KR102126847B1 - Epoxy resin composition - Google Patents

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Abstract

본 발명은 우수한 방열성 및 분산성을 갖는 에폭시 수지 조성물 및 이를 이용하여 봉지된 반도체 소자에 관한 것이다.The present invention relates to an epoxy resin composition having excellent heat dissipation and dispersibility and a semiconductor device sealed using the same.

Description

에폭시 수지 조성물{Epoxy resin composition}Epoxy resin composition

본 발명은 에폭시 수지 조성물 및 이를 이용하여 봉지된 반도체 소자에 관한 것이다.The present invention relates to an epoxy resin composition and a semiconductor device sealed using the same.

반도체 봉지재는 반도체 소자를 밀봉시켜 반도체 회로를 외부의 충격 및 오염물질로부터 보호하는 역할을 하는 재료로서, 반도체의 생산성 및 신뢰성에 중대한 영향을 미치는 바, 반도체 제조공정에 있어 큰 비중을 차지하고 있다.The semiconductor encapsulant is a material that serves to protect the semiconductor circuit from external shocks and contaminants by sealing the semiconductor device, and has a significant influence on the productivity and reliability of the semiconductor, and occupies a large portion in the semiconductor manufacturing process.

최근 전자기기의 소형화 및 고기능화가 진행되는 중에 그 내부에 탑재되는 반도체 패키지에 있어서도 고기능화가 진행되고 있고, 반도체 패키지 내부의 반도체 소자의 처리 속도는 보다 고속화되고 있다. 그러나 처리 속도의 고속화에 따라 반도체 소자 표면에서의 발열 문제가 심화되고, 열의 효율적인 분산과 발산이 이루어지지 않을 경우 부품의 열화, 오작동, 제품수명이 단축하는 문제가 있다. 따라서, 최근 전자기기, 특히, 휴대용기기, LED, 자동차 등의 전력소자(power device)를 중심으로 고방열 소재에 대한 수요가 급격하게 증가하고 있다.In recent years, while miniaturization and high-functionality of electronic devices are progressing, high-functionalization is also progressing in the semiconductor package mounted therein, and the processing speed of the semiconductor elements inside the semiconductor package is becoming higher. However, as the speed of processing increases, the heat generation problem on the surface of the semiconductor device is intensified, and if efficient heat dissipation and dissipation are not achieved, there is a problem of deterioration of components, malfunction, and shortened product life. Accordingly, in recent years, demand for high heat dissipation materials has rapidly increased, mainly in power devices such as electronic devices, particularly portable devices, LEDs, and automobiles.

에폭시 수지는 접착성, 전기 절연성이 우수할 뿐만 아니라 기계적 물성 또한 뛰어나 회로 기판 재료 및 전자 부품용 봉지재로 활용되어 왔다. 그러나 에폭시 수지 자체의 열전도율은 약 0.2 내지 0.3 W/m·K에 불과하여 단독으로 소형화 및 고기능화 반도체 소자 봉지용으로 사용하기에는 문제가 있다. 이러한 문제를 해결하기 위하여 특정 종류의 에폭시 수지를 사용하거나 충진제를 혼합하여 고방열 특성을 가진 에폭시 수지 조성물을 제조하려는 시도가 지속적으로 이루어지고 있다. 일례로 일본공개특허 JP 2012-224758호는 하이드로퀴논형 에폭시 수지에 충진제를 혼합한 고방열 에폭시 수지 조성물을 개시하고 있다, 그러나, 고함량의 충진제를 포함하는 경우 에폭시 수지 조성물의 흐름성 및 분산성이 저하되는 문제점이 있다.Epoxy resins have been used as a sealing material for circuit board materials and electronic components, as well as excellent adhesion and electrical insulation, and also excellent mechanical properties. However, since the thermal conductivity of the epoxy resin itself is only about 0.2 to 0.3 W/m·K, there is a problem in that it is used alone for encapsulating a compact and highly functional semiconductor device. In order to solve this problem, attempts to manufacture an epoxy resin composition having high heat dissipation properties by using a specific type of epoxy resin or by mixing a filler have been continuously made. For example, JP 2012-224758 discloses a high heat dissipation epoxy resin composition in which a filler is mixed with a hydroquinone type epoxy resin, however, flowability and dispersibility of the epoxy resin composition when a high content of filler is included There is a problem that this decreases.

본 발명은 우수한 방열성 및 분산성을 갖는 에폭시 수지 조성물 및 이를 이용하여 봉지된 반도체 소자를 제공한다.The present invention provides an epoxy resin composition having excellent heat dissipation and dispersibility and a sealed semiconductor device using the same.

본 발명은 에폭시 수지, 경화제, 충진제, 분산제 및 경화 촉진제를 포함하고, 상기 충진제는 구상 알루미나 총 중량을 기준으로 평균 입경이 2 ㎛ 미만인 구상 알루미나 10 내지 25 중량%, 평균 입경이 2 ㎛ 이상 20 ㎛ 미만인 구상 알루미나 10 내지 40 중량%, 평균 입경이 20 ㎛ 이상 40 ㎛ 미만인 구상 알루미나 10 내지 20 중량%, 평균 입경이 40 ㎛ 이상 60 ㎛ 미만인 구상 알루미나 30 내지 40 중량% 및 평균 입경이 60 ㎛ 이상인 구상 알루미나 4 내지 15 중량%를 포함하는 에폭시 수지 조성물을 제공한다.The present invention includes an epoxy resin, a curing agent, a filler, a dispersing agent and a curing accelerator, wherein the filler is 10 to 25% by weight of spherical alumina having an average particle diameter of less than 2 μm based on the total weight of the spherical alumina, and an average particle diameter of 2 μm to 20 μm Less than 10 to 40% by weight of spherical alumina, 10 to 20% by weight of spherical alumina having an average particle diameter of 20 µm or more, and 30 to 40% by weight of spherical alumina with an average particle diameter of 40 µm or more and less than 60 µm, and spherical particles having an average particle size of 60 µm or more It provides an epoxy resin composition comprising 4 to 15% by weight of alumina.

또한 본 발명은 전술한 에폭시 수지 조성물을 이용하여 봉지된 반도체 소자를 제공한다.In addition, the present invention provides a semiconductor device sealed using the above-described epoxy resin composition.

본 발명의 에폭시 수지 조성물은 우수한 방열특성을 나타내는 동시에, 고함량의 충진제를 포함하더라도 높은 분산성을 확보할 수 있다.The epoxy resin composition of the present invention exhibits excellent heat dissipation characteristics, and can secure high dispersibility even if it contains a high content of filler.

이하, 본 발명에 대하여 상세히 설명한다. 그러나, 하기 내용에 의해서만 한정되는 것은 아니며, 필요에 따라 각 구성요소가 다양하게 변형되거나 선택적으로 혼용될 수 있다. 따라서, 본 발명의 사상 및 기술범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail. However, it is not limited only by the following contents, and each component may be variously modified or selectively mixed as necessary. Therefore, it should be understood to include all modifications, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention.

<에폭시 수지 조성물><Epoxy resin composition>

본 발명에 따른 에폭시 수지 조성물은 에폭시 수지, 경화제, 충진제, 분산제 및 경화 촉진제를 포함하고, 상기 충진제는 구상 알루미나 총 중량을 기준으로 평균 입경이 2 ㎛ 미만인 구상 알루미나 10 내지 25 중량%, 평균 입경이 2 ㎛ 이상 20 ㎛ 미만인 구상 알루미나 10 내지 40 중량%, 평균 입경이 20 ㎛ 이상 40 ㎛ 미만인 구상 알루미나 10 내지 20 중량%, 평균 입경이 40 ㎛ 이상 60 ㎛ 미만인 구상 알루미나 30 내지 40 중량% 및 평균 입경이 60 ㎛ 이상인 구상 알루미나 4 내지 15 중량%를 포함한다. 이하 본 발명의 에폭시 수지 조성물의 조성을 살펴보면 다음과 같다.The epoxy resin composition according to the present invention includes an epoxy resin, a curing agent, a filler, a dispersing agent, and a curing accelerator, and the filler is 10 to 25% by weight of a spherical alumina having an average particle diameter of less than 2 μm based on the total weight of the spherical alumina, and an average particle diameter 10 to 40 wt% of spherical alumina having a size of 2 µm or more and less than 20 µm, 10 to 20 wt% of spherical alumina having an average particle diameter of 20 µm or more and less than 40 µm, 30 to 40 wt% of spherical alumina having an average particle diameter of 40 µm or more and less than 60 µm, and an average particle size It contains 4-15 weight% of spherical alumina 60 micrometers or more. Looking at the composition of the epoxy resin composition of the present invention as follows.

에폭시 수지Epoxy resin

본 발명에 따른 에폭시 수지 조성물은 에폭시 수지를 주 수지로서 포함한다. 본 발명의 상기 에폭시 수지는 열에 의해 경화제와 반응하여 경화되며, 경화 후 삼차원 망상 구조를 가짐으로써 피착제에 강하고 견고하게 접착하는 성질과 내열성을 부여한다.The epoxy resin composition according to the present invention includes an epoxy resin as a main resin. The epoxy resin of the present invention is cured by reacting with a curing agent by heat, and after curing, it has a three-dimensional network structure to give strong and firm adhesion to the adherend and heat resistance.

상기 에폭시 수지로는 반도체 봉지재에 통상적으로 사용되는 에폭시 수지를 제한 없이 사용할 수 있다. 사용 가능한 에폭시 수지의 비제한적인 예로는 비스페놀 A형 에폭시 수지, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지, 안트라센 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 테트라메틸 비페닐형 에폭시 수지, 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀 A 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀 S 노볼락형 에폭시 수지, 비페닐 노볼락형 에폭시 수지, 나프톨 노볼락형 에폭시 수지, 나프톨 페놀 공축 노볼락형 에폭시 수지, 나프톨 크레졸 공축 노볼락형 에폭시 수지, 방향족 탄화수소 포름알데히드 수지 변형 페놀 수지형 에폭시 수지, 트리페닐 메탄형 에폭시 수지, 테트라페닐 에탄형 에폭시 수지, 디사이클로펜타디엔형 에폭시 수지, 디사이클로펜타디엔 페놀 부가반응형 에폭시 수지, 페놀 아랄킬형 에폭시 수지, 다관능성 페놀 수지, 나프톨 아랄킬형 에폭시 수지 중 1종 이상을 포함할 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.As the epoxy resin, an epoxy resin commonly used in semiconductor encapsulants can be used without limitation. Non-limiting examples of usable epoxy resins include bisphenol A type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, anthracene epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, Tetramethyl biphenyl type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, bisphenol A novolak type epoxy resin, bisphenol S novolak type epoxy resin, biphenyl novolak type epoxy resin, naphthol novolak type epoxy resin, naphthol phenol coaxial furnace Bolac type epoxy resin, naphthol cresol coaxial novolac type epoxy resin, aromatic hydrocarbon formaldehyde resin modified phenol resin type epoxy resin, triphenyl methane type epoxy resin, tetraphenyl ethane type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, dicyclo It may include one or more of pentadiene phenol addition reaction epoxy resin, phenol aralkyl type epoxy resin, polyfunctional phenol resin, naphthol aralkyl type epoxy resin, but is not limited thereto.

상기 에폭시 수지는 에폭시 당량(EEW)이 150 내지 300 g/eq이고, 점도가 150℃에서 0.01 내지 0.5 poise이고, 연화점이 60 내지 180℃일 수 있다. 이러한 에폭시 수지는 상대적으로 낮은 점도 특성을 가지므로, 고함량의 충진제가 포함되더라도 흐름성을 확보할 수 있으며, 혼련이 용이하다.The epoxy resin may have an epoxy equivalent (EEW) of 150 to 300 g/eq, a viscosity of 0.01 to 0.5 poise at 150°C, and a softening point of 60 to 180°C. Since these epoxy resins have relatively low viscosity properties, flowability can be secured even if a high content of filler is included, and kneading is easy.

상기 에폭시 수지의 점도 및 연화점이 상기 범위를 벗어나면 분산성이 저하될 수 있다. 또한, 상기 에폭시 수지의 에폭시 당량이 150 g/eq 미만이면 과도하게 흐름성이 떨어질 수 있고, 300 g/eq를 초과하면 유리전이온도(Tg)가 떨어지고 열팽창계수가 증가할 수 있다.If the viscosity and softening point of the epoxy resin is out of the above range, dispersibility may decrease. In addition, if the epoxy equivalent of the epoxy resin is less than 150 g/eq, the flowability may be excessively reduced, and if it exceeds 300 g/eq, the glass transition temperature (Tg) may drop and the thermal expansion coefficient may increase.

상기 에폭시 수지는 에폭시 수지 조성물의 총량을 기준으로 1 내지 10 중량%, 예를 들어 2 내지 5 중량%로 포함될 수 있다. 상기 에폭시 수지의 함량이 1 중량% 미만이면 접착성, 전기절연성, 흐름성 및 성형성이 저하될 수 있으며, 함량이 10 중량%를 초과하면 흡습량 증가로 반도체의 신뢰성이 불량해지고, 충진제의 상대적 함량 감소로 방열특성이 저하될 수 있다.The epoxy resin may be included in 1 to 10% by weight, for example, 2 to 5% by weight based on the total amount of the epoxy resin composition. If the content of the epoxy resin is less than 1% by weight, adhesiveness, electrical insulation, flowability and formability may be deteriorated, and if the content exceeds 10% by weight, the reliability of the semiconductor becomes poor due to an increase in moisture absorption, and the relative of the filler. The heat dissipation characteristics may be reduced due to the reduction of the content.

경화제Hardener

본 발명에 따른 에폭시 수지 조성물은 경화제를 포함한다. 상기 경화제는 상기 에폭시 수지와 반응하여 조성물의 경화를 진행시키는 역할을 한다.The epoxy resin composition according to the present invention includes a curing agent. The curing agent serves to advance the curing of the composition by reacting with the epoxy resin.

상기 경화제로는 에폭시 수지와 경화 반응을 하는 당 분야에 공지된 통상적인 경화제를 제한 없이 사용할 수 있으며, 사용 가능한 경화제의 비제한적인 예로는 페놀 노볼락형 수지, 크레졸 노볼락형 수지, 페놀 알킬 수지, 페놀 자일록형 수지, 비스페놀 A로부터 합성된 각종 노볼락형 수지 중 선택된 1종 이상을 들 수 있다. 일례로, 페놀 노볼락형 수지 및 페놀 자일록형 수지 중 1종 이상을 포함할 수 있다. 상기 페놀 노볼락형 수지 및 페놀 자일록형 수지는 내습성, 내열성, 보존성 등의 물성이 우수하다는 장점이 있다.As the curing agent, a conventional curing agent known in the art for curing reaction with an epoxy resin may be used without limitation, and non-limiting examples of the curing agent that can be used include phenol novolak type resin, cresol novolak type resin, and phenol alkyl resin. , One or more selected from various novolac-type resins synthesized from phenol xylox-type resins and bisphenol A. As an example, one or more of a phenol novolac-type resin and a phenol xylotype resin may be included. The phenol novolac-type resin and the phenol xylotype resin have the advantage of excellent physical properties such as moisture resistance, heat resistance, and preservability.

상기 경화제는 점도가 150℃에서 0.5 내지 1.5 poise이고, 연화점이 60 내지 180℃이고, 히드록시기(OH) 당량이 90 내지 150 g/eq일 수 있다. 상기 경화제의 점도 및 연화점이 상기 범위를 벗어나면 분산성이 저하될 수 있다. 또한, 상기 경화제의 히드록시기 당량이 90 g/eq 미만이면 과도하게 흐름성이 떨어질 수 있고, 150 g/eq을 초과하면 유리전이온도(Tg)가 떨어지고 열팽창계수가 증가할 수 있다.The curing agent may have a viscosity of 0.5 to 1.5 poise at 150°C, a softening point of 60 to 180°C, and a hydroxy group (OH) equivalent of 90 to 150 g/eq. If the viscosity and softening point of the curing agent is out of the above range, dispersibility may decrease. In addition, if the hydroxy group equivalent of the curing agent is less than 90 g/eq, the flowability may be excessively reduced, and if it exceeds 150 g/eq, the glass transition temperature (Tg) may drop and the thermal expansion coefficient may increase.

상기 경화제는 에폭시 수지 조성물의 총량을 기준으로 1 내지 10 중량%, 예를 들어 1 내지 5 중량%로 포함될 수 있다. 상기 경화제의 함량이 1 중량% 미만이면 경화성 및 성형성에 문제가 생길 수 있으며, 10 중량%를 초과하면 흡습량 증가로 신뢰성이 저하되고, 상대적으로 강도가 낮아질 수 있다.The curing agent may be included in 1 to 10% by weight, for example, 1 to 5% by weight based on the total amount of the epoxy resin composition. When the content of the curing agent is less than 1% by weight, there may be problems in curability and moldability, and when it exceeds 10% by weight, reliability may decrease due to an increase in moisture absorption, and strength may be relatively reduced.

충진제Filler

본 발명에 따른 에폭시 수지 조성물은 충진제를 포함한다. 상기 충진제는 봉지재의 방열성 및 강도를 향상시키고 흡습량을 낮추는 역할을 한다.The epoxy resin composition according to the present invention includes a filler. The filler serves to improve the heat dissipation and strength of the encapsulant and lower the moisture absorption.

상기 충진제로는 예를 들어 실리카, 실리카 나이트라이드, 알루미나, 알루미늄 나이트라이드, 보론 나이트라이드 등의 무기 충진제를 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As the filler, for example, inorganic fillers such as silica, silica nitride, alumina, aluminum nitride, and boron nitride can be used alone or in combination of two or more.

본 발명에 따른 에폭시 수지 조성물은 충진제로서 구상 알루미나를 포함할 수 있다. 일례로 평균 구형화도가 0.92 이상이고, 평균 입경이 10 내지 45 ㎛인 구상 알루미나를 사용할 수 있다.The epoxy resin composition according to the present invention may include spherical alumina as a filler. For example, spherical alumina having an average spheroidization degree of 0.92 or more and an average particle diameter of 10 to 45 μm may be used.

상기 충진제는 구상 알루미나 총 중량을 기준으로 평균 입경이 2 ㎛ 미만인 구상 알루미나 10 내지 25 중량%, 평균 입경이 2 ㎛ 이상 20 ㎛ 미만인 구상 알루미나 10 내지 40 중량%, 평균 입경이 20 ㎛ 이상 40 ㎛ 미만인 구상 알루미나 10 내지 20 중량%, 평균 입경이 40 ㎛ 이상 60 ㎛ 미만인 구상 알루미나 30 내지 40 중량% 및 평균 입경이 60 ㎛ 이상인 구상 알루미나 4 내지 15 중량%를 포함할 수 있다. 일례로, 상기 충진제는 구상 알루미나 총 중량을 기준으로 평균 입경이 2 ㎛ 미만인 구상 알루미나 20 내지 25 중량%, 평균 입경이 2 ㎛ 이상 20 ㎛ 미만인 구상 알루미나 10 내지 20 중량%, 평균 입경이 20 ㎛ 이상 40 ㎛ 미만인 구상 알루미나 10 내지 15 중량%, 평균 입경이 40 ㎛ 이상 60 ㎛ 미만인 구상 알루미나 35 내지 40 중량% 및 평균 입경이 60 ㎛ 이상인 구상 알루미나 10 내지 15 중량%를 포함하는 것일 수 있다. 상기 구상 알루미나가 전술한 평균 입경 분포를 갖는 경우 가공성을 충분히 가짐과 동시에 우수한 방열성을 확보할 수 있다.The filler is 10 to 25% by weight of spherical alumina having an average particle diameter of less than 2 μm, 10 to 40% by weight of spherical alumina having an average particle diameter of 2 to 20 μm, and an average particle diameter of 20 to 40 μm, based on the total weight of the spherical alumina. It may include 10 to 20% by weight of spherical alumina, 30 to 40% by weight of spherical alumina having an average particle diameter of 40 μm or more and less than 60 μm, and 4 to 15% by weight of spherical alumina having an average particle diameter of 60 μm or more. For example, the filler is 20 to 25% by weight of spherical alumina having an average particle diameter of less than 2 μm, 10 to 20% by weight of spherical alumina having an average particle diameter of 2 μm or more and less than 20 μm, and an average particle size of 20 μm or more based on the total weight of the spherical alumina. It may be 10 to 15% by weight of spherical alumina less than 40 μm, 35 to 40% by weight of spherical alumina having an average particle diameter of 40 μm or more and less than 60 μm, and 10 to 15% by weight of spherical alumina having an average particle diameter of 60 μm or more. When the spherical alumina has the above-mentioned average particle size distribution, it has sufficient workability and can secure excellent heat dissipation.

상기 구상 알루미나의 최대 입경은 특별히 한정되지 않으나, 120 ㎛ 미만, 예를 들어 100 ㎛ 미만일 수 있다. 최대 입경이 120 ㎛ 이상인 경우 가공성이 충분하지 않고, 절연층의 표면 상태가 불량해질 수 있다.The maximum particle size of the spherical alumina is not particularly limited, but may be less than 120 μm, for example, less than 100 μm. When the maximum particle diameter is 120 µm or more, workability is not sufficient, and the surface condition of the insulating layer may be poor.

상기 구상 알루미나의 입도분포 간 함량비(중량비)는 평균 입경이 60 ㎛ 이상인 구상 알루미나와 평균 입경이 20 ㎛ 이상 40 ㎛ 미만인 구상 알루미나의 함량비(중량비)가 0.2 내지 1.5 : 1, 평균 입경이 60 ㎛ 이상인 구상 알루미나와 평균 입경이 40 ㎛ 이상 60 ㎛ 미만인 구상 알루미나의 함량비(중량비)가 0.1 내지 0.5 : 1, 및 평균 입경이 60 ㎛ 이상인 구상 알루미나와 평균 입경이 2 ㎛ 미만인 구상 알루미나의 함량비(중량비)가 0.1 내지 1.5 : 1 중 하나 이상일 수 있다. 구상 알루미나의 입도분포 간 함량비(중량비)가 상기 범위를 벗어나는 경우 가공성이 충분하지 않고, 에폭시 수지 조성물의 방열성이 저하될 수 있다.The content ratio (weight ratio) between the particle size distributions of the spherical alumina is 0.2 to 1.5:1, and the average particle diameter of the spherical alumina having an average particle diameter of 60 µm or more and the spherical alumina having an average particle diameter of 20 µm or more and less than 40 µm is 0.2 to 1.5:1. The content ratio of the spherical alumina having an average particle diameter of not less than 60 μm and the spherical alumina having an average particle diameter of 40 μm or more and less than 60 μm is 0.1 to 0.5:1, and the spherical alumina having an average particle diameter of 60 μm or more and the spherical alumina having an average particle diameter of less than 2 μm. (Weight ratio) may be at least one of 0.1 to 1.5:1. When the content ratio (weight ratio) between the particle size distributions of the spherical alumina is out of the above range, the workability is insufficient, and the heat dissipation property of the epoxy resin composition may be deteriorated.

또한, 상기 구상 알루미나의 비표면적은 1 내지 10 ㎡/g이고, 불순물 함량은 10 내지 20 ppm일 수 있다. 상기 구상 알루미나의 비표면적 및 불순물 함량이 상기 범위를 벗어나면 분산성 및 신뢰성이 저하될 수 있다.In addition, the specific surface area of the spherical alumina is 1 to 10 m 2 /g, and the impurity content may be 10 to 20 ppm. When the specific surface area and impurity content of the spherical alumina are out of the above range, dispersibility and reliability may be deteriorated.

상기 충진제는 에폭시 수지 조성물의 총량을 기준으로 80 내지 97 중량%, 예를 들어 90 내지 97 중량%로 포함될 수 있다. 상기 충진제의 함량이 80 중량% 미만인 경우, 흡습량 증가로 강도가 저하되고 밀착성이 떨어질 수 있으며, 충진제의 함량이 97 중량%를 초과하면 점도 증가 및 흐름성 저하로 가공성이 불량해질 수 있다.The filler may be included in 80 to 97% by weight, for example 90 to 97% by weight based on the total amount of the epoxy resin composition. When the content of the filler is less than 80% by weight, the strength may decrease and adhesion may decrease due to an increase in moisture absorption, and when the content of the filler exceeds 97% by weight, workability may be deteriorated due to an increase in viscosity and a decrease in flowability.

분산제Dispersant

본 발명에 따른 에폭시 수지 조성물은 분산제를 포함한다. 상기 분산제는 상기 에폭시 수지 조성물 내의 충진제 표면에 부착되어 입체장애를 일으킴으로써 응집을 막아 흐름성 및 분산성을 개선시키는 역할을 한다.The epoxy resin composition according to the present invention includes a dispersant. The dispersant is attached to the surface of the filler in the epoxy resin composition to prevent agglomeration by causing steric hindrance, thereby improving flowability and dispersibility.

상기 분산제로 양이온성 고분자, 음이온성 고분자, 음이온성 올리고머 등을 사용할 수 있다.As the dispersant, a cationic polymer, anionic polymer, or anionic oligomer may be used.

상기 양이온성 고분자는 일례로 알킬 암모늄염 구조를 포함하는 고분자 및 알킬렌 옥사이드 공중합체 중 1종 이상을 포함할 수 있다. 상기 알킬렌 옥사이드 공중합체는 예를 들어 에틸렌 옥사이드 공중합체 및 프로필렌 옥사이드 공중합체 중 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다. The cationic polymer may include, for example, at least one of a polymer including an alkyl ammonium salt structure and an alkylene oxide copolymer. The alkylene oxide copolymer may include, for example, at least one selected from ethylene oxide copolymer and propylene oxide copolymer.

상기 알킬 암모늄염은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물일 수 있다.The alkyl ammonium salt may be a compound represented by Formula 1 below.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112018090866653-pat00001
Figure 112018090866653-pat00001

상기 식에서, In the above formula,

R1은 탄소수 1 내지 10의 알킬기이고,R 1 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms,

R2 내지 R4는 동일 또는 상이하고, 수소 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 아릴기, 알킬아릴기 또는 아릴알킬기임.R 2 to R 4 are the same or different and are hydrogen or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an alkylaryl group, or an arylalkyl group.

상기 알킬 암모늄염 구조를 포함하는 고분자는 히드록시기를 포함할 수도 있다.The polymer containing the alkyl ammonium salt structure may also contain a hydroxy group.

상기 알킬 암모늄염 구조를 포함하는 고분자의 아민가는 약 30 내지 50 mg KOH/g, 산가는 약 20 내지 40 mg KOH/g일 수 있다. 상기 알킬 암모늄염 구조를 포함하는 고분자의 아민가와 산가가 상기 전술한 범위를 만족하는 경우, 상기 에폭시 수지 조성물의 방열성을 떨어뜨리지 않으면서 흐름성 및 분산성을 확보할 수 있다.The amine value of the polymer containing the alkyl ammonium salt structure may be about 30 to 50 mg KOH/g, and the acid value may be about 20 to 40 mg KOH/g. When the amine value and the acid value of the polymer containing the alkyl ammonium salt structure satisfy the above-described range, flowability and dispersibility can be secured without deteriorating the heat dissipation property of the epoxy resin composition.

상기 음이온성 올리고머로는 일례로 올리고머 폴리에스터, 예를 들어 인산에스테르를 사용할 수 있다.As the anionic oligomer, an oligomeric polyester, for example, phosphoric acid ester may be used.

상기 분산제의 종류는 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어 상업적으로 입수 가능한 DISPERBYK-140, DISPERBYK-180, DISPERBYK-181, DISPERBYK-187, BYK-151, BYK-9076, BYK-W968, BYK-W969, Hypermer KD2, Hypermer KD23, Hypermer KD4, Hypermer KD9 등을 사용할 수 있다.The type of the dispersant is not particularly limited, for example, commercially available DISPERBYK-140, DISPERBYK-180, DISPERBYK-181, DISPERBYK-187, BYK-151, BYK-9076, BYK-W968, BYK-W969, Hypermer KD2, Hypermer KD23, Hypermer KD4, Hypermer KD9, and the like can be used.

상기 분산제는 에폭시 수지 조성물의 총량을 기준으로 약 0.01 내지 5 중량%, 예를 들어 약 0.1 내지 1 중량%로 사용될 수 있다. 분산제의 함량이 5 중량%를 초과하는 경우 상기 에폭시 수지 조성물의 방열성이 저하될 수 있으며, 0.01 중량% 미만인 경우에는 흐름성 및 분산성이 저하될 수 있다.The dispersant may be used in an amount of about 0.01 to 5% by weight based on the total amount of the epoxy resin composition, for example, about 0.1 to 1% by weight. When the content of the dispersant exceeds 5% by weight, the heat dissipation property of the epoxy resin composition may be lowered, and when it is less than 0.01% by weight, flowability and dispersibility may be lowered.

경화 촉진제Curing accelerator

본 발명에 따른 에폭시 수지 조성물은 경화 촉진제를 포함한다. 경화 촉진제는 경화반응 촉진과 더불어 고온 신뢰성 및 연속 작업성의 주기를 향상시키는 역할을 한다.The epoxy resin composition according to the present invention includes a curing accelerator. The curing accelerator serves to improve the cycle of high temperature reliability and continuous workability in addition to promoting the curing reaction.

본 발명에서 사용되는 경화 촉진제는 상기 경화제의 경화 반응을 촉진하는 것이라면 특별한 제한 없이 사용될 수 있으며, 일례로 상기 경화 촉진제는 2-메틸이미다졸, 2-에틸4메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸 등의 이미다졸 화합물; 트리에틸아민, 트리부틸아민, 벤질디메틸아민 등의 아민 화합물; 2-(디메틸아미노메틸)페놀, 2,4,6-트리스(디메틸아미노메틸)페놀, 1,8-디아자비사이클로(5,4,0)운덱-7-엔 등의 삼급 아민 화합물; 및 페닐포스핀, 디페닐포스핀, 트리페닐포스핀, 트리부틸포스핀, 트리(p-메틸페닐)포스핀 중에서 선택된 1종 이상일 수 있다.The curing accelerator used in the present invention can be used without particular limitation as long as it accelerates the curing reaction of the curing agent. For example, the curing accelerator is 2-methylimidazole, 2-ethyl4methylimidazole, 2-phenyl Imidazole compounds such as midazole; Amine compounds such as triethylamine, tributylamine, and benzyldimethylamine; Tertiary amine compounds such as 2-(dimethylaminomethyl)phenol, 2,4,6-tris(dimethylaminomethyl)phenol, and 1,8-diazabicyclo(5,4,0)undec-7-ene; And phenylphosphine, diphenylphosphine, triphenylphosphine, tributylphosphine, and tri(p-methylphenyl)phosphine.

상기 경화 촉진제는 에폭시 수지 조성물의 총량을 기준으로 0.01 내지 5 중량%, 예를 들어 0.1 내지 1 중량%로 포함될 수 있다. 상기 경화 촉진제의 함량이 0.01 중량% 미만이면 경화성이 저하될 수 있으며, 함량이 5 중량%를 초과하면 과경화로 인해 흐름성이 저하될 수 있다.The curing accelerator may be included in an amount of 0.01 to 5% by weight, for example, 0.1 to 1% by weight based on the total amount of the epoxy resin composition. If the content of the curing accelerator is less than 0.01% by weight, curability may be lowered, and if the content exceeds 5% by weight, flowability may be reduced due to over-curing.

첨가제additive

본 발명에 따른 에폭시 수지 조성물은 필요에 따라 전술한 성분들 이외에 당 분야에 알려진 통상적인 첨가제를 선택적으로 더 포함할 수 있다. 본 발명에서 사용 가능한 첨가제의 비제한적인 예를 들면 착색제, 소포제, 레벨링제, 표면조정제, 접착력 개선제, 난연제, 광 흡수제, 건조제, 흡습제 및 왁스 중 선택된 1종 이상의 첨가제를 더 포함할 수 있다.The epoxy resin composition according to the present invention may optionally further include conventional additives known in the art, in addition to the aforementioned components, if necessary. Non-limiting examples of additives usable in the present invention may further include one or more additives selected from colorants, antifoaming agents, leveling agents, surface modifiers, adhesion improving agents, flame retardants, light absorbers, desiccants, hygroscopic agents, and waxes.

착색제로는 당 분야에 공지된 카본블랙, 벵갈라, 유기염료, 무기염료 등의 통상의 착색제를 단독 사용하거나 2종 이상 혼용할 수 있다. 왁스로는 파라핀 왁스, 천연 왁스, 합성 왁스 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다. 천연 왁스로는 카르나우바 왁스 등이 있고, 합성 왁스로는 폴리에틸렌 왁스 등이 있다.As the colorant, conventional colorants such as carbon black, bengala, organic dyes, and inorganic dyes known in the art may be used alone or in combination of two or more. As the wax, paraffin wax, natural wax, synthetic wax or a mixture thereof can be used. Natural waxes include carnauba wax, and synthetic waxes include polyethylene wax.

상기 첨가제의 함량은 특별히 한정되지 않으며, 에폭시 수지 조성물의 총량을 기준으로 0.1 내지 5 중량%일 수 있다.The content of the additive is not particularly limited, and may be 0.1 to 5% by weight based on the total amount of the epoxy resin composition.

전술한 성분을 포함하는 본 발명의 에폭시 수지 조성물을 제조하는 방법은 특별히 제한되지 않으며, 당 분야의 일반적인 방법을 사용하여 제조될 수 있다. 일례로, 반바리 믹서, 니더, 롤, 단축 또는 이축의 압출기, 코니더 등을 이용한 공지된 용융 혼련 방법을 사용하여 제조될 수 있다. 예를 들어, 전술한 성분들을 균일하게 섞은 후, 용융 혼합기(heat kneader)를 이용하여 100 내지 130℃의 온도에서 용융 혼합하고, 상온으로 냉각시켜 분말상태로 분쇄한 후 블렌딩하여 제조할 수 있다.The method for preparing the epoxy resin composition of the present invention containing the above-described components is not particularly limited, and may be prepared using a general method in the art. For example, it may be manufactured using a known melt-kneading method using a banbari mixer, a kneader, a roll, a single-screw or twin-screw extruder, a kneader, and the like. For example, after mixing the above-described components uniformly, it may be prepared by melt-mixing at a temperature of 100 to 130°C using a heat kneader, crushing to a powder state by cooling to room temperature, and blending.

<반도체 소자><Semiconductor element>

본 발명은 상기한 바와 같은 에폭시 수지 조성물을 이용하여 봉지된 반도체 소자를 제공한다.The present invention provides a semiconductor device sealed using the epoxy resin composition as described above.

구체적으로, 본 발명의 조성물을 적용할 수 있는 반도체 장치란 트랜지스터, 다이오드, 저항, 콘덴서 등을 반도체 칩이나 기판 위에 집적하고 배선하여 만들어지는 전자회로(집적회로)를 의미한다. Specifically, a semiconductor device to which the composition of the present invention can be applied means an electronic circuit (integrated circuit) made by integrating and wiring transistors, diodes, resistors, and capacitors on a semiconductor chip or substrate.

본 발명의 에폭시 수지 조성물을 이용하여 반도체 장치를 봉지, 제조하는 방법은 특별히 제한되지 않으며, 트랜스퍼 몰드, 컴프레션 몰드, 인젝션 몰드 등의 성형방법으로 반도체 소자를 봉지하여 제조할 수 있다.The method for sealing and manufacturing a semiconductor device using the epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited, and may be manufactured by sealing a semiconductor device by a molding method such as a transfer mold, a compression mold, or an injection mold.

이하, 실시예를 통하여 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다. 그러나, 하기 실시예는 본 발명의 이해를 돕기 위한 것일 뿐 어떠한 의미로든 본 발명의 범위가 실시예로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail through examples. However, the following examples are only to aid the understanding of the present invention, and the scope of the present invention is not limited to the examples in any sense.

[실시예 1-9 및 비교예 1-6][Example 1-9 and Comparative Example 1-6]

하기 표 1 및 표 2에 기재된 조성에 따라 각 성분을 컨테이너 믹서를 이용하여 배합한 후, 용융 혼합, 냉각, 분쇄, 블렌딩 공정을 거쳐 일정크기로 타정하여 실시예 1-9 및 비교예 1-6의 에폭시 수지 조성물을 각각 제조하였다.After mixing each component according to the composition shown in Tables 1 and 2 using a container mixer, and then tableting to a certain size through melt mixing, cooling, grinding, and blending processes, Examples 1-9 and Comparative Examples 1-6 Each of the epoxy resin composition was prepared.

Figure 112018090866653-pat00002
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Figure 112018090866653-pat00003
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에폭시 수지: 4,4-Bis(2,3-epoxypropoxy)-3,3,5,5-tetramethyl(1,1-biphenyl) (YK-4000HK, MITSUBISHI CHEMICAL社, 에폭시 당량: 192 g/eq, 연화점: 109℃, 점도: 0.2 poise)Epoxy resin: 4,4-Bis(2,3-epoxypropoxy)-3,3,5,5-tetramethyl(1,1-biphenyl) (YK-4000HK, MITSUBISHI CHEMICAL, epoxy equivalent: 192 g/eq, softening point : 109℃, viscosity: 0.2 poise)

경화제: 페놀 노볼락 경화제 (KPE-F2000, KOLON社, OH 당량: 107 g/eq, 연화점: 66℃, 점도: 0.8 poise)Curing agent: Phenolic novolac curing agent (KPE-F2000, KOLON, OH equivalent: 107 g/eq, softening point: 66°C, viscosity: 0.8 poise)

충진제 1: 구상 알루미나 (평균 입경 2 ㎛ 미만)Filler 1: Spherical alumina (average particle diameter less than 2 μm)

충진제 2: 구상 알루미나 (평균 입경 2 ㎛ 이상 20 ㎛ 미만)Filler 2: Spherical alumina (average particle size 2 μm or more and less than 20 μm)

충진제 3: 구상 알루미나 (평균 입경 20 ㎛ 이상 40 ㎛ 미만)Filler 3: Spherical alumina (average particle size 20 µm or more but less than 40 µm)

충진제 4: 구상 알루미나 (평균 입경 40 ㎛ 이상 60 ㎛ 미만)Filler 4: Spherical alumina (average particle size 40 µm to 60 µm)

충진제 5: 구상 알루미나 (평균 입경 60 ㎛ 이상)Filler 5: Spherical alumina (average particle diameter 60 µm or more)

분산제: 알킬 암모늄염 구조를 포함하는 고분자 (BYK-9076, 아민가: 44 mg KOH/g, 산가: 38 mg KOH/g)Dispersant: Polymer containing alkyl ammonium salt structure (BYK-9076, amine value: 44 mg KOH/g, acid value: 38 mg KOH/g)

착색제: 카본 블랙 (MA-600, MITSUBISHI CHEMICAL社, 평균 입경: 18 nm, pH: 7.5)Colorant: Carbon black (MA-600, MITSUBISHI CHEMICAL, average particle size: 18 nm, pH: 7.5)

왁스: 폴리에틸렌 왁스 (Wax E, Clariant社, Drop Point: 84℃, 산가: 2 내지 7 mg KOH/g)Wax: Polyethylene wax (Wax E, Clariant, Drop Point: 84℃, Acid value: 2 to 7 mg KOH/g)

경화 촉진제: 1,5-Diazabicyclo(4.3.0)non-5-ene (KPH-MN2001, KOLON社, 녹는점 240℃, 분자량: 152)Curing accelerator: 1,5-Diazabicyclo(4.3.0)non-5-ene (KPH-MN2001, KOLON, melting point 240°C, molecular weight: 152)

[실험예 - 물성 평가][Experimental Example-Property evaluation]

실시예 1-9 및 비교예 1-6에서 각각 제조된 에폭시 수지 조성물의 물성을 하기와 같이 측정하였으며, 이의 결과를 하기 표 3 및 표 4에 나타내었다.The physical properties of the epoxy resin compositions prepared in Examples 1-9 and Comparative Examples 1-6 were measured as follows, and the results are shown in Tables 3 and 4 below.

스파이럴 플로우(spiral flow)Spiral flow

각 실시예 및 비교예에 따라 제조된 에폭시 수지 조성물을 스파이럴 플로우 몰드를 이용하여 가열이송성형기(압력=70 kg/㎠, 온도=175℃, 경화시간=120초)에서 몰딩한 후 제조물의 흐름성을 측정하였다.The epoxy resin composition prepared according to each example and comparative example was molded in a heat transfer molding machine (pressure=70 kg/cm 2, temperature=175°C, curing time=120 seconds) using a spiral flow mold, and then flowability of the product Was measured.

겔 타임(gelation time)Gel time

각 실시예 및 비교예에 따라 제조된 에폭시 수지 조성물 소량을 겔 타이머에 넓고 고르게 펴, 제조물의 겔화 소요시간을 측정하였다.A small amount of the epoxy resin composition prepared according to each example and comparative example was spread evenly and evenly on a gel timer to measure the gelation time of the product.

유리전이온도(Tg)Glass transition temperature (Tg)

TMA(Thermomechanical Analyser)로 평가하였다.It was evaluated by TMA (Thermomechanical Analyser).

선팽창계수(α1, α2)Coefficient of linear expansion (α1, α2)

TMA(Thermomechanical Analyser)로 평가하였다. 선팽창계수 α1은 Tg 이하에서의 선팽창계수를, 선팽창계수 α2는 Tg 이상에서의 선팽창계수를 평가하였다.It was evaluated by TMA (Thermomechanical Analyser). The linear expansion coefficient α1 evaluated the linear expansion coefficient below Tg, and the linear expansion coefficient α2 evaluated the linear expansion coefficient above Tg.

열전도도(W/m·K)Thermal conductivity (W/mK)

LFA(Laser Flash Analysis)로 평가하였다.It was evaluated by LFA (Laser Flash Analysis).

Figure 112018090866653-pat00004
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Figure 112018090866653-pat00005
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상기 표 3 및 표 4의 결과로부터, 본 발명에 따른 조성의 충진제를 사용한 실시예 1-9의 에폭시 수지 조성물은 측정된 모든 물성에서 우수한 효과를 나타냄을 확인할 수 있었다. 반면, 본 발명의 충진제의 조성(구상 알루미나의 입경 분포)을 벗어나는 충진제를 사용한 비교예 1-6의 에폭시 수지 조성물은 흐름성 및 열전도성 중 하나 이상의 물성이 열악하게 나타났다.From the results of Tables 3 and 4, it was confirmed that the epoxy resin composition of Examples 1-9 using the filler of the composition according to the present invention exhibits excellent effects in all measured physical properties. On the other hand, the epoxy resin composition of Comparative Example 1-6 using the filler out of the composition (particle size distribution of spherical alumina) of the present invention showed poor properties of one or more of flowability and thermal conductivity.

Claims (10)

에폭시 수지, 경화제, 충진제, 분산제 및 경화 촉진제를 포함하고, 상기 충진제는 구상 알루미나 총 중량을 기준으로 평균 입경이 2 ㎛ 미만인 구상 알루미나 10 내지 25 중량%, 평균 입경이 2 ㎛ 이상 20 ㎛ 미만인 구상 알루미나 10 내지 40 중량%, 평균 입경이 20 ㎛ 이상 40 ㎛ 미만인 구상 알루미나 10 내지 20 중량%, 평균 입경이 40 ㎛ 이상 60 ㎛ 미만인 구상 알루미나 30 내지 40 중량% 및 평균 입경이 60 ㎛ 이상인 구상 알루미나 4 내지 15 중량%를 포함하는 에폭시 수지 조성물.Epoxy resin, a curing agent, a filler, a dispersing agent and a curing accelerator, wherein the filler is 10 to 25% by weight of spherical alumina having an average particle diameter of less than 2 μm based on the total weight of the spherical alumina, and spherical alumina having an average particle diameter of 2 μm or more and less than 20 μm 10 to 40 wt%, spherical alumina having an average particle diameter of 20 µm or more and less than 40 µm, 10 to 20 wt%, spheroidal alumina having an average particle diameter of 40 µm or more and less than 60 µm, and spheroidal alumina having an average particle diameter of 60 µm or more 4 to Epoxy resin composition comprising 15% by weight. 제1항에 있어서, 상기 충진제는 구상 알루미나 총 중량을 기준으로 평균 입경이 2 ㎛ 미만인 구상 알루미나 20 내지 25 중량%, 평균 입경이 2 ㎛ 이상 20 ㎛ 미만인 구상 알루미나 10 내지 20 중량%, 평균 입경이 20 ㎛ 이상 40 ㎛ 미만인 구상 알루미나 10 내지 15 중량%, 평균 입경이 40 ㎛ 이상 60 ㎛ 미만인 구상 알루미나 35 내지 40 중량% 및 평균 입경이 60 ㎛ 이상인 구상 알루미나 10 내지 15 중량%를 포함하는 에폭시 수지 조성물.The method of claim 1, wherein the filler is 20 to 25% by weight of spherical alumina having an average particle diameter of less than 2 μm based on the total weight of the spherical alumina, 10 to 20% by weight of spherical alumina having an average particle diameter of 2 μm or more and less than 20 μm, an average particle diameter Epoxy resin composition comprising 10 to 15% by weight of spherical alumina having a diameter of 20 μm or more and less than 40 μm, 35 to 40% by weight of spherical alumina having an average particle diameter of 40 μm or more and less than 60 μm, and 10 to 15% by weight of spherical alumina having an average particle diameter of 60 μm or more . 제1항에 있어서, 상기 구상 알루미나의 입도분포 간 함량비(중량비)는 평균 입경이 60 ㎛ 이상인 구상 알루미나와 평균 입경이 20 ㎛ 이상 40 ㎛ 미만인 구상 알루미나의 함량비(중량비)가 0.2 내지 1.5 : 1, 평균 입경이 60 ㎛ 이상인 구상 알루미나와 평균 입경이 40 ㎛ 이상 60 ㎛ 미만인 구상 알루미나의 함량비(중량비)가 0.1 내지 0.5 : 1, 및 평균 입경이 60 ㎛ 이상인 구상 알루미나와 평균 입경이 2 ㎛ 미만인 구상 알루미나의 함량비(중량비)가 0.1 내지 1.5 : 1 중 하나 이상인 에폭시 수지 조성물.According to claim 1, The content ratio (weight ratio) between the particle size distribution of the spherical alumina is a spherical alumina having an average particle diameter of 60 µm or more and a spherical alumina having an average particle diameter of 20 µm or more and less than 40 µm (weight ratio): 0.2 to 1.5: 1, the content ratio (weight ratio) of spherical alumina having an average particle diameter of 60 µm or more and spherical alumina having an average particle diameter of 40 µm or more and less than 60 µm is 0.1 to 0.5:1, and spherical alumina having an average particle diameter of 60 µm or more and 2 µm of average particle diameter The epoxy resin composition having a content ratio (weight ratio) of spherical alumina less than or equal to 0.1 to 1.5:1. 제1항에 있어서, 상기 구상 알루미나의 비표면적은 1 내지 10 ㎡/g이고, 불순물 함량은 10 내지 20 ppm인 에폭시 수지 조성물.The epoxy resin composition according to claim 1, wherein the spherical alumina has a specific surface area of 1 to 10 m 2 /g and an impurity content of 10 to 20 ppm. 제1항에 있어서, 상기 에폭시 수지 조성물 총 중량을 기준으로, 상기 에폭시 수지 1 내지 10 중량%, 경화제 1 내지 10 중량%, 충진제 80 내지 97 중량%, 분산제 0.01 내지 5 중량% 및 경화 촉진제 0.01 내지 5 중량%를 포함하는 에폭시 수지 조성물.According to claim 1, Based on the total weight of the epoxy resin composition, 1 to 10% by weight of the epoxy resin, 1 to 10% by weight of the curing agent, 80 to 97% by weight of the filler, 0.01 to 5% by weight of the dispersing agent and 0.01 to cure accelerator Epoxy resin composition comprising 5% by weight. 제1항에 있어서, 상기 분산제는 양이온성 고분자, 음이온성 고분자 및 음이온성 올리고머로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인 에폭시 수지 조성물.The epoxy resin composition according to claim 1, wherein the dispersant is at least one selected from the group consisting of cationic polymers, anionic polymers, and anionic oligomers. 제6항에 있어서, 상기 양이온성 고분자는 알킬 암모늄염 구조를 포함하는 고분자인 에폭시 수지 조성물.The epoxy resin composition according to claim 6, wherein the cationic polymer is a polymer containing an alkyl ammonium salt structure. 제7항에 있어서, 상기 알킬 암모늄염 구조를 포함하는 고분자의 아민가는 30 내지 50mg KOH/g인 에폭시 수지 조성물.The epoxy resin composition according to claim 7, wherein the amine value of the polymer containing the alkyl ammonium salt structure is 30 to 50 mg KOH/g. 제7항에 있어서, 상기 알킬 암모늄염 구조를 포함하는 고분자의 산가는 20 내지 40mg KOH/g인 에폭시 수지 조성물.The epoxy resin composition according to claim 7, wherein the acid value of the polymer containing the alkyl ammonium salt structure is 20 to 40 mg KOH/g. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따른 에폭시 수지 조성물을 이용하여 봉지된 것을 특징으로 하는 반도체 소자.A semiconductor device, characterized in that it is sealed using the epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 9.
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