따라 상기 투명 기판에 대하여 상대적으로 이동시키며 복수의 제2 광학 패턴을 형성하는 단계를 더 포함하되,
    상기 복수의 제2 광학 패턴은 상기 투명 기판의 일면과 평행하고 상기 제1 방향과 수직하는 제2 방향을 따라 동일한 간격으로 이격되어 배치되는 표시 장치용 기판의 제조 방법.
  20. 제1 기판;
    상기 제1 기판 상에 위치하는 표시 소자; 및
    상기 표시 소자 상에 위치하는 제2 기판을 포함하되,
    상기 제1 기판 및 상기 제2 기판 중 적어도 하나는 내부에 복수의 제1 광학 패턴 및 복수의 제2 광학 패턴을 포함하고,
    상기 복수의 제1 광학 패턴은 상기 제1 기판 또는 상기 제2 기판의 일면과 평행한 제1 방향을 따라 동일한 간격으로 이격되어 배치되고,
    상기 복수의 제1 광학 패턴 각각은 원통형이고,
    상기 복수의 제1 광학 패턴은 상기 제1 기판 또는 상기 제2 기판의 일면과 평행하고 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 연장되고,
    상기 복수의 제2 광학 패턴은, 상기 제2 방향을 따라 동일한 간격으로 이격되고 상기 제1 방향을 따라 연장되며 상기 복수의 제1 광학 패턴과 교차하는 표시 장치.
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