KR102118991B1 - A automatic apparatus for treating the fine particle with plasma - Google Patents

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전병준
함민수
김민성
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(주) 엠에이케이
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Abstract

The present invention relates to an apparatus for automatically treating barrel plasma, for treating a loading operation, an unloading operation, and a plasma treating pre-process for a treated fine granular material in an automated process while moving a barrel, in which the treated file particular material is contained, is fed to and mounted at the process locations automatically. An apparatus for automatically treating barrel plasma according to the present invention includes: a plasma treating part configured to plasma-treat a surface of a treated fine granular material contained in a barrel; a barrel mounting part mounting the barrel on the plasma treating part; a treated material loading part installed adjacent to the barrel mounting part and configured to load a predetermined amount of the treated fine granular material in the barrel; a treated material unloading part installed at a location that is adjacent to the plasma treating part and configured to unload the treated fine granular material, which has been completely treated in the barrel; and a barrel moving part configured to move among the treated material loading part, the barrel mounting part, and the treated material unloading part and move the barrel to the process locations.

Description

바렐 플라즈마 자동 처리장치{A AUTOMATIC APPARATUS FOR TREATING THE FINE PARTICLE WITH PLASMA}Barrel plasma automatic processing device {A AUTOMATIC APPARATUS FOR TREATING THE FINE PARTICLE WITH PLASMA}

본 발명은 바렐 플라즈마 자동 처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 피처리 미세입상물질이 담겨 있는 바렐을 자동으로 각 공정 위치로 이동 및 장착하면서 피처리 미세입상물질에 대한 로딩, 언로딩 및 플라즈마 처리 전 공정을 자동화 공정으로 처리하는 바렐 플레즈마 자동 처리장치에 관한 것이다. The present invention relates to an automatic treatment device for barrel plasma, and more specifically, loading, unloading, and plasma treatment of the treated fine particulate material while automatically moving and mounting the barrel containing the treated fine particulate material to each process location. It relates to a Barrel Plasma automatic processing device that processes the entire process as an automated process.

일반적으로 특정 소재의 표면에 다른 물질을 코팅하거나 다른 물질을 부착하는 경우에는 코팅물질이나 부착 물질의 접착력을 높이기 위하여 소재 표면에 대한 표면 처리 작업이 진행된다. 이러한 소재의 표면 처리 내지 표면 개질에는 다양한 방법이 이용될 수 있으며, 최근에는 획기적인 표면 개질 효과를 얻을 수 있는 플라즈마 표면 처리 방법이 널리 사용되고 있다. In general, when a different material is coated on a surface of a specific material or when a different material is attached, a surface treatment operation is performed on the surface of the material in order to increase the adhesion of the coating material or the attached material. Various methods can be used for the surface treatment or surface modification of these materials, and recently, a plasma surface treatment method capable of obtaining an innovative surface modification effect has been widely used.

플라즈마 표면 처리 방법은 표면 처리가 필요한 소재의 표면에 상압 플라즈마 또는 진공 플라즈마를 조사하여 소재 표면을 개질하는 방법으로서 처리 방법이 친환경적이고 처리 효과가 매우 뛰어난 장점이 있다. Plasma surface treatment method is a method of modifying the surface of a material by irradiating a normal pressure plasma or a vacuum plasma to the surface of a material that requires surface treatment, and the treatment method is eco-friendly and has an excellent treatment effect.

이러한 종래의 플라즈마 표면 처리 장치는 피처리 대상물인 소재의 크기가 큰 소재를 일정한 탑재대 표면에 고정시킨 상태에서 처리가 필요한 표면에 대해서만 표면 처리를 진행하는 방식이다. Such a conventional plasma surface treatment apparatus is a method in which surface treatment is performed only on a surface requiring treatment in a state where a material having a large size of a material to be treated is fixed to a surface of a fixed table.

그런데 이러한 종래의 플라즈마 처리장치로는 다수개의 면을 가지고, 입상이면서 그 크기가 수 mm 이하일 정도로 매우 작은 미세 입상물질의 처리에는 부적합한 문제점이 있다. 특히, 상기 미세 입상물질의 다수면 중 2면 이상을 처리해야 하는 경우에는 소재의 파지 및 취급이 어려운 문제점이 있다. However, such a conventional plasma processing apparatus has a problem in that it has a plurality of surfaces and is granular and is very small in size, so that it is very small. Particularly, when two or more surfaces of the fine granular material need to be processed, there is a problem in that gripping and handling of the material is difficult.

또한 이러한 미세 입상물질은 처리 과정에서 그 취급 자체가 어려우므로 전체 공정을 자동화하여 정확한 처리가 이루어지도록 할 필요가 있다. In addition, since such fine particulate matter is difficult to handle in the process itself, it is necessary to automate the entire process so that accurate processing is achieved.

본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는 피처리 미세입상물질이 담겨 있는 바렐을 자동으로 각 공정 위치로 이동 및 장착하면서 피처리 미세입상물질에 대한 로딩, 언로딩 및 플라즈마 처리 전 공정을 자동화 공정으로 처리하는 바렐 플레즈마 자동 처리장치를 제공하는 것이다. The technical problem to be solved by the present invention is to automatically process the loading, unloading and plasma treatment of the fine particulate matter to be processed by the automated process while automatically moving and mounting the barrel containing the fine particulate matter to be processed to each process location. To provide a Barrel Plasma automatic processing device.

전술한 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 바렐 플라즈마 자동 처리장치는, 바렐에 담겨 있는 피처리 미세입상물질의 표면에 플라즈마 처리하는 플라즈마 처리부; 상기 플라즈마 처리부에 상기 바렐을 처리 상태로 장착하는 바렐 장착부; 상기 바렐 장착부에 인접하게 설치되며, 상기 바렐에 상기 피처리 미세입상물질 일정량을 로딩하는 피처리물 로딩부; 상기 플라즈마 처리부에 인접한 위치에 설치되며, 상기 바렐에서 처리가 완료된 상기 피처리 미세입상물질을 언로딩하는 피처리물 언로딩부; 상기 피처리물 로딩부, 바렐 장착부 및 피처리물 언로딩부 사이를 이동하며, 상기 바렐을 각 공정 위치에 이동시키는 바렐 이동부;를 포함한다. Barrel plasma automatic processing apparatus according to the present invention for solving the above-described technical problem, the plasma processing unit for plasma processing on the surface of the target fine particulate material contained in the barrel; A barrel mounting unit for mounting the barrel in the plasma processing unit; An object loading unit which is installed adjacent to the barrel mounting unit, and loads a predetermined amount of the fine particulate matter to be treated on the barrel; An object unloading unit installed at a position adjacent to the plasma processing unit, and unloading the micro-particulate material to be processed, which has been processed in the barrel; It includes; a barrel moving part that moves between the processing object loading part, the barrel mounting part, and the processing object unloading part, and moves the barrel to each process position.

본 발명에서 상기 플라즈마 처리부는, 전방이 개방된 원통형 내부 공간을 가지는 처리 챔버; 상기 처리 챔버의 중앙에 설치되며, 고전압이 인가되어 상기 처리 챔버에 장착되는 상기 바렐 방향으로 플라즈마 가스를 분사하는 전극부; 상기 처리 챔버에 설치되며, 상기 처리 챔버 내부의 기체를 흡입하여 외부로 배출하는 배기부;를 포함하는 것이 바람직하다. In the present invention, the plasma processing unit includes: a processing chamber having a cylindrical interior space with an open front; An electrode unit installed at the center of the processing chamber and applying a high voltage to inject plasma gas in the barrel direction mounted on the processing chamber; It is installed in the processing chamber, it is preferable to include; exhaust portion for sucking the gas inside the processing chamber and discharged to the outside.

또한 본 발명에서 상기 바렐 장착부는, 상기 바렐이 상면에 안착되며, 상기 처리 챔버의 개방된 전면에 밀착되어 상기 처리 챔버 내부 공간을 밀폐 공간으로 만드는 장착 플레이트; 상기 장착 플레이트를 관통하여 회전가능하게 설치되며, 상기 바렐을 지지하면서 회전시키는 한 쌍의 바렐 회전봉; 상기 장착 플레이트의 배면에 설치되며, 상기 바렐 회전봉을 회전시키는 회전봉 회전부; 상기 장착 플레이트 및 회전봉 회전부를 연직 방향 및 상기 처리 챔버 방향으로 회동시키는 플레이트 회동부; 상기 플레이트 회동부를 상기 처리 챔버 방향으로 전후진시키는 플레이트 전후진부;를 포함하는 것이 바람직하다. In addition, the barrel mounting portion in the present invention, the barrel is seated on the upper surface, the mounting plate is in close contact with the open front of the processing chamber to make the space inside the processing chamber as a closed space; A pair of barrel rotating rods rotatably installed through the mounting plate and rotating while supporting the barrel; It is installed on the rear surface of the mounting plate, the rotating rod rotating portion for rotating the barrel rotating rod; A plate rotating part rotating the mounting plate and the rotating rod rotating part in the vertical direction and the processing chamber direction; It is preferable to include; a plate forward and backward portion for moving the plate rotation portion forward and backward in the direction of the processing chamber.

또한 본 발명에서 상기 바렐은 상기 처리 챔버에 장착된 상태에서 상기 전극부가 상기 바렐 내부로 진입하며, 상기 바렐 개구부와 상기 전극부 사이에 이격 공간이 형성되는 것이 바람직하다. In addition, in the present invention, it is preferable that the electrode part enters the inside of the barrel while the barrel is mounted in the processing chamber, and a space is formed between the barrel opening and the electrode part.

또한 본 발명에서 상기 바렐 회전봉에는, 상기 바렐 외주부와 접촉하는 부분에 설치되며, 상기 바렐 외주부와의 마찰력을 증대시키는 마찰력 증대부재가 더 구비되는 것이 바람직하다. In addition, in the present invention, it is preferable that the barrel rotating rod is further provided with a friction force increasing member which is installed at a portion in contact with the barrel outer circumferential portion and increases frictional force with the barrel outer circumferential portion.

또한 본 발명에 따른 바렐 플라즈마 자동 처리장치에서, 상기 플라즈마 처리부와 바렐 장착부는 한 쌍을 이루어 구성되며, 다수 쌍이 인접하게 설치되는 것이 바람직하다. In addition, in the automatic barrel plasma processing apparatus according to the present invention, the plasma processing unit and the barrel mounting unit are configured in a pair, and a plurality of pairs are preferably installed adjacently.

또한 본 발명에서 상기 피처리물 로딩부는, 상기 피처리 미세입상물질이 대량으로 담겨 있는 호퍼; 상기 호퍼의 하측 개구부에 설치되며, 일정량의 피처리 미세입상물질을 계량하여 배출하는 피처리물 계량부; 상기 피처리물 계량부를 기립되어 대기하는 상기 바렐 내부로 투입하는 피처리물 투입부;를 포함하여 구성되는 것이 바람직하다. In addition, in the present invention, the object loading unit includes: a hopper in which the fine particulate matter to be treated is contained in a large amount; It is installed in the lower opening of the hopper, the object to be measured by measuring a certain amount of fine particulate matter to be discharged; It is preferable to be configured to include; a to-be-processed part introduction part for introducing the inside of the barrel to stand and wait for the to-be-processed metering part.

또한 본 발명에서 상기 바렐 이동부는, 상기 피처리물 로딩부에 안착되어 상기 피처리 미세입상물질이 로딩된 바렐을 픽업하여 상기 바렐 장착부 위치로 이동시키고, 상기 바렐 장착부에서 플라즈마 처리가 완료된 바렐을 바렐 배출 위치로 픽업하여 이동시키는 제1 바렐 이동부; 상기 바렐 배출 위치에서 상기 제1 바렐 이동부로부터 상기 바렐을 전달받아 상기 피처리물 언로딩부 위치로 이동시키고 상기 바렐을 180°반전시키는 제2 바렐 이동부;를 포함하는 것이 바람직하다.In addition, in the present invention, the barrel moving part picks up the barrel loaded with the microparticles to be treated and moves to the position of the barrel mounting part, seated on the object loading part, and barrels the plasma-treated barrel in the barrel mounting part. A first barrel moving part picked up and moved to the discharge position; It is preferable to include; a second barrel moving part that receives the barrel from the first barrel moving part at the barrel discharge position, moves it to the position of the unloading part to be processed, and reverses the barrel by 180°.

또한 본 발명에서 상기 바렐 이동부에는, 상기 제2 바렐 이동부에 의하여 상기 피처리 미세입상물질이 언로딩되어 빈 바렐을 상기 피처리물 로딩부로 이동시키는 제3 바렐 이동부가 더 구비되는 것이 바람직하다. In addition, in the present invention, it is preferable that the third barrel moving part is further provided in the barrel moving part to move the empty barrel to the loading target part by unloading the fine particulate matter to be processed by the second barrel moving part. .

또한 본 발명에 따른 바렐 플라즈마 처리장치에는, 상기 피처리물 언로딩부에 인접하게 설치되며, 상기 제2 바렐 이동부에 의하여 반전된 상기 바렐의 내부에 고압의 기체를 분사하여 상기 바렐 내부에 남아 있는 상기 피처리 미세입상물질을 제거하는 바렐 클리닝부가 더 구비되는 것이 바람직하다. In addition, the barrel plasma processing apparatus according to the present invention is installed adjacent to the unloading part of the object to be treated and remains inside the barrel by injecting high-pressure gas into the inside of the barrel reversed by the second barrel moving part. It is preferable that a barrel cleaning part for removing the fine particulate matter to be treated is further provided.

또한 본 발명에서 상기 바렐은 상면이 개방된 원통 형상의 원통 부재와, 상기 원통 부재의 상부에 분리가능하게 결합되어 상기 원통 부재의 개구부 일부를 차단하는 커버 부재로 구성되는 것이 바람직하다. In addition, in the present invention, the barrel is preferably composed of a cylindrical member having an open top surface and a cover member detachably coupled to the upper portion of the cylindrical member to block a portion of the opening of the cylindrical member.

또한 본 발명에서 상기 제1 바렐 이동부는, 상기 커버 부재를 잡는 커버부재 그리핑부; 상기 커버부재 그리핑부를 상하 방향으로 구동시키는 그리핑부 승강수단; 및 상기 원통 부재의 외측면을 잡는 원통부재 그리핑부;를 포함하는 것이 바람직하다. In addition, in the present invention, the first barrel moving part includes: a cover member gripping part for holding the cover member; A gripping part elevating means for driving the cover member gripping part in the vertical direction; And a cylindrical member gripping part for holding the outer surface of the cylindrical member.

본 발명의 바렐 플라즈마 자동 처리장치에 의하면 피처리 미세입상물질이 담겨 있는 바렐을 자동으로 각 공정 위치로 이동 및 장착하면서 피처리 미세입상물질에 대한 로딩, 언로딩 및 플라즈마 처리 전 공정을 자동화 공정으로 처리할 수 있는 장점이 있다.According to the automatic plasma plasma treatment apparatus of the present invention, the process of loading, unloading, and pre-plasma treatment for the fine particulate matter to be treated as an automated process while automatically moving and mounting the barrel containing the fine particulate matter to be processed at each process location It has the advantage of being able to handle it.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 바렐 플라즈마 자동 처리장치의 구조를 도시하는 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 바렐 플라즈마 자동 처리장치의 구조를 도시하는 평면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 처리 챔버에 바렐이 장착되는 구조를 도시하는 단면도이다.
도 4, 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 바렐이 바렐 장착부에 장착되어 회동하는 과정을 도시하는 도면들이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 바렐 플라즈마 자동 처리장치의 구조를 도시하는 배면도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 바렐 플라즈마 자동 처리장치의 구조를 도시하는 다른 방향에서의 사시도이다.
1 is a perspective view showing the structure of an automatic barrel plasma processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a plan view showing a structure of an automatic barrel plasma processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view showing a structure in which a barrel is mounted in a processing chamber according to an embodiment of the present invention.
4 and 5 are views showing a process in which the barrel is mounted on the barrel mounting portion and rotated according to an embodiment of the present invention.
6 is a rear view showing the structure of an automatic barrel plasma processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
7 is a perspective view from another direction showing the structure of an automatic barrel plasma processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 구체적인 실시예를 상세하게 설명한다. Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 실시예에 따른 바렐 플라즈마 자동 처리장치(100)는 도 1, 2에 도시된 바와 같이, 플라즈마 처리부(110), 바렐 장착부(120), 피처리물 로딩부(130), 피처리물 언로딩부(140) 및 바렐 이동부(150)을 포함하여 구성된다. 본 실시예에서 상기 바렐(10)은 도 3, 4에 도시된 바와 같이, 상면이 개방된 원통 형상의 원통 부재(12)와, 상기 원통 부재(12)의 상부에 분리가능하게 결합되어 상기 원통 부재(12)의 개구부(11) 일부를 차단하는 커버 부재(14)로 구성되며, 이 구조를 기본으로 이하에서 설명한다. Barrel plasma automatic processing apparatus 100 according to this embodiment, as shown in Figures 1 and 2, the plasma processing unit 110, the barrel mounting unit 120, the object loading unit 130, the object unloading It comprises a portion 140 and the barrel moving portion 150. In this embodiment, the barrel 10 is, as shown in Figures 3 and 4, the upper surface of the cylindrical member 12 and the cylindrical member 12 is opened and detachably coupled to the upper portion of the cylindrical member 12, the cylinder It is composed of a cover member 14 that blocks a part of the opening 11 of the member 12, and this structure will be described below based on this structure.

먼저 상기 플라즈마 처리부(110)는 바렐(10)에 담겨 있는 피처리 미세입상물질의 표면에 플라즈마를 처리하는 구성요소이다. 즉, 본 실시예에 따른 플라즈마 처리부(110)는 상기 바렐(10)에 담겨 있는 매우 작은 크기의 피처리 미세입상물질의 전면에 대하여 플라즈마 가스를 분사하여 플라즈마 처리를 수행하는 것이다. First, the plasma processing unit 110 is a component that processes plasma on the surface of the microparticles to be treated contained in the barrel 10. That is, the plasma processing unit 110 according to the present embodiment is to perform plasma processing by spraying plasma gas onto the entire surface of the fine particulate material to be treated contained in the barrel 10.

이를 위하여 본 실시예에서는 상기 플라즈마 처리부(110)를 구체적으로 도 1, 2에 도시된 바와 같이, 처리 챔버(111), 전극부(112) 및 배기부(113)을 포함하여 구성한다. 먼저 상기 처리 챔머(111)는 플라즈마 처리를 위한 공간을 제공하며, 후술하는 장착 플레이트(121)와 결합한 상태에서 내부 공간을 밀폐 공간이 되도록 한다. To this end, in this embodiment, the plasma processing unit 110 is specifically configured as shown in FIGS. 1 and 2, including a processing chamber 111, an electrode unit 112, and an exhaust unit 113. First, the processing chamber 111 provides a space for plasma processing, and makes the interior space an enclosed space in a state where it is combined with a mounting plate 121 to be described later.

상기 처리 챔버(111)는 도 1에 도시된 바와 같이, 전방이 개방된 원통 형상을 가지며, 개구부가 전방을 보도록 누운 상태로 설치된다. As shown in FIG. 1, the processing chamber 111 has a cylindrical shape with an open front, and an opening is installed in a lying position to see the front.

다음으로 상기 전극부(112)는 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 처리 챔버(111)의 중앙에 설치되며, 고전압이 인가되어 상기 처리 챔버(111)에 장착되는 상기 바렐 방향으로 플라즈마 가스를 분사하는 구성요소이다. 즉, 상기 전극부(112)는 외부에서 공급되는 원료가스가 고르게 확산되어 피처리 미세입상물질 방향으로 분사되고, 고전압 전원이 인가되어 분사되는 원료 가스를 플라즈마화하는 것이다. Next, as illustrated in FIG. 1, the electrode part 112 is installed at the center of the processing chamber 111, and a high voltage is applied to spray plasma gas in the barrel direction mounted in the processing chamber 111. Component. That is, the electrode unit 112 is to spread the raw material gas that is supplied from the outside is evenly diffused and injected in the direction of the fine particulate material to be treated, and a high voltage power source is applied to plasma the raw material gas injected.

상기 전극부(112)는 구체적으로 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 처리 챔버(111)의 밑면(111a) 중앙에 일단이 고정되어 설치되며, 전체적으로 상기 처리 챔버(111)의 원통형 내부 공간의 중앙에 개구부 방향으로 돌출되어 형성된다. 이 전극부(112)를 상기 바렐(10)이 감싸는 형태로 장착되어 플라즈마 처리 공정이 진행되는 것이다. The electrode portion 112 is specifically, as shown in Figure 3, one end is fixed to the center of the bottom surface (111a) of the processing chamber 111 is installed, as a whole the center of the cylindrical interior space of the processing chamber 111 It is formed to protrude in the direction of the opening. The electrode portion 112 is mounted in a form in which the barrel 10 is wrapped, so that a plasma treatment process is performed.

따라서 상기 전극부(112)에는 외부에서 공급되는 원료가스의 균일한 확산을 위한 확산부(112a)와 분사를 위한 분사부(112b)가 구비되며, 상기 분사부(112b)는 상기 처리 챔버(111) 내에서 직하방 방향에서 약 15°정도 기울어진 상태로 설치된다. 이는 상기 바렐(10)이 처리 과정에서 회전하므로 이에 채워진 피처리 미세입상물질들(1)이 상기 바렐(10)의 중앙 보다 약간 측방으로 치우진 영역에 집중적으로 배치되어 있기 때문에, 이 방향으로 플라즈마 가스를 집중적으로 분사하기 위함이다. Therefore, the electrode unit 112 is provided with a diffusion unit 112a for uniform diffusion of raw material gas supplied from the outside and an injection unit 112b for injection, and the injection unit 112b is the processing chamber 111 ), installed in an inclined state of about 15° in the direct downward direction. This is because the barrel 10 is rotated in the process, and thus the microparticles 1 to be treated are concentrated in the region slightly biased to the side than the center of the barrel 10, and thus plasma in this direction. This is to intensively inject gas.

다음으로 상기 배기부(113)는 도 2, 3에 도시된 바와 같이, 상기 처리 챔버(111)에 설치되며, 상기 처리 챔버(111) 내부의 기체를 흡입하여 외부로 배출하는 구성요소이다. 상기 배기부(113)는 상기 분사부(112b)에 의하여 분사되는 플라즈마 가스가 처리 후에 상기 전극부(112)와 바렐 개구부(11) 사이의 틈으로 배출되도록 상기 처리 챔버(111)에 배관(도면에 미도시) 및 이에 연결된 배기 펌프(113)로 설치되어 상기 처리 챔버(111) 내부의 기체를 흡입하여 외부로 배출한다. 상기 배기부(113)는 상기 처리 챔버(111) 내부의 진공 분위기 형성을 위한 배기 작업도 수행한다. Next, as shown in FIGS. 2 and 3, the exhaust unit 113 is a component that is installed in the processing chamber 111 and sucks gas inside the processing chamber 111 to discharge it to the outside. The exhaust part 113 is piped to the processing chamber 111 so that the plasma gas injected by the injection part 112b is discharged into the gap between the electrode part 112 and the barrel opening 11 after processing (drawing) (Not shown in the figure) and an exhaust pump 113 connected thereto, to suck gas inside the processing chamber 111 and discharge it to the outside. The exhaust unit 113 also performs an exhaust operation for forming a vacuum atmosphere inside the processing chamber 111.

다음으로 상기 바렐 장착부(120)는 상기 플라즈마 처리부(110)에 상기 바렐(10)을 처리 상태로 장착하는 구성요소이다. 즉, 상기 바렐 장착부(120)는 상기 피처리물 로딩부(130)에 의하여 피처리 미세입상물질이 로딩되어 전달되는 바렐(10)을 상기 처리 챔버(111)에 장착하여 플라즈마 처리가 가능한 상태로 만들고, 플라즈마 처리가 이루어지도록 상기 바렐(10)을 회전시키는 것이다. Next, the barrel mounting unit 120 is a component for mounting the barrel 10 to the plasma processing unit 110 in a processing state. That is, the barrel mounting unit 120 is mounted on the processing chamber 111 by installing the barrel 10 to which the microparticles to be treated are loaded and transferred by the object loading unit 130, so that plasma treatment is possible. It is made to rotate the barrel 10 so that plasma treatment is performed.

이를 위하여 본 실시예에서는 상기 바렐 장착부(120)를 구체적으로 도 2, 5에 도시된 바와 같이, 장착 플레이트(121), 바렐 회전봉(122), 회전봉 회전부(123), 플레이트 회동부(124) 및 플레이트 전후진부(125)를 포함하여 구성할 수 있다. 먼저 상기 장착 플레이트(121)는 도 1, 4에 도시된 바와 같이, 전체적으로 평평한 플레이트 형상을 가지며, 그 상면에 상기 바렐(10)이 상면에 안착되는 구성요소이다. 그리고 상기 장착 플레이트(121)는 전술한 바와 같이, 바렐(10)의 안착 과정에서는 지면과 수평하게 대기하다가 플라즈마 처리 과정에서는 상기 바렐(10)을 장착한 상태에서 수직으로 기립되어 상기 처리 챔버(111)의 개방된 전면에 밀착되어 상기 처리 챔버(111) 내부 공간을 밀폐 공간으로 만든다. To this end, in this embodiment, the barrel mounting portion 120 is specifically shown in FIGS. 2 and 5, the mounting plate 121, the barrel rotating rod 122, the rotating rod rotating portion 123, the plate rotating portion 124 and It can be configured to include a plate forward and backward portion 125. First, as shown in FIGS. 1 and 4, the mounting plate 121 has a generally flat plate shape, and is a component in which the barrel 10 is mounted on the upper surface. And, as described above, the mounting plate 121 waits horizontally with the ground during the seating process of the barrel 10, and then stands upright in the state in which the barrel 10 is mounted in the plasma processing process, so that the processing chamber 111 ) Is in close contact with the open front surface to make the interior space of the processing chamber 111 a closed space.

따라서 상기 장착 플레이트(121)와 상기 처리 챔버(111)의 밀착 부분에는 실링부재(도면에 미도시)가 더 구비되는 것이 바람직하다. Therefore, it is preferable that a sealing member (not shown in the drawing) is further provided on the contact portion between the mounting plate 121 and the processing chamber 111.

다음으로 상기 바렐 회전봉(122)은 도 4, 5에 도시된 바와 같이, 상기 장착 플레이트(121)를 관통하여 회전가능하게 설치되며, 상기 바렐(10)을 지지하면서 회전시키는 구성요소이다. 본 실시예에서 상기 바렐 회전봉(122)은 상기 바렐(10)을 안정적으로 지지하고 회전시키기 위하여 일정 간격 이격되어 한 쌍으로 설치된다. Next, the barrel rotating rod 122 is rotatably installed through the mounting plate 121, as shown in FIGS. 4 and 5, and is a component that rotates while supporting the barrel 10. In this embodiment, the barrel rotating rods 122 are spaced at regular intervals and installed in a pair to stably support and rotate the barrel 10.

그리고 상기 바렐 회전봉(122)에는 마찰력 증대부재(126)가 더 구비되는 것이 바람직하다. 상기 마찰력 증대부재(126)는 상기 바렐 중 실제로 상기 바렐 회전봉(122)과 접촉하는 부분인 바렐 외주부(13)와 접촉하는 부분에 설치되며, 상기 바렐 회전봉(122)의 회전력이 손실 없이 상기 바렐(10)의 회전에 전달되도록 한다. 따라서 상기 마찰력 증대부재(126)는 고무 등과 같이, 마찰력이 크게 발생하는 소재로 이루어지는 것이 바람직하다. And it is preferable that the barrel rotation rod 122 is further provided with a friction force increasing member 126. The frictional force increasing member 126 is installed in a portion of the barrel that actually comes into contact with the barrel outer circumferential portion 13, which is a portion in contact with the barrel rotating rod 122, and the barrel without the loss of rotational force of the barrel rotating rod 122. 10). Therefore, it is preferable that the frictional force increasing member 126 is made of a material having a large frictional force, such as rubber.

다음으로 상기 회전봉 회전부(123)는 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 장착 플레이트(121)의 후측에 설치되며, 상기 바렐 회전봉(122)를 회전시키는 구성요소이다. 즉, 상기 회전봉 회전부(123)는 상기 바렐(10)과 장착 플레이트(121)가 상기 처리 챔버(111)와 완벽하게 결합되어 플라즈마 처리 준비가 완료된 상태에서, 제어부의 제어 명령에 의하여 상기 바렐 회전봉(122)을 회전시킨다. 그러면 상기 바렐 회전봉(122)에 지지되어 있는 바렐(10)이 회전하면서 그 내부의 피처리 미세입상물질이 골고루 섞이면서 그 전면에 대한 플라즈마 처리가 가능해지는 것이다. Next, the rotating rod rotating portion 123 is installed on the rear side of the mounting plate 121, as shown in Figure 5, is a component for rotating the barrel rotating rod 122. That is, the rotating rod rotating portion 123 is the barrel 10 and the mounting plate 121 is perfectly combined with the processing chamber 111, the plasma treatment preparation is completed, in the state that the plasma treatment is ready, the barrel rotating rod by the control command of the control unit ( 122). Then, as the barrel 10 supported on the barrel rotating rod 122 rotates, the fine particulate matter to be treated therein is evenly mixed, so that plasma treatment on the entire surface becomes possible.

다음으로 상기 플레이트 회동부(124)는 도 4, 5에 도시된 바와 같이, 상기 장착 플레이트(121) 및 회전봉 회전부(123)를 연직 방향 및 상기 처리 챔버 방향으로 회동시키는 구성요소이다. 즉 상기 플레이트 회동부(124)는 상기 바렐(10)의 장착 과정에서는 도 4에 도시된 바와 같이 상기 장착 플레이트(121)를 지면과 수평하게 회동시키고, 플라즈마 처리 과정에서는 도 5에 도시된 바와 같이, 수직으로 기립시킨다. Next, the plate rotating unit 124 is a component that rotates the mounting plate 121 and the rotating rod rotating unit 123 in the vertical direction and the processing chamber direction, as shown in FIGS. 4 and 5. That is, the plate rotation part 124 rotates the mounting plate 121 horizontally with the ground as shown in FIG. 4 in the process of mounting the barrel 10, and as shown in FIG. 5 in the process of plasma treatment. Stand upright, vertically.

다음으로 상기 플레이트 전후진부(125)는 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 플레이트 회동부(124)를 상기 처리 챔버(111) 방향으로 전후진시키는 구성요소이다. 즉, 상기 플레이트 전후진부(125)는 상기 플레이트 회동부(124) 및 이에 결합되어 있는 장착 플레이트(121)와 회전봉 회전부(123)를 전후진시켜 상기 바렐(10)과 장착 플레이트(121)가 상기 처리 챔버(111)에 결합되거나 분리되도록 하는 것이다. Next, the plate forward and backward portion 125 is a component that moves the plate rotation portion 124 forward and backward in the direction of the processing chamber 111, as shown in FIG. That is, the plate forward and backward portion 125 is the plate rotating portion 124 and the mounting plate 121 and the rotating rod rotating portion 123 coupled to the plate forward and backward, so that the barrel 10 and the mounting plate 121 are the It is to be coupled to or separated from the processing chamber 111.

그리고 본 실시예에 따른 바렐 장착부(120)에는 도 1, 5에 도시된 바와 같이, 바렐 고정부(127)가 더 구비되는 것이 바람직하다. 상기 바렐 고정부(127)는 상기 장착 플레이트(121) 중 상기 바렐 회전봉(122)의 반대편에 설치되며, 젖혀질 수 있는 구조로 상기 장착 플레이트(127)에 결합된다. 이러한 구조를 가지는 상기 바렐 고정부(127)는 상기 바렐(10)을 상기 장착 플레이트(121)에 안착하는 과정 또는 들어올리는 동안에는 뒤로 젖혀져서 간섭되지 않는 위치에서 대기하다가 상기 바렐(10)과 장착 플레이트(121)가 눕혀지는 과정에서는 상기 바렐(10) 방향으로 회동하여 상기 바렐(10)의 하부를 상기 바렐 회전봉(122) 방향으로 가압하여 바렐이 정상 위치에서 이탈되지 않도록 고정한다. 바렐의 눕힘 과정이 완료되면 상기 바렐 고정부는 다시 뒤로 젖혀진다. And it is preferable that the barrel mounting portion 120 according to this embodiment is further provided with a barrel fixing portion 127 as shown in FIGS. 1 and 5. The barrel fixing part 127 is installed on the opposite side of the barrel rotating rod 122 among the mounting plates 121 and is coupled to the mounting plate 127 in a structure that can be retracted. The barrel fixing part 127 having such a structure waits in a position that does not interfere by being tilted backward during the process of seating the barrel 10 on the mounting plate 121 or during lifting, and then the barrel 10 and the mounting plate In the process in which the 121 is laid, it rotates in the direction of the barrel 10 and presses the lower portion of the barrel 10 in the direction of the barrel rotating rod 122 to fix the barrel so that it does not deviate from the normal position. When the laying process of the barrel is completed, the barrel fixing part is tilted back again.

한편 본 실시예에서 상기 플라즈마 처리부(110)와 바렐 장착부(120)는 한 쌍을 이루어 구성되며, 도 1에 도시된 바와 같이, 처리 효율을 위하여 다수 쌍이 인접하게 설치되는 구조를 가질 수도 있다. Meanwhile, in this embodiment, the plasma processing unit 110 and the barrel mounting unit 120 are configured in a pair, and as shown in FIG. 1, a plurality of pairs may be installed adjacently for processing efficiency.

다음으로 상기 피처리물 로딩부(130)는 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 바렐 장착부(120)에 인접하게 설치되며, 상기 바렐(10)에 상기 피처리 미세입상물질 일정량을 로딩하는 구성요소이다. 상기 피처리 미세입상물질은 정상적인 플라즈마 처리를 위하여 상기 바렐(10)에 미리 정해진 매우 정확한 양이 로딩되어야 한다. 이러한 피처리 미세입상물질의 정확한 계량과 로딩을 상기 피처리물 로딩부(130)가 수행하는 것이다. Next, as shown in FIG. 1, the object loading part 130 is installed adjacent to the barrel mounting part 120 and loads a certain amount of the fine particulate matter to be treated into the barrel 10. to be. The fine particulate matter to be treated must be loaded with a very precise amount predetermined in the barrel 10 for normal plasma treatment. The to-be-processed loading unit 130 performs accurate weighing and loading of the micro-particles to be treated.

이를 위하여 상기 피처리물 로딩부(130)는 구체적으로 도 1, 2에 도시된 바와 같이, 호퍼(131), 피처리물 계량부(132) 및 피처리물 투입부(133)을 포함하여 구성될 수 있다. 먼저 상기 호퍼(131)는 상기 피처리 미세입상물질이 대량으로 담겨 있는 구성요소이며, 하측으로 개구부가 형성되어 피처리 미세입상물질을 상기 피처리물 계량부(132) 방향으로 배출할 수 있는 구조를 가진다. To this end, the workpiece loading unit 130 is specifically configured as shown in Figures 1 and 2, including a hopper 131, a workpiece metering unit 132 and a workpiece input unit 133. Can be. First, the hopper 131 is a component in which the fine particulate matter to be treated is contained in a large amount, and an opening is formed at the lower side so that the fine particulate matter to be treated can be discharged in the direction of the object measuring part 132. Have

다음으로 상기 피처리물 계량부(132)는 도 1, 2에 도시된 바와 같이, 상기 호퍼(131)의 하측 개구부에 설치되며, 일정량의 피처리 미세입상물질을 계량하여 배출하는 구성요소이다. 상기 피처리물 계량부(132)에는 로드셀(loadcell) 등과 같이, 정확한 무게를 측정할 수 있는 센서가 구비되며, 상기 호퍼로부터 미리 정해진 정확한 양의 피처리 미세입상물질을 공급받는다. Next, the to-be-processed metering unit 132 is installed in the lower opening of the hopper 131 as shown in FIGS. 1 and 2, and is a component that meters and discharges a certain amount of the fine particulate matter to be treated. The to-be-treated object metering unit 132 is equipped with a sensor capable of measuring an accurate weight, such as a load cell, and receives a predetermined precise amount of the processed fine particulate material from the hopper.

다음으로 상기 피처리물 투입부(133)는 도 1, 2에 도시된 바와 같이, 상기 피처리물 계량부(132)를 바렐 승강부(134) 상에서 기립되어 대기하는 상기 바렐(10) 내부로 이동시키고, 외부 손실없이 상기 바렐(10) 내에 투입하는 구성요소이다. Next, the to-be-treated portion 133 is as shown in Figures 1 and 2, the to-be-processed metering portion 132 standing on the barrel elevating portion 134 to stand inside the barrel 10 to stand by. It is a component that is moved and injected into the barrel 10 without external loss.

한편 본 실시예에 따른 피처리물 로딩부(130)에는 도 1, 7에 도시된 바와 같이, 바렐 승강부(134)가 더 구비되는 것이 바람직하다. 상기 바렐 승강부(134)는 바렐(10)이 기립된 상태에서 안착되는 안착 지그(134a)와 상기 안착 지그(134a)를 상하 방향으로 승강시키는 승강수단(134b)으로 구성되며, 후술하는 제3 바렐 이동부에 의하여 빈 상태로 돌아오는 바렐(10)을 전달 받아서 피처리물 로딩 위치로 상승시킨다. Meanwhile, as illustrated in FIGS. 1 and 7, the object loading unit 130 according to the present embodiment is preferably further provided with a barrel lifting unit 134. The barrel lifting part 134 is composed of a seating jig 134a that is seated in a state where the barrel 10 is standing and a lifting means 134b that lifts the seating jig 134a in the vertical direction. The barrel 10 is returned to the empty state by the barrel moving part, and is raised to the loading position of the object.

다음으로 상기 피처리물 언로딩부(140)는 도 1, 2에 도시된 바와 같이, 상기 플라즈마 처리부(110)에 인접한 위치에 설치되며, 상기 바렐(10)에서 처리가 완료된 상기 피처리 미세입상물질을 언로딩하는 구성요소이다. 즉, 상기 피처리물 언로딩부(140)는 상기 제2 바렐 이동부(152)에 의하여 이동된 바렐(10) 내부에 담겨 있는 처리가 완료된 피처리 미세입상물질을 전달받아서 포장하여 외부로 배출하는 것이다. Next, the unloading unit 140 is installed in a position adjacent to the plasma processing unit 110, as shown in FIGS. 1 and 2, and the processed fine granules in the barrel 10 are completed. It is the component that unloads the material. That is, the unloading unit 140 receives the processed fine granular material, which is contained in the barrel 10 moved by the second barrel moving unit 152, is packaged and discharged to the outside. Is to do.

상기 피처리물 언로딩부(140)는 도 1에 도시된 바와 같이, 구체적으로 상기 바렐(10)로부터 피처리 미세입상물질을 전달받는 배출 호퍼(141), 분배부(142), 포장 배출부(143)를 포함하여 구성될 수 있다. As illustrated in FIG. 1, the unloading unit 140 is a discharge hopper 141, a distribution unit 142, and a packaging discharge unit that receives the fine particulate matter to be treated from the barrel 10. It can be configured to include 143.

다음으로 상기 바렐 이동부(150)는 상기 피처리물 로딩부(130), 바렐 장착부(120) 및 피처리물 언로딩부(140) 사이를 이동하며, 상기 바렐(10)을 각 공정 위치에 이동시키는 구성요소이다. 즉, 상기 바렐 이동부(150)는 자동화 공정에 의하여 구동되는 본 실시예에 따른 바렐 플라즈마 자동 처리장치(100)에서 상기 바렐(10)을 각 공정 위치로 제어부(도면에 미도시)의 제어에 의하여 이동시키는 것이다. Next, the barrel moving part 150 moves between the object loading part 130, the barrel mounting part 120, and the object unloading part 140, and moves the barrel 10 to each process position. It is a moving component. That is, the barrel moving unit 150 is controlled by the control unit (not shown in the figure) to the barrel 10 in each process position in the automatic barrel plasma processing apparatus 100 according to this embodiment driven by an automated process. By moving.

이를 위하여 본 실시예에서는 상기 바렐 이동부(150)를 구체적으로 제1 바렐 이동부(151)와 제2 바렐 이동부(152)로 구성한다. 먼저 제1 바렐 이동부(151)는 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 피처리물 로딩부(130)에 안착되어 상기 피처리 미세입상물질이 로딩된 바렐(10)을 픽업하여 상기 바렐 장착부(120) 위치로 이동시키고, 상기 바렐 장착부(120)에서 플라즈마 처리가 완료된 바렐(10)을 바렐 배출 위치로 픽업하여 이동시키는 구성요소이다. To this end, in this embodiment, the barrel moving part 150 is specifically composed of a first barrel moving part 151 and a second barrel moving part 152. First, as illustrated in FIG. 1, the first barrel moving part 151 is seated on the object loading part 130 and picks up the barrel 10 loaded with the fine particulate matter to be processed, thereby allowing the barrel mounting part ( 120) is a component that moves to a position and picks up and moves the barrel 10, which has been plasma treated, in the barrel mounting unit 120 to a barrel discharge position.

여기에서 '바렐 배출 위치'라 함은 상기 바렐 장착부(120)에 인접하고 상기 제1, 2 바렐 이동부(151, 152)의 동선이 겹치는 위치를 말한다. Here, the'barrel discharge position' refers to a position adjacent to the barrel mounting part 120 and overlapping copper lines of the first and second barrel moving parts 151 and 152.

따라서 상기 제1 바렐 이동부(151)는 상기 바렐의 원통 부재(12)의 외측면 그리핑할 수 있는 원통부재 그리핑부(151a)와 커버 부재(14)를 잡는 커버부재 그리핑부(151e) 및 상기 원통부재 그리핑부(151a)와 커버부재 그리핑부(151e)가 설치되는 설치블럭(151b)를 구비하며, 상기 설치블럭(151b)을 승강시키는 그리핑부 승강수단(151f) 및 상기 그리핑부 승강수단(151f)을 전후 좌우로 수평 이동시키는 수평 이동수단(151c, 151d) 등을 구비한다. Therefore, the first barrel moving part 151 is a cylindrical member gripping part 151a capable of gripping the outer surface of the cylindrical member 12 of the barrel and a cover member gripping part 151e holding the cover member 14 ) And an installation block 151b in which the cylindrical member gripping part 151a and the cover member gripping part 151e are installed, and the gripping part elevating means 151f for elevating the installation block 151b and And horizontal moving means (151c, 151d) for horizontally moving the gripping part lifting means (151f) left and right.

특히, 상기 커버부재 그리핑부(151e)는 상기 커버부재(14)를 그리핑한 상태에서 상기 그리핑부 승강수단(151f)에 의하여 원통부재(12) 방향으로 하강하면서 상기 커버부재(14)를 가압하여 원통부재(12)에 결합시키는 기능과, 원통부재(12)에 결합되어 있는 커버부재(14)를 상측으로 당겨서 개방시키는 기능도 수행한다. Particularly, the cover member gripping part 151e is lowered in the direction of the cylindrical member 12 by the gripping part elevating means 151f while the cover member 14 is gripped, and the cover member 14 Pressing to perform a function of coupling to the cylindrical member 12, and also a function of pulling the cover member 14 coupled to the cylindrical member 12 upward to open it.

다음으로 상기 제2 바렐 이동부(152)는 상기 바렐(10) 배출 위치에서 상기 제1 바렐 이동부(151)로부터 상기 바렐(10)을 전달받아 상기 피처리물 언로딩부(140) 위치로 이동시키고 상기 바렐(10)을 180°반전시키는 구성요소이다. 즉, 상기 제2 바렐 이동부(152)는 상기 제1 바렐 이동부(151)로부터 처리가 완료된 바렐(10)을 전달받은 후, 이를 상기 피처리물 언로딩부(140)로 이동시킨 후 뒤집어서 상기 바렐(10) 내부에 담겨 있는 상기 피처리 미세입상물질을 상기 피처리물 언로딩부(140)로 배출하는 것이다. 이때 바렐(10)의 원활한 전달을 위하여 상기 원통부재 그리핑부(151a)는 상기 원통부재(12)의 상부를 그리핑하고, 제2 원통부재 그리핑부(152a)는 상기 원통부재(12)의 하부를 그리핑한다. Next, the second barrel moving part 152 receives the barrel 10 from the first barrel moving part 151 at the discharge position of the barrel 10 to the position of the object unloading part 140. It is a component that moves and reverses the barrel 10 by 180°. That is, after the second barrel moving part 152 receives the completed barrel 10 from the first barrel moving part 151, moves it to the object unloading part 140 and flips it over. The fine particulate matter to be treated contained in the barrel 10 is discharged to the unloading unit 140. At this time, for smooth transmission of the barrel 10, the cylindrical member gripping part 151a grips the upper part of the cylindrical member 12, and the second cylindrical member gripping part 152a is the cylindrical member 12 Grips the lower part of the.

특히, 상기 제1 바렐 이동부(151)로부터 상기 바렐(10)을 전달받는 과정에서 상기 바렐의 커버부재(14)가 원통부재(12)로부터 분리된다. 이렇게 상기 커버부재 그리핑부(151e)에 그리핑된 커버부재(14)는 다시 피처리물 로딩부(130)로 이동하여 다음 원통부재(12)와 결합되어 다음 공정에 이용된다. Particularly, in the process of receiving the barrel 10 from the first barrel moving part 151, the cover member 14 of the barrel is separated from the cylindrical member 12. In this way, the cover member 14 gripped on the cover member gripping part 151e moves back to the object loading part 130 and is combined with the next cylindrical member 12 to be used in the next process.

그리고 본 실시예에서 상기 제2 바렐 이동부(152)는 구체적으로 도 2, 3에 도시된 바와 같이, 바렐의 원통부재(12) 측면을 그리핑하는 제2 원통부재 그리핑부(152a), 상기 제2 원통부재 그리핑부(152a)를 상하 방향으로 반전시키는 반전부(152b) 및 상기 반전부(152b)를 수평 이동시키는 수평 이동수단(152c)을 포함하여 구성된다. And in the present embodiment, the second barrel moving part 152 is a second cylindrical member gripping part 152a for gripping the side surface of the cylindrical member 12 of the barrel, as shown in FIGS. 2 and 3. It comprises a reversing portion (152b) for reversing the second cylindrical member gripping portion (152a) in the vertical direction and a horizontal moving means (152c) for horizontally moving the reversing portion (152b).

한편 본 실시예에 따른 상기 바렐 이동부(150)에는 제3 바렐 이동부(도면에 미도시)가 더 구비되는 것이 바람직하다. 상기 제3 바렐 이동부는 상기 제2 바렐 이동부(152)에 의하여 상기 피처리 미세입상물질이 언로딩되어 빈 바렐(10)을 상기 피처리물 로딩부(130)로 이동시키는 구성요소이다. 상기 제3 바렐 이동부는 본 실시예에 따른 바렐 플라즈마 처리장치(100)의 하부에 설치되며, 상기 원통부재(12)를 수평 이동시킬 수 있는 다양한 구조를 가질 수 있다. Meanwhile, it is preferable that a third barrel moving part (not shown in the drawing) is further provided in the barrel moving part 150 according to the present embodiment. The third barrel moving part is a component that unloads the fine particulate matter to be processed by the second barrel moving part 152 and moves the empty barrel 10 to the object loading part 130. The third barrel moving part is installed under the barrel plasma processing apparatus 100 according to the present embodiment, and may have various structures capable of horizontally moving the cylindrical member 12.

그리고 본 실시예에 따른 바렐 플라즈마 처리장치(100)에는 바렐 클리닝부(160)가 더 구비되는 것이 바람직하다. 상기 바렐 클리닝부(160)는 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 피처리물 언로딩부(140)에 인접하게 설치되며, 상기 제2 바렐 이동부(152)에 의하여 반전된 상기 바렐(10)의 내부에 고압의 기체를 분사하여 상기 바렐(10) 내부에 남아 있는 상기 피처리 미세입상물질을 제거하는 구성요소이다. 상기 바렐(10) 내부에 담겨 있는 피처리 미세입상물질은 상기 피처리물 언로딩부(140)에 전부 배출되지만, 일부가 상기 원통 부재(12)의 내부에 남아 있을 수 있다. 이 경우 상기 바렐 클리닝부(160)로 이동하여 하측에서 고압의 기체를 분사하여 혹시 남아 있을 수 있는 피처리 미세입상물질을 완전하게 제거하는 것이다. In addition, the barrel plasma processing apparatus 100 according to the present embodiment is preferably further provided with a barrel cleaning unit 160. 1, the barrel cleaning unit 160 is installed adjacent to the unloading unit 140 to be processed, and the barrel 10 reversed by the second barrel moving unit 152 is installed. It is a component that removes the fine particulate matter to be treated remaining inside the barrel 10 by spraying a high-pressure gas into the interior. The fine particulate matter to be treated contained in the barrel 10 is entirely discharged to the unloading part 140, but a part may remain inside the cylindrical member 12. In this case, by moving to the barrel cleaning unit 160 and spraying high-pressure gas from the lower side, the fine particulate matter to be treated may be completely removed.

100 : 본 발명의 일 실시예에 따른 바렐 플라즈마 자동 처리장치
110 : 플라즈마 처리부 120 : 바렐 장착부
130 : 피처리물 로딩부 140 : 피처리물 언로딩부
150 : 바렐 이동부 160 : 바렐 클리닝부
10 : 바렐
100: barrel plasma automatic processing apparatus according to an embodiment of the present invention
110: plasma processing unit 120: barrel mounting unit
130: loading part to be processed 140: unloading part to be processed
150: Barrel moving part 160: Barrel cleaning part
10: Barrel

Claims (4)

바렐에 담겨 있는 피처리 미세입상물질의 표면에 플라즈마 처리하는 플라즈마 처리부;
수직으로 기립된 상태로 외부에서 공급되는 상기 바렐을 수취하여 상기 플라즈마 처리부에 상기 바렐을 수평 방향으로 누운 상태로 장착 및 회전시키고, 플라즈마 처리가 완료된 바렐은 상기 플라즈마 처리부로부터 분리하여 수직으로 기립시키는 바렐 장착부;
상기 바렐 장착부에 인접하게 설치되며, 수직으로 기립된 상태의 상기 바렐에 상기 피처리 미세입상물질 일정량을 로딩하는 피처리물 로딩부;
상기 플라즈마 처리부에 인접한 위치에 설치되며, 수직으로 기립된 상태의 상기 바렐을 뒤집어 상기 바렐에서 처리가 완료된 상기 피처리 미세입상물질을 언로딩하는 피처리물 언로딩부;
상기 피처리물 로딩부, 바렐 장착부 및 피처리물 언로딩부 사이를 이동하며, 수직으로 기립된 상태의 상기 바렐을 각 공정 위치에 이동시키는 바렐 이동부;를 포함하며,
상기 플라즈마 처리부는,
전방이 개방된 원통형 내부 공간을 가지는 처리 챔버;
상기 처리 챔버의 중앙에 설치되며, 고전압이 인가되어 상기 처리 챔버에 장착되는 상기 바렐 방향으로 플라즈마 가스를 분사하는 전극부;
상기 처리 챔버에 설치되며, 상기 처리 챔버 내부의 기체를 흡입하여 외부로 배출하는 배기부;를 포함하고,
상기 바렐 장착부는,
상기 바렐이 상면에 안착되며, 상기 처리 챔버의 개방된 전면에 밀착되어 상기 처리 챔버 내부 공간을 밀폐 공간으로 만드는 장착 플레이트;
상기 장착 플레이트를 관통하여 회전가능하게 설치되며, 상기 바렐을 지지하면서 회전시키는 한 쌍의 바렐 회전봉;
상기 장착 플레이트의 배면에 설치되며, 상기 바렐 회전봉을 회전시키는 회전봉 회전부;
상기 장착 플레이트 및 회전봉 회전부를 연직 방향 및 상기 처리 챔버 방향으로 회동시키는 플레이트 회동부;
상기 플레이트 회동부를 상기 처리 챔버 방향으로 전후진시키는 플레이트 전후진부;
상기 장착 플레이트 중 상기 바렐 회전봉의 반대편에 설치되며, 젖혀질 수 있는 구조를 가져서 상기 장착 플레이트에 장착된 상기 바렐을 상기 장착 플레이트의 회동 과정에서 고정하는 바렐 고정부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 바렐 플라즈마 자동 처리장치.
Plasma processing unit for plasma treatment on the surface of the fine particulate material to be treated contained in the barrel;
The barrel, which is vertically erected, receives the barrel supplied from the outside, mounts and rotates the barrel in the horizontal state in the horizontal direction, and the plasma-completed barrel separates from the plasma treatment part and stands vertically. Mounting part;
An object loading unit installed adjacent to the barrel mounting unit and loading a predetermined amount of the fine particulate matter to be treated into the barrel in a vertically standing state;
A processing object unloading unit installed at a position adjacent to the plasma processing unit, and inverting the barrel in a vertically standing state to unload the processed microparticulate material that has been processed in the barrel;
It includes; a barrel moving part that moves between the object loading part, the barrel mounting part, and the object unloading part, and moves the barrel in a vertically standing state to each process position;
The plasma processing unit,
A processing chamber having a cylindrical interior space with an open front;
An electrode unit installed at the center of the processing chamber and applying a high voltage to inject plasma gas in the barrel direction mounted on the processing chamber;
It is installed in the processing chamber, the exhaust portion for sucking the gas inside the processing chamber and discharged to the outside; includes,
The barrel mounting portion,
A mounting plate on which the barrel is seated on an upper surface and in close contact with an open front surface of the processing chamber to make the processing chamber interior space an enclosed space;
A pair of barrel rotating rods rotatably installed through the mounting plate and rotating while supporting the barrel;
It is installed on the rear surface of the mounting plate, the rotating rod rotating portion for rotating the barrel rotating rod;
A plate rotating part rotating the mounting plate and the rotating rod rotating part in the vertical direction and the processing chamber direction;
A plate forward and backward portion for moving the plate rotation portion forward and backward in the direction of the processing chamber;
Barrel fixed portion of the mounting plate is installed on the other side of the barrel rotating rod, having a structure that can be tilted to fix the barrel mounted on the mounting plate in the rotation process of the mounting plate; Plasma automatic processing device.
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 플라즈마 처리부와 바렐 장착부는 한 쌍을 이루어 구성되며, 다수 쌍이 인접하게 설치되는 것을 특징으로 하는 바렐 플라즈마 자동 처리장치.
According to claim 1,
The plasma processing unit and the barrel mounting unit is composed of a pair, a plurality of pairs of automatic plasma plasma processing apparatus characterized in that the adjacent installation.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20060059054A (en) * 2004-11-26 2006-06-01 가부시끼가이샤가이죠 Device for surface treatment of substrate
KR20140126097A (en) * 2013-04-22 2014-10-30 (주) 엠에이케이 The system for teating fine particle

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