KR102118991B1 - A automatic apparatus for treating the fine particle with plasma - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 바렐 플라즈마 자동 처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 피처리 미세입상물질이 담겨 있는 바렐을 자동으로 각 공정 위치로 이동 및 장착하면서 피처리 미세입상물질에 대한 로딩, 언로딩 및 플라즈마 처리 전 공정을 자동화 공정으로 처리하는 바렐 플레즈마 자동 처리장치에 관한 것이다. The present invention relates to an automatic treatment device for barrel plasma, and more specifically, loading, unloading, and plasma treatment of the treated fine particulate material while automatically moving and mounting the barrel containing the treated fine particulate material to each process location. It relates to a Barrel Plasma automatic processing device that processes the entire process as an automated process.
일반적으로 특정 소재의 표면에 다른 물질을 코팅하거나 다른 물질을 부착하는 경우에는 코팅물질이나 부착 물질의 접착력을 높이기 위하여 소재 표면에 대한 표면 처리 작업이 진행된다. 이러한 소재의 표면 처리 내지 표면 개질에는 다양한 방법이 이용될 수 있으며, 최근에는 획기적인 표면 개질 효과를 얻을 수 있는 플라즈마 표면 처리 방법이 널리 사용되고 있다. In general, when a different material is coated on a surface of a specific material or when a different material is attached, a surface treatment operation is performed on the surface of the material in order to increase the adhesion of the coating material or the attached material. Various methods can be used for the surface treatment or surface modification of these materials, and recently, a plasma surface treatment method capable of obtaining an innovative surface modification effect has been widely used.
플라즈마 표면 처리 방법은 표면 처리가 필요한 소재의 표면에 상압 플라즈마 또는 진공 플라즈마를 조사하여 소재 표면을 개질하는 방법으로서 처리 방법이 친환경적이고 처리 효과가 매우 뛰어난 장점이 있다. Plasma surface treatment method is a method of modifying the surface of a material by irradiating a normal pressure plasma or a vacuum plasma to the surface of a material that requires surface treatment, and the treatment method is eco-friendly and has an excellent treatment effect.
이러한 종래의 플라즈마 표면 처리 장치는 피처리 대상물인 소재의 크기가 큰 소재를 일정한 탑재대 표면에 고정시킨 상태에서 처리가 필요한 표면에 대해서만 표면 처리를 진행하는 방식이다. Such a conventional plasma surface treatment apparatus is a method in which surface treatment is performed only on a surface requiring treatment in a state where a material having a large size of a material to be treated is fixed to a surface of a fixed table.
그런데 이러한 종래의 플라즈마 처리장치로는 다수개의 면을 가지고, 입상이면서 그 크기가 수 mm 이하일 정도로 매우 작은 미세 입상물질의 처리에는 부적합한 문제점이 있다. 특히, 상기 미세 입상물질의 다수면 중 2면 이상을 처리해야 하는 경우에는 소재의 파지 및 취급이 어려운 문제점이 있다. However, such a conventional plasma processing apparatus has a problem in that it has a plurality of surfaces and is granular and is very small in size, so that it is very small. Particularly, when two or more surfaces of the fine granular material need to be processed, there is a problem in that gripping and handling of the material is difficult.
또한 이러한 미세 입상물질은 처리 과정에서 그 취급 자체가 어려우므로 전체 공정을 자동화하여 정확한 처리가 이루어지도록 할 필요가 있다. In addition, since such fine particulate matter is difficult to handle in the process itself, it is necessary to automate the entire process so that accurate processing is achieved.
본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는 피처리 미세입상물질이 담겨 있는 바렐을 자동으로 각 공정 위치로 이동 및 장착하면서 피처리 미세입상물질에 대한 로딩, 언로딩 및 플라즈마 처리 전 공정을 자동화 공정으로 처리하는 바렐 플레즈마 자동 처리장치를 제공하는 것이다. The technical problem to be solved by the present invention is to automatically process the loading, unloading and plasma treatment of the fine particulate matter to be processed by the automated process while automatically moving and mounting the barrel containing the fine particulate matter to be processed to each process location. To provide a Barrel Plasma automatic processing device.
전술한 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 바렐 플라즈마 자동 처리장치는, 바렐에 담겨 있는 피처리 미세입상물질의 표면에 플라즈마 처리하는 플라즈마 처리부; 상기 플라즈마 처리부에 상기 바렐을 처리 상태로 장착하는 바렐 장착부; 상기 바렐 장착부에 인접하게 설치되며, 상기 바렐에 상기 피처리 미세입상물질 일정량을 로딩하는 피처리물 로딩부; 상기 플라즈마 처리부에 인접한 위치에 설치되며, 상기 바렐에서 처리가 완료된 상기 피처리 미세입상물질을 언로딩하는 피처리물 언로딩부; 상기 피처리물 로딩부, 바렐 장착부 및 피처리물 언로딩부 사이를 이동하며, 상기 바렐을 각 공정 위치에 이동시키는 바렐 이동부;를 포함한다. Barrel plasma automatic processing apparatus according to the present invention for solving the above-described technical problem, the plasma processing unit for plasma processing on the surface of the target fine particulate material contained in the barrel; A barrel mounting unit for mounting the barrel in the plasma processing unit; An object loading unit which is installed adjacent to the barrel mounting unit, and loads a predetermined amount of the fine particulate matter to be treated on the barrel; An object unloading unit installed at a position adjacent to the plasma processing unit, and unloading the micro-particulate material to be processed, which has been processed in the barrel; It includes; a barrel moving part that moves between the processing object loading part, the barrel mounting part, and the processing object unloading part, and moves the barrel to each process position.
본 발명에서 상기 플라즈마 처리부는, 전방이 개방된 원통형 내부 공간을 가지는 처리 챔버; 상기 처리 챔버의 중앙에 설치되며, 고전압이 인가되어 상기 처리 챔버에 장착되는 상기 바렐 방향으로 플라즈마 가스를 분사하는 전극부; 상기 처리 챔버에 설치되며, 상기 처리 챔버 내부의 기체를 흡입하여 외부로 배출하는 배기부;를 포함하는 것이 바람직하다. In the present invention, the plasma processing unit includes: a processing chamber having a cylindrical interior space with an open front; An electrode unit installed at the center of the processing chamber and applying a high voltage to inject plasma gas in the barrel direction mounted on the processing chamber; It is installed in the processing chamber, it is preferable to include; exhaust portion for sucking the gas inside the processing chamber and discharged to the outside.
또한 본 발명에서 상기 바렐 장착부는, 상기 바렐이 상면에 안착되며, 상기 처리 챔버의 개방된 전면에 밀착되어 상기 처리 챔버 내부 공간을 밀폐 공간으로 만드는 장착 플레이트; 상기 장착 플레이트를 관통하여 회전가능하게 설치되며, 상기 바렐을 지지하면서 회전시키는 한 쌍의 바렐 회전봉; 상기 장착 플레이트의 배면에 설치되며, 상기 바렐 회전봉을 회전시키는 회전봉 회전부; 상기 장착 플레이트 및 회전봉 회전부를 연직 방향 및 상기 처리 챔버 방향으로 회동시키는 플레이트 회동부; 상기 플레이트 회동부를 상기 처리 챔버 방향으로 전후진시키는 플레이트 전후진부;를 포함하는 것이 바람직하다. In addition, the barrel mounting portion in the present invention, the barrel is seated on the upper surface, the mounting plate is in close contact with the open front of the processing chamber to make the space inside the processing chamber as a closed space; A pair of barrel rotating rods rotatably installed through the mounting plate and rotating while supporting the barrel; It is installed on the rear surface of the mounting plate, the rotating rod rotating portion for rotating the barrel rotating rod; A plate rotating part rotating the mounting plate and the rotating rod rotating part in the vertical direction and the processing chamber direction; It is preferable to include; a plate forward and backward portion for moving the plate rotation portion forward and backward in the direction of the processing chamber.
또한 본 발명에서 상기 바렐은 상기 처리 챔버에 장착된 상태에서 상기 전극부가 상기 바렐 내부로 진입하며, 상기 바렐 개구부와 상기 전극부 사이에 이격 공간이 형성되는 것이 바람직하다. In addition, in the present invention, it is preferable that the electrode part enters the inside of the barrel while the barrel is mounted in the processing chamber, and a space is formed between the barrel opening and the electrode part.
또한 본 발명에서 상기 바렐 회전봉에는, 상기 바렐 외주부와 접촉하는 부분에 설치되며, 상기 바렐 외주부와의 마찰력을 증대시키는 마찰력 증대부재가 더 구비되는 것이 바람직하다. In addition, in the present invention, it is preferable that the barrel rotating rod is further provided with a friction force increasing member which is installed at a portion in contact with the barrel outer circumferential portion and increases frictional force with the barrel outer circumferential portion.
또한 본 발명에 따른 바렐 플라즈마 자동 처리장치에서, 상기 플라즈마 처리부와 바렐 장착부는 한 쌍을 이루어 구성되며, 다수 쌍이 인접하게 설치되는 것이 바람직하다. In addition, in the automatic barrel plasma processing apparatus according to the present invention, the plasma processing unit and the barrel mounting unit are configured in a pair, and a plurality of pairs are preferably installed adjacently.
또한 본 발명에서 상기 피처리물 로딩부는, 상기 피처리 미세입상물질이 대량으로 담겨 있는 호퍼; 상기 호퍼의 하측 개구부에 설치되며, 일정량의 피처리 미세입상물질을 계량하여 배출하는 피처리물 계량부; 상기 피처리물 계량부를 기립되어 대기하는 상기 바렐 내부로 투입하는 피처리물 투입부;를 포함하여 구성되는 것이 바람직하다. In addition, in the present invention, the object loading unit includes: a hopper in which the fine particulate matter to be treated is contained in a large amount; It is installed in the lower opening of the hopper, the object to be measured by measuring a certain amount of fine particulate matter to be discharged; It is preferable to be configured to include; a to-be-processed part introduction part for introducing the inside of the barrel to stand and wait for the to-be-processed metering part.
또한 본 발명에서 상기 바렐 이동부는, 상기 피처리물 로딩부에 안착되어 상기 피처리 미세입상물질이 로딩된 바렐을 픽업하여 상기 바렐 장착부 위치로 이동시키고, 상기 바렐 장착부에서 플라즈마 처리가 완료된 바렐을 바렐 배출 위치로 픽업하여 이동시키는 제1 바렐 이동부; 상기 바렐 배출 위치에서 상기 제1 바렐 이동부로부터 상기 바렐을 전달받아 상기 피처리물 언로딩부 위치로 이동시키고 상기 바렐을 180°반전시키는 제2 바렐 이동부;를 포함하는 것이 바람직하다.In addition, in the present invention, the barrel moving part picks up the barrel loaded with the microparticles to be treated and moves to the position of the barrel mounting part, seated on the object loading part, and barrels the plasma-treated barrel in the barrel mounting part. A first barrel moving part picked up and moved to the discharge position; It is preferable to include; a second barrel moving part that receives the barrel from the first barrel moving part at the barrel discharge position, moves it to the position of the unloading part to be processed, and reverses the barrel by 180°.
또한 본 발명에서 상기 바렐 이동부에는, 상기 제2 바렐 이동부에 의하여 상기 피처리 미세입상물질이 언로딩되어 빈 바렐을 상기 피처리물 로딩부로 이동시키는 제3 바렐 이동부가 더 구비되는 것이 바람직하다. In addition, in the present invention, it is preferable that the third barrel moving part is further provided in the barrel moving part to move the empty barrel to the loading target part by unloading the fine particulate matter to be processed by the second barrel moving part. .
또한 본 발명에 따른 바렐 플라즈마 처리장치에는, 상기 피처리물 언로딩부에 인접하게 설치되며, 상기 제2 바렐 이동부에 의하여 반전된 상기 바렐의 내부에 고압의 기체를 분사하여 상기 바렐 내부에 남아 있는 상기 피처리 미세입상물질을 제거하는 바렐 클리닝부가 더 구비되는 것이 바람직하다. In addition, the barrel plasma processing apparatus according to the present invention is installed adjacent to the unloading part of the object to be treated and remains inside the barrel by injecting high-pressure gas into the inside of the barrel reversed by the second barrel moving part. It is preferable that a barrel cleaning part for removing the fine particulate matter to be treated is further provided.
또한 본 발명에서 상기 바렐은 상면이 개방된 원통 형상의 원통 부재와, 상기 원통 부재의 상부에 분리가능하게 결합되어 상기 원통 부재의 개구부 일부를 차단하는 커버 부재로 구성되는 것이 바람직하다. In addition, in the present invention, the barrel is preferably composed of a cylindrical member having an open top surface and a cover member detachably coupled to the upper portion of the cylindrical member to block a portion of the opening of the cylindrical member.
또한 본 발명에서 상기 제1 바렐 이동부는, 상기 커버 부재를 잡는 커버부재 그리핑부; 상기 커버부재 그리핑부를 상하 방향으로 구동시키는 그리핑부 승강수단; 및 상기 원통 부재의 외측면을 잡는 원통부재 그리핑부;를 포함하는 것이 바람직하다. In addition, in the present invention, the first barrel moving part includes: a cover member gripping part for holding the cover member; A gripping part elevating means for driving the cover member gripping part in the vertical direction; And a cylindrical member gripping part for holding the outer surface of the cylindrical member.
본 발명의 바렐 플라즈마 자동 처리장치에 의하면 피처리 미세입상물질이 담겨 있는 바렐을 자동으로 각 공정 위치로 이동 및 장착하면서 피처리 미세입상물질에 대한 로딩, 언로딩 및 플라즈마 처리 전 공정을 자동화 공정으로 처리할 수 있는 장점이 있다.According to the automatic plasma plasma treatment apparatus of the present invention, the process of loading, unloading, and pre-plasma treatment for the fine particulate matter to be treated as an automated process while automatically moving and mounting the barrel containing the fine particulate matter to be processed at each process location It has the advantage of being able to handle it.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 바렐 플라즈마 자동 처리장치의 구조를 도시하는 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 바렐 플라즈마 자동 처리장치의 구조를 도시하는 평면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 처리 챔버에 바렐이 장착되는 구조를 도시하는 단면도이다.
도 4, 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 바렐이 바렐 장착부에 장착되어 회동하는 과정을 도시하는 도면들이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 바렐 플라즈마 자동 처리장치의 구조를 도시하는 배면도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 바렐 플라즈마 자동 처리장치의 구조를 도시하는 다른 방향에서의 사시도이다. 1 is a perspective view showing the structure of an automatic barrel plasma processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a plan view showing a structure of an automatic barrel plasma processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view showing a structure in which a barrel is mounted in a processing chamber according to an embodiment of the present invention.
4 and 5 are views showing a process in which the barrel is mounted on the barrel mounting portion and rotated according to an embodiment of the present invention.
6 is a rear view showing the structure of an automatic barrel plasma processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
7 is a perspective view from another direction showing the structure of an automatic barrel plasma processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 구체적인 실시예를 상세하게 설명한다. Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
본 실시예에 따른 바렐 플라즈마 자동 처리장치(100)는 도 1, 2에 도시된 바와 같이, 플라즈마 처리부(110), 바렐 장착부(120), 피처리물 로딩부(130), 피처리물 언로딩부(140) 및 바렐 이동부(150)을 포함하여 구성된다. 본 실시예에서 상기 바렐(10)은 도 3, 4에 도시된 바와 같이, 상면이 개방된 원통 형상의 원통 부재(12)와, 상기 원통 부재(12)의 상부에 분리가능하게 결합되어 상기 원통 부재(12)의 개구부(11) 일부를 차단하는 커버 부재(14)로 구성되며, 이 구조를 기본으로 이하에서 설명한다. Barrel plasma
먼저 상기 플라즈마 처리부(110)는 바렐(10)에 담겨 있는 피처리 미세입상물질의 표면에 플라즈마를 처리하는 구성요소이다. 즉, 본 실시예에 따른 플라즈마 처리부(110)는 상기 바렐(10)에 담겨 있는 매우 작은 크기의 피처리 미세입상물질의 전면에 대하여 플라즈마 가스를 분사하여 플라즈마 처리를 수행하는 것이다. First, the
이를 위하여 본 실시예에서는 상기 플라즈마 처리부(110)를 구체적으로 도 1, 2에 도시된 바와 같이, 처리 챔버(111), 전극부(112) 및 배기부(113)을 포함하여 구성한다. 먼저 상기 처리 챔머(111)는 플라즈마 처리를 위한 공간을 제공하며, 후술하는 장착 플레이트(121)와 결합한 상태에서 내부 공간을 밀폐 공간이 되도록 한다. To this end, in this embodiment, the
상기 처리 챔버(111)는 도 1에 도시된 바와 같이, 전방이 개방된 원통 형상을 가지며, 개구부가 전방을 보도록 누운 상태로 설치된다. As shown in FIG. 1, the
다음으로 상기 전극부(112)는 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 처리 챔버(111)의 중앙에 설치되며, 고전압이 인가되어 상기 처리 챔버(111)에 장착되는 상기 바렐 방향으로 플라즈마 가스를 분사하는 구성요소이다. 즉, 상기 전극부(112)는 외부에서 공급되는 원료가스가 고르게 확산되어 피처리 미세입상물질 방향으로 분사되고, 고전압 전원이 인가되어 분사되는 원료 가스를 플라즈마화하는 것이다. Next, as illustrated in FIG. 1, the
상기 전극부(112)는 구체적으로 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 처리 챔버(111)의 밑면(111a) 중앙에 일단이 고정되어 설치되며, 전체적으로 상기 처리 챔버(111)의 원통형 내부 공간의 중앙에 개구부 방향으로 돌출되어 형성된다. 이 전극부(112)를 상기 바렐(10)이 감싸는 형태로 장착되어 플라즈마 처리 공정이 진행되는 것이다. The
따라서 상기 전극부(112)에는 외부에서 공급되는 원료가스의 균일한 확산을 위한 확산부(112a)와 분사를 위한 분사부(112b)가 구비되며, 상기 분사부(112b)는 상기 처리 챔버(111) 내에서 직하방 방향에서 약 15°정도 기울어진 상태로 설치된다. 이는 상기 바렐(10)이 처리 과정에서 회전하므로 이에 채워진 피처리 미세입상물질들(1)이 상기 바렐(10)의 중앙 보다 약간 측방으로 치우진 영역에 집중적으로 배치되어 있기 때문에, 이 방향으로 플라즈마 가스를 집중적으로 분사하기 위함이다. Therefore, the
다음으로 상기 배기부(113)는 도 2, 3에 도시된 바와 같이, 상기 처리 챔버(111)에 설치되며, 상기 처리 챔버(111) 내부의 기체를 흡입하여 외부로 배출하는 구성요소이다. 상기 배기부(113)는 상기 분사부(112b)에 의하여 분사되는 플라즈마 가스가 처리 후에 상기 전극부(112)와 바렐 개구부(11) 사이의 틈으로 배출되도록 상기 처리 챔버(111)에 배관(도면에 미도시) 및 이에 연결된 배기 펌프(113)로 설치되어 상기 처리 챔버(111) 내부의 기체를 흡입하여 외부로 배출한다. 상기 배기부(113)는 상기 처리 챔버(111) 내부의 진공 분위기 형성을 위한 배기 작업도 수행한다. Next, as shown in FIGS. 2 and 3, the
다음으로 상기 바렐 장착부(120)는 상기 플라즈마 처리부(110)에 상기 바렐(10)을 처리 상태로 장착하는 구성요소이다. 즉, 상기 바렐 장착부(120)는 상기 피처리물 로딩부(130)에 의하여 피처리 미세입상물질이 로딩되어 전달되는 바렐(10)을 상기 처리 챔버(111)에 장착하여 플라즈마 처리가 가능한 상태로 만들고, 플라즈마 처리가 이루어지도록 상기 바렐(10)을 회전시키는 것이다. Next, the
이를 위하여 본 실시예에서는 상기 바렐 장착부(120)를 구체적으로 도 2, 5에 도시된 바와 같이, 장착 플레이트(121), 바렐 회전봉(122), 회전봉 회전부(123), 플레이트 회동부(124) 및 플레이트 전후진부(125)를 포함하여 구성할 수 있다. 먼저 상기 장착 플레이트(121)는 도 1, 4에 도시된 바와 같이, 전체적으로 평평한 플레이트 형상을 가지며, 그 상면에 상기 바렐(10)이 상면에 안착되는 구성요소이다. 그리고 상기 장착 플레이트(121)는 전술한 바와 같이, 바렐(10)의 안착 과정에서는 지면과 수평하게 대기하다가 플라즈마 처리 과정에서는 상기 바렐(10)을 장착한 상태에서 수직으로 기립되어 상기 처리 챔버(111)의 개방된 전면에 밀착되어 상기 처리 챔버(111) 내부 공간을 밀폐 공간으로 만든다. To this end, in this embodiment, the
따라서 상기 장착 플레이트(121)와 상기 처리 챔버(111)의 밀착 부분에는 실링부재(도면에 미도시)가 더 구비되는 것이 바람직하다. Therefore, it is preferable that a sealing member (not shown in the drawing) is further provided on the contact portion between the
다음으로 상기 바렐 회전봉(122)은 도 4, 5에 도시된 바와 같이, 상기 장착 플레이트(121)를 관통하여 회전가능하게 설치되며, 상기 바렐(10)을 지지하면서 회전시키는 구성요소이다. 본 실시예에서 상기 바렐 회전봉(122)은 상기 바렐(10)을 안정적으로 지지하고 회전시키기 위하여 일정 간격 이격되어 한 쌍으로 설치된다. Next, the
그리고 상기 바렐 회전봉(122)에는 마찰력 증대부재(126)가 더 구비되는 것이 바람직하다. 상기 마찰력 증대부재(126)는 상기 바렐 중 실제로 상기 바렐 회전봉(122)과 접촉하는 부분인 바렐 외주부(13)와 접촉하는 부분에 설치되며, 상기 바렐 회전봉(122)의 회전력이 손실 없이 상기 바렐(10)의 회전에 전달되도록 한다. 따라서 상기 마찰력 증대부재(126)는 고무 등과 같이, 마찰력이 크게 발생하는 소재로 이루어지는 것이 바람직하다. And it is preferable that the
다음으로 상기 회전봉 회전부(123)는 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 장착 플레이트(121)의 후측에 설치되며, 상기 바렐 회전봉(122)를 회전시키는 구성요소이다. 즉, 상기 회전봉 회전부(123)는 상기 바렐(10)과 장착 플레이트(121)가 상기 처리 챔버(111)와 완벽하게 결합되어 플라즈마 처리 준비가 완료된 상태에서, 제어부의 제어 명령에 의하여 상기 바렐 회전봉(122)을 회전시킨다. 그러면 상기 바렐 회전봉(122)에 지지되어 있는 바렐(10)이 회전하면서 그 내부의 피처리 미세입상물질이 골고루 섞이면서 그 전면에 대한 플라즈마 처리가 가능해지는 것이다. Next, the rotating
다음으로 상기 플레이트 회동부(124)는 도 4, 5에 도시된 바와 같이, 상기 장착 플레이트(121) 및 회전봉 회전부(123)를 연직 방향 및 상기 처리 챔버 방향으로 회동시키는 구성요소이다. 즉 상기 플레이트 회동부(124)는 상기 바렐(10)의 장착 과정에서는 도 4에 도시된 바와 같이 상기 장착 플레이트(121)를 지면과 수평하게 회동시키고, 플라즈마 처리 과정에서는 도 5에 도시된 바와 같이, 수직으로 기립시킨다. Next, the
다음으로 상기 플레이트 전후진부(125)는 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 플레이트 회동부(124)를 상기 처리 챔버(111) 방향으로 전후진시키는 구성요소이다. 즉, 상기 플레이트 전후진부(125)는 상기 플레이트 회동부(124) 및 이에 결합되어 있는 장착 플레이트(121)와 회전봉 회전부(123)를 전후진시켜 상기 바렐(10)과 장착 플레이트(121)가 상기 처리 챔버(111)에 결합되거나 분리되도록 하는 것이다. Next, the plate forward and
그리고 본 실시예에 따른 바렐 장착부(120)에는 도 1, 5에 도시된 바와 같이, 바렐 고정부(127)가 더 구비되는 것이 바람직하다. 상기 바렐 고정부(127)는 상기 장착 플레이트(121) 중 상기 바렐 회전봉(122)의 반대편에 설치되며, 젖혀질 수 있는 구조로 상기 장착 플레이트(127)에 결합된다. 이러한 구조를 가지는 상기 바렐 고정부(127)는 상기 바렐(10)을 상기 장착 플레이트(121)에 안착하는 과정 또는 들어올리는 동안에는 뒤로 젖혀져서 간섭되지 않는 위치에서 대기하다가 상기 바렐(10)과 장착 플레이트(121)가 눕혀지는 과정에서는 상기 바렐(10) 방향으로 회동하여 상기 바렐(10)의 하부를 상기 바렐 회전봉(122) 방향으로 가압하여 바렐이 정상 위치에서 이탈되지 않도록 고정한다. 바렐의 눕힘 과정이 완료되면 상기 바렐 고정부는 다시 뒤로 젖혀진다. And it is preferable that the
한편 본 실시예에서 상기 플라즈마 처리부(110)와 바렐 장착부(120)는 한 쌍을 이루어 구성되며, 도 1에 도시된 바와 같이, 처리 효율을 위하여 다수 쌍이 인접하게 설치되는 구조를 가질 수도 있다. Meanwhile, in this embodiment, the
다음으로 상기 피처리물 로딩부(130)는 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 바렐 장착부(120)에 인접하게 설치되며, 상기 바렐(10)에 상기 피처리 미세입상물질 일정량을 로딩하는 구성요소이다. 상기 피처리 미세입상물질은 정상적인 플라즈마 처리를 위하여 상기 바렐(10)에 미리 정해진 매우 정확한 양이 로딩되어야 한다. 이러한 피처리 미세입상물질의 정확한 계량과 로딩을 상기 피처리물 로딩부(130)가 수행하는 것이다. Next, as shown in FIG. 1, the
이를 위하여 상기 피처리물 로딩부(130)는 구체적으로 도 1, 2에 도시된 바와 같이, 호퍼(131), 피처리물 계량부(132) 및 피처리물 투입부(133)을 포함하여 구성될 수 있다. 먼저 상기 호퍼(131)는 상기 피처리 미세입상물질이 대량으로 담겨 있는 구성요소이며, 하측으로 개구부가 형성되어 피처리 미세입상물질을 상기 피처리물 계량부(132) 방향으로 배출할 수 있는 구조를 가진다. To this end, the
다음으로 상기 피처리물 계량부(132)는 도 1, 2에 도시된 바와 같이, 상기 호퍼(131)의 하측 개구부에 설치되며, 일정량의 피처리 미세입상물질을 계량하여 배출하는 구성요소이다. 상기 피처리물 계량부(132)에는 로드셀(loadcell) 등과 같이, 정확한 무게를 측정할 수 있는 센서가 구비되며, 상기 호퍼로부터 미리 정해진 정확한 양의 피처리 미세입상물질을 공급받는다. Next, the to-
다음으로 상기 피처리물 투입부(133)는 도 1, 2에 도시된 바와 같이, 상기 피처리물 계량부(132)를 바렐 승강부(134) 상에서 기립되어 대기하는 상기 바렐(10) 내부로 이동시키고, 외부 손실없이 상기 바렐(10) 내에 투입하는 구성요소이다. Next, the to-
한편 본 실시예에 따른 피처리물 로딩부(130)에는 도 1, 7에 도시된 바와 같이, 바렐 승강부(134)가 더 구비되는 것이 바람직하다. 상기 바렐 승강부(134)는 바렐(10)이 기립된 상태에서 안착되는 안착 지그(134a)와 상기 안착 지그(134a)를 상하 방향으로 승강시키는 승강수단(134b)으로 구성되며, 후술하는 제3 바렐 이동부에 의하여 빈 상태로 돌아오는 바렐(10)을 전달 받아서 피처리물 로딩 위치로 상승시킨다. Meanwhile, as illustrated in FIGS. 1 and 7, the
다음으로 상기 피처리물 언로딩부(140)는 도 1, 2에 도시된 바와 같이, 상기 플라즈마 처리부(110)에 인접한 위치에 설치되며, 상기 바렐(10)에서 처리가 완료된 상기 피처리 미세입상물질을 언로딩하는 구성요소이다. 즉, 상기 피처리물 언로딩부(140)는 상기 제2 바렐 이동부(152)에 의하여 이동된 바렐(10) 내부에 담겨 있는 처리가 완료된 피처리 미세입상물질을 전달받아서 포장하여 외부로 배출하는 것이다. Next, the
상기 피처리물 언로딩부(140)는 도 1에 도시된 바와 같이, 구체적으로 상기 바렐(10)로부터 피처리 미세입상물질을 전달받는 배출 호퍼(141), 분배부(142), 포장 배출부(143)를 포함하여 구성될 수 있다. As illustrated in FIG. 1, the
다음으로 상기 바렐 이동부(150)는 상기 피처리물 로딩부(130), 바렐 장착부(120) 및 피처리물 언로딩부(140) 사이를 이동하며, 상기 바렐(10)을 각 공정 위치에 이동시키는 구성요소이다. 즉, 상기 바렐 이동부(150)는 자동화 공정에 의하여 구동되는 본 실시예에 따른 바렐 플라즈마 자동 처리장치(100)에서 상기 바렐(10)을 각 공정 위치로 제어부(도면에 미도시)의 제어에 의하여 이동시키는 것이다. Next, the
이를 위하여 본 실시예에서는 상기 바렐 이동부(150)를 구체적으로 제1 바렐 이동부(151)와 제2 바렐 이동부(152)로 구성한다. 먼저 제1 바렐 이동부(151)는 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 피처리물 로딩부(130)에 안착되어 상기 피처리 미세입상물질이 로딩된 바렐(10)을 픽업하여 상기 바렐 장착부(120) 위치로 이동시키고, 상기 바렐 장착부(120)에서 플라즈마 처리가 완료된 바렐(10)을 바렐 배출 위치로 픽업하여 이동시키는 구성요소이다. To this end, in this embodiment, the
여기에서 '바렐 배출 위치'라 함은 상기 바렐 장착부(120)에 인접하고 상기 제1, 2 바렐 이동부(151, 152)의 동선이 겹치는 위치를 말한다. Here, the'barrel discharge position' refers to a position adjacent to the
따라서 상기 제1 바렐 이동부(151)는 상기 바렐의 원통 부재(12)의 외측면 그리핑할 수 있는 원통부재 그리핑부(151a)와 커버 부재(14)를 잡는 커버부재 그리핑부(151e) 및 상기 원통부재 그리핑부(151a)와 커버부재 그리핑부(151e)가 설치되는 설치블럭(151b)를 구비하며, 상기 설치블럭(151b)을 승강시키는 그리핑부 승강수단(151f) 및 상기 그리핑부 승강수단(151f)을 전후 좌우로 수평 이동시키는 수평 이동수단(151c, 151d) 등을 구비한다. Therefore, the first
특히, 상기 커버부재 그리핑부(151e)는 상기 커버부재(14)를 그리핑한 상태에서 상기 그리핑부 승강수단(151f)에 의하여 원통부재(12) 방향으로 하강하면서 상기 커버부재(14)를 가압하여 원통부재(12)에 결합시키는 기능과, 원통부재(12)에 결합되어 있는 커버부재(14)를 상측으로 당겨서 개방시키는 기능도 수행한다. Particularly, the cover
다음으로 상기 제2 바렐 이동부(152)는 상기 바렐(10) 배출 위치에서 상기 제1 바렐 이동부(151)로부터 상기 바렐(10)을 전달받아 상기 피처리물 언로딩부(140) 위치로 이동시키고 상기 바렐(10)을 180°반전시키는 구성요소이다. 즉, 상기 제2 바렐 이동부(152)는 상기 제1 바렐 이동부(151)로부터 처리가 완료된 바렐(10)을 전달받은 후, 이를 상기 피처리물 언로딩부(140)로 이동시킨 후 뒤집어서 상기 바렐(10) 내부에 담겨 있는 상기 피처리 미세입상물질을 상기 피처리물 언로딩부(140)로 배출하는 것이다. 이때 바렐(10)의 원활한 전달을 위하여 상기 원통부재 그리핑부(151a)는 상기 원통부재(12)의 상부를 그리핑하고, 제2 원통부재 그리핑부(152a)는 상기 원통부재(12)의 하부를 그리핑한다. Next, the second
특히, 상기 제1 바렐 이동부(151)로부터 상기 바렐(10)을 전달받는 과정에서 상기 바렐의 커버부재(14)가 원통부재(12)로부터 분리된다. 이렇게 상기 커버부재 그리핑부(151e)에 그리핑된 커버부재(14)는 다시 피처리물 로딩부(130)로 이동하여 다음 원통부재(12)와 결합되어 다음 공정에 이용된다. Particularly, in the process of receiving the
그리고 본 실시예에서 상기 제2 바렐 이동부(152)는 구체적으로 도 2, 3에 도시된 바와 같이, 바렐의 원통부재(12) 측면을 그리핑하는 제2 원통부재 그리핑부(152a), 상기 제2 원통부재 그리핑부(152a)를 상하 방향으로 반전시키는 반전부(152b) 및 상기 반전부(152b)를 수평 이동시키는 수평 이동수단(152c)을 포함하여 구성된다. And in the present embodiment, the second
한편 본 실시예에 따른 상기 바렐 이동부(150)에는 제3 바렐 이동부(도면에 미도시)가 더 구비되는 것이 바람직하다. 상기 제3 바렐 이동부는 상기 제2 바렐 이동부(152)에 의하여 상기 피처리 미세입상물질이 언로딩되어 빈 바렐(10)을 상기 피처리물 로딩부(130)로 이동시키는 구성요소이다. 상기 제3 바렐 이동부는 본 실시예에 따른 바렐 플라즈마 처리장치(100)의 하부에 설치되며, 상기 원통부재(12)를 수평 이동시킬 수 있는 다양한 구조를 가질 수 있다. Meanwhile, it is preferable that a third barrel moving part (not shown in the drawing) is further provided in the
그리고 본 실시예에 따른 바렐 플라즈마 처리장치(100)에는 바렐 클리닝부(160)가 더 구비되는 것이 바람직하다. 상기 바렐 클리닝부(160)는 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 피처리물 언로딩부(140)에 인접하게 설치되며, 상기 제2 바렐 이동부(152)에 의하여 반전된 상기 바렐(10)의 내부에 고압의 기체를 분사하여 상기 바렐(10) 내부에 남아 있는 상기 피처리 미세입상물질을 제거하는 구성요소이다. 상기 바렐(10) 내부에 담겨 있는 피처리 미세입상물질은 상기 피처리물 언로딩부(140)에 전부 배출되지만, 일부가 상기 원통 부재(12)의 내부에 남아 있을 수 있다. 이 경우 상기 바렐 클리닝부(160)로 이동하여 하측에서 고압의 기체를 분사하여 혹시 남아 있을 수 있는 피처리 미세입상물질을 완전하게 제거하는 것이다. In addition, the barrel
100 : 본 발명의 일 실시예에 따른 바렐 플라즈마 자동 처리장치
110 : 플라즈마 처리부 120 : 바렐 장착부
130 : 피처리물 로딩부 140 : 피처리물 언로딩부
150 : 바렐 이동부 160 : 바렐 클리닝부
10 : 바렐100: barrel plasma automatic processing apparatus according to an embodiment of the present invention
110: plasma processing unit 120: barrel mounting unit
130: loading part to be processed 140: unloading part to be processed
150: Barrel moving part 160: Barrel cleaning part
10: Barrel
Claims (4)
수직으로 기립된 상태로 외부에서 공급되는 상기 바렐을 수취하여 상기 플라즈마 처리부에 상기 바렐을 수평 방향으로 누운 상태로 장착 및 회전시키고, 플라즈마 처리가 완료된 바렐은 상기 플라즈마 처리부로부터 분리하여 수직으로 기립시키는 바렐 장착부;
상기 바렐 장착부에 인접하게 설치되며, 수직으로 기립된 상태의 상기 바렐에 상기 피처리 미세입상물질 일정량을 로딩하는 피처리물 로딩부;
상기 플라즈마 처리부에 인접한 위치에 설치되며, 수직으로 기립된 상태의 상기 바렐을 뒤집어 상기 바렐에서 처리가 완료된 상기 피처리 미세입상물질을 언로딩하는 피처리물 언로딩부;
상기 피처리물 로딩부, 바렐 장착부 및 피처리물 언로딩부 사이를 이동하며, 수직으로 기립된 상태의 상기 바렐을 각 공정 위치에 이동시키는 바렐 이동부;를 포함하며,
상기 플라즈마 처리부는,
전방이 개방된 원통형 내부 공간을 가지는 처리 챔버;
상기 처리 챔버의 중앙에 설치되며, 고전압이 인가되어 상기 처리 챔버에 장착되는 상기 바렐 방향으로 플라즈마 가스를 분사하는 전극부;
상기 처리 챔버에 설치되며, 상기 처리 챔버 내부의 기체를 흡입하여 외부로 배출하는 배기부;를 포함하고,
상기 바렐 장착부는,
상기 바렐이 상면에 안착되며, 상기 처리 챔버의 개방된 전면에 밀착되어 상기 처리 챔버 내부 공간을 밀폐 공간으로 만드는 장착 플레이트;
상기 장착 플레이트를 관통하여 회전가능하게 설치되며, 상기 바렐을 지지하면서 회전시키는 한 쌍의 바렐 회전봉;
상기 장착 플레이트의 배면에 설치되며, 상기 바렐 회전봉을 회전시키는 회전봉 회전부;
상기 장착 플레이트 및 회전봉 회전부를 연직 방향 및 상기 처리 챔버 방향으로 회동시키는 플레이트 회동부;
상기 플레이트 회동부를 상기 처리 챔버 방향으로 전후진시키는 플레이트 전후진부;
상기 장착 플레이트 중 상기 바렐 회전봉의 반대편에 설치되며, 젖혀질 수 있는 구조를 가져서 상기 장착 플레이트에 장착된 상기 바렐을 상기 장착 플레이트의 회동 과정에서 고정하는 바렐 고정부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 바렐 플라즈마 자동 처리장치.Plasma processing unit for plasma treatment on the surface of the fine particulate material to be treated contained in the barrel;
The barrel, which is vertically erected, receives the barrel supplied from the outside, mounts and rotates the barrel in the horizontal state in the horizontal direction, and the plasma-completed barrel separates from the plasma treatment part and stands vertically. Mounting part;
An object loading unit installed adjacent to the barrel mounting unit and loading a predetermined amount of the fine particulate matter to be treated into the barrel in a vertically standing state;
A processing object unloading unit installed at a position adjacent to the plasma processing unit, and inverting the barrel in a vertically standing state to unload the processed microparticulate material that has been processed in the barrel;
It includes; a barrel moving part that moves between the object loading part, the barrel mounting part, and the object unloading part, and moves the barrel in a vertically standing state to each process position;
The plasma processing unit,
A processing chamber having a cylindrical interior space with an open front;
An electrode unit installed at the center of the processing chamber and applying a high voltage to inject plasma gas in the barrel direction mounted on the processing chamber;
It is installed in the processing chamber, the exhaust portion for sucking the gas inside the processing chamber and discharged to the outside; includes,
The barrel mounting portion,
A mounting plate on which the barrel is seated on an upper surface and in close contact with an open front surface of the processing chamber to make the processing chamber interior space an enclosed space;
A pair of barrel rotating rods rotatably installed through the mounting plate and rotating while supporting the barrel;
It is installed on the rear surface of the mounting plate, the rotating rod rotating portion for rotating the barrel rotating rod;
A plate rotating part rotating the mounting plate and the rotating rod rotating part in the vertical direction and the processing chamber direction;
A plate forward and backward portion for moving the plate rotation portion forward and backward in the direction of the processing chamber;
Barrel fixed portion of the mounting plate is installed on the other side of the barrel rotating rod, having a structure that can be tilted to fix the barrel mounted on the mounting plate in the rotation process of the mounting plate; Plasma automatic processing device.
상기 플라즈마 처리부와 바렐 장착부는 한 쌍을 이루어 구성되며, 다수 쌍이 인접하게 설치되는 것을 특징으로 하는 바렐 플라즈마 자동 처리장치. According to claim 1,
The plasma processing unit and the barrel mounting unit is composed of a pair, a plurality of pairs of automatic plasma plasma processing apparatus characterized in that the adjacent installation.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020190010456A KR102118991B1 (en) | 2019-01-28 | 2019-01-28 | A automatic apparatus for treating the fine particle with plasma |
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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KR102118991B1 true KR102118991B1 (en) | 2020-06-05 |
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ID=71089211
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Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20060059054A (en) * | 2004-11-26 | 2006-06-01 | 가부시끼가이샤가이죠 | Device for surface treatment of substrate |
KR20140126097A (en) * | 2013-04-22 | 2014-10-30 | (주) 엠에이케이 | The system for teating fine particle |
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2019
- 2019-01-28 KR KR1020190010456A patent/KR102118991B1/en active IP Right Grant
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KR20060059054A (en) * | 2004-11-26 | 2006-06-01 | 가부시끼가이샤가이죠 | Device for surface treatment of substrate |
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